光学用成形体
【課題】本発明の目的は、透明性・色相・耐衝撃性が良好で、複屈折の小さい光学用成形体を提供するものである。
【解決手段】スチレン系単量体単位７５〜６０質量％とブタジエン系単量体単位２５〜４０質量％とからなるスチレン−ブタジエン系ブロック共重合体を用いた光学用成形体であって、１種以上の耐熱性安定剤０．０１〜２質量部若しくは耐光安定剤１種以上の耐光安定剤０．０１〜２質量部又はその両方（但し、それぞれスチレン−ブタジエン系ブロック共重合体を１００質量部とする）を含有することを特徴とし、その光学用成形体が光学フィルム用ベースフィルムである。。
【解決手段】スチレン系単量体単位７５〜６０質量％とブタジエン系単量体単位２５〜４０質量％とからなるスチレン−ブタジエン系ブロック共重合体を用いた光学用成形体であって、１種以上の耐熱性安定剤０．０１〜２質量部若しくは耐光安定剤１種以上の耐光安定剤０．０１〜２質量部又はその両方（但し、それぞれスチレン−ブタジエン系ブロック共重合体を１００質量部とする）を含有することを特徴とし、その光学用成形体が光学フィルム用ベースフィルムである。。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学用成形体に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、光学用成形体にはメタクリル樹脂が広く使用されている。しかしながら、メタクリル樹脂は、透明性や低複屈折等の光学特性が良好な反面、耐衝撃性が低く、また吸湿性が高いことから、光学用成形体とした場合に吸湿による変形が課題となっていた。一方ポリスチレンは透明で成形加工性が良好で、吸湿性が低く変形が少ないが、耐衝撃性が低く、また複屈折(率)が高いため、この分野での使用には制限があった。
このような光学用成形体に関する刊行物としては以下のようなものが知られているが、複屈折や耐光性の問題は十分解決されているとは言いがたかった。
【特許文献１】特開２００２−２４２６７９号公報
【特許文献２】特開２００２−２４３９１７号公報
【特許文献３】特開２００２−２８４９４６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明の目的は、透明性・色相・耐衝撃性が良好で、複屈折の小さい光学用成形体を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
即ち本発明は、スチレン系単量体単位７５〜６０質量％とブタジエン系単量体単位２５〜４０質量％とからなるスチレン−ブタジエン系ブロック共重合体を用いた光学用成形体であって、ヒンダードフェノール系化合物、ラクトン系化合物、リン系化合物及びイオウ系化合物から選ばれた１種以上の耐熱性安定剤０．０１〜２質量部若しくはヒンダードアミン系化合物及びベンゾトリアゾール系化合物から選ばれた耐光安定剤１種以上の耐光安定剤０．０１〜２質量部又はその両方（但し、それぞれスチレン−ブタジエン系ブロック共重合体を１００質量部とする）を含有することを特徴とし、その光学用成形体が光学フィルム用ベースフィルムである。
【発明の効果】
【０００５】
本発明の光学用成形体は、透明性・色相・耐衝撃性が良好で、かつ複屈折の小さことから、例えば、位相差フィルムや反射防止フィルム等の光学フィルムのベースフィルム適しており有用である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
本発明に使用するスチレン−ブタジエン系ブロック共重合体は、スチレン系単量体とブタジエン系単量体からリビングアニオン重合で得られるものであれば、特に制限はない。ブロック部が、スチレン系単量体を主体とするブロック部とブタジエン系単量体を主体とするブロック部からなるブロック共重合体でもよく、また各ブロック部がスチレン系単量体とブタジエン系単量体の組成比がなだらかに変化するいわゆるテーパー型のブロック部であるブロック共重合体でもよく、更には各ブロックがスチレン系単量体とブタジエン系単量体の組成比が一定の比率であるいわゆるランダムブロック部であるブロック共重合体でもよい。またこれらのブロック部が同一のものが複数するブロック共重合体でも、異種のブロック部が複数存在するブロック共重合体でもよく、その分子構造が直鎖状でもいわゆるスター状でもよい。
【０００７】
スチレン−ブタジエン系ブロック共重合樹脂のマトリックスの重量平均分子量（Ｍｗ）は、特に制限はないが５万〜３０万、より好ましいのは７万〜２５万である。なお、本発明の重量平均分子量（Ｍｗ）はＧＰＣにて測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）であり、下記記載の測定条件で測定した。
装置名：ＳＹＳＴＥＭ−２１ Ｓｈｏｄｅｘ（昭和電工社製）
カラム：ＰＬ ｇｅｌ ＭＩＸＥＤ−Ｂを３本直列
温度：４０℃
検出：示差屈折率
溶媒：テトラハイドロフラン
濃度：２質量％
検量線：標準ポリスチレン（ＰＳ）（ＰＬ社製）を用いて作製し、重量平均分子量はＰＳ換算値で表した。
【０００８】
本発明で用いられるスチレン系単量体としては、スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、エチルスチレン、ｐ−ｔ−ブチルスチレン等を挙げることができるが、好ましくはスチレンである。これらのスチレン系単量体は、単独でもよいが二種以上を併用してもよい。
【０００９】
本発明で用いられるブタジエン系単量体としては、１，３−ブタジエン、２−メチル−１，３−ブタジエン等が挙げられるが、この中では１，３−ブタジエンが好ましい。
更に、スチレン−ブタジエンブロック系共重合体のポリマー鎖中のブタジエン系単量体に基づく１，２−ビニル不飽和結合の割合が、全ブタジエン系単量体量に対して２０モル％以下が好ましく、１５モル％以下がより好ましい。この１，２−ビニル不飽和結合の割合は重合溶媒の選択でコントロールすることが可能で、無極性溶媒を使用すれば少なくすることができる。
【００１０】
スチレン−ブタジエンブロック系共重合体は、構成する単量体の比率がスチレン系単量体単位７５〜６０質量％、ブタジエン系単量体単位２５〜４０質量％であることを特徴とする。単量体の比率がスチレン系単量体単位７３〜６２質量％、ブタジエン系単量体単位２７〜３８質量％であると好ましく、スチレン系単量体単位７１〜６４質量％、ブタジエン系単量体単位２９〜３６質量％であるとより好ましい。共重合樹脂の組成がこのより好ましい範囲のある場合、得られる樹脂組成物は軟質の光学成形体用として特に優れている。
スチレン系単量体単位が６０％未満では、得られる光学成形体が柔らかすぎて使用しづらく変形が問題となる場合があり、７５質量％を超えると、複屈折が大きくなるので好ましくない。
【００１１】
スチレン−ブタジエンブロック系共重合体は、耐熱安定剤を含んでもよく、また耐光安定剤を含んでもよい。また両者を含むとより好ましい。
耐熱安定剤は、その効果を有するものであれば特に限定されるものではないが、例えば、ヒンダードフェノール系化合物、ラクトン系化合物、リン系化合物、イオウ系化合物などの耐熱安定剤が挙げられる。これらは一種のみ用いてもよく、２種以上組み合わせて用いても良い。その配合量は、共重合樹脂１００質量部に対して０．０１〜２質量部が好ましく、より好ましいくは０．０１〜１質量部である。
【００１２】
耐光安定剤は、その効果を有するものであれば特に限定されるものではないが、例えば、ヒンダードアミン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物が挙げられる。これらは一種のみ用いてもよく、２種以上組み合わせて用いても良い。その配合量は、共重合樹脂１００質量部に対して０．０１〜２質量部が好ましく、より好ましいのは０．０１〜１質量部である。
なお、樹脂組成物にはこれ以外に滑剤や可塑剤、着色剤、帯電防止剤、鉱油等の添加剤を含んでも差し支えないが、透明性を阻害する可能性もあり、その添加量は少ない方が好ましい。
【００１３】
樹脂組成物の配合や造粒方法は特に制限はされず、公知の方法を採用することができる。例えば、スチレン−ブタジエンブロック系共重合体、耐熱安定剤、耐光安定剤および必要に応じて使用する添加剤をあらかじめタンブラーやヘンシェルミキサー等で均一に混合して、単軸押出機または二軸押出機等に供給して溶融混練する方法や、重合後に脱溶媒と造粒を同一ライン上で行う場合は、その最終段階で耐熱安定剤、耐光安定剤および必要に応じて使用する添加剤を系内に添加・混合後に造粒する方法がある。
【実施例】
【００１４】
以下、詳細な内容について実施例を用いて説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００１５】
［実施例１］
（１）内径１．０ｍ、容積１．３ｍ３でマックスブレンド翼（住友重工社製−撹拌数は６０ｒｐｍ）を有する密閉可能な耐圧容器に１５０ｐｐｍのテトラヒドロフランを含むシクロヘキサン４８０ｋｇをとり、次いでｎ−ブチルリチウムを１０質量％含むシクロヘキサン溶液（以後開始剤と呼ぶ）１４９０ｍＬを添加し、液温を外気温度（約２０〜３０℃）に保った。
（２）この中にスチレンモノマー１６．０ｋｇを添加後、缶内温度７０℃を目標に昇温させスチレンモノマーをアニオン重合させた。その後、缶内温度を４０℃まで冷却させた。
（３）次いで、スチレンモノマー９６．０ｋｇとブタジエン４８．０ｋｇを同時に添加し、再び昇温させ、反応を継続させた。なお、アニオン重合反応では水が存在すると重合活性末端が失活するため、水分を５ｐｐｍ以下に保った溶剤と原料モノマーを使用した。
（４）反応終了後、缶内温度を７０℃まで冷却したのち、重合液を別の容器に移して水を１１０ｇ添加して失活させ参考例１の重合体を含む溶液を得た。
（５）参考例１の重合溶液に、全仕込みモノマー（即ちスチレンモノマーとブタジエン）の合計１００質量部あたり耐熱安定剤としてオクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６）０．２質量部を溶解させた。これらの重合溶液はそれぞれ予備濃縮し、さらに減圧ベント付き２軸押出機で脱揮押出しして、それぞれペレット状のブロック共重合体を得た。
【００１６】
[実施例及び比較例]
実施例１と同じ装置を用い、表１に示したスチレンとブタジエンの量になるように重合した。なお、初期のスチレンの仕込み量はいずれも実施例１と同じとした。
また、実施例１〜４及び比較例１、２には、スチレン−ブタジエンブロック系共重合体１００質量部に、更に耐光安定剤としてヒンダードアミン系化合物としてビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ベンゾトリアゾール系化合物として２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ジ−ｔ−ペンチルフェノールを各０．１質量部ヘンシェルミキサーで混合した後、二軸押出機（東芝機械（株）社製 ＴＥＭ−３５Ｂ）を用いシリンダー温度２２０℃で溶融混練して樹脂組成物を得た。
以上のように調整した樹脂を名機社製射出成形機ＭＤＭ−Iにて成形温度２５０℃、金型温度６０℃で射出成形することにより、直径１８０ｍｍ、センターホール１５ｍｍ、厚み１．２ｍｍの光ディスク基板を得た。次に得られた光ディスク基板の特性評価を行った。その評価結果を表１に示した。
【００１７】
【表１】
【００１８】
なお、評価は下記の方法によった。
（１）透明性
ＡＳＴＭ Ｄ１００３に基づき、ヘーズメーター（日本電色工業社製ＮＤＨ−１００１ＤＰ型）を用いてヘーズを測定し、成形品内のヘーズ（単位：％）の最大値で示した。１％以下を合格とした。
（２）色相
色差計（日本電色工業社製Σ―８０）を用いてｂ値を測定し、成形品内のｂ値の最大値で示した。１以下を合格とした。
（３）複屈折
位相差測定装置（王子計測社製ＫＯＢＲＡ−ＷＲ）を用いてリタデーション（Ｒe）を測定し、成形品内のＲｅ（単位：ｎｍ）の最大値で示した。５０ｎｍ以下を合格とした。
【００１９】
このように、スチレン系単量体とブタジエン系単量体が特定の比率であるスチレン−ブタジエン系ブロック共重合体が好ましく、また特にスチレン系単量体／ブタジエン単量体の比（質量基準）が１．５倍から２．３倍であるとＲｅが小さくなり特に好ましい。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学用成形体に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、光学用成形体にはメタクリル樹脂が広く使用されている。しかしながら、メタクリル樹脂は、透明性や低複屈折等の光学特性が良好な反面、耐衝撃性が低く、また吸湿性が高いことから、光学用成形体とした場合に吸湿による変形が課題となっていた。一方ポリスチレンは透明で成形加工性が良好で、吸湿性が低く変形が少ないが、耐衝撃性が低く、また複屈折(率)が高いため、この分野での使用には制限があった。
このような光学用成形体に関する刊行物としては以下のようなものが知られているが、複屈折や耐光性の問題は十分解決されているとは言いがたかった。
【特許文献１】特開２００２−２４２６７９号公報
【特許文献２】特開２００２−２４３９１７号公報
【特許文献３】特開２００２−２８４９４６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明の目的は、透明性・色相・耐衝撃性が良好で、複屈折の小さい光学用成形体を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
即ち本発明は、スチレン系単量体単位７５〜６０質量％とブタジエン系単量体単位２５〜４０質量％とからなるスチレン−ブタジエン系ブロック共重合体を用いた光学用成形体であって、ヒンダードフェノール系化合物、ラクトン系化合物、リン系化合物及びイオウ系化合物から選ばれた１種以上の耐熱性安定剤０．０１〜２質量部若しくはヒンダードアミン系化合物及びベンゾトリアゾール系化合物から選ばれた耐光安定剤１種以上の耐光安定剤０．０１〜２質量部又はその両方（但し、それぞれスチレン−ブタジエン系ブロック共重合体を１００質量部とする）を含有することを特徴とし、その光学用成形体が光学フィルム用ベースフィルムである。
【発明の効果】
【０００５】
本発明の光学用成形体は、透明性・色相・耐衝撃性が良好で、かつ複屈折の小さことから、例えば、位相差フィルムや反射防止フィルム等の光学フィルムのベースフィルム適しており有用である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
本発明に使用するスチレン−ブタジエン系ブロック共重合体は、スチレン系単量体とブタジエン系単量体からリビングアニオン重合で得られるものであれば、特に制限はない。ブロック部が、スチレン系単量体を主体とするブロック部とブタジエン系単量体を主体とするブロック部からなるブロック共重合体でもよく、また各ブロック部がスチレン系単量体とブタジエン系単量体の組成比がなだらかに変化するいわゆるテーパー型のブロック部であるブロック共重合体でもよく、更には各ブロックがスチレン系単量体とブタジエン系単量体の組成比が一定の比率であるいわゆるランダムブロック部であるブロック共重合体でもよい。またこれらのブロック部が同一のものが複数するブロック共重合体でも、異種のブロック部が複数存在するブロック共重合体でもよく、その分子構造が直鎖状でもいわゆるスター状でもよい。
【０００７】
スチレン−ブタジエン系ブロック共重合樹脂のマトリックスの重量平均分子量（Ｍｗ）は、特に制限はないが５万〜３０万、より好ましいのは７万〜２５万である。なお、本発明の重量平均分子量（Ｍｗ）はＧＰＣにて測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）であり、下記記載の測定条件で測定した。
装置名：ＳＹＳＴＥＭ−２１ Ｓｈｏｄｅｘ（昭和電工社製）
カラム：ＰＬ ｇｅｌ ＭＩＸＥＤ−Ｂを３本直列
温度：４０℃
検出：示差屈折率
溶媒：テトラハイドロフラン
濃度：２質量％
検量線：標準ポリスチレン（ＰＳ）（ＰＬ社製）を用いて作製し、重量平均分子量はＰＳ換算値で表した。
【０００８】
本発明で用いられるスチレン系単量体としては、スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、エチルスチレン、ｐ−ｔ−ブチルスチレン等を挙げることができるが、好ましくはスチレンである。これらのスチレン系単量体は、単独でもよいが二種以上を併用してもよい。
【０００９】
本発明で用いられるブタジエン系単量体としては、１，３−ブタジエン、２−メチル−１，３−ブタジエン等が挙げられるが、この中では１，３−ブタジエンが好ましい。
更に、スチレン−ブタジエンブロック系共重合体のポリマー鎖中のブタジエン系単量体に基づく１，２−ビニル不飽和結合の割合が、全ブタジエン系単量体量に対して２０モル％以下が好ましく、１５モル％以下がより好ましい。この１，２−ビニル不飽和結合の割合は重合溶媒の選択でコントロールすることが可能で、無極性溶媒を使用すれば少なくすることができる。
【００１０】
スチレン−ブタジエンブロック系共重合体は、構成する単量体の比率がスチレン系単量体単位７５〜６０質量％、ブタジエン系単量体単位２５〜４０質量％であることを特徴とする。単量体の比率がスチレン系単量体単位７３〜６２質量％、ブタジエン系単量体単位２７〜３８質量％であると好ましく、スチレン系単量体単位７１〜６４質量％、ブタジエン系単量体単位２９〜３６質量％であるとより好ましい。共重合樹脂の組成がこのより好ましい範囲のある場合、得られる樹脂組成物は軟質の光学成形体用として特に優れている。
スチレン系単量体単位が６０％未満では、得られる光学成形体が柔らかすぎて使用しづらく変形が問題となる場合があり、７５質量％を超えると、複屈折が大きくなるので好ましくない。
【００１１】
スチレン−ブタジエンブロック系共重合体は、耐熱安定剤を含んでもよく、また耐光安定剤を含んでもよい。また両者を含むとより好ましい。
耐熱安定剤は、その効果を有するものであれば特に限定されるものではないが、例えば、ヒンダードフェノール系化合物、ラクトン系化合物、リン系化合物、イオウ系化合物などの耐熱安定剤が挙げられる。これらは一種のみ用いてもよく、２種以上組み合わせて用いても良い。その配合量は、共重合樹脂１００質量部に対して０．０１〜２質量部が好ましく、より好ましいくは０．０１〜１質量部である。
【００１２】
耐光安定剤は、その効果を有するものであれば特に限定されるものではないが、例えば、ヒンダードアミン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物が挙げられる。これらは一種のみ用いてもよく、２種以上組み合わせて用いても良い。その配合量は、共重合樹脂１００質量部に対して０．０１〜２質量部が好ましく、より好ましいのは０．０１〜１質量部である。
なお、樹脂組成物にはこれ以外に滑剤や可塑剤、着色剤、帯電防止剤、鉱油等の添加剤を含んでも差し支えないが、透明性を阻害する可能性もあり、その添加量は少ない方が好ましい。
【００１３】
樹脂組成物の配合や造粒方法は特に制限はされず、公知の方法を採用することができる。例えば、スチレン−ブタジエンブロック系共重合体、耐熱安定剤、耐光安定剤および必要に応じて使用する添加剤をあらかじめタンブラーやヘンシェルミキサー等で均一に混合して、単軸押出機または二軸押出機等に供給して溶融混練する方法や、重合後に脱溶媒と造粒を同一ライン上で行う場合は、その最終段階で耐熱安定剤、耐光安定剤および必要に応じて使用する添加剤を系内に添加・混合後に造粒する方法がある。
【実施例】
【００１４】
以下、詳細な内容について実施例を用いて説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００１５】
［実施例１］
（１）内径１．０ｍ、容積１．３ｍ３でマックスブレンド翼（住友重工社製−撹拌数は６０ｒｐｍ）を有する密閉可能な耐圧容器に１５０ｐｐｍのテトラヒドロフランを含むシクロヘキサン４８０ｋｇをとり、次いでｎ−ブチルリチウムを１０質量％含むシクロヘキサン溶液（以後開始剤と呼ぶ）１４９０ｍＬを添加し、液温を外気温度（約２０〜３０℃）に保った。
（２）この中にスチレンモノマー１６．０ｋｇを添加後、缶内温度７０℃を目標に昇温させスチレンモノマーをアニオン重合させた。その後、缶内温度を４０℃まで冷却させた。
（３）次いで、スチレンモノマー９６．０ｋｇとブタジエン４８．０ｋｇを同時に添加し、再び昇温させ、反応を継続させた。なお、アニオン重合反応では水が存在すると重合活性末端が失活するため、水分を５ｐｐｍ以下に保った溶剤と原料モノマーを使用した。
（４）反応終了後、缶内温度を７０℃まで冷却したのち、重合液を別の容器に移して水を１１０ｇ添加して失活させ参考例１の重合体を含む溶液を得た。
（５）参考例１の重合溶液に、全仕込みモノマー（即ちスチレンモノマーとブタジエン）の合計１００質量部あたり耐熱安定剤としてオクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６）０．２質量部を溶解させた。これらの重合溶液はそれぞれ予備濃縮し、さらに減圧ベント付き２軸押出機で脱揮押出しして、それぞれペレット状のブロック共重合体を得た。
【００１６】
[実施例及び比較例]
実施例１と同じ装置を用い、表１に示したスチレンとブタジエンの量になるように重合した。なお、初期のスチレンの仕込み量はいずれも実施例１と同じとした。
また、実施例１〜４及び比較例１、２には、スチレン−ブタジエンブロック系共重合体１００質量部に、更に耐光安定剤としてヒンダードアミン系化合物としてビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ベンゾトリアゾール系化合物として２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ジ−ｔ−ペンチルフェノールを各０．１質量部ヘンシェルミキサーで混合した後、二軸押出機（東芝機械（株）社製 ＴＥＭ−３５Ｂ）を用いシリンダー温度２２０℃で溶融混練して樹脂組成物を得た。
以上のように調整した樹脂を名機社製射出成形機ＭＤＭ−Iにて成形温度２５０℃、金型温度６０℃で射出成形することにより、直径１８０ｍｍ、センターホール１５ｍｍ、厚み１．２ｍｍの光ディスク基板を得た。次に得られた光ディスク基板の特性評価を行った。その評価結果を表１に示した。
【００１７】
【表１】
【００１８】
なお、評価は下記の方法によった。
（１）透明性
ＡＳＴＭ Ｄ１００３に基づき、ヘーズメーター（日本電色工業社製ＮＤＨ−１００１ＤＰ型）を用いてヘーズを測定し、成形品内のヘーズ（単位：％）の最大値で示した。１％以下を合格とした。
（２）色相
色差計（日本電色工業社製Σ―８０）を用いてｂ値を測定し、成形品内のｂ値の最大値で示した。１以下を合格とした。
（３）複屈折
位相差測定装置（王子計測社製ＫＯＢＲＡ−ＷＲ）を用いてリタデーション（Ｒe）を測定し、成形品内のＲｅ（単位：ｎｍ）の最大値で示した。５０ｎｍ以下を合格とした。
【００１９】
このように、スチレン系単量体とブタジエン系単量体が特定の比率であるスチレン−ブタジエン系ブロック共重合体が好ましく、また特にスチレン系単量体／ブタジエン単量体の比（質量基準）が１．５倍から２．３倍であるとＲｅが小さくなり特に好ましい。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スチレン系単量体単位７５〜６０質量％とブタジエン系単量体単位２５〜４０質量％とからなるスチレン−ブタジエン系ブロック共重合体を用いた光学用成形体。
【請求項２】
ヒンダードフェノール系化合物、ラクトン系化合物、リン系化合物及びイオウ系化合物から選ばれた１種以上の耐熱性安定剤０．０１〜２質量部（但し、スチレン−ブタジエン系ブロック共重合体を１００質量部とする）を含有することを特徴とする請求項１記載の光学用成形体。
【請求項３】
ヒンダードアミン系化合物及びベンゾトリアゾール系化合物から選ばれた耐光安定剤１種以上の耐光安定剤０．０１〜２質量部（但し、スチレン−ブタジエン系ブロック共重合体を１００質量部とする）を含有することを特徴とする請求項１または請求項２に記載の光学用成形体。
【請求項４】
光学用成形体が、光学フィルム用ベースフィルムであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項記載の光学用成形体。
【請求項１】
スチレン系単量体単位７５〜６０質量％とブタジエン系単量体単位２５〜４０質量％とからなるスチレン−ブタジエン系ブロック共重合体を用いた光学用成形体。
【請求項２】
ヒンダードフェノール系化合物、ラクトン系化合物、リン系化合物及びイオウ系化合物から選ばれた１種以上の耐熱性安定剤０．０１〜２質量部（但し、スチレン−ブタジエン系ブロック共重合体を１００質量部とする）を含有することを特徴とする請求項１記載の光学用成形体。
【請求項３】
ヒンダードアミン系化合物及びベンゾトリアゾール系化合物から選ばれた耐光安定剤１種以上の耐光安定剤０．０１〜２質量部（但し、スチレン−ブタジエン系ブロック共重合体を１００質量部とする）を含有することを特徴とする請求項１または請求項２に記載の光学用成形体。
【請求項４】
光学用成形体が、光学フィルム用ベースフィルムであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項記載の光学用成形体。
【公開番号】特開２００７−２２４２５５（Ｐ２００７−２２４２５５Ａ）
【公開日】平成１９年９月６日（２００７．９．６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−５０３９０（Ｐ２００６−５０３９０）
【出願日】平成１８年２月２７日（２００６．２．２７）
【出願人】（０００００３２９６）電気化学工業株式会社 (1,539)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年９月６日（２００７．９．６）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年２月２７日（２００６．２．２７）
【出願人】（０００００３２９６）電気化学工業株式会社 (1,539)
【Ｆターム（参考）】
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