平板形状物の表面処理方法および表面処理装置
【課題】平板形状物を縦吊状態のまま処理槽の処理液中に確実かつ円滑に搬入させることができる平板形状物の表面処理方法および表面処理装置を提供する。
【解決手段】１対の溢出槽を各内側起立隔壁が搬送経路を挟み対面するようにして対向配設して下向流動液室と上向流動液室とを形成し、下向流動液室が上方側開口部から供給された処理液Ｑｓｐを下向きに連続流動可能でかつ上向流動液室が下方側から再供給された処理液Ｑｓｐを上向きに連続流動可能に形成し、回収槽と液再循環手段とを設け、平板形状物を搬入用開口部を通しかつ連続流動する処理液中に搬入可能で、処理済の平板形状物を搬出用開口部を通しかつ連続流動する処理液中から搬出可能でかつ下向流動液室内の搬送中に下向連続流動処理液を用いて表面処理可能に形成されている。
【解決手段】１対の溢出槽を各内側起立隔壁が搬送経路を挟み対面するようにして対向配設して下向流動液室と上向流動液室とを形成し、下向流動液室が上方側開口部から供給された処理液Ｑｓｐを下向きに連続流動可能でかつ上向流動液室が下方側から再供給された処理液Ｑｓｐを上向きに連続流動可能に形成し、回収槽と液再循環手段とを設け、平板形状物を搬入用開口部を通しかつ連続流動する処理液中に搬入可能で、処理済の平板形状物を搬出用開口部を通しかつ連続流動する処理液中から搬出可能でかつ下向流動液室内の搬送中に下向連続流動処理液を用いて表面処理可能に形成されている。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、搬送方向の上流側から縦吊状態で搬送されて来た平板形状物を処理槽に搬入しかつ処理液中で表面処理を施すとともに表面処理後の平板形状物を処理槽から搬出してその下流側に搬送させることで、複数枚の平板形状物を連続的に表面処理する平板形状物の表面処理方法および表面処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ワークの表面処理方法には、バッチ処理方式と連続処理方式とがある。バッチ処理方式は、図１０に示すように、平板形状物（ワーク２００Ｐ１）を縦吊状態として、列配された各処理槽１０Ｐ１０，１０Ｐ２０，１０Ｐ３０へ順番に搬送する。すなわち、ワーク２００Ｐ１を処理槽１０Ｐ１０の処理液中に浸漬して所定時間だけ表面処理を施し、次いでワークを上昇（Ｖ１），水平搬送（Ｈ１）および下降（Ｖ２１）させて処理槽１０Ｐ２０の処理液中に浸漬する。以下、同様な手順を繰り返す。
【０００３】
連続処理方式は、図１１に示す如く、例えば帯状長尺板材（ワーク２００Ｐ２）を水平状態として保持しつつ各処理槽１０Ｐ１１，１０Ｐ２１，１０Ｐ３１の配列順に従って連続搬送する。すなわち、ワーク２００Ｐ２が各処理槽の上部に設けられた開口部分１０ＵＨを通じて当該各処理液中に浸漬されかつ通過する間に当該各表面処理が施される。
【０００４】
ここに、バッチ処理方式は、ワーク形態（平板形状物，立体形状物，棒状短尺物等）に対する適応性が広いが、各処理槽間におけるワークの上昇・水平搬送・下降が必要になるので、生産性向上が難しい。対する連続処理方式は、各処理槽間での中間的かつ断続的な搬送（Ｖ１，Ｈ１，Ｖ２１等）が必要ないので、生産性が高い。しかし、最上流のアンコイラーと最下流のコイラーとの間に張設可能な帯状長尺板材や線状材料に限られる。つまり、ワーク形態に対する適応性が極めて狭い。
【０００５】
ところで、液組成の均一化の点からすれば、処理時間が長い場合に複数の処理槽に分割するバッチ処理方式の場合に比較して、処理時間に応じた槽長を持たせた１つの処理槽内で処理する連続処理方式の方が、その管理・維持が容易である。つまり、安定した品質の処理ができる。また、連続処理方式の場合は、バッチ処理方式における処理槽間での搬送中に引き起こされる問題（ワーク表面付着液による過剰反応、大気接触による酸化進行およびワーク表面への塵埃付着）の心配がない。この問題は、いずれも品質に悪影響を及ぼす。
【０００６】
かくして、ワーク２００Ｐ１に高品質電解処理（例えば、めっき処理）を行う場合には、図１２に示す如く、当該電解処理槽１０ＥＰ内では槽外に配置されたベルトコンベア等を用いてワークを処理液中で水平搬送（Ｈ２０）しつつ電解処理を連続して施す連続処理方式が採られている。しかし、他の処理槽との関係では、バッチ処理方式の搬送態様が採用されている。
【０００７】
すなわち、上流側から水平搬送（Ｈ１０）されたワーク２００Ｐ１は、下降（Ｖ１０）により電解処理槽１０ＥＰに投入される。また、処理後のワークは、上昇（Ｖ３０）および水平搬送（Ｈ３０）により下流側の処理槽へ搬送される。つまり、この図１２は、バッチ処理方式と連続処理方式とを組み合わせた折衷方式を指すものといえる。
【０００８】
しかし、薄板状の例えばプリント回路基板（ワーク２００Ｐ）の場合は、電解処理槽１０ＥＰ内での水平搬送速度を高くする程にワーク２００Ｐに揺動や振動が発生する。さらに、ワークに搬送（Ｘ）方向と直交する方向の湾曲が生じ、その先端が折れてしまう場合がある。これでは、電解処理槽１０ＥＰ内での電極間距離が変動してしまうから品質劣悪化を免れない。処理槽内装部材との衝突によるワーク２００Ｐの破損や内装部材自体の変形等を発生させる虞もある。
【０００９】
これに関しては、本出願人は、ガイドポストに張設された複数のワイヤー（搬送ガイド）を有する搬送ガイド手段を設けた表面処理装置を提案（特許文献１を参照）している。これによれば、ワイヤー（搬送ガイド）間でワークの自由運動を規制できるから、ワーク２００Ｐの縦吊状態（状態）を維持しつつ安定かつ円滑に搬送することができた。つまりは、高品質処理を行える。
【００１０】
しかし、上記の折衷方式では、槽外から電解処理槽１０ＥＰの処理液中にワーク２００Ｐを投入（浸漬）しかつ連続電解処理終了後に処理液中から槽外へワークを取出さなければならない。しかも、ワークの昇降速度は、電解処理の連続性を担保するために処理槽１０ＥＰ内での水平搬送（Ｈ２０）速度に比較して高速（例えば、４倍速）である。したがって、浸漬に際する下降工程では、ワーク２００Ｐの先端部分（縦吊状態での下端部分）が大きな液抵抗を受けるので湾曲，折れ曲りあるいは揺動してしまうことが多々ある。結果として、ワーク２００Ｐが槽内装品（例えば、上記ガイドポスト，図示しない電極等）に衝突し、さらには張り付いてしまう場合がある。
【００１１】
また、ワーク２００Ｐをいきなり搬送ガイド間内に下降可能に構築した表面処理装置の場合には、ワークの先端部分（縦吊状態での下端部分）が搬送ガイド間に入らないので、搬送が開始できない。そこで、本出願人は、処理槽１０ＥＰ内に縦吊（姿態）状態維持手段を組込み、縦吊状態のワーク２００Ｐを槽上から下降させつつ処理液中に浸漬する搬送に先立ち、ワーク２００Ｐの両側から多数の挟持片を接近させかつその強制押え力を利用して縦吊状態（姿態）を保持（維持）可能に形成した表面処理装置を提供（特許文献２を参照）した。これによれば、処理槽１０ＥＰ内に浸漬する際の先端曲り等を防止しつつワーク２００Ｐを縦吊状態のまま真直ぐに処理液中に下降させることができた。
【００１２】
さらに、搬送方向の上流側に設けた上記の縦吊状態維持手段と搬送ガイド手段との間に引き起こる問題の解決として、両者間に液噴流導入案内手段を設けた表面処理装置を提案（特許文献３を参照）している。この液噴流導入案内手段は、水平搬送中のワーク２００Ｐの両面側から液を強制噴流させて当該ワークの先端部が搬送ガイドに衝突することを回避させるためのものである。
【００１３】
かくして、プリント回路基板（２００Ｐ）のような薄板状で可撓性に富んだワーク２００Ｐを連続的に表面処理する場合には、上記の折衷方式を採用しているのが実状である。
【特許文献１】特開２００１−２３４４０号
【特許文献２】特開２００２−２８５３９８号公報
【特許文献３】特開２００２−２８５３９６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
しかしながら、電子部品や電子機器の一層の高品質が進みかつ小型化および低コスト化が一段と強く要求される現今では、上記の折衷方式の妥協的採用も難しくなる傾向にある。つまり、縦吊状態維持手段の一掃による装置小型化，コスト削減化はもとより、生産能率上、処理槽間ごとの上昇・水平搬送・下降工程を一掃できないかとの指摘がある。
【００１５】
これに関しては、その実現化を目指して試行を繰り返しているが、確認的に記述する以下の技術的事項の解決なくしては、実用的な連続処理方式の具現化は至難とされている。
【００１６】
すなわち、図１３において、上流側（右側）の処理槽１０Ｐ１２からＸ方向に搬送されて来たワーク２００Ｐは、開口部１３Ｐを通して処理槽１０Ｐ２２に搬入され、槽内連続移行中に表面処理が施されかつ処理後に後方側開口部（図示省略）を通して下流側（左側）の処理槽１０Ｐ３２に搬送される。各開口部から漏れた処理液（Ｑｒ）は、回収槽１７Ｐに回収されかつ再循環使用される。
【００１７】
ここに、プリント回路基板（ワーク２００Ｐ）の形態の特殊性から、ワーク搬送手段側の冶具にワークの上端部（上辺側）を挟持させた縦吊状態（両面が垂直になる状態）で水平搬送される。他方、開口部１３Ｐから漏れる液量Ｑｒは非常に多く、しかも上流側に向い勢いよく流れ出る。
【００１８】
かくして、上流側の処理槽１０Ｐ１２から縦吊状態で搬送されて来たワーク２００Ｐを、流出する大量の漏れ液流（Ｑｒ）に向いかつ逆らってその先端辺２００Ｆ側から突入させると、ワーク２００Ｐが湾曲しあるいはその先端が折れてしまう。つまり、平板形状物（２００Ｐ）を縦吊状態のまま処理槽（１０Ｐ１２）内の処理液中に正確かつ円滑に搬入させることができない。
【００１９】
そこで、液漏れ量Ｑｒを小さくするには、図１４（Ａ）に示す１対の搬入ガイドローラ８１ＰＬ，８１ＰＲを設けかつその間隔Ｓ１を狭くしなければならない。あるいは、図１４（Ｂ）に示す弾性材質からなる１対の搬入ガイドブレード８２ＰＬ，８２ＰＲの場合も間隔Ｓ２を極めて小さくしなければならない。しかし、液漏れ量Ｑｒを絞れば絞る程に、ワークの先端がガイド（８１ＰＬ，８１ＰＲ、８２ＰＬ，８２ＰＲ）に直接に衝突してしまうという新たな問題が発生する。したがって、厚さが一段と薄くかつ可撓性に富む傾向が強いワーク２００Ｐでは、連続処理方式は未だに実現できていない。
【００２０】
本発明の目的は、平板形状物を縦吊状態のまま処理槽の処理液中に確実かつ円滑に搬入させることができる平板形状物の表面処理方法および表面処理装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２１】
上記の試行処理槽１０Ｐ２２では、縦吊状態の平板形状物（２００Ｐ）を導入させるために縦長でスリット形状の開口部１３Ｐを設けているので、ダムの放水口の場合と同様に、その水頭に応じた勢いでかつ上流側に向かって噴出する処理液流（溢出流）が発生している。しかし、水道の蛇口の場合には、その流量の多少や勢い強弱に関係なく、水は下方に向かって流下するが手前に向かう溢出流は生じない。また、下方に向かう処理液中に搬送方向（横方向）から押し込むようにワーク２００Ｐを搬入させれば、その直後からワークの各側面には等価の水圧が掛かりかつ下方に向けた軽い引張力を発生できるので、ワークが湾曲しあるいは折れることを防止できる筈である。
【００２２】
本発明は、これら経験則と推測事項に着目した試験・研究の結果として創生された新規で有用なものである。すなわち、積極的に処理液の下向きの連続流動を生成することで上流側に向かう噴出液流の発生を消滅しかつ下向連続流動液中にワークを直接搬入させることで、連続処理可能に形成したものである。
【００２３】
具体的には、請求項１の発明は、処理液を再循環使用しつつ処理槽に処理液を下向連続流動させ、平板形状物を連続流動処理液中に押し込むようにして処理槽に搬入しかつ搬送中に下向連続流動処理液を用いて表面処理を施し、表面処理終了後に平板形状物を連続流動する処理液中から押し出すようにして処理槽から搬出させる、平板形状物の表面処理方法である。
【００２４】
また、請求項２の発明は、電解処理室の下方側で回収した処理液を電極室の下方側から供給しかつ電極室に供給して上向きに連続流動させ、電極室を連続流動した処理液を再循環使用しつつ電解処理室に再供給して処理液を下向きに連続流動させ、平板形状物を連続流動処理液中に押し込むようにして電解処理室に搬入しかつ搬送中に給電しつつ平板形状物に下向連続流動処理液を用いて表面処理を施し、表面処理終了後に平板形状物を連続流動処理液中から押し出すようにして電解処理室から搬出させる、平板形状物の表面処理方法である。
【００２５】
また、請求項３の発明は、処理槽を、搬送経路を挟み対向配設された１対の起立隔壁で区画しかつ処理液を下向きに連続流動可能な下向流動液室から形成し、下向流動液室の下方側で回収された処理液を下向流動液室に再供給しつつ再循環使用可能に形成し、平板形状物を上流側搬入用開口部を通しかつ連続流動処理液中に押し込むようにして下向流動液室に搬入可能で、処理済の平板形状物を下流側搬出用開口部を通しかつ連続流動処理液中から押し出すようにして下向流動液室から搬出可能に形成し、下向流動液室内の搬送中に下向連続流動処理液を用いて表面処理可能に形成された、平板形状物の表面処理装置である。
【００２６】
また、請求項４の発明は、１対の溢出槽を搬送経路を挟み対向配設し、下向流動液室が各内側起立隔壁で区画された区画内空間としてかつ上向流動液室が当該各溢出槽の内部空間として形成され、下向流動液室が当該各溢出槽の上端部を越えて溢出しかつ上方側開口部から供給された処理液Ｑｓｐを下向連続流動可能に形成されるとともに上向流動液室が下方側から再供給された処理液Ｑｓｐを上向連続流動可能に形成され、下向流動液室の搬送方向の上流側に搬入用開口部を設けかつその下流側に搬出用開口部を設け、下向流動液室の下方側開口部から流下排出された処理液を回収可能な回収槽と、回収された処理液を加圧して各上向流動液室に再供給しつつ処理液を再循環使用可能な液再循環手段とを設け、平板形状物を搬入用開口部を通しかつ連続流動処理液中に押し込むようにして下向流動液室に搬入可能であるとともに処理済の平板形状物を搬出用開口部を通しかつ連続流動処理液中から押し出すようにして下向流動液室から搬出可能に形成し、下向流動液室内の搬送中に下向連続流動処理液を用いて平板形状物に表面処理可能に形成された、平板形状物の表面処理装置である。
【００２７】
さらに、請求項５の発明は、各上向流動液室内に当該各内側起立隔壁を挟んで平板形状物の各面に対向可能に電極を配設するとともに各内側起立隔壁が電極と平板形状物との間の通電を促進可能かつ上向流動液室から下向流動液室への処理液のバイパス流動を抑制可能に形成されている。請求項６の発明は、内側起立隔壁が多孔板から形成されている。また、請求項７の発明は、起立隔壁が布製シート部材から形成されている。
【００２８】
さらに、請求項８の発明は、平板形状物がプリント回路基板とされかつ搬送手段側の複数の冶具でプリント回路基板の上端部を挟持させた縦吊状態で搬送可能に形成されている。
【発明の効果】
【００２９】
請求項１の発明によれば、平板形状物を縦吊状態のまま処理槽内で下向きに流動する処理液中に確実かつ円滑に搬入させることができる。よって、連続搬送と高品質処理とを高能率でかつ安定して行える。
【００３０】
また、請求項２の発明によれば、請求項１の発明の場合と同様に平板形状物を縦吊状態のまま処理槽内で下向きに流動する処理液中に確実かつ円滑に搬入させることができるとともに、平板形状物と電極との間の給電を伴う電解処理を高能率でかつ安定して行える。
【００３１】
また、請求項３の発明によれば、請求項１の発明の場合と同様に平板形状物を縦吊状態のまま処理槽内で下向きに流動する処理液中に確実かつ円滑に搬入させることができるとともに、具現化が容易である。
【００３２】
さらに、請求項４の発明によれば、請求項３の発明の場合と同様な効果を奏することができることに加え、さらに１対の溢出槽を用いて下向流動液室および上向流動液室が形成されているので、液流動を一段と安定化できるとともに構造簡単かつ取り扱いが容易である。
【００３３】
さらに、請求項５の発明によれば、請求項４の発明の場合と同様な効果を奏することができることに加え、請求項２の発明の場合と同様に平板形状物と電極との間の給電を伴う電解処理を高能率でかつ安定して行える。また、請求項６の発明によれば、請求項５の発明の場合と同様な効果を奏することができる他、さらにコスト低減ができる。請求項７の発明によれば、請求項５の発明の場合と同様な効果を奏することができる他、さらに処理液のバイパス流動を抑制する作用を強化することができる。
【００３４】
さらにまた、請求項８の発明によれば、請求項３から請求項７まで各発明の場合と同様な効果を奏することができることに加え、一段と多様化するプリント回路基板への適応性が広くかつ高品質基板の提供に大きく貢献することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３５】
（第１の実施の形態）
本表面処理方法（請求項１の発明）を実施するために最良な表面処理装置は、図１（概略正面図）に示す如く、処理槽１０を搬送経路１２を挟み対向配設した１対の起立隔壁３２ＡＬ，３２ＡＲで区画されかつ上方側から供給された処理液Ｑｓｐを下向きに連続流動（Ｑｄｐ）可能な下向流動液室１１（１１Ｌ，１１Ｒ）から形成し、この下向流動液室の下方側に流下した処理液Ｑｄｐを回収可能かつ回収された処理液を下向流動液室１１（１１Ｌ，１１Ｒ）の上方側に再供給しつつ再循環使用可能に形成し、平板形状物（２００）を搬送方向の上流側に設けられた搬入用開口部１５ＩＮを通して下向流動液室に搬入可能であるとともに処理済の平板形状物をその下流側に設けられた搬出用開口部１５ＯＴを通して下向流動液室から搬出可能に形成し、下向流動液室内の搬送中に下向きに連続流動する処理液Ｑｄｎを用いて平板形状物（２００）に表面処理を施すことができるように形成されている。
【００３６】
ここに、平板形状物は、この実施の形態では、プリント回路基板（ワーク２００）とされている。このワーク２００は、ワーク搬送手段（７０）側の複数の冶具８０にその上端部を挟持させた縦吊状態で、搬送方向（図１で紙面に直交する方向…搬送経路１２）に連続搬送される。複数の冶具８０は、搬送方向に一定ピッチで取付けられている。なお、ワーク搬送手段（７０）等に関しては、第３の実施形態において説明する。
【００３７】
確認的に、本表面処理方法（装置）の基本的構成・機能は、搬送方向［Ｘ方向（図６，図７を参照）］の上流側から縦吊状態で搬送されて来た平板形状物（２００）を処理槽１０に搬入し、処理槽１０の処理液中で平板形状物に表面処理を施し、表面処理後の平板形状物を処理槽から搬出してその下流側に搬送させることで、複数枚の平板形状物を連続的に表面処理するものである。
【００３８】
処理槽１０は、Ｘ方向に伸びる搬送経路１２を挟み槽幅方向（図１で左右方向）に対向（離隔）配設された１対の起立隔壁３２ＡＬ，３２ＡＲを用いて区画された下向流動液室１１から形成されている。この下向流動液室１１は、上方側から供給された処理液Ｑｓｐを利用して下向きに連続して流動（Ｑｄｎ）させることができる。つまり、下向連続液流動（域）を生成可能である。なお、搬送経路１２を中心とした場合、その左側を下向流動液室１１Ｌしかつ右側を下向流動液室１１Ｒとする。
【００３９】
なお、この下向流動液室１１（起立隔壁３２ＡＬ，３２ＡＲ）の上方側には処理液を供給するための開口部１３が設けられ、下方側には流下した処理液を排出するための開口部１９が設けられている。
【００４０】
ここに、上部開放かつ四方側壁で有底構造の従来例（例えば、図１３の処理槽１０Ｐ２２）の構造に比較して、本処理槽１０は槽内での処理液の流動および供給・排出に関する作用（機能）が全く異なる。つまり、ユニークな構造であると理解される。ただし、具現（構築）化は容易である。
【００４１】
また、処理槽１０（下向流動液室１１）の搬送方向の上流側（図１で紙面に直交する方向で手前側）にワーク２００を縦吊状態のまま搬入させるための搬入用開口部１５ＩＮが設けられかつ下流側に処理後のワーク２００を縦吊状態のまま搬出させるための搬出用開口部１５ＯＴが設けられている（図６を参照）。
【００４２】
上部開放部１３を通して供給された処理液Ｑｓｐは、下向流動液室１１において、下向きに連続して流動する。つまり、処理液Ｑｄｎの全量が垂直方向に自然流下（加圧流下としてもよい。）するので、従来例の場合（図１３）のように水頭により処理液ＱｒがＸ方向へ大量にかつ勢いよく漏れるという不都合は生じない。
【００４３】
したがって、各開口部１５は、従来例（図１３）の場合と同様な縦長スリット形状であるが、幅方向寸法は従来例のように神経質的に細かく選択決定する必要がない。上記のように開口部１５からＸ方向に勢いよく大量の処理液（Ｑｒ）が流出する現象が生じないので、自由裁量的に決めることができる。また、ガイド（８１ＰＬ，８１ＰＲ等）を設ける必要もないので、装置簡素化および低コスト化を促進できる。
【００４４】
因みに、この実施の形態では、製作上の事情等を考慮してワーク２００の厚み（ｔ）の約５倍（５ｔ）から１０倍（１０ｔ）に狭くしてある（図５を参照）。
【００４５】
さて、下向流動液室１１の上方側開口部１３を通して供給された処理液Ｑｓｐは、室内を流下した後、下方側開口部１９を通して排出されかつこの排出処理液Ｑｄｐは回収槽４０に回収される。また、回収された処理液は、液再循環手段５０によって下向流動液室１１（１１Ｌ，１１Ｒ）の上方側（１３）に再供給しつつ再循環使用可能に形成されている。
【００４６】
この液再循環手段５０は、吸込管５１，再循環ポンプ５５，フィルタ５６および供給管５２等から形成され、回収槽４０から吸引した処理液を加圧して下向流動液室１１（１１Ｌ，１１Ｒ）の上方側に再供給する。この実施の形態では、各起立隔壁３２ＡＬ，３２ＡＲの上端部に供給管５２に連通する枝管５２Ｌ，５２Ｒを設け、この枝管５２Ｌ，５２Ｒに接続された液噴出ヘッダー５３Ｌ，５３Ｒから上部開口部１３を通して処理液を再供給する。液噴出ヘッダー５３Ｌ，５３Ｒは、Ｘ方向に伸びかつ当該各下向流動液室１１Ｌ，１１Ｒ内に間断無くかつ必要十分な量の処理液を噴出することができる。
【００４７】
かくして、下向流動液室１１Ｌ，１１Ｒ内の処理液Ｑは、重力作用により下方に向かって連続して流下する。搬入されたワーク２００を中心に観察すれば、左右の下向流動液室１１Ｌ，１１Ｒのそれぞれに処理液の下向連続流動（域）を形成したことに等しい。したがって、従来例の場合（図１３）のように激しい漏れ噴出液Ｑｒとの衝突がないから、ワーク２０の先端辺（２００Ｆ）に折れや湾曲が生じない。つまり、処理液中にワーク２００を確実かつ円滑に搬入することができる。
【００４８】
また、この流下処理液（下向連続流動液）Ｑｄｎは、浸漬（搬入）されたワーク２００の各面（表裏面）に等価の液圧を付与することになる。つまり、ワーク２００の左右に圧力差が生じない。しかも、下向連続流動液（流下液）は、上端部が冶具８０に挟持された縦吊状態のワーク２００に、その上端部側から下端部側に向けた引張力を生じさせるように働く。
【００４９】
かくして、搬入されたワーク２００は、上端部（８０）が固定端とされかつ自由端（先端部）が下方に引っ張られるので、左右に揺動したり湾曲することなく、真直ぐ１枚板として縦吊状態のまま処理液中を円滑に搬送される。因みに、第３の実施形態の如く電解処理槽１０ＥＰの場合には、ワーク２００と各電極との間隔（極間距離）が一定になるので、高精度処理を安定して行える。
【００５０】
かかる構成の第１の実施形態によれば、処理槽１０の下方側で回収した処理液をその上方側から再供給して再循環使用しつつ処理槽に処理液を下向きに連続流動させ、平板形状物（２００）を連続流動する処理液中に押し込むようにして処理槽に搬入しかつ搬送中に当該平板形状物に下向きに連続流動する処理液を用いて表面処理を施し、表面処理終了後に平板形状物を連続流動する処理液中から押し出すようにして処理槽から搬出させる表面処理方法を、確実かつ高能率で実施することができる。
【００５１】
詳しくは、液再循環手段５０（５５）を駆動して、貯液タンク４０から吸引した処理液を加圧しつつ液噴出ヘッダー５３Ｌ，５３Ｒから処理槽１０内の上方側開口部１３を通して下向流動液室１１（１１Ｌ，１１Ｒ）に供給する。下向流動液室１１（１１Ｌ，１１Ｒ）内には、処理液の下向連続流動（域）が生成される。この下向連続流動（域）は、処理液が垂直に自然流下する層流状態の液流である。
【００５２】
したがって、上流側の搬入用開口部１５ＩＮおよび下流側の搬出用開口部１５ＯＴから搬送方向に処理液が勢いよく噴出することはない。静かに下方側開口部１９から流下排出されて下方の回収槽４０に回収される。処理液の再循環使用により、運転中は下向連続流動が続く。
【００５３】
ここで、搬送方向の上流側（図１の紙面手前側）から縦吊状態で搬送されて来た平板形状物（ワーク２００）は、搬入用開口部１５ＩＮから処理槽１０（１１）内に搬入される。従来例の場合のように搬送方向への噴出液流に逆らって突入させるのではなく、連続流動する処理液中に押し込むようにして搬入される。換言すれば、層流状態の連続流動処理液に横方向（搬送方向）から割り込ませるように、ワーク２００をその先端辺２００Ｆ（図６，図１２を参照）から静かに押し入れる。したがって、搬入時の折れや湾曲は生じない。つまり、平板形状物（２００）を縦吊状態のまま処理槽１０（１１）内で下向きに流動する処理液中に確実かつ円滑に搬入させることができる。
【００５４】
また、処理槽１０（１１）内では、ワーク２００の各面（表裏面）に等圧が加わるので、圧力差に起因する揺れが生じない。さらに、下向連続流動処理液は、ワーク２００を下方に引っ張る作用を誘発する。したがって、処理液中での円滑搬送が担保される。
【００５５】
この処理液中でワーク２００に表面処理を施すことができる。この際、下向連続流動処理液の表面払拭作用によりワーク２００の表裏面の活性が高められる。ムラがなく全面的均一でかつ高品質な表面処理を迅速に行える。また、従来例の場合（図１０，図１１，図１２）のように、槽内に液撹拌手段やバブリング手段を設ける必要がない。
【００５６】
表面処理後のワーク２００は、下向連続流動処理液中から押し出すようにして処理槽１０（１１）から外部に搬出されかつその下流側に搬送される。後端辺２００Ｂ（図６を参照）が搬出用開口部１５ＯＴから完全に出るまで、ワーク２００の両面（表裏面）の液圧均一と下方への引っ張り作用が働くので、この点からも円滑な搬出ができる。
【００５７】
かくして、連続搬送と高品質処理とを確実かつ安定して行え、結果として、複数枚の平板形状物（プリント回路基板２００）を連続的に表面処理することができる。しかも、具現化が容易で、構造簡単かつ取り扱いが容易（簡単）である。
（第２の実施の形態）
【００５８】
この第２の実施の形態は、図２に示される。基本的な構成・機能は第１の実施形態の場合（図１）と同様であるが、処理槽１０（１１，２１）を１対の溢出槽３０Ｌ，３０Ｒを対向配設することで表面処理装置を構築可能に形成してある。
【００５９】
すなわち、表面処理装置は、１対の溢出槽３０Ｌ，３０Ｒを対向配設して下向流動液室１１（１１Ｌ，１１Ｒ）と上向流動液室２１Ｌ，２１Ｒとを形成し、下向流動液室１１（１１Ｌ，１１Ｒ）が処理液を下向連続流動可能かつ上向流動液室２１Ｌ，２１Ｒが上向連続流動可能に形成され、下向流動液室１１（１１Ｌ，１１Ｒ）に搬入用開口部１５ＩＮおよび搬出用開口部１５ＯＴを設けかつ処理液の再循環使用に必要な回収槽４０および液再循環手段５０を設け、第１の実施形態の場合と同様にワーク２００を下向流動液室に搬入可能かつ搬出可能であるとともに下向流動液室１１内の搬送中に下向連続流動処理液Ｑｄｎを用いて表面処理可能に形成されている。
【００６０】
なお、第１の実施形態において説明した事項と共通する部分については、その説明を簡略化しまたは省略する。
【００６１】
図２において、１対の溢出槽３０Ｌ，３０Ｒは、各内側起立隔壁３２Ｌ，３２Ｒが搬送経路１２を挟み対面するようにして対向配設される。各溢出槽３０Ｌ，３０Ｒは、上部開放型のオーバーフロー槽で、各内側起立隔壁３２Ｌ，３２Ｒの上端部を越えて溢出（オーバーフロー）する処理液Ｑｓｐを下向流動液室１１（１１Ｌ，１１Ｒ）内に供給する。処理液の供給がオーバーフロー方式であるから、第１の実施形態の場合に比較して、一段と静かで円滑かつ安定した均一供給ができる。
【００６２】
処理槽１０の一部を構成する下向流動液室１１（１１Ｌ，１１Ｒ）は、各内側起立隔壁３２Ｌ，３２Ｒで区画された区画内空間として形成される。下向流動液室１１（１１Ｌ，１１Ｒ）は、各溢出槽３０Ｌ，３０Ｒの上端部を越えて溢出しかつ上方側開口部１３から供給された処理液Ｑｓｐを下向きに連続流動可能である。
【００６３】
また、処理槽１０の一部を構成する上向流動液室２１Ｌ，２１Ｒは、各溢出槽３０Ｌ，３０Ｒの内部空間として形成される。上向流動液室２１Ｌ，２１Ｒは、下方側から再供給された処理液を上向きに連続流動可能である。つまり、上向流動液室２１Ｌ，２１Ｒは、下方側から供給された処理液を利用して上向きに連続して流動する処理液Ｑｕｐつまり上向液流動（域）を生成する。溢出槽３０Ｌ，３０Ｒの内底部には整流ボックス３６Ｌ，３６Ｒを設け、安定した上向流を生成可能かつ維持可能に形成してある。
【００６４】
そして、下向流動液室１１（１１Ｌ，１１Ｒ）の搬送方向の上流側に搬入用開口部１５ＩＮを設けかつその下流側に搬出用開口部１５ＯＴを設けてある。開口部の幅は、溢出槽３０Ｌ，３０Ｒの各内側起立隔壁３２Ｌ，３２Ｒ間の距離である。ただし、調整板を付設するなどして、各内側起立隔壁３２Ｌ，３２Ｒ間の距離相当幅よりも狭い幅に形成してもよい。
【００６５】
回収槽４０は、下向流動液室１１（１１Ｌ，１１Ｒ）の下方側開口部１９から流下排出された処理液を回収することができる。液再循環手段５０は、回収された処理液を加圧してかつ各整流ボックス（整流ヘッダーでもよい。）３６Ｌ，３６Ｒを通じて各上向流動液室２１Ｌ，２１Ｒに再供給しつつ処理液を再循環使用する。
【００６６】
かくして、ワーク２００を搬送方向の上流側に設けられた搬入用開口部１５ＩＮを通しかつ連続流動する処理液中に押し込むようにして下向流動液室１１に搬入可能であるとともに処理済のワークをその下流側に設けられた搬出用開口部１５ＯＴを通しかつ連続流動する処理液中から押し出すようにして下向流動液室１１から搬出可能に形成し、下向流動液室内の搬送中に下向きに連続流動する処理液を用いてワーク２００に表面処理を施すことができる。
【００６７】
しかして、この第２の実施の形態によれば、第１の実施形態の場合と同様に平板形状物（ワーク２００）を縦吊状態のまま処理槽１０（１１）内で下向きに流動する処理液中に確実かつ円滑に搬入させることができる。しかも、１対の溢出槽３０Ｌ，３０Ｒを用いて下向流動液室１１および上向流動液室２１を形成すればよいので、具現化が一段と容易で、処理液流動を一段と安定化できる。
【００６８】
また、１対の溢出槽３０Ｌ，３０Ｒの搬送経路１２を中心とした配設間隔を変更するだけで、下向流動液室１１（１１Ｌ，１１Ｒ）の内容積や搬入用開口部１５ＩＮおよび搬出用開口部１５ＯＴの幅を調整できるので、ワーク２００の厚さや搬送速度等に対する適応性が広い。
（第３の実施の形態）
【００６９】
この第３の実施の形態は、図３〜図８に示される。基本的な構成・機能は第２の実施形態の場合（図２）と同様であるが、表面処理が電解処理（ここでは、めっき処理）とされかつ処理槽１０が電解処理槽１０ＥＰとして形成してある。また、請求項２の発明に係る表面処理方法を実施するために最良である。
【００７０】
図３において、表面処理（電解処理）装置は、第２の実施形態の場合と同様な各上向流動液室２１Ｌ，２１Ｒ内に当該各内側起立隔壁（３７Ｌ，３７Ｒ）を挟んでワーク２００の各面（表裏面）に対向可能に電極３５ＫＬ，３５ＫＲを配設するとともに、各内側起立隔壁（３７Ｌ，３７Ｒ）が電極３５ＫＬ，３５ＫＲと平板形状物（２００）との間の通電を促進可能かつ上向流動液室２１Ｌ，２１Ｒから下向流動液室１１Ｌ，１１Ｒへの処理液のバイパス（素通り）流動を抑制可能に形成されている。
【００７１】
つまり、上向流動液室２１Ｌ，２１Ｒは、電極室２１ＥＰＬ，２１ＥＰＲを形成する。同様に、各下向流動液室１１Ｌ，１１Ｒは、電解処理室１１ＥＰＬ，１１ＥＰＲを形成する。
【００７２】
電極３５ＫＬ，３５ＫＲは、アノードバッグ３５Ｌ，３５Ｒ内に収容された多数の銅ボールからなり、給電中において処理液中に銅イオンを生成供給することができる。この電極３５ＫＬ，３５ＫＲは、上向流動液Ｑｕｐによって表面が洗われるので、銅イオンを高効率かつ安定して生成供給することができる。この点で、処理液組成の管理が楽になる。
【００７３】
また、アノードバッグ３５Ｌ，３５Ｒは、図５に示す装着用フック部材３４Ｌ，３４Ｒを介して当該各溢出槽３０ＥＰＬ，３０ＥＰＲに着脱可能に取付けられる。銅ボールの補給や交換を含むメンテナンスを簡単に行える。
【００７４】
この実施の形態では、構造簡素化およびコスト低減のために、各内側起立隔壁（３２Ｌ，３２Ｒ）を図３，図８に示す多孔板３７から形成してある。各多孔板３７Ｌ，３７Ｒには、通電促進効果およびバイパス流動抑制効果を得るために選択された小径（例えば、１ｍｍφ）の貫通孔３７ｈが多数設けられている。
【００７５】
なお、内側起立隔壁（３２Ｌ，３２Ｒ）は、例えば布製シート部材や全体を包囲可能な布製バッグから形成としてもよい。図９の場合は、内側枠部材３１に布製シート部材３８を張り付けた場合を示す。処理液のバイパス流動を抑制する作用を一段と強化することができる。
【００７６】
図４〜図７において、電解処理槽１０ＥＰの一部を形成する上記した内側枠部材３１Ｌ，３１Ｒの上端部には、図５に示す液面調整堰板３３Ｌ，３３Ｒが設けられ、上部開口部１３への処理液の供給位置（高さ）を調整することができる。液面調整堰板３３Ｌ，３３Ｒは、搬送される冶具８０との干渉を回避させるために上方拡大形状にしてある。
【００７７】
ワーク搬送手段７０は、搬送構造体７１とこの搬送構造体７１に搬送駆動力を与えるベルトコンベア７８とから形成され、ワーク２００を定速（例えば、１〜２ｍ／ｍｉｎに設定）かつ連続で槽内を搬送可能に形成してある。搬送構造体７１は、図５，図６に示す搬送（Ｘ）方向に延設されたレール７７と，このレール７７に沿って摺動（あるいは転動）可能に装着されたキャリア７２と，このキャリア７２の一部を構成する横腕木部材７３の先端に取付けられた保持部材７４と，この保持部材７４に着脱可能な冶具８０とから形成されている。
【００７８】
この実施の形態では、レール７７，キャリア７２，ベルトコンベア７８等を電解処理槽１０ＥＰの外側（図４で右側）に位置をずらせて配置して、構造・手段の相対摺動部で発生する微細な塵埃が１０ＥＰ内に落下することを防止する。一層の高品質処理を期する。
【００７９】
なお、給電手段は、銅製レール７７とキャリア７２との摺接によりかつ搬送構造体７１（７２，７３，７４，８０）を介してワーク２００に給電する。つまり、電源装置（図示省略）のマイナス（−）極をワーク（陰極）２００に接続する。なお、電極（陽極）３５ＫＬ，３５ＫＲにプラス（＋）極が接続される。
【００８０】
冶具（挟持具）８０は、図５に示すように保持部材７４にネジ止め固定される本体ベースと，支点を中心に回動可能なクランプと，クランプの一端（先端）を本体ベースに常時押圧かつ常時挟持するための付勢力を付与するスプリングとから形成され、クランプの先端と本体ベースとの間でワーク２００の上端部を挟持する。
【００８１】
回収槽４０は、図６，図７に示すように、処理槽１０ＥＰ（３０ＥＰＬ，３０ＥＰＲ）の槽長（Ｘ方向の長さ）に比較して長く（約２倍長）してある。処理液の組成管理の容易化および再循環の円滑化等のためである。また、開口部１５ＩＮ・１５ＯＴからのシブキも回収できかつ装置周辺を汚さない。
【００８２】
したがって、処理槽１０ＥＰつまり溢出槽３０ＥＰＬ，３０ＥＰＲの前後空間にはガイド手段９０Ｌ，９０Ｒを設け、電解処理室１１ＥＰＬ，１１ＥＰＲ内に搬入される以前のワーク２００と搬出された以後の製品（２００）の搬送姿勢を一定に維持可能に形成してある。
【００８３】
ガイド手段９０は、図６および図７に示す上流側ガイド手段９１Ｕと下流側ガイド手段９１Ｄとから形成され、複数（５本）の合成樹脂ロープを上下方向に等間隔で張設しかつ搬送経路１２を挟み１対を対向配置させた構造である。なお、従来例（特許文献１）の処理液中に装着するガイド手段とは相異する。
【００８４】
かかる第３の実施の形態によれば、処理槽１０ＥＰの一部を構成する電解処理室１１ＥＰ（１１ＥＰＬ，１１ＥＰＲ）の下方側で回収した処理液を処理槽の一部を構成する電極室２１ＥＰ（２１ＥＰＬ，２１ＥＰＲ）の下方側から供給して処理液を上向きに連続流動させ、電極室を流動した処理液を電解処理室に上方側から再供給することで再循環使用しつつ電解処理室に処理液を下向きに連続流動させ、平板形状物（ワーク２００）を下向きに連続流動処理液中に押し込むようにして電解処理室に搬入しかつ搬送中に電極と平板形状物との間に給電しつつ当該平板形状物に下向連続流動処理液を用いて表面処理を施し、表面処理終了後に平板形状物を連続流動処理液中から押し出すようにして電解処理室から搬出させる表面処理方法を、確実に実施することができる。
【００８５】
しかして、この第３の実施の形態によれば、第２の実施形態の場合と同様な効果を奏することができることに加え、平板形状物（ワーク２００）と電極３５ＫＬ，３５ＫＲとの間の給電を伴う電解処理を高能率で行える。
【００８６】
さらにまた、一段と多様化するプリント回路基板２００への適応性が広くかつ高品質基板の提供に大きく貢献することができる。
【産業上の利用可能性】
【００８７】
本発明は、薄く、可撓性に富んだ平板形状物（例えば、プリント回路基板）を処理液中に直接に搬入して表面処理させたい場合に有用である。
【図面の簡単な説明】
【００８８】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る表面処理装置を主に処理槽を中心として説明するための模式的に表わした正面図である。
【図２】本発明の第２の実施形態に係る表面処理装置を主に処理槽を中心として説明するための模式的に表わした正面図である。
【図３】本発明の第３の実施形態に係る表面処理装置を主に処理槽を中心として説明するための模式的に表わした正面図である。
【図４】同じく、全体構成を説明するための正面図である。
【図５】同じく、処理槽を詳細に説明するための正面図である。
【図６】同じく、全体構成を説明するための側面図である。
【図７】同じく、全体構成を説明するための平面図である。
【図８】同じく、多孔板からなる内側起立隔壁を説明するための図である。
【図９】同じく、内側起立隔壁の変形例を説明するための図である。
【図１０】バッチ処理方式の従来例を説明するための図である。
【図１１】連続処理方式の従来例を説明するための図である。
【図１２】折衷方式の従来例を説明するための図である。
【図１３】平板形状物を連続処理方式で処理する場合の問題点を説明するための図である。
【図１４】平板形状物を連続処理方式で処理する場合のガイド装置例を説明するための図である。
【符号の説明】
【００８９】
１０ 処理槽
１１ 処理室
１１Ｌ，１１Ｒ 下向流動液室
１２ 搬送経路
１５ＩＮ 搬入用開口部
１５ＯＴ 搬出用開口部
２１ 上向流動液室
３０ 溢出槽
３２ 内側起立隔壁
３５Ｋ 電極
１０ＥＰ 電解処理槽
１１ＥＰ 電解処理室
２１ＥＰ 電極室
３０ＥＰ 溢出槽
３５ アノードバッグ
３７ 多孔板（内側起立隔壁）
３８ 布製シート部材（内側起立隔壁）
４０ 回収槽
５０ 液再循環手段
５５ 再循環ポンプ
７０ ワーク搬送手段
７１ 搬送構造体
７８ ベルトコンベア
８０ 冶具
９０ ガイド手段
２００ ワーク（プリント回路基板…平板形状物）
【技術分野】
【０００１】
本発明は、搬送方向の上流側から縦吊状態で搬送されて来た平板形状物を処理槽に搬入しかつ処理液中で表面処理を施すとともに表面処理後の平板形状物を処理槽から搬出してその下流側に搬送させることで、複数枚の平板形状物を連続的に表面処理する平板形状物の表面処理方法および表面処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ワークの表面処理方法には、バッチ処理方式と連続処理方式とがある。バッチ処理方式は、図１０に示すように、平板形状物（ワーク２００Ｐ１）を縦吊状態として、列配された各処理槽１０Ｐ１０，１０Ｐ２０，１０Ｐ３０へ順番に搬送する。すなわち、ワーク２００Ｐ１を処理槽１０Ｐ１０の処理液中に浸漬して所定時間だけ表面処理を施し、次いでワークを上昇（Ｖ１），水平搬送（Ｈ１）および下降（Ｖ２１）させて処理槽１０Ｐ２０の処理液中に浸漬する。以下、同様な手順を繰り返す。
【０００３】
連続処理方式は、図１１に示す如く、例えば帯状長尺板材（ワーク２００Ｐ２）を水平状態として保持しつつ各処理槽１０Ｐ１１，１０Ｐ２１，１０Ｐ３１の配列順に従って連続搬送する。すなわち、ワーク２００Ｐ２が各処理槽の上部に設けられた開口部分１０ＵＨを通じて当該各処理液中に浸漬されかつ通過する間に当該各表面処理が施される。
【０００４】
ここに、バッチ処理方式は、ワーク形態（平板形状物，立体形状物，棒状短尺物等）に対する適応性が広いが、各処理槽間におけるワークの上昇・水平搬送・下降が必要になるので、生産性向上が難しい。対する連続処理方式は、各処理槽間での中間的かつ断続的な搬送（Ｖ１，Ｈ１，Ｖ２１等）が必要ないので、生産性が高い。しかし、最上流のアンコイラーと最下流のコイラーとの間に張設可能な帯状長尺板材や線状材料に限られる。つまり、ワーク形態に対する適応性が極めて狭い。
【０００５】
ところで、液組成の均一化の点からすれば、処理時間が長い場合に複数の処理槽に分割するバッチ処理方式の場合に比較して、処理時間に応じた槽長を持たせた１つの処理槽内で処理する連続処理方式の方が、その管理・維持が容易である。つまり、安定した品質の処理ができる。また、連続処理方式の場合は、バッチ処理方式における処理槽間での搬送中に引き起こされる問題（ワーク表面付着液による過剰反応、大気接触による酸化進行およびワーク表面への塵埃付着）の心配がない。この問題は、いずれも品質に悪影響を及ぼす。
【０００６】
かくして、ワーク２００Ｐ１に高品質電解処理（例えば、めっき処理）を行う場合には、図１２に示す如く、当該電解処理槽１０ＥＰ内では槽外に配置されたベルトコンベア等を用いてワークを処理液中で水平搬送（Ｈ２０）しつつ電解処理を連続して施す連続処理方式が採られている。しかし、他の処理槽との関係では、バッチ処理方式の搬送態様が採用されている。
【０００７】
すなわち、上流側から水平搬送（Ｈ１０）されたワーク２００Ｐ１は、下降（Ｖ１０）により電解処理槽１０ＥＰに投入される。また、処理後のワークは、上昇（Ｖ３０）および水平搬送（Ｈ３０）により下流側の処理槽へ搬送される。つまり、この図１２は、バッチ処理方式と連続処理方式とを組み合わせた折衷方式を指すものといえる。
【０００８】
しかし、薄板状の例えばプリント回路基板（ワーク２００Ｐ）の場合は、電解処理槽１０ＥＰ内での水平搬送速度を高くする程にワーク２００Ｐに揺動や振動が発生する。さらに、ワークに搬送（Ｘ）方向と直交する方向の湾曲が生じ、その先端が折れてしまう場合がある。これでは、電解処理槽１０ＥＰ内での電極間距離が変動してしまうから品質劣悪化を免れない。処理槽内装部材との衝突によるワーク２００Ｐの破損や内装部材自体の変形等を発生させる虞もある。
【０００９】
これに関しては、本出願人は、ガイドポストに張設された複数のワイヤー（搬送ガイド）を有する搬送ガイド手段を設けた表面処理装置を提案（特許文献１を参照）している。これによれば、ワイヤー（搬送ガイド）間でワークの自由運動を規制できるから、ワーク２００Ｐの縦吊状態（状態）を維持しつつ安定かつ円滑に搬送することができた。つまりは、高品質処理を行える。
【００１０】
しかし、上記の折衷方式では、槽外から電解処理槽１０ＥＰの処理液中にワーク２００Ｐを投入（浸漬）しかつ連続電解処理終了後に処理液中から槽外へワークを取出さなければならない。しかも、ワークの昇降速度は、電解処理の連続性を担保するために処理槽１０ＥＰ内での水平搬送（Ｈ２０）速度に比較して高速（例えば、４倍速）である。したがって、浸漬に際する下降工程では、ワーク２００Ｐの先端部分（縦吊状態での下端部分）が大きな液抵抗を受けるので湾曲，折れ曲りあるいは揺動してしまうことが多々ある。結果として、ワーク２００Ｐが槽内装品（例えば、上記ガイドポスト，図示しない電極等）に衝突し、さらには張り付いてしまう場合がある。
【００１１】
また、ワーク２００Ｐをいきなり搬送ガイド間内に下降可能に構築した表面処理装置の場合には、ワークの先端部分（縦吊状態での下端部分）が搬送ガイド間に入らないので、搬送が開始できない。そこで、本出願人は、処理槽１０ＥＰ内に縦吊（姿態）状態維持手段を組込み、縦吊状態のワーク２００Ｐを槽上から下降させつつ処理液中に浸漬する搬送に先立ち、ワーク２００Ｐの両側から多数の挟持片を接近させかつその強制押え力を利用して縦吊状態（姿態）を保持（維持）可能に形成した表面処理装置を提供（特許文献２を参照）した。これによれば、処理槽１０ＥＰ内に浸漬する際の先端曲り等を防止しつつワーク２００Ｐを縦吊状態のまま真直ぐに処理液中に下降させることができた。
【００１２】
さらに、搬送方向の上流側に設けた上記の縦吊状態維持手段と搬送ガイド手段との間に引き起こる問題の解決として、両者間に液噴流導入案内手段を設けた表面処理装置を提案（特許文献３を参照）している。この液噴流導入案内手段は、水平搬送中のワーク２００Ｐの両面側から液を強制噴流させて当該ワークの先端部が搬送ガイドに衝突することを回避させるためのものである。
【００１３】
かくして、プリント回路基板（２００Ｐ）のような薄板状で可撓性に富んだワーク２００Ｐを連続的に表面処理する場合には、上記の折衷方式を採用しているのが実状である。
【特許文献１】特開２００１−２３４４０号
【特許文献２】特開２００２−２８５３９８号公報
【特許文献３】特開２００２−２８５３９６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
しかしながら、電子部品や電子機器の一層の高品質が進みかつ小型化および低コスト化が一段と強く要求される現今では、上記の折衷方式の妥協的採用も難しくなる傾向にある。つまり、縦吊状態維持手段の一掃による装置小型化，コスト削減化はもとより、生産能率上、処理槽間ごとの上昇・水平搬送・下降工程を一掃できないかとの指摘がある。
【００１５】
これに関しては、その実現化を目指して試行を繰り返しているが、確認的に記述する以下の技術的事項の解決なくしては、実用的な連続処理方式の具現化は至難とされている。
【００１６】
すなわち、図１３において、上流側（右側）の処理槽１０Ｐ１２からＸ方向に搬送されて来たワーク２００Ｐは、開口部１３Ｐを通して処理槽１０Ｐ２２に搬入され、槽内連続移行中に表面処理が施されかつ処理後に後方側開口部（図示省略）を通して下流側（左側）の処理槽１０Ｐ３２に搬送される。各開口部から漏れた処理液（Ｑｒ）は、回収槽１７Ｐに回収されかつ再循環使用される。
【００１７】
ここに、プリント回路基板（ワーク２００Ｐ）の形態の特殊性から、ワーク搬送手段側の冶具にワークの上端部（上辺側）を挟持させた縦吊状態（両面が垂直になる状態）で水平搬送される。他方、開口部１３Ｐから漏れる液量Ｑｒは非常に多く、しかも上流側に向い勢いよく流れ出る。
【００１８】
かくして、上流側の処理槽１０Ｐ１２から縦吊状態で搬送されて来たワーク２００Ｐを、流出する大量の漏れ液流（Ｑｒ）に向いかつ逆らってその先端辺２００Ｆ側から突入させると、ワーク２００Ｐが湾曲しあるいはその先端が折れてしまう。つまり、平板形状物（２００Ｐ）を縦吊状態のまま処理槽（１０Ｐ１２）内の処理液中に正確かつ円滑に搬入させることができない。
【００１９】
そこで、液漏れ量Ｑｒを小さくするには、図１４（Ａ）に示す１対の搬入ガイドローラ８１ＰＬ，８１ＰＲを設けかつその間隔Ｓ１を狭くしなければならない。あるいは、図１４（Ｂ）に示す弾性材質からなる１対の搬入ガイドブレード８２ＰＬ，８２ＰＲの場合も間隔Ｓ２を極めて小さくしなければならない。しかし、液漏れ量Ｑｒを絞れば絞る程に、ワークの先端がガイド（８１ＰＬ，８１ＰＲ、８２ＰＬ，８２ＰＲ）に直接に衝突してしまうという新たな問題が発生する。したがって、厚さが一段と薄くかつ可撓性に富む傾向が強いワーク２００Ｐでは、連続処理方式は未だに実現できていない。
【００２０】
本発明の目的は、平板形状物を縦吊状態のまま処理槽の処理液中に確実かつ円滑に搬入させることができる平板形状物の表面処理方法および表面処理装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２１】
上記の試行処理槽１０Ｐ２２では、縦吊状態の平板形状物（２００Ｐ）を導入させるために縦長でスリット形状の開口部１３Ｐを設けているので、ダムの放水口の場合と同様に、その水頭に応じた勢いでかつ上流側に向かって噴出する処理液流（溢出流）が発生している。しかし、水道の蛇口の場合には、その流量の多少や勢い強弱に関係なく、水は下方に向かって流下するが手前に向かう溢出流は生じない。また、下方に向かう処理液中に搬送方向（横方向）から押し込むようにワーク２００Ｐを搬入させれば、その直後からワークの各側面には等価の水圧が掛かりかつ下方に向けた軽い引張力を発生できるので、ワークが湾曲しあるいは折れることを防止できる筈である。
【００２２】
本発明は、これら経験則と推測事項に着目した試験・研究の結果として創生された新規で有用なものである。すなわち、積極的に処理液の下向きの連続流動を生成することで上流側に向かう噴出液流の発生を消滅しかつ下向連続流動液中にワークを直接搬入させることで、連続処理可能に形成したものである。
【００２３】
具体的には、請求項１の発明は、処理液を再循環使用しつつ処理槽に処理液を下向連続流動させ、平板形状物を連続流動処理液中に押し込むようにして処理槽に搬入しかつ搬送中に下向連続流動処理液を用いて表面処理を施し、表面処理終了後に平板形状物を連続流動する処理液中から押し出すようにして処理槽から搬出させる、平板形状物の表面処理方法である。
【００２４】
また、請求項２の発明は、電解処理室の下方側で回収した処理液を電極室の下方側から供給しかつ電極室に供給して上向きに連続流動させ、電極室を連続流動した処理液を再循環使用しつつ電解処理室に再供給して処理液を下向きに連続流動させ、平板形状物を連続流動処理液中に押し込むようにして電解処理室に搬入しかつ搬送中に給電しつつ平板形状物に下向連続流動処理液を用いて表面処理を施し、表面処理終了後に平板形状物を連続流動処理液中から押し出すようにして電解処理室から搬出させる、平板形状物の表面処理方法である。
【００２５】
また、請求項３の発明は、処理槽を、搬送経路を挟み対向配設された１対の起立隔壁で区画しかつ処理液を下向きに連続流動可能な下向流動液室から形成し、下向流動液室の下方側で回収された処理液を下向流動液室に再供給しつつ再循環使用可能に形成し、平板形状物を上流側搬入用開口部を通しかつ連続流動処理液中に押し込むようにして下向流動液室に搬入可能で、処理済の平板形状物を下流側搬出用開口部を通しかつ連続流動処理液中から押し出すようにして下向流動液室から搬出可能に形成し、下向流動液室内の搬送中に下向連続流動処理液を用いて表面処理可能に形成された、平板形状物の表面処理装置である。
【００２６】
また、請求項４の発明は、１対の溢出槽を搬送経路を挟み対向配設し、下向流動液室が各内側起立隔壁で区画された区画内空間としてかつ上向流動液室が当該各溢出槽の内部空間として形成され、下向流動液室が当該各溢出槽の上端部を越えて溢出しかつ上方側開口部から供給された処理液Ｑｓｐを下向連続流動可能に形成されるとともに上向流動液室が下方側から再供給された処理液Ｑｓｐを上向連続流動可能に形成され、下向流動液室の搬送方向の上流側に搬入用開口部を設けかつその下流側に搬出用開口部を設け、下向流動液室の下方側開口部から流下排出された処理液を回収可能な回収槽と、回収された処理液を加圧して各上向流動液室に再供給しつつ処理液を再循環使用可能な液再循環手段とを設け、平板形状物を搬入用開口部を通しかつ連続流動処理液中に押し込むようにして下向流動液室に搬入可能であるとともに処理済の平板形状物を搬出用開口部を通しかつ連続流動処理液中から押し出すようにして下向流動液室から搬出可能に形成し、下向流動液室内の搬送中に下向連続流動処理液を用いて平板形状物に表面処理可能に形成された、平板形状物の表面処理装置である。
【００２７】
さらに、請求項５の発明は、各上向流動液室内に当該各内側起立隔壁を挟んで平板形状物の各面に対向可能に電極を配設するとともに各内側起立隔壁が電極と平板形状物との間の通電を促進可能かつ上向流動液室から下向流動液室への処理液のバイパス流動を抑制可能に形成されている。請求項６の発明は、内側起立隔壁が多孔板から形成されている。また、請求項７の発明は、起立隔壁が布製シート部材から形成されている。
【００２８】
さらに、請求項８の発明は、平板形状物がプリント回路基板とされかつ搬送手段側の複数の冶具でプリント回路基板の上端部を挟持させた縦吊状態で搬送可能に形成されている。
【発明の効果】
【００２９】
請求項１の発明によれば、平板形状物を縦吊状態のまま処理槽内で下向きに流動する処理液中に確実かつ円滑に搬入させることができる。よって、連続搬送と高品質処理とを高能率でかつ安定して行える。
【００３０】
また、請求項２の発明によれば、請求項１の発明の場合と同様に平板形状物を縦吊状態のまま処理槽内で下向きに流動する処理液中に確実かつ円滑に搬入させることができるとともに、平板形状物と電極との間の給電を伴う電解処理を高能率でかつ安定して行える。
【００３１】
また、請求項３の発明によれば、請求項１の発明の場合と同様に平板形状物を縦吊状態のまま処理槽内で下向きに流動する処理液中に確実かつ円滑に搬入させることができるとともに、具現化が容易である。
【００３２】
さらに、請求項４の発明によれば、請求項３の発明の場合と同様な効果を奏することができることに加え、さらに１対の溢出槽を用いて下向流動液室および上向流動液室が形成されているので、液流動を一段と安定化できるとともに構造簡単かつ取り扱いが容易である。
【００３３】
さらに、請求項５の発明によれば、請求項４の発明の場合と同様な効果を奏することができることに加え、請求項２の発明の場合と同様に平板形状物と電極との間の給電を伴う電解処理を高能率でかつ安定して行える。また、請求項６の発明によれば、請求項５の発明の場合と同様な効果を奏することができる他、さらにコスト低減ができる。請求項７の発明によれば、請求項５の発明の場合と同様な効果を奏することができる他、さらに処理液のバイパス流動を抑制する作用を強化することができる。
【００３４】
さらにまた、請求項８の発明によれば、請求項３から請求項７まで各発明の場合と同様な効果を奏することができることに加え、一段と多様化するプリント回路基板への適応性が広くかつ高品質基板の提供に大きく貢献することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３５】
（第１の実施の形態）
本表面処理方法（請求項１の発明）を実施するために最良な表面処理装置は、図１（概略正面図）に示す如く、処理槽１０を搬送経路１２を挟み対向配設した１対の起立隔壁３２ＡＬ，３２ＡＲで区画されかつ上方側から供給された処理液Ｑｓｐを下向きに連続流動（Ｑｄｐ）可能な下向流動液室１１（１１Ｌ，１１Ｒ）から形成し、この下向流動液室の下方側に流下した処理液Ｑｄｐを回収可能かつ回収された処理液を下向流動液室１１（１１Ｌ，１１Ｒ）の上方側に再供給しつつ再循環使用可能に形成し、平板形状物（２００）を搬送方向の上流側に設けられた搬入用開口部１５ＩＮを通して下向流動液室に搬入可能であるとともに処理済の平板形状物をその下流側に設けられた搬出用開口部１５ＯＴを通して下向流動液室から搬出可能に形成し、下向流動液室内の搬送中に下向きに連続流動する処理液Ｑｄｎを用いて平板形状物（２００）に表面処理を施すことができるように形成されている。
【００３６】
ここに、平板形状物は、この実施の形態では、プリント回路基板（ワーク２００）とされている。このワーク２００は、ワーク搬送手段（７０）側の複数の冶具８０にその上端部を挟持させた縦吊状態で、搬送方向（図１で紙面に直交する方向…搬送経路１２）に連続搬送される。複数の冶具８０は、搬送方向に一定ピッチで取付けられている。なお、ワーク搬送手段（７０）等に関しては、第３の実施形態において説明する。
【００３７】
確認的に、本表面処理方法（装置）の基本的構成・機能は、搬送方向［Ｘ方向（図６，図７を参照）］の上流側から縦吊状態で搬送されて来た平板形状物（２００）を処理槽１０に搬入し、処理槽１０の処理液中で平板形状物に表面処理を施し、表面処理後の平板形状物を処理槽から搬出してその下流側に搬送させることで、複数枚の平板形状物を連続的に表面処理するものである。
【００３８】
処理槽１０は、Ｘ方向に伸びる搬送経路１２を挟み槽幅方向（図１で左右方向）に対向（離隔）配設された１対の起立隔壁３２ＡＬ，３２ＡＲを用いて区画された下向流動液室１１から形成されている。この下向流動液室１１は、上方側から供給された処理液Ｑｓｐを利用して下向きに連続して流動（Ｑｄｎ）させることができる。つまり、下向連続液流動（域）を生成可能である。なお、搬送経路１２を中心とした場合、その左側を下向流動液室１１Ｌしかつ右側を下向流動液室１１Ｒとする。
【００３９】
なお、この下向流動液室１１（起立隔壁３２ＡＬ，３２ＡＲ）の上方側には処理液を供給するための開口部１３が設けられ、下方側には流下した処理液を排出するための開口部１９が設けられている。
【００４０】
ここに、上部開放かつ四方側壁で有底構造の従来例（例えば、図１３の処理槽１０Ｐ２２）の構造に比較して、本処理槽１０は槽内での処理液の流動および供給・排出に関する作用（機能）が全く異なる。つまり、ユニークな構造であると理解される。ただし、具現（構築）化は容易である。
【００４１】
また、処理槽１０（下向流動液室１１）の搬送方向の上流側（図１で紙面に直交する方向で手前側）にワーク２００を縦吊状態のまま搬入させるための搬入用開口部１５ＩＮが設けられかつ下流側に処理後のワーク２００を縦吊状態のまま搬出させるための搬出用開口部１５ＯＴが設けられている（図６を参照）。
【００４２】
上部開放部１３を通して供給された処理液Ｑｓｐは、下向流動液室１１において、下向きに連続して流動する。つまり、処理液Ｑｄｎの全量が垂直方向に自然流下（加圧流下としてもよい。）するので、従来例の場合（図１３）のように水頭により処理液ＱｒがＸ方向へ大量にかつ勢いよく漏れるという不都合は生じない。
【００４３】
したがって、各開口部１５は、従来例（図１３）の場合と同様な縦長スリット形状であるが、幅方向寸法は従来例のように神経質的に細かく選択決定する必要がない。上記のように開口部１５からＸ方向に勢いよく大量の処理液（Ｑｒ）が流出する現象が生じないので、自由裁量的に決めることができる。また、ガイド（８１ＰＬ，８１ＰＲ等）を設ける必要もないので、装置簡素化および低コスト化を促進できる。
【００４４】
因みに、この実施の形態では、製作上の事情等を考慮してワーク２００の厚み（ｔ）の約５倍（５ｔ）から１０倍（１０ｔ）に狭くしてある（図５を参照）。
【００４５】
さて、下向流動液室１１の上方側開口部１３を通して供給された処理液Ｑｓｐは、室内を流下した後、下方側開口部１９を通して排出されかつこの排出処理液Ｑｄｐは回収槽４０に回収される。また、回収された処理液は、液再循環手段５０によって下向流動液室１１（１１Ｌ，１１Ｒ）の上方側（１３）に再供給しつつ再循環使用可能に形成されている。
【００４６】
この液再循環手段５０は、吸込管５１，再循環ポンプ５５，フィルタ５６および供給管５２等から形成され、回収槽４０から吸引した処理液を加圧して下向流動液室１１（１１Ｌ，１１Ｒ）の上方側に再供給する。この実施の形態では、各起立隔壁３２ＡＬ，３２ＡＲの上端部に供給管５２に連通する枝管５２Ｌ，５２Ｒを設け、この枝管５２Ｌ，５２Ｒに接続された液噴出ヘッダー５３Ｌ，５３Ｒから上部開口部１３を通して処理液を再供給する。液噴出ヘッダー５３Ｌ，５３Ｒは、Ｘ方向に伸びかつ当該各下向流動液室１１Ｌ，１１Ｒ内に間断無くかつ必要十分な量の処理液を噴出することができる。
【００４７】
かくして、下向流動液室１１Ｌ，１１Ｒ内の処理液Ｑは、重力作用により下方に向かって連続して流下する。搬入されたワーク２００を中心に観察すれば、左右の下向流動液室１１Ｌ，１１Ｒのそれぞれに処理液の下向連続流動（域）を形成したことに等しい。したがって、従来例の場合（図１３）のように激しい漏れ噴出液Ｑｒとの衝突がないから、ワーク２０の先端辺（２００Ｆ）に折れや湾曲が生じない。つまり、処理液中にワーク２００を確実かつ円滑に搬入することができる。
【００４８】
また、この流下処理液（下向連続流動液）Ｑｄｎは、浸漬（搬入）されたワーク２００の各面（表裏面）に等価の液圧を付与することになる。つまり、ワーク２００の左右に圧力差が生じない。しかも、下向連続流動液（流下液）は、上端部が冶具８０に挟持された縦吊状態のワーク２００に、その上端部側から下端部側に向けた引張力を生じさせるように働く。
【００４９】
かくして、搬入されたワーク２００は、上端部（８０）が固定端とされかつ自由端（先端部）が下方に引っ張られるので、左右に揺動したり湾曲することなく、真直ぐ１枚板として縦吊状態のまま処理液中を円滑に搬送される。因みに、第３の実施形態の如く電解処理槽１０ＥＰの場合には、ワーク２００と各電極との間隔（極間距離）が一定になるので、高精度処理を安定して行える。
【００５０】
かかる構成の第１の実施形態によれば、処理槽１０の下方側で回収した処理液をその上方側から再供給して再循環使用しつつ処理槽に処理液を下向きに連続流動させ、平板形状物（２００）を連続流動する処理液中に押し込むようにして処理槽に搬入しかつ搬送中に当該平板形状物に下向きに連続流動する処理液を用いて表面処理を施し、表面処理終了後に平板形状物を連続流動する処理液中から押し出すようにして処理槽から搬出させる表面処理方法を、確実かつ高能率で実施することができる。
【００５１】
詳しくは、液再循環手段５０（５５）を駆動して、貯液タンク４０から吸引した処理液を加圧しつつ液噴出ヘッダー５３Ｌ，５３Ｒから処理槽１０内の上方側開口部１３を通して下向流動液室１１（１１Ｌ，１１Ｒ）に供給する。下向流動液室１１（１１Ｌ，１１Ｒ）内には、処理液の下向連続流動（域）が生成される。この下向連続流動（域）は、処理液が垂直に自然流下する層流状態の液流である。
【００５２】
したがって、上流側の搬入用開口部１５ＩＮおよび下流側の搬出用開口部１５ＯＴから搬送方向に処理液が勢いよく噴出することはない。静かに下方側開口部１９から流下排出されて下方の回収槽４０に回収される。処理液の再循環使用により、運転中は下向連続流動が続く。
【００５３】
ここで、搬送方向の上流側（図１の紙面手前側）から縦吊状態で搬送されて来た平板形状物（ワーク２００）は、搬入用開口部１５ＩＮから処理槽１０（１１）内に搬入される。従来例の場合のように搬送方向への噴出液流に逆らって突入させるのではなく、連続流動する処理液中に押し込むようにして搬入される。換言すれば、層流状態の連続流動処理液に横方向（搬送方向）から割り込ませるように、ワーク２００をその先端辺２００Ｆ（図６，図１２を参照）から静かに押し入れる。したがって、搬入時の折れや湾曲は生じない。つまり、平板形状物（２００）を縦吊状態のまま処理槽１０（１１）内で下向きに流動する処理液中に確実かつ円滑に搬入させることができる。
【００５４】
また、処理槽１０（１１）内では、ワーク２００の各面（表裏面）に等圧が加わるので、圧力差に起因する揺れが生じない。さらに、下向連続流動処理液は、ワーク２００を下方に引っ張る作用を誘発する。したがって、処理液中での円滑搬送が担保される。
【００５５】
この処理液中でワーク２００に表面処理を施すことができる。この際、下向連続流動処理液の表面払拭作用によりワーク２００の表裏面の活性が高められる。ムラがなく全面的均一でかつ高品質な表面処理を迅速に行える。また、従来例の場合（図１０，図１１，図１２）のように、槽内に液撹拌手段やバブリング手段を設ける必要がない。
【００５６】
表面処理後のワーク２００は、下向連続流動処理液中から押し出すようにして処理槽１０（１１）から外部に搬出されかつその下流側に搬送される。後端辺２００Ｂ（図６を参照）が搬出用開口部１５ＯＴから完全に出るまで、ワーク２００の両面（表裏面）の液圧均一と下方への引っ張り作用が働くので、この点からも円滑な搬出ができる。
【００５７】
かくして、連続搬送と高品質処理とを確実かつ安定して行え、結果として、複数枚の平板形状物（プリント回路基板２００）を連続的に表面処理することができる。しかも、具現化が容易で、構造簡単かつ取り扱いが容易（簡単）である。
（第２の実施の形態）
【００５８】
この第２の実施の形態は、図２に示される。基本的な構成・機能は第１の実施形態の場合（図１）と同様であるが、処理槽１０（１１，２１）を１対の溢出槽３０Ｌ，３０Ｒを対向配設することで表面処理装置を構築可能に形成してある。
【００５９】
すなわち、表面処理装置は、１対の溢出槽３０Ｌ，３０Ｒを対向配設して下向流動液室１１（１１Ｌ，１１Ｒ）と上向流動液室２１Ｌ，２１Ｒとを形成し、下向流動液室１１（１１Ｌ，１１Ｒ）が処理液を下向連続流動可能かつ上向流動液室２１Ｌ，２１Ｒが上向連続流動可能に形成され、下向流動液室１１（１１Ｌ，１１Ｒ）に搬入用開口部１５ＩＮおよび搬出用開口部１５ＯＴを設けかつ処理液の再循環使用に必要な回収槽４０および液再循環手段５０を設け、第１の実施形態の場合と同様にワーク２００を下向流動液室に搬入可能かつ搬出可能であるとともに下向流動液室１１内の搬送中に下向連続流動処理液Ｑｄｎを用いて表面処理可能に形成されている。
【００６０】
なお、第１の実施形態において説明した事項と共通する部分については、その説明を簡略化しまたは省略する。
【００６１】
図２において、１対の溢出槽３０Ｌ，３０Ｒは、各内側起立隔壁３２Ｌ，３２Ｒが搬送経路１２を挟み対面するようにして対向配設される。各溢出槽３０Ｌ，３０Ｒは、上部開放型のオーバーフロー槽で、各内側起立隔壁３２Ｌ，３２Ｒの上端部を越えて溢出（オーバーフロー）する処理液Ｑｓｐを下向流動液室１１（１１Ｌ，１１Ｒ）内に供給する。処理液の供給がオーバーフロー方式であるから、第１の実施形態の場合に比較して、一段と静かで円滑かつ安定した均一供給ができる。
【００６２】
処理槽１０の一部を構成する下向流動液室１１（１１Ｌ，１１Ｒ）は、各内側起立隔壁３２Ｌ，３２Ｒで区画された区画内空間として形成される。下向流動液室１１（１１Ｌ，１１Ｒ）は、各溢出槽３０Ｌ，３０Ｒの上端部を越えて溢出しかつ上方側開口部１３から供給された処理液Ｑｓｐを下向きに連続流動可能である。
【００６３】
また、処理槽１０の一部を構成する上向流動液室２１Ｌ，２１Ｒは、各溢出槽３０Ｌ，３０Ｒの内部空間として形成される。上向流動液室２１Ｌ，２１Ｒは、下方側から再供給された処理液を上向きに連続流動可能である。つまり、上向流動液室２１Ｌ，２１Ｒは、下方側から供給された処理液を利用して上向きに連続して流動する処理液Ｑｕｐつまり上向液流動（域）を生成する。溢出槽３０Ｌ，３０Ｒの内底部には整流ボックス３６Ｌ，３６Ｒを設け、安定した上向流を生成可能かつ維持可能に形成してある。
【００６４】
そして、下向流動液室１１（１１Ｌ，１１Ｒ）の搬送方向の上流側に搬入用開口部１５ＩＮを設けかつその下流側に搬出用開口部１５ＯＴを設けてある。開口部の幅は、溢出槽３０Ｌ，３０Ｒの各内側起立隔壁３２Ｌ，３２Ｒ間の距離である。ただし、調整板を付設するなどして、各内側起立隔壁３２Ｌ，３２Ｒ間の距離相当幅よりも狭い幅に形成してもよい。
【００６５】
回収槽４０は、下向流動液室１１（１１Ｌ，１１Ｒ）の下方側開口部１９から流下排出された処理液を回収することができる。液再循環手段５０は、回収された処理液を加圧してかつ各整流ボックス（整流ヘッダーでもよい。）３６Ｌ，３６Ｒを通じて各上向流動液室２１Ｌ，２１Ｒに再供給しつつ処理液を再循環使用する。
【００６６】
かくして、ワーク２００を搬送方向の上流側に設けられた搬入用開口部１５ＩＮを通しかつ連続流動する処理液中に押し込むようにして下向流動液室１１に搬入可能であるとともに処理済のワークをその下流側に設けられた搬出用開口部１５ＯＴを通しかつ連続流動する処理液中から押し出すようにして下向流動液室１１から搬出可能に形成し、下向流動液室内の搬送中に下向きに連続流動する処理液を用いてワーク２００に表面処理を施すことができる。
【００６７】
しかして、この第２の実施の形態によれば、第１の実施形態の場合と同様に平板形状物（ワーク２００）を縦吊状態のまま処理槽１０（１１）内で下向きに流動する処理液中に確実かつ円滑に搬入させることができる。しかも、１対の溢出槽３０Ｌ，３０Ｒを用いて下向流動液室１１および上向流動液室２１を形成すればよいので、具現化が一段と容易で、処理液流動を一段と安定化できる。
【００６８】
また、１対の溢出槽３０Ｌ，３０Ｒの搬送経路１２を中心とした配設間隔を変更するだけで、下向流動液室１１（１１Ｌ，１１Ｒ）の内容積や搬入用開口部１５ＩＮおよび搬出用開口部１５ＯＴの幅を調整できるので、ワーク２００の厚さや搬送速度等に対する適応性が広い。
（第３の実施の形態）
【００６９】
この第３の実施の形態は、図３〜図８に示される。基本的な構成・機能は第２の実施形態の場合（図２）と同様であるが、表面処理が電解処理（ここでは、めっき処理）とされかつ処理槽１０が電解処理槽１０ＥＰとして形成してある。また、請求項２の発明に係る表面処理方法を実施するために最良である。
【００７０】
図３において、表面処理（電解処理）装置は、第２の実施形態の場合と同様な各上向流動液室２１Ｌ，２１Ｒ内に当該各内側起立隔壁（３７Ｌ，３７Ｒ）を挟んでワーク２００の各面（表裏面）に対向可能に電極３５ＫＬ，３５ＫＲを配設するとともに、各内側起立隔壁（３７Ｌ，３７Ｒ）が電極３５ＫＬ，３５ＫＲと平板形状物（２００）との間の通電を促進可能かつ上向流動液室２１Ｌ，２１Ｒから下向流動液室１１Ｌ，１１Ｒへの処理液のバイパス（素通り）流動を抑制可能に形成されている。
【００７１】
つまり、上向流動液室２１Ｌ，２１Ｒは、電極室２１ＥＰＬ，２１ＥＰＲを形成する。同様に、各下向流動液室１１Ｌ，１１Ｒは、電解処理室１１ＥＰＬ，１１ＥＰＲを形成する。
【００７２】
電極３５ＫＬ，３５ＫＲは、アノードバッグ３５Ｌ，３５Ｒ内に収容された多数の銅ボールからなり、給電中において処理液中に銅イオンを生成供給することができる。この電極３５ＫＬ，３５ＫＲは、上向流動液Ｑｕｐによって表面が洗われるので、銅イオンを高効率かつ安定して生成供給することができる。この点で、処理液組成の管理が楽になる。
【００７３】
また、アノードバッグ３５Ｌ，３５Ｒは、図５に示す装着用フック部材３４Ｌ，３４Ｒを介して当該各溢出槽３０ＥＰＬ，３０ＥＰＲに着脱可能に取付けられる。銅ボールの補給や交換を含むメンテナンスを簡単に行える。
【００７４】
この実施の形態では、構造簡素化およびコスト低減のために、各内側起立隔壁（３２Ｌ，３２Ｒ）を図３，図８に示す多孔板３７から形成してある。各多孔板３７Ｌ，３７Ｒには、通電促進効果およびバイパス流動抑制効果を得るために選択された小径（例えば、１ｍｍφ）の貫通孔３７ｈが多数設けられている。
【００７５】
なお、内側起立隔壁（３２Ｌ，３２Ｒ）は、例えば布製シート部材や全体を包囲可能な布製バッグから形成としてもよい。図９の場合は、内側枠部材３１に布製シート部材３８を張り付けた場合を示す。処理液のバイパス流動を抑制する作用を一段と強化することができる。
【００７６】
図４〜図７において、電解処理槽１０ＥＰの一部を形成する上記した内側枠部材３１Ｌ，３１Ｒの上端部には、図５に示す液面調整堰板３３Ｌ，３３Ｒが設けられ、上部開口部１３への処理液の供給位置（高さ）を調整することができる。液面調整堰板３３Ｌ，３３Ｒは、搬送される冶具８０との干渉を回避させるために上方拡大形状にしてある。
【００７７】
ワーク搬送手段７０は、搬送構造体７１とこの搬送構造体７１に搬送駆動力を与えるベルトコンベア７８とから形成され、ワーク２００を定速（例えば、１〜２ｍ／ｍｉｎに設定）かつ連続で槽内を搬送可能に形成してある。搬送構造体７１は、図５，図６に示す搬送（Ｘ）方向に延設されたレール７７と，このレール７７に沿って摺動（あるいは転動）可能に装着されたキャリア７２と，このキャリア７２の一部を構成する横腕木部材７３の先端に取付けられた保持部材７４と，この保持部材７４に着脱可能な冶具８０とから形成されている。
【００７８】
この実施の形態では、レール７７，キャリア７２，ベルトコンベア７８等を電解処理槽１０ＥＰの外側（図４で右側）に位置をずらせて配置して、構造・手段の相対摺動部で発生する微細な塵埃が１０ＥＰ内に落下することを防止する。一層の高品質処理を期する。
【００７９】
なお、給電手段は、銅製レール７７とキャリア７２との摺接によりかつ搬送構造体７１（７２，７３，７４，８０）を介してワーク２００に給電する。つまり、電源装置（図示省略）のマイナス（−）極をワーク（陰極）２００に接続する。なお、電極（陽極）３５ＫＬ，３５ＫＲにプラス（＋）極が接続される。
【００８０】
冶具（挟持具）８０は、図５に示すように保持部材７４にネジ止め固定される本体ベースと，支点を中心に回動可能なクランプと，クランプの一端（先端）を本体ベースに常時押圧かつ常時挟持するための付勢力を付与するスプリングとから形成され、クランプの先端と本体ベースとの間でワーク２００の上端部を挟持する。
【００８１】
回収槽４０は、図６，図７に示すように、処理槽１０ＥＰ（３０ＥＰＬ，３０ＥＰＲ）の槽長（Ｘ方向の長さ）に比較して長く（約２倍長）してある。処理液の組成管理の容易化および再循環の円滑化等のためである。また、開口部１５ＩＮ・１５ＯＴからのシブキも回収できかつ装置周辺を汚さない。
【００８２】
したがって、処理槽１０ＥＰつまり溢出槽３０ＥＰＬ，３０ＥＰＲの前後空間にはガイド手段９０Ｌ，９０Ｒを設け、電解処理室１１ＥＰＬ，１１ＥＰＲ内に搬入される以前のワーク２００と搬出された以後の製品（２００）の搬送姿勢を一定に維持可能に形成してある。
【００８３】
ガイド手段９０は、図６および図７に示す上流側ガイド手段９１Ｕと下流側ガイド手段９１Ｄとから形成され、複数（５本）の合成樹脂ロープを上下方向に等間隔で張設しかつ搬送経路１２を挟み１対を対向配置させた構造である。なお、従来例（特許文献１）の処理液中に装着するガイド手段とは相異する。
【００８４】
かかる第３の実施の形態によれば、処理槽１０ＥＰの一部を構成する電解処理室１１ＥＰ（１１ＥＰＬ，１１ＥＰＲ）の下方側で回収した処理液を処理槽の一部を構成する電極室２１ＥＰ（２１ＥＰＬ，２１ＥＰＲ）の下方側から供給して処理液を上向きに連続流動させ、電極室を流動した処理液を電解処理室に上方側から再供給することで再循環使用しつつ電解処理室に処理液を下向きに連続流動させ、平板形状物（ワーク２００）を下向きに連続流動処理液中に押し込むようにして電解処理室に搬入しかつ搬送中に電極と平板形状物との間に給電しつつ当該平板形状物に下向連続流動処理液を用いて表面処理を施し、表面処理終了後に平板形状物を連続流動処理液中から押し出すようにして電解処理室から搬出させる表面処理方法を、確実に実施することができる。
【００８５】
しかして、この第３の実施の形態によれば、第２の実施形態の場合と同様な効果を奏することができることに加え、平板形状物（ワーク２００）と電極３５ＫＬ，３５ＫＲとの間の給電を伴う電解処理を高能率で行える。
【００８６】
さらにまた、一段と多様化するプリント回路基板２００への適応性が広くかつ高品質基板の提供に大きく貢献することができる。
【産業上の利用可能性】
【００８７】
本発明は、薄く、可撓性に富んだ平板形状物（例えば、プリント回路基板）を処理液中に直接に搬入して表面処理させたい場合に有用である。
【図面の簡単な説明】
【００８８】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る表面処理装置を主に処理槽を中心として説明するための模式的に表わした正面図である。
【図２】本発明の第２の実施形態に係る表面処理装置を主に処理槽を中心として説明するための模式的に表わした正面図である。
【図３】本発明の第３の実施形態に係る表面処理装置を主に処理槽を中心として説明するための模式的に表わした正面図である。
【図４】同じく、全体構成を説明するための正面図である。
【図５】同じく、処理槽を詳細に説明するための正面図である。
【図６】同じく、全体構成を説明するための側面図である。
【図７】同じく、全体構成を説明するための平面図である。
【図８】同じく、多孔板からなる内側起立隔壁を説明するための図である。
【図９】同じく、内側起立隔壁の変形例を説明するための図である。
【図１０】バッチ処理方式の従来例を説明するための図である。
【図１１】連続処理方式の従来例を説明するための図である。
【図１２】折衷方式の従来例を説明するための図である。
【図１３】平板形状物を連続処理方式で処理する場合の問題点を説明するための図である。
【図１４】平板形状物を連続処理方式で処理する場合のガイド装置例を説明するための図である。
【符号の説明】
【００８９】
１０ 処理槽
１１ 処理室
１１Ｌ，１１Ｒ 下向流動液室
１２ 搬送経路
１５ＩＮ 搬入用開口部
１５ＯＴ 搬出用開口部
２１ 上向流動液室
３０ 溢出槽
３２ 内側起立隔壁
３５Ｋ 電極
１０ＥＰ 電解処理槽
１１ＥＰ 電解処理室
２１ＥＰ 電極室
３０ＥＰ 溢出槽
３５ アノードバッグ
３７ 多孔板（内側起立隔壁）
３８ 布製シート部材（内側起立隔壁）
４０ 回収槽
５０ 液再循環手段
５５ 再循環ポンプ
７０ ワーク搬送手段
７１ 搬送構造体
７８ ベルトコンベア
８０ 冶具
９０ ガイド手段
２００ ワーク（プリント回路基板…平板形状物）
【特許請求の範囲】
【請求項１】
搬送方向の上流側から縦吊状態で搬送されて来た平板形状物を処理槽に搬入し、処理槽の処理液中で平板形状物に表面処理を施し、表面処理後の平板形状物を処理槽から搬出してその下流側に搬送させることで、複数枚の平板形状物を連続的に表面処理する平板形状物の表面処理方法において、
前記処理槽の下方側で回収した処理液をその上方側から再供給して再循環使用しつつ前記処理槽に処理液を下向きに連続流動させ、
前記平板形状物を連続流動する処理液中に押し込むようにして前記処理槽に搬入しかつ搬送中に当該平板形状物に下向きに連続流動する処理液を用いて表面処理を施し、表面処理終了後に前記平板形状物を連続流動する処理液中から押し出すようにして前記処理槽から搬出させる、平板形状物の表面処理方法。
【請求項２】
搬送方向の上流側から縦吊状態で搬送されて来た平板形状物を処理槽に搬入し、処理槽の処理液中で平板形状物に表面処理を施し、表面処理後の平板形状物を処理槽から搬出してその下流側に搬送させることで、複数枚の平板形状物を連続的に表面処理する平板形状物の表面処理方法において、
前記処理槽の一部を構成する電解処理室の下方側で回収した処理液を前記処理槽の一部を構成する電極室の下方側から供給して電極室で処理液を上向きに連続流動させ、
電極室を連続流動した処理液を電解処理室に上方側から再供給することで再循環使用しつつ電解処理室に処理液を下向きに連続流動させ、
前記平板形状物を連続流動する処理液中に押し込むようにして電解処理室に搬入しかつ搬送中に電極と平板形状物との間に給電しつつ当該平板形状物に下向きに連続流動する処理液を用いて表面処理を施し、表面処理終了後に前記平板形状物を連続流動する処理液中から押し出すようにして電解処理室から搬出させる、平板形状物の表面処理方法。
【請求項３】
搬送方向の上流側から縦吊状態で搬送されて来た平板形状物を処理槽に搬入し、処理槽の処理液中で平板形状物に表面処理を施し、表面処理後の平板形状物を処理槽から搬出してその下流側に搬送させることで、複数枚の平板形状物を連続的に表面処理可能に形成された平板形状物の表面処理装置において、
前記処理槽を、搬送経路を挟み対向配設された１対の起立隔壁で区画しかつ上方側から供給された処理液Ｑｓｐを下向きに連続流動可能な下向流動液室から形成し、
この下向流動液室の下方側に流下した処理液を回収可能かつ回収された処理液を下向流動液室の上方側に再供給しつつ再循環使用可能に形成し、
前記平板形状物を前記搬送方向の上流側に設けられた搬入用開口部を通しかつ連続流動する処理液中に押し込むようにして下向流動液室に搬入可能であるとともに処理済の平板形状物をその下流側に設けられた搬出用開口部を通しかつ連続流動する処理液中から押し出すようにして下向流動液室から搬出可能に形成し、下向流動液室内の搬送中に下向きに連続流動する処理液を用いて前記平板形状物に表面処理可能に形成された、平板形状物の表面処理装置。
【請求項４】
搬送方向の上流側から縦吊状態で搬送されて来た平板形状物を処理槽に搬入し、処理槽の処理液中で平板形状物に表面処理を施し、表面処理後の平板形状物を処理槽から搬出してその下流側に搬送させることで、複数枚の平板形状物を連続的に表面処理可能に形成された平板形状物の表面処理装置において、
１対の溢出槽を当該各内側起立隔壁が搬送経路を挟み対面するようにして対向配設するとともに前記処理槽の一部を構成する下向流動液室が各内側起立隔壁で区画された区画内空間として形成されかつ前記処理槽の一部を構成する上向流動液室が当該各溢出槽の内部空間として形成され、
下向流動液室が当該各溢出槽の上端部を越えて溢出しかつ上方側開口部から供給された処理液Ｑｓｐを下向きに連続流動可能に形成されるとともに上向流動液室が下方側から再供給された処理液Ｑｓｐを上向きに連続流動可能に形成され、
下向流動液室の前記搬送方向の上流側に搬入用開口部を設けかつその下流側に搬出用開口部を設け、
下向流動液室の下方側開口部から流下排出された処理液を回収可能な回収槽と、回収された処理液を加圧しかつ上方側開口部を通して各上向流動液室に再供給しつつ処理液を再循環使用可能な液再循環手段とを設け、
前記平板形状物を搬入用開口部を通しかつ連続流動する処理液中に押し込むようにして下向流動液室に搬入可能であるとともに処理済の平板形状物を搬出用開口部を通しかつ連続流動する処理液中から押し出すようにして下向流動液室から搬出可能に形成し、下向流動液室内の搬送中に下向きに連続流動する処理液を用いて前記平板形状物に表面処理可能に形成された、平板形状物の表面処理装置。
【請求項５】
前記各上向流動液室内に当該各内側起立隔壁を挟んで前記平板形状物の各面に対向可能に電極を配設するとともに各内側起立隔壁が電極と平板形状物との間の通電を促進可能かつ上向流動液室から下向流動液室への処理液のバイパス流動を抑制可能に形成されている、請求項４記載の平板形状物の表面処理装置。
【請求項６】
前記内側起立隔壁が多孔板から形成されている、請求項５記載の平板形状物の表面処理装置。
【請求項７】
前記内側起立隔壁が布製シート部材から形成されている、請求項５記載の平板形状物の表面処理装置。
【請求項８】
前記平板形状物がプリント回路基板とされかつワーク搬送手段側の複数の冶具でプリント回路基板の上端部を挟持させた縦吊状態で搬送可能に形成されている、請求項３から請求項７までのいずれか１項に記載された表面処理装置。
【請求項１】
搬送方向の上流側から縦吊状態で搬送されて来た平板形状物を処理槽に搬入し、処理槽の処理液中で平板形状物に表面処理を施し、表面処理後の平板形状物を処理槽から搬出してその下流側に搬送させることで、複数枚の平板形状物を連続的に表面処理する平板形状物の表面処理方法において、
前記処理槽の下方側で回収した処理液をその上方側から再供給して再循環使用しつつ前記処理槽に処理液を下向きに連続流動させ、
前記平板形状物を連続流動する処理液中に押し込むようにして前記処理槽に搬入しかつ搬送中に当該平板形状物に下向きに連続流動する処理液を用いて表面処理を施し、表面処理終了後に前記平板形状物を連続流動する処理液中から押し出すようにして前記処理槽から搬出させる、平板形状物の表面処理方法。
【請求項２】
搬送方向の上流側から縦吊状態で搬送されて来た平板形状物を処理槽に搬入し、処理槽の処理液中で平板形状物に表面処理を施し、表面処理後の平板形状物を処理槽から搬出してその下流側に搬送させることで、複数枚の平板形状物を連続的に表面処理する平板形状物の表面処理方法において、
前記処理槽の一部を構成する電解処理室の下方側で回収した処理液を前記処理槽の一部を構成する電極室の下方側から供給して電極室で処理液を上向きに連続流動させ、
電極室を連続流動した処理液を電解処理室に上方側から再供給することで再循環使用しつつ電解処理室に処理液を下向きに連続流動させ、
前記平板形状物を連続流動する処理液中に押し込むようにして電解処理室に搬入しかつ搬送中に電極と平板形状物との間に給電しつつ当該平板形状物に下向きに連続流動する処理液を用いて表面処理を施し、表面処理終了後に前記平板形状物を連続流動する処理液中から押し出すようにして電解処理室から搬出させる、平板形状物の表面処理方法。
【請求項３】
搬送方向の上流側から縦吊状態で搬送されて来た平板形状物を処理槽に搬入し、処理槽の処理液中で平板形状物に表面処理を施し、表面処理後の平板形状物を処理槽から搬出してその下流側に搬送させることで、複数枚の平板形状物を連続的に表面処理可能に形成された平板形状物の表面処理装置において、
前記処理槽を、搬送経路を挟み対向配設された１対の起立隔壁で区画しかつ上方側から供給された処理液Ｑｓｐを下向きに連続流動可能な下向流動液室から形成し、
この下向流動液室の下方側に流下した処理液を回収可能かつ回収された処理液を下向流動液室の上方側に再供給しつつ再循環使用可能に形成し、
前記平板形状物を前記搬送方向の上流側に設けられた搬入用開口部を通しかつ連続流動する処理液中に押し込むようにして下向流動液室に搬入可能であるとともに処理済の平板形状物をその下流側に設けられた搬出用開口部を通しかつ連続流動する処理液中から押し出すようにして下向流動液室から搬出可能に形成し、下向流動液室内の搬送中に下向きに連続流動する処理液を用いて前記平板形状物に表面処理可能に形成された、平板形状物の表面処理装置。
【請求項４】
搬送方向の上流側から縦吊状態で搬送されて来た平板形状物を処理槽に搬入し、処理槽の処理液中で平板形状物に表面処理を施し、表面処理後の平板形状物を処理槽から搬出してその下流側に搬送させることで、複数枚の平板形状物を連続的に表面処理可能に形成された平板形状物の表面処理装置において、
１対の溢出槽を当該各内側起立隔壁が搬送経路を挟み対面するようにして対向配設するとともに前記処理槽の一部を構成する下向流動液室が各内側起立隔壁で区画された区画内空間として形成されかつ前記処理槽の一部を構成する上向流動液室が当該各溢出槽の内部空間として形成され、
下向流動液室が当該各溢出槽の上端部を越えて溢出しかつ上方側開口部から供給された処理液Ｑｓｐを下向きに連続流動可能に形成されるとともに上向流動液室が下方側から再供給された処理液Ｑｓｐを上向きに連続流動可能に形成され、
下向流動液室の前記搬送方向の上流側に搬入用開口部を設けかつその下流側に搬出用開口部を設け、
下向流動液室の下方側開口部から流下排出された処理液を回収可能な回収槽と、回収された処理液を加圧しかつ上方側開口部を通して各上向流動液室に再供給しつつ処理液を再循環使用可能な液再循環手段とを設け、
前記平板形状物を搬入用開口部を通しかつ連続流動する処理液中に押し込むようにして下向流動液室に搬入可能であるとともに処理済の平板形状物を搬出用開口部を通しかつ連続流動する処理液中から押し出すようにして下向流動液室から搬出可能に形成し、下向流動液室内の搬送中に下向きに連続流動する処理液を用いて前記平板形状物に表面処理可能に形成された、平板形状物の表面処理装置。
【請求項５】
前記各上向流動液室内に当該各内側起立隔壁を挟んで前記平板形状物の各面に対向可能に電極を配設するとともに各内側起立隔壁が電極と平板形状物との間の通電を促進可能かつ上向流動液室から下向流動液室への処理液のバイパス流動を抑制可能に形成されている、請求項４記載の平板形状物の表面処理装置。
【請求項６】
前記内側起立隔壁が多孔板から形成されている、請求項５記載の平板形状物の表面処理装置。
【請求項７】
前記内側起立隔壁が布製シート部材から形成されている、請求項５記載の平板形状物の表面処理装置。
【請求項８】
前記平板形状物がプリント回路基板とされかつワーク搬送手段側の複数の冶具でプリント回路基板の上端部を挟持させた縦吊状態で搬送可能に形成されている、請求項３から請求項７までのいずれか１項に記載された表面処理装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【公開番号】特開２００６−１１８０１９（Ｐ２００６−１１８０１９Ａ）
【公開日】平成１８年５月１１日（２００６．５．１１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００４−３０９０９５（Ｐ２００４−３０９０９５）
【出願日】平成１６年１０月２５日（２００４．１０．２５）
【出願人】（０００２２２６２４）株式会社アルメックス (6)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年５月１１日（２００６．５．１１）
【国際特許分類】
【出願日】平成１６年１０月２５日（２００４．１０．２５）
【出願人】（０００２２２６２４）株式会社アルメックス (6)
【Ｆターム（参考）】
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