反射防止フィルム及びディスプレイ用フィルター並びにプラズマディスプレイパネル
【課題】耐候（光）性が改善された反射防止フィルムを提供する。
【解決手段】基材フィルム上にハードコート層を介して、低屈折率層、又は高屈折率層と低屈折率層が形成された反射防止フィルム。ハードコート層が紫外線吸収剤を含む。好ましくはハードコート層は更に光安定剤と可視光吸収性化合物を含む。ハードコート層が紫外線吸収剤を含むため、耐候（光）性に優れ、長期使用による紫外線劣化の問題はなく、良好な外観、性能を長期に亘り維持することができる。
【解決手段】基材フィルム上にハードコート層を介して、低屈折率層、又は高屈折率層と低屈折率層が形成された反射防止フィルム。ハードコート層が紫外線吸収剤を含む。好ましくはハードコート層は更に光安定剤と可視光吸収性化合物を含む。ハードコート層が紫外線吸収剤を含むため、耐候（光）性に優れ、長期使用による紫外線劣化の問題はなく、良好な外観、性能を長期に亘り維持することができる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止フィルム及びディスプレイ用フィルターとプラズマディスプレイパネルに係り、特に、ハードコート層に紫外線吸収剤を含むことにより、耐候（光）性が改善された反射防止フィルムと、この反射防止フィルムを用いたディスプレイ用フィルターと、このディスプレイ用フィルターを備えるプラズマディスプレイパネルに関する。
【０００２】
本発明の反射防止フィルムは、ワープロ、コンピュータ、ＣＲＴ、プラズマテレビ、ＦＥＤパネル、液晶ディスプレイ、有機ＥＬなどの各種ディスプレイ、及び自動車、建築物、電車の窓ガラスや絵画の額ガラス等に好適である。
【背景技術】
【０００３】
ワープロ、コンピュータ、ＣＲＴ、プラズマテレビ、ＦＥＤパネル、液晶ディスプレイ、有機ＥＬなどの各種ディスプレイ、及び自動車、建築物、電車の窓ガラスや絵画の額ガラス等には、光の反射を防止して高い光透過性を確保するために反射防止フィルムが適用されている。
【０００４】
この種の用途に用いられる反射防止フィルムとして、透明基材フィルム上に易接着層、ハードコート層及び低屈折率層、或いは易接着層、ハードコート層、高屈折率層及び低屈折率層が、この順で積層されたものが提供されている（特開２００５−１８１５４５号公報）。
【０００５】
このような反射防止フィルムには、反射防止機能、即ち、反射率（視感反射率）を下げることはもとより、干渉縞をなくすこと、帯電防止性を付与すること、などが要求されている。更に、また、耐候性、特に耐光性に優れることが要求される。
【特許文献１】特開２００５−１８１５４５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、耐候（光）性に優れた反射防止フィルムを提供することを目的とする。
【０００７】
本発明はまた、このような高耐候（光）性の反射防止フィルムを備えるディスプレイ用フィルターと、このディスプレイ用フィルターを備えるプラズマディスプレイパネルを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明（請求項１）の反射防止フィルムは、基材フィルム上に、ハードコート層を介して該ハードコート層よりも屈折率の低い低屈折率層が形成されてなる反射防止フィルムにおいて、該ハードコート層が紫外線吸収剤を含むことを特徴とするものである。
【０００９】
請求項２の反射防止フィルムは、請求項１において、前記ハードコート層と低屈折率層との間に該ハードコート層よりも屈折率の高い高屈折率層を有することを特徴とするものである。
【００１０】
請求項３の反射防止フィルムは、請求項１又は２において、前記紫外線吸収剤が無機微粒子であることを特徴とするものである。
【００１１】
請求項４の反射防止フィルムは、請求項３において、前記無機微粒子が、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉄及び硫酸バリウムの少なくとも１種であることを特徴とするものである。
【００１２】
請求項５の反射防止フィルムは、請求項１又は２において、前記紫外線吸収剤が有機系紫外線吸収剤であることを特徴とするものである。
【００１３】
請求項６の反射防止フィルムは、請求項５において、前記有機系紫外線吸収剤がベンゾトリアゾール系化合物であることを特徴とするものである。
【００１４】
請求項７の反射防止フィルムは、請求項１ないし６のいずれか１項において、前記ハードコート層が光安定剤を含むことを特徴とするものである。
【００１５】
請求項８の反射防止フィルムは、請求項７において、前記光安定剤がヒンダードアミン系光安定剤であることを特徴とするものである。
【００１６】
請求項９の反射防止フィルムは、請求項１ないし８のいずれか１項において、前記ハードコート層が紫外線硬化型樹脂組成物により形成されることを特徴とするものである。
【００１７】
請求項１０の反射防止フィルムは、請求項９において、前記紫外線硬化型樹脂組成物が、重合開始剤として可視光波長域に吸収を有する化合物と、紫外光波長域に吸収を有する化合物とを含有することを特徴とするものである。
【００１８】
請求項１１の反射防止フィルムは、請求項１０において、前記可視光波長域に吸収を有する化合物が、波長４０５ｎｍの吸光係数が１×１０１ｍｌ／ｇｃｍ以上である化合物であることを特徴とするものである。
【００１９】
請求項１２の反射防止フィルムは、請求項１０又は１１において、前記可視光波長域に吸収を有する化合物がホスフィンオキサイド系化合物であることを特徴とするものである。
【００２０】
本発明（請求項１３）のディスプレイ用フィルターは、請求項１ないし１２のいずれか１項に記載の反射防止フィルムを含むことを特徴とするものである。
【００２１】
請求項１４のディスプレイ用フィルターは、請求項１３において、前記基材フィルムの前記ハードコート層側の面及び／又は前記ハードコート層と反対側の面に導電層を有することを特徴とするものである。
【００２２】
請求項１５のディスプレイ用フィルターは、請求項１４において、前記導電層が導電性メッシュであることを特徴とするものである。
【００２３】
請求項１６のディスプレイ用フィルターは、請求項１３ないし１５のいずれか１項において、前記基材フィルムの前記ハードコート層と反対側の面に色素含有層を有することを特徴とするものである。
【００２４】
請求項１７のディスプレイ用フィルターは、請求項１６において、前記色素含有層に含まれる色素が近赤外線吸収色素及び／又は色調補正色素であることを特徴とするものである。
【００２５】
請求項１８のディスプレイ用フィルターは、請求項１６又は１７において、前記基材フィルムの前記ハードコート層と反対側の面に導電層を介して前記色素含有層が設けられていることを特徴とするものである。
【００２６】
請求項１９のディスプレイ用フィルターは、請求項１３ないし１８のいずれか１項において、前記基材フィルムの前記ハードコート層と反対側の面の最表面に粘着剤層が形成されていることを特徴とするものである。
【００２７】
本発明（請求項２０）のプラズマディスプレイパネルは、請求項１９に記載のディスプレイ用フィルターを前面に設置してなることを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００２８】
本発明の反射防止フィルムは、基材フィルムに設けられたハードコート層が紫外線吸収剤を含むため、耐候（光）性に優れ、長期間の使用による紫外線劣化の問題はなく、良好な外観、性能を長期に亘り維持することができる。従って、このような高耐候（光）性の反射防止フィルムを備える本発明のディスプレイ用フィルター及びプラズマディスプレイパネルによれば、製品の耐久性が著しく改善される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
以下に本発明の実施の形態を詳細に説明する。
【００３０】
まず、本発明の反射防止フィルムのハードコート層について説明する。
【００３１】
本発明に係るハードコート層は、紫外線吸収剤を含む、好ましくは紫外線硬化型樹脂層である。
【００３２】
本発明に係るハードコート層に含有される紫外線吸収剤としては、無機微粒子又は有機系紫外線吸収剤が挙げられる。
【００３３】
無機微粒子としては、平均粒径１００ｎｍ以下、例えば１０〜１００ｎｍ程度の酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉄、硫酸バリウム微粒子などの１種又は２種以上を用いることができる。無機微粒子はハードコート層の硬度向上にも有効であり、無機微粒子を配合することにより、ハードコート層を鉛筆硬度Ｈ以上の高硬度ハードコート層とすることができる。
【００３４】
有機系紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ヒドロキシベンゾエート系化合物等の１種又は２種以上を用いることができる。
【００３５】
ベンゾトリアゾール系化合物としては、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３’−５’ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール等が例示される。
【００３６】
ベンゾフェノン系化合物としては、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクチルオキシベンゾフェノン等が例示される。
【００３７】
ヒドロキシベンゾエート系化合物としては、フェニルサルシレート、４−ｔ−ブチルフェニルサルシレート、２，５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸ｎ−ヘキサデシルエステル、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３’，５−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンゾエート等が例示される。
【００３８】
これらの中でも、ベンゾトリアゾール系化合物が好適である。
【００３９】
ハードコート層は、特に上述の紫外線吸収剤と必要に応じて用いられる導電性金属酸化物微粒子を含む紫外線硬化型樹脂組成物を、基材フィルムに塗布して、紫外線を照射することにより成膜された層であることが好ましい。
【００４０】
この場合の樹脂成分としては、ハードコート処理に適した低分子量且つ多官能な樹脂であれば、特に限定されるものではなく、例えばエチレン性二重結合を複数有するウレタンオリゴマー、ポリエステルオリゴマー又はエポキシオリゴマー等のオリゴマー、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＡ）、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＥＨＡ）等の一官能又は多官能オリゴマーが好ましい。
【００４１】
紫外線硬化型樹脂組成物はこれらのオリゴマー、必要により反応性稀釈剤、紫外光波長域に吸収を有する化合物よりなる光重合開始剤から一般に構成される。紫外光波長域に吸収を有する化合物よりなる光重合開始剤の例としては、ベンゾイン、ベンゾフェノン、ベンゾイルメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ジベンジル、５−ニトロアセナフテン、ヘキサクロロシクロペンタジエン、ｐ−ニトロジフェニル、ｐ−ニトロアニリン、２，４，６−トリニトロアニリン、１，２−ベンズアントラキノン、３−メチル−１，３−ジアザ−１，９−ベンズアンスロン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等を挙げることができる。
【００４２】
オリゴマー、反応性稀釈剤及び光重合開始剤は、それぞれ１種用いても良く、２種以上組み合わせて用いてもよい。
【００４３】
反応性稀釈剤の含有量は、樹脂成分１００重量部に対して０〜１０重量部が一般的であり、０〜５重量部が好ましい。光重合開始剤の含有量は、樹脂成分１００重量部に対して５重量部以下、特に３〜４重量部が好ましい。
【００４４】
ハードコート層中の紫外線吸収剤の含有量は、用いる紫外線吸収剤の種類、要求されるハードコート層の耐候（光）性によっても異なるが、通常、無機微粒子であれば、ハードコート層の樹脂成分１００重量部に対して２０〜１００重量部程度、有機系紫外線吸収剤であれば５〜４０重量部程度含有させることが好ましい。なお、無機微粒子と有機系紫外線吸収剤とを併用しても良く、この場合には無機微粒子１０〜４０重量部と有機系紫外線吸収剤３〜２０重量部とで、合計で樹脂成分１００重量部に対して１０〜６０重量部程度となるように配合することが好ましい。
【００４５】
いずれの場合も、紫外線吸収剤の配合量が少な過ぎると十分な耐候（光）性を得ることができず、多過ぎるとハードコート層の硬度が低下したり、透明性が損なわれるなど、好ましくない。
【００４６】
ところで、紫外線硬化型樹脂組成物がこのような紫外線吸収剤を含むと、この紫外線吸収剤が紫外線を吸収することにより、ハードコート層形成時の紫外線硬化型樹脂組成物の紫外線硬化を阻害する。紫外線の照射量を多くすることにより、紫外線硬化を促進させることは可能であるが、本発明においては、このような紫外線吸収剤による紫外線硬化阻害を防止するために、紫外線硬化型樹脂組成物中に可視光波長域に吸収を有する化合物、特に波長３８０〜４４０ｎｍに吸収を有する化合物を配合しておくことが好ましい。
【００４７】
この、波長４００ｎｍに吸収を有する化合物は、好ましくは波長４０５ｎｍの吸光係数が１×１０１ｍｌ／ｇｃｍ以上である化合物（以下「可視光吸収性化合物」と称す場合がある）であり、例えばホスフィンオキサイド化合物やアシルホスフィンオキサイド化合物などの１種又は２種以上が挙げられる。なお、この吸光係数は、メタノール又はＣＨ３ＣＮ溶媒に溶解させて測定した値である。
【００４８】
ホスフィンオキサイド化合物としては、トリエチルホスフィンオキサイド、トリｎ−プロピルホスフィンオキサイド、トリｎ−ブチルホスフィンオキサイド、トリｎ−ヘキシルホスフィンオキサイド、トリｎ−オクチルホスフィンオキサイド、トリｎ−シクロヘキシルホスフィンオキサイド、トリス（３−ヒドロキシプロピル）ホスフィンオキサイド、トリフェニルホスフィンオキサイド等を用いることができる。
【００４９】
アシルホスフィンオキサイド化合物としては、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２，６−ジメトキシベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２，６−ジクロロベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２，３，５，６−テトラメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２，６−ジメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、４−メチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、４−エチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、４−イソプロピルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、１−メチルシクロヘキサノイルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルフェニルホスフィン酸メチルエステル、２，４，６−トリメチルベンゾイルフェニルホスフィン酸イソプロピルエステル、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド等を用いることができる。
【００５０】
このような可視光吸収性化合物の配合量は樹脂成分１００重量部に対して０．１〜５重量部、特に０．３〜３重量部とすることが好ましい。この可視光吸収性化合物の配合量が少な過ぎると硬化を円滑に促進させることができず、多過ぎると耐光性に悪影響が出る。
【００５１】
本発明に係るハードコート層には、更に光安定剤を配合しても良く、光安定剤を配合することにより、ハードコート層の耐候（光）性をより一層向上させることができる。
【００５２】
この場合、光安定剤としては、ヒンダードアミン系光安定剤を好適に用いることができ、ヒンダードアミン系光安定剤としては、例えば、チヌビン１２３、チヌビン２９２，チヌビン１４４〔以上いずれもチバ・スペシャリティ・ケミカル社製〕;ＭＡＲＫ ＬＡ−５７，ＬＡ−６２，ＬＡ−６７，ＬＡ−６３，ＬＡ−６８〔以上いずれもアデカアーガス化学(株)製〕;サノールＬＳ−７７０，ＬＳ−７６５，ＬＳ−２９２，ＬＳ−２６２６，ＬＳ−１１１４，ＬＳ−７４４〔以上いずれも三共ライフテック(株)製〕などが挙げられる。
【００５３】
光安定剤は、ハードコート層の樹脂成分１００重量部に対して０．１〜１０重量部用いることが好ましい。
【００５４】
ハードコート層が形成される基材フィルムとしては、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリメチルメタアクリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリウレタン、セロファン等、好ましくはＰＥＴ、ＰＣ、ＰＭＭＡの透明フィルムが挙げられる。
【００５５】
基材フィルムの厚さは、１μｍ〜１０ｍｍ特に１０〜１０００μｍが好適である。
【００５６】
本発明の反射防止フィルムは、このような基材フィルム上にハードコート層を介して反射防止層を形成してなるものである。この反射防止層は、低屈折率層のみからなるものであってもよく、高屈折率層と低屈折率層とを低屈折率層が表面側となるように積層したものであってもよい。
【００５７】
低屈折率層、高屈折率層のマトリックスはいずれもハードコート層のマトリックスと同様のものが好適である。
【００５８】
高屈折率層及びハードコート層のいずれか一方に、ＩＴＯ，ＡＴＯ，Ｓｂ２Ｏ３，ＳｂＯ２，Ｉｎ２Ｏ３，ＳｎＯ２，ＺｎＯ等の導電性金属酸化物微粒子を配合することが好ましく、特にハードコート層の表面抵抗を５×１０１０Ω／□以下とすることにより反射防止フィルムに帯電防止機能を持たせることが好ましい。
【００５９】
高屈折率層は、ＩＴＯ（スズインジウム酸化物）又はＺｎＯ、ＡｌをドープしたＺｎＯ、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、ＺｒＯ等の高屈折率の金属酸化物微粒子を配合することにより屈折率を１．６４以上としたものが好適である。
【００６０】
なお、高屈折率層が導電層である場合、この高屈折率層の屈折率を１．６４以上とすることにより反射防止フィルムの表面反射率の最小反射率を１．５％以内にすることができ、１．６９以上、好ましくは１．６９〜１．８２とすることにより反射防止層の表面反射率の最小反射率を１．０％以内にすることができる。
【００６１】
ハードコート層が導電層である場合、該高屈折率層の屈折率を１．７０以上とすることにより反射防止層の表面反射率の最小反射率を１．５％以内にすることができ、１．７５以上とすることにより反射防止層の表面反射率の最小反射率を１．０％以内にすることができる。
【００６２】
ハードコート層は、可視光透過率が８５％以上であることが好ましい。高屈折率層及び低屈折率層の可視光透過率も、いずれも８５％以上であることが好ましい。
【００６３】
低屈折率層には、屈折率低下、耐傷性向上、すべり性向上のためにシリカ、フッ素樹脂等の微粒子を１０〜４０重量％程度配合することが好ましい。
【００６４】
この低屈折率層の屈折率は、１．４５〜１．５１が好ましい。この低屈折率層の屈折率が１．５１超であると、反射防止フィルムの反射防止特性が悪くなる。
【００６５】
ハードコート層の厚みは２〜２０μｍが好ましく、高屈折率層の厚みは７５〜９０ｎｍが好ましく、低屈折率層の厚みは８５〜１１０ｎｍであることが好ましい。
【００６６】
基材フィルム上にハードコート層及び低屈折率層、或いはハードコート層、高屈折率層及び低屈折率層を形成するには、前記の通り、未硬化の樹脂組成物（必要に応じ上記の微粒子を配合したもの）を塗工し、次いで紫外線又は電子線を照射するのが好ましい。この場合、各層を１層ずつ塗工し硬化させてもよく、２以上、例えばすべての層を塗工した後、まとめて硬化させてもよい。
【００６７】
塗工の具体的な方法としては、アクリルモノマーをトルエン等の溶媒で溶液化した塗布液をグラビアコータによりコーティングし、その後乾燥し、次いで紫外線又は電子線照射によりキュアする方法が例示される。このウェットコーティング法であれば、高速で均一に且つ安価に成膜できるという利点がある。このコーティング後に例えば紫外線又は電子線を照射してキュアすることにより密着性の向上、膜の硬度の上昇という効果が奏される。
【００６８】
このような本発明の反射防止フィルムを備える本発明のディスプレイ用フィルターの構成には特に制限はないが、次のような積層構成を採用することができる。
（１）基材フィルム／導電層／ハードコート層／低屈折率層
（２）基材フィルム／導電層／ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層
（３）色素含有層／基材フィルム／導電層／ハードコート層／低屈折率層
（４）色素含有層／基材フィルム／導電層／ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層
（５）色素含有層／導電層／基材フィルム／ハードコート層／低屈折率層
（６）色素含有層／導電層／基材フィルム／ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層
また、上記（１）〜（６）の積層構成において、更に基材フィルムのハードコート層形成面とは反対側の面の最表面に粘着剤層を設けた構成とすることもでき、このような粘着剤層を有するものは、この粘着剤層によりプラズマディスプレイパネルの前面に貼着して使用するディスプレイ用フィルターとして好適である。
【００６９】
導電性メッシュの開口率とは、当該導電性メッシュの投影面積における開口部分が占める面積割合を言う。
【００７０】
導電層としては、エッチングメッシュ又は導電印刷メッシュを用いることができる。
【００７１】
エッチングメッシュとしては、金属膜をフォトリソグラフィーの手法で格子状やパンチングメタル状などの任意の形状にエッチング加工したものを用いることができる。この金属膜としては、上記基材フィルム上に、銅、アルミ、ステンレス、クロムなどの金属膜を、蒸着やスパッタリングにより形成したもの、又はこれらの金属の箔を接着剤によって基材フィルムに貼り合わせたものを用いることができる。この接着剤としては、エポキシ系、ウレタン系、ＥＶＡ系などが好ましい。
【００７２】
これらの金属膜は予め、片面又は両面に黒化処理を施しておくことが好ましい。フォトリソグラフィーの手法を用いることで、導電部分の形状を自由に設計することができ、また、開口率を高くすることができる。
【００７３】
導電印刷メッシュとしては、銀、銅、アルミ、ニッケル等の金属粒子又はカーボン等の非金属導電粒子を、エポキシ系、ウレタン系、ＥＶＡ系、メラニン系、セルロース系、アクリル系等のバインダーに混合したものを、グラビア印刷、オフセット印刷、スクリーン印刷などにより、上記基材フィルム上に格子状等のパターンで印刷したものを用いることができる。
【００７４】
また、導電性メッシュとして、フィルム面に、溶剤に対して可溶な物質によってドットを形成し、フィルム面に溶剤に対して不溶な導電材料よりなる導電材料層を形成し、フィルム面を溶剤と接触させてドット及びドット上の導電材料層を除去することによって得られる導電性メッシュを用いてもよい。
【００７５】
このような導電層をさらに低い抵抗値にして、電磁波シールド効果を高めたい場合には、導電層上にメッキ層を形成してもよい。
【００７６】
メッキ処理に使用される材料としては、銅、ニッケル、クロム、亜鉛、スズ、銀及び金を挙げることができる。これらは単独で使用しても、２種以上の合金として使用しても良い。メッキ処理としては、通常の液相メッキ（電解メッキ、無電解メッキ等）により一般に行われる。
【００７７】
また、防眩性能を付与させてもよい。この防眩化処理を行う場合、導電性メッシュの表面に黒化処理を行っても良い。例えば、金属膜の酸化処理、クロム合金等の黒色メッキを行うことができる。
【００７８】
なお、この導電性メッシュを覆うように透明化処理層を設けてもよい。この透明化処理層は導電性メッシュの凹凸を均してディスプレイ用フィルターの透明性を高める作用を奏する。この透明化処理層には、透明な粘着剤又は接着剤、例えばブチルアクリレート等のアクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、ＳＥＢＳ、ＳＢＳ等の熱可塑性エラストマー樹脂をベースとしたＴＰＥ系粘着剤および接着剤等が用いられる。
【００７９】
この透明化処理層は例えば塗工により形成することができる。この透明化処理層の厚さは５〜５００μｍ特に１０〜１００μｍ程度が好適である。
【００８０】
色素含有層は、合成樹脂塗工液中に近赤外線の吸収色素及び/又は色調補正色素を含有させたものを塗工して形成することができる。
【００８１】
近赤外線吸収色素としては、８００〜１２００ｎｍに吸収極大波長をもつものであれば特に制限されないが、フタロシアニン系、金属錯体系、ニッケルジチオレン錯体系、シアニン系、スクアリリウム系、ポリメチン系、アゾメチン系、アゾ系、ポリアゾ系、ジイモニウム系、アミニウム系、アントラキノン系の色素が用いられる。
【００８２】
色調補正色素としては、ネオン発光の吸収機能をもたせて色調の調節を行うものが挙げられ、この場合、ネオン発光の選択吸収色素としてはシアニン系、ポルフィリン化合物、スクアリリウム系、アントラキノン系、フタロシアニン系、ポリメチン系、ポリアゾ系、アズレニウム系、ジフェニルメタン系、トリフェニルメタン系等が挙げられる。かかる選択吸収色素は、５８５ｎｍ付近のネオン発光の選択吸収性とそれ以外の可視光波長に対しては吸収が小さいことが必要となるため、吸収極大波長が５７５〜５９５ｎｍであり、吸収スペクトル半値幅が４０ｎｍ以下であるものが好適に用いられる。
【００８３】
また、近赤外線吸収色素や色調補正色素を複数種類組み合わせる場合、プロセス上の色素の溶解性に問題がある場合や、混合による色素間の反応や、耐熱性、耐湿性などの低下が認められる場合はすべての近赤外線吸収色素や色調補正色素を同一の層内に含む必要はなく、別の層として形成してもよいことは勿論である。
【００８４】
また、光学特性に大きな影響を与えない範囲であれば、さらに着色用の色素、紫外線吸収剤、酸化防止剤を加えてもよい。
【００８５】
ディスプレイ用フィルターの光学特性としては近赤外線吸収特性として８５０〜１０００ｎｍの透過率が２０％以下さらに好ましくは１５％以下にするのがよい。また選択吸収性としては５８５ｎｍの透過率が５０％以下であることが望ましい。特に前者の場合には、周辺機器におけるリモコン等への誤作動が指摘されている波長域の透過度を減少させることがねらいであり、後者のそれは、５７５〜５９５ｎｍにピークをもつオレンジ色が色再現性を悪化させる原因となっているが、このオレンジ色の波長を吸収することがねらいで、これによって真赤性を高めて色の再現性を向上させたものである。
【００８６】
この色素含有層の厚さは０．５〜５０μｍ程度が好適である。
【００８７】
粘着剤層は、ディスプレイ用フィルターをプラズマディスプレイパネル等に貼着することができるようにするためのものである。この粘着剤層には、透明な粘着剤又は接着剤、例えばブチルアクリレート等のアクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、ＳＥＢＳ、ＳＢＳ等の熱可塑性エラストマー樹脂をベースとしたＴＰＥ系粘着剤および接着剤等が用いられる。
【００８８】
この粘着剤層の厚さは５〜５００μｍ特に１０〜１００μｍ程度が好適である。
【実施例】
【００８９】
以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をより具体的に説明する。
【００９０】
なお、以下においては、基材フィルムとして厚さ１００μｍのＰＥＴフィルムの一方の面に導電性のメッシュ（銅よりなるメッシュ，線幅２０μｍ、開口率８１％）が一体的に設けられたものを用い、この導電性メッシュ面にハードコート層、高屈折率層及び低屈折率層を順次成膜した。
【００９１】
実施例１
多官能アクリレート（日本化薬製ＤＰＨＡ）：８０重量部、平均粒径１５０ｎｍのＩＴＯ：２０重量部、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤（チバ・スペシャリティ・ケミカル社製「チヌビンＰＳ」２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール）：１０重量部、メチルエチルケトン：１００重量部、トルエン：１００重量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカル社製「イルガキュア１８４」１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン）：４重量部、可視光吸収性化合物（ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド）：１重量部を混合してハードコート層用塗布液を調製し、この塗布液を上記基材フィルムに塗布して紫外線を照射することにより、屈折率１．５２、厚さ５μｍのハードコート層を形成した。
【００９２】
次いで、多官能アクリレート（日本化薬製ＤＰＨＡ）：６重量部、ＺｎＯ：４重量部、メチルエチルケトン：１００重量部、トルエン：１００重量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカル社製「イルガキュア１８４」１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン）：１重量部を混合して高屈折率層用塗布液を調製し、この塗布液を上記ハードコート層上に塗布し、８０℃のオーブン中で５分間乾燥した後、紫外線を照射することにより、屈折率１．７０、厚さ９０ｎｍの高屈折率層を形成した。
【００９３】
次いで、フッ素化合物を含有している低屈折率層組成物（ＪＳＲ社製「オプスターＪＮ−７２１２」）：１００重量部、メチルエチルケトン：１１７重量部、メチルイソブチルケトン：１１７重量部を混合して低屈折率層用塗布液を調製し、この塗布液を上記高屈折率層上に塗布し、８０℃のオーブン中で５分間乾燥した後、紫外線を照射することにより、屈折率１．４２、厚さ９０ｎｍの低屈折率層を形成した。
【００９４】
このようにして製造された反射防止フィルムについて、下記評価を行い、結果を表１に示した。
【００９５】
＜鉛筆硬度＞
ＪＩＳ−Ｋ５４００に従って、反射防止フィルム表面の鉛筆硬度を測定した。
【００９６】
＜耐候（光）性の評価＞
フュードメーター（スガ試験器製）で２００時間又は１０００時間紫外線を照射した後、反射防止フィルムの外観、基材フィルムに対するハードコート層の密着性を調べた。なお、密着性は碁盤目剥離試験により調べ、残存するマス目の割合で表した。
【００９７】
実施例２
実施例１において、ハードコート層用塗布液に更にヒンダードアミン系光安定剤（チバ・スペシャリティ・ケミカル社製「チヌビン１２３」）を３重量部配合したこと以外は同様にしてハードコート層、高屈折率層及び低屈折率層を形成し、同様に評価を行って、結果を表１に示した。
【００９８】
比較例１
実施例１において、ハードコート層用塗布液に、紫外線吸収剤と可視光吸収性化合物を配合しなかったこと以外は、同様にしてハードコート層、高屈折率層及び低屈折率層を形成し、同様に評価を行って、結果を表１に示した。
【００９９】
実施例３
実施例１において、ハードコート層用塗布液に可視光吸収性化合物を配合しなかったこと以外は、同様にしてハードコート層、高屈折率層及び低屈折率層を形成し、同様に評価を行って、結果を表１に示した。
【０１００】
【表１】
【０１０１】
表１より、ハードコート層に紫外線吸収剤を配合することにより、ハードコート層の耐候（光）性を高めることができることができ、更に光安定剤を配合することにより、耐候（光）性をより高めることができることが分かる。
【０１０２】
また、可視光吸収性化合物を配合することにより、紫外線吸収剤による硬化阻害を防止して高硬度のハードコート層を形成することができることが分かる。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止フィルム及びディスプレイ用フィルターとプラズマディスプレイパネルに係り、特に、ハードコート層に紫外線吸収剤を含むことにより、耐候（光）性が改善された反射防止フィルムと、この反射防止フィルムを用いたディスプレイ用フィルターと、このディスプレイ用フィルターを備えるプラズマディスプレイパネルに関する。
【０００２】
本発明の反射防止フィルムは、ワープロ、コンピュータ、ＣＲＴ、プラズマテレビ、ＦＥＤパネル、液晶ディスプレイ、有機ＥＬなどの各種ディスプレイ、及び自動車、建築物、電車の窓ガラスや絵画の額ガラス等に好適である。
【背景技術】
【０００３】
ワープロ、コンピュータ、ＣＲＴ、プラズマテレビ、ＦＥＤパネル、液晶ディスプレイ、有機ＥＬなどの各種ディスプレイ、及び自動車、建築物、電車の窓ガラスや絵画の額ガラス等には、光の反射を防止して高い光透過性を確保するために反射防止フィルムが適用されている。
【０００４】
この種の用途に用いられる反射防止フィルムとして、透明基材フィルム上に易接着層、ハードコート層及び低屈折率層、或いは易接着層、ハードコート層、高屈折率層及び低屈折率層が、この順で積層されたものが提供されている（特開２００５−１８１５４５号公報）。
【０００５】
このような反射防止フィルムには、反射防止機能、即ち、反射率（視感反射率）を下げることはもとより、干渉縞をなくすこと、帯電防止性を付与すること、などが要求されている。更に、また、耐候性、特に耐光性に優れることが要求される。
【特許文献１】特開２００５−１８１５４５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、耐候（光）性に優れた反射防止フィルムを提供することを目的とする。
【０００７】
本発明はまた、このような高耐候（光）性の反射防止フィルムを備えるディスプレイ用フィルターと、このディスプレイ用フィルターを備えるプラズマディスプレイパネルを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明（請求項１）の反射防止フィルムは、基材フィルム上に、ハードコート層を介して該ハードコート層よりも屈折率の低い低屈折率層が形成されてなる反射防止フィルムにおいて、該ハードコート層が紫外線吸収剤を含むことを特徴とするものである。
【０００９】
請求項２の反射防止フィルムは、請求項１において、前記ハードコート層と低屈折率層との間に該ハードコート層よりも屈折率の高い高屈折率層を有することを特徴とするものである。
【００１０】
請求項３の反射防止フィルムは、請求項１又は２において、前記紫外線吸収剤が無機微粒子であることを特徴とするものである。
【００１１】
請求項４の反射防止フィルムは、請求項３において、前記無機微粒子が、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉄及び硫酸バリウムの少なくとも１種であることを特徴とするものである。
【００１２】
請求項５の反射防止フィルムは、請求項１又は２において、前記紫外線吸収剤が有機系紫外線吸収剤であることを特徴とするものである。
【００１３】
請求項６の反射防止フィルムは、請求項５において、前記有機系紫外線吸収剤がベンゾトリアゾール系化合物であることを特徴とするものである。
【００１４】
請求項７の反射防止フィルムは、請求項１ないし６のいずれか１項において、前記ハードコート層が光安定剤を含むことを特徴とするものである。
【００１５】
請求項８の反射防止フィルムは、請求項７において、前記光安定剤がヒンダードアミン系光安定剤であることを特徴とするものである。
【００１６】
請求項９の反射防止フィルムは、請求項１ないし８のいずれか１項において、前記ハードコート層が紫外線硬化型樹脂組成物により形成されることを特徴とするものである。
【００１７】
請求項１０の反射防止フィルムは、請求項９において、前記紫外線硬化型樹脂組成物が、重合開始剤として可視光波長域に吸収を有する化合物と、紫外光波長域に吸収を有する化合物とを含有することを特徴とするものである。
【００１８】
請求項１１の反射防止フィルムは、請求項１０において、前記可視光波長域に吸収を有する化合物が、波長４０５ｎｍの吸光係数が１×１０１ｍｌ／ｇｃｍ以上である化合物であることを特徴とするものである。
【００１９】
請求項１２の反射防止フィルムは、請求項１０又は１１において、前記可視光波長域に吸収を有する化合物がホスフィンオキサイド系化合物であることを特徴とするものである。
【００２０】
本発明（請求項１３）のディスプレイ用フィルターは、請求項１ないし１２のいずれか１項に記載の反射防止フィルムを含むことを特徴とするものである。
【００２１】
請求項１４のディスプレイ用フィルターは、請求項１３において、前記基材フィルムの前記ハードコート層側の面及び／又は前記ハードコート層と反対側の面に導電層を有することを特徴とするものである。
【００２２】
請求項１５のディスプレイ用フィルターは、請求項１４において、前記導電層が導電性メッシュであることを特徴とするものである。
【００２３】
請求項１６のディスプレイ用フィルターは、請求項１３ないし１５のいずれか１項において、前記基材フィルムの前記ハードコート層と反対側の面に色素含有層を有することを特徴とするものである。
【００２４】
請求項１７のディスプレイ用フィルターは、請求項１６において、前記色素含有層に含まれる色素が近赤外線吸収色素及び／又は色調補正色素であることを特徴とするものである。
【００２５】
請求項１８のディスプレイ用フィルターは、請求項１６又は１７において、前記基材フィルムの前記ハードコート層と反対側の面に導電層を介して前記色素含有層が設けられていることを特徴とするものである。
【００２６】
請求項１９のディスプレイ用フィルターは、請求項１３ないし１８のいずれか１項において、前記基材フィルムの前記ハードコート層と反対側の面の最表面に粘着剤層が形成されていることを特徴とするものである。
【００２７】
本発明（請求項２０）のプラズマディスプレイパネルは、請求項１９に記載のディスプレイ用フィルターを前面に設置してなることを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００２８】
本発明の反射防止フィルムは、基材フィルムに設けられたハードコート層が紫外線吸収剤を含むため、耐候（光）性に優れ、長期間の使用による紫外線劣化の問題はなく、良好な外観、性能を長期に亘り維持することができる。従って、このような高耐候（光）性の反射防止フィルムを備える本発明のディスプレイ用フィルター及びプラズマディスプレイパネルによれば、製品の耐久性が著しく改善される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
以下に本発明の実施の形態を詳細に説明する。
【００３０】
まず、本発明の反射防止フィルムのハードコート層について説明する。
【００３１】
本発明に係るハードコート層は、紫外線吸収剤を含む、好ましくは紫外線硬化型樹脂層である。
【００３２】
本発明に係るハードコート層に含有される紫外線吸収剤としては、無機微粒子又は有機系紫外線吸収剤が挙げられる。
【００３３】
無機微粒子としては、平均粒径１００ｎｍ以下、例えば１０〜１００ｎｍ程度の酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉄、硫酸バリウム微粒子などの１種又は２種以上を用いることができる。無機微粒子はハードコート層の硬度向上にも有効であり、無機微粒子を配合することにより、ハードコート層を鉛筆硬度Ｈ以上の高硬度ハードコート層とすることができる。
【００３４】
有機系紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ヒドロキシベンゾエート系化合物等の１種又は２種以上を用いることができる。
【００３５】
ベンゾトリアゾール系化合物としては、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３’−５’ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール等が例示される。
【００３６】
ベンゾフェノン系化合物としては、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクチルオキシベンゾフェノン等が例示される。
【００３７】
ヒドロキシベンゾエート系化合物としては、フェニルサルシレート、４−ｔ−ブチルフェニルサルシレート、２，５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸ｎ−ヘキサデシルエステル、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３’，５−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンゾエート等が例示される。
【００３８】
これらの中でも、ベンゾトリアゾール系化合物が好適である。
【００３９】
ハードコート層は、特に上述の紫外線吸収剤と必要に応じて用いられる導電性金属酸化物微粒子を含む紫外線硬化型樹脂組成物を、基材フィルムに塗布して、紫外線を照射することにより成膜された層であることが好ましい。
【００４０】
この場合の樹脂成分としては、ハードコート処理に適した低分子量且つ多官能な樹脂であれば、特に限定されるものではなく、例えばエチレン性二重結合を複数有するウレタンオリゴマー、ポリエステルオリゴマー又はエポキシオリゴマー等のオリゴマー、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＡ）、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＥＨＡ）等の一官能又は多官能オリゴマーが好ましい。
【００４１】
紫外線硬化型樹脂組成物はこれらのオリゴマー、必要により反応性稀釈剤、紫外光波長域に吸収を有する化合物よりなる光重合開始剤から一般に構成される。紫外光波長域に吸収を有する化合物よりなる光重合開始剤の例としては、ベンゾイン、ベンゾフェノン、ベンゾイルメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ジベンジル、５−ニトロアセナフテン、ヘキサクロロシクロペンタジエン、ｐ−ニトロジフェニル、ｐ−ニトロアニリン、２，４，６−トリニトロアニリン、１，２−ベンズアントラキノン、３−メチル−１，３−ジアザ−１，９−ベンズアンスロン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等を挙げることができる。
【００４２】
オリゴマー、反応性稀釈剤及び光重合開始剤は、それぞれ１種用いても良く、２種以上組み合わせて用いてもよい。
【００４３】
反応性稀釈剤の含有量は、樹脂成分１００重量部に対して０〜１０重量部が一般的であり、０〜５重量部が好ましい。光重合開始剤の含有量は、樹脂成分１００重量部に対して５重量部以下、特に３〜４重量部が好ましい。
【００４４】
ハードコート層中の紫外線吸収剤の含有量は、用いる紫外線吸収剤の種類、要求されるハードコート層の耐候（光）性によっても異なるが、通常、無機微粒子であれば、ハードコート層の樹脂成分１００重量部に対して２０〜１００重量部程度、有機系紫外線吸収剤であれば５〜４０重量部程度含有させることが好ましい。なお、無機微粒子と有機系紫外線吸収剤とを併用しても良く、この場合には無機微粒子１０〜４０重量部と有機系紫外線吸収剤３〜２０重量部とで、合計で樹脂成分１００重量部に対して１０〜６０重量部程度となるように配合することが好ましい。
【００４５】
いずれの場合も、紫外線吸収剤の配合量が少な過ぎると十分な耐候（光）性を得ることができず、多過ぎるとハードコート層の硬度が低下したり、透明性が損なわれるなど、好ましくない。
【００４６】
ところで、紫外線硬化型樹脂組成物がこのような紫外線吸収剤を含むと、この紫外線吸収剤が紫外線を吸収することにより、ハードコート層形成時の紫外線硬化型樹脂組成物の紫外線硬化を阻害する。紫外線の照射量を多くすることにより、紫外線硬化を促進させることは可能であるが、本発明においては、このような紫外線吸収剤による紫外線硬化阻害を防止するために、紫外線硬化型樹脂組成物中に可視光波長域に吸収を有する化合物、特に波長３８０〜４４０ｎｍに吸収を有する化合物を配合しておくことが好ましい。
【００４７】
この、波長４００ｎｍに吸収を有する化合物は、好ましくは波長４０５ｎｍの吸光係数が１×１０１ｍｌ／ｇｃｍ以上である化合物（以下「可視光吸収性化合物」と称す場合がある）であり、例えばホスフィンオキサイド化合物やアシルホスフィンオキサイド化合物などの１種又は２種以上が挙げられる。なお、この吸光係数は、メタノール又はＣＨ３ＣＮ溶媒に溶解させて測定した値である。
【００４８】
ホスフィンオキサイド化合物としては、トリエチルホスフィンオキサイド、トリｎ−プロピルホスフィンオキサイド、トリｎ−ブチルホスフィンオキサイド、トリｎ−ヘキシルホスフィンオキサイド、トリｎ−オクチルホスフィンオキサイド、トリｎ−シクロヘキシルホスフィンオキサイド、トリス（３−ヒドロキシプロピル）ホスフィンオキサイド、トリフェニルホスフィンオキサイド等を用いることができる。
【００４９】
アシルホスフィンオキサイド化合物としては、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２，６−ジメトキシベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２，６−ジクロロベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２，３，５，６−テトラメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２，６−ジメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、４−メチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、４−エチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、４−イソプロピルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、１−メチルシクロヘキサノイルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルフェニルホスフィン酸メチルエステル、２，４，６−トリメチルベンゾイルフェニルホスフィン酸イソプロピルエステル、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド等を用いることができる。
【００５０】
このような可視光吸収性化合物の配合量は樹脂成分１００重量部に対して０．１〜５重量部、特に０．３〜３重量部とすることが好ましい。この可視光吸収性化合物の配合量が少な過ぎると硬化を円滑に促進させることができず、多過ぎると耐光性に悪影響が出る。
【００５１】
本発明に係るハードコート層には、更に光安定剤を配合しても良く、光安定剤を配合することにより、ハードコート層の耐候（光）性をより一層向上させることができる。
【００５２】
この場合、光安定剤としては、ヒンダードアミン系光安定剤を好適に用いることができ、ヒンダードアミン系光安定剤としては、例えば、チヌビン１２３、チヌビン２９２，チヌビン１４４〔以上いずれもチバ・スペシャリティ・ケミカル社製〕;ＭＡＲＫ ＬＡ−５７，ＬＡ−６２，ＬＡ−６７，ＬＡ−６３，ＬＡ−６８〔以上いずれもアデカアーガス化学(株)製〕;サノールＬＳ−７７０，ＬＳ−７６５，ＬＳ−２９２，ＬＳ−２６２６，ＬＳ−１１１４，ＬＳ−７４４〔以上いずれも三共ライフテック(株)製〕などが挙げられる。
【００５３】
光安定剤は、ハードコート層の樹脂成分１００重量部に対して０．１〜１０重量部用いることが好ましい。
【００５４】
ハードコート層が形成される基材フィルムとしては、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリメチルメタアクリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリウレタン、セロファン等、好ましくはＰＥＴ、ＰＣ、ＰＭＭＡの透明フィルムが挙げられる。
【００５５】
基材フィルムの厚さは、１μｍ〜１０ｍｍ特に１０〜１０００μｍが好適である。
【００５６】
本発明の反射防止フィルムは、このような基材フィルム上にハードコート層を介して反射防止層を形成してなるものである。この反射防止層は、低屈折率層のみからなるものであってもよく、高屈折率層と低屈折率層とを低屈折率層が表面側となるように積層したものであってもよい。
【００５７】
低屈折率層、高屈折率層のマトリックスはいずれもハードコート層のマトリックスと同様のものが好適である。
【００５８】
高屈折率層及びハードコート層のいずれか一方に、ＩＴＯ，ＡＴＯ，Ｓｂ２Ｏ３，ＳｂＯ２，Ｉｎ２Ｏ３，ＳｎＯ２，ＺｎＯ等の導電性金属酸化物微粒子を配合することが好ましく、特にハードコート層の表面抵抗を５×１０１０Ω／□以下とすることにより反射防止フィルムに帯電防止機能を持たせることが好ましい。
【００５９】
高屈折率層は、ＩＴＯ（スズインジウム酸化物）又はＺｎＯ、ＡｌをドープしたＺｎＯ、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、ＺｒＯ等の高屈折率の金属酸化物微粒子を配合することにより屈折率を１．６４以上としたものが好適である。
【００６０】
なお、高屈折率層が導電層である場合、この高屈折率層の屈折率を１．６４以上とすることにより反射防止フィルムの表面反射率の最小反射率を１．５％以内にすることができ、１．６９以上、好ましくは１．６９〜１．８２とすることにより反射防止層の表面反射率の最小反射率を１．０％以内にすることができる。
【００６１】
ハードコート層が導電層である場合、該高屈折率層の屈折率を１．７０以上とすることにより反射防止層の表面反射率の最小反射率を１．５％以内にすることができ、１．７５以上とすることにより反射防止層の表面反射率の最小反射率を１．０％以内にすることができる。
【００６２】
ハードコート層は、可視光透過率が８５％以上であることが好ましい。高屈折率層及び低屈折率層の可視光透過率も、いずれも８５％以上であることが好ましい。
【００６３】
低屈折率層には、屈折率低下、耐傷性向上、すべり性向上のためにシリカ、フッ素樹脂等の微粒子を１０〜４０重量％程度配合することが好ましい。
【００６４】
この低屈折率層の屈折率は、１．４５〜１．５１が好ましい。この低屈折率層の屈折率が１．５１超であると、反射防止フィルムの反射防止特性が悪くなる。
【００６５】
ハードコート層の厚みは２〜２０μｍが好ましく、高屈折率層の厚みは７５〜９０ｎｍが好ましく、低屈折率層の厚みは８５〜１１０ｎｍであることが好ましい。
【００６６】
基材フィルム上にハードコート層及び低屈折率層、或いはハードコート層、高屈折率層及び低屈折率層を形成するには、前記の通り、未硬化の樹脂組成物（必要に応じ上記の微粒子を配合したもの）を塗工し、次いで紫外線又は電子線を照射するのが好ましい。この場合、各層を１層ずつ塗工し硬化させてもよく、２以上、例えばすべての層を塗工した後、まとめて硬化させてもよい。
【００６７】
塗工の具体的な方法としては、アクリルモノマーをトルエン等の溶媒で溶液化した塗布液をグラビアコータによりコーティングし、その後乾燥し、次いで紫外線又は電子線照射によりキュアする方法が例示される。このウェットコーティング法であれば、高速で均一に且つ安価に成膜できるという利点がある。このコーティング後に例えば紫外線又は電子線を照射してキュアすることにより密着性の向上、膜の硬度の上昇という効果が奏される。
【００６８】
このような本発明の反射防止フィルムを備える本発明のディスプレイ用フィルターの構成には特に制限はないが、次のような積層構成を採用することができる。
（１）基材フィルム／導電層／ハードコート層／低屈折率層
（２）基材フィルム／導電層／ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層
（３）色素含有層／基材フィルム／導電層／ハードコート層／低屈折率層
（４）色素含有層／基材フィルム／導電層／ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層
（５）色素含有層／導電層／基材フィルム／ハードコート層／低屈折率層
（６）色素含有層／導電層／基材フィルム／ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層
また、上記（１）〜（６）の積層構成において、更に基材フィルムのハードコート層形成面とは反対側の面の最表面に粘着剤層を設けた構成とすることもでき、このような粘着剤層を有するものは、この粘着剤層によりプラズマディスプレイパネルの前面に貼着して使用するディスプレイ用フィルターとして好適である。
【００６９】
導電性メッシュの開口率とは、当該導電性メッシュの投影面積における開口部分が占める面積割合を言う。
【００７０】
導電層としては、エッチングメッシュ又は導電印刷メッシュを用いることができる。
【００７１】
エッチングメッシュとしては、金属膜をフォトリソグラフィーの手法で格子状やパンチングメタル状などの任意の形状にエッチング加工したものを用いることができる。この金属膜としては、上記基材フィルム上に、銅、アルミ、ステンレス、クロムなどの金属膜を、蒸着やスパッタリングにより形成したもの、又はこれらの金属の箔を接着剤によって基材フィルムに貼り合わせたものを用いることができる。この接着剤としては、エポキシ系、ウレタン系、ＥＶＡ系などが好ましい。
【００７２】
これらの金属膜は予め、片面又は両面に黒化処理を施しておくことが好ましい。フォトリソグラフィーの手法を用いることで、導電部分の形状を自由に設計することができ、また、開口率を高くすることができる。
【００７３】
導電印刷メッシュとしては、銀、銅、アルミ、ニッケル等の金属粒子又はカーボン等の非金属導電粒子を、エポキシ系、ウレタン系、ＥＶＡ系、メラニン系、セルロース系、アクリル系等のバインダーに混合したものを、グラビア印刷、オフセット印刷、スクリーン印刷などにより、上記基材フィルム上に格子状等のパターンで印刷したものを用いることができる。
【００７４】
また、導電性メッシュとして、フィルム面に、溶剤に対して可溶な物質によってドットを形成し、フィルム面に溶剤に対して不溶な導電材料よりなる導電材料層を形成し、フィルム面を溶剤と接触させてドット及びドット上の導電材料層を除去することによって得られる導電性メッシュを用いてもよい。
【００７５】
このような導電層をさらに低い抵抗値にして、電磁波シールド効果を高めたい場合には、導電層上にメッキ層を形成してもよい。
【００７６】
メッキ処理に使用される材料としては、銅、ニッケル、クロム、亜鉛、スズ、銀及び金を挙げることができる。これらは単独で使用しても、２種以上の合金として使用しても良い。メッキ処理としては、通常の液相メッキ（電解メッキ、無電解メッキ等）により一般に行われる。
【００７７】
また、防眩性能を付与させてもよい。この防眩化処理を行う場合、導電性メッシュの表面に黒化処理を行っても良い。例えば、金属膜の酸化処理、クロム合金等の黒色メッキを行うことができる。
【００７８】
なお、この導電性メッシュを覆うように透明化処理層を設けてもよい。この透明化処理層は導電性メッシュの凹凸を均してディスプレイ用フィルターの透明性を高める作用を奏する。この透明化処理層には、透明な粘着剤又は接着剤、例えばブチルアクリレート等のアクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、ＳＥＢＳ、ＳＢＳ等の熱可塑性エラストマー樹脂をベースとしたＴＰＥ系粘着剤および接着剤等が用いられる。
【００７９】
この透明化処理層は例えば塗工により形成することができる。この透明化処理層の厚さは５〜５００μｍ特に１０〜１００μｍ程度が好適である。
【００８０】
色素含有層は、合成樹脂塗工液中に近赤外線の吸収色素及び/又は色調補正色素を含有させたものを塗工して形成することができる。
【００８１】
近赤外線吸収色素としては、８００〜１２００ｎｍに吸収極大波長をもつものであれば特に制限されないが、フタロシアニン系、金属錯体系、ニッケルジチオレン錯体系、シアニン系、スクアリリウム系、ポリメチン系、アゾメチン系、アゾ系、ポリアゾ系、ジイモニウム系、アミニウム系、アントラキノン系の色素が用いられる。
【００８２】
色調補正色素としては、ネオン発光の吸収機能をもたせて色調の調節を行うものが挙げられ、この場合、ネオン発光の選択吸収色素としてはシアニン系、ポルフィリン化合物、スクアリリウム系、アントラキノン系、フタロシアニン系、ポリメチン系、ポリアゾ系、アズレニウム系、ジフェニルメタン系、トリフェニルメタン系等が挙げられる。かかる選択吸収色素は、５８５ｎｍ付近のネオン発光の選択吸収性とそれ以外の可視光波長に対しては吸収が小さいことが必要となるため、吸収極大波長が５７５〜５９５ｎｍであり、吸収スペクトル半値幅が４０ｎｍ以下であるものが好適に用いられる。
【００８３】
また、近赤外線吸収色素や色調補正色素を複数種類組み合わせる場合、プロセス上の色素の溶解性に問題がある場合や、混合による色素間の反応や、耐熱性、耐湿性などの低下が認められる場合はすべての近赤外線吸収色素や色調補正色素を同一の層内に含む必要はなく、別の層として形成してもよいことは勿論である。
【００８４】
また、光学特性に大きな影響を与えない範囲であれば、さらに着色用の色素、紫外線吸収剤、酸化防止剤を加えてもよい。
【００８５】
ディスプレイ用フィルターの光学特性としては近赤外線吸収特性として８５０〜１０００ｎｍの透過率が２０％以下さらに好ましくは１５％以下にするのがよい。また選択吸収性としては５８５ｎｍの透過率が５０％以下であることが望ましい。特に前者の場合には、周辺機器におけるリモコン等への誤作動が指摘されている波長域の透過度を減少させることがねらいであり、後者のそれは、５７５〜５９５ｎｍにピークをもつオレンジ色が色再現性を悪化させる原因となっているが、このオレンジ色の波長を吸収することがねらいで、これによって真赤性を高めて色の再現性を向上させたものである。
【００８６】
この色素含有層の厚さは０．５〜５０μｍ程度が好適である。
【００８７】
粘着剤層は、ディスプレイ用フィルターをプラズマディスプレイパネル等に貼着することができるようにするためのものである。この粘着剤層には、透明な粘着剤又は接着剤、例えばブチルアクリレート等のアクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、ＳＥＢＳ、ＳＢＳ等の熱可塑性エラストマー樹脂をベースとしたＴＰＥ系粘着剤および接着剤等が用いられる。
【００８８】
この粘着剤層の厚さは５〜５００μｍ特に１０〜１００μｍ程度が好適である。
【実施例】
【００８９】
以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をより具体的に説明する。
【００９０】
なお、以下においては、基材フィルムとして厚さ１００μｍのＰＥＴフィルムの一方の面に導電性のメッシュ（銅よりなるメッシュ，線幅２０μｍ、開口率８１％）が一体的に設けられたものを用い、この導電性メッシュ面にハードコート層、高屈折率層及び低屈折率層を順次成膜した。
【００９１】
実施例１
多官能アクリレート（日本化薬製ＤＰＨＡ）：８０重量部、平均粒径１５０ｎｍのＩＴＯ：２０重量部、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤（チバ・スペシャリティ・ケミカル社製「チヌビンＰＳ」２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール）：１０重量部、メチルエチルケトン：１００重量部、トルエン：１００重量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカル社製「イルガキュア１８４」１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン）：４重量部、可視光吸収性化合物（ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド）：１重量部を混合してハードコート層用塗布液を調製し、この塗布液を上記基材フィルムに塗布して紫外線を照射することにより、屈折率１．５２、厚さ５μｍのハードコート層を形成した。
【００９２】
次いで、多官能アクリレート（日本化薬製ＤＰＨＡ）：６重量部、ＺｎＯ：４重量部、メチルエチルケトン：１００重量部、トルエン：１００重量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカル社製「イルガキュア１８４」１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン）：１重量部を混合して高屈折率層用塗布液を調製し、この塗布液を上記ハードコート層上に塗布し、８０℃のオーブン中で５分間乾燥した後、紫外線を照射することにより、屈折率１．７０、厚さ９０ｎｍの高屈折率層を形成した。
【００９３】
次いで、フッ素化合物を含有している低屈折率層組成物（ＪＳＲ社製「オプスターＪＮ−７２１２」）：１００重量部、メチルエチルケトン：１１７重量部、メチルイソブチルケトン：１１７重量部を混合して低屈折率層用塗布液を調製し、この塗布液を上記高屈折率層上に塗布し、８０℃のオーブン中で５分間乾燥した後、紫外線を照射することにより、屈折率１．４２、厚さ９０ｎｍの低屈折率層を形成した。
【００９４】
このようにして製造された反射防止フィルムについて、下記評価を行い、結果を表１に示した。
【００９５】
＜鉛筆硬度＞
ＪＩＳ−Ｋ５４００に従って、反射防止フィルム表面の鉛筆硬度を測定した。
【００９６】
＜耐候（光）性の評価＞
フュードメーター（スガ試験器製）で２００時間又は１０００時間紫外線を照射した後、反射防止フィルムの外観、基材フィルムに対するハードコート層の密着性を調べた。なお、密着性は碁盤目剥離試験により調べ、残存するマス目の割合で表した。
【００９７】
実施例２
実施例１において、ハードコート層用塗布液に更にヒンダードアミン系光安定剤（チバ・スペシャリティ・ケミカル社製「チヌビン１２３」）を３重量部配合したこと以外は同様にしてハードコート層、高屈折率層及び低屈折率層を形成し、同様に評価を行って、結果を表１に示した。
【００９８】
比較例１
実施例１において、ハードコート層用塗布液に、紫外線吸収剤と可視光吸収性化合物を配合しなかったこと以外は、同様にしてハードコート層、高屈折率層及び低屈折率層を形成し、同様に評価を行って、結果を表１に示した。
【００９９】
実施例３
実施例１において、ハードコート層用塗布液に可視光吸収性化合物を配合しなかったこと以外は、同様にしてハードコート層、高屈折率層及び低屈折率層を形成し、同様に評価を行って、結果を表１に示した。
【０１００】
【表１】
【０１０１】
表１より、ハードコート層に紫外線吸収剤を配合することにより、ハードコート層の耐候（光）性を高めることができることができ、更に光安定剤を配合することにより、耐候（光）性をより高めることができることが分かる。
【０１０２】
また、可視光吸収性化合物を配合することにより、紫外線吸収剤による硬化阻害を防止して高硬度のハードコート層を形成することができることが分かる。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材フィルム上に、ハードコート層を介して該ハードコート層よりも屈折率の低い低屈折率層が形成されてなる反射防止フィルムにおいて、該ハードコート層が紫外線吸収剤を含むことを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項２】
請求項１において、前記ハードコート層と低屈折率層との間に該ハードコート層よりも屈折率の高い高屈折率層を有することを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項３】
請求項１又は２において、前記紫外線吸収剤が無機微粒子であることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項４】
請求項３において、前記無機微粒子が、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉄及び硫酸バリウムの少なくとも１種であることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項５】
請求項１又は２において、前記紫外線吸収剤が有機系紫外線吸収剤であることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項６】
請求項５において、前記有機系紫外線吸収剤がベンゾトリアゾール系化合物であることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれか１項において、前記ハードコート層が光安定剤を含むことを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項８】
請求項７において、前記光安定剤がヒンダードアミン系光安定剤であることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項９】
請求項１ないし８のいずれか１項において、前記ハードコート層が紫外線硬化型樹脂組成物により形成されることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項１０】
請求項９において、前記紫外線硬化型樹脂組成物が、重合開始剤として可視光波長域に吸収を有する化合物と、紫外光波長域に吸収を有する化合物とを含有することを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項１１】
請求項１０において、前記可視光波長域に吸収を有する化合物が、波長４０５ｎｍの吸光係数が１×１０１ｍｌ／ｇｃｍ以上である化合物であることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項１２】
請求項１０又は１１において、前記可視光波長域に吸収を有する化合物がホスフィンオキサイド系化合物であることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項１３】
請求項１ないし１２のいずれか１項に記載の反射防止フィルムを含むことを特徴とするディスプレイ用フィルター。
【請求項１４】
請求項１３において、前記基材フィルムの前記ハードコート層側の面及び／又は前記ハードコート層と反対側の面に導電層を有することを特徴とするディスプレイ用フィルター。
【請求項１５】
請求項１３において、前記導電層が導電性メッシュであることを特徴とするディスプレイ用フィルター。
【請求項１６】
請求項１３ないし１５のいずれか１項において、前記基材フィルムの前記ハードコート層と反対側の面に色素含有層を有することを特徴とするディスプレイ用フィルター。
【請求項１７】
請求項１６において、前記色素含有層に含まれる色素が近赤外線吸収色素及び／又は色調補正色素であることを特徴とするディスプレイ用フィルター。
【請求項１８】
請求項１６又は１７において、前記基材フィルムの前記ハードコート層と反対側の面に導電層を介して前記色素含有層が設けられていることを特徴とするディスプレイ用フィルター。
【請求項１９】
請求項１３ないし１８のいずれか１項において、前記基材フィルムの前記ハードコート層と反対側の面の最表面に粘着剤層が形成されていることを特徴とするディスプレイ用フィルター。
【請求項２０】
請求項１９に記載のディスプレイ用フィルターを前面に設置してなることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項１】
基材フィルム上に、ハードコート層を介して該ハードコート層よりも屈折率の低い低屈折率層が形成されてなる反射防止フィルムにおいて、該ハードコート層が紫外線吸収剤を含むことを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項２】
請求項１において、前記ハードコート層と低屈折率層との間に該ハードコート層よりも屈折率の高い高屈折率層を有することを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項３】
請求項１又は２において、前記紫外線吸収剤が無機微粒子であることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項４】
請求項３において、前記無機微粒子が、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉄及び硫酸バリウムの少なくとも１種であることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項５】
請求項１又は２において、前記紫外線吸収剤が有機系紫外線吸収剤であることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項６】
請求項５において、前記有機系紫外線吸収剤がベンゾトリアゾール系化合物であることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれか１項において、前記ハードコート層が光安定剤を含むことを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項８】
請求項７において、前記光安定剤がヒンダードアミン系光安定剤であることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項９】
請求項１ないし８のいずれか１項において、前記ハードコート層が紫外線硬化型樹脂組成物により形成されることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項１０】
請求項９において、前記紫外線硬化型樹脂組成物が、重合開始剤として可視光波長域に吸収を有する化合物と、紫外光波長域に吸収を有する化合物とを含有することを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項１１】
請求項１０において、前記可視光波長域に吸収を有する化合物が、波長４０５ｎｍの吸光係数が１×１０１ｍｌ／ｇｃｍ以上である化合物であることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項１２】
請求項１０又は１１において、前記可視光波長域に吸収を有する化合物がホスフィンオキサイド系化合物であることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項１３】
請求項１ないし１２のいずれか１項に記載の反射防止フィルムを含むことを特徴とするディスプレイ用フィルター。
【請求項１４】
請求項１３において、前記基材フィルムの前記ハードコート層側の面及び／又は前記ハードコート層と反対側の面に導電層を有することを特徴とするディスプレイ用フィルター。
【請求項１５】
請求項１３において、前記導電層が導電性メッシュであることを特徴とするディスプレイ用フィルター。
【請求項１６】
請求項１３ないし１５のいずれか１項において、前記基材フィルムの前記ハードコート層と反対側の面に色素含有層を有することを特徴とするディスプレイ用フィルター。
【請求項１７】
請求項１６において、前記色素含有層に含まれる色素が近赤外線吸収色素及び／又は色調補正色素であることを特徴とするディスプレイ用フィルター。
【請求項１８】
請求項１６又は１７において、前記基材フィルムの前記ハードコート層と反対側の面に導電層を介して前記色素含有層が設けられていることを特徴とするディスプレイ用フィルター。
【請求項１９】
請求項１３ないし１８のいずれか１項において、前記基材フィルムの前記ハードコート層と反対側の面の最表面に粘着剤層が形成されていることを特徴とするディスプレイ用フィルター。
【請求項２０】
請求項１９に記載のディスプレイ用フィルターを前面に設置してなることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【公開番号】特開２００８−９００６７（Ｐ２００８−９００６７Ａ）
【公開日】平成２０年４月１７日（２００８．４．１７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−２７１９７５（Ｐ２００６−２７１９７５）
【出願日】平成１８年１０月３日（２００６．１０．３）
【出願人】（０００００５２７８）株式会社ブリヂストン (11,469)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年４月１７日（２００８．４．１７）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年１０月３日（２００６．１０．３）
【出願人】（０００００５２７８）株式会社ブリヂストン (11,469)
【Ｆターム（参考）】
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