回転成形法のための安定剤組み合わせ
【課題】優れた色及びガス劣化耐性を有する中空製品を得ることができる回転成形法を提供する。
【解決手段】（ａ）有機ホスフィット及びホスホナイトの群からの少なくとも一つの化合物、（ｂ）（ｉ）ヒドロキシルアミン誘導体、及び（ｉｉ）アミンオキシド誘導体からなる群から選択された一つ又はそれより多くの化合物、並びに（ｃ）立体障害アミン安定剤の群からの少なくとも一つの化合物からなる安定剤組み合わせをポリオレフィンに投入し、この混合物を成形型内に充填し、安定化されたポリオレフィンが溶融するように前記成形型をオーブン中で２８０℃以上に加熱し、前記成形型を少なくとも二軸の回りに回転させ、可塑性材料を壁面に広げ、なお回転させながら前記成形型を冷却し、該成形型を開き、次いで得られた中空製品を取り出すことからなるポリオレフィン中空製品の製造方法。
【解決手段】（ａ）有機ホスフィット及びホスホナイトの群からの少なくとも一つの化合物、（ｂ）（ｉ）ヒドロキシルアミン誘導体、及び（ｉｉ）アミンオキシド誘導体からなる群から選択された一つ又はそれより多くの化合物、並びに（ｃ）立体障害アミン安定剤の群からの少なくとも一つの化合物からなる安定剤組み合わせをポリオレフィンに投入し、この混合物を成形型内に充填し、安定化されたポリオレフィンが溶融するように前記成形型をオーブン中で２８０℃以上に加熱し、前記成形型を少なくとも二軸の回りに回転させ、可塑性材料を壁面に広げ、なお回転させながら前記成形型を冷却し、該成形型を開き、次いで得られた中空製品を取り出すことからなるポリオレフィン中空製品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、回転成形法によるポリオレフィン中空製品の製造、以下の本文中に記載された使用される加工安定剤組み合わせに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
回転成形法又は回転による成形及び／又は注型法は、ガラス繊維で強化され得る相当大きなプラスチック中空製品の製造のために使用される〔ポリマー科学及び工学大辞典（Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ ｏｆ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ） ，Ｗｉｌｅｒ Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ，１９８８，Ｖｏｌ．１４，第６５９〜６７０頁〕。原則的に、前記方法は下記の如く行われる：プラスチック材料を成形型の半分に充填し、これを次いで他の半分と共に型閉めし、次いで、異なる軸の回りに回転された場合に溶融したプラスチック材料が前記成形型の壁面に広がるように、オーブン中で加熱する。冷却後、中空製品が得られる。このようにして、例えば、ＨＤポリエチレン製の貯蔵及びトラック輸送タンクを製造することが可能である。前記方法は通常、３００℃以上の範囲の温度を必要とし、時々は４００℃以上の範囲の温度さえも必要とする。安定剤に対する要求は、それ故、例えば押出法における要求（温度は通常約２８０℃以上であることはほとんどない）と異なり且つ一層厳しい。
【０００３】
ポリオレフィンに関する、ホスフィット又はホスホナイトと、立体障害フェノール及び／又は立体障害アミン（ＨＡＬＳ）とからなる安定剤組み合わせの使用が知られている［とりわけ、アール．ゲヒター（Ｒ．Ｇａｅｃｈｔｅｒ），エイチ．ミュラー（Ｈ．Ｍｕｅｌｌｅｒ） ，“プラスチック添加剤ハンドブック（Ｐｌａｓｔｉｃ Ａｄｄｉｔｉｖｅｓ Ｈａｎｄｂｏｏｋ）”，Ｈａｎｓｅｒ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ ，第４０〜７１頁（１９９０）参照］。
【０００４】
ヒドロキシルアミン誘導体、例えばＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン及びＮ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシルアミンは、例えば、アメリカ合衆国特許第４５９０２３１号，同第４６６８７２１号，同第４７８２１０５号及び同第４８７６３００号（これらの関連部分は、文献として本明細書中に取り込まれている）に教示されているように、種々のポリマー状基材のための有用な安定剤として良く知られている。
【０００５】
アメリカ合衆国特許第４６４９２２１号，同第４６９１０１５号及び同第４７０３０７３号には、ポリオレフィンを安定化するための、フェノール系酸化防止剤、立体障害アミン光安定剤、アルキル化ヒドロキシベンゾエート光安定剤、紫外線吸収剤、有機燐化合物、脂肪酸のアルカリ金属塩及びチオ相乗剤の群から選択された一つ又はそれより多くの化合物と一緒になったポリヒドロキシルアミン化合物、立体障害アミンから誘導されたヒドロキシルアミン及びアルキル化Ｎ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシルアミン誘導体の各々の使用が教示されている。
【０００６】
アメリカ合衆国特許第４７８２１０５号には、ポリ（アリーレンスルフィド）及び不飽和エラストマーの安定化のための長鎖Ｎ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミンの使用が開示されている。実施例には、スチレン／ブタジエン・コポリマーにおいて、長鎖Ｎ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミンはホスフィット安定剤と一緒に使用されることが示されている。
【０００７】
アメリカ合衆国特許第４８７６３００号には、ポリオレフィン組成物のための加工安定剤としての長鎖Ｎ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミンの使用が開示されている。実施例
には、長鎖Ｎ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミンがホスフィット安定剤と共に使用され、そしてまた、それらが立体障害アミン安定剤と一緒に使用されることが示されている。
【０００８】
アメリカ合衆国特許第４５９０２３１号及び同第４６６８７２１号には、ポリオレフィン組成物の安定化のための、脂肪酸の金属塩及びフェノール系酸化防止剤と一緒になったＮ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシルアミン又は他のヒドロキシルアミン誘導体の使用が開示されている。前記組成物も、有機燐化合物又は立体障害アミン安定剤を含んでよい。
【０００９】
アメリカ合衆国特許第５０１３５１０号には、直接酸化による長鎖Ｎ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミンの製造方法が教示されている。ポリオレフィン組成物の安定化に対して、長鎖Ｎ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミンが有効であることが述べられている。
【００１０】
アメリカ合衆国特許第５５９６０３３号には、選ばれた立体障害アミンと、Ｎ，Ｎ−ジ（水素化獣脂）アミンの直接酸化により製造されたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミンとからなる二成分系を用いるポリプロピレン繊維の安定化が開示されている。
【００１１】
アメリカ合衆国特許第５１４９７７４号には、既に開示されたポリオレフィン樹脂の再生中の着色を低減させるためのヒドロキシルアミン誘導体の使用が開示されている。
【００１２】
アメリカ合衆国特許第５８４４０２９号及び同第５８８０１９１号には、熱可塑性樹脂の安定化のための飽和炭化水素アミンオキシドの使用が開示されている。前記熱可塑性組成物は、更にフェノール系安定剤、立体障害アミン光安定剤、紫外線吸収剤、有機燐化合物、脂肪酸のアルカリ金属塩及びチオ相乗剤からなる群から選択された安定剤又は安定剤混合物を含み得ることが開示されている。ポリオレフィンを安定化するためのアミンと他の安定剤との共同使用は例示されていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１３】
【特許文献１】米国特許第４５９０２３１号明細書
【特許文献２】米国特許第４６６８７２１号明細書
【特許文献３】米国特許第４７８２１０５号明細書
【特許文献４】米国特許第４８７６３００号明細書
【特許文献５】米国特許第４６４９２２１号明細書
【特許文献６】米国特許第４６９１０１５号明細書
【特許文献７】米国特許第４７０３０７３号明細書
【特許文献８】米国特許第４７８２１０５号明細書
【特許文献９】米国特許第４８７６３００号明細書
【特許文献１０】米国特許第４５９０２３１号明細書
【特許文献１１】米国特許第４６６８７２１号明細書
【特許文献１２】米国特許第５０１３５１０号明細書
【特許文献１３】米国特許第５５９６０３３号明細書
【特許文献１４】米国特許第５１４９７７４号明細書
【特許文献１５】米国特許第５８４４０２９号明細書
【特許文献１６】米国特許第５８８０１９１号明細書
【非特許文献】
【００１４】
【非特許文献１】ポリマー科学及び工学大辞典（Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ ｏｆ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ） ，Ｗｉｌｅｒ Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ，１９８８，Ｖｏｌ．１４，第６５９〜６７０頁
【非特許文献２】アール．ゲヒター（Ｒ．Ｇａｅｃｈｔｅｒ），エイチ．ミュラー（Ｈ．Ｍｕｅｌｌｅｒ） ，”プラスチック添加剤ハンドブック（Ｐｌａｓｔｉｃ Ａｄｄｉｔｉｖｅｓ Ｈａｎｄｂｏｏｋ）”，Ｈａｎｓｅｒ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ ，第４０〜７１頁（１９９０）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
有機ホスフィット又はホスホナイト及び立体障害アミン安定剤と一緒になったヒドロキシルアミン誘導体の組み合わせは、回転成形法において優れた安定性を示すことが今や判った。本発明に従って製造された中空成形品は、優れた初期色及びガス劣化耐性を示す。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
従って、本発明は、
（ａ）有機ホスフィット及びホスホナイトの群からの少なくとも一つの化合物、
（ｂ）（ｉ）ヒドロキシルアミン誘導体、及び
（ｉｉ）アミンオキシド誘導体
からなる群から選択された一つ又はそれより多くの化合物、並びに
（ｃ）立体障害アミン安定剤からなる群からの少なくとも一つの化合物
からなる安定剤組み合わせをポリオレフィンに投入し、
この混合物を成形型内に充填し、安定化されたポリオレフィンが溶融するように前記成形型をオーブン中で２８０℃以上に加熱し、前記成形型を少なくても二軸の回りに回転させ、可塑性材料を壁面に広げ、なお回転させながら前記成形型を冷却し、該成形型を開き、次いで得られた中空製品を取り出すことからなるポリオレフィン中空製品の新規製造方法に関するものである。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
成分（ａ）が少なくとも一つの次式（１），（２），（３），（４），（５），（６）及び（７）：
【化１】
【化２】
〔式中、指数は整数であり、そして
ｎは２，３又は４であり、ｐは１又は２であり、ｑは２又は３であり、ｒは４ないし１２であり、ｙは１，２又は３であり、そしてｚは１ないし６であり、
Ａ1は、ｎが２である場合は、炭素原子数２ないし１８のアルキレン基；酸素原子，硫
黄原子又は−ＮＲ4基により中断された炭素原子数２ないし１２のアルキレン基；次式：
【化３】
で表わされる基又はフェニレン基を表わし、
Ａ1は、ｎが３である場合は、式−ＣrＨ2r-1で表わされる基を表わし、
Ａ1は、ｎが４である場合は、次式：
【化４】
で表わされる基を表わし、
Ａ2は、ｎが２である場合のＡ1 に対して定義されたものと同じ意味を表わし、
Ｂは直接結合、−ＣＨ2−基、−ＣＨＲ4−基、−ＣＲ1Ｒ4−基、硫黄原子、炭素原子数５ないし７のシクロアルキリデン基、又は３，４及び／又は５位が１ないし４個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換されたシクロヘキシリデン基を表わし、
Ｄ1は、ｐが１である場合は、炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わし、そして、
ｐが２である場合は、−ＣＨ2 ＯＣＨ2 −基を表わし、
Ｄ2は、ｐが１である場合は、炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わし、
Ｅは、ｙが１である場合は、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、−ＯＲ1基又はハ
ロゲン原子を表わし、
Ｅは、ｙが２である場合は、−Ｏ−Ａ2−Ｏ−基を表わし、
Ｅは、ｙが３である場合は、式Ｒ4Ｃ（ＣＨ2Ｏ−）3又はＮ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−）3で表わされる基を表わし、
Ｑは少なくともｚ価のアルコール又はフェノールの基を表わし、前記基は酸素原子を介して燐原子に結合しており、
Ｒ1，Ｒ2及びＲ3は互いに独立して、非置換又はハロゲン原子，−ＣＯＯＲ4 基，−Ｃ
Ｎ基若しくは−ＣＯＮＲ4Ｒ4基により置換された炭素原子数１ないし１８のアルキル基；酸素原子，硫黄原子又は−ＮＲ4基により中断された炭素原子数２ないし１８のアルキル
基；炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基；炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；フェニル基又はナフチル基；ハロゲン原子，全体で１ないし１８個の炭素原子を有する１ないし３個のアルキル基若しくはアルコキシ基により、又は炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基により置換されたナフチル基又はフェニル基；又は次式：
【化５】
（式中、ｍは３ないし６の範囲の整数である）で表わされる基を表わし、
Ｒ4は水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数５ないし１２のシ
クロアルキル基又は炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表わし、
Ｒ5及びＲ6は互いに独立して、水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基又は炭素原子数５若しくは６のシクロアルキル基を表わし、
Ｒ7及びＲ8は、ｑが２である場合は、互いに独立して、炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わし、又は一緒になって２，３−デヒドロペンタメチレン基を表わし、そして
Ｒ7及びＲ8は、ｑが３である場合は、メチル基を表わし、
Ｒ14は水素原子、炭素原子数１ないし９のアルキル基又はシクロヘキシル基を表わし、
Ｒ15は水素原子又はメチル基を表わし、そして、二つ又はそれより多くの基Ｒ14及びＲ15が存在する場合は、これらの基は同一であり又は異なり、
Ｘ及びＹは各々、直接結合又は酸素原子を表わし、
Ｚは直接結合、メチレン基、−Ｃ（Ｒ16）2−基又は硫黄原子を表わし、そして
Ｒ16は炭素原子数１ないし８のアルキル基を表わす〕からなる群から選択される化合物である新規方法は重要である。
【００１８】
炭素原子数２ないし１８のアルキレン基は分岐又は非分岐基、例えば、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘプタメチレン基、オクタメチレン基、デカメチレン基、ドデカメチレン基又はオクタデカメチレン基である。炭素原子数２ないし１２のアルキレン基、とりわけ炭素原子数２ないし８のアルキレン基が好ましい。
【００１９】
酸素原子、硫黄原子又は−ＮＲ4−基により中断された炭素原子数２ないし１８のアル
キレン基は、例えば、−ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2−基、−ＣＨ2−Ｓ−ＣＨ2−基、−ＣＨ2−Ｎ
Ｈ−ＣＨ2−基、−ＣＨ2−Ｎ（ＣＨ3）−ＣＨ2−基、−ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2−Ｏ−Ｃ
Ｈ2−基、−ＣＨ2−（Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2）2Ｏ−ＣＨ2−基、−ＣＨ2−（Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2）3Ｏ−ＣＨ2−基、−ＣＨ2−（Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2）4Ｏ−ＣＨ2−基又は−ＣＨ2ＣＨ2−Ｓ−ＣＨ2ＣＨ2−基である。
【００２０】
炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数５ないし７のシクロアルキリデン基（好ましくは、１ないし３個、とりわけ１又は２個の分岐又は非分岐アルキル基を含む）は、例えば、シクロペンチリデン基、メチルシクロペンチリデン基、ジメチルシクロペンチリデン基、シクロヘキシリデン基、メチルシクロヘキシリデン基、ジメチルシクロヘキシリデン基、トリメチルシクロヘキシリデン基、第三ブチルシクロヘキシリデン基又はシクロヘプチリデン基である。シクロヘキシリデン基及び第三ブチルシクロヘキシリデン基が好ましい。
【００２１】
１８個までの炭素原子を有するアルキル基は、分岐又は非分岐基、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、第二ブチル基、イソブチル基、
第三ブチル基、２−エチルブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、１−メチルペンチル基、１，３−ジメチルブチル基、ｎ−ヘキシル基、１−メチルヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、イソヘプチル基、１，１，３，３−テトラメチルブチル基、１−メチルヘプチル基、３−メチルヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、１，１，３−トリメチルヘキシル基、１，１，３，３−テトラメチルペンチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、１−メチルウンデシル基、ドデシル基、１，１，３，３，５−ヘキサメチルヘキシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基又はオクタデシル基である。
【００２２】
ハロゲン原子（ハロ）は、例えば、塩素原子、臭素原子又は沃素原子である。塩素原子が好ましい。
【００２３】
酸素原子、硫黄原子又は−ＮＲ4−基により中断された炭素原子数２ないし１８のアル
キル基は、例えば、ＣＨ3−Ｏ−ＣＨ2−基、ＣＨ3−Ｓ−ＣＨ2−基、ＣＨ3−ＮＨ−ＣＨ2−基、ＣＨ3−Ｎ（ＣＨ3）−ＣＨ2−基、ＣＨ3−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2−基、ＣＨ3−（Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2）2Ｏ−ＣＨ2−基、ＣＨ3−（Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2）3Ｏ−ＣＨ2−基又は
ＣＨ3−（Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2）4Ｏ−ＣＨ2−基である。
【００２４】
炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基は、例えば、ベンジル基、α−メチルベンジル基、α，α−ジメチルベンジル基又は２−フェニルエチル基である。ベンジル基及びα，α−ジメチルベンジル基が好ましい。
【００２５】
非置換又は炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基は、例えば、シクロペンチル基、メチルシクロペンチル基、ジメチルシクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロヘキシル基、トリメチルシクロヘキシル基、第三ブチルシクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基、シクロウンデシル基又はシクロドデシル基である。シクロヘキシル基及び第三ブチルシクロヘキシル基が好ましい。
【００２６】
１８個までの炭素原子を有するアルコキシ基は、分岐又は非分岐基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ペントキシ基、イソペントキシ基、ヘキソキシ基、ヘプトキシ基、オクトキシ基、デシロキシ基、テトラデシロキシ基、ヘキサデシロキシ基又はオクタデシロキシ基である。１ないし１２個、とりわけ１ないし８個、例えば１ないし６個の炭素原子を有するアルコキシ基が好ましい。
【００２７】
成分（ａ）が式（１），（２），（５）及び（６）〔式中、
ｎは数２であり、そしてｙは数１，２又は３であり、
Ａ1は炭素原子数２ないし１８のアルキレン基、ｐ−フェニレン基又はｐ−ビフェニレ
ン基を表わし、
Ｅは、ｙが１である場合は、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、−ＯＲ1又は弗素
原子を表わし、
Ｅは、ｙが２である場合は、ｐ−ビフェニレン基を表わし、
Ｅは、ｙが３である場合は、Ｎ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−）3基を表わし、
Ｒ1，Ｒ2及びＲ3は互いに独立して、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子
数７ないし９のフェニルアルキル基、シクロヘキシル基、フェニル基、又は全体で１ないし１８個の炭素原子を有する１ないし３個のアルキル基により置換された他フェニル基を表わし、
Ｒ14は水素原子又は炭素原子数１ないし９のアルキル基を表わし、
Ｒ15は水素原子又はメチル基を表わし、
Ｘは直接結合を表わし、
Ｙは酸素原子を表わし、
Ｚは直接結合又は−ＣＨ（Ｒ16）−基を表わし、そして
Ｒ16は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わす〕から選択された少なくとも一つの化合物である新規方法が特に重要である。
【００２８】
成分（ａ）が式（１），（２），（５）及び（６）〔式中、
ｎは数２であり、そしてｙは数１又は３であり、
Ａ1はｐ−ビフェニレン基を表わし、
Ｅは、ｙが１である場合は、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基又は弗素原子を表わし、
Ｅは、ｙが３である場合は、Ｎ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−）3基を表わし、
Ｒ1，Ｒ2及びＲ3は互いに独立して、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、又は全体
で２ないし１２個の炭素原子を有する２又は３個のアルキル基により置換された他フェニル基を表わし、
Ｒ14はメチル基又は第三ブチル基を表わし、
Ｒ15は水素原子を表わし、
Ｘは直接結合を表わし、
Ｙは酸素原子を表わし、
Ｚは直接結合、メチレン基又は−ＣＨ（ＣＨ3）−基を表わす〕から選択された少なく
とも一つの化合物である新規方法も同様に重要である。
【００２９】
成分（ａ）が式（１），（２）及び（６）から選択された少なくとも一つの化合物である方法が重要である。
【００３０】
成分（ａ）が少なくとも一つの次式（Ｉ）：
【化６】
〔式中、
Ｒ17及びＲ18は互いに独立して、水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、シクロヘキシル基又はフェニル基を表わし、そして
Ｒ19及びＲ20は互いに独立して、水素原子又は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わす〕で表わされる化合物である方法は特に好ましい。
【００３１】
下記の化合物は、本新規方法における成分（ａ）として使用するために特に適する有機ホスフィット及びホスホナイトの例である：トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホスフィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィット〔イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８，チバ・スペシャルティ・ケミカルズ・コーポレーテッド（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ Ｃｏｒｐ．）〕、ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ第三ブチ
ルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット〔式（Ｄ）〕、ビス（２，６−ジ第三ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット〔式（Ｅ）〕、ビス−イソデシロキシ−ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ第三ブチル−６−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４，６−トリ第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、トリステアリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）４，４’−ビフェニレン−ジホスホナイト〔イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）Ｐ−ＥＰＱ，チバ・スペシャルティ・ケミカルズ・コーポレーテッド（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ Ｃｏｒｐ．），式（Ｈ）〕、６−イソオクチロキシ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン〔式（Ｃ）〕、６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２−メチル−ジベンゾ［ｄ，ｇ］［１，３，２］ジオキサホスホシン〔式（Ａ）〕、ビス（２，４−ジ第三ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスフィット、ビス（２，４−ジ第三ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィット〔式（Ｇ）〕。
【００３２】
特に好ましくは、本新規方法における成分（ａ）として、下記のホスフィット及びホスホナイトが使用される：トリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィット〔イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８，チバ・スペシャルティ・ケミカルズ・コーポレーション（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ Ｃｏｒｐ．）〕、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、次式で表わされる化合物：
【化７】
【化８】
【００３３】
本新規方法における成分（ａ）として、下記の化合物を使用することは非常に特別に好ましい：トリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィット〔イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８，チバ・スペシャルティ・ケミカルズ・コーポレーション（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ Ｃｏｒｐ．）〕、ビス（２，４−ジ第三ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィット〔イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）３８，チバ・スペシャルティ・ケミカルズ・コーポレーション（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ Ｃｏｒｐ．），式（Ｇ）〕、ビス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット〔ウルトラノックス（商標名：Ｕｌｔｒａｎｏｘ）６２６，ジーイー・ケミカルズ（ＧＥ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ），式（Ｄ）〕、テトラキス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）４，４’−ビフェニレン−ジホスホナイト〔イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）Ｐ−ＥＰＱ，チバ・スペシャルティ・ケミカルズ・コーポレーション（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌ
ｓ Ｃｏｒｐ．），式（Ｈ）〕、２，２’，２’’−ニトリロ［トリエチルトリス（３，３’，５，５’−テトラ第三ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット〔イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）１２，チバ・スペシャルティ・ケミカルズ・コーポレーション（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ Ｃｏｒｐ．），式（Ｂ）〕、ウルトラノックス（商標名：Ｕｌｔｒａｎｏｘ）６４１，〔ジーイー・ケミカルズ（ＧＥ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ），式（Ｊ）〕、ドヴァーホス（商標名：Ｄｏｖｅｒｐｈｏｓ）Ｓ９２２８〔ドヴァー・ケミカルズ（Ｄｏｖｅｒ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ），式（Ｋ）〕、又はマーク（商標名：Ｍａｒｋ）ＨＰ１０〔アデカ・アーガス（Ａｄｅｋａ Ａｒｇｕｓ），式（Ｌ）〕。
【００３４】
前記有機ホスフィット及びホスホナイトは公知化合物である：それらの多くは市販されている。
【００３５】
成分（ａ）の有機ホスフィット及びホスホナイトは好ましくは、安定化すべきポリオレフィン中空製品の重量に対して、約０．０１％ないし約１０％、特に約０．０５％ないし約５％、代表的には約０．１％ないし約３％の量使用される。
【００３６】
本新規方法で用いられる成分（ｉ）のヒドロキシルアミン誘導体は次式（ＩＩ）：
【化９】
〔式中、
Ｔ1は１ないし３６個の炭素原子を有する直鎖状又は分岐鎖状アルキル基、５ないし１
２個の炭素原子を有するシクロアルキル基、７ないし９個の炭素原子を有するアルアルキル基、或いは１ないし１２個の炭素原子を有する一つ若しくは二つのアルキル基により又は一つ若しくは二つのハロゲン原子により置換された７ないし９個の炭素原子を有するアルアルキル基を表わし、
Ｔ2は水素原子を表わし、又は独立して、Ｔ1に対して定義されたものと同じ意味を表わす〕で表わされる。
【００３７】
３６個までの炭素原子を有するアルキル基は直鎖又は分岐鎖基、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、第二ブチル基、イソブチル基、第三ブチル基、２−エチルブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、１−メチルペンチル基、１，３−ジメチルブチル基、ｎ−ヘキシル基、１−メチルヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、イソヘプチル基、１，１，３，３−テトラメチルブチル基、１−メチルヘプチル基、３−メチルヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、１，１，３−トリメチルヘキシル基、１，１，３，３−テトラメチルペンチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、１−メチルウンデシル基、ドデシル基、１，１，３，３，５，５−ヘキサメチルヘキシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基又はオクタデシル基である。
【００３８】
炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基は、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、シクロウンデシル基又はシクロドデシル基である。シクロヘキシル基が好ましい。
【００３９】
炭素原子数７ないし９のアルアルキル基は、例えば、ベンジル基、α−メチルベンジル基、α，α−ジメチルベンジル基又は２−フェニルエチル基である。ベンジル基及びα，
α−ジメチルベンジル基が好ましい。
【００４０】
ハロゲン原子（ハロ）は、例えば、塩素原子、臭素原子又は沃素原子である。塩素原子が好ましい。
【００４１】
成分（ｉ）の化合物が式（ＩＩ）〔式中、Ｔ1及びＴ2は独立して、ベンジル基、エチル基、オクチル基、ラウリル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基又はオクタデシル基を表わす、又は式中、Ｔ1及びＴ2は各々、水素化獣脂アミン中に見出されるアルキル基混合物である〕で表わされるＮ，Ｎ−ジヒドロカルビルヒドロキシルアミンである方法が好ましい。
【００４２】
成分（ｉ）の化合物がＮ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジドデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘキサデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−テトラデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−ヘプタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、及びＮ，Ｎ−ジ（水素化獣脂）ヒドロキシルアミンからなる群から選択されたＮ，Ｎ−ジヒドロカルビルヒドロキシルアミンである方法がとりわけ好ましい。
【００４３】
成分（ｉ）が、Ｎ，Ｎ−ジ（水素化獣脂）アミン〔イルガスタッブ（商標名：Ｉｒｇａｓｔａｂ）０４２，チバ・スペシャルティ・ケミカルズ・コーポレーション（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ Ｃｏｒｐ．）〕の直接酸化により製造されるＮ，Ｎ−ジ（アルキル）ヒドロキシルアミン生成物である方法が特に好ましい。
【００４４】
成分（ｉｉ）のアミンオキシド誘導体は一般式（ＩＩＩ）：
【化１０】
〔式中、
Ｇ1及びＧ2は独立して、６ないし３６個の炭素原子を有する直鎖状又は分岐鎖状アルキル基、６ないし１２個の炭素原子を有するアリール基、７ないし３６個の炭素原子を有するアルアルキル基、７ないし３６個の炭素原子を有するアルカリール基、５ないし３６個の炭素原子を有するシクロアルキル基、６ないし３６個の炭素原子を有するアルクシクロアルキル基又は６ないし３６個の炭素原子を有するシクロアルキルアルキル基を表わし、
Ｇ3は１ないし３６個の炭素原子を有する直鎖状又は分岐鎖状アルキル基、６ないし１
２個の炭素原子を有するアリール基、７ないし３６個の炭素原子を有するアルアルキル基、７ないし３６個の炭素原子を有するアルカリール基、５ないし３６個の炭素原子を有するシクロアルキル基、６ないし３６個の炭素原子を有するアルクシクロアルキル基又は６ないし３６個の炭素原子を有するシクロアルキルアルキル基を表わし、
但し、Ｇ1，Ｇ2及びＧ3の少なくとも一つはβ炭素−水素結合を含み、そして、
前記アルキル基、アルアルキル基、アルカリール基、シクロアルキル基、アルクシクロアルキル基及びシクロアルキルアルキル基は、１ないし１６個の−Ｏ−基、−Ｓ−基、−ＳＯ−基、−ＳＯ2−基、−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−基、−ＣＯ−基、−ＮＧ4−基、−Ｃ
ＯＮＧ4−基及び−ＮＧ4ＣＯ−基により中断されてよく、又は前記アルキル基、アルアルキル基、アルカリール基、シクロアルキル基、アルクシクロアルキル基及びシクロアルキルアルキル基は、−ＯＧ4基、−ＳＧ4基、−ＣＯＯＧ4基、−ＯＣＯＧ4基、−ＣＯＧ4基
、−Ｎ（Ｇ4）2基、−ＣＯＮ（Ｇ4）2基、−ＮＧ4ＣＯＧ4基、並びに−Ｃ（ＣＨ3）（Ｃ
Ｈ2Ｒx）ＮＬ（ＣＨ2Ｒx）（ＣＨ3）Ｃ−基を含む５−及び６−員環から選択された１な
いし１６個の基により置換されてよく、又は前記アルキル基、アルアルキル基、アルカリール基、シクロアルキル基、アルクシクロアルキル基及びシクロアルキルアルキル基は、上述の基により中断され且つ置換されており、そして
式中、
Ｇ4は独立して、水素原子又は１ないし８個の炭素原子を有するアルキル基を表わし、
Ｒxは水素原子又はメチル基を表わし、
Ｌは炭素原子数１ないし３０の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基部分、−Ｃ（Ｏ）Ｒ基部分（式中、Ｒは炭素原子数１ないし３０の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基を表わす）、又は−ＯＲ基部分（式中、Ｒは炭素原子数１ないし３０の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基を表わす）を表わし、そして
前記アリール基は一つないし三つのハロゲン原子、１ないし８個の炭素原子を有するアルキル基、１ないし８個の炭素原子を有するアルコキシ基又はこれらの組み合わせにより置換されてよい〕で表わされる飽和第三アミンオキシドである。
【００４５】
６ないし１２個の炭素原子を有するアリール基は、例えば、フェニル基、ナフチル基、チエニル基又はピリジル基である。
【００４６】
式（ＩＩＩ）の好ましい構造は、式中、Ｇ1及びＧ2が独立して、ベンジル基又は置換ベンジル基を表わすものである。Ｇ1，Ｇ2及びＧ3の各々が同一の残基を表わすことも可能
である。Ｇ1及びＧ2は好ましくは、８ないし２６個の炭素原子を有するアルキル基も表わし、そして最も好ましくは、１０ないし２６個の炭素原子を有するアルキル基を表わし、そしてＧ3は好ましくは、１ないし２２個の炭素原子を有するアルキル基を表わし、そし
て最も好ましくは、メチル基又は置換メチル基を表わす。更に、好ましいアミンオキシドは、式中、Ｇ1，Ｇ2及びＧ3が６ないし３６個の炭素原子を有する同一のアルキル基を表
わすものを包含する。好ましくは、Ｇ1，Ｇ2及びＧ3のための全ての前述の残基が、飽和
炭化水素残基又は少なくとも一つの前述の−Ｏ−基、−Ｓ−基、−ＳＯ−基、−ＣＯ2−
基、−ＣＯ−基又は−ＣＯＮ−基を含む飽和炭化水素残基である。当業者は、本発明から逸脱することなく、Ｇ1，Ｇ2及びＧ3の各々のための他の有用な残基を予想することがで
きるであろう。
【００４７】
成分（ｉｉ）の飽和アミンオキシドは、ポリ（アミンオキシド）も含み得る。ポリ（アミンオキシド）は、分子当たり少なくとも二つの第三アミンオキシドを含む第三アミンオキシドを意味する。“ポリ（第三アミンオキシド）”とも呼ばれる具体的なポリ（アミンオキシド）は、例えば、１，４−ジアミノブタン、１，６−ジアミノヘキサン、１，１０−ジアミノデカン、及び１，４−ジアミノシクロヘキサンのような脂肪族及び脂環式ジアミン、並びに、例えば、ジアミノアントラキノン及びジアミノアニソールのような芳香族ベースのジアミンからなる第三アミンオキシド同族体を包含する。
【００４８】
上述のジアミンのオリゴマー及びポリマーから誘導される第三アミンオキシドも成分（ｉｉ）に含まれる。有用なアミンオキシドは更に、ポリマー例えば、ポリオレフィン、ポリアクリレート、ポリエステル、ポリアミド、ポリスチレン及び同種のものに結合したアミンオキシドを含む。前記アミンオキシドがポリマーに結合している場合には、分子当たりのアミンオキシドの平均数は、全てのポリマー鎖が一つのアミンオキシドを含む必要はないので広範に変化し得る。全ての前述のアミンオキシドは、所望により、少なくとも一つの−Ｏ−基、−Ｓ−基、−ＳＯ−基、−ＣＯ2−基、−ＣＯ−基又は−ＣＯＮＧ4−基部
分を含んでよい。好ましい態様において、前記ポリマー状第三アミンオキシドの各々の第三アミンオキシドは炭素原子数１の残基を含む。
【００４９】
式（ＩＩＩ）の基Ｇ1，Ｇ2及びＧ3は、一つの立体障害アミンを含む一つの分子に結合
してよい。立体障害アミンは従来知られており、そして、本発明のアミンオキシドは何らかの方法で前記立体障害アミンに及び前記立体障害アミンの構造部分に結合してよい。成分（ｉｉ）の化合物の一部である場合の有用な立体障害アミンは、一般式（ＩＶ）及び（Ｖ）：
【化１１】
〔式中、Ｌ及びＲxは上記において定義されたものと同じ意味を表わす〕で表わされるも
のを包含する。分子当たり一つより多い立体障害アミン及び一つより多い飽和アミンを含むアミンオキシドも含まれる。前記立体障害アミンは、上述の如く、ポリ（第三アミンオキシド）に又はポリマー状基材に結合してよい。
【００５０】
成分（ｂ）の化合物は、好ましくは、安定化すべきポリオレフィン中空製品の重量に対して、全体で、約０．０００５重量％ないし５重量％、特に約０．００１重量％ないし２重量％、代表的には約０．０１重量％ないし２重量％の量使用される。
【００５１】
本新規方法に用いられる成分（ｃ）は、次式（ＶＩ）：
【化１２】
〔式中、Ｒxは水素原子又はメチル基を表わす〕で表わされる少なくとも一つの基を含む
少なくとも一つの化合物である。好ましくは、Ｒxは水素原子を表わす。好ましくは、成
分（ｃ）は高分子量のものであり、そして、個別の化合物又はオリゴマー状混合物であってよい。
【００５２】
成分（ｃ）の特に好ましい立体障害アミンは次式：
【化１３】
【化１４】
【化１５】
【化１６】
【化１７】
【化１８】
〔式中、ｍ及びｎは２ないし２００の範囲の数である〕で表わされる。
【００５３】
立体障害アミン型の化合物は既知であり、そして幾つかは市販されている。
【００５４】
チヌヴィン（商標名：Ｔｉｎｕｖｉｎ）及びシマソルブ（商標名：Ｃｈｉｍａｓｓｏｒｂ）はチバ・スペシャルティ・ケミカルズ・コーポレーション（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）〕の保護された商標名である。サンデュボアー（商標名：Ｓａｎｄｕｖｏｒ）及びホスタヴィン（Ｈｏｓｔａｖｉｎ）はクラリアント（Ｃｌａｒｉａｎｔ）の保護された商標名である。シアソルブ（商標名：Ｃｙａｓｏｒｂ）はシテック・コーポレーション（Ｃｙｔｅｃ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）の保護された商標名である。ウヴィヌル（商標名：Ｕｖｉｎｕｌ）はＢＡＳＦの保護された商標名である。ウヴァシル（商標名：Ｕｖａｓｉｌ）はエニケム（Ｅｎｉｃｈｅｍ）の保護された商標名である。ウヴァソルブ（商標名：Ｕｖａｓｏｒｂ）は３Ｖシグマ（３Ｖ
Ｓｉｇｍａ）の保護された商標名である。
【００５５】
成分（ｃ）の立体障害アミンは好ましくは、安定化すべきポリオレフィン中空製品の重量に対して、約０．０１重量％ないし１０重量％、特に約０．０５重量％ないし５重量％、代表的には約０．１重量％ないし３重量％の量使用される。
【００５６】
成分（ａ），（ｂ）及び（ｃ）からなる安定剤組み合わせは、回転成形法により製造されるポリオレフィン中空製品を安定化するために適している。
【００５７】
ポリオレフィンの例は下記のものである。
１．モノオレフィン及びジオレフィンのポリマー、例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテ−１−エン、ポリ−４−メチルペンテ−１−エン、ポリイソプレン又はポリブタジエン、並びにシクロオレフィンのポリマー、例えばシクロペンテン又はノルボルネンのポリマー、ポリエチレン（所望により架橋されていてよい）、例えば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、高密度及び高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＨＭＷ）、高密度及び超高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＵＨＭＷ）、中密度ポリエチレン（ＭＤＰＥ）、
低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、直鎖状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ），（ＶＬＤＰＥ）及び（ＵＬＤＰＥ）。
【００５８】
ポリオレフィン、すなわち先の段落で例示したモノオレフィン、好ましくはポリエチレン及びポリプロピレンのポリマーは、異なる方法により製造することができ、そして、とりわけ下記の方法により製造することができる。
【００５９】
ｉ）ラジカル重合（通常、高圧及び高められた温度の下で行われる）。
ｉｉ）通常、周期律表の族ＩＶｂ，Ｖｂ，ＶＩｂ又はＶＩＩＩの１種又は１種よりも多くの金属を含む触媒を使用する触媒重合。前記金属は、通常１種又はそれより多くの配位子を有しており、代表的にはｐ−又はｓ−配位されていてよい酸化物、ハロゲン化物、アルコレート、エステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニル及び／又はアリールである。前記金属錯体は、遊離の形態にあってもよいし又は基材上に、代表的には活性化塩化マグネシウム、三塩化チタン、アルミナ又は酸化珪素上に担持されていてもよい。前記触媒は、重合媒体に可溶性であってもよいし又は非可溶性であってもよい。前記触媒は重合の際に単独で使用してもよく、又は別の活性剤、代表的には金属アルキル、金属ハイドライド、金属アルキルハライド、金属アルキルオキシド若しくは金属アルキルオキサンを使用してもよい（前記金属は、周期律表の族Ｉａ，ＩＩａ及び／又はＩＩＩａの元素である）。活性剤は、別のエステル、エーテル、アミン又はシリルエーテル類を用いて都合良く変性されていてよい。前記触媒系は、通常、フィリップス（Ｐｈｉｌｌｉｐｓ）触媒，スタンダード オイルインディアナ（Ｓｔａｎｄａｒｄ Ｏｉｌ Ｉｎｄｉａｎａ）触媒，チーグラー（−ナッタ）〔Ｚｉｅｇｌｅｒ（−Ｎａｔｔａ）〕触媒，ＴＮＺ〔デュポン（ＤｕＰｏｎｔ）〕触媒，メタロセン触媒又はシングルサイト触媒（ＳＳＣ）と呼ばれる。
【００６０】
２．１．で記述したポリマーの混合物、例えばポリプロピレンとポリイソブチレンとの混合物、ポリプロピレンとポリエチレンとの混合物（例えばＰＰ／ＨＤＰＥ、ＰＰ／ＬＤＰＥ）及び異なる種類のポリエチレンの混合物（例えばＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。
【００６１】
３．モノオレフィンとジオレフィンとの互いの又はその他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン／プロピレンコポリマー、直鎖状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）及びその低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）との混合物、プロピレン／ブテ−１−エンコポリマー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレン／ブテ−１−エンコポリマー、エチレン／ヘキセンコポリマー、エチレン／メチルペンテンコポリマー、エチレン／ヘプテンコポリマー、エチレン／オクテンコポリマー、プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン／イソプレンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレートコポリマー、エチレン／アルキルメタクリレートコポリマー、エチレン／酢酸ビニルコポリマー及びこれらの一酸化炭素とのコポリマー又はエチレン／アクリル酸コポリマー及びそれらの塩（イオノマー）、並びにエチレンとプロピレン及びジエン例えばヘキサジエン、ジシクロテンタジエン又はエチリデン−ノルボルネンとのターポリマー；並びに前記コポリマーの混合物及び前記コポリマーと上記１．において記載したポリマーとの混合物、例えばポリプロピレン／エチレン−プロピレン−コポリマー、ＬＤＰＥ／エチレン−酢酸ビニルコポリマー（ＥＶＡ）、ＬＤＰＥ／エチレン−アクリル酸コポリマー（ＥＡＡ）、ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ、ＬＬＤＰＥ／ＥＡＡ及び交互又はランダムポリアルキレン／一酸化炭素−コポリマー並びにそれらの他のポリマー例えばポリアミドとの混合物。
【００６２】
好ましいポリオレフィンはポリエチレン又はポリプロピレン、並びにモノ−及びジオレフィンとのそれらのコポリマーである。
【００６３】
成分（ａ），（ｂ）及び（ｃ）に加えて、本新規方法は、例えば下記のもののような別の共安定剤（添加剤）を含んでもよい。
【００６４】
１．酸化防止剤
１．１．アルキル化モノフェノール
例えば、２，６−ジ第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ第三ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ第三ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロペンチル−４−メチルフェノ−ル、２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノ−ル、２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、２，６−ジ第三ブチル−４−メトキシメチルフェノール、側鎖が直鎖状又は分岐鎖状であるノニルフェノール、例えば、２，６−ジノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルウンデシ−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルヘプタデシ−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルトリデシ−１’−イル）フェノール及びそれらの混合物。
【００６５】
１．２．アルキルチオメチルフェノール
例えば、２，４−ジオクチルチオメチル−６−第三ブチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−エチルフェノール、２，６−ジドデシルチオメチル−４−ノニルフェノール。
【００６６】
１．３．ヒドロキノン及びアルキル化ヒドロキノン
例えば、２，６−ジ第三ブチル−４−メトキシフェノール、２，５−ジ第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ第三アミルヒドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，６−ジ第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジペート。
【００６７】
１．４．トコフェロール
例えば、α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェロール及びそれらの混合物（ビタミンＥ）。
【００６８】
１．５．ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル
例えば、２，２’−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−チオビス（４−オクチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−３−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（３，６−ジ第二アミルフェノール）、４，４’−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ジスルフィド。
【００６９】
１．６．アルキリデンビスフェノール
例えば、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）フェノール］、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ第三ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、２，２’−メチレンビス［６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ第三ブチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（６−第三ブチル−２−メ
チルフェノール）、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコール−ビス［３，３−ビス（３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）ブチレート］、ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス［２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、１，１−ビス（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テトラ（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン。
【００７０】
１．７．Ｏ−，Ｎ−及びＳ−ベンジル化合物
例えば、３，５，３’，５’−テトラ第三ブチル−４，４’−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジルメルカプトアセテート、トリデシル４−ヒドロキシ−３，５−ジ第三ブチルベンジルメルカプトアセテート、トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）アミン、ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレフタレート、ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、イソオクチル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート。
【００７１】
１．８．ヒドロキシベンジル化マロネート
例えば、ジオクタデシル２，２−ビス（３，５−ジ第三ブチル−２−ヒドロキシベンジル）マロネート、ジオクタデシル２−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）マロネート、ジドデシルメルカプトエチル−２，２−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］２，２−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート。
【００７２】
１．９．芳香族ヒドロキシベンジル化合物
例えば、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノール。
【００７３】
１．１０．トリアジン化合物
例えば、２，４−ビス（オクチルメルカプト）−６−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート。
【００７４】
１．１１．ベンジルホスホネート
例えば、ジメチル２，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸のモノエチルエステルのカルシウム塩。
【００７５】
１．１２．アシルアミノフェノール
例えば、４−ヒドロキシラウリン酸アニリド、４−ヒドロキシステアリン酸アニリド、オクチルＮ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）カルバメート。
【００７６】
１．１３．β−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と以下の一価又は多価アルコールとのエステル
アルコールの例：メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、イソオクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
【００７７】
１．１４．β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸と以下の一価又は多価アルコールとのエステル
アルコールの例：メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、イソオクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
【００７８】
１．１５．β−（３，５−ジシクロシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と以下の一価又は多価アルコールとのエステル
アルコールの例：メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
【００７９】
１．１６．３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸と以下の一価又は多価アルコールとのエステル
アルコールの例：メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、
トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
【００８０】
１．１７．β−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド
例えば、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス［２−（３−［３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル］プロピオニルオキシ）エチル］オキサミド〔ユニロイヤル（Ｕｎｉｒｏｙａｌ）社から提供されるナウガード（商標名；Ｎａｕｇａｒｄ ）ＸＬ−１〕。
【００８１】
１．１８．アスコルビン酸（ビタミンＣ）
【００８２】
１．１９．アミン系酸化防止剤
例えば、Ｎ，Ｎ’−ジイソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−エチル−３−メチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ナフチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１−メチルヘプチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、４−（ｐ−トルエンスルファモイル）ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、４−イソプロポキシジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、Ｎ−（４−第三オクチルフェニル）−１−ナフチルアミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、オクチル化ジフェニルアミン例えばｐ，ｐ’−ジ第三ブチル−オクチルジフェニルアミン、４−ｎ−ブチルアミノフェノール、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナノイルアミノフェノール、４−ドデカノイルアミノフェノール、４−オクタデカノイルアミノフェノール、ビス（４−メトキシフェニル）アミン、２，６−ジ第三ブチル−４−ジメチルアミノメチルフェノール、２，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、１，２−ビス［（２−メチルフェニル）アミノ］エタン、１，２−ビス［（２−メチルフェニル）アミノ］エタン、１，２−ビス（フェニルアミノ）プロパン、（ｏ−トリル）ビグアニド、ビス［４−（１’，３’−ジメチルブチル）フェニル］アミン、第三オクチル化Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、モノ−及びジアルキル化第三ブチル／第三オクチルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化ノニルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化イソプロピル／イソヘキシルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化第三ブチルジフェニルアミンの混合物、２，３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、フェノチアジン、モノ−及びジアルキル化第三ブチル／第三オクチルフェノチアジンの混合物、モノ−及びジアルキル化第三オクチルフェノチアジンの混合物、Ｎ−アリルフェノチアジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−１，４−ジアミノブテ−２−エン、Ｎ，Ｎ−ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジ−４−イ
ル）ヘキサメチレンジアミン、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジ−４−イル）セバケート、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−オン、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−オール。
【００８３】
２．紫外線吸収剤及び光安定剤
２．１．２−（２’−ヒドロキシフェニル） ベンゾトリアゾール
例えば、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第二ブチル−５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ第三アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ビス（α，α−ジメチルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニルベンゾトリアゾール、２，２’−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾール−２−イルフェノール］；２−［３’−第三ブチル−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）−２’−ヒドロキシフェニル］ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール３００とのエステル交換体；次式：［Ｒ−ＣＨ2ＣＨ2−ＣＯＯ−ＣＨ2ＣＨ2］2−（式中、Ｒは３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシ
−５’−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イルフェニル基を表わす）で表わされる化合物、２−［２’−ヒドロキシ−３’−（α，α−ジメチルベンジル）−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］ベンゾトリアゾール；２−［２’−ヒドロキシ−３’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−５’−（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］ベンゾトリアゾール。
【００８４】
２．２．２−ヒドロキシベンゾフェノン
例えば、４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オクチルオキシ−、４−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ−、４−ベンジルオキシ−、４，２’，４’−トリヒドロキシ−及び２’−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ誘導体。
【００８５】
２．３．置換及び非置換安息香酸エステル
例えば、４−第三ブチルフェニルサリチレート、フェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、２，４−ジ第三ブチルフェニル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート
、２−メチル−４，６−ジ第三ブチルフェニル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート。
【００８６】
２．４．アクリレート
例えば、エチルα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、イソオクチルα−シアノ−β，β−ジフェニル−アクリレート、メチルα−カルボメトキシシンナメート、メチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、ブチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、メチルα−カルボメトキシ−ｐ−メトキシシンナメート及びＮ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−メチルインドリン。
【００８７】
２．５．ニッケル化合物
例えば、２，２’−チオビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール］のニッケル錯体、例えば１：１又は１：２錯体であって、所望によりｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミン若しくはＮ−シクロヘキシルジエタノールアミンのような他の配位子を伴うもの、ニッケルジブチルジチオカルバメート、モノアルキルエステル、例えば４−ヒドロキシ−３，５−ジ第三ブチルベンジルホスホン酸のメチル若しくはエチルエステルのニッケル塩、ケトキシム例えば２−ヒドロキシ−４−メチル−フェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯体、１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体であって、所望により他の配位子を伴うもの。
【００８８】
２．６．オキサミド
例えば、４，４’−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２’−ジエトキシオキサニリド、２，２’−ジオクチルオキシ−５，５’−ジ第三ブトキサニリド、２，２’−ジドデシルオキシ−５，５’−ジ第三ブチルオキサニリド、２−エトキシ−２’−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサルアミド、２−エトキシ−５−第三ブチル−２’−エチルオキサニリド及び該化合物と２−エトキシ−２’−エチル−５，４’−ジ第三ブチルオキサニリドとの混合物、ｏ−及びｐ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物及びｏ−及びｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。
【００８９】
２．７．２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン
例えば、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシプロピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−（ドデシルオキシ／トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ）フェニル−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、
２，４，６−トリス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシフェニル）−４−（４−メトキシフェニル）−６−フェニル−１，３，５−トリアジン、２−｛２−ヒドロキシ−４−［３−（２−エチルヘキシル−１−オキシ）−２−ヒドロキシプロピルオキシ］フェニル｝−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン。
【００９０】
３．金属奪活剤
例えば、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルオキサミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ’−サリチロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、ビス（ベンジリデン）オキサリルジヒドラジド、オキサニリド、イソフタロイルジヒドラジド、セバコイルビスフェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセチルアジポイルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）オキサリルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）チオプロピオニルジヒドラジド。
【００９１】
４．ニトロン
例えば、Ｎ−ベンジル−α−フェニル−ニトロン、Ｎ−エチル−α−メチル−ニトロン、Ｎ−オクチル−α−ヘプチル−ニトロン、Ｎ−ラウリル−α−ウンデシル−ニトロン、Ｎ−テトラデシル−α−トリデシル−ニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ペンタデシル−ニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘキサデシル−ニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ヘプタデシル−ニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ペンタデシル−ニトロン、Ｎ−ヘプタデシル−α−ヘプタデシル−ニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘキサデシル−ニトロン、Ｎ，Ｎ−ジ（水素添加された獣脂）ヒドロキシルアミンから誘導されたニトロン。
【００９２】
５．チオ相乗剤
例えば、ジラウリルチオジプロピオネート又はジステアリルチオジプロピオネート。
【００９３】
６．過酸化物掃去剤
例えば、β−チオジプロピオン酸エステル、例えばラウリル、ステアリル、ミリスチル又はトリデシルエステル、メルカプトベンズイミダゾール又は２−メルカプトベンズイミダゾール亜鉛塩、亜鉛ジブチルジチオカルバメート、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネート。
【００９４】
７．塩基性補助安定剤
例えば、メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩例えばカルシウムステアレート、亜鉛ステアレート、マグネシウムベヘネート、マグネシウムステアレート、ナトリウムリシノレート及びカリウムパルミテート、アンチモンピロカテコレート又は亜鉛ピロカテココレート。
【００９５】
８．核剤
例えば、無機物質、例えばタルク、金属酸化物、例えば、二酸化チタン又は酸化マグネシウム、好ましくはアルカリ土類金属の燐酸塩、炭酸塩又は硫酸塩；有機化合物、例えば、モノ−又はポリカルボン酸及びその塩、例えば、４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸、コハク酸ナトリウム又は安息香酸ナトリウム；ポリマー状化合物、例えばイオン性コポリマー〔“イオノマー”〕。
【００９６】
９．充填剤及び強化剤
例えば、炭酸カルシウム、珪酸塩、ガラス繊維、ガラス球、アスベスト、タルク、陶土、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物及び水酸化物、カーボンブラック、黒鉛、木材粉末、
及び他の天然産物の粉末又は繊維、合成繊維。
【００９７】
１０．ベンゾフラノン及びインドリノン
例えばＵＳ４３２５８６３、ＵＳ４３３８２４４、ＵＳ５１７５３１２、ＵＳ５２１６０５２、ＵＳ５２５２６４３、ＤＥ−Ａ−４３１６６１１、ＤＥ−Ａ−４３１６６２２、ＤＥ−Ａ−４３１６８７６、ＥＰ−Ａ−０５８９８３９又はＥＰ−Ａ−０５９１１０２に開示されたもの、又は３−［４−（２−アセトキシエトキシ）フェニル］−５，７−ジ第三ブチル−ベンゾフラン−２−オン、５，７−ジ第三ブチル−３−［４−（２−ステアロイルオキシエトキシ）フェニル］ベンゾフラン−２−オン、３，３’−ビス［５，７−ジ第三ブチル−３−（４−［２−ヒドロキシエトキシ］フェニル）ベンゾフラン−２−オン、５，７−ジ第三ブチル−３−（４−エトキシフェニル）ベンゾフラン−２−オン、３−（４−アセトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−５，７−ジ第三ブチル−ベンゾフラン−２−オン、３−（３，５−ジメチル−４−ピバロイルオキシフェニル）−５，７−ジ第三ブチル−ベンゾフラン−２−オン、３−（３，４−ジメチルフェニル）−５，７−ジ第三ブチル−ベンゾフラン−２−オン、３−（２，３−ジメチルフェニル）−５，７−ジ第三ブチル−ベンゾフラン−２−オン。
【００９８】
１１．その他の添加剤
例えば、可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、レオロジー添加剤、触媒、流れ調整剤、蛍光増白剤、防炎加工剤、帯電防止剤、清澄剤及び発泡剤。
【００９９】
共安定剤は、例えば、安定化すべきポリオレフィンの全重量に対して、約０．０１重量％ないし約１０重量％の濃度で添加する。
【０１００】
充填材及び強化剤（前記リストの項目９）、例えば、タルク、炭酸カルシウム、雲母又は陶土は、安定化すべきポリオレフィンの全重量に対して、約０．０１重量％ないし約４０重量％の濃度でポリオレフィンに添加する。
【０１０１】
充填材及び強化剤（前記リストの項目９）、例えば、金属水酸化物、とりわけ水酸化アルミニウム又は水酸化マグネシウムは、安定化すべきポリオレフィンの全重量に対して、約０．０１重量％ないし約６０重量％の濃度でポリオレフィンに添加する。
【０１０２】
充填材としてのカーボンブラックは、適切には、安定化すべきポリオレフィンの全重量に対して、約０．０１重量％ないし約５重量％の濃度でポリオレフィンに添加する。
【０１０３】
強化剤としてのガラス繊維は、適切には、安定化すべきポリオレフィンの全重量に対して、約０．０１重量％ないし約２０重量％の濃度でポリオレフィンに添加する。
【０１０４】
成分（ａ），（ｂ）及び（ｃ）に加えて、更に別の添加剤、とりわけフェノール系酸化防止剤、光安定剤又は加工安定剤を含む方法が好ましい。
【０１０５】
とりわけ好ましい付加的な添加剤は、フェノール系酸化防止剤（前記リストの項目１．１ないし１．１７）及び過酸化物掃去剤（前記リストの項目６）である。
【０１０６】
ポリオレフィンへの成分（ａ），（ｂ）及び（ｃ）並びに所望により別の添加剤の配合は、例えば成形前後に、或いは又、ポリオレフィンに溶解又は分散された安定剤混合物を塗布し、所望により、続いて溶媒を蒸発させることにより、公知方法で行われる。成分（ａ），（ｂ）及び（ｃ）並びに所望により別の添加剤からなる安定剤混合物は、例えば、約２．５重量％ないし約２５重量％の濃度で前記成分を含むマスターバッチの形態で、安定化すべきポリオレフィンに添加してもよい。
【０１０７】
成分（ａ），（ｂ）及び（ｃ）並びに所望により別の添加剤は、重合前又は重合中に或いは架橋前に添加してもよい。
【０１０８】
成分（ａ），（ｂ）及び（ｃ）並びに所望により別の添加剤は、純粋な形態で、又はワックス，オイル若しくはポリマー中にカプセル化されて、安定化すべきポリオレフィンに配合されてよい。
【０１０９】
成分（ａ），（ｂ）及び（ｃ）並びに所望により別の添加剤は、安定化すべきポリオレフィンに噴霧されてもよい。それらは他の添加剤（例えば、上記の慣用の添加剤）又はそれらの溶融物を希釈することも可能であり、その結果、それらを前記添加剤と一緒に、安定化すべきポリオレフィンに噴霧することもできる。重合触媒の奪活中の噴霧による添加（例えば、奪活のために使用されるスチームを用いて噴霧を行うことが可能である）は特に都合が良い。
【０１１０】
球状重合されたポリオレフィンの場合には、例えば、成分（ａ），（ｂ）及び（ｃ）を、所望により他の添加剤と一緒に、噴霧により塗布することが都合が良いであろう。
【０１１１】
本回転成形法の間、温度は都合良くは、約２００℃ないし４００℃、好ましくは約２８０℃ないし４００℃、例えば、約３１０℃ないし４００℃の範囲に達する。
【０１１２】
本発明の好ましい態様は、回転成形法により製造されたポリオレフィンのための、成分（ａ），（ｂ）及び（ｃ）を含む安定剤組み合わせの使用に関するものである。
【実施例】
【０１１３】
下記の実施例により、本発明をより詳細に説明する。下記の実施例は、如何なる場合でも本発明を限定するものと考えるべきではない。本発明は、本発明の思想及び範疇から逸脱しない特定の実施例の全ての変化及び変形を含むことは明らかである。部及び％は重量による。
【０１１４】
実施例１：本回転成形法によるポリオレフィン中空製品の製造
ヘキセンと共重合された中密度ポリエチレン〔ノヴァポール（商標名：Ｎｏｖａｐｏｌ）ＴＲ−０７３５，公称のメルトインデックス６．８ｇ／１０分，密度０．９３５ｇ／ｃｍ3〕１００部を、ステアリン酸カルシウム０．０５０部及び付加的な添加剤の組み合わ
せとドライブレンドする（下記参照）。この混合物を、マッドドック（Ｍａｄｄｏｃｋ）ミキシングヘッドを備えた２４：１Ｌ／Ｄスクリューを使用して、１００ｒｐｍで、シューペリアー（Ｓｕｐｅｒｉｏｒ）／ＭＰＭ押出機中で、２３２℃でペレットに溶融配合する。配合されたペレットを、本回転成形法に先立って、均質な粒径（１５０〜５００μｍ）に粉砕する。前記粉砕工程は、粒子の表面積を増加させ、より迅速な熱吸収を促し、その結果、全体としてのエネルギー消費を低減させる。本回転成形法は、実験室規模の装置ＦＳＰ Ｍ２０“クラムシェル（Ｃｌａｍｓｈｅｌｌ）”中で行う。粉砕された樹脂を注型アルミニウム成形型内に配置し、これをガス燃焼オーブン中で二軸方向に回転させる。熱い空気をチャンバー中でブロワーにより循環させ、一方、温度を４分以内に２８８℃まで上昇させる。この温度を所定時間保持する（下記表を参照）。続いて、前記オーブンを開き、まだ回転させながら、７分間前記成形型を強制空気循環により冷却し、続いて７分間水噴霧ミストを与え、次いで更に２分間冷却工程を設ける。全体の加熱及び冷却サイクルを通して、主軸の速度は４．５：１の回転比と共に６ｒｐｍに保持する。この冷却サイクル後、前記成形型を開け、次いで中空物品を取り出す。
【０１１５】
製剤Ａ（比較例）は、ホスフィット加工安定剤イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ
）１６８：０．１０部、一次酸化防止剤イルガノックス（商標名：Ｉｒｇａｎｏｘ）１０７６：０．０５部、並びに光及び熱安定剤チヌビン（商標名：Ｔｉｎｕｖｉｎ）７８３：０．２００部の組み合わせを更にブレンドする。
【０１１６】
製剤Ｂは、ホスフィット加工安定剤イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８：０．１００部、ヒドロキシルアミン加工安定剤イルガスタッブ（商標名：Ｉｒｇａｓｔａｂ）０４２：０．０５０部、並びに光及び熱安定剤チヌビン（商標名：Ｔｉｎｕｖｉｎ）７８３：０．２００部の組み合わせを更にブレンドする。
【０１１７】
製剤Ｃは、ホスフィット加工安定剤イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）Ｐ−ＥＰＱ：０．１００部、ヒドロキシルアミン加工安定剤イルガスタッブ（商標名：Ｉｒｇａｓｔａｂ）０４２：０．０５０部、並びに光及び熱安定剤チヌビン（商標名：Ｔｉｎｕｖｉｎ）７８３：０．２００部の組み合わせを更にブレンドする。
【０１１８】
製剤Ｄは、ホスフィット加工安定剤ウルトラノックス（商標名：Ｕｌｔｒａｎｏｘ）６２６：０．１００部、ヒドロキシルアミン加工安定剤イルガスタッブ（商標名：Ｉｒｇａｓｔａｂ）０４２：０．０５０部、並びに光及び熱安定剤チヌビン（商標名：Ｔｉｎｕｖｉｎ）７８３：０．２００部の組み合わせを更にブレンドする。
【０１１９】
イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８はトリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィットである。ウルトラノックス（商標名：Ｕｌｔｒａｎｏｘ）６２６はビス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィットである。イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）Ｐ−ＥＰＱはテトラキス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレン−ジホスホナイトである。イルガスタッブ（商標名：Ｉｒｇａｓｔａｂ）０４２は、Ｎ，Ｎ−ジ（水素添加された獣脂）アミンの直接酸化により製造されたＮ，Ｎ−ジ（アルキル）ヒドロキシルアミンである。チヌビン（商標名：Ｔｉｎｕｖｉｎ）７８３は式（Ｈ５）及び（Ｈ６）で表わされる立体障害アミンの組み合わせである。イルガノックス（商標名：Ｉｒｇａｎｏｘ）１０７６はオクタデシル３−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネートである。チヌビン（商標名：Ｔｉｎｕｖｉｎ）、イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）、イルガスタッブ（商標名：Ｉｒｇａｓｔａｂ）及びイルガノックス（商標名：Ｉｒｇａｎｏｘ）はチバ・スペシャルティ・ケミカルズ・コーポレーション（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）〕の登録商標である。ウルトラノックス（商標名：Ｕｌｔｒａｎｏｘ）はジーイー・ケミカルズ（ＧＥ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ）の登録商標である。
【０１２０】
製剤Ａ〜Ｄは、６ないし１４分の保持時間を有する一般的な方法に従って、中空物品に回転成形される。
【０１２１】
外表面の黄色度指数は、ＡＳＴＭ Ｄ１９２５に基づくＤＣＩ ＳＦ６００分光光度計により決定される。黄色度の増加は黄色度指数の正の増加に相当する。製剤Ｂ〜Ｄは、前記加工条件における色安定性に関して、比較標準製剤Ａよりも遥かに優れている。この結果を表１に要約する。
【表１】
【０１２２】
低温衝撃強さ試験は、備えられた落下重量（１１．３４ｋｇ／５０．８ｃｍ）衝撃装置ダイナタップ（商標名：Ｄｙｎａｔｕｐ）８２５０を用いて行う。試験片は、試験前に−４０℃で１２時間未満、空気循環フリーザー中で状態調整する。
【０１２３】
前記衝撃強さの結果（脆性％で示す）を表２に示す。製剤Ｂは、これらの加工条件下での低温衝撃強さ試験をベースとする脆化モードにおいて、比較標準製剤Ａよりも優れていることが判る。
【表２】
【０１２４】
本発明の安定剤混合物（製剤Ｂ〜Ｄ）は、従来技術の安定剤混合物（製剤Ａ）に比較して、本回転成形法により製造されたポリオレフィン中空製品の着色を防ぎ且つ安定性を与えることに関して優れている。
【０１２５】
実施例２：本回転成形法によるポリオレフィン中空製品の製造
製剤Ｂのチヌビン（商標名：Ｔｉｎｕｖｉｎ）７８３を下記の立体障害アミンの各々に置き換えて、実施例１の如く中空製品を製造する。
製剤Ｅ：イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８、イルガスタッブ（商標名：Ｉｒｇａｓｔａｂ）０４２及びチヌビン（商標名：Ｔｉｎｕｖｉｎ）６２２〔式（Ｈ４）で表わされる化合物〕
製剤Ｆ：イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８、イルガスタッブ（商標名：Ｉｒｇａｓｔａｂ）０４２及びシマソルブ（商標名：Ｃｈｉｍａｓｓｏｒｂ）９４４〔式（Ｈ５）で表わされる化合物〕
製剤Ｇ：イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８、イルガスタッブ（商標名：Ｉｒｇａｓｔａｂ）０４２及びシマソルブ（商標名：Ｃｈｉｍａｓｓｏｒｂ）１１９〔式（Ｈ９）で表わされる化合物〕
製剤Ｈ：イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８、イルガスタッブ（商標名：Ｉｒｇａｓｔａｂ）０４２及びチヌビン（商標名：Ｔｉｎｕｖｉｎ）１１１〔式（Ｈ４）で表わされる化合物と式（Ｈ９）で表わされる化合物との混合物〕
製剤Ｉ：イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８及びシマソルブ（商標名：Ｃｈｉｍａｓｓｏｒｂ）２０２０〔式（Ｈ１０）で表わされる化合物〕
製剤Ｊ：イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８、イルガスタッブ（商標名：Ｉｒｇａｓｔａｂ）０４２及びシアソルブ（商標名：Ｃｙａｓｏｒｂ）ＵＶ−３３４６〔式（Ｈ１２）で表わされる化合物〕
製剤Ｋ：イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８、イルガスタッブ（商標名：Ｉｒｇａｓｔａｂ）０４２及びシアソルブ（商標名：Ｃｙａｓｏｒｂ）ＵＶ−３５２９〔式（Ｈ１３）で表わされる化合物〕
製剤Ｌ：イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８、イルガスタッブ（商標名：Ｉｒｇａｓｔａｂ）０４２及びウヴァソルブ（商標名：Ｕｖａｓｏｒｂ）ＨＡ８８〔式（Ｈ１７）で表わされる化合物〕
製剤Ｍ：イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８、イルガスタッブ（商標名：Ｉｒｇａｓｔａｂ）０４２及びチヌビン（商標名：Ｔｉｎｕｖｉｎ）１２３〔式（Ｈ１）で表わされる化合物〕
製剤Ｎ：イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８、イルガスタッブ（商標名：Ｉｒｇａｓｔａｂ）０４２及び式（Ｈ１１）で表わされる立体障害アミン
製剤Ｏ：イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８、イルガスタッブ（商標名：Ｉｒｇａｓｔａｂ）０４２及びホスタヴィン（Ｈｏｓｔａｖｉｎ）Ｎ３０〔式（Ｈ１４）で表わされる化合物〕
製剤Ｐ：イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８、イルガスタッブ（商標名：Ｉｒｇａｓｔａｂ）０４２及びウヴィヌル（商標名：Ｕｖｉｎｕｌ）５０５０Ｈ〔式（Ｈ１５）で表わされる化合物〕
製剤Ｑ：イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８、イルガスタッブ（商標名：Ｉｒｇａｓｔａｂ）０４２及びウヴァシル（商標名：Ｕｖａｓｉｌ）２９９〔式（Ｈ１６）で表わされる化合物〕
製剤Ｒ：イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８、イルガスタッブ（商標名：Ｉｒｇａｓｔａｂ）０４２及びウヴァソルブ（商標名：Ｕｖａｓｏｒｂ）ＨＡ８８〔式（Ｈ１６）で表わされる化合物〕
【０１２６】
イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８はトリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィットである。イルガスタッブ（商標名：Ｉｒｇａｓｔａｂ）０４２は、Ｎ，Ｎ−ジ（水素添加された獣脂）アミンの直接酸化により製造されたＮ，Ｎ−ジ（アルキル）ヒドロキシルアミンである。イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）、イルガスタッブ（商標名：Ｉｒｇａｓｔａｂ）、チヌビン（商標名：Ｔｉｎｕｖｉｎ）及びイルガノックス（商標名：Ｉｒｇａｎｏｘ）は、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ・コーポレーション（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）〕の保護された商標名である。シアソルブ（商標名：Ｃｙａｓｏｒｂ）はシテック・コーポレーション（Ｃｙｔｅｃ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）の保護された商標名である。ホスタヴィン（Ｈｏｓｔａｖｉｎ）はクラリアント（Ｃｌａｒｉａｎｔ）の保護された商標名である。ウヴィヌル（商標名：Ｕｖｉｎｕｌ）はＢＡＳＦの保護された商標名である。ウヴァシル（商標名：Ｕｖａｓｉｌ）はエニケム（Ｅｎｉｃｈｅｍ）の保護された商標名である。ウヴァソルブ（商標名：Ｕｖａｓｏｒｂ）は３Ｖシグマ（３Ｖ Ｓｉｇｍａ）の保護された商標名である。
【０１２７】
本発明の安定剤混合物（製剤Ｅ〜Ｒ）は、従来技術の安定剤混合物（製剤Ａ）に比較して、本回転成形法により製造されたポリオレフィン中空製品の着色を防ぎ且つ安定性を与えることに関して優れている。
【０１２８】
実施例３：本回転成形法によるポリオレフィン中空製品の製造
製剤Ｂ〜ＤのＮ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシルアミンをイルガスタッブ（商標名：Ｉｒｇａｓｔａｂ）０４２に置き換えて、実施例１の如く中空製品を製造する。有機ホスフィット又はホスホナイト、Ｎ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシルアミン及びチヌビン（商標名：Ｔｉｎｕｖｉｎ）７８３を含む本発明の安定剤混合物は、従来技術の安定剤混合物（製剤Ａ）に比較して、本回転成形法により製造されたポリオレフィン中空製品の着色を防ぎ且つ安定性を与えることに関して優れている。
【０１２９】
実施例４：本回転成形法によるポリオレフィン中空製品の製造
製剤Ｂのイルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８をホスフィット加工安定剤イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）３８に置き換えて、実施例１の如く中空製品を製造する。チバ・スペシャルティ・ケミカルズ・コーポレーション（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）〕から市販されているイルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）３８は、ビス（２，４−ジ第三ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィットである。イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）３８を含む本発明の安定剤混合物は、従来技術の安定剤混合物（製剤Ａ）に比較して、本回転成形法により製造されたポリオレフィン中空製品の着色を防ぎ且つ安定性を与えることに関して優れている。
【０１３０】
実施例５：本回転成形法によるポリオレフィン中空製品の製造
製剤Ｂ〜Ｄのイルガスタッブ（商標名：Ｉｒｇａｓｔａｂ）０４２をアミンオキシドであるゲノックス（商標名：Ｇｅｎｏｘ）ＥＰに置き換えて、実施例１の如く中空製品を製造する。有機ホスフィット又はホスホナイト、ゲノックス（商標名：Ｇｅｎｏｘ）ＥＰ及びチヌビン（商標名：Ｔｉｎｕｖｉｎ）７８３を含む本発明の安定剤混合物は、従来技術の安定剤混合物（製剤Ａ）に比較して、本回転成形法により製造されたポリオレフィン中空製品の着色を防ぎ且つ安定性を与えることに関して優れている。ゲノックス（商標名：Ｇｅｎｏｘ）ＥＰは、ジーイー・スペシャルティ・ケミカルズ（ＧＥ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ）から市販されているジ（炭素原子数１６ないし１８）アルキルメチルアミンオキシド，ＣＡＳ＃２０４９３３−９３−７である。
【０１３１】
実施例６：本回転成形法によるポリオレフィン中空製品の製造
製剤Ｂのイルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８及びイルガスタッブ（商標名：Ｉｒｇａｓｔａｂ）０４２をホスフィット加工安定剤イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）３８及びアミンオキシドであるゲノックス（商標名：Ｇｅｎｏｘ）ＥＰに置き換えて、実施例１の如く中空製品を製造する。チバ・スペシャルティ・ケミカルズ・コーポレーション（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ））から市販されているイルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）３８は、ビス（２，４−ジ第三ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィットである。ゲノックス（商標名：Ｇｅｎｏｘ）ＥＰは、ジーイー・スペシャルティ・ケミカルズ（ＧＥ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ）から市販されているジ（炭素原子数１６ないし１８）アルキルメチルアミンオキシド，ＣＡＳ＃２０４９３３−９３−７である。イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）３８、ゲノックス（商標名：Ｇｅｎｏｘ）ＥＰ及びチヌビン（商標名：Ｔｉｎｕｖｉｎ）７８３を含む本発明の安定剤混合物は、従来技術の安定剤混合物（製剤Ａ）に比較して、本回転成形法により製造されたポリオレフィン中空製品の着色を防ぎ且つ安定性を与えることに関して優れている。
【０１３２】
実施例７：本回転成形法によるポリオレフィン中空製品の製造
鎖状低密度ポリエチレン粉末（ヘキセン共重合体、公称のメルトインデックス３．３ｄｇ／分、密度０．９３８ｇ／ｃｍ3）を、ステアリン酸亜鉛（０．０５重量％）及び付加
的な添加剤とドライブレンドする（下記参照）。この混合物を、シューペリアー（Ｓｕｐｅｒｉｏｒ）／ＭＰＭ 単一スクリュー押出機（２４：１Ｌ／Ｄ）を使用して、ペレットに溶融配合する。配合されたペレットを、６０−７０℃の温度において、０．３３０ｍｍのギャップサイズを備えたリダクションエンジニアリングモデル５０粉砕機を使用して、均質な粒径粉末に粉砕する。
回転成形は、立方体（１２面体）の注型アルミニウム成形型を備えたＦＳＰ Ｍ２０ クラムシェル（Ｃｌａｍｓｈｅｌｌ）タイプ成形機を使用して行う。前記成形型に粉砕されたポリマー粉末２０２０ｇを充填し、２７４℃（華氏５２５°）の温度で二軸方向に回転させながらオーブンで加熱する。この加熱は特定時間保持する（下記表を参照）。続いて、前記オーブンを開き、まだ回転させながら、７分間前記成形型を強制空気循環により冷却し、続いて７分間水噴霧ミストを与え、次いで更に２分間冷却工程を設けた。全体の成形サイクルを通して、回転の主軸の速度は６ｒｐｍに、また回転の副軸の速度は１．５ｒｐｍに保持する。この冷却完了後、前記成形型を開け、次いで中空物品を取り出す。
【０１３３】
製剤１では、ポリマーにホスフィット加工安定剤イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８（０．１２重量％）、アミンＮ−オキシドであるゲノックス（商標名：ＧＥＮＯＸ）ＥＰ（０．０５重量％）及び立体障害アミン光安定剤チヌビン（商標名：Ｔｉｎｕｖｉｎ）７８３（０．２０重量％）の組み合わせを更にブレンドした。
【０１３４】
比較製剤１では、ポリマーにホスフィット加工安定剤イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８（０．１２重量％）、ヒンダードフェノール系酸化防止剤イルガノックス（商標名：Ｉｒｇａｎｏｘ）１０１０（０．０５重量％）、及び立体障害アミン光安定剤チヌビン（商標名：Ｔｉｎｕｖｉｎ）７８３（０．２０重量％）の組み合わせを更にブレンドした。
【０１３５】
比較製剤２では、ポリマーにホスフィット加工安定剤イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８（０．１２重量％）、ヒンダードフェノール系酸化防止剤イルガノックス（商標名：Ｉｒｇａｎｏｘ）３１１４（０．０３５重量％）、及び立体障害アミン光安定剤チヌビン（商標名：Ｔｉｎｕｖｉｎ）７８３（０．２０重量％）の組み合わせを更にブレンドした。
【０１３６】
イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８はトリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィットである。ゲノックス（商標名：Ｇｅｎｏｘ）ＥＰは、ジ（炭素原子数１６ないし１８）アルキルメチルアミンオキシド，ＣＡＳ＃２０４９３３−９３−７である。イルガノックス（商標名：Ｉｒｇａｎｏｘ）１０１０は、ペンタエリトリトールテトラキス［３−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオナート］である。イルガノックス（商標名：Ｉｒｇａｎｏｘ）３１１４は、トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレートである。
チヌビン（商標名：Ｔｉｎｕｖｉｎ）７８３は、
式
【化１９】
で表される立体障害アミンの組み合わせである。
【０１３７】
各製剤は、１０ないし１７分までの保持時間を有する一般的な方法に従って、中空物品に回転成形される。
【０１３８】
中空物品の内表面の黄色度指数は、ＡＳＴＭ Ｄ１９２５に基づくＤＣＩ ＳＦ６００分光光度計により決定される。黄色度の増加は黄色度指数の正の増加に相当する。製剤１は、より長い加熱時間（１４分以上）における回転成形後、色安定性に関して比較製剤１よりも優れており、また加熱時間の全範囲にわたって、比較製剤２よりも優れている。この結果を表３に要約する。
【０１３９】
【表３】
【０１４０】
低温衝撃強さ試験は、ＡＳＴＭ Ｄ３７６３に基づき、備えられた落下重量衝撃装置ダイナタップ（商標名：ＤＹＮＡＴＵＰ）モデル８２５０を使用して行う。回転成形された箱から切り取られた試験片は、試験前に−４０℃で少なくとも４８時間、空気循環フリーザー中で状態調製する。試験片の外表面は衝撃の影響を受けやすい。
【０１４１】
前記衝撃結果（全衝撃エネルギーとして示す）を表４に示す。製剤１は、特に１４分以下の加熱時間を有する回転成形後、低温度衝撃強さにおいて比較製剤１よりも優れていることが判る。製剤１はまた、１３分以下の加熱時間を有する回転成形後、低温度衝撃強さにおいて比較製剤２よりも優れている。
【０１４２】
【表４】
【０１４３】
成形品の生産性を最大にし、エネルギー消費を減少させるために、最小限の加熱時間で耐衝撃性の物品を成形することが可能であることは重要である。前記物品は最小限の変色を示す。表５は最適な衝撃強さに達するのに必要な加熱時間及び加熱後の黄色度指数を要約したものである。最適な衝撃強さに達するのに最も短時間である点、及び最適な衝撃強さを備える物品に対し最も低い黄色度指数を示す点において、製剤１は比較製剤より優れている。
【０１４４】
【表５】
【０１４５】
本安定剤系である製剤１は、２つの最新技術の安定剤系である比較製剤１及び２（アミンオキサイド安定剤の代わりにヒンダードフェノール系酸化防止剤を含む）より明らかに優れている。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、回転成形法によるポリオレフィン中空製品の製造、以下の本文中に記載された使用される加工安定剤組み合わせに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
回転成形法又は回転による成形及び／又は注型法は、ガラス繊維で強化され得る相当大きなプラスチック中空製品の製造のために使用される〔ポリマー科学及び工学大辞典（Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ ｏｆ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ） ，Ｗｉｌｅｒ Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ，１９８８，Ｖｏｌ．１４，第６５９〜６７０頁〕。原則的に、前記方法は下記の如く行われる：プラスチック材料を成形型の半分に充填し、これを次いで他の半分と共に型閉めし、次いで、異なる軸の回りに回転された場合に溶融したプラスチック材料が前記成形型の壁面に広がるように、オーブン中で加熱する。冷却後、中空製品が得られる。このようにして、例えば、ＨＤポリエチレン製の貯蔵及びトラック輸送タンクを製造することが可能である。前記方法は通常、３００℃以上の範囲の温度を必要とし、時々は４００℃以上の範囲の温度さえも必要とする。安定剤に対する要求は、それ故、例えば押出法における要求（温度は通常約２８０℃以上であることはほとんどない）と異なり且つ一層厳しい。
【０００３】
ポリオレフィンに関する、ホスフィット又はホスホナイトと、立体障害フェノール及び／又は立体障害アミン（ＨＡＬＳ）とからなる安定剤組み合わせの使用が知られている［とりわけ、アール．ゲヒター（Ｒ．Ｇａｅｃｈｔｅｒ），エイチ．ミュラー（Ｈ．Ｍｕｅｌｌｅｒ） ，“プラスチック添加剤ハンドブック（Ｐｌａｓｔｉｃ Ａｄｄｉｔｉｖｅｓ Ｈａｎｄｂｏｏｋ）”，Ｈａｎｓｅｒ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ ，第４０〜７１頁（１９９０）参照］。
【０００４】
ヒドロキシルアミン誘導体、例えばＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン及びＮ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシルアミンは、例えば、アメリカ合衆国特許第４５９０２３１号，同第４６６８７２１号，同第４７８２１０５号及び同第４８７６３００号（これらの関連部分は、文献として本明細書中に取り込まれている）に教示されているように、種々のポリマー状基材のための有用な安定剤として良く知られている。
【０００５】
アメリカ合衆国特許第４６４９２２１号，同第４６９１０１５号及び同第４７０３０７３号には、ポリオレフィンを安定化するための、フェノール系酸化防止剤、立体障害アミン光安定剤、アルキル化ヒドロキシベンゾエート光安定剤、紫外線吸収剤、有機燐化合物、脂肪酸のアルカリ金属塩及びチオ相乗剤の群から選択された一つ又はそれより多くの化合物と一緒になったポリヒドロキシルアミン化合物、立体障害アミンから誘導されたヒドロキシルアミン及びアルキル化Ｎ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシルアミン誘導体の各々の使用が教示されている。
【０００６】
アメリカ合衆国特許第４７８２１０５号には、ポリ（アリーレンスルフィド）及び不飽和エラストマーの安定化のための長鎖Ｎ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミンの使用が開示されている。実施例には、スチレン／ブタジエン・コポリマーにおいて、長鎖Ｎ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミンはホスフィット安定剤と一緒に使用されることが示されている。
【０００７】
アメリカ合衆国特許第４８７６３００号には、ポリオレフィン組成物のための加工安定剤としての長鎖Ｎ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミンの使用が開示されている。実施例
には、長鎖Ｎ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミンがホスフィット安定剤と共に使用され、そしてまた、それらが立体障害アミン安定剤と一緒に使用されることが示されている。
【０００８】
アメリカ合衆国特許第４５９０２３１号及び同第４６６８７２１号には、ポリオレフィン組成物の安定化のための、脂肪酸の金属塩及びフェノール系酸化防止剤と一緒になったＮ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシルアミン又は他のヒドロキシルアミン誘導体の使用が開示されている。前記組成物も、有機燐化合物又は立体障害アミン安定剤を含んでよい。
【０００９】
アメリカ合衆国特許第５０１３５１０号には、直接酸化による長鎖Ｎ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミンの製造方法が教示されている。ポリオレフィン組成物の安定化に対して、長鎖Ｎ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミンが有効であることが述べられている。
【００１０】
アメリカ合衆国特許第５５９６０３３号には、選ばれた立体障害アミンと、Ｎ，Ｎ−ジ（水素化獣脂）アミンの直接酸化により製造されたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミンとからなる二成分系を用いるポリプロピレン繊維の安定化が開示されている。
【００１１】
アメリカ合衆国特許第５１４９７７４号には、既に開示されたポリオレフィン樹脂の再生中の着色を低減させるためのヒドロキシルアミン誘導体の使用が開示されている。
【００１２】
アメリカ合衆国特許第５８４４０２９号及び同第５８８０１９１号には、熱可塑性樹脂の安定化のための飽和炭化水素アミンオキシドの使用が開示されている。前記熱可塑性組成物は、更にフェノール系安定剤、立体障害アミン光安定剤、紫外線吸収剤、有機燐化合物、脂肪酸のアルカリ金属塩及びチオ相乗剤からなる群から選択された安定剤又は安定剤混合物を含み得ることが開示されている。ポリオレフィンを安定化するためのアミンと他の安定剤との共同使用は例示されていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１３】
【特許文献１】米国特許第４５９０２３１号明細書
【特許文献２】米国特許第４６６８７２１号明細書
【特許文献３】米国特許第４７８２１０５号明細書
【特許文献４】米国特許第４８７６３００号明細書
【特許文献５】米国特許第４６４９２２１号明細書
【特許文献６】米国特許第４６９１０１５号明細書
【特許文献７】米国特許第４７０３０７３号明細書
【特許文献８】米国特許第４７８２１０５号明細書
【特許文献９】米国特許第４８７６３００号明細書
【特許文献１０】米国特許第４５９０２３１号明細書
【特許文献１１】米国特許第４６６８７２１号明細書
【特許文献１２】米国特許第５０１３５１０号明細書
【特許文献１３】米国特許第５５９６０３３号明細書
【特許文献１４】米国特許第５１４９７７４号明細書
【特許文献１５】米国特許第５８４４０２９号明細書
【特許文献１６】米国特許第５８８０１９１号明細書
【非特許文献】
【００１４】
【非特許文献１】ポリマー科学及び工学大辞典（Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ ｏｆ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ） ，Ｗｉｌｅｒ Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ，１９８８，Ｖｏｌ．１４，第６５９〜６７０頁
【非特許文献２】アール．ゲヒター（Ｒ．Ｇａｅｃｈｔｅｒ），エイチ．ミュラー（Ｈ．Ｍｕｅｌｌｅｒ） ，”プラスチック添加剤ハンドブック（Ｐｌａｓｔｉｃ Ａｄｄｉｔｉｖｅｓ Ｈａｎｄｂｏｏｋ）”，Ｈａｎｓｅｒ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ ，第４０〜７１頁（１９９０）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
有機ホスフィット又はホスホナイト及び立体障害アミン安定剤と一緒になったヒドロキシルアミン誘導体の組み合わせは、回転成形法において優れた安定性を示すことが今や判った。本発明に従って製造された中空成形品は、優れた初期色及びガス劣化耐性を示す。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
従って、本発明は、
（ａ）有機ホスフィット及びホスホナイトの群からの少なくとも一つの化合物、
（ｂ）（ｉ）ヒドロキシルアミン誘導体、及び
（ｉｉ）アミンオキシド誘導体
からなる群から選択された一つ又はそれより多くの化合物、並びに
（ｃ）立体障害アミン安定剤からなる群からの少なくとも一つの化合物
からなる安定剤組み合わせをポリオレフィンに投入し、
この混合物を成形型内に充填し、安定化されたポリオレフィンが溶融するように前記成形型をオーブン中で２８０℃以上に加熱し、前記成形型を少なくても二軸の回りに回転させ、可塑性材料を壁面に広げ、なお回転させながら前記成形型を冷却し、該成形型を開き、次いで得られた中空製品を取り出すことからなるポリオレフィン中空製品の新規製造方法に関するものである。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
成分（ａ）が少なくとも一つの次式（１），（２），（３），（４），（５），（６）及び（７）：
【化１】
【化２】
〔式中、指数は整数であり、そして
ｎは２，３又は４であり、ｐは１又は２であり、ｑは２又は３であり、ｒは４ないし１２であり、ｙは１，２又は３であり、そしてｚは１ないし６であり、
Ａ1は、ｎが２である場合は、炭素原子数２ないし１８のアルキレン基；酸素原子，硫
黄原子又は−ＮＲ4基により中断された炭素原子数２ないし１２のアルキレン基；次式：
【化３】
で表わされる基又はフェニレン基を表わし、
Ａ1は、ｎが３である場合は、式−ＣrＨ2r-1で表わされる基を表わし、
Ａ1は、ｎが４である場合は、次式：
【化４】
で表わされる基を表わし、
Ａ2は、ｎが２である場合のＡ1 に対して定義されたものと同じ意味を表わし、
Ｂは直接結合、−ＣＨ2−基、−ＣＨＲ4−基、−ＣＲ1Ｒ4−基、硫黄原子、炭素原子数５ないし７のシクロアルキリデン基、又は３，４及び／又は５位が１ないし４個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換されたシクロヘキシリデン基を表わし、
Ｄ1は、ｐが１である場合は、炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わし、そして、
ｐが２である場合は、−ＣＨ2 ＯＣＨ2 −基を表わし、
Ｄ2は、ｐが１である場合は、炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わし、
Ｅは、ｙが１である場合は、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、−ＯＲ1基又はハ
ロゲン原子を表わし、
Ｅは、ｙが２である場合は、−Ｏ−Ａ2−Ｏ−基を表わし、
Ｅは、ｙが３である場合は、式Ｒ4Ｃ（ＣＨ2Ｏ−）3又はＮ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−）3で表わされる基を表わし、
Ｑは少なくともｚ価のアルコール又はフェノールの基を表わし、前記基は酸素原子を介して燐原子に結合しており、
Ｒ1，Ｒ2及びＲ3は互いに独立して、非置換又はハロゲン原子，−ＣＯＯＲ4 基，−Ｃ
Ｎ基若しくは−ＣＯＮＲ4Ｒ4基により置換された炭素原子数１ないし１８のアルキル基；酸素原子，硫黄原子又は−ＮＲ4基により中断された炭素原子数２ないし１８のアルキル
基；炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基；炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；フェニル基又はナフチル基；ハロゲン原子，全体で１ないし１８個の炭素原子を有する１ないし３個のアルキル基若しくはアルコキシ基により、又は炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基により置換されたナフチル基又はフェニル基；又は次式：
【化５】
（式中、ｍは３ないし６の範囲の整数である）で表わされる基を表わし、
Ｒ4は水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数５ないし１２のシ
クロアルキル基又は炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表わし、
Ｒ5及びＲ6は互いに独立して、水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基又は炭素原子数５若しくは６のシクロアルキル基を表わし、
Ｒ7及びＲ8は、ｑが２である場合は、互いに独立して、炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わし、又は一緒になって２，３−デヒドロペンタメチレン基を表わし、そして
Ｒ7及びＲ8は、ｑが３である場合は、メチル基を表わし、
Ｒ14は水素原子、炭素原子数１ないし９のアルキル基又はシクロヘキシル基を表わし、
Ｒ15は水素原子又はメチル基を表わし、そして、二つ又はそれより多くの基Ｒ14及びＲ15が存在する場合は、これらの基は同一であり又は異なり、
Ｘ及びＹは各々、直接結合又は酸素原子を表わし、
Ｚは直接結合、メチレン基、−Ｃ（Ｒ16）2−基又は硫黄原子を表わし、そして
Ｒ16は炭素原子数１ないし８のアルキル基を表わす〕からなる群から選択される化合物である新規方法は重要である。
【００１８】
炭素原子数２ないし１８のアルキレン基は分岐又は非分岐基、例えば、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘプタメチレン基、オクタメチレン基、デカメチレン基、ドデカメチレン基又はオクタデカメチレン基である。炭素原子数２ないし１２のアルキレン基、とりわけ炭素原子数２ないし８のアルキレン基が好ましい。
【００１９】
酸素原子、硫黄原子又は−ＮＲ4−基により中断された炭素原子数２ないし１８のアル
キレン基は、例えば、−ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2−基、−ＣＨ2−Ｓ−ＣＨ2−基、−ＣＨ2−Ｎ
Ｈ−ＣＨ2−基、−ＣＨ2−Ｎ（ＣＨ3）−ＣＨ2−基、−ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2−Ｏ−Ｃ
Ｈ2−基、−ＣＨ2−（Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2）2Ｏ−ＣＨ2−基、−ＣＨ2−（Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2）3Ｏ−ＣＨ2−基、−ＣＨ2−（Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2）4Ｏ−ＣＨ2−基又は−ＣＨ2ＣＨ2−Ｓ−ＣＨ2ＣＨ2−基である。
【００２０】
炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数５ないし７のシクロアルキリデン基（好ましくは、１ないし３個、とりわけ１又は２個の分岐又は非分岐アルキル基を含む）は、例えば、シクロペンチリデン基、メチルシクロペンチリデン基、ジメチルシクロペンチリデン基、シクロヘキシリデン基、メチルシクロヘキシリデン基、ジメチルシクロヘキシリデン基、トリメチルシクロヘキシリデン基、第三ブチルシクロヘキシリデン基又はシクロヘプチリデン基である。シクロヘキシリデン基及び第三ブチルシクロヘキシリデン基が好ましい。
【００２１】
１８個までの炭素原子を有するアルキル基は、分岐又は非分岐基、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、第二ブチル基、イソブチル基、
第三ブチル基、２−エチルブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、１−メチルペンチル基、１，３−ジメチルブチル基、ｎ−ヘキシル基、１−メチルヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、イソヘプチル基、１，１，３，３−テトラメチルブチル基、１−メチルヘプチル基、３−メチルヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、１，１，３−トリメチルヘキシル基、１，１，３，３−テトラメチルペンチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、１−メチルウンデシル基、ドデシル基、１，１，３，３，５−ヘキサメチルヘキシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基又はオクタデシル基である。
【００２２】
ハロゲン原子（ハロ）は、例えば、塩素原子、臭素原子又は沃素原子である。塩素原子が好ましい。
【００２３】
酸素原子、硫黄原子又は−ＮＲ4−基により中断された炭素原子数２ないし１８のアル
キル基は、例えば、ＣＨ3−Ｏ−ＣＨ2−基、ＣＨ3−Ｓ−ＣＨ2−基、ＣＨ3−ＮＨ−ＣＨ2−基、ＣＨ3−Ｎ（ＣＨ3）−ＣＨ2−基、ＣＨ3−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2−基、ＣＨ3−（Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2）2Ｏ−ＣＨ2−基、ＣＨ3−（Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2）3Ｏ−ＣＨ2−基又は
ＣＨ3−（Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2）4Ｏ−ＣＨ2−基である。
【００２４】
炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基は、例えば、ベンジル基、α−メチルベンジル基、α，α−ジメチルベンジル基又は２−フェニルエチル基である。ベンジル基及びα，α−ジメチルベンジル基が好ましい。
【００２５】
非置換又は炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基は、例えば、シクロペンチル基、メチルシクロペンチル基、ジメチルシクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロヘキシル基、トリメチルシクロヘキシル基、第三ブチルシクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基、シクロウンデシル基又はシクロドデシル基である。シクロヘキシル基及び第三ブチルシクロヘキシル基が好ましい。
【００２６】
１８個までの炭素原子を有するアルコキシ基は、分岐又は非分岐基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ペントキシ基、イソペントキシ基、ヘキソキシ基、ヘプトキシ基、オクトキシ基、デシロキシ基、テトラデシロキシ基、ヘキサデシロキシ基又はオクタデシロキシ基である。１ないし１２個、とりわけ１ないし８個、例えば１ないし６個の炭素原子を有するアルコキシ基が好ましい。
【００２７】
成分（ａ）が式（１），（２），（５）及び（６）〔式中、
ｎは数２であり、そしてｙは数１，２又は３であり、
Ａ1は炭素原子数２ないし１８のアルキレン基、ｐ−フェニレン基又はｐ−ビフェニレ
ン基を表わし、
Ｅは、ｙが１である場合は、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、−ＯＲ1又は弗素
原子を表わし、
Ｅは、ｙが２である場合は、ｐ−ビフェニレン基を表わし、
Ｅは、ｙが３である場合は、Ｎ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−）3基を表わし、
Ｒ1，Ｒ2及びＲ3は互いに独立して、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子
数７ないし９のフェニルアルキル基、シクロヘキシル基、フェニル基、又は全体で１ないし１８個の炭素原子を有する１ないし３個のアルキル基により置換された他フェニル基を表わし、
Ｒ14は水素原子又は炭素原子数１ないし９のアルキル基を表わし、
Ｒ15は水素原子又はメチル基を表わし、
Ｘは直接結合を表わし、
Ｙは酸素原子を表わし、
Ｚは直接結合又は−ＣＨ（Ｒ16）−基を表わし、そして
Ｒ16は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わす〕から選択された少なくとも一つの化合物である新規方法が特に重要である。
【００２８】
成分（ａ）が式（１），（２），（５）及び（６）〔式中、
ｎは数２であり、そしてｙは数１又は３であり、
Ａ1はｐ−ビフェニレン基を表わし、
Ｅは、ｙが１である場合は、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基又は弗素原子を表わし、
Ｅは、ｙが３である場合は、Ｎ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−）3基を表わし、
Ｒ1，Ｒ2及びＲ3は互いに独立して、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、又は全体
で２ないし１２個の炭素原子を有する２又は３個のアルキル基により置換された他フェニル基を表わし、
Ｒ14はメチル基又は第三ブチル基を表わし、
Ｒ15は水素原子を表わし、
Ｘは直接結合を表わし、
Ｙは酸素原子を表わし、
Ｚは直接結合、メチレン基又は−ＣＨ（ＣＨ3）−基を表わす〕から選択された少なく
とも一つの化合物である新規方法も同様に重要である。
【００２９】
成分（ａ）が式（１），（２）及び（６）から選択された少なくとも一つの化合物である方法が重要である。
【００３０】
成分（ａ）が少なくとも一つの次式（Ｉ）：
【化６】
〔式中、
Ｒ17及びＲ18は互いに独立して、水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、シクロヘキシル基又はフェニル基を表わし、そして
Ｒ19及びＲ20は互いに独立して、水素原子又は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わす〕で表わされる化合物である方法は特に好ましい。
【００３１】
下記の化合物は、本新規方法における成分（ａ）として使用するために特に適する有機ホスフィット及びホスホナイトの例である：トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホスフィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィット〔イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８，チバ・スペシャルティ・ケミカルズ・コーポレーテッド（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ Ｃｏｒｐ．）〕、ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ第三ブチ
ルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット〔式（Ｄ）〕、ビス（２，６−ジ第三ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット〔式（Ｅ）〕、ビス−イソデシロキシ−ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ第三ブチル−６−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４，６−トリ第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、トリステアリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）４，４’−ビフェニレン−ジホスホナイト〔イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）Ｐ−ＥＰＱ，チバ・スペシャルティ・ケミカルズ・コーポレーテッド（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ Ｃｏｒｐ．），式（Ｈ）〕、６−イソオクチロキシ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン〔式（Ｃ）〕、６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２−メチル−ジベンゾ［ｄ，ｇ］［１，３，２］ジオキサホスホシン〔式（Ａ）〕、ビス（２，４−ジ第三ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスフィット、ビス（２，４−ジ第三ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィット〔式（Ｇ）〕。
【００３２】
特に好ましくは、本新規方法における成分（ａ）として、下記のホスフィット及びホスホナイトが使用される：トリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィット〔イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８，チバ・スペシャルティ・ケミカルズ・コーポレーション（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ Ｃｏｒｐ．）〕、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、次式で表わされる化合物：
【化７】
【化８】
【００３３】
本新規方法における成分（ａ）として、下記の化合物を使用することは非常に特別に好ましい：トリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィット〔イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８，チバ・スペシャルティ・ケミカルズ・コーポレーション（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ Ｃｏｒｐ．）〕、ビス（２，４−ジ第三ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィット〔イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）３８，チバ・スペシャルティ・ケミカルズ・コーポレーション（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ Ｃｏｒｐ．），式（Ｇ）〕、ビス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット〔ウルトラノックス（商標名：Ｕｌｔｒａｎｏｘ）６２６，ジーイー・ケミカルズ（ＧＥ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ），式（Ｄ）〕、テトラキス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）４，４’−ビフェニレン−ジホスホナイト〔イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）Ｐ−ＥＰＱ，チバ・スペシャルティ・ケミカルズ・コーポレーション（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌ
ｓ Ｃｏｒｐ．），式（Ｈ）〕、２，２’，２’’−ニトリロ［トリエチルトリス（３，３’，５，５’−テトラ第三ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット〔イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）１２，チバ・スペシャルティ・ケミカルズ・コーポレーション（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ Ｃｏｒｐ．），式（Ｂ）〕、ウルトラノックス（商標名：Ｕｌｔｒａｎｏｘ）６４１，〔ジーイー・ケミカルズ（ＧＥ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ），式（Ｊ）〕、ドヴァーホス（商標名：Ｄｏｖｅｒｐｈｏｓ）Ｓ９２２８〔ドヴァー・ケミカルズ（Ｄｏｖｅｒ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ），式（Ｋ）〕、又はマーク（商標名：Ｍａｒｋ）ＨＰ１０〔アデカ・アーガス（Ａｄｅｋａ Ａｒｇｕｓ），式（Ｌ）〕。
【００３４】
前記有機ホスフィット及びホスホナイトは公知化合物である：それらの多くは市販されている。
【００３５】
成分（ａ）の有機ホスフィット及びホスホナイトは好ましくは、安定化すべきポリオレフィン中空製品の重量に対して、約０．０１％ないし約１０％、特に約０．０５％ないし約５％、代表的には約０．１％ないし約３％の量使用される。
【００３６】
本新規方法で用いられる成分（ｉ）のヒドロキシルアミン誘導体は次式（ＩＩ）：
【化９】
〔式中、
Ｔ1は１ないし３６個の炭素原子を有する直鎖状又は分岐鎖状アルキル基、５ないし１
２個の炭素原子を有するシクロアルキル基、７ないし９個の炭素原子を有するアルアルキル基、或いは１ないし１２個の炭素原子を有する一つ若しくは二つのアルキル基により又は一つ若しくは二つのハロゲン原子により置換された７ないし９個の炭素原子を有するアルアルキル基を表わし、
Ｔ2は水素原子を表わし、又は独立して、Ｔ1に対して定義されたものと同じ意味を表わす〕で表わされる。
【００３７】
３６個までの炭素原子を有するアルキル基は直鎖又は分岐鎖基、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、第二ブチル基、イソブチル基、第三ブチル基、２−エチルブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、１−メチルペンチル基、１，３−ジメチルブチル基、ｎ−ヘキシル基、１−メチルヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、イソヘプチル基、１，１，３，３−テトラメチルブチル基、１−メチルヘプチル基、３−メチルヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、１，１，３−トリメチルヘキシル基、１，１，３，３−テトラメチルペンチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、１−メチルウンデシル基、ドデシル基、１，１，３，３，５，５−ヘキサメチルヘキシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基又はオクタデシル基である。
【００３８】
炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基は、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、シクロウンデシル基又はシクロドデシル基である。シクロヘキシル基が好ましい。
【００３９】
炭素原子数７ないし９のアルアルキル基は、例えば、ベンジル基、α−メチルベンジル基、α，α−ジメチルベンジル基又は２−フェニルエチル基である。ベンジル基及びα，
α−ジメチルベンジル基が好ましい。
【００４０】
ハロゲン原子（ハロ）は、例えば、塩素原子、臭素原子又は沃素原子である。塩素原子が好ましい。
【００４１】
成分（ｉ）の化合物が式（ＩＩ）〔式中、Ｔ1及びＴ2は独立して、ベンジル基、エチル基、オクチル基、ラウリル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基又はオクタデシル基を表わす、又は式中、Ｔ1及びＴ2は各々、水素化獣脂アミン中に見出されるアルキル基混合物である〕で表わされるＮ，Ｎ−ジヒドロカルビルヒドロキシルアミンである方法が好ましい。
【００４２】
成分（ｉ）の化合物がＮ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジドデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘキサデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−テトラデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−ヘプタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、及びＮ，Ｎ−ジ（水素化獣脂）ヒドロキシルアミンからなる群から選択されたＮ，Ｎ−ジヒドロカルビルヒドロキシルアミンである方法がとりわけ好ましい。
【００４３】
成分（ｉ）が、Ｎ，Ｎ−ジ（水素化獣脂）アミン〔イルガスタッブ（商標名：Ｉｒｇａｓｔａｂ）０４２，チバ・スペシャルティ・ケミカルズ・コーポレーション（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ Ｃｏｒｐ．）〕の直接酸化により製造されるＮ，Ｎ−ジ（アルキル）ヒドロキシルアミン生成物である方法が特に好ましい。
【００４４】
成分（ｉｉ）のアミンオキシド誘導体は一般式（ＩＩＩ）：
【化１０】
〔式中、
Ｇ1及びＧ2は独立して、６ないし３６個の炭素原子を有する直鎖状又は分岐鎖状アルキル基、６ないし１２個の炭素原子を有するアリール基、７ないし３６個の炭素原子を有するアルアルキル基、７ないし３６個の炭素原子を有するアルカリール基、５ないし３６個の炭素原子を有するシクロアルキル基、６ないし３６個の炭素原子を有するアルクシクロアルキル基又は６ないし３６個の炭素原子を有するシクロアルキルアルキル基を表わし、
Ｇ3は１ないし３６個の炭素原子を有する直鎖状又は分岐鎖状アルキル基、６ないし１
２個の炭素原子を有するアリール基、７ないし３６個の炭素原子を有するアルアルキル基、７ないし３６個の炭素原子を有するアルカリール基、５ないし３６個の炭素原子を有するシクロアルキル基、６ないし３６個の炭素原子を有するアルクシクロアルキル基又は６ないし３６個の炭素原子を有するシクロアルキルアルキル基を表わし、
但し、Ｇ1，Ｇ2及びＧ3の少なくとも一つはβ炭素−水素結合を含み、そして、
前記アルキル基、アルアルキル基、アルカリール基、シクロアルキル基、アルクシクロアルキル基及びシクロアルキルアルキル基は、１ないし１６個の−Ｏ−基、−Ｓ−基、−ＳＯ−基、−ＳＯ2−基、−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−基、−ＣＯ−基、−ＮＧ4−基、−Ｃ
ＯＮＧ4−基及び−ＮＧ4ＣＯ−基により中断されてよく、又は前記アルキル基、アルアルキル基、アルカリール基、シクロアルキル基、アルクシクロアルキル基及びシクロアルキルアルキル基は、−ＯＧ4基、−ＳＧ4基、−ＣＯＯＧ4基、−ＯＣＯＧ4基、−ＣＯＧ4基
、−Ｎ（Ｇ4）2基、−ＣＯＮ（Ｇ4）2基、−ＮＧ4ＣＯＧ4基、並びに−Ｃ（ＣＨ3）（Ｃ
Ｈ2Ｒx）ＮＬ（ＣＨ2Ｒx）（ＣＨ3）Ｃ−基を含む５−及び６−員環から選択された１な
いし１６個の基により置換されてよく、又は前記アルキル基、アルアルキル基、アルカリール基、シクロアルキル基、アルクシクロアルキル基及びシクロアルキルアルキル基は、上述の基により中断され且つ置換されており、そして
式中、
Ｇ4は独立して、水素原子又は１ないし８個の炭素原子を有するアルキル基を表わし、
Ｒxは水素原子又はメチル基を表わし、
Ｌは炭素原子数１ないし３０の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基部分、−Ｃ（Ｏ）Ｒ基部分（式中、Ｒは炭素原子数１ないし３０の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基を表わす）、又は−ＯＲ基部分（式中、Ｒは炭素原子数１ないし３０の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基を表わす）を表わし、そして
前記アリール基は一つないし三つのハロゲン原子、１ないし８個の炭素原子を有するアルキル基、１ないし８個の炭素原子を有するアルコキシ基又はこれらの組み合わせにより置換されてよい〕で表わされる飽和第三アミンオキシドである。
【００４５】
６ないし１２個の炭素原子を有するアリール基は、例えば、フェニル基、ナフチル基、チエニル基又はピリジル基である。
【００４６】
式（ＩＩＩ）の好ましい構造は、式中、Ｇ1及びＧ2が独立して、ベンジル基又は置換ベンジル基を表わすものである。Ｇ1，Ｇ2及びＧ3の各々が同一の残基を表わすことも可能
である。Ｇ1及びＧ2は好ましくは、８ないし２６個の炭素原子を有するアルキル基も表わし、そして最も好ましくは、１０ないし２６個の炭素原子を有するアルキル基を表わし、そしてＧ3は好ましくは、１ないし２２個の炭素原子を有するアルキル基を表わし、そし
て最も好ましくは、メチル基又は置換メチル基を表わす。更に、好ましいアミンオキシドは、式中、Ｇ1，Ｇ2及びＧ3が６ないし３６個の炭素原子を有する同一のアルキル基を表
わすものを包含する。好ましくは、Ｇ1，Ｇ2及びＧ3のための全ての前述の残基が、飽和
炭化水素残基又は少なくとも一つの前述の−Ｏ−基、−Ｓ−基、−ＳＯ−基、−ＣＯ2−
基、−ＣＯ−基又は−ＣＯＮ−基を含む飽和炭化水素残基である。当業者は、本発明から逸脱することなく、Ｇ1，Ｇ2及びＧ3の各々のための他の有用な残基を予想することがで
きるであろう。
【００４７】
成分（ｉｉ）の飽和アミンオキシドは、ポリ（アミンオキシド）も含み得る。ポリ（アミンオキシド）は、分子当たり少なくとも二つの第三アミンオキシドを含む第三アミンオキシドを意味する。“ポリ（第三アミンオキシド）”とも呼ばれる具体的なポリ（アミンオキシド）は、例えば、１，４−ジアミノブタン、１，６−ジアミノヘキサン、１，１０−ジアミノデカン、及び１，４−ジアミノシクロヘキサンのような脂肪族及び脂環式ジアミン、並びに、例えば、ジアミノアントラキノン及びジアミノアニソールのような芳香族ベースのジアミンからなる第三アミンオキシド同族体を包含する。
【００４８】
上述のジアミンのオリゴマー及びポリマーから誘導される第三アミンオキシドも成分（ｉｉ）に含まれる。有用なアミンオキシドは更に、ポリマー例えば、ポリオレフィン、ポリアクリレート、ポリエステル、ポリアミド、ポリスチレン及び同種のものに結合したアミンオキシドを含む。前記アミンオキシドがポリマーに結合している場合には、分子当たりのアミンオキシドの平均数は、全てのポリマー鎖が一つのアミンオキシドを含む必要はないので広範に変化し得る。全ての前述のアミンオキシドは、所望により、少なくとも一つの−Ｏ−基、−Ｓ−基、−ＳＯ−基、−ＣＯ2−基、−ＣＯ−基又は−ＣＯＮＧ4−基部
分を含んでよい。好ましい態様において、前記ポリマー状第三アミンオキシドの各々の第三アミンオキシドは炭素原子数１の残基を含む。
【００４９】
式（ＩＩＩ）の基Ｇ1，Ｇ2及びＧ3は、一つの立体障害アミンを含む一つの分子に結合
してよい。立体障害アミンは従来知られており、そして、本発明のアミンオキシドは何らかの方法で前記立体障害アミンに及び前記立体障害アミンの構造部分に結合してよい。成分（ｉｉ）の化合物の一部である場合の有用な立体障害アミンは、一般式（ＩＶ）及び（Ｖ）：
【化１１】
〔式中、Ｌ及びＲxは上記において定義されたものと同じ意味を表わす〕で表わされるも
のを包含する。分子当たり一つより多い立体障害アミン及び一つより多い飽和アミンを含むアミンオキシドも含まれる。前記立体障害アミンは、上述の如く、ポリ（第三アミンオキシド）に又はポリマー状基材に結合してよい。
【００５０】
成分（ｂ）の化合物は、好ましくは、安定化すべきポリオレフィン中空製品の重量に対して、全体で、約０．０００５重量％ないし５重量％、特に約０．００１重量％ないし２重量％、代表的には約０．０１重量％ないし２重量％の量使用される。
【００５１】
本新規方法に用いられる成分（ｃ）は、次式（ＶＩ）：
【化１２】
〔式中、Ｒxは水素原子又はメチル基を表わす〕で表わされる少なくとも一つの基を含む
少なくとも一つの化合物である。好ましくは、Ｒxは水素原子を表わす。好ましくは、成
分（ｃ）は高分子量のものであり、そして、個別の化合物又はオリゴマー状混合物であってよい。
【００５２】
成分（ｃ）の特に好ましい立体障害アミンは次式：
【化１３】
【化１４】
【化１５】
【化１６】
【化１７】
【化１８】
〔式中、ｍ及びｎは２ないし２００の範囲の数である〕で表わされる。
【００５３】
立体障害アミン型の化合物は既知であり、そして幾つかは市販されている。
【００５４】
チヌヴィン（商標名：Ｔｉｎｕｖｉｎ）及びシマソルブ（商標名：Ｃｈｉｍａｓｓｏｒｂ）はチバ・スペシャルティ・ケミカルズ・コーポレーション（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）〕の保護された商標名である。サンデュボアー（商標名：Ｓａｎｄｕｖｏｒ）及びホスタヴィン（Ｈｏｓｔａｖｉｎ）はクラリアント（Ｃｌａｒｉａｎｔ）の保護された商標名である。シアソルブ（商標名：Ｃｙａｓｏｒｂ）はシテック・コーポレーション（Ｃｙｔｅｃ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）の保護された商標名である。ウヴィヌル（商標名：Ｕｖｉｎｕｌ）はＢＡＳＦの保護された商標名である。ウヴァシル（商標名：Ｕｖａｓｉｌ）はエニケム（Ｅｎｉｃｈｅｍ）の保護された商標名である。ウヴァソルブ（商標名：Ｕｖａｓｏｒｂ）は３Ｖシグマ（３Ｖ
Ｓｉｇｍａ）の保護された商標名である。
【００５５】
成分（ｃ）の立体障害アミンは好ましくは、安定化すべきポリオレフィン中空製品の重量に対して、約０．０１重量％ないし１０重量％、特に約０．０５重量％ないし５重量％、代表的には約０．１重量％ないし３重量％の量使用される。
【００５６】
成分（ａ），（ｂ）及び（ｃ）からなる安定剤組み合わせは、回転成形法により製造されるポリオレフィン中空製品を安定化するために適している。
【００５７】
ポリオレフィンの例は下記のものである。
１．モノオレフィン及びジオレフィンのポリマー、例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテ−１−エン、ポリ−４−メチルペンテ−１−エン、ポリイソプレン又はポリブタジエン、並びにシクロオレフィンのポリマー、例えばシクロペンテン又はノルボルネンのポリマー、ポリエチレン（所望により架橋されていてよい）、例えば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、高密度及び高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＨＭＷ）、高密度及び超高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＵＨＭＷ）、中密度ポリエチレン（ＭＤＰＥ）、
低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、直鎖状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ），（ＶＬＤＰＥ）及び（ＵＬＤＰＥ）。
【００５８】
ポリオレフィン、すなわち先の段落で例示したモノオレフィン、好ましくはポリエチレン及びポリプロピレンのポリマーは、異なる方法により製造することができ、そして、とりわけ下記の方法により製造することができる。
【００５９】
ｉ）ラジカル重合（通常、高圧及び高められた温度の下で行われる）。
ｉｉ）通常、周期律表の族ＩＶｂ，Ｖｂ，ＶＩｂ又はＶＩＩＩの１種又は１種よりも多くの金属を含む触媒を使用する触媒重合。前記金属は、通常１種又はそれより多くの配位子を有しており、代表的にはｐ−又はｓ−配位されていてよい酸化物、ハロゲン化物、アルコレート、エステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニル及び／又はアリールである。前記金属錯体は、遊離の形態にあってもよいし又は基材上に、代表的には活性化塩化マグネシウム、三塩化チタン、アルミナ又は酸化珪素上に担持されていてもよい。前記触媒は、重合媒体に可溶性であってもよいし又は非可溶性であってもよい。前記触媒は重合の際に単独で使用してもよく、又は別の活性剤、代表的には金属アルキル、金属ハイドライド、金属アルキルハライド、金属アルキルオキシド若しくは金属アルキルオキサンを使用してもよい（前記金属は、周期律表の族Ｉａ，ＩＩａ及び／又はＩＩＩａの元素である）。活性剤は、別のエステル、エーテル、アミン又はシリルエーテル類を用いて都合良く変性されていてよい。前記触媒系は、通常、フィリップス（Ｐｈｉｌｌｉｐｓ）触媒，スタンダード オイルインディアナ（Ｓｔａｎｄａｒｄ Ｏｉｌ Ｉｎｄｉａｎａ）触媒，チーグラー（−ナッタ）〔Ｚｉｅｇｌｅｒ（−Ｎａｔｔａ）〕触媒，ＴＮＺ〔デュポン（ＤｕＰｏｎｔ）〕触媒，メタロセン触媒又はシングルサイト触媒（ＳＳＣ）と呼ばれる。
【００６０】
２．１．で記述したポリマーの混合物、例えばポリプロピレンとポリイソブチレンとの混合物、ポリプロピレンとポリエチレンとの混合物（例えばＰＰ／ＨＤＰＥ、ＰＰ／ＬＤＰＥ）及び異なる種類のポリエチレンの混合物（例えばＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。
【００６１】
３．モノオレフィンとジオレフィンとの互いの又はその他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン／プロピレンコポリマー、直鎖状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）及びその低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）との混合物、プロピレン／ブテ−１−エンコポリマー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレン／ブテ−１−エンコポリマー、エチレン／ヘキセンコポリマー、エチレン／メチルペンテンコポリマー、エチレン／ヘプテンコポリマー、エチレン／オクテンコポリマー、プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン／イソプレンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレートコポリマー、エチレン／アルキルメタクリレートコポリマー、エチレン／酢酸ビニルコポリマー及びこれらの一酸化炭素とのコポリマー又はエチレン／アクリル酸コポリマー及びそれらの塩（イオノマー）、並びにエチレンとプロピレン及びジエン例えばヘキサジエン、ジシクロテンタジエン又はエチリデン−ノルボルネンとのターポリマー；並びに前記コポリマーの混合物及び前記コポリマーと上記１．において記載したポリマーとの混合物、例えばポリプロピレン／エチレン−プロピレン−コポリマー、ＬＤＰＥ／エチレン−酢酸ビニルコポリマー（ＥＶＡ）、ＬＤＰＥ／エチレン−アクリル酸コポリマー（ＥＡＡ）、ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ、ＬＬＤＰＥ／ＥＡＡ及び交互又はランダムポリアルキレン／一酸化炭素−コポリマー並びにそれらの他のポリマー例えばポリアミドとの混合物。
【００６２】
好ましいポリオレフィンはポリエチレン又はポリプロピレン、並びにモノ−及びジオレフィンとのそれらのコポリマーである。
【００６３】
成分（ａ），（ｂ）及び（ｃ）に加えて、本新規方法は、例えば下記のもののような別の共安定剤（添加剤）を含んでもよい。
【００６４】
１．酸化防止剤
１．１．アルキル化モノフェノール
例えば、２，６−ジ第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ第三ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ第三ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロペンチル−４−メチルフェノ−ル、２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノ−ル、２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、２，６−ジ第三ブチル−４−メトキシメチルフェノール、側鎖が直鎖状又は分岐鎖状であるノニルフェノール、例えば、２，６−ジノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルウンデシ−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルヘプタデシ−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルトリデシ−１’−イル）フェノール及びそれらの混合物。
【００６５】
１．２．アルキルチオメチルフェノール
例えば、２，４−ジオクチルチオメチル−６−第三ブチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−エチルフェノール、２，６−ジドデシルチオメチル−４−ノニルフェノール。
【００６６】
１．３．ヒドロキノン及びアルキル化ヒドロキノン
例えば、２，６−ジ第三ブチル−４−メトキシフェノール、２，５−ジ第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ第三アミルヒドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，６−ジ第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジペート。
【００６７】
１．４．トコフェロール
例えば、α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェロール及びそれらの混合物（ビタミンＥ）。
【００６８】
１．５．ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル
例えば、２，２’−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−チオビス（４−オクチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−３−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（３，６−ジ第二アミルフェノール）、４，４’−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ジスルフィド。
【００６９】
１．６．アルキリデンビスフェノール
例えば、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）フェノール］、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ第三ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、２，２’−メチレンビス［６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ第三ブチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（６−第三ブチル−２−メ
チルフェノール）、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコール−ビス［３，３−ビス（３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）ブチレート］、ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス［２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、１，１−ビス（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テトラ（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン。
【００７０】
１．７．Ｏ−，Ｎ−及びＳ−ベンジル化合物
例えば、３，５，３’，５’−テトラ第三ブチル−４，４’−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジルメルカプトアセテート、トリデシル４−ヒドロキシ−３，５−ジ第三ブチルベンジルメルカプトアセテート、トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）アミン、ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレフタレート、ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、イソオクチル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート。
【００７１】
１．８．ヒドロキシベンジル化マロネート
例えば、ジオクタデシル２，２−ビス（３，５−ジ第三ブチル−２−ヒドロキシベンジル）マロネート、ジオクタデシル２−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）マロネート、ジドデシルメルカプトエチル−２，２−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］２，２−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート。
【００７２】
１．９．芳香族ヒドロキシベンジル化合物
例えば、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノール。
【００７３】
１．１０．トリアジン化合物
例えば、２，４−ビス（オクチルメルカプト）−６−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート。
【００７４】
１．１１．ベンジルホスホネート
例えば、ジメチル２，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸のモノエチルエステルのカルシウム塩。
【００７５】
１．１２．アシルアミノフェノール
例えば、４−ヒドロキシラウリン酸アニリド、４−ヒドロキシステアリン酸アニリド、オクチルＮ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）カルバメート。
【００７６】
１．１３．β−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と以下の一価又は多価アルコールとのエステル
アルコールの例：メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、イソオクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
【００７７】
１．１４．β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸と以下の一価又は多価アルコールとのエステル
アルコールの例：メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、イソオクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
【００７８】
１．１５．β−（３，５−ジシクロシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と以下の一価又は多価アルコールとのエステル
アルコールの例：メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
【００７９】
１．１６．３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸と以下の一価又は多価アルコールとのエステル
アルコールの例：メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、
トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
【００８０】
１．１７．β−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド
例えば、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス［２−（３−［３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル］プロピオニルオキシ）エチル］オキサミド〔ユニロイヤル（Ｕｎｉｒｏｙａｌ）社から提供されるナウガード（商標名；Ｎａｕｇａｒｄ ）ＸＬ−１〕。
【００８１】
１．１８．アスコルビン酸（ビタミンＣ）
【００８２】
１．１９．アミン系酸化防止剤
例えば、Ｎ，Ｎ’−ジイソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−エチル−３−メチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ナフチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１−メチルヘプチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、４−（ｐ−トルエンスルファモイル）ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、４−イソプロポキシジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、Ｎ−（４−第三オクチルフェニル）−１−ナフチルアミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、オクチル化ジフェニルアミン例えばｐ，ｐ’−ジ第三ブチル−オクチルジフェニルアミン、４−ｎ−ブチルアミノフェノール、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナノイルアミノフェノール、４−ドデカノイルアミノフェノール、４−オクタデカノイルアミノフェノール、ビス（４−メトキシフェニル）アミン、２，６−ジ第三ブチル−４−ジメチルアミノメチルフェノール、２，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、１，２−ビス［（２−メチルフェニル）アミノ］エタン、１，２−ビス［（２−メチルフェニル）アミノ］エタン、１，２−ビス（フェニルアミノ）プロパン、（ｏ−トリル）ビグアニド、ビス［４−（１’，３’−ジメチルブチル）フェニル］アミン、第三オクチル化Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、モノ−及びジアルキル化第三ブチル／第三オクチルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化ノニルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化イソプロピル／イソヘキシルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化第三ブチルジフェニルアミンの混合物、２，３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、フェノチアジン、モノ−及びジアルキル化第三ブチル／第三オクチルフェノチアジンの混合物、モノ−及びジアルキル化第三オクチルフェノチアジンの混合物、Ｎ−アリルフェノチアジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−１，４−ジアミノブテ−２−エン、Ｎ，Ｎ−ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジ−４−イ
ル）ヘキサメチレンジアミン、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジ−４−イル）セバケート、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−オン、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−オール。
【００８３】
２．紫外線吸収剤及び光安定剤
２．１．２−（２’−ヒドロキシフェニル） ベンゾトリアゾール
例えば、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第二ブチル−５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ第三アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ビス（α，α−ジメチルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニルベンゾトリアゾール、２，２’−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾール−２−イルフェノール］；２−［３’−第三ブチル−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）−２’−ヒドロキシフェニル］ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール３００とのエステル交換体；次式：［Ｒ−ＣＨ2ＣＨ2−ＣＯＯ−ＣＨ2ＣＨ2］2−（式中、Ｒは３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシ
−５’−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イルフェニル基を表わす）で表わされる化合物、２−［２’−ヒドロキシ−３’−（α，α−ジメチルベンジル）−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］ベンゾトリアゾール；２−［２’−ヒドロキシ−３’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−５’−（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］ベンゾトリアゾール。
【００８４】
２．２．２−ヒドロキシベンゾフェノン
例えば、４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オクチルオキシ−、４−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ−、４−ベンジルオキシ−、４，２’，４’−トリヒドロキシ−及び２’−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ誘導体。
【００８５】
２．３．置換及び非置換安息香酸エステル
例えば、４−第三ブチルフェニルサリチレート、フェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、２，４−ジ第三ブチルフェニル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート
、２−メチル−４，６−ジ第三ブチルフェニル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート。
【００８６】
２．４．アクリレート
例えば、エチルα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、イソオクチルα−シアノ−β，β−ジフェニル−アクリレート、メチルα−カルボメトキシシンナメート、メチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、ブチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、メチルα−カルボメトキシ−ｐ−メトキシシンナメート及びＮ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−メチルインドリン。
【００８７】
２．５．ニッケル化合物
例えば、２，２’−チオビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール］のニッケル錯体、例えば１：１又は１：２錯体であって、所望によりｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミン若しくはＮ−シクロヘキシルジエタノールアミンのような他の配位子を伴うもの、ニッケルジブチルジチオカルバメート、モノアルキルエステル、例えば４−ヒドロキシ−３，５−ジ第三ブチルベンジルホスホン酸のメチル若しくはエチルエステルのニッケル塩、ケトキシム例えば２−ヒドロキシ−４−メチル−フェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯体、１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体であって、所望により他の配位子を伴うもの。
【００８８】
２．６．オキサミド
例えば、４，４’−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２’−ジエトキシオキサニリド、２，２’−ジオクチルオキシ−５，５’−ジ第三ブトキサニリド、２，２’−ジドデシルオキシ−５，５’−ジ第三ブチルオキサニリド、２−エトキシ−２’−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサルアミド、２−エトキシ−５−第三ブチル−２’−エチルオキサニリド及び該化合物と２−エトキシ−２’−エチル−５，４’−ジ第三ブチルオキサニリドとの混合物、ｏ−及びｐ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物及びｏ−及びｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。
【００８９】
２．７．２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン
例えば、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシプロピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−（ドデシルオキシ／トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ）フェニル−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、
２，４，６−トリス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシフェニル）−４−（４−メトキシフェニル）−６−フェニル−１，３，５−トリアジン、２−｛２−ヒドロキシ−４−［３−（２−エチルヘキシル−１−オキシ）−２−ヒドロキシプロピルオキシ］フェニル｝−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン。
【００９０】
３．金属奪活剤
例えば、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルオキサミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ’−サリチロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、ビス（ベンジリデン）オキサリルジヒドラジド、オキサニリド、イソフタロイルジヒドラジド、セバコイルビスフェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセチルアジポイルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）オキサリルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）チオプロピオニルジヒドラジド。
【００９１】
４．ニトロン
例えば、Ｎ−ベンジル−α−フェニル−ニトロン、Ｎ−エチル−α−メチル−ニトロン、Ｎ−オクチル−α−ヘプチル−ニトロン、Ｎ−ラウリル−α−ウンデシル−ニトロン、Ｎ−テトラデシル−α−トリデシル−ニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ペンタデシル−ニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘキサデシル−ニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ヘプタデシル−ニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ペンタデシル−ニトロン、Ｎ−ヘプタデシル−α−ヘプタデシル−ニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘキサデシル−ニトロン、Ｎ，Ｎ−ジ（水素添加された獣脂）ヒドロキシルアミンから誘導されたニトロン。
【００９２】
５．チオ相乗剤
例えば、ジラウリルチオジプロピオネート又はジステアリルチオジプロピオネート。
【００９３】
６．過酸化物掃去剤
例えば、β−チオジプロピオン酸エステル、例えばラウリル、ステアリル、ミリスチル又はトリデシルエステル、メルカプトベンズイミダゾール又は２−メルカプトベンズイミダゾール亜鉛塩、亜鉛ジブチルジチオカルバメート、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネート。
【００９４】
７．塩基性補助安定剤
例えば、メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩例えばカルシウムステアレート、亜鉛ステアレート、マグネシウムベヘネート、マグネシウムステアレート、ナトリウムリシノレート及びカリウムパルミテート、アンチモンピロカテコレート又は亜鉛ピロカテココレート。
【００９５】
８．核剤
例えば、無機物質、例えばタルク、金属酸化物、例えば、二酸化チタン又は酸化マグネシウム、好ましくはアルカリ土類金属の燐酸塩、炭酸塩又は硫酸塩；有機化合物、例えば、モノ−又はポリカルボン酸及びその塩、例えば、４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸、コハク酸ナトリウム又は安息香酸ナトリウム；ポリマー状化合物、例えばイオン性コポリマー〔“イオノマー”〕。
【００９６】
９．充填剤及び強化剤
例えば、炭酸カルシウム、珪酸塩、ガラス繊維、ガラス球、アスベスト、タルク、陶土、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物及び水酸化物、カーボンブラック、黒鉛、木材粉末、
及び他の天然産物の粉末又は繊維、合成繊維。
【００９７】
１０．ベンゾフラノン及びインドリノン
例えばＵＳ４３２５８６３、ＵＳ４３３８２４４、ＵＳ５１７５３１２、ＵＳ５２１６０５２、ＵＳ５２５２６４３、ＤＥ−Ａ−４３１６６１１、ＤＥ−Ａ−４３１６６２２、ＤＥ−Ａ−４３１６８７６、ＥＰ−Ａ−０５８９８３９又はＥＰ−Ａ−０５９１１０２に開示されたもの、又は３−［４−（２−アセトキシエトキシ）フェニル］−５，７−ジ第三ブチル−ベンゾフラン−２−オン、５，７−ジ第三ブチル−３−［４−（２−ステアロイルオキシエトキシ）フェニル］ベンゾフラン−２−オン、３，３’−ビス［５，７−ジ第三ブチル−３−（４−［２−ヒドロキシエトキシ］フェニル）ベンゾフラン−２−オン、５，７−ジ第三ブチル−３−（４−エトキシフェニル）ベンゾフラン−２−オン、３−（４−アセトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−５，７−ジ第三ブチル−ベンゾフラン−２−オン、３−（３，５−ジメチル−４−ピバロイルオキシフェニル）−５，７−ジ第三ブチル−ベンゾフラン−２−オン、３−（３，４−ジメチルフェニル）−５，７−ジ第三ブチル−ベンゾフラン−２−オン、３−（２，３−ジメチルフェニル）−５，７−ジ第三ブチル−ベンゾフラン−２−オン。
【００９８】
１１．その他の添加剤
例えば、可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、レオロジー添加剤、触媒、流れ調整剤、蛍光増白剤、防炎加工剤、帯電防止剤、清澄剤及び発泡剤。
【００９９】
共安定剤は、例えば、安定化すべきポリオレフィンの全重量に対して、約０．０１重量％ないし約１０重量％の濃度で添加する。
【０１００】
充填材及び強化剤（前記リストの項目９）、例えば、タルク、炭酸カルシウム、雲母又は陶土は、安定化すべきポリオレフィンの全重量に対して、約０．０１重量％ないし約４０重量％の濃度でポリオレフィンに添加する。
【０１０１】
充填材及び強化剤（前記リストの項目９）、例えば、金属水酸化物、とりわけ水酸化アルミニウム又は水酸化マグネシウムは、安定化すべきポリオレフィンの全重量に対して、約０．０１重量％ないし約６０重量％の濃度でポリオレフィンに添加する。
【０１０２】
充填材としてのカーボンブラックは、適切には、安定化すべきポリオレフィンの全重量に対して、約０．０１重量％ないし約５重量％の濃度でポリオレフィンに添加する。
【０１０３】
強化剤としてのガラス繊維は、適切には、安定化すべきポリオレフィンの全重量に対して、約０．０１重量％ないし約２０重量％の濃度でポリオレフィンに添加する。
【０１０４】
成分（ａ），（ｂ）及び（ｃ）に加えて、更に別の添加剤、とりわけフェノール系酸化防止剤、光安定剤又は加工安定剤を含む方法が好ましい。
【０１０５】
とりわけ好ましい付加的な添加剤は、フェノール系酸化防止剤（前記リストの項目１．１ないし１．１７）及び過酸化物掃去剤（前記リストの項目６）である。
【０１０６】
ポリオレフィンへの成分（ａ），（ｂ）及び（ｃ）並びに所望により別の添加剤の配合は、例えば成形前後に、或いは又、ポリオレフィンに溶解又は分散された安定剤混合物を塗布し、所望により、続いて溶媒を蒸発させることにより、公知方法で行われる。成分（ａ），（ｂ）及び（ｃ）並びに所望により別の添加剤からなる安定剤混合物は、例えば、約２．５重量％ないし約２５重量％の濃度で前記成分を含むマスターバッチの形態で、安定化すべきポリオレフィンに添加してもよい。
【０１０７】
成分（ａ），（ｂ）及び（ｃ）並びに所望により別の添加剤は、重合前又は重合中に或いは架橋前に添加してもよい。
【０１０８】
成分（ａ），（ｂ）及び（ｃ）並びに所望により別の添加剤は、純粋な形態で、又はワックス，オイル若しくはポリマー中にカプセル化されて、安定化すべきポリオレフィンに配合されてよい。
【０１０９】
成分（ａ），（ｂ）及び（ｃ）並びに所望により別の添加剤は、安定化すべきポリオレフィンに噴霧されてもよい。それらは他の添加剤（例えば、上記の慣用の添加剤）又はそれらの溶融物を希釈することも可能であり、その結果、それらを前記添加剤と一緒に、安定化すべきポリオレフィンに噴霧することもできる。重合触媒の奪活中の噴霧による添加（例えば、奪活のために使用されるスチームを用いて噴霧を行うことが可能である）は特に都合が良い。
【０１１０】
球状重合されたポリオレフィンの場合には、例えば、成分（ａ），（ｂ）及び（ｃ）を、所望により他の添加剤と一緒に、噴霧により塗布することが都合が良いであろう。
【０１１１】
本回転成形法の間、温度は都合良くは、約２００℃ないし４００℃、好ましくは約２８０℃ないし４００℃、例えば、約３１０℃ないし４００℃の範囲に達する。
【０１１２】
本発明の好ましい態様は、回転成形法により製造されたポリオレフィンのための、成分（ａ），（ｂ）及び（ｃ）を含む安定剤組み合わせの使用に関するものである。
【実施例】
【０１１３】
下記の実施例により、本発明をより詳細に説明する。下記の実施例は、如何なる場合でも本発明を限定するものと考えるべきではない。本発明は、本発明の思想及び範疇から逸脱しない特定の実施例の全ての変化及び変形を含むことは明らかである。部及び％は重量による。
【０１１４】
実施例１：本回転成形法によるポリオレフィン中空製品の製造
ヘキセンと共重合された中密度ポリエチレン〔ノヴァポール（商標名：Ｎｏｖａｐｏｌ）ＴＲ−０７３５，公称のメルトインデックス６．８ｇ／１０分，密度０．９３５ｇ／ｃｍ3〕１００部を、ステアリン酸カルシウム０．０５０部及び付加的な添加剤の組み合わ
せとドライブレンドする（下記参照）。この混合物を、マッドドック（Ｍａｄｄｏｃｋ）ミキシングヘッドを備えた２４：１Ｌ／Ｄスクリューを使用して、１００ｒｐｍで、シューペリアー（Ｓｕｐｅｒｉｏｒ）／ＭＰＭ押出機中で、２３２℃でペレットに溶融配合する。配合されたペレットを、本回転成形法に先立って、均質な粒径（１５０〜５００μｍ）に粉砕する。前記粉砕工程は、粒子の表面積を増加させ、より迅速な熱吸収を促し、その結果、全体としてのエネルギー消費を低減させる。本回転成形法は、実験室規模の装置ＦＳＰ Ｍ２０“クラムシェル（Ｃｌａｍｓｈｅｌｌ）”中で行う。粉砕された樹脂を注型アルミニウム成形型内に配置し、これをガス燃焼オーブン中で二軸方向に回転させる。熱い空気をチャンバー中でブロワーにより循環させ、一方、温度を４分以内に２８８℃まで上昇させる。この温度を所定時間保持する（下記表を参照）。続いて、前記オーブンを開き、まだ回転させながら、７分間前記成形型を強制空気循環により冷却し、続いて７分間水噴霧ミストを与え、次いで更に２分間冷却工程を設ける。全体の加熱及び冷却サイクルを通して、主軸の速度は４．５：１の回転比と共に６ｒｐｍに保持する。この冷却サイクル後、前記成形型を開け、次いで中空物品を取り出す。
【０１１５】
製剤Ａ（比較例）は、ホスフィット加工安定剤イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ
）１６８：０．１０部、一次酸化防止剤イルガノックス（商標名：Ｉｒｇａｎｏｘ）１０７６：０．０５部、並びに光及び熱安定剤チヌビン（商標名：Ｔｉｎｕｖｉｎ）７８３：０．２００部の組み合わせを更にブレンドする。
【０１１６】
製剤Ｂは、ホスフィット加工安定剤イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８：０．１００部、ヒドロキシルアミン加工安定剤イルガスタッブ（商標名：Ｉｒｇａｓｔａｂ）０４２：０．０５０部、並びに光及び熱安定剤チヌビン（商標名：Ｔｉｎｕｖｉｎ）７８３：０．２００部の組み合わせを更にブレンドする。
【０１１７】
製剤Ｃは、ホスフィット加工安定剤イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）Ｐ−ＥＰＱ：０．１００部、ヒドロキシルアミン加工安定剤イルガスタッブ（商標名：Ｉｒｇａｓｔａｂ）０４２：０．０５０部、並びに光及び熱安定剤チヌビン（商標名：Ｔｉｎｕｖｉｎ）７８３：０．２００部の組み合わせを更にブレンドする。
【０１１８】
製剤Ｄは、ホスフィット加工安定剤ウルトラノックス（商標名：Ｕｌｔｒａｎｏｘ）６２６：０．１００部、ヒドロキシルアミン加工安定剤イルガスタッブ（商標名：Ｉｒｇａｓｔａｂ）０４２：０．０５０部、並びに光及び熱安定剤チヌビン（商標名：Ｔｉｎｕｖｉｎ）７８３：０．２００部の組み合わせを更にブレンドする。
【０１１９】
イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８はトリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィットである。ウルトラノックス（商標名：Ｕｌｔｒａｎｏｘ）６２６はビス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィットである。イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）Ｐ−ＥＰＱはテトラキス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレン−ジホスホナイトである。イルガスタッブ（商標名：Ｉｒｇａｓｔａｂ）０４２は、Ｎ，Ｎ−ジ（水素添加された獣脂）アミンの直接酸化により製造されたＮ，Ｎ−ジ（アルキル）ヒドロキシルアミンである。チヌビン（商標名：Ｔｉｎｕｖｉｎ）７８３は式（Ｈ５）及び（Ｈ６）で表わされる立体障害アミンの組み合わせである。イルガノックス（商標名：Ｉｒｇａｎｏｘ）１０７６はオクタデシル３−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネートである。チヌビン（商標名：Ｔｉｎｕｖｉｎ）、イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）、イルガスタッブ（商標名：Ｉｒｇａｓｔａｂ）及びイルガノックス（商標名：Ｉｒｇａｎｏｘ）はチバ・スペシャルティ・ケミカルズ・コーポレーション（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）〕の登録商標である。ウルトラノックス（商標名：Ｕｌｔｒａｎｏｘ）はジーイー・ケミカルズ（ＧＥ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ）の登録商標である。
【０１２０】
製剤Ａ〜Ｄは、６ないし１４分の保持時間を有する一般的な方法に従って、中空物品に回転成形される。
【０１２１】
外表面の黄色度指数は、ＡＳＴＭ Ｄ１９２５に基づくＤＣＩ ＳＦ６００分光光度計により決定される。黄色度の増加は黄色度指数の正の増加に相当する。製剤Ｂ〜Ｄは、前記加工条件における色安定性に関して、比較標準製剤Ａよりも遥かに優れている。この結果を表１に要約する。
【表１】
【０１２２】
低温衝撃強さ試験は、備えられた落下重量（１１．３４ｋｇ／５０．８ｃｍ）衝撃装置ダイナタップ（商標名：Ｄｙｎａｔｕｐ）８２５０を用いて行う。試験片は、試験前に−４０℃で１２時間未満、空気循環フリーザー中で状態調整する。
【０１２３】
前記衝撃強さの結果（脆性％で示す）を表２に示す。製剤Ｂは、これらの加工条件下での低温衝撃強さ試験をベースとする脆化モードにおいて、比較標準製剤Ａよりも優れていることが判る。
【表２】
【０１２４】
本発明の安定剤混合物（製剤Ｂ〜Ｄ）は、従来技術の安定剤混合物（製剤Ａ）に比較して、本回転成形法により製造されたポリオレフィン中空製品の着色を防ぎ且つ安定性を与えることに関して優れている。
【０１２５】
実施例２：本回転成形法によるポリオレフィン中空製品の製造
製剤Ｂのチヌビン（商標名：Ｔｉｎｕｖｉｎ）７８３を下記の立体障害アミンの各々に置き換えて、実施例１の如く中空製品を製造する。
製剤Ｅ：イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８、イルガスタッブ（商標名：Ｉｒｇａｓｔａｂ）０４２及びチヌビン（商標名：Ｔｉｎｕｖｉｎ）６２２〔式（Ｈ４）で表わされる化合物〕
製剤Ｆ：イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８、イルガスタッブ（商標名：Ｉｒｇａｓｔａｂ）０４２及びシマソルブ（商標名：Ｃｈｉｍａｓｓｏｒｂ）９４４〔式（Ｈ５）で表わされる化合物〕
製剤Ｇ：イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８、イルガスタッブ（商標名：Ｉｒｇａｓｔａｂ）０４２及びシマソルブ（商標名：Ｃｈｉｍａｓｓｏｒｂ）１１９〔式（Ｈ９）で表わされる化合物〕
製剤Ｈ：イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８、イルガスタッブ（商標名：Ｉｒｇａｓｔａｂ）０４２及びチヌビン（商標名：Ｔｉｎｕｖｉｎ）１１１〔式（Ｈ４）で表わされる化合物と式（Ｈ９）で表わされる化合物との混合物〕
製剤Ｉ：イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８及びシマソルブ（商標名：Ｃｈｉｍａｓｓｏｒｂ）２０２０〔式（Ｈ１０）で表わされる化合物〕
製剤Ｊ：イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８、イルガスタッブ（商標名：Ｉｒｇａｓｔａｂ）０４２及びシアソルブ（商標名：Ｃｙａｓｏｒｂ）ＵＶ−３３４６〔式（Ｈ１２）で表わされる化合物〕
製剤Ｋ：イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８、イルガスタッブ（商標名：Ｉｒｇａｓｔａｂ）０４２及びシアソルブ（商標名：Ｃｙａｓｏｒｂ）ＵＶ−３５２９〔式（Ｈ１３）で表わされる化合物〕
製剤Ｌ：イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８、イルガスタッブ（商標名：Ｉｒｇａｓｔａｂ）０４２及びウヴァソルブ（商標名：Ｕｖａｓｏｒｂ）ＨＡ８８〔式（Ｈ１７）で表わされる化合物〕
製剤Ｍ：イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８、イルガスタッブ（商標名：Ｉｒｇａｓｔａｂ）０４２及びチヌビン（商標名：Ｔｉｎｕｖｉｎ）１２３〔式（Ｈ１）で表わされる化合物〕
製剤Ｎ：イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８、イルガスタッブ（商標名：Ｉｒｇａｓｔａｂ）０４２及び式（Ｈ１１）で表わされる立体障害アミン
製剤Ｏ：イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８、イルガスタッブ（商標名：Ｉｒｇａｓｔａｂ）０４２及びホスタヴィン（Ｈｏｓｔａｖｉｎ）Ｎ３０〔式（Ｈ１４）で表わされる化合物〕
製剤Ｐ：イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８、イルガスタッブ（商標名：Ｉｒｇａｓｔａｂ）０４２及びウヴィヌル（商標名：Ｕｖｉｎｕｌ）５０５０Ｈ〔式（Ｈ１５）で表わされる化合物〕
製剤Ｑ：イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８、イルガスタッブ（商標名：Ｉｒｇａｓｔａｂ）０４２及びウヴァシル（商標名：Ｕｖａｓｉｌ）２９９〔式（Ｈ１６）で表わされる化合物〕
製剤Ｒ：イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８、イルガスタッブ（商標名：Ｉｒｇａｓｔａｂ）０４２及びウヴァソルブ（商標名：Ｕｖａｓｏｒｂ）ＨＡ８８〔式（Ｈ１６）で表わされる化合物〕
【０１２６】
イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８はトリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィットである。イルガスタッブ（商標名：Ｉｒｇａｓｔａｂ）０４２は、Ｎ，Ｎ−ジ（水素添加された獣脂）アミンの直接酸化により製造されたＮ，Ｎ−ジ（アルキル）ヒドロキシルアミンである。イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）、イルガスタッブ（商標名：Ｉｒｇａｓｔａｂ）、チヌビン（商標名：Ｔｉｎｕｖｉｎ）及びイルガノックス（商標名：Ｉｒｇａｎｏｘ）は、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ・コーポレーション（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）〕の保護された商標名である。シアソルブ（商標名：Ｃｙａｓｏｒｂ）はシテック・コーポレーション（Ｃｙｔｅｃ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）の保護された商標名である。ホスタヴィン（Ｈｏｓｔａｖｉｎ）はクラリアント（Ｃｌａｒｉａｎｔ）の保護された商標名である。ウヴィヌル（商標名：Ｕｖｉｎｕｌ）はＢＡＳＦの保護された商標名である。ウヴァシル（商標名：Ｕｖａｓｉｌ）はエニケム（Ｅｎｉｃｈｅｍ）の保護された商標名である。ウヴァソルブ（商標名：Ｕｖａｓｏｒｂ）は３Ｖシグマ（３Ｖ Ｓｉｇｍａ）の保護された商標名である。
【０１２７】
本発明の安定剤混合物（製剤Ｅ〜Ｒ）は、従来技術の安定剤混合物（製剤Ａ）に比較して、本回転成形法により製造されたポリオレフィン中空製品の着色を防ぎ且つ安定性を与えることに関して優れている。
【０１２８】
実施例３：本回転成形法によるポリオレフィン中空製品の製造
製剤Ｂ〜ＤのＮ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシルアミンをイルガスタッブ（商標名：Ｉｒｇａｓｔａｂ）０４２に置き換えて、実施例１の如く中空製品を製造する。有機ホスフィット又はホスホナイト、Ｎ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシルアミン及びチヌビン（商標名：Ｔｉｎｕｖｉｎ）７８３を含む本発明の安定剤混合物は、従来技術の安定剤混合物（製剤Ａ）に比較して、本回転成形法により製造されたポリオレフィン中空製品の着色を防ぎ且つ安定性を与えることに関して優れている。
【０１２９】
実施例４：本回転成形法によるポリオレフィン中空製品の製造
製剤Ｂのイルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８をホスフィット加工安定剤イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）３８に置き換えて、実施例１の如く中空製品を製造する。チバ・スペシャルティ・ケミカルズ・コーポレーション（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）〕から市販されているイルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）３８は、ビス（２，４−ジ第三ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィットである。イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）３８を含む本発明の安定剤混合物は、従来技術の安定剤混合物（製剤Ａ）に比較して、本回転成形法により製造されたポリオレフィン中空製品の着色を防ぎ且つ安定性を与えることに関して優れている。
【０１３０】
実施例５：本回転成形法によるポリオレフィン中空製品の製造
製剤Ｂ〜Ｄのイルガスタッブ（商標名：Ｉｒｇａｓｔａｂ）０４２をアミンオキシドであるゲノックス（商標名：Ｇｅｎｏｘ）ＥＰに置き換えて、実施例１の如く中空製品を製造する。有機ホスフィット又はホスホナイト、ゲノックス（商標名：Ｇｅｎｏｘ）ＥＰ及びチヌビン（商標名：Ｔｉｎｕｖｉｎ）７８３を含む本発明の安定剤混合物は、従来技術の安定剤混合物（製剤Ａ）に比較して、本回転成形法により製造されたポリオレフィン中空製品の着色を防ぎ且つ安定性を与えることに関して優れている。ゲノックス（商標名：Ｇｅｎｏｘ）ＥＰは、ジーイー・スペシャルティ・ケミカルズ（ＧＥ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ）から市販されているジ（炭素原子数１６ないし１８）アルキルメチルアミンオキシド，ＣＡＳ＃２０４９３３−９３−７である。
【０１３１】
実施例６：本回転成形法によるポリオレフィン中空製品の製造
製剤Ｂのイルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８及びイルガスタッブ（商標名：Ｉｒｇａｓｔａｂ）０４２をホスフィット加工安定剤イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）３８及びアミンオキシドであるゲノックス（商標名：Ｇｅｎｏｘ）ＥＰに置き換えて、実施例１の如く中空製品を製造する。チバ・スペシャルティ・ケミカルズ・コーポレーション（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ））から市販されているイルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）３８は、ビス（２，４−ジ第三ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィットである。ゲノックス（商標名：Ｇｅｎｏｘ）ＥＰは、ジーイー・スペシャルティ・ケミカルズ（ＧＥ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ）から市販されているジ（炭素原子数１６ないし１８）アルキルメチルアミンオキシド，ＣＡＳ＃２０４９３３−９３−７である。イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）３８、ゲノックス（商標名：Ｇｅｎｏｘ）ＥＰ及びチヌビン（商標名：Ｔｉｎｕｖｉｎ）７８３を含む本発明の安定剤混合物は、従来技術の安定剤混合物（製剤Ａ）に比較して、本回転成形法により製造されたポリオレフィン中空製品の着色を防ぎ且つ安定性を与えることに関して優れている。
【０１３２】
実施例７：本回転成形法によるポリオレフィン中空製品の製造
鎖状低密度ポリエチレン粉末（ヘキセン共重合体、公称のメルトインデックス３．３ｄｇ／分、密度０．９３８ｇ／ｃｍ3）を、ステアリン酸亜鉛（０．０５重量％）及び付加
的な添加剤とドライブレンドする（下記参照）。この混合物を、シューペリアー（Ｓｕｐｅｒｉｏｒ）／ＭＰＭ 単一スクリュー押出機（２４：１Ｌ／Ｄ）を使用して、ペレットに溶融配合する。配合されたペレットを、６０−７０℃の温度において、０．３３０ｍｍのギャップサイズを備えたリダクションエンジニアリングモデル５０粉砕機を使用して、均質な粒径粉末に粉砕する。
回転成形は、立方体（１２面体）の注型アルミニウム成形型を備えたＦＳＰ Ｍ２０ クラムシェル（Ｃｌａｍｓｈｅｌｌ）タイプ成形機を使用して行う。前記成形型に粉砕されたポリマー粉末２０２０ｇを充填し、２７４℃（華氏５２５°）の温度で二軸方向に回転させながらオーブンで加熱する。この加熱は特定時間保持する（下記表を参照）。続いて、前記オーブンを開き、まだ回転させながら、７分間前記成形型を強制空気循環により冷却し、続いて７分間水噴霧ミストを与え、次いで更に２分間冷却工程を設けた。全体の成形サイクルを通して、回転の主軸の速度は６ｒｐｍに、また回転の副軸の速度は１．５ｒｐｍに保持する。この冷却完了後、前記成形型を開け、次いで中空物品を取り出す。
【０１３３】
製剤１では、ポリマーにホスフィット加工安定剤イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８（０．１２重量％）、アミンＮ−オキシドであるゲノックス（商標名：ＧＥＮＯＸ）ＥＰ（０．０５重量％）及び立体障害アミン光安定剤チヌビン（商標名：Ｔｉｎｕｖｉｎ）７８３（０．２０重量％）の組み合わせを更にブレンドした。
【０１３４】
比較製剤１では、ポリマーにホスフィット加工安定剤イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８（０．１２重量％）、ヒンダードフェノール系酸化防止剤イルガノックス（商標名：Ｉｒｇａｎｏｘ）１０１０（０．０５重量％）、及び立体障害アミン光安定剤チヌビン（商標名：Ｔｉｎｕｖｉｎ）７８３（０．２０重量％）の組み合わせを更にブレンドした。
【０１３５】
比較製剤２では、ポリマーにホスフィット加工安定剤イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８（０．１２重量％）、ヒンダードフェノール系酸化防止剤イルガノックス（商標名：Ｉｒｇａｎｏｘ）３１１４（０．０３５重量％）、及び立体障害アミン光安定剤チヌビン（商標名：Ｔｉｎｕｖｉｎ）７８３（０．２０重量％）の組み合わせを更にブレンドした。
【０１３６】
イルガフォス（商標名：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８はトリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィットである。ゲノックス（商標名：Ｇｅｎｏｘ）ＥＰは、ジ（炭素原子数１６ないし１８）アルキルメチルアミンオキシド，ＣＡＳ＃２０４９３３−９３−７である。イルガノックス（商標名：Ｉｒｇａｎｏｘ）１０１０は、ペンタエリトリトールテトラキス［３−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオナート］である。イルガノックス（商標名：Ｉｒｇａｎｏｘ）３１１４は、トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレートである。
チヌビン（商標名：Ｔｉｎｕｖｉｎ）７８３は、
式
【化１９】
で表される立体障害アミンの組み合わせである。
【０１３７】
各製剤は、１０ないし１７分までの保持時間を有する一般的な方法に従って、中空物品に回転成形される。
【０１３８】
中空物品の内表面の黄色度指数は、ＡＳＴＭ Ｄ１９２５に基づくＤＣＩ ＳＦ６００分光光度計により決定される。黄色度の増加は黄色度指数の正の増加に相当する。製剤１は、より長い加熱時間（１４分以上）における回転成形後、色安定性に関して比較製剤１よりも優れており、また加熱時間の全範囲にわたって、比較製剤２よりも優れている。この結果を表３に要約する。
【０１３９】
【表３】
【０１４０】
低温衝撃強さ試験は、ＡＳＴＭ Ｄ３７６３に基づき、備えられた落下重量衝撃装置ダイナタップ（商標名：ＤＹＮＡＴＵＰ）モデル８２５０を使用して行う。回転成形された箱から切り取られた試験片は、試験前に−４０℃で少なくとも４８時間、空気循環フリーザー中で状態調製する。試験片の外表面は衝撃の影響を受けやすい。
【０１４１】
前記衝撃結果（全衝撃エネルギーとして示す）を表４に示す。製剤１は、特に１４分以下の加熱時間を有する回転成形後、低温度衝撃強さにおいて比較製剤１よりも優れていることが判る。製剤１はまた、１３分以下の加熱時間を有する回転成形後、低温度衝撃強さにおいて比較製剤２よりも優れている。
【０１４２】
【表４】
【０１４３】
成形品の生産性を最大にし、エネルギー消費を減少させるために、最小限の加熱時間で耐衝撃性の物品を成形することが可能であることは重要である。前記物品は最小限の変色を示す。表５は最適な衝撃強さに達するのに必要な加熱時間及び加熱後の黄色度指数を要約したものである。最適な衝撃強さに達するのに最も短時間である点、及び最適な衝撃強さを備える物品に対し最も低い黄色度指数を示す点において、製剤１は比較製剤より優れている。
【０１４４】
【表５】
【０１４５】
本安定剤系である製剤１は、２つの最新技術の安定剤系である比較製剤１及び２（アミンオキサイド安定剤の代わりにヒンダードフェノール系酸化防止剤を含む）より明らかに優れている。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）式（１’）若しくは（５’）で表される有機ホスフィット又は式（２’）で表されるホスホナイトからの少なくとも一つの化合物、
【化２０】
（式中、
Ｒ1はフェニル基又は全体で１ないし１８個の炭素原子を有する１ないし３個のアルキ
ル基により置換されたフェニル基を表し、
Ｒ2は炭素原子数１ないし１８のアルキル基、フェニル基又は全体で１ないし１８個の
炭素原子を有する１ないし３個のアルキル基により置換されたフェニル基を表し、
Ｒ3はフェニル基又は全体で１ないし１８個の炭素原子を有する１ないし３個のアルキ
ル基により置換されたフェニル基を表す。）
（ｂ）式（ＩＩＩ）で表されるアミンオキシド誘導体から選択された一つ又はそれより多くの化合物
【化２１】
（式中、
Ｇ1及びＧ2は独立して、炭素原子数６ないし２２の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基を表し、
Ｇ3は炭素原子数１ないし２２の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基を表わし）、及び
（ｃ）式（ＶＩ’）で表される少なくとも一つの基を含む立体障害アミン安定剤の群からの少なくとも一つの化合物
【化２２】
からなる安定剤組み合わせをポリオレフィンに投入し、この混合物を成形型内に充填し、安定化されたポリオレフィンが溶融するように前記成形型をオーブン中で２８０℃を超えて加熱し、前記成形型を少なくとも二軸の回りに回転させ、可塑性材料を壁面に広げ、な
お回転させながら前記成形型を冷却し、該成形型を開き、次いで得られた中空製品を取り出すことからなるポリオレフィン中空製品の製造方法。
【請求項１】
（ａ）式（１’）若しくは（５’）で表される有機ホスフィット又は式（２’）で表されるホスホナイトからの少なくとも一つの化合物、
【化２０】
（式中、
Ｒ1はフェニル基又は全体で１ないし１８個の炭素原子を有する１ないし３個のアルキ
ル基により置換されたフェニル基を表し、
Ｒ2は炭素原子数１ないし１８のアルキル基、フェニル基又は全体で１ないし１８個の
炭素原子を有する１ないし３個のアルキル基により置換されたフェニル基を表し、
Ｒ3はフェニル基又は全体で１ないし１８個の炭素原子を有する１ないし３個のアルキ
ル基により置換されたフェニル基を表す。）
（ｂ）式（ＩＩＩ）で表されるアミンオキシド誘導体から選択された一つ又はそれより多くの化合物
【化２１】
（式中、
Ｇ1及びＧ2は独立して、炭素原子数６ないし２２の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基を表し、
Ｇ3は炭素原子数１ないし２２の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基を表わし）、及び
（ｃ）式（ＶＩ’）で表される少なくとも一つの基を含む立体障害アミン安定剤の群からの少なくとも一つの化合物
【化２２】
からなる安定剤組み合わせをポリオレフィンに投入し、この混合物を成形型内に充填し、安定化されたポリオレフィンが溶融するように前記成形型をオーブン中で２８０℃を超えて加熱し、前記成形型を少なくとも二軸の回りに回転させ、可塑性材料を壁面に広げ、な
お回転させながら前記成形型を冷却し、該成形型を開き、次いで得られた中空製品を取り出すことからなるポリオレフィン中空製品の製造方法。
【公開番号】特開２０１０−２７０３４３（Ｐ２０１０−２７０３４３Ａ）
【公開日】平成２２年１２月２日（２０１０．１２．２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−２０３６４０（Ｐ２０１０−２０３６４０）
【出願日】平成２２年９月１０日（２０１０．９．１０）
【分割の表示】特願２０００−５３５２５（Ｐ２０００−５３５２５）の分割
【原出願日】平成１２年２月２９日（２０００．２．２９）
【出願人】（３９６０２３９４８）チバ ホールディング インコーポレーテッド (530)
【氏名又は名称原語表記】Ｃｉｂａ Ｈｏｌｄｉｎｇ Ｉｎｃ．
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年１２月２日（２０１０．１２．２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年９月１０日（２０１０．９．１０）
【分割の表示】特願２０００−５３５２５（Ｐ２０００−５３５２５）の分割
【原出願日】平成１２年２月２９日（２０００．２．２９）
【出願人】（３９６０２３９４８）チバ ホールディング インコーポレーテッド (530)
【氏名又は名称原語表記】Ｃｉｂａ Ｈｏｌｄｉｎｇ Ｉｎｃ．
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]