平板形状物の表面処理方法およびその装置
【課題】高品質処理を確実に行うことができる平板形状物の表面処理装置を提供する。
【解決手段】前置干満槽１０ＮＦと後置干満槽１０ＮＢとを処理槽１０Ｎの前後に配設し、前置干満槽１０ＮＦに関する導入側ゲート開閉手段，前置側液供給手段および前置側液排出手段と、処理槽１０Ｎに関する搬入側ゲート開閉手段および搬出側ゲート開閉手段と、後置干満槽１０ＮＢに関する後置側液供給手段，後置側液排出手段および導出側ゲート開閉手段とを設け、これら手段を所定の手順に従って駆動制御する駆動制御手段を設け、平板形状物２００を大気中搬送により前置干満槽１０ＮＦに導入し、満液状態の前置干満槽１０ＮＦから液中搬送により処理槽１０Ｎに搬入しかつ表面処理後の平板形状物２００を満液状態の後置干満槽１０ＮＢへ液中搬送により搬出させ、その後に後置干満槽１０ＮＢから大気中を導出させかつ後方側に排搬送できるように形成されている。
【解決手段】前置干満槽１０ＮＦと後置干満槽１０ＮＢとを処理槽１０Ｎの前後に配設し、前置干満槽１０ＮＦに関する導入側ゲート開閉手段，前置側液供給手段および前置側液排出手段と、処理槽１０Ｎに関する搬入側ゲート開閉手段および搬出側ゲート開閉手段と、後置干満槽１０ＮＢに関する後置側液供給手段，後置側液排出手段および導出側ゲート開閉手段とを設け、これら手段を所定の手順に従って駆動制御する駆動制御手段を設け、平板形状物２００を大気中搬送により前置干満槽１０ＮＦに導入し、満液状態の前置干満槽１０ＮＦから液中搬送により処理槽１０Ｎに搬入しかつ表面処理後の平板形状物２００を満液状態の後置干満槽１０ＮＢへ液中搬送により搬出させ、その後に後置干満槽１０ＮＢから大気中を導出させかつ後方側に排搬送できるように形成されている。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、前方側から縦吊状態で給搬送されて来た平板形状物を処理液が満たされた処理槽に搬入し、処理液中で平板形状物に表面処理を施し、表面処理後の平板形状物を後方側に排搬送することで、複数枚の平板形状物を連続的に表面処理する平板形状物の表面処理方法およびその装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
表面処理方法は、バッチ処理方式と連続処理方式とに大別される。前者方式の表面処理装置を図１０に示し、後者方式の表面処理装置を図１１に示す。
【０００３】
図１０において、前方側（図で左方向）から後方側に向う搬送（Ｘ）方向に整列配設された多数の処理槽（例えば、１０ＰＡ〜１０ＰＸ）のうち、Ｎ番目の処理槽１０ＰＮとこの上流側（前方側）の処理槽１０ＰＭとこの下流側（後方側）の処理槽１０ＰＯについて説明する。
【０００４】
処理槽１０ＰＭにおいて表面処理が終了したワーク（被処理物）２００は、昇降手段（ワーク搬送手段）によって垂直（Ｖ１）方向に搬送（引上げ上昇）され、次いで水平搬送手段（ワーク搬送手段）によって水平（Ｈ１）方向に搬送され、その後再び昇降手段（ワーク搬送手段）によって垂直（Ｖ２）方向に搬送（下降投入）されて、処理槽１０ＰＮに搬入される。また、処理槽１０ＰＮでの表面処理が終了したワーク（被処理物）２００は、昇降手段によって垂直（Ｖ３）方向に搬送（上昇）され処理槽１０ＰＮから搬出される。その後に、水平（Ｈ３）搬送等を経て処理槽１０ＰＯに搬送される。
【０００５】
処理槽１０ＰＮでの表面処理時間が他槽の場合に比較して長い場合には、ワーク２００は処理槽１０ＰＮ内において点線で示すように連続（定速）または間歇的に槽内で水平（Ｈ２）搬送される。あるいは、複数（例えば、４つ）の処理槽（１０ＰＮ−１，…，１０ＰＮ−４）に分割して配置し、ワークを順番に搬入・搬出する。
【０００６】
したがって、このバッチ処理方式は、表面処理（例えば、電解処理）時間が比較的に長い場合に採用し易く、ワーク形態に対する適応性が広い。しかし、各処理槽間でワーク２００を上昇・下降させなければならないので一段の生産性向上が難しく、またワーク表面の残存液の性状によっては槽上での搬送（Ｖ１，Ｈ１，Ｖ２）中に過剰反応が誘発したり、大気接触による酸化が進行したり、ワーク表面に塵埃が付着してしまう。いずれも品質低下に直結する。複数の処理槽（１０ＰＮ−１，…，１０ＰＮ−４）に分割した場合には、液組成管理の困難性に起因する品質バラツキが生じ易い。また、ワーク昇降のために装置高さが槽高の２倍以上になるので、設備経済が不利でかつ危険な高所作業が余儀なくされる。周囲を汚す機会も多い。
【０００７】
次に、図１１において、水平連続搬送手段（ワーク搬送手段）によって前方側（右側）の処理槽１０ＰＭからＸ方向に搬送されて来たワーク２００は前方側開口部１１ＰＮを通してＮ番目の処理槽１０ＰＮに搬入され、槽内連続移行中に表面処理が施されかつ処理後に後方側開口部（図示省略）を通して後方側（左側）の処理槽１０ＰＯに搬送される。各開口部から漏れた処理液（Ｑｒ）は、回収槽１７ＰＮに回収されかつ再循環使用される。
【０００８】
したがって、ワーク２００が連続形態の材料（例えば、線材や帯状長尺材）である場合に採用し易く、連続搬送・連続処理が行えるから生産性が高い。液組成も均一化できるので、安定品質処理ができる。また、バッチ処理方式の場合の問題点（分割した場合における液組成管理の困難や、塵埃の付着，危険な高所作業の必要性等）も一掃することができる。しかし、開口部１１ＰＮから漏れる液量Ｑｒが多いので、回収槽１７ＰＮや液循環ポンプ等の大型化を招く。処理時間が長い場合（例えば、２０分以上）には、装置全長が長大になってしまう。特に、ワーク形態に対する適応性が非常に狭いという欠点がある。
【０００９】
ここに、ワーク２００が１枚の平板形状物（例えば、プリント回路基板）である場合、各方式の上記長所・欠点を踏まえた上で、いずれか一方の方式が選択されかつ当該表面処理装置が採用されている。いずれの方式（装置）を選択しても、ワーク（平板形状物）形態の特殊性から、ワーク搬送手段側の冶具に平板形状物（２００）の上端部（一辺側）を挟持させた縦吊状態（両面が垂直になる状態）で搬送される。つまり、ワーク搬送手段は、冶具をＸ方向に水平状態（所定の一定高さに保持した状態）で移行させることで、平板形状物（２００）を水平搬送するように形成されている。
【００１０】
すなわち、平板形状物（２００）の表面処理装置では、ワーク搬送手段を用いて前方側（上流側の処理槽）から縦吊状態で給搬送されて来た平板形状物を、処理液が満たされた処理槽（１０ＰＮ）に搬入しつつ処理液中に浸漬する。搬入された平板形状物は、当該処理槽の処理液中で表面処理され、表面処理後に処理槽から搬出して後方側（下流の処理槽）に排搬送される。かくして、複数枚の平板形状物を連続または連続的に表面処理することができる。
【００１１】
ところで、バッチ処理方式の従来表面処理装置（図１０）の場合には、上端部が挟持されかつ下端部が自由状態であるとともに、全体として縦吊状態の平板形状物を処理槽（１０ＰＮ）の処理液中に下降・搬入させることが非常に難しい。つまり、下端部（自由端）を処理液（抵抗）に投入（下降搬送）する際に、ワーク２００に揺れや振動が生じ、さらには変形や折れ曲りが生じてしまうからである。
【００１２】
この点に関して、従来の表面処理装置（特許文献１を参照）では、各処理槽に縦吊姿態維持手段を組込み、縦吊姿態（状態）の平板形状物を下降させつつ処理槽内の液中に浸漬するに先立ち、平板形状物の両側から多数の挟持片を接近させかつその強制押え力を利用して縦吊姿態を強制的かつ機械的に維持する。
【００１３】
しかし、縦吊姿態維持手段は、枠体，可動部材，離隔接近駆動機構，多数の挟持片および駆動源等を含む構造複雑であって、また処理槽（１０ＰＮ）の大きさに比較して大規模であるから、結果として各処理槽を大型にしなければならず、コスト高を招く。装置高さを低くすることも阻害し、円滑運転維持のためのメンテナンスの負担が重い。
【００１４】
他方、連続処理方式の従来表面処理装置（図１１を参照）の場合は、前方側開口部１１ＰＮからの液漏れ量Ｑｒを小さくするには、図１２（Ａ）に示す１対の搬入ガイドローラ８１ＰＬ，８１ＰＲの間隔Ｓ１あるいは図１２（Ｂ）に示す弾性材質からなる１対の搬入ガイドブレード８２ＰＬ，８２ＰＲの間隔Ｓ２を極めて小さくしなければならない。したがって、納得する液漏れ量Ｑｒにまで絞った状態では、処理槽に投入させようとする平板形状物の先端がガイド（８１ＰＬ，８１ＰＲ、８２ＰＬ，８２ＰＲ）に衝突してしまう。
【００１５】
そこで、処理槽内に搬送ガイド手段を設けかつその上流側に液噴流導入案内手段を設け、さらなる上流側（前方側）に縦吊姿態維持手段を設けた表面処理装置が提案（特許文献２を参照）されている。
【００１６】
この液噴流導入案内手段は、搬送中の平板形状物の両面側から液を強制噴流させて当該平板形状物の先端部が搬送ガイドに衝突することを回避させるためのものである。また、縦吊姿態維持手段は、上記した特許文献１に係る縦吊姿態維持手段の場合と同様な構造である。
【００１７】
つまり、表面処理装置装置（特許文献２）は、純粋な連続処理方式では搬入ガイド等への衝突が避けられないものとし、液中への投入はバッチ処理方式の場合と同様に縦吊姿態維持手段を用いて行う、いわば両方式の折衷的構成であると理解される。しかし、各方式の問題点の殆どが解決できないので、限られたワークのみに対して採用されている。
【特許文献１】特開２００２−２８５３９８号公報
【特許文献２】特開２００２−２８５３９６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１８】
ところで、平板形状物（ワーク２００）の厚さが一段と薄くかつ可撓性に富む傾向が強くなる一方に対して、品質向上に関する要求に止まりがない。したがって、一層の品質向上を達成するためには、従来方法（装置）では許されない事項が多い。
【００１９】
連続処理方式の従来装置（図１１）では、ワーク２００を大量の漏れ液流（Ｑｒ）に向いかつ逆らって処理槽（１０ＰＮ）内に搬入（投入）する際にワークと構成部品（搬入ガイド等）との衝突が回避できないものとされているが、この衝突自体がワーク表面に傷を付ける虞が強く品質低下を招くので、許され難くなっている。ワークが一段の極薄となれば、なおさらである。
【００２０】
また、ワーク２００をその下端部（自由端）側から処理液中に突入させるバッチ処理方式の従来装置（図１０）においても、複雑構造でかつ慎重な運用・取扱いを要するばかりか、多数の挟持片との機械的接触によりワーク１００に傷がつく虞が強いので、従来縦吊姿態維持手段を用いた処理槽への搬入（投入）方式は許されない場合が多い。つまり、挟持片で処理面を挟持する構造の従来縦吊姿態維持手段を用いることを不適とするワーク（平板形状物）がますます増加する傾向にある。なお、上記した従来の折衷的装置では、品質保証が難しい。
【００２１】
かくして、従来は、実際生産の必要性から、１枚の平板形状物からなるワークの場合には、幾つかの欠点はあるもののバッチ処理方式を採用せざるを得ないのが実状である。
【００２２】
しかしながら、電子部品や電子機器の一層の高品質が進みかつ小型化および低コスト化が一段と強く要求される現今では、バッチ処理方式の従来装置の妥協的採用も難しくなる傾向にある。つまり、生産能率上、処理槽間ごとの上昇・下降（搬送）を一掃できないかとの指摘はもとより、上昇・水平移動・下降中に生じる現象（例えば、残存液による反応、大気中の塵埃の付着、他の処理槽から発生したミストの付着、他の構造物との接触や外力による平板形状物の変形や傷の発生）さえもが、品質保証上、認められないとの指摘である。
【００２３】
さらに、一段の高品質化等が強まるなか、表面処理装置の立ち遅れが電子機器の国際競争力が危ぶまれるとの指摘がある。すなわち、従来装置（図１０，図１１）に対する段階的改良に域を越えた革新的な装置開発が強く望まれている。
【００２４】
本発明の目的は、高品質処理を確実に行うことができる平板形状物の表面処理方法および表面処理装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２５】
従来装置の幾多の生産実績とその運用の実際に照らして、再検討をするに、いずれの方式（装置）においても当該方式（装置）の基本的技術事項をそのままとした部分的・補完的な変更・改良では、大きなリスク（構造の複雑化および大型化、装置的コスト高、メンテナンスの困難性、短寿命化）が発生するのに対して、品質向上の程度は軽微であることが判明した。
【００２６】
そこで、抜本的で革新的な第３の方式の創生を願っての条件（条件１：平板形状物は縦吊状態で搬送する。条件２：処理槽間での上昇・下降搬送を一掃化する。条件３：装置全長に渡り一定高さでの水平搬送とする。条件４：大気中から処理液中に直接投入しない。条件５：平板形状物と他の構造物との衝突を防止する。条件６：搬入・搬送の際に処理槽から漏れる処理液量を最少化する。条件７：装置高さを最小限化する。）を想定した。この条件は、従来の連続処理方式およびバッチ処理方式の各長所を生かしかつ各短所を除くものとして決めた。
【００２７】
これを目標とした試験・研究を重ねた結果、ワーク（平板形状物）の形態が特殊性である点、つまり平板形状物を収容するためだけに必要とする処理槽（処理液）の容積（収容量）は非常に小さくてよい事実および品質保証上無視できない程度の変形・曲りや傷はワークを大気中から液体中に突入させる際に発生されている事実を強く認識しつつ案出した多数のアイデアの中から、実用性が高いユニークな方法・装置（処理槽の前後に干満槽を配設する。）を想到することができた。
【００２８】
すなわち、本願発明は、前方側から給搬送されて来た平板形状物を干液状態の前置干満槽に導入してから満液状態に馴染ませ、その後に処理液中を水平移動させて処理槽に搬入し、表面処理後に処理液中を水平移動させて満液状態の後置干満槽に導出してから干液状態に馴染ませ、その後に後方側に排搬送するという、従来とは全く異なる発想に係る。
【００２９】
具体的には、請求項１の発明は、平板形状物を干液状態の前置干満槽に導入した後に処理液を供給して前置干満槽を満液状態に切換える第１工程と、満液状態の前置干満槽と処理槽との間を連通状態に切換えてから平板形状物を前置干満槽から処理槽に搬入させる第２工程と、先の平板形状物の搬入後に前置干満槽と処理槽との間を隔離状態に切換えかつ次の平板形状物が導入される以前に処理液を排出させて前置干満槽を干液状態に切換える第３工程と、表面処理の終了後に処理槽と満液状態の後置干満槽との間を連通状態に切換えてから平板形状物を処理槽から後置干満槽に搬出させる第４工程と、搬出後に処理槽と後置干満槽との間を隔離状態に切換えてから後置干満槽の処理液を排出させて後置干満槽を干液状態に切換える第５工程と、先の平板形状物の搬出後でかつ次の平板形状物が処理槽から搬出される以前に処理液を供給して後置干満槽を満液状態に切換える第６工程と、を有する表面処理方法である。
【００３０】
また、請求項２の発明は、処理槽の前方側に前置干満槽を配設しかつ後方側に後置干満槽を配設し、前置干満槽および後置干満槽のそれぞれを干液状態および満液状態のいずれかに選択的に切換え可能に形成するとともに、前置干満槽と処理槽との間および処理槽と後置干満槽との間のそれぞれを連通状態および隔離状態のいずれかに選択的に切換可能に形成し、平板形状物を干液状態の前置干満槽に導入してから前置干満槽を満液状態に切換え可能で、満液状態の前置干満槽と処理槽との間を連通状態に切換えてから平板形状物を前置干満槽から処理槽に搬入可能で、平板形状物の搬入後に処理槽と前置干満槽との間を隔離状態に切換えてから表面処理を実行可能に形成し、表面処理の終了後に処理槽と満液状態の後置干満槽との間を連通状態に切換えてから平板形状物を処理槽から後置干満槽に搬出可能で、搬出後に処理槽と後置干満槽との間を隔離状態に切換えてから後置干満槽を干液状態に切換え可能で、次の平板形状物が処理槽から搬出される以前に干液状態の後置干満槽を満液状態に切換え可能に形成し、前方側から所定高さの水平状態でかつ縦吊状態で給搬送されて来た平板形状物を前置干満槽および後置干満槽を介することで処理槽を所定高さの水平状態のまま通過させて後方側に排搬送可能に形成された、表面処理装置である。
【００３１】
また、請求項３の発明は、導入側ゲートで開閉可能な導入通路部を有する前置干満槽を処理槽の前方側に配設しかつ前置干満槽と処理槽との間に搬入側ゲートで開閉可能な搬入通路部を設けるとともに導出側ゲートで開閉可能な導出通路部を有する後置干満槽を処理槽の前方側に配設しかつ処理槽と後置干満槽との間に搬出側ゲートで開閉可能な搬出通路部を設け、前置干満槽に関する導入側ゲート開閉手段と前置側液供給手段と前置側液排出手段と、処理槽に関する搬入側ゲート開閉手段と搬出側ゲート開閉手段と、後置干満槽に関する後置側液供給手段と後置側液排出手段と導出側ゲート開閉手段とを設け、さらにワーク搬送手段，導入側ゲート開閉手段，前置側液供給手段，前置側液排出手段，搬入側ゲート開閉手段，搬出側ゲート開閉手段，後置側液供給手段，後置側液排出手段および導出側ゲート開閉手段を所定の手順に従って駆動制御する駆動制御手段を設け、平板形状物を開放状態の導入通路部を通して干液状態の前置干満槽に導入しかつその後に満液状態の前置干満槽から開放状態の搬入通路部を通して処理槽に搬入するとともに表面処理後の平板形状物を開放状態の搬出通路部を通して処理槽から満液状態の後置干満槽に搬出しかつその後に干液状態の後置干満槽から開放状態の導出通路部を通して導出しつつ後方側に排搬送できるようにワーク搬送手段，導入側ゲート開閉手段，前置側液供給手段，前置側液排出手段等々所定の手順に従って駆動制御可能に形成された表面処理装置である。
【００３２】
また、請求項４の発明は、各ゲートが当該槽内壁面に沿ってスライド可能で、ゲート開閉手段が当該槽外から付与される上下方向力を利用して当該ゲートを横方向にスライドさせて当該通路部を開閉可能に形成されている。さらに、請求項５の発明は、各液供給手段が強制加圧供給構造とされ、各液排出手段が当該干満槽の下方側排出口を強制開放させる強制開放自然排出構造とされている。さらにまた、請求項６の発明は、ワーク搬送手段が、前置干満槽への導入用プッシャと，処理槽への搬入用および処理槽から後置干満槽への搬出用を兼ねるプッシャと，後置干満槽から後方側への導出用プッシャとを含み、導入用プッシャと導出用プッシャとが同期運転可能に形成されている。
【発明の効果】
【００３３】
請求項１の発明によれば、高品質処理を確実に行える。請求項２の発明によれば、請求項１の発明の場合と同様に高品質処理を確実に行えるとともに、具現化が容易である。また、請求項３の発明によれば、請求項２の発明の場合と同様に高品質処理を確実に行えるとともに構造簡単でかつ取扱いが容易である。
【００３４】
さらに、請求項４の発明によれば、請求項３の発明の場合と同様な効果を奏することができることに加え、構造が一段と簡単である。請求項５の発明によれば、請求項３および請求項４の各発明の場合と同様な効果を奏することができることに加え、平板形状物への悪影響を一掃化しつつ液供給することができかつ急速な液排出を行える。さらにまた、請求項６の発明によれば、請求項３〜５の各発明の場合と同様な効果を奏することができることに加え、搬送運転と生産サイクルとの調整が容易となり、ワーク搬送手段の構造簡素化およびコスト低減化ができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３５】
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。
【００３６】
（第１の実施の形態）
本表面処理方法を実施するために最良の表面処理装置は、図１〜図７に示す如く、処理槽（例えば、１０Ｎ）の前方側（図１で左側）に前置干満槽１０ＮＦを配設するとともに図２，図３の導入側ゲート開閉手段２０ＮＦと前置側液供給手段３１ＮＦと前置側液排出手段４１ＮＦとを設け、処理槽１０Ｎの後方側（図１で右側）に後置干満槽１０ＮＢを配設するとともに図２，図３の後置側液供給手段３１ＮＢと後置側液排出手段４１ＮＢと導出側ゲート開閉手段２０ＮＢとを設け、処理槽１０Ｎに関する搬入側ゲート開閉手段２０ＮＩと搬出側ゲート開閉手段２０ＮＯとを設け、これら各手段を所定の手順に従って駆動制御する図５の駆動制御手段（１００）を設け、平板形状物（ワーク２００）を開放状態の図２に示す導入通路部１１ＮＦを通して干液状態の前置干満槽１０ＮＦに導入し、その後に満液状態とされた前置干満槽１０ＮＦから開放状態の搬入通路部１１ＮＩを通して処理槽１０Ｎに搬入し、次いで表面処理後の平板形状物を開放状態の搬出通路部１１ＮＯを通して処理槽１０Ｎから満液状態の後置干満槽１０ＮＢに搬出し、しかる後に干液状態とされた後置干満槽１０ＮＢから開放状態の後置側導出通路部１１ＮＢを通して導出しつつ平板形状物を後方側（図１で右側）に排搬送可能に形成されている。
【００３７】
すなわち、表面処理装置は、図１，図２に示す如く、導入側ゲート１２ＮＦで開閉可能な導入通路部１１ＮＦを有する前置干満槽１０ＮＦを処理槽１０Ｎの前方側に配設しかつ導出側ゲート１２ＮＢで開閉可能な導出通路部１１ＮＢを有する後置干満槽１０ＮＢをその後方側に配設したことを特徴とする。
【００３８】
また、前置干満槽１０ＮＦと処理槽１０Ｎとの間に搬入側ゲート１２ＮＩで開閉可能な搬入通路部１１ＮＩが設けられ、処理槽１０Ｎと後置干満槽１０ＮＢとの間には搬出側ゲート１２ＮＯで開閉可能な搬出通路部１１ＮＯが設けられている。さらに、前置干満槽１０ＮＦおよび後置干満槽１０ＮＢのそれぞれを干液状態および満液状態のいずれかに選択的に切換え可能でかつ前置干満槽１０ＮＦと処理槽１０Ｎとの間および処理槽１０Ｎと後置干満槽１０ＮＢとの間のそれぞれを連通状態および隔離状態のいずれかに選択的に切換可能に形成されている。
【００３９】
そして、前方側から給搬送されて来た平板形状物（２００）を干液状態の前置干満槽１０ＮＦに導入可能でかつ導入後に処理液を供給して前置干満槽を満液状態に切換え可能である。つまり、各平板形状物に第１工程を実施することができる。また、満液状態の前置干満槽１０ＮＦと処理槽１０Ｎとの間を連通状態に切換え可能でかつ切換え後に平板形状物（２００）を前置干満槽から処理槽に液中搬入可能に形成され、第２工程を実施可能に形成されている。
【００４０】
また、先の平板形状物の処理槽１０Ｎへの搬入後に処理槽と前置干満槽との間を隔離状態に切換え可能でかつ切換え後に搬入された平板形状物に表面処理を実行可能に形成されている。したがって、第３工程の一部を実施することができる。処理槽との隔離状態への切換後で次の平板形状物が前方側から前置干満槽１０ＮＦ内に導入される以前に、当該前置干満槽の処理液を外部（１７ＮＦ）に排出させて前置干満槽を干液状態に切換え可能に形成されている。第３工程の残り部分を実施することができる。
【００４１】
ここで、処理槽１０Ｎに搬入されたワーク２００に表面処理（化成処理）を施す。この表面処理の終了後に、処理槽１０Ｎと満液状態の後置干満槽１０ＮＢとの間を連通状態に切換え可能かつ切換え後に平板形状物（２００）を処理槽から後置干満槽に搬出可能に形成され、第４工程を実施することができる。
【００４２】
さらに、平板形状物の後置干満槽１０ＮＢへの搬出後に処理槽１０Ｎと後置干満槽１０ＮＢとの間を隔離状態に切換え可能でかつ切換え後に後置干満槽１０ＮＢ内の処理液を外部（１７ＮＢ）に排出させて後置干満槽を干液状態に切換え可能として第５工程を実施可能に形成するとともに、先の平板形状物の後方側への導出後でかつ処理槽１０Ｎから後置干満槽１０ＮＢ内に次の平板形状物が搬出されてくる以前に処理液を供給して後置干満槽を満液状態に切換える第６工程を実施可能に形成されている。
【００４３】
かくして、前方側から所定高さの水平状態でかつ縦吊状態で給搬送されて来た平板形状物（２００）を前置干満槽１０ＮＦおよび後置干満槽１０ＮＢを介することで処理槽１０Ｎ内を所定高さの水平状態のまま通過させて後方側に排搬送可能である。
【００４４】
確認的に、本表面処理装置（方法）の基本的構成・機能は、従来例（図１０、図１１）の場合と同様に、ワーク搬送手段（７０Ｎ等）を用いて前方側から縦吊状態で給搬送されて来た平板形状物（２００）を処理液が満たされた処理槽１０Ｎに搬入し、搬入された平板形状物に処理液中で表面処理可能かつ表面処理後の平板形状物を処理槽から搬出して後方側に排搬送し、複数枚の平板形状物を連続的に表面処理するものである。
【００４５】
これを前提としつつ、本表面処理装置を構築する際の基本的技術事項を説明する。表面処理対象であるワーク２００は、平板形状物である。この平板形状物は、従来各方式（装置）の場合のように処理液中に直接搬入（投入）すると、その先端に変形や折れ曲りが生じる虞があるプリント回路基板として、以下を説明する。搬送に関しては、薄くかつ可撓性に富んだプリント回路基板（ワーク２００）の上端部を、図３に示す複数の冶具９８を用いて挟持した縦吊状態（姿態）として、全処理槽１０に搬入・搬出する。
【００４６】
さて搬送（Ｘ）方向で処理槽（例えば、１０Ｎ）の前後に、新規で革新的な図１に示す前置干満槽１０ＮＦおよび後置干満槽１０ＮＢを採用する際に考慮される搬送時間については、次のように了解される。
【００４７】
従来（バッチ処理方式）の装置では、図１０に示す如く、先の処理槽１０ＰＭから次の処理槽１０ＰＮに搬送する場合、ワーク２００をワーク高さ寸法以上の寸法だけ槽上に引上げる上昇（Ｖ１）と、上昇後の水平移動（Ｈ１）と、処理液に浸漬させるまでの下降（Ｖ２）とが必要である。上昇（Ｖ１）はワーク２００の揺れや振動が発生しないように制御するので水平搬送（Ｈ１）の場合よりも低速となる。さらに、下降（Ｖ２）はワーク２００を自由端（先端…下端）から処理液中に投入しなければならないので、ワークの変形や湾曲を防止するためには上昇（Ｖ１）の場合よりも一段と低速化せざるを得ない。
【００４８】
ここで、大気中での水平搬送（Ｈ１）速度と前置干満槽１０ＮＦへの導入用水平搬送速度とが同一速度でかつ前置干満槽１０ＮＦから処理槽１０Ｎへの液中での搬入用水平搬送速度が該導入用水平搬送速度とほぼ同じであるとともに送りピッチ（Ｐ）が同一であると仮定すれば、水平搬送（Ｈ１）時間と導入用水平搬送時間とは同じであり、搬入用水平搬送時間は上昇（Ｖ１）時間と下降（Ｖ２）時間との和より大幅に短い。例えば、１／２以下である。すなわち、各処理槽の前後に当該各前後干満槽を設けても、全体的搬送時間は短縮することができるから、従来のバッチ処理方式（装置）の場合に比較して生産性を大幅に向上できる。また、無用な反応や酸化進行も防止できる。
【００４９】
次に、本表面処理装置においても大気中での水平搬送（導入用搬送および導出用搬送）が残るが、これら搬送はいわば空の槽（１０ＮＦおよび１０ＮＢ）内で行われる。したがって、槽上の大気中搬送［上昇（Ｖ１），水平（Ｈ１），下降（Ｖ２）］の場合に比較すれば、ワーク２００に付着する塵埃やミストの付着量は非常に少ない。したがって、この点からも、一段の品質向上を担保できる。
【００５０】
さらに、干液状態の前・後置干満槽（１０ＮＦおよび１０ＮＢ）で行われることに着目すれば、図３に示すカバー８５Ｌ，８５Ｒで槽の上部開放部分を閉鎖可能に形成することができるから、ワーク２００への付着量を極減できる。つまり、塵埃等の付着による品質低下問題を、ほぼ完全に払拭することができる。
【００５１】
左右のカバー８５Ｌ，８５Ｒは、観音開き構造とし、槽中心（搬送経路）に対応する位置には保持部材９５のＸ方向の通過スペースを確保し、また図３で右側のカバー８５Ｒには各上下リンクバー（２３，４８等）との干渉を回避可能に図３で左右方向に延びるスリットを設けておくのが好ましい。
【００５２】
なお，詳細後記の搬送構造体が、ワーク搬送経路（槽中心）とレール９０とを図３で左右方向に位置ずれさせた位置関係を保持可能に形成されているので、槽外側に位置する摺動部（レール９０，キャリア９３等々）から発生する微細粒子が、処理槽１０Ｎに混入する虞がない。したがって、カバー設置と相俟って飛躍的な品質向上を期待できる。
【００５３】
さて、この実施の形態では、一番目の処理槽（１０Ａ…図示省略）から最終番目の処理槽（１０Ｘ…図示省略）までの多数の処理槽１０を図２の搬送（Ｘ）方向の前方側から後方側に一直線上に列配設した構造であるが、説明便宜と図示簡略の観点から、図２および図７ではＮ番目の処理槽（化成処理槽）１０ＮおよびＯ（＝Ｎ＋１）番目の処理槽（水洗処理槽）１０Ｏに関する部分を表示し、他の処理槽に関する部分ついては図示省略した。また、図１ではＮ番目の処理槽（化成処理槽）１０Ｎに関する部分のみ表示した。
【００５４】
なお、図３は、図１において前置干満槽１０ＮＦ内の右側（後方側）から左側（前方側）を見た状態を図示してある。また、図３の前置干満槽１０ＮＦに付記された符号（１１ＮＦ，１２ＮＦ，２０ＮＦ，３１ＮＦ，４１ＮＦ等）を後置干満槽１０ＮＢに対応する符号（１１ＮＢ，１２ＮＢ，２０ＮＢ，３１ＮＢ，４１ＮＢ等・・・図３中にカッコ書きした。）に読み替えてみれば、前置干満槽１０ＮＦと同一構造である後置干満槽１０ＮＢを理解することができる。
【００５５】
また、図３に示す前置側液排出手段４１ＮＦおよび排出口１４ＮＦＨを除けば、処理槽１０Ｎが前置干満槽１０ＮＦの場合と同様な構造であることがわかる。但し、図２に示すようにＸ方向の槽長は相異する。したがって、後置干満槽１０ＮＢおよび処理槽１０Ｎに関する構造部分については、図３に対応する詳細図は記載省略する。
【００５６】
そこで、はじめに、前置干満槽１０ＮＦおよびこれに関する各手段（１１ＮＦ，１２ＮＦ，２０ＮＦ，３１ＮＦ，４１ＮＦ等）について説明する。
【００５７】
図３において、前置干満槽１０ＮＦは、有底かつ上部開放の角筒型タンク構造でかつ耐薬品性材料から形成され、全体的には架台構造１に支持されている。この前置干満槽１０ＮＦと処理槽１０Ｎと後置干満槽１０ＮＢとは、図２に示すように一体的に形成されている。つまり、体積が非常に小さいワーク２００の特殊性に着目し、これを収容するための干満槽１０ＮＦ，１０ＮＢの容積を非常に小さきくすることで、処理液の供給による満液状態と排出による干液状態への切換えという新規技術の導入を可能としたわけである。
【００５８】
なお、図２に示した後方側の前置干満槽１０ＯＦ，処理槽１０Ｏおよび後置干満槽１０ＯＢの場合も、同様に一体的に形成されている。
【００５９】
前置干満槽１０ＮＦの両側には、オーバーフロー槽１５ＮＦが形成されている。このオーバーフロー槽１５ＮＦは、処理液を供給して前置干満槽１０ＮＦの処理液面Ｌｈを一定（処理槽の処理液面と同じ。）に保った満液状態を確立する際に、槽璧上部から溢出する余剰処理液Ｑｏを回収する役目を持つ。オーバーフロー槽１５ＮＦとこれと同様に支持された下方の液貯槽１７ＮＦとは、貫通口１５ＮＦＨを介して連通されている。貫通口１５ＮＦＨを通して液貯槽１７ＮＦに戻る液量をＱｄで表わす。
【００６０】
なお、処理層１０Ｎおよび後置干満槽１０ＮＢの両側にも同様なオーバーフロー槽１５Ｎ，１５ＮＦが設けられ、これら（前置側１５ＮＦおよび後置側１５ＮＢ）は図２，図３に示すようにオーバーフロー１５Ｎと一体的に形成されている。同様に、液貯槽（前置側１７ＮＦおよび後置側１７ＮＢ）も液貯槽１７Ｎと一体的に形成されている。したがって、構造が簡素化されるので、装置コストを低減できるとともに、処理液の組成管理が容易で、取扱いも簡単である。
【００６１】
前置干満槽１０ＮＦの前方側壁面１０ＮＦＦには、図３に点線で示すスリット形状の前置側導入通路部１１ＮＦが設けられ、この前置側導入通路部１１ＮＦは槽内側に装着された図１の導入側ゲート１２ＮＦによって開閉することができる。したがって、前置側導入通路部１１ＮＦの幅（寸法）を、通過するワーク２００と接触しない程度でかつ適宜で比較的に大きな値に選択することができる。
【００６２】
少なくとも、従来連続処理方式の装置（図１１）の場合（隙間Ｓ１，Ｓ２）に比較して遥かに大きくすることができる。この意味で、処理槽１０Ｎへの搬入時における構造物（１０ＮＦＦ等）との衝突を回避することができるので、ワーク２００に傷を付ける心配がなくなる。こらは、処理品質の向上に直結する。
【００６３】
導入側ゲート１２ＮＦは、図１に示すように、前置干満槽１０ＮＦの内側に設けられかつ図３の槽内壁面１０ＮＦＦに沿ってスライド（往復摺動）可能に形成されている。導入側ゲート１２ＮＦと導入通路部１１ＮＦとの間に、例えば高性能で高級のシール構造を付設する等の手立てを講ずれば、閉鎖状態において導入側ゲート１２ＮＦと導入通路部１１ＮＦとの隙間から槽外に漏れだす液量Ｑｒを極少または絶無化すことも可能である。しかし、大掛りなシール構造の採用（付設）は、槽内の構造簡素化およびメンテナンスフリー化に逆行しかねずかつ大幅な装置コスト高を招くので、現実的でない。但し、この発明を実施するに際して、これを否定するものではない。
【００６４】
この実施の形態では、満液状態における液差圧（ゲート内外の液圧と大気圧との圧力差）の有効利用を期するために、上記のように導入側ゲート１２ＮＦを槽（１０ＮＦ）内に設けているわけである。すなわち、導入側ゲート１２ＮＦを槽内壁面１０ＮＦＦに液差圧で押付けることにより、シール性を高める構造としている。構造簡単で、低コストで具現化できる。しかし、完全シール構造でないから、槽壁面１０ＮＦＦと導入側ゲート１２ＮＦとの隙間から少量の処理液Ｑｒが外部に漏れ出す。そこで、漏れ出した処理液Ｑｒは、図１に示す漏れ回収部１６ＮＦに回収しかつ連通口１６ＮＦＨを通して液貯槽１７ＮＦ（１７Ｎ）に戻し、再循環利用するものとされている。
【００６５】
この導入側ゲート１２ＮＦを開閉するための導入側ゲート開閉手段２０ＮＦは、図３に示すように、シリンダ装置２５と，支点２１を中心に揺動（回動）可能な傾斜リンクバー２２と，この傾斜リンクバー２２の先端側に回転可能に連結されかつその長手方向に複数の係合ピン２４が固着された上下リンクバー２３とから形成されている。
【００６６】
図３、図４において、各係合ピン２４は、導入側ゲート１２ＮＦに設けられた各傾斜長穴１２Ｓに嵌挿（係合）され、傾斜長穴１２Ｓ内を摺動できる。この係合ピン２４と傾斜長穴１２Ｓとの相対移動により、導入側ゲート１２ＮＦの横移動力（上下方向力も生じる。）を発生させることができる。
【００６７】
シリンダ装置２５の停止時（ピストン没入時）は、傾斜リンクバー２２が図３に２点鎖線で示す如く上下リンクバー２３を上方へ引上げた状態であるから、導入側ゲート１２ＮＦを図４に２点鎖線で示す如く右方向に移動させた状態つまり導入通路部１１ＮＦを開放させた状態に保持できる。
【００６８】
ここで、シリンダ装置２５を作動させると、ピストンが突出し傾斜リンクバー２２を図３に実線で示す左下り状態に傾斜させ、上下リンクバー２３を下方に押し下げる（押し下げ寸法は、図４に示す“Ｈ”である。）。すると、係合ピン２４が図４の傾斜長穴１２Ｓ内を左上端から右下端に相対移動する。したがって、導入側ゲート１２ＮＦを図４に実線で示す如く左方向に移動（移動量はＷである。）させた状態つまり導入通路部１１ＮＦを閉鎖させることができる。設定角度θ（傾斜長穴の傾斜）を選択設定することにより、Ｗ＝２Ｈにして２倍増幅機能を持たせてある。
【００６９】
すなわち、導入側ゲート開閉手段２０ＮＦは、前置干満槽１０ＮＦの外側から付与される上下方向力を利用して導入側ゲート１２ＮＦを横方向（図３で左右方向）にスライドさせて導入通路部１１ＮＦを開閉可能に形成されている。かかる構造とすれば、構造簡単かつ安価で具現化が容易であるばかりか、前置干満槽１０ＮＦ内に占める占有エリアを小さくでき、結果として前置干満槽１０ＮＦの小型化に有効でかつ寄与するところ大であり、また小ストローク（Ｈ）作動により導入側ゲート１２ＮＦによる導入通路部１１ＮＦの急速開閉ができる。
【００７０】
ここに、図３に示す導入側ゲート開閉手段２０ＮＦ（および導出側ゲート開閉手段２０ＮＢ）は、当該干満槽１０ＮＦ（１０ＮＢ）が干液状態（図６のＳＴ１８）に保持されている場合に開閉（ＳＴ２０、ＳＴ２２）される。つまり、ゲート１２ＮＦ（１２ＮＢ）の内外面に液差圧が加わらない状態で開閉することになるので、導入側ゲート開閉手段２０ＮＦ（および導出側ゲート開閉手段２０ＮＢ）の能力を小さくすることができる。シリンダ装置２５は小容量のものでよく、構成要素（２２等）の剛性も小さくできるので、有利である。手動調整の場合も軽力ですむ。
【００７１】
因みに、処理槽１０Ｎ内に設けるゲート１２ＮＩ，１２ＮＯは、干満槽１０ＮＦ，１０ＮＢが満液状態（図６のＳＴ１４）に保持されている場合に開閉（ＳＴ１５、ＳＴ１７）することになる。この場合も、ゲート１２ＮＩ，２ＮＯに液差圧が加わらない状態で開閉することになるので、搬入・搬出側ゲート開閉手段２０ＮＩ，２０ＮＢの能力（容量）も、導入側ゲート開閉手段２０ＮＦ，２０ＮＢの場合と同様に小さくてもよいわけである。
【００７２】
次に、図１，図３に示す前置側液干満切換手段３０ＮＦは、図３の前置干満槽１０ＮＦを処理液で満たした満液状態（最高液レベルＬｈ）と空である干液状態（最低液レベルＬｌ）とに選択的に切換えるための手段であり、この実施の形態では、図３に示すように前置側液供給手段３１ＮＦと前置側液排出手段４１ＮＦとから形成されている。槽の名が干満槽と呼称される所以である。
【００７３】
前置側液供給手段３１ＮＦは、図１に示す吸込管３２，供給ポンプ３３および供給管３５を含み、供給ポンプ３３により液貯槽１７ＮＦ（１７Ｎ）内の処理液を強制的に加圧して図３の左側から前置干満槽１０ＮＦに供給する強制加圧供給構造とされている。
【００７４】
前置干満槽１０ＮＦの底部側には、図３に示す如く、整流板１３ＮＦが設けられている。この整流板１３ＮＦには、左右に対向振り分けされた整流孔群１３ＮＦＨが設けられている。各整流孔群１３ＮＦＨは、多数の整流孔からなり、導入されたワーク２００の各面側に上昇液流Ｆｐを生成可能である。この上昇液流Ｆｐは、層状（平行）流であり、縦吊状態のワーク２００に大きな湾曲や変形はもとより、無用な揺れや振動も与えない。傷を付ける虞も全くない。
【００７５】
すなわち、バッチ処理方式の従来装置（図１０）の場合には、下端部を自由端とみなすことができる縦吊状態のワーク２００を、その上端部を固定端とする状態で処理槽１０Ｎ内に下降させつつ、自由端の方から処理液中に搬入（下降・投入・浸漬）せざるを得なかった。この際の処理液は、ワーク２００に対する抵抗体乃至外力付与手段として働く。かくして、ワーク２００に湾曲や変形を生じさせないためには、大掛かりな縦吊姿態維持手段等を設ける必要があったわけである。
【００７６】
しかし、この実施の形態の場合には、前置干満槽１０ＮＦに導入されかつ静止状態に保持された縦吊状態のワーク２００に対して、その下方側から処理液を供給しつつ、液面Ｌを最低レベルＬｌから最高レベルＬｈまで徐々に上げて行く。はじめに、ワーク２００の下端部（自由端）が、供給された処理液により固定化されたことになる。また、その後の上昇液流Ｆｐが平行流であるから、ワーク２００の各面に直交する方向の外力が生じることがない。機械的な接触もない。
【００７７】
かくして、縦吊状態のワーク２００に湾曲や変形が生じることがなく、揺れや振動も軽微に抑制することができるから、ワーク２００を処理液中に投入する際の従来問題点（表面処理面に傷が付く、破損する。）を一掃することができる。すなわち、厚みがより薄く、一段と可撓性に富みあるいは寸法がより大きいワーク（プリント回路基板等）２００でも確実かつ安定して処理液中に浸漬することができる。つまり、ワーク２００の形態や性質（性状）等に対する適応性が極めて広い。
【００７８】
供給ポンプ３３の加圧により図３に示す前置干満槽１０ＮＦ内の液面は、最低限Ｌｌから徐々に上昇し、壁面上部からオーバーフロー槽１５ＮＦ（１５Ｎ）に溢出する。したがって、液面は最高限Ｌｈに一定に維持される。この液面（Ｌｈ）は処理槽１０Ｎ内の処理液面と同一である。したがって、満液状態で連通された前置干満槽１０ＮＦから処理槽１０Ｎへのワーク搬入をスムースに行える。
【００７９】
つまり、図１１に示すように、ワークを開口部１１ＰＮから上流側（前方側）に向けて勢い良く溢出される処理液Ｑｒに向かってその反対方向（搬送方向）から、しかも大気中から突入させざるを得なかった連続処理方式の従来装置の場合に比較すれば、ワーク搬入の容易性および安定性は明白である。ワークの自由端を大気中の上方から下方の静止液中に直接投入するバッチ処理方式の従来装置（図１０）の場合に比較しても同様である。
【００８０】
次に、前置側液排出手段４１ＮＦは、図３に示す排出用ゲート４３と排出用ゲート開閉手段４５とを含み、前置干満槽１０ＮＦの下方側で右側の壁面に設けた排出口１４ＮＦＨを強制開放して処理液を液貯槽１７ＮＦに急速流出させる強制開放自然排出構造とされている。
【００８１】
排出用ゲート開閉手段４５は、図３の右上側に示すシリンダ装置２５と同様なシリンダ装置４９，支点２１と同様な支点４６を中心に揺動（回動）可能な傾斜リンクバー２２と同様な傾斜リンクバー（４７…図示省略）と，この傾斜リンクバー（４７）の先端側に回転可能に連結された上下リンクバー４８とから形成されている。この上下リンクバー４８の先端（下端）に排出用ゲート４３が取り付けられている。排出用ゲート４３は、前置干満槽１０ＮＦの排出口１４ＮＦＨを設けた内壁面に上下動可能に案内されている。
【００８２】
この排出口１４ＮＦＨは、前置干満槽１０ＮＦ内の処理液を液貯槽１７ＮＦ（１７Ｎ）に急速流出させるために必要十分な開口面積を有する。例えば１秒以内で満液状態から干液状態に切換えることができる大きさに選択される。したがって、排出口１４ＮＦＨの取付け位置は、前置干満槽１０ＮＦの長手方向（図１で左右方向）に延びる側壁内面でかつ槽底部とすべきである。もっとも、ワーク２００の形態上、槽幅方向（図３で左右方向）は絶対長が短く、さらに導入側ゲート１２ＮＦおよび導入通路部１１ＮＦとの干渉を回避しなければならないので、十分な開口面積を確保することができない場合が多いであろう。
【００８３】
なお、前置干満槽１０ＮＦへの導入時間や導出時間として許される余裕時間を長くする観点からも、速やかな液供給と比較的に急速な液排出とを期することが重要である。しかし、大きな装置的犠牲を強いるような過度な高速化を求めるものではない。つまり、任意処理槽における最短の表面処理時間に基づくサイクルタイムが３０秒であると仮定すれば、例えば前置干満槽１０ＮＦの場合、先の搬入後から次の導入前までの時間（３０秒）内に液排出および液供給を終了しておけばよいからである。
【００８４】
ここに、後置干満槽１０ＮＢに関しては、以上の前置干満槽１０ＮＦに関する場合と同様である。すなわち、後置干満槽自体の構造並びに後置干満槽１０ＮＢに関する後置側導出通路部１１ＮＢ，導出側ゲート開閉手段２０ＮＢおよび後置側液干満切換手段３０ＮＢ（後置側液供給手段３１ＮＢおよび後置側液排出手段４１ＮＢ）等は、前置干満槽自体の構造並びに前置干満槽１０ＮＦに関する前置側導出通路部１１ＮＦ，導入出側ゲート開閉手段２０ＮＦおよび前置側液干満切換手段３０ＮＦ（前置側液供給手段３１ＮＦおよび前置側液排出手段４１ＮＦ）等と同じである。これらの後置側各手段の符号は、図３中にカッコ書きした。
【００８５】
同様に、処理槽１０Ｎに関して言えば、処理槽自体の構造並びに処理槽１０Ｎに関する搬入側ゲート開閉手段２０ＮＩ，搬出側ゲート開閉手段２０ＮＯ等は、前置干満槽自体の構造並びに前置干満槽１０ＮＦに関する導入側ゲート開閉手段２０ＮＦ等と同じである。ただし、後置側各手段の符号（２０ＮＩ，２０ＮＯ）は、図３では図示していないが、図２中にカッコ書きしてある。
【００８６】
なお、処理槽１０Ｎに関しては、従来例の場合と同様な図１に示す液循環手段３１Ｎが設けられているが、前置干満槽１０ＮＦで必要な前置側液干満切換手段３０ＮＦ（前置側液供給手段３１ＮＦおよび前置側液排出手段４１ＮＦ）に対応する手段を設ける必要はない。
【００８７】
この液循環手段３１Ｎは、図１に示す吸込管３２，循環供給ポンプ３３Ｒ，フィルタ（図示省略）および供給管３５を含み、循環供給ポンプ３３により液貯槽１７Ｎ内の処理液を強制加圧して処理槽１０Ｎに供給して循環使用する。また、処理層１０Ｎ内に装着された整流孔１３ＮＨ，オーバーフロー槽１５Ｎ等は、前置干満槽１０ＮＦに関する整流孔１３ＮＦＨ，オーバーフロー槽１５ＮＦ等と同じで、これらの符号（１３ＮＨ，１５Ｎ）は、カッコ書きしてある。
【００８８】
次に、ワーク搬送手段７０は、前方側（第１番目処理槽）から後方側（最終番目処理槽）までワーク２００を水平搬送する手段である。処理槽１０Ｎに関するワーク搬送手段は、第１工程から第６工程を実施するために必要な３系統である。
【００８９】
３系統（但し、後記する兼用構造とすることで、最終的かつ具体的には２系統とした。）とする根拠は、搬送要件１（処理槽１０Ｎにおける処理時間および処理槽長さ寸法の関係から、処理槽１０Ｎ内でのピッチ送りが必要である。）および搬送要件２（各干満槽内でのピッチ送りは必要ないが、生産性の向上を期した全体的な搬送円滑化のために導入用と導出用とは同期運転をさせたい。）を満足させるためである。
【００９０】
すなわち、処理槽１０Ｎに関するワーク搬送手段は、図７（Ａ）〜（Ｅ）に示す如く、処理槽１０Ｎでワーク２００を１ピッチ間歇送りさせるための搬入用と搬出用とを兼ねる同図（Ｂ）に示すプッシャ７０Ｎと、前方側（先の処理槽１０Ｍ）から来たワーク２００を前置干満槽１０ＮＦに導入するための導入用プッシャ７０ＮＦと、後置干満槽１０ＮＢからワークを導出させるための導出用プッシャ７０ＮＢとから形成されている。プッシャ７０Ｎ（、７０ＮＦおよび７０ＮＢ）は、図７（Ｂ）に示す往復移動部材７１に複数のアンチバックトグ７２を装着させた構造で、各アンチバックトグ７２を同時に１ピッチ分だけ搬送（送り…ＦＲ，戻し…ＢＫ）することができる。
【００９１】
なお、他の各処理槽に関する各ワーク搬送手段も、処理槽１０Ｎに関するワーク搬送手段（プッシャ７０Ｎ，プッシャ７０ＮＦ，プッシャ７０ＮＢ）の場合と同様な構造（但し、槽内ピッチ送りを必要としない処理槽では、７０Ｎ相当がない。）とされる。
【００９２】
すなわち、ワーク搬送手段７０（７０Ｎ，７０ＮＦ，７０ＮＢ）は、前方側から前置干満槽１０ＮＦへの導入用プッシャ７０ＮＦと，前置干満槽から処理槽１０Ｎへの搬入用および処理槽から後置干満槽１０ＮＢへの搬出用を兼用するプッシャ７０Ｎと，後置干満槽から後方側への導出用プッシャ７０ＮＢとを含み、導入用プッシャ７０ＮＦと導出用プッシャ７０ＮＢとが同期運転可能に形成されている。
【００９３】
つまり、導入用プッシャ７０ＮＦと導出用プッシャ７０ＮＢとの同期運転をさせることによりサイクルタイムの短縮化ができかつ導入・導出用（７０ＮＦ，７０ＮＢ）と搬入・搬出用（７０Ｎ）との時間差の設定変更等によって搬送運転と生産サイクルとの調整を容易に行え、ワーク搬送手段（プッシャ全体）の構造簡素化・一体化およびコスト低減化ができる。駆動制御も簡素化できる。
【００９４】
すなわち、搬送の高速化、生産能率の向上、低コスト化、駆動制御の容易化、装置小型化等を踏まえた具体的で実用的な設備構築上の観点から、この実施の形態では、機能目的が同一乃至同種のプッシャ（７０ＮＦ，７０ＮＢ）を一体的に構成しかつ同期運転（同一タイミング）で送り動作可能に構築してある。
【００９５】
これと関連しかつ図７（Ｂ）において、先の処理槽（１０Ｎ）に関する導出用プッシャ（７０ＮＢ）と次の処理槽（１０Ｏ）に関する導入用プッシャ（７０ＯＦ）とは、同一のプッシャ（７０ＮＢ＝７０ＯＦ）として兼用構築することができる。また、この実施の形態では、全ての処理槽を対象として、先の処理槽（例えば、１０Ｍ、１０Ｎ）に関する導出用プッシャ（７０ＭＢ、７０ＮＢ）と次の処理槽（１０Ｎ、１０Ｏ）に関する導入用プッシャ（７０ＮＦ、７０ＯＦ）とについても、兼用可能に構築しかつ同期運転可能に形成してある。
【００９６】
さらに、各処理槽（例えば、１０Ｍ、１０Ｎ、１０Ｏ、１０Ｐ）の当該各プッシャ（７０Ｍ、７０Ｎ、７０Ｏ、７０Ｐ）を同期運転可能な一体的構造としてある。かくして、最終的には、導入用と導出用とを兼ねるプッシャと、搬入用と搬出用とを兼用するプッシャ７０Ｎとの２系統とされている。なお、図７（Ｂ）では、左側の処理槽１０Ｍと右側の処理槽１０Ｐとは図示を省略している。
【００９７】
なお、ワーク搬送手段は、プッシャ構造に限定されるものではない。適宜の搬送方式や構造を選択することができる。この実施の形態における処理槽（めっき処理槽）［図示省略］に関しては、図３に示すベルトコンベア７５とされ、ワーク２００を定速（例えば、１ｍ／ｍｉｎに設定）かつ連続で槽内を搬送可能に形成してある。このように、槽長が複数（例えば、４以上）ピッチ分である処理槽に関しては、連続搬送方式の手段（ベルトコンベア等）を採用するのが好ましい。
【００９８】
ここに、いずれの構造（プッシャやベルトコンベア）のワーク搬送手段を採用しても、ワーク２００は搬送構造体を介して行われる。図３に示す搬送構造体は、紙面に垂直方向（図２のＸ方向）に延設されたレール９０と，このレール９０に沿って摺動（あるいは転動）可能に装着されたキャリア９３と，このキャリア９３の一部を構成する横腕木部材９３Ｈの先端に取り付けられた保持部材９５と，この保持部材９５に着脱可能な冶具９８とから形成されている。
【００９９】
この実施の形態では、搬送構造体（９０，９３）並びにワーク搬送手段（７０ＮＦ等，７５）を処理槽の外側（図３で右側）に位置をずらせて配置してある。これら構造・手段の相対摺動部で発生する微細な塵埃が処理槽（１０Ｎ等）内に落下することを防止するためである。一段の高品質処理を第１義とする本表面処理装置の構成については、隅々まで配慮されているものと理解される。
【０１００】
因みに、一般的な従来装置では、レール９０を処理槽の中心線に合わせているので、上記相対摺動部で発生する微細な塵埃の品質に及ぼす影響については、認識が無いものと思われる。もつとも、一段の高品質処理を求められない場合には、必要ないであろう。
【０１０１】
図３において、冶具（挟持具）９８は、保持部材９５にねじ止め固定される本体ベース９８Ｂと，支点を中心に回動可能なクランプ９８Ｃと，クランプ９８Ｃの一端（先端）を本体ベース９８Ｂに常時押圧かつ常時挟持するための付勢力を付与するスプリング９８Ｓとから形成され、クランプ９８Ｃの先端と本体ベース９８Ｂとの間でワーク２００の上端部を挟持する。
【０１０２】
なお、図示しないめっき槽（処理槽）の場合には、元電源に接続されたレール９０から横腕木部材９３Ｈを含むキャリア９３→保持部材９５→冶具９８の電路を通してワーク２００に給電（負極接続）される。めっき槽内には、ワーク２００に対向可能な位置に電極（陽極接続）が設けられている。レール９０は、ワーク２００へ給電するための給電手段の一部を構成するので、銅系金属から形成されている。
【０１０３】
次に、駆動制御手段（１００）は、ワーク搬送手段［７０，７０Ｆ（７０Ｂ），７５］、各処理槽（１０）および当該各前・後置干満槽（１０Ｆ，１０Ｂ）に関する各手段すなわち導入側ゲート開閉手段２０ＮＦ、前置側液供給手段３１ＮＦ、前置側液排出手段４１ＮＦ、搬入側ゲート開閉手段２０ＮＩ、搬出側ゲート開閉手段２０ＮＯ、後置側液供給手段３１ＮＢ、後置側液排出手段４１ＮＢおよび導出側ゲート開閉手段２０ＮＢを所定の手順に従って駆動制御可能で、この実施の形態では、図５に示すコンピュータから形成されている。なお、ロジック回路等から構成してもよい。
【０１０４】
図５において、コンピュータ１００は、ＣＰＵ（時計機能を含む）１０１，ＲＯＭ１０２，ＲＡＭ１０３，メモリ（強誘電体メモリ）１０４，ハードディスク（ＨＤＤ）１０５，操作部（ＰＮＬ）１０６，表示部（ＩＮＤ）１０７および複数のインターフェイス（Ｉ／Ｆ）１０８ＮＦ等を含み、設定・選択・指令・駆動制御等の機能を有し表面処理装置全体を運転駆動制御する運転駆動制御装置を形成する。
【０１０５】
この図５では、インターフェイス１０８ＮＦに前置処理槽１０ＮＦに関する導入側ゲート開閉手段等２０ＮＦおよび前置側液干満切換手段３０ＮＦ（前置側液供給手段３１ＮＦと前置側液排出手段４１ＮＦ）が接続され、インターフェイス１０８Ｎに処理槽１０Ｎに関する搬入側ゲート開閉手段等２０ＮＩ，液循環手段３１Ｎおよび搬出側ゲート開閉手段２０ＮＯが接続され、かつインターフェイス１０８ＮＢに後置処理槽１０ＮＢに関する導出側ゲート開閉手段等２０ＮＢおよび後置側液干満切換手段３０ＮＢ（後置側液供給手段３１ＮＢと後置側液排出手段４１ＮＢ）が接続されている。
【０１０６】
なお、他の各処理槽と当該各前置干満槽および当該各後置干満槽とに関する各手段については、インターフェイス１０８ＯＴＨに接続されているものとして、詳細は図示省略する。
【０１０７】
各処理槽に共通として構築したワーク搬送手段７０（７０Ａ〜７０Ｘ）および当該各前置干満槽［これと兼用可能な各後置干満槽］に共通として構築したワーク搬送手段７０Ｆ（７０ＡＦ〜７０ＸＦ）［７０Ｂ（７０ＡＢ〜７０ＸＢ）］と、めっき処理槽に専用のベルトコンベア（連続搬送手段）７５とは、インターフェイス１０９に接続されている。なお、各インターフェイスには、当該各手段との関係で必要な各種センサーが接続されているが、図示省略した。また、従来例の場合と同様な装置（例えば、電源装置）等についても図５では図示省略した。
【０１０８】
ここに、駆動制御手段（１００）は、主に、駆動制御プログラムを格納させたＲＯＭ１０２およびＨＤＤ１０５と、駆動制御プログラムを読み出して実行するＣＰＵ１０１とから形成されている。駆動制御プログラムに必要な固定情報等はＲＯＭ１０２側に格納されている。また、実行に際して設定入力あるいは設定変更される情報はメモリ１０４に記憶保持されている。いずれも読み出されかつＲＡＭ１０３に展開されて利用される。
【０１０９】
駆動制御プログラムは、各平板形状物（ワーク２００）を前方側から後方側までの全処理槽をそれぞれに搬送等できるもの（少なくても上記した第１工程から第６工程までを実施可能なプログラムを含む。）であれば、その形式等は限定されずに、自由に作成することができる。
【０１１０】
しかし、運用の実際では、生産性の一段の向上を目指して、複数の平板形状物（ワーク２００）を順番にかつ連続的に搬送等しつつ表面処理を実施すべきである。そこで、この実施の形態では、各処理槽に関するゲート開閉動作，干満切換動作，搬送動作等の動作タイミングを可能な限り同期させるように工夫してプログラムを作成してある。
【０１１１】
すなわち、駆動制御プログラムは、図６のＳＴ（ステップ）１０〜ＳＴ２５として現せる。以下に、図７（Ａ）〜（Ｅ）を参照しつつプログラムを説明する。なお、図６では、第１工程〜第６工程内の幾つかの２工程が経時的に前後しているように見える場合もあるが、１枚の平板形状物（ワーク２０）に着目すれば、第１工程〜第６工程はこの順序で実施（実行）されていることが明白に理解される。
【０１１２】
駆動制御指令によりプログラムが起動する。最初に、初期状態が確立（ＯＫ）しているか否かが判別される（図６のＳＴ１０）。不確立（ＮＯ）であると判別（ＳＴ１０でＮＯ）されると、次の２種類の動作が自動で行われる。
【０１１３】
まず、全ての開閉ゲートを閉鎖する（ＳＴ１１）。処理槽１０Ｎに関して言えば、ゲート開閉手段（２０ＮＦ，２０ＮＩ，２０ＮＯ，２０ＮＢ）を駆動制御して当該各ゲート（１２ＮＦ，１２ＮＩ，１２ＮＯ，１２ＮＢ）を同期駆動して閉鎖する。シリンダ装置２５用のソレノイドのＯＮ（ＯＦＦ）制御による。
【０１１４】
そして、閉鎖状態（図７のゲート近辺に“×”印を付した。）になったことは、各センサーで検出され、表示部１０７で目視確認できる。処理槽１０Ｏに関しても同様に開閉ゲートは閉鎖状態とする。図７（Ａ）に初期状態が確立された場合を示す。
【０１１５】
なお、図７（Ａ）等には、以下の説明便宜のために複数（例えば、８つ）の平板形状物（プリント回路基板）つまりワーク２００（右から左に“Ａ”，“Ｂ”，“Ｃ”，“Ｄ”，“Ｅ”，“Ｆ”，“Ｇ”，“Ｈ”）が、既に図示の通りの位置に所在するものとする。
【０１１６】
引き続き、全ての前後干満槽（１０ＮＦ，１０ＮＢ等）を干液状態に切換える（ＳＴ１２）。各液排出手段（４１ＮＦ，４１ＮＢ等）を駆動制御して行われる。図３のシリンダ装置４９用のソレノイドのＯＮ（ＯＦＦ）制御による。干液状態［図７（Ａ）］は、液面（レベル）Ｌが最低限Ｌｌになった状態である。これも各センサーで検出され、表示部１０７に表示出力されるので目視確認することができる。
【０１１７】
同時的に、前後干満槽１０ＮＦに関する各プッシャを初期状態（位置）に戻す（ＳＴ１３）。すなわち、処理槽１０Ｎに関しては、前置側のプッシャ７０ＮＦ（処理槽１０Ｍの後置側のプッシャ７０ＭＢとしても兼用）と後置側のプッシャ７０ＮＢ（処理槽１０Ｏの前置側のプッシャ７０ＯＦとしても兼用）とを元に戻す。つまり、図７（Ｅ）に示す状態からプッシャ７０ＮＦおよびプッシャ７０ＮＢを左方向に１ピッチ分だけ戻して、図７（Ａ）に示す状態に移行させるわけである。なお、図７中の矢印（→）に記した符号“ＦＤ”は前進（移行）を意味し、符号“ＢＫ”は後退（戻り）を意味するものとする。
【０１１８】
この場合、処理槽１０Ｎに関するプッシャ７０Ｎは既に初期状態［図７（Ｅ），（Ａ）を参照］であるから、元に戻す必要がない。但し、直前にメンテナンスや調整等をした結果として、図７（Ｂ）に示す状態にある場合には、図７（Ｃ）に示すように左方向の初期状態（位置）に戻される。
【０１１９】
なお、メンテナンスや調整を行うためにあるいは予め指定状態を確立しておくための便宜上、自動モードから手動モードに切換えれば、表示部１０７に表示出力されるガイダンスを参照しながらかつ操作部１０６のキーを用いた手動操作によって、図６の各ステップ（ＳＴ）に相当する動作を個別的に行えるように形成してある。
【０１２０】
この初期状態が確立したことがセンサーの検出により確認できた場合には、その後に各前後干満槽（１０ＮＦ等）を満液状態に切換える。処理槽１０Ｎの前置干満槽１０ＮＦおよび後置干満槽１０ＮＢに関していえば、前置側液供給手段３１ＮＦおよび後置側液供給手段３１ＮＢを駆動制御（供給ポンプ３３用モータの回転制御）しつつ処理液を供給して満液状態に切換える（ＳＴ１４）。図７（Ａ）に示す干液状態（レベルＬｌ）から図７（Ｂ）に示す満液状態（レベルＬｈ）に切換えられる。この状態において、開閉ゲート１２ＮＦから前方（１０Ｍ）側に漏れる少量の処理液Ｑｒは漏れ回収部１６ＮＦに回収される。
【０１２１】
次に、処理槽１０Ｎに関する搬入側ゲート開閉手段２０ＮＩおよび搬出側ゲート開閉手段２０ＮＯを駆動制御して、搬入側ゲート１２ＮＩおよび搬出側ゲート１２ＮＯを開放状態に切換える（ＳＴ１５）。図７（Ａ）に示す閉鎖状態（“×”）から図７（Ｂ）に示す開放状態（“○”）とする。したがって、前置干満槽１０ＮＦと処理槽１０Ｎと後置干満槽１０ＮＢとの液面（レベル）が全て同じ（Ｌｈ）となる。つまり、連通状態になるので、搬送上は、実質的に１つの処理槽として取り扱える。つまり、ワーク２００の液中水平搬送が可能となる。
【０１２２】
かくして、駆動制御手段（１００）は、処理槽１０Ｎに関するプッシャ７０Ｎを図７（Ａ）に示す初期位置から図７（Ｂ）に示す如く右方向に１ピッチ（Ｐ）分だけ移動させる。つまり、ワーク“Ｆ”，“Ｅ”，“Ｄ”を同時に１ピッチ分だけ搬送する（ＳＴ１６）。処理槽１０Ｏに関しては、ワーク“Ｃ”，“Ｂ”を同時に１ピッチ分だけ搬送する。
【０１２３】
すなわち、前置干満槽１０ＮＦから処理槽１０Ｎへのワーク（“Ｆ”）の搬入と、処理槽１０Ｎ内でのワーク（“Ｅ”）の１ピッチ分搬送と、処理槽１０Ｎから後置干満槽１０ＮＢへのワーク（“Ｄ”）の搬出とを同一タイミング（同期運転）で行う。
【０１２４】
ここに、処理槽１０Ｎへのワーク（“Ｆ”）の搬入および処理槽１０Ｎからのワーク（“Ｄ”）の搬出も、処理槽１０Ｎ内でのワーク（“Ｅ”）の搬送の場合と同様に処理液中で行うことができるから、従来バッチ処理方式や連続処理方法の場合の問題点（大気中から処理液中に直接投入することによる変形等の発生。）を一掃することができるわけである。この点からも、一段と処理の高品質化を促進できる。
【０１２５】
その後に、搬入側ゲート開閉手段２０ＮＩおよび搬出側ゲート開閉手段２０ＮＯを駆動制御することにより、搬入側ゲート１２ＮＩおよび搬出側ゲート１２ＮＯを同期駆動して閉鎖状態［図７（Ｂ）に示すカッコ書きした“×”］に切換える（ＳＴ１７）。この状態において、開閉ゲート１２ＮＢから後方（１０Ｏ）側に漏れる少量の処理液Ｑｒは、漏れ回収部１６ＮＢに回収される。
【０１２６】
前後干満槽１０ＮＦ，１０ＮＢと処理槽１０Ｎとを隔離状態とした後に、処理槽１０Ｎに関すれば、前置側液排出手段４１ＮＦおよび後置側液排出手段４１ＮＢ等を駆動制御して、前・後置干満槽１０ＮＦ，１０ＮＢの処理液を液貯槽１７Ｎ（１７ＮＦ，１７ＮＢ）に排出する。これにより、図７（Ｂ）に示す満液状態から図７（Ｃ）に示す干液状態に切換える（ＳＴ１８）。
【０１２７】
同時的に、処理槽１０Ｎ（１０Ｏ）に関するプッシャ７０Ｎ（７０Ｏ）を図７（Ｂ）に示す前進位置から図７（Ｃ）に示す後退位置（初期位置）に戻す（ＳＴ１９）。この段階［図７（Ｃ）］で、全てのプッシャは図７（Ａ）の場合と同様に初期位置に所在する。
【０１２８】
引き続き、前・後置処理槽１０ＮＦ，１０ＮＢに関する導入側ゲート開閉手段２０ＮＦおよび導出側ゲート開閉手段２０ＮＢを駆動制御して、導入側ゲート１２ＮＦおよび導出側ゲート１２ＮＢを開放状態に切換える（ＳＴ２０）。つまり、図７（Ｃ）に示す閉鎖状態（“×”）から図７（Ｄ）に示す開放状態（“○”）とする。すなわち、処理槽１０Ｎからの表面処理済みワーク２００の搬出と次の新規処理対象ワーク２００の搬入の準備を整える。
【０１２９】
また、駆動制御手段は、処理槽１０Ｎに関する前置側プッシャ７０ＮＦを図７（Ｃ）［（Ａ）］に示す初期位置から図７（Ｄ）に示すように右方向に１ピッチ分だけ移行（ＦＤ）させて、ワーク“Ｇ”，“Ｈ”を同時に１ピッチ分だけ導入搬送するとともに、後置側プッシャ７０ＮＢを図７（Ｃ）［（Ａ）］に示す初期位置から図７（Ｄ）に示すように右方向に１ピッチ分だけ移行（ＦＤ）させて、ワーク“Ｄ”を１ピッチ分だけ導出搬送する（ＳＴ２１）。処理槽１０Ｏに関しては、ワーク“Ａ”，“Ｂ”を同時に１ピッチ分だけ搬送する。なお、図７（Ｄ）に示すように、ワーク“Ｈ”の次のワーク“Ｉ”が前置された処理槽（１０Ｍ）から搬出されて来る。
【０１３０】
ワーク２００の搬送後に、処理槽１０Ｎに関する導入側ゲート開閉手段２０ＮＦおよび導出側ゲート開閉手段２０ＮＢを駆動制御して、導入側ゲート１２ＮＦおよび導出側ゲート１２ＮＢを閉鎖状態に切換える（ＳＴ２２）。つまり、図７（Ｄ）に示す開放状態（“○”）から図７（Ｅ）に示す閉鎖状態（“×”）とする。すなわち、全てのゲートが初期状態に戻されたことになる。
【０１３１】
同時的に、処理槽１０Ｎ（１０Ｏ）の前・後置干満槽１０ＮＦ，１０ＮＢ（１０ＯＦ，１０ＯＢ）に関するプッシャ７０ＮＦ，７０ＮＢ（７０ＯＦ，７０ＯＢ）を図７（Ｄ）に示す前進位置から図７（Ｅ）に示す後退位置（初期位置）に戻す（ＢＫ）ように制御する（ＳＴ２３）。この段階［図７（Ｅ）］で、全てのプッシャは初期位置に戻されたことになる。
【０１３２】
次のサイクルに進む際には、初期状態が確立されていると判別（ＳＴ１０でＹＥＳ）されるので、初期状態への切換動作（ＳＴ１１，ＳＴ１２，ＳＴ１３）は必要が無く、ＳＴ１４から開始される。なお、運転停止指令が発生された場合（ＳＴ２４でＹＥＳ）には、停止処理（ＳＴ２５）して駆動制御プログラムの実行を終了する。
【０１３３】
かかる構成の表面処理装置の場合には、本表面処理方法は以下のように実施される。今、前方側（処理槽１０Ｍ側）から処理槽１０Ｎに最初の平板形状物（ワーク“Ｆ”）が給搬送されて来た場合を考えると、当該ワーク“Ｆ”を干液状態（レベルＬｌ）の前置干満槽１０ＮＦに導入した後に、処理液を供給して前置干満槽１０ＮＦを満液状態（レベルＬｈ）に切換える第１工程は、図７の（Ａ）→（Ｂ）として実施される。
【０１３４】
なお、ワーク“Ｆ”を干液状態（レベルＬｌ）の前置干満槽１０ＮＦに導入する部分工程は、ワーク“Ｇ”をワーク“Ｆ”に読み替えれば、図７の（Ｃ）→（Ｄ）として実施されるものと理解される。その後に、プッシャ７０ＮＦ（７０ＭＢを兼用）は図７の（Ｅ）のように元に戻される。
【０１３５】
また、満液状態の前置干満槽１０ＮＦと処理槽１０Ｎとの間を連通状態（ゲート１２ＮＩが開放）に切換えかつ切換え後に平板形状物（ワーク“Ｆ”）を前置干満槽１０ＮＦから処理槽１０Ｎに搬入させる第２工程は、図７の（Ｂ）で実施される。引き続く第３工程、つまり先の平板形状物（ワーク“Ｆ”）の処理槽１０Ｎへの搬入後に、前置干満槽１０ＮＦと処理槽１０Ｎとの間を隔離状態（ゲート１２ＮＩが閉鎖）に切換えかつ切換え後で次の平板形状物（ワーク“Ｇ”）の導入前に前置干満槽１０ＮＦの処理液を外部（液貯槽１７Ｎ）に排出させて前置干満槽１０ＮＦを干液状態（レベルＬｌ）に切換える工程は、図７の（Ｂ）で実施される。
【０１３６】
その後に、ワーク“Ｆ”が先に搬入されたワーク“Ｅ”とともに表面処理（化成処理）される。この表面処理の終了後に処理槽１０Ｎと満液状態（レベルＬｈ）の後置干満槽１０ＮＢとの間を連通状態（ゲート１２ＮＯを開放）に切換えかつ切換え後にワーク“Ｆ”を処理槽１０Ｎから後置干満槽１０ＮＢに搬出させる第４工程は、図７の（Ａ）→（Ｂ）で実施される。この段階では、図７（Ｂ）および（Ｃ）に示す後置干満槽１０ＮＢ内のワーク“Ｄ”をワーク“Ｆ”に読み替えればよい。すなわち、図７に示すワーク順序の場合は、このワーク“Ｆ”の搬出以前にワーク“Ｄ”およびワーク“Ｅ”の同時搬出が行われる。つまり、２搬送サイクル後にワーク“Ｆ”の搬出が行われる。
【０１３７】
そして、搬出後に処理槽１０Ｎと後置干満槽１０ＮＢとの間を隔離状態（ゲート１２ＮＯが閉鎖）に切換えかつ切換え後に後置干満槽１０ＮＢの処理液を外部（液貯槽１７Ｎ）に排出させて後置干満槽１０ＮＢを干液状態（レベルＬｌ）に切換える第５工程は、図７の（Ｂ）→（Ｃ）で行われる。なお、この場合も図７（Ｂ）および（Ｃ）に示す後置干満槽１０ＮＢ内のワーク“Ｄ”をワーク“Ｆ”に読み替える。
【０１３８】
最後に、先のワーク“Ｆ”の導出かつ排搬送後で、次のワーク“Ｇ”の搬出前に後置干満槽１０ＮＢに処理液を供給して後置干満槽１０ＮＢを満液状態（レベルＬＨ）に切換える第６工程は、図７の（Ｃ）→（Ｄ）［（Ｅ），（Ａ）］→（Ｂ）で実施される。
【０１３９】
しかして、この第１の実施の形態による本表面処理方法（装置）によれば、処理液中を水平搬送（横移行）させることでワーク２００を処理槽（１０Ｎ）に搬入することができるので、大気中から処理液中にワークを直接投入する従来バッチ処理方式の場合の問題点（ワークに振れや振動が発生する。ワークが変形したりや曲ってしまう。）を一掃でき、薄くあるいは可撓性に富んだ平板形状物（２００）の場合でも高品質処理を確実に行える。ワークの無駄消費も避けられる。しかも、表面処理装置の小型化および低コスト化を図りつつ、電子部品や電子機器等の一層の高品質化を通じた国際競争力の強化に大きく貢献することができる。
【０１４０】
また、比較的に幅広な搬入通路部１１ＮＩを通してワーク２００を処理槽１０Ｎ内に搬入することができるので、１対の導入ガイドローラ８１ＰＬ，８１ＰＲ等を幅狭に配設した導入ガイドを通してワークを処理槽１０に搬入する従来連続処理方式の問題点（衝突によるワークの傷つき、破損）を一掃することができる。この点からも、一段と高品質の処理を行えるとともに生産歩留まりを向上できる。また、厚さがより一段と薄くかつ一層の可撓性に富んだ平板形状物（ワーク２００）に対する適応性が高い。
【０１４１】
また、処理槽１０Ｎへの搬入に備えてワーク２００を干液状態の前置干満槽１０ＮＦ内に一時的に保留する以外は全て処理液中に浸漬された状態で導入および搬入することができるから、処理槽１０Ｎより高い位置でかつ大気中での搬送（Ｖ１，Ｈ１，Ｖ２）が長くなる従来バッチ処理方式の場合の問題点（残存液による過剰反応、酸化の進行、塵埃の付着）を一掃することができる。この点からも、大幅な高品質化を促進できる。
【０１４２】
また、縦吊状態のワークを前・後置干満槽（１０ＮＦ，１０ＮＢ）内および処理槽（１０Ｎ）内で液中水平搬送させるように形成されているので、ワーク昇降を必須とする従来バッチ処理方式の場合に比較して装置高さを低くすることができる。つまり、設備経済が有利でかつ危険な高所作業も一掃化でき、周囲も汚さない。しかも、各槽の上部開放部にカバー８５を設けることができるので、搬送中のワーク２００への品質に悪影響を及ぼすような塵埃の付着を絶無化（乃至飛躍的な激減化）することも可能で、飛躍的な高品質処理を期待できる。
【０１４３】
また、従来バッチ処理方式のように複数の処理槽（１０Ｎ−１，…，１０Ｎ４）に分割する必要がないので、液組成管理が容易でかつバラツキがない表面処理を行える。
【０１４４】
また、ワーク２００を連続的に搬送しかつ連続的に表面処理することができから、生産性が高い。液組成も一定化する。この点からも、一段と高品質処理を行える。
【０１４５】
また、開口部１１ＰＮから大量の処理液Ｑｒが漏れる従来連続処理方式の場合に比較して、導入通路部１１ＮＦ，搬入通路部１１ＮＩ等から漏れる処理液量が大幅に少ないから、供給ポンプ３３，循環供給ポンプ３３Ｒ等の小型化を図れ、設備経済上も有利である。装置全体の小型化にも有効である。
【０１４６】
また、ワーク２００の自由状態の下端部を処理液中に直接下降・搬入する従来バッチ処理方式において採用する構造複雑で高価な縦吊姿態維持手段等を付設する必要がないので、コスト低減ができかつ処理槽１０Ｎおよび装置全体の小型化を促進できるとともに、メンテナンスの負担を軽減できる。
【０１４７】
また、ワーク搬送手段が２系統のプッシャ（７０ＮＦ，７０ＮＢ）、（７０Ｎ）およびめっき処理槽内専用のベルトコンベア７５から形成されている。この点からも、装置小型化を図れ、取扱い容易で、円滑で迅速なワーク搬送を確約できる。
【０１４８】
また、処理槽１０Ｎの前後に干満槽１０ＮＦ，１０ＮＢを設ければよいので、具現化が容易であるとともに、構造簡単でかつ取扱いが容易である。
【０１４９】
さらに、ゲート開閉手段（２０ＮＦ等）が当該槽（１０ＮＦ等）外から付与される上下方向力を利用して各ゲート（１１ＮＦ等）が当該槽内壁面に沿って横方向にスライドさせることで当該通路部（１２ＮＦ等）を開閉可能に形成されているので、構造簡単で安価で具現化容易であり、また安定運転ができる。また、槽内での占有スペースも小さいので、当該槽の小型化を阻害しない。
【０１５０】
さらに、各液供給手段（３１ＮＦ等）が強制加圧供給構造とされ、各液排出手段（４１ＮＦ等）が当該干満槽（１０ＮＦ等）の下方側排出口（１４ＮＦＨ等）を強制開放させる強制開放自然排出構造とされているので、構造が一段と簡単で、安定した供給および急速な排出ができる。槽内の平板形状物（２００）に悪影響（揺れ、振動）を生じさせることもない。
【０１５１】
さらに、各ゲート（１２ＮＦ等）の開閉動作を槽内外の液差圧の掛からない状態で行えるように形成されているので、構造簡素化を一段と促進できるとともに、小さな動力で円滑に開閉できる。
【０１５２】
さらに、ワーク搬送手段が、前置処理槽側の導入用と後置処理槽側の導入用とを兼用するプッシャと，処理槽への搬入用および処理槽からの搬出用を兼ねるプッシャ７０Ｎとから形成されているので、導入動作と導出動作とを確実に同期運転させられるので、搬送運転と生産サイクルとの調整が容易となり、ワーク搬送手段の構造簡素化およびコスト低減化ができる。
【０１５３】
駆動制御手段（１００）によって、各手段を全自動で駆動制御する構成であるから、取扱いが極めて容易で、ランニングコストを大幅に低減できる。
【０１５４】
（第２の実施の形態）
この第２の実施の形態は、図８および図９に示される如く、処理槽１０Ｍ，１０Ｎ（１０Ｎ，１０Ｏ）間に液切り槽１０ＭＮ（１０ＮＯ）を設け、前方側処理槽１０Ｍ（１０Ｎ）から搬送されてきたワーク２００に付着する処理液が後方側処理槽１０Ｎ（１０Ｏ）に混入することを防止可能に形成されている。
【０１５５】
そして、第１の実施の形態の場合と同様に、前置干満槽１０ＮＦの直前に漏れ回収部１６ＮＦを設けかつ後置干満槽１０ＮＢの直後に漏れ回収部１６ＮＢを設けてある。したがって、漏れ回収部１６ＮＦ，１６ＮＢで回収された処理液をそれぞれに処理槽１０Ｎ内の処理液として再利用可能である。
【０１５６】
ここに、漏れ回収部１６ＮＦ（１６ＮＢ）のＸ方向の寸法（長さ）は前置干満槽１０ＮＦ（１０ＮＢ）の長さの１／４以下である。それ以上に大きくする必要もない。そこで、この実施の形態では、漏れ回収部１６ＮＦ（１６ＮＢ）を液切り槽１０ＭＮ（１０ＮＯ）内に一体的（図９に示すＸ方向において前後位置で隣接する。）に組み込んだ構造としてある。つまり、液切り槽１０ＭＮ（１０ＮＯ）は、実質的には、回収槽１６ＭＢ（１６ＯＦ）から形成されているが、ワーク２００から液切り（自然落下）した液を回収できればよいので、形態（平面的な回収面積）的に問題はない。
【０１５７】
つまり、漏れ回収部１６ＮＦと漏れ回収部１６Ｂとを設けることを前提とすれば、前置干満槽１０ＮＦの前方と後置干満槽１０ＮＢの後方に比較的に小さな寸法（Ｘ方向長さ）を設けるだけで、搬送中のワーク２００を縦吊状態で一時保留可能な空き槽（すなわち、液切り槽１０ＭＮ，１０ＮＯ）を確保でき、これら液切り槽１０ＭＮ，１０ＮＯを利用すれば生産サイクルに影響を及ぼすことなく液切り工程を実施することができるわけである。
【０１５８】
しかして、この第２の実施の形態によれば、第１の実施の形態の場合と同様な作用効果を奏することができる他、さらに処理槽１０Ｍ，１０Ｎ（１０Ｎ，１０Ｏ）間の空きスペースを有効利用した液切り槽１０ＭＮ（１０ＮＯ）が形成されているので、前方側処理槽１０Ｍ（１０Ｎ）から持ち出されかつ後方側処理槽１０Ｎ（１０Ｏ）内に持ち込まれる処理液の量を極めて少量に抑えることができる。したがって、後方側処理槽１０Ｎ（１０Ｏ）における表面処理を一段と高品質で行える。また、全体的な生産サイクルを担保しながら、生産サイクルと搬送タイミングとの調整範囲の自由度を拡大できる。
【０１５９】
各処理槽１０Ｍ，１０Ｎ，１０Ｏ等での各処理液の組成管理が容易になる。各処理液の早期劣悪化を防止しつつ液切り槽で回収された処理液を再利用できるから、ランニングコストを低減することができる。特に、高価なめっき処理液の有効利用は、影響が大きく、処理コスト（生産コスト）を大幅に引き下げられる。
【産業上の利用可能性】
【０１６０】
本発明は、薄く、可撓性に富んだ平板形状物（例えば、プリント回路基板）に、変形や傷を付けることなく、高品質の表面処理を行う場合に有用である。
【図面の簡単な説明】
【０１６１】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係る表面処理装置を説明するための概略側面図である。
【図２】同じく、前置干満槽、処理槽および後置干満槽等の配置態様例を説明するための外観斜視図である。
【図３】同じく、前置干満槽（後置干満槽）とゲート開閉手段，液供給手段，液排出手段等の関係を説明するための縦断面正面図である。
【図４】同じく、ゲート開閉手段の開閉動作を説明するための図である。
【図５】同じく、駆動制御装置を説明するためのブロック図である。
【図６】同じく、駆動制御動作を説明するためのフローチャートである。
【図７】同じく、駆動制御動作を説明するためのタイミングチャートである。
【図８】本発明の第２の実施の形態に係る表面処理装置を説明するための概略側面図である。
【図９】同じく、液切槽を説明するための平面図である。
【図１０】バッチ処理方式の従来例を説明するための図である。
【図１１】連続処理方式の従来例を説明するための図である。
【図１２】連続処理方式の場合に採用されるガイド装置例を説明するための図である。
【符号の説明】
【０１６２】
１０ＮＦ 前置干満槽
１０Ｎ 処理槽
１０ＮＢ 後置干満槽
１１ＮＦ 導入通路部
１１ＮＩ 搬入通路部
１１ＮＯ 搬出通路部
１１ＮＢ 導出通路部
１２ＮＦ 導入側ゲート
１２ＮＩ 搬入側ゲート
１２ＮＯ 搬出側ゲート
１２ＮＢ 導出側ゲート
２０ＮＦ 導入側ゲート開閉手段
２０ＮＩ 搬入側ゲート開閉手段
２０ＮＯ 搬出側ゲート開閉手段
２０ＮＢ 導出側ゲート開閉手段
３０ＮＦ 前置側液干満切換手段
３１ＮＦ 前置側液供給手段
４１ＮＦ 前置側液排出手段
３０Ｎ 液循環手段
３０ＮＢ 後置側液干満切換手段
３１ＮＢ 後置側液供給手段
４１ＮＢ 後置側液排出手段
７０ＮＦ，７０Ｎ，７０ＮＢ プッシャ（ワーク搬送手段）
７５ ベルトコンベア
８５ カバー
９０ レール
９３ キャリア
９８ 冶具
１００ コンピュータ（駆動制御手段）
【技術分野】
【０００１】
本発明は、前方側から縦吊状態で給搬送されて来た平板形状物を処理液が満たされた処理槽に搬入し、処理液中で平板形状物に表面処理を施し、表面処理後の平板形状物を後方側に排搬送することで、複数枚の平板形状物を連続的に表面処理する平板形状物の表面処理方法およびその装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
表面処理方法は、バッチ処理方式と連続処理方式とに大別される。前者方式の表面処理装置を図１０に示し、後者方式の表面処理装置を図１１に示す。
【０００３】
図１０において、前方側（図で左方向）から後方側に向う搬送（Ｘ）方向に整列配設された多数の処理槽（例えば、１０ＰＡ〜１０ＰＸ）のうち、Ｎ番目の処理槽１０ＰＮとこの上流側（前方側）の処理槽１０ＰＭとこの下流側（後方側）の処理槽１０ＰＯについて説明する。
【０００４】
処理槽１０ＰＭにおいて表面処理が終了したワーク（被処理物）２００は、昇降手段（ワーク搬送手段）によって垂直（Ｖ１）方向に搬送（引上げ上昇）され、次いで水平搬送手段（ワーク搬送手段）によって水平（Ｈ１）方向に搬送され、その後再び昇降手段（ワーク搬送手段）によって垂直（Ｖ２）方向に搬送（下降投入）されて、処理槽１０ＰＮに搬入される。また、処理槽１０ＰＮでの表面処理が終了したワーク（被処理物）２００は、昇降手段によって垂直（Ｖ３）方向に搬送（上昇）され処理槽１０ＰＮから搬出される。その後に、水平（Ｈ３）搬送等を経て処理槽１０ＰＯに搬送される。
【０００５】
処理槽１０ＰＮでの表面処理時間が他槽の場合に比較して長い場合には、ワーク２００は処理槽１０ＰＮ内において点線で示すように連続（定速）または間歇的に槽内で水平（Ｈ２）搬送される。あるいは、複数（例えば、４つ）の処理槽（１０ＰＮ−１，…，１０ＰＮ−４）に分割して配置し、ワークを順番に搬入・搬出する。
【０００６】
したがって、このバッチ処理方式は、表面処理（例えば、電解処理）時間が比較的に長い場合に採用し易く、ワーク形態に対する適応性が広い。しかし、各処理槽間でワーク２００を上昇・下降させなければならないので一段の生産性向上が難しく、またワーク表面の残存液の性状によっては槽上での搬送（Ｖ１，Ｈ１，Ｖ２）中に過剰反応が誘発したり、大気接触による酸化が進行したり、ワーク表面に塵埃が付着してしまう。いずれも品質低下に直結する。複数の処理槽（１０ＰＮ−１，…，１０ＰＮ−４）に分割した場合には、液組成管理の困難性に起因する品質バラツキが生じ易い。また、ワーク昇降のために装置高さが槽高の２倍以上になるので、設備経済が不利でかつ危険な高所作業が余儀なくされる。周囲を汚す機会も多い。
【０００７】
次に、図１１において、水平連続搬送手段（ワーク搬送手段）によって前方側（右側）の処理槽１０ＰＭからＸ方向に搬送されて来たワーク２００は前方側開口部１１ＰＮを通してＮ番目の処理槽１０ＰＮに搬入され、槽内連続移行中に表面処理が施されかつ処理後に後方側開口部（図示省略）を通して後方側（左側）の処理槽１０ＰＯに搬送される。各開口部から漏れた処理液（Ｑｒ）は、回収槽１７ＰＮに回収されかつ再循環使用される。
【０００８】
したがって、ワーク２００が連続形態の材料（例えば、線材や帯状長尺材）である場合に採用し易く、連続搬送・連続処理が行えるから生産性が高い。液組成も均一化できるので、安定品質処理ができる。また、バッチ処理方式の場合の問題点（分割した場合における液組成管理の困難や、塵埃の付着，危険な高所作業の必要性等）も一掃することができる。しかし、開口部１１ＰＮから漏れる液量Ｑｒが多いので、回収槽１７ＰＮや液循環ポンプ等の大型化を招く。処理時間が長い場合（例えば、２０分以上）には、装置全長が長大になってしまう。特に、ワーク形態に対する適応性が非常に狭いという欠点がある。
【０００９】
ここに、ワーク２００が１枚の平板形状物（例えば、プリント回路基板）である場合、各方式の上記長所・欠点を踏まえた上で、いずれか一方の方式が選択されかつ当該表面処理装置が採用されている。いずれの方式（装置）を選択しても、ワーク（平板形状物）形態の特殊性から、ワーク搬送手段側の冶具に平板形状物（２００）の上端部（一辺側）を挟持させた縦吊状態（両面が垂直になる状態）で搬送される。つまり、ワーク搬送手段は、冶具をＸ方向に水平状態（所定の一定高さに保持した状態）で移行させることで、平板形状物（２００）を水平搬送するように形成されている。
【００１０】
すなわち、平板形状物（２００）の表面処理装置では、ワーク搬送手段を用いて前方側（上流側の処理槽）から縦吊状態で給搬送されて来た平板形状物を、処理液が満たされた処理槽（１０ＰＮ）に搬入しつつ処理液中に浸漬する。搬入された平板形状物は、当該処理槽の処理液中で表面処理され、表面処理後に処理槽から搬出して後方側（下流の処理槽）に排搬送される。かくして、複数枚の平板形状物を連続または連続的に表面処理することができる。
【００１１】
ところで、バッチ処理方式の従来表面処理装置（図１０）の場合には、上端部が挟持されかつ下端部が自由状態であるとともに、全体として縦吊状態の平板形状物を処理槽（１０ＰＮ）の処理液中に下降・搬入させることが非常に難しい。つまり、下端部（自由端）を処理液（抵抗）に投入（下降搬送）する際に、ワーク２００に揺れや振動が生じ、さらには変形や折れ曲りが生じてしまうからである。
【００１２】
この点に関して、従来の表面処理装置（特許文献１を参照）では、各処理槽に縦吊姿態維持手段を組込み、縦吊姿態（状態）の平板形状物を下降させつつ処理槽内の液中に浸漬するに先立ち、平板形状物の両側から多数の挟持片を接近させかつその強制押え力を利用して縦吊姿態を強制的かつ機械的に維持する。
【００１３】
しかし、縦吊姿態維持手段は、枠体，可動部材，離隔接近駆動機構，多数の挟持片および駆動源等を含む構造複雑であって、また処理槽（１０ＰＮ）の大きさに比較して大規模であるから、結果として各処理槽を大型にしなければならず、コスト高を招く。装置高さを低くすることも阻害し、円滑運転維持のためのメンテナンスの負担が重い。
【００１４】
他方、連続処理方式の従来表面処理装置（図１１を参照）の場合は、前方側開口部１１ＰＮからの液漏れ量Ｑｒを小さくするには、図１２（Ａ）に示す１対の搬入ガイドローラ８１ＰＬ，８１ＰＲの間隔Ｓ１あるいは図１２（Ｂ）に示す弾性材質からなる１対の搬入ガイドブレード８２ＰＬ，８２ＰＲの間隔Ｓ２を極めて小さくしなければならない。したがって、納得する液漏れ量Ｑｒにまで絞った状態では、処理槽に投入させようとする平板形状物の先端がガイド（８１ＰＬ，８１ＰＲ、８２ＰＬ，８２ＰＲ）に衝突してしまう。
【００１５】
そこで、処理槽内に搬送ガイド手段を設けかつその上流側に液噴流導入案内手段を設け、さらなる上流側（前方側）に縦吊姿態維持手段を設けた表面処理装置が提案（特許文献２を参照）されている。
【００１６】
この液噴流導入案内手段は、搬送中の平板形状物の両面側から液を強制噴流させて当該平板形状物の先端部が搬送ガイドに衝突することを回避させるためのものである。また、縦吊姿態維持手段は、上記した特許文献１に係る縦吊姿態維持手段の場合と同様な構造である。
【００１７】
つまり、表面処理装置装置（特許文献２）は、純粋な連続処理方式では搬入ガイド等への衝突が避けられないものとし、液中への投入はバッチ処理方式の場合と同様に縦吊姿態維持手段を用いて行う、いわば両方式の折衷的構成であると理解される。しかし、各方式の問題点の殆どが解決できないので、限られたワークのみに対して採用されている。
【特許文献１】特開２００２−２８５３９８号公報
【特許文献２】特開２００２−２８５３９６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１８】
ところで、平板形状物（ワーク２００）の厚さが一段と薄くかつ可撓性に富む傾向が強くなる一方に対して、品質向上に関する要求に止まりがない。したがって、一層の品質向上を達成するためには、従来方法（装置）では許されない事項が多い。
【００１９】
連続処理方式の従来装置（図１１）では、ワーク２００を大量の漏れ液流（Ｑｒ）に向いかつ逆らって処理槽（１０ＰＮ）内に搬入（投入）する際にワークと構成部品（搬入ガイド等）との衝突が回避できないものとされているが、この衝突自体がワーク表面に傷を付ける虞が強く品質低下を招くので、許され難くなっている。ワークが一段の極薄となれば、なおさらである。
【００２０】
また、ワーク２００をその下端部（自由端）側から処理液中に突入させるバッチ処理方式の従来装置（図１０）においても、複雑構造でかつ慎重な運用・取扱いを要するばかりか、多数の挟持片との機械的接触によりワーク１００に傷がつく虞が強いので、従来縦吊姿態維持手段を用いた処理槽への搬入（投入）方式は許されない場合が多い。つまり、挟持片で処理面を挟持する構造の従来縦吊姿態維持手段を用いることを不適とするワーク（平板形状物）がますます増加する傾向にある。なお、上記した従来の折衷的装置では、品質保証が難しい。
【００２１】
かくして、従来は、実際生産の必要性から、１枚の平板形状物からなるワークの場合には、幾つかの欠点はあるもののバッチ処理方式を採用せざるを得ないのが実状である。
【００２２】
しかしながら、電子部品や電子機器の一層の高品質が進みかつ小型化および低コスト化が一段と強く要求される現今では、バッチ処理方式の従来装置の妥協的採用も難しくなる傾向にある。つまり、生産能率上、処理槽間ごとの上昇・下降（搬送）を一掃できないかとの指摘はもとより、上昇・水平移動・下降中に生じる現象（例えば、残存液による反応、大気中の塵埃の付着、他の処理槽から発生したミストの付着、他の構造物との接触や外力による平板形状物の変形や傷の発生）さえもが、品質保証上、認められないとの指摘である。
【００２３】
さらに、一段の高品質化等が強まるなか、表面処理装置の立ち遅れが電子機器の国際競争力が危ぶまれるとの指摘がある。すなわち、従来装置（図１０，図１１）に対する段階的改良に域を越えた革新的な装置開発が強く望まれている。
【００２４】
本発明の目的は、高品質処理を確実に行うことができる平板形状物の表面処理方法および表面処理装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２５】
従来装置の幾多の生産実績とその運用の実際に照らして、再検討をするに、いずれの方式（装置）においても当該方式（装置）の基本的技術事項をそのままとした部分的・補完的な変更・改良では、大きなリスク（構造の複雑化および大型化、装置的コスト高、メンテナンスの困難性、短寿命化）が発生するのに対して、品質向上の程度は軽微であることが判明した。
【００２６】
そこで、抜本的で革新的な第３の方式の創生を願っての条件（条件１：平板形状物は縦吊状態で搬送する。条件２：処理槽間での上昇・下降搬送を一掃化する。条件３：装置全長に渡り一定高さでの水平搬送とする。条件４：大気中から処理液中に直接投入しない。条件５：平板形状物と他の構造物との衝突を防止する。条件６：搬入・搬送の際に処理槽から漏れる処理液量を最少化する。条件７：装置高さを最小限化する。）を想定した。この条件は、従来の連続処理方式およびバッチ処理方式の各長所を生かしかつ各短所を除くものとして決めた。
【００２７】
これを目標とした試験・研究を重ねた結果、ワーク（平板形状物）の形態が特殊性である点、つまり平板形状物を収容するためだけに必要とする処理槽（処理液）の容積（収容量）は非常に小さくてよい事実および品質保証上無視できない程度の変形・曲りや傷はワークを大気中から液体中に突入させる際に発生されている事実を強く認識しつつ案出した多数のアイデアの中から、実用性が高いユニークな方法・装置（処理槽の前後に干満槽を配設する。）を想到することができた。
【００２８】
すなわち、本願発明は、前方側から給搬送されて来た平板形状物を干液状態の前置干満槽に導入してから満液状態に馴染ませ、その後に処理液中を水平移動させて処理槽に搬入し、表面処理後に処理液中を水平移動させて満液状態の後置干満槽に導出してから干液状態に馴染ませ、その後に後方側に排搬送するという、従来とは全く異なる発想に係る。
【００２９】
具体的には、請求項１の発明は、平板形状物を干液状態の前置干満槽に導入した後に処理液を供給して前置干満槽を満液状態に切換える第１工程と、満液状態の前置干満槽と処理槽との間を連通状態に切換えてから平板形状物を前置干満槽から処理槽に搬入させる第２工程と、先の平板形状物の搬入後に前置干満槽と処理槽との間を隔離状態に切換えかつ次の平板形状物が導入される以前に処理液を排出させて前置干満槽を干液状態に切換える第３工程と、表面処理の終了後に処理槽と満液状態の後置干満槽との間を連通状態に切換えてから平板形状物を処理槽から後置干満槽に搬出させる第４工程と、搬出後に処理槽と後置干満槽との間を隔離状態に切換えてから後置干満槽の処理液を排出させて後置干満槽を干液状態に切換える第５工程と、先の平板形状物の搬出後でかつ次の平板形状物が処理槽から搬出される以前に処理液を供給して後置干満槽を満液状態に切換える第６工程と、を有する表面処理方法である。
【００３０】
また、請求項２の発明は、処理槽の前方側に前置干満槽を配設しかつ後方側に後置干満槽を配設し、前置干満槽および後置干満槽のそれぞれを干液状態および満液状態のいずれかに選択的に切換え可能に形成するとともに、前置干満槽と処理槽との間および処理槽と後置干満槽との間のそれぞれを連通状態および隔離状態のいずれかに選択的に切換可能に形成し、平板形状物を干液状態の前置干満槽に導入してから前置干満槽を満液状態に切換え可能で、満液状態の前置干満槽と処理槽との間を連通状態に切換えてから平板形状物を前置干満槽から処理槽に搬入可能で、平板形状物の搬入後に処理槽と前置干満槽との間を隔離状態に切換えてから表面処理を実行可能に形成し、表面処理の終了後に処理槽と満液状態の後置干満槽との間を連通状態に切換えてから平板形状物を処理槽から後置干満槽に搬出可能で、搬出後に処理槽と後置干満槽との間を隔離状態に切換えてから後置干満槽を干液状態に切換え可能で、次の平板形状物が処理槽から搬出される以前に干液状態の後置干満槽を満液状態に切換え可能に形成し、前方側から所定高さの水平状態でかつ縦吊状態で給搬送されて来た平板形状物を前置干満槽および後置干満槽を介することで処理槽を所定高さの水平状態のまま通過させて後方側に排搬送可能に形成された、表面処理装置である。
【００３１】
また、請求項３の発明は、導入側ゲートで開閉可能な導入通路部を有する前置干満槽を処理槽の前方側に配設しかつ前置干満槽と処理槽との間に搬入側ゲートで開閉可能な搬入通路部を設けるとともに導出側ゲートで開閉可能な導出通路部を有する後置干満槽を処理槽の前方側に配設しかつ処理槽と後置干満槽との間に搬出側ゲートで開閉可能な搬出通路部を設け、前置干満槽に関する導入側ゲート開閉手段と前置側液供給手段と前置側液排出手段と、処理槽に関する搬入側ゲート開閉手段と搬出側ゲート開閉手段と、後置干満槽に関する後置側液供給手段と後置側液排出手段と導出側ゲート開閉手段とを設け、さらにワーク搬送手段，導入側ゲート開閉手段，前置側液供給手段，前置側液排出手段，搬入側ゲート開閉手段，搬出側ゲート開閉手段，後置側液供給手段，後置側液排出手段および導出側ゲート開閉手段を所定の手順に従って駆動制御する駆動制御手段を設け、平板形状物を開放状態の導入通路部を通して干液状態の前置干満槽に導入しかつその後に満液状態の前置干満槽から開放状態の搬入通路部を通して処理槽に搬入するとともに表面処理後の平板形状物を開放状態の搬出通路部を通して処理槽から満液状態の後置干満槽に搬出しかつその後に干液状態の後置干満槽から開放状態の導出通路部を通して導出しつつ後方側に排搬送できるようにワーク搬送手段，導入側ゲート開閉手段，前置側液供給手段，前置側液排出手段等々所定の手順に従って駆動制御可能に形成された表面処理装置である。
【００３２】
また、請求項４の発明は、各ゲートが当該槽内壁面に沿ってスライド可能で、ゲート開閉手段が当該槽外から付与される上下方向力を利用して当該ゲートを横方向にスライドさせて当該通路部を開閉可能に形成されている。さらに、請求項５の発明は、各液供給手段が強制加圧供給構造とされ、各液排出手段が当該干満槽の下方側排出口を強制開放させる強制開放自然排出構造とされている。さらにまた、請求項６の発明は、ワーク搬送手段が、前置干満槽への導入用プッシャと，処理槽への搬入用および処理槽から後置干満槽への搬出用を兼ねるプッシャと，後置干満槽から後方側への導出用プッシャとを含み、導入用プッシャと導出用プッシャとが同期運転可能に形成されている。
【発明の効果】
【００３３】
請求項１の発明によれば、高品質処理を確実に行える。請求項２の発明によれば、請求項１の発明の場合と同様に高品質処理を確実に行えるとともに、具現化が容易である。また、請求項３の発明によれば、請求項２の発明の場合と同様に高品質処理を確実に行えるとともに構造簡単でかつ取扱いが容易である。
【００３４】
さらに、請求項４の発明によれば、請求項３の発明の場合と同様な効果を奏することができることに加え、構造が一段と簡単である。請求項５の発明によれば、請求項３および請求項４の各発明の場合と同様な効果を奏することができることに加え、平板形状物への悪影響を一掃化しつつ液供給することができかつ急速な液排出を行える。さらにまた、請求項６の発明によれば、請求項３〜５の各発明の場合と同様な効果を奏することができることに加え、搬送運転と生産サイクルとの調整が容易となり、ワーク搬送手段の構造簡素化およびコスト低減化ができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３５】
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。
【００３６】
（第１の実施の形態）
本表面処理方法を実施するために最良の表面処理装置は、図１〜図７に示す如く、処理槽（例えば、１０Ｎ）の前方側（図１で左側）に前置干満槽１０ＮＦを配設するとともに図２，図３の導入側ゲート開閉手段２０ＮＦと前置側液供給手段３１ＮＦと前置側液排出手段４１ＮＦとを設け、処理槽１０Ｎの後方側（図１で右側）に後置干満槽１０ＮＢを配設するとともに図２，図３の後置側液供給手段３１ＮＢと後置側液排出手段４１ＮＢと導出側ゲート開閉手段２０ＮＢとを設け、処理槽１０Ｎに関する搬入側ゲート開閉手段２０ＮＩと搬出側ゲート開閉手段２０ＮＯとを設け、これら各手段を所定の手順に従って駆動制御する図５の駆動制御手段（１００）を設け、平板形状物（ワーク２００）を開放状態の図２に示す導入通路部１１ＮＦを通して干液状態の前置干満槽１０ＮＦに導入し、その後に満液状態とされた前置干満槽１０ＮＦから開放状態の搬入通路部１１ＮＩを通して処理槽１０Ｎに搬入し、次いで表面処理後の平板形状物を開放状態の搬出通路部１１ＮＯを通して処理槽１０Ｎから満液状態の後置干満槽１０ＮＢに搬出し、しかる後に干液状態とされた後置干満槽１０ＮＢから開放状態の後置側導出通路部１１ＮＢを通して導出しつつ平板形状物を後方側（図１で右側）に排搬送可能に形成されている。
【００３７】
すなわち、表面処理装置は、図１，図２に示す如く、導入側ゲート１２ＮＦで開閉可能な導入通路部１１ＮＦを有する前置干満槽１０ＮＦを処理槽１０Ｎの前方側に配設しかつ導出側ゲート１２ＮＢで開閉可能な導出通路部１１ＮＢを有する後置干満槽１０ＮＢをその後方側に配設したことを特徴とする。
【００３８】
また、前置干満槽１０ＮＦと処理槽１０Ｎとの間に搬入側ゲート１２ＮＩで開閉可能な搬入通路部１１ＮＩが設けられ、処理槽１０Ｎと後置干満槽１０ＮＢとの間には搬出側ゲート１２ＮＯで開閉可能な搬出通路部１１ＮＯが設けられている。さらに、前置干満槽１０ＮＦおよび後置干満槽１０ＮＢのそれぞれを干液状態および満液状態のいずれかに選択的に切換え可能でかつ前置干満槽１０ＮＦと処理槽１０Ｎとの間および処理槽１０Ｎと後置干満槽１０ＮＢとの間のそれぞれを連通状態および隔離状態のいずれかに選択的に切換可能に形成されている。
【００３９】
そして、前方側から給搬送されて来た平板形状物（２００）を干液状態の前置干満槽１０ＮＦに導入可能でかつ導入後に処理液を供給して前置干満槽を満液状態に切換え可能である。つまり、各平板形状物に第１工程を実施することができる。また、満液状態の前置干満槽１０ＮＦと処理槽１０Ｎとの間を連通状態に切換え可能でかつ切換え後に平板形状物（２００）を前置干満槽から処理槽に液中搬入可能に形成され、第２工程を実施可能に形成されている。
【００４０】
また、先の平板形状物の処理槽１０Ｎへの搬入後に処理槽と前置干満槽との間を隔離状態に切換え可能でかつ切換え後に搬入された平板形状物に表面処理を実行可能に形成されている。したがって、第３工程の一部を実施することができる。処理槽との隔離状態への切換後で次の平板形状物が前方側から前置干満槽１０ＮＦ内に導入される以前に、当該前置干満槽の処理液を外部（１７ＮＦ）に排出させて前置干満槽を干液状態に切換え可能に形成されている。第３工程の残り部分を実施することができる。
【００４１】
ここで、処理槽１０Ｎに搬入されたワーク２００に表面処理（化成処理）を施す。この表面処理の終了後に、処理槽１０Ｎと満液状態の後置干満槽１０ＮＢとの間を連通状態に切換え可能かつ切換え後に平板形状物（２００）を処理槽から後置干満槽に搬出可能に形成され、第４工程を実施することができる。
【００４２】
さらに、平板形状物の後置干満槽１０ＮＢへの搬出後に処理槽１０Ｎと後置干満槽１０ＮＢとの間を隔離状態に切換え可能でかつ切換え後に後置干満槽１０ＮＢ内の処理液を外部（１７ＮＢ）に排出させて後置干満槽を干液状態に切換え可能として第５工程を実施可能に形成するとともに、先の平板形状物の後方側への導出後でかつ処理槽１０Ｎから後置干満槽１０ＮＢ内に次の平板形状物が搬出されてくる以前に処理液を供給して後置干満槽を満液状態に切換える第６工程を実施可能に形成されている。
【００４３】
かくして、前方側から所定高さの水平状態でかつ縦吊状態で給搬送されて来た平板形状物（２００）を前置干満槽１０ＮＦおよび後置干満槽１０ＮＢを介することで処理槽１０Ｎ内を所定高さの水平状態のまま通過させて後方側に排搬送可能である。
【００４４】
確認的に、本表面処理装置（方法）の基本的構成・機能は、従来例（図１０、図１１）の場合と同様に、ワーク搬送手段（７０Ｎ等）を用いて前方側から縦吊状態で給搬送されて来た平板形状物（２００）を処理液が満たされた処理槽１０Ｎに搬入し、搬入された平板形状物に処理液中で表面処理可能かつ表面処理後の平板形状物を処理槽から搬出して後方側に排搬送し、複数枚の平板形状物を連続的に表面処理するものである。
【００４５】
これを前提としつつ、本表面処理装置を構築する際の基本的技術事項を説明する。表面処理対象であるワーク２００は、平板形状物である。この平板形状物は、従来各方式（装置）の場合のように処理液中に直接搬入（投入）すると、その先端に変形や折れ曲りが生じる虞があるプリント回路基板として、以下を説明する。搬送に関しては、薄くかつ可撓性に富んだプリント回路基板（ワーク２００）の上端部を、図３に示す複数の冶具９８を用いて挟持した縦吊状態（姿態）として、全処理槽１０に搬入・搬出する。
【００４６】
さて搬送（Ｘ）方向で処理槽（例えば、１０Ｎ）の前後に、新規で革新的な図１に示す前置干満槽１０ＮＦおよび後置干満槽１０ＮＢを採用する際に考慮される搬送時間については、次のように了解される。
【００４７】
従来（バッチ処理方式）の装置では、図１０に示す如く、先の処理槽１０ＰＭから次の処理槽１０ＰＮに搬送する場合、ワーク２００をワーク高さ寸法以上の寸法だけ槽上に引上げる上昇（Ｖ１）と、上昇後の水平移動（Ｈ１）と、処理液に浸漬させるまでの下降（Ｖ２）とが必要である。上昇（Ｖ１）はワーク２００の揺れや振動が発生しないように制御するので水平搬送（Ｈ１）の場合よりも低速となる。さらに、下降（Ｖ２）はワーク２００を自由端（先端…下端）から処理液中に投入しなければならないので、ワークの変形や湾曲を防止するためには上昇（Ｖ１）の場合よりも一段と低速化せざるを得ない。
【００４８】
ここで、大気中での水平搬送（Ｈ１）速度と前置干満槽１０ＮＦへの導入用水平搬送速度とが同一速度でかつ前置干満槽１０ＮＦから処理槽１０Ｎへの液中での搬入用水平搬送速度が該導入用水平搬送速度とほぼ同じであるとともに送りピッチ（Ｐ）が同一であると仮定すれば、水平搬送（Ｈ１）時間と導入用水平搬送時間とは同じであり、搬入用水平搬送時間は上昇（Ｖ１）時間と下降（Ｖ２）時間との和より大幅に短い。例えば、１／２以下である。すなわち、各処理槽の前後に当該各前後干満槽を設けても、全体的搬送時間は短縮することができるから、従来のバッチ処理方式（装置）の場合に比較して生産性を大幅に向上できる。また、無用な反応や酸化進行も防止できる。
【００４９】
次に、本表面処理装置においても大気中での水平搬送（導入用搬送および導出用搬送）が残るが、これら搬送はいわば空の槽（１０ＮＦおよび１０ＮＢ）内で行われる。したがって、槽上の大気中搬送［上昇（Ｖ１），水平（Ｈ１），下降（Ｖ２）］の場合に比較すれば、ワーク２００に付着する塵埃やミストの付着量は非常に少ない。したがって、この点からも、一段の品質向上を担保できる。
【００５０】
さらに、干液状態の前・後置干満槽（１０ＮＦおよび１０ＮＢ）で行われることに着目すれば、図３に示すカバー８５Ｌ，８５Ｒで槽の上部開放部分を閉鎖可能に形成することができるから、ワーク２００への付着量を極減できる。つまり、塵埃等の付着による品質低下問題を、ほぼ完全に払拭することができる。
【００５１】
左右のカバー８５Ｌ，８５Ｒは、観音開き構造とし、槽中心（搬送経路）に対応する位置には保持部材９５のＸ方向の通過スペースを確保し、また図３で右側のカバー８５Ｒには各上下リンクバー（２３，４８等）との干渉を回避可能に図３で左右方向に延びるスリットを設けておくのが好ましい。
【００５２】
なお，詳細後記の搬送構造体が、ワーク搬送経路（槽中心）とレール９０とを図３で左右方向に位置ずれさせた位置関係を保持可能に形成されているので、槽外側に位置する摺動部（レール９０，キャリア９３等々）から発生する微細粒子が、処理槽１０Ｎに混入する虞がない。したがって、カバー設置と相俟って飛躍的な品質向上を期待できる。
【００５３】
さて、この実施の形態では、一番目の処理槽（１０Ａ…図示省略）から最終番目の処理槽（１０Ｘ…図示省略）までの多数の処理槽１０を図２の搬送（Ｘ）方向の前方側から後方側に一直線上に列配設した構造であるが、説明便宜と図示簡略の観点から、図２および図７ではＮ番目の処理槽（化成処理槽）１０ＮおよびＯ（＝Ｎ＋１）番目の処理槽（水洗処理槽）１０Ｏに関する部分を表示し、他の処理槽に関する部分ついては図示省略した。また、図１ではＮ番目の処理槽（化成処理槽）１０Ｎに関する部分のみ表示した。
【００５４】
なお、図３は、図１において前置干満槽１０ＮＦ内の右側（後方側）から左側（前方側）を見た状態を図示してある。また、図３の前置干満槽１０ＮＦに付記された符号（１１ＮＦ，１２ＮＦ，２０ＮＦ，３１ＮＦ，４１ＮＦ等）を後置干満槽１０ＮＢに対応する符号（１１ＮＢ，１２ＮＢ，２０ＮＢ，３１ＮＢ，４１ＮＢ等・・・図３中にカッコ書きした。）に読み替えてみれば、前置干満槽１０ＮＦと同一構造である後置干満槽１０ＮＢを理解することができる。
【００５５】
また、図３に示す前置側液排出手段４１ＮＦおよび排出口１４ＮＦＨを除けば、処理槽１０Ｎが前置干満槽１０ＮＦの場合と同様な構造であることがわかる。但し、図２に示すようにＸ方向の槽長は相異する。したがって、後置干満槽１０ＮＢおよび処理槽１０Ｎに関する構造部分については、図３に対応する詳細図は記載省略する。
【００５６】
そこで、はじめに、前置干満槽１０ＮＦおよびこれに関する各手段（１１ＮＦ，１２ＮＦ，２０ＮＦ，３１ＮＦ，４１ＮＦ等）について説明する。
【００５７】
図３において、前置干満槽１０ＮＦは、有底かつ上部開放の角筒型タンク構造でかつ耐薬品性材料から形成され、全体的には架台構造１に支持されている。この前置干満槽１０ＮＦと処理槽１０Ｎと後置干満槽１０ＮＢとは、図２に示すように一体的に形成されている。つまり、体積が非常に小さいワーク２００の特殊性に着目し、これを収容するための干満槽１０ＮＦ，１０ＮＢの容積を非常に小さきくすることで、処理液の供給による満液状態と排出による干液状態への切換えという新規技術の導入を可能としたわけである。
【００５８】
なお、図２に示した後方側の前置干満槽１０ＯＦ，処理槽１０Ｏおよび後置干満槽１０ＯＢの場合も、同様に一体的に形成されている。
【００５９】
前置干満槽１０ＮＦの両側には、オーバーフロー槽１５ＮＦが形成されている。このオーバーフロー槽１５ＮＦは、処理液を供給して前置干満槽１０ＮＦの処理液面Ｌｈを一定（処理槽の処理液面と同じ。）に保った満液状態を確立する際に、槽璧上部から溢出する余剰処理液Ｑｏを回収する役目を持つ。オーバーフロー槽１５ＮＦとこれと同様に支持された下方の液貯槽１７ＮＦとは、貫通口１５ＮＦＨを介して連通されている。貫通口１５ＮＦＨを通して液貯槽１７ＮＦに戻る液量をＱｄで表わす。
【００６０】
なお、処理層１０Ｎおよび後置干満槽１０ＮＢの両側にも同様なオーバーフロー槽１５Ｎ，１５ＮＦが設けられ、これら（前置側１５ＮＦおよび後置側１５ＮＢ）は図２，図３に示すようにオーバーフロー１５Ｎと一体的に形成されている。同様に、液貯槽（前置側１７ＮＦおよび後置側１７ＮＢ）も液貯槽１７Ｎと一体的に形成されている。したがって、構造が簡素化されるので、装置コストを低減できるとともに、処理液の組成管理が容易で、取扱いも簡単である。
【００６１】
前置干満槽１０ＮＦの前方側壁面１０ＮＦＦには、図３に点線で示すスリット形状の前置側導入通路部１１ＮＦが設けられ、この前置側導入通路部１１ＮＦは槽内側に装着された図１の導入側ゲート１２ＮＦによって開閉することができる。したがって、前置側導入通路部１１ＮＦの幅（寸法）を、通過するワーク２００と接触しない程度でかつ適宜で比較的に大きな値に選択することができる。
【００６２】
少なくとも、従来連続処理方式の装置（図１１）の場合（隙間Ｓ１，Ｓ２）に比較して遥かに大きくすることができる。この意味で、処理槽１０Ｎへの搬入時における構造物（１０ＮＦＦ等）との衝突を回避することができるので、ワーク２００に傷を付ける心配がなくなる。こらは、処理品質の向上に直結する。
【００６３】
導入側ゲート１２ＮＦは、図１に示すように、前置干満槽１０ＮＦの内側に設けられかつ図３の槽内壁面１０ＮＦＦに沿ってスライド（往復摺動）可能に形成されている。導入側ゲート１２ＮＦと導入通路部１１ＮＦとの間に、例えば高性能で高級のシール構造を付設する等の手立てを講ずれば、閉鎖状態において導入側ゲート１２ＮＦと導入通路部１１ＮＦとの隙間から槽外に漏れだす液量Ｑｒを極少または絶無化すことも可能である。しかし、大掛りなシール構造の採用（付設）は、槽内の構造簡素化およびメンテナンスフリー化に逆行しかねずかつ大幅な装置コスト高を招くので、現実的でない。但し、この発明を実施するに際して、これを否定するものではない。
【００６４】
この実施の形態では、満液状態における液差圧（ゲート内外の液圧と大気圧との圧力差）の有効利用を期するために、上記のように導入側ゲート１２ＮＦを槽（１０ＮＦ）内に設けているわけである。すなわち、導入側ゲート１２ＮＦを槽内壁面１０ＮＦＦに液差圧で押付けることにより、シール性を高める構造としている。構造簡単で、低コストで具現化できる。しかし、完全シール構造でないから、槽壁面１０ＮＦＦと導入側ゲート１２ＮＦとの隙間から少量の処理液Ｑｒが外部に漏れ出す。そこで、漏れ出した処理液Ｑｒは、図１に示す漏れ回収部１６ＮＦに回収しかつ連通口１６ＮＦＨを通して液貯槽１７ＮＦ（１７Ｎ）に戻し、再循環利用するものとされている。
【００６５】
この導入側ゲート１２ＮＦを開閉するための導入側ゲート開閉手段２０ＮＦは、図３に示すように、シリンダ装置２５と，支点２１を中心に揺動（回動）可能な傾斜リンクバー２２と，この傾斜リンクバー２２の先端側に回転可能に連結されかつその長手方向に複数の係合ピン２４が固着された上下リンクバー２３とから形成されている。
【００６６】
図３、図４において、各係合ピン２４は、導入側ゲート１２ＮＦに設けられた各傾斜長穴１２Ｓに嵌挿（係合）され、傾斜長穴１２Ｓ内を摺動できる。この係合ピン２４と傾斜長穴１２Ｓとの相対移動により、導入側ゲート１２ＮＦの横移動力（上下方向力も生じる。）を発生させることができる。
【００６７】
シリンダ装置２５の停止時（ピストン没入時）は、傾斜リンクバー２２が図３に２点鎖線で示す如く上下リンクバー２３を上方へ引上げた状態であるから、導入側ゲート１２ＮＦを図４に２点鎖線で示す如く右方向に移動させた状態つまり導入通路部１１ＮＦを開放させた状態に保持できる。
【００６８】
ここで、シリンダ装置２５を作動させると、ピストンが突出し傾斜リンクバー２２を図３に実線で示す左下り状態に傾斜させ、上下リンクバー２３を下方に押し下げる（押し下げ寸法は、図４に示す“Ｈ”である。）。すると、係合ピン２４が図４の傾斜長穴１２Ｓ内を左上端から右下端に相対移動する。したがって、導入側ゲート１２ＮＦを図４に実線で示す如く左方向に移動（移動量はＷである。）させた状態つまり導入通路部１１ＮＦを閉鎖させることができる。設定角度θ（傾斜長穴の傾斜）を選択設定することにより、Ｗ＝２Ｈにして２倍増幅機能を持たせてある。
【００６９】
すなわち、導入側ゲート開閉手段２０ＮＦは、前置干満槽１０ＮＦの外側から付与される上下方向力を利用して導入側ゲート１２ＮＦを横方向（図３で左右方向）にスライドさせて導入通路部１１ＮＦを開閉可能に形成されている。かかる構造とすれば、構造簡単かつ安価で具現化が容易であるばかりか、前置干満槽１０ＮＦ内に占める占有エリアを小さくでき、結果として前置干満槽１０ＮＦの小型化に有効でかつ寄与するところ大であり、また小ストローク（Ｈ）作動により導入側ゲート１２ＮＦによる導入通路部１１ＮＦの急速開閉ができる。
【００７０】
ここに、図３に示す導入側ゲート開閉手段２０ＮＦ（および導出側ゲート開閉手段２０ＮＢ）は、当該干満槽１０ＮＦ（１０ＮＢ）が干液状態（図６のＳＴ１８）に保持されている場合に開閉（ＳＴ２０、ＳＴ２２）される。つまり、ゲート１２ＮＦ（１２ＮＢ）の内外面に液差圧が加わらない状態で開閉することになるので、導入側ゲート開閉手段２０ＮＦ（および導出側ゲート開閉手段２０ＮＢ）の能力を小さくすることができる。シリンダ装置２５は小容量のものでよく、構成要素（２２等）の剛性も小さくできるので、有利である。手動調整の場合も軽力ですむ。
【００７１】
因みに、処理槽１０Ｎ内に設けるゲート１２ＮＩ，１２ＮＯは、干満槽１０ＮＦ，１０ＮＢが満液状態（図６のＳＴ１４）に保持されている場合に開閉（ＳＴ１５、ＳＴ１７）することになる。この場合も、ゲート１２ＮＩ，２ＮＯに液差圧が加わらない状態で開閉することになるので、搬入・搬出側ゲート開閉手段２０ＮＩ，２０ＮＢの能力（容量）も、導入側ゲート開閉手段２０ＮＦ，２０ＮＢの場合と同様に小さくてもよいわけである。
【００７２】
次に、図１，図３に示す前置側液干満切換手段３０ＮＦは、図３の前置干満槽１０ＮＦを処理液で満たした満液状態（最高液レベルＬｈ）と空である干液状態（最低液レベルＬｌ）とに選択的に切換えるための手段であり、この実施の形態では、図３に示すように前置側液供給手段３１ＮＦと前置側液排出手段４１ＮＦとから形成されている。槽の名が干満槽と呼称される所以である。
【００７３】
前置側液供給手段３１ＮＦは、図１に示す吸込管３２，供給ポンプ３３および供給管３５を含み、供給ポンプ３３により液貯槽１７ＮＦ（１７Ｎ）内の処理液を強制的に加圧して図３の左側から前置干満槽１０ＮＦに供給する強制加圧供給構造とされている。
【００７４】
前置干満槽１０ＮＦの底部側には、図３に示す如く、整流板１３ＮＦが設けられている。この整流板１３ＮＦには、左右に対向振り分けされた整流孔群１３ＮＦＨが設けられている。各整流孔群１３ＮＦＨは、多数の整流孔からなり、導入されたワーク２００の各面側に上昇液流Ｆｐを生成可能である。この上昇液流Ｆｐは、層状（平行）流であり、縦吊状態のワーク２００に大きな湾曲や変形はもとより、無用な揺れや振動も与えない。傷を付ける虞も全くない。
【００７５】
すなわち、バッチ処理方式の従来装置（図１０）の場合には、下端部を自由端とみなすことができる縦吊状態のワーク２００を、その上端部を固定端とする状態で処理槽１０Ｎ内に下降させつつ、自由端の方から処理液中に搬入（下降・投入・浸漬）せざるを得なかった。この際の処理液は、ワーク２００に対する抵抗体乃至外力付与手段として働く。かくして、ワーク２００に湾曲や変形を生じさせないためには、大掛かりな縦吊姿態維持手段等を設ける必要があったわけである。
【００７６】
しかし、この実施の形態の場合には、前置干満槽１０ＮＦに導入されかつ静止状態に保持された縦吊状態のワーク２００に対して、その下方側から処理液を供給しつつ、液面Ｌを最低レベルＬｌから最高レベルＬｈまで徐々に上げて行く。はじめに、ワーク２００の下端部（自由端）が、供給された処理液により固定化されたことになる。また、その後の上昇液流Ｆｐが平行流であるから、ワーク２００の各面に直交する方向の外力が生じることがない。機械的な接触もない。
【００７７】
かくして、縦吊状態のワーク２００に湾曲や変形が生じることがなく、揺れや振動も軽微に抑制することができるから、ワーク２００を処理液中に投入する際の従来問題点（表面処理面に傷が付く、破損する。）を一掃することができる。すなわち、厚みがより薄く、一段と可撓性に富みあるいは寸法がより大きいワーク（プリント回路基板等）２００でも確実かつ安定して処理液中に浸漬することができる。つまり、ワーク２００の形態や性質（性状）等に対する適応性が極めて広い。
【００７８】
供給ポンプ３３の加圧により図３に示す前置干満槽１０ＮＦ内の液面は、最低限Ｌｌから徐々に上昇し、壁面上部からオーバーフロー槽１５ＮＦ（１５Ｎ）に溢出する。したがって、液面は最高限Ｌｈに一定に維持される。この液面（Ｌｈ）は処理槽１０Ｎ内の処理液面と同一である。したがって、満液状態で連通された前置干満槽１０ＮＦから処理槽１０Ｎへのワーク搬入をスムースに行える。
【００７９】
つまり、図１１に示すように、ワークを開口部１１ＰＮから上流側（前方側）に向けて勢い良く溢出される処理液Ｑｒに向かってその反対方向（搬送方向）から、しかも大気中から突入させざるを得なかった連続処理方式の従来装置の場合に比較すれば、ワーク搬入の容易性および安定性は明白である。ワークの自由端を大気中の上方から下方の静止液中に直接投入するバッチ処理方式の従来装置（図１０）の場合に比較しても同様である。
【００８０】
次に、前置側液排出手段４１ＮＦは、図３に示す排出用ゲート４３と排出用ゲート開閉手段４５とを含み、前置干満槽１０ＮＦの下方側で右側の壁面に設けた排出口１４ＮＦＨを強制開放して処理液を液貯槽１７ＮＦに急速流出させる強制開放自然排出構造とされている。
【００８１】
排出用ゲート開閉手段４５は、図３の右上側に示すシリンダ装置２５と同様なシリンダ装置４９，支点２１と同様な支点４６を中心に揺動（回動）可能な傾斜リンクバー２２と同様な傾斜リンクバー（４７…図示省略）と，この傾斜リンクバー（４７）の先端側に回転可能に連結された上下リンクバー４８とから形成されている。この上下リンクバー４８の先端（下端）に排出用ゲート４３が取り付けられている。排出用ゲート４３は、前置干満槽１０ＮＦの排出口１４ＮＦＨを設けた内壁面に上下動可能に案内されている。
【００８２】
この排出口１４ＮＦＨは、前置干満槽１０ＮＦ内の処理液を液貯槽１７ＮＦ（１７Ｎ）に急速流出させるために必要十分な開口面積を有する。例えば１秒以内で満液状態から干液状態に切換えることができる大きさに選択される。したがって、排出口１４ＮＦＨの取付け位置は、前置干満槽１０ＮＦの長手方向（図１で左右方向）に延びる側壁内面でかつ槽底部とすべきである。もっとも、ワーク２００の形態上、槽幅方向（図３で左右方向）は絶対長が短く、さらに導入側ゲート１２ＮＦおよび導入通路部１１ＮＦとの干渉を回避しなければならないので、十分な開口面積を確保することができない場合が多いであろう。
【００８３】
なお、前置干満槽１０ＮＦへの導入時間や導出時間として許される余裕時間を長くする観点からも、速やかな液供給と比較的に急速な液排出とを期することが重要である。しかし、大きな装置的犠牲を強いるような過度な高速化を求めるものではない。つまり、任意処理槽における最短の表面処理時間に基づくサイクルタイムが３０秒であると仮定すれば、例えば前置干満槽１０ＮＦの場合、先の搬入後から次の導入前までの時間（３０秒）内に液排出および液供給を終了しておけばよいからである。
【００８４】
ここに、後置干満槽１０ＮＢに関しては、以上の前置干満槽１０ＮＦに関する場合と同様である。すなわち、後置干満槽自体の構造並びに後置干満槽１０ＮＢに関する後置側導出通路部１１ＮＢ，導出側ゲート開閉手段２０ＮＢおよび後置側液干満切換手段３０ＮＢ（後置側液供給手段３１ＮＢおよび後置側液排出手段４１ＮＢ）等は、前置干満槽自体の構造並びに前置干満槽１０ＮＦに関する前置側導出通路部１１ＮＦ，導入出側ゲート開閉手段２０ＮＦおよび前置側液干満切換手段３０ＮＦ（前置側液供給手段３１ＮＦおよび前置側液排出手段４１ＮＦ）等と同じである。これらの後置側各手段の符号は、図３中にカッコ書きした。
【００８５】
同様に、処理槽１０Ｎに関して言えば、処理槽自体の構造並びに処理槽１０Ｎに関する搬入側ゲート開閉手段２０ＮＩ，搬出側ゲート開閉手段２０ＮＯ等は、前置干満槽自体の構造並びに前置干満槽１０ＮＦに関する導入側ゲート開閉手段２０ＮＦ等と同じである。ただし、後置側各手段の符号（２０ＮＩ，２０ＮＯ）は、図３では図示していないが、図２中にカッコ書きしてある。
【００８６】
なお、処理槽１０Ｎに関しては、従来例の場合と同様な図１に示す液循環手段３１Ｎが設けられているが、前置干満槽１０ＮＦで必要な前置側液干満切換手段３０ＮＦ（前置側液供給手段３１ＮＦおよび前置側液排出手段４１ＮＦ）に対応する手段を設ける必要はない。
【００８７】
この液循環手段３１Ｎは、図１に示す吸込管３２，循環供給ポンプ３３Ｒ，フィルタ（図示省略）および供給管３５を含み、循環供給ポンプ３３により液貯槽１７Ｎ内の処理液を強制加圧して処理槽１０Ｎに供給して循環使用する。また、処理層１０Ｎ内に装着された整流孔１３ＮＨ，オーバーフロー槽１５Ｎ等は、前置干満槽１０ＮＦに関する整流孔１３ＮＦＨ，オーバーフロー槽１５ＮＦ等と同じで、これらの符号（１３ＮＨ，１５Ｎ）は、カッコ書きしてある。
【００８８】
次に、ワーク搬送手段７０は、前方側（第１番目処理槽）から後方側（最終番目処理槽）までワーク２００を水平搬送する手段である。処理槽１０Ｎに関するワーク搬送手段は、第１工程から第６工程を実施するために必要な３系統である。
【００８９】
３系統（但し、後記する兼用構造とすることで、最終的かつ具体的には２系統とした。）とする根拠は、搬送要件１（処理槽１０Ｎにおける処理時間および処理槽長さ寸法の関係から、処理槽１０Ｎ内でのピッチ送りが必要である。）および搬送要件２（各干満槽内でのピッチ送りは必要ないが、生産性の向上を期した全体的な搬送円滑化のために導入用と導出用とは同期運転をさせたい。）を満足させるためである。
【００９０】
すなわち、処理槽１０Ｎに関するワーク搬送手段は、図７（Ａ）〜（Ｅ）に示す如く、処理槽１０Ｎでワーク２００を１ピッチ間歇送りさせるための搬入用と搬出用とを兼ねる同図（Ｂ）に示すプッシャ７０Ｎと、前方側（先の処理槽１０Ｍ）から来たワーク２００を前置干満槽１０ＮＦに導入するための導入用プッシャ７０ＮＦと、後置干満槽１０ＮＢからワークを導出させるための導出用プッシャ７０ＮＢとから形成されている。プッシャ７０Ｎ（、７０ＮＦおよび７０ＮＢ）は、図７（Ｂ）に示す往復移動部材７１に複数のアンチバックトグ７２を装着させた構造で、各アンチバックトグ７２を同時に１ピッチ分だけ搬送（送り…ＦＲ，戻し…ＢＫ）することができる。
【００９１】
なお、他の各処理槽に関する各ワーク搬送手段も、処理槽１０Ｎに関するワーク搬送手段（プッシャ７０Ｎ，プッシャ７０ＮＦ，プッシャ７０ＮＢ）の場合と同様な構造（但し、槽内ピッチ送りを必要としない処理槽では、７０Ｎ相当がない。）とされる。
【００９２】
すなわち、ワーク搬送手段７０（７０Ｎ，７０ＮＦ，７０ＮＢ）は、前方側から前置干満槽１０ＮＦへの導入用プッシャ７０ＮＦと，前置干満槽から処理槽１０Ｎへの搬入用および処理槽から後置干満槽１０ＮＢへの搬出用を兼用するプッシャ７０Ｎと，後置干満槽から後方側への導出用プッシャ７０ＮＢとを含み、導入用プッシャ７０ＮＦと導出用プッシャ７０ＮＢとが同期運転可能に形成されている。
【００９３】
つまり、導入用プッシャ７０ＮＦと導出用プッシャ７０ＮＢとの同期運転をさせることによりサイクルタイムの短縮化ができかつ導入・導出用（７０ＮＦ，７０ＮＢ）と搬入・搬出用（７０Ｎ）との時間差の設定変更等によって搬送運転と生産サイクルとの調整を容易に行え、ワーク搬送手段（プッシャ全体）の構造簡素化・一体化およびコスト低減化ができる。駆動制御も簡素化できる。
【００９４】
すなわち、搬送の高速化、生産能率の向上、低コスト化、駆動制御の容易化、装置小型化等を踏まえた具体的で実用的な設備構築上の観点から、この実施の形態では、機能目的が同一乃至同種のプッシャ（７０ＮＦ，７０ＮＢ）を一体的に構成しかつ同期運転（同一タイミング）で送り動作可能に構築してある。
【００９５】
これと関連しかつ図７（Ｂ）において、先の処理槽（１０Ｎ）に関する導出用プッシャ（７０ＮＢ）と次の処理槽（１０Ｏ）に関する導入用プッシャ（７０ＯＦ）とは、同一のプッシャ（７０ＮＢ＝７０ＯＦ）として兼用構築することができる。また、この実施の形態では、全ての処理槽を対象として、先の処理槽（例えば、１０Ｍ、１０Ｎ）に関する導出用プッシャ（７０ＭＢ、７０ＮＢ）と次の処理槽（１０Ｎ、１０Ｏ）に関する導入用プッシャ（７０ＮＦ、７０ＯＦ）とについても、兼用可能に構築しかつ同期運転可能に形成してある。
【００９６】
さらに、各処理槽（例えば、１０Ｍ、１０Ｎ、１０Ｏ、１０Ｐ）の当該各プッシャ（７０Ｍ、７０Ｎ、７０Ｏ、７０Ｐ）を同期運転可能な一体的構造としてある。かくして、最終的には、導入用と導出用とを兼ねるプッシャと、搬入用と搬出用とを兼用するプッシャ７０Ｎとの２系統とされている。なお、図７（Ｂ）では、左側の処理槽１０Ｍと右側の処理槽１０Ｐとは図示を省略している。
【００９７】
なお、ワーク搬送手段は、プッシャ構造に限定されるものではない。適宜の搬送方式や構造を選択することができる。この実施の形態における処理槽（めっき処理槽）［図示省略］に関しては、図３に示すベルトコンベア７５とされ、ワーク２００を定速（例えば、１ｍ／ｍｉｎに設定）かつ連続で槽内を搬送可能に形成してある。このように、槽長が複数（例えば、４以上）ピッチ分である処理槽に関しては、連続搬送方式の手段（ベルトコンベア等）を採用するのが好ましい。
【００９８】
ここに、いずれの構造（プッシャやベルトコンベア）のワーク搬送手段を採用しても、ワーク２００は搬送構造体を介して行われる。図３に示す搬送構造体は、紙面に垂直方向（図２のＸ方向）に延設されたレール９０と，このレール９０に沿って摺動（あるいは転動）可能に装着されたキャリア９３と，このキャリア９３の一部を構成する横腕木部材９３Ｈの先端に取り付けられた保持部材９５と，この保持部材９５に着脱可能な冶具９８とから形成されている。
【００９９】
この実施の形態では、搬送構造体（９０，９３）並びにワーク搬送手段（７０ＮＦ等，７５）を処理槽の外側（図３で右側）に位置をずらせて配置してある。これら構造・手段の相対摺動部で発生する微細な塵埃が処理槽（１０Ｎ等）内に落下することを防止するためである。一段の高品質処理を第１義とする本表面処理装置の構成については、隅々まで配慮されているものと理解される。
【０１００】
因みに、一般的な従来装置では、レール９０を処理槽の中心線に合わせているので、上記相対摺動部で発生する微細な塵埃の品質に及ぼす影響については、認識が無いものと思われる。もつとも、一段の高品質処理を求められない場合には、必要ないであろう。
【０１０１】
図３において、冶具（挟持具）９８は、保持部材９５にねじ止め固定される本体ベース９８Ｂと，支点を中心に回動可能なクランプ９８Ｃと，クランプ９８Ｃの一端（先端）を本体ベース９８Ｂに常時押圧かつ常時挟持するための付勢力を付与するスプリング９８Ｓとから形成され、クランプ９８Ｃの先端と本体ベース９８Ｂとの間でワーク２００の上端部を挟持する。
【０１０２】
なお、図示しないめっき槽（処理槽）の場合には、元電源に接続されたレール９０から横腕木部材９３Ｈを含むキャリア９３→保持部材９５→冶具９８の電路を通してワーク２００に給電（負極接続）される。めっき槽内には、ワーク２００に対向可能な位置に電極（陽極接続）が設けられている。レール９０は、ワーク２００へ給電するための給電手段の一部を構成するので、銅系金属から形成されている。
【０１０３】
次に、駆動制御手段（１００）は、ワーク搬送手段［７０，７０Ｆ（７０Ｂ），７５］、各処理槽（１０）および当該各前・後置干満槽（１０Ｆ，１０Ｂ）に関する各手段すなわち導入側ゲート開閉手段２０ＮＦ、前置側液供給手段３１ＮＦ、前置側液排出手段４１ＮＦ、搬入側ゲート開閉手段２０ＮＩ、搬出側ゲート開閉手段２０ＮＯ、後置側液供給手段３１ＮＢ、後置側液排出手段４１ＮＢおよび導出側ゲート開閉手段２０ＮＢを所定の手順に従って駆動制御可能で、この実施の形態では、図５に示すコンピュータから形成されている。なお、ロジック回路等から構成してもよい。
【０１０４】
図５において、コンピュータ１００は、ＣＰＵ（時計機能を含む）１０１，ＲＯＭ１０２，ＲＡＭ１０３，メモリ（強誘電体メモリ）１０４，ハードディスク（ＨＤＤ）１０５，操作部（ＰＮＬ）１０６，表示部（ＩＮＤ）１０７および複数のインターフェイス（Ｉ／Ｆ）１０８ＮＦ等を含み、設定・選択・指令・駆動制御等の機能を有し表面処理装置全体を運転駆動制御する運転駆動制御装置を形成する。
【０１０５】
この図５では、インターフェイス１０８ＮＦに前置処理槽１０ＮＦに関する導入側ゲート開閉手段等２０ＮＦおよび前置側液干満切換手段３０ＮＦ（前置側液供給手段３１ＮＦと前置側液排出手段４１ＮＦ）が接続され、インターフェイス１０８Ｎに処理槽１０Ｎに関する搬入側ゲート開閉手段等２０ＮＩ，液循環手段３１Ｎおよび搬出側ゲート開閉手段２０ＮＯが接続され、かつインターフェイス１０８ＮＢに後置処理槽１０ＮＢに関する導出側ゲート開閉手段等２０ＮＢおよび後置側液干満切換手段３０ＮＢ（後置側液供給手段３１ＮＢと後置側液排出手段４１ＮＢ）が接続されている。
【０１０６】
なお、他の各処理槽と当該各前置干満槽および当該各後置干満槽とに関する各手段については、インターフェイス１０８ＯＴＨに接続されているものとして、詳細は図示省略する。
【０１０７】
各処理槽に共通として構築したワーク搬送手段７０（７０Ａ〜７０Ｘ）および当該各前置干満槽［これと兼用可能な各後置干満槽］に共通として構築したワーク搬送手段７０Ｆ（７０ＡＦ〜７０ＸＦ）［７０Ｂ（７０ＡＢ〜７０ＸＢ）］と、めっき処理槽に専用のベルトコンベア（連続搬送手段）７５とは、インターフェイス１０９に接続されている。なお、各インターフェイスには、当該各手段との関係で必要な各種センサーが接続されているが、図示省略した。また、従来例の場合と同様な装置（例えば、電源装置）等についても図５では図示省略した。
【０１０８】
ここに、駆動制御手段（１００）は、主に、駆動制御プログラムを格納させたＲＯＭ１０２およびＨＤＤ１０５と、駆動制御プログラムを読み出して実行するＣＰＵ１０１とから形成されている。駆動制御プログラムに必要な固定情報等はＲＯＭ１０２側に格納されている。また、実行に際して設定入力あるいは設定変更される情報はメモリ１０４に記憶保持されている。いずれも読み出されかつＲＡＭ１０３に展開されて利用される。
【０１０９】
駆動制御プログラムは、各平板形状物（ワーク２００）を前方側から後方側までの全処理槽をそれぞれに搬送等できるもの（少なくても上記した第１工程から第６工程までを実施可能なプログラムを含む。）であれば、その形式等は限定されずに、自由に作成することができる。
【０１１０】
しかし、運用の実際では、生産性の一段の向上を目指して、複数の平板形状物（ワーク２００）を順番にかつ連続的に搬送等しつつ表面処理を実施すべきである。そこで、この実施の形態では、各処理槽に関するゲート開閉動作，干満切換動作，搬送動作等の動作タイミングを可能な限り同期させるように工夫してプログラムを作成してある。
【０１１１】
すなわち、駆動制御プログラムは、図６のＳＴ（ステップ）１０〜ＳＴ２５として現せる。以下に、図７（Ａ）〜（Ｅ）を参照しつつプログラムを説明する。なお、図６では、第１工程〜第６工程内の幾つかの２工程が経時的に前後しているように見える場合もあるが、１枚の平板形状物（ワーク２０）に着目すれば、第１工程〜第６工程はこの順序で実施（実行）されていることが明白に理解される。
【０１１２】
駆動制御指令によりプログラムが起動する。最初に、初期状態が確立（ＯＫ）しているか否かが判別される（図６のＳＴ１０）。不確立（ＮＯ）であると判別（ＳＴ１０でＮＯ）されると、次の２種類の動作が自動で行われる。
【０１１３】
まず、全ての開閉ゲートを閉鎖する（ＳＴ１１）。処理槽１０Ｎに関して言えば、ゲート開閉手段（２０ＮＦ，２０ＮＩ，２０ＮＯ，２０ＮＢ）を駆動制御して当該各ゲート（１２ＮＦ，１２ＮＩ，１２ＮＯ，１２ＮＢ）を同期駆動して閉鎖する。シリンダ装置２５用のソレノイドのＯＮ（ＯＦＦ）制御による。
【０１１４】
そして、閉鎖状態（図７のゲート近辺に“×”印を付した。）になったことは、各センサーで検出され、表示部１０７で目視確認できる。処理槽１０Ｏに関しても同様に開閉ゲートは閉鎖状態とする。図７（Ａ）に初期状態が確立された場合を示す。
【０１１５】
なお、図７（Ａ）等には、以下の説明便宜のために複数（例えば、８つ）の平板形状物（プリント回路基板）つまりワーク２００（右から左に“Ａ”，“Ｂ”，“Ｃ”，“Ｄ”，“Ｅ”，“Ｆ”，“Ｇ”，“Ｈ”）が、既に図示の通りの位置に所在するものとする。
【０１１６】
引き続き、全ての前後干満槽（１０ＮＦ，１０ＮＢ等）を干液状態に切換える（ＳＴ１２）。各液排出手段（４１ＮＦ，４１ＮＢ等）を駆動制御して行われる。図３のシリンダ装置４９用のソレノイドのＯＮ（ＯＦＦ）制御による。干液状態［図７（Ａ）］は、液面（レベル）Ｌが最低限Ｌｌになった状態である。これも各センサーで検出され、表示部１０７に表示出力されるので目視確認することができる。
【０１１７】
同時的に、前後干満槽１０ＮＦに関する各プッシャを初期状態（位置）に戻す（ＳＴ１３）。すなわち、処理槽１０Ｎに関しては、前置側のプッシャ７０ＮＦ（処理槽１０Ｍの後置側のプッシャ７０ＭＢとしても兼用）と後置側のプッシャ７０ＮＢ（処理槽１０Ｏの前置側のプッシャ７０ＯＦとしても兼用）とを元に戻す。つまり、図７（Ｅ）に示す状態からプッシャ７０ＮＦおよびプッシャ７０ＮＢを左方向に１ピッチ分だけ戻して、図７（Ａ）に示す状態に移行させるわけである。なお、図７中の矢印（→）に記した符号“ＦＤ”は前進（移行）を意味し、符号“ＢＫ”は後退（戻り）を意味するものとする。
【０１１８】
この場合、処理槽１０Ｎに関するプッシャ７０Ｎは既に初期状態［図７（Ｅ），（Ａ）を参照］であるから、元に戻す必要がない。但し、直前にメンテナンスや調整等をした結果として、図７（Ｂ）に示す状態にある場合には、図７（Ｃ）に示すように左方向の初期状態（位置）に戻される。
【０１１９】
なお、メンテナンスや調整を行うためにあるいは予め指定状態を確立しておくための便宜上、自動モードから手動モードに切換えれば、表示部１０７に表示出力されるガイダンスを参照しながらかつ操作部１０６のキーを用いた手動操作によって、図６の各ステップ（ＳＴ）に相当する動作を個別的に行えるように形成してある。
【０１２０】
この初期状態が確立したことがセンサーの検出により確認できた場合には、その後に各前後干満槽（１０ＮＦ等）を満液状態に切換える。処理槽１０Ｎの前置干満槽１０ＮＦおよび後置干満槽１０ＮＢに関していえば、前置側液供給手段３１ＮＦおよび後置側液供給手段３１ＮＢを駆動制御（供給ポンプ３３用モータの回転制御）しつつ処理液を供給して満液状態に切換える（ＳＴ１４）。図７（Ａ）に示す干液状態（レベルＬｌ）から図７（Ｂ）に示す満液状態（レベルＬｈ）に切換えられる。この状態において、開閉ゲート１２ＮＦから前方（１０Ｍ）側に漏れる少量の処理液Ｑｒは漏れ回収部１６ＮＦに回収される。
【０１２１】
次に、処理槽１０Ｎに関する搬入側ゲート開閉手段２０ＮＩおよび搬出側ゲート開閉手段２０ＮＯを駆動制御して、搬入側ゲート１２ＮＩおよび搬出側ゲート１２ＮＯを開放状態に切換える（ＳＴ１５）。図７（Ａ）に示す閉鎖状態（“×”）から図７（Ｂ）に示す開放状態（“○”）とする。したがって、前置干満槽１０ＮＦと処理槽１０Ｎと後置干満槽１０ＮＢとの液面（レベル）が全て同じ（Ｌｈ）となる。つまり、連通状態になるので、搬送上は、実質的に１つの処理槽として取り扱える。つまり、ワーク２００の液中水平搬送が可能となる。
【０１２２】
かくして、駆動制御手段（１００）は、処理槽１０Ｎに関するプッシャ７０Ｎを図７（Ａ）に示す初期位置から図７（Ｂ）に示す如く右方向に１ピッチ（Ｐ）分だけ移動させる。つまり、ワーク“Ｆ”，“Ｅ”，“Ｄ”を同時に１ピッチ分だけ搬送する（ＳＴ１６）。処理槽１０Ｏに関しては、ワーク“Ｃ”，“Ｂ”を同時に１ピッチ分だけ搬送する。
【０１２３】
すなわち、前置干満槽１０ＮＦから処理槽１０Ｎへのワーク（“Ｆ”）の搬入と、処理槽１０Ｎ内でのワーク（“Ｅ”）の１ピッチ分搬送と、処理槽１０Ｎから後置干満槽１０ＮＢへのワーク（“Ｄ”）の搬出とを同一タイミング（同期運転）で行う。
【０１２４】
ここに、処理槽１０Ｎへのワーク（“Ｆ”）の搬入および処理槽１０Ｎからのワーク（“Ｄ”）の搬出も、処理槽１０Ｎ内でのワーク（“Ｅ”）の搬送の場合と同様に処理液中で行うことができるから、従来バッチ処理方式や連続処理方法の場合の問題点（大気中から処理液中に直接投入することによる変形等の発生。）を一掃することができるわけである。この点からも、一段と処理の高品質化を促進できる。
【０１２５】
その後に、搬入側ゲート開閉手段２０ＮＩおよび搬出側ゲート開閉手段２０ＮＯを駆動制御することにより、搬入側ゲート１２ＮＩおよび搬出側ゲート１２ＮＯを同期駆動して閉鎖状態［図７（Ｂ）に示すカッコ書きした“×”］に切換える（ＳＴ１７）。この状態において、開閉ゲート１２ＮＢから後方（１０Ｏ）側に漏れる少量の処理液Ｑｒは、漏れ回収部１６ＮＢに回収される。
【０１２６】
前後干満槽１０ＮＦ，１０ＮＢと処理槽１０Ｎとを隔離状態とした後に、処理槽１０Ｎに関すれば、前置側液排出手段４１ＮＦおよび後置側液排出手段４１ＮＢ等を駆動制御して、前・後置干満槽１０ＮＦ，１０ＮＢの処理液を液貯槽１７Ｎ（１７ＮＦ，１７ＮＢ）に排出する。これにより、図７（Ｂ）に示す満液状態から図７（Ｃ）に示す干液状態に切換える（ＳＴ１８）。
【０１２７】
同時的に、処理槽１０Ｎ（１０Ｏ）に関するプッシャ７０Ｎ（７０Ｏ）を図７（Ｂ）に示す前進位置から図７（Ｃ）に示す後退位置（初期位置）に戻す（ＳＴ１９）。この段階［図７（Ｃ）］で、全てのプッシャは図７（Ａ）の場合と同様に初期位置に所在する。
【０１２８】
引き続き、前・後置処理槽１０ＮＦ，１０ＮＢに関する導入側ゲート開閉手段２０ＮＦおよび導出側ゲート開閉手段２０ＮＢを駆動制御して、導入側ゲート１２ＮＦおよび導出側ゲート１２ＮＢを開放状態に切換える（ＳＴ２０）。つまり、図７（Ｃ）に示す閉鎖状態（“×”）から図７（Ｄ）に示す開放状態（“○”）とする。すなわち、処理槽１０Ｎからの表面処理済みワーク２００の搬出と次の新規処理対象ワーク２００の搬入の準備を整える。
【０１２９】
また、駆動制御手段は、処理槽１０Ｎに関する前置側プッシャ７０ＮＦを図７（Ｃ）［（Ａ）］に示す初期位置から図７（Ｄ）に示すように右方向に１ピッチ分だけ移行（ＦＤ）させて、ワーク“Ｇ”，“Ｈ”を同時に１ピッチ分だけ導入搬送するとともに、後置側プッシャ７０ＮＢを図７（Ｃ）［（Ａ）］に示す初期位置から図７（Ｄ）に示すように右方向に１ピッチ分だけ移行（ＦＤ）させて、ワーク“Ｄ”を１ピッチ分だけ導出搬送する（ＳＴ２１）。処理槽１０Ｏに関しては、ワーク“Ａ”，“Ｂ”を同時に１ピッチ分だけ搬送する。なお、図７（Ｄ）に示すように、ワーク“Ｈ”の次のワーク“Ｉ”が前置された処理槽（１０Ｍ）から搬出されて来る。
【０１３０】
ワーク２００の搬送後に、処理槽１０Ｎに関する導入側ゲート開閉手段２０ＮＦおよび導出側ゲート開閉手段２０ＮＢを駆動制御して、導入側ゲート１２ＮＦおよび導出側ゲート１２ＮＢを閉鎖状態に切換える（ＳＴ２２）。つまり、図７（Ｄ）に示す開放状態（“○”）から図７（Ｅ）に示す閉鎖状態（“×”）とする。すなわち、全てのゲートが初期状態に戻されたことになる。
【０１３１】
同時的に、処理槽１０Ｎ（１０Ｏ）の前・後置干満槽１０ＮＦ，１０ＮＢ（１０ＯＦ，１０ＯＢ）に関するプッシャ７０ＮＦ，７０ＮＢ（７０ＯＦ，７０ＯＢ）を図７（Ｄ）に示す前進位置から図７（Ｅ）に示す後退位置（初期位置）に戻す（ＢＫ）ように制御する（ＳＴ２３）。この段階［図７（Ｅ）］で、全てのプッシャは初期位置に戻されたことになる。
【０１３２】
次のサイクルに進む際には、初期状態が確立されていると判別（ＳＴ１０でＹＥＳ）されるので、初期状態への切換動作（ＳＴ１１，ＳＴ１２，ＳＴ１３）は必要が無く、ＳＴ１４から開始される。なお、運転停止指令が発生された場合（ＳＴ２４でＹＥＳ）には、停止処理（ＳＴ２５）して駆動制御プログラムの実行を終了する。
【０１３３】
かかる構成の表面処理装置の場合には、本表面処理方法は以下のように実施される。今、前方側（処理槽１０Ｍ側）から処理槽１０Ｎに最初の平板形状物（ワーク“Ｆ”）が給搬送されて来た場合を考えると、当該ワーク“Ｆ”を干液状態（レベルＬｌ）の前置干満槽１０ＮＦに導入した後に、処理液を供給して前置干満槽１０ＮＦを満液状態（レベルＬｈ）に切換える第１工程は、図７の（Ａ）→（Ｂ）として実施される。
【０１３４】
なお、ワーク“Ｆ”を干液状態（レベルＬｌ）の前置干満槽１０ＮＦに導入する部分工程は、ワーク“Ｇ”をワーク“Ｆ”に読み替えれば、図７の（Ｃ）→（Ｄ）として実施されるものと理解される。その後に、プッシャ７０ＮＦ（７０ＭＢを兼用）は図７の（Ｅ）のように元に戻される。
【０１３５】
また、満液状態の前置干満槽１０ＮＦと処理槽１０Ｎとの間を連通状態（ゲート１２ＮＩが開放）に切換えかつ切換え後に平板形状物（ワーク“Ｆ”）を前置干満槽１０ＮＦから処理槽１０Ｎに搬入させる第２工程は、図７の（Ｂ）で実施される。引き続く第３工程、つまり先の平板形状物（ワーク“Ｆ”）の処理槽１０Ｎへの搬入後に、前置干満槽１０ＮＦと処理槽１０Ｎとの間を隔離状態（ゲート１２ＮＩが閉鎖）に切換えかつ切換え後で次の平板形状物（ワーク“Ｇ”）の導入前に前置干満槽１０ＮＦの処理液を外部（液貯槽１７Ｎ）に排出させて前置干満槽１０ＮＦを干液状態（レベルＬｌ）に切換える工程は、図７の（Ｂ）で実施される。
【０１３６】
その後に、ワーク“Ｆ”が先に搬入されたワーク“Ｅ”とともに表面処理（化成処理）される。この表面処理の終了後に処理槽１０Ｎと満液状態（レベルＬｈ）の後置干満槽１０ＮＢとの間を連通状態（ゲート１２ＮＯを開放）に切換えかつ切換え後にワーク“Ｆ”を処理槽１０Ｎから後置干満槽１０ＮＢに搬出させる第４工程は、図７の（Ａ）→（Ｂ）で実施される。この段階では、図７（Ｂ）および（Ｃ）に示す後置干満槽１０ＮＢ内のワーク“Ｄ”をワーク“Ｆ”に読み替えればよい。すなわち、図７に示すワーク順序の場合は、このワーク“Ｆ”の搬出以前にワーク“Ｄ”およびワーク“Ｅ”の同時搬出が行われる。つまり、２搬送サイクル後にワーク“Ｆ”の搬出が行われる。
【０１３７】
そして、搬出後に処理槽１０Ｎと後置干満槽１０ＮＢとの間を隔離状態（ゲート１２ＮＯが閉鎖）に切換えかつ切換え後に後置干満槽１０ＮＢの処理液を外部（液貯槽１７Ｎ）に排出させて後置干満槽１０ＮＢを干液状態（レベルＬｌ）に切換える第５工程は、図７の（Ｂ）→（Ｃ）で行われる。なお、この場合も図７（Ｂ）および（Ｃ）に示す後置干満槽１０ＮＢ内のワーク“Ｄ”をワーク“Ｆ”に読み替える。
【０１３８】
最後に、先のワーク“Ｆ”の導出かつ排搬送後で、次のワーク“Ｇ”の搬出前に後置干満槽１０ＮＢに処理液を供給して後置干満槽１０ＮＢを満液状態（レベルＬＨ）に切換える第６工程は、図７の（Ｃ）→（Ｄ）［（Ｅ），（Ａ）］→（Ｂ）で実施される。
【０１３９】
しかして、この第１の実施の形態による本表面処理方法（装置）によれば、処理液中を水平搬送（横移行）させることでワーク２００を処理槽（１０Ｎ）に搬入することができるので、大気中から処理液中にワークを直接投入する従来バッチ処理方式の場合の問題点（ワークに振れや振動が発生する。ワークが変形したりや曲ってしまう。）を一掃でき、薄くあるいは可撓性に富んだ平板形状物（２００）の場合でも高品質処理を確実に行える。ワークの無駄消費も避けられる。しかも、表面処理装置の小型化および低コスト化を図りつつ、電子部品や電子機器等の一層の高品質化を通じた国際競争力の強化に大きく貢献することができる。
【０１４０】
また、比較的に幅広な搬入通路部１１ＮＩを通してワーク２００を処理槽１０Ｎ内に搬入することができるので、１対の導入ガイドローラ８１ＰＬ，８１ＰＲ等を幅狭に配設した導入ガイドを通してワークを処理槽１０に搬入する従来連続処理方式の問題点（衝突によるワークの傷つき、破損）を一掃することができる。この点からも、一段と高品質の処理を行えるとともに生産歩留まりを向上できる。また、厚さがより一段と薄くかつ一層の可撓性に富んだ平板形状物（ワーク２００）に対する適応性が高い。
【０１４１】
また、処理槽１０Ｎへの搬入に備えてワーク２００を干液状態の前置干満槽１０ＮＦ内に一時的に保留する以外は全て処理液中に浸漬された状態で導入および搬入することができるから、処理槽１０Ｎより高い位置でかつ大気中での搬送（Ｖ１，Ｈ１，Ｖ２）が長くなる従来バッチ処理方式の場合の問題点（残存液による過剰反応、酸化の進行、塵埃の付着）を一掃することができる。この点からも、大幅な高品質化を促進できる。
【０１４２】
また、縦吊状態のワークを前・後置干満槽（１０ＮＦ，１０ＮＢ）内および処理槽（１０Ｎ）内で液中水平搬送させるように形成されているので、ワーク昇降を必須とする従来バッチ処理方式の場合に比較して装置高さを低くすることができる。つまり、設備経済が有利でかつ危険な高所作業も一掃化でき、周囲も汚さない。しかも、各槽の上部開放部にカバー８５を設けることができるので、搬送中のワーク２００への品質に悪影響を及ぼすような塵埃の付着を絶無化（乃至飛躍的な激減化）することも可能で、飛躍的な高品質処理を期待できる。
【０１４３】
また、従来バッチ処理方式のように複数の処理槽（１０Ｎ−１，…，１０Ｎ４）に分割する必要がないので、液組成管理が容易でかつバラツキがない表面処理を行える。
【０１４４】
また、ワーク２００を連続的に搬送しかつ連続的に表面処理することができから、生産性が高い。液組成も一定化する。この点からも、一段と高品質処理を行える。
【０１４５】
また、開口部１１ＰＮから大量の処理液Ｑｒが漏れる従来連続処理方式の場合に比較して、導入通路部１１ＮＦ，搬入通路部１１ＮＩ等から漏れる処理液量が大幅に少ないから、供給ポンプ３３，循環供給ポンプ３３Ｒ等の小型化を図れ、設備経済上も有利である。装置全体の小型化にも有効である。
【０１４６】
また、ワーク２００の自由状態の下端部を処理液中に直接下降・搬入する従来バッチ処理方式において採用する構造複雑で高価な縦吊姿態維持手段等を付設する必要がないので、コスト低減ができかつ処理槽１０Ｎおよび装置全体の小型化を促進できるとともに、メンテナンスの負担を軽減できる。
【０１４７】
また、ワーク搬送手段が２系統のプッシャ（７０ＮＦ，７０ＮＢ）、（７０Ｎ）およびめっき処理槽内専用のベルトコンベア７５から形成されている。この点からも、装置小型化を図れ、取扱い容易で、円滑で迅速なワーク搬送を確約できる。
【０１４８】
また、処理槽１０Ｎの前後に干満槽１０ＮＦ，１０ＮＢを設ければよいので、具現化が容易であるとともに、構造簡単でかつ取扱いが容易である。
【０１４９】
さらに、ゲート開閉手段（２０ＮＦ等）が当該槽（１０ＮＦ等）外から付与される上下方向力を利用して各ゲート（１１ＮＦ等）が当該槽内壁面に沿って横方向にスライドさせることで当該通路部（１２ＮＦ等）を開閉可能に形成されているので、構造簡単で安価で具現化容易であり、また安定運転ができる。また、槽内での占有スペースも小さいので、当該槽の小型化を阻害しない。
【０１５０】
さらに、各液供給手段（３１ＮＦ等）が強制加圧供給構造とされ、各液排出手段（４１ＮＦ等）が当該干満槽（１０ＮＦ等）の下方側排出口（１４ＮＦＨ等）を強制開放させる強制開放自然排出構造とされているので、構造が一段と簡単で、安定した供給および急速な排出ができる。槽内の平板形状物（２００）に悪影響（揺れ、振動）を生じさせることもない。
【０１５１】
さらに、各ゲート（１２ＮＦ等）の開閉動作を槽内外の液差圧の掛からない状態で行えるように形成されているので、構造簡素化を一段と促進できるとともに、小さな動力で円滑に開閉できる。
【０１５２】
さらに、ワーク搬送手段が、前置処理槽側の導入用と後置処理槽側の導入用とを兼用するプッシャと，処理槽への搬入用および処理槽からの搬出用を兼ねるプッシャ７０Ｎとから形成されているので、導入動作と導出動作とを確実に同期運転させられるので、搬送運転と生産サイクルとの調整が容易となり、ワーク搬送手段の構造簡素化およびコスト低減化ができる。
【０１５３】
駆動制御手段（１００）によって、各手段を全自動で駆動制御する構成であるから、取扱いが極めて容易で、ランニングコストを大幅に低減できる。
【０１５４】
（第２の実施の形態）
この第２の実施の形態は、図８および図９に示される如く、処理槽１０Ｍ，１０Ｎ（１０Ｎ，１０Ｏ）間に液切り槽１０ＭＮ（１０ＮＯ）を設け、前方側処理槽１０Ｍ（１０Ｎ）から搬送されてきたワーク２００に付着する処理液が後方側処理槽１０Ｎ（１０Ｏ）に混入することを防止可能に形成されている。
【０１５５】
そして、第１の実施の形態の場合と同様に、前置干満槽１０ＮＦの直前に漏れ回収部１６ＮＦを設けかつ後置干満槽１０ＮＢの直後に漏れ回収部１６ＮＢを設けてある。したがって、漏れ回収部１６ＮＦ，１６ＮＢで回収された処理液をそれぞれに処理槽１０Ｎ内の処理液として再利用可能である。
【０１５６】
ここに、漏れ回収部１６ＮＦ（１６ＮＢ）のＸ方向の寸法（長さ）は前置干満槽１０ＮＦ（１０ＮＢ）の長さの１／４以下である。それ以上に大きくする必要もない。そこで、この実施の形態では、漏れ回収部１６ＮＦ（１６ＮＢ）を液切り槽１０ＭＮ（１０ＮＯ）内に一体的（図９に示すＸ方向において前後位置で隣接する。）に組み込んだ構造としてある。つまり、液切り槽１０ＭＮ（１０ＮＯ）は、実質的には、回収槽１６ＭＢ（１６ＯＦ）から形成されているが、ワーク２００から液切り（自然落下）した液を回収できればよいので、形態（平面的な回収面積）的に問題はない。
【０１５７】
つまり、漏れ回収部１６ＮＦと漏れ回収部１６Ｂとを設けることを前提とすれば、前置干満槽１０ＮＦの前方と後置干満槽１０ＮＢの後方に比較的に小さな寸法（Ｘ方向長さ）を設けるだけで、搬送中のワーク２００を縦吊状態で一時保留可能な空き槽（すなわち、液切り槽１０ＭＮ，１０ＮＯ）を確保でき、これら液切り槽１０ＭＮ，１０ＮＯを利用すれば生産サイクルに影響を及ぼすことなく液切り工程を実施することができるわけである。
【０１５８】
しかして、この第２の実施の形態によれば、第１の実施の形態の場合と同様な作用効果を奏することができる他、さらに処理槽１０Ｍ，１０Ｎ（１０Ｎ，１０Ｏ）間の空きスペースを有効利用した液切り槽１０ＭＮ（１０ＮＯ）が形成されているので、前方側処理槽１０Ｍ（１０Ｎ）から持ち出されかつ後方側処理槽１０Ｎ（１０Ｏ）内に持ち込まれる処理液の量を極めて少量に抑えることができる。したがって、後方側処理槽１０Ｎ（１０Ｏ）における表面処理を一段と高品質で行える。また、全体的な生産サイクルを担保しながら、生産サイクルと搬送タイミングとの調整範囲の自由度を拡大できる。
【０１５９】
各処理槽１０Ｍ，１０Ｎ，１０Ｏ等での各処理液の組成管理が容易になる。各処理液の早期劣悪化を防止しつつ液切り槽で回収された処理液を再利用できるから、ランニングコストを低減することができる。特に、高価なめっき処理液の有効利用は、影響が大きく、処理コスト（生産コスト）を大幅に引き下げられる。
【産業上の利用可能性】
【０１６０】
本発明は、薄く、可撓性に富んだ平板形状物（例えば、プリント回路基板）に、変形や傷を付けることなく、高品質の表面処理を行う場合に有用である。
【図面の簡単な説明】
【０１６１】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係る表面処理装置を説明するための概略側面図である。
【図２】同じく、前置干満槽、処理槽および後置干満槽等の配置態様例を説明するための外観斜視図である。
【図３】同じく、前置干満槽（後置干満槽）とゲート開閉手段，液供給手段，液排出手段等の関係を説明するための縦断面正面図である。
【図４】同じく、ゲート開閉手段の開閉動作を説明するための図である。
【図５】同じく、駆動制御装置を説明するためのブロック図である。
【図６】同じく、駆動制御動作を説明するためのフローチャートである。
【図７】同じく、駆動制御動作を説明するためのタイミングチャートである。
【図８】本発明の第２の実施の形態に係る表面処理装置を説明するための概略側面図である。
【図９】同じく、液切槽を説明するための平面図である。
【図１０】バッチ処理方式の従来例を説明するための図である。
【図１１】連続処理方式の従来例を説明するための図である。
【図１２】連続処理方式の場合に採用されるガイド装置例を説明するための図である。
【符号の説明】
【０１６２】
１０ＮＦ 前置干満槽
１０Ｎ 処理槽
１０ＮＢ 後置干満槽
１１ＮＦ 導入通路部
１１ＮＩ 搬入通路部
１１ＮＯ 搬出通路部
１１ＮＢ 導出通路部
１２ＮＦ 導入側ゲート
１２ＮＩ 搬入側ゲート
１２ＮＯ 搬出側ゲート
１２ＮＢ 導出側ゲート
２０ＮＦ 導入側ゲート開閉手段
２０ＮＩ 搬入側ゲート開閉手段
２０ＮＯ 搬出側ゲート開閉手段
２０ＮＢ 導出側ゲート開閉手段
３０ＮＦ 前置側液干満切換手段
３１ＮＦ 前置側液供給手段
４１ＮＦ 前置側液排出手段
３０Ｎ 液循環手段
３０ＮＢ 後置側液干満切換手段
３１ＮＢ 後置側液供給手段
４１ＮＢ 後置側液排出手段
７０ＮＦ，７０Ｎ，７０ＮＢ プッシャ（ワーク搬送手段）
７５ ベルトコンベア
８５ カバー
９０ レール
９３ キャリア
９８ 冶具
１００ コンピュータ（駆動制御手段）
【特許請求の範囲】
【請求項１】
前方側から縦吊状態で給搬送されて来た平板形状物を処理液が満たされた処理槽に搬入し、処理液中で平板形状物に表面処理を施し、表面処理後の平板形状物を処理槽から搬出して後方側に排搬送させることで、複数枚の平板形状物を連続的に表面処理する平板形状物の表面処理方法であって、
給搬送されて来た平板形状物を干液状態の前置干満槽に導入した後に処理液を供給して前置干満槽を満液状態に切換える第１工程と、
満液状態の前置干満槽と処理槽との間を連通状態に切換えかつ切換え後に平板形状物を前置干満槽から処理槽に搬入させる第２工程と、
先の平板形状物の搬入後に前置干満槽と処理槽との間を隔離状態に切換えかつ切換え後で次の平板形状物が導入される以前に前置干満槽の処理液を外部に排出させて前置干満槽を干液状態に切換える第３工程と、
表面処理の終了後に処理槽と満液状態の後置干満槽との間を連通状態に切換えかつ切換え後に平板形状物を処理槽から後置干満槽に搬出させる第４工程と、
搬出後に処理槽と後置干満槽との間を隔離状態に切換えかつ切換え後に後置干満槽の処理液を外部に排出させて後置干満槽を干液状態に切換える第５工程と、
先の平板形状物の導出後でかつ次の平板形状物が処理槽から搬出される以前に処理液を供給して後置干満槽を満液状態に切換える第６工程と、
を有する平板形状物の表面処理方法。
【請求項２】
前方側から縦吊状態で給搬送されて来た平板形状物を処理液が満たされた処理槽に搬入可能で、搬入された平板形状物に処理液中で表面処理可能でかつ表面処理後の平板形状物を処理槽から搬出して後方側に排搬送可能であるとともに複数枚の平板形状物を連続的に表面処理可能に形成された平板形状物の表面処理装置において、
処理槽の前方側に前置干満槽を配設しかつ後方側に後置干満槽を配設し、前置干満槽および後置干満槽のそれぞれを干液状態および満液状態のいずれかに選択的に切換え可能に形成するとともに、前置干満槽と処理槽との間および処理槽と後置干満槽との間のそれぞれを連通状態および隔離状態のいずれかに選択的に切換可能に形成し、
給搬送されて来た平板形状物を干液状態の前置干満槽に導入可能かつ導入後に前置干満槽を満液状態に切換え可能に形成し、
満液状態の前置干満槽と処理槽との間を連通状態に切換え可能かつ切換え後に平板形状物を前置干満槽から処理槽に搬入可能に形成し、
平板形状物の搬入後に処理槽と前置干満槽との間を隔離状態に切換え可能かつ切換え後に搬入された平板形状物に表面処理を実行可能に形成し、
表面処理の終了後に処理槽と満液状態の後置干満槽との間を連通状態に切換え可能かつ切換え後に平板形状物を処理槽から後置干満槽に搬出可能に形成し、
平板形状物の搬出後に処理槽と後置干満槽との間を隔離状態に切換え可能かつ切換え後に後置干満槽を干液状態に切換え可能に形成し、
先の平板形状物を導出後でかつ次の平板形状物が処理槽から搬出される以前に干液状態の後置干満槽を満液状態に切換え可能に形成し、
前方側から所定高さの水平状態でかつ縦吊状態で給搬送されて来た平板形状物を前置干満槽および後置干満槽を介することで処理槽を所定高さの水平状態のまま通過させて後方側に排搬送可能に形成した、平板形状物の表面処理装置。
【請求項３】
ワーク搬送手段を用いて前方側から縦吊状態で給搬送されて来た平板形状物を処理液が満たされた処理槽に搬入可能、搬入された平板形状物に処理液中で表面処理可能かつ表面処理後の平板形状物を処理槽から搬出して後方側に排搬送可能であるとともに複数枚の平板形状物を連続的に表面処理可能に形成された平板形状物の表面処理装置において、
導入側ゲートで開閉可能な導入通路部を有する前置干満槽を処理槽の前方側に配設しかつ前置干満槽と処理槽との間に搬入側ゲートで開閉可能な搬入通路部を設けるとともに、導出側ゲートで開閉可能な導出通路部を有する後置干満槽を処理槽の後方側に配設しかつ処理槽と後置干満槽との間に搬出側ゲートで開閉可能な搬出通路部を設け、
導入側ゲートを開閉可能な導入側ゲート開閉手段と，干液状態の前置干満槽に処理液を供給可能な前置側液供給手段と，満液状態の前置干満槽から処理液を排出可能な前置側液排出手段とを設け、
搬入側ゲートを開閉可能な搬入側ゲート開閉手段と，搬出側ゲートを開閉可能な搬出側ゲート開閉手段とを設け、
干液状態の後置干満槽に処理液を供給可能な後置側液供給手段と，満液状態の後置干満槽の処理液を排出可能な後置側液排出手段と，導出側ゲートを開閉可能な導出側ゲート開閉手段とを設け、
平板形状物を開放状態の導入通路部を通して干液状態の前置干満槽に導入しかつその後に満液状態の前置干満槽から開放状態の搬入通路部を通して処理槽に搬入するとともに表面処理後の平板形状物を開放状態の搬出通路部を通して処理槽から満液状態の後置干満槽に搬出しかつその後に干液状態の後置干満槽から開放状態の導出通路部を通して導出しつつ後方側に排搬送できるようにワーク搬送手段，導入側ゲート開閉手段，前置側液供給手段，前置側液排出手段，搬入側ゲート開閉手段，搬出側ゲート開閉手段，後置側液供給手段，後置側液排出手段および導出側ゲート開閉手段を所定の手順に従って駆動制御可能に形成された駆動制御手段を設けた、平板形状物の表面処理装置。
【請求項４】
前記導入側ゲート，搬入側ゲート，搬出側ゲートおよび導出側ゲートのそれぞれが当該槽内壁面に沿ってスライド可能に形成され、かつ前記導入側ゲート開閉手段，搬入側ゲート開閉手段，搬出側ゲート開閉手段および導出側ゲート開閉手段のそれぞれが当該槽外から付与される上下方向力を利用して当該ゲートを横方向にスライドさせて当該通路部を開閉可能に形成されている、請求項３記載の平板形状物の表面処理装置。
【請求項５】
前記前置側液供給手段および後置側液供給手段のそれぞれが供給ポンプにより処理液を加圧して強制的に供給する強制加圧供給構造とされ、前記前置側液排出手段および後置側液排出手段のそれぞれが当該干満槽の下方側排出口を強制開放として処理液を急速流出させる強制開放自然排出構造とされている、請求項３または請求項４記載の平板形状物の表面処理装置。
【請求項６】
前記ワーク搬送手段が、前方側から前記前置干満槽への導入用プッシャと，前記前置干満槽から前記処理槽への搬入用と前記処理槽から前記後置干満槽への搬出用とを兼ねるプッシャと，前記後置干満槽から前記後方側への導出用プッシャとを含み、導入用プッシャと導出用プッシャとが同期運転可能に形成されている、請求項３から請求項５までのいずれか１項に記載された平板形状物の表面処理装置。
【請求項１】
前方側から縦吊状態で給搬送されて来た平板形状物を処理液が満たされた処理槽に搬入し、処理液中で平板形状物に表面処理を施し、表面処理後の平板形状物を処理槽から搬出して後方側に排搬送させることで、複数枚の平板形状物を連続的に表面処理する平板形状物の表面処理方法であって、
給搬送されて来た平板形状物を干液状態の前置干満槽に導入した後に処理液を供給して前置干満槽を満液状態に切換える第１工程と、
満液状態の前置干満槽と処理槽との間を連通状態に切換えかつ切換え後に平板形状物を前置干満槽から処理槽に搬入させる第２工程と、
先の平板形状物の搬入後に前置干満槽と処理槽との間を隔離状態に切換えかつ切換え後で次の平板形状物が導入される以前に前置干満槽の処理液を外部に排出させて前置干満槽を干液状態に切換える第３工程と、
表面処理の終了後に処理槽と満液状態の後置干満槽との間を連通状態に切換えかつ切換え後に平板形状物を処理槽から後置干満槽に搬出させる第４工程と、
搬出後に処理槽と後置干満槽との間を隔離状態に切換えかつ切換え後に後置干満槽の処理液を外部に排出させて後置干満槽を干液状態に切換える第５工程と、
先の平板形状物の導出後でかつ次の平板形状物が処理槽から搬出される以前に処理液を供給して後置干満槽を満液状態に切換える第６工程と、
を有する平板形状物の表面処理方法。
【請求項２】
前方側から縦吊状態で給搬送されて来た平板形状物を処理液が満たされた処理槽に搬入可能で、搬入された平板形状物に処理液中で表面処理可能でかつ表面処理後の平板形状物を処理槽から搬出して後方側に排搬送可能であるとともに複数枚の平板形状物を連続的に表面処理可能に形成された平板形状物の表面処理装置において、
処理槽の前方側に前置干満槽を配設しかつ後方側に後置干満槽を配設し、前置干満槽および後置干満槽のそれぞれを干液状態および満液状態のいずれかに選択的に切換え可能に形成するとともに、前置干満槽と処理槽との間および処理槽と後置干満槽との間のそれぞれを連通状態および隔離状態のいずれかに選択的に切換可能に形成し、
給搬送されて来た平板形状物を干液状態の前置干満槽に導入可能かつ導入後に前置干満槽を満液状態に切換え可能に形成し、
満液状態の前置干満槽と処理槽との間を連通状態に切換え可能かつ切換え後に平板形状物を前置干満槽から処理槽に搬入可能に形成し、
平板形状物の搬入後に処理槽と前置干満槽との間を隔離状態に切換え可能かつ切換え後に搬入された平板形状物に表面処理を実行可能に形成し、
表面処理の終了後に処理槽と満液状態の後置干満槽との間を連通状態に切換え可能かつ切換え後に平板形状物を処理槽から後置干満槽に搬出可能に形成し、
平板形状物の搬出後に処理槽と後置干満槽との間を隔離状態に切換え可能かつ切換え後に後置干満槽を干液状態に切換え可能に形成し、
先の平板形状物を導出後でかつ次の平板形状物が処理槽から搬出される以前に干液状態の後置干満槽を満液状態に切換え可能に形成し、
前方側から所定高さの水平状態でかつ縦吊状態で給搬送されて来た平板形状物を前置干満槽および後置干満槽を介することで処理槽を所定高さの水平状態のまま通過させて後方側に排搬送可能に形成した、平板形状物の表面処理装置。
【請求項３】
ワーク搬送手段を用いて前方側から縦吊状態で給搬送されて来た平板形状物を処理液が満たされた処理槽に搬入可能、搬入された平板形状物に処理液中で表面処理可能かつ表面処理後の平板形状物を処理槽から搬出して後方側に排搬送可能であるとともに複数枚の平板形状物を連続的に表面処理可能に形成された平板形状物の表面処理装置において、
導入側ゲートで開閉可能な導入通路部を有する前置干満槽を処理槽の前方側に配設しかつ前置干満槽と処理槽との間に搬入側ゲートで開閉可能な搬入通路部を設けるとともに、導出側ゲートで開閉可能な導出通路部を有する後置干満槽を処理槽の後方側に配設しかつ処理槽と後置干満槽との間に搬出側ゲートで開閉可能な搬出通路部を設け、
導入側ゲートを開閉可能な導入側ゲート開閉手段と，干液状態の前置干満槽に処理液を供給可能な前置側液供給手段と，満液状態の前置干満槽から処理液を排出可能な前置側液排出手段とを設け、
搬入側ゲートを開閉可能な搬入側ゲート開閉手段と，搬出側ゲートを開閉可能な搬出側ゲート開閉手段とを設け、
干液状態の後置干満槽に処理液を供給可能な後置側液供給手段と，満液状態の後置干満槽の処理液を排出可能な後置側液排出手段と，導出側ゲートを開閉可能な導出側ゲート開閉手段とを設け、
平板形状物を開放状態の導入通路部を通して干液状態の前置干満槽に導入しかつその後に満液状態の前置干満槽から開放状態の搬入通路部を通して処理槽に搬入するとともに表面処理後の平板形状物を開放状態の搬出通路部を通して処理槽から満液状態の後置干満槽に搬出しかつその後に干液状態の後置干満槽から開放状態の導出通路部を通して導出しつつ後方側に排搬送できるようにワーク搬送手段，導入側ゲート開閉手段，前置側液供給手段，前置側液排出手段，搬入側ゲート開閉手段，搬出側ゲート開閉手段，後置側液供給手段，後置側液排出手段および導出側ゲート開閉手段を所定の手順に従って駆動制御可能に形成された駆動制御手段を設けた、平板形状物の表面処理装置。
【請求項４】
前記導入側ゲート，搬入側ゲート，搬出側ゲートおよび導出側ゲートのそれぞれが当該槽内壁面に沿ってスライド可能に形成され、かつ前記導入側ゲート開閉手段，搬入側ゲート開閉手段，搬出側ゲート開閉手段および導出側ゲート開閉手段のそれぞれが当該槽外から付与される上下方向力を利用して当該ゲートを横方向にスライドさせて当該通路部を開閉可能に形成されている、請求項３記載の平板形状物の表面処理装置。
【請求項５】
前記前置側液供給手段および後置側液供給手段のそれぞれが供給ポンプにより処理液を加圧して強制的に供給する強制加圧供給構造とされ、前記前置側液排出手段および後置側液排出手段のそれぞれが当該干満槽の下方側排出口を強制開放として処理液を急速流出させる強制開放自然排出構造とされている、請求項３または請求項４記載の平板形状物の表面処理装置。
【請求項６】
前記ワーク搬送手段が、前方側から前記前置干満槽への導入用プッシャと，前記前置干満槽から前記処理槽への搬入用と前記処理槽から前記後置干満槽への搬出用とを兼ねるプッシャと，前記後置干満槽から前記後方側への導出用プッシャとを含み、導入用プッシャと導出用プッシャとが同期運転可能に形成されている、請求項３から請求項５までのいずれか１項に記載された平板形状物の表面処理装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【公開番号】特開２００６−１１１９４６（Ｐ２００６−１１１９４６Ａ）
【公開日】平成１８年４月２７日（２００６．４．２７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００４−３０２４１６（Ｐ２００４−３０２４１６）
【出願日】平成１６年１０月１８日（２００４．１０．１８）
【出願人】（０００２２２６２４）株式会社アルメックス (6)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年４月２７日（２００６．４．２７）
【国際特許分類】
【出願日】平成１６年１０月１８日（２００４．１０．１８）
【出願人】（０００２２２６２４）株式会社アルメックス (6)
【Ｆターム（参考）】
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