塗布装置
【課題】塗布条件や被塗布物のサイズを変更した際に減圧用のファンの回転数を変える必要のない塗布装置を提供する。
【解決手段】スライドビードコータ８４に隣接して減圧チャンバ１００が形成される。減圧チャンバ１００には配管１１０が接続され、配管１１０はバッファタンク１１２を介して吸引用のファン１１４が接続される。バッファタンク１１２には開口部１１６が形成されており、バッファタンク１１２の内外が開口部１１６を介して連通される。開口部１１６は、その開口面積が、減圧チャンバ１００とバックアップローラ８２との隙間の総面積に対して５倍以上になるように設定される。
【解決手段】スライドビードコータ８４に隣接して減圧チャンバ１００が形成される。減圧チャンバ１００には配管１１０が接続され、配管１１０はバッファタンク１１２を介して吸引用のファン１１４が接続される。バッファタンク１１２には開口部１１６が形成されており、バッファタンク１１２の内外が開口部１１６を介して連通される。開口部１１６は、その開口面積が、減圧チャンバ１００とバックアップローラ８２との隙間の総面積に対して５倍以上になるように設定される。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は塗布装置に係り、特に平版印刷版用支持体のように長尺状であり、且つ可撓性である被塗布物に塗布液を塗布する塗布装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
平版印刷原版の感光層の表面にポリビニルアルコールなどの酸素非透過性樹脂の薄膜からなる酸化保護層を形成し、感光層を空気中の酸素から保護することが現在広く行なわれている。
【０００３】
酸化保護層の形成にはスライドビード型塗布装置が使用される。スライドビード型塗布装置は一般的に、酸素非透過性樹脂の溶液などの塗布液を吐出する吐出スリットとこの吐出スリットから吐出された塗布液が流下するスライド面とが形成されたスライドビードコータと、スライドビードコータのスライド面の先端近傍に設けられ、平版印刷原版を巻き掛けて一定方向に搬送するバックアップローラとを備える。このようなスライドビード型塗布装置においては、バックアップローラによって平版印刷原版を感光層が外側を向くように搬送しつつ、吐出スリットから溶液を吐出してスライド面に沿って流下させ、スライド面の先端部と平版印刷原版の感光層表面との間に塗布液架橋（ビード）を形成し、溶液を塗布している。
【０００４】
ところで、ビードの形成を維持するために、スライドビードコータに隣接して減圧チャンバを設けることがある（特許文献１参照）。減圧チャンバ内の負圧値は、被塗布物の厚み等のサイズや、スライドビードコータとバックアップローラのクリアランス値などの塗布条件に応じて変更する必要がある。そこで、従来は、被塗布物のサイズや塗布条件を変更するたびに、減圧チャンバに接続したファンの回転数を変化させ、減圧チャンバ内を所定の減圧度に設定していた。
【特許文献１】特開２００２−２３３８０４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、ファンの回転数を変化させると、減圧チャンバ内の負圧値が安定するまでに時間がかかるため、準備作業時間が長くなり、結果として生産効率が低下するという問題があった。特に、多品種を同じラインで製造する場合には、設定変更に伴う準備時間が長くなり、生産効率が大きく低下するという問題があった。
【０００６】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、塗布条件や被塗布物のサイズを変更した際に減圧用のファンの回転数を変える必要のない塗布装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
請求項１に記載の発明は前記目的を達成するために、バックアップローラに巻きがけ支持されて連続走行する被塗布物の表面に、塗布ヘッドのリップ先端から塗布液を架橋させ、前記被塗布物との間にビードを形成するとともに、該ビードに対して前記被塗布物の走行方向の上流側に設けた減圧チャンバで減圧しながら前記被塗布物の表面に塗布液を塗布する塗布装置において、前記減圧チャンバと、該減圧チャンバを減圧する負圧発生源とを連通する通路に、開口部が形成されることを特徴とする。
【０００８】
請求項１の発明によれば、減圧チャンバと負圧発生源を連通する通路に開口部を形成するようにしたので、減圧チャンバ内の負圧変動を抑制することができる。したがって、塗布条件や被塗布物のサイズ等を変更した場合であっても、吸引手段の吸引力の設定を変更する必要がない。これにより、準備作業の時間を短縮することができ、生産効率を向上させることができる。
【０００９】
なお、本発明は、ビードを形成するとともにビードに対して上流側に減圧をかける塗布装置であれば適用することができる。したがって、塗布ヘッドとしては、スライドホッパー（スライドビードコータともいう）や、ダイコータ（スロットダイともいう）が用いられる。
【００１０】
請求項２に記載の発明は請求項１の発明において、前記開口部の面積は、前記被塗布物を巻きかけ支持したバックアップローラと前記減圧チャンバとが成す隙間の総面積に対して、５倍以上５００倍以下であることを特徴とする。このように前記隙間の総面積に対して開口部の面積を規定することによって、減圧チャンバ内の負圧変動を効果的に抑制することができる。
【００１１】
請求項３に記載の発明は請求項１又は２の発明において、前記通路にはバッファタンクが設けられ、該バッファタンクに前記開口部が形成されることを特徴とする。このようにバッファタンクに開口部が形成されると、減圧チャンバ内の負圧値が安定し、負圧変動を抑制することができる。
【００１２】
請求項４に記載の発明は請求項１〜３のいずれか１の発明において、前記開口部には、該開口部の面積を調節する面積調節手段が設けられることを特徴とする。
【００１３】
請求項４の発明によれば、開口部の面積を調節することができるので、被塗布物が巻きかけられたバックアップローラと減圧チャンバとの隙間量が変わった場合にも対応することができる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明に係る塗布装置によれば、減圧チャンバと吸引手段を連通する通路に開口部が形成されるので、減圧チャンバ内の負圧変動を抑制することができる。よって、準備作業の時間を短縮することができ、生産効率を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下添付図面に従って本発明に係る塗布装置の好ましい実施の形態について説明する。図１には本発明に係る塗布装置としてスライドビード型塗布装置を用いた、フォトポリマ型平版印刷版の素材としてのウエブの製造ライン１０を示す構成図である。
【００１６】
図１に示すように、製造ライン１０の最も上流側（図１の左側）には送出装置１６が配置されており、この送出装置１６には、例えば厚さ０．１〜０．５ｍｍのアルミウエブ１２がロール状に巻き取られたアルミコイル１４が装填されている。送出装置１６は製造ライン１０全体での製造速度に対応する速さでアルミウエブ１２を下流側へ送り出している。ここで、平版印刷版用支持体の素材としてのアルミニウム板は、例えば、ＪＩＳ１０５０材、ＪＩＳ１１００材、ＪＩＳ１０７０材、Ａｌ−Ｍｇ系合金、Ａｌ−Ｍｎ系合金、Ａｌ−Ｍｎ−Ｍｇ系合金、Ａｌ−Ｚｒ系合金、Ａｌ−Ｍｇ−Ｓｉ系合金等を適用し得る。メーカにおけるアルミニウム板の製造過程では、上記規格に適合するアルミニウムの鋳塊を製造し、このアルミニウム鋳塊を熱間圧延した後、必要に応じて焼鈍と呼ぶ熱処理を施し、冷間圧延により所定の厚さとされた帯状のアルミニウム板に仕上げる。このアルミニウム板はロール状に巻き取られてアルミコイルとされる。
【００１７】
製造ライン１０では、まず、送出装置１６により下流側へ送り出されたアルミウエブ１２を、平坦性を改善するためにローラレベラ、テンションレベラ等の矯正装置（図示省略）によって形状を矯正して必要な平坦性を得る。
【００１８】
矯正装置の下流側には、アルミウエブ１２の搬送経路に沿って上面研磨装置１８及び下面研磨装置２０が順次配置されている。
【００１９】
上面研磨装置１８には、アルミウエブ１２の上面に接するように支持された研磨ローラ２２が設けられると共に、アルミウエブ１２の下面に接するように一対のテンションローラ２４が設けられている。研磨ローラ２２は、そのローラ面が例えば不織布により構成されており、研磨時にはローラ面の線速度がアルミウエブ１２の搬送速度に対して十分大きくなるように高速回転される。このとき、研磨ローラ２２の回転方向は、アルミウエブ１２との接触部でのローラ面の移動方向がアルミウエブ１２の搬送方向と同一となる順回転方向でも、またローラ面の移動方向がアルミウエブ１２の搬送方向と反対となる逆回転方向の何れでもよい。また一対のテンションローラ２４は、アルミウエブ１２の搬送方向に沿って研磨ローラ２２を挟むように配置され、アルミウエブ１２を上方へ付勢し、アルミウエブ１２の上面を所定の接触圧で研磨ローラ２２のローラ面へ圧接させている。
【００２０】
上面研磨装置１８には、セラミック粒子等を含む研磨剤を水に分散させたスラリーを研磨ローラ２２とアルミウエブ１２との接触部へ供給するスラリー供給部（図示省略）が設けられており、このスラリー供給部はアルミウエブ１２の研磨時に単位時間当たりに所定量のスラリーを供給する。このスラリー中の研磨材が研磨ローラ２２によりアルミウエブ１２の上面へ擦り付けられることにより、アルミウエブ１２上面のミクロ的な凹凸が平均化されるように研磨されて表面粗さが小さくなっていく。
【００２１】
なお、上面研磨装置１８による研磨の研磨条件は、メーカから供給されるアルミウエブ１２の初期表面粗さ、製造ライン１０によるアルミウエブ１２の搬送速度等により変化する。したがって、アルミウエブ１２の初期表面粗さ、搬送速度等に応じて研磨ローラ２２の回転速度、研磨材の種類及び粒径等を設定すればよい。また、本実施形態では、１台の上面研磨装置１８によってアルミウエブ１２の上面を研磨しているが、複数台の上面研磨装置１８をアルミウエブ１２の搬送経路に沿って配置し、それぞれの上面研磨装置１８により段階的にアルミウエブ１２の上面を表面粗さが所定値以下となるまで研磨するようにしてもよい。
【００２２】
上面が研磨されたアルミウエブ１２は、上面研磨装置１８の下流側に配置された下面研磨装置２０により下面の表面粗さ（ＪＩＳ中心線平均粗さ）が一定値以下となるように研磨される。ここで、下面研磨装置２０の構造は、研磨ローラ２２と一対のテンションローラ２４がアルミウエブ１２を介して上下逆に配置されている点を除いて、上面研磨装置１８と同一であるので説明を省略する。なお、アルミウエブ１２の下面の表面粗さは、０．２５〜０．７５μｍ以下とすることが好ましく、このための研磨条件（研磨ローラ２２の回転速度、研磨材の種類及び粒径等）も上面の場合と同様、アルミウエブ１２の初期表面粗さ、搬送速度等に応じて設定すればよい。
【００２３】
研磨装置１８、２０により研磨されたアルミウエブ１２は、研磨装置１８、２０の下流側で機械的又は電気化学的にその表面が粗面化される。このような粗面化方法としては、機械的な砂目立て法，電気化学的な砂目立て法などがあり、それらを単独で、あるいは適宜組合わせて粗面化を行うことができる。機械的な砂目立て法としては、例えば、ボールグレイン、ワイヤーグレイン、ブラシグレイン、液体ホーニング法などがある。また電気化学的砂目立て方法としては、交流電解エッチング法が一般的に採用されており、電解電流としては、普通の正弦波交流電流あるいは矩形波や、特殊交番電流などが用いられている。またこの電気化学的砂目立ての前処理として、アルミニウム板を苛性ソーダなどでエッチング処理をしても良い。
【００２４】
製造ライン１０には、粗面化処理が完了したアルミウエブ１２に対して公知の陽極酸化処理を行う陽極酸化装置（図示省略）が設けられている。この陽極酸化装置は、アルミウエブ１２の表面を公知の液中給電方式により陽極酸化してアルミウエブ１２の表面に高い硬度を有する陽極酸化皮膜を形成する。このとき、アルミウエブ１２の表面には、０．１〜１０ｇ／ｍ2 の陽極酸化皮膜、より好ましくは０．３〜５ｇ／ｍ2 の陽極酸化皮膜が形成される。また陽極酸化処理の条件は、使用される電解液によって設定を変更する必要があるので一概には決定されないが、一般的には、電解液の濃度は１〜８０ｗｔ％、液温は５〜７０℃、電流密度は０．５〜６０Ａ／dm2 、電圧は１〜１００Ｖ、電解時間は１ｓｅｃ〜５ｍｉｎの範囲内でそれぞれ設定される。
【００２５】
陽極酸化装置の下流側には、図１に示すように、アルミウエブ１２に対する感光性材料（フォトポリマー）の塗布装置２６及び乾燥装置２８がそれぞれ設置されている。図２に示すように、塗布装置２６は、軸受部材６２に回転可能に、且つアルミウエブ１２に接触するように支持されたロッド６４を有している。軸受部材６２に隣接して堰部材６６が設けられており、これらの間には塗布液供給路６８が構成されている。この塗布液供給路６８から供給された塗布液７０（フォトポリマー）が、アルミウエブ１２に接触して液溜まり７２を形成する。そして、ロッド６４が回転することにより、液溜まり７２の塗布液７０が掻き上げられてアルミウエブ１２に転移される。このような構成とされた塗布装置２６は、いわゆるバー塗布（あるいはロッド塗布）を行う塗布装置である。
【００２６】
塗布装置２６の下流側に配置された乾燥装置２８には、防爆及び断熱構造とされた乾燥槽４６が設けられると共に、この乾燥槽４６内に複数本の案内ローラ４８が配置されている。フォトポリマーが転移されたアルミウエブ１２は、案内ローラ４８により上面側から案内されつつ乾燥槽４６内を移動する。このとき、乾燥槽４６内へ熱風５０が供給されることにより、アルミウエブ１２上のフォトポリマーが乾燥されて感光層が形成される。
【００２７】
フォトポリマーの乾燥装置２８の下流側には、本発明が適用されたポリビニルアルコール（ＰＶＡ）の塗布装置３０、及び乾燥装置３２がそれぞれ設置されている。
【００２８】
図３に示すように、塗布装置３０は、アルミウエブ１２が巻きかけられるバックアップローラ８２と、このバックアップローラ８２に隣接配置されたスライドビードコータ（塗布ヘッドに相当）８４と、で構成されている。スライドビードコータ８４の上面は、バックアップローラ８２に向かって下降し、下端がアルミウエブ１２との間にわずかな隙間を構成するように形成された傾斜面（スライド面）８６とされている。また、スライドビードコータ８４の内部には、塗布液８８（ＰＶＡ）を貯留する貯留部９０が設けられており、吐出スリット９２に連通されている。貯留部９０内の塗布液８８は不図示の吐出装置によって吐出スリット９２に供給され、スライド面８６に吐出される。そして、塗布液がスライド面８６を流れ（スライドし）、リップ９４とアルミウエブ１２との間に塗布液のビードを形成し、アルミウエブ１２に塗布液が転移される。このような構成とされた塗布装置３０は、いわゆるスライド塗布を行う塗布装置である。なお、本実施形態では、塗布液８８が１種類のみ（ＰＶＡ）であるため、貯留部９０は図３に実線で示すように１つのみ設けられていれば十分であるが、複数の塗布液を多層に塗布する場合には、これに対応して、図３に二点鎖線で示すように貯留部９０が複数設けられたものが使用される。
【００２９】
塗布装置３０の下流側に配置された乾燥装置３２は、基本的にフォトポリマーの乾燥装置２８と同一構造とされており、その加熱槽５６内を移動するアルミウエブ１２を複数本の案内ローラ５８により案内しつつ、アルミウエブ１２上のＰＶＡを熱風５０によって乾燥する。これにより、アルミウエブ１２上には、感光層を覆うように酸素遮断層としてのオーバーコート層が形成される。ただし、感光層とオーバーコート層とではそれぞれ適正な乾燥条件が異なるため、それぞれの乾燥条件に応じて乾燥槽４６、５６へ供給される熱風温度や乾燥槽４６、５６の搬送方向に沿った長さ等が設定されている。
【００３０】
このようにして、本実施形態の製造ライン１０では、感光層上にオーバーコート層が形成されることにより、フォトポリマ型平版印刷版の素材としてのウエブの製造が完了する。製造されたウエブはウエブ巻取装置３８によりロール状に巻き取られてウエブロール３６とされる。このウエブロール３６は、フォトポリマ型平版印刷版の加工ライン（図示省略）のウエブ供給装置へ供給され、このウエブ供給装置により巻き出されて加工ラインの加工速度に対応する速度でラインの下流側へ供給される。
【００３１】
ところで、本発明に係る塗布装置３０は、図３に示すように、減圧チャンバ１００を備えている。減圧チャンバ１００は、アルミウエブ１２の走行方向に対してスライドビードコータ８４のリップ９４の上流側の空間を囲むようにして形成されている。具体的には、図４に示すように、スライドビードコータ８４の両側面に取り付けられたサイド板１０２と、バックアップローラ８２の下方に立設された前板１０４と、底板（図３参照）１０６とが設けられ、これらのサイド板１０２、前板１０４、底板１０６とスライドビードコータ８４によって囲まれて減圧チャンバ１００が形成されている。
【００３２】
減圧チャンバ１００のサイド板１０２や前板１０４は、アルミウエブ１２やバックアップローラ８２に接触しないように形成されているため、減圧チャンバ１００とバックアップローラ８２との間には、若干の隙間が形成されている。具体的には、前板１０４の上端は、バックアップローラ８２に対してクリアランスｗを持って配設される。また、サイド板１０２の上部にはバックアップローラ８２に合わせて円弧状に形成されており、バックアップローラ８２に対して一定のクリアランスｓで形成されている。ここで、バックアップローラ８２の半径をＲ、バックアップ８２に対して減圧チャンバ１００が配置された範囲をθ、アルミウエブ１２の巾をｌ、アルミウエブ１２の厚みをｔ、スライドビードコータの巾をＬとする。
【００３３】
前述したバックアップローラ８２と減圧チャンバ１００との隙間の総面積をＳとすると、Ｓは下式（１）によって求められる。
Ｓ＝（Ｌ・Ｔ＋Ｌ・ｗ−２・ｌ・ｔ）−π（ｓ2 ＋２・ｓ・Ｒ）・θ／１８０…式（１） この式（１）で求められた総面積Ｓによって、後述する開口部の面積が決定される。
【００３４】
図３に示すように減圧チャンバ１００には配管１１０が接続されており、この配管１１０はバッファタンク１１２を介してファン（負圧発生源に相当）１１４に接続されている。減圧チャンバ１００はファン１１４を駆動することによって吸引力が伝達され、負圧に維持される。
【００３５】
バッファタンク１１２は、減圧チャンバ１００とファン１１４とを接続する配管１１０の途中に配設されており、このバッファタンク１１２とファン１１４は、減圧チャンバ１００やスライドビードコータ８４が設置された部屋とは別の部屋に設置されている。また、バッファタンク１１２には、バッファタンク１１２の内部と外部とを連通する開口部１１６が設けられている。開口部１１６の開口面積は、前述したバックアップローラ８２と減圧チャンバ１００との隙間の総面積Ｓに対して、５倍以上５００倍以下、好ましくは 7倍１００倍以下になるように設定される。
【００３６】
なお、開口部１１６は、図５或いは図６に示すように、開口面積を調節可能に構成することが好ましい。図５に示す開口部１１６は、バッファタンク１１２に取り付けられた支持部材１２０と、この支持部材１２０にスライド自在に支持されたスライド部材１２２で構成される。支持部材１２０には、円形の開口１２４が形成されており、この開口１２４を介してバッファタンク１１２の内外が連通される。スライド部材１２２は、支持部材１２０に形成されたスリット１２６から差し込まれ、摺動自在に支持される。また、スライド部材１２２には、円弧状の溝１２８が形成されており、スライド部材１２２を支持部材１２０に摺動させることによって、支持部材１２０の開口１２４の一部を閉塞できるようになっている。したがって、図５に示す開口部１１６は、スライド部材１２２をスライドさせることによって、実際の開口面積を調節することができる。
【００３７】
図６に示す開口部１１６は、バッファタンク１１２に中空円筒状に突出形成された突起部１３０と、この突起部１３０に被せられる回動体１３２とから構成される。突起部１３０の側面には開口１３４が形成されており、この開口１３４を介してバッファタンク１１２の内外が連通されている。回動体１３２は、有底の円筒状に形成されており、突起部１３０に被せられて周方向に摺動するようになっている。回動体１３２の側面には、突起部１３０の開口１３４と重なる位置に開口１３６が形成されている。したがって、回動体１３２を回転させて開口１３４と開口１３６の重なる面積を変えることによって、実際の開口面積を調節することができる。
【００３８】
このように開口部１１６の開口面積を調節できるように構成すると、図３の減圧チャンバ１００とバックアップローラ８２との隙間の総面積Ｓを変更した場合にも、開口部１１６の開口面積を適切な範囲に調節することができる。
【００３９】
次に上記の如く構成された塗布装置３０の作用について説明する。
【００４０】
減圧チャンバ１００がファン１１４に直接、接続された従来装置の場合、アルミウエブ１２の巾や厚みを変更すると、減圧チャンバ１００内の負圧値が大きく変化する。このため、ファン１１４の回転数を変化させて吸引力を調節し、減圧チャンバ１００内を所定の負圧値にする必要がある。しかしながら、減圧チャンバ１００内の負圧値が一旦大きく変化すると、所定の負圧値で安定するまでに時間がかかるという問題がある。また、従来装置の場合には、バックアップローラ８２の偏心等の原因によって減圧チャンバ１００内の負圧値が変動しており、所定の負圧値に制御することが難しいという問題がある。
【００４１】
これに対して、本実施の形態の塗布装置３０は、減圧チャンバ１００がバッファタンク１１２を介してファン１１４に接続されており、このバッファタンク１１２に開口部１１６が形成されている。このように減圧チャンバ１００とファン１１４とを連通する通路に開口部１１６を形成すると、減圧チャンバ１００の負圧値が安定しやすくなる。特に、開口部１１６の開口面積を、バックアップローラ８２と減圧チャンバ１００の隙間の総面積の５倍以上（好ましくは７倍以上）に設定した場合には、減圧チャンバ１００の負圧値が安定しやすくなり、アルミウエブ１２の巾や厚みを変更した場合であっても減圧チャンバ１００内の負圧値は殆ど変化しない。したがって、ファン１１４の回転数を変更する必要がなく、また、減圧チャンバ１００内が所定の負圧値で安定するまで待つ必要がない。よって、アルミウエブ１２のサイズ変更に伴う準備作業の時間が短くなり、結果として生産効率を向上させることができる。
【００４２】
また、本実施の形態では開口部１１６を設けたことによって減圧チャンバ１００の負圧値が安定するので、減圧チャンバ１００の負圧値の変動を抑制することができる。よって、塗布液架橋（ビード）を安定して形成することができ、塗布面にムラやスジが発生することを抑制することができる。
【００４３】
なお、上述した実施の形態は開口部１１６をバッファタンク１１２に設けたが、開口部１１６の形成位置は、減圧チャンバ１００とファン（吸引手段）１１４とを連通する通路であればよい。したがって、配管１１０に開口部１１６を直接形成してもよい。
【００４４】
また、本発明は、ビードを形成して塗布を行う塗布装置であれば適用することができる。したがって、上述したようにスライドビード型の塗布装置に限定されるものではなく、エクストルージョン型の塗布装置にも適用することができる。
【実施例】
【００４５】
アルミウエブのサイズ変更時、塗布条件変更時における減圧チャンバの負圧値の変動を測定した。その際、バックアップローラと減圧チャンバの隙間の総面積Ｓ＝１０．０ｃｍ2 の塗布条件で各試験を行った。各試験での条件、及び結果を表１に示す。
【００４６】
【表１】
表１から分かるように、開口面積を形成しない場合（すなわち、開口面積＝０の場合）や開口面積が小さい場合には、条件の変更に伴って減圧チャンバの負圧値が大きく変動していた。これに対し、開口面積が隙間の総面積の５倍以上の場合には、減圧チャンバの負圧値の変動が小さくなった。減圧チャンバの負圧値の変動は、開口面積を大きくするほど抑制することができるが、開口面積の増加に伴ってファンの容量を大きくする必要があるため、開口面積は隙間の総面積の５００倍以下とすることが好ましい。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】本発明に係る塗布装置としてスライドビード型塗布装置を用いたウエブの製造ラインを示す構成図
【図２】ロッド塗布装置を示す構成図
【図３】スライドビード塗布装置を示す構成図
【図４】図３に示した塗布装置の斜視図
【図５】開口部の一例を示す斜視図
【図６】開口部の一例を示す斜視図
【符号の説明】
【００４８】
１０…製造ライン、１２…アルミウエブ、３０…塗布装置、８２…バックアップローラ、８４…スライドビードコータ、８６…スライド面、８８…塗布液、９２…吐出スリット、９４…リップ、１００…減圧チャンバ、１１２…バッファタンク、１１４…ファン
【技術分野】
【０００１】
本発明は塗布装置に係り、特に平版印刷版用支持体のように長尺状であり、且つ可撓性である被塗布物に塗布液を塗布する塗布装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
平版印刷原版の感光層の表面にポリビニルアルコールなどの酸素非透過性樹脂の薄膜からなる酸化保護層を形成し、感光層を空気中の酸素から保護することが現在広く行なわれている。
【０００３】
酸化保護層の形成にはスライドビード型塗布装置が使用される。スライドビード型塗布装置は一般的に、酸素非透過性樹脂の溶液などの塗布液を吐出する吐出スリットとこの吐出スリットから吐出された塗布液が流下するスライド面とが形成されたスライドビードコータと、スライドビードコータのスライド面の先端近傍に設けられ、平版印刷原版を巻き掛けて一定方向に搬送するバックアップローラとを備える。このようなスライドビード型塗布装置においては、バックアップローラによって平版印刷原版を感光層が外側を向くように搬送しつつ、吐出スリットから溶液を吐出してスライド面に沿って流下させ、スライド面の先端部と平版印刷原版の感光層表面との間に塗布液架橋（ビード）を形成し、溶液を塗布している。
【０００４】
ところで、ビードの形成を維持するために、スライドビードコータに隣接して減圧チャンバを設けることがある（特許文献１参照）。減圧チャンバ内の負圧値は、被塗布物の厚み等のサイズや、スライドビードコータとバックアップローラのクリアランス値などの塗布条件に応じて変更する必要がある。そこで、従来は、被塗布物のサイズや塗布条件を変更するたびに、減圧チャンバに接続したファンの回転数を変化させ、減圧チャンバ内を所定の減圧度に設定していた。
【特許文献１】特開２００２−２３３８０４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、ファンの回転数を変化させると、減圧チャンバ内の負圧値が安定するまでに時間がかかるため、準備作業時間が長くなり、結果として生産効率が低下するという問題があった。特に、多品種を同じラインで製造する場合には、設定変更に伴う準備時間が長くなり、生産効率が大きく低下するという問題があった。
【０００６】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、塗布条件や被塗布物のサイズを変更した際に減圧用のファンの回転数を変える必要のない塗布装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
請求項１に記載の発明は前記目的を達成するために、バックアップローラに巻きがけ支持されて連続走行する被塗布物の表面に、塗布ヘッドのリップ先端から塗布液を架橋させ、前記被塗布物との間にビードを形成するとともに、該ビードに対して前記被塗布物の走行方向の上流側に設けた減圧チャンバで減圧しながら前記被塗布物の表面に塗布液を塗布する塗布装置において、前記減圧チャンバと、該減圧チャンバを減圧する負圧発生源とを連通する通路に、開口部が形成されることを特徴とする。
【０００８】
請求項１の発明によれば、減圧チャンバと負圧発生源を連通する通路に開口部を形成するようにしたので、減圧チャンバ内の負圧変動を抑制することができる。したがって、塗布条件や被塗布物のサイズ等を変更した場合であっても、吸引手段の吸引力の設定を変更する必要がない。これにより、準備作業の時間を短縮することができ、生産効率を向上させることができる。
【０００９】
なお、本発明は、ビードを形成するとともにビードに対して上流側に減圧をかける塗布装置であれば適用することができる。したがって、塗布ヘッドとしては、スライドホッパー（スライドビードコータともいう）や、ダイコータ（スロットダイともいう）が用いられる。
【００１０】
請求項２に記載の発明は請求項１の発明において、前記開口部の面積は、前記被塗布物を巻きかけ支持したバックアップローラと前記減圧チャンバとが成す隙間の総面積に対して、５倍以上５００倍以下であることを特徴とする。このように前記隙間の総面積に対して開口部の面積を規定することによって、減圧チャンバ内の負圧変動を効果的に抑制することができる。
【００１１】
請求項３に記載の発明は請求項１又は２の発明において、前記通路にはバッファタンクが設けられ、該バッファタンクに前記開口部が形成されることを特徴とする。このようにバッファタンクに開口部が形成されると、減圧チャンバ内の負圧値が安定し、負圧変動を抑制することができる。
【００１２】
請求項４に記載の発明は請求項１〜３のいずれか１の発明において、前記開口部には、該開口部の面積を調節する面積調節手段が設けられることを特徴とする。
【００１３】
請求項４の発明によれば、開口部の面積を調節することができるので、被塗布物が巻きかけられたバックアップローラと減圧チャンバとの隙間量が変わった場合にも対応することができる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明に係る塗布装置によれば、減圧チャンバと吸引手段を連通する通路に開口部が形成されるので、減圧チャンバ内の負圧変動を抑制することができる。よって、準備作業の時間を短縮することができ、生産効率を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下添付図面に従って本発明に係る塗布装置の好ましい実施の形態について説明する。図１には本発明に係る塗布装置としてスライドビード型塗布装置を用いた、フォトポリマ型平版印刷版の素材としてのウエブの製造ライン１０を示す構成図である。
【００１６】
図１に示すように、製造ライン１０の最も上流側（図１の左側）には送出装置１６が配置されており、この送出装置１６には、例えば厚さ０．１〜０．５ｍｍのアルミウエブ１２がロール状に巻き取られたアルミコイル１４が装填されている。送出装置１６は製造ライン１０全体での製造速度に対応する速さでアルミウエブ１２を下流側へ送り出している。ここで、平版印刷版用支持体の素材としてのアルミニウム板は、例えば、ＪＩＳ１０５０材、ＪＩＳ１１００材、ＪＩＳ１０７０材、Ａｌ−Ｍｇ系合金、Ａｌ−Ｍｎ系合金、Ａｌ−Ｍｎ−Ｍｇ系合金、Ａｌ−Ｚｒ系合金、Ａｌ−Ｍｇ−Ｓｉ系合金等を適用し得る。メーカにおけるアルミニウム板の製造過程では、上記規格に適合するアルミニウムの鋳塊を製造し、このアルミニウム鋳塊を熱間圧延した後、必要に応じて焼鈍と呼ぶ熱処理を施し、冷間圧延により所定の厚さとされた帯状のアルミニウム板に仕上げる。このアルミニウム板はロール状に巻き取られてアルミコイルとされる。
【００１７】
製造ライン１０では、まず、送出装置１６により下流側へ送り出されたアルミウエブ１２を、平坦性を改善するためにローラレベラ、テンションレベラ等の矯正装置（図示省略）によって形状を矯正して必要な平坦性を得る。
【００１８】
矯正装置の下流側には、アルミウエブ１２の搬送経路に沿って上面研磨装置１８及び下面研磨装置２０が順次配置されている。
【００１９】
上面研磨装置１８には、アルミウエブ１２の上面に接するように支持された研磨ローラ２２が設けられると共に、アルミウエブ１２の下面に接するように一対のテンションローラ２４が設けられている。研磨ローラ２２は、そのローラ面が例えば不織布により構成されており、研磨時にはローラ面の線速度がアルミウエブ１２の搬送速度に対して十分大きくなるように高速回転される。このとき、研磨ローラ２２の回転方向は、アルミウエブ１２との接触部でのローラ面の移動方向がアルミウエブ１２の搬送方向と同一となる順回転方向でも、またローラ面の移動方向がアルミウエブ１２の搬送方向と反対となる逆回転方向の何れでもよい。また一対のテンションローラ２４は、アルミウエブ１２の搬送方向に沿って研磨ローラ２２を挟むように配置され、アルミウエブ１２を上方へ付勢し、アルミウエブ１２の上面を所定の接触圧で研磨ローラ２２のローラ面へ圧接させている。
【００２０】
上面研磨装置１８には、セラミック粒子等を含む研磨剤を水に分散させたスラリーを研磨ローラ２２とアルミウエブ１２との接触部へ供給するスラリー供給部（図示省略）が設けられており、このスラリー供給部はアルミウエブ１２の研磨時に単位時間当たりに所定量のスラリーを供給する。このスラリー中の研磨材が研磨ローラ２２によりアルミウエブ１２の上面へ擦り付けられることにより、アルミウエブ１２上面のミクロ的な凹凸が平均化されるように研磨されて表面粗さが小さくなっていく。
【００２１】
なお、上面研磨装置１８による研磨の研磨条件は、メーカから供給されるアルミウエブ１２の初期表面粗さ、製造ライン１０によるアルミウエブ１２の搬送速度等により変化する。したがって、アルミウエブ１２の初期表面粗さ、搬送速度等に応じて研磨ローラ２２の回転速度、研磨材の種類及び粒径等を設定すればよい。また、本実施形態では、１台の上面研磨装置１８によってアルミウエブ１２の上面を研磨しているが、複数台の上面研磨装置１８をアルミウエブ１２の搬送経路に沿って配置し、それぞれの上面研磨装置１８により段階的にアルミウエブ１２の上面を表面粗さが所定値以下となるまで研磨するようにしてもよい。
【００２２】
上面が研磨されたアルミウエブ１２は、上面研磨装置１８の下流側に配置された下面研磨装置２０により下面の表面粗さ（ＪＩＳ中心線平均粗さ）が一定値以下となるように研磨される。ここで、下面研磨装置２０の構造は、研磨ローラ２２と一対のテンションローラ２４がアルミウエブ１２を介して上下逆に配置されている点を除いて、上面研磨装置１８と同一であるので説明を省略する。なお、アルミウエブ１２の下面の表面粗さは、０．２５〜０．７５μｍ以下とすることが好ましく、このための研磨条件（研磨ローラ２２の回転速度、研磨材の種類及び粒径等）も上面の場合と同様、アルミウエブ１２の初期表面粗さ、搬送速度等に応じて設定すればよい。
【００２３】
研磨装置１８、２０により研磨されたアルミウエブ１２は、研磨装置１８、２０の下流側で機械的又は電気化学的にその表面が粗面化される。このような粗面化方法としては、機械的な砂目立て法，電気化学的な砂目立て法などがあり、それらを単独で、あるいは適宜組合わせて粗面化を行うことができる。機械的な砂目立て法としては、例えば、ボールグレイン、ワイヤーグレイン、ブラシグレイン、液体ホーニング法などがある。また電気化学的砂目立て方法としては、交流電解エッチング法が一般的に採用されており、電解電流としては、普通の正弦波交流電流あるいは矩形波や、特殊交番電流などが用いられている。またこの電気化学的砂目立ての前処理として、アルミニウム板を苛性ソーダなどでエッチング処理をしても良い。
【００２４】
製造ライン１０には、粗面化処理が完了したアルミウエブ１２に対して公知の陽極酸化処理を行う陽極酸化装置（図示省略）が設けられている。この陽極酸化装置は、アルミウエブ１２の表面を公知の液中給電方式により陽極酸化してアルミウエブ１２の表面に高い硬度を有する陽極酸化皮膜を形成する。このとき、アルミウエブ１２の表面には、０．１〜１０ｇ／ｍ2 の陽極酸化皮膜、より好ましくは０．３〜５ｇ／ｍ2 の陽極酸化皮膜が形成される。また陽極酸化処理の条件は、使用される電解液によって設定を変更する必要があるので一概には決定されないが、一般的には、電解液の濃度は１〜８０ｗｔ％、液温は５〜７０℃、電流密度は０．５〜６０Ａ／dm2 、電圧は１〜１００Ｖ、電解時間は１ｓｅｃ〜５ｍｉｎの範囲内でそれぞれ設定される。
【００２５】
陽極酸化装置の下流側には、図１に示すように、アルミウエブ１２に対する感光性材料（フォトポリマー）の塗布装置２６及び乾燥装置２８がそれぞれ設置されている。図２に示すように、塗布装置２６は、軸受部材６２に回転可能に、且つアルミウエブ１２に接触するように支持されたロッド６４を有している。軸受部材６２に隣接して堰部材６６が設けられており、これらの間には塗布液供給路６８が構成されている。この塗布液供給路６８から供給された塗布液７０（フォトポリマー）が、アルミウエブ１２に接触して液溜まり７２を形成する。そして、ロッド６４が回転することにより、液溜まり７２の塗布液７０が掻き上げられてアルミウエブ１２に転移される。このような構成とされた塗布装置２６は、いわゆるバー塗布（あるいはロッド塗布）を行う塗布装置である。
【００２６】
塗布装置２６の下流側に配置された乾燥装置２８には、防爆及び断熱構造とされた乾燥槽４６が設けられると共に、この乾燥槽４６内に複数本の案内ローラ４８が配置されている。フォトポリマーが転移されたアルミウエブ１２は、案内ローラ４８により上面側から案内されつつ乾燥槽４６内を移動する。このとき、乾燥槽４６内へ熱風５０が供給されることにより、アルミウエブ１２上のフォトポリマーが乾燥されて感光層が形成される。
【００２７】
フォトポリマーの乾燥装置２８の下流側には、本発明が適用されたポリビニルアルコール（ＰＶＡ）の塗布装置３０、及び乾燥装置３２がそれぞれ設置されている。
【００２８】
図３に示すように、塗布装置３０は、アルミウエブ１２が巻きかけられるバックアップローラ８２と、このバックアップローラ８２に隣接配置されたスライドビードコータ（塗布ヘッドに相当）８４と、で構成されている。スライドビードコータ８４の上面は、バックアップローラ８２に向かって下降し、下端がアルミウエブ１２との間にわずかな隙間を構成するように形成された傾斜面（スライド面）８６とされている。また、スライドビードコータ８４の内部には、塗布液８８（ＰＶＡ）を貯留する貯留部９０が設けられており、吐出スリット９２に連通されている。貯留部９０内の塗布液８８は不図示の吐出装置によって吐出スリット９２に供給され、スライド面８６に吐出される。そして、塗布液がスライド面８６を流れ（スライドし）、リップ９４とアルミウエブ１２との間に塗布液のビードを形成し、アルミウエブ１２に塗布液が転移される。このような構成とされた塗布装置３０は、いわゆるスライド塗布を行う塗布装置である。なお、本実施形態では、塗布液８８が１種類のみ（ＰＶＡ）であるため、貯留部９０は図３に実線で示すように１つのみ設けられていれば十分であるが、複数の塗布液を多層に塗布する場合には、これに対応して、図３に二点鎖線で示すように貯留部９０が複数設けられたものが使用される。
【００２９】
塗布装置３０の下流側に配置された乾燥装置３２は、基本的にフォトポリマーの乾燥装置２８と同一構造とされており、その加熱槽５６内を移動するアルミウエブ１２を複数本の案内ローラ５８により案内しつつ、アルミウエブ１２上のＰＶＡを熱風５０によって乾燥する。これにより、アルミウエブ１２上には、感光層を覆うように酸素遮断層としてのオーバーコート層が形成される。ただし、感光層とオーバーコート層とではそれぞれ適正な乾燥条件が異なるため、それぞれの乾燥条件に応じて乾燥槽４６、５６へ供給される熱風温度や乾燥槽４６、５６の搬送方向に沿った長さ等が設定されている。
【００３０】
このようにして、本実施形態の製造ライン１０では、感光層上にオーバーコート層が形成されることにより、フォトポリマ型平版印刷版の素材としてのウエブの製造が完了する。製造されたウエブはウエブ巻取装置３８によりロール状に巻き取られてウエブロール３６とされる。このウエブロール３６は、フォトポリマ型平版印刷版の加工ライン（図示省略）のウエブ供給装置へ供給され、このウエブ供給装置により巻き出されて加工ラインの加工速度に対応する速度でラインの下流側へ供給される。
【００３１】
ところで、本発明に係る塗布装置３０は、図３に示すように、減圧チャンバ１００を備えている。減圧チャンバ１００は、アルミウエブ１２の走行方向に対してスライドビードコータ８４のリップ９４の上流側の空間を囲むようにして形成されている。具体的には、図４に示すように、スライドビードコータ８４の両側面に取り付けられたサイド板１０２と、バックアップローラ８２の下方に立設された前板１０４と、底板（図３参照）１０６とが設けられ、これらのサイド板１０２、前板１０４、底板１０６とスライドビードコータ８４によって囲まれて減圧チャンバ１００が形成されている。
【００３２】
減圧チャンバ１００のサイド板１０２や前板１０４は、アルミウエブ１２やバックアップローラ８２に接触しないように形成されているため、減圧チャンバ１００とバックアップローラ８２との間には、若干の隙間が形成されている。具体的には、前板１０４の上端は、バックアップローラ８２に対してクリアランスｗを持って配設される。また、サイド板１０２の上部にはバックアップローラ８２に合わせて円弧状に形成されており、バックアップローラ８２に対して一定のクリアランスｓで形成されている。ここで、バックアップローラ８２の半径をＲ、バックアップ８２に対して減圧チャンバ１００が配置された範囲をθ、アルミウエブ１２の巾をｌ、アルミウエブ１２の厚みをｔ、スライドビードコータの巾をＬとする。
【００３３】
前述したバックアップローラ８２と減圧チャンバ１００との隙間の総面積をＳとすると、Ｓは下式（１）によって求められる。
Ｓ＝（Ｌ・Ｔ＋Ｌ・ｗ−２・ｌ・ｔ）−π（ｓ2 ＋２・ｓ・Ｒ）・θ／１８０…式（１） この式（１）で求められた総面積Ｓによって、後述する開口部の面積が決定される。
【００３４】
図３に示すように減圧チャンバ１００には配管１１０が接続されており、この配管１１０はバッファタンク１１２を介してファン（負圧発生源に相当）１１４に接続されている。減圧チャンバ１００はファン１１４を駆動することによって吸引力が伝達され、負圧に維持される。
【００３５】
バッファタンク１１２は、減圧チャンバ１００とファン１１４とを接続する配管１１０の途中に配設されており、このバッファタンク１１２とファン１１４は、減圧チャンバ１００やスライドビードコータ８４が設置された部屋とは別の部屋に設置されている。また、バッファタンク１１２には、バッファタンク１１２の内部と外部とを連通する開口部１１６が設けられている。開口部１１６の開口面積は、前述したバックアップローラ８２と減圧チャンバ１００との隙間の総面積Ｓに対して、５倍以上５００倍以下、好ましくは 7倍１００倍以下になるように設定される。
【００３６】
なお、開口部１１６は、図５或いは図６に示すように、開口面積を調節可能に構成することが好ましい。図５に示す開口部１１６は、バッファタンク１１２に取り付けられた支持部材１２０と、この支持部材１２０にスライド自在に支持されたスライド部材１２２で構成される。支持部材１２０には、円形の開口１２４が形成されており、この開口１２４を介してバッファタンク１１２の内外が連通される。スライド部材１２２は、支持部材１２０に形成されたスリット１２６から差し込まれ、摺動自在に支持される。また、スライド部材１２２には、円弧状の溝１２８が形成されており、スライド部材１２２を支持部材１２０に摺動させることによって、支持部材１２０の開口１２４の一部を閉塞できるようになっている。したがって、図５に示す開口部１１６は、スライド部材１２２をスライドさせることによって、実際の開口面積を調節することができる。
【００３７】
図６に示す開口部１１６は、バッファタンク１１２に中空円筒状に突出形成された突起部１３０と、この突起部１３０に被せられる回動体１３２とから構成される。突起部１３０の側面には開口１３４が形成されており、この開口１３４を介してバッファタンク１１２の内外が連通されている。回動体１３２は、有底の円筒状に形成されており、突起部１３０に被せられて周方向に摺動するようになっている。回動体１３２の側面には、突起部１３０の開口１３４と重なる位置に開口１３６が形成されている。したがって、回動体１３２を回転させて開口１３４と開口１３６の重なる面積を変えることによって、実際の開口面積を調節することができる。
【００３８】
このように開口部１１６の開口面積を調節できるように構成すると、図３の減圧チャンバ１００とバックアップローラ８２との隙間の総面積Ｓを変更した場合にも、開口部１１６の開口面積を適切な範囲に調節することができる。
【００３９】
次に上記の如く構成された塗布装置３０の作用について説明する。
【００４０】
減圧チャンバ１００がファン１１４に直接、接続された従来装置の場合、アルミウエブ１２の巾や厚みを変更すると、減圧チャンバ１００内の負圧値が大きく変化する。このため、ファン１１４の回転数を変化させて吸引力を調節し、減圧チャンバ１００内を所定の負圧値にする必要がある。しかしながら、減圧チャンバ１００内の負圧値が一旦大きく変化すると、所定の負圧値で安定するまでに時間がかかるという問題がある。また、従来装置の場合には、バックアップローラ８２の偏心等の原因によって減圧チャンバ１００内の負圧値が変動しており、所定の負圧値に制御することが難しいという問題がある。
【００４１】
これに対して、本実施の形態の塗布装置３０は、減圧チャンバ１００がバッファタンク１１２を介してファン１１４に接続されており、このバッファタンク１１２に開口部１１６が形成されている。このように減圧チャンバ１００とファン１１４とを連通する通路に開口部１１６を形成すると、減圧チャンバ１００の負圧値が安定しやすくなる。特に、開口部１１６の開口面積を、バックアップローラ８２と減圧チャンバ１００の隙間の総面積の５倍以上（好ましくは７倍以上）に設定した場合には、減圧チャンバ１００の負圧値が安定しやすくなり、アルミウエブ１２の巾や厚みを変更した場合であっても減圧チャンバ１００内の負圧値は殆ど変化しない。したがって、ファン１１４の回転数を変更する必要がなく、また、減圧チャンバ１００内が所定の負圧値で安定するまで待つ必要がない。よって、アルミウエブ１２のサイズ変更に伴う準備作業の時間が短くなり、結果として生産効率を向上させることができる。
【００４２】
また、本実施の形態では開口部１１６を設けたことによって減圧チャンバ１００の負圧値が安定するので、減圧チャンバ１００の負圧値の変動を抑制することができる。よって、塗布液架橋（ビード）を安定して形成することができ、塗布面にムラやスジが発生することを抑制することができる。
【００４３】
なお、上述した実施の形態は開口部１１６をバッファタンク１１２に設けたが、開口部１１６の形成位置は、減圧チャンバ１００とファン（吸引手段）１１４とを連通する通路であればよい。したがって、配管１１０に開口部１１６を直接形成してもよい。
【００４４】
また、本発明は、ビードを形成して塗布を行う塗布装置であれば適用することができる。したがって、上述したようにスライドビード型の塗布装置に限定されるものではなく、エクストルージョン型の塗布装置にも適用することができる。
【実施例】
【００４５】
アルミウエブのサイズ変更時、塗布条件変更時における減圧チャンバの負圧値の変動を測定した。その際、バックアップローラと減圧チャンバの隙間の総面積Ｓ＝１０．０ｃｍ2 の塗布条件で各試験を行った。各試験での条件、及び結果を表１に示す。
【００４６】
【表１】
表１から分かるように、開口面積を形成しない場合（すなわち、開口面積＝０の場合）や開口面積が小さい場合には、条件の変更に伴って減圧チャンバの負圧値が大きく変動していた。これに対し、開口面積が隙間の総面積の５倍以上の場合には、減圧チャンバの負圧値の変動が小さくなった。減圧チャンバの負圧値の変動は、開口面積を大きくするほど抑制することができるが、開口面積の増加に伴ってファンの容量を大きくする必要があるため、開口面積は隙間の総面積の５００倍以下とすることが好ましい。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】本発明に係る塗布装置としてスライドビード型塗布装置を用いたウエブの製造ラインを示す構成図
【図２】ロッド塗布装置を示す構成図
【図３】スライドビード塗布装置を示す構成図
【図４】図３に示した塗布装置の斜視図
【図５】開口部の一例を示す斜視図
【図６】開口部の一例を示す斜視図
【符号の説明】
【００４８】
１０…製造ライン、１２…アルミウエブ、３０…塗布装置、８２…バックアップローラ、８４…スライドビードコータ、８６…スライド面、８８…塗布液、９２…吐出スリット、９４…リップ、１００…減圧チャンバ、１１２…バッファタンク、１１４…ファン
【特許請求の範囲】
【請求項１】
バックアップローラに巻きがけ支持されて連続走行する被塗布物の表面に、塗布ヘッドのリップ先端から塗布液を架橋させ、前記被塗布物との間にビードを形成するとともに、該ビードに対して前記被塗布物の走行方向の上流側に設けた減圧チャンバで減圧しながら前記被塗布物の表面に塗布液を塗布する塗布装置において、
前記減圧チャンバと、該減圧チャンバを減圧する負圧発生源とを連通する通路に、開口部が形成されることを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
前記開口部の面積は、前記被塗布物を巻きかけ支持したバックアップローラと前記減圧チャンバとが成す隙間の総面積に対して、５倍以上５００倍以下であることを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。
【請求項３】
前記通路にはバッファタンクが設けられ、該バッファタンクに前記開口部が形成されることを特徴とする請求項１又は２に記載の塗布装置。
【請求項４】
前記開口部には、該開口部の面積を調節する面積調節手段が設けられることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１に記載の塗布装置。
【請求項１】
バックアップローラに巻きがけ支持されて連続走行する被塗布物の表面に、塗布ヘッドのリップ先端から塗布液を架橋させ、前記被塗布物との間にビードを形成するとともに、該ビードに対して前記被塗布物の走行方向の上流側に設けた減圧チャンバで減圧しながら前記被塗布物の表面に塗布液を塗布する塗布装置において、
前記減圧チャンバと、該減圧チャンバを減圧する負圧発生源とを連通する通路に、開口部が形成されることを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
前記開口部の面積は、前記被塗布物を巻きかけ支持したバックアップローラと前記減圧チャンバとが成す隙間の総面積に対して、５倍以上５００倍以下であることを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。
【請求項３】
前記通路にはバッファタンクが設けられ、該バッファタンクに前記開口部が形成されることを特徴とする請求項１又は２に記載の塗布装置。
【請求項４】
前記開口部には、該開口部の面積を調節する面積調節手段が設けられることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１に記載の塗布装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【公開番号】特開２００６−３４１１７７（Ｐ２００６−３４１１７７Ａ）
【公開日】平成１８年１２月２１日（２００６．１２．２１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−１６８４５５（Ｐ２００５−１６８４５５）
【出願日】平成１７年６月８日（２００５．６．８）
【出願人】（０００００５２０１）富士フイルムホールディングス株式会社 (7,609)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年１２月２１日（２００６．１２．２１）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年６月８日（２００５．６．８）
【出願人】（０００００５２０１）富士フイルムホールディングス株式会社 (7,609)
【Ｆターム（参考）】
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