光ディスク用紫外線硬化型組成物および光ディスク
【課題】 高い弾性率を有し、かつ光透過層を形成する際に反りが生じにくく、また高温高湿耐久環境下でも反りを生じにくい光透過層を形成可能な光ディスク用紫外線硬化型組成物を提供する。
【解決手段】 基板上に、少なくとも光反射層と、紫外線硬化型組成物の硬化物からなる光透過層とが積層され、光透過層側からブルーレーザーを入射して情報の再生を行う光ディスクであって、紫外線硬化型組成物が、一分子中に少なくとも二個のイソシアネート基又は少なくとも一個のイソシアネート基を有するイソシアネート化合物（ａ）と、ヒドロキシモノ（メタ）アクリレート（ｂ）からなるウレタン（メタ）アクリレート（Ｘ）を含有し、紫外線硬化型組成物に含まれるラジカル重合性化合物中のウレタン（メタ）アクリレート（Ｘ）の含有量が４０質量％以上である紫外線硬化型組成物により、弾性率が大きく、且つ反りが少ない硬化被膜を形成できる。
【解決手段】 基板上に、少なくとも光反射層と、紫外線硬化型組成物の硬化物からなる光透過層とが積層され、光透過層側からブルーレーザーを入射して情報の再生を行う光ディスクであって、紫外線硬化型組成物が、一分子中に少なくとも二個のイソシアネート基又は少なくとも一個のイソシアネート基を有するイソシアネート化合物（ａ）と、ヒドロキシモノ（メタ）アクリレート（ｂ）からなるウレタン（メタ）アクリレート（Ｘ）を含有し、紫外線硬化型組成物に含まれるラジカル重合性化合物中のウレタン（メタ）アクリレート（Ｘ）の含有量が４０質量％以上である紫外線硬化型組成物により、弾性率が大きく、且つ反りが少ない硬化被膜を形成できる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、少なくとも光反射層と光透過層とが形成され、前記光透過層を通して３７０ｎｍ〜４３０ｎｍの範囲内に発振波長を有する半導体レーザー（以下ブルーレーザーと称す）により記録又は再生を行う光ディスクの光透過層に適した紫外線硬化型組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、情報技術の発展により大容量の情報記録の伝達が可能になった。これに伴い、大容量となる映像、音楽、コンピューターデータ等を記録及び再生出来る高密度大容量の光ディスクが要求されている。
【０００３】
高密度記録媒体として伸長を見せているＤＶＤ（Ｄｉｇｉｔａｌ Ｖｅｒｓａｔｉｌｅ Ｄｉｓｃ）は厚さ０．６ｍｍの２枚の基板を接着剤で貼り合わせた構造を有している。ＤＶＤにおいては高密度化を達成するため、ＣＤ（Ｃｏｍｐａｃｔ Ｄｉｓｃ）に比べ短波長の６５０ｎｍのレーザーを用い、光学系も高開口数化している。
【０００４】
しかし、ＨＤＴＶ（ｈｉｇｈ ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ ｔｅｌｅｖｉｓｉｏｎ）に対応した高画質の映像等を記録または再生する為には更なる高密度化が必要となる。ＤＶＤの次世代に位置する更なる高密度記録の方法及びその光ディスクの検討が行われており、ＤＶＤよりも更に短波長のブルーレーザー及び高開口数の光学系を用いる新しい光ディスク構造による高密度記録方式が提案されている。
【０００５】
この新しい光ディスクはポリカーボネート等のプラスチックで形成される透明又は不透明の基板上に記録層を形成し、次いで記録層上に約１００μｍの光透過層を積層し、該光透過層を通して記録光又は再生光が、あるいはその両方が入射する構造の光ディスクである。当該構成の光ディスクにおいては、光透過層が約１００μｍの厚膜であり、また記録再生に使用するレーザー波長も短波長であるため、従来型のＤＶＤ等に比して変形や劣化の問題が顕著に生じる。
【０００６】
このような、ブルーレーザーにより記録又は再生を行う光ディスクとして、円形基板上に情報記録層及び光反射層を形成し、更に紫外線硬化型樹脂を塗布し、硬化させて光透過層を積層した光ディスクが提案されている。該技術では、光透過層形成材料としてカチオン重合性紫外線硬化型組成物が使用されている（特許文献１及び特許文献２参照）。しかしながら、カチオン重合性紫外線硬化型組成物は、紫外線照射により光反射層を腐食させやすいルイス酸を発生するため、光ディスクを長期間保存する場合の安定性が得られ難い欠点がある。光反射膜に用いる材料としては、４００ｎｍ前後で高い反射率が求められることから、銀又は銀を主成分とする合金が使用されている。銀又は銀を主成分とする合金は化学物質による腐食等の化学変化を起こしやすいため、光反射層を形成する材料として銀又は銀を主成分とする合金を用いた場合、これに接する光透過層用の材料としてカチオン重合性紫外線硬化型組成物を用いることは好ましくない。
【０００７】
ラジカル重合系のアクリレートを使用した光ディスク用樹脂組成物としては、例えば、ビスフェノールＡ型のエポキシアクリレートを使用した組成物が開示されている（特許文献３参照）。しかし、ここで開示されている一般的なビスフェノールＡ型のエポキシアクリレートを含有する組成物は、高い弾性率を得ることができるが、厚膜の光透過層を形成すると、反りが非常に大きくなる欠点があった。
【０００８】
レーザー照射時の加熱によっても変形が生じにくくエラー発生の少ない光ディスクを形成可能な光ディスク用紫外線硬化型組成物として、多環式の（メタ）アクリレート化合物とイソシアヌレート構造を有する化合物とを使用した紫外線硬化型組成物が開示されている（特許文献４参照）。当該組成物は剛直な環状構造を有するモノマーを使用しているため弾性率を高く設計できるが、当該硬化膜も厚膜の光透過層を形成すると、反りが大きくなる欠点があった。
【０００９】
また、光ファイバーの被覆に用いられる紫外線硬化型組成物として、２−ヒドロキシプロピルアクリレートと２，４−トリレンジイソシアネートとからなるラジカル重合性オリゴマーを含有する組成物が開示されている（特許文献５参照）。当該組成物は、光ファイバー用途において優れた引き抜き性や表面活性を有する光ファイバー被覆層を実現できるものであるが、当該文献において開示された組成物を単に適用しても上記構成の光ディスクの光透過層用途として充分な硬さの硬化被膜が得られなかった。
【００１０】
【特許文献１】特開平１１−１９１２４０号公報
【特許文献２】特開２００２−９２９４８号公報
【特許文献３】特開平１１−３０２３０９号公報
【特許文献４】特開２００６−７９８０４号公報
【特許文献５】特開２００５−２８３７７３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明が解決しようとする課題は、高い弾性率を有し、かつ光透過層を形成する際に反りが生じにくく、また高温高湿耐久環境下でも反りを生じにくい光透過層を形成可能な光ディスク用紫外線硬化型組成物を提供することにある。また、反りが少なく、かつ、高い弾性率で変形を生じにくい光透過層を有する光ディスクを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者らは、複数の官能基を有するイソシアネート化合物と、ヒドロキシモノ（メタ）アクリレートとからなる分子量の低いウレタンアクリレートオリゴマー成分を紫外線硬化型組成物中の主たる成分として使用することにより、弾性率が大きく、且つ反りが少ない硬化被膜を形成できることを見出し本発明に至った。
【００１３】
すなわち本発明は、基板上に、少なくとも光反射層と、紫外線硬化型組成物の硬化物からなる光透過層とが積層され、前記光透過層側からブルーレーザーを入射して情報の再生を行う光ディスクであって、
前記紫外線硬化型組成物が、一分子中に少なくとも二個のイソシアネート基又は少なくとも一個のイソシアネート基を有するイソシアネート化合物（ａ）と、ヒドロキシモノ（メタ）アクリレート（ｂ）からなるウレタン（メタ）アクリレート（Ｘ）を含有し、
前記紫外線硬化型組成物に含まれるラジカル重合性化合物中のウレタン（メタ）アクリレート（Ｘ）の含有量が４０質量％以上である光ディスク用紫外線硬化型組成物を提供するものである。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の光ディスクの光透過層用紫外線硬化型組成物は、得られる硬化膜の高弾性率化と、反りの抑制という両立が困難な特性を共に好適に調整でき、光ディスクの光透過層として使用した場合に、優れた耐久性と耐光性とを実現できる。また、弾性率が高いことから耐磨耗性の向上にも貢献でき、最表面にハードコート層を設けない構成の光ディスクにも有用に使用できる。したがって、本発明の光ディスクは光透過層の膜厚の厚いブルーレーザー用光ディスクとして最適である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
本発明の紫外線硬化型組成物において使用するウレタン（メタ）アクリレート（Ｘ）は、ポリイソシアネート化合物（ａ）と、ヒドロキシモノ（メタ）アクリレート（ｂ）との反応によって得られるラジカル重合性オリゴマーである。
【００１６】
本発明においてポリイソシアネート化合物（ａ）とは、一分子中に少なくとも二個のイソシアネート基又は少なくとも一個のイソシアネート基を有する多官能性のイソシアネート化合物をいう。ポリイソシアネート化合物（ａ）としては、脂肪族イソシアネート、芳香族イソシアネート及び脂環式イソシアネートのいずれであってもよい。
【００１７】
二官能イソシアネート化合物としては、例えば、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、４,４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、メチレンビス（４−シクロヘキシルイソシアネート）、キシリレンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、１,５−ナフタレンジイソシアネート、トリジンジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、トランスシクロヘキサン１,４−ジイソシアネート、リジンジイソシアネート、テトラメチルキシレンジイソシアネート、リジンエステルトリイソシアネート、１,６,１１−ウンデカントリイソシアネート、１,８−ジイソシアネート−４−イソシアネートメチルオクタン、１,３,６−ヘキサメチレントリイソシアネート、ビシクロヘプタントリイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ジシクロペンタジエンジイソシアネート、ノルボルネンジイソシアネート等が挙げられる。なかでも、２，６−トリレンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート、４，４−ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、メチレンビス（４−シクロヘキシルイソシアネート）、ノルボルネンジイソシアネートが剛直な環構造を分子内に有しているため、弾性率を高くできるため、好ましい。
【００１８】
三官能イソシアネート化合物としては、例えば、４，４’，４’’−トリフェニルメタントリイソシアネート、２，４，４’−トリイソシアナトトリフェニル、２，４，４’−トリイソシアナトジフェニルメタン、２，４，６−トリイソシアナトジフェニルエーテル、２，２’，４−トリイソシアナトジフェニルエーテル、２，２’，４−トリイソシアナトジフェニルスルフィド、２，４，４’−トリイソシアナトジフェニルスルフィド、２，３’，４−トリイソシアナト−４’−メチルジフェニルエーテル、２，３’，４−トリイソシアナト−４’−メトキシジフェニルエーテル、２，４，４’−トリイソシアナト−３’−クロロジフェニルエーテル、４，４’，６−ジフェニルトリイソシアネート、２，４，６−トリレントリイソシアネート、２，４，４’−トリイソシアナトジフェニルエーテル等が挙げられる。
【００１９】
また、ジイソシアネートの環式三量体のイソシアヌレートや、イソシアネートとジイソシアネートのビウレット、あるいは、グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン等の三官能性アルコールとジイソシアネートのアダクトやトリアミンなども好適に使用できる。更に多官能性のイソシアネート化合物として、ジイソシアネートとポリオール又はポリアミンとの反応により得られるイソシアネート化合物も使用できる。これらのイソシアネート化合物を使用する場合には、その数平均分子量１０００以下のものを使用することが好ましい。特にイソホロンジイソシアネートの環式三量体のイソシアヌレートが好ましい。
【００２０】
上記の中でも２，４−トリレンジイソシアネート、４，４−ジフェニルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、メチレンビス（４−シクロヘキシルイソシアネート）のような二官能イソシアネート化合物は、得られるラジカル重合性オリゴマーの構造設計が容易となり、組成物を調整しやすいため好ましい。
【００２１】
本発明に使用するヒドロキシモノ（メタ）アクリレート（ｂ）は、上記ポリイソシアネート化合物との反応により得られるウレタン（メタ）アクリレート（Ｘ）の鎖長を制御することにより、高い弾性率と低収縮性で高い弾性率の硬化被膜を形成できる。なお、（メタ）アクリレートとは、アクリレートおよびメタクリレートをいい、これらの誘導体についても同様に表記する。
【００２２】
ヒドロキシモノ（メタ）アクリレート（ｂ）としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、３−アクリロイルオキシグリセリンモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ε−カプロラクトンで変性されたモノ（メタ）アクリレート等が挙げられる
【００２３】
上記のなかでも、炭素数が１〜６のアルキル基を有するヒドロキシアルキルモノ（メタ）アクリレート、特に、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレートが弾性率を高めることができるため好ましい。また、ε−カプロラクトンで変性されたモノ（メタ）アクリレートは柔軟な構造になることから反り変化量を少なくすることが可能であり、ε−カプロラクトンモノ（メタ）アクリレートを２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等と併用しても良い。
【００２４】
紫外線硬化型組成物に含有させるウレタン（メタ）アクリレート（Ｘ）の含有量は、紫外線硬化型組成物に含まれるラジカル重合性化合物中の４０質量％以上、好ましくは、４０〜７０質量％、より好ましくは４５〜６０質量％とすることで、弾性率を高めることができ、粘度も１００μｍの光透過層を形成するのに良好となる。
【００２５】
本発明の紫外線硬化型組成物は、上記ウレタン（メタ）アクリレート（Ｘ）以外の他のラジカル重合性化合物として、一分子中に一個の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレート（以下、単官能（メタ）アクリレートと略記する）や、一分子中に二個の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレート（以下、二官能の（メタ）アクリレートと略記する。）、更には一分子中に三個以上の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレート（以下、三官能以上の（メタ）アクリレートと略記する。）を使用することで、所望の粘度、硬化後の弾性率を有する組成物を得ることができる。
【００２６】
他のラジカル重合性化合物としては、各種（メタ）アクリレートを使用でき、例えば単官能（メタ）アクリレートとしては、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、エトキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート等の脂肪族（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシエチルテトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート等の芳香族（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、テトラシクロドデカニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート等の脂環式（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルフォリン、イソボルニル（メタ）アクリレート、ノルボルニル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシメチル−２−メチルビシクロヘプタンアダマンチル（メタ）アクリレート、などを使用できる。
【００２７】
中でも、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、エトキシエトキシエチルアクリレートを用いた場合、膜厚変化量が少なく、反り変化量も少なくなるため、好ましい。
【００２８】
二官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、３−メチル−１，５−ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、２−メチル−１，８−オクタンジオールジ（メタ）アクリレート、２−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール１モルに４モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性アルキル化リン酸ジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、脂環式構造を有する（メタ）アクリレートとしては、脂環式の二官能（メタ）アクリレートとして、ノルボルナンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ノルボルナンジエタノールジ（メタ）アクリレート、ノルボルナンジメタノールにエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド２モル付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジエタノールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールにエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド２モル付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジエタノールジ（メタ）アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジメタノールにエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド２モル付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジエタノールにエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド２モル付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、ジメチロールジシクロペンタンジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、等を使用できる。
【００２９】
なかでもトリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、等が好ましく、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートが特に好ましい。
【００３０】
また、硬化後の弾性率を高く調整したい場合に、三官能以上の（メタ）アクリレートを使用することができる。例えば、ビス（２−アクリロイルオキシエチル）ヒドロキシエチルイソシアヌレート、ビス（２−アクリロイルオキシプロピル）ヒドロキシプロピルイソシアヌレート、ビス（２−アクリロイルオキシブチル）ヒドロキシブチルイソシアヌレート、ビス（２−メタクリロイルオキシエチル）ヒドロキシエチルイソシアヌレート、ビス（２−メタクリロイルオキシプロピル）ヒドロキシプロピルイソシアヌレート、ビス（２−メタクリロイルオキシブチル）ヒドロキシブチルイソシアヌレート、トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリス（２−アクリロイルオキシプロピル）イソシアヌレート、トリス（２−アクリロイルオキシブチル）イソシアヌレート、トリス（２−メタクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリス（２−メタクリロイルオキシプロピル）イソシアヌレート、トリス（２−メタクリロイルオキシブチル）イソシアヌレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン１モルに３モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリオールのジ又はトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールのポリ（メタ）アクリレート等の多官能（メタ）アクリレート、等を使用できる。
【００３１】
また、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、ビニルエーテルモノマー等のラジカル重合化合物も必要に応じて使用できる。
【００３２】
更に、所望によりエポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート等のアクリレートオリゴマーを併用しても良い。
【００３３】
本発明においては、紫外線硬化型組成物に含まれるラジカル重合性化合物中の二官能（メタ）アクリレートの含有量を２０質量％以下、好ましくは１０質量％以下とすることで、上記ウレタン（メタ）アクリレート（Ｘ）の使用により高い弾性率設計とした際にも得られる硬化膜の反りを低減できる。
【００３４】
本発明における紫外線硬化型組成物に含まれるラジカル重合性化合物全量中の単官能（メタ）アクリレートの含有量としては、２０〜６０質量％であることが好ましく、３０〜５０質量％であることが好ましい。三官能以上の（メタ）アクリレートの含有量は、２０質量％以下であることが好ましく、１０質量％以下であることが好ましい。また、上記ウレタン（メタ）アクリレート（Ｘ）以外の他のアクリレートオリゴマーを使用する場合には、他のアクリレートオリゴマーの含有量が２０質量％以下であることが好ましく、１０質量％以下であることがより好ましい。さらにウレタン（メタ）アクリレート（Ｘ）を含むオリゴマーの総量が７０質量％以下であることが好ましい。
【００３５】
本発明の紫外線硬化型組成物は、上記ラジカル重合性化合物を調整し、粘度を３００〜４０００ｍＰａ・ｓ、好ましくは６００〜２５００ｍＰａ・ｓとすることで、厚膜の光透過層を好適に形成できる。
【００３６】
本発明の紫外線硬化型組成物は、紫外線を照射した後の硬化膜の弾性率が、２５００〜４５００ＭＰａ（２５℃）となるように調整することが好ましい。中でも３０００〜４０００ＭＰａとなる組成であることがより好ましい。弾性率を当該範囲とすることで、外力による変形や傷つきの少ない光ディスクを得ることができる。
【００３７】
本発明の光透過層用紫外線硬化型組成物中には、ラジカル重合性化合物以外に、公知の光重合開始剤、及び熱重合開始剤等を用いる事が出来る。
【００３８】
本発明に使用できる光重合開始剤としては、例えば、ベンゾインイソブチルエーテル、２，４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ベンジル、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン及び２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン等の分子開裂型や、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、イソフタルフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチル−ジフェニルスルフィド等の水素引き抜き型の光重合開始剤等がある。
【００３９】
本発明に使用する紫外線硬化型組成物には、必要に応じて、添加剤として、界面活性剤、レベリング剤、熱重合禁止剤、ヒンダードフェノール、ホスファイト等の酸化防止剤、ヒンダードアミン等の光安定剤を使用することもできる。また、増感剤として、例えば、トリメチルアミン、メチルジメタノールアミン、トリエタノールアミン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン及び４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等が使用でき、更に、前記の光重合性化合物と付加反応を起こさないアミン類を併用することもできる。
【００４０】
［光ディスク］
本発明の光ディスクは、基板上に、少なくとも光反射層と光透過層とが形成され、光透過層を通してレーザー光により記録又は再生を行う光ディスクであって、光透過層が、上記の紫外線硬化型組成物の硬化物からなるものである。本発明の光ディスクは、光透過層として、上記した紫外線硬化型組成物を使用することにより、高温高湿下でも膜減りが生じにくく、光反射率の低下が少ないため、良好に情報の記録・再生を行うことができる。
【００４１】
本発明の光ディスクにおける光透過層は、レーザー光の発振波長が３７０〜４３０ｎｍであるブルーレーザーを効率良く透過することが好ましく、１００μｍの厚さにおいて４０５ｎｍの光の透過率が８５％以上であることが好ましく、９０％以上であることが特に好ましい。
【００４２】
本発明の光ディスクにおける光透過層の厚みは５０〜１５０μｍの範囲であり、７５〜１５０μｍであることが特に好ましい。光透過層の厚みは、通常、約１００μｍに設定されるが、厚みは光透過率や信号の読み取り及び記録に大きく影響を及ぼすため、十分な管理が必要である。光透過層は、当該厚さの硬化層単層で形成されていても、複数層が積層されていてもよい。
【００４３】
本発明の光ディスクは、積算光量１．０Ｊ／ｃｍ２にて、１００μｍ厚の光透過層を形成した際の光透過層の反り変化量が±１．５°以内であることが好ましく、±１．０°以内であることが特に好ましい。１．５°程度の変化量であれば、基板の成形時に補正することで、読み取りや書き込みの際に発生する不具合をなくすことが可能である。
【００４４】
更に本発明の光ディスクは、１００μｍ厚の光透過層を有する光ディスクを、８０℃８５％ＲＨ９６時間の高温高湿環境下に曝露した後の反り変化量が±１．０°以内であることが好ましく、±０．５°以内であることが特に好ましい。
【００４５】
光透過層が１００μｍ厚の層を８０℃８５％ＲＨ９６時間の高温高湿環境下に曝露した後の反射率変化量が、４．０％以内であることが好ましく、２．０％以内であることが特に好ましい。
【００４６】
光透過層が１００μｍ厚の層を８０℃８５％ＲＨ９６時間の高温高湿環境下に曝露した後の膜厚減少量が２．０μｍ以下であることが好ましく、１．０μｍ以下であることが特に好ましい。
【００４７】
光反射層としては、レーザー光を反射し、記録・再生が可能な光ディスクを形成できるものであればよく、例えば、金、銅、アルミニウムなどの金属又はその合金、シリコンなどの無機化合物を使用できる。なかでも、４０５ｎｍ近傍の光の反射率が高いことから銀又は銀を主成分とする合金を使用することが好ましい。光反射層の厚さは、１０〜６０ｎｍ程度の厚さとすることが好ましい。
【００４８】
基板としては、ディスク形状の円形樹脂基板を使用でき、当該樹脂としてはポリカーボネートを好ましく使用できる。光ディスクが再生専用の場合には、基板上に情報記録を担うピットが光反射層と積層される表面に形成される。
【００４９】
また、書込可能な光ディスクの場合には、光反射層と光透過層との間に情報記録層が設けられる。情報記録層としては、情報の記録・再生が可能であればよく、相変化型記録層、光磁気記録層、あるいは有機色素型記録層のいずれであってもよい。
【００５０】
情報記録層が相変化型記録層である場合には、当該情報記録層は通常、誘電体層と相変化膜から構成される。誘電体層は、相変化層に発生する熱を緩衝する機能、ディスクの反射率を調整する機能を求められ、ＺｎＳとＳｉＯ２の混合組成が用いられる。相変化膜は、膜の相変化により非晶状態と結晶状態で反射率差を生じるものであり、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系、Ｓｂ−Ｔｅ系、Ａｇ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ系合金を用いることができる。
【００５１】
本願発明の光ディスクは、情報記録部位が二つ以上形成されていても良い。例えば、再生専用光ディスクの場合には、ピットを有する基板上に、第一の光反射層、第一の光透過層が積層され、当該第一の光透過層上又は他の層を積層し、当該層上に第二の光反射層、第二の光透過層を形成してもよい。この場合には第一の光透過層やこれに積層する他の層上にピットが形成される。また、記録・再生可能な光ディスクの場合は、基板上に、情報記録層、光反射層及び光透過層とが積層された構成を有するものであるが、当該光透過層上に更に、第二の光反射層、第二の情報記録層、第二の光透過層を形成して二層の情報記録層を有する構成、あるいは、同様に層を積層して三層以上の情報記録層を有する構成としてもよい。複数層を積層する場合には、各層の層厚さの和が上記の厚さになるように適宜調整すればよい。
【００５２】
また、本発明の光ディスクにおいては、光透過層が最表面の層であってもよいが、更にその表層に表面コート層を設けてもよい。
【００５３】
本発明の光ディスクには、再生専用のディスクと、記録・再生可能なディスクがある。再生専用のディスクは、１枚の円形樹脂基板を射出成形する際に、情報記録層であるピットを設け、次いで該情報記録層上に光反射層を形成し、更に、該光反射層上に紫外線硬化型組成物をスピンコート法等により塗布した後、紫外線照射により硬化させて光透過層を形成することにより製造することができる。また、記録・再生可能なディスクは、１枚の円形樹脂基板上に光反射層を形成し、次いで相変化膜、又は光磁気記録膜等の情報記録層を設け、更に、該光反射層上に紫外線硬化型組成物をスピンコート法等により塗布した後、紫外線照射により硬化させて光透過層を形成することにより製造することができる。
【００５４】
光反射層上に塗布した紫外線硬化型組成物を紫外線照射することにより硬化させる場合、例えばメタルハライドランプ、高圧水銀灯などを用いた連続光照射方式で行うこともできるし、ＵＳＰ５９０４７９５記載の閃光照射方式で行うこともできる。効率よく硬化出来る点で閃光照射方式がより好ましい。
【００５５】
紫外線を照射する場合、積算光量は０．０５〜１．０Ｊ／ｃｍ２となるようにコントロールするのが好ましい。積算光量は０．２〜１．０Ｊ／ｃｍ２であることがより好ましい。
【００５６】
［実施態様］
以下、本発明の光ディスクの具体例として、単層型光ディスク及び二層型光ディスクの具体的構成の一例を以下に示す。
【００５７】
本発明の光ディスクのうち、単層型光ディスクの好ましい実施態様としては、例えば、図１に示したように、基板１上に、光反射層２と、光透過層３とが積層され、光透過層側からブルーレーザーを入射して情報の記録又は再生を行う構成が例示できる。図中の凹凸は、記録トラック（グルーブ）を模式的に表したものである。光透過層３は、本発明の紫外線硬化型組成物の硬化物からなる層であり、その厚さは１００±１０μｍの範囲である。基板１の厚さは１．１ｍｍ程度、光反射膜は銀等の薄膜である。
【００５８】
図２は図１に示した構成の最表層にハードコート層４を設けた構成である。ハードコート層は、高硬度で、耐摩耗性に優れる層であることが好ましい。ハードコート層の厚さは、１〜１０μｍであることが好ましく、１〜５μｍであることがより好ましい。
【００５９】
単層型光ディスクの好ましい実施態様としては、例えば、図１に示したように、基板１上に、光反射層２と、光透過層３とが積層され、光透過層側からブルーレーザーを入射して情報の記録又は再生を行う構成が例示できる。図中の凹凸は、記録トラック（グルーブ）を模式的に表したものである。光透過層３は、本発明の紫外線硬化型組成物の硬化物からなる層であり、その厚さは１００±１０μｍの範囲である。基板１の厚さは１．１ｍｍ程度、光反射膜は銀等の薄膜である。
【００６０】
多層型光ディスクの好ましい実施態様としては、例えば、図３に示したように、基板１上に、光反射層５と、光透過層６とが積層され、さらにその上に、光反射層２と、光透過層３とが積層され、光透過層３側からブルーレーザーを入射して情報の記録又は再生を行う二層型光ディスクの構成が例示できる。光透過層３及び光透過層６は、紫外線硬化型組成物の硬化物からなる層であり、少なくともいずれかの層が本発明の紫外線硬化型組成物からなる層である。層の厚さとしては、光透過層３の厚さと光透過層６の厚さの和が１００±１０μｍの範囲である。基板１の厚さは１．１ｍｍ程度、光反射膜は銀等の薄膜である。
【００６１】
当該構成の二層型光ディスクにおいては、記録トラック（グルーブ）が、光透過層６の表面にも形成されるため、光透過層６は、接着性に優れる紫外線硬化型組成物の硬化膜からなる層の上に、記録トラックを好適に形成できる紫外線硬化型組成物の硬化膜からなる層を積層した複層で形成されていてもよい。また当該構成においても最表層にハードコート層が設けられていてもよい。
【００６２】
図１に示す光ディスクの製造方法を以下に説明する。
まず、ポリカーボネート樹脂を射出成形することによって、記録トラック（グルーブ）と呼ばれるレーザー光をトラッキングするための案内溝を有する基板１を作製する。次に基板１の記録トラック側の表面に、銀合金などをスパッタまたは蒸着することにより光反射層２を成膜する。この上に本発明の紫外線硬化型組成物を塗布し、ディスクの片面または両面から紫外線を照射して、紫外線硬化型組成物を硬化させ、光透過層３を形成し、図１の光ディスクを作製する。図２の光ディスクの場合には、この上に更にスピンコート等によりハードコート層４を形成する。
【００６３】
図３に示す光ディスクの製造方法を以下に説明する。
まず、ポリカーボネート樹脂を射出成形にすることによって、記録トラック（グルーブ）と呼ばれるレーザー光をトラッキングするための案内溝を有する基板１を作製する。次に、基板１の記録トラック側の表面に、銀合金などをスパッタまたは蒸着することにより光反射層６を成膜する。
【００６４】
この上に、本発明の紫外線硬化型組成物又は任意の紫外線硬化型組成物の光透過層６を形成するが、その際に型を用いて表面に記録トラック（グルーブ）を転写する。記録トラック（グルーブ）を転写する工程は次の通りである。基板１に形成された光反射層５上に紫外線硬化型組成物を塗布し、その上に記録トラック（グルーブ）を形成するための型と貼り合わせ、この貼り合わせたディスクの片面または両面から紫外線を照射して、紫外線硬化型組成物を硬化させる。その後、型を剥離して、光透過層６の記録トラック（グルーブ）を有する側の表面に、銀合金などをスパッタまたは蒸着することにより光反射層２を成膜し、この上に、紫外線硬化型組成物を塗付した後、紫外線照射により硬化させ、光透過層３を形成することで、図３の光ディスクを作製できる。
【００６５】
また、光反射層に相変化型記録層を用いる場合でも上記と同様の方法により光ディスクを作成することができる。
【実施例】
【００６６】
次に、合成例及び実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。以下実施例中の「部」は「質量部」を表す。
【００６７】
（ウレタンアクリレートＵＡ１の合成）
攪拌羽根のついたフラスコに２−ヒドロキシプロピルアクリレート（分子量１３０）２６０部（２モル）を仕込み、攪拌を行いながらＴＤＩ（２，４−トリレンジイソシアネート）１７４部（１モル）を発熱に注意しながら滴下し７０℃まで昇温し、この温度で反応を７時間行い、赤外吸収スペクトルでＮＣＯの吸収が消失したことを確認して取り出し、ウレタンアクリレートＵＡ１（数平均分子量４３４）を得た。
【００６８】
（ウレタンアクリレートＵＡ２の合成）
攪拌羽根のついたフラスコに２−ヒドロキシエチルアクリレート（分子量１１６）２３２部（２モル）を仕込み、攪拌を行いながらＴＤＩ（２，４−トリレンジイソシアネート）１７４部（１モル）を発熱に注意しながら滴下し７０℃まで昇温し、この温度で反応を７時間行い、赤外吸収スペクトルでＮＣＯの吸収が消失したことを確認して取り出し、ウレタンアクリレートＵＡ２（数平均分子量４０６）を得た。
【００６９】
（ウレタンアクリレートＵＡ３の合成）
攪拌羽根のついたフラスコに２−ヒドロキシプロピルアクリレート（分子量１３０）２６０部（２モル）を仕込み、攪拌を行いながらＩＰＤＩ（イソホロンジイソシアネート）２２２部（１モルを発熱に注意しながら滴下し７０℃まで昇温し、この温度で反応を７時間行い、赤外吸収スペクトルでＮＣＯの吸収が消失したことを確認して取り出し、ウレタンアクリレートＵＡ３（数平均分子量４８２）を得た。
【００７０】
（ウレタンアクリレートＵＡ４の合成）
攪拌羽根のついたフラスコに２−ヒドロキシエチルアクリレート（分子量１１６）２３２部（２モル）を仕込み、攪拌を行いながらＩＰＤＩ（イソホロンジイソシアネート）２２２部（１モルを発熱に注意しながら滴下し７０℃まで昇温し、この温度で反応を７時間行い、赤外吸収スペクトルでＮＣＯの吸収が消失したことを確認して取り出し、ウレタンアクリレートＵＡ４（数平均分子量４５４）を得た。
【００７１】
（ウレタンアクリレートＵＡ５の合成）
攪拌羽根のついたフラスコに２−ヒドロキシプロピルアクリレート（分子量１３０）２６０部（２モル）を仕込み、攪拌を行いながら水添ＭＤＩ（メチレンビス（４−シクロヘキシルイソシアネート））２６２部（１モル）を発熱に注意しながら滴下し７０℃まで昇温し、この温度で反応を７時間行い、赤外吸収スペクトルでＮＣＯの吸収が消失したことを確認して取り出し、ウレタンアクリレートＵＡ５（数平均分子量５２２）を得た。
【００７２】
（ウレタンアクリレートＵＡ６の合成）
攪拌羽根のついたフラスコに２−ヒドロキシエチルアクリレート（分子量１１６）３４８部（３モル）を仕込み、攪拌を行いながらイソホロンジイソシアネートの環式三量体のイソシアヌレート６６６部（１モル）を発熱に注意しながら滴下し７０℃まで昇温し、この温度で反応を７時間行い、赤外吸収スペクトルでＮＣＯの吸収が消失したことを確認して取り出し、ウレタンアクリレートＵＡ６（数平均分子量１０１４）を得た。
【００７３】
（ウレタンアクリレートＵＡ７の合成）
攪拌羽根のついたフラスコに２−ヒドロキシエチルアクリレートに１モルのカプロラクトンを付加したヒドリキシアクリレート（ダイセルサイテック社製 ＦＡ−１）（分子量２３０）４６０部（２モル）を仕込み、攪拌を行いながらＴＤＩ（２，４−トリレンジイソシアネート）１７４部（１モル）を発熱に注意しながら滴下し７０℃まで昇温し、この温度で反応を７時間行い、赤外吸収スペクトルでＮＣＯの吸収が消失したことを確認して取り出し、ウレタンアクリレートＵＡ７（数平均分子量６３４）を得た。
【００７４】
（ウレタンアクリレートＵＡ８の合成）
攪拌羽根のついたフラスコにＴＤＩ（２，４−トリレンジイソシアネート）１７４部（１モル）２ヒドロキシエチルアクリレートに３モルのカプロラクトンを付加したヒドリキシアクリレート（ダイセルサイテック社製 ＦＡ−３）（分子量４５８）９１６部（２モル）を仕込み、攪拌を行いながらを発熱に注意しながら滴下し７０℃まで昇温し、この温度で反応を７時間行い、赤外吸収スペクトルでＮＣＯの吸収が消失したことを確認して取り出し、ウレタンアクリレートＵＡ８（数平均分子量１０９０）を得た。
【００７５】
（ウレタンアクリレートＵＡ９の合成）
攪拌羽根のついたフラスコにＴＤＩ（２，４−トリレンジイソシアネート）３４８部（２モル）を仕込み、攪拌を行いながらポリプロピレングリコール（数平均分子量２０００）２０００部（１モル）を発熱に注意しながら仕込み、７０℃まで昇温した。この温度で反応を７時間行い、ＮＣＯ％を測定したところ、３．５８％であった。ついで２−ヒドロキシエチルアクリレート（分子量１１６）２３２部（２モル）を仕込み、この温度で更に７時間反応を行った。赤外吸収スペクトルでＮＣＯの吸収が消失したことを確認して取り出し、ウレタンアクリレートＵＡ９（数平均分子量２５８０）を得た。
【００７６】
下記表１〜４に示した組成（質量部）により配合した各組成物を６０℃で３時間加熱、溶解して、実施例１〜２１及び比較例１〜９の各実施例及び比較例の紫外線硬化型組成物を調製した。得られた組成物について、下記の評価を行った。得られた結果を表１〜４に示した。
【００７７】
＜弾性率の測定方法＞
紫外線硬化型組成物を、ガラス板上に硬化塗膜が１００±１０μｍになるように塗布した後、メタルハライドランプ（コールドミラー付き、ランプ出力１２０Ｗ／ｃｍ）を用い、１．０Ｊ／ｃｍ２で硬化させた。この硬化塗膜の弾性率をティー・エイ・インストルメント（株）社の自動動的粘弾性測定装置で測定し、２５℃における動的弾性率Ｅ’を弾性率とした。
【００７８】
測定条件
（１）サンプルサイズ： 幅６ｍｍ、長さ２０ｍｍ
（２）ひずみ： ０．１％
（３）周波数：３．５Ｈｚ
（４）昇温速度： ３℃／ｍｉｎ
【００７９】
＜光ディスクの作成方法＞
直径１２０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍの光ディスク基板を準備し、銀を主成分とするビスマスとの合金を２０〜４０ｎｍの膜厚でスパッタした後、該金属反射膜上に、表１の各紫外線硬化型組成物をスピンコーターで膜厚が硬化後に１００±１０μｍになるように塗布し、コールドミラー付きメタルハライドランプ１２０Ｗ／ｃｍを用いて照射量１．０Ｊ／ｃｍ２（アイグラフィックス社製光量計ＵＶＰＦ−３６）の紫外線を照射、硬化して光ディスクを得た。
【００８０】
＜光ディスクの反りの評価＞
得られた光ディスクサンプルについて、エスペック（株）製「ＰＲ−２ＰＫ」を使用して、８０℃８５％ＲＨ９６時間の高温高湿環境下での曝露（耐久試験）を行った。コート前後と耐久試験前後のサンプルについて、Ｄｒ．Ｓｃｈｗａｂ社製 Ａｒｇｕｓ Ｂｌｕ を用い、反りの変化量を測定した。半径位置が５０ｍｍ位置でのＲａｄｉａｌ Ｔｉｌｔの平均値から反り変化量を測定した。
【００８１】
反り、反射率及び弾性率の判定基準は以下のとおりである。
（反り）
◎：コート前後、試験前後の反りの変化が±１．０°以内
○：コート前後、試験前後の反りの変化が±１．５°以内
×：コート前後、試験前後の反りの変化が±１．５°を越える
（弾性率）
◎：２５℃の弾性率が３０００ＭＰａ以上
○：２５℃の弾性率が２５００〜３０００ＭＰａ
×：２５℃の弾性率が２５００ＭＰａ以下
【００８２】
【表１】
【００８３】
【表２】
【００８４】
【表３】
【００８５】
【表４】
【００８６】
表１〜４中の記号は下記のとおりである。
ＥＢ６００：エポキシアクリレート（ダイセルサイテック社製）
ＴＰＧＤＡ：トリプロピレングリコールジアクリレート
ＨＤＤＡ：１，６−ヘキサンジオールジアクリレート
ＴＣＤＤＡ：トリシクロデカンジメタノールジアクリレート
ＨＰＮＤＡ：ヒドリキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート
ＢＰ４ＥＡ：ライトアクリレートＢＰ４ＥＡ（ビスフェノールＡ１モルに４モルのエチレンオキサイドを付加して得たジオールのジアクリレート、共栄社化学社製）
ＰＥＡ：フェノキシエチルアクリレート
ＥＯＥＯＥＡ：エトキシエトキシエチルアクリレート
ＩＢＸＡ：イソボルニルアクリレート
ＩＤＡ：イソデシルアクリレート
ＴＨＦＡ：テトラヒドロフルフリルアクリレート
ＮＶ２Ｐ：Ｎ−ビニル２−ピロリドン
ＴＭＰ（ＥＯ）ＴＡ：トリメチロールプロパン１モルに３モルのエチレンオキサイドを付加して得たトリオールのトリアクリレート
ＴＡＥＩＣ：トリス（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート
ＴＭＰＴＡ：トリメチロールプロパントリアクリレート
ＰＭ−２：リン酸メタクリレート （日本化薬社製）
没食子酸：３，４，５−トリヒドロキシ安息香酸
Ｉｒｇａｃｕｒｅ １８４：２−ヒドリキシシクロヘキシルフェニルケトン
ＴＰＯ：トリメチルフェニルジフェニルホスフィンオキサイド
Ｄａｒｏｃｕｒ １１７３： ２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン１−オン
Ｉｒｇａｃｕｒｅ ９０７： ２−メチル−１−｛４−（メチルチオ）フェニル｝−２−モルフォリノプロパン−１オン
ＢＰＭＰＳ：ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート
ＭＰＴＭＳ：メルカプトプロピルトリメトキシシラン
Ｓ１：数平均分子量８万のジメチルポリシロキサン
Ｓ２：数平均分子量２０万のジメチルポリシロキサン
Ｓ３：数平均分子量１００３３のエチレンオキシド、プロピレンオキシド共重合体（５０／５０モル比）変性のペンダント型変性ポリジメチルシロキサン（変性率７０．１％）
Ｓ４：数平均分子量２２９００のエチレンオキシド、プロピレンオキシド共重合体（５０／５０モル比）変性のペンダント型変性ポリジメチルシロキサン（変性率７３．８％）
【００８７】
表１〜４に示したように本発明の紫外線硬化型組成物を使用した光ディスクは、高い弾性率としても反りの発生が少ないものであった。一方、比較例の紫外線硬化型組成物を使用すると高い弾性率と反りの抑制の両立が困難であった。
【図面の簡単な説明】
【００８８】
【図１】本発明の単層型光ディスクの一例を示す図である。
【図２】本発明の単層型光ディスクの一例を示す図である。
【図３】本発明の二層型光ディスクの一例を示す図である。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、少なくとも光反射層と光透過層とが形成され、前記光透過層を通して３７０ｎｍ〜４３０ｎｍの範囲内に発振波長を有する半導体レーザー（以下ブルーレーザーと称す）により記録又は再生を行う光ディスクの光透過層に適した紫外線硬化型組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、情報技術の発展により大容量の情報記録の伝達が可能になった。これに伴い、大容量となる映像、音楽、コンピューターデータ等を記録及び再生出来る高密度大容量の光ディスクが要求されている。
【０００３】
高密度記録媒体として伸長を見せているＤＶＤ（Ｄｉｇｉｔａｌ Ｖｅｒｓａｔｉｌｅ Ｄｉｓｃ）は厚さ０．６ｍｍの２枚の基板を接着剤で貼り合わせた構造を有している。ＤＶＤにおいては高密度化を達成するため、ＣＤ（Ｃｏｍｐａｃｔ Ｄｉｓｃ）に比べ短波長の６５０ｎｍのレーザーを用い、光学系も高開口数化している。
【０００４】
しかし、ＨＤＴＶ（ｈｉｇｈ ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ ｔｅｌｅｖｉｓｉｏｎ）に対応した高画質の映像等を記録または再生する為には更なる高密度化が必要となる。ＤＶＤの次世代に位置する更なる高密度記録の方法及びその光ディスクの検討が行われており、ＤＶＤよりも更に短波長のブルーレーザー及び高開口数の光学系を用いる新しい光ディスク構造による高密度記録方式が提案されている。
【０００５】
この新しい光ディスクはポリカーボネート等のプラスチックで形成される透明又は不透明の基板上に記録層を形成し、次いで記録層上に約１００μｍの光透過層を積層し、該光透過層を通して記録光又は再生光が、あるいはその両方が入射する構造の光ディスクである。当該構成の光ディスクにおいては、光透過層が約１００μｍの厚膜であり、また記録再生に使用するレーザー波長も短波長であるため、従来型のＤＶＤ等に比して変形や劣化の問題が顕著に生じる。
【０００６】
このような、ブルーレーザーにより記録又は再生を行う光ディスクとして、円形基板上に情報記録層及び光反射層を形成し、更に紫外線硬化型樹脂を塗布し、硬化させて光透過層を積層した光ディスクが提案されている。該技術では、光透過層形成材料としてカチオン重合性紫外線硬化型組成物が使用されている（特許文献１及び特許文献２参照）。しかしながら、カチオン重合性紫外線硬化型組成物は、紫外線照射により光反射層を腐食させやすいルイス酸を発生するため、光ディスクを長期間保存する場合の安定性が得られ難い欠点がある。光反射膜に用いる材料としては、４００ｎｍ前後で高い反射率が求められることから、銀又は銀を主成分とする合金が使用されている。銀又は銀を主成分とする合金は化学物質による腐食等の化学変化を起こしやすいため、光反射層を形成する材料として銀又は銀を主成分とする合金を用いた場合、これに接する光透過層用の材料としてカチオン重合性紫外線硬化型組成物を用いることは好ましくない。
【０００７】
ラジカル重合系のアクリレートを使用した光ディスク用樹脂組成物としては、例えば、ビスフェノールＡ型のエポキシアクリレートを使用した組成物が開示されている（特許文献３参照）。しかし、ここで開示されている一般的なビスフェノールＡ型のエポキシアクリレートを含有する組成物は、高い弾性率を得ることができるが、厚膜の光透過層を形成すると、反りが非常に大きくなる欠点があった。
【０００８】
レーザー照射時の加熱によっても変形が生じにくくエラー発生の少ない光ディスクを形成可能な光ディスク用紫外線硬化型組成物として、多環式の（メタ）アクリレート化合物とイソシアヌレート構造を有する化合物とを使用した紫外線硬化型組成物が開示されている（特許文献４参照）。当該組成物は剛直な環状構造を有するモノマーを使用しているため弾性率を高く設計できるが、当該硬化膜も厚膜の光透過層を形成すると、反りが大きくなる欠点があった。
【０００９】
また、光ファイバーの被覆に用いられる紫外線硬化型組成物として、２−ヒドロキシプロピルアクリレートと２，４−トリレンジイソシアネートとからなるラジカル重合性オリゴマーを含有する組成物が開示されている（特許文献５参照）。当該組成物は、光ファイバー用途において優れた引き抜き性や表面活性を有する光ファイバー被覆層を実現できるものであるが、当該文献において開示された組成物を単に適用しても上記構成の光ディスクの光透過層用途として充分な硬さの硬化被膜が得られなかった。
【００１０】
【特許文献１】特開平１１−１９１２４０号公報
【特許文献２】特開２００２−９２９４８号公報
【特許文献３】特開平１１−３０２３０９号公報
【特許文献４】特開２００６−７９８０４号公報
【特許文献５】特開２００５−２８３７７３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明が解決しようとする課題は、高い弾性率を有し、かつ光透過層を形成する際に反りが生じにくく、また高温高湿耐久環境下でも反りを生じにくい光透過層を形成可能な光ディスク用紫外線硬化型組成物を提供することにある。また、反りが少なく、かつ、高い弾性率で変形を生じにくい光透過層を有する光ディスクを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者らは、複数の官能基を有するイソシアネート化合物と、ヒドロキシモノ（メタ）アクリレートとからなる分子量の低いウレタンアクリレートオリゴマー成分を紫外線硬化型組成物中の主たる成分として使用することにより、弾性率が大きく、且つ反りが少ない硬化被膜を形成できることを見出し本発明に至った。
【００１３】
すなわち本発明は、基板上に、少なくとも光反射層と、紫外線硬化型組成物の硬化物からなる光透過層とが積層され、前記光透過層側からブルーレーザーを入射して情報の再生を行う光ディスクであって、
前記紫外線硬化型組成物が、一分子中に少なくとも二個のイソシアネート基又は少なくとも一個のイソシアネート基を有するイソシアネート化合物（ａ）と、ヒドロキシモノ（メタ）アクリレート（ｂ）からなるウレタン（メタ）アクリレート（Ｘ）を含有し、
前記紫外線硬化型組成物に含まれるラジカル重合性化合物中のウレタン（メタ）アクリレート（Ｘ）の含有量が４０質量％以上である光ディスク用紫外線硬化型組成物を提供するものである。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の光ディスクの光透過層用紫外線硬化型組成物は、得られる硬化膜の高弾性率化と、反りの抑制という両立が困難な特性を共に好適に調整でき、光ディスクの光透過層として使用した場合に、優れた耐久性と耐光性とを実現できる。また、弾性率が高いことから耐磨耗性の向上にも貢献でき、最表面にハードコート層を設けない構成の光ディスクにも有用に使用できる。したがって、本発明の光ディスクは光透過層の膜厚の厚いブルーレーザー用光ディスクとして最適である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
本発明の紫外線硬化型組成物において使用するウレタン（メタ）アクリレート（Ｘ）は、ポリイソシアネート化合物（ａ）と、ヒドロキシモノ（メタ）アクリレート（ｂ）との反応によって得られるラジカル重合性オリゴマーである。
【００１６】
本発明においてポリイソシアネート化合物（ａ）とは、一分子中に少なくとも二個のイソシアネート基又は少なくとも一個のイソシアネート基を有する多官能性のイソシアネート化合物をいう。ポリイソシアネート化合物（ａ）としては、脂肪族イソシアネート、芳香族イソシアネート及び脂環式イソシアネートのいずれであってもよい。
【００１７】
二官能イソシアネート化合物としては、例えば、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、４,４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、メチレンビス（４−シクロヘキシルイソシアネート）、キシリレンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、１,５−ナフタレンジイソシアネート、トリジンジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、トランスシクロヘキサン１,４−ジイソシアネート、リジンジイソシアネート、テトラメチルキシレンジイソシアネート、リジンエステルトリイソシアネート、１,６,１１−ウンデカントリイソシアネート、１,８−ジイソシアネート−４−イソシアネートメチルオクタン、１,３,６−ヘキサメチレントリイソシアネート、ビシクロヘプタントリイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ジシクロペンタジエンジイソシアネート、ノルボルネンジイソシアネート等が挙げられる。なかでも、２，６−トリレンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート、４，４−ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、メチレンビス（４−シクロヘキシルイソシアネート）、ノルボルネンジイソシアネートが剛直な環構造を分子内に有しているため、弾性率を高くできるため、好ましい。
【００１８】
三官能イソシアネート化合物としては、例えば、４，４’，４’’−トリフェニルメタントリイソシアネート、２，４，４’−トリイソシアナトトリフェニル、２，４，４’−トリイソシアナトジフェニルメタン、２，４，６−トリイソシアナトジフェニルエーテル、２，２’，４−トリイソシアナトジフェニルエーテル、２，２’，４−トリイソシアナトジフェニルスルフィド、２，４，４’−トリイソシアナトジフェニルスルフィド、２，３’，４−トリイソシアナト−４’−メチルジフェニルエーテル、２，３’，４−トリイソシアナト−４’−メトキシジフェニルエーテル、２，４，４’−トリイソシアナト−３’−クロロジフェニルエーテル、４，４’，６−ジフェニルトリイソシアネート、２，４，６−トリレントリイソシアネート、２，４，４’−トリイソシアナトジフェニルエーテル等が挙げられる。
【００１９】
また、ジイソシアネートの環式三量体のイソシアヌレートや、イソシアネートとジイソシアネートのビウレット、あるいは、グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン等の三官能性アルコールとジイソシアネートのアダクトやトリアミンなども好適に使用できる。更に多官能性のイソシアネート化合物として、ジイソシアネートとポリオール又はポリアミンとの反応により得られるイソシアネート化合物も使用できる。これらのイソシアネート化合物を使用する場合には、その数平均分子量１０００以下のものを使用することが好ましい。特にイソホロンジイソシアネートの環式三量体のイソシアヌレートが好ましい。
【００２０】
上記の中でも２，４−トリレンジイソシアネート、４，４−ジフェニルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、メチレンビス（４−シクロヘキシルイソシアネート）のような二官能イソシアネート化合物は、得られるラジカル重合性オリゴマーの構造設計が容易となり、組成物を調整しやすいため好ましい。
【００２１】
本発明に使用するヒドロキシモノ（メタ）アクリレート（ｂ）は、上記ポリイソシアネート化合物との反応により得られるウレタン（メタ）アクリレート（Ｘ）の鎖長を制御することにより、高い弾性率と低収縮性で高い弾性率の硬化被膜を形成できる。なお、（メタ）アクリレートとは、アクリレートおよびメタクリレートをいい、これらの誘導体についても同様に表記する。
【００２２】
ヒドロキシモノ（メタ）アクリレート（ｂ）としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、３−アクリロイルオキシグリセリンモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ε−カプロラクトンで変性されたモノ（メタ）アクリレート等が挙げられる
【００２３】
上記のなかでも、炭素数が１〜６のアルキル基を有するヒドロキシアルキルモノ（メタ）アクリレート、特に、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレートが弾性率を高めることができるため好ましい。また、ε−カプロラクトンで変性されたモノ（メタ）アクリレートは柔軟な構造になることから反り変化量を少なくすることが可能であり、ε−カプロラクトンモノ（メタ）アクリレートを２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等と併用しても良い。
【００２４】
紫外線硬化型組成物に含有させるウレタン（メタ）アクリレート（Ｘ）の含有量は、紫外線硬化型組成物に含まれるラジカル重合性化合物中の４０質量％以上、好ましくは、４０〜７０質量％、より好ましくは４５〜６０質量％とすることで、弾性率を高めることができ、粘度も１００μｍの光透過層を形成するのに良好となる。
【００２５】
本発明の紫外線硬化型組成物は、上記ウレタン（メタ）アクリレート（Ｘ）以外の他のラジカル重合性化合物として、一分子中に一個の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレート（以下、単官能（メタ）アクリレートと略記する）や、一分子中に二個の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレート（以下、二官能の（メタ）アクリレートと略記する。）、更には一分子中に三個以上の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレート（以下、三官能以上の（メタ）アクリレートと略記する。）を使用することで、所望の粘度、硬化後の弾性率を有する組成物を得ることができる。
【００２６】
他のラジカル重合性化合物としては、各種（メタ）アクリレートを使用でき、例えば単官能（メタ）アクリレートとしては、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、エトキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート等の脂肪族（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシエチルテトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート等の芳香族（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、テトラシクロドデカニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート等の脂環式（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルフォリン、イソボルニル（メタ）アクリレート、ノルボルニル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシメチル−２−メチルビシクロヘプタンアダマンチル（メタ）アクリレート、などを使用できる。
【００２７】
中でも、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、エトキシエトキシエチルアクリレートを用いた場合、膜厚変化量が少なく、反り変化量も少なくなるため、好ましい。
【００２８】
二官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、３−メチル−１，５−ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、２−メチル−１，８−オクタンジオールジ（メタ）アクリレート、２−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール１モルに４モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性アルキル化リン酸ジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、脂環式構造を有する（メタ）アクリレートとしては、脂環式の二官能（メタ）アクリレートとして、ノルボルナンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ノルボルナンジエタノールジ（メタ）アクリレート、ノルボルナンジメタノールにエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド２モル付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジエタノールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールにエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド２モル付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジエタノールジ（メタ）アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジメタノールにエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド２モル付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジエタノールにエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド２モル付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、ジメチロールジシクロペンタンジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、等を使用できる。
【００２９】
なかでもトリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、等が好ましく、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートが特に好ましい。
【００３０】
また、硬化後の弾性率を高く調整したい場合に、三官能以上の（メタ）アクリレートを使用することができる。例えば、ビス（２−アクリロイルオキシエチル）ヒドロキシエチルイソシアヌレート、ビス（２−アクリロイルオキシプロピル）ヒドロキシプロピルイソシアヌレート、ビス（２−アクリロイルオキシブチル）ヒドロキシブチルイソシアヌレート、ビス（２−メタクリロイルオキシエチル）ヒドロキシエチルイソシアヌレート、ビス（２−メタクリロイルオキシプロピル）ヒドロキシプロピルイソシアヌレート、ビス（２−メタクリロイルオキシブチル）ヒドロキシブチルイソシアヌレート、トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリス（２−アクリロイルオキシプロピル）イソシアヌレート、トリス（２−アクリロイルオキシブチル）イソシアヌレート、トリス（２−メタクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリス（２−メタクリロイルオキシプロピル）イソシアヌレート、トリス（２−メタクリロイルオキシブチル）イソシアヌレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン１モルに３モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリオールのジ又はトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールのポリ（メタ）アクリレート等の多官能（メタ）アクリレート、等を使用できる。
【００３１】
また、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、ビニルエーテルモノマー等のラジカル重合化合物も必要に応じて使用できる。
【００３２】
更に、所望によりエポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート等のアクリレートオリゴマーを併用しても良い。
【００３３】
本発明においては、紫外線硬化型組成物に含まれるラジカル重合性化合物中の二官能（メタ）アクリレートの含有量を２０質量％以下、好ましくは１０質量％以下とすることで、上記ウレタン（メタ）アクリレート（Ｘ）の使用により高い弾性率設計とした際にも得られる硬化膜の反りを低減できる。
【００３４】
本発明における紫外線硬化型組成物に含まれるラジカル重合性化合物全量中の単官能（メタ）アクリレートの含有量としては、２０〜６０質量％であることが好ましく、３０〜５０質量％であることが好ましい。三官能以上の（メタ）アクリレートの含有量は、２０質量％以下であることが好ましく、１０質量％以下であることが好ましい。また、上記ウレタン（メタ）アクリレート（Ｘ）以外の他のアクリレートオリゴマーを使用する場合には、他のアクリレートオリゴマーの含有量が２０質量％以下であることが好ましく、１０質量％以下であることがより好ましい。さらにウレタン（メタ）アクリレート（Ｘ）を含むオリゴマーの総量が７０質量％以下であることが好ましい。
【００３５】
本発明の紫外線硬化型組成物は、上記ラジカル重合性化合物を調整し、粘度を３００〜４０００ｍＰａ・ｓ、好ましくは６００〜２５００ｍＰａ・ｓとすることで、厚膜の光透過層を好適に形成できる。
【００３６】
本発明の紫外線硬化型組成物は、紫外線を照射した後の硬化膜の弾性率が、２５００〜４５００ＭＰａ（２５℃）となるように調整することが好ましい。中でも３０００〜４０００ＭＰａとなる組成であることがより好ましい。弾性率を当該範囲とすることで、外力による変形や傷つきの少ない光ディスクを得ることができる。
【００３７】
本発明の光透過層用紫外線硬化型組成物中には、ラジカル重合性化合物以外に、公知の光重合開始剤、及び熱重合開始剤等を用いる事が出来る。
【００３８】
本発明に使用できる光重合開始剤としては、例えば、ベンゾインイソブチルエーテル、２，４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ベンジル、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン及び２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン等の分子開裂型や、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、イソフタルフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチル−ジフェニルスルフィド等の水素引き抜き型の光重合開始剤等がある。
【００３９】
本発明に使用する紫外線硬化型組成物には、必要に応じて、添加剤として、界面活性剤、レベリング剤、熱重合禁止剤、ヒンダードフェノール、ホスファイト等の酸化防止剤、ヒンダードアミン等の光安定剤を使用することもできる。また、増感剤として、例えば、トリメチルアミン、メチルジメタノールアミン、トリエタノールアミン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン及び４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等が使用でき、更に、前記の光重合性化合物と付加反応を起こさないアミン類を併用することもできる。
【００４０】
［光ディスク］
本発明の光ディスクは、基板上に、少なくとも光反射層と光透過層とが形成され、光透過層を通してレーザー光により記録又は再生を行う光ディスクであって、光透過層が、上記の紫外線硬化型組成物の硬化物からなるものである。本発明の光ディスクは、光透過層として、上記した紫外線硬化型組成物を使用することにより、高温高湿下でも膜減りが生じにくく、光反射率の低下が少ないため、良好に情報の記録・再生を行うことができる。
【００４１】
本発明の光ディスクにおける光透過層は、レーザー光の発振波長が３７０〜４３０ｎｍであるブルーレーザーを効率良く透過することが好ましく、１００μｍの厚さにおいて４０５ｎｍの光の透過率が８５％以上であることが好ましく、９０％以上であることが特に好ましい。
【００４２】
本発明の光ディスクにおける光透過層の厚みは５０〜１５０μｍの範囲であり、７５〜１５０μｍであることが特に好ましい。光透過層の厚みは、通常、約１００μｍに設定されるが、厚みは光透過率や信号の読み取り及び記録に大きく影響を及ぼすため、十分な管理が必要である。光透過層は、当該厚さの硬化層単層で形成されていても、複数層が積層されていてもよい。
【００４３】
本発明の光ディスクは、積算光量１．０Ｊ／ｃｍ２にて、１００μｍ厚の光透過層を形成した際の光透過層の反り変化量が±１．５°以内であることが好ましく、±１．０°以内であることが特に好ましい。１．５°程度の変化量であれば、基板の成形時に補正することで、読み取りや書き込みの際に発生する不具合をなくすことが可能である。
【００４４】
更に本発明の光ディスクは、１００μｍ厚の光透過層を有する光ディスクを、８０℃８５％ＲＨ９６時間の高温高湿環境下に曝露した後の反り変化量が±１．０°以内であることが好ましく、±０．５°以内であることが特に好ましい。
【００４５】
光透過層が１００μｍ厚の層を８０℃８５％ＲＨ９６時間の高温高湿環境下に曝露した後の反射率変化量が、４．０％以内であることが好ましく、２．０％以内であることが特に好ましい。
【００４６】
光透過層が１００μｍ厚の層を８０℃８５％ＲＨ９６時間の高温高湿環境下に曝露した後の膜厚減少量が２．０μｍ以下であることが好ましく、１．０μｍ以下であることが特に好ましい。
【００４７】
光反射層としては、レーザー光を反射し、記録・再生が可能な光ディスクを形成できるものであればよく、例えば、金、銅、アルミニウムなどの金属又はその合金、シリコンなどの無機化合物を使用できる。なかでも、４０５ｎｍ近傍の光の反射率が高いことから銀又は銀を主成分とする合金を使用することが好ましい。光反射層の厚さは、１０〜６０ｎｍ程度の厚さとすることが好ましい。
【００４８】
基板としては、ディスク形状の円形樹脂基板を使用でき、当該樹脂としてはポリカーボネートを好ましく使用できる。光ディスクが再生専用の場合には、基板上に情報記録を担うピットが光反射層と積層される表面に形成される。
【００４９】
また、書込可能な光ディスクの場合には、光反射層と光透過層との間に情報記録層が設けられる。情報記録層としては、情報の記録・再生が可能であればよく、相変化型記録層、光磁気記録層、あるいは有機色素型記録層のいずれであってもよい。
【００５０】
情報記録層が相変化型記録層である場合には、当該情報記録層は通常、誘電体層と相変化膜から構成される。誘電体層は、相変化層に発生する熱を緩衝する機能、ディスクの反射率を調整する機能を求められ、ＺｎＳとＳｉＯ２の混合組成が用いられる。相変化膜は、膜の相変化により非晶状態と結晶状態で反射率差を生じるものであり、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系、Ｓｂ−Ｔｅ系、Ａｇ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ系合金を用いることができる。
【００５１】
本願発明の光ディスクは、情報記録部位が二つ以上形成されていても良い。例えば、再生専用光ディスクの場合には、ピットを有する基板上に、第一の光反射層、第一の光透過層が積層され、当該第一の光透過層上又は他の層を積層し、当該層上に第二の光反射層、第二の光透過層を形成してもよい。この場合には第一の光透過層やこれに積層する他の層上にピットが形成される。また、記録・再生可能な光ディスクの場合は、基板上に、情報記録層、光反射層及び光透過層とが積層された構成を有するものであるが、当該光透過層上に更に、第二の光反射層、第二の情報記録層、第二の光透過層を形成して二層の情報記録層を有する構成、あるいは、同様に層を積層して三層以上の情報記録層を有する構成としてもよい。複数層を積層する場合には、各層の層厚さの和が上記の厚さになるように適宜調整すればよい。
【００５２】
また、本発明の光ディスクにおいては、光透過層が最表面の層であってもよいが、更にその表層に表面コート層を設けてもよい。
【００５３】
本発明の光ディスクには、再生専用のディスクと、記録・再生可能なディスクがある。再生専用のディスクは、１枚の円形樹脂基板を射出成形する際に、情報記録層であるピットを設け、次いで該情報記録層上に光反射層を形成し、更に、該光反射層上に紫外線硬化型組成物をスピンコート法等により塗布した後、紫外線照射により硬化させて光透過層を形成することにより製造することができる。また、記録・再生可能なディスクは、１枚の円形樹脂基板上に光反射層を形成し、次いで相変化膜、又は光磁気記録膜等の情報記録層を設け、更に、該光反射層上に紫外線硬化型組成物をスピンコート法等により塗布した後、紫外線照射により硬化させて光透過層を形成することにより製造することができる。
【００５４】
光反射層上に塗布した紫外線硬化型組成物を紫外線照射することにより硬化させる場合、例えばメタルハライドランプ、高圧水銀灯などを用いた連続光照射方式で行うこともできるし、ＵＳＰ５９０４７９５記載の閃光照射方式で行うこともできる。効率よく硬化出来る点で閃光照射方式がより好ましい。
【００５５】
紫外線を照射する場合、積算光量は０．０５〜１．０Ｊ／ｃｍ２となるようにコントロールするのが好ましい。積算光量は０．２〜１．０Ｊ／ｃｍ２であることがより好ましい。
【００５６】
［実施態様］
以下、本発明の光ディスクの具体例として、単層型光ディスク及び二層型光ディスクの具体的構成の一例を以下に示す。
【００５７】
本発明の光ディスクのうち、単層型光ディスクの好ましい実施態様としては、例えば、図１に示したように、基板１上に、光反射層２と、光透過層３とが積層され、光透過層側からブルーレーザーを入射して情報の記録又は再生を行う構成が例示できる。図中の凹凸は、記録トラック（グルーブ）を模式的に表したものである。光透過層３は、本発明の紫外線硬化型組成物の硬化物からなる層であり、その厚さは１００±１０μｍの範囲である。基板１の厚さは１．１ｍｍ程度、光反射膜は銀等の薄膜である。
【００５８】
図２は図１に示した構成の最表層にハードコート層４を設けた構成である。ハードコート層は、高硬度で、耐摩耗性に優れる層であることが好ましい。ハードコート層の厚さは、１〜１０μｍであることが好ましく、１〜５μｍであることがより好ましい。
【００５９】
単層型光ディスクの好ましい実施態様としては、例えば、図１に示したように、基板１上に、光反射層２と、光透過層３とが積層され、光透過層側からブルーレーザーを入射して情報の記録又は再生を行う構成が例示できる。図中の凹凸は、記録トラック（グルーブ）を模式的に表したものである。光透過層３は、本発明の紫外線硬化型組成物の硬化物からなる層であり、その厚さは１００±１０μｍの範囲である。基板１の厚さは１．１ｍｍ程度、光反射膜は銀等の薄膜である。
【００６０】
多層型光ディスクの好ましい実施態様としては、例えば、図３に示したように、基板１上に、光反射層５と、光透過層６とが積層され、さらにその上に、光反射層２と、光透過層３とが積層され、光透過層３側からブルーレーザーを入射して情報の記録又は再生を行う二層型光ディスクの構成が例示できる。光透過層３及び光透過層６は、紫外線硬化型組成物の硬化物からなる層であり、少なくともいずれかの層が本発明の紫外線硬化型組成物からなる層である。層の厚さとしては、光透過層３の厚さと光透過層６の厚さの和が１００±１０μｍの範囲である。基板１の厚さは１．１ｍｍ程度、光反射膜は銀等の薄膜である。
【００６１】
当該構成の二層型光ディスクにおいては、記録トラック（グルーブ）が、光透過層６の表面にも形成されるため、光透過層６は、接着性に優れる紫外線硬化型組成物の硬化膜からなる層の上に、記録トラックを好適に形成できる紫外線硬化型組成物の硬化膜からなる層を積層した複層で形成されていてもよい。また当該構成においても最表層にハードコート層が設けられていてもよい。
【００６２】
図１に示す光ディスクの製造方法を以下に説明する。
まず、ポリカーボネート樹脂を射出成形することによって、記録トラック（グルーブ）と呼ばれるレーザー光をトラッキングするための案内溝を有する基板１を作製する。次に基板１の記録トラック側の表面に、銀合金などをスパッタまたは蒸着することにより光反射層２を成膜する。この上に本発明の紫外線硬化型組成物を塗布し、ディスクの片面または両面から紫外線を照射して、紫外線硬化型組成物を硬化させ、光透過層３を形成し、図１の光ディスクを作製する。図２の光ディスクの場合には、この上に更にスピンコート等によりハードコート層４を形成する。
【００６３】
図３に示す光ディスクの製造方法を以下に説明する。
まず、ポリカーボネート樹脂を射出成形にすることによって、記録トラック（グルーブ）と呼ばれるレーザー光をトラッキングするための案内溝を有する基板１を作製する。次に、基板１の記録トラック側の表面に、銀合金などをスパッタまたは蒸着することにより光反射層６を成膜する。
【００６４】
この上に、本発明の紫外線硬化型組成物又は任意の紫外線硬化型組成物の光透過層６を形成するが、その際に型を用いて表面に記録トラック（グルーブ）を転写する。記録トラック（グルーブ）を転写する工程は次の通りである。基板１に形成された光反射層５上に紫外線硬化型組成物を塗布し、その上に記録トラック（グルーブ）を形成するための型と貼り合わせ、この貼り合わせたディスクの片面または両面から紫外線を照射して、紫外線硬化型組成物を硬化させる。その後、型を剥離して、光透過層６の記録トラック（グルーブ）を有する側の表面に、銀合金などをスパッタまたは蒸着することにより光反射層２を成膜し、この上に、紫外線硬化型組成物を塗付した後、紫外線照射により硬化させ、光透過層３を形成することで、図３の光ディスクを作製できる。
【００６５】
また、光反射層に相変化型記録層を用いる場合でも上記と同様の方法により光ディスクを作成することができる。
【実施例】
【００６６】
次に、合成例及び実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。以下実施例中の「部」は「質量部」を表す。
【００６７】
（ウレタンアクリレートＵＡ１の合成）
攪拌羽根のついたフラスコに２−ヒドロキシプロピルアクリレート（分子量１３０）２６０部（２モル）を仕込み、攪拌を行いながらＴＤＩ（２，４−トリレンジイソシアネート）１７４部（１モル）を発熱に注意しながら滴下し７０℃まで昇温し、この温度で反応を７時間行い、赤外吸収スペクトルでＮＣＯの吸収が消失したことを確認して取り出し、ウレタンアクリレートＵＡ１（数平均分子量４３４）を得た。
【００６８】
（ウレタンアクリレートＵＡ２の合成）
攪拌羽根のついたフラスコに２−ヒドロキシエチルアクリレート（分子量１１６）２３２部（２モル）を仕込み、攪拌を行いながらＴＤＩ（２，４−トリレンジイソシアネート）１７４部（１モル）を発熱に注意しながら滴下し７０℃まで昇温し、この温度で反応を７時間行い、赤外吸収スペクトルでＮＣＯの吸収が消失したことを確認して取り出し、ウレタンアクリレートＵＡ２（数平均分子量４０６）を得た。
【００６９】
（ウレタンアクリレートＵＡ３の合成）
攪拌羽根のついたフラスコに２−ヒドロキシプロピルアクリレート（分子量１３０）２６０部（２モル）を仕込み、攪拌を行いながらＩＰＤＩ（イソホロンジイソシアネート）２２２部（１モルを発熱に注意しながら滴下し７０℃まで昇温し、この温度で反応を７時間行い、赤外吸収スペクトルでＮＣＯの吸収が消失したことを確認して取り出し、ウレタンアクリレートＵＡ３（数平均分子量４８２）を得た。
【００７０】
（ウレタンアクリレートＵＡ４の合成）
攪拌羽根のついたフラスコに２−ヒドロキシエチルアクリレート（分子量１１６）２３２部（２モル）を仕込み、攪拌を行いながらＩＰＤＩ（イソホロンジイソシアネート）２２２部（１モルを発熱に注意しながら滴下し７０℃まで昇温し、この温度で反応を７時間行い、赤外吸収スペクトルでＮＣＯの吸収が消失したことを確認して取り出し、ウレタンアクリレートＵＡ４（数平均分子量４５４）を得た。
【００７１】
（ウレタンアクリレートＵＡ５の合成）
攪拌羽根のついたフラスコに２−ヒドロキシプロピルアクリレート（分子量１３０）２６０部（２モル）を仕込み、攪拌を行いながら水添ＭＤＩ（メチレンビス（４−シクロヘキシルイソシアネート））２６２部（１モル）を発熱に注意しながら滴下し７０℃まで昇温し、この温度で反応を７時間行い、赤外吸収スペクトルでＮＣＯの吸収が消失したことを確認して取り出し、ウレタンアクリレートＵＡ５（数平均分子量５２２）を得た。
【００７２】
（ウレタンアクリレートＵＡ６の合成）
攪拌羽根のついたフラスコに２−ヒドロキシエチルアクリレート（分子量１１６）３４８部（３モル）を仕込み、攪拌を行いながらイソホロンジイソシアネートの環式三量体のイソシアヌレート６６６部（１モル）を発熱に注意しながら滴下し７０℃まで昇温し、この温度で反応を７時間行い、赤外吸収スペクトルでＮＣＯの吸収が消失したことを確認して取り出し、ウレタンアクリレートＵＡ６（数平均分子量１０１４）を得た。
【００７３】
（ウレタンアクリレートＵＡ７の合成）
攪拌羽根のついたフラスコに２−ヒドロキシエチルアクリレートに１モルのカプロラクトンを付加したヒドリキシアクリレート（ダイセルサイテック社製 ＦＡ−１）（分子量２３０）４６０部（２モル）を仕込み、攪拌を行いながらＴＤＩ（２，４−トリレンジイソシアネート）１７４部（１モル）を発熱に注意しながら滴下し７０℃まで昇温し、この温度で反応を７時間行い、赤外吸収スペクトルでＮＣＯの吸収が消失したことを確認して取り出し、ウレタンアクリレートＵＡ７（数平均分子量６３４）を得た。
【００７４】
（ウレタンアクリレートＵＡ８の合成）
攪拌羽根のついたフラスコにＴＤＩ（２，４−トリレンジイソシアネート）１７４部（１モル）２ヒドロキシエチルアクリレートに３モルのカプロラクトンを付加したヒドリキシアクリレート（ダイセルサイテック社製 ＦＡ−３）（分子量４５８）９１６部（２モル）を仕込み、攪拌を行いながらを発熱に注意しながら滴下し７０℃まで昇温し、この温度で反応を７時間行い、赤外吸収スペクトルでＮＣＯの吸収が消失したことを確認して取り出し、ウレタンアクリレートＵＡ８（数平均分子量１０９０）を得た。
【００７５】
（ウレタンアクリレートＵＡ９の合成）
攪拌羽根のついたフラスコにＴＤＩ（２，４−トリレンジイソシアネート）３４８部（２モル）を仕込み、攪拌を行いながらポリプロピレングリコール（数平均分子量２０００）２０００部（１モル）を発熱に注意しながら仕込み、７０℃まで昇温した。この温度で反応を７時間行い、ＮＣＯ％を測定したところ、３．５８％であった。ついで２−ヒドロキシエチルアクリレート（分子量１１６）２３２部（２モル）を仕込み、この温度で更に７時間反応を行った。赤外吸収スペクトルでＮＣＯの吸収が消失したことを確認して取り出し、ウレタンアクリレートＵＡ９（数平均分子量２５８０）を得た。
【００７６】
下記表１〜４に示した組成（質量部）により配合した各組成物を６０℃で３時間加熱、溶解して、実施例１〜２１及び比較例１〜９の各実施例及び比較例の紫外線硬化型組成物を調製した。得られた組成物について、下記の評価を行った。得られた結果を表１〜４に示した。
【００７７】
＜弾性率の測定方法＞
紫外線硬化型組成物を、ガラス板上に硬化塗膜が１００±１０μｍになるように塗布した後、メタルハライドランプ（コールドミラー付き、ランプ出力１２０Ｗ／ｃｍ）を用い、１．０Ｊ／ｃｍ２で硬化させた。この硬化塗膜の弾性率をティー・エイ・インストルメント（株）社の自動動的粘弾性測定装置で測定し、２５℃における動的弾性率Ｅ’を弾性率とした。
【００７８】
測定条件
（１）サンプルサイズ： 幅６ｍｍ、長さ２０ｍｍ
（２）ひずみ： ０．１％
（３）周波数：３．５Ｈｚ
（４）昇温速度： ３℃／ｍｉｎ
【００７９】
＜光ディスクの作成方法＞
直径１２０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍの光ディスク基板を準備し、銀を主成分とするビスマスとの合金を２０〜４０ｎｍの膜厚でスパッタした後、該金属反射膜上に、表１の各紫外線硬化型組成物をスピンコーターで膜厚が硬化後に１００±１０μｍになるように塗布し、コールドミラー付きメタルハライドランプ１２０Ｗ／ｃｍを用いて照射量１．０Ｊ／ｃｍ２（アイグラフィックス社製光量計ＵＶＰＦ−３６）の紫外線を照射、硬化して光ディスクを得た。
【００８０】
＜光ディスクの反りの評価＞
得られた光ディスクサンプルについて、エスペック（株）製「ＰＲ−２ＰＫ」を使用して、８０℃８５％ＲＨ９６時間の高温高湿環境下での曝露（耐久試験）を行った。コート前後と耐久試験前後のサンプルについて、Ｄｒ．Ｓｃｈｗａｂ社製 Ａｒｇｕｓ Ｂｌｕ を用い、反りの変化量を測定した。半径位置が５０ｍｍ位置でのＲａｄｉａｌ Ｔｉｌｔの平均値から反り変化量を測定した。
【００８１】
反り、反射率及び弾性率の判定基準は以下のとおりである。
（反り）
◎：コート前後、試験前後の反りの変化が±１．０°以内
○：コート前後、試験前後の反りの変化が±１．５°以内
×：コート前後、試験前後の反りの変化が±１．５°を越える
（弾性率）
◎：２５℃の弾性率が３０００ＭＰａ以上
○：２５℃の弾性率が２５００〜３０００ＭＰａ
×：２５℃の弾性率が２５００ＭＰａ以下
【００８２】
【表１】
【００８３】
【表２】
【００８４】
【表３】
【００８５】
【表４】
【００８６】
表１〜４中の記号は下記のとおりである。
ＥＢ６００：エポキシアクリレート（ダイセルサイテック社製）
ＴＰＧＤＡ：トリプロピレングリコールジアクリレート
ＨＤＤＡ：１，６−ヘキサンジオールジアクリレート
ＴＣＤＤＡ：トリシクロデカンジメタノールジアクリレート
ＨＰＮＤＡ：ヒドリキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート
ＢＰ４ＥＡ：ライトアクリレートＢＰ４ＥＡ（ビスフェノールＡ１モルに４モルのエチレンオキサイドを付加して得たジオールのジアクリレート、共栄社化学社製）
ＰＥＡ：フェノキシエチルアクリレート
ＥＯＥＯＥＡ：エトキシエトキシエチルアクリレート
ＩＢＸＡ：イソボルニルアクリレート
ＩＤＡ：イソデシルアクリレート
ＴＨＦＡ：テトラヒドロフルフリルアクリレート
ＮＶ２Ｐ：Ｎ−ビニル２−ピロリドン
ＴＭＰ（ＥＯ）ＴＡ：トリメチロールプロパン１モルに３モルのエチレンオキサイドを付加して得たトリオールのトリアクリレート
ＴＡＥＩＣ：トリス（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート
ＴＭＰＴＡ：トリメチロールプロパントリアクリレート
ＰＭ−２：リン酸メタクリレート （日本化薬社製）
没食子酸：３，４，５−トリヒドロキシ安息香酸
Ｉｒｇａｃｕｒｅ １８４：２−ヒドリキシシクロヘキシルフェニルケトン
ＴＰＯ：トリメチルフェニルジフェニルホスフィンオキサイド
Ｄａｒｏｃｕｒ １１７３： ２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン１−オン
Ｉｒｇａｃｕｒｅ ９０７： ２−メチル−１−｛４−（メチルチオ）フェニル｝−２−モルフォリノプロパン−１オン
ＢＰＭＰＳ：ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート
ＭＰＴＭＳ：メルカプトプロピルトリメトキシシラン
Ｓ１：数平均分子量８万のジメチルポリシロキサン
Ｓ２：数平均分子量２０万のジメチルポリシロキサン
Ｓ３：数平均分子量１００３３のエチレンオキシド、プロピレンオキシド共重合体（５０／５０モル比）変性のペンダント型変性ポリジメチルシロキサン（変性率７０．１％）
Ｓ４：数平均分子量２２９００のエチレンオキシド、プロピレンオキシド共重合体（５０／５０モル比）変性のペンダント型変性ポリジメチルシロキサン（変性率７３．８％）
【００８７】
表１〜４に示したように本発明の紫外線硬化型組成物を使用した光ディスクは、高い弾性率としても反りの発生が少ないものであった。一方、比較例の紫外線硬化型組成物を使用すると高い弾性率と反りの抑制の両立が困難であった。
【図面の簡単な説明】
【００８８】
【図１】本発明の単層型光ディスクの一例を示す図である。
【図２】本発明の単層型光ディスクの一例を示す図である。
【図３】本発明の二層型光ディスクの一例を示す図である。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、少なくとも光反射層と、紫外線硬化型組成物の硬化物からなる光透過層とが積層され、前記光透過層側からブルーレーザーを入射して情報の再生を行う光ディスクにおける光透過層に使用する紫外線硬化型組成物であって、
前記紫外線硬化型組成物が、ラジカル重合性化合物として、ポリイソシアネート化合物（ａ）と、ヒドロキシモノ（メタ）アクリレート（ｂ）からなるウレタン（メタ）アクリレート（Ｘ）を含有し、
前記紫外線硬化型組成物に含まれるラジカル重合性化合物中のウレタン（メタ）アクリレート（Ｘ）の含有量が４０質量％以上であり、かつ、前記紫外線硬化型組成物に含まれるラジカル重合性化合物中の前記ウレタン（メタ）アクリレート（Ｘ）以外の二官能（メタ）アクリレートの含有量が２０質量％以下であることを特徴とする光ディスク用紫外線硬化型組成物。
【請求項２】
前記ウレタン（メタ）アクリレート（Ｘ）の分子量が、４００〜１５００である請求項１に記載の光ディスク用紫外線硬化型組成物。
【請求項３】
単官能（メタ）アクリレートの含有量が３０〜６０質量％である請求項１又は２に記載の光ディスク用紫外線硬化型組成物。
【請求項４】
前記ポリイソシアネート化合物（ａ）が、２，６−トリレンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート、４，４−ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、メチレンビス（４−シクロヘキシルイソシアネート）、ノルボルネンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネートの環式三量体のイソシアヌレートから選ばれる少なくとも一種である請求項１〜３のいずれかに記載の光ディスク用紫外線硬化型組成物。
【請求項５】
前記ウレタン（メタ）アクリレート（Ｘ）以外のラジカル重合性オリゴマーの含有量が、前記紫外線硬化型組成物に含まれるラジカル重合性化合物中の２０質量％以下である請求項１〜４のいずれかに記載の光ディスク用紫外線硬化型組成物。
【請求項６】
前記ヒドロキシモノ（メタ）アクリレート（ｂ）が、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートから選ばれる少なくとも一種である請求項１〜５のいずれかに記載の光ディスク用紫外線硬化型組成物。
【請求項７】
紫外線照射により硬化させた硬化物の２５℃での弾性率が、２５００ＭＰａ以上である請求項１〜６のいずれかに記載の光ディスク用紫外線硬化型組成物。
【請求項８】
基板上に、少なくとも光反射層と、紫外線硬化型組成物の硬化物からなる光透過層とが積層され、前記光透過層側からブルーレーザーを入射して情報の再生を行う光ディスクであって、前記紫外線硬化型組成物が請求項１〜７のいずれかに記載の光ディスク用紫外線硬化型組成物であることを特徴とする光ディスク。
【請求項１】
基板上に、少なくとも光反射層と、紫外線硬化型組成物の硬化物からなる光透過層とが積層され、前記光透過層側からブルーレーザーを入射して情報の再生を行う光ディスクにおける光透過層に使用する紫外線硬化型組成物であって、
前記紫外線硬化型組成物が、ラジカル重合性化合物として、ポリイソシアネート化合物（ａ）と、ヒドロキシモノ（メタ）アクリレート（ｂ）からなるウレタン（メタ）アクリレート（Ｘ）を含有し、
前記紫外線硬化型組成物に含まれるラジカル重合性化合物中のウレタン（メタ）アクリレート（Ｘ）の含有量が４０質量％以上であり、かつ、前記紫外線硬化型組成物に含まれるラジカル重合性化合物中の前記ウレタン（メタ）アクリレート（Ｘ）以外の二官能（メタ）アクリレートの含有量が２０質量％以下であることを特徴とする光ディスク用紫外線硬化型組成物。
【請求項２】
前記ウレタン（メタ）アクリレート（Ｘ）の分子量が、４００〜１５００である請求項１に記載の光ディスク用紫外線硬化型組成物。
【請求項３】
単官能（メタ）アクリレートの含有量が３０〜６０質量％である請求項１又は２に記載の光ディスク用紫外線硬化型組成物。
【請求項４】
前記ポリイソシアネート化合物（ａ）が、２，６−トリレンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート、４，４−ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、メチレンビス（４−シクロヘキシルイソシアネート）、ノルボルネンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネートの環式三量体のイソシアヌレートから選ばれる少なくとも一種である請求項１〜３のいずれかに記載の光ディスク用紫外線硬化型組成物。
【請求項５】
前記ウレタン（メタ）アクリレート（Ｘ）以外のラジカル重合性オリゴマーの含有量が、前記紫外線硬化型組成物に含まれるラジカル重合性化合物中の２０質量％以下である請求項１〜４のいずれかに記載の光ディスク用紫外線硬化型組成物。
【請求項６】
前記ヒドロキシモノ（メタ）アクリレート（ｂ）が、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートから選ばれる少なくとも一種である請求項１〜５のいずれかに記載の光ディスク用紫外線硬化型組成物。
【請求項７】
紫外線照射により硬化させた硬化物の２５℃での弾性率が、２５００ＭＰａ以上である請求項１〜６のいずれかに記載の光ディスク用紫外線硬化型組成物。
【請求項８】
基板上に、少なくとも光反射層と、紫外線硬化型組成物の硬化物からなる光透過層とが積層され、前記光透過層側からブルーレーザーを入射して情報の再生を行う光ディスクであって、前記紫外線硬化型組成物が請求項１〜７のいずれかに記載の光ディスク用紫外線硬化型組成物であることを特徴とする光ディスク。
【図１】
【図２】
【図３】
【図２】
【図３】
【公開番号】特開２００９−１５８０２６（Ｐ２００９−１５８０２６Ａ）
【公開日】平成２１年７月１６日（２００９．７．１６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−３３６０８０（Ｐ２００７−３３６０８０）
【出願日】平成１９年１２月２７日（２００７．１２．２７）
【出願人】（０００００２８８６）ＤＩＣ株式会社 (2,597)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年７月１６日（２００９．７．１６）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年１２月２７日（２００７．１２．２７）
【出願人】（０００００２８８６）ＤＩＣ株式会社 (2,597)
【Ｆターム（参考）】
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