説明

フィルタ検査用ミスト供給装置

【課題】液体粒子を使いつつ、フィルタの欠陥の検出精度をより向上できる、フィルタ検査用ミスト供給装置を提供する。
【解決手段】液体粒子を使いつつ、フィルタ欠陥の検出精度をより向上できるフィルタ検査用ミスト供給装置を提供する。このフィルタ検査用ミスト供給装置420は、液体粒子群Pを含むガス流を発生する発生部20と、液体粒子群P中の相対的に粒径が大きな液体粒子PLを除去する除去部52と、を備える。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、フィルタ検査用ミスト供給装置に関する。
【背景技術】
【0002】
従来より、ディーゼルパティキュレートフィルタとして用いられるハニカムフィルタの欠陥検査方法が知られている。例えば、特許文献1には、噴霧ノズルから発生させた液体粒子を含むガス流をハニカムフィルタの入口端面に提供し、このハニカムフィルタの出口端面から出るガス流に光を照射し、粒子を照らすことが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開2009−503508号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
しかしながら、従来の方法では、フィルタの空孔が液体により詰まってしまい十分に精度よく検査を行うことが困難な場合があった。
【0005】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、液体粒子を使いつつ、フィルタの欠陥の検出精度をより向上できる、フィルタ検査用ミスト供給装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明に係るフィルタ検査用ミスト供給装置は、液体粒子群を含むガス流を発生する発生部と、前記液体粒子群中の相対的に粒径が大きな液体粒子を除去する除去部と、を備える。
【0007】
本発明によれば、除去部により液体粒子のうちの相対的に粒径が大きな液体粒子が選択的に除去されるので、粒径の小さな液体粒子を選択的にフィルタに対して供給することができる。これにより、粒径が大きな液体粒子によってフィルタの細孔が閉塞してしまうことが抑制される。
【0008】
ここで、前記除去部は、屈曲管を有することが好ましい。
【0009】
小粒子はガスの流れに乗って屈曲管の内部を曲がることができるが、大粒子は慣性が大きいために屈曲した部分を曲がりきれずに壁に衝突する、あるいは内部に供給された後、重力の影響を受けて管底へ落下するため、簡易な構成でありながら容易に大粒子を選択的に除去できる。
【0010】
このとき、前記屈曲管のガス入口側部の軸とガス出口側部の軸とのなす角が45〜135°であることが好ましい。これにより、大きな液体粒子の除去効果が高くなる。
【0011】
また、前記屈曲管のガス出口側部の軸が鉛直上向きに配置されることが好ましい。これにより、重力を利用した分級効果が高くなる。
【0012】
また、前記除去部はサイクロンを有することも好ましい。小粒子はガスの流れに乗ってガスと共にサイクロンを通過できるが、大粒子は遠心力が大きく働くためにサイクロンの壁面に衝突して除去される。
【0013】
また、前記発生部は、二流体ノズル(気体と液体の2つの流体をノズル内部又は外部で混合して液体微粒子群を生成するノズル)を有することが好ましい。
【発明の効果】
【0014】
本発明によれば、フィルタの欠陥を高精度に検出できる。
【図面の簡単な説明】
【0015】
【図1】図1の(a)は検査対象となるハニカムフィルタ100の斜視図、図1の(b)は(a)のIb−Ib矢視図である。
【図2】図2は、第1実施形態にかかるハニカムフィルタ100の欠陥の検査装置400の概略断面図である。
【図3】図3は、図2のIII−III矢視図である。
【図4】図4は、図2の装置400のハニカムフィルタ100周りの上面図である。
【図5】図4は、第2実施形態にかかるハニカムフィルタ100の欠陥の検査装置400の概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0016】
図面を参照して、発明の実施形態について説明する。まず、本実施形態で検査対象となるハニカムフィルタ100について説明する。このハニカムフィルタ100は、例えば、ディーゼルパティキュレートフィルタとして用いることのできるものである。
【0017】
本実施形態において対象となるハニカムフィルタ100は、図1の(a)及び(b)に示すように、互いに平行に伸びる複数の流路110を形成する隔壁112、及び、複数の流路110の内の一部の一端(図1の(b)の左端)、及び、複数の流路110の内の残部の他端(図1の(b)の右端)を閉鎖する封口部114を有する円柱体である。
【0018】
ハニカムフィルタ100の流路110が延びる方向の長さは特に限定されないが、例えば、40〜350mmとすることができる。また、ハニカムフィルタ100の外径も特に限定されないが、例えば、100〜320mmとすることできる。流路110の断面のサイズは、例えば、正方形の場合一辺0.8〜2.5mmとすることができる。隔壁112の厚みは、0.05〜0.5mmとすることができる。
【0019】
ハニカムフィルタ100の隔壁112の材質は、多孔性セラミクス(焼成体)である。セラミクスは特に限定されないが、例えば、アルミナ、シリカ、ムライト、コーディエライト、ガラス、チタン酸アルミニウム等の酸化物、シリコンカーバイド、窒化珪素、金属等が挙げられる。なお、チタン酸アルミニウムは、さらに、マグネシウム及び/又はケイ素を含むことができる。
【0020】
上述のように、ハニカムフィルタ100の複数の流路110のうちの一部の左端が封口部114により封口され、ハニカムフィルタ100の複数の流路110のうちの残部の右端が封口部114により封口されている。封口部114の材質としては、ハニカムフィルタ100と同様のセラミクス材料を用いることができる。上述の「複数の流路110のうちの一部」と「複数の流路110のうちの残部」とは、好ましくは、図1の(a)に示すように、端面側から見て行列状に配列された複数の流路の内の、縦方向及び横方向それぞれ1つおきに選択された流路の組合せである。
【0021】
ハニカムフィルタ100は多孔質の隔壁112を有する。隔壁の細孔径は特に限定されないが、例えば、11〜30μm程度とすることができる。そして、図1の(b)において、流路110の左端から供給されたガスは、隔壁112を通過して隣の流路110に到達し、流路110の右端から排出される。このとき、流入したガス中の粒子が、隔壁112によって除去され、ハニカムフィルタ100はフィルタとして機能する。
【0022】
このようなハニカムフィルタ100は例えば以下のようにして製造することができる。
【0023】
まず、無機化合物源粉末と、有機バインダと、溶媒と、必要に応じて添加される添加物を用意する。そして、これらを混練機等により混合して原料混合物を得、得られた原料混合物を隔壁の形状に対応する出口開口を有する押出機から押し出し、所望の長さに切断後、公知の方法で乾燥することにより、グリーンハニカム成形体を得る。そして、グリーンハニカム成形体の流路の端部を公知の方法によって封口材で封口してから焼成する、または、グリーンハニカム成形体を焼成してから公知の方法によって流路の端部を封口すればよい。
【0024】
(第1実施形態)
続いて、図2〜図4を参照して、第1実施形態にかかるハニカムフィルタ100の検査装置について説明する。
【0025】
この検査装置400は、液体粒子P(ミストとも呼ばれる)を含むガス流を生成する二流体ノズル(発生部)20と、二流体ノズル20により生成された液体粒子中の相対的に粒子径の大きな液体粒子PLを除去する屈曲管(除去部)50、屈曲管50から出る相対的に粒子径の小さな液体粒子PSを主として含むガスをハニカムフィルタ100の複数の流路110の一端(図2の下端)に導く導入部52と、粒子濃度検出部200と、を備える。二流体ノズル20及び屈曲管50が、ミスト供給装置420を構成している。ここで、液体粒子とは、気体中に分散した液体の微粒子を意味し、2流体ノズル20により、気体と液体の2つの流体をノズル内部又は外部で混合すること、衝突させること、又は、飛散させることで生成される。
【0026】
二流体ノズル20は、タンク10から供給される液体を、ラインL1を介して受け入れると共に、ガス源14から供給されるガス、例えば、空気をバルブV1及びラインL2を介して受入、液体粒子(ミスト)Pを含むガス流を生成する。二流体ノズルの形態は特に限定されない。また、液体粒子(ミスト)Pの径は特に限定されないが、通常広い分布を有し、例えば、分布は、0.1〜100μm程度とすることができる。
【0027】
液体としては、検査後の除去の容易さを考えると、揮発性の液体が好ましく、特に、水が好ましい。なお、液体として、グリコール系アルコール(例えば、プロピレングリコール)を使用してもよい。
【0028】
ガス源14のガスは特に限定されないが、経済性の点で、空気が好ましい。また、ガス源14のガスの温度は0〜50℃であることが好ましく、0〜30℃であることがより好ましい。
【0029】
屈曲管50は、軸が水平方向に延びるガス入口側部50aと、ガス入口側部50aに連結し、軸が鉛直上向きに延びるガス出口側部50bとを主として有している。ガス入口側部50aの軸50aaとガス出口側部50bの軸50baとがなす角度θは、180°以外であれば特に限定されないが、45〜135°が好ましく、45〜90°がより好ましい。本実施形態では、角度θは90°である。
【0030】
ガス入口側部50aの入口端部は、閉板51により閉じられており、閉板51に二流体ノズル20が複数設けられている。具体的には、例えば、図3に示すように、二流体ノズル20を、水平方向に複数、及び、垂直方向に複数設け、マトリクス状に配置することができる。なお、必要とされる液体粒子の濃度等に応じて、閉板51が、一つの二流体ノズル20のみを有してもよい。
【0031】
ガス入口側部50a及びガス出口側部50bの径は特に限定されないが、例えば、ハニカムフィルタ100の端面の直径に対して50〜200%とすることができる。また、ガス入口側部50a、50bの長さは特に限定されないが、それぞれ、10〜2000mmとすることができる。
本実施形態では、ガス出口側部50bとガス入口側部50aとの連結部の形状は、丸みを帯びずに鋭角に軸方向が角度θ変わるように形成されているが、丸みを帯びて方向が角度θ変わるように形成されていてもよい。
【0032】
屈曲管50は、さらに、ガス入口側部50aとガス出口側部50bとの連結部において、鉛直方向下向きに延びるドレン管50dを有している。すなわち、屈曲管50は、鉛直方向上向きに延びるガス入口側部50a、鉛直方向下向きに延びかつ底部が閉鎖されたドレン管50d、及び、これらの接続部に対して横向きに接続されたガス入口側部50aを有し、概ねT字状をなしている。
【0033】
ドレン管50dには、バルブV3を有するドレンラインL3が接続されており、ドレン管50dに回収された液体を排出可能となっている。ドレン管50dの径は特に限定されず、ガス出口側部50bの径と異なっていてもよい。例えば、ガス出口側部50bの径よりも小さい場合には、ガス入口側部50aとガス出口側部50bとの連結部は、L字でなく、J字のように丸みを帯びていてもよい。
【0034】
導入部52は、載置リング52a、筒状部52b、及び、シールリング52cを有する。
載置リング52aは、開口52aiを有し、ガス出口側部50bの出口端面に設けられている。ハニカムフィルタ100の下端面110bの外周部が載置リング52a上に載置されることにより、ハニカムフィルタ100の下端面110bの内の各流路110に対して、液体粒子Pを含むガスを供給することができる。
【0035】
筒状部52bは、載置リング52aの外側から立ち上がるように設けられ、ハニカムフィルタ100の外周面を取り囲んでいる。
【0036】
シールリング52cは、筒状部52bの内面とハニカムフィルタ100の外周面との間に配置され、液体粒子Pを含むガスがこの隙間から漏れないようにシールする。
【0037】
図2に示す粒子濃度検出部200は、レーザーシートLSを発生させるレーザ光源210、レーザーシートLSを撮影するカメラ220、カメラ220が取得した画像を解析するコンピュータ230、カメラ220が取得する視野内に入る位置に設けられるスケール260A,260Bを備える。
【0038】
本実施形態では、レーザーシートLSは、図2に示すように、ハニカムフィルタ100の複数の流路110が伸びるZ方向に垂直な方向であるXY平面に平行に照射され、カメラ220は、レーザーシートLSに対して垂直な方向(Z方向)から、レーザーシートLSの内のハニカムフィルタ100の上端面110tとの対向部を撮影する。
【0039】
カメラ220が撮影する画像の視野FVを図4に示す。視野FV内には、スケール260A、260Bが配置されている。スケール260A,260Bは、それぞれ、Y方向、X方向に延びており、それぞれ、ハニカムフィルタ100の複数の流路110の中心軸に対応する位置にマーク261を有する。
【0040】
図2に戻って、コンピュータ230は、カメラ220が撮影した画像を画像解析し、粒子が排出されている部分を検出する。例えば、画像から所定のしきい値に比べて明るい部分を抽出し、この部分を粒子が排出された場所とすればよい。コンピュータは、必要に応じて、この部分の座標を取得し、出力する。
【0041】
続いて、上述の検査装置400を使用したハニカムフィルタ100の検査方法について説明する。
【0042】
ここでは、一例として、図2に示すように、ハニカムフィルタ100の隔壁112には、欠陥として、上端が封口された流路110xと、下端が封口された流路110yとを連通させる孔hがあるものとする。ここで、図4に示すように、流路110xは、スケール260Bにおいて一番左側のマーク261の位置にあり、かつ、スケール260Aにおいて下から3番目のマーク261の位置にある。一方、流路110yは、スケール260Bにおいて左から2番目のマーク261の位置にあり、スケール260Aにおいて下から3番目のマーク261の位置にあるものとする。
【0043】
図2に戻って、まず、導入部52をハニカムフィルタ100の下部に装着する。そして、バルブV1を開放してガスを二流体ノズル20に供給し、タンク10からラインL1を介して液体を吸い上げて、二流体ノズル20から、液体粒子群(ミスト)Pを含むガス流を発生させる。発生した液体粒子群Pを含むガス流は、矢印Aのように流れて屈曲管50を介してハニカムフィルタ100に供給される。
ここで、液体粒子の濃度は、0.0001〜0.1g/NLが好ましい。また、ハニカムフィルタ100に対して供給するガスの流量は特に限定されないが、例えば、50〜500NL/minとすることができる。
【0044】
ここで、二流体ノズル20から発生したガス流に含まれる液体粒子群Pは、粒径分布を有する。従って、液体粒子群Pは、相対的に大きな液体粒子PL及び相対的に小さな液体粒子PSを有する。そして、このガスが、屈曲管50を通ることにより、相対的に粒径の大きな粒子PLが除去される。具体的には、液体粒子Pの慣性や重力は、その体積、すなわち、粒径の3乗に比例する一方、ガス流れにより液体粒子に与えられる力はその面積すなわち粒径の2条に比例するため、粒径が小さな液体粒子PSはガス流れの影響を相対的に大きく受けて矢印Aのように移動方向が変わりやすいのに対し、粒径が大きな液体粒子PLはガス流れの影響を相対的に受けにくく移動方向が変わりにくい。従って、粒度分布のある液体粒子群Pをガスと共に屈曲管50を通過させると、相対的に粒径の小さい粒子PSはガスの流れが矢印Aのように曲がることに追従して流れの向きを変化できるが、相対的に粒子の大きな粒子PLは矢印Aのようなガスの流れに追従できずに、管壁、たとえば、ガス出口側部50bの壁50b0に衝突したり、ドレン管50dへ落下する。これにより、大粒子を選択的に除去することができ、小粒子を選択的に導入部52を介してハニカムフィルタ100に対して供給できる。壁50b0に衝突した液体粒子は、液膜となって壁沿いに流下してドレン管50dに貯留される。貯留した液体は、適宜、バルブV3及びラインL3を介して外部に排出すればよい。
【0045】
除去される大粒子の直径は、角度θや、屈曲管50を流れるガスの線速度、液体粒子の濃度等に応じて、適宜調節できる。これらの因子は、11μm以上、好ましくは、5μm以上の粒径の液体粒子を少なくとも除去できるように、設定することが好ましい。
【0046】
このようにして、相対的に粒径の小さい液体粒子PSがガスと共にハニカムフィルタ100の複数の流路110内に供給される。その後、この液体粒子PSを含むガスは、多孔質である隔壁112を通過し、ハニカムフィルタ100の複数の流路110の上端110tから液体粒子PSを含むガスが流出する。このとき、ハニカムフィルタ100の複数の流路110の上端110tの近傍においては、雰囲気ガスの流れが殆ど無い状態、例えば、流速1m/s以下としておくことが好ましい。また、実験の容易さから、雰囲気ガスの温度は0〜30℃であることが好ましい。雰囲気ガスは空気であることが好ましい。
【0047】
そして、流路110間に図2に示すような孔hが存在する場合、流路110x、孔h、及び、流路110yによって複数の流路110の上端110tと下端110bとを結ぶ流路が形成されるため、矢印Gに示すように、当該欠陥がある流路110yの上端から、液体粒子(ミスト)PSを含む混合ガスが他の流路110に比べて高い流量や流速で集中的に流出する。封口部114が欠落している場合や、封口部114と流路110との間に隙間が生じている等の欠陥がある場合も同様に液体粒子を含む混合ガスが集中的に流出する。したがって、このような流路110yの上方では、他の部分と比べて、液体粒子PSの濃度が相対的に高くなる。
【0048】
そして、ハニカムフィルタ100の上端から流出するガスに液体粒子PSの濃度の不均一がある場合、この濃度の高い部分がレーザーシートLSを通過する際にレーザ光を強く散乱し、カメラ220が撮影する画像において相対的に明るい部分となって現れる。この明るい部分の光量のプロファイルにより、粒子の濃度のムラを検出できる。
【0049】
そして、図4に示すような画像の視野FVにおいて、例えば、スケール260Aの下から3番目のマーク261の上でかつ、スケール260Bの左から2番目のマーク261の上に明るい点が生じた場合には、座標(3、2)というデータを得ることができ、これにより欠陥場所の特定が容易である。
【0050】
なお、流路110間を連通する等の欠陥が無い場合には、図2の矢印Hに示すように、液体粒子及びガスは多孔体である隔壁112をそれぞれ通過して上端出口から流出する。ことのき、各流路110の上端から流出するガスや液体粒子の流速や流量は互いにほぼ均一であり、したがって、流路110の上端110tの上で液体粒子の濃度の不均一は起こりにくい。
【0051】
本発明によれば、流路110から流出するガス中の粒子の濃度分布を検出することにより、流路の欠陥の有無や場所を容易に検出できる。
【0052】
特に、本実施形態では、二流体ノズル20及び屈曲管50を有するミスト供給装置420により、ハニカムフィルタ100に対して液体粒子を供給している。このため、液体粒子を含むガスが屈曲管50を介してハニカムフィルタ100に到達するので、屈曲管50を介さずに直接ハニカムフィルタ100に到達する場合に比べて、粗大な液体粒子を極めて少なくでき、液体粒子の微細化が可能である。このため、以下に説明するような不具合が減少し、流路の欠陥の有無を高精度に検出できる。すなわち、粗大な液体粒子が存在すると、これにより多孔質である隔壁の細孔をこの液体粒子に由来する液体が塞いでしまい、目詰まりを起こすことがある。一度目をふさいでしまうと、乾燥等をしない限り目詰まりを除去することが困難である。また、目詰まりがあると、多孔質隔壁であってもガスがほとんど流れなくなるので、欠陥がない場所でも、流路110の上端110t上の液体粒子の濃度にムラを生じ、欠陥の検出が不可能になることがある。
【0053】
さらに、本実施形態では、ガス出口側部50bが鉛直上向きであるので、相対的に大きな粒子には重力も大きく作用し、より効率よく大粒子を除去できる。
【0054】
なお、本装置からは、液体粒子を含むガスが排出されるため、このガスを捕集して、外部に排気する排気手段を設けることが好ましい。
【0055】
(第2実施形態)
続いて、図5を参照して、第2実施形態にかかるハニカムフィルタ100の検査装置400について説明する。本発明にかかる検査装置400が、第1実施形態と異なる点は、屈曲管50に代えて、サイクロン60を備える点である。具体的には、サイクロン60の横入口管60aの端部に、二流体ノズル20を有する閉板51が設けられている。また、サイクロン60の上部出口管60bの上端に導入部52が設けられ、サイクロン60の下部出口管60cの下端は塞がれて液溜部60cが形成され、ラインL3及びバルブV3が接続されている。本実施形態では、二流体ノズル20及びサイクロン60が、ミスト供給装置420を構成している。
【0056】
このような検査装置400によれば、二流体ノズル20により生じた液体粒子を含むガス流が、サイクロン60内で矢印Bのように旋回運動させられその後、上部出口管60bから排出される際に、相対的に大きな液体粒子PLは遠心力により周壁に衝突して液溜部60cに捕集される一方、相対的に小さな液体粒子PSは矢印Bのガス流れに乗って上部出口管60bを通って、ハニカムフィルタ100に供給される。
本実施形態によっても、第1実施形態と同様の効果が生じる。
【0057】
本発明は上記実施形態に限定されずさまざまな変形態様が可能である。
例えば、上記実施形態では、液体粒子群の生成方法として二流体ノズルを採用しているがこれに限られず、例えば、一流体ノズル等の他の噴霧ノズルを使用してもよい。また、例えば、4流体ノズルやネブライザー等を用いて液体粒子群を生成してもよい。4流体ノズルとは、2つの液体流路と2つの気体流路とを有するノズルであり、ノズルエッジ先端の衝突焦点で2つの液体流路と2つの気体流路から出た流体を衝突させることで、微粒化した液体粒子群を生成するものである。4流体ノズルを用いることにより数ミクロンの液体粒子群の大量噴霧が可能となる。なお、エッジノズル(4流体ノズル)の種類としては、特に限定されないが、例えば、ストレートエッジノズルやサークルエッジノズルが挙げられる。また、ネブライザーの種類としては、特に限定されないが、圧縮空気で液体粒子群を発生させるジェット式、超音波で液体粒子群を発生させる超音波式およびメッシュ式等が挙げられる。また、水とドライアイスとを混合することにより液体粒子群を生成してもよい。一流体ノズルを使用する際には、適宜、ガス源からのガスを加えることにより、液体粒子群を含むガス流を発生させる発生部を構成することができる。
一流体ノズルは、ガスを補完するために使用することもできる。すなわち、液体粒子群を生成するための一流体ノズルと、ガスを供給するための一流体ノズルとを組み合わせて使用することもできる。この場合、ハニカム体による圧力損失によって、一方の一流体ノズルにより生成された液体粒子群のハニカム体への導入圧力が不足した場合に、他方の一流体ノズルより供給されるガス流によって液体粒子群のハニカム体への押し込み圧を増大させ、液体粒子郡のハニカムへの導入をスムースに行うことができる。
【0058】
また、上記実施形態では、大きな粒径の液体粒子を除去する除去部として、屈曲管50やサイクロン60を用いているが、これに限定されない。例えば、ガスにより液体粒子に働く抗力と、重力、慣性力、遠心力等により液体粒子に働く体積力との釣り合いにより分級が可能な風力分級方法としては、重力分級機、慣性分級機、遠心分級機やこれらの組み合わせが挙げられる。また、風力分級でなく、例えば、メッシュによりメッシュの目開きを超える液体粒子を除去してもよい。
【0059】
さらに、屈曲管50を二段直列に接続したり、サイクロン60を二段直列に接続したりするなど、除去部を複数段直列に接続することも可能である。この場合、除去部間にガスを供給することにより、後段になるほどガス流量を多くして流速を高めると、前段では除去できなかった粒径の粒子を後段で容易に除去でき、さらなる粒子径の微細化が容易となる。また、除去部間に二流体ノズルをさらに設け、前段の除去部で得られた液滴とガスとの混合物を、当該二流体ノズルに流体として供給することも可能である。
【0060】
また、上記第1実施形態では、屈曲管50のガス出口側部50bは、鉛直上向きに配置されているが、他の向きに配置されていても実施可能である。
【0061】
また、上記第1実施形態では、屈曲管50にドレン管50dが設けられているが、ドレン管が無い態様でも実施は可能である。
【0062】
また、レーザーシートの方向や、カメラの方向も、上記実施形態の態様に限定されるものではない。例えば、レーザーシートLSに対して、垂直でなく斜め方向からカメラ220により撮影してもよい。
【0063】
また、上記実施形態では、粒子の濃度分布の検出方法として、粒子に光をあてることにより生ずる散乱光を検出しているが、これに限られず、例えば、粒子に超音波を当てることにより生ずる反射波等を検出してもよい。
【0064】
また、上記実施形態では、雰囲気ガスが空気であるが、他のガスを雰囲気ガスとしてもよいことは言うまでも無い。
【0065】
また、上記実施形態では、ハニカムフィルタ100の流路110が上下方向に配置されているが、水平方向等、いずれの方向を向いても実施可能である。
【0066】
また、上記実施形態では、流路110の断面形状は、略正方形であるがこれに限定されず、矩形、円形、楕円形、3角形、6角形、8角形等にすることができる。また、流路110には、径の異なるもの、断面形状の異なるものが混在してもよい。また、流路の配置も、図1では正方形配置であるが、これに限定されず、断面において流路の中心軸が正三角形の頂点に配置される正三角形配置、千鳥配置等にすることができる。さらに、ハニカムフィルタの外形も、円柱に限られず、例えば3角柱、4角柱、6角柱、8角柱等とすることができる。
【0067】
また、上記実施形態では、ハニカムフィルタを検査の対象としているが、通常の板状フィルタ等を検査対象とすることも可能である。
【0068】
また、上記実施形態では、カメラ220により得られた画像に基づいて、コンピュータによって、粒子の有無を判断しているが、人手によって明るい点の有無や位置を判断してもよい。
【符号の説明】
【0069】
20…二流体ノズル(発生部)、50…屈曲管(除去部)、50a…ガス入口側部、50b…ガス出口側部、52…導入部、60…サイクロン(除去部)、100…ハニカムフィルタ、110…流路、110t…流路の上端(一端)、110b…流路の下端(他端)、112…隔壁、114…封口部、200…検出部、260A,B…スケール、400…検査装置、420…ミスト供給装置、P…液体粒子、PL…相対的に大きな液体粒子、PS…相対的に小さな液体粒子。

【特許請求の範囲】
【請求項1】
液体粒子群を含むガス流を発生する発生部と、
前記液体粒子群中の相対的に粒径が大きな液体粒子を除去する除去部と、を備えるフィルタ検査用ミスト供給装置。
【請求項2】
前記除去部は、屈曲管を有する請求項1記載の装置。
【請求項3】
前記屈曲管のガス入口側部の軸とガス出口側部の軸とのなす角が45〜135°である請求項2記載の装置。
【請求項4】
前記屈曲管のガス出口側部の軸が鉛直上向きに配置された請求項2又は3記載の装置。
【請求項5】
前記除去部はサイクロンを有する請求項1記載の装置。
【請求項6】
前記発生部は、二流体ノズルを有する請求項1〜5のいずれか一項記載の装置。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【公開番号】特開2012−208118(P2012−208118A)
【公開日】平成24年10月25日(2012.10.25)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2012−58797(P2012−58797)
【出願日】平成24年3月15日(2012.3.15)
【出願人】(000002093)住友化学株式会社 (8,981)
【Fターム(参考)】