説明

光学積層体

【課題】硬度と可撓性とを兼ね備えることにより偏光板が傷つくことを防止するとともにクラックが発生することを防止することができる光学積層体を提供する。
【解決手段】光透過性基材及び上記光透過性基材に設けられた保護層を有する光学積層体であって、
上記光透過性基材は、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー等からなる群から選択される少なくとも1種からなり、
上記保護層は、下記一般式(A)
[化1]


(式中、Aは、主鎖の原子数が4以上の鎖式構造を有する結合基を表し、R及びRは、イソシアネート基、水素原子又は炭化水素基を表す。)
で表される化合物と、上記一般式(A)のイソシアネート基と反応し得る水酸基を有する2官能以上のアクリレートとから得られるウレタン重合体から形成された紫外線硬化樹脂を含む光学積層体。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、光学積層体に関する。
【背景技術】
【0002】
陰極線管表示装置(CRT)、液晶ディスプレイ(LCD)、プラズマディスプレイ(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)等の画像表示装置は、一般的に外部からの接触によりその表面に傷がつくと、表示される画像の視認性が低下する場合がある。このため、表面保護のために保護層を表面に積層することが一般的に行われている。
【0003】
このような表面保護フィルムとして、特許文献1では、ある程度の硬度を有する紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂からなる保護層を設けた偏光板が開示されている。
【0004】
しかしながら、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂は、硬度が増すにしたがって脆くなる傾向を有しているため、製造工程や使用中に僅かな曲げが生じた場合でも、クラックが発生するといった問題があった。
【0005】
一方、特許文献2では、トリアセチルセルロースからなる基材と、この基材上に積層された保護層とを備えた偏光板用保護フィルムが開示されている。しかし、その他の基材上に保護層を形成することは記載されていない。
【特許文献1】特開平5−341123号公報
【特許文献2】特許第3476165号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
本発明は、上記現状に鑑み、硬度と可撓性とを兼ね備えることにより画像表示装置の表面が傷つくことを防止するとともにクラックが発生することを防止することができる光学積層体を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明は、光透過性基材及び上記光透過性基材に設けられた保護層を有する光学積層体であって、上記光透過性基材は、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリエーテルケトン、ポリエーテル、ポリアミドイミド、ポリイミド、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリアミド、ポリアセタール、シンジオタクティック・ポリスチレン、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルエーテルケトン、液晶ポリマー、フッ素樹脂、ポリエーテルニトリル、変性ポリフェニレンエーテル及びポリエーテルイミドからなる群から選択される少なくとも1種からなり、上記保護層は、下記一般式(A)
【0008】
【化1】

【0009】
(式中、Aは、主鎖の原子数が4以上の鎖式構造を有する結合基を表し、R及びRは、イソシアネート基、水素原子又は炭化水素基を表す。)
で表される化合物と、上記一般式(A)のイソシアネート基と反応し得る水酸基を有する2官能以上のアクリレートとから得られるウレタン重合体から形成された紫外線硬化樹脂を含むことを特徴とする光学積層体である。
【0010】
上記一般式(A)で表される化合物は、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール又はジペンタエリスリトールと、下記一般式(B)
【0011】
【化2】

【0012】
(式中、nは、6〜20の整数を表す。)
で表される化合物との反応によって得られた化合物であることが好ましい。
上記アクリレートは、3以上の水酸基を有する多価アルコールと、アクリル酸又はメタクリル酸とのエステル化合物であり、1の水酸基を有することが好ましい。
以下、本発明を詳細に説明する。
【0013】
本発明の光学積層体を構成する光透過性基材は、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリエーテルケトン、ポリエーテル、ポリアミドイミド、ポリイミド、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリアミド、ポリアセタール、シンジオタクティック・ポリスチレン、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルエーテルケトン、液晶ポリマー、フッ素樹脂、ポリエーテルニトリル、変性ポリフェニレンエーテル及びポリエーテルイミドからなる群から選択される少なくとも1種からなるものである。上記光透過性基材は、厚さが一般的に約10〜300μmであり、好ましくは約30〜200μmである。
【0014】
上記シクロオレフィンポリマーとしては、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、ビニル脂環式炭化水素系重合体等を挙げることができる。上記シクロオレフィンポリマーの市販品としては、日本ゼオン(株)製のゼオネックスやゼオノア(ノルボルネン系重合体)、住友ベークライト(株)製のスミライトFS−1700、JSR(株)製のアートン(変性ノルボルネン系重合体)、三井化学(株)製のアペル(環状オレフィン共重合体)、Ticona社製のTopas(環状オレフィン共重合体)、日立化成(株)製のオプトレッツOZ−1000シリーズ(脂環式アクリル樹脂)、旭化成ケミカルズ(株)製のFVシリーズ等を挙げることができる。
【0015】
本発明の光学積層体を構成する保護層は、下記一般式(A)
【0016】
【化3】

【0017】
(式中、Aは、主鎖の原子数が4以上の鎖式構造を有する結合基を表し、R及びRは、イソシアネート基、水素原子又は炭化水素基を表す。)
で表される化合物と、上記一般式(A)のイソシアネート基と反応し得る水酸基を有する2官能以上のアクリレートとから得られるウレタン重合体から形成された紫外線硬化樹脂を含むものである。
【0018】
上記一般式(A)において、Aは、主鎖の原子数が4以上の鎖式構造を有する結合基を表す。
上記Aが表す主鎖の原子数は、好ましくは、10〜100、より好ましくは、15〜60である。
上記R及びRは、それぞれ独立して、イソシアネート基、水素原子又は炭化水素基を表す。
上記R及びRは、イソシアネート基であることが好ましい。
【0019】
上記一般式(A)としては、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール又はジペンタエリスリトールと、下記一般式(B)
【0020】
【化4】

【0021】
(式中、nは、6〜20の整数を表す。)
で表される化合物との反応によって得られた化合物であることが好ましい。
【0022】
上記一般式(B)において、nは、6〜20の整数を表す。
上記nは、好ましくは、8〜18、より好ましくは、10〜16である。
【0023】
トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール又はジペンタエリスリトールと、上記一般式(B)で表される化合物との反応によって得られた化合物の具体例としては、下記式(a−1)、式(a−2)、式(a−3)
【0024】
【化5】

【0025】
【化6】

【0026】
【化7】

【0027】
等が挙げられる。
【0028】
本発明の光学積層体を構成する保護層は、上記一般式(A)で表される化合物と、上記一般式(A)のイソシアネート基と反応し得る水酸基を有する2官能以上のアクリレートとから得られるウレタン重合体から形成された紫外線硬化樹脂を含むものである。
【0029】
上記アクリレートは、上記一般式(A)のイソシアネート基と反応し得る水酸基を有する2官能以上のものである。
上記アクリレートは、3以上の水酸基を有する多価アルコールと、アクリル酸又はメタクリル酸とのエステル化合物であり、1の水酸基を有することが好ましい。
上記多価アルコールとしては、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール等が挙げられる。
また、上記アクリレートとしては、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、2−ヒドロキシ−1−アクリロキシ−3−メタクリレート等が挙げられる。
【0030】
上記保護層は、所望により、防眩性を付加するために、有機微粒子、無機微粒子等の充填材を使用してもよい。
上記有機微粒子としては、例えば、スチレン系樹脂、スチレン−アクリル系共重合樹脂、アクリル系樹脂、ジビニルベンゼン樹脂、シリコーン系樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、スチレン−イソプレン系樹脂、ベンゾグアナミン樹脂等を主成分とするものを使用することができる。
【0031】
上記無機微粒子の種類についても特に制限されるものではなく、例えば、シリカ、アルカリ金属酸化物、アルカリ土類酸化物、チタン酸化物、亜鉛酸化物、アルミニウム酸化物、硼素酸化物、スズ酸化物、リン酸化物、インジウムスズ酸化物、ジルコニウム酸化物、金属、金属窒化物、炭素同位体、微粉珪酸、珪酸カルシウム、珪酸アルミニウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、微粉タルク、酸化チタン、珪藻土、スメクタイト、カオリンクレー等が挙げられる。
【0032】
上記保護層の形成方法は特に限定されないが、例えば、上記一般式(A)で表される化合物と上記アクリレートとから得られるウレタン重合体、光重合開始剤、溶剤及び任意成分を混合して得た保護層形成用組成物を光透過性基材上に塗布することにより形成することができる。溶剤としては、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等のアルコール類;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;ハロゲン化炭化水素;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素;又はこれらの混合物が挙げられる。
また、光重合開始剤としては、特に限定されず、公知のものを使用することができ、例えば、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のベンゾイン類、アセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシ−2−フェニルアセトフェノン等のアセトフェノン類、2−メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、1−クロロアントラキノン等のアントラキノン類、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン等のチオキサントン類、アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタール等のケタール類、ベンゾフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチル−プロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン等のヒドロキシケトン類、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキサイド等のホスフィンオキサイド類等を挙げることができる。上記光重合開始剤は、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
【0033】
上記保護層形成用組成物は、ミヤバーコート法、ロールコート法、グラビアコート法等の公知の塗布方法によって塗装することができる。保護層形成用組成物の塗布後に、乾燥と紫外線による硬化とを行う。紫外線による硬化は、例えば、メタルハライドランプ灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯等によって行うことができる。
【0034】
本発明によれば、光透過性基材がポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリエーテルケトン、ポリエーテル、ポリアミドイミド、ポリイミド、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリアミド、ポリアセタール、シンジオタクティック・ポリスチレン、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルエーテルケトン、液晶ポリマー、フッ素樹脂、ポリエーテルニトリル、変性ポリフェニレンエーテル及びポリエーテルイミドからなる群から選択される少なくとも1種からなるものであるため、光学積層体の透明性及び機械強度を高くすることができる。また、上述の特定の保護層を有するものであるため、画像表示装置の表面が傷つくことを防止するとともにクラックが発生することを防止することができる。
【0035】
本発明に係る光学積層体は、画像表示装置の最表面に備えられるものである。上記画像表示装置は、LCD等の非自発光型画像表示装置であっても、PDP、FED、ELD(有機EL、無機EL)、CRT等の自発光型画像表示装置であってもよい。
【0036】
上記非自発発光型の代表的な例であるLCDは、透過性表示体と、上記透過性表示体を背面から照射する光源装置とを備えてなるものである。画像表示装置がLCDである場合、この透過性表示体の表面に、本発明の光学積層体が形成されてなるものである。
【0037】
上記画像表示装置が上記光学積層体を有する液晶表示装置の場合、光源装置の光源は光学積層体の下側から照射される。なお、STN型の液晶表示装置には、液晶表示素子と偏光板との間に、位相差板が挿入されてよい。この液晶表示装置の各層間には必要に応じて接着剤層が設けられてよい。
【0038】
偏光素子の表面に、本発明による光学積層体を該光学積層体における保護層が存在する面と反対の面に設けることによって、偏光板とすることができる。
【0039】
上記偏光素子としては特に限定されず、例えば、ヨウ素等により染色し、延伸したポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等を使用することができる。上記偏光素子と本発明の光学積層体とのラミネート処理においては、光透過性基材(好ましくは、トリアセチルセルロースフィルム)にケン化処理を行うことが好ましい。ケン化処理によって、接着性が良好になり帯電防止効果も得ることができる。
【0040】
上記自発発光型画像表示装置であるPDPは、表面ガラス基板と当該表面ガラス基板に対向して間に放電ガスが封入されて配置された背面ガラス基板とを備えてなるものである。上記画像表示装置がPDPである場合、上記表面ガラス基板の表面、又はその前面板(ガラス基板又はフィルム基板)に上述した光学積層体を備えるものでもある。
【0041】
上記自発発光型画像表示装置は、電圧をかけると発光する硫化亜鉛、ジアミン類物質:発光体をガラス基板に蒸着し、基板にかける電圧を制御して表示を行なうELD装置、又は、電気信号を光に変換し、人間の目に見える像を発生させるCRTなどの画像表示装置であってもよい。この場合、上記のような各表示装置の最表面又はその前面板の表面に上述した光学積層体を備えるものである。
【0042】
上記画像表示装置は、いずれの場合も、テレビジョン、コンピュータ、ワードプロセッサなどのディスプレイ表示に使用することができる。特に、CRT、液晶パネル、PDP、ELDなどの高精細画像用ディスプレイの表面に好適に使用することができる。
【発明の効果】
【0043】
本発明の光学積層体によって、画像表示装置の表面が傷つくことを防止するとともにクラックが発生することを防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0044】
以下、本発明を実施例に基づいて更に詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。なお、実施例中、「部」は、特に断りのない限り「重量部」を意味する。
【0045】
(実施例1)
厚さ約188μmのポリエステル(A4300、東洋紡製)フィルム上に下記保護層塗工液(A)を通常のアプリケータを用いて約5μmの厚さで塗布し、ついで紫外線を照射して乾燥、硬化させて光学積層体を作成した。
【0046】
<保護層塗工液(A)>
重合体F9 100部
光重合開始剤(イルガキュア184、チバスペシャルティケミカルズ社製) 5部
イソプロピルアルコール 50部
メチルエチルケトン 50部
【0047】
重合体F9は、ヘキサメチレンジイソシアネートとトリメチロールプロパンとの付加化合物に、ペンタエリスリトールトリアクリレートをウレタン重合させた9官能ウレタン重合体である。
【0048】
(実施例2)
重合体F9を重合体F15に代える以外は、実施例1と同様にして光学積層体を作成した。
【0049】
重合体F15は、ヘキサメチレンジイソシアネートとトリメチロールプロパンとの付加化合物に、ペンタエリスリトールペンタアクリレートをウレタン重合させた15官能ウレタン重合体である。
【0050】
(実施例3)
実施例2で使用された15官能ウレタン重合体(重合体F15)を用い、保護層塗工液に多孔質シリカゲルを50部加える以外は、実施例1と同様にして光学積層体を作成した。
【0051】
(実施例4)
厚さ約100μmのポリブチレンテレフタレート〔PBT〕フィルム上に上記保護層塗工液(A)を通常のアプリケータを用いて約5μmの厚さで塗布し、ついで紫外線を照射して乾燥、硬化させて光学積層体を作成した。
【0052】
(実施例5)
厚さ約100μmのポリカーボネート〔PC〕フィルム上に上記保護層塗工液(A)を通常のアプリケータを用いて約5μmの厚さで塗布し、ついで紫外線を照射して乾燥、硬化させて光学積層体を作成した。
【0053】
(実施例6)
厚さ約60μmの非晶質オレフィンポリマー〔Cyclo−Olefin−Polymer:COP〕フィルム上に上記保護層塗工液(A)を通常のアプリケータを用いて約5μmの厚さで塗布し、ついで紫外線を照射して乾燥、硬化させて光学積層体を作成した。
非晶質オレフィンポリマーフィルムには、日本ゼオン(株)製のゼオノアを用いた。
【0054】
(実施例7)
厚さ約100μmのポリエチレンナフタレート〔PEN〕フィルム上に上記保護層塗工液(A)を通常のアプリケータを用いて約5μmの厚さで塗布し、ついで紫外線を照射して乾燥、硬化させて光学積層体を作成した。
【0055】
(比較例1)
厚さ約188μmのポリエステル(A4300、東洋紡製)フィルム上に下記保護層塗工液(B)を通常のアプリケータを用いて約7μmの厚さで塗布し、ついで紫外線を照射して乾燥、硬化させて光学積層体を作成した。
【0056】
<保護層塗工液(B)>
ジペンタエリスリトールペンタアクリレート 100部
多官能性芳香族イソシアネート(コロネートL、日本ポリウレタン社製) 1部
光重合開始剤(ダロキュア1173、チバスペシャルティケミカルズ社製) 5部
【0057】
(比較例2)
光重合開始剤をイルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ社製)とし、コロイダルシリカの添加量を5部にする以外は、比較例1と同様にして光学積層体を作成した。
【0058】
(比較例3)
コロイダルシリカの添加量を10部にする以外は、比較例1と同様にして光学積層体を作成した。
【0059】
(比較例4)
厚さ約188μmのポリエステル(A4300、東洋紡製)フィルム上に保護層塗工液(C)を通常のアプリケータを用いて約7μmの厚さで塗布し、ついで紫外線を照射して乾燥、硬化させて光学積層体を作成した。
<保護層塗工液(C)>
イソシアヌール酸EO変成トリアクリレート(3官能) 100部
光重合開始剤(ダロキュア1173、チバスペシャルティケミカルズ社製) 5部
イソプロピルアルコール 50部
メチルエチルケトン 50部
【0060】
(試験例)
各実施例及び各比較例から得られた光学積層体について、以下の試験を行った。
密着性試験
セロハンテープ剥離試験により密着性を評価した。
表1中、n/100は、100回の剥離試験を行い、保護層の剥離が観察されなかった回数がn回であることを示す。
【0061】
硬度の測定
鉛筆硬度をJIS K5400の「鉛筆引っかき試験」に従って測定した。
【0062】
90°及び180°折り曲げ試験
試料フィルムを保護層を外側にして90°及び180°の治具に押しつけて折り曲げた後のクラック発生数を目視により判断した。
(評価基準)
○:クラックなし
△:クラック少数
×:クラック多数
【0063】
【表1】

【0064】
表1より、実施例1〜7の光学積層体は、硬度と可撓性とを兼ね備える。比較例1〜4の光学積層体は、硬度については、実施例1〜7のものと比較して同程度又は劣る。また、可塑性については、実施例1〜7のものと比較して劣る。
【産業上の利用可能性】
【0065】
本発明の光学積層体は、陰極線管表示装置(CRT)、液晶ディスプレイ(LCD)、プラズマディスプレイ(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)等の表面保護用フィルムとして使用することができる。

【特許請求の範囲】
【請求項1】
光透過性基材及び前記光透過性基材に設けられた保護層を有する光学積層体であって、
前記光透過性基材は、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリエーテルケトン、ポリエーテル、ポリアミドイミド、ポリイミド、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリアミド、ポリアセタール、シンジオタクティック・ポリスチレン、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルエーテルケトン、液晶ポリマー、フッ素樹脂、ポリエーテルニトリル、変性ポリフェニレンエーテル及びポリエーテルイミドからなる群から選択される少なくとも1種からなり、
前記保護層は、下記一般式(A)
【化1】

(式中、Aは、主鎖の原子数が4以上の鎖式構造を有する結合基を表し、R及びRは、イソシアネート基、水素原子又は炭化水素基を表す。)
で表される化合物と、前記一般式(A)のイソシアネート基と反応し得る水酸基を有する2官能以上のアクリレートとから得られるウレタン重合体から形成された紫外線硬化樹脂を含むことを特徴とする光学積層体。
【請求項2】
前記一般式(A)で表される化合物は、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール又はジペンタエリスリトールと、下記一般式(B)
【化2】

(式中、nは、6〜20の整数を表す。)
で表される化合物との反応によって得られた化合物であることを特徴とする請求項1記載の光学積層体。
【請求項3】
前記アクリレートは、3以上の水酸基を有する多価アルコールと、アクリル酸又はメタクリル酸とのエステル化合物であり、1の水酸基を有することを特徴とする請求項1又は2記載の光学積層体。

【公開番号】特開2010−122315(P2010−122315A)
【公開日】平成22年6月3日(2010.6.3)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2008−293704(P2008−293704)
【出願日】平成20年11月17日(2008.11.17)
【出願人】(000002897)大日本印刷株式会社 (14,506)
【Fターム(参考)】