レーザアブレーション装置、レーザアブレーション試料分析システム及び試料導入方法
【課題】 複数の試料を順次効率良くレーザアブレートすることができるレーザアブレーション装置、レーザアブレーション試料分析システム及び試料導入方法を提供する。
【解決手段】 レーザ光照射部４に搬送される次位の試料Ｓは、試料待機部５で待機させられた後、キャリアガスが充填されたレーザ光照射部４への大気の流入が防止されつつ、開閉扉４３を介して試料待機部５からレーザ光照射部４に搬送手段４４により搬送され、レーザ光照射部４でレーザアブレートされる。このように、試料待機部５からレーザ光照射部４への次位の試料Ｓの搬送に際してはレーザ光照射部４への大気の流入が防止されるため、レーザ光照射部４に次位の試料Ｓを導入する度にキャリアガスによってレーザ光照射部４のガスの置換を行うことが不要となる。従って、複数の試料Ｓを順次効率良くレーザアブレートすることができる。
【解決手段】 レーザ光照射部４に搬送される次位の試料Ｓは、試料待機部５で待機させられた後、キャリアガスが充填されたレーザ光照射部４への大気の流入が防止されつつ、開閉扉４３を介して試料待機部５からレーザ光照射部４に搬送手段４４により搬送され、レーザ光照射部４でレーザアブレートされる。このように、試料待機部５からレーザ光照射部４への次位の試料Ｓの搬送に際してはレーザ光照射部４への大気の流入が防止されるため、レーザ光照射部４に次位の試料Ｓを導入する度にキャリアガスによってレーザ光照射部４のガスの置換を行うことが不要となる。従って、複数の試料Ｓを順次効率良くレーザアブレートすることができる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レーザアブレーション装置、レーザアブレーション試料分析システム及び試料導入方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来のレーザアブレーション装置として、例えば特許文献１に記載されたものがある。このレーザアブレーション装置では、試料セル内に配置された試料にレーザ光が照射されて試料の一部が微粒子化され、その試料の一部がキャリアガスによってＩＣＰ質量分析装置等に送られる。そして、試料セル内の試料を新たな試料に交換する際には、試料セル内に空気が入り込まないようにパージガスによって試料セル内のガスの置換が行われる。これは、試料セル内に空気が入り込むと、試料の分析において、空気を構成する成分が試料中に存在したものか否かが分からなくなるなどといった理由によるものである。
【特許文献１】特開平１１−２０１９４５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、上述したようなレーザアブレーション装置は、試料セル内の試料を新たな試料に交換する度にパージガスによって試料セル内のガスの置換を行うことが必要となるため、複数の試料を順次効率良くレーザアブレートするのには不向きである。
【０００４】
そこで、本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、複数の試料を順次効率良くレーザアブレートすることができるレーザアブレーション装置、レーザアブレーション試料分析システム及び試料導入方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記目的を達成するために、本発明に係るレーザアブレーション装置は、試料にレーザ光を照射することにより試料の一部を微粒子化するレーザアブレーション装置であって、レーザ光が照射される試料が配置されると共に、微粒子化された試料の一部を運ぶためのキャリアガスが流通するレーザ光照射部と、レーザ光照射部に搬送される次位の試料が待機させられる試料待機部とを備え、レーザ光照射部への大気の流入を防止しつつ、試料待機部からレーザ光照射部に次位の試料を搬送することを特徴とする。
【０００６】
このレーザアブレーション装置においては、レーザ光照射部に搬送される次位の試料は、試料待機部で待機させられた後、レーザ光照射部への大気の流入が防止されつつ、試料待機部からレーザ光照射部に搬送され、レーザ光照射部でレーザアブレートされる。このように、試料待機部からレーザ光照射部への次位の試料の搬送に際してはレーザ光照射部への大気の流入が防止されるため、レーザ光照射部に次位の試料を導入する度にキャリアガスによってレーザ光照射部のガスの置換を行うことが不要となる。従って、このレーザアブレーション装置によれば、複数の試料を順次効率良くレーザアブレートすることができる。
【０００７】
なお、「試料をレーザアブレートする」とは、試料にレーザ光を照射することにより試料の一部を微粒子化することを意味する。
【０００８】
また、試料待機部は、キャリアガスと同一のガスが充填される第１の室内に設けられ、レーザ光照射部は、第１の室に隣接する第２の室内に設けられ、第１の室と第２の室との間に設けられた開閉扉を介して試料待機部からレーザ光照射部に次位の試料が搬送されることが好ましい。試料待機部が設けられる第１の室内にはキャリアガスと同一のガスが充填されるため、第１の室と第２の室との間に設けられた開閉扉を介して試料待機部からレーザ光照射部に次位の試料を搬送するに際し、レーザ光照射部への大気の流入を確実に防止することができる。
【０００９】
また、試料待機部は、試料が流通する第１の流通路内に設けられ、レーザ光照射部は、キャリアガスが流通する第２の流通路内に設けられ、第１の流通路と第２の流通路とを連通する搬送路を介して試料待機部からレーザ光照射部に次位の試料が搬送されることが好ましい。レーザ光照射部が設けられる第２の流通路内をキャリアガスが流通するため、例えば、試料待機部が設けられる第１の流通路内に大気が流入しても、大気圧よりキャリアガスのガス圧を高くしておけば、第１の流通路と第２の流通路とを連通する搬送路を介して試料待機部からレーザ光照射部に次位の試料を搬送するに際し、レーザ光照射部への大気の流入を確実に防止することができる。
【００１０】
また、試料待機部は、所定の液体を貯留する第１の容器内に設けられ、レーザ光照射部は、液体の液面下に開口部が位置するキャップ状の第２の容器内に設けられ、開口部を介して試料待機部からレーザ光照射部に次位の試料が搬送されることが好ましい。試料待機部が設けられる第１の容器内には液体が貯留されるため、液体の液面下に位置する第２の容器の開口部を介して試料待機部からレーザ光照射部に次位の試料を搬送するに際し、レーザ光照射部への大気の流入を確実に防止することができる。
【００１１】
また、本発明に係るレーザアブレーション試料分析システムは、試料にレーザ光を照射することにより試料の一部を微粒子化するレーザアブレーション装置と、微粒子化された試料の一部に対して所定の分析を行う試料分析装置とを具備するレーザアブレーション試料分析システムであって、レーザアブレーション装置は、レーザ光が照射される試料が配置されると共に、微粒子化された試料の一部を運ぶためのキャリアガスが流通するレーザ光照射部と、レーザ光照射部に搬送される次位の試料が待機させられる試料待機部とを備え、レーザ光照射部への大気の流入を防止しつつ、試料待機部からレーザ光照射部に次位の試料を搬送する、ことを特徴とする。
【００１２】
このレーザアブレーション試料分析システムは、上述したレーザアブレーション装置を具備するため、複数の試料を順次効率良くレーザアブレートすることができる。
【００１３】
また、本発明に係る試料導入方法は、試料にレーザ光を照射することにより試料の一部を微粒子化するレーザアブレーション装置において、レーザ光が照射される試料が配置されると共に、微粒子化された試料の一部を運ぶためのキャリアガスが流通するレーザ光照射部に次位の試料を導入する試料導入方法であって、次位の試料を試料待機部で待機させる工程と、キャリアガスが充填されたレーザ光照射部への大気の流入を防止しつつ、試料待機部からレーザ光照射部に次位の試料を搬送する工程とを含むことを特徴とする。
【００１４】
この試料導入方法においては、レーザ光照射部に搬送される次位の試料は、試料待機部で待機させられた後、キャリアガスが充填されたレーザ光照射部への大気の流入が防止されつつ、試料待機部からレーザ光照射部に搬送される。このように、試料待機部からレーザ光照射部への次位の試料の搬送に際してはレーザ光照射部への大気の流入が防止されるため、レーザ光照射部に次位の試料を導入する度にキャリアガスによってレーザ光照射部のガスの置換を行うことが不要となる。従って、この試料導入方法によれば、複数の試料を順次効率良くレーザアブレートすることができる。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、複数の試料を順次効率良くレーザアブレートすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明の好適な実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、各図において同一又は相当部分には同一符号を付し、重複する説明を省略する。
［第１の実施形態］
【００１７】
図１に示されるように、レーザアブレーションＩＣＰ質量分析システム（レーザアブレーション試料分析システム）１は、試料Ｓにレーザ光Ｌを照射することにより試料Ｓの一部を微粒子化するレーザアブレーション装置２と、その微粒子化された試料Ｓの一部をプラズマＰでイオン化して質量分析を行うＩＣＰ質量分析装置（試料分析装置）３とを具備している。
【００１８】
レーザアブレーション装置２は、レーザ光Ｌが照射される試料Ｓが配置されるレーザ光照射部４と、このレーザ光照射部４に搬送される次位の試料Ｓが待機させられる試料待機部５とを備えている。レーザ光照射部４はレーザ光照射室（第２の室）６内に設けられており、試料待機部５は、レーザ光照射室６に隣接する試料待機室（第１の室）７内に設けられている。
【００１９】
レーザ光照射室６には、レーザアブレートされて微粒子化された試料Ｓの一部を運ぶためのキャリアガスをレーザ光照射室６内に導入する導入管８、及びレーザ光照射室６外に導出する導出管９が接続されている。これにより、微粒子化された試料Ｓの一部を運ぶためのキャリアガスがレーザ光照射部４を流通することになる。
【００２０】
試料待機室７には、ガスの置換を行うためのパージガスを試料待機室７内に導入する導入管１１、及び試料待機室７外に導出する導出管１２が接続されている。これにより、試料待機室７内にはパージガスが充填されることになる。なお、キャリアガス及びパージガスには、例えばアルゴンガス等の同一のガスが用いられる。
【００２１】
また、レーザアブレーション装置２は、所定の波長でレーザ光Ｌを出射するレーザユニット１３を備えている。このレーザユニット１３から出射されたレーザ光Ｌは、ミラー１４，１５により反射されて波長変換素子１６に入射する。この波長変換素子１６により波長が半減されたレーザ光Ｌは、波長変換素子１７により更に波長が半減される。その後、レーザ光Ｌは、ミラー１８，１９，２１により反射されてレンズ２２を通り、ビームスプリッタ２３により反射されて、レーザ光照射室６内のレーザ光照射部４に配置された試料Ｓに向かって進行する。
【００２２】
一例として、波長１０６４ｎｍのレーザ光Ｌを出射するＮｄ−ＹＡＧレーザをレーザユニット１３が搭載しているものとする。このとき、波長１０６４ｎｍのレーザ光Ｌは、波長変換素子１６により波長５３２ｎｍのレーザ光Ｌ（２次高調波）に変換され、この波長５３２ｎｍのレーザ光Ｌは、波長変換素子１７により波長２６６ｎｍのレーザ光Ｌ（３次高調波）に変換される。このように、レーザ光Ｌを短波長にすることで、種々の試料Ｓをレーザアブレートすることが可能になる。
【００２３】
更に、レーザアブレーション装置２は、レーザ光照射室６内のレーザ光照射部４に配置された試料Ｓを観察するためのＣＣＤカメラ２４を備えている。このＣＣＤカメラは、ビームスプリッタ２３を介して、例えば、試料Ｓの表面においてレーザ光Ｌが照射されている部分を撮像する。
【００２４】
ＩＣＰ質量分析装置３は、レーザアブレーション装置２の導出管９に接続される導入管２５と、この導入管２５を介してキャリアガスにより運ばれてきた試料Ｓの一部をイオン化するためのプラズマＰを発生させるプラズマトーチ２６と、このプラズマトーチ２６の先端部近傍に位置するイオン導入部２７を有する質量分析部２８とを備えている。
【００２５】
プラズマトーチ２６は３重管構造となっており、このプラズマトーチ２６には、導入管２５からキャリアガスが導入され、管２９からプラズマＰ形成用のプラズマガスが導入され、管３１からプラズマトーチ２６の壁面を冷却するためのクーラントガスが導入される。なお、キャリアガス、プラズマガス及びクーラントガスには、例えばアルゴンガス等が用いられる。
【００２６】
プラズマトーチ２６の先端側には、高周波電源に接続された高周波コイル３２が設けられている。そして、この高周波コイル３２に電圧が印加されると、プラズマトーチ２６の先端側の内部にプラズマＰが形成される。
【００２７】
質量分析部２８のイオン導入部２７は、プラズマトーチ２６の先端に対向する導入孔３３を有しており、この導入孔３３を介して、プラズマＰからの光やイオンが筐体３４内に導入される。なお、導入孔３３の直径は、例えば１ｍｍ程度である。
【００２８】
筐体３４内は、真空ポンプ３５，３６によって真空引きされ、イオン導入部２７側が低真空室、その反対側が高真空室というように、真空度が異なる二室に仕切られている。この筐体３４内においては、プラズマＰからの光とイオンとがイオンレンズ３７により分離されてイオンのみが通過させられ、質量多重極部３８で特定のイオンのみが取り出されて検出器３９で検出される。そして、検出器３９の検出結果に基づいて、試料Ｓの質量分析が行われることになる。
【００２９】
次に、上述したレーザ光照射部４及び試料待機部５について、より詳細に説明する。
【００３０】
図２に示されるように、レーザ光照射室６の上壁には、レーザ光Ｌを透過させるためのレーザ光透過部材４１が設けられている。このレーザ光透過部材４１は、レーザ光Ｌに対して透過性を有する材料（例えば、石英等）からなる。また、試料待機室７の側壁には、外部と試料待機室７内とを隔てることが可能な開閉扉４２が設けられている。
【００３１】
更に、互いに隣接するレーザ光照射室６と試料待機室７との間の側壁には、レーザ光照射室６内と試料待機室７内とを隔てることが可能な開閉扉４３が設けられている。そして、この開閉扉４３を介して、搬送手段（例えば、ベルトコンベア、ターンテーブル、両側に試料把持機構を備えた回転アーム等）４４がレーザ光照射室６内と試料待機室７内とに渡って設けられている。
【００３２】
以上のように構成されたレーザ光照射部４及び試料待機部５においては、次のように複数の試料Ｓが順次レーザアブレートされる。
【００３３】
まず、図３（ａ）に示されるように、開閉扉４２が開けられて、試料待機室７内に試料Ｓが導入され、試料待機部５で試料Ｓが待機させられる。続いて、図３（ｂ）に示されるように、開閉扉４２が閉じられて、導入管１１を介して試料待機室７内にパージガスが導入される。これにより、試料Ｓが導入される際に試料待機室７内に流入した大気（すなわち、レーザアブレーション装置２の外部雰囲気（空気））は導出管１２を介して試料待機室７外に排出され、試料待機室７内はパージガスで満たされることになる。
【００３４】
その後、図４（ａ）に示されるように、開閉扉４３が開けられて、キャリアガスで満たされたレーザ光照射室６内に試料待機室７内から試料Ｓが搬送手段４４により搬送され、レーザ光照射室６内のレーザ光照射部４に試料Ｓが配置される。このとき、開閉扉４２は閉じられているため、キャリアガスが充填されたレーザ光照射部４への大気の流入が防止されつつ、試料待機部５からレーザ光照射部４に試料Ｓが搬送されることになる。
【００３５】
続いて、図４（ｂ）に示されるように、レーザ光照射部４に配置された試料Ｓにレーザ光Ｌが照射されて試料Ｓがレーザアブレートされると共に、導入管８を介してレーザ光照射室６内にキャリアガスが導入される。これにより、微粒子化（気化等を含む）された試料Ｓの一部は、キャリアガスにより運ばれて、導出管９を介してＩＣＰ質量分析装置３に送られる。
【００３６】
一方、試料Ｓがレーザアブレートされている最中には、開閉扉４２が開けられて、試料待機室７内に新たな次位の試料Ｓが導入され、試料待機部５で次位の試料Ｓが待機させられる。そして、開閉扉４２が閉じられて、導入管１１を介して試料待機室７内にパージガスが導入され、試料待機室７内がパージガスで満たされる。
【００３７】
そして、試料Ｓに対するレーザアブレーションが終了すると、図５（ａ）に示されるように、開閉扉４３が開けられて、キャリアガスで満たされたレーザ光照射室６内に試料待機室７内から次位の試料Ｓが搬送手段４４により搬送され、レーザ光照射室６内のレーザ光照射部４に次位の試料Ｓが配置される。このとき、開閉扉４２は閉じられているため、キャリアガスが充填されたレーザ光照射部４への大気の流入が防止されつつ、試料待機部５からレーザ光照射部４に次位の試料Ｓが搬送されることになる。
【００３８】
それと同時に、レーザアブレートされた試料Ｓがレーザ光照射室６内から試料待機室７内に搬送手段４４により搬送され、レーザアブレートされた試料Ｓが試料待機室７内の試料待機部５に配置される。
【００３９】
続いて、図５（ｂ）に示されるように、レーザ光照射部４に配置された試料Ｓにレーザ光Ｌが照射されて試料Ｓがレーザアブレートされると共に、導入管８を介してレーザ光照射室６内にキャリアガスが導入される。これにより、微粒子化された試料Ｓの一部は、キャリアガスにより運ばれて、導出管９を介してＩＣＰ質量分析装置３に送られる。
【００４０】
一方、試料Ｓがレーザアブレートされている最中には、開閉扉４２が開けられて、レーザアブレートされた試料Ｓが試料待機室７外に導出されると共に、試料待機室７内に新たな次位の試料Ｓが導入され、試料待機部５で次位の試料Ｓが待機させられる。そして、開閉扉４２が閉じられて、導入管１１を介して試料待機室７内にパージガスが導入され、試料待機室７内がパージガスで満たされる。
【００４１】
以降、上述した工程が繰り返され、複数の試料Ｓが順次レーザアブレートされる。
【００４２】
以上説明したように、第１の実施形態においては、レーザ光照射部４に搬送される次位の試料Ｓは、試料待機部５で待機させられた後、キャリアガスが充填されたレーザ光照射部４への大気の流入が防止されつつ、開閉扉４３を介して試料待機部５からレーザ光照射部４に搬送手段４４により搬送され、レーザ光照射部４でレーザアブレートされる。このように、試料待機部５からレーザ光照射部４への次位の試料Ｓの搬送に際してはレーザ光照射部４への大気の流入が防止されるため、レーザ光照射部４に次位の試料Ｓを導入する度にキャリアガスによってレーザ光照射部４のガスの置換を行うことが不要となる。従って、第１の実施形態によれば、複数の試料Ｓを順次効率良くレーザアブレートすることができる。なお、レーザ光照射部４への大気の流入の防止は、最低でも、プラズマトーチ２６のプラズマＰが消えない程度は必要である。
【００４３】
また、試料待機部５が設けられた試料待機室７内にはキャリアガスと同一のパージガスが充填される。そのため、開閉扉４３を介して試料待機部５からレーザ光照射部４に次位の試料Ｓを搬送するに際し、レーザ光照射部４への大気の流入を確実に防止することができる。
［第２の実施形態］
【００４４】
第２の実施形態に係るレーザアブレーションＩＣＰ質量分析システム１は、レーザアブレーション装置２のレーザ光照射部４及び試料待機部５の構成において、第１の実施形態に係るレーザアブレーションＩＣＰ質量分析システム１と異なっている。以下、相異点であるレーザ光照射部４及び試料待機部５について説明する。
【００４５】
図６に示されるように、レーザ光照射部４は、開口部を下方に向けたキャップ状のレーザ光照射室６内に設けられている。また、試料待機部５は、レーザ光照射室６を収容する試料待機室７内に設けられている。
【００４６】
レーザ光照射室６には、キャリアガスをレーザ光照射室６内に導入する導入管８、及びレーザ光照射室６外に導出する導出管９が接続されている。また、試料待機室７には、パージガスを試料待機室７内に導入する導入管１１、及び試料待機室７外に導出する導出管１２が接続されている。なお、キャリアガス及びパージガスには、例えばアルゴンガス等の同一のガスが用いられる。
【００４７】
レーザ光照射室６の上壁には、レーザ光Ｌを透過させるためのレーザ光透過部材４１が設けられている。また、試料待機室７の側壁には、外部と試料待機室７内とを隔てることが可能な開閉扉４２が設けられている。更に、試料待機室７内には、リンク機構４５によって上下方向及び左右方向に移動可能な載置台４６が設けられている。
【００４８】
以上のように構成されたレーザ光照射部４及び試料待機部５においては、次のように複数の試料Ｓが順次レーザアブレートされる。
【００４９】
まず、図７（ａ）に示されるように、開閉扉４２が開けられて、複数の試料Ｓが並べられたトレイ４７が載置台４６上に載せられ、試料待機部５で複数の試料Ｓが待機させられる。続いて、図７（ｂ）に示されるように、開閉扉４２が閉じられて、導入管１１を介して試料待機室７内にパージガスが導入される。これにより、トレイ４７が載置台４６上に載せられる際に試料待機室７内に流入した大気は導出管１２を介して試料待機室７外に排出され、試料待機室７内はパージガスで満たされることになる。
【００５０】
その後、図８（ａ）に示されるように、所定の試料Ｓがレーザ光照射部４に配置されるように、リンク機構４５によって載置台４６が移動させられ、レーザ光照射室６の開口部がトレイ４７によって塞がれる。このとき、開閉扉４２は閉じられているため、レーザ光照射部４への大気の流入が防止されつつ、試料待機部５からレーザ光照射部４に試料Ｓが搬送されることになる。
【００５１】
そして、レーザ光照射室６の開口部がトレイ４７によって塞がれた状態で、レーザ光照射部４に配置された試料Ｓにレーザ光Ｌが照射されて試料Ｓがレーザアブレートされると共に、導入管８を介してレーザ光照射室６内にキャリアガスが導入される。これにより、微粒子化された試料Ｓの一部は、キャリアガスにより運ばれて、導出管９を介してＩＣＰ質量分析装置３に送られる。
【００５２】
この試料Ｓに対するレーザアブレーションが終了すると、図８（ｂ）に示されるように、新たな次位の試料Ｓがレーザ光照射部４に配置されるように、リンク機構４５によって載置台４６が移動させられ、レーザ光照射室６の開口部がトレイ４７によって塞がれる。このとき、開閉扉４２は閉じられているため、レーザ光照射部４への大気の流入が防止されつつ、試料待機部５からレーザ光照射部４に次位の試料Ｓが搬送されることになる。
【００５３】
そして、レーザ光照射室６の開口部がトレイ４７によって塞がれた状態で、レーザ光照射部４に配置された試料Ｓにレーザ光Ｌが照射されて試料Ｓがレーザアブレートされると共に、導入管８を介してレーザ光照射室６内にキャリアガスが導入される。これにより、微粒子化された試料Ｓの一部は、キャリアガスにより運ばれて、導出管９を介してＩＣＰ質量分析装置３に送られる。
【００５４】
以降、上述した工程が繰り返され、トレイ４７上に並べられた複数の試料Ｓが順次レーザアブレートされる。そして、トレイ４７上に並べられた全ての試料Ｓのレーザアブレーションが終了すると、図９に示されるように、開閉扉４２が開けられて、レーザアブレートされた複数の試料Ｓが並べられたトレイ４７が試料待機室７外に導出される。
【００５５】
以上説明したように、第２の実施形態においては、レーザ光照射部４に搬送される次位の試料Ｓは、試料待機部５で待機させられた後、レーザ光照射部４への大気の流入が防止されつつ、試料待機部５からレーザ光照射部４にリンク機構４５及び載置台４６により搬送され、レーザ光照射部４でレーザアブレートされる。このように、試料待機部５からレーザ光照射部４への次位の試料Ｓの搬送に際してはレーザ光照射部４への大気の流入が防止されるため、レーザ光照射部４に次位の試料Ｓを導入する度にキャリアガスによってレーザ光照射部４のガスの置換を行うことが不要となる。従って、第２の実施形態によれば、複数の試料Ｓを順次効率良くレーザアブレートすることができる。
【００５６】
ところで、上述したリンク機構４５及び載置台４６に替えて、図１０（ａ）及び図１０（ｂ）に示されるように、上下方向に移動可能な一対のローラ４８、及びそれらに巻き掛けられたキャリアフィルム４９を用いてもよい。この場合、次のように複数の試料Ｓが順次レーザアブレートされる。
【００５７】
まず、図１０（ａ）に示されるように、キャリアフィルム４９上に複数の試料Ｓが取り付けられる。そして、所定の試料Ｓに対するレーザアブレーションが終了すると、一対のローラ４８が回転すると共に、図１０（ｂ）に示されるように、新たな次位の試料Ｓがレーザ光照射部４に配置されるように、一対のローラ４８が上方に移動させられ、レーザ光照射室６の開口部がキャリアフィルム４９によって塞がれる。
【００５８】
そして、レーザ光照射室６の開口部がキャリアフィルム４９によって塞がれた状態で、レーザ光照射部４に配置された試料Ｓにレーザ光Ｌが照射されて試料Ｓがレーザアブレートされると共に、導入管８を介してレーザ光照射室６内にキャリアガスが導入される。これにより、微粒子化された試料Ｓの一部は、キャリアガスにより運ばれて、導出管９を介してＩＣＰ質量分析装置３に送られる。
【００５９】
以降、上述した工程が繰り返され、キャリアフィルム４９上に取り付けられた複数の試料Ｓが順次レーザアブレートされる。
【００６０】
また、上述したリンク機構４５及び載置台４６に替えて、図１１（ａ）及び図１１（ｂ）に示されるように、上下方向に進退可能なシャッタ５０、及びローラ５１を用いてもよい。この場合、次のように複数の試料Ｓが順次レーザアブレートされる。
【００６１】
まず、図１１（ａ）に示されるように、ローラ５１の周面に複数の試料Ｓが取り付けられる。そして、所定の試料Ｓに対するレーザアブレーションが終了すると、ローラ５１が回転した後、図１１（ｂ）に示されるように、新たな次位の試料Ｓがレーザ光照射部４に配置されるように、シャッタ５０が降下して、レーザ光照射室６の開口部がローラ５１の周面によって塞がれる。
【００６２】
そして、レーザ光照射室６の開口部がローラ５１の周面によって塞がれた状態で、レーザ光照射部４に配置された試料Ｓにレーザ光Ｌが照射されて試料Ｓがレーザアブレートされると共に、導入管８を介してレーザ光照射室６内にキャリアガスが導入される。これにより、微粒子化された試料Ｓの一部は、キャリアガスにより運ばれて、導出管９を介してＩＣＰ質量分析装置３に送られる。
【００６３】
この試料Ｓに対するレーザアブレーションが終了すると、シャッタ５０が上昇して、次位の試料Ｓをレーザアブレートするためにローラ５１が回転する。
【００６４】
以降、上述した工程が繰り返され、ローラ５１の周面に取り付けられた複数の試料Ｓが順次レーザアブレートされる。
［第３の実施形態］
【００６５】
第３の実施形態に係るレーザアブレーションＩＣＰ質量分析システム１は、レーザアブレーション装置２のレーザ光照射部４及び試料待機部５の構成において、第１の実施形態に係るレーザアブレーションＩＣＰ質量分析システム１と異なっている。以下、相異点であるレーザ光照射部４及び試料待機部５について説明する。
【００６６】
図１２に示されるように、レーザ光照射部４は、キャリアガスが流通するキャリアガス流通路（第２の流通路）５２内に設けられている。また、試料待機部５は、試料Ｓが流通する試料流通路（第１の流通路）５３内に設けられている。そして、レーザ光照射部４と試料待機部５とを結ぶライン上には、キャリアガス流通路５２と試料流通路５３とを連通する搬送路５４が設けられている。
【００６７】
キャリアガス流通路５２の上壁において、レーザ光照射部４と試料待機部５とを結ぶライン上には、レーザ光Ｌを透過させるためのレーザ光透過部材４１が設けられている。また、試料流通路５３の下壁において、レーザ光照射部４と試料待機部５とを結ぶライン上には、搬送路５４内を上下方向に移動可能な載置台５５が待機させられている。
【００６８】
搬送路５４の上端部には、載置台５５が上方に移動した際に当接する内向きフランジ５６が形成されている。これにより、載置台５５が上方に移動して内向きフランジ５６に当接すると、キャリアガス流通路５２と搬送路５４とは気密に隔てられることになる。
【００６９】
なお、レーザアブレーション装置２の動作中、キャリアガスは大気圧より高いガス圧で常にキャリアガス流通路５２内を流通している。そのため、試料流通路５３内に大気が流入しても、搬送路５４を介してキャリアガス流通路５２内に大気が流入することはない。
【００７０】
以上のように構成されたレーザ光照射部４及び試料待機部５においては、次のように複数の試料Ｓが順次レーザアブレートされる。
【００７１】
まず、図１３（ａ）に示されるように、試料把持機構を備えたアーム（図示せず）等によって試料Ｓが試料搬送路５３内を一方側から移動させられてきて載置台５５上に載せられ、試料待機部５で待機させられる。続いて、図１３（ｂ）に示されるように、載置台５５が上方に移動して内向きフランジ５６に当接し、試料Ｓがキャリアガス流通路５２内のレーザ光照射部４に配置される。このとき、キャリアガスは大気圧より高いガス圧で常にキャリアガス流通路５２内を流通しているため、レーザ光照射部４への大気の流入が防止されつつ、試料待機部５からレーザ光照射部４に試料Ｓが搬送されることになる。
【００７２】
そして、試料Ｓがレーザ光照射部４に配置された状態で、試料Ｓにレーザ光Ｌが照射されて試料Ｓがレーザアブレートされる。これにより、微粒子化された試料Ｓの一部は、キャリアガスにより運ばれて、キャリアガス流通路５２を介してＩＣＰ質量分析装置３に送られる。
【００７３】
この試料Ｓに対するレーザアブレーションが終了すると、図１４（ａ）に示されるように、載置台５５が下方に移動して、レーザアブレートされた試料Ｓが試料流通路５３内の試料待機部５に配置された後、試料把持機構を備えたアーム（図示せず）等によって試料搬送路５３内を他方側に移動させられていく。続いて、図１４（ｂ）に示されるように、新たな次位の試料Ｓが試料搬送路５３内を一方側から移動させられてきて載置台５５上に載せられ、試料待機部５で待機させられる。
【００７４】
以降、上述した工程が繰り返され、複数の試料Ｓが順次レーザアブレートされる。
【００７５】
以上説明したように、第３の実施形態においては、レーザ光照射部４に搬送される次位の試料Ｓは、試料待機部５で待機させられた後、レーザ光照射部４への大気の流入が防止されつつ、搬送路５４を介して試料待機部５からレーザ光照射部４に載置台５５により搬送され、レーザ光照射部４でレーザアブレートされる。このように、試料待機部５からレーザ光照射部４への次位の試料Ｓの搬送に際してはレーザ光照射部４への大気の流入が防止されるため、レーザ光照射部４に次位の試料Ｓを導入する度にキャリアガスによってレーザ光照射部４のガスの置換を行うことが不要となる。従って、第３の実施形態によれば、複数の試料Ｓを順次効率良くレーザアブレートすることができる。
【００７６】
また、レーザアブレーション装置２の動作中、キャリアガスは大気圧より高いガス圧で常にキャリアガス流通路５２内を流通している。そのため、試料流通路５３内に大気が流入しても、搬送路５４を介して試料待機部５からレーザ光照射部４に次位の試料Ｓを搬送するに際し、レーザ光照射部４への大気の流入を確実に防止することができる。なお、キャリアガスと同一のガスを試料流通路５３内にも流通させておけば、レーザ光照射部４への大気の流入をより一層確実に防止することが可能になる。
［第４の実施形態］
【００７７】
第４の実施形態に係るレーザアブレーションＩＣＰ質量分析システム１は、レーザアブレーション装置２のレーザ光照射部４及び試料待機部５の構成において、第１の実施形態に係るレーザアブレーションＩＣＰ質量分析システム１と異なっている。以下、相異点であるレーザ光照射部４及び試料待機部５について説明する。
【００７８】
図１５に示されるように、レーザ光照射部４は、キャリアガスが流通するキャリアガス流通路５２内に設けられている。また、試料待機部５は、試料Ｓが流通する試料流通路５３内に設けられている。そして、レーザ光照射部４と試料待機部５とを結ぶライン上には、キャリアガス流通路５２と試料流通路５３とを連通する搬送空間５７が設けられている。
【００７９】
キャリアガス流通路５２の上壁において、レーザ光照射部４と試料待機部５とを結ぶライン上には、レーザ光Ｌを透過させるためのレーザ光透過部材４１が設けられている。また、搬送空間５７には、複数のフィン５８が形成されたローラ５９が配置されている。フィン５８は、弾性を有する材料（例えば、ゴム等）からなり、キャリアガス流通路５２と搬送空間５７との接続部において、キャリアガス流通路５２と搬送空間５７とが気密に隔てられるように、ローラ５９の周面に等間隔置きに形成されている。
【００８０】
なお、レーザアブレーション装置２の動作中、キャリアガスは大気圧より高いガス圧で常にキャリアガス流通路５２内を流通しているため、試料流通路５３内に大気が流入しても、搬送空間５７を介してキャリアガス流通路５２内に大気が流入することはない。
【００８１】
以上のように構成されたレーザ光照射部４及び試料待機部５においては、次のように複数の試料Ｓが順次レーザアブレートされる。
【００８２】
まず、図１６（ａ）に示されるように、試料Ｓがベルトコンベア等によって試料搬送路５３内を一方側から移動させられてきてローラ５９の周面に真空吸着等により固定され、試料待機部５で待機させられる。続いて、図１６（ｂ）に示されるように、ローラ５９が回転して試料Ｓがキャリアガス流通路５２内のレーザ光照射部４に配置され、試料Ｓを挟んで隣り合う一対のフィン５８によってキャリアガス流通路５２と搬送空間５７とが気密に隔てられる。このとき、キャリアガスは大気圧より高いガス圧で常にキャリアガス流通路５２内を流通しているため、レーザ光照射部４への大気の流入が防止されつつ、試料待機部５からレーザ光照射部４に試料Ｓが搬送されることになる。
【００８３】
そして、試料Ｓがレーザ光照射部４に配置された状態で、試料Ｓにレーザ光Ｌが照射されて試料Ｓがレーザアブレートされる。これにより、微粒子化された試料Ｓの一部は、キャリアガスにより運ばれて、キャリアガス流通路５２を介してＩＣＰ質量分析装置３に送られる。
【００８４】
一方、試料Ｓがレーザアブレートされている最中には、新たな次位の試料Ｓがベルトコンベア等によって試料搬送路５３内を一方側から移動させられてきてローラ５９の周面に真空吸着等により固定され、試料待機部５で待機させられる。
【００８５】
試料Ｓに対するレーザアブレーションが終了すると、図１７（ａ）に示されるように、ローラ５９が回転して次位の試料Ｓがキャリアガス流通路５２内のレーザ光照射部４に配置されると共に、レーザアブレートされた試料Ｓが試料搬送路５３内の試料待機部５に配置される。このとき、キャリアガスは大気圧より高いガス圧で常にキャリアガス流通路５２内を流通しているため、レーザ光照射部４への大気の流入が防止されつつ、試料待機部５からレーザ光照射部４に次位の試料Ｓが搬送されることになる。そして、レーザアブレートされた試料Ｓがベルトコンベア等によって試料搬送路５３内を他方側に移動させられていく。
【００８６】
続いて、図１７（ｂ）に示されるように、試料Ｓがレーザ光照射部４に配置された状態で、試料Ｓにレーザ光Ｌが照射されて試料Ｓがレーザアブレートされる。これにより、微粒子化された試料Ｓの一部は、キャリアガスにより運ばれて、キャリアガス流通路５２を介してＩＣＰ質量分析装置３に送られる。
【００８７】
一方、試料Ｓがレーザアブレートされている最中には、新たな次位の試料Ｓがベルトコンベア等によって試料搬送路５３内を一方側から移動させられてきてローラ５９の周面に真空吸着等により固定され、試料待機部５で待機させられる。
【００８８】
以降、上述した工程が繰り返され、複数の試料Ｓが順次レーザアブレートされる。
【００８９】
以上説明したように、第４の実施形態においては、レーザ光照射部４に搬送される次位の試料Ｓは、試料待機部５で待機させられた後、レーザ光照射部４への大気の流入が防止されつつ、搬送空間５７を介して試料待機部５からレーザ光照射部４にローラ５９により搬送され、レーザ光照射部４でレーザアブレートされる。このように、試料待機部５からレーザ光照射部４への次位の試料Ｓの搬送に際してはレーザ光照射部４への大気の流入が防止されるため、レーザ光照射部４に次位の試料Ｓを導入する度にキャリアガスによってレーザ光照射部４のガスの置換を行うことが不要となる。従って、第４の実施形態によれば、複数の試料Ｓを順次効率良くレーザアブレートすることができる。
【００９０】
また、レーザアブレーション装置２の動作中、キャリアガスは大気圧より高いガス圧で常にキャリアガス流通路５２内を流通している。そのため、試料流通路５３内に大気が流入しても、搬送空間５７を介して試料待機部５からレーザ光照射部４に次位の試料Ｓを搬送するに際し、レーザ光照射部４への大気の流入を確実に防止することができる。なお、キャリアガスと同一のガスを試料流通路５３内にも流通させておけば、レーザ光照射部４への大気の流入をより一層確実に防止することが可能になる。
［第５の実施形態］
【００９１】
第５の実施形態に係るレーザアブレーションＩＣＰ質量分析システム１は、レーザアブレーション装置２のレーザ光照射部４及び試料待機部５の構成において、第１の実施形態に係るレーザアブレーションＩＣＰ質量分析システム１と異なっている。以下、相異点であるレーザ光照射部４及び試料待機部５について説明する。
【００９２】
図１８に示されるように、試料待機部５は、試料Ｓを洗浄するための洗浄液（例えば、アルコール等）が貯留された洗浄液容器（第１の容器）６１内に設けられている。また、レーザ光照射部４は、キャップ状のレーザ光照射容器（第２の容器）６２内に設けられており、その開口部６２ａは洗浄液の液面下に位置している。ここで、開口部６２ａとは、レーザ光照射容器６２により形成される内部空間の入口部分を意味する。そして、洗浄液容器６１の一方側から他方側にはベルトコンベア６３が掛け渡されている。このベルトコンベア６３は、洗浄液容器６１の一方側において洗浄液中に入り、レーザ光照射容器６２内において洗浄液の液面上に一旦現われ、洗浄液容器６１の他方側において洗浄液中から出ている。
【００９３】
レーザ光照射容器６２には、キャリアガスをレーザ光照射容器６２内に導入する導入管８、及びレーザ光照射容器６２外に導出する導出管９が接続されている。また、レーザ光照射容器６２の上壁には、レーザ光Ｌを透過させるためのレーザ光透過部材４１が設けられている。
【００９４】
以上のように構成されたレーザ光照射部４及び試料待機部５においては、次のように複数の試料Ｓが順次レーザアブレートされる。
【００９５】
まず、図１９に示されるように、複数の試料Ｓがベルトコンベア６３上に取り付けられた状態で、所定の試料Ｓが、洗浄液容器６１の一方側において洗浄液中に入り、レーザ光照射容器６２内において洗浄液の液面上に一旦現われて、レーザ光照射容器６２内のレーザ光照射部４に配置される。
【００９６】
そして、レーザ光照射部４に配置された試料Ｓにレーザ光Ｌが照射されて試料Ｓがレーザアブレートされると共に、導入管８を介してレーザ光照射容器６２内にキャリアガスが導入される。これにより、微粒子化された試料Ｓの一部は、キャリアガスにより運ばれて、導出管９を介してＩＣＰ質量分析装置３に送られる。このとき、新たな次位の試料Ｓは、洗浄液容器６１内の洗浄液中、すなわち試料待機部５で待機させられる。
【００９７】
試料Ｓに対するレーザアブレーションが終了すると、ベルトコンベア６３が動作して次位の試料Ｓがレーザ光照射容器６２内のレーザ光照射部４に配置されると共に、レーザアブレートされた試料Ｓがベルトコンベア６３によって洗浄液容器６１の他方側に移動させられる。このとき、次位の試料Ｓは、洗浄液の液面下に位置するレーザ光照射容器６２の開口部６２ａを介して試料待機部５からレーザ光照射部４に搬送されるため、レーザ光照射部４への大気の流入が防止されることになる。
【００９８】
以降、上述した工程が繰り返され、複数の試料Ｓが順次レーザアブレートされる。
【００９９】
以上説明したように、第５の実施形態においては、レーザ光照射部４に搬送される次位の試料Ｓは、試料待機部５で待機させられた後、レーザ光照射部４への大気の流入が防止されつつ、レーザ光照射容器６２の開口部６２ａを介して試料待機部５からレーザ光照射部４にベルトコンベア６３により搬送され、レーザ光照射部４でレーザアブレートされる。このように、試料待機部５からレーザ光照射部４への次位の試料Ｓの搬送に際してはレーザ光照射部４への大気の流入が防止されるため、レーザ光照射部４に次位の試料Ｓを導入する度にキャリアガスによってレーザ光照射部４のガスの置換を行うことが不要となる。従って、第５の実施形態によれば、複数の試料Ｓを順次効率良くレーザアブレートすることができる。
【０１００】
また、試料待機部５が設けられる洗浄液容器６１内には洗浄液が貯留されているため、洗浄液の液面下に位置するレーザ光照射容器６２の開口部６２ａを介して試料待機部５からレーザ光照射部４に次位の試料Ｓを搬送するに際し、レーザ光照射部４への大気の流入を確実に防止することができる。更に、試料待機部５が設けられる洗浄液容器６１内には洗浄液が貯留されているため、試料Ｓをレーザアブレートするだけでなく、試料Ｓを洗浄することができる。
［第６の実施形態］
【０１０１】
第６の実施形態に係るレーザアブレーションＩＣＰ質量分析システム１は、レーザアブレーション装置２のレーザ光照射部４及び試料待機部５の構成において、第１の実施形態に係るレーザアブレーションＩＣＰ質量分析システム１と異なっている。以下、相異点であるレーザ光照射部４及び試料待機部５について説明する。
【０１０２】
図２０に示されるように、試料待機部５は、試料Ｓを洗浄するための洗浄液（例えば、アルコール等）が貯留された洗浄液タンク６４内において、洗浄液の液面下、すなわち洗浄液中に設けられている。また、レーザ光照射部４は、洗浄液タンク６４内において、洗浄液の液面上に形成された上部空間内に設けられている。そして、洗浄液タンク６４内には、洗浄液の液面上に周面の一部が位置した状態でローラ６５が設置されている。
【０１０３】
洗浄液タンク６４には、キャリアガスを洗浄液タンク６４の上部空間内に導入する導入管８、及び洗浄液タンク６４の上部空間外に導出する導出管９が接続されている。また、洗浄液タンク６４の上壁には、レーザ光Ｌを透過させるためのレーザ光透過部材４１が設けられている。
【０１０４】
以上のように構成されたレーザ光照射部４及び試料待機部５においては、次のように複数の試料Ｓが順次レーザアブレートされる。
【０１０５】
まず、図２１（ａ）に示されるように、複数の試料Ｓがローラ６５の周面に取り付けられた状態で、洗浄液タンク６４内の上部空間内に設けられたレーザ光照射部４に所定の試料Ｓが配置される。
【０１０６】
そして、レーザ光照射部４に配置された試料Ｓにレーザ光Ｌが照射されて試料Ｓがレーザアブレートされると共に、導入管８を介して洗浄液タンク６４内の上部空間内にキャリアガスが導入される。これにより、微粒子化された試料Ｓの一部は、キャリアガスにより運ばれて、導出管９を介してＩＣＰ質量分析装置３に送られる。このとき、新たな次位の試料Ｓは、洗浄液タンク６４内の洗浄液中、すなわち試料待機部５で待機させられる。
【０１０７】
試料Ｓに対するレーザアブレーションが終了すると、ローラ６５が回転して、図２１（ｂ）に示されるように、洗浄液タンク６４内の上部空間内に設けられたレーザ光照射部４に次位の試料Ｓが配置される。このとき、次位の試料Ｓは、洗浄液タンク６４内において、洗浄液中の試料待機部５から上部空間内のレーザ光照射部４に搬送されるため、レーザ光照射部４への大気の流入が防止されることになる。
【０１０８】
以降、上述した工程が繰り返され、複数の試料Ｓが順次レーザアブレートされる。
【０１０９】
以上説明したように、第６の実施形態においては、レーザ光照射部４に搬送される次位の試料Ｓは、試料待機部５で待機させられた後、レーザ光照射部４への大気の流入が防止されつつ、試料待機部５からレーザ光照射部４にローラ６５により搬送され、レーザ光照射部４でレーザアブレートされる。このように、試料待機部５からレーザ光照射部４への次位の試料Ｓの搬送に際してはレーザ光照射部４への大気の流入が防止されるため、レーザ光照射部４に次位の試料Ｓを導入する度にキャリアガスによってレーザ光照射部４のガスの置換を行うことが不要となる。従って、第６の実施形態によれば、複数の試料Ｓを順次効率良くレーザアブレートすることができる。
【０１１０】
本発明は、上述した各実施形態に限定されるものではない。例えば、試料分析装置は、ＩＣＰ質量分析装置に限定されず、ＩＣＰ発光分析装置や原子吸光分析装置等であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【０１１１】
【図１】第１の実施形態のレーザアブレーションＩＣＰ質量分析システムの構成図である。
【図２】第１の実施形態のレーザ光照射部及び試料待機部の構成図である。
【図３】第１の実施形態のレーザ光照射部及び試料待機部におけるレーザアブレーションの工程を説明するための図である。
【図４】図３に示されたレーザアブレーションの工程の次工程を説明するための図である。
【図５】図４に示されたレーザアブレーションの工程の次工程を説明するための図である。
【図６】第２の実施形態のレーザ光照射部及び試料待機部の構成図である。
【図７】第２の実施形態のレーザ光照射部及び試料待機部におけるレーザアブレーションの工程を説明するための図である。
【図８】図７に示されたレーザアブレーションの工程の次工程を説明するための図である。
【図９】図８に示されたレーザアブレーションの工程の次工程を説明するための図である。
【図１０】第２の実施形態のレーザ光照射部及び試料待機部の一変形例の構成図である。
【図１１】第２の実施形態のレーザ光照射部及び試料待機部の一変形例の構成図である。
【図１２】第３の実施形態のレーザ光照射部及び試料待機部の構成図である。
【図１３】第３の実施形態のレーザ光照射部及び試料待機部におけるレーザアブレーションの工程を説明するための図である。
【図１４】図１３に示されたレーザアブレーションの工程の次工程を説明するための図である。
【図１５】第４の実施形態のレーザ光照射部及び試料待機部の構成図である。
【図１６】第４の実施形態のレーザ光照射部及び試料待機部におけるレーザアブレーションの工程を説明するための図である。
【図１７】図１６に示されたレーザアブレーションの工程の次工程を説明するための図である。
【図１８】第５の実施形態のレーザ光照射部及び試料待機部の構成図である。
【図１９】第５の実施形態のレーザ光照射部及び試料待機部におけるレーザアブレーションの工程を説明するための図である。
【図２０】第６の実施形態のレーザ光照射部及び試料待機部の構成図である。
【図２１】第６の実施形態のレーザ光照射部及び試料待機部におけるレーザアブレーションの工程を説明するための図である。
【符号の説明】
【０１１２】
１…レーザアブレーションＩＣＰ質量分析システム（レーザアブレーション試料分析システム）、２…レーザアブレーション装置、３…ＩＣＰ質量分析装置（試料分析装置）、４…レーザ光照射部、５…試料待機部、６…レーザ光照射室（第２の室）、７…試料待機室（第１の室）、４３…開閉扉、５２…キャリアガス流通路（第２の流通路）、５３…試料流通路（第１の流通路）、５４…搬送路、６１…洗浄液容器（第１の容器）、６２…レーザ光照射容器（第２の容器）、６２ａ…開口部、Ｌ…レーザ光、Ｓ…試料。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レーザアブレーション装置、レーザアブレーション試料分析システム及び試料導入方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来のレーザアブレーション装置として、例えば特許文献１に記載されたものがある。このレーザアブレーション装置では、試料セル内に配置された試料にレーザ光が照射されて試料の一部が微粒子化され、その試料の一部がキャリアガスによってＩＣＰ質量分析装置等に送られる。そして、試料セル内の試料を新たな試料に交換する際には、試料セル内に空気が入り込まないようにパージガスによって試料セル内のガスの置換が行われる。これは、試料セル内に空気が入り込むと、試料の分析において、空気を構成する成分が試料中に存在したものか否かが分からなくなるなどといった理由によるものである。
【特許文献１】特開平１１−２０１９４５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、上述したようなレーザアブレーション装置は、試料セル内の試料を新たな試料に交換する度にパージガスによって試料セル内のガスの置換を行うことが必要となるため、複数の試料を順次効率良くレーザアブレートするのには不向きである。
【０００４】
そこで、本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、複数の試料を順次効率良くレーザアブレートすることができるレーザアブレーション装置、レーザアブレーション試料分析システム及び試料導入方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記目的を達成するために、本発明に係るレーザアブレーション装置は、試料にレーザ光を照射することにより試料の一部を微粒子化するレーザアブレーション装置であって、レーザ光が照射される試料が配置されると共に、微粒子化された試料の一部を運ぶためのキャリアガスが流通するレーザ光照射部と、レーザ光照射部に搬送される次位の試料が待機させられる試料待機部とを備え、レーザ光照射部への大気の流入を防止しつつ、試料待機部からレーザ光照射部に次位の試料を搬送することを特徴とする。
【０００６】
このレーザアブレーション装置においては、レーザ光照射部に搬送される次位の試料は、試料待機部で待機させられた後、レーザ光照射部への大気の流入が防止されつつ、試料待機部からレーザ光照射部に搬送され、レーザ光照射部でレーザアブレートされる。このように、試料待機部からレーザ光照射部への次位の試料の搬送に際してはレーザ光照射部への大気の流入が防止されるため、レーザ光照射部に次位の試料を導入する度にキャリアガスによってレーザ光照射部のガスの置換を行うことが不要となる。従って、このレーザアブレーション装置によれば、複数の試料を順次効率良くレーザアブレートすることができる。
【０００７】
なお、「試料をレーザアブレートする」とは、試料にレーザ光を照射することにより試料の一部を微粒子化することを意味する。
【０００８】
また、試料待機部は、キャリアガスと同一のガスが充填される第１の室内に設けられ、レーザ光照射部は、第１の室に隣接する第２の室内に設けられ、第１の室と第２の室との間に設けられた開閉扉を介して試料待機部からレーザ光照射部に次位の試料が搬送されることが好ましい。試料待機部が設けられる第１の室内にはキャリアガスと同一のガスが充填されるため、第１の室と第２の室との間に設けられた開閉扉を介して試料待機部からレーザ光照射部に次位の試料を搬送するに際し、レーザ光照射部への大気の流入を確実に防止することができる。
【０００９】
また、試料待機部は、試料が流通する第１の流通路内に設けられ、レーザ光照射部は、キャリアガスが流通する第２の流通路内に設けられ、第１の流通路と第２の流通路とを連通する搬送路を介して試料待機部からレーザ光照射部に次位の試料が搬送されることが好ましい。レーザ光照射部が設けられる第２の流通路内をキャリアガスが流通するため、例えば、試料待機部が設けられる第１の流通路内に大気が流入しても、大気圧よりキャリアガスのガス圧を高くしておけば、第１の流通路と第２の流通路とを連通する搬送路を介して試料待機部からレーザ光照射部に次位の試料を搬送するに際し、レーザ光照射部への大気の流入を確実に防止することができる。
【００１０】
また、試料待機部は、所定の液体を貯留する第１の容器内に設けられ、レーザ光照射部は、液体の液面下に開口部が位置するキャップ状の第２の容器内に設けられ、開口部を介して試料待機部からレーザ光照射部に次位の試料が搬送されることが好ましい。試料待機部が設けられる第１の容器内には液体が貯留されるため、液体の液面下に位置する第２の容器の開口部を介して試料待機部からレーザ光照射部に次位の試料を搬送するに際し、レーザ光照射部への大気の流入を確実に防止することができる。
【００１１】
また、本発明に係るレーザアブレーション試料分析システムは、試料にレーザ光を照射することにより試料の一部を微粒子化するレーザアブレーション装置と、微粒子化された試料の一部に対して所定の分析を行う試料分析装置とを具備するレーザアブレーション試料分析システムであって、レーザアブレーション装置は、レーザ光が照射される試料が配置されると共に、微粒子化された試料の一部を運ぶためのキャリアガスが流通するレーザ光照射部と、レーザ光照射部に搬送される次位の試料が待機させられる試料待機部とを備え、レーザ光照射部への大気の流入を防止しつつ、試料待機部からレーザ光照射部に次位の試料を搬送する、ことを特徴とする。
【００１２】
このレーザアブレーション試料分析システムは、上述したレーザアブレーション装置を具備するため、複数の試料を順次効率良くレーザアブレートすることができる。
【００１３】
また、本発明に係る試料導入方法は、試料にレーザ光を照射することにより試料の一部を微粒子化するレーザアブレーション装置において、レーザ光が照射される試料が配置されると共に、微粒子化された試料の一部を運ぶためのキャリアガスが流通するレーザ光照射部に次位の試料を導入する試料導入方法であって、次位の試料を試料待機部で待機させる工程と、キャリアガスが充填されたレーザ光照射部への大気の流入を防止しつつ、試料待機部からレーザ光照射部に次位の試料を搬送する工程とを含むことを特徴とする。
【００１４】
この試料導入方法においては、レーザ光照射部に搬送される次位の試料は、試料待機部で待機させられた後、キャリアガスが充填されたレーザ光照射部への大気の流入が防止されつつ、試料待機部からレーザ光照射部に搬送される。このように、試料待機部からレーザ光照射部への次位の試料の搬送に際してはレーザ光照射部への大気の流入が防止されるため、レーザ光照射部に次位の試料を導入する度にキャリアガスによってレーザ光照射部のガスの置換を行うことが不要となる。従って、この試料導入方法によれば、複数の試料を順次効率良くレーザアブレートすることができる。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、複数の試料を順次効率良くレーザアブレートすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明の好適な実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、各図において同一又は相当部分には同一符号を付し、重複する説明を省略する。
［第１の実施形態］
【００１７】
図１に示されるように、レーザアブレーションＩＣＰ質量分析システム（レーザアブレーション試料分析システム）１は、試料Ｓにレーザ光Ｌを照射することにより試料Ｓの一部を微粒子化するレーザアブレーション装置２と、その微粒子化された試料Ｓの一部をプラズマＰでイオン化して質量分析を行うＩＣＰ質量分析装置（試料分析装置）３とを具備している。
【００１８】
レーザアブレーション装置２は、レーザ光Ｌが照射される試料Ｓが配置されるレーザ光照射部４と、このレーザ光照射部４に搬送される次位の試料Ｓが待機させられる試料待機部５とを備えている。レーザ光照射部４はレーザ光照射室（第２の室）６内に設けられており、試料待機部５は、レーザ光照射室６に隣接する試料待機室（第１の室）７内に設けられている。
【００１９】
レーザ光照射室６には、レーザアブレートされて微粒子化された試料Ｓの一部を運ぶためのキャリアガスをレーザ光照射室６内に導入する導入管８、及びレーザ光照射室６外に導出する導出管９が接続されている。これにより、微粒子化された試料Ｓの一部を運ぶためのキャリアガスがレーザ光照射部４を流通することになる。
【００２０】
試料待機室７には、ガスの置換を行うためのパージガスを試料待機室７内に導入する導入管１１、及び試料待機室７外に導出する導出管１２が接続されている。これにより、試料待機室７内にはパージガスが充填されることになる。なお、キャリアガス及びパージガスには、例えばアルゴンガス等の同一のガスが用いられる。
【００２１】
また、レーザアブレーション装置２は、所定の波長でレーザ光Ｌを出射するレーザユニット１３を備えている。このレーザユニット１３から出射されたレーザ光Ｌは、ミラー１４，１５により反射されて波長変換素子１６に入射する。この波長変換素子１６により波長が半減されたレーザ光Ｌは、波長変換素子１７により更に波長が半減される。その後、レーザ光Ｌは、ミラー１８，１９，２１により反射されてレンズ２２を通り、ビームスプリッタ２３により反射されて、レーザ光照射室６内のレーザ光照射部４に配置された試料Ｓに向かって進行する。
【００２２】
一例として、波長１０６４ｎｍのレーザ光Ｌを出射するＮｄ−ＹＡＧレーザをレーザユニット１３が搭載しているものとする。このとき、波長１０６４ｎｍのレーザ光Ｌは、波長変換素子１６により波長５３２ｎｍのレーザ光Ｌ（２次高調波）に変換され、この波長５３２ｎｍのレーザ光Ｌは、波長変換素子１７により波長２６６ｎｍのレーザ光Ｌ（３次高調波）に変換される。このように、レーザ光Ｌを短波長にすることで、種々の試料Ｓをレーザアブレートすることが可能になる。
【００２３】
更に、レーザアブレーション装置２は、レーザ光照射室６内のレーザ光照射部４に配置された試料Ｓを観察するためのＣＣＤカメラ２４を備えている。このＣＣＤカメラは、ビームスプリッタ２３を介して、例えば、試料Ｓの表面においてレーザ光Ｌが照射されている部分を撮像する。
【００２４】
ＩＣＰ質量分析装置３は、レーザアブレーション装置２の導出管９に接続される導入管２５と、この導入管２５を介してキャリアガスにより運ばれてきた試料Ｓの一部をイオン化するためのプラズマＰを発生させるプラズマトーチ２６と、このプラズマトーチ２６の先端部近傍に位置するイオン導入部２７を有する質量分析部２８とを備えている。
【００２５】
プラズマトーチ２６は３重管構造となっており、このプラズマトーチ２６には、導入管２５からキャリアガスが導入され、管２９からプラズマＰ形成用のプラズマガスが導入され、管３１からプラズマトーチ２６の壁面を冷却するためのクーラントガスが導入される。なお、キャリアガス、プラズマガス及びクーラントガスには、例えばアルゴンガス等が用いられる。
【００２６】
プラズマトーチ２６の先端側には、高周波電源に接続された高周波コイル３２が設けられている。そして、この高周波コイル３２に電圧が印加されると、プラズマトーチ２６の先端側の内部にプラズマＰが形成される。
【００２７】
質量分析部２８のイオン導入部２７は、プラズマトーチ２６の先端に対向する導入孔３３を有しており、この導入孔３３を介して、プラズマＰからの光やイオンが筐体３４内に導入される。なお、導入孔３３の直径は、例えば１ｍｍ程度である。
【００２８】
筐体３４内は、真空ポンプ３５，３６によって真空引きされ、イオン導入部２７側が低真空室、その反対側が高真空室というように、真空度が異なる二室に仕切られている。この筐体３４内においては、プラズマＰからの光とイオンとがイオンレンズ３７により分離されてイオンのみが通過させられ、質量多重極部３８で特定のイオンのみが取り出されて検出器３９で検出される。そして、検出器３９の検出結果に基づいて、試料Ｓの質量分析が行われることになる。
【００２９】
次に、上述したレーザ光照射部４及び試料待機部５について、より詳細に説明する。
【００３０】
図２に示されるように、レーザ光照射室６の上壁には、レーザ光Ｌを透過させるためのレーザ光透過部材４１が設けられている。このレーザ光透過部材４１は、レーザ光Ｌに対して透過性を有する材料（例えば、石英等）からなる。また、試料待機室７の側壁には、外部と試料待機室７内とを隔てることが可能な開閉扉４２が設けられている。
【００３１】
更に、互いに隣接するレーザ光照射室６と試料待機室７との間の側壁には、レーザ光照射室６内と試料待機室７内とを隔てることが可能な開閉扉４３が設けられている。そして、この開閉扉４３を介して、搬送手段（例えば、ベルトコンベア、ターンテーブル、両側に試料把持機構を備えた回転アーム等）４４がレーザ光照射室６内と試料待機室７内とに渡って設けられている。
【００３２】
以上のように構成されたレーザ光照射部４及び試料待機部５においては、次のように複数の試料Ｓが順次レーザアブレートされる。
【００３３】
まず、図３（ａ）に示されるように、開閉扉４２が開けられて、試料待機室７内に試料Ｓが導入され、試料待機部５で試料Ｓが待機させられる。続いて、図３（ｂ）に示されるように、開閉扉４２が閉じられて、導入管１１を介して試料待機室７内にパージガスが導入される。これにより、試料Ｓが導入される際に試料待機室７内に流入した大気（すなわち、レーザアブレーション装置２の外部雰囲気（空気））は導出管１２を介して試料待機室７外に排出され、試料待機室７内はパージガスで満たされることになる。
【００３４】
その後、図４（ａ）に示されるように、開閉扉４３が開けられて、キャリアガスで満たされたレーザ光照射室６内に試料待機室７内から試料Ｓが搬送手段４４により搬送され、レーザ光照射室６内のレーザ光照射部４に試料Ｓが配置される。このとき、開閉扉４２は閉じられているため、キャリアガスが充填されたレーザ光照射部４への大気の流入が防止されつつ、試料待機部５からレーザ光照射部４に試料Ｓが搬送されることになる。
【００３５】
続いて、図４（ｂ）に示されるように、レーザ光照射部４に配置された試料Ｓにレーザ光Ｌが照射されて試料Ｓがレーザアブレートされると共に、導入管８を介してレーザ光照射室６内にキャリアガスが導入される。これにより、微粒子化（気化等を含む）された試料Ｓの一部は、キャリアガスにより運ばれて、導出管９を介してＩＣＰ質量分析装置３に送られる。
【００３６】
一方、試料Ｓがレーザアブレートされている最中には、開閉扉４２が開けられて、試料待機室７内に新たな次位の試料Ｓが導入され、試料待機部５で次位の試料Ｓが待機させられる。そして、開閉扉４２が閉じられて、導入管１１を介して試料待機室７内にパージガスが導入され、試料待機室７内がパージガスで満たされる。
【００３７】
そして、試料Ｓに対するレーザアブレーションが終了すると、図５（ａ）に示されるように、開閉扉４３が開けられて、キャリアガスで満たされたレーザ光照射室６内に試料待機室７内から次位の試料Ｓが搬送手段４４により搬送され、レーザ光照射室６内のレーザ光照射部４に次位の試料Ｓが配置される。このとき、開閉扉４２は閉じられているため、キャリアガスが充填されたレーザ光照射部４への大気の流入が防止されつつ、試料待機部５からレーザ光照射部４に次位の試料Ｓが搬送されることになる。
【００３８】
それと同時に、レーザアブレートされた試料Ｓがレーザ光照射室６内から試料待機室７内に搬送手段４４により搬送され、レーザアブレートされた試料Ｓが試料待機室７内の試料待機部５に配置される。
【００３９】
続いて、図５（ｂ）に示されるように、レーザ光照射部４に配置された試料Ｓにレーザ光Ｌが照射されて試料Ｓがレーザアブレートされると共に、導入管８を介してレーザ光照射室６内にキャリアガスが導入される。これにより、微粒子化された試料Ｓの一部は、キャリアガスにより運ばれて、導出管９を介してＩＣＰ質量分析装置３に送られる。
【００４０】
一方、試料Ｓがレーザアブレートされている最中には、開閉扉４２が開けられて、レーザアブレートされた試料Ｓが試料待機室７外に導出されると共に、試料待機室７内に新たな次位の試料Ｓが導入され、試料待機部５で次位の試料Ｓが待機させられる。そして、開閉扉４２が閉じられて、導入管１１を介して試料待機室７内にパージガスが導入され、試料待機室７内がパージガスで満たされる。
【００４１】
以降、上述した工程が繰り返され、複数の試料Ｓが順次レーザアブレートされる。
【００４２】
以上説明したように、第１の実施形態においては、レーザ光照射部４に搬送される次位の試料Ｓは、試料待機部５で待機させられた後、キャリアガスが充填されたレーザ光照射部４への大気の流入が防止されつつ、開閉扉４３を介して試料待機部５からレーザ光照射部４に搬送手段４４により搬送され、レーザ光照射部４でレーザアブレートされる。このように、試料待機部５からレーザ光照射部４への次位の試料Ｓの搬送に際してはレーザ光照射部４への大気の流入が防止されるため、レーザ光照射部４に次位の試料Ｓを導入する度にキャリアガスによってレーザ光照射部４のガスの置換を行うことが不要となる。従って、第１の実施形態によれば、複数の試料Ｓを順次効率良くレーザアブレートすることができる。なお、レーザ光照射部４への大気の流入の防止は、最低でも、プラズマトーチ２６のプラズマＰが消えない程度は必要である。
【００４３】
また、試料待機部５が設けられた試料待機室７内にはキャリアガスと同一のパージガスが充填される。そのため、開閉扉４３を介して試料待機部５からレーザ光照射部４に次位の試料Ｓを搬送するに際し、レーザ光照射部４への大気の流入を確実に防止することができる。
［第２の実施形態］
【００４４】
第２の実施形態に係るレーザアブレーションＩＣＰ質量分析システム１は、レーザアブレーション装置２のレーザ光照射部４及び試料待機部５の構成において、第１の実施形態に係るレーザアブレーションＩＣＰ質量分析システム１と異なっている。以下、相異点であるレーザ光照射部４及び試料待機部５について説明する。
【００４５】
図６に示されるように、レーザ光照射部４は、開口部を下方に向けたキャップ状のレーザ光照射室６内に設けられている。また、試料待機部５は、レーザ光照射室６を収容する試料待機室７内に設けられている。
【００４６】
レーザ光照射室６には、キャリアガスをレーザ光照射室６内に導入する導入管８、及びレーザ光照射室６外に導出する導出管９が接続されている。また、試料待機室７には、パージガスを試料待機室７内に導入する導入管１１、及び試料待機室７外に導出する導出管１２が接続されている。なお、キャリアガス及びパージガスには、例えばアルゴンガス等の同一のガスが用いられる。
【００４７】
レーザ光照射室６の上壁には、レーザ光Ｌを透過させるためのレーザ光透過部材４１が設けられている。また、試料待機室７の側壁には、外部と試料待機室７内とを隔てることが可能な開閉扉４２が設けられている。更に、試料待機室７内には、リンク機構４５によって上下方向及び左右方向に移動可能な載置台４６が設けられている。
【００４８】
以上のように構成されたレーザ光照射部４及び試料待機部５においては、次のように複数の試料Ｓが順次レーザアブレートされる。
【００４９】
まず、図７（ａ）に示されるように、開閉扉４２が開けられて、複数の試料Ｓが並べられたトレイ４７が載置台４６上に載せられ、試料待機部５で複数の試料Ｓが待機させられる。続いて、図７（ｂ）に示されるように、開閉扉４２が閉じられて、導入管１１を介して試料待機室７内にパージガスが導入される。これにより、トレイ４７が載置台４６上に載せられる際に試料待機室７内に流入した大気は導出管１２を介して試料待機室７外に排出され、試料待機室７内はパージガスで満たされることになる。
【００５０】
その後、図８（ａ）に示されるように、所定の試料Ｓがレーザ光照射部４に配置されるように、リンク機構４５によって載置台４６が移動させられ、レーザ光照射室６の開口部がトレイ４７によって塞がれる。このとき、開閉扉４２は閉じられているため、レーザ光照射部４への大気の流入が防止されつつ、試料待機部５からレーザ光照射部４に試料Ｓが搬送されることになる。
【００５１】
そして、レーザ光照射室６の開口部がトレイ４７によって塞がれた状態で、レーザ光照射部４に配置された試料Ｓにレーザ光Ｌが照射されて試料Ｓがレーザアブレートされると共に、導入管８を介してレーザ光照射室６内にキャリアガスが導入される。これにより、微粒子化された試料Ｓの一部は、キャリアガスにより運ばれて、導出管９を介してＩＣＰ質量分析装置３に送られる。
【００５２】
この試料Ｓに対するレーザアブレーションが終了すると、図８（ｂ）に示されるように、新たな次位の試料Ｓがレーザ光照射部４に配置されるように、リンク機構４５によって載置台４６が移動させられ、レーザ光照射室６の開口部がトレイ４７によって塞がれる。このとき、開閉扉４２は閉じられているため、レーザ光照射部４への大気の流入が防止されつつ、試料待機部５からレーザ光照射部４に次位の試料Ｓが搬送されることになる。
【００５３】
そして、レーザ光照射室６の開口部がトレイ４７によって塞がれた状態で、レーザ光照射部４に配置された試料Ｓにレーザ光Ｌが照射されて試料Ｓがレーザアブレートされると共に、導入管８を介してレーザ光照射室６内にキャリアガスが導入される。これにより、微粒子化された試料Ｓの一部は、キャリアガスにより運ばれて、導出管９を介してＩＣＰ質量分析装置３に送られる。
【００５４】
以降、上述した工程が繰り返され、トレイ４７上に並べられた複数の試料Ｓが順次レーザアブレートされる。そして、トレイ４７上に並べられた全ての試料Ｓのレーザアブレーションが終了すると、図９に示されるように、開閉扉４２が開けられて、レーザアブレートされた複数の試料Ｓが並べられたトレイ４７が試料待機室７外に導出される。
【００５５】
以上説明したように、第２の実施形態においては、レーザ光照射部４に搬送される次位の試料Ｓは、試料待機部５で待機させられた後、レーザ光照射部４への大気の流入が防止されつつ、試料待機部５からレーザ光照射部４にリンク機構４５及び載置台４６により搬送され、レーザ光照射部４でレーザアブレートされる。このように、試料待機部５からレーザ光照射部４への次位の試料Ｓの搬送に際してはレーザ光照射部４への大気の流入が防止されるため、レーザ光照射部４に次位の試料Ｓを導入する度にキャリアガスによってレーザ光照射部４のガスの置換を行うことが不要となる。従って、第２の実施形態によれば、複数の試料Ｓを順次効率良くレーザアブレートすることができる。
【００５６】
ところで、上述したリンク機構４５及び載置台４６に替えて、図１０（ａ）及び図１０（ｂ）に示されるように、上下方向に移動可能な一対のローラ４８、及びそれらに巻き掛けられたキャリアフィルム４９を用いてもよい。この場合、次のように複数の試料Ｓが順次レーザアブレートされる。
【００５７】
まず、図１０（ａ）に示されるように、キャリアフィルム４９上に複数の試料Ｓが取り付けられる。そして、所定の試料Ｓに対するレーザアブレーションが終了すると、一対のローラ４８が回転すると共に、図１０（ｂ）に示されるように、新たな次位の試料Ｓがレーザ光照射部４に配置されるように、一対のローラ４８が上方に移動させられ、レーザ光照射室６の開口部がキャリアフィルム４９によって塞がれる。
【００５８】
そして、レーザ光照射室６の開口部がキャリアフィルム４９によって塞がれた状態で、レーザ光照射部４に配置された試料Ｓにレーザ光Ｌが照射されて試料Ｓがレーザアブレートされると共に、導入管８を介してレーザ光照射室６内にキャリアガスが導入される。これにより、微粒子化された試料Ｓの一部は、キャリアガスにより運ばれて、導出管９を介してＩＣＰ質量分析装置３に送られる。
【００５９】
以降、上述した工程が繰り返され、キャリアフィルム４９上に取り付けられた複数の試料Ｓが順次レーザアブレートされる。
【００６０】
また、上述したリンク機構４５及び載置台４６に替えて、図１１（ａ）及び図１１（ｂ）に示されるように、上下方向に進退可能なシャッタ５０、及びローラ５１を用いてもよい。この場合、次のように複数の試料Ｓが順次レーザアブレートされる。
【００６１】
まず、図１１（ａ）に示されるように、ローラ５１の周面に複数の試料Ｓが取り付けられる。そして、所定の試料Ｓに対するレーザアブレーションが終了すると、ローラ５１が回転した後、図１１（ｂ）に示されるように、新たな次位の試料Ｓがレーザ光照射部４に配置されるように、シャッタ５０が降下して、レーザ光照射室６の開口部がローラ５１の周面によって塞がれる。
【００６２】
そして、レーザ光照射室６の開口部がローラ５１の周面によって塞がれた状態で、レーザ光照射部４に配置された試料Ｓにレーザ光Ｌが照射されて試料Ｓがレーザアブレートされると共に、導入管８を介してレーザ光照射室６内にキャリアガスが導入される。これにより、微粒子化された試料Ｓの一部は、キャリアガスにより運ばれて、導出管９を介してＩＣＰ質量分析装置３に送られる。
【００６３】
この試料Ｓに対するレーザアブレーションが終了すると、シャッタ５０が上昇して、次位の試料Ｓをレーザアブレートするためにローラ５１が回転する。
【００６４】
以降、上述した工程が繰り返され、ローラ５１の周面に取り付けられた複数の試料Ｓが順次レーザアブレートされる。
［第３の実施形態］
【００６５】
第３の実施形態に係るレーザアブレーションＩＣＰ質量分析システム１は、レーザアブレーション装置２のレーザ光照射部４及び試料待機部５の構成において、第１の実施形態に係るレーザアブレーションＩＣＰ質量分析システム１と異なっている。以下、相異点であるレーザ光照射部４及び試料待機部５について説明する。
【００６６】
図１２に示されるように、レーザ光照射部４は、キャリアガスが流通するキャリアガス流通路（第２の流通路）５２内に設けられている。また、試料待機部５は、試料Ｓが流通する試料流通路（第１の流通路）５３内に設けられている。そして、レーザ光照射部４と試料待機部５とを結ぶライン上には、キャリアガス流通路５２と試料流通路５３とを連通する搬送路５４が設けられている。
【００６７】
キャリアガス流通路５２の上壁において、レーザ光照射部４と試料待機部５とを結ぶライン上には、レーザ光Ｌを透過させるためのレーザ光透過部材４１が設けられている。また、試料流通路５３の下壁において、レーザ光照射部４と試料待機部５とを結ぶライン上には、搬送路５４内を上下方向に移動可能な載置台５５が待機させられている。
【００６８】
搬送路５４の上端部には、載置台５５が上方に移動した際に当接する内向きフランジ５６が形成されている。これにより、載置台５５が上方に移動して内向きフランジ５６に当接すると、キャリアガス流通路５２と搬送路５４とは気密に隔てられることになる。
【００６９】
なお、レーザアブレーション装置２の動作中、キャリアガスは大気圧より高いガス圧で常にキャリアガス流通路５２内を流通している。そのため、試料流通路５３内に大気が流入しても、搬送路５４を介してキャリアガス流通路５２内に大気が流入することはない。
【００７０】
以上のように構成されたレーザ光照射部４及び試料待機部５においては、次のように複数の試料Ｓが順次レーザアブレートされる。
【００７１】
まず、図１３（ａ）に示されるように、試料把持機構を備えたアーム（図示せず）等によって試料Ｓが試料搬送路５３内を一方側から移動させられてきて載置台５５上に載せられ、試料待機部５で待機させられる。続いて、図１３（ｂ）に示されるように、載置台５５が上方に移動して内向きフランジ５６に当接し、試料Ｓがキャリアガス流通路５２内のレーザ光照射部４に配置される。このとき、キャリアガスは大気圧より高いガス圧で常にキャリアガス流通路５２内を流通しているため、レーザ光照射部４への大気の流入が防止されつつ、試料待機部５からレーザ光照射部４に試料Ｓが搬送されることになる。
【００７２】
そして、試料Ｓがレーザ光照射部４に配置された状態で、試料Ｓにレーザ光Ｌが照射されて試料Ｓがレーザアブレートされる。これにより、微粒子化された試料Ｓの一部は、キャリアガスにより運ばれて、キャリアガス流通路５２を介してＩＣＰ質量分析装置３に送られる。
【００７３】
この試料Ｓに対するレーザアブレーションが終了すると、図１４（ａ）に示されるように、載置台５５が下方に移動して、レーザアブレートされた試料Ｓが試料流通路５３内の試料待機部５に配置された後、試料把持機構を備えたアーム（図示せず）等によって試料搬送路５３内を他方側に移動させられていく。続いて、図１４（ｂ）に示されるように、新たな次位の試料Ｓが試料搬送路５３内を一方側から移動させられてきて載置台５５上に載せられ、試料待機部５で待機させられる。
【００７４】
以降、上述した工程が繰り返され、複数の試料Ｓが順次レーザアブレートされる。
【００７５】
以上説明したように、第３の実施形態においては、レーザ光照射部４に搬送される次位の試料Ｓは、試料待機部５で待機させられた後、レーザ光照射部４への大気の流入が防止されつつ、搬送路５４を介して試料待機部５からレーザ光照射部４に載置台５５により搬送され、レーザ光照射部４でレーザアブレートされる。このように、試料待機部５からレーザ光照射部４への次位の試料Ｓの搬送に際してはレーザ光照射部４への大気の流入が防止されるため、レーザ光照射部４に次位の試料Ｓを導入する度にキャリアガスによってレーザ光照射部４のガスの置換を行うことが不要となる。従って、第３の実施形態によれば、複数の試料Ｓを順次効率良くレーザアブレートすることができる。
【００７６】
また、レーザアブレーション装置２の動作中、キャリアガスは大気圧より高いガス圧で常にキャリアガス流通路５２内を流通している。そのため、試料流通路５３内に大気が流入しても、搬送路５４を介して試料待機部５からレーザ光照射部４に次位の試料Ｓを搬送するに際し、レーザ光照射部４への大気の流入を確実に防止することができる。なお、キャリアガスと同一のガスを試料流通路５３内にも流通させておけば、レーザ光照射部４への大気の流入をより一層確実に防止することが可能になる。
［第４の実施形態］
【００７７】
第４の実施形態に係るレーザアブレーションＩＣＰ質量分析システム１は、レーザアブレーション装置２のレーザ光照射部４及び試料待機部５の構成において、第１の実施形態に係るレーザアブレーションＩＣＰ質量分析システム１と異なっている。以下、相異点であるレーザ光照射部４及び試料待機部５について説明する。
【００７８】
図１５に示されるように、レーザ光照射部４は、キャリアガスが流通するキャリアガス流通路５２内に設けられている。また、試料待機部５は、試料Ｓが流通する試料流通路５３内に設けられている。そして、レーザ光照射部４と試料待機部５とを結ぶライン上には、キャリアガス流通路５２と試料流通路５３とを連通する搬送空間５７が設けられている。
【００７９】
キャリアガス流通路５２の上壁において、レーザ光照射部４と試料待機部５とを結ぶライン上には、レーザ光Ｌを透過させるためのレーザ光透過部材４１が設けられている。また、搬送空間５７には、複数のフィン５８が形成されたローラ５９が配置されている。フィン５８は、弾性を有する材料（例えば、ゴム等）からなり、キャリアガス流通路５２と搬送空間５７との接続部において、キャリアガス流通路５２と搬送空間５７とが気密に隔てられるように、ローラ５９の周面に等間隔置きに形成されている。
【００８０】
なお、レーザアブレーション装置２の動作中、キャリアガスは大気圧より高いガス圧で常にキャリアガス流通路５２内を流通しているため、試料流通路５３内に大気が流入しても、搬送空間５７を介してキャリアガス流通路５２内に大気が流入することはない。
【００８１】
以上のように構成されたレーザ光照射部４及び試料待機部５においては、次のように複数の試料Ｓが順次レーザアブレートされる。
【００８２】
まず、図１６（ａ）に示されるように、試料Ｓがベルトコンベア等によって試料搬送路５３内を一方側から移動させられてきてローラ５９の周面に真空吸着等により固定され、試料待機部５で待機させられる。続いて、図１６（ｂ）に示されるように、ローラ５９が回転して試料Ｓがキャリアガス流通路５２内のレーザ光照射部４に配置され、試料Ｓを挟んで隣り合う一対のフィン５８によってキャリアガス流通路５２と搬送空間５７とが気密に隔てられる。このとき、キャリアガスは大気圧より高いガス圧で常にキャリアガス流通路５２内を流通しているため、レーザ光照射部４への大気の流入が防止されつつ、試料待機部５からレーザ光照射部４に試料Ｓが搬送されることになる。
【００８３】
そして、試料Ｓがレーザ光照射部４に配置された状態で、試料Ｓにレーザ光Ｌが照射されて試料Ｓがレーザアブレートされる。これにより、微粒子化された試料Ｓの一部は、キャリアガスにより運ばれて、キャリアガス流通路５２を介してＩＣＰ質量分析装置３に送られる。
【００８４】
一方、試料Ｓがレーザアブレートされている最中には、新たな次位の試料Ｓがベルトコンベア等によって試料搬送路５３内を一方側から移動させられてきてローラ５９の周面に真空吸着等により固定され、試料待機部５で待機させられる。
【００８５】
試料Ｓに対するレーザアブレーションが終了すると、図１７（ａ）に示されるように、ローラ５９が回転して次位の試料Ｓがキャリアガス流通路５２内のレーザ光照射部４に配置されると共に、レーザアブレートされた試料Ｓが試料搬送路５３内の試料待機部５に配置される。このとき、キャリアガスは大気圧より高いガス圧で常にキャリアガス流通路５２内を流通しているため、レーザ光照射部４への大気の流入が防止されつつ、試料待機部５からレーザ光照射部４に次位の試料Ｓが搬送されることになる。そして、レーザアブレートされた試料Ｓがベルトコンベア等によって試料搬送路５３内を他方側に移動させられていく。
【００８６】
続いて、図１７（ｂ）に示されるように、試料Ｓがレーザ光照射部４に配置された状態で、試料Ｓにレーザ光Ｌが照射されて試料Ｓがレーザアブレートされる。これにより、微粒子化された試料Ｓの一部は、キャリアガスにより運ばれて、キャリアガス流通路５２を介してＩＣＰ質量分析装置３に送られる。
【００８７】
一方、試料Ｓがレーザアブレートされている最中には、新たな次位の試料Ｓがベルトコンベア等によって試料搬送路５３内を一方側から移動させられてきてローラ５９の周面に真空吸着等により固定され、試料待機部５で待機させられる。
【００８８】
以降、上述した工程が繰り返され、複数の試料Ｓが順次レーザアブレートされる。
【００８９】
以上説明したように、第４の実施形態においては、レーザ光照射部４に搬送される次位の試料Ｓは、試料待機部５で待機させられた後、レーザ光照射部４への大気の流入が防止されつつ、搬送空間５７を介して試料待機部５からレーザ光照射部４にローラ５９により搬送され、レーザ光照射部４でレーザアブレートされる。このように、試料待機部５からレーザ光照射部４への次位の試料Ｓの搬送に際してはレーザ光照射部４への大気の流入が防止されるため、レーザ光照射部４に次位の試料Ｓを導入する度にキャリアガスによってレーザ光照射部４のガスの置換を行うことが不要となる。従って、第４の実施形態によれば、複数の試料Ｓを順次効率良くレーザアブレートすることができる。
【００９０】
また、レーザアブレーション装置２の動作中、キャリアガスは大気圧より高いガス圧で常にキャリアガス流通路５２内を流通している。そのため、試料流通路５３内に大気が流入しても、搬送空間５７を介して試料待機部５からレーザ光照射部４に次位の試料Ｓを搬送するに際し、レーザ光照射部４への大気の流入を確実に防止することができる。なお、キャリアガスと同一のガスを試料流通路５３内にも流通させておけば、レーザ光照射部４への大気の流入をより一層確実に防止することが可能になる。
［第５の実施形態］
【００９１】
第５の実施形態に係るレーザアブレーションＩＣＰ質量分析システム１は、レーザアブレーション装置２のレーザ光照射部４及び試料待機部５の構成において、第１の実施形態に係るレーザアブレーションＩＣＰ質量分析システム１と異なっている。以下、相異点であるレーザ光照射部４及び試料待機部５について説明する。
【００９２】
図１８に示されるように、試料待機部５は、試料Ｓを洗浄するための洗浄液（例えば、アルコール等）が貯留された洗浄液容器（第１の容器）６１内に設けられている。また、レーザ光照射部４は、キャップ状のレーザ光照射容器（第２の容器）６２内に設けられており、その開口部６２ａは洗浄液の液面下に位置している。ここで、開口部６２ａとは、レーザ光照射容器６２により形成される内部空間の入口部分を意味する。そして、洗浄液容器６１の一方側から他方側にはベルトコンベア６３が掛け渡されている。このベルトコンベア６３は、洗浄液容器６１の一方側において洗浄液中に入り、レーザ光照射容器６２内において洗浄液の液面上に一旦現われ、洗浄液容器６１の他方側において洗浄液中から出ている。
【００９３】
レーザ光照射容器６２には、キャリアガスをレーザ光照射容器６２内に導入する導入管８、及びレーザ光照射容器６２外に導出する導出管９が接続されている。また、レーザ光照射容器６２の上壁には、レーザ光Ｌを透過させるためのレーザ光透過部材４１が設けられている。
【００９４】
以上のように構成されたレーザ光照射部４及び試料待機部５においては、次のように複数の試料Ｓが順次レーザアブレートされる。
【００９５】
まず、図１９に示されるように、複数の試料Ｓがベルトコンベア６３上に取り付けられた状態で、所定の試料Ｓが、洗浄液容器６１の一方側において洗浄液中に入り、レーザ光照射容器６２内において洗浄液の液面上に一旦現われて、レーザ光照射容器６２内のレーザ光照射部４に配置される。
【００９６】
そして、レーザ光照射部４に配置された試料Ｓにレーザ光Ｌが照射されて試料Ｓがレーザアブレートされると共に、導入管８を介してレーザ光照射容器６２内にキャリアガスが導入される。これにより、微粒子化された試料Ｓの一部は、キャリアガスにより運ばれて、導出管９を介してＩＣＰ質量分析装置３に送られる。このとき、新たな次位の試料Ｓは、洗浄液容器６１内の洗浄液中、すなわち試料待機部５で待機させられる。
【００９７】
試料Ｓに対するレーザアブレーションが終了すると、ベルトコンベア６３が動作して次位の試料Ｓがレーザ光照射容器６２内のレーザ光照射部４に配置されると共に、レーザアブレートされた試料Ｓがベルトコンベア６３によって洗浄液容器６１の他方側に移動させられる。このとき、次位の試料Ｓは、洗浄液の液面下に位置するレーザ光照射容器６２の開口部６２ａを介して試料待機部５からレーザ光照射部４に搬送されるため、レーザ光照射部４への大気の流入が防止されることになる。
【００９８】
以降、上述した工程が繰り返され、複数の試料Ｓが順次レーザアブレートされる。
【００９９】
以上説明したように、第５の実施形態においては、レーザ光照射部４に搬送される次位の試料Ｓは、試料待機部５で待機させられた後、レーザ光照射部４への大気の流入が防止されつつ、レーザ光照射容器６２の開口部６２ａを介して試料待機部５からレーザ光照射部４にベルトコンベア６３により搬送され、レーザ光照射部４でレーザアブレートされる。このように、試料待機部５からレーザ光照射部４への次位の試料Ｓの搬送に際してはレーザ光照射部４への大気の流入が防止されるため、レーザ光照射部４に次位の試料Ｓを導入する度にキャリアガスによってレーザ光照射部４のガスの置換を行うことが不要となる。従って、第５の実施形態によれば、複数の試料Ｓを順次効率良くレーザアブレートすることができる。
【０１００】
また、試料待機部５が設けられる洗浄液容器６１内には洗浄液が貯留されているため、洗浄液の液面下に位置するレーザ光照射容器６２の開口部６２ａを介して試料待機部５からレーザ光照射部４に次位の試料Ｓを搬送するに際し、レーザ光照射部４への大気の流入を確実に防止することができる。更に、試料待機部５が設けられる洗浄液容器６１内には洗浄液が貯留されているため、試料Ｓをレーザアブレートするだけでなく、試料Ｓを洗浄することができる。
［第６の実施形態］
【０１０１】
第６の実施形態に係るレーザアブレーションＩＣＰ質量分析システム１は、レーザアブレーション装置２のレーザ光照射部４及び試料待機部５の構成において、第１の実施形態に係るレーザアブレーションＩＣＰ質量分析システム１と異なっている。以下、相異点であるレーザ光照射部４及び試料待機部５について説明する。
【０１０２】
図２０に示されるように、試料待機部５は、試料Ｓを洗浄するための洗浄液（例えば、アルコール等）が貯留された洗浄液タンク６４内において、洗浄液の液面下、すなわち洗浄液中に設けられている。また、レーザ光照射部４は、洗浄液タンク６４内において、洗浄液の液面上に形成された上部空間内に設けられている。そして、洗浄液タンク６４内には、洗浄液の液面上に周面の一部が位置した状態でローラ６５が設置されている。
【０１０３】
洗浄液タンク６４には、キャリアガスを洗浄液タンク６４の上部空間内に導入する導入管８、及び洗浄液タンク６４の上部空間外に導出する導出管９が接続されている。また、洗浄液タンク６４の上壁には、レーザ光Ｌを透過させるためのレーザ光透過部材４１が設けられている。
【０１０４】
以上のように構成されたレーザ光照射部４及び試料待機部５においては、次のように複数の試料Ｓが順次レーザアブレートされる。
【０１０５】
まず、図２１（ａ）に示されるように、複数の試料Ｓがローラ６５の周面に取り付けられた状態で、洗浄液タンク６４内の上部空間内に設けられたレーザ光照射部４に所定の試料Ｓが配置される。
【０１０６】
そして、レーザ光照射部４に配置された試料Ｓにレーザ光Ｌが照射されて試料Ｓがレーザアブレートされると共に、導入管８を介して洗浄液タンク６４内の上部空間内にキャリアガスが導入される。これにより、微粒子化された試料Ｓの一部は、キャリアガスにより運ばれて、導出管９を介してＩＣＰ質量分析装置３に送られる。このとき、新たな次位の試料Ｓは、洗浄液タンク６４内の洗浄液中、すなわち試料待機部５で待機させられる。
【０１０７】
試料Ｓに対するレーザアブレーションが終了すると、ローラ６５が回転して、図２１（ｂ）に示されるように、洗浄液タンク６４内の上部空間内に設けられたレーザ光照射部４に次位の試料Ｓが配置される。このとき、次位の試料Ｓは、洗浄液タンク６４内において、洗浄液中の試料待機部５から上部空間内のレーザ光照射部４に搬送されるため、レーザ光照射部４への大気の流入が防止されることになる。
【０１０８】
以降、上述した工程が繰り返され、複数の試料Ｓが順次レーザアブレートされる。
【０１０９】
以上説明したように、第６の実施形態においては、レーザ光照射部４に搬送される次位の試料Ｓは、試料待機部５で待機させられた後、レーザ光照射部４への大気の流入が防止されつつ、試料待機部５からレーザ光照射部４にローラ６５により搬送され、レーザ光照射部４でレーザアブレートされる。このように、試料待機部５からレーザ光照射部４への次位の試料Ｓの搬送に際してはレーザ光照射部４への大気の流入が防止されるため、レーザ光照射部４に次位の試料Ｓを導入する度にキャリアガスによってレーザ光照射部４のガスの置換を行うことが不要となる。従って、第６の実施形態によれば、複数の試料Ｓを順次効率良くレーザアブレートすることができる。
【０１１０】
本発明は、上述した各実施形態に限定されるものではない。例えば、試料分析装置は、ＩＣＰ質量分析装置に限定されず、ＩＣＰ発光分析装置や原子吸光分析装置等であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【０１１１】
【図１】第１の実施形態のレーザアブレーションＩＣＰ質量分析システムの構成図である。
【図２】第１の実施形態のレーザ光照射部及び試料待機部の構成図である。
【図３】第１の実施形態のレーザ光照射部及び試料待機部におけるレーザアブレーションの工程を説明するための図である。
【図４】図３に示されたレーザアブレーションの工程の次工程を説明するための図である。
【図５】図４に示されたレーザアブレーションの工程の次工程を説明するための図である。
【図６】第２の実施形態のレーザ光照射部及び試料待機部の構成図である。
【図７】第２の実施形態のレーザ光照射部及び試料待機部におけるレーザアブレーションの工程を説明するための図である。
【図８】図７に示されたレーザアブレーションの工程の次工程を説明するための図である。
【図９】図８に示されたレーザアブレーションの工程の次工程を説明するための図である。
【図１０】第２の実施形態のレーザ光照射部及び試料待機部の一変形例の構成図である。
【図１１】第２の実施形態のレーザ光照射部及び試料待機部の一変形例の構成図である。
【図１２】第３の実施形態のレーザ光照射部及び試料待機部の構成図である。
【図１３】第３の実施形態のレーザ光照射部及び試料待機部におけるレーザアブレーションの工程を説明するための図である。
【図１４】図１３に示されたレーザアブレーションの工程の次工程を説明するための図である。
【図１５】第４の実施形態のレーザ光照射部及び試料待機部の構成図である。
【図１６】第４の実施形態のレーザ光照射部及び試料待機部におけるレーザアブレーションの工程を説明するための図である。
【図１７】図１６に示されたレーザアブレーションの工程の次工程を説明するための図である。
【図１８】第５の実施形態のレーザ光照射部及び試料待機部の構成図である。
【図１９】第５の実施形態のレーザ光照射部及び試料待機部におけるレーザアブレーションの工程を説明するための図である。
【図２０】第６の実施形態のレーザ光照射部及び試料待機部の構成図である。
【図２１】第６の実施形態のレーザ光照射部及び試料待機部におけるレーザアブレーションの工程を説明するための図である。
【符号の説明】
【０１１２】
１…レーザアブレーションＩＣＰ質量分析システム（レーザアブレーション試料分析システム）、２…レーザアブレーション装置、３…ＩＣＰ質量分析装置（試料分析装置）、４…レーザ光照射部、５…試料待機部、６…レーザ光照射室（第２の室）、７…試料待機室（第１の室）、４３…開閉扉、５２…キャリアガス流通路（第２の流通路）、５３…試料流通路（第１の流通路）、５４…搬送路、６１…洗浄液容器（第１の容器）、６２…レーザ光照射容器（第２の容器）、６２ａ…開口部、Ｌ…レーザ光、Ｓ…試料。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料にレーザ光を照射することにより前記試料の一部を微粒子化するレーザアブレーション装置であって、
前記レーザ光が照射される前記試料が配置されると共に、微粒子化された前記試料の一部を運ぶためのキャリアガスが流通するレーザ光照射部と、
前記レーザ光照射部に搬送される次位の試料が待機させられる試料待機部とを備え、
前記レーザ光照射部への大気の流入を防止しつつ、前記試料待機部から前記レーザ光照射部に前記次位の試料を搬送することを特徴とするレーザアブレーション装置。
【請求項２】
前記試料待機部は、前記キャリアガスと同一のガスが充填される第１の室内に設けられ、
前記レーザ光照射部は、前記第１の室に隣接する第２の室内に設けられ、
前記第１の室と前記第２の室との間に設けられた開閉扉を介して前記試料待機部から前記レーザ光照射部に前記次位の試料が搬送されることを特徴とする請求項１記載のレーザアブレーション装置。
【請求項３】
前記試料待機部は、前記試料が流通する第１の流通路内に設けられ、
前記レーザ光照射部は、前記キャリアガスが流通する第２の流通路内に設けられ、
前記第１の流通路と前記第２の流通路とを連通する搬送路を介して前記試料待機部から前記レーザ光照射部に前記次位の試料が搬送されることを特徴とする請求項１記載のレーザアブレーション装置。
【請求項４】
前記試料待機部は、所定の液体を貯留する第１の容器内に設けられ、
前記レーザ光照射部は、前記液体の液面下に開口部が位置するキャップ状の第２の容器内に設けられ、
前記開口部を介して前記試料待機部から前記レーザ光照射部に前記次位の試料が搬送されることを特徴とする請求項１記載のレーザアブレーション装置。
【請求項５】
試料にレーザ光を照射することにより前記試料の一部を微粒子化するレーザアブレーション装置と、微粒子化された前記試料の一部に対して所定の分析を行う試料分析装置とを具備するレーザアブレーション試料分析システムであって、
前記レーザアブレーション装置は、
前記レーザ光が照射される前記試料が配置されると共に、微粒子化された前記試料の一部を運ぶためのキャリアガスが流通するレーザ光照射部と、
前記レーザ光照射部に搬送される次位の試料が待機させられる試料待機部とを備え、
前記レーザ光照射部への大気の流入を防止しつつ、前記試料待機部から前記レーザ光照射部に前記次位の試料を搬送する、
ことを特徴とするレーザアブレーション試料分析システム。
【請求項６】
試料にレーザ光を照射することにより前記試料の一部を微粒子化するレーザアブレーション装置において、前記レーザ光が照射される前記試料が配置されると共に、微粒子化された前記試料の一部を運ぶためのキャリアガスが流通するレーザ光照射部に次位の試料を導入する試料導入方法であって、
前記次位の試料を試料待機部で待機させる工程と、
前記キャリアガスが充填されたレーザ光照射部への大気の流入を防止しつつ、前記試料待機部から前記レーザ光照射部に前記次位の試料を搬送する工程とを含むことを特徴とする試料導入方法。
【請求項１】
試料にレーザ光を照射することにより前記試料の一部を微粒子化するレーザアブレーション装置であって、
前記レーザ光が照射される前記試料が配置されると共に、微粒子化された前記試料の一部を運ぶためのキャリアガスが流通するレーザ光照射部と、
前記レーザ光照射部に搬送される次位の試料が待機させられる試料待機部とを備え、
前記レーザ光照射部への大気の流入を防止しつつ、前記試料待機部から前記レーザ光照射部に前記次位の試料を搬送することを特徴とするレーザアブレーション装置。
【請求項２】
前記試料待機部は、前記キャリアガスと同一のガスが充填される第１の室内に設けられ、
前記レーザ光照射部は、前記第１の室に隣接する第２の室内に設けられ、
前記第１の室と前記第２の室との間に設けられた開閉扉を介して前記試料待機部から前記レーザ光照射部に前記次位の試料が搬送されることを特徴とする請求項１記載のレーザアブレーション装置。
【請求項３】
前記試料待機部は、前記試料が流通する第１の流通路内に設けられ、
前記レーザ光照射部は、前記キャリアガスが流通する第２の流通路内に設けられ、
前記第１の流通路と前記第２の流通路とを連通する搬送路を介して前記試料待機部から前記レーザ光照射部に前記次位の試料が搬送されることを特徴とする請求項１記載のレーザアブレーション装置。
【請求項４】
前記試料待機部は、所定の液体を貯留する第１の容器内に設けられ、
前記レーザ光照射部は、前記液体の液面下に開口部が位置するキャップ状の第２の容器内に設けられ、
前記開口部を介して前記試料待機部から前記レーザ光照射部に前記次位の試料が搬送されることを特徴とする請求項１記載のレーザアブレーション装置。
【請求項５】
試料にレーザ光を照射することにより前記試料の一部を微粒子化するレーザアブレーション装置と、微粒子化された前記試料の一部に対して所定の分析を行う試料分析装置とを具備するレーザアブレーション試料分析システムであって、
前記レーザアブレーション装置は、
前記レーザ光が照射される前記試料が配置されると共に、微粒子化された前記試料の一部を運ぶためのキャリアガスが流通するレーザ光照射部と、
前記レーザ光照射部に搬送される次位の試料が待機させられる試料待機部とを備え、
前記レーザ光照射部への大気の流入を防止しつつ、前記試料待機部から前記レーザ光照射部に前記次位の試料を搬送する、
ことを特徴とするレーザアブレーション試料分析システム。
【請求項６】
試料にレーザ光を照射することにより前記試料の一部を微粒子化するレーザアブレーション装置において、前記レーザ光が照射される前記試料が配置されると共に、微粒子化された前記試料の一部を運ぶためのキャリアガスが流通するレーザ光照射部に次位の試料を導入する試料導入方法であって、
前記次位の試料を試料待機部で待機させる工程と、
前記キャリアガスが充填されたレーザ光照射部への大気の流入を防止しつつ、前記試料待機部から前記レーザ光照射部に前記次位の試料を搬送する工程とを含むことを特徴とする試料導入方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【公開番号】特開２００６−１５３７４８（Ｐ２００６−１５３７４８Ａ）
【公開日】平成１８年６月１５日（２００６．６．１５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００４−３４７０６０（Ｐ２００４−３４７０６０）
【出願日】平成１６年１１月３０日（２００４．１１．３０）
【出願人】（０００００３０６７）ＴＤＫ株式会社 (7,238)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年６月１５日（２００６．６．１５）
【国際特許分類】
【出願日】平成１６年１１月３０日（２００４．１１．３０）
【出願人】（０００００３０６７）ＴＤＫ株式会社 (7,238)
【Ｆターム（参考）】
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