説明

タイル及びその製造方法

【課題】表装層と多孔質層を有し、かつこれらが強固に結合しているタイル及びその製造方法を提供する。
【解決手段】石膏型の凹部内に第1の泥しょうを流し込み、所定時間静置する。凹部の内面が泥しょう中の水分を吸収し、該内面に泥しょう中の固形分が付着する。余分な泥しょうを石膏型から排泥し、表装層2となる第1の生素地体が形成される。脱型後、該第1の生素地体内に、可燃性粒子、中空粒子及び気泡の少なくとも1種を含んだ第2の泥しょうを流し込むか又は練土を充填して多孔質層3用の第2の生素地体を形成する。次いで、乾燥後、焼成し、タイル1を得る。第2の泥しょう又は練土中の坏土成分は、前記第1の泥しょう中の坏土成分と略同一組成のものである。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、タイル及びその製造方法に係り、詳しくはタイルの少なくとも前面を構成する表装層と、該表装層と一体化された多孔質層とを有するタイル及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
近年、タイルの断熱性の向上、軽量化等のために、内部を多孔質としたタイルが提案されている。
【0003】
特開昭55−90479号公報には、タイルの表面を構成する陶磁器質よりなる表装層と、該表装層と一体化された陶磁器質を主材とする軽量基層とからなるタイルが記載されている。
【0004】
このタイルを製造するためには、先ず陶磁器原料及び水よりなる泥しょうを石膏型内に流し込んで着肉させ、その後余分な泥しょうを排泥して、表装層となる付着層を形成する。次いで、発泡スチロール、おが屑、木炭等の可燃性物質、陶磁器原料及び水よりなる練土を石膏型内に充填する。その後、脱型し、乾燥後、焼成する。
【特許文献1】特開昭55−90479号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
上記特開昭55−90479号公報には、表装層と軽量基層との組成の異同についての記載はない。仮に両者の組成が異なるときには、両層の熱膨張係数が相違し、焼成工程(特に降温工程)において両層が剥離するおそれがある。
【0006】
本発明は、表装層と多孔質層を有し、かつこれらが強固に結合しているタイル及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明(請求項1)のタイルは、タイルの少なくとも前面を構成する表装層と、該表装層と一体化された多孔質層とを有するタイルにおいて、該表装層の組成と該多孔質層の組成とが略同一であることを特徴とするものである。
【0008】
請求項2のタイルは、請求項1において、前記タイルの裏面に、前記多孔質層を覆う、該多孔質層よりも気孔率が小さい薄膜が設けられていることを特徴とするものである。
【0009】
請求項3のタイルは、請求項1又は2において、前記表装層は気孔を有することを特徴とするものである。
【0010】
請求項4のタイルは、請求項3において、前記表装層の気孔率は前記多孔質層の気孔率よりも小さいことを特徴とするものである。
【0011】
本発明(請求項5)のタイルの製造方法は、第1の泥しょう又は練土を用いて前記表装層となる第1の生素地体を形成し、次いで、第2の生素地体となる第2の泥しょうを泡立て、気泡を含ませた後、前記多孔質層となる第2の生素地体を前記第1の生素地体と一体となるように形成し、その後焼成することを特徴とするものである。
【0012】
請求項6のタイルの製造方法は、請求項5において、請求項2のタイルを製造する方法であって、該第2の生素地体のうちタイル裏面となる面に泥しょうを塗布し、その後焼成することを特徴とするものである。
【発明の効果】
【0013】
本発明により提供されるタイルは、表装層の組成と多孔質層の組成とが略同一であることから、両層の熱膨張係数が略同一のものとなり、焼成工程において表装層と多孔質層とが剥離し難いものとなる。
【0014】
かかるタイルの裏面に多孔質層を覆う無孔層が設けられている場合(請求項2)、タイルの裏面が平坦になることから、タイルの張り付け時に、タイルの裏面と施工面との間に不陸が生じることが防止され、タイルの張付強度が高くなる。また、無孔層は多孔質層に比べて引張強度、曲げ強度等の強度が高いため、タイルの張付強度がより高くなる。
【0015】
このタイルの表装層が気孔を有する場合(請求項3)、タイルの断熱性が向上すると共に、軽量化される。
【0016】
なお、表装層の強度を多孔質層よりも高いものとするために、表装層の気孔率は多孔質層の気孔率よりも小さいことが好ましい(請求項4)。
【発明を実施するための最良の形態】
【0017】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を詳細に説明する。第1図は本発明の実施の形態に係るタイルの裏面側の斜視図、第2図は第1図のII−II線に沿う断面図である。
【0018】
タイル1は、タイル1の前面F及び4側面Sを構成する表装層2と、タイル1の内部及び裏面Rを構成し、該表装層2と一体化された多孔質層3とからなっている。これら表装層2及び多孔質層3は、陶磁器質材料よりなっており、表装層2の組成と多孔質層3の組成とは略同一である。
【0019】
なお、本発明において、表装層2及び多孔質層3の組成が略同一であることの定義を以下に説明する。
【0020】
表装層2及び多孔質層3の組成を重量%で表示し、表装層2及び多孔質層3のそれぞれにおいて、タイルの性質に大きな影響を及ぼすSiO,Al,CaO,MgO,BaO,LiO,NaO,KO,ZnO及びBの計10成分の重量%値を合計し、表装層2の合計値と多孔質層3の合計値との差を計算する。この差が5(重量%)未満の場合、表装層2及び多孔質層3の上記10成分について、同一成分同士の差の2乗を計算し、該計算値を10成分について合計した数値の平方根が7以下である場合、表装層2と多孔質層3の組成が略同一であるとする。
【0021】
即ち、表装層2のSiOないしBの10成分の含有量(重量%値)をA,A…A10とし、多孔質層3のSiOないしBの10成分の含有量(重量%値)をB、B…B10とする。まず、
=(A+A+…A10
=(B+B+…B10
を計算し、ΔS=S−Sを計算する。
ΔS<5の場合、
G=(A−B+(A−B+…+(A10−B10
を計算し、√Gを計算する。√G≦7であれば、表装層2及び多孔質層3の組成が略同一であるとし、√G>7であれば略同一ではないとする。
【0022】
上記差が5(重量%)以上の場合、上記10成分の総量を100%としたときの該10成分の含有量を重量%で表し、表装層2及び多孔質層3のこれら10成分について、同一成分同士の差の2乗を計算し、該計算値を10成分について合計した数値の平方根が7以下である場合、表装層2と多孔質層3の組成が略同一であるとする。
【0023】
即ち、上記ΔS≧5の場合は、100/(A+A+…A10)の値をA,A…A10に乗じて得た値をa,a…a10とする。また、100/(B+B+…B10)の値をB,B…B10に乗じて得た値をb,b…b10とする。
【0024】
g=(a−b+(a−b+…+(a10−b10
を計算し、√gを計算する。√g≦7であれば、表装層2及び多孔質層3の組成が略同一であるとし、√g>7であれば略同一ではないとする。
【0025】
なお、上記10成分の好ましい含有量は次の通りである。
SiO:40〜85wt%特に55〜75wt%
Al:5〜25wt%特に10〜20wt%
CaO:0〜10wt%特に0〜5wt%
MgO:0〜20wt%特に0〜15wt%
BaO:0〜5wt%特に0〜5wt%
LiO:0〜10wt%特に0〜5wt%
NaO:0〜15wt%特に0〜5wt%
O:0〜15wt%特に0〜10wt%
ZnO:0〜10wt%特に0〜5wt%
:0〜10wt%特に0〜5wt%
【0026】
表装層2の厚さは3〜5mmであることが好ましい。3mm未満であると、成形、乾燥、焼成等のときに変形を生じ易く、またタイルの強度が低くなる。5mmを超えると、熱伝導率が高くなり、断熱性能が低下する。
【0027】
多孔質層3の気孔率は50体積%以下であることが好ましい。50体積%を超えると、成形、乾燥、焼成等のときに変形を生じ易く、またタイルの強度が低くなる。
【0028】
タイルの厚みは50mm以上であることが好ましい。
【0029】
多孔質層3の熱伝導率は0.08W/m/℃以下、例えば0.04〜0.08W/m/℃であることが好ましい。
【0030】
次に、本実施の形態に係るタイルの製造方法の一例を説明する。
【0031】
石膏型の上面に設けられたタイル1の形状に相当する凹部内に、第1の泥しょうを流し込み、所定時間静置する。このとき、石膏型の凹部の底面及び側面が泥しょう中の水分を吸収し、これら底面及び側面に泥しょう中の固形分(坏土)が付着(着肉)する。その後、余分な泥しょうを石膏型から排泥する。これにより、表装層2となる第1の生素地体が形成される。
【0032】
なお、上記静置時間を調整することにより、該第1の生素地体を所望の厚さにすることができる。
【0033】
その後、脱型し、該第1の生素地体内に、可燃性粒子、中空粒子及び気泡の少なくとも1種を含んだ第2の泥しょうを流し込むか又は練土を充填して多孔質層3用の第2の生素地体を形成する。次いで、乾燥後、焼成する。なお、第1の生素地体を脱型する前に第1の生素地体内に第2の生素地体を形成し、その後、脱型してもよい。また、焼成前に施釉してもよい。
【0034】
第2の泥しょう又は練土中の坏土成分は、前記第1の泥しょう中の坏土成分と略同一組成のものである。
【0035】
なお、第2の生素地体は1種類の泥しょう又は練土のみによって形成されてもよく、2種類以上の泥しょう又は練土によって形成されてもよい。後者の場合、例えば組成Aなる泥しょうを第1の生素地体内に注入し、その後それとは異なる組成Bの泥しょうを注入して第2の生素地体を形成する。
【0036】
また、例えば中空粒子を含んだ泥しょうCをまず第1の生素地体内に注入し、その後、中空粒子を含まない泡立てられた泥しょうDを注入して第2の生素地体を形成してもよい。
【0037】
上記の中空粒子としては、シラスバルーン、中空アルミナなどの無機質中空粒子を用いてもよいが、後述する可燃性材料の中空粒子(例えば中空合成樹脂ビーズ)が好適である。可燃性中空粒子は燃焼により焼失するため比重を小さくできる。さらに、燃焼する体積が小さいため、燃焼によるガスの発生が少なく、閉気孔を形成し易い。
【0038】
泥しょう中に気孔を生じさせるためには、泥しょうに起泡剤を添加して攪拌すればよい。起泡剤としては、起泡コンクリート製造用の起泡剤を用いることができるが、これに限定されない。
【0039】
多孔質層となる第2の生素地体形成用の泥しょう又は練土は、焼成工程において燃焼し消失する可燃性粒子を含むものであってもよい。この可燃性粒子の材質としては、スチロール等の合成樹脂(特に発泡合成樹脂)、木(例えばおが屑)などが例示される。
【0040】
上記実施の形態に係るタイル1の裏面Rには多孔質層3が露呈しているが、該裏面Rに該多孔質層3を覆う無孔層が設けられていてもよい。この場合、上記第2の生素地体を形成した後、該第2の生素地体の上面、即ちタイルの裏面Rとなる面に泥しょうを塗布し、その後焼成することにより、無孔層を形成することができる。
【0041】
上記実施の形態では第1の泥しょう中に中空粒子や起泡剤が含まれていないが、含まれていてもよい。この場合、可燃性の中空粒子を用いることによって気孔1つ1つの体積を確保できるとともに焼成による寸法変形を最小限とすることができる。得られるタイルの表装層が気孔を有することになり、タイルがより軽量化されると共に断熱性が向上する。この場合、タイルの表面強度を維持するために、表装層の気孔率は多孔質層の気孔率よりも小さいことが好ましい。さらに、少なくとも前面と接する面の2面以上の表装層を有するタイルとすることにより、表装層と多孔層の接着面積を増やし、壁面に施工した際に前面と接する面が施工した際に上面となるよう施工できるので雨水が多孔層へ入りやすい上面部を覆うことにより断熱性能に優れたタイルとすることができる。
【0042】
上記実施の形態では第1の生素地体を鋳込み成形によって形成したが、これに限定されるものではなく、練土を押し出し成形やプレス成形することによって形成してもよい。
【0043】
第3図〜第6図を参照して別の実施の形態に係るタイルについて説明する。
【0044】
側面Sは断熱性能を高める上で、熱橋となってしまうことからタイルとして可能な限り薄い方が好ましい。しかし、押し出し成形で形成する場合、厚みが薄いと形を保って押し出すことができない。その際には第3,4図のように施工面に接する方のみを薄くすることが好ましい。第3図のタイル1Aは、表装層3のうち2側面Sを構成する部分の厚さが、タイル1Aの前面F側ほど大きくなっている。
【0045】
第4図のタイル1Bにあっては、表装層2のうち側面Sのタイル裏面側の内縁に断部2aが設けられている。
【0046】
第5図のタイル1Cでは、タイルの4側面のうち対向する2側面が表装層2で構成され他の2側面には多孔質層3が露呈している。このタイルを表装層2を有する2側面が施工時に上下となるよう施工した場合、雨などにさらされた場合でも水が断熱層中にたまりにくく、良好な断熱性能のタイルとすることができる。
【0047】
第6図のタイル1Dでは、タイルの3側面が表装層2で構成され、残りの1側面に多孔質層3が露呈している。
【0048】
第7,8図のタイル1Eでは、タイルの前面、裏面及び対向する2側面が表装層2で構成され、残りの2側面に多孔質層3が露呈している。
【0049】
第9図のタイル1Fでは、タイルの前面、裏面及び3側面が表装層2で構成され、1側面のみに多孔質層3が露呈している。なお、第9図はタイルの第8図と同様箇所の断面を示している。
【0050】
なお、第5図〜第8図に示すように一部の側面が開放している表装層2を有したタイルを製造するに際し、表装層2の内側に泥しょうを供給する場合には、開放している側面部分に当て板を当てて泥しょうを注ぎ込むようにしてもよい。
【0051】
第5図のタイル1Cの表装層2の生素地体を石膏型で成形する場合には、石膏型の内面のうち1対の対向する側面を樹脂コーティング等によって非吸水性としておき、当該側面には泥しょうが着肉しないようにしておけばよい。
【0052】
第6図のタイル1Dの表装層2の生素地体も同様にして成形することができる。
【実施例】
【0053】
以下、実施例1及び比較例1を用いて本発明を詳細に説明するが、本発明は本実施例に限定されるものではない。
【0054】
<第1の泥しょう及び第2の泥しょう>
本実施例においては、下記組成の坏土70重量部に対して水30重量部を混合してなるものを第1の泥しょうとして用い、この第1の泥しょうに下記起泡剤1重量部を添加して泡立たせたものを混合し、可燃性の中空粒子として樹脂バルーンを5重量部添加したものを第2の泥しょうとして用いた。
なお、第1の泥しょうの比重は1.8、第2の泥しょうの比重は0.3であった。
【0055】
坏土の組成
SiO:70.8wt%
Al:22.2wt%
CaO:0.4wt%
MgO:0.2wt%
TiO:0.4wt%
Fe:0.8wt%
NaO:2.3wt%
O:2.8wt%
起泡剤:三洋化成工業(株)製 アニオン系活性剤 SP−1
【0056】
<タイルの製造>
第1の泥しょうを、石膏型に設けられた凹部(縦200mm×横300mm×深さ50mm)内に注ぎ込み、15分間静置して、凹部内面に泥しょうの固形分を着肉させた。次いで、余分な泥しょうを排泥し、表装層となる第1の生素地体を得た。該第1の生素地体の着肉厚は3.0mmであった。この第1の生素地体が少し収縮した時点で石膏型から脱型した。該第1の生素地体内に第2の泥しょうを供給し、第2の生素地体を形成した。60℃にて24時間乾燥し、次いで、1210℃にて12時間焼成することにより、タイルを得た。
【0057】
<表装層及び多孔質層の熱伝導率及び気孔率の測定>
得られたタイルについて、表層層と多孔質層とを切り出し、熱伝導率及び気孔率を測定した。その結果、熱伝導率は、表層層では0.35W/m/℃であり、多孔質層では0.06W/m/℃であった。また、気孔率は、表層層では50体積%、多孔質層では90体積%であった。
【図面の簡単な説明】
【0058】
【図1】実施の形態に係るタイルの裏面側の斜視図である。
【図2】図1のII−II線に沿う断面図である。
【図3】異なる実施の形態に係るタイルの断面図である。
【図4】さらに異なる実施の形態に係るタイルの断面図である。
【図5】別の実施の形態に係るタイルの裏面側の斜視図である。
【図6】さらに別の実施の形態に係るタイルの裏面側の斜視図である。
【図7】別の実施の形態に係るタイルの断面図である。
【図8】別の実施の形態に係るタイルの断面図である。
【図9】別の実施の形態に係るタイルの断面図である。
【符号の説明】
【0059】
1,1A,1B,1C,1D,1E,1F タイル
2 表装層
2a 段部
3 多孔質層
F 前面
R 裏面
S 側面

【特許請求の範囲】
【請求項1】
タイルの少なくとも前面を構成する表装層と、該表装層と一体化された多孔質層とを有するタイルにおいて、
該表装層の組成と該多孔質層の組成とが略同一であることを特徴とするタイル。
【請求項2】
請求項1において、前記タイルの裏面に、前記多孔質層を覆う、該多孔質層よりも気孔率が小さい薄膜が設けられていることを特徴とするタイル。
【請求項3】
請求項1又は2において、前記表装層は気孔を有することを特徴とするタイル。
【請求項4】
請求項3において、前記表装層の気孔率は前記多孔質層の気孔率よりも小さいことを特徴とするタイル。
【請求項5】
第1の泥しょう又は練土を用いて前記表装層となる第1の生素地体を形成し、
次いで、第2の生素地体となる第2の泥しょうを泡立て、気泡を含ませた後、前記多孔質層となる第2の生素地体を前記第1の生素地体と一体となるように形成し、
その後焼成することを特徴とするタイルの製造方法。
【請求項6】
請求項5において、請求項2のタイルを製造する方法であって、
該第2の生素地体のうちタイル裏面となる面に泥しょうを塗布し、その後焼成することを特徴とするタイルの製造方法。

【図1】
image rotate

【図2】
image rotate

【図3】
image rotate

【図4】
image rotate

【図5】
image rotate

【図6】
image rotate

【図7】
image rotate

【図8】
image rotate

【図9】
image rotate


【公開番号】特開2007−39291(P2007−39291A)
【公開日】平成19年2月15日(2007.2.15)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2005−226882(P2005−226882)
【出願日】平成17年8月4日(2005.8.4)
【出願人】(000000479)株式会社INAX (1,429)
【Fターム(参考)】