説明

半導体メモリ装置、シート状基板、筐体型半導体メモリ装置および半導体メモリ装置の製造方法

【課題】筐体型半導体メモリ装置とモジュール型半導体メモリ装置とで回路パターンや搭載される部品の共通化を図ることのできる半導体メモリ装置を提供すること。
【解決手段】本発明の半導体メモリ装置10は、回路パターン17が形成されて筐体内に収納可能とされた回路基板4と、回路基板上に搭載された不揮発性半導体メモリと、回路基板の一端部に配置されてホスト装置と接続するコネクタとを備える半導体メモリ装置であって、筐体の隅部には、筐体をホスト装置に固定するためのねじが挿入されるねじ孔が形成されており、コネクタの差込み方向に沿った回路基板の中心軸を筐体の中心軸に対してずらした配置で筐体内に回路基板が収納される場合に、回路基板をずらした方向側のねじ孔に挿入されて筐体の内側に突出するねじと干渉する回路基板の干渉部分4aを避けて回路パターンが形成され、干渉部分が切り欠かれている。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、半導体メモリ装置、シート状基板、筐体型半導体メモリ装置および半導体メモリ装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
従来、NAND型フラッシュメモリ等の不揮発性半導体メモリを有して利用されている半導体メモリ装置は、回路パターンが形成された回路基板上に、不揮発性半導体メモリが搭載されて構成されている。このような半導体メモリ装置において、回路基板に形成される回路パターンや搭載される部品の配置を共通化したり、複数の外部インターフェースに使用できるようにしたりする場合がある。例えば、特許文献1や特許文献2に、部品等の共通化により、開発コストや製造コストの抑制を図る技術が開示されている。
【0003】
近年では、不揮発性半導体メモリを有する半導体メモリ装置を、ハードディスクドライブ(HDD)の筐体と同じ2.5インチタイプの筐体に収納して用いる場合(以下、筐体型半導体メモリ装置という)や、JEDEC(Joint Electron Device Engineering Council)で制定されるMO−297規格に準拠して、筐体等に収納せずに用いる場合(以下、モジュール型半導体メモリ装置という)がある。
【0004】
しかしながら、特許文献1および特許文献2に開示の技術では、2.5インチタイプの筐体収納時の要求事項や、MO−297規格による要求事項を考慮しておらず、半導体メモリ装置を筐体型半導体メモリ装置とモジュール型半導体メモリ装置とで共通化することが困難であるという問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】特開2004−234440号公報
【特許文献2】特開2003−132668号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
本発明は、筐体型半導体メモリ装置とモジュール型半導体メモリ装置とで回路パターンや搭載される部品の共通化を図ることのできる半導体メモリ装置、シート状基板、筐体型半導体メモリ装置、および半導体メモリ装置の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本願発明の一態様によれば、回路パターンが形成されて筐体内に収納可能とされた回路基板と、回路基板上に搭載された不揮発性半導体メモリと、回路基板の一端部に配置されてホスト装置と接続するコネクタとを備える半導体メモリ装置であって、筐体の隅部には、筐体をホスト装置に固定するためのねじが挿入されるねじ孔が形成されており、コネクタの差込み方向に沿った回路基板の中心軸を筐体の中心軸に対してずらした配置で筐体内に回路基板が収納される場合に、回路基板をずらした方向側の隅部に形成されたねじ孔に挿入されて筐体の内側に突出するねじと干渉する回路基板の干渉部分を避けて回路パターンが形成されていることを特徴とする半導体メモリ装置が提供される。
【0008】
また、本願発明の一態様によれば、回路パターンが形成されて筐体内に収納可能とされた回路基板と、その回路基板の周囲に連結された周囲部とを備えるシート状基板であって、回路基板は、不揮発性半導体メモリが搭載可能とされるとともに一端部にホスト装置と接続するコネクタが配置可能とされ、筐体の隅部には、筐体をホスト装置に固定するためのねじが挿入されるねじ孔が形成されており、コネクタの差込み方向に沿った回路基板の中心軸を筐体の中心軸に対してずらした配置で筐体内に回路基板が収納される場合に、回路基板をずらした方向側の隅部に形成されたねじ孔に挿入されて筐体の内側に突出するねじと干渉する回路基板の干渉部分を避けて回路パターンが形成されていることを特徴とするシート状基板が提供される。
【0009】
また、本願発明の一態様によれば、回路パターンが形成された回路基板上に不揮発性半導体メモリが搭載され、ホスト装置と接続するコネクタが回路基板の一端部に配置された半導体メモリ装置と、半導体メモリ装置を内部に収納する筐体と、を備え、筐体の隅部には、筐体をホスト装置に固定するためのねじが挿入されるねじ孔が形成され、半導体メモリ装置は、コネクタの差込み方向に沿った回路基板の中心軸を筐体の中心軸に対してずらして配置され、回路基板は、半導体メモリ装置をずらした方向側の隅部に形成されたねじ孔に挿入されて筐体の内側に突出するねじとの干渉部分が切除され、干渉部分を避けて回路パターンが形成されていることを特徴とする筐体型半導体メモリ装置が提供される。
【0010】
また、本願発明の一態様によれば、回路パターンが形成された回路基板と、回路基板上に搭載された不揮発性半導体メモリと、回路基板の一端部に配置されてホスト装置と接続するコネクタとを備え、ホスト装置に固定するためのねじが挿入されるねじ孔が隅部に形成された筐体内に、コネクタの差込み方向に沿った回路基板の中心軸を筐体の中心軸に対してずらした配置で収納可能とされる半導体メモリ装置の製造方法であって、筐体内に回路基板が収納される場合に、回路基板をずらした方向側の隅部に形成されたねじ孔に挿入されて筐体の内側に突出するねじと干渉する回路基板の干渉部分を避けて回路パターンを形成した回路基板と、その回路基板の周囲に連結された周囲部とを備えるシート状基板を作成し、筐体内に回路基板が収納される場合に、回路基板をずらした方向側の隅部に形成されたねじ孔に挿入されて筐体の内側に突出するねじと干渉する回路基板の干渉部分を切除し、シート状基板から周囲部を切り離すことを特徴とする半導体メモリ装置の製造方法が提供される。
【発明の効果】
【0011】
本発明によれば、干渉部分避けて回路パターンを形成するので、筐体型半導体メモリ装置とモジュール型半導体メモリ装置とで回路パターンや搭載される部品の共通化を図ることができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【0012】
【図1】図1は、半導体メモリ装置の平面図であって、(a)モジュール型半導体メモリ装置に用いられる半導体メモリ装置を示す図、(b)筐体型半導体メモリ装置に用いられる半導体メモリ装置を示す図である。
【図2】図2は、筐体型半導体メモリ装置の内部構造を示す平面図である。
【図3】図3は、筐体型半導体メモリ装置の干渉部を拡大した部分拡大斜視図であって、(a)ねじ孔にねじが挿入されていない状態を示す図、(b)ボトム側からねじ孔にねじが挿入された状態を示す図である。
【図4】図4は、図4に示す回路パターンのうち干渉部の周辺を拡大した部分拡大平面図である。
【図5】図5は、図4に示すA−A線に沿った矢視断面図であって、(a)モジュール型半導体メモリ装置に用いられる回路基板4を示す図、(b)筐体型半導体メモリ装置に用いられる回路基板を示す図である。
【図6】図6は、シート状基板の平面図である。
【図7】図7は、半導体メモリ装置のPC板加工装置の概略構成を示すブロック図である。
【図8】図8は、半導体メモリ装置のPC板加工工程を説明するためのフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【0013】
以下に添付図面を参照して、本発明の実施の形態にかかる半導体メモリ装置を詳細に説明する。なお、この実施の形態により本発明が限定されるものではない。
【0014】
(第1の実施の形態)
図1は、半導体メモリ装置の平面図であって、(a)モジュール型半導体メモリ装置に用いられる半導体メモリ装置を示す図、(b)筐体型半導体メモリ装置に用いられる半導体メモリ装置を示す図である。図2は、筐体型半導体メモリ装置20の内部構造を示す平面図である。図2では、内部構造を明らかにするために、蓋を取り外した状態で示している。
【0015】
なお、モジュール型半導体メモリ装置15とは、JEDEC(Joint Electron Device Engineering Council)で制定されるMO−297規格に準拠して、半導体メモリ装置10を筐体等に収納せずに用いるものをいう。すなわち、モジュール型半導体メモリ装置15では、半導体メモリ装置10そのものがモジュール型半導体メモリ装置15となる。また、筐体型半導体メモリ装置20とは、ハードディスクドライブ(HDD)の筐体と同じ2.5インチタイプの筐体22に、半導体メモリ装置10を収納して用いるものをいう。
【0016】
半導体メモリ装置10は、回路基板4、不揮発性半導体メモリ12、コントローラ14、コネクタ16を有して構成される。不揮発性半導体メモリ12、コントローラ14、コネクタ16は、回路基板4上に搭載される。回路基板4は、合成樹脂を重ねて形成された多層構造になっており、第1の実施の形態では8層構造となっている。回路基板4には、合成樹脂で構成された各層の表面あるいは内層に様々な形状で回路パターンが形成されている。回路基板4に形成された回路パターンを介して、回路基板4上に搭載された不揮発性半導体メモリ12と、コントローラ14と、コネクタ16との間が電気的に接続される。
【0017】
不揮発性半導体メモリ12は、例えばNANDフラッシュメモリである。NANDフラッシュメモリ等の不揮発性半導体メモリ12を用いて半導体メモリ装置10を構成することで、データの読み込み性能の向上、耐衝撃性能の向上、消費電力の抑制を図ることができる。第1の実施の形態では、回路基板4の一方の面に4つの不揮発性半導体メモリが配置される。また、回路基板4の他方の面には不揮発性半導体メモリ12を制御する1つのコントローラ14が配置される。コネクタ16は、回路基板4の一端部に配置される。コネクタ16は、コンピュータ等のホスト装置と半導体メモリ装置10とを接続するインターフェースである。コネクタ16は、例えば、接続インターフェース規格であるSATA規格に準拠するように、その形状等が定められている。
【0018】
モジュール型半導体メモリ装置15用の半導体メモリ装置10と筐体型半導体メモリ装置20用の半導体メモリ装置10とでは、半導体メモリ装置10を構成する回路基板4の形状の一部が異なっている。具体的には、筐体型半導体メモリ装置20用の半導体メモリ装置10の回路基板4は、その一部が切除されて切欠き7となっている。
【0019】
図2に示すように、筐体型半導体メモリ装置20に用いられる場合、半導体メモリ装置10はその中心軸AXが筐体22の中心軸BXに対してずらして配置される。これは、筐体22に対するコネクタ16の位置がSerial ATA Revision 2.6等の所定の規格により定められているために、中心軸AXと中心軸BXとの間にずれが生じる。中心軸AXと中心軸BXとがずれることで、回路基板4の一辺が筐体22の壁面に近接する。
【0020】
図3は、筐体型半導体メモリ装置20の干渉部を拡大した部分拡大斜視図であって、(a)ねじ孔にねじが挿入されていない状態を示す図、(b)サイド側からねじ孔にねじが挿入された状態を示す図である。筐体型半導体メモリ装置20は、コンピュータ等のホスト装置に固定される際に、筐体22のサイド側またはボトム側から固定用のねじ(筐体固定手段)24が挿入される。ねじ24を挿入するために、筐体22の隅部には、サイド側とボトム側にそれぞれねじ孔22aが形成されている。
【0021】
半導体メモリ装置10の中心軸AXをずらした方向側のねじ孔22aに挿入されたねじ24は、筐体22の内側に突出して、筐体22の壁面に近接した回路基板4の一部(干渉部4a)と干渉する。
【0022】
筐体型半導体メモリ装置20に用いられる回路基板4では、干渉部4aが切除されて切欠き7が形成されているので、実際にねじ24と回路基板4とが干渉することを回避することができる。したがって、ねじ24との干渉により回路基板4が破壊されたり曲げられたりすることを防ぐことができる。具体的には、切欠き7は、半導体メモリ装置10が筐体22に収納された際に、筐体22の壁面に近接する一辺上であってコネクタ16の近傍に形成される。
【0023】
一方、モジュール型半導体メモリ装置15は、例えば、JEDECのMO−297規格によりその外形寸法等が規定される。モジュール型半導体メモリ装置15は、半導体メモリ装置10を筐体に収納せずに用いるため、半導体メモリ装置10そのものの外形寸法等が規定されることになる。これにより、半導体メモリ装置10を構成する回路基板4の外形寸法等も規定される。
【0024】
JEDECのMO−297規格では、切欠き7に相当する部分に、孔4cを備えるように規定されている。したがって、モジュール型半導体メモリ装置15では回路基板4に切欠き7を形成することが困難である。しかし、モジュール型半導体メモリ装置15では、半導体メモリ装置10は筐体22に収納されないので、切欠き7が形成されていない場合であっても、ねじ24との干渉が問題にならない。なお、孔4cは、モジュール型半導体メモリ装置15を、コンピュータ等のホスト装置に対してねじを用いて固定する際等に使用される。なお、筐体型半導体メモリ装置20では、孔4cの近傍に形成された孔4dを用いて半導体メモリ装置10を筐体22に固定する。
【0025】
次に、回路基板4に形成された回路パターン17の構成について説明する。図5は、干渉部4aの周辺を拡大した部分拡大平面図である。図5は、図4に示すA−A線に沿った矢視断面図であって、(a)モジュール型半導体メモリ装置15に用いられる回路基板4を示す図、(b)筐体型半導体メモリ装置20に用いられる回路基板4を示す図である。回路パターン17には導電性の金属材料、例えば銅が用いられる。回路パターン17は回路基板4の平面視における略全域に形成されているが、図4に示すように、干渉部4aを避けて形成されている。また、干渉部4aを切除する際の切断ライン(切欠き7の形成ライン)と回路パターン17との間に間隔(回路パターンが形成されない樹脂領域)Yが設けられており、第1の実施の形態では、Y=0.5mmとなっている。ここで、半導体メモリ装置10では、孔4cに挿入されるねじと回路パターン17とを接触させて接地を行うことがある。間隔Yを所定の距離に抑えることで、ねじの頭部と回路パターン17を接触さることができ、接地を行うことが可能となる。
【0026】
なお、回路パターン17は、図4に示した層とは異なる他の層にも形成されており、図4はその一例を示したに過ぎない。また、図4に示した層とは異なるすべての層においても、干渉部4aを避けて回路パターン17が形成されており、間隔Yも設けられている。また、干渉部4aには、不揮発性半導体メモリ12等の各デバイスも配置されない。
【0027】
図5(b)に示すように、干渉部4aを切除する際の切断ラインと回路パターン17との間に所定の間隔Yが設けられているので、干渉部4aを切除した際の縁部4bに回路パターン17が露出しない。
【0028】
図6は、シート状基板の平面図である。シート状基板2は、回路基板4、周囲部6を有して構成される。周囲部6は、回路基板4の周囲を囲むように設けられており、連結部8を介して回路基板4と連結されている。周囲部6は、外形に凹凸のある回路基板4の周囲を囲んで、シート状基板2としての外形を略方形形状にすることで、不揮発性半導体メモリ12を搭載する際の回路基板4の取り扱い性を向上させる。
【0029】
また、回路基板4には判別部9が形成される(図1も参照)。判別部9は、回路基板4が、モジュール型半導体メモリ装置15に用いられるものであるか、筐体型半導体メモリ装置20に用いられるものであるかを判別するために形成されるものである。また、判別部9により、回路基板4に搭載されている部品のロット番号等の製造上必要な情報を管理することもできる。判別部9は、例えば、回路基板4の表面から読み取り可能に印刷された二次元コードである。判別部9は、不揮発性半導体メモリ12等が搭載される前に、マーカー等で印刷される。判別部9は、不揮発性半導体メモリ12等が搭載される位置を避けて形成されており、不揮発性半導体メモリ12等が搭載されたあとも読み取り可能となっている。なお、判別部9は、半導体メモリ装置10が、モジュール型半導体メモリ装置15に用いられるものであるか、筐体型半導体メモリ装置20に用いられるものであるかを判別できればよく、二次元コードに限られない。例えば、バーコードであってもよいし、ICチップであってもよい。また、回路基板4に形成された凹凸等の形状の違いであってもよい。また、判別部9は、図示した位置以外の場所に形成されても構わない。例えば、不揮発性半導体メモリ12等の各デバイスの表面に印刷されていても構わない。
【0030】
不揮発性半導体メモリ12やコントローラ14は、周囲部6が連結されたシート状基板2の状態で回路基板4部分に対して搭載される。分割機のドリルを用いて連結部8を切断することで、周囲部6を切り離して、シート状基板2から半導体メモリ装置10を得ることができる。回路基板4の切欠き7は、連結部8を切断する際に形成される。第1の実施の形態では、不揮発性半導体メモリ12やコントローラ14が搭載された状態のシート状基板2から周囲部6を切り離すことで、1枚のシート状基板2から4つの半導体メモリ装置10を得ることができる。なお、1枚のシート状基板2から得ることができる半導体メモリ装置10の数は4つに限られず、より大きなシート状基板を用いて、より多くの半導体メモリ装置10を1枚のシート状基板から得ることができるように構成してもよい。また、1枚のシート状基板から1つの半導体メモリ装置10を得ることができるように構成してもよい。
【0031】
図7は、半導体メモリ装置10のPC板加工装置(製造装置)の概略構成を示すブロック図である。PC板加工装置30は、ドリル31、読取部33、制御部34を備えて構成される。ドリル31は、シート状基板2の連結部8を切断したり、干渉部4aを切除したりする切断部として機能する。読取部33は、判別部9を読み取り、回路基板4が、モジュール型半導体メモリ装置15に用いられるものであるか、筐体型半導体メモリ装置20に用いられるものであるかを判別する。制御部34は、読取部33による判別結果に基づいて、加工データを自動読み込みし、ドリル31を制御して、連結部8を切断させたり、干渉部4aを切除させたりする。
【0032】
図8は、半導体メモリ装置10のPC板加工工程を説明するためのフローチャートである。まず、シート状基板2に、不揮発性半導体メモリ12、コントローラ14、コネクタ16が搭載される(ステップS1)。次に、判別部9が読み取られ、判別結果に基づいて加工データが自動的に読み込まれる(ステップS2)。回路基板4が筐体型半導体メモリ装置20に用いられるものであると判別された場合には(ステップS3,Yes)、連結部8が切断されるとともに、干渉部4aがドリルによって切除されて切欠き7が形成される(ステップS4)。これにより、1枚のシート状基板2から切欠き7が形成された4つの半導体メモリ装置10が得られる。
【0033】
また、ステップS3において、回路基板4が筐体型半導体メモリ装置20に用いられるものではなく、モジュール型半導体メモリ装置15に用いるものであると判別された場合には(ステップS3,No)、切欠き7は形成されずに、連結部8の切断が行われる(ステップS5)。これにより、1枚のシート状基板2から切欠き7が形成されていない4つの半導体メモリ装置10が得られる。なお、切欠き7を形成する工程と、連結部8を切断する工程は、別々の工程で行われてもよく、どちらの工程が先に行われても構わない。
【0034】
以上のように、回路パターン17は回路基板4の干渉部4aを避けて形成され、不揮発性半導体メモリ12等の各デバイスも干渉部4aを避けて配置されるので、モジュール型半導体メモリ装置15に用いる場合と、筐体型半導体メモリ装置20に用いる場合とにかかわらず、回路基板4の回路パターン17や各デバイスの配置を共通化することができる。すなわち、切欠き7の有無にかかわらず、回路基板4の回路パターン17や各デバイスの配置を共通化することができる。これにより、回路パターン17や各デバイスの配置の設計コストを抑制することができる。また、実装評価や性能評価も共通化できるので、評価コストの抑制も図ることができる。また、搭載する各デバイスの共通化も図ることができるので、各デバイスの選定コストの抑制も図ることができる。また、半導体メモリ装置10を、モジュール型半導体メモリ装置15に用いる場合には、切欠き7を形成しないことで、MO−297規格で要求される孔4cの形成について満足させることができるし、筐体型半導体メモリ装置20に用いる場合には、切欠き7を形成することで、ねじ24と回路基板4との干渉を回避することができる。
【0035】
また、干渉部4aを避けて回路パターン17が形成されているので、切欠き7を形成する際に、ドリル31に回路パターン17を切断させずに済む。これにより、切欠き7を形成する際に、ドリル31に樹脂のみを切断させることができるので、ドリル31の長寿命化を図ることができる。また、図5(b)に示すように、干渉部4aを切断した際の縁部4bに回路パターン17が露出しないので、縁部4bに金属バリが発生しにくい。これにより、回路基板4の各層間に形成された回路パターン17同士を、金属バリが短絡させてしまうといった問題が発生するのを抑えることができる。また、金属バリが回路基板4から離脱し、別の場所で短絡等の問題を引き起こすことを抑えることができる。
【0036】
なお、第1の実施の形態では、シート状基板2から周囲部6を切り離す際に、干渉部4aを切除して切欠き7を形成しているが、これに限られない。例えば、周囲部6を切り離す際に切欠き7を形成せずにモジュール型半導体メモリ装置15としてストックしておき、事後的に筐体型半導体メモリ装置20に用いることになった場合に、干渉部4aを切除して切欠き7を形成してもよい。
【0037】
また、第1の実施の形態では、半導体メモリ装置のPC板加工装置を例に挙げて説明したが、これに限られない。例えば、半導体メモリ装置の製造工程を分割機等の製造装置に行わせるための製造プログラムとして提供してもよい。
【符号の説明】
【0038】
AX,BX 中心軸、 Y 間隔、 2 シート状基板、 4 回路基板、 4a 干渉部、 4b 縁部、 4c,4d 孔、 6 周囲部、 7 切欠き、 8 連結部、 9 判別部、 10 半導体メモリ装置、 12 不揮発性半導体メモリ、 14 コントローラ、 15 モジュール型半導体メモリ装置、 16 コネクタ、 20 筐体型半導体メモリ装置、 22 筐体、 22a ねじ孔、 24 ねじ(筐体固定手段)、 30 PC板加工装置、 31 ドリル、 33 読取部、 34 制御部

【特許請求の範囲】
【請求項1】
回路パターンが形成された回路基板と、前記回路基板上に搭載された不揮発性半導体メモリと、前記回路基板の一端部に配置されてホスト装置と接続するコネクタとを備え、ホスト装置に固定するためのねじが挿入されるねじ孔が隅部に形成された筐体内に、前記コネクタの差込み方向に沿った前記回路基板の中心軸を前記筐体の中心軸に対してずらした配置で収納可能とされる半導体メモリ装置であって、
前記筐体内に前記回路基板が収納される場合に、前記回路基板をずらした方向側の隅部に形成された前記ねじ孔に挿入されて前記筐体の内側に突出するねじと干渉する前記回路基板の干渉部分を避けて前記回路パターンが形成されていることを特徴とする半導体メモリ装置。
【請求項2】
回路パターンが形成されて筐体内に収納可能とされた回路基板と、その回路基板の周囲に連結された周囲部とを備えるシート状基板であって、
前記回路基板は、不揮発性半導体メモリが搭載可能とされるとともに一端部にホスト装置と接続するコネクタが配置可能とされ、
前記筐体の隅部には、前記筐体を前記ホスト装置に固定するためのねじが挿入されるねじ孔が形成されており、
前記コネクタの差込み方向に沿った前記回路基板の中心軸を前記筐体の中心軸に対してずらした配置で前記筐体内に前記回路基板が収納される場合に、前記回路基板をずらした方向側の隅部に形成された前記ねじ孔に挿入されて前記筐体の内側に突出するねじと干渉する前記回路基板の干渉部分を避けて前記回路パターンが形成されていることを特徴とするシート状基板。
【請求項3】
回路パターンが形成された回路基板上に不揮発性半導体メモリが搭載され、ホスト装置と接続するコネクタが前記回路基板の一端部に配置された半導体メモリ装置と、
前記半導体メモリ装置を内部に収納する筐体と、を備え、
前記筐体の隅部には、前記筐体を前記ホスト装置に固定するためのねじが挿入されるねじ孔が形成され、
前記半導体メモリ装置は、前記コネクタの差込み方向に沿った前記回路基板の中心軸を前記筐体の中心軸に対してずらして筐体に配置され、
前記回路基板は、前記半導体メモリ装置をずらした方向側の隅部に形成された前記ねじ孔に挿入されて前記筐体の内側に突出する前記ねじとの干渉部分が切除され、前記干渉部分を避けて前記回路パターンが形成されていることを特徴とする筐体型半導体メモリ装置。
【請求項4】
前記回路基板は、前記干渉部分が切除された切欠き部の縁部を避けて前記回路パターンが形成されていることを特徴とする請求項3に記載の筐体型半導体メモリ装置。
【請求項5】
回路パターンが形成された回路基板と、前記回路基板上に搭載された不揮発性半導体メモリと、前記回路基板の一端部に配置されてホスト装置と接続するコネクタとを備え、前記ホスト装置に固定するためのねじが挿入されるねじ孔が隅部に形成された筐体内に、前記コネクタの差込み方向に沿った前記回路基板の中心軸を前記筐体の中心軸に対してずらした配置で収納可能とされる半導体メモリ装置の製造方法であって、
前記筐体内に前記回路基板が収納される場合に、前記回路基板をずらした方向側の隅部に形成された前記ねじ孔に挿入されて前記筐体の内側に突出するねじと干渉する前記回路基板の干渉部分を避けて前記回路パターンを形成した前記回路基板と、その回路基板の周囲に連結された周囲部とを備えるシート状基板を作成し、
前記筐体内に前記回路基板が収納される場合に、前記回路基板をずらした方向側の隅部に形成された前記ねじ孔に挿入されて前記筐体の内側に突出するねじと干渉する前記回路基板の干渉部分を切除し、
前記シート状基板から前記周囲部を切り離すことを特徴とする半導体メモリ装置の製造方法。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【図6】
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【図7】
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【図8】
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【公開番号】特開2011−29365(P2011−29365A)
【公開日】平成23年2月10日(2011.2.10)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2009−172942(P2009−172942)
【出願日】平成21年7月24日(2009.7.24)
【出願人】(000003078)株式会社東芝 (54,554)
【Fターム(参考)】