ディスプレイ用光学フィルム及びディスプレイ
【課題】ブラックストライプの遮光パターンと電磁波シールド材のメッシュパターンとが複合したパターンとして一緒に形成され、基材フィルムが少なくて済み、生産性が高く安価に製造されたディスプレイ用光学フィルムを提供する。
【解決手段】透明基材の一方の面に、ブラックストライプの遮光パターン７（または５）が導電性薄膜で形成され、前記遮光パターン７（または５）と電磁波シールド機能を有する導電性薄膜からなるメッシュパターン４（または２）とが、同一面の上で交差した複合パターンを形成してなることを特徴とするディスプレイ用光学フィルム１０。
【解決手段】透明基材の一方の面に、ブラックストライプの遮光パターン７（または５）が導電性薄膜で形成され、前記遮光パターン７（または５）と電磁波シールド機能を有する導電性薄膜からなるメッシュパターン４（または２）とが、同一面の上で交差した複合パターンを形成してなることを特徴とするディスプレイ用光学フィルム１０。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、プラズマチューブアレイ（ＰＴＡ）、液晶パネル（ＬＣＤ）、有機ＥＬパネルなどの各種ディスプレイに用いられる光学フィルムに関する。さらに詳細には、ブラックストライプの遮光パターンと電磁波シールド材のメッシュパターンとが複合したパターンとして一緒に形成され基材フィルムが少なくて済み、生産性が高く安価に製造されたディスプレイ用光学フィルム及びそれを備えるディスプレイに関する。
【０００２】
なお、ＰＴＡは、放電ガスが密封された微細な発光管を多数並べた発光管アレイの外部から放電圧を印加して、発光管の内面に塗布された蛍光体層から発光させることを特徴とするプラズマ放電に基づいた表示装置である。
【背景技術】
【０００３】
近年、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、プラズマチューブアレイ（ＰＴＡ）、液晶パネル、有機ＥＬパネルなどの各種ディスプレイにおいては、ディスプレイ前面から発生する電磁波が人体に悪影響を与えたり、周囲の電子機器を誤動作させることが問題とされるようになり、ディスプレイの画像の鮮明さと共に、ディスプレイが周囲へ与える影響への対策が益々重要視されつつある。
【０００４】
特に、大型の薄型ディスプレイとして需要の増大しているＰＤＰにおいては、電磁波のシールドフィルム以外に、近赤外線の波長領域を使用している各種のリモコンスイッチの誤作動を防ぐための近赤外線吸収フィルム、その近赤外線吸収フィルムに使用されている近赤外線吸収剤の経時劣化を防ぐための紫外線吸収フィルム、さらには可視光領域の色調調整のためのネオン光カットフィルム、光学フィルターの表面に外光が映り込むのを防ぐための反射防止フィルム等が、必要とされる機能に応じて組み合わせて構成されている。
例えば、特許文献１には、電磁波遮蔽性を有する金属メッシュと、近赤外線吸収能を有する近赤外線吸収剤含有接着層と、反射防止層と、ネオン光吸収層とを積層したプラズマディスプレイ用光学フィルターが開示されている。
【０００５】
一方、ＰＤＰにおける電磁波シールド材の取り付け方法としては、一般的には、光学フィルムの中に電磁波シールド材が組み込まれた積層フィルムを、ＰＤＰ前面パネルに直接に貼り合わせる、いわゆる直貼り方式（例えば、特許文献１を参照）、あるいはＰＤＰ前面パネルから一定の空気層を隔てて配置された前面板に光学フィルムの中に電磁波シールド材が組み込まれた積層フィルムを貼り合わせる、前面板方式（例えば、特許文献２を参照）の２方式が用いられている。
【０００６】
ところで、ＰＤＰにおける、ブラックストライプの配置構造としては、ＰＤＰパネルの全面ガラス基板の内側に一定間隔で配置された複数の表示電極の間に、ブラックストライプの遮光パターン線が挿入されて配設されている（例えば、特許文献３を参照）。また、表示電極は、走査電極と維持電極の２種類の電極を１対として、複数の表示電極の対が一定間隔で配置されている。
【０００７】
また、特許文献４には、ＰＴＡにおいて、電磁波の放射を抑制するために電磁波遮蔽体を設けることが開示されている。
【特許文献１】特開２００４−３３３７４３号公報
【特許文献２】特開２００２−１１６７００号公報
【特許文献３】特開２００７−２３４２８２号公報
【特許文献４】特開２００６−１６５１２０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ＰＤＰ等の薄型ディスプレイが広範囲に普及しつつある現在では、表示画面の鮮明さを追求すると供に、製品価格を安価に抑えることが求められている。このため、必用とされる機能を維持しながら構成部品の部材点数を削減して、軽量化およびコストの低下を図ることが課題とされている。
【０００９】
こうした状況において、ＰＤＰに関する従来技術では、例えば、特許文献２及び３に示されているように、ブラックストライプの遮光パターンと電磁波シールド材のメッシュパターンとは、異なる部材に取り付けられていて、両方を一緒に形成して複合パターンとすることは、全く開示されていない。
【００１０】
また、ＰＴＡに関しても、特許文献４には、表示電極が設けられている基材の反対側面に、表示電極と重なる位置となるように同一のピッチで配置された、表示電極と同一形状を有する電磁波遮蔽用電極を配設することが開示されている。
しかし、特許文献４においては、ＰＴＡにおいてブラックストライプに関する記載が無く、ブラックストライプの遮光パターンと電磁波シールド材のメッシュパターンの両方を一緒に形成して複合パターンとすることは、全く開示されていない。
【００１１】
従来技術のＰＴＡでは、図９の概略構成の一例を示す断面図のように、ブラックストライプと電磁波シールド材とは、それぞれ異なる基材の片面に形成した後、その他の機能性層と供に貼り合せて光学フィルターを作成していた。
しかし、ブラックストライプと電磁波シールド材とを、それぞれ異なる基材に形成した後に貼り合せるのは、基材が無駄になると供に製造コストが嵩むという問題があった。
【００１２】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、ブラックストライプの遮光パターンと電磁波シールド機能を有するメッシュパターンとが組み合わされた複合したパターンとして一緒に形成され、基材フィルムが少なくて済み、生産性が高く安価に製造されたディスプレイ用光学フィルム及びそれを備えるディスプレイを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
前記課題を解決するため、本発明は、透明基材の一方の面に、ブラックストライプの遮光パターンが導電性薄膜で形成され、前記遮光パターンと電磁波シールド機能を有する導電性薄膜からなるメッシュパターンとが、同一面の上で交差した複合パターンを形成してなることを特徴とするディスプレイ用光学フィルムを提供する。
【００１４】
また、前記遮光パターン及びメッシュパターンは、導電性薄膜で形成されたパターン、又は導電性薄膜で形成されたパターンの上にメッキ層が積層されたメッキ積層パターンのいずれかであることが好ましい。
前記導電性薄膜は、写真製法により生成された現像銀層からなる金属薄膜、金属粒子、カーボンナノ粒子もしくはカーボンファイバーの中から選択された１種以上を含有する導電性ペーストを印刷して形成した導電性薄膜、無電解メッキ触媒を含有するペーストを印刷して形成した導電性薄膜、フォトレジストパターンまたは溶剤溶解性の印刷材料を印刷したパターンのいずれかを遮蔽マスクとして用いて金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着を行った後に遮蔽マスクを除去して行なう、剥離（リフトオフ）法により形成した導電性薄膜、金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着により製膜された薄膜をフォトリソ法によりエッチングして形成した導電性薄膜、金属箔をフォトリソ法によりエッチングして形成した導電性薄膜のいずれかであることが好ましい。
【００１５】
また、前記遮光パターン及びメッシュパターンの表面が黒化処理されてなることが好ましい。
さらに前記光学フィルムが、近赤外線吸収層、紫外線吸収層、ネオン光吸収層、反射防止層、ハードコート層、防汚層、帯電防止層のうち、１つ以上の機能層を有することが好ましい。
【００１６】
また、本発明は、前記のディスプレイ用光学フィルムを備えたディスプレイを提供する。
前記のディスプレイは、プラズマチューブアレイ表示装置であることが好ましい。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、ディスプレイ用光学シールドフィルムのブラックストライプの遮光パターンと電磁波シールドのメッシュパターンとを、同一面の上で交差した複合パターンとして同時に形成するため、基材の１枚が省略できるので、次のような効果が得られる。
（１）基材１枚分、及び粘着剤の材料費用のコスト削減が図れる。
（２）電磁波シールドフィルムとブラックストライプの遮光フィルムとを貼り合せる工程費用の削減が図れる。
（３）基材１枚分、及び粘着剤が省けるので、光線透過率が向上して画像が明るく表示される。
以上のことから、生産性が高く安価に製造されたディスプレイ用光学フィルム及びそれを備えるディスプレイを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、最良の形態に基づき、図面を参照して本発明を説明する。
図１は、本発明のディスプレイ用光学フィルムの一例を示す平面図である。図２は、図１におけるＡ−Ａ矢視図であり、ディスプレイ用光学フィルムの一例を示す断面図である。図３は、図２におけるＢ部の部分拡大図であり、図３（ａ）は、導電性薄膜からなる遮光パターン及びメッシュパターンを示す断面図、図３（ｂ）は、導電性薄膜の上にメッキ層が積層されたメッキ層積層パターンからなる遮光パターン及びメッシュパターンを示す断面図である。図４は、図１のディスプレイ用光学フィルムが用いられた、ＰＴＡの斜視断面図である。
図５は、表示電極フィルムが積層された、本発明のディスプレイ用光学フィルムの一例を示す断面図である。図６は、機能層を有する、本発明のディスプレイ用光学フィルムの一例を示す断面図である。図７は、本発明による、ＰＴＡの前面板の概略構成の一例を示す断面図である。
図８は、従来技術によるディスプレイ用光学フィルムが用いられた、ＰＴＡの斜視断面図である。図９は、従来技術による、ＰＴＡの前面板の概略構成の一例を示す断面図である。
【００１９】
本発明のディスプレイ用光学フィルム１０は、図３（ａ）に示すように、透明基材１の一方の面に、導電性薄膜からなるブラックストライプの遮光パターン５と、導電性薄膜からなる電磁波シールド機能を有する細線メッシュパターン２とが形成されている。
または、図３（ｂ）に示すように、透明基材１の一方の面に、導電性薄膜からなるブラックストライプの遮光パターン５の上にメッキ層６が積層されて遮光パターン７が形成され、導電性薄膜からなる細線メッシュパターン２とその上にメッキ層３が積層されて電磁波シールド機能を有する金属メッシュパターン４が形成されている。
【００２０】
このため、図１に示すように、ブラックストライプの直線状の遮光パターン７（または５）と電磁波シールド機能を有するメッシュパターン４（または２）とが、同一面の上で交差した複合パターンを形成している。
この複合パターンの形状を決定するに当たっては、電磁波シールド機能を有するメッシュパターン４（または２）は、ブラックストライプの遮光パターン７（または５）の直線に対して、一定のバイアス角度を持たせて配設することにより、モアレの発生を最小限に抑えるようにしている。
【００２１】
図５に示す積層フィルム９では、透明基材１１の片面に、走査電極１３と維持電極１４の２種類の電極を１対とした表示電極１５が一定間隔で配置された表示電極フィルム１７と、図２の本発明に係わるディスプレイ用光学フィルム１０とが、粘着剤層１６を介して貼り合わされている。
【００２２】
前記遮光パターン及びメッシュパターンの導電性薄膜は、写真製法により生成された現像銀層からなる金属薄膜、金属粒子、カーボンナノ粒子もしくはカーボンファイバーの中から選択された１種以上を含有する導電性ペーストを印刷して形成した導電性薄膜、無電解メッキ触媒を含有するペーストを印刷して形成した導電性薄膜、フォトレジストパターンまたは溶剤溶解性の印刷材料を印刷したパターンのいずれかを遮蔽マスクとして用いて金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着を行った後に遮蔽マスクを除去して行なう、剥離（リフトオフ）法により形成した導電性薄膜、金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着により製膜された薄膜をフォトリソ法によりエッチングして形成した導電性薄膜、金属箔をフォトリソ法によりエッチングして形成した導電性薄膜のいずれかであることが好ましい。
【００２３】
本発明のディスプレイ用光学フィルムは、図６に示すように、さらに、近赤外線吸収層、紫外線吸収層、ネオン光吸収層、反射防止層、ハードコート層、防汚層、帯電防止層のうち、１つ以上の機能層を積層した機能層付き光学フィルム２５であることが好ましい。
図７は、透明基材２１の上に反射防止層２２が形成されたＡＲフィルム２３を粘着剤層２４で貼り合せた前面板２６が例示されている。これらの機能層付き光学フィルム２５及び前面板２６には、必要に応じて、さらに、近赤外線吸収層、紫外線吸収層、ネオン光吸収層を積層することができる。
【００２４】
また、ブラックストライプの遮光パターン、及びメッシュパターンの表面が黒化処理されていることが、観察者から視て反射光を減少させることができるので好ましい。ブラックストライプの遮光パターン、及びメッシュパターンの表面が黒化処理されていない場合は、金属メッキ層の金属光沢により輝いて見え、ディスプレイの表示画像が白っぽくなるという不具合が生じる。
【００２５】
図８は、従来技術によるディスプレイ用光学フィルムが用いられた、ＰＴＡ４０の斜視断面図である。基材４１の片面に表示電極１５（走査電極１３および維持電極１４）が形成され、表示電極１５の形成されている面とは反対側面には、電磁波遮蔽用電極４２，４２が、表示電極１５と同一の形状で配設されている。
また、図４は、本発明のディスプレイ用光学フィルムが用いられた、ＰＴＡの斜視断面図である。図４と図８とを比較すると、本発明に係わるディスプレイ用光学フィルムでは、メッシュパターン４（または２）が全面に広がっているので、従来の電磁波遮蔽用電極４２と表示電極１５とによるものに比べて、電磁波を遮蔽する細線の間隔を狭くしているので、従来技術に比べて電磁波遮蔽性能を格段に向上させることができる。
なお、本発明では、メッシュパターン４（または２）の線幅を１０〜６０μｍとし、ピッチ間隔を２５０〜５００μｍとすることにより、全光線透過率を５０〜７０％程度に確保することが可能となる。また、本発明では、全光線透過率を高めるため、表示電極１５（走査電極１３および維持電極１４）をメッシュパターンとするのが好ましい。
【００２６】
図９は、従来技術による、ＰＴＡの前面板３０の概略構成の一例を示す断面図である。また、図７は、本発明による、ＰＴＡの前面板２６の概略構成の一例を示す断面図である。図９と図７とを比較すると、従来技術によるＰＴＡの前面板３０では、透明基材３１の一方の面にメッシュパターン３２が形成されたメッシュパターンフィルム３３と、透明基材３４の一方の面に遮光パターン３５が形成された遮光パターンフィルム３６と、これらを接着する粘着剤層３７とが設けられているが、本発明に係わるＰＴＡの前面板２６では、透明基材が１枚分と粘着剤層が１層分、削減されている。
また、ブラックストライプの遮光パターンと電磁波シールドのメッシュパターンとを別々の基材に設ける場合に比べて、ブラックストライプの遮光パターンと電磁波シールドのメッシュパターンとが、同一面の上で交差した複合パターンを形成する方が、ディスプレイ用光学フィルム１０の表面抵抗率が低下する。このため、同じ表面抵抗率を確保する場合には、電磁波シールドのメッシュパターン４（または２）のピッチ間隔を拡げることが可能となり、全光線透過率を向上させることができる効果を奏する。
【００２７】
図７の遮光パターン７（または５）と電磁波シールド機能を有するメッシュパターン４（または２）とが、同一面の上で交差して形成した複合パターンの上には、熱硬化性樹脂又はエネルギー線硬化性樹脂を塗布し、硬化させて、接着性樹脂層（粘着剤層）が形成される。
本発明で使用できる接着性樹脂（粘着剤層）としては、例えば、熱硬化性樹脂、紫外線（ＵＶ）硬化性樹脂、可視光硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂などを挙げることができる。
【００２８】
投入するエネルギーにより硬化する透明樹脂であれば特に限定されるものではない。投入するエネルギーとしては、加熱や、エネルギー線（紫外線、電子線、場合により可視光線など）が挙げられる。
なおエネルギー線硬化樹脂の場合は、エネルギー線照射後に必要に応じて加熱処理を行うことにより、硬化の完全化を図ることもでき、その逆に加熱処理を行ってからエネルギー線照射を行なっても構わず、二種以上のエネルギー線照射を組み合わせても構わない。
【００２９】
熱硬化性樹脂としては、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂およびそれらの変性樹脂を挙げることができる。
エネルギー線硬化粘着性樹脂に用いる樹脂化合物としては、アルキルアクリレートやアルキルメタクリレート、などの単官能の（メタ）アクリレート成分；多価アルコールのジ、トリまたはポリ（メタ）アクリレートやヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートなどの多官能の（メタ）アクリレート成分；アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、無水イタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、フマール酸、グリシジル（メタ）アクリレート、Ｎ−メチロールアクリルアミドなどの官能基含有モノマー成分；酢酸ビニル、スチレン、アクリルウレタン系オリゴマーなどが挙げられる。
【００３０】
（透明基材）
本発明に使用される透明基材１，１１，２１は、可視領域で透明性を有し、一般に全光線透過率が９０％以上のものが好ましい。中でも、フレキシブル性を有する樹脂フィルムは、取扱い性に優れることから透明基材１として好ましい。透明基材１，１１，２１に使用される樹脂フィルムの具体例としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）やポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ジアセテート樹脂、トリアセテート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリスルフォン樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状ポリオレフィン樹脂等からなる厚さ５０〜３００μｍの単層フィルム又は前記樹脂からなる複数層の複合フィルムが挙げられる。
【００３１】
（粘着剤層）
本発明のディスプレイ用光学フィルムに使用される粘着剤層、例えば、図７で示すＰＴＡの前面板２６において、各粘着剤層１６，２４を構成する粘着剤としては、可視領域で透明であれば（すなわち、十分な透過率を有すれば）特に限定されず、硬化型樹脂でも良いし、熱可塑性樹脂でも良い。透明性の観点からは、アクリル系樹脂が好適に用いられる。
【００３２】
（複合パターン）
本発明に適用できる遮光パターンとメッシュパターンが複合されたパターンの作製方法は特に限定されないが、導電性薄膜からなる複合パターンの上にメッキ層を積層したメッキ積層パターンにより作製する方法が好適である。
図３は、本発明に係わるディスプレイ用光学フィルムを構成する遮光パターン７（または５）及びメッシュパターン４（または２）の部分断面図である。
【００３３】
図３（ａ）において、透明基材１の片面に、導電性薄膜からなる遮光パターン５及びメッシュパターン２が形成されている。ここで、導電性薄膜は、写真製法により生成された現像銀層からなる金属薄膜、金属粒子、カーボンナノ粒子もしくはカーボンファイバーの中から選択された１種以上を含有する導電性ペーストを印刷して形成した導電性薄膜、無電解メッキ触媒を含有するペーストを印刷して形成した導電性薄膜、フォトレジストパターンまたは溶剤溶解性の印刷材料を印刷したパターンのいずれかを遮蔽マスクとして用いて金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着を行った後に遮蔽マスクを除去して行なう、剥離（リフトオフ）法により形成した導電性薄膜、金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着により製膜された薄膜をフォトリソ法によりエッチングして形成した導電性薄膜、金属箔をフォトリソ法によりエッチングして形成した導電性薄膜、のいずれかであることが好ましい。
【００３４】
図３（ｂ）において、導電性薄膜からなる遮光パターン５及び細線メッシュパターン２の上にメッキ層６，３が積層されてメッキ積層パターンからなる遮光パターン７及び金属メッシュパターン４が形成される。
電磁波シールド機能を有する細線メッシュパターン２、及び金属メッシュパターン４において、メッシュパターンの線幅は、いずれも１０〜６０μｍが好ましく、さらには１５〜４０μｍであることがより好ましい。線幅を１０μｍ未満の微細線にすると、導電性薄膜の細線パターンを導電性のペーストを用いて印刷して形成するためのスクリーン印刷の原版や、金属薄膜層の細線パターンを写真製法で形成するための露光マスクの製造コストが著しく上昇するので好ましくない。逆に線幅を太くして６０μｍを超えると、導電性は高くなるが透視性は低下するので好ましくない。
【００３５】
また、細線メッシュパターン２及び金属メッシュパターン４の厚みは、所望とする特性により任意に変えることができるが、好ましくは０．０５〜１５μｍの範囲であり、より好ましくは０．０５〜１０μｍの範囲である。細線メッシュパターン２及び金属メッシュパターン４の膜厚が薄いと電磁波遮蔽性能が低くなり過ぎてしまう。又、細線メッシュパターン２及び金属メッシュパターン４の膜厚が厚いとコスト高の要因となってしまう。
図３（ａ）及び図３（ｂ）において、遮光パターン７（または５）の線幅は、いずれも１００〜１０００μｍが好ましく、さらには３００〜１０００μｍであることがより好ましい。線幅を１００μｍ未満の微細線にすると遮蔽効果が少なく、逆に線幅を太くして１０００μｍを超えると、遮蔽効果は高くなるが透視性は低下するので好ましくない。
【００３６】
本発明では、導電性薄膜は、写真製法により生成された現像銀層からなる金属薄膜、金属粒子、カーボンナノ粒子もしくはカーボンファイバーの中から選択された１種以上を含有する導電性ペーストを印刷して形成した導電性薄膜、無電解メッキ触媒を含有するペーストを印刷して形成した導電性薄膜、フォトレジストパターンまたは溶剤溶解性の印刷材料を印刷したパターンのいずれかを遮蔽マスクとして用いて金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着を行った後に遮蔽マスクを除去して行なう、剥離（リフトオフ）法により形成した導電性薄膜、金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着により製膜された薄膜をフォトリソ法によりエッチングして形成した導電性薄膜、金属箔をフォトリソ法によりエッチングして形成した導電性薄膜、のいずれかを用いることができる。
以下にそれぞれの方法による導電性薄膜による遮光パターン及び細線メッシュパターンの複合パターンの作製方法と、併せて金属メッキ層について順に説明する。
【００３７】
（印刷による導電性薄膜の生成）
本発明に用いる導電性ペーストは、導電性薄膜からなる複合パターンとなるものであるから、金属粒子、カーボンナノ粒子もしくはカーボンファイバーの中から選択された１種以上を含有する導電性ペーストを用いることができる。
通常は金属粉末をバインダーとなる樹脂成分に混ぜ込んだ導電性ペーストが用いられる。前記の金属粉末としては、銅、銀、ニッケル、アルミニウム等の金属粉が用いられるが、導電性、価格の点から銅または銀の微粉末を用いるのが好ましい。
印刷したメッシュパターンに含まれる金属粉末に起因する金属光沢を消して外光の反射を抑え、視認性を高めるために、導電性ペーストの中にカーボンブラックなどの黒色顔料を混ぜ込むのが好ましい。黒色顔料は、導電性ペーストの中に０．１〜１０重量％で含有させるのが好ましい。
印刷する細線メッシュパターンの線幅は１０〜６０μｍ程度であることから、導電性ペーストに用いる金属粉末は、特別な超微粒子である必要性はなく、金属粉末の粒子径は０．１〜２μｍであればよい。
【００３８】
導電性ペーストに用いられる樹脂成分としては、好ましくは、ポリエステル樹脂、（メタ）アクリル樹脂、熱可塑性樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂などの熱可塑性樹脂が用いられる。また、エポキシ樹脂、アミノ樹脂、ポリイミド樹脂、（メタ）アクリル樹脂などの熱硬化型であってもよい。
導電性ペーストは、これらの樹脂成分に金属粉末、及び黒色顔料を混ぜ込んだ後にアルコールやエーテルなどの有機溶剤を加えて粘度調整を行なう。
図３の透明基材１の片面に、導電性ペーストを用いて遮光パターン５及び細線メッシュパターン２からなる複合パターンを同時に印刷し、溶剤を乾燥除去して、細線からなる複合パターンを硬化させる。
導電性ペーストを塗布して細線パターンを形成する方法は特に制限されないが、スクリーン印刷、グラビア印刷、インクジェット方式などの方法で印刷するのが好ましい。
【００３９】
（写真製法による現像銀層からの金属薄膜層の生成）
現像銀層を生成するための写真製法に基づく露光現像法には、（ａ）露光マスクに覆われていなくて露光された部分に現像銀が発現する、即ち、露光マスクと反対の形に現像銀が表れるいわゆるネガ型の露光現像方法と、（ｂ）露光マスクに覆われて露光されなかった部分には現像銀が発現する、即ち、露光マスクと同じ形に現像銀が表れるいわゆるポジ型の露光現像方法の２通りがある。
すなわち、露光現像法には、特開２００４−２２１５６４号公報に記載された方法であって、支持体上に設けられた銀塩を含有する銀塩含有層を露光し、現像処理することにより金属銀部と光透過性部とを形成し、さらに前記金属銀部を物理現像及び／又はメッキ処理することにより前記金属銀部に導電性金属粒子を担持させた導電性金属部を形成する方法と、ＷＯ２００４／００７８１０に記載された方法（ここでは、ＤＴＲ−メッキ法と称する）とがある。
本発明には、上記の２つの写真製法である（ａ）ネガ型の露光・現像方法と、（ｂ）ポジ型の露光・現像方法のいずれでも適用できる。
【００４０】
（写真製法）
以下、重複した説明を避けるため、ポジ型の露光・現像方法（ＤＴＲ法）による現像銀からなる複合パターンの作製方法について説明する。ＤＴＲ法の場合、透明基材表面には、予め物理現像核層が設けられていることが好ましい。物理現像核としては、重金属あるいはその硫化物からなる微粒子（粒子サイズは１〜数十ｎｍ程度）が用いられる。例えば、金、銀等のコロイド、パラジウム、亜鉛等の水溶性塩と硫化物を混合した金属硫化物等が挙げられる。これらの物理現像核の微粒子層は、真空蒸着法、カソードスパッタリング法、コーティング法等によって透明基材上に設けることができる。生産効率の面からコーティング法が好ましく用いられる。物理現像核層における物理現像核の含有量は、固形分で１平方メートル当たり０．１〜１０ｍｇ程度が適当である。
【００４１】
図３の透明基材１には、塩化ビニリデンやポリウレタン等のポリマーラテックス層の接着層を設けることができ、また接着層と物理現像核層との間にはゼラチン等の親水性バインダーからなる中間層を設けることもできる。
物理現像核層は、親水性バインダーを含有するのが好ましい。親水性バインダー量は物理現像核に対して１０〜３００質量％程度が好ましい。親水性バインダーとしては、ゼラチン、アラビアゴム、セルロース、アルブミン、カゼイン、アルギン酸ナトリウム、各種デンプン、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、アクリルアミドとビニルイミダゾールの共重合体等を用いることができる。物理現像核層には親水性バインダーの架橋剤を含有することもできる。
【００４２】
物理現像核層や前記中間層等の塗布には、例えばディップコーティング、スライドコーティング、カーテンコーティング、バーコーティング、エアーナイフコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、スプレーコーティングなどの塗布方式で塗布することができる。本発明において物理現像核層は、上記したコーティング法によって、通常連続した均一な層として設けることが好ましい。
物理現像核層に金属銀を析出させるためのハロゲン化銀の供給は、基材上に物理現像核層とハロゲン化銀乳剤層をこの順に一体的に設ける方法、あるいは別の紙やプラスチック樹脂フィルム等の基材上に設けられたハロゲン化銀乳剤層から可溶性銀錯塩を供給する方法がある。コスト及び生産効率の面からは前者の物理現像核層とハロゲン化銀乳剤層を一体的に設けるのが好ましい。
【００４３】
前記ハロゲン化銀乳剤は、ハロゲン化銀写真感光材料の一般的なハロゲン化銀乳剤の製造方法に従って製造することができる。ハロゲン化銀乳剤は、通常、硝酸銀水溶液、塩化ナトリウムや臭化ナトリウムのハロゲン水溶液をゼラチンの存在下で混合熟成することによって作られる。
前記ハロゲン化銀乳剤層のハロゲン化銀組成は、塩化銀を８０モル％以上含有するのが好ましく、特に９０モル％以上が塩化銀であることが好ましい。塩化銀含有率を高くすることによって形成された物理現像銀の導電性が向上する。
前記ハロゲン化銀乳剤層は、各種の光源に対して感光性を有している。本発明において物理現像銀により現像銀からなる複合パターンを形成する場合、ハロゲン化銀乳剤層の露光方法として、複合パターンの透過原稿とハロゲン化銀乳剤層を密着して露光する方法、あるいは各種レーザー光を用いて走査露光する方法等がある。前者の密着露光は、ハロゲン化銀の感光性は比較的低くても可能であるが、レーザー光を用いた走査露光の場合は比較的高い感光性が要求される。従って、後者の露光方法を用いる場合は、ハロゲン化銀の感光性を高めるために、ハロゲン化銀は化学増感あるいは増感色素による分光増感を施してもよい。
【００４４】
化学増感としては、金化合物や銀化合物を用いた金属増感、硫黄化合物を用いた硫黄増感、あるいはこれらの併用が挙げられる。好ましくは、金化合物と硫黄化合物を併用した金−硫黄増感である。上記したレーザー光で露光する方法においては、４５０ｎｍ以下の発振波長の持つレーザー光、例えば４００〜４３０ｎｍに発振波長を有する青色半導体レーザー（バイオレットレーザーダイオードともいう）を用いることによって、明室下（明るいイエロー蛍光灯下）でも取り扱いが可能となる。
物理現像核層が設けられる基材上の任意の位置、たとえば接着層、中間層、物理現像核層あるいはハロゲン化銀乳剤層、保護層、または支持体を挟んで設けられる裏塗り層にハレーションないしイラジエーション防止用の染料もしくは顔料を含有させてもよい。
物理現像核層の上に直接にあるいは中間層を介してハロゲン化銀乳剤層が塗設された感光材料を用いて現像銀を生成する場合は、複合パターンの透過原稿と上記感光材料を密着して露光、あるいは、複合パターンのデジタル画像を各種レーザー光の出力機で上記感光材料に走査露光した後、可溶性銀錯塩形成剤と還元剤の存在下でアルカリ液中で処理することにより銀錯塩拡散転写現像（ＤＴＲ現像）が起こり、未露光部のハロゲン化銀が溶解されて銀錯塩となり、物理現像核上で還元されて金属銀が析出して現像銀からなる複合パターンの物理現像銀薄膜を得ることができる。露光された部分はハロゲン化銀乳剤層中で化学現像されて黒化銀となる。現像後、ハロゲン化銀乳剤層及び中間層、あるいは必要に応じて設けられた保護層は水洗除去されて、現像銀からなる複合パターンの物理現像銀薄膜が表面に露出する。
【００４５】
ＤＴＲ現像後、物理現像核層の上に設けられたハロゲン化銀乳剤層等の除去方法は、水洗除去あるいは剥離紙等に転写剥離する方法がある。水洗除去は、スクラビングローラ等を用いて温水シャワーを噴射しながら除去する方法や温水をノズル等でジェット噴射しながら水の勢いで除去する方法がある。
一方、物理現像核層が塗布された基材とは別の基材上に設けたハロゲン化銀乳剤層から可溶性銀錯塩を供給する場合、前述と同様にハロゲン化銀乳剤層に露光を与えた後、物理現像核層が塗布された基材と、ハロゲン化銀乳剤層が塗布された別の感光材料とを、可溶性銀錯塩形成剤と還元剤の存在下でアルカリ液中で重ね合わせて密着し、アルカリ液中から取り出した後、数十秒〜数分間経過した後に、両者を剥がすことによって、物理現像核上に析出した現像銀からなる、複合パターンの物理現像銀薄膜が得られる。
【００４６】
次に、銀錯塩拡散転写現像のために必要な可溶性銀錯塩形成剤、還元剤、及びアルカリ液について説明する。可溶性銀錯塩形成剤は、ハロゲン化銀を溶解し可溶性の銀錯塩を形成させる化合物であり、還元剤はこの可溶性銀錯塩を還元して物理現像核上に金属銀を析出させるための化合物であり、これらの作用はアルカリ液中で行われる。
本発明に用いられる可溶性銀錯塩形成剤としては、チオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸アンモニウムのようなチオ硫酸塩、チオシアン酸ナトリウム、チオシアン酸アンモニウムのようなチオシアン酸塩、アルカノールアミン、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸水素カリウムのような亜硫酸塩、Ｔ．Ｈ．ジェームス編のザ・セオリー・オブ・ザ・フォトグラフィック・プロセス４版の４７４〜４７５項（１９７７年）に記載されている化合物等が挙げられる。
前記還元剤としては、写真現像の分野で公知の現像主薬を用いることができる。例えば、ハイドロキノン、カテコール、ピロガロール、メチルハイドロキノン、クロルハイドロキノン等のポリヒドロキシベンゼン類、１−フェニル−４，４−ジメチル−３−ピラゾリドン、１−フェニル−３−ピラゾリドン、１−フェニル−４−メチル−４−ヒドロキシメチル−３−ピラゾリドン等の３−ピラゾリドン類、パラメチルアミノフェノール、パラアミノフェノール、パラヒドロキシフェニルグリシン、パラフェニレンジアミン等が挙げられる。
【００４７】
上記した可溶性銀錯塩形成剤及び還元剤は、物理現像核層と一緒に基材に塗布してもよいし、ハロゲン化銀乳剤層中に添加してもよいし、またはアルカリ液中に含有させてもよく、更に複数の位置に含有してもよいが、少なくともアルカリ液中に含有させるのが好ましい。
アルカリ液中への可溶性銀錯塩形成剤の含有量は、現像液１リットル当たり、０．１〜５モルの範囲で用いるのが適当であり、還元剤は現像液１リットル当たり０．０５〜１モルの範囲で用いるのが適当である。
アルカリ液のｐＨは１０以上が好ましく、更に１１〜１４の範囲が好ましい。銀錯塩拡散転写現像を行うためのアルカリ液の適用は、浸漬方式であっても塗布方式であってもよい。浸漬方式は、例えば、タンクに大量に貯流されたアルカリ液中に、物理現像核層及びハロゲン化銀乳剤層が設けられた基材を浸漬しながら搬送するものであり、塗布方式は、例えばハロゲン化銀乳剤層上にアルカリ液を１平方メートル当たり４０〜１２０ｍｌ程度塗布するものである。
【００４８】
透視性（目視されないこと）を確保するため、金属薄膜からなる細線メッシュパターン２を構成する。金属薄膜からなる細線メッシュパターン２の上にメッキ３を積層した金属メッシュパターン４の線幅は、１０〜６０μｍが好ましく、さらには１５〜４０μｍであることがより好ましい。金属メッシュパターンのメッキ積層パターンの厚みは、所望とする特性により任意に変えることができるが、好ましくは０．０５〜１５μｍの範囲であり、より好ましくは０．０５〜１０μｍの範囲である。
前述したように、本発明のメッシュパターンの線幅を細くして１０μｍ未満にすると、透視性（目視されないこと）は上がるが導電性（及び遮蔽する波長の電磁波の遮蔽性）は低下し、逆に線幅を大きくして６０μｍを超えると、透視性は低下するが導電性は高くなる。また、線幅を１０μｍ未満の微細線にすると、金属層の細線パターンを写真製法で形成するための露光マスクの製造コストが著しく上昇するので好ましくない。
【００４９】
本発明に係る透明基材上に形成された任意の細線パターンの物理現像による現像銀層は、膜厚みが極めて薄いが導電性が高いので、細線化することが可能であり電磁波シールド材の透視性を高くすることができる。
また、この物理現像による現像銀層自身は、現像処理後に得られた現像銀層を形成する金属銀粒子が極めて小さく、かつ、現像銀層中に存在する親水性バインダー量が極めて少ないことにより、現像銀層を形成する金属銀粒子が最密充填状態に近い状態で現像銀層が形成されて通電性を有しているため、銅やニッケルなどの金属による鍍金（メッキ）を施すことが可能であり、必要に応じて、現像銀層の上に金属メッキ層を積層することができる。
【００５０】
（露光装置）
上記のハロゲン化銀乳剤層を露光する露光装置としては、枚葉式の露光マスク（フォトマスク）を用いる枚葉処理方式の露光装置と、連続したパターンが形成できる連続露光装置とがある。枚葉処理方式の露光装置は、所定のマスクパターンが形成された枚葉式の露光マスク（フォトマスク）を用いて、基材を間欠送りで露光装置に送り、装置内を真空排気して露光マスクと基材とを密着させて隙間を無くしてから、例えば紫外線で露光する。枚葉処理方式の露光装置では、真空排気、露光、大気開放を間欠的に行うので、連続的な生産ができず、処理速度は遅くなる。
これに対して、基材を連続的に露光できる連続露光装置を用いると、枚葉処理方式の露光装置に比較して処理速度が速く、連続的な生産が可能になるという長所がある。
連続露光装置の一例としては、写真製法における露光に用いられる光を透過する材質からなる円筒ドラムと、円筒ドラムの外周壁に設けられた複合パターンが形成された露光マスクフィルムと、円筒ドラムの内部に配設された露光用光源とを備え、円筒ドラムの内側の光源から出射した光によって円筒ドラムに巻き付けられた基材を露光する装置である。
【００５１】
（蒸着による導電性薄膜の生成）
本発明で使用される金属または金属酸化物の蒸着層からなる導電性薄膜の複合パターンは、フォトレジストパターンまたは溶剤溶解性の印刷材料を印刷したパターンのいずれかを遮蔽マスクとして用いて金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着を行った後に遮蔽マスクを除去して行なう、剥離（リフトオフ）法により形成した導電性薄膜、金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着により製膜された薄膜をフォトリソ法によりエッチングして形成した導電性薄膜のいずれかを用いることができる。
その中でも、簡便さの点から剥離（リフトオフ）法を用いて形成されるのが好ましい。剥離（リフトオフ）法では、フォトレジストパターンまたは溶剤溶解性の印刷材料を印刷したパターンのいずれかを遮蔽マスクとして用いて真空蒸着を行った後に遮蔽マスクを除去して、複合パターンの導電性薄膜が形成される。
【００５２】
フォトレジストパターンを遮蔽マスクとして用いて行なう、剥離（リフトオフ）法による複合パターンの形成方法は、次による。
まず、基材上にレジストを塗布した後、熱処理（プリベーク）を行い、レジストから溶媒を除去する。次に、フォトマスクを用いてレジストに所望のパターンを露光した後、レジストパターンを現像して遮蔽マスクとなるレジストパターンを形成する。次に、基材とレジストパターンからなる遮蔽マスクの上に、全面に渡って蒸着膜を形成した後、レジスト剥離剤を用いて遮蔽マスクとその上に乗っている蒸着膜とを同時に除去し、基材の上に残された蒸着膜からなる複合パターンの導電性薄膜を得る。
【００５３】
溶剤溶解性の印刷材料を印刷したパターンを遮蔽マスクとして用いて行なう、剥離（リフトオフ）法による複合パターンの形成方法は、次による。
まず、基材上に溶剤溶解性の樹脂を主成分とする印刷材料で遮蔽マスクとなる部分を印刷する。次に、基材の上と印刷材料からなる遮蔽マスクの上に、全面に渡って蒸着膜を形成した後、溶剤を用いて遮蔽マスクとその上に乗っている蒸着膜とを同時に除去して、基材の上に残された蒸着膜からなる複合パターンの導電性薄膜を得る。
【００５４】
（金属メッキ層）
複合パターンを形成する導電性薄膜の上に金属メッキ層を積層するときに用いるメッキ法は、遮光パターン及び電磁波シールド用の細線メッシュパターンが組み合わされて形成された複合パターンのように、連続のパターンが２次元的に配設された場合では、無電解メッキ法、電解メッキ法あるいは両者を組み合わせたメッキ法のいずれでも可能である。
本発明において、金属メッキ法は公知の方法で行うことができるが、例えば無電解メッキ法は、銅、ニッケル、銀、金、スズ、はんだ、あるいは銅／ニッケルの多層あるいは複合系などの従来公知の方法を使用でき、これらについては、「無電解めっき 基礎と応用；日刊工業新聞社、１９９４年５月３０日初版」等の文献を参照することができる。
【００５５】
メッキが容易で、かつメッキ層の導電性が優れ、さらに厚膜にメッキでき、低コストであるなどの理由により、メッキに用いる金属としては、銅（Ｃｕ）および／またはニッケル（Ｎｉ）が好ましい。金属メッキ層は、メッキを複数回行うことにより、同種の金属または異種の金属を複数層積層することも好ましい。例えば、現像銀層の上に第１のメッキ層、さらにその上に第２のメッキ層を積層する場合に、一方のメッキ層が無電解ニッケルメッキ層であり、他方のメッキ層が無電解銅メッキ層である組み合わせが好ましい。
メッキに使用するメッキ槽の型式は、竪型、横型のいずれであっても構わないが、所定のメッキ滞留時間を確保できるように長さを決定する。
【００５６】
（金属箔のエッチングによる複合パターン）
本発明のディスプレイ用光学フィルムは、前述のとおり、導電性薄膜からなる遮光パターンと細線メッシュパターンが組み合わされた複合パターン、またはその導電性薄膜の上にメッキ層を積層した複合パターンが用いられるが、図３の透明基材１に金属箔を接着剤により貼り合せた後、公知技術であるフォトリソ法によりエッチングして形成した複合パターンを使用することもできる。導電性の金属箔であれば、材質は特に制限されなくて、銅、アルミ、錫などの箔を使用することができる。その中でも、価格が安価であり、エッチング処理の腐食速度が速い点から、銅箔が好適に使用される。
【００５７】
銅箔は、電解銅箔または圧延銅箔のいずれも用いることができる。本発明に使用できる、一般的な銅箔の厚みは６〜１５μｍ程度である。厚みが６μｍよりも薄い銅箔は、特殊な製品であって高価であることから、安価なディスプレイ用光学フィルムの部材には、採用することが困難である。また、厚みが１５μｍを超える場合は、エッチングの処理費用および廃液の処理費用が嵩むことから好ましくない。
銅箔がエッチングされた箇所に露出される透明基材１の表面は、銅箔の表面が有する凸凹が接着剤層に転写されていて、接着剤層の凸凹表面が露出するため透過光が散乱されることから光線透過率が低下してしまう問題を有する。この問題を解決するには、メッシュパターンの凸凹面を、透明な樹脂や粘着剤で埋め、加圧しながら高温に保持して行なう透明化処理を施す必要がある。
また、銅箔を用いた場合は、金属素材の光沢色である茶色を目立たなくするために、表面を黒化処理するのが好ましい。
【００５８】
（黒化処理）
前記金属メッキ層の表面に黒化処理を施すことにより、反射率を低下させるための黒化層を形成してもよい。黒化層は、光を反射しにくい暗色の層であればよく、真黒だけでなく、例えば黒っぽい茶色や黒っぽい緑色等でもよい。黒化層の形成により、金属細線が一層目立ちにくくなり、本発明のディスプレイ用光学フィルムを有する前面板を前面パネルに貼り付けて用いる場合にディスプレイの画面が見やすくなるため、好ましい。
黒化層は、黒色インクの塗布によるインキ処理、ルテニウムやニッケル、スズなどの表面が黒色を呈する金属のメッキによる黒化メッキ処理、金属細線の化成処理（酸化処理等）などにより形成することができる。このうち化成処理では、金属層の表面に金属酸化物の薄膜が形成されることにより、黒色を呈するようになる。
【００５９】
上記の説明は、本発明に適用できる遮光パターンと電磁波シールド機能を有するメッシュパターンが組み合わされて形成された複合パターンの作製方法として、導電性薄膜からなる遮光パターンと細線メッシュパターンを組み合せてなる複合パターンの上にメッキ層を積層したメッキ積層パターンとして作製する方法を示した。
導電性薄膜の作製方法として、写真製法により生成された現像銀層からなる金属薄膜、金属粒子、カーボンナノ粒子もしくはカーボンファイバーの中から選択された１種以上を含有する導電性ペーストを印刷して形成した導電性薄膜、無電解メッキ触媒を含有するペーストを印刷して形成した導電性薄膜、フォトレジストパターンまたは溶剤溶解性の印刷材料を印刷したパターンのいずれかを遮蔽マスクとして用いて金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着を行った後に遮蔽マスクを除去して行なう、剥離（リフトオフ）法により形成した導電性薄膜、金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着により製膜された薄膜をフォトリソ法によりエッチングして形成した導電性薄膜、金属箔をフォトリソ法によりエッチングして形成した導電性薄膜、などによる作製方法を示した。
【００６０】
（ディスプレイ用光学フィルター）
図２に示した、本発明のディスプレイ用光学フィルム１０に、近赤外線吸収層、紫外線吸収層、ネオン光吸収層、反射防止層、ハードコート層、防汚層、帯電防止層のうち、１つ以上の機能層を積層することにより、ディスプレイに使用される光学フィルターを作製することができる。
ディスプレイに使用される光学フィルターは、ディスプレイの画面サイズに裁断された各種の機能性フィルムを、枚葉で貼り合せて行なう方法と、ロール体で用意された長尺の各種の機能性フィルムをロールｔｏロールで連続して貼り合せて行ない、光学フィルターの作製されたロール状の長尺フィルムとし、ディスプレイの画面サイズに応じて裁断する方法のいずれを用いても作製することができる。
【００６１】
しかし、一般的に行なわれている工業的な生産方法としては、生産性を高めて製造コストを下げるために、ロールｔｏロールで連続して貼り合せる生産方法が採用される。
本発明に係わる長尺のディスプレイ用光学フィルムと、各種の機能性フィルムを積層して長尺の光学フィルターを作製する方法は、次のように行なわれる。
まず、剥離処理された表面が平滑な長尺の剥離フィルムの片面に、光学機能層として近赤外線吸収層、紫外線吸収層、ネオン光吸収層、反射防止層、ハードコート層、防汚層、帯電防止層などの機能層から必要とされる機能層を選択して積層した後、ロール状に巻いて光学積層フィルムのロール体を作製する。
次に、作製したロール体から巻き戻して供給される長尺のディスプレイ用光学フィルムと、ロール体から巻き戻して供給される長尺の光学積層フィルムとを、粘着剤層を介して貼り合せて長尺の積層フィルムからなる光学フィルターが作製される。
【００６２】
ここで、長尺の光学積層フィルムの横幅寸法は、貼り合せるディスプレイ用光学フィルムの横幅寸法と同じである必要はなく、少なくとも光学フィルムに配設されているディスプレイ画面に応じた電極枠を完全に覆うことができるような横幅寸法を有していれば良い。なお、光学フィルム光学積層フィルムとの貼り合せに際しては、基材に粘着剤をコートしながら貼り合せることが可能であるが、事前に光学フィルム１０、又は光学積層フィルムのどちらかの基材に粘着剤層を積層し剥離フィルムで保護して置くのが好ましい。
【００６３】
（近赤外線吸収層）
本発明では、必要に応じて、ロール体から巻き戻して供給される長尺の少なくとも近赤外線吸収層を有する光学機能性フィルムを用いることができる。
近赤外線吸収層は、近赤外線吸収剤層を含む両面粘着フィルムであることが好ましい。この場合には、当該両面粘着フィルムを構成する粘着剤層のうち光学機能性フィルムの外面に露出されるほうの粘着剤層を、光学フィルム１０と光学機能性フィルムとを貼り合せる粘着剤層として利用することができる。
この近赤外線吸収層用の両面粘着フィルムを構成する両面の透明樹脂からなる剥離フィルム（セパレーター）を剥がして、例えば、ロール体から巻き戻して供給される、紫外線吸収剤が混入された長尺の透明基材や透明樹脂層と貼り合せる際、両面粘着フィルムのセパレーターは、片側のみ剥がしてあればよく、反対面のセパレーターは両面粘着フィルムと合わせたままで良い。
【００６４】
近赤外線吸収用層の両面粘着フィルムは、近赤外線吸収色素が分散された透明樹脂層の両面に、粘着剤層と透明樹脂からなる剥離フィルムとを順に積層してなることが好ましい。
また、前記近赤外線吸収色素は、８５０ｎｍ〜１１００ｎｍの吸収波長帯において、それぞれ異なる波長帯域に吸収能の極大値を有する長波長用の吸収色素と短波長用の吸収色素との２種類からなることが好ましい。
【００６５】
前記長波長用の近赤外線吸収色素がジインモニウム塩系化合物の中から選択された１種であり、かつ、前記短波長用の近赤外線吸収色素がフタロシアニン系化合物、シアニン系化合物、チオールニッケル錯塩系化合物の中から選択された１種または２種類以上の色素であることが好ましい。
【００６６】
（近赤外線吸収色素が分散された透明樹脂層）
近赤外線吸収色素が分散された透明樹脂層の機能としては、波長領域８５０〜１１００ｎｍの近赤外線透過率を１５％以下、好ましくは１０％以下に低下させるものであることが望ましい。
近赤外線吸収色素の具体例としては、インモニウム塩系化合物、ジインモニウム塩系化合物、アミニウム塩系化合物、ニトロソ化合物及びその金属錯塩、シアニン系化合物、スクワリリウム系化合物、チオールニッケル錯塩系化合物、アミノチオールニッケル錯塩系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、トリアリールメタン系化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、アミノ化合物、カーボンブラック、酸化アンチモン、酸化インジウムをドープした酸化錫、周期表の４族、５族または６族に属する金属の酸化物若しくは炭化物若しくはホウ化物等が挙げられる。
【００６７】
近赤外線吸収色素は、８５０ｎｍ〜１１００ｎｍの吸収波長帯において、それぞれ異なる波長帯域に吸収能を有する長波長用の近赤外線吸収色素と短波長用の近赤外線吸収色素との２種類以上の色素からなることが好ましい。
前記長波長用の近赤外線吸収色素がジインモニウム塩系化合物の中から選択された１種であり、かつ、前記短波長用の近赤外線吸収色素がフタロシアニン系化合物、シアニン系化合物、チオールニッケル錯塩系化合物の中から選択された１種または２種類以上の色素であることが好ましい。
【００６８】
近赤外線吸収色素が分散された透明樹脂層は、透明樹脂からなるバインダーに近赤外線吸収色素を分散して形成することができる。
上記バインダー樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は８０〜１６０℃であることが好ましい。これにより、バインダー樹脂自体の耐候性が向上することになり、近赤外線吸収性塗膜の近赤外線吸収性能が持続すると共に、近赤外線吸収性塗膜自体の耐候性や物性がより向上することとなる。好ましくは、−５０〜１３０℃であり、より好ましくは、２０〜１１０℃であり、更に好ましくは、４０〜１００℃である。
【００６９】
上記バインダー樹脂の種類としては、例えば、（メタ）アクリル系樹脂、（メタ）アクリルウレタン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、スチレン系樹脂、アルキド系樹脂、フェノール系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエステル系樹脂や、（メタ）アクリルシリコーン系樹脂、アルキルポリシロキサン系樹脂、シリコーン樹脂、シリコーンアルキド樹脂、シリコーンウレタン樹脂、シリコーンポリエステル樹脂、シリコーンアクリル樹脂等の変性シリコーン樹脂、ポリフッ化ビニリデン、フルオロオレフィンビニルエーテルポリマー等のフッ素系樹脂等が挙げられ、熱可塑性樹脂でもよく、熱硬化性樹脂、湿気硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂等の硬化性樹脂でもよい。また、エチレン−プロピレン共重合ゴム、ポリブタジエンゴム、スチレン−ブタジエンゴム、アクリロニトリル−ブタジエンゴム等の合成ゴム又は天然ゴム等の有機系バインダー樹脂；シリカゾル、アルカリ珪酸塩、シリコンアルコキシドやそれらの（加水分解）縮合物、リン酸塩等の無機系結着剤等の従来公知のバインダー樹脂等が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００７０】
これらの中でも、比較的低温で乾燥して近赤外線吸収性塗膜を形成することができる点で、（メタ）アクリル系樹脂、（メタ）アクリルウレタン系樹脂、（メタ）アクリルシリコーン系樹脂、ポリエステル系樹脂、シリコーン樹脂、シリコーンアルキド樹脂、シリコーンウレタン樹脂、シリコーンポリエステル樹脂、シリコーンアクリル樹脂等の変性シリコーン樹脂、ポリフッ化ビニリデン、フルオロオレフィンビニルエーテルポリマー等のフッ素系樹脂であることが好ましい。なお、アクリル系樹脂とメタクリル系樹脂をアクリル系樹脂ともいう。
【００７１】
近赤外線吸収色素が分散された透明樹脂層を形成する際に、上述した以外の配合物として、例えば、溶剤や添加剤等を１種又は２種以上含んでいてもよい。このような溶剤としては、特に限定されず、例えば、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒；イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、プロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテル等のアルコール系溶媒；酢酸ブチル、酢酸エチル、セロソルブアセテート等のエステル系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒；ジメチルホルムアミド等の１種又は２種以上の有機溶剤が挙げられる。
【００７２】
また、添加剤としては、フィルムやコーティング膜等を形成する樹脂組成物に一般に使用される従来公知の添加剤等を用いることができ、例えば、レベリング剤；コロイド状シリカ、アルミナゾル等の無機微粒子、消泡剤、タレ性防止剤、シランカップリング剤、粘性改質剤、金属不活性化剤、過酸化物分解剤、可塑剤、潤滑剤、防錆剤、有機及び無機系紫外線吸収剤、無機系熱線吸収剤、有機・無機防炎剤、静電防止剤等が挙げられる。
【００７３】
色素の耐久性を向上するためにクエンチャーや酸化防止剤を配合することもできる。
このようなクエンチャーとしては、金属錯体系の材料が挙げられ、例えば、みどり化学社製の商品名「ＭＩＲ１０１」、住友精化社製の商品名「ＥＳＴ５」等が挙げられる。
酸化防止剤の代表的なものとしては、ヒンダードアミン系化合物、ヒンダードフェノール系化合物、ホスファイト系化合物等があり、これらを１種類、または２種類以上複合して用いることができる。
【００７４】
近赤外線吸収色素が分散された透明樹脂層を塗布する方法としては、例えば、浸漬、吹き付け、刷毛塗り、カーテンフローコート、グラビアコート、ロールコート、スピンコート、ブレードコート、バーコート、リバースコート、ダイコート、スプレーコート、静電塗装等の方法が挙げられる。これらの場合には、近赤外線吸収性樹脂組成物に上述した有機溶剤を適宜混合させて塗布することができる。
上記近赤外線吸収剤層の厚さとしては、使用用途等により適宜設定すればよく特に限定されるものではない。例えば、乾燥時の厚さを１〜５０μｍ、好ましくは、１〜２０μｍである。
【００７５】
（紫外線吸収層）
紫外線吸収層は、外部光による近赤外線吸収層の劣化を防ぐため、近赤外線吸収層よりも視覚側に設けられる。紫外線吸収層は、必要に応じて光学フィルターの適切な位置に一層または複数層設けることができる。
紫外線吸収層を形成する方法としては、透明基材や透明樹脂層、粘着剤層の中に紫外線吸収剤を混入させる方法、紫外線吸収剤を含有する塗工液を透明基材上に直接または他の層を介して塗布する方法などが挙げられる。
【００７６】
紫外線吸収剤としては、有機系紫外線吸収剤と無機系紫外線吸収剤のいずれも使用可能であるが、５０％透過率での波長が３５０〜４２０ｎｍのものが好ましく、より好ましくは３６０ｎｍ〜４００ｎｍである。５０％透過率での波長が３５０ｎｍより低波長の紫外線吸収剤は、紫外線遮断能が弱く、同波長が４２０ｎｍより高波長の紫外線吸収剤は着色が強くなり、好ましくない。
【００７７】
有機系紫外線吸収剤としては、２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール系化合物、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクチルオキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物、フェニルサリチレート、４−ｔ−ブチルフェニルサリチレート、２，５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸ｎ−ヘキサデシルエステル、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４′−ヒドロキシベンゾエート等のヒドロキシベンゾエート系化合物等が挙げられる。無機系紫外線吸収剤としては、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉄、硫酸バリウム等が挙げられる。これらの紫外線吸収剤は、１種類、または２種類以上複合して用いることができる。
【００７８】
（ネオン光吸収層）
ネオン光吸収層は、必要に応じて光学フィルターの適切な位置に一層または複数層設けることができる。ネオン光吸収層は、ディスプレイの発光するネオン光（吸収波長５８０〜６２０ｎｍ）を、ネオン光吸収剤を用いて除去することにより画像の赤色をより鮮明にするためのものである。ネオン光吸収層を形成する方法としては、透明基材や透明樹脂層、粘着剤層の中にネオン光吸収剤を混入させる方法、ネオン光吸収剤を含有する塗工液を透明基材上に直接または他の層を介して塗布する方法などが挙げられる。前記ネオン光吸収剤としては、例えば、シアニン系、スクアリリウム系、アゾメチン系、キサンテン系、オキソノール系、アゾ系等の色素のうち、波長５８０〜６２０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する適当な色素が挙げられる。これらのネオン光吸収剤は、１種類、または２種類以上複合して用いることができる。
【００７９】
（機能性層）
ディスプレイ用光学フィルターとして必要とされる機能性層としては、反射防止層、ハードコート層、防汚層、帯電防止層などが挙げられるが、求められる機能水準に応じて複数の機能性層を積層することが一般に行なわれる。
【００８０】
（反射防止層）
ここで、反射防止層は、光学フィルターの外側からの可視光線の反射を防ぐためのものであって、単層の場合は、透明基材に比べて屈折率の低い物質、例えば、ポリシロキサン構造を有するフッ素含有有機化合物、ＭｇＦ２、ＳｉＯ２等の薄膜を形成する。
反射防止層の膜厚は、光学的膜厚ｄ（ｎｍ）を、ｄ＝λ／４（但し、λは設計波長で５００〜５８０ｎｍ）と設定して単層の反射防止層を形成する。
また多層からなる場合は、透明基材に比べて高屈折率の物質、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、ＩＴＯなどの薄膜と、透明基材に比べて低屈折率の物質、例えば酸化ケイ素の薄膜を交互に積層する。
このような金属酸化物薄膜の形成方法は特に限定されず、スパッタリング法、真空蒸着法、湿式塗布法などの公知の方法を用いて行なうことができる。
【００８１】
（ハードコート層）
透明基材フィルムに直接又は他の層を介して、公知の方法にてハードコート層用の樹脂組成物を塗布して形成することにより耐磨耗性、耐擦傷性を付与することができる。
ハードコート層は、ハードコート剤を必要に応じて溶剤に溶解した液を、基材に塗布、乾燥、硬化させることにより形成することができる。
ハードコート剤としては、特に制限されることなく、熱硬化型ハードコート剤、紫外線硬化型ハードコート剤などの公知の各種ハードコート剤を用いることができる。
熱硬化型ハードコート剤としては、例えば、シリコーン樹脂系、アクリル樹脂系、メラミン樹脂系等ハードコート剤を用いることができる。シリコーン樹脂系ハードコート剤は従来のアクリル樹脂系ハードコート剤と比べ硬度、耐候性、耐擦傷性の点で優れている。
【００８２】
また、紫外線硬化型ハードコート剤としては、不飽和ポリエステル樹脂系、アクリル樹脂系等のラジカル重合性ハードコート剤、エポキシ樹脂系、ビニルエーテル樹脂系等のカチオン重合性ハードコート剤等のハードコート剤を用いることができる。
紫外線硬化型ハードコート剤の場合には、紫外線照射を行い硬化させる。紫外線照射は、キセノンランプ、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプ等のランプを用いることができる。
【００８３】
ハードコート層には、さらに必要に応じて、酸化防止剤、帯電防止剤、難燃剤等の各種の添加剤を含ませてもよい。各種添加剤は、ハードコート剤中に添加して塗布することができる。
ハードコート層の膜厚みは０．０５〜５μｍ、好ましくは、０．５〜３μｍ程度の膜厚とすることにより、反射防止フィルムに耐磨耗性、耐擦傷性を付与することができる。
【００８４】
（防汚層）
反射防止層の上に最外層として防汚層をコートする場合は、反射防止層の表面にフッ素系、シリコーン系の防汚コート剤を塗布した後、余分な塗布液を拭き取ることで防汚層を形成させることができる。
防汚層は、反射防止層を保護し、かつ、防汚性能を高めるものである。
防汚コート剤としては、フッ素系樹脂あるいはシリコーン系樹脂を用いることができる。例えば、反射防止層の低屈折率層をＳｉＯ２により形成した場合には、フルオロアルキルシランなどのフルオロシリケート系撥水性塗料が好ましく用いられる。
防汚層は、防汚コート剤を溶剤によって希釈したものを、スクリーン印刷、マイクログラビアコーター等によって塗工することに形成することができる。
【００８５】
また、防汚層の厚さは反射防止層の機能を阻害しないように設定しなければならず、好ましくは１〜３０ｎｍ、更に好ましくは５〜１５ｎｍであることが好ましい。
また、ハードコート層に防汚機能を持たせる方法としては、ハードコート層中のハードコート剤、例えば、紫外線硬化型のアクリル樹脂系ハードコート剤にフッ素系の紫外線硬化型防汚添加剤を少量添加することにより、表面機能材料としてフッ素系化合物の特長である撥水・撥油性に加え、優れた防汚性（指紋付着防止）をハードコート層の表面へ付与することができる。
【００８６】
（帯電防止層）
本発明においては、機能性層の表面または内部に帯電防止層を形成することが好ましい。これにより、光学フィルターの表面に静電気の作用で塵・埃が付着するのを防止することができる。
機能性層の表面に塵・埃が付着するのを完全に防止するためには、表面抵抗率を１×１０10（Ω／□）以下、更に好ましくは１×１０8（Ω／□）以下にする必要がある。
【００８７】
一般的には、機能性層の最外層である反射防止層に、帯電防止剤を含有させて帯電防止層を兼ねさせることができる。また、ハードコート層の上に帯電防止剤を塗布して帯電防止層を形成することができる。あるいは、ハードコート層に帯電防止剤を含有させて帯電防止機能を付与して帯電防止層を兼ねさせてもよい。
【００８８】
帯電防止剤としては、酸化アルミニウム、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化ジルコニウムなどの金属酸化物微粒子、導電性ポリマーの微粒子、界面活性剤などが挙げられる。
界面活性剤としてはアニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、非イオン系界面活性剤、両性界面活性剤等が例示される。
これらの界面活性剤を含む液を樹脂フィルムの上に直接塗布する方法等によって帯電防止層の薄膜を形成することができる。
この帯電防止層は、前記の導電性の金属酸化物微粒子を含有したハードコート層の上に形成することもできる。
帯電防止剤の塗工方法としては、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ダイコーター、ディップコーター、スクリーン印刷などの公知の方法を適宜選定して用いることができる。
【００８９】
（ディスプレイ用光学フィルム）
図２に示した、本発明に係わるディスプレイ用光学フィルム１０は、透明基材１の一方の面に、ブラックストライプの遮光パターン７（または５）が、導電性薄膜で形成されてなり、前記遮光パターンと電磁波シールド機能を有するメッシュパターン４（または２）とが、同一面の上で交差した複合パターンを形成している。
一般的に、フィルム基材を用いてロールｔｏロールで生産するのが、生産性を高めるものとされている。
本発明のディスプレイ用光学フィルム１０を、ロールｔｏロールで生産するには、まず最初に、ロール体の透明基材１を使用して、ロール体から巻き戻して供給される長尺の透明基材１の一方の面に、ディスプレイの画面サイズの導電性薄膜からなるブラックストライプの遮光パターン５と細線メッシュパターン２との複合パターンを一定の間隔で配置しながら連続的に形成した後、ロール体に巻き取る。
次に、前記ロール体を巻き戻しながら、ブラックストライプの遮光パターン５と細線メッシュパターン２との複合パターンの上に、無電解メッキ及び／又は電解メッキしたメッキ層を積層し、かつ、前記ディスプレイの画面サイズに所定間隔で配置された遮光パターンとメッシュパターンの複合パターンの周囲には金属メッシュ又は金属薄膜からなる電極枠が配設される（図示を省略）。
電極枠の寸法、配置パターンは、ディスプレイの画面サイズに応じて変更する必要がある。ディスプレイの画面サイズは、代表的には４２インチ、５０インチ、６０インチ、６５インチなどがある。
【００９０】
ディスプレイ用光学フィルムにおいては、ディスプレイのブラックマトリックスの遮光パターンと電磁波シールドのためのメッシュパターンとの干渉により発生するモアレを最小にするため、遮光パターンに対するメッシュパターンのバイアス角度を調節する必要がある。本発明では、遮光パターンとメッシュパターンとを複合したパターンを形成するため、最初にモアレを最小にするためにバイアス角度を設定し、複合パターンの形成方法に応じて、例えば、露光マスク、印刷版などを作成すれば良い。
ディスプレイ１台ごとの枚葉のディスプレイ用光学フィルムを形成するには、ロール体の長尺の光学フィルムを電極枠の外形寸法で裁断する。
【００９１】
図２に示す本発明によるディスプレイ用光学フィルム１０を、ディスプレイの前面パネル、又は前面ガラス板に貼り合せるときは、透明基材１に設けた粘着剤層及び剥離フィルム（図示を省略）の剥離フィルムを剥がして露出した粘着剤層を前面パネル、又は前面ガラス板側に向け、押圧することで、容易に貼り合せることができる。
また、図２に示す本発明によるディスプレイ用光学フィルム１０は、必要に応じて、近赤外線吸収層、紫外線吸収層、ネオン光吸収層、反射防止層、ハードコート層、防汚層、帯電防止層のうち、１つ以上の機能層を積層し、例えば、図６に示すように透明基材２１と反射防止層２２からなるＡＲフィルム２３を粘着剤層２４で貼り合せ、光学フィルターとして使用することができる。
【００９２】
（ＰＴＡ表示装置の基本構成）
本実施の形態例のＰＴＡ表示装置の基本構成は、従来のＰＴＡと同様に、赤色ガス放電管１７ａ，緑色ガス放電管１７ｂ，青色ガス放電管１７ｃの３本を基本単位とし、これらの発光管１７ａ，１７ｂ，１７ｃを、その軸方向と直交する方向に、規則的に多数アレイ配置した発光管アレイを備える。そして、発光管アレイの観察者側には表示電極１５が配置され、背面側にはアドレス電極１８が配置される。
【００９３】
ガス放電管１７ａ，１７ｂ，１７ｃを構成する管状体は、細長い透明絶縁性の管状体、例えば内径が０．８ｍｍの円筒状で、肉厚が０．１ｍｍの光透過性のガラス管が用いられる。このガラス管の内面には、放電が生じるのに必要な電圧（放電電圧）を下げるための二次電子放出膜と、放電により発生した紫外光を可視光に変換させるための蛍光体層が形成されている。また、ガス放電管の内部には、Ｘｅ−Ｎｅ、Ｘｅ−Ｈｅ等の放電ガスが封入されている。蛍光体層は、赤色ガス放電管１７ａには赤色の可視光を放出する蛍光体が、緑色ガス放電管１７ｂには緑色の可視光を放出する蛍光体が、青色ガス放電管１７ｃには青色の可視光を放出する蛍光体が、用いられる。
【００９４】
表示電極１５は、ガス放電管１７ａ，１７ｂ，１７ｃの管軸方向に略直交する方向に、所定ピッチで設けられている。一方、背面基材１２には、アドレス電極１８がガス放電管１７ａ，１７ｂ，１７ｃごとに設けられている。
アドレス電極１８は、光透過性を必要としないので、その形状に制約はなく、例えばライン状パターンの金属膜で形成されている。
背面基材１２は、ＰＴＡ表示装置を発光管１７ａ，１７ｂ，１７ｃの軸方向と直交する方向に曲げられるようにするため、樹脂シートや樹脂フィルム等、可撓性を有する基材が好ましい。
【００９５】
このようなＰＴＡ表示装置においては、走査電極１３とアドレス電極１８との間に電圧を印加して、表示書き込みのためのアドレス放電（対向放電）を選択的に発生させ、その放電セル対応のガラス内壁に壁電荷を生じさる。引き続いて、走査電極１３と維持電極１４との間に電圧を印加して、前記アドレス放電によって壁電荷が生じたセルに表示維持のための表示放電（面放電）を発生させる。この放電によって放電ガス中のＸｅと衝突して紫外光が放出される。紫外光は蛍光体層にて可視光に変換され、赤、緑、青色の可視光が外部へ放出される。
【産業上の利用可能性】
【００９６】
本発明によれば、大画面の薄型ディスプレイに用いる光学フィルムを提供できる。本発明によれば、遮光パターンと電磁波シールド機能を有するメッシュパターンとが、同一面の上で交差した複合パターンを形成してなるので、資源が節減されると共に、全体として生産性が高く安価に製造されたディスプレイ用光学フィルムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００９７】
【図１】本発明のディスプレイ用光学フィルムの一例を示す平面図である。
【図２】図１におけるＡ−Ａ矢視図であり、ディスプレイ用光学フィルムの一例を示す断面図である。
【図３】図２におけるＢ部の部分拡大図であり、（ａ）は、導電性薄膜からなる遮光パターン及びメッシュパターンを示す断面図、（ｂ）は、導電性薄膜の上にメッキ層が積層されたメッキ層積層パターンからなる遮光パターン及びメッシュパターンを示す断面図である。
【図４】図１のディスプレイ用光学フィルムが用いられた、ＰＴＡの斜視断面図である。
【図５】表示電極フィルムが積層された、本発明のディスプレイ用光学フィルムの一例を示す断面図である。
【図６】機能層を有する、本発明のディスプレイ用光学フィルムの一例を示す断面図である。
【図７】本発明による、ＰＴＡの前面板の概略構成の一例を示す断面図である。
【図８】従来技術によるディスプレイ用光学フィルムが用いられた、ＰＴＡの斜視断面図である。
【図９】従来技術による、ＰＴＡの前面板の概略構成の一例を示す断面図である。
【符号の説明】
【００９８】
１，１１，２１，３１，３４…透明基材、２…導電性薄膜の細線メッシュパターン、３…金属メッキ層、４…金属メッシュパターン、５…導電性薄膜の遮光パターン、６…金属メッキ層、７…メッキ積層の遮光パターン、９…積層フィルム、１３…走査電極、１４…維持電極、１５…表示電極、１０…ディスプレイ用光学フィルム、１２，４１…基材、１６，２４，３７…粘着剤層、１７…表示電極フィルム、１７ａ，１７ｂ，１７ｃ…ガス放電管、１８…アドレス電極、２０…本発明によるＰＴＡ、２２…反射防止層、２３…ＡＲフィルム、２５…機能層付き光学フィルム、２６…本発明によるＰＴＡの前面板、３０…従来技術によるＰＴＡの前面板、３２…メッシュパターン、３３…メッシュパターンフィルム、３５…遮光パターン、３６…遮光パターンフィルム、４０…従来技術によるＰＴＡ、４２…電磁波遮蔽用電極。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、プラズマチューブアレイ（ＰＴＡ）、液晶パネル（ＬＣＤ）、有機ＥＬパネルなどの各種ディスプレイに用いられる光学フィルムに関する。さらに詳細には、ブラックストライプの遮光パターンと電磁波シールド材のメッシュパターンとが複合したパターンとして一緒に形成され基材フィルムが少なくて済み、生産性が高く安価に製造されたディスプレイ用光学フィルム及びそれを備えるディスプレイに関する。
【０００２】
なお、ＰＴＡは、放電ガスが密封された微細な発光管を多数並べた発光管アレイの外部から放電圧を印加して、発光管の内面に塗布された蛍光体層から発光させることを特徴とするプラズマ放電に基づいた表示装置である。
【背景技術】
【０００３】
近年、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、プラズマチューブアレイ（ＰＴＡ）、液晶パネル、有機ＥＬパネルなどの各種ディスプレイにおいては、ディスプレイ前面から発生する電磁波が人体に悪影響を与えたり、周囲の電子機器を誤動作させることが問題とされるようになり、ディスプレイの画像の鮮明さと共に、ディスプレイが周囲へ与える影響への対策が益々重要視されつつある。
【０００４】
特に、大型の薄型ディスプレイとして需要の増大しているＰＤＰにおいては、電磁波のシールドフィルム以外に、近赤外線の波長領域を使用している各種のリモコンスイッチの誤作動を防ぐための近赤外線吸収フィルム、その近赤外線吸収フィルムに使用されている近赤外線吸収剤の経時劣化を防ぐための紫外線吸収フィルム、さらには可視光領域の色調調整のためのネオン光カットフィルム、光学フィルターの表面に外光が映り込むのを防ぐための反射防止フィルム等が、必要とされる機能に応じて組み合わせて構成されている。
例えば、特許文献１には、電磁波遮蔽性を有する金属メッシュと、近赤外線吸収能を有する近赤外線吸収剤含有接着層と、反射防止層と、ネオン光吸収層とを積層したプラズマディスプレイ用光学フィルターが開示されている。
【０００５】
一方、ＰＤＰにおける電磁波シールド材の取り付け方法としては、一般的には、光学フィルムの中に電磁波シールド材が組み込まれた積層フィルムを、ＰＤＰ前面パネルに直接に貼り合わせる、いわゆる直貼り方式（例えば、特許文献１を参照）、あるいはＰＤＰ前面パネルから一定の空気層を隔てて配置された前面板に光学フィルムの中に電磁波シールド材が組み込まれた積層フィルムを貼り合わせる、前面板方式（例えば、特許文献２を参照）の２方式が用いられている。
【０００６】
ところで、ＰＤＰにおける、ブラックストライプの配置構造としては、ＰＤＰパネルの全面ガラス基板の内側に一定間隔で配置された複数の表示電極の間に、ブラックストライプの遮光パターン線が挿入されて配設されている（例えば、特許文献３を参照）。また、表示電極は、走査電極と維持電極の２種類の電極を１対として、複数の表示電極の対が一定間隔で配置されている。
【０００７】
また、特許文献４には、ＰＴＡにおいて、電磁波の放射を抑制するために電磁波遮蔽体を設けることが開示されている。
【特許文献１】特開２００４−３３３７４３号公報
【特許文献２】特開２００２−１１６７００号公報
【特許文献３】特開２００７−２３４２８２号公報
【特許文献４】特開２００６−１６５１２０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ＰＤＰ等の薄型ディスプレイが広範囲に普及しつつある現在では、表示画面の鮮明さを追求すると供に、製品価格を安価に抑えることが求められている。このため、必用とされる機能を維持しながら構成部品の部材点数を削減して、軽量化およびコストの低下を図ることが課題とされている。
【０００９】
こうした状況において、ＰＤＰに関する従来技術では、例えば、特許文献２及び３に示されているように、ブラックストライプの遮光パターンと電磁波シールド材のメッシュパターンとは、異なる部材に取り付けられていて、両方を一緒に形成して複合パターンとすることは、全く開示されていない。
【００１０】
また、ＰＴＡに関しても、特許文献４には、表示電極が設けられている基材の反対側面に、表示電極と重なる位置となるように同一のピッチで配置された、表示電極と同一形状を有する電磁波遮蔽用電極を配設することが開示されている。
しかし、特許文献４においては、ＰＴＡにおいてブラックストライプに関する記載が無く、ブラックストライプの遮光パターンと電磁波シールド材のメッシュパターンの両方を一緒に形成して複合パターンとすることは、全く開示されていない。
【００１１】
従来技術のＰＴＡでは、図９の概略構成の一例を示す断面図のように、ブラックストライプと電磁波シールド材とは、それぞれ異なる基材の片面に形成した後、その他の機能性層と供に貼り合せて光学フィルターを作成していた。
しかし、ブラックストライプと電磁波シールド材とを、それぞれ異なる基材に形成した後に貼り合せるのは、基材が無駄になると供に製造コストが嵩むという問題があった。
【００１２】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、ブラックストライプの遮光パターンと電磁波シールド機能を有するメッシュパターンとが組み合わされた複合したパターンとして一緒に形成され、基材フィルムが少なくて済み、生産性が高く安価に製造されたディスプレイ用光学フィルム及びそれを備えるディスプレイを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
前記課題を解決するため、本発明は、透明基材の一方の面に、ブラックストライプの遮光パターンが導電性薄膜で形成され、前記遮光パターンと電磁波シールド機能を有する導電性薄膜からなるメッシュパターンとが、同一面の上で交差した複合パターンを形成してなることを特徴とするディスプレイ用光学フィルムを提供する。
【００１４】
また、前記遮光パターン及びメッシュパターンは、導電性薄膜で形成されたパターン、又は導電性薄膜で形成されたパターンの上にメッキ層が積層されたメッキ積層パターンのいずれかであることが好ましい。
前記導電性薄膜は、写真製法により生成された現像銀層からなる金属薄膜、金属粒子、カーボンナノ粒子もしくはカーボンファイバーの中から選択された１種以上を含有する導電性ペーストを印刷して形成した導電性薄膜、無電解メッキ触媒を含有するペーストを印刷して形成した導電性薄膜、フォトレジストパターンまたは溶剤溶解性の印刷材料を印刷したパターンのいずれかを遮蔽マスクとして用いて金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着を行った後に遮蔽マスクを除去して行なう、剥離（リフトオフ）法により形成した導電性薄膜、金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着により製膜された薄膜をフォトリソ法によりエッチングして形成した導電性薄膜、金属箔をフォトリソ法によりエッチングして形成した導電性薄膜のいずれかであることが好ましい。
【００１５】
また、前記遮光パターン及びメッシュパターンの表面が黒化処理されてなることが好ましい。
さらに前記光学フィルムが、近赤外線吸収層、紫外線吸収層、ネオン光吸収層、反射防止層、ハードコート層、防汚層、帯電防止層のうち、１つ以上の機能層を有することが好ましい。
【００１６】
また、本発明は、前記のディスプレイ用光学フィルムを備えたディスプレイを提供する。
前記のディスプレイは、プラズマチューブアレイ表示装置であることが好ましい。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、ディスプレイ用光学シールドフィルムのブラックストライプの遮光パターンと電磁波シールドのメッシュパターンとを、同一面の上で交差した複合パターンとして同時に形成するため、基材の１枚が省略できるので、次のような効果が得られる。
（１）基材１枚分、及び粘着剤の材料費用のコスト削減が図れる。
（２）電磁波シールドフィルムとブラックストライプの遮光フィルムとを貼り合せる工程費用の削減が図れる。
（３）基材１枚分、及び粘着剤が省けるので、光線透過率が向上して画像が明るく表示される。
以上のことから、生産性が高く安価に製造されたディスプレイ用光学フィルム及びそれを備えるディスプレイを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、最良の形態に基づき、図面を参照して本発明を説明する。
図１は、本発明のディスプレイ用光学フィルムの一例を示す平面図である。図２は、図１におけるＡ−Ａ矢視図であり、ディスプレイ用光学フィルムの一例を示す断面図である。図３は、図２におけるＢ部の部分拡大図であり、図３（ａ）は、導電性薄膜からなる遮光パターン及びメッシュパターンを示す断面図、図３（ｂ）は、導電性薄膜の上にメッキ層が積層されたメッキ層積層パターンからなる遮光パターン及びメッシュパターンを示す断面図である。図４は、図１のディスプレイ用光学フィルムが用いられた、ＰＴＡの斜視断面図である。
図５は、表示電極フィルムが積層された、本発明のディスプレイ用光学フィルムの一例を示す断面図である。図６は、機能層を有する、本発明のディスプレイ用光学フィルムの一例を示す断面図である。図７は、本発明による、ＰＴＡの前面板の概略構成の一例を示す断面図である。
図８は、従来技術によるディスプレイ用光学フィルムが用いられた、ＰＴＡの斜視断面図である。図９は、従来技術による、ＰＴＡの前面板の概略構成の一例を示す断面図である。
【００１９】
本発明のディスプレイ用光学フィルム１０は、図３（ａ）に示すように、透明基材１の一方の面に、導電性薄膜からなるブラックストライプの遮光パターン５と、導電性薄膜からなる電磁波シールド機能を有する細線メッシュパターン２とが形成されている。
または、図３（ｂ）に示すように、透明基材１の一方の面に、導電性薄膜からなるブラックストライプの遮光パターン５の上にメッキ層６が積層されて遮光パターン７が形成され、導電性薄膜からなる細線メッシュパターン２とその上にメッキ層３が積層されて電磁波シールド機能を有する金属メッシュパターン４が形成されている。
【００２０】
このため、図１に示すように、ブラックストライプの直線状の遮光パターン７（または５）と電磁波シールド機能を有するメッシュパターン４（または２）とが、同一面の上で交差した複合パターンを形成している。
この複合パターンの形状を決定するに当たっては、電磁波シールド機能を有するメッシュパターン４（または２）は、ブラックストライプの遮光パターン７（または５）の直線に対して、一定のバイアス角度を持たせて配設することにより、モアレの発生を最小限に抑えるようにしている。
【００２１】
図５に示す積層フィルム９では、透明基材１１の片面に、走査電極１３と維持電極１４の２種類の電極を１対とした表示電極１５が一定間隔で配置された表示電極フィルム１７と、図２の本発明に係わるディスプレイ用光学フィルム１０とが、粘着剤層１６を介して貼り合わされている。
【００２２】
前記遮光パターン及びメッシュパターンの導電性薄膜は、写真製法により生成された現像銀層からなる金属薄膜、金属粒子、カーボンナノ粒子もしくはカーボンファイバーの中から選択された１種以上を含有する導電性ペーストを印刷して形成した導電性薄膜、無電解メッキ触媒を含有するペーストを印刷して形成した導電性薄膜、フォトレジストパターンまたは溶剤溶解性の印刷材料を印刷したパターンのいずれかを遮蔽マスクとして用いて金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着を行った後に遮蔽マスクを除去して行なう、剥離（リフトオフ）法により形成した導電性薄膜、金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着により製膜された薄膜をフォトリソ法によりエッチングして形成した導電性薄膜、金属箔をフォトリソ法によりエッチングして形成した導電性薄膜のいずれかであることが好ましい。
【００２３】
本発明のディスプレイ用光学フィルムは、図６に示すように、さらに、近赤外線吸収層、紫外線吸収層、ネオン光吸収層、反射防止層、ハードコート層、防汚層、帯電防止層のうち、１つ以上の機能層を積層した機能層付き光学フィルム２５であることが好ましい。
図７は、透明基材２１の上に反射防止層２２が形成されたＡＲフィルム２３を粘着剤層２４で貼り合せた前面板２６が例示されている。これらの機能層付き光学フィルム２５及び前面板２６には、必要に応じて、さらに、近赤外線吸収層、紫外線吸収層、ネオン光吸収層を積層することができる。
【００２４】
また、ブラックストライプの遮光パターン、及びメッシュパターンの表面が黒化処理されていることが、観察者から視て反射光を減少させることができるので好ましい。ブラックストライプの遮光パターン、及びメッシュパターンの表面が黒化処理されていない場合は、金属メッキ層の金属光沢により輝いて見え、ディスプレイの表示画像が白っぽくなるという不具合が生じる。
【００２５】
図８は、従来技術によるディスプレイ用光学フィルムが用いられた、ＰＴＡ４０の斜視断面図である。基材４１の片面に表示電極１５（走査電極１３および維持電極１４）が形成され、表示電極１５の形成されている面とは反対側面には、電磁波遮蔽用電極４２，４２が、表示電極１５と同一の形状で配設されている。
また、図４は、本発明のディスプレイ用光学フィルムが用いられた、ＰＴＡの斜視断面図である。図４と図８とを比較すると、本発明に係わるディスプレイ用光学フィルムでは、メッシュパターン４（または２）が全面に広がっているので、従来の電磁波遮蔽用電極４２と表示電極１５とによるものに比べて、電磁波を遮蔽する細線の間隔を狭くしているので、従来技術に比べて電磁波遮蔽性能を格段に向上させることができる。
なお、本発明では、メッシュパターン４（または２）の線幅を１０〜６０μｍとし、ピッチ間隔を２５０〜５００μｍとすることにより、全光線透過率を５０〜７０％程度に確保することが可能となる。また、本発明では、全光線透過率を高めるため、表示電極１５（走査電極１３および維持電極１４）をメッシュパターンとするのが好ましい。
【００２６】
図９は、従来技術による、ＰＴＡの前面板３０の概略構成の一例を示す断面図である。また、図７は、本発明による、ＰＴＡの前面板２６の概略構成の一例を示す断面図である。図９と図７とを比較すると、従来技術によるＰＴＡの前面板３０では、透明基材３１の一方の面にメッシュパターン３２が形成されたメッシュパターンフィルム３３と、透明基材３４の一方の面に遮光パターン３５が形成された遮光パターンフィルム３６と、これらを接着する粘着剤層３７とが設けられているが、本発明に係わるＰＴＡの前面板２６では、透明基材が１枚分と粘着剤層が１層分、削減されている。
また、ブラックストライプの遮光パターンと電磁波シールドのメッシュパターンとを別々の基材に設ける場合に比べて、ブラックストライプの遮光パターンと電磁波シールドのメッシュパターンとが、同一面の上で交差した複合パターンを形成する方が、ディスプレイ用光学フィルム１０の表面抵抗率が低下する。このため、同じ表面抵抗率を確保する場合には、電磁波シールドのメッシュパターン４（または２）のピッチ間隔を拡げることが可能となり、全光線透過率を向上させることができる効果を奏する。
【００２７】
図７の遮光パターン７（または５）と電磁波シールド機能を有するメッシュパターン４（または２）とが、同一面の上で交差して形成した複合パターンの上には、熱硬化性樹脂又はエネルギー線硬化性樹脂を塗布し、硬化させて、接着性樹脂層（粘着剤層）が形成される。
本発明で使用できる接着性樹脂（粘着剤層）としては、例えば、熱硬化性樹脂、紫外線（ＵＶ）硬化性樹脂、可視光硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂などを挙げることができる。
【００２８】
投入するエネルギーにより硬化する透明樹脂であれば特に限定されるものではない。投入するエネルギーとしては、加熱や、エネルギー線（紫外線、電子線、場合により可視光線など）が挙げられる。
なおエネルギー線硬化樹脂の場合は、エネルギー線照射後に必要に応じて加熱処理を行うことにより、硬化の完全化を図ることもでき、その逆に加熱処理を行ってからエネルギー線照射を行なっても構わず、二種以上のエネルギー線照射を組み合わせても構わない。
【００２９】
熱硬化性樹脂としては、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂およびそれらの変性樹脂を挙げることができる。
エネルギー線硬化粘着性樹脂に用いる樹脂化合物としては、アルキルアクリレートやアルキルメタクリレート、などの単官能の（メタ）アクリレート成分；多価アルコールのジ、トリまたはポリ（メタ）アクリレートやヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートなどの多官能の（メタ）アクリレート成分；アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、無水イタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、フマール酸、グリシジル（メタ）アクリレート、Ｎ−メチロールアクリルアミドなどの官能基含有モノマー成分；酢酸ビニル、スチレン、アクリルウレタン系オリゴマーなどが挙げられる。
【００３０】
（透明基材）
本発明に使用される透明基材１，１１，２１は、可視領域で透明性を有し、一般に全光線透過率が９０％以上のものが好ましい。中でも、フレキシブル性を有する樹脂フィルムは、取扱い性に優れることから透明基材１として好ましい。透明基材１，１１，２１に使用される樹脂フィルムの具体例としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）やポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ジアセテート樹脂、トリアセテート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリスルフォン樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状ポリオレフィン樹脂等からなる厚さ５０〜３００μｍの単層フィルム又は前記樹脂からなる複数層の複合フィルムが挙げられる。
【００３１】
（粘着剤層）
本発明のディスプレイ用光学フィルムに使用される粘着剤層、例えば、図７で示すＰＴＡの前面板２６において、各粘着剤層１６，２４を構成する粘着剤としては、可視領域で透明であれば（すなわち、十分な透過率を有すれば）特に限定されず、硬化型樹脂でも良いし、熱可塑性樹脂でも良い。透明性の観点からは、アクリル系樹脂が好適に用いられる。
【００３２】
（複合パターン）
本発明に適用できる遮光パターンとメッシュパターンが複合されたパターンの作製方法は特に限定されないが、導電性薄膜からなる複合パターンの上にメッキ層を積層したメッキ積層パターンにより作製する方法が好適である。
図３は、本発明に係わるディスプレイ用光学フィルムを構成する遮光パターン７（または５）及びメッシュパターン４（または２）の部分断面図である。
【００３３】
図３（ａ）において、透明基材１の片面に、導電性薄膜からなる遮光パターン５及びメッシュパターン２が形成されている。ここで、導電性薄膜は、写真製法により生成された現像銀層からなる金属薄膜、金属粒子、カーボンナノ粒子もしくはカーボンファイバーの中から選択された１種以上を含有する導電性ペーストを印刷して形成した導電性薄膜、無電解メッキ触媒を含有するペーストを印刷して形成した導電性薄膜、フォトレジストパターンまたは溶剤溶解性の印刷材料を印刷したパターンのいずれかを遮蔽マスクとして用いて金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着を行った後に遮蔽マスクを除去して行なう、剥離（リフトオフ）法により形成した導電性薄膜、金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着により製膜された薄膜をフォトリソ法によりエッチングして形成した導電性薄膜、金属箔をフォトリソ法によりエッチングして形成した導電性薄膜、のいずれかであることが好ましい。
【００３４】
図３（ｂ）において、導電性薄膜からなる遮光パターン５及び細線メッシュパターン２の上にメッキ層６，３が積層されてメッキ積層パターンからなる遮光パターン７及び金属メッシュパターン４が形成される。
電磁波シールド機能を有する細線メッシュパターン２、及び金属メッシュパターン４において、メッシュパターンの線幅は、いずれも１０〜６０μｍが好ましく、さらには１５〜４０μｍであることがより好ましい。線幅を１０μｍ未満の微細線にすると、導電性薄膜の細線パターンを導電性のペーストを用いて印刷して形成するためのスクリーン印刷の原版や、金属薄膜層の細線パターンを写真製法で形成するための露光マスクの製造コストが著しく上昇するので好ましくない。逆に線幅を太くして６０μｍを超えると、導電性は高くなるが透視性は低下するので好ましくない。
【００３５】
また、細線メッシュパターン２及び金属メッシュパターン４の厚みは、所望とする特性により任意に変えることができるが、好ましくは０．０５〜１５μｍの範囲であり、より好ましくは０．０５〜１０μｍの範囲である。細線メッシュパターン２及び金属メッシュパターン４の膜厚が薄いと電磁波遮蔽性能が低くなり過ぎてしまう。又、細線メッシュパターン２及び金属メッシュパターン４の膜厚が厚いとコスト高の要因となってしまう。
図３（ａ）及び図３（ｂ）において、遮光パターン７（または５）の線幅は、いずれも１００〜１０００μｍが好ましく、さらには３００〜１０００μｍであることがより好ましい。線幅を１００μｍ未満の微細線にすると遮蔽効果が少なく、逆に線幅を太くして１０００μｍを超えると、遮蔽効果は高くなるが透視性は低下するので好ましくない。
【００３６】
本発明では、導電性薄膜は、写真製法により生成された現像銀層からなる金属薄膜、金属粒子、カーボンナノ粒子もしくはカーボンファイバーの中から選択された１種以上を含有する導電性ペーストを印刷して形成した導電性薄膜、無電解メッキ触媒を含有するペーストを印刷して形成した導電性薄膜、フォトレジストパターンまたは溶剤溶解性の印刷材料を印刷したパターンのいずれかを遮蔽マスクとして用いて金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着を行った後に遮蔽マスクを除去して行なう、剥離（リフトオフ）法により形成した導電性薄膜、金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着により製膜された薄膜をフォトリソ法によりエッチングして形成した導電性薄膜、金属箔をフォトリソ法によりエッチングして形成した導電性薄膜、のいずれかを用いることができる。
以下にそれぞれの方法による導電性薄膜による遮光パターン及び細線メッシュパターンの複合パターンの作製方法と、併せて金属メッキ層について順に説明する。
【００３７】
（印刷による導電性薄膜の生成）
本発明に用いる導電性ペーストは、導電性薄膜からなる複合パターンとなるものであるから、金属粒子、カーボンナノ粒子もしくはカーボンファイバーの中から選択された１種以上を含有する導電性ペーストを用いることができる。
通常は金属粉末をバインダーとなる樹脂成分に混ぜ込んだ導電性ペーストが用いられる。前記の金属粉末としては、銅、銀、ニッケル、アルミニウム等の金属粉が用いられるが、導電性、価格の点から銅または銀の微粉末を用いるのが好ましい。
印刷したメッシュパターンに含まれる金属粉末に起因する金属光沢を消して外光の反射を抑え、視認性を高めるために、導電性ペーストの中にカーボンブラックなどの黒色顔料を混ぜ込むのが好ましい。黒色顔料は、導電性ペーストの中に０．１〜１０重量％で含有させるのが好ましい。
印刷する細線メッシュパターンの線幅は１０〜６０μｍ程度であることから、導電性ペーストに用いる金属粉末は、特別な超微粒子である必要性はなく、金属粉末の粒子径は０．１〜２μｍであればよい。
【００３８】
導電性ペーストに用いられる樹脂成分としては、好ましくは、ポリエステル樹脂、（メタ）アクリル樹脂、熱可塑性樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂などの熱可塑性樹脂が用いられる。また、エポキシ樹脂、アミノ樹脂、ポリイミド樹脂、（メタ）アクリル樹脂などの熱硬化型であってもよい。
導電性ペーストは、これらの樹脂成分に金属粉末、及び黒色顔料を混ぜ込んだ後にアルコールやエーテルなどの有機溶剤を加えて粘度調整を行なう。
図３の透明基材１の片面に、導電性ペーストを用いて遮光パターン５及び細線メッシュパターン２からなる複合パターンを同時に印刷し、溶剤を乾燥除去して、細線からなる複合パターンを硬化させる。
導電性ペーストを塗布して細線パターンを形成する方法は特に制限されないが、スクリーン印刷、グラビア印刷、インクジェット方式などの方法で印刷するのが好ましい。
【００３９】
（写真製法による現像銀層からの金属薄膜層の生成）
現像銀層を生成するための写真製法に基づく露光現像法には、（ａ）露光マスクに覆われていなくて露光された部分に現像銀が発現する、即ち、露光マスクと反対の形に現像銀が表れるいわゆるネガ型の露光現像方法と、（ｂ）露光マスクに覆われて露光されなかった部分には現像銀が発現する、即ち、露光マスクと同じ形に現像銀が表れるいわゆるポジ型の露光現像方法の２通りがある。
すなわち、露光現像法には、特開２００４−２２１５６４号公報に記載された方法であって、支持体上に設けられた銀塩を含有する銀塩含有層を露光し、現像処理することにより金属銀部と光透過性部とを形成し、さらに前記金属銀部を物理現像及び／又はメッキ処理することにより前記金属銀部に導電性金属粒子を担持させた導電性金属部を形成する方法と、ＷＯ２００４／００７８１０に記載された方法（ここでは、ＤＴＲ−メッキ法と称する）とがある。
本発明には、上記の２つの写真製法である（ａ）ネガ型の露光・現像方法と、（ｂ）ポジ型の露光・現像方法のいずれでも適用できる。
【００４０】
（写真製法）
以下、重複した説明を避けるため、ポジ型の露光・現像方法（ＤＴＲ法）による現像銀からなる複合パターンの作製方法について説明する。ＤＴＲ法の場合、透明基材表面には、予め物理現像核層が設けられていることが好ましい。物理現像核としては、重金属あるいはその硫化物からなる微粒子（粒子サイズは１〜数十ｎｍ程度）が用いられる。例えば、金、銀等のコロイド、パラジウム、亜鉛等の水溶性塩と硫化物を混合した金属硫化物等が挙げられる。これらの物理現像核の微粒子層は、真空蒸着法、カソードスパッタリング法、コーティング法等によって透明基材上に設けることができる。生産効率の面からコーティング法が好ましく用いられる。物理現像核層における物理現像核の含有量は、固形分で１平方メートル当たり０．１〜１０ｍｇ程度が適当である。
【００４１】
図３の透明基材１には、塩化ビニリデンやポリウレタン等のポリマーラテックス層の接着層を設けることができ、また接着層と物理現像核層との間にはゼラチン等の親水性バインダーからなる中間層を設けることもできる。
物理現像核層は、親水性バインダーを含有するのが好ましい。親水性バインダー量は物理現像核に対して１０〜３００質量％程度が好ましい。親水性バインダーとしては、ゼラチン、アラビアゴム、セルロース、アルブミン、カゼイン、アルギン酸ナトリウム、各種デンプン、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、アクリルアミドとビニルイミダゾールの共重合体等を用いることができる。物理現像核層には親水性バインダーの架橋剤を含有することもできる。
【００４２】
物理現像核層や前記中間層等の塗布には、例えばディップコーティング、スライドコーティング、カーテンコーティング、バーコーティング、エアーナイフコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、スプレーコーティングなどの塗布方式で塗布することができる。本発明において物理現像核層は、上記したコーティング法によって、通常連続した均一な層として設けることが好ましい。
物理現像核層に金属銀を析出させるためのハロゲン化銀の供給は、基材上に物理現像核層とハロゲン化銀乳剤層をこの順に一体的に設ける方法、あるいは別の紙やプラスチック樹脂フィルム等の基材上に設けられたハロゲン化銀乳剤層から可溶性銀錯塩を供給する方法がある。コスト及び生産効率の面からは前者の物理現像核層とハロゲン化銀乳剤層を一体的に設けるのが好ましい。
【００４３】
前記ハロゲン化銀乳剤は、ハロゲン化銀写真感光材料の一般的なハロゲン化銀乳剤の製造方法に従って製造することができる。ハロゲン化銀乳剤は、通常、硝酸銀水溶液、塩化ナトリウムや臭化ナトリウムのハロゲン水溶液をゼラチンの存在下で混合熟成することによって作られる。
前記ハロゲン化銀乳剤層のハロゲン化銀組成は、塩化銀を８０モル％以上含有するのが好ましく、特に９０モル％以上が塩化銀であることが好ましい。塩化銀含有率を高くすることによって形成された物理現像銀の導電性が向上する。
前記ハロゲン化銀乳剤層は、各種の光源に対して感光性を有している。本発明において物理現像銀により現像銀からなる複合パターンを形成する場合、ハロゲン化銀乳剤層の露光方法として、複合パターンの透過原稿とハロゲン化銀乳剤層を密着して露光する方法、あるいは各種レーザー光を用いて走査露光する方法等がある。前者の密着露光は、ハロゲン化銀の感光性は比較的低くても可能であるが、レーザー光を用いた走査露光の場合は比較的高い感光性が要求される。従って、後者の露光方法を用いる場合は、ハロゲン化銀の感光性を高めるために、ハロゲン化銀は化学増感あるいは増感色素による分光増感を施してもよい。
【００４４】
化学増感としては、金化合物や銀化合物を用いた金属増感、硫黄化合物を用いた硫黄増感、あるいはこれらの併用が挙げられる。好ましくは、金化合物と硫黄化合物を併用した金−硫黄増感である。上記したレーザー光で露光する方法においては、４５０ｎｍ以下の発振波長の持つレーザー光、例えば４００〜４３０ｎｍに発振波長を有する青色半導体レーザー（バイオレットレーザーダイオードともいう）を用いることによって、明室下（明るいイエロー蛍光灯下）でも取り扱いが可能となる。
物理現像核層が設けられる基材上の任意の位置、たとえば接着層、中間層、物理現像核層あるいはハロゲン化銀乳剤層、保護層、または支持体を挟んで設けられる裏塗り層にハレーションないしイラジエーション防止用の染料もしくは顔料を含有させてもよい。
物理現像核層の上に直接にあるいは中間層を介してハロゲン化銀乳剤層が塗設された感光材料を用いて現像銀を生成する場合は、複合パターンの透過原稿と上記感光材料を密着して露光、あるいは、複合パターンのデジタル画像を各種レーザー光の出力機で上記感光材料に走査露光した後、可溶性銀錯塩形成剤と還元剤の存在下でアルカリ液中で処理することにより銀錯塩拡散転写現像（ＤＴＲ現像）が起こり、未露光部のハロゲン化銀が溶解されて銀錯塩となり、物理現像核上で還元されて金属銀が析出して現像銀からなる複合パターンの物理現像銀薄膜を得ることができる。露光された部分はハロゲン化銀乳剤層中で化学現像されて黒化銀となる。現像後、ハロゲン化銀乳剤層及び中間層、あるいは必要に応じて設けられた保護層は水洗除去されて、現像銀からなる複合パターンの物理現像銀薄膜が表面に露出する。
【００４５】
ＤＴＲ現像後、物理現像核層の上に設けられたハロゲン化銀乳剤層等の除去方法は、水洗除去あるいは剥離紙等に転写剥離する方法がある。水洗除去は、スクラビングローラ等を用いて温水シャワーを噴射しながら除去する方法や温水をノズル等でジェット噴射しながら水の勢いで除去する方法がある。
一方、物理現像核層が塗布された基材とは別の基材上に設けたハロゲン化銀乳剤層から可溶性銀錯塩を供給する場合、前述と同様にハロゲン化銀乳剤層に露光を与えた後、物理現像核層が塗布された基材と、ハロゲン化銀乳剤層が塗布された別の感光材料とを、可溶性銀錯塩形成剤と還元剤の存在下でアルカリ液中で重ね合わせて密着し、アルカリ液中から取り出した後、数十秒〜数分間経過した後に、両者を剥がすことによって、物理現像核上に析出した現像銀からなる、複合パターンの物理現像銀薄膜が得られる。
【００４６】
次に、銀錯塩拡散転写現像のために必要な可溶性銀錯塩形成剤、還元剤、及びアルカリ液について説明する。可溶性銀錯塩形成剤は、ハロゲン化銀を溶解し可溶性の銀錯塩を形成させる化合物であり、還元剤はこの可溶性銀錯塩を還元して物理現像核上に金属銀を析出させるための化合物であり、これらの作用はアルカリ液中で行われる。
本発明に用いられる可溶性銀錯塩形成剤としては、チオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸アンモニウムのようなチオ硫酸塩、チオシアン酸ナトリウム、チオシアン酸アンモニウムのようなチオシアン酸塩、アルカノールアミン、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸水素カリウムのような亜硫酸塩、Ｔ．Ｈ．ジェームス編のザ・セオリー・オブ・ザ・フォトグラフィック・プロセス４版の４７４〜４７５項（１９７７年）に記載されている化合物等が挙げられる。
前記還元剤としては、写真現像の分野で公知の現像主薬を用いることができる。例えば、ハイドロキノン、カテコール、ピロガロール、メチルハイドロキノン、クロルハイドロキノン等のポリヒドロキシベンゼン類、１−フェニル−４，４−ジメチル−３−ピラゾリドン、１−フェニル−３−ピラゾリドン、１−フェニル−４−メチル−４−ヒドロキシメチル−３−ピラゾリドン等の３−ピラゾリドン類、パラメチルアミノフェノール、パラアミノフェノール、パラヒドロキシフェニルグリシン、パラフェニレンジアミン等が挙げられる。
【００４７】
上記した可溶性銀錯塩形成剤及び還元剤は、物理現像核層と一緒に基材に塗布してもよいし、ハロゲン化銀乳剤層中に添加してもよいし、またはアルカリ液中に含有させてもよく、更に複数の位置に含有してもよいが、少なくともアルカリ液中に含有させるのが好ましい。
アルカリ液中への可溶性銀錯塩形成剤の含有量は、現像液１リットル当たり、０．１〜５モルの範囲で用いるのが適当であり、還元剤は現像液１リットル当たり０．０５〜１モルの範囲で用いるのが適当である。
アルカリ液のｐＨは１０以上が好ましく、更に１１〜１４の範囲が好ましい。銀錯塩拡散転写現像を行うためのアルカリ液の適用は、浸漬方式であっても塗布方式であってもよい。浸漬方式は、例えば、タンクに大量に貯流されたアルカリ液中に、物理現像核層及びハロゲン化銀乳剤層が設けられた基材を浸漬しながら搬送するものであり、塗布方式は、例えばハロゲン化銀乳剤層上にアルカリ液を１平方メートル当たり４０〜１２０ｍｌ程度塗布するものである。
【００４８】
透視性（目視されないこと）を確保するため、金属薄膜からなる細線メッシュパターン２を構成する。金属薄膜からなる細線メッシュパターン２の上にメッキ３を積層した金属メッシュパターン４の線幅は、１０〜６０μｍが好ましく、さらには１５〜４０μｍであることがより好ましい。金属メッシュパターンのメッキ積層パターンの厚みは、所望とする特性により任意に変えることができるが、好ましくは０．０５〜１５μｍの範囲であり、より好ましくは０．０５〜１０μｍの範囲である。
前述したように、本発明のメッシュパターンの線幅を細くして１０μｍ未満にすると、透視性（目視されないこと）は上がるが導電性（及び遮蔽する波長の電磁波の遮蔽性）は低下し、逆に線幅を大きくして６０μｍを超えると、透視性は低下するが導電性は高くなる。また、線幅を１０μｍ未満の微細線にすると、金属層の細線パターンを写真製法で形成するための露光マスクの製造コストが著しく上昇するので好ましくない。
【００４９】
本発明に係る透明基材上に形成された任意の細線パターンの物理現像による現像銀層は、膜厚みが極めて薄いが導電性が高いので、細線化することが可能であり電磁波シールド材の透視性を高くすることができる。
また、この物理現像による現像銀層自身は、現像処理後に得られた現像銀層を形成する金属銀粒子が極めて小さく、かつ、現像銀層中に存在する親水性バインダー量が極めて少ないことにより、現像銀層を形成する金属銀粒子が最密充填状態に近い状態で現像銀層が形成されて通電性を有しているため、銅やニッケルなどの金属による鍍金（メッキ）を施すことが可能であり、必要に応じて、現像銀層の上に金属メッキ層を積層することができる。
【００５０】
（露光装置）
上記のハロゲン化銀乳剤層を露光する露光装置としては、枚葉式の露光マスク（フォトマスク）を用いる枚葉処理方式の露光装置と、連続したパターンが形成できる連続露光装置とがある。枚葉処理方式の露光装置は、所定のマスクパターンが形成された枚葉式の露光マスク（フォトマスク）を用いて、基材を間欠送りで露光装置に送り、装置内を真空排気して露光マスクと基材とを密着させて隙間を無くしてから、例えば紫外線で露光する。枚葉処理方式の露光装置では、真空排気、露光、大気開放を間欠的に行うので、連続的な生産ができず、処理速度は遅くなる。
これに対して、基材を連続的に露光できる連続露光装置を用いると、枚葉処理方式の露光装置に比較して処理速度が速く、連続的な生産が可能になるという長所がある。
連続露光装置の一例としては、写真製法における露光に用いられる光を透過する材質からなる円筒ドラムと、円筒ドラムの外周壁に設けられた複合パターンが形成された露光マスクフィルムと、円筒ドラムの内部に配設された露光用光源とを備え、円筒ドラムの内側の光源から出射した光によって円筒ドラムに巻き付けられた基材を露光する装置である。
【００５１】
（蒸着による導電性薄膜の生成）
本発明で使用される金属または金属酸化物の蒸着層からなる導電性薄膜の複合パターンは、フォトレジストパターンまたは溶剤溶解性の印刷材料を印刷したパターンのいずれかを遮蔽マスクとして用いて金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着を行った後に遮蔽マスクを除去して行なう、剥離（リフトオフ）法により形成した導電性薄膜、金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着により製膜された薄膜をフォトリソ法によりエッチングして形成した導電性薄膜のいずれかを用いることができる。
その中でも、簡便さの点から剥離（リフトオフ）法を用いて形成されるのが好ましい。剥離（リフトオフ）法では、フォトレジストパターンまたは溶剤溶解性の印刷材料を印刷したパターンのいずれかを遮蔽マスクとして用いて真空蒸着を行った後に遮蔽マスクを除去して、複合パターンの導電性薄膜が形成される。
【００５２】
フォトレジストパターンを遮蔽マスクとして用いて行なう、剥離（リフトオフ）法による複合パターンの形成方法は、次による。
まず、基材上にレジストを塗布した後、熱処理（プリベーク）を行い、レジストから溶媒を除去する。次に、フォトマスクを用いてレジストに所望のパターンを露光した後、レジストパターンを現像して遮蔽マスクとなるレジストパターンを形成する。次に、基材とレジストパターンからなる遮蔽マスクの上に、全面に渡って蒸着膜を形成した後、レジスト剥離剤を用いて遮蔽マスクとその上に乗っている蒸着膜とを同時に除去し、基材の上に残された蒸着膜からなる複合パターンの導電性薄膜を得る。
【００５３】
溶剤溶解性の印刷材料を印刷したパターンを遮蔽マスクとして用いて行なう、剥離（リフトオフ）法による複合パターンの形成方法は、次による。
まず、基材上に溶剤溶解性の樹脂を主成分とする印刷材料で遮蔽マスクとなる部分を印刷する。次に、基材の上と印刷材料からなる遮蔽マスクの上に、全面に渡って蒸着膜を形成した後、溶剤を用いて遮蔽マスクとその上に乗っている蒸着膜とを同時に除去して、基材の上に残された蒸着膜からなる複合パターンの導電性薄膜を得る。
【００５４】
（金属メッキ層）
複合パターンを形成する導電性薄膜の上に金属メッキ層を積層するときに用いるメッキ法は、遮光パターン及び電磁波シールド用の細線メッシュパターンが組み合わされて形成された複合パターンのように、連続のパターンが２次元的に配設された場合では、無電解メッキ法、電解メッキ法あるいは両者を組み合わせたメッキ法のいずれでも可能である。
本発明において、金属メッキ法は公知の方法で行うことができるが、例えば無電解メッキ法は、銅、ニッケル、銀、金、スズ、はんだ、あるいは銅／ニッケルの多層あるいは複合系などの従来公知の方法を使用でき、これらについては、「無電解めっき 基礎と応用；日刊工業新聞社、１９９４年５月３０日初版」等の文献を参照することができる。
【００５５】
メッキが容易で、かつメッキ層の導電性が優れ、さらに厚膜にメッキでき、低コストであるなどの理由により、メッキに用いる金属としては、銅（Ｃｕ）および／またはニッケル（Ｎｉ）が好ましい。金属メッキ層は、メッキを複数回行うことにより、同種の金属または異種の金属を複数層積層することも好ましい。例えば、現像銀層の上に第１のメッキ層、さらにその上に第２のメッキ層を積層する場合に、一方のメッキ層が無電解ニッケルメッキ層であり、他方のメッキ層が無電解銅メッキ層である組み合わせが好ましい。
メッキに使用するメッキ槽の型式は、竪型、横型のいずれであっても構わないが、所定のメッキ滞留時間を確保できるように長さを決定する。
【００５６】
（金属箔のエッチングによる複合パターン）
本発明のディスプレイ用光学フィルムは、前述のとおり、導電性薄膜からなる遮光パターンと細線メッシュパターンが組み合わされた複合パターン、またはその導電性薄膜の上にメッキ層を積層した複合パターンが用いられるが、図３の透明基材１に金属箔を接着剤により貼り合せた後、公知技術であるフォトリソ法によりエッチングして形成した複合パターンを使用することもできる。導電性の金属箔であれば、材質は特に制限されなくて、銅、アルミ、錫などの箔を使用することができる。その中でも、価格が安価であり、エッチング処理の腐食速度が速い点から、銅箔が好適に使用される。
【００５７】
銅箔は、電解銅箔または圧延銅箔のいずれも用いることができる。本発明に使用できる、一般的な銅箔の厚みは６〜１５μｍ程度である。厚みが６μｍよりも薄い銅箔は、特殊な製品であって高価であることから、安価なディスプレイ用光学フィルムの部材には、採用することが困難である。また、厚みが１５μｍを超える場合は、エッチングの処理費用および廃液の処理費用が嵩むことから好ましくない。
銅箔がエッチングされた箇所に露出される透明基材１の表面は、銅箔の表面が有する凸凹が接着剤層に転写されていて、接着剤層の凸凹表面が露出するため透過光が散乱されることから光線透過率が低下してしまう問題を有する。この問題を解決するには、メッシュパターンの凸凹面を、透明な樹脂や粘着剤で埋め、加圧しながら高温に保持して行なう透明化処理を施す必要がある。
また、銅箔を用いた場合は、金属素材の光沢色である茶色を目立たなくするために、表面を黒化処理するのが好ましい。
【００５８】
（黒化処理）
前記金属メッキ層の表面に黒化処理を施すことにより、反射率を低下させるための黒化層を形成してもよい。黒化層は、光を反射しにくい暗色の層であればよく、真黒だけでなく、例えば黒っぽい茶色や黒っぽい緑色等でもよい。黒化層の形成により、金属細線が一層目立ちにくくなり、本発明のディスプレイ用光学フィルムを有する前面板を前面パネルに貼り付けて用いる場合にディスプレイの画面が見やすくなるため、好ましい。
黒化層は、黒色インクの塗布によるインキ処理、ルテニウムやニッケル、スズなどの表面が黒色を呈する金属のメッキによる黒化メッキ処理、金属細線の化成処理（酸化処理等）などにより形成することができる。このうち化成処理では、金属層の表面に金属酸化物の薄膜が形成されることにより、黒色を呈するようになる。
【００５９】
上記の説明は、本発明に適用できる遮光パターンと電磁波シールド機能を有するメッシュパターンが組み合わされて形成された複合パターンの作製方法として、導電性薄膜からなる遮光パターンと細線メッシュパターンを組み合せてなる複合パターンの上にメッキ層を積層したメッキ積層パターンとして作製する方法を示した。
導電性薄膜の作製方法として、写真製法により生成された現像銀層からなる金属薄膜、金属粒子、カーボンナノ粒子もしくはカーボンファイバーの中から選択された１種以上を含有する導電性ペーストを印刷して形成した導電性薄膜、無電解メッキ触媒を含有するペーストを印刷して形成した導電性薄膜、フォトレジストパターンまたは溶剤溶解性の印刷材料を印刷したパターンのいずれかを遮蔽マスクとして用いて金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着を行った後に遮蔽マスクを除去して行なう、剥離（リフトオフ）法により形成した導電性薄膜、金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着により製膜された薄膜をフォトリソ法によりエッチングして形成した導電性薄膜、金属箔をフォトリソ法によりエッチングして形成した導電性薄膜、などによる作製方法を示した。
【００６０】
（ディスプレイ用光学フィルター）
図２に示した、本発明のディスプレイ用光学フィルム１０に、近赤外線吸収層、紫外線吸収層、ネオン光吸収層、反射防止層、ハードコート層、防汚層、帯電防止層のうち、１つ以上の機能層を積層することにより、ディスプレイに使用される光学フィルターを作製することができる。
ディスプレイに使用される光学フィルターは、ディスプレイの画面サイズに裁断された各種の機能性フィルムを、枚葉で貼り合せて行なう方法と、ロール体で用意された長尺の各種の機能性フィルムをロールｔｏロールで連続して貼り合せて行ない、光学フィルターの作製されたロール状の長尺フィルムとし、ディスプレイの画面サイズに応じて裁断する方法のいずれを用いても作製することができる。
【００６１】
しかし、一般的に行なわれている工業的な生産方法としては、生産性を高めて製造コストを下げるために、ロールｔｏロールで連続して貼り合せる生産方法が採用される。
本発明に係わる長尺のディスプレイ用光学フィルムと、各種の機能性フィルムを積層して長尺の光学フィルターを作製する方法は、次のように行なわれる。
まず、剥離処理された表面が平滑な長尺の剥離フィルムの片面に、光学機能層として近赤外線吸収層、紫外線吸収層、ネオン光吸収層、反射防止層、ハードコート層、防汚層、帯電防止層などの機能層から必要とされる機能層を選択して積層した後、ロール状に巻いて光学積層フィルムのロール体を作製する。
次に、作製したロール体から巻き戻して供給される長尺のディスプレイ用光学フィルムと、ロール体から巻き戻して供給される長尺の光学積層フィルムとを、粘着剤層を介して貼り合せて長尺の積層フィルムからなる光学フィルターが作製される。
【００６２】
ここで、長尺の光学積層フィルムの横幅寸法は、貼り合せるディスプレイ用光学フィルムの横幅寸法と同じである必要はなく、少なくとも光学フィルムに配設されているディスプレイ画面に応じた電極枠を完全に覆うことができるような横幅寸法を有していれば良い。なお、光学フィルム光学積層フィルムとの貼り合せに際しては、基材に粘着剤をコートしながら貼り合せることが可能であるが、事前に光学フィルム１０、又は光学積層フィルムのどちらかの基材に粘着剤層を積層し剥離フィルムで保護して置くのが好ましい。
【００６３】
（近赤外線吸収層）
本発明では、必要に応じて、ロール体から巻き戻して供給される長尺の少なくとも近赤外線吸収層を有する光学機能性フィルムを用いることができる。
近赤外線吸収層は、近赤外線吸収剤層を含む両面粘着フィルムであることが好ましい。この場合には、当該両面粘着フィルムを構成する粘着剤層のうち光学機能性フィルムの外面に露出されるほうの粘着剤層を、光学フィルム１０と光学機能性フィルムとを貼り合せる粘着剤層として利用することができる。
この近赤外線吸収層用の両面粘着フィルムを構成する両面の透明樹脂からなる剥離フィルム（セパレーター）を剥がして、例えば、ロール体から巻き戻して供給される、紫外線吸収剤が混入された長尺の透明基材や透明樹脂層と貼り合せる際、両面粘着フィルムのセパレーターは、片側のみ剥がしてあればよく、反対面のセパレーターは両面粘着フィルムと合わせたままで良い。
【００６４】
近赤外線吸収用層の両面粘着フィルムは、近赤外線吸収色素が分散された透明樹脂層の両面に、粘着剤層と透明樹脂からなる剥離フィルムとを順に積層してなることが好ましい。
また、前記近赤外線吸収色素は、８５０ｎｍ〜１１００ｎｍの吸収波長帯において、それぞれ異なる波長帯域に吸収能の極大値を有する長波長用の吸収色素と短波長用の吸収色素との２種類からなることが好ましい。
【００６５】
前記長波長用の近赤外線吸収色素がジインモニウム塩系化合物の中から選択された１種であり、かつ、前記短波長用の近赤外線吸収色素がフタロシアニン系化合物、シアニン系化合物、チオールニッケル錯塩系化合物の中から選択された１種または２種類以上の色素であることが好ましい。
【００６６】
（近赤外線吸収色素が分散された透明樹脂層）
近赤外線吸収色素が分散された透明樹脂層の機能としては、波長領域８５０〜１１００ｎｍの近赤外線透過率を１５％以下、好ましくは１０％以下に低下させるものであることが望ましい。
近赤外線吸収色素の具体例としては、インモニウム塩系化合物、ジインモニウム塩系化合物、アミニウム塩系化合物、ニトロソ化合物及びその金属錯塩、シアニン系化合物、スクワリリウム系化合物、チオールニッケル錯塩系化合物、アミノチオールニッケル錯塩系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、トリアリールメタン系化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、アミノ化合物、カーボンブラック、酸化アンチモン、酸化インジウムをドープした酸化錫、周期表の４族、５族または６族に属する金属の酸化物若しくは炭化物若しくはホウ化物等が挙げられる。
【００６７】
近赤外線吸収色素は、８５０ｎｍ〜１１００ｎｍの吸収波長帯において、それぞれ異なる波長帯域に吸収能を有する長波長用の近赤外線吸収色素と短波長用の近赤外線吸収色素との２種類以上の色素からなることが好ましい。
前記長波長用の近赤外線吸収色素がジインモニウム塩系化合物の中から選択された１種であり、かつ、前記短波長用の近赤外線吸収色素がフタロシアニン系化合物、シアニン系化合物、チオールニッケル錯塩系化合物の中から選択された１種または２種類以上の色素であることが好ましい。
【００６８】
近赤外線吸収色素が分散された透明樹脂層は、透明樹脂からなるバインダーに近赤外線吸収色素を分散して形成することができる。
上記バインダー樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は８０〜１６０℃であることが好ましい。これにより、バインダー樹脂自体の耐候性が向上することになり、近赤外線吸収性塗膜の近赤外線吸収性能が持続すると共に、近赤外線吸収性塗膜自体の耐候性や物性がより向上することとなる。好ましくは、−５０〜１３０℃であり、より好ましくは、２０〜１１０℃であり、更に好ましくは、４０〜１００℃である。
【００６９】
上記バインダー樹脂の種類としては、例えば、（メタ）アクリル系樹脂、（メタ）アクリルウレタン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、スチレン系樹脂、アルキド系樹脂、フェノール系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエステル系樹脂や、（メタ）アクリルシリコーン系樹脂、アルキルポリシロキサン系樹脂、シリコーン樹脂、シリコーンアルキド樹脂、シリコーンウレタン樹脂、シリコーンポリエステル樹脂、シリコーンアクリル樹脂等の変性シリコーン樹脂、ポリフッ化ビニリデン、フルオロオレフィンビニルエーテルポリマー等のフッ素系樹脂等が挙げられ、熱可塑性樹脂でもよく、熱硬化性樹脂、湿気硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂等の硬化性樹脂でもよい。また、エチレン−プロピレン共重合ゴム、ポリブタジエンゴム、スチレン−ブタジエンゴム、アクリロニトリル−ブタジエンゴム等の合成ゴム又は天然ゴム等の有機系バインダー樹脂；シリカゾル、アルカリ珪酸塩、シリコンアルコキシドやそれらの（加水分解）縮合物、リン酸塩等の無機系結着剤等の従来公知のバインダー樹脂等が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００７０】
これらの中でも、比較的低温で乾燥して近赤外線吸収性塗膜を形成することができる点で、（メタ）アクリル系樹脂、（メタ）アクリルウレタン系樹脂、（メタ）アクリルシリコーン系樹脂、ポリエステル系樹脂、シリコーン樹脂、シリコーンアルキド樹脂、シリコーンウレタン樹脂、シリコーンポリエステル樹脂、シリコーンアクリル樹脂等の変性シリコーン樹脂、ポリフッ化ビニリデン、フルオロオレフィンビニルエーテルポリマー等のフッ素系樹脂であることが好ましい。なお、アクリル系樹脂とメタクリル系樹脂をアクリル系樹脂ともいう。
【００７１】
近赤外線吸収色素が分散された透明樹脂層を形成する際に、上述した以外の配合物として、例えば、溶剤や添加剤等を１種又は２種以上含んでいてもよい。このような溶剤としては、特に限定されず、例えば、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒；イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、プロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテル等のアルコール系溶媒；酢酸ブチル、酢酸エチル、セロソルブアセテート等のエステル系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒；ジメチルホルムアミド等の１種又は２種以上の有機溶剤が挙げられる。
【００７２】
また、添加剤としては、フィルムやコーティング膜等を形成する樹脂組成物に一般に使用される従来公知の添加剤等を用いることができ、例えば、レベリング剤；コロイド状シリカ、アルミナゾル等の無機微粒子、消泡剤、タレ性防止剤、シランカップリング剤、粘性改質剤、金属不活性化剤、過酸化物分解剤、可塑剤、潤滑剤、防錆剤、有機及び無機系紫外線吸収剤、無機系熱線吸収剤、有機・無機防炎剤、静電防止剤等が挙げられる。
【００７３】
色素の耐久性を向上するためにクエンチャーや酸化防止剤を配合することもできる。
このようなクエンチャーとしては、金属錯体系の材料が挙げられ、例えば、みどり化学社製の商品名「ＭＩＲ１０１」、住友精化社製の商品名「ＥＳＴ５」等が挙げられる。
酸化防止剤の代表的なものとしては、ヒンダードアミン系化合物、ヒンダードフェノール系化合物、ホスファイト系化合物等があり、これらを１種類、または２種類以上複合して用いることができる。
【００７４】
近赤外線吸収色素が分散された透明樹脂層を塗布する方法としては、例えば、浸漬、吹き付け、刷毛塗り、カーテンフローコート、グラビアコート、ロールコート、スピンコート、ブレードコート、バーコート、リバースコート、ダイコート、スプレーコート、静電塗装等の方法が挙げられる。これらの場合には、近赤外線吸収性樹脂組成物に上述した有機溶剤を適宜混合させて塗布することができる。
上記近赤外線吸収剤層の厚さとしては、使用用途等により適宜設定すればよく特に限定されるものではない。例えば、乾燥時の厚さを１〜５０μｍ、好ましくは、１〜２０μｍである。
【００７５】
（紫外線吸収層）
紫外線吸収層は、外部光による近赤外線吸収層の劣化を防ぐため、近赤外線吸収層よりも視覚側に設けられる。紫外線吸収層は、必要に応じて光学フィルターの適切な位置に一層または複数層設けることができる。
紫外線吸収層を形成する方法としては、透明基材や透明樹脂層、粘着剤層の中に紫外線吸収剤を混入させる方法、紫外線吸収剤を含有する塗工液を透明基材上に直接または他の層を介して塗布する方法などが挙げられる。
【００７６】
紫外線吸収剤としては、有機系紫外線吸収剤と無機系紫外線吸収剤のいずれも使用可能であるが、５０％透過率での波長が３５０〜４２０ｎｍのものが好ましく、より好ましくは３６０ｎｍ〜４００ｎｍである。５０％透過率での波長が３５０ｎｍより低波長の紫外線吸収剤は、紫外線遮断能が弱く、同波長が４２０ｎｍより高波長の紫外線吸収剤は着色が強くなり、好ましくない。
【００７７】
有機系紫外線吸収剤としては、２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール系化合物、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクチルオキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物、フェニルサリチレート、４−ｔ−ブチルフェニルサリチレート、２，５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸ｎ−ヘキサデシルエステル、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４′−ヒドロキシベンゾエート等のヒドロキシベンゾエート系化合物等が挙げられる。無機系紫外線吸収剤としては、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉄、硫酸バリウム等が挙げられる。これらの紫外線吸収剤は、１種類、または２種類以上複合して用いることができる。
【００７８】
（ネオン光吸収層）
ネオン光吸収層は、必要に応じて光学フィルターの適切な位置に一層または複数層設けることができる。ネオン光吸収層は、ディスプレイの発光するネオン光（吸収波長５８０〜６２０ｎｍ）を、ネオン光吸収剤を用いて除去することにより画像の赤色をより鮮明にするためのものである。ネオン光吸収層を形成する方法としては、透明基材や透明樹脂層、粘着剤層の中にネオン光吸収剤を混入させる方法、ネオン光吸収剤を含有する塗工液を透明基材上に直接または他の層を介して塗布する方法などが挙げられる。前記ネオン光吸収剤としては、例えば、シアニン系、スクアリリウム系、アゾメチン系、キサンテン系、オキソノール系、アゾ系等の色素のうち、波長５８０〜６２０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する適当な色素が挙げられる。これらのネオン光吸収剤は、１種類、または２種類以上複合して用いることができる。
【００７９】
（機能性層）
ディスプレイ用光学フィルターとして必要とされる機能性層としては、反射防止層、ハードコート層、防汚層、帯電防止層などが挙げられるが、求められる機能水準に応じて複数の機能性層を積層することが一般に行なわれる。
【００８０】
（反射防止層）
ここで、反射防止層は、光学フィルターの外側からの可視光線の反射を防ぐためのものであって、単層の場合は、透明基材に比べて屈折率の低い物質、例えば、ポリシロキサン構造を有するフッ素含有有機化合物、ＭｇＦ２、ＳｉＯ２等の薄膜を形成する。
反射防止層の膜厚は、光学的膜厚ｄ（ｎｍ）を、ｄ＝λ／４（但し、λは設計波長で５００〜５８０ｎｍ）と設定して単層の反射防止層を形成する。
また多層からなる場合は、透明基材に比べて高屈折率の物質、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、ＩＴＯなどの薄膜と、透明基材に比べて低屈折率の物質、例えば酸化ケイ素の薄膜を交互に積層する。
このような金属酸化物薄膜の形成方法は特に限定されず、スパッタリング法、真空蒸着法、湿式塗布法などの公知の方法を用いて行なうことができる。
【００８１】
（ハードコート層）
透明基材フィルムに直接又は他の層を介して、公知の方法にてハードコート層用の樹脂組成物を塗布して形成することにより耐磨耗性、耐擦傷性を付与することができる。
ハードコート層は、ハードコート剤を必要に応じて溶剤に溶解した液を、基材に塗布、乾燥、硬化させることにより形成することができる。
ハードコート剤としては、特に制限されることなく、熱硬化型ハードコート剤、紫外線硬化型ハードコート剤などの公知の各種ハードコート剤を用いることができる。
熱硬化型ハードコート剤としては、例えば、シリコーン樹脂系、アクリル樹脂系、メラミン樹脂系等ハードコート剤を用いることができる。シリコーン樹脂系ハードコート剤は従来のアクリル樹脂系ハードコート剤と比べ硬度、耐候性、耐擦傷性の点で優れている。
【００８２】
また、紫外線硬化型ハードコート剤としては、不飽和ポリエステル樹脂系、アクリル樹脂系等のラジカル重合性ハードコート剤、エポキシ樹脂系、ビニルエーテル樹脂系等のカチオン重合性ハードコート剤等のハードコート剤を用いることができる。
紫外線硬化型ハードコート剤の場合には、紫外線照射を行い硬化させる。紫外線照射は、キセノンランプ、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプ等のランプを用いることができる。
【００８３】
ハードコート層には、さらに必要に応じて、酸化防止剤、帯電防止剤、難燃剤等の各種の添加剤を含ませてもよい。各種添加剤は、ハードコート剤中に添加して塗布することができる。
ハードコート層の膜厚みは０．０５〜５μｍ、好ましくは、０．５〜３μｍ程度の膜厚とすることにより、反射防止フィルムに耐磨耗性、耐擦傷性を付与することができる。
【００８４】
（防汚層）
反射防止層の上に最外層として防汚層をコートする場合は、反射防止層の表面にフッ素系、シリコーン系の防汚コート剤を塗布した後、余分な塗布液を拭き取ることで防汚層を形成させることができる。
防汚層は、反射防止層を保護し、かつ、防汚性能を高めるものである。
防汚コート剤としては、フッ素系樹脂あるいはシリコーン系樹脂を用いることができる。例えば、反射防止層の低屈折率層をＳｉＯ２により形成した場合には、フルオロアルキルシランなどのフルオロシリケート系撥水性塗料が好ましく用いられる。
防汚層は、防汚コート剤を溶剤によって希釈したものを、スクリーン印刷、マイクログラビアコーター等によって塗工することに形成することができる。
【００８５】
また、防汚層の厚さは反射防止層の機能を阻害しないように設定しなければならず、好ましくは１〜３０ｎｍ、更に好ましくは５〜１５ｎｍであることが好ましい。
また、ハードコート層に防汚機能を持たせる方法としては、ハードコート層中のハードコート剤、例えば、紫外線硬化型のアクリル樹脂系ハードコート剤にフッ素系の紫外線硬化型防汚添加剤を少量添加することにより、表面機能材料としてフッ素系化合物の特長である撥水・撥油性に加え、優れた防汚性（指紋付着防止）をハードコート層の表面へ付与することができる。
【００８６】
（帯電防止層）
本発明においては、機能性層の表面または内部に帯電防止層を形成することが好ましい。これにより、光学フィルターの表面に静電気の作用で塵・埃が付着するのを防止することができる。
機能性層の表面に塵・埃が付着するのを完全に防止するためには、表面抵抗率を１×１０10（Ω／□）以下、更に好ましくは１×１０8（Ω／□）以下にする必要がある。
【００８７】
一般的には、機能性層の最外層である反射防止層に、帯電防止剤を含有させて帯電防止層を兼ねさせることができる。また、ハードコート層の上に帯電防止剤を塗布して帯電防止層を形成することができる。あるいは、ハードコート層に帯電防止剤を含有させて帯電防止機能を付与して帯電防止層を兼ねさせてもよい。
【００８８】
帯電防止剤としては、酸化アルミニウム、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化ジルコニウムなどの金属酸化物微粒子、導電性ポリマーの微粒子、界面活性剤などが挙げられる。
界面活性剤としてはアニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、非イオン系界面活性剤、両性界面活性剤等が例示される。
これらの界面活性剤を含む液を樹脂フィルムの上に直接塗布する方法等によって帯電防止層の薄膜を形成することができる。
この帯電防止層は、前記の導電性の金属酸化物微粒子を含有したハードコート層の上に形成することもできる。
帯電防止剤の塗工方法としては、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ダイコーター、ディップコーター、スクリーン印刷などの公知の方法を適宜選定して用いることができる。
【００８９】
（ディスプレイ用光学フィルム）
図２に示した、本発明に係わるディスプレイ用光学フィルム１０は、透明基材１の一方の面に、ブラックストライプの遮光パターン７（または５）が、導電性薄膜で形成されてなり、前記遮光パターンと電磁波シールド機能を有するメッシュパターン４（または２）とが、同一面の上で交差した複合パターンを形成している。
一般的に、フィルム基材を用いてロールｔｏロールで生産するのが、生産性を高めるものとされている。
本発明のディスプレイ用光学フィルム１０を、ロールｔｏロールで生産するには、まず最初に、ロール体の透明基材１を使用して、ロール体から巻き戻して供給される長尺の透明基材１の一方の面に、ディスプレイの画面サイズの導電性薄膜からなるブラックストライプの遮光パターン５と細線メッシュパターン２との複合パターンを一定の間隔で配置しながら連続的に形成した後、ロール体に巻き取る。
次に、前記ロール体を巻き戻しながら、ブラックストライプの遮光パターン５と細線メッシュパターン２との複合パターンの上に、無電解メッキ及び／又は電解メッキしたメッキ層を積層し、かつ、前記ディスプレイの画面サイズに所定間隔で配置された遮光パターンとメッシュパターンの複合パターンの周囲には金属メッシュ又は金属薄膜からなる電極枠が配設される（図示を省略）。
電極枠の寸法、配置パターンは、ディスプレイの画面サイズに応じて変更する必要がある。ディスプレイの画面サイズは、代表的には４２インチ、５０インチ、６０インチ、６５インチなどがある。
【００９０】
ディスプレイ用光学フィルムにおいては、ディスプレイのブラックマトリックスの遮光パターンと電磁波シールドのためのメッシュパターンとの干渉により発生するモアレを最小にするため、遮光パターンに対するメッシュパターンのバイアス角度を調節する必要がある。本発明では、遮光パターンとメッシュパターンとを複合したパターンを形成するため、最初にモアレを最小にするためにバイアス角度を設定し、複合パターンの形成方法に応じて、例えば、露光マスク、印刷版などを作成すれば良い。
ディスプレイ１台ごとの枚葉のディスプレイ用光学フィルムを形成するには、ロール体の長尺の光学フィルムを電極枠の外形寸法で裁断する。
【００９１】
図２に示す本発明によるディスプレイ用光学フィルム１０を、ディスプレイの前面パネル、又は前面ガラス板に貼り合せるときは、透明基材１に設けた粘着剤層及び剥離フィルム（図示を省略）の剥離フィルムを剥がして露出した粘着剤層を前面パネル、又は前面ガラス板側に向け、押圧することで、容易に貼り合せることができる。
また、図２に示す本発明によるディスプレイ用光学フィルム１０は、必要に応じて、近赤外線吸収層、紫外線吸収層、ネオン光吸収層、反射防止層、ハードコート層、防汚層、帯電防止層のうち、１つ以上の機能層を積層し、例えば、図６に示すように透明基材２１と反射防止層２２からなるＡＲフィルム２３を粘着剤層２４で貼り合せ、光学フィルターとして使用することができる。
【００９２】
（ＰＴＡ表示装置の基本構成）
本実施の形態例のＰＴＡ表示装置の基本構成は、従来のＰＴＡと同様に、赤色ガス放電管１７ａ，緑色ガス放電管１７ｂ，青色ガス放電管１７ｃの３本を基本単位とし、これらの発光管１７ａ，１７ｂ，１７ｃを、その軸方向と直交する方向に、規則的に多数アレイ配置した発光管アレイを備える。そして、発光管アレイの観察者側には表示電極１５が配置され、背面側にはアドレス電極１８が配置される。
【００９３】
ガス放電管１７ａ，１７ｂ，１７ｃを構成する管状体は、細長い透明絶縁性の管状体、例えば内径が０．８ｍｍの円筒状で、肉厚が０．１ｍｍの光透過性のガラス管が用いられる。このガラス管の内面には、放電が生じるのに必要な電圧（放電電圧）を下げるための二次電子放出膜と、放電により発生した紫外光を可視光に変換させるための蛍光体層が形成されている。また、ガス放電管の内部には、Ｘｅ−Ｎｅ、Ｘｅ−Ｈｅ等の放電ガスが封入されている。蛍光体層は、赤色ガス放電管１７ａには赤色の可視光を放出する蛍光体が、緑色ガス放電管１７ｂには緑色の可視光を放出する蛍光体が、青色ガス放電管１７ｃには青色の可視光を放出する蛍光体が、用いられる。
【００９４】
表示電極１５は、ガス放電管１７ａ，１７ｂ，１７ｃの管軸方向に略直交する方向に、所定ピッチで設けられている。一方、背面基材１２には、アドレス電極１８がガス放電管１７ａ，１７ｂ，１７ｃごとに設けられている。
アドレス電極１８は、光透過性を必要としないので、その形状に制約はなく、例えばライン状パターンの金属膜で形成されている。
背面基材１２は、ＰＴＡ表示装置を発光管１７ａ，１７ｂ，１７ｃの軸方向と直交する方向に曲げられるようにするため、樹脂シートや樹脂フィルム等、可撓性を有する基材が好ましい。
【００９５】
このようなＰＴＡ表示装置においては、走査電極１３とアドレス電極１８との間に電圧を印加して、表示書き込みのためのアドレス放電（対向放電）を選択的に発生させ、その放電セル対応のガラス内壁に壁電荷を生じさる。引き続いて、走査電極１３と維持電極１４との間に電圧を印加して、前記アドレス放電によって壁電荷が生じたセルに表示維持のための表示放電（面放電）を発生させる。この放電によって放電ガス中のＸｅと衝突して紫外光が放出される。紫外光は蛍光体層にて可視光に変換され、赤、緑、青色の可視光が外部へ放出される。
【産業上の利用可能性】
【００９６】
本発明によれば、大画面の薄型ディスプレイに用いる光学フィルムを提供できる。本発明によれば、遮光パターンと電磁波シールド機能を有するメッシュパターンとが、同一面の上で交差した複合パターンを形成してなるので、資源が節減されると共に、全体として生産性が高く安価に製造されたディスプレイ用光学フィルムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００９７】
【図１】本発明のディスプレイ用光学フィルムの一例を示す平面図である。
【図２】図１におけるＡ−Ａ矢視図であり、ディスプレイ用光学フィルムの一例を示す断面図である。
【図３】図２におけるＢ部の部分拡大図であり、（ａ）は、導電性薄膜からなる遮光パターン及びメッシュパターンを示す断面図、（ｂ）は、導電性薄膜の上にメッキ層が積層されたメッキ層積層パターンからなる遮光パターン及びメッシュパターンを示す断面図である。
【図４】図１のディスプレイ用光学フィルムが用いられた、ＰＴＡの斜視断面図である。
【図５】表示電極フィルムが積層された、本発明のディスプレイ用光学フィルムの一例を示す断面図である。
【図６】機能層を有する、本発明のディスプレイ用光学フィルムの一例を示す断面図である。
【図７】本発明による、ＰＴＡの前面板の概略構成の一例を示す断面図である。
【図８】従来技術によるディスプレイ用光学フィルムが用いられた、ＰＴＡの斜視断面図である。
【図９】従来技術による、ＰＴＡの前面板の概略構成の一例を示す断面図である。
【符号の説明】
【００９８】
１，１１，２１，３１，３４…透明基材、２…導電性薄膜の細線メッシュパターン、３…金属メッキ層、４…金属メッシュパターン、５…導電性薄膜の遮光パターン、６…金属メッキ層、７…メッキ積層の遮光パターン、９…積層フィルム、１３…走査電極、１４…維持電極、１５…表示電極、１０…ディスプレイ用光学フィルム、１２，４１…基材、１６，２４，３７…粘着剤層、１７…表示電極フィルム、１７ａ，１７ｂ，１７ｃ…ガス放電管、１８…アドレス電極、２０…本発明によるＰＴＡ、２２…反射防止層、２３…ＡＲフィルム、２５…機能層付き光学フィルム、２６…本発明によるＰＴＡの前面板、３０…従来技術によるＰＴＡの前面板、３２…メッシュパターン、３３…メッシュパターンフィルム、３５…遮光パターン、３６…遮光パターンフィルム、４０…従来技術によるＰＴＡ、４２…電磁波遮蔽用電極。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材の一方の面に、ブラックストライプの遮光パターンが導電性薄膜で形成され、前記遮光パターンと電磁波シールド機能を有する導電性薄膜からなるメッシュパターンとが、同一面の上で交差した複合パターンを形成してなることを特徴とするディスプレイ用光学フィルム。
【請求項２】
前記遮光パターン及びメッシュパターンは、導電性薄膜で形成されたパターン、又は導電性薄膜で形成されたパターンの上にメッキ層が積層されたメッキ積層パターンのいずれかであることを特徴とする請求項１に記載のディスプレイ用光学フィルム。
【請求項３】
前記遮光パターン及びメッシュパターンの表面が黒化処理されてなることを特徴とする請求項１または２に記載のディスプレイ用光学フィルム。
【請求項４】
さらに、近赤外線吸収層、紫外線吸収層、ネオン光吸収層、反射防止層、ハードコート層、防汚層、帯電防止層のうち、１つ以上の機能層を有することを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載のディスプレイ用光学フィルム。
【請求項５】
請求項１から４のいずれかに記載のディスプレイ用光学フィルムを備えたことを特徴とするディスプレイ。
【請求項６】
プラズマチューブアレイ表示装置用であることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載のディスプレイ用光学フィルム。
【請求項７】
前記ディスプレイがプラズマチューブアレイ表示装置であることを特徴とする請求項５に記載のディスプレイ。
【請求項１】
透明基材の一方の面に、ブラックストライプの遮光パターンが導電性薄膜で形成され、前記遮光パターンと電磁波シールド機能を有する導電性薄膜からなるメッシュパターンとが、同一面の上で交差した複合パターンを形成してなることを特徴とするディスプレイ用光学フィルム。
【請求項２】
前記遮光パターン及びメッシュパターンは、導電性薄膜で形成されたパターン、又は導電性薄膜で形成されたパターンの上にメッキ層が積層されたメッキ積層パターンのいずれかであることを特徴とする請求項１に記載のディスプレイ用光学フィルム。
【請求項３】
前記遮光パターン及びメッシュパターンの表面が黒化処理されてなることを特徴とする請求項１または２に記載のディスプレイ用光学フィルム。
【請求項４】
さらに、近赤外線吸収層、紫外線吸収層、ネオン光吸収層、反射防止層、ハードコート層、防汚層、帯電防止層のうち、１つ以上の機能層を有することを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載のディスプレイ用光学フィルム。
【請求項５】
請求項１から４のいずれかに記載のディスプレイ用光学フィルムを備えたことを特徴とするディスプレイ。
【請求項６】
プラズマチューブアレイ表示装置用であることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載のディスプレイ用光学フィルム。
【請求項７】
前記ディスプレイがプラズマチューブアレイ表示装置であることを特徴とする請求項５に記載のディスプレイ。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【公開番号】特開２０１０−７９１３９（Ｐ２０１０−７９１３９Ａ）
【公開日】平成２２年４月８日（２０１０．４．８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−２４９６２５（Ｐ２００８−２４９６２５）
【出願日】平成２０年９月２９日（２００８．９．２９）
【出願人】（０００２２４１０１）藤森工業株式会社 (292)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年４月８日（２０１０．４．８）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年９月２９日（２００８．９．２９）
【出願人】（０００２２４１０１）藤森工業株式会社 (292)
【Ｆターム（参考）】
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