説明

光触媒分散液

【課題】より高い光触媒活性を示す光触媒塗膜が得られる光触媒分散液を提供する。
【解決手段】光触媒分散液は、光触媒酸化チタン、銅成分、分散剤および分散媒を含み、銅換算の銅成分の含有量が光触媒酸化チタンに対して0.01〜0.6モル%であることを特徴とする。好ましくは、分散剤が蓚酸、リン酸および縮合リン酸からなる群から選ばれる1以上の酸またはその塩であり、光触媒酸化チタンの平均分散粒子径が10〜500nmであり、光触媒酸化チタンの結晶構造がアナターゼまたはルチル型である。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、光触媒分散液に関する。
【背景技術】
【0002】
半導体にバンドギャップ以上のエネルギーをもつ光を照射すると、価電子帯の電子が伝導帯に励起し、価電子帯に正孔、伝導帯に電子が生成する。これらはそれぞれ強い酸化力と還元力を有し、半導体に接触した分子種に酸化還元作用を及ぼす。このような作用は、光触媒作用と呼ばれており、光触媒作用を示す半導体は光触媒体と呼ばれている。光触媒体を利用することにより、その光触媒作用によって、大気中の有機物などを分解することができる。
【0003】
このような光触媒体として酸化チタンが注目されおり、光触媒作用を示す光触媒酸化チタンを分散媒中に分散させた光触媒分散液も市販されている。かかる光触媒分散液を基材上に塗布することにより、高い光触媒活性を示す光触媒塗膜を得ることができる。
【0004】
【特許文献1】特開2001−72419号公報
【特許文献2】特開2001−190953号公報
【特許文献3】特開2001−316116号公報
【特許文献4】特開2001−322816号公報
【特許文献5】特開2002−29749号公報
【特許文献6】特開2002−97019号公報
【特許文献7】WO01/10552パンフレット
【特許文献8】特開2001−212457号公報
【特許文献9】特開2002−239395号公報
【特許文献10】WO03/080244パンフレット
【特許文献11】WO02/053501パンフレット
【特許文献12】特開2007−69093号公報
【特許文献13】特開2001−278625号公報
【特許文献14】特開2001−278626号公報
【特許文献15】特開2001−278627号公報
【特許文献16】特開2001−302241号公報
【特許文献17】特開2001−335321号公報
【特許文献18】特開2001−354422号公報
【特許文献19】特開2002−29750号公報
【特許文献20】特開2002−47012号公報
【特許文献21】特開2002−60221号公報
【特許文献22】特開2002−193618号公報
【特許文献23】特開2002−249319号公報
【特許文献24】特開2007−69093号広報
【非特許文献1】Chemistry Letters, Vol.32, No.2, P.196-197(2003)
【非特許文献2】Chemistry Letters, Vol.32, No.4, P.364-365(2003)
【非特許文献3】Chemistry Letters, Vol.32, No.8, P.772-773(2003)
【非特許文献4】Angewandte Chemie, Internationaol Edition, 42, P.4908-4911(2003)
【非特許文献5】Chemistry of materials, 17, P.1548-1552(2005)
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
光触媒分散液としては、より高い光触媒活性を示す光触媒塗膜が得られるものが求められている。
【課題を解決するための手段】
【0006】
そこで本発明者等は、より高い光触媒活性を示す光触媒塗膜を与え得る光触媒分散液について検討した結果、本発明を完成するに至った。
【0007】
すなわち本発明は、光触媒酸化チタン、銅成分、分散剤および分散媒を含み、銅換算の銅成分の含有量が光触媒酸化チタンに対して0.01モル%〜0.6モル%であることを特徴とする光触媒分散液を提供するものである。
【発明の効果】
【0008】
本発明の光触媒分散液によれば、硝子、プラスチック、金属、陶磁器、コンクリートのような基材に、高い光触媒活性を示す膜を形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0009】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明に用いる光触媒酸化チタンとしては、光触媒活性を示す粉末状の酸化チタンが挙げられ、蛍光灯照射下で高い光触媒活性を発現する点から、可視光線の照射でも高い光触媒活性を示す酸化チタンが好ましい。
【0010】
このような光触媒酸化チタンとしては、例えばチタン化合物と塩基を反応させ、生成物にアンモニアを添加し、熟成した後、固液分離し、ついで固形分を焼成する方法により製造することができる。
【0011】
この方法では、チタン化合物として、例えば三塩化チタン〔TiCl〕、四塩化チタン〔TiCl〕、硫酸チタン〔Ti(SO・mHO、0≦m≦20〕、オキシ硫酸チタン〔TiOSO・nHO、0≦n≦20〕、オキシ塩化チタン〔TiOCl〕を用いることができる。
【0012】
チタン化合物と反応させる塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、アンモニア、ヒドラジン、ヒドロキシルアミン、モノエタノールアミン、非環式アミン化合物、環式脂肪族アミン化合物を用いることができる。
【0013】
チタン化合物と塩基の反応は、pH2以上、好ましくは3以上、また7以下、好ましくはpH5以下で行われ、そのときの温度は、通常90℃以下、好ましくは70℃以下、さらに好ましくは55℃以下である。製造された酸化チタンの粉砕性を向上させるために、チタン化合物と塩基の反応を過酸化水素存在下で行ってもよい。
【0014】
熟成は、例えばアンモニアが添加された生成物を、攪拌しながら、0℃以上、好ましくは10℃以上、また110℃以下、好ましくは80℃以下、より好ましくは55℃以下の温度範囲に、1分以上、好ましくは10分以上、また10時間以内、好ましくは2時間以内の条件で保持する方法で行うことができる。
【0015】
反応と熟成に用いられるアンモニアの総量は、水の存在下でチタン化合物を水酸化チタンに変えるのに必要な塩基の化学量論量を超える量であることが好ましく、例えば1.1モル倍以上であることが好ましい。塩基の量が多いほど、可視光照射によって高い光触媒活性を示す膜を形成できるコーティング液が得られやすいので好ましく、例えば1.5モル倍以上がさらに好ましい。一方、塩基の量があまり多くなっても、量に見合った効果が得られないので、20モル倍以下、さらには10モル倍以下が適当である。
【0016】
熟成された生成物の固液分離は、加圧濾過、減圧濾過、遠心分離、デカンテーションなどで行うことができる。また固液分離では、得られる固形分を洗浄する操作をあわせて行うことが好ましい。
【0017】
固液分離された固形分または任意の洗浄を行った固形分の焼成は、気流焼成炉、トンネル炉、回転炉などを用いて、通常250℃以上、好ましくは270℃以上、また600℃以下、好ましくは500℃以下、より好ましくは400℃以下の温度条件で行うことができる。このときの時間は、焼成温度や焼成装置の種類により異なり一義的ではないが、通常10分以上、好ましくは30分以上、また30時間以内、好ましくは5時間以内である。
焼成して得られる酸化チタンには、必要に応じて、タングステン、ニオブ、鉄、ニッケルの酸化物や水酸化物などのような固体酸性を示す化合物またはランタン、セリウム、カルシウムの酸化物や水酸化物などのような固体塩基性を示す化合物、またインジウム酸化物やビスマス酸化物のような可視光線を吸収する金属化合物を担持してもよい。
【0018】
本発明で用いる光触媒体酸化チタンとしては、上記の製造方法により製造されるものの他に、以下の酸化チタンが挙げられる。
(a)X線光電子分光法で酸化チタンの結合エネルギー458eV〜460eVの間にあるチタンのピークの半価幅を4回測定した時の1回目と2回目のチタンのピークの半価幅の平均値をAとし、3回目と4回目のチタンのピークの半価幅の平均値をBとし、前記半価幅AおよびBから下式(I)
X=B/A (I)
で示される指数Xが0.97以下であり、かつ紫外可視拡散反射スペクトルを測定したときの、波長220nm〜800nmでのスペクトルの吸光度の積分値をCとし、波長400nm〜800nmでのスペクトルの吸光度の積分値をDとし、前記積分値CおよびDから下式(II)
Y=D/C (II)
で示される指数Yが0.14以上である酸化チタン(特許文献1:特開2001−72419号公報)、
【0019】
(b)電子スピン共鳴スペクトルにおいてg値1.930〜2.030の間に3つ以上のピークを有し、かつそれらピークの内の極大となるピークがg値1.990〜2.020の間に存在する酸化チタン(特許文献2:特開2001−190953号公報)、
【0020】
(c)可視光線照射後に測定した電子スピン共鳴スペクトルから求められるスピン濃度Xが1.50×1016spin/g以上であり、可視光線照射後に測定した電子スピン共鳴スペクトルから求められるスピン濃度Xと、可視光線照射前に測定した電子スピン共鳴スペクトルから求められるスピン濃度Yとの比(X/Y)が1.00を超える酸化チタン(特許文献3:特開2001−316116号公報)、
【0021】
(d)X線光電子分光法により8回分析し、チタンの電子状態について、1回目と2回目の分析の積算スペクトル及び7回目と8回目の分析の積算スペクトルを求め、それぞれの積算スペクトルのうち結合エネルギー458eV〜460eVにあるピークを求め、1回目と2回目の分析の積算スペクトルにあるピークの半価幅をA1とし、7回目と8回目の分析の積算スペクトルにあるピークの半価幅をB1としたとき、下式(III)
X1=B1/A1 (III)
により算出される指数X1が0.9以下であり、かつ、紫外可視拡散反射スペクトルを測
定して、波長250nm〜550nmの吸光度の積分値をC1とし、波長400nm〜5
50nmの吸光度の積分値をD1としたとき、下式(IV)
Y1=D1/C1 (IV)
により算出される指数Y1が0.075以上である酸化チタン(特許文献4:特開20
01−322816号公報)、
【0022】
(e)X線光電子分光法により8回分析し、チタンの電子状態について、1回目と2回目の分析の積算スペクトルおよび7回目と8回目の分析の積算スペクトルを求めたときに、1回目と2回目の分析の積算スペクトルにおける少なくとも1つのピークの位置が結合エネルギー459〜460eVにあり、7回目と8回目の分析の積算スペクトルにおける少なくとも1つのピークの位置が結合エネルギー458〜459eVにあり、遷移金属の含有量が元素換算で酸化チタン中のチタンに対し0.005〜3.0mol%である酸化チタン(特許文献5:特開2001−29749号公報)、
【0023】
(f)熱天秤質量分析同時測定法により求められるマスクロマトグラムについて、質量数mとイオンの電荷数eの比m/eが28である成分の脱離ピークが600℃以上にある酸化チタン、もしくは熱天秤質量分析同時測定法により求められるマスクロマトグラムについて、質量数mとイオンの電荷数eの比m/eが28である成分の脱離ピークが600℃以上、950℃以下にあり、m/eが14である成分の脱離ピークが600℃以上、950℃以下にある酸化チタン(特許文献6:特開2002−97019号公報)、
【0024】
(g)酸化チタン結晶の酸素サイトの一部を窒素原子で置換した酸化チタン、酸化チタン結晶の格子間に窒素を原子をドーピングした酸化チタン、酸化チタンの結晶粒界に窒素原子をドーピングしたもの(特許文献7:WO01/10552パンフレット)、
【0025】
(h)安定した酸素欠陥を有する酸化チタンであって、真空中、77K、暗黒下で測定された電子スピン共鳴スペクトルにおいて、g値が2.003〜2.004であるシグナルが観測され、かつこのg値が2.003〜2.004であるシグナルは、真空中、77Kにおいて少なくとも420〜600nmの光を照射下で測定したとき、暗黒下で測定された場合よりシグナル強度が大きい酸化チタン(特許文献8:特開2001−212457公報)、
【0026】
(i)表面にPtCl、PtCl、PtCl・2HO、H[Pt(OH)Cl]・nHO、PtBr、PtBr、PtI、PtI、PtF、塩化白金酸、塩化白金酸塩、ブロモ白金錯塩、ヨウ化白金酸塩などのハロゲン化白金化合物を有している紡錘形状酸化チタン(特許文献9:特開2002−239395号公報)、
【0027】
(j)表面に金属ハロゲン化物(TiCl4等)、金属錯体(ヘテロポリ酸及びイソポリ酸等)、を含有している酸化チタン(特許文献10:WO03/080244パンフレット)、
【0028】
(k)表面にアルカリ土類金属、遷移金属及びAlを含有している酸化チタン(特許文献11:WO02/053501パンフレット)、
【0029】
(l)Sn化合物等の粒生長抑制剤を添加して合成したルチル型酸化チタン(特許文献12:特開2007−69093号公報)、
【0030】
(m)窒素とフッ素を酸素の位置に置換した酸化チタン(非特許文献1:Chemistry Letters, Vol.32, No.2, P.196-197(2003))、
【0031】
(n)硫黄をTiの位置に置換した酸化チタン(非特許文献2:Chemistry Letters, Vol.32, No.4, P.364-365(2003))、
【0032】
(o)炭素をドープした酸化チタン(非特許文献3:Chemistry Letters, Vol.32, No.8, P.772-773(2003)、非特許文献4:Angewandte Chemie, Internationaol Edition, 42, P.4908-4911(2003))、
【0033】
(p)沃素をドープした酸化チタン(非特許文献5:Chemistry of Materials, 17, P.1548-1552(2005))。
【0034】
(q)また特許文献13(特開2001−278625号公報)、特許文献14(特開2001−278626号公報)、特許文献15(特開2001−278627号公報)、特許文献16(特開2001−302241号公報)、特許文献17(特開2001−335321号公報)、特許文献18(特開2001−354422号公報)、特許文献19(特開2002−29750号公報)、特許文献20(特開2002−47012号公報)、特許文献21(特開2002−60221号公報)、特許文献22(特開2002−193618号公報)、特許文献23(特開2002−249319号公報)などに記載の方法により得られる酸化チタンなども挙げられる。
【0035】
本発明の光触媒分散液における光触媒酸化チタンの含有量は、分散液を基準として通常0.1重量%以上、好ましくは1重量%以上、通常30重量%以下、好ましくは15重量%以下である。
【0036】
本発明の光触媒分散液に使用しうる銅成分としては、例えば硝酸銅(Cu(NO)、硫酸銅(Cu(SO)、塩化銅(CuCl,CuCl)、臭化銅(CuBr,CuBr)、沃化銅(CuI),沃素酸銅(CuI)、塩化アンモニウム銅(Cu(NHCl)、オキシ塩化銅(CuCl(OH))、酢酸銅(CCuO,(CHCOO)Cu)、蟻酸銅((HCOO)Cu)、炭酸銅(CuCO)、金属銅、酸化銅(CuO,CuO)、水酸化銅(CuOH,Cu(OH))、蓚酸銅(CuC)、クエン酸銅(Cu)、リン酸銅(CuPO)などが挙げられる。銅成分としては、分散媒に溶解しうるもの溶解性のものが好ましく用いられる。また、銅成分として金属銅、酸化銅などのように分散媒に溶解しない非溶解性のものを用いる場合には、コロイド粒子のような微細な粒子となっているものを用いることが、好ましい。
【0037】
光触媒分散液における銅成分の含有量は、光触媒酸化チタンに対して0.01モル%以上である。銅成分の含有量が多いほど、塗膜にしたときの光触媒活性は向上し、好ましくは0.1モル%以上である。一方銅成分の量があまりに多くなると、量に見合う光触媒活性の向上効果が見られない。更に光触媒分散液の安定性も損なわれ、分散液の保管中に酸化チタンが沈降し、固液分離することがある為、0.6モル%以下、好ましくは0.5モル%以下である。
【0038】
なお、本発明の光触媒分散液を塗布して得られる塗膜において、銅成分は、光触媒酸化チタンとの相互作用によるものか、その価数が+1価または0価となって塗膜中に存在している。+1価または0価の銅となって存在することにより、光触媒酸化チタンの光励起によって生成する電子が、この+1価または0価の銅を介して酸素分子を還元し、効率的に活性酸素種を生成することができ、このため高い光触媒活性を示すもの考えられる。
【0039】
本発明の光触媒分散液は、酸化チタンを溶媒中で安定に分散させる為に分散剤を用いる。分散剤としては、蓚酸、リン酸、縮合リン酸およびその塩が用いられる。蓚酸塩としては、例えば蓚酸アンモニウム、蓚酸水素アンモニウム、蓚酸ナトリウム、蓚酸水素ナトリウム、蓚酸カリウム、蓚酸水素カリウムなどが、リン酸塩としては、例えばリン酸アンモニウム、リン酸水素アンモニウム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸ナトリウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸二水素ナトリウム、リン酸カリウム、リン酸水素カリウム、リン酸二水素カリウムなどが、縮合リン酸塩としては、例えばピロリン酸、ピロリン酸アンモニウム、ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム、トリポリリン酸アンモニウム、トリポリリン酸ナトリウム、トリポリリン酸カリウム、テトラポリリン酸、テトラポリリン酸アンモニウム、テトラポリリン酸ナトリウム、テトラポリリン酸カリウム、ヘキサメタリン酸、ヘキサメタリン酸アンモニウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム、ヘキサメタリン酸カリウム等がそれぞれ挙げられる。
【0040】
光触媒分散液における分散剤の含有量は、光触媒酸化チタンに対して通常0.05モル%以上である。分散剤の含有量が多いほど、分散液中の酸化チタンの分散安定性が向上するので好ましく、例えば0.5モル%以上、さらには1モル%以上であることが好ましい。一方、分散剤の量があまり多くなると、量に見合う酸化チタンの分散効果が得られない為、20モル%以下、さらには10モル%以下であることが適当である。
【0041】
本発明の光触媒分散液において、前記酸化チタンを分散させる分散媒には、上の分散剤を溶解するものであればよく、水、過酸化水素水のような水性媒体、エタノール、メタノール、2−プロパノール、ブタノールのようなアルコール性媒体、アセトン、2−ブタノンのようなケトン性媒体、パラフィン化合物媒体、芳香族化合物媒体などが挙げられ、これらの中でも、水性媒体、アルコール性媒体が好ましい。
【0042】
本発明の光触媒分散液は、例えば光触媒酸化チタン、銅成分、分散剤および分散媒を混合することにより製造することができる。分散剤に用いる混合は、溶媒中に光触媒粉末を分散させることが可能な装置で行えばよく、例えば、媒体攪拌式分散機、転動ボールミル、振動ボールミルのような装置で行うことができ、なかでも媒体攪拌式分散機の適用が推奨される。このような装置では、媒体として、例えば、材質がジルコニア、アルミナまたはガラスであり、直径0.65mm以下、好ましくは0.5mm以下、さらに好ましくは0.3mm以下のビーズなどが用いられる。混合は、2段階以上に分けて行ってもよく、例えば、1段目では、直径が相対的に大きい媒体を入れた装置を用い、2段目以降では、直径が順次小さいものを入れた装置を用いて行うことができる。混合を多段階で行うことにより、効率的にセラミックス粉末を溶媒中に分散させ、かつ均一に光触媒が分散した分散液組成物が得られる。混合温度は、50℃未満、好ましくは40℃以下、また10℃以上、好ましくは20℃以上である。光触媒とリン酸アンモニウム塩と溶媒の混合物には、必要に応じて、粗大粒子の除去、光触媒含有量の調整またはpHの調整のような操作が施される。pHの調整に用いる酸としては、例えば、塩酸、硝酸、リン酸、硫酸等が挙げられ、塩基としては、例えば、アンモニア、尿素、ヒドラジン、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、水酸化ルビジウム等が挙げられる。
【0043】
銅成分は、酸化チタン、分散剤、および溶媒を混合する前後に添加してもよく、分散工程中に添加してもよい。また予め酸化チタンに担持することも勿論可能である。尚、酸化チタンに対する添加量を正確に把握するという点から、酸化チタンを分散し、得られた分散液の固形分濃度を測定した後に添加するのが好ましい。
【0044】
光触媒分散液中の酸化チタンの含有量は、分散液を基準に通常0.1重量%以上、好ましくは1重量%以上、また30重量%以下である。
【0045】
この光触媒分散液は、そのまま、又は塗膜としたときに塗膜の光触媒性能を向上させる添加剤と混合された後、膜形成に使用される。この添加剤としては、例えば、非晶質シリカ、シリカゾルのような珪素酸化物、非晶質アルミナ、アルミナゾルのようなアルミニウム(水)酸化物、ゼオライト、カオリナイトのようなアルミノ珪酸塩、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチウムおよび水酸化バリウムのようなアルカリ土類金属(水)酸化物、リン酸カルシウム、モレキュラーシーブまたは活性炭、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Tc、Re、Fe、Co、Ni、Ru、Rh、Pd、Os、Ir、Zn、Ga、In、Ge、Sn、Bi、LaまたはCeのような金属元素の水酸化物またはこれらの金属元素の酸化物などが挙げられる。これらは1種または2種以上組み合わせて用いることができる。
【0046】
本発明で得られる光触媒分散液またはそれに添加剤を混合したものを用いれば、硝子、プラスチック、金属、陶磁器およびコンクリートのような基材に、光照射によって高い光触媒活性を示す膜を形成することができる。膜形成は、例えばスピンコート、ディップコート、ドクターブレード、スプレーまたはハケ塗りなどで行い、室温〜200℃の空気中で保持して、材料表面に塗布膜を形成し、この塗布膜に光を照射するか、またはこの材料の表面に80〜200℃の熱風を吹き付けて、材料表面に塗布膜を形成し、この塗布膜に光を照射する。この光触媒分散液の保管は、光が当たらない条件で行うことが好ましく、例えば暗室内に置くか、または紫外線と可視光線の透過率が各々10%以下の遮光性容器に入れることが好ましい。
【実施例】
【0047】
以下、本発明を実施例によって詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、光触媒塗膜の作製、光触媒分散液の粒子径・光触媒活性の評価は以下の方法で行った。
【0048】
(1)光触媒塗布膜の作製
外径70mm、内径66mm、高さ14mm、容量約48mLのガラス製シャーレ容器内に、固形分で1g/mとなるように光触媒分散液を滴下し、シャーレ全体に均一となるように展開した。これを110℃の乾燥機で1時間乾燥させ、光触媒塗布膜を作製した。その後ブラックライト(紫外線強度2mW/cm)を16時間照射して、光触媒塗布膜を初期化した。
【0049】
(2)平均分散粒子径(nm):
サブミクロン粒度分布測定装置(商品名「N4Plus」、コールター製)を用いて試料の粒度分布を測定し、この装置に付属のソフトで、自動的に単分散モード解析して得られた結果を平均分散粒子径とした。
【0050】
(3)結晶構造:
X線回折装置(商品名「RINT2000/PC」、リガク製)を用いて、試料のX線回折スペクトルを測定し、そのスペクトルから主成分の結晶構造を求めた。
【0051】
(4)光触媒活性:アセトアルデヒド分解能
1Lガスバッグに測定サンプルを入れて密閉し、ガスバッグ内を真空にした後、酸素と窒素との体積比が1:4である混合ガスを600ml封入した。さらに1%アセトアルデヒドを含む窒素ガス6ml封入し暗所で1時間安定化させた後、試料表面の照度が6000ルクスになるようにシャーレを設置し、アセトアルデヒドの分解反応を行った。光源には、市販の蛍光灯を用いた。蛍光灯照射後よりガスバッグ内のガスを1.5時間毎にサンプリングして、アセトアルデヒドの残存濃度をガスクロマトグラフ(商品名「GC−14A」島津製作所製)にて測定した。
照射時間に対するアセトアルデヒドの濃度減少を対数軸にプロットし、得られた直線の傾きから一次反応速度定数を算出し、これをアセトアルデヒド分解能とした。一次反応速度定数が大きいほど、アセトアルデヒドの分解能は大きい。
【0052】
(5)X線光電子分光測定(XPS)
光電子分光測定装置(商品名「AXIS-ULTRA」、KRATOS製)を用いて、X線源:AlKα(モノクロ)15kV 13mA、ナロースキャン、pass E=160eV、step E=0.1eV、真空度:約5×10-8torr、温度:室温、Cu2pピークの位置:C1s=284.6eVで補正、サンプルの保持:カーボンテープにワッシャーを保持し、ワッシャー内に試料を充填、の条件で行った。
【0053】
実施例1
〔酸化チタンの合成〕
オキシ硫酸チタン75kgをイオン交換水50kgに溶解させ、オキシ硫酸チタン水溶液を調製した。冷却下、このオキシ硫酸チタン水溶液に35%過酸化水素水30kgを添加した。pH電極と、このpH電極に接続され、25重量%アンモニア水を供給してpHを一定に調整する機構を有するpHコントローラーとを備えた反応容器にイオン交換水30kgを入れた。pHコントローラーのpH設定を4とした。この反応容器では、容器内の液のpHが設定値より低くなると、アンモニア水が供給されはじめ、pHが設定値になるまで前記速度にて連続供給される。この反応容器に、42rpmで攪拌しながら、上記で得られた混合溶液を530ml/分で添加し、pHコントローラーにより反応容器に供給されるアンモニア水と反応させて、生成物を得た。このときの反応温度は、20℃〜30℃の範囲であった。得られた生成物を攪拌しながら1時間保持し、ついで25重量%アンモニア水を供給して、スラリーを得た。反応容器に供給されたアンモニア水の合計量は90kgであり、オキシ硫酸チタンを水酸化チタンに変えるために必要な量の2倍であった。上のスラリーを濾過、そのまま引き続いてリンス洗浄し、固形物(ケーキ)を得た。
上記で得られたケーキ2.3kgを30cm×40cmのステンレス製バットに入れた。このバット12枚を箱型乾燥機(内容積;216リットル、商品名「スーパーテンプオーブンHP−60」、旭科学製)に入れ、40m/hの乾燥空気流通下、115℃で5時間保持した後、続けて250℃で5時間乾燥を行なった。上記で得られた乾燥粉末を350℃の空気雰囲気下で2時間焼成を行った後、室温まで冷却して、酸化チタン粉末を得た。この酸化チタン粉末の結晶型はアナタ-ゼであった。
【0054】
〔光触媒分散液の調製〕
イオン交換水73.06kgにシュウ酸二水和物(試薬特級、和光純薬製)946gに添加し、更に上の粉末状酸化チタン20.0kgを混合し、これを媒体攪拌式分散機(商品名「ダイノーミル KDL‐PILOT A型」、シンマルエンタープライゼス製)に入れ、媒体:直径0.3mmのジルコニア製ビーズ4.2kg、攪拌速度:周速8m/秒、流速:1L/min、処理時間合計:410分の条件で分散処理した。このスラリーを媒体攪拌式分散機(商品名「ウルトラアペックスミル UAM−5 1001」、コトブキ技研製)に入れ、媒体:直径0.05mmのジルコニア製ビーズ13kg、攪拌速度:周速12.6m/秒、流速:1L/min、処理時間:合計356分の条件で分散処理した。平均分散粒子径は62nmであった。また、この酸化チタンスラリー中の蓚酸の量は、酸化チタンに対して3モル%であり、pHは2.4であった。得られた分散液を1L用遠沈管に各1L採取し、1500rpmで30分間遠心分離を行い、粗粒分を除去したところ、平均分散粒径が53nmであった。またこの光触媒分散液をエバポレーターにて40℃で乾燥し、結晶型を測定したところ、アナタ―ゼであった。
【0055】
上記で得られた光触媒分散液に濃度188mMの硝酸銅三水和物(特級、和光純薬製)を溶解した水溶液を加え、酸化チタン濃度を5重量%、チタンに対する銅の添加量を0.03モル%とした。この硝酸銅を添加した光触媒分散液を用い、〔光触媒塗布膜の形成〕と同じ操作を行ってシャーレ上に光触媒塗布膜を形成した。この塗布膜の光触媒活性を測定し、結果を第1表に記載した。硝酸銅を添加した後も、光触媒分散液中の酸化チタンの分散性は良好で、固液分離は見られなかった。
【0056】
実施例2
チタンに対する銅の添加量を0.075モル%とした以外は実施例1と同じ操作で光触媒分散液を調製し、更に光触媒活性を測定し、結果を第1表に記載した。硝酸銅を添加した後も、光触媒分散液中の酸化チタンの分散性は良好で、固液分離は見られなかった。
【0057】
実施例3
チタンに対する銅の添加量を0.15モル%とした以外は実施例1と同じ操作で光触媒分散液を調製し、更に光触媒活性を測定し、結果を第1表に記載した。硝酸銅を添加した後も、光触媒分散液中の酸化チタンの分散性は良好で、固液分離は見られなかった。
【0058】
実施例4
チタンに対する銅の添加量を0.3モル%とした以外は実施例1と同じ操作で光触媒分散液を調製し、更に光触媒活性を測定し、結果を第1表に記載した。硝酸銅を添加した後も、光触媒分散液中の酸化チタンの分散性は良好で、固液分離は見られなかった。
【0059】
実施例5
チタンに対する銅の添加量を0.45モル%とした以外は実施例1と同じ操作で光触媒分散液を調製し、更に光触媒活性を測定し、結果を第1表に記載した。硝酸銅を添加した後も、光触媒分散液中の酸化チタンの分散性は良好で、固液分離は見られなかった。また十分に脱脂したスライドガラスに、この光触媒分散液を酸化チタン換算で1g/cmとなるように塗布し、空気中で110℃で1時間乾燥してXPSにて測定したところ、932eVにCu2pの起因するピークを観測した。ここから銅の価数は+1価若しくは0価であることがわかった。
【0060】
比較例1
硝酸銅を添加しない以外は実施例1と同じ操作で光触媒分散液を調製し、更に光触媒活性を測定し、結果を第1表に記載した。光触媒分散液中の酸化チタンの分散性は良好で、固液分離は見られなかった。
【0061】
比較例2
チタンに対する銅の添加量を0.75モル%とした以外は実施例1と同じ操作で光触媒分散液を調製し、更に光触媒活性を測定し、結果を第1表に記載した。硝酸銅を添加した後、光触媒分散液中の酸化チタンの分散性は低下し、固液分離が見られた。
【0062】
比較例3
チタンに対する銅の添加量を1.5モル%とした以外は実施例1と同じ操作で光触媒分散液を調製し、更に光触媒活性を測定し、結果を第1表に記載した。硝酸銅を添加した後、光触媒分散液中の酸化チタンの分散性は低下し、固液分離が見られた。
【0063】
実施例6
イオン交換水10.74kgにリン酸二水素アンモニウム172.8g(和光特級試薬)を溶解して分散液を調製した。得られた水溶液と実施例1で得られた酸化チタン粉末4.0kgを媒体攪拌式分散機(商品名「ダイノーミルKDL−PILOT A型」、シンマルエンタープライゼス製)に入れ、媒体:直径0.3mmのジルコニア製ビーズ 4.2kg、攪拌速度:周速8m/秒、処理液循環:あり、循環液量:3L、合計処理時間:60分間の条件で混合した。得られた混合物中の酸化チタンは、平均分散散子径が420nmであった。さらにこの混合物を、媒体攪拌式分散機(商品名「ウルトラアペックスミル」、コトブキ技研製)で、媒体:直径0.05mmのジルコニア製ビーズ 13kg、攪拌速度:周速12.6m/秒(2000rpm)の条件で37分間混合した。得られた分散液中の酸化チタンは、平均粒子径が193nmであった。また、この酸化チタンスラリー中のリン酸アンモニウム塩の量は、酸化チタンに対して3モル%であり、pHは6.9であった。得られた分散液を1L用遠沈管に各1L採取し、1500rpmで30分間遠心分離を行い、粗粒分を除去したところ、平均分散粒径が155nmであった。またこの光触媒分散液をエバポレーターにて40℃で乾燥し、結晶型を測定したところ、アナタ―ゼであった。
【0064】
上記で得られた光触媒分散液に濃度188mMの硝酸銅三水和物(特級、和光純薬製)を溶解した水溶液を加え、酸化チタン濃度を5重量%、チタンに対する銅の添加量を0.03モル%とした。この硝酸銅を添加した光触媒分散液を用いた以外は実施例1と同じ操作で光触媒分散液を調製し、更に光触媒活性を測定し、結果を第2表に記載した。硝酸銅を添加した後も、光触媒分散液中の酸化チタンの分散性は良好で、固液分離は見られなかった。
【0065】
実施例7
チタンに対する銅の添加量を0.075モル%とした以外は実施例6と同じ操作で光触媒分散液を調製し、更に光触媒活性を測定し、結果を第2表に記載した。硝酸銅を添加した後も、光触媒分散液中の酸化チタンの分散性は良好で、固液分離は見られなかった。
【0066】
実施例8
チタンに対する銅の添加量を0.15モル%とした以外は実施例6と同じ操作で光触媒分散液を調製し、更に光触媒活性を測定し、結果を第2表に記載した。硝酸銅を添加した後も、光触媒分散液中の酸化チタンの分散性は良好で、固液分離は見られなかった。
【0067】
実施例9
チタンに対する銅の添加量を0.3モル%とした以外は実施例6と同じ操作で光触媒分散液を調製し、更に光触媒活性を測定し、結果を第2表に記載した。硝酸銅を添加した後も、光触媒分散液中の酸化チタンの分散性は良好で、固液分離は見られなかった。
【0068】
実施例10
チタンに対する銅の添加量を0.45モル%とした以外は実施例6と同じ操作で光触媒分散液を調製し、更に光触媒活性を測定し、結果を第1表に記載した。硝酸銅を添加した後も、光触媒分散液中の酸化チタンの分散性は良好で、固液分離は見られなかった。また十分に脱脂したスライドガラスに、この光触媒分散液を酸化チタン換算で1g/cmとなるように塗布し、空気中で110℃で1時間乾燥してXPSにて測定したところ、932eVにCu2pの起因するピークを観測した。ここから銅の価数は+1価若しくは0価であることがわかった。
【0069】
比較例4
硝酸銅を添加しない以外は実施例6と同じ操作で光触媒分散液を調製し、更に光触媒活性を測定し、結果を第2表に記載した。光触媒分散液中の酸化チタンの分散性は良好で、固液分離は見られなかった。
【0070】
比較例5
チタンに対する銅の添加量を0.75モル%とした以外は実施例6と同じ操作で光触媒分散液を調製し、更に光触媒活性を測定し、結果を表6に記載した。硝酸銅を添加した後、光触媒分散液中の酸化チタンの分散性は低下し、固液分離が見られた。
【0071】
比較例6
チタンに対する銅の添加量を1.5モル%とした以外は実施例6と同じ操作で光触媒分散液を調製し、更に光触媒活性を測定し、結果を第2表に記載した。硝酸銅を添加した後、光触媒分散液中の酸化チタンの分散性は低下し、固液分離が見られた。
【0072】
第 1 表
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銅成分の添加量 反応速度定数 銅成分添加後の固液分離
(モル%) (1/h)
━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
実施例1 0.03 0.38 無し
実施例2 0.075 0.37 無し
実施例3 0.15 0.50 無し
実施例4 0.3 0.43 無し
実施例5 0.45 0.53 無し
比較例1 0 0.22 無し
比較例2 0.75 0.48 有り
比較例3 1.5 0.18 有り
━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
【0073】
第 2 表
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銅成分の添加量 反応速度定数 銅成分添加後の固液分離
(モル%) (1/h)
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実施例6 0.03 0.54 無し
実施例7 0.075 0.58 無し
実施例8 0.15 0.68 無し
実施例9 0.3 0.69 無し
実施例10 0.45 0.62 無し
比較例4 0 0.33 無し
比較例5 0.75 0.53 有り
比較例6 1.5 0.46 有り
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【0074】
得られた光触媒塗布膜について、アセトアルデヒド分解能を測定した。表1に示す通り、分散剤として蓚酸を用いた実施例1〜5と比較例1〜3の光触媒塗布膜のアセトアルデヒド分解能を比較すると、最適量の銅成分を添加することにより、酸化チタンの分散性を損なうことなく光触媒塗布膜の光触媒活性が高くなることを確認した。また、分散剤にリン酸二水素アンモニウムを用いた実施例6〜10と比較例4〜6のアセトアルデヒド分解能を比較すると、表2の通り、最適量の銅成分を添加することにより、酸化チタンの分散性を損なうことなく光触媒塗布膜の光触媒活性が高くなることを確認できた。

【特許請求の範囲】
【請求項1】
光触媒酸化チタン、銅成分、分散剤および分散媒を含み、銅換算の銅成分の含有量が光触媒酸化チタンに対して0.01モル%〜0.6モル%であることを特徴とする光触媒分散液。
【請求項2】
分散剤が、蓚酸、リン酸および縮合リン酸からなる群から選ばれる1以上の酸またはその塩である請求1に記載の光触媒分散液。
【請求項3】
光触媒酸化チタンの平均分散粒子径が10nm〜500nmである請求項1または請求項2に記載の光触媒分散液。
【請求項4】
光触媒酸化チタンの結晶構造がアナターゼまたはルチル型である請求項1〜3のいずれかに記載の光触媒分散液。

【公開番号】特開2009−56348(P2009−56348A)
【公開日】平成21年3月19日(2009.3.19)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2007−223700(P2007−223700)
【出願日】平成19年8月30日(2007.8.30)
【出願人】(000002093)住友化学株式会社 (8,981)
【Fターム(参考)】