説明

半導体デバイス用部材、並びに半導体デバイス用部材形成液及び半導体デバイス用部材の製造方法、並びに、それを用いた半導体発光デバイス、半導体デバイス用部材形成液、及び蛍光体組成物

【課題】耐熱性、耐光性、成膜性、密着性に優れ、クラックや剥離なく半導体デバイスを封止できる半導体デバイス用部材を提供する。
【解決手段】方法(I)による加熱重量減を50重量%以下、方法(II)による剥離率を30%以下とする。
方法(I):部材の破砕片10mgを用いて熱重量・示差熱測定装置により空気200ml/分流通下、昇温速度10℃/分で35℃から500℃まで加熱し重量減を測定。
方法(II):直径9mm、凹部の深さ1mmの銀メッキ表面銅製カップに形成液を滴下し硬化させ半導体デバイス用部材を得、該部材を温度85℃湿度85%で20時間吸湿させ、吸湿後の該部材を室温より260℃まで50秒で昇温後260℃で10秒間保持し、該部材を室温まで冷却しカップからの剥離の有無を観察する操作を、該部材10個につき実施し剥離率を求める。


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【特許請求の範囲】
【請求項1】
下記加熱重量減測定方法(I)により測定された加熱重量減が50重量%以下であり、且つ、下記密着性評価方法(II)により測定された剥離率が30%以下である
ことを特徴とする半導体デバイス用部材。
加熱重量減測定方法(I)
前記半導体デバイス用部材の破砕片10mgを用いて、熱重量・示差熱測定装置により、空気200ml/分流通下、昇温速度10℃/分で35℃から500℃まで加熱し、重量減の測定を行う。
密着性評価方法(II)
(1)直径9mm、凹部の深さ1mmの銀メッキ表面銅製カップに半導体デバイス用部材形成液を滴下し、所定の硬化条件にて硬化させて半導体デバイス用部材を得る。
(2)得られた半導体デバイス用部材を温度85℃、湿度85%の雰囲気下で20時間吸湿させる。
(3)吸湿後の半導体デバイス用部材を室温より260℃まで50秒で昇温後、260℃で10秒間保持する。
(4)昇温後の半導体デバイス用部材を室温まで冷却し、目視及び顕微鏡観察により半導体デバイス用部材の前記銅製カップからの剥離の有無を観察する。
(5)前記半導体デバイス用部材10個につき、それぞれ、前記(2)、(3)及び(4)の操作を実施し、前記半導体デバイス用部材の剥離率を求める。
【請求項2】
下記加熱重量減測定方法(I)により測定された加熱重量減が50重量%以下であり、且つ、デュロメータタイプAによる硬度測定値(ショアA)が5以上90以下である
ことを特徴とする半導体デバイス用部材。
加熱重量減測定方法(I)
前記半導体デバイス用部材の破砕片10mgを用いて、熱重量・示差熱測定装置により、空気200ml/分流通下、昇温速度10℃/分で35℃から500℃まで加熱し、重量減の測定を行う。
【請求項3】
メタロキサン骨格を有する
ことを特徴とする、請求項1又は請求項2に記載の半導体デバイス用部材。
【請求項4】
無機粒子を含有する
ことを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項に記載の半導体デバイス用部材。
【請求項5】
蛍光体を含有する
ことを特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に記載の半導体デバイス用部材。
【請求項6】
下記式(1)で表わされる化合物及び/又はそのオリゴマーを加水分解・重縮合して得られる重縮合物を含有する半導体デバイス用部材形成液の製造方法であって、
前記加水分解・重縮合を、ジルコニウム、ハフニウム、スズ、亜鉛、及びチタンより選択される少なくとも1種の元素を含む有機金属化合物触媒の存在下で行なう
ことを特徴とする半導体デバイス用部材形成液の製造方法。
【化1】

(式(1)中、
Mは、ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、及びチタンより選択される少なくとも1種の元素を表わし、
Xは、加水分解性基を表わし、
1は、1価の有機基を表わし、
mは、Mの価数を表わす1以上の整数を表わし、
nは、X基の数を表わす1以上の整数を表わす。但し、m≧nである。)
【請求項7】
下記式(2)で表わされる化合物及び/又はそのオリゴマーを加水分解・重縮合して得られる重縮合物を含有する半導体デバイス用部材形成液の製造方法であって、
前記加水分解・重縮合を、ジルコニウム、ハフニウム、スズ、亜鉛、及びチタンより選択される少なくとも1種の元素を含む有機金属化合物触媒の存在下で行なう
ことを特徴とする半導体デバイス用部材形成液の製造方法。
【化2】

(式(2)中、
Mは、ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、及びチタンより選択される少なくとも1種の元素を表わし、
Xは、加水分解性基を表わし、
1は、1価の有機基を表わし、
2は、u価の有機基を表わし、
sは、Mの価数を表わす2以上の整数を表わし、
tは、1以上、s−1以下の整数を表わし、
uは、2以上の整数を表わす。)
【請求項8】
下記式(1)で表わされる化合物及び/又はそのオリゴマーを加水分解・重縮合して得られる重縮合物を乾燥させる工程を有する半導体デバイス用部材の製造方法であって、
前記加水分解・重縮合を、ジルコニウム、ハフニウム、スズ、亜鉛、及びチタンより選択される少なくとも1種の元素を含む有機金属化合物触媒の存在下で行なう
ことを特徴とする半導体デバイス用部材の製造方法。
【化3】

(式(1)中、
Mは、ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、及びチタンより選択される少なくとも1種の元素を表わし、
Xは、加水分解性基を表わし、
1は、1価の有機基を表わし、
mは、Mの価数を表わす1以上の整数を表わし、
nは、X基の数を表わす1以上の整数を表わす。但し、m≧nである。)
【請求項9】
下記式(2)で表わされる化合物及び/又はそのオリゴマーを加水分解・重縮合して得られる重縮合物を乾燥させる工程を有する半導体デバイス用部材の製造方法であって、
前記加水分解・重縮合を、ジルコニウム、ハフニウム、スズ、亜鉛、及びチタンより選択される少なくとも1種の元素を含む有機金属化合物触媒の存在下で行なう
ことを特徴とする半導体デバイス用部材の製造方法。
【化4】

(式(2)中、
Mは、ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、及びチタンより選択される少なくとも1種の元素を表わし、
Xは、加水分解性基を表わし、
1は、1価の有機基を表わし、
2は、u価の有機基を表わし、
sは、Mの価数を表わす2以上の整数を表わし、
tは、1以上、s−1以下の整数を表わし、
uは、2以上の整数を表わす。)
【請求項10】
請求項1〜5のいずれか1項に記載の半導体デバイス用部材を少なくとも備えてなる
ことを特徴とする、半導体発光デバイス。
【請求項11】
請求項6又は請求項7に記載の半導体デバイス用部材形成液の製造方法で製造された
ことを特徴とする、半導体デバイス用部材形成液。
【請求項12】
請求項11記載の半導体デバイス用部材形成液と蛍光体とを含有する
ことを特徴とする、蛍光体組成物。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【図6】
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【図7】
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【図8】
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【図9】
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【図10】
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【図11】
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【図12】
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【図13】
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【図14】
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【図15】
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【図16】
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【図17】
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【図18】
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【図19】
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【図20】
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【図21】
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【図22】
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【図23】
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【図24】
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【図25】
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【図26】
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【図27】
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【図28】
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【図29】
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【図30】
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【図31】
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【図32】
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【図33】
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【図34】
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【図35】
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【図36】
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【図37】
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【図38】
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【図39】
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【図40】
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【図41】
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【図42】
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【図43】
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【図44】
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【図45】
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【図46】
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【図47】
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【図48】
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【図49】
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【図50】
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【図51】
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【公開番号】特開2008−78638(P2008−78638A)
【公開日】平成20年4月3日(2008.4.3)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2007−216452(P2007−216452)
【出願日】平成19年8月22日(2007.8.22)
【出願人】(000005968)三菱化学株式会社 (4,356)
【Fターム(参考)】