排ガス浄化用触媒
【課題】排ガス浄化用触媒における排ガスの圧力損失を低減可能とする。
【解決手段】本発明の排ガス浄化用触媒1は、端面EFの位置から位置P1へ向けて厚さが減少している触媒層12Fと、端面ERの位置から位置P2へ向けて厚さが減少している触媒層12Rとを具備し、端面EFの位置における触媒層12Fの最小厚さdF1と中間位置PMにおける触媒層12Fの最小厚さdFMとの差dF1−dFMの貫通孔THの最小径Rに対する比(dF1−dFM)/Rは0.01乃至0.06の範囲内にあり、端面ERの位置における触媒層12Rの最小厚さdR2と中間位置PMにおける触媒層12Rの最小厚さdRMとの差dR2−dRMの最小径Rに対する比(dR2−dRM)/Rは0.01乃至0.06の範囲内にある。
【解決手段】本発明の排ガス浄化用触媒1は、端面EFの位置から位置P1へ向けて厚さが減少している触媒層12Fと、端面ERの位置から位置P2へ向けて厚さが減少している触媒層12Rとを具備し、端面EFの位置における触媒層12Fの最小厚さdF1と中間位置PMにおける触媒層12Fの最小厚さdFMとの差dF1−dFMの貫通孔THの最小径Rに対する比(dF1−dFM)/Rは0.01乃至0.06の範囲内にあり、端面ERの位置における触媒層12Rの最小厚さdR2と中間位置PMにおける触媒層12Rの最小厚さdRMとの差dR2−dRMの最小径Rに対する比(dR2−dRM)/Rは0.01乃至0.06の範囲内にある。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、排ガス浄化用触媒に関する。
【背景技術】
【0002】
特許文献1には、ハニカム基材と触媒層とを含んだ排ガス浄化用触媒が記載されている。この触媒層には、高い排ガス浄化効率を達成するべく、下層と上層とを含んだ多層構造を採用している。
【0003】
このような排ガス浄化用触媒では、下層を厚くすると、触媒層全体の厚さが増加し、その結果、圧力損失が増大する。圧力損失が増大すると、エンジン性能が低下する可能性がある。
【0004】
また、特許文献2に記載されているように、排ガス浄化用触媒では、上流部と下流部とで触媒層の組成を異ならしめることがある。このような構成は、排ガス浄化効率を向上させるための一手法として広く採用されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】特開2008−23501号公報
【特許文献2】特開2009−622号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
上流部と下流部とで触媒層の組成を異ならしめる場合、触媒層の厚さを上流部及び下流部の双方で薄くすれば、排ガスの圧力損失を小さくすることができると考えられる。
【0007】
しかしながら、本発明者らは、そのような排ガス浄化用触媒であっても、圧力損失に関して改善の余地があることを見出している。
本発明の目的は、排ガス浄化用触媒における排ガスの圧力損失を低減可能とすることにある。
【課題を解決するための手段】
【0008】
本発明の一側面によると、第1及び第2端面を有し、前記第1端面から前記第2端面へと延びた貫通孔が設けられた基材と、前記貫通孔の側壁のうち前記第1端面の位置から前記第1及び第2端面間の第1位置までの部分を被覆し、前記第1端面の位置から前記第1位置へ向けて厚さが減少している第1触媒層と、前記貫通孔の前記側壁のうち前記第2端面の位置から前記第1及び第2端面間の第2位置までの部分を前記第1端面側の端部が前記第1触媒層と接触するように被覆し、前記第2端面の位置から前記第2位置へ向けて厚さが減少している第2触媒層とを具備し、前記第1端面の位置における前記第1触媒層の最小厚さdF1と前記第1及び第2位置の中間位置における前記第1触媒層の最小厚さdFMとの差dF1−dFMの前記貫通孔の最小径Rに対する比(dF1−dFM)/Rは0.01乃至0.06の範囲内にあり、前記第2端面の位置における前記第2触媒層の最小厚さdR2と前記中間位置における前記第2触媒層の最小厚さdRMとの差dR2−dRMの前記貫通孔の最小径Rに対する比(dR2−dRM)/Rは0.01乃至0.06の範囲内にある排ガス浄化用触媒が提供される。
【発明の効果】
【0009】
本発明によると、排ガス浄化用触媒における排ガスの圧力損失を低減することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【0010】
【図1】本発明の一態様に係る排ガス浄化用触媒を概略的に示す斜視図。
【図2】図1に示す排ガス浄化用触媒の一部を示す断面図。
【図3】図2に示す構造の一部を拡大した断面図。
【図4】図2に示す構造の他の一部を拡大した断面図。
【図5】図2に示す構造を上流側から見た平面図。
【図6】図2に示す構造を下流側から見た平面図。
【図7】図2に示す構造の排ガスの流れ方向に垂直な一断面を描いた図。
【図8】比較例に係る排ガス浄化用触媒の一部を示す断面図。
【図9】変形例に係る排ガス浄化用触媒の一部を示す断面図。
【図10】排ガス浄化用触媒の構造が圧力損失に及ぼす影響の一例を示すグラフ。
【図11】排ガス浄化用触媒の構造が圧力損失に及ぼす影響の他の例を示すグラフ。
【図12】排ガス浄化用触媒の構造が炭化水素浄化能に及ぼす影響の一例を示すグラフ。
【発明を実施するための形態】
【0011】
以下、本発明の態様について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、同様又は類似した機能を発揮する構成要素には全ての図面を通じて同一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。また、理解を容易にするために、一部の図では、構造を誇張又は簡略化している。
【0012】
図1は、本発明の一態様に係る排ガス浄化用触媒を概略的に示す斜視図である。図2は、図1に示す排ガス浄化用触媒の一部を示す断面図である。図3は、図2に示す構造の一部を拡大した断面図である。図4は、図2に示す構造の他の一部を拡大した断面図である。図5は、図2に示す構造を上流側から見た平面図である。図6は、図2に示す構造を下流側から見た平面図である。図7は、図2に示す構造の排ガスの流れ方向に垂直な一断面を描いた図である。
【0013】
図1乃至図7に示す排ガス浄化用触媒1は、基材11と第1触媒層12Fと第2触媒層12Rとを含んでいる。なお、図2乃至図4には、排ガスの流れの向きを白抜きの矢印で示している。用語「上流」及び「下流」は、この排ガスの流れの向きを基準として使用する。
【0014】
基材11は、例えば、モノリスハニカム基材である。基材11は、例えば、コージェライトなどの耐熱性セラミックスからなる。
【0015】
基材11は、円柱形状を有している。基材11は、他の形状を有していてもよい。例えば、基材11は、楕円柱形状又は角柱形状を有していてもよい。
【0016】
基材11は、図2に示すように、第1端面EFと第2端面ERとを有している。基材11には、第1端面EFから第2端面ERへと各々が延び、隔壁PWによって互いから仕切られた貫通孔THが設けられている。基材11の排ガスの流れ方向に沿った長さLは、例えば50mm乃至200mmの範囲内にあり、典型的には95mm乃至155mmの範囲内にある。
【0017】
排ガスの流れ方向に対して垂直な貫通孔THの断面は、図7に示すように正方形状を有している。これら断面は、他の形状を有していてもよい。例えば、これら断面は、六角形状を有していてもよく、円形状を有していてもよい。また、典型的には、先の断面の形状及び寸法は、貫通孔THの長さ全体に亘って一定である。
【0018】
図5乃至図7に示すように、排ガスの流れ方向に対して平行な方向から観察した場合に、貫通孔THは、正方格子状に配列している。貫通孔THの配列には、他の構造を採用してもよい。例えば、貫通孔THは、六角格子状に配列していてもよい。
【0019】
貫通孔THの最小径Rは、例えば0.785mm乃至1.21mmの範囲内にあり、典型的には0.95mm乃至1.15mmの範囲内にある。隔壁PWの最小厚さdPWは、例えば0.065mm乃至0.3mmの範囲内にあり、典型的には0.09mm乃至0.15mmの範囲内にある。隔壁PWの最小厚さdPWに対する貫通孔THの最小径Rの比R/dPWは、例えば2.6乃至18.6の範囲内にあり、典型的には6.3乃至12.7の範囲内にある。
【0020】
なお、貫通孔THの最小径Rは、貫通孔THの中心線を横切り且つ両端が隔壁PW上に位置した最も短い線分の長さである。また、隔壁PWの最小厚さは、隣り合った貫通孔TH間の最短距離である。
【0021】
第1触媒層12Fは、貫通孔THの側壁PWのうち上流側の部分を被覆している。具体的には、第1触媒層12Fは、貫通孔THの側壁PWのうち、第1端面EFの位置から第1端面EFと第2端面ERとの間の第1位置P1までの部分を被覆している。
【0022】
基材11の長さLに対する排ガスの流れ方向に沿った第1触媒層12Fの寸法の比、即ち長さLに対する図2に示す長さLFの比LF/Lは、例えば0.2乃至0.8の範囲内にあり、典型的には0.3乃至0.6の範囲内にある。
【0023】
第1触媒層12Fの厚さは、第1端面EFの位置から第1位置P1へ向けて減少している。第1端面EFの位置における第1触媒層12Fの最小厚さdF1と中間位置PMにおける第1触媒層12Fの最小厚さdFMとの差dF1−dFMは、例えば15μm乃至175μmの範囲内にあり、典型的には50μm乃至150μmの範囲内にある。また、差dF1−dFMの長さLFに対する比(dF1−dFM)/LFは、例えば0.00016乃至0.018の範囲内にあり、典型的には0.0005乃至0.002の範囲内にある。そして、差dF1−dFMの貫通孔THの径Rに対する比(dF1−dFM)/Rは、0.01乃至0.06の範囲内にあり、典型的には0.02乃至0.05の範囲内にある。
【0024】
なお、第1端面EFの位置における第1触媒層12Fの最小厚さdF1は、必ずしも第1端面EFを含む平面における第1触媒層12Fの最小厚さを意味しているものではない。例えば、排ガスの流れ方向に沿った第1触媒層12Fの断面を観察した場合に、第1触媒層12Fの第1端面EF側の端部が丸まっている場合には、この丸まっている端部は考慮しない。即ち、このような場合は、厚さdF1は、第1端面EFを含む平面への正射影における第1触媒層12Fの最小厚さと等しい。また、中間位置PMは、ここでは、第1位置P1と後述する第2位置P2との間に介在し、端面EF及びERに平行であり且つ位置P1及びP2からの距離が等しい平面上の位置である。
【0025】
第1触媒層12Fは、例えば、貴金属粒子などの触媒金属粒子又は活性成分と、これらを担持したアルミナ粒子などの耐熱性担体とを含んでいる。第1触媒層12Fは、他の成分を更に含んでいてもよい。例えば、第1触媒層12Fは、酸化セリウムなどの酸素貯蔵材料を更に含んでいてもよい。
【0026】
第2触媒層12Rは、貫通孔THの側壁PWのうち下流側の部分を被覆している。具体的には、第2触媒層12Rは、貫通孔THの側壁PWのうち、第2端面ERの位置から第1端面EFと第2端面ERとの間の第2位置P2までの部分を、その第1端面EF側の端部が第1触媒層12Fと接触するように被覆している。第1触媒層12Fと第2触媒層12Rとの重複部の排ガスの流れ方向に沿った長さLovlは、例えば0mm乃至120mmの範囲内にあり、典型的には10mm乃至40mmの範囲内にある。
【0027】
基材11の長さLに対する排ガスの流れ方向に沿った第2触媒層12Rの寸法の比、即ち長さLに対する図2に示す長さLRの比LR/Lは、例えば0.4乃至0.8の範囲内にあり、典型的には50乃至70の範囲内にある。
【0028】
第2触媒層12Rの厚さは、第2端面ERの位置から第2位置P2へ向けて減少している。第2端面ERの位置における第2触媒層12Rの厚さdR2と中間位置PMにおける第2触媒層12Rの厚さdRMとの差dR2−dRMは、例えば15μm乃至175μmの範囲内にあり、典型的には50μm乃至150μmの範囲内にある。また、差dR2−dRMの長さLRに対する比(dR2−dRM)/LRは、例えば0.00016乃至0.018の範囲内にあり、典型的には0.0005乃至0.002の範囲内にある。そして、差dR2−dRMの貫通孔THの径Rに対する比(dR2−dRM)/Rは、0.01乃至0.06の範囲内にあり、典型的には0.02乃至0.05の範囲内にある。
【0029】
なお、第2端面ERの位置における第2触媒層12Rの最小厚さdR2は、必ずしも第2端面ERを含む平面における第2触媒層12Rの最小厚さを意味しているものではない。例えば、排ガスの流れ方向に沿った第2触媒層12Rの断面を観察した場合に、第2触媒層12Rの第2端面ER側の端部が丸まっている場合には、この丸まっている端部は考慮しない。即ち、このような場合は、最小厚さdR2は、第2端面ERを含む平面への正射影における第2触媒層12Rの最小厚さと等しい。
【0030】
第2触媒層12Rは、第1触媒層12Fと組成が等しくてもよいが、典型的には、第1触媒層12Fとは組成が異なっている。第2触媒層12Rは、例えば、貴金属粒子などの触媒金属粒子と、これらを担持したアルミナ粒子などの耐熱性担体とを含んでいる。第2触媒層12Rは、他の成分を更に含んでいてもよい。例えば、第2触媒層12Rは、酸化セリウムなどの酸素貯蔵材料を更に含んでいてもよい。
【0031】
図1乃至図7に示す排ガス浄化用触媒1は、例えば、以下の方法により製造することができる。
まず、第1触媒層12Fを形成するための第1スラリーを準備する。第1スラリーは、第1触媒層12Fの成分又はその原料を含んでいる。第1スラリーは、一般的な排ガス浄化用触媒の製造において使用されているスラリーと比較して、遥かに高い粘度を有している。第1スラリーは、例えば、コーン・アンド・プレート型の粘度計を使用し、剪断速度を100s-1として測定を行ったときに100mPa・S乃至160Pa・Sの範囲内の剪断粘度を有するように、及び、剪断速度を1s-1として測定を行ったときに2500mPa・S乃至4000Pa・Sの範囲内の剪断粘度を有するように調製する。第1スラリーの粘度調整には、増粘剤を利用してもよい。
【0032】
次に、筒型のガイド部材の一方の開口に基材11の一端、即ち第1端面EF側の端部を嵌め込み、これらを、ガイド部材が基材11の上方に位置するように設置する。なお、このガイド部材は、典型的には、基材11が嵌め込まれた端から他方の端へ向けて拡径している。ガイド部材は、基材11の上方に液溜めを形成する。
【0033】
次いで、この液溜めに所定量の第1スラリーを供給し、必要に応じて、第1スラリーの液面を平らにするために、ガイド部材を取り付けた基材11を歳差運動させる。続いて、基材11の第2端面ER側の端部から貫通孔TH内の気体を吸引する。これにより、端面EF側から端面ER側への第1スラリーの移動を促進する。ここで、第1スラリーの粘度と吸引力及び吸引時間とを最適化すると、上述した第1触媒層12Fと同様に第1端面EFの位置から第1位置P1へ向けて厚さが減少している第1塗膜が得られる。
【0034】
その後、基材11からガイド部材を取り外し、必要に応じて第1塗膜を乾燥させる。更に、任意にこの塗膜をか焼又は焼成する。これにより、第1触媒層12F又はその前駆体を得る。
【0035】
次に、第2触媒層12Rを形成するための第2スラリーを準備する。第2スラリーは、第2触媒層12Rの成分又はその原料を含んでいる。第2スラリーも、第1スラリーと同様に、一般的な排ガス浄化用触媒の製造において使用されているスラリーと比較して、遥かに高い粘度を有している。第2スラリーは、例えば、コーン・アンド・プレート型の粘度計を使用し、剪断速度を100s-1として測定を行ったときに100mPa・S乃至160Pa・Sの範囲内の剪断粘度を有するように、及び、剪断速度を1s-1として測定を行ったときに2500mPa・S乃至4000Pa・Sの範囲内の剪断粘度を有するように調製する。第2スラリーの粘度調整には、増粘剤を利用してもよい。
【0036】
次いで、基材11の反対側の端、即ち第2端面ER側の端部をガイド部材に嵌め込み、これらを、ガイド部材が基材11の上方に位置するように設置する。そして、ガイド部材が基材11の上方に形成している液溜めに所定量の第2スラリーを供給し、必要に応じて、第1スラリーの液面を平らにするために、ガイド部材を取り付けた基材11を歳差運動させる。続いて、基材11の第1端面EF側の端部から貫通孔TH内の気体を吸引する。これにより、端面ER側から端面EF側への第2スラリーの移動を促進する。ここで、第2スラリーの粘度と吸引力及び吸引時間とを最適化すると、上述した第2触媒層12Rと同様に第2端面ERの位置から第2位置P2へ向けて厚さが減少している第2塗膜が得られる。
【0037】
その後、基材11からガイド部材を取り外し、塗膜を乾燥させる。更に、この塗膜をか焼又は焼成する。これにより、第2触媒層12Rを又は第1触媒層12Fと第2触媒層12Rとを得る。
以上のようにして、図1乃至図7に示す排ガス浄化用触媒1を完成する。
【0038】
この排ガス浄化用触媒1は、排ガスの圧力損失が比較的小さい。これについて、図2及び図8を対比しながら説明する。
【0039】
図8は、比較例に係る排ガス浄化用触媒の一部を示す断面図である。
図8には、上流部と下流部とで触媒層の組成を異ならしめた従来の排ガス浄化用触媒に一般的な構造を描いている。なお、図8に示す排ガス浄化用触媒1’は、例えば、以下の方法により得られる。
【0040】
まず、触媒層12Fを形成するための第3スラリーを準備する。第3スラリーは、触媒層12Fの成分又はその原料を含んでいる。第3スラリーは、排ガス浄化用触媒1について上述した第1スラリーと比較して、遥かに低い粘度を有している。
【0041】
次に、第3スラリーに基材11の一端、即ち端面EF側の端部を浸漬させ、基材11の他端、即ち端面ER側の端部から貫通孔TH内の気体を吸引する。これにより、端面EF側から端面ER側へと第3スラリーを吸い上げる。第3スラリーが所定の位置まで達するまで吸引を継続し、その後、吸引を停止する。吸引を停止すると、貫通孔TH内の第3スラリーは、その一部を隔壁PW上に残して、端面EF側の開口から排出される。このようにして、隔壁PWのうち上流側の部分に第3塗膜を形成する。
【0042】
その後、必要に応じて第3塗膜を乾燥させ、任意にこの塗膜をか焼又は焼成する。これにより、触媒層12F又はその前駆体を得る。
【0043】
次に、触媒層12Rを形成するための第4スラリーを準備する。第4スラリーは、触媒層12Rの成分又はその原料を含んでいる。第4スラリーは、排ガス浄化用触媒1について上述した第2スラリーと比較して、遥かに低い粘度を有している。
【0044】
次いで、第4スラリーに基材11の反対側の端、即ち第2端面ER側の端部を浸漬させ、基材11の他端、即ち端面EF側の端部から貫通孔TH内の気体を吸引する。これにより、端面ER側から端面EF側へと第4スラリーを吸い上げる。第4スラリーが所定の位置まで達するまで吸引を継続し、その後、吸引を停止する。吸引を停止すると、貫通孔TH内の第4スラリーは、その一部を隔壁PW上に残して、端面ER側の開口から排出される。このようにして、隔壁PWのうち下流側の部分に第4塗膜を形成する。
【0045】
その後、塗膜を乾燥させ、更に塗膜をか焼又は焼成する。これにより、触媒層12Rを又は触媒層12Fと触媒層12Rとを得る。
以上のようにして、図8に示す排ガス浄化用触媒1を完成する。
【0046】
上流部と下流部とで触媒層の組成を異ならしめた従来の排ガス浄化用触媒では、一般に、図8に示す排ガス浄化用触媒1’のように、上流側の触媒層12Fの厚さは、基材11の上流側端面EFの位置から下流側へ向けて増加している。他方、下流側の触媒層12Rの厚さは、基材11の下流側端面ERの位置から上流側へ向けて増加している。また、熱伝導が不十分であることに起因した割れを防ぐため、触媒層12F及び12Rは、互いに接触するように設けられている。そして、通常、触媒層12F及び12Rの位置誤差を見込んで、触媒層12F及び12Rが部分的に重なり合う設計を採用している。
【0047】
このため、上流部と下流部とで触媒層の組成を異ならしめた排ガス浄化用触媒に一般的な構造においては、上流側の触媒層12Fと下流側の触媒層12Rとが重なり合った位置における排ガスの流路の径と、上流側端面EFの近傍又は下流側端面ERの近傍における排ガスの流路の径との差が大きい。このような理由で、上流部と下流部とで触媒層の組成を異ならしめた従来の排ガス浄化用触媒では、排ガスの圧力損失が比較的大きかったものと考えられる。
【0048】
図1乃至図7を参照しながら説明した排ガス浄化用触媒1では、第1触媒層12Fの厚さは第1端面EFの位置から第1位置P1へ向けて減少しており、第2触媒層12Rの厚さは第2端面ERの位置から第2位置P2へ向けて減少している。それ故、第1触媒層12Fと第2触媒層12Rとが重なり合った位置で、排ガスの流路が著しく狭くなることはない。それ故、この排ガス浄化用触媒1では、排ガスの圧力損失が比較的小さい。即ち、図1乃至図7を参照しながら説明した構造を採用すると、排ガス浄化用触媒における排ガスの圧力損失を低減することが可能となる。
【0049】
なお、比(dF1−dFM)/R又は比(dR2−dRM)/Rが小さい場合、第1触媒層12Fと第2触媒層12Rとが重なり合った位置における排ガスの流路の広さは不十分である可能性がある。即ち、この場合、排ガス浄化用触媒における排ガスの圧力損失を十分に低減できない可能性がある。
【0050】
また、比(dF1−dFM)/R又は比(dR2−dRM)/Rを大きくすると、端面EF又はERの位置において排ガスの流路が狭くなる。端面EF又はERの位置における排ガスの流路が狭い場合も、排ガス浄化用触媒における排ガスの圧力損失を十分に低減できない。
【0051】
そして、排ガスの流路の形状を変更すると、排ガス中の浄化すべき成分と触媒金属などとの接触の頻度が変化する。即ち、排ガスの流路の形状変更は、排ガス浄化用触媒の排ガス浄化能に影響を及ぼす。
【0052】
比(dF1−dFM)/R及び比(dR2−dRM)/Rが上記の範囲内にある場合、排ガス浄化用触媒における排ガスの圧力損失を十分に低減することができる。加えて、この場合、優れた排ガス浄化能を達成することができる。
【0053】
この排ガス浄化用触媒1には、様々な変形が可能である。
例えば、第1触媒層12Fの下流側端部を第2触媒層12Rの上流側端部と基材11との間に介在させる代わりに、第2触媒層12Rの上流側端部を第1触媒層12Fの下流側端部と基材11との間に介在させてもよい。或いは、排ガス浄化用触媒1には、図9に示す構造を採用してもよい。
【0054】
図9は、一変形例に係る排ガス浄化用触媒の一部を示す断面図である。
図9に示す排ガス浄化用触媒1は、触媒層12F及び12Rが重なり合っておらず、それらの端面同士が接触するように設けられていること以外は、図1乃至図7を参照しながら説明した排ガス浄化用触媒1と同様である。なお、この構造を採用した場合、中間位置PMは、触媒層12F及び12R間の界面内の位置を意味する。
【0055】
図9に示す設計を採用した場合、触媒層12F及び12Rには、より高い位置精度が要求される。但し、触媒層12F及び12Rが部分的に重なり合うような位置誤差を生じたとしても、それらが重なり合った部分において排ガスの流路が過剰に狭くなることはない。従って、この場合も、図1乃至図7を参照しながら説明した構造を採用した場合とほぼ同様の効果を得ることができる。
【実施例】
【0056】
以下に本発明の例を記載する。
<触媒C1の製造>
図1乃至図7を参照しながら説明した排ガス浄化用触媒1を、以下の方法により製造した。
【0057】
まず、1.5gのパラジウムを含んだ硝酸パラジウム水溶液と、100gのアルミナ粉末とを混合した。この混合液を250℃で8時間に亘って乾燥させ、次いで、これにより得られた粉末を500℃で2時間に亘って焼成した。以下、このようにして得られた粉末を「粉末P1」と呼ぶ。
【0058】
次に、100gの粉末P1と50gのセリア粉末とを400mLの脱イオン水中に分散させた。以下、このようにして得られたスラリーを「スラリーS1」と呼ぶ。
【0059】
次いで、上述したガイド部材の一方の開口に基材11の第1端面EF側の端部を嵌め込み、これらを、ガイド部材が基材11の上方に位置するように設置した。ここでは、基材11として、円柱形状を有しているコージェライト製のモノリスハニカム基材を使用した。ここで使用した基材11の直径は103mmであり、長さは105mmであった。また、この基材11は、貫通孔THの排ガスの流れ方向に対して垂直な断面が正方形状を有している貫通孔THが1平方インチ当り600個の密度で設けられており、1Lの容積を有していた。そして、貫通孔THの最小径Rは0.95mmであり、隔壁PWの最小厚さは0.09mmであった。
【0060】
次に、ガイド部材が基材11の上方に形成している液溜めに、300gのスラリーS1を供給した。ガイド部材を取り付けた基材11を歳差運動させてスラリーS1の液面を平らにした後、基材11の第2端面ER側の端部から貫通孔TH内の気体を吸引した。この吸引は、40m/秒の風速で5秒間に亘って行った。
【0061】
次に、0.15gのロジウムを含んだ硝酸ロジウム水溶液と、50gのアルミナ粉末と、50gのジルコニア粉末とを、250mLの脱イオン水中に分散させた。以下、このようにして得られたスラリーを「スラリーS2」と呼ぶ。
【0062】
次に、上述したガイド部材の一方の開口に先の基材11の第2端面ER側の端部を嵌め込み、これらを、ガイド部材が基材11の上方に位置するように設置した。次いで、ガイド部材が基材11の上方に形成している液溜めに、300gのスラリーS2を供給した。ガイド部材を取り付けた基材11を歳差運動させてスラリーS2の液面を平らにした後、基材11の第1端面EF側の端部から貫通孔TH内の気体を吸引した。この吸引は、40m/秒の風速で5秒間に亘って行った。
【0063】
その後、基材11からガイド部材を取り外し、塗膜を150℃で1時間に亘って乾燥させた。更に、これを500℃で1時間に亘って焼成した。
【0064】
以上のようにして、図1乃至図7を参照しながら説明した排ガス浄化用触媒1を得た。以下、この排ガス浄化用触媒1を「触媒C1」と呼ぶ。
【0065】
次に、触媒C1の各種寸法を測定した。触媒層12Fについては、長さLFは65mmであり、最小厚さdF1は0.07mmであり、最小厚さdFMは4mmであった。また、触媒層12Rについては、長さLRは65mmであり、最小厚さdR2は0.05mmであり、最小厚さdRMは0.03mmであった。なお、基材11の各種寸法は、触媒層12a及び12bの形成前後で変化はなかった。
【0066】
<触媒C2の製造>
図8を参照しながら説明した排ガス浄化用触媒1’を、以下の方法により製造した。
【0067】
まず、1.5gの粉末P1と100gのセリア粉末とを400mLの脱イオン水中に分散させた。以下、このようにして得られたスラリーを「スラリーS3」と呼ぶ。
【0068】
次に、スラリーS3に基材11の端面EF側の端部を浸漬させ、基材11の端面ER側の端部から貫通孔TH内の気体を吸引した。これにより、端面EF側から端面ER側へとスラリーS3を吸い上げた。スラリーS3が所定の位置まで達するまで吸引を継続し、その後、吸引を停止した。このようにして、隔壁PWのうち上流側の部分に、触媒C1と長さLFが等しい触媒層12Fが得られるように塗膜を形成した。
【0069】
次いで、0.15gのロジウムを含んだ硝酸ロジウム水溶液と、50gのアルミナ粉末と、50gのジルコニア粉末とを、250mLの脱イオン水中に分散させた。以下、このようにして得られたスラリーを「スラリーS4」と呼ぶ。
【0070】
続いて、スラリーS4に基材11の端面ER側の端部を浸漬させ、基材11の端面EF側の端部から貫通孔TH内の気体を吸引した。これにより、端面ER側から端面EF側へとスラリーS4を吸い上げた。スラリーS4が所定の位置まで達するまで吸引を継続し、その後、吸引を停止した。このようにして、隔壁PWのうち下流側の部分に、触媒C1と長さLRが等しい触媒層12Rが得られるように塗膜を形成した。
【0071】
その後、塗膜を150℃で1時間に亘って乾燥させた。更に、これを500℃で1時間に亘って焼成した。
【0072】
以上のようにして、図8を参照しながら説明した排ガス浄化用触媒1を得た。以下、この排ガス浄化用触媒1’を「触媒C2」と呼ぶ。
【0073】
次に、触媒C2の各種寸法を測定した。触媒層12Fについては、最小厚さdF1は0.07mmであり、最小厚さdFMは0.1mmであった。また、触媒層12Rについては、最小厚さdR2は0.05mmであり、最小厚さdRMは0.08mmであった。なお、基材11の各種寸法は、触媒層12a及び12bの形成前後で変化はなかった。
【0074】
<触媒C3の製造>
図1乃至図7を参照しながら説明した排ガス浄化用触媒1を、以下の方法により製造した。
【0075】
20gの粉末P1と10gのセリア粉末とを75mLの脱イオン水中に分散させた。以下、このようにして得られたスラリーを「スラリーS5」と呼ぶ。
【0076】
また、0.15gのロジウムを含んだ硝酸ロジウム水溶液と、20gのアルミナ粉末と、20gのジルコニア粉末とを、100mLの脱イオン水中に分散させた。以下、このようにして得られたスラリーを「スラリーS6」と呼ぶ。
【0077】
スラリーS1及びS2の代わりにスラリーS5及びS6をそれぞれ使用し、触媒層12F及び12Rを形成するためのスラリーの吸引条件を以下のように変更したこと以外は、触媒C1について上述したのと同様の方法により排ガス浄化用触媒1を製造した。即ち、ここでは、スラリーS5の吸引を40m/秒の風速で3秒間に亘って行い、スラリーS6の吸引を40m/秒の風速で3秒間に亘って行った。以下、この排ガス浄化用触媒1を「触媒C3」と呼ぶ。
【0078】
次に、触媒C3の各種寸法を測定した。触媒層12Fについては、長さLFは60mmであり、最小厚さdF1は0.015mmであり、最小厚さdFMは0.008mmであった。また、触媒層12Rについては、長さLRは60mmであり、最小厚さdR2は0.015mmであり、最小厚さdRMは0.008mmであった。なお、基材11の各種寸法は、触媒層12a及び12bの形成前後で変化はなかった。
【0079】
<触媒C4の製造>
図1乃至図7を参照しながら説明した排ガス浄化用触媒1を、以下の方法により製造した。
【0080】
100gの粉末P1と80gのセリア粉末とを450mLの脱イオン水中に分散させた。以下、このようにして得られたスラリーを「スラリーS7」と呼ぶ。
【0081】
また、0.15gのロジウムを含んだ硝酸ロジウム水溶液と、100gのアルミナ粉末と、100gのジルコニア粉末とを、500mLの脱イオン水中に分散させた。以下、このようにして得られたスラリーを「スラリーS8」と呼ぶ。
【0082】
スラリーS1及びS2の代わりにスラリーS7及びS8をそれぞれ使用し、触媒層12F及び12Rを形成するためのスラリーの吸引条件を以下のように変更したこと以外は、触媒C1について上述したのと同様の方法により排ガス浄化用触媒1を製造した。即ち、ここでは、スラリーS7の吸引を40m/秒の風速で6秒間に亘って行い、スラリーS8の吸引を40m/秒の風速で6秒間に亘って行った。以下、この排ガス浄化用触媒1を「触媒C4」と呼ぶ。
【0083】
次に、触媒C4の各種寸法を測定した。触媒層12Fについては、長さLFは60mmであり、最小厚さdF1は0.1mmであり、最小厚さdFMは0.06mmであった。また、触媒層12Rについては、長さLRは60mmであり、最小厚さdR2は0.1mmであり、最小厚さdRMは0.06mmであった。なお、基材11の各種寸法は、触媒層12a及び12bの形成前後で変化はなかった。
【0084】
<触媒C5の製造>
図1乃至図7を参照しながら説明した排ガス浄化用触媒1を、以下の方法により製造した。
【0085】
200gの粉末P1と150gのセリア粉末とを900mLの脱イオン水中に分散させた。以下、このようにして得られたスラリーを「スラリーS9」と呼ぶ。
【0086】
また、0.15gのロジウムを含んだ硝酸ロジウム水溶液と、200gのアルミナ粉末と、170gのジルコニア粉末とを、900mLの脱イオン水中に分散させた。以下、このようにして得られたスラリーを「スラリーS10」と呼ぶ。
【0087】
スラリーS1及びS2の代わりにスラリーS9及びS10をそれぞれ使用し、触媒層12F及び12Rを形成するためのスラリーの吸引条件を以下のように変更したこと以外は、触媒C1について上述したのと同様の方法により排ガス浄化用触媒1を製造した。即ち、ここでは、スラリーS9の吸引を40m/秒の風速で10秒間に亘って行い、スラリーS10の吸引を40m/秒の風速で10秒間に亘って行った。以下、この排ガス浄化用触媒1を「触媒C5」と呼ぶ。
【0088】
次に、触媒C5の各種寸法を測定した。触媒層12Fについては、長さLFは60mmであり、最小厚さdF1は0.175mmであり、最小厚さdFMは0.1mmであった。また、触媒層12Rについては、長さLRは60mmであり、最小厚さdR2は0.175mmであり、最小厚さdRMは0.1mmであった。なお、基材11の各種寸法は、触媒層12a及び12bの形成前後で変化はなかった。
【0089】
<触媒C6の製造>
図1乃至図7を参照しながら説明した排ガス浄化用触媒1を、以下の方法により製造した。
【0090】
20gの粉末P1と10gのセリア粉末とを75mLの脱イオン水中に分散させた。以下、このようにして得られたスラリーを「スラリーS11」と呼ぶ。
【0091】
また、0.15gのロジウムを含んだ硝酸ロジウム水溶液と、100gのアルミナ粉末と、100gのジルコニア粉末とを、500mLの脱イオン水中に分散させた。以下、このようにして得られたスラリーを「スラリーS12」と呼ぶ。
【0092】
スラリーS1及びS2の代わりにスラリーS11及びS12をそれぞれ使用し、触媒層12F及び12Rを形成するためのスラリーの吸引条件を以下のように変更したこと以外は、触媒C1について上述したのと同様の方法により排ガス浄化用触媒1を製造した。即ち、ここでは、スラリーS11の吸引を40m/秒の風速で3秒間に亘って行い、スラリーS12の吸引を40m/秒の風速で6秒間に亘って行った。以下、この排ガス浄化用触媒1を「触媒C6」と呼ぶ。
【0093】
次に、触媒C6の各種寸法を測定した。触媒層12Fについては、長さLFは60mmであり、最小厚さdF1は0.015mmであり、最小厚さdFMは0.008mmであった。また、触媒層12Rについては、長さLRは60mmであり、最小厚さdR2は0.1mmであり、最小厚さdRMは0.06mmであった。なお、基材11の各種寸法は、触媒層12a及び12bの形成前後で変化はなかった。
【0094】
<触媒C7の製造>
図1乃至図7を参照しながら説明した排ガス浄化用触媒1を、以下の方法により製造した。
【0095】
100gの粉末P1と80gのセリア粉末とを450mLの脱イオン水中に分散させた。以下、このようにして得られたスラリーを「スラリーS13」と呼ぶ。
【0096】
また、0.15gのロジウムを含んだ硝酸ロジウム水溶液と、20gのアルミナ粉末と、20gのジルコニア粉末とを、100mLの脱イオン水中に分散させた。以下、このようにして得られたスラリーを「スラリーS14」と呼ぶ。
【0097】
スラリーS1及びS2の代わりにスラリーS13及びS14をそれぞれ使用し、触媒層12F及び12Rを形成するためのスラリーの吸引条件を以下のように変更したこと以外は、触媒C1について上述したのと同様の方法により排ガス浄化用触媒1を製造した。即ち、ここでは、スラリーS13の吸引を40m/秒の風速で6秒間に亘って行い、スラリーS14の吸引を40m/秒の風速で3秒間に亘って行った。以下、この排ガス浄化用触媒1を「触媒C7」と呼ぶ。
【0098】
次に、触媒C7の各種寸法を測定した。触媒層12Fについては、長さLFは60mmであり、最小厚さdF1は0.1mmであり、最小厚さdFMは0.06mmであった。また、触媒層12Rについては、長さLRは60mmであり、最小厚さdR2は0.015mmであり、最小厚さdRMは0.008mmであった。なお、基材11の各種寸法は、触媒層12a及び12bの形成前後で変化はなかった。
【0099】
触媒C1乃至C7の各種寸法を、以下の表1に纏める。
【0100】
【表1】
【0101】
<性能評価1>
触媒C1及びC2の各々に、その端面EF側から1hPaの空気を5m3/分の流量で供給して、端面EF側における空気の圧力と端面ER側における空気の圧力とを測定し、それら圧力の差を圧力損失として求めた。ここでは、空気の温度及び相対湿度はそれぞれ20℃及び65%に設定した。図10に、その結果を示す。
【0102】
図10は、排ガス浄化用触媒の構造が圧力損失に及ぼす影響の一例を示すグラフである。図10に示すように、触媒C1は、触媒C2と比較して、排ガスの圧力損失が小さかった。
【0103】
<性能評価2>
触媒C3及びC7の各々に、その端面EF側から1hPaの空気を5m3/分の流量で供給して、端面EF側における空気の圧力と端面ER側における空気の圧力とを測定し、それら圧力の差を圧力損失として求めた。ここでは、空気の温度及び相対湿度はそれぞれ20℃及び65%に設定した。図11に、その結果を示す。
【0104】
図11は、排ガス浄化用触媒の構造が圧力損失に及ぼす影響の他の例を示すグラフである。触媒C3乃至C5について得られたデータから明らかなように、比(dF1−dFM)/R及び(dR2−dRM)/Rの各々を大きくすると圧力損失は大きくなり、それらの各々を小さくすると圧力損失は小さくなった。また、触媒C3、C4、C6及びC7について得られたデータから明らかなように、比(dF1−dFM)/R及び(dR2−dRM)/Rの一方のみを大きくすると圧力損失は大きくなり、それらの一方のみを小さくすると圧力損失は小さくなった。
【0105】
<性能評価3>
触媒C3乃至C7の各々を流通式の耐久試験装置内に配置し、触媒床に窒素を主成分としたガスを500mL/分の流量で5時間流通させた。この間、触媒の温度は1000℃に維持した。また、触媒に流通させるガスとしては、リーンガスとリッチガスとを使用し、これらガスは5分毎に切り替えた。なお、リーンガスは、窒素に酸素を5%加えてなる混合ガスに10%の水蒸気をさらに加えてなるガスであり、リッチガスは、窒素に一酸化炭素を10%加えてなる混合ガスに10%の水蒸気をさらに加えてなるガスである。
【0106】
その後、これら排ガス浄化用触媒を、常圧固定床流通反応装置内に配置した。次いで、触媒床にモデルガスを流通させながら、触媒床温度を100℃から500℃まで12℃/分の速度で昇温させ、その間の排ガス浄化率を連続的に測定した。なお、モデルガスとしては、酸化性成分(酸素及び窒素酸化物)と還元性成分(一酸化炭素、炭化水素、水素)とを化学量論的に当量としたガスを使用した。その結果を、図12に示す。
【0107】
図12は、排ガス浄化用触媒の構造が炭化水素浄化能に及ぼす影響の一例を示すグラフである。図12において、「HC−T50%」は、モデルガスに含まれる炭化水素の50%以上を浄化できた触媒の最低温度、即ち炭化水素の50%浄化温度を意味している。
【0108】
触媒C3乃至C5について得られたデータから明らかなように、比(dF1−dFM)/R及び(dR2−dRM)/Rの各々を大きくすると炭化水素の50%浄化温度は低くなり、それらの各々を小さくすると炭化水素の50%浄化温度は高くなった。また、触媒C3、C4、C6及びC7について得られたデータから明らかなように、比(dF1−dFM)/R及び(dR2−dRM)/Rの一方のみを大きくすると炭化水素の50%浄化温度は低くなり、それらの一方のみを小さくすると炭化水素の50%浄化温度は高くなった。
【符号の説明】
【0109】
1…排ガス浄化用触媒、11…基材、12F…第1触媒層、12R…第2触媒層、EF…第1端面、ER…第2端面、P1…位置、P2…位置、PM…位置、PW…隔壁、TH…貫通孔。
【技術分野】
【0001】
本発明は、排ガス浄化用触媒に関する。
【背景技術】
【0002】
特許文献1には、ハニカム基材と触媒層とを含んだ排ガス浄化用触媒が記載されている。この触媒層には、高い排ガス浄化効率を達成するべく、下層と上層とを含んだ多層構造を採用している。
【0003】
このような排ガス浄化用触媒では、下層を厚くすると、触媒層全体の厚さが増加し、その結果、圧力損失が増大する。圧力損失が増大すると、エンジン性能が低下する可能性がある。
【0004】
また、特許文献2に記載されているように、排ガス浄化用触媒では、上流部と下流部とで触媒層の組成を異ならしめることがある。このような構成は、排ガス浄化効率を向上させるための一手法として広く採用されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】特開2008−23501号公報
【特許文献2】特開2009−622号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
上流部と下流部とで触媒層の組成を異ならしめる場合、触媒層の厚さを上流部及び下流部の双方で薄くすれば、排ガスの圧力損失を小さくすることができると考えられる。
【0007】
しかしながら、本発明者らは、そのような排ガス浄化用触媒であっても、圧力損失に関して改善の余地があることを見出している。
本発明の目的は、排ガス浄化用触媒における排ガスの圧力損失を低減可能とすることにある。
【課題を解決するための手段】
【0008】
本発明の一側面によると、第1及び第2端面を有し、前記第1端面から前記第2端面へと延びた貫通孔が設けられた基材と、前記貫通孔の側壁のうち前記第1端面の位置から前記第1及び第2端面間の第1位置までの部分を被覆し、前記第1端面の位置から前記第1位置へ向けて厚さが減少している第1触媒層と、前記貫通孔の前記側壁のうち前記第2端面の位置から前記第1及び第2端面間の第2位置までの部分を前記第1端面側の端部が前記第1触媒層と接触するように被覆し、前記第2端面の位置から前記第2位置へ向けて厚さが減少している第2触媒層とを具備し、前記第1端面の位置における前記第1触媒層の最小厚さdF1と前記第1及び第2位置の中間位置における前記第1触媒層の最小厚さdFMとの差dF1−dFMの前記貫通孔の最小径Rに対する比(dF1−dFM)/Rは0.01乃至0.06の範囲内にあり、前記第2端面の位置における前記第2触媒層の最小厚さdR2と前記中間位置における前記第2触媒層の最小厚さdRMとの差dR2−dRMの前記貫通孔の最小径Rに対する比(dR2−dRM)/Rは0.01乃至0.06の範囲内にある排ガス浄化用触媒が提供される。
【発明の効果】
【0009】
本発明によると、排ガス浄化用触媒における排ガスの圧力損失を低減することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【0010】
【図1】本発明の一態様に係る排ガス浄化用触媒を概略的に示す斜視図。
【図2】図1に示す排ガス浄化用触媒の一部を示す断面図。
【図3】図2に示す構造の一部を拡大した断面図。
【図4】図2に示す構造の他の一部を拡大した断面図。
【図5】図2に示す構造を上流側から見た平面図。
【図6】図2に示す構造を下流側から見た平面図。
【図7】図2に示す構造の排ガスの流れ方向に垂直な一断面を描いた図。
【図8】比較例に係る排ガス浄化用触媒の一部を示す断面図。
【図9】変形例に係る排ガス浄化用触媒の一部を示す断面図。
【図10】排ガス浄化用触媒の構造が圧力損失に及ぼす影響の一例を示すグラフ。
【図11】排ガス浄化用触媒の構造が圧力損失に及ぼす影響の他の例を示すグラフ。
【図12】排ガス浄化用触媒の構造が炭化水素浄化能に及ぼす影響の一例を示すグラフ。
【発明を実施するための形態】
【0011】
以下、本発明の態様について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、同様又は類似した機能を発揮する構成要素には全ての図面を通じて同一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。また、理解を容易にするために、一部の図では、構造を誇張又は簡略化している。
【0012】
図1は、本発明の一態様に係る排ガス浄化用触媒を概略的に示す斜視図である。図2は、図1に示す排ガス浄化用触媒の一部を示す断面図である。図3は、図2に示す構造の一部を拡大した断面図である。図4は、図2に示す構造の他の一部を拡大した断面図である。図5は、図2に示す構造を上流側から見た平面図である。図6は、図2に示す構造を下流側から見た平面図である。図7は、図2に示す構造の排ガスの流れ方向に垂直な一断面を描いた図である。
【0013】
図1乃至図7に示す排ガス浄化用触媒1は、基材11と第1触媒層12Fと第2触媒層12Rとを含んでいる。なお、図2乃至図4には、排ガスの流れの向きを白抜きの矢印で示している。用語「上流」及び「下流」は、この排ガスの流れの向きを基準として使用する。
【0014】
基材11は、例えば、モノリスハニカム基材である。基材11は、例えば、コージェライトなどの耐熱性セラミックスからなる。
【0015】
基材11は、円柱形状を有している。基材11は、他の形状を有していてもよい。例えば、基材11は、楕円柱形状又は角柱形状を有していてもよい。
【0016】
基材11は、図2に示すように、第1端面EFと第2端面ERとを有している。基材11には、第1端面EFから第2端面ERへと各々が延び、隔壁PWによって互いから仕切られた貫通孔THが設けられている。基材11の排ガスの流れ方向に沿った長さLは、例えば50mm乃至200mmの範囲内にあり、典型的には95mm乃至155mmの範囲内にある。
【0017】
排ガスの流れ方向に対して垂直な貫通孔THの断面は、図7に示すように正方形状を有している。これら断面は、他の形状を有していてもよい。例えば、これら断面は、六角形状を有していてもよく、円形状を有していてもよい。また、典型的には、先の断面の形状及び寸法は、貫通孔THの長さ全体に亘って一定である。
【0018】
図5乃至図7に示すように、排ガスの流れ方向に対して平行な方向から観察した場合に、貫通孔THは、正方格子状に配列している。貫通孔THの配列には、他の構造を採用してもよい。例えば、貫通孔THは、六角格子状に配列していてもよい。
【0019】
貫通孔THの最小径Rは、例えば0.785mm乃至1.21mmの範囲内にあり、典型的には0.95mm乃至1.15mmの範囲内にある。隔壁PWの最小厚さdPWは、例えば0.065mm乃至0.3mmの範囲内にあり、典型的には0.09mm乃至0.15mmの範囲内にある。隔壁PWの最小厚さdPWに対する貫通孔THの最小径Rの比R/dPWは、例えば2.6乃至18.6の範囲内にあり、典型的には6.3乃至12.7の範囲内にある。
【0020】
なお、貫通孔THの最小径Rは、貫通孔THの中心線を横切り且つ両端が隔壁PW上に位置した最も短い線分の長さである。また、隔壁PWの最小厚さは、隣り合った貫通孔TH間の最短距離である。
【0021】
第1触媒層12Fは、貫通孔THの側壁PWのうち上流側の部分を被覆している。具体的には、第1触媒層12Fは、貫通孔THの側壁PWのうち、第1端面EFの位置から第1端面EFと第2端面ERとの間の第1位置P1までの部分を被覆している。
【0022】
基材11の長さLに対する排ガスの流れ方向に沿った第1触媒層12Fの寸法の比、即ち長さLに対する図2に示す長さLFの比LF/Lは、例えば0.2乃至0.8の範囲内にあり、典型的には0.3乃至0.6の範囲内にある。
【0023】
第1触媒層12Fの厚さは、第1端面EFの位置から第1位置P1へ向けて減少している。第1端面EFの位置における第1触媒層12Fの最小厚さdF1と中間位置PMにおける第1触媒層12Fの最小厚さdFMとの差dF1−dFMは、例えば15μm乃至175μmの範囲内にあり、典型的には50μm乃至150μmの範囲内にある。また、差dF1−dFMの長さLFに対する比(dF1−dFM)/LFは、例えば0.00016乃至0.018の範囲内にあり、典型的には0.0005乃至0.002の範囲内にある。そして、差dF1−dFMの貫通孔THの径Rに対する比(dF1−dFM)/Rは、0.01乃至0.06の範囲内にあり、典型的には0.02乃至0.05の範囲内にある。
【0024】
なお、第1端面EFの位置における第1触媒層12Fの最小厚さdF1は、必ずしも第1端面EFを含む平面における第1触媒層12Fの最小厚さを意味しているものではない。例えば、排ガスの流れ方向に沿った第1触媒層12Fの断面を観察した場合に、第1触媒層12Fの第1端面EF側の端部が丸まっている場合には、この丸まっている端部は考慮しない。即ち、このような場合は、厚さdF1は、第1端面EFを含む平面への正射影における第1触媒層12Fの最小厚さと等しい。また、中間位置PMは、ここでは、第1位置P1と後述する第2位置P2との間に介在し、端面EF及びERに平行であり且つ位置P1及びP2からの距離が等しい平面上の位置である。
【0025】
第1触媒層12Fは、例えば、貴金属粒子などの触媒金属粒子又は活性成分と、これらを担持したアルミナ粒子などの耐熱性担体とを含んでいる。第1触媒層12Fは、他の成分を更に含んでいてもよい。例えば、第1触媒層12Fは、酸化セリウムなどの酸素貯蔵材料を更に含んでいてもよい。
【0026】
第2触媒層12Rは、貫通孔THの側壁PWのうち下流側の部分を被覆している。具体的には、第2触媒層12Rは、貫通孔THの側壁PWのうち、第2端面ERの位置から第1端面EFと第2端面ERとの間の第2位置P2までの部分を、その第1端面EF側の端部が第1触媒層12Fと接触するように被覆している。第1触媒層12Fと第2触媒層12Rとの重複部の排ガスの流れ方向に沿った長さLovlは、例えば0mm乃至120mmの範囲内にあり、典型的には10mm乃至40mmの範囲内にある。
【0027】
基材11の長さLに対する排ガスの流れ方向に沿った第2触媒層12Rの寸法の比、即ち長さLに対する図2に示す長さLRの比LR/Lは、例えば0.4乃至0.8の範囲内にあり、典型的には50乃至70の範囲内にある。
【0028】
第2触媒層12Rの厚さは、第2端面ERの位置から第2位置P2へ向けて減少している。第2端面ERの位置における第2触媒層12Rの厚さdR2と中間位置PMにおける第2触媒層12Rの厚さdRMとの差dR2−dRMは、例えば15μm乃至175μmの範囲内にあり、典型的には50μm乃至150μmの範囲内にある。また、差dR2−dRMの長さLRに対する比(dR2−dRM)/LRは、例えば0.00016乃至0.018の範囲内にあり、典型的には0.0005乃至0.002の範囲内にある。そして、差dR2−dRMの貫通孔THの径Rに対する比(dR2−dRM)/Rは、0.01乃至0.06の範囲内にあり、典型的には0.02乃至0.05の範囲内にある。
【0029】
なお、第2端面ERの位置における第2触媒層12Rの最小厚さdR2は、必ずしも第2端面ERを含む平面における第2触媒層12Rの最小厚さを意味しているものではない。例えば、排ガスの流れ方向に沿った第2触媒層12Rの断面を観察した場合に、第2触媒層12Rの第2端面ER側の端部が丸まっている場合には、この丸まっている端部は考慮しない。即ち、このような場合は、最小厚さdR2は、第2端面ERを含む平面への正射影における第2触媒層12Rの最小厚さと等しい。
【0030】
第2触媒層12Rは、第1触媒層12Fと組成が等しくてもよいが、典型的には、第1触媒層12Fとは組成が異なっている。第2触媒層12Rは、例えば、貴金属粒子などの触媒金属粒子と、これらを担持したアルミナ粒子などの耐熱性担体とを含んでいる。第2触媒層12Rは、他の成分を更に含んでいてもよい。例えば、第2触媒層12Rは、酸化セリウムなどの酸素貯蔵材料を更に含んでいてもよい。
【0031】
図1乃至図7に示す排ガス浄化用触媒1は、例えば、以下の方法により製造することができる。
まず、第1触媒層12Fを形成するための第1スラリーを準備する。第1スラリーは、第1触媒層12Fの成分又はその原料を含んでいる。第1スラリーは、一般的な排ガス浄化用触媒の製造において使用されているスラリーと比較して、遥かに高い粘度を有している。第1スラリーは、例えば、コーン・アンド・プレート型の粘度計を使用し、剪断速度を100s-1として測定を行ったときに100mPa・S乃至160Pa・Sの範囲内の剪断粘度を有するように、及び、剪断速度を1s-1として測定を行ったときに2500mPa・S乃至4000Pa・Sの範囲内の剪断粘度を有するように調製する。第1スラリーの粘度調整には、増粘剤を利用してもよい。
【0032】
次に、筒型のガイド部材の一方の開口に基材11の一端、即ち第1端面EF側の端部を嵌め込み、これらを、ガイド部材が基材11の上方に位置するように設置する。なお、このガイド部材は、典型的には、基材11が嵌め込まれた端から他方の端へ向けて拡径している。ガイド部材は、基材11の上方に液溜めを形成する。
【0033】
次いで、この液溜めに所定量の第1スラリーを供給し、必要に応じて、第1スラリーの液面を平らにするために、ガイド部材を取り付けた基材11を歳差運動させる。続いて、基材11の第2端面ER側の端部から貫通孔TH内の気体を吸引する。これにより、端面EF側から端面ER側への第1スラリーの移動を促進する。ここで、第1スラリーの粘度と吸引力及び吸引時間とを最適化すると、上述した第1触媒層12Fと同様に第1端面EFの位置から第1位置P1へ向けて厚さが減少している第1塗膜が得られる。
【0034】
その後、基材11からガイド部材を取り外し、必要に応じて第1塗膜を乾燥させる。更に、任意にこの塗膜をか焼又は焼成する。これにより、第1触媒層12F又はその前駆体を得る。
【0035】
次に、第2触媒層12Rを形成するための第2スラリーを準備する。第2スラリーは、第2触媒層12Rの成分又はその原料を含んでいる。第2スラリーも、第1スラリーと同様に、一般的な排ガス浄化用触媒の製造において使用されているスラリーと比較して、遥かに高い粘度を有している。第2スラリーは、例えば、コーン・アンド・プレート型の粘度計を使用し、剪断速度を100s-1として測定を行ったときに100mPa・S乃至160Pa・Sの範囲内の剪断粘度を有するように、及び、剪断速度を1s-1として測定を行ったときに2500mPa・S乃至4000Pa・Sの範囲内の剪断粘度を有するように調製する。第2スラリーの粘度調整には、増粘剤を利用してもよい。
【0036】
次いで、基材11の反対側の端、即ち第2端面ER側の端部をガイド部材に嵌め込み、これらを、ガイド部材が基材11の上方に位置するように設置する。そして、ガイド部材が基材11の上方に形成している液溜めに所定量の第2スラリーを供給し、必要に応じて、第1スラリーの液面を平らにするために、ガイド部材を取り付けた基材11を歳差運動させる。続いて、基材11の第1端面EF側の端部から貫通孔TH内の気体を吸引する。これにより、端面ER側から端面EF側への第2スラリーの移動を促進する。ここで、第2スラリーの粘度と吸引力及び吸引時間とを最適化すると、上述した第2触媒層12Rと同様に第2端面ERの位置から第2位置P2へ向けて厚さが減少している第2塗膜が得られる。
【0037】
その後、基材11からガイド部材を取り外し、塗膜を乾燥させる。更に、この塗膜をか焼又は焼成する。これにより、第2触媒層12Rを又は第1触媒層12Fと第2触媒層12Rとを得る。
以上のようにして、図1乃至図7に示す排ガス浄化用触媒1を完成する。
【0038】
この排ガス浄化用触媒1は、排ガスの圧力損失が比較的小さい。これについて、図2及び図8を対比しながら説明する。
【0039】
図8は、比較例に係る排ガス浄化用触媒の一部を示す断面図である。
図8には、上流部と下流部とで触媒層の組成を異ならしめた従来の排ガス浄化用触媒に一般的な構造を描いている。なお、図8に示す排ガス浄化用触媒1’は、例えば、以下の方法により得られる。
【0040】
まず、触媒層12Fを形成するための第3スラリーを準備する。第3スラリーは、触媒層12Fの成分又はその原料を含んでいる。第3スラリーは、排ガス浄化用触媒1について上述した第1スラリーと比較して、遥かに低い粘度を有している。
【0041】
次に、第3スラリーに基材11の一端、即ち端面EF側の端部を浸漬させ、基材11の他端、即ち端面ER側の端部から貫通孔TH内の気体を吸引する。これにより、端面EF側から端面ER側へと第3スラリーを吸い上げる。第3スラリーが所定の位置まで達するまで吸引を継続し、その後、吸引を停止する。吸引を停止すると、貫通孔TH内の第3スラリーは、その一部を隔壁PW上に残して、端面EF側の開口から排出される。このようにして、隔壁PWのうち上流側の部分に第3塗膜を形成する。
【0042】
その後、必要に応じて第3塗膜を乾燥させ、任意にこの塗膜をか焼又は焼成する。これにより、触媒層12F又はその前駆体を得る。
【0043】
次に、触媒層12Rを形成するための第4スラリーを準備する。第4スラリーは、触媒層12Rの成分又はその原料を含んでいる。第4スラリーは、排ガス浄化用触媒1について上述した第2スラリーと比較して、遥かに低い粘度を有している。
【0044】
次いで、第4スラリーに基材11の反対側の端、即ち第2端面ER側の端部を浸漬させ、基材11の他端、即ち端面EF側の端部から貫通孔TH内の気体を吸引する。これにより、端面ER側から端面EF側へと第4スラリーを吸い上げる。第4スラリーが所定の位置まで達するまで吸引を継続し、その後、吸引を停止する。吸引を停止すると、貫通孔TH内の第4スラリーは、その一部を隔壁PW上に残して、端面ER側の開口から排出される。このようにして、隔壁PWのうち下流側の部分に第4塗膜を形成する。
【0045】
その後、塗膜を乾燥させ、更に塗膜をか焼又は焼成する。これにより、触媒層12Rを又は触媒層12Fと触媒層12Rとを得る。
以上のようにして、図8に示す排ガス浄化用触媒1を完成する。
【0046】
上流部と下流部とで触媒層の組成を異ならしめた従来の排ガス浄化用触媒では、一般に、図8に示す排ガス浄化用触媒1’のように、上流側の触媒層12Fの厚さは、基材11の上流側端面EFの位置から下流側へ向けて増加している。他方、下流側の触媒層12Rの厚さは、基材11の下流側端面ERの位置から上流側へ向けて増加している。また、熱伝導が不十分であることに起因した割れを防ぐため、触媒層12F及び12Rは、互いに接触するように設けられている。そして、通常、触媒層12F及び12Rの位置誤差を見込んで、触媒層12F及び12Rが部分的に重なり合う設計を採用している。
【0047】
このため、上流部と下流部とで触媒層の組成を異ならしめた排ガス浄化用触媒に一般的な構造においては、上流側の触媒層12Fと下流側の触媒層12Rとが重なり合った位置における排ガスの流路の径と、上流側端面EFの近傍又は下流側端面ERの近傍における排ガスの流路の径との差が大きい。このような理由で、上流部と下流部とで触媒層の組成を異ならしめた従来の排ガス浄化用触媒では、排ガスの圧力損失が比較的大きかったものと考えられる。
【0048】
図1乃至図7を参照しながら説明した排ガス浄化用触媒1では、第1触媒層12Fの厚さは第1端面EFの位置から第1位置P1へ向けて減少しており、第2触媒層12Rの厚さは第2端面ERの位置から第2位置P2へ向けて減少している。それ故、第1触媒層12Fと第2触媒層12Rとが重なり合った位置で、排ガスの流路が著しく狭くなることはない。それ故、この排ガス浄化用触媒1では、排ガスの圧力損失が比較的小さい。即ち、図1乃至図7を参照しながら説明した構造を採用すると、排ガス浄化用触媒における排ガスの圧力損失を低減することが可能となる。
【0049】
なお、比(dF1−dFM)/R又は比(dR2−dRM)/Rが小さい場合、第1触媒層12Fと第2触媒層12Rとが重なり合った位置における排ガスの流路の広さは不十分である可能性がある。即ち、この場合、排ガス浄化用触媒における排ガスの圧力損失を十分に低減できない可能性がある。
【0050】
また、比(dF1−dFM)/R又は比(dR2−dRM)/Rを大きくすると、端面EF又はERの位置において排ガスの流路が狭くなる。端面EF又はERの位置における排ガスの流路が狭い場合も、排ガス浄化用触媒における排ガスの圧力損失を十分に低減できない。
【0051】
そして、排ガスの流路の形状を変更すると、排ガス中の浄化すべき成分と触媒金属などとの接触の頻度が変化する。即ち、排ガスの流路の形状変更は、排ガス浄化用触媒の排ガス浄化能に影響を及ぼす。
【0052】
比(dF1−dFM)/R及び比(dR2−dRM)/Rが上記の範囲内にある場合、排ガス浄化用触媒における排ガスの圧力損失を十分に低減することができる。加えて、この場合、優れた排ガス浄化能を達成することができる。
【0053】
この排ガス浄化用触媒1には、様々な変形が可能である。
例えば、第1触媒層12Fの下流側端部を第2触媒層12Rの上流側端部と基材11との間に介在させる代わりに、第2触媒層12Rの上流側端部を第1触媒層12Fの下流側端部と基材11との間に介在させてもよい。或いは、排ガス浄化用触媒1には、図9に示す構造を採用してもよい。
【0054】
図9は、一変形例に係る排ガス浄化用触媒の一部を示す断面図である。
図9に示す排ガス浄化用触媒1は、触媒層12F及び12Rが重なり合っておらず、それらの端面同士が接触するように設けられていること以外は、図1乃至図7を参照しながら説明した排ガス浄化用触媒1と同様である。なお、この構造を採用した場合、中間位置PMは、触媒層12F及び12R間の界面内の位置を意味する。
【0055】
図9に示す設計を採用した場合、触媒層12F及び12Rには、より高い位置精度が要求される。但し、触媒層12F及び12Rが部分的に重なり合うような位置誤差を生じたとしても、それらが重なり合った部分において排ガスの流路が過剰に狭くなることはない。従って、この場合も、図1乃至図7を参照しながら説明した構造を採用した場合とほぼ同様の効果を得ることができる。
【実施例】
【0056】
以下に本発明の例を記載する。
<触媒C1の製造>
図1乃至図7を参照しながら説明した排ガス浄化用触媒1を、以下の方法により製造した。
【0057】
まず、1.5gのパラジウムを含んだ硝酸パラジウム水溶液と、100gのアルミナ粉末とを混合した。この混合液を250℃で8時間に亘って乾燥させ、次いで、これにより得られた粉末を500℃で2時間に亘って焼成した。以下、このようにして得られた粉末を「粉末P1」と呼ぶ。
【0058】
次に、100gの粉末P1と50gのセリア粉末とを400mLの脱イオン水中に分散させた。以下、このようにして得られたスラリーを「スラリーS1」と呼ぶ。
【0059】
次いで、上述したガイド部材の一方の開口に基材11の第1端面EF側の端部を嵌め込み、これらを、ガイド部材が基材11の上方に位置するように設置した。ここでは、基材11として、円柱形状を有しているコージェライト製のモノリスハニカム基材を使用した。ここで使用した基材11の直径は103mmであり、長さは105mmであった。また、この基材11は、貫通孔THの排ガスの流れ方向に対して垂直な断面が正方形状を有している貫通孔THが1平方インチ当り600個の密度で設けられており、1Lの容積を有していた。そして、貫通孔THの最小径Rは0.95mmであり、隔壁PWの最小厚さは0.09mmであった。
【0060】
次に、ガイド部材が基材11の上方に形成している液溜めに、300gのスラリーS1を供給した。ガイド部材を取り付けた基材11を歳差運動させてスラリーS1の液面を平らにした後、基材11の第2端面ER側の端部から貫通孔TH内の気体を吸引した。この吸引は、40m/秒の風速で5秒間に亘って行った。
【0061】
次に、0.15gのロジウムを含んだ硝酸ロジウム水溶液と、50gのアルミナ粉末と、50gのジルコニア粉末とを、250mLの脱イオン水中に分散させた。以下、このようにして得られたスラリーを「スラリーS2」と呼ぶ。
【0062】
次に、上述したガイド部材の一方の開口に先の基材11の第2端面ER側の端部を嵌め込み、これらを、ガイド部材が基材11の上方に位置するように設置した。次いで、ガイド部材が基材11の上方に形成している液溜めに、300gのスラリーS2を供給した。ガイド部材を取り付けた基材11を歳差運動させてスラリーS2の液面を平らにした後、基材11の第1端面EF側の端部から貫通孔TH内の気体を吸引した。この吸引は、40m/秒の風速で5秒間に亘って行った。
【0063】
その後、基材11からガイド部材を取り外し、塗膜を150℃で1時間に亘って乾燥させた。更に、これを500℃で1時間に亘って焼成した。
【0064】
以上のようにして、図1乃至図7を参照しながら説明した排ガス浄化用触媒1を得た。以下、この排ガス浄化用触媒1を「触媒C1」と呼ぶ。
【0065】
次に、触媒C1の各種寸法を測定した。触媒層12Fについては、長さLFは65mmであり、最小厚さdF1は0.07mmであり、最小厚さdFMは4mmであった。また、触媒層12Rについては、長さLRは65mmであり、最小厚さdR2は0.05mmであり、最小厚さdRMは0.03mmであった。なお、基材11の各種寸法は、触媒層12a及び12bの形成前後で変化はなかった。
【0066】
<触媒C2の製造>
図8を参照しながら説明した排ガス浄化用触媒1’を、以下の方法により製造した。
【0067】
まず、1.5gの粉末P1と100gのセリア粉末とを400mLの脱イオン水中に分散させた。以下、このようにして得られたスラリーを「スラリーS3」と呼ぶ。
【0068】
次に、スラリーS3に基材11の端面EF側の端部を浸漬させ、基材11の端面ER側の端部から貫通孔TH内の気体を吸引した。これにより、端面EF側から端面ER側へとスラリーS3を吸い上げた。スラリーS3が所定の位置まで達するまで吸引を継続し、その後、吸引を停止した。このようにして、隔壁PWのうち上流側の部分に、触媒C1と長さLFが等しい触媒層12Fが得られるように塗膜を形成した。
【0069】
次いで、0.15gのロジウムを含んだ硝酸ロジウム水溶液と、50gのアルミナ粉末と、50gのジルコニア粉末とを、250mLの脱イオン水中に分散させた。以下、このようにして得られたスラリーを「スラリーS4」と呼ぶ。
【0070】
続いて、スラリーS4に基材11の端面ER側の端部を浸漬させ、基材11の端面EF側の端部から貫通孔TH内の気体を吸引した。これにより、端面ER側から端面EF側へとスラリーS4を吸い上げた。スラリーS4が所定の位置まで達するまで吸引を継続し、その後、吸引を停止した。このようにして、隔壁PWのうち下流側の部分に、触媒C1と長さLRが等しい触媒層12Rが得られるように塗膜を形成した。
【0071】
その後、塗膜を150℃で1時間に亘って乾燥させた。更に、これを500℃で1時間に亘って焼成した。
【0072】
以上のようにして、図8を参照しながら説明した排ガス浄化用触媒1を得た。以下、この排ガス浄化用触媒1’を「触媒C2」と呼ぶ。
【0073】
次に、触媒C2の各種寸法を測定した。触媒層12Fについては、最小厚さdF1は0.07mmであり、最小厚さdFMは0.1mmであった。また、触媒層12Rについては、最小厚さdR2は0.05mmであり、最小厚さdRMは0.08mmであった。なお、基材11の各種寸法は、触媒層12a及び12bの形成前後で変化はなかった。
【0074】
<触媒C3の製造>
図1乃至図7を参照しながら説明した排ガス浄化用触媒1を、以下の方法により製造した。
【0075】
20gの粉末P1と10gのセリア粉末とを75mLの脱イオン水中に分散させた。以下、このようにして得られたスラリーを「スラリーS5」と呼ぶ。
【0076】
また、0.15gのロジウムを含んだ硝酸ロジウム水溶液と、20gのアルミナ粉末と、20gのジルコニア粉末とを、100mLの脱イオン水中に分散させた。以下、このようにして得られたスラリーを「スラリーS6」と呼ぶ。
【0077】
スラリーS1及びS2の代わりにスラリーS5及びS6をそれぞれ使用し、触媒層12F及び12Rを形成するためのスラリーの吸引条件を以下のように変更したこと以外は、触媒C1について上述したのと同様の方法により排ガス浄化用触媒1を製造した。即ち、ここでは、スラリーS5の吸引を40m/秒の風速で3秒間に亘って行い、スラリーS6の吸引を40m/秒の風速で3秒間に亘って行った。以下、この排ガス浄化用触媒1を「触媒C3」と呼ぶ。
【0078】
次に、触媒C3の各種寸法を測定した。触媒層12Fについては、長さLFは60mmであり、最小厚さdF1は0.015mmであり、最小厚さdFMは0.008mmであった。また、触媒層12Rについては、長さLRは60mmであり、最小厚さdR2は0.015mmであり、最小厚さdRMは0.008mmであった。なお、基材11の各種寸法は、触媒層12a及び12bの形成前後で変化はなかった。
【0079】
<触媒C4の製造>
図1乃至図7を参照しながら説明した排ガス浄化用触媒1を、以下の方法により製造した。
【0080】
100gの粉末P1と80gのセリア粉末とを450mLの脱イオン水中に分散させた。以下、このようにして得られたスラリーを「スラリーS7」と呼ぶ。
【0081】
また、0.15gのロジウムを含んだ硝酸ロジウム水溶液と、100gのアルミナ粉末と、100gのジルコニア粉末とを、500mLの脱イオン水中に分散させた。以下、このようにして得られたスラリーを「スラリーS8」と呼ぶ。
【0082】
スラリーS1及びS2の代わりにスラリーS7及びS8をそれぞれ使用し、触媒層12F及び12Rを形成するためのスラリーの吸引条件を以下のように変更したこと以外は、触媒C1について上述したのと同様の方法により排ガス浄化用触媒1を製造した。即ち、ここでは、スラリーS7の吸引を40m/秒の風速で6秒間に亘って行い、スラリーS8の吸引を40m/秒の風速で6秒間に亘って行った。以下、この排ガス浄化用触媒1を「触媒C4」と呼ぶ。
【0083】
次に、触媒C4の各種寸法を測定した。触媒層12Fについては、長さLFは60mmであり、最小厚さdF1は0.1mmであり、最小厚さdFMは0.06mmであった。また、触媒層12Rについては、長さLRは60mmであり、最小厚さdR2は0.1mmであり、最小厚さdRMは0.06mmであった。なお、基材11の各種寸法は、触媒層12a及び12bの形成前後で変化はなかった。
【0084】
<触媒C5の製造>
図1乃至図7を参照しながら説明した排ガス浄化用触媒1を、以下の方法により製造した。
【0085】
200gの粉末P1と150gのセリア粉末とを900mLの脱イオン水中に分散させた。以下、このようにして得られたスラリーを「スラリーS9」と呼ぶ。
【0086】
また、0.15gのロジウムを含んだ硝酸ロジウム水溶液と、200gのアルミナ粉末と、170gのジルコニア粉末とを、900mLの脱イオン水中に分散させた。以下、このようにして得られたスラリーを「スラリーS10」と呼ぶ。
【0087】
スラリーS1及びS2の代わりにスラリーS9及びS10をそれぞれ使用し、触媒層12F及び12Rを形成するためのスラリーの吸引条件を以下のように変更したこと以外は、触媒C1について上述したのと同様の方法により排ガス浄化用触媒1を製造した。即ち、ここでは、スラリーS9の吸引を40m/秒の風速で10秒間に亘って行い、スラリーS10の吸引を40m/秒の風速で10秒間に亘って行った。以下、この排ガス浄化用触媒1を「触媒C5」と呼ぶ。
【0088】
次に、触媒C5の各種寸法を測定した。触媒層12Fについては、長さLFは60mmであり、最小厚さdF1は0.175mmであり、最小厚さdFMは0.1mmであった。また、触媒層12Rについては、長さLRは60mmであり、最小厚さdR2は0.175mmであり、最小厚さdRMは0.1mmであった。なお、基材11の各種寸法は、触媒層12a及び12bの形成前後で変化はなかった。
【0089】
<触媒C6の製造>
図1乃至図7を参照しながら説明した排ガス浄化用触媒1を、以下の方法により製造した。
【0090】
20gの粉末P1と10gのセリア粉末とを75mLの脱イオン水中に分散させた。以下、このようにして得られたスラリーを「スラリーS11」と呼ぶ。
【0091】
また、0.15gのロジウムを含んだ硝酸ロジウム水溶液と、100gのアルミナ粉末と、100gのジルコニア粉末とを、500mLの脱イオン水中に分散させた。以下、このようにして得られたスラリーを「スラリーS12」と呼ぶ。
【0092】
スラリーS1及びS2の代わりにスラリーS11及びS12をそれぞれ使用し、触媒層12F及び12Rを形成するためのスラリーの吸引条件を以下のように変更したこと以外は、触媒C1について上述したのと同様の方法により排ガス浄化用触媒1を製造した。即ち、ここでは、スラリーS11の吸引を40m/秒の風速で3秒間に亘って行い、スラリーS12の吸引を40m/秒の風速で6秒間に亘って行った。以下、この排ガス浄化用触媒1を「触媒C6」と呼ぶ。
【0093】
次に、触媒C6の各種寸法を測定した。触媒層12Fについては、長さLFは60mmであり、最小厚さdF1は0.015mmであり、最小厚さdFMは0.008mmであった。また、触媒層12Rについては、長さLRは60mmであり、最小厚さdR2は0.1mmであり、最小厚さdRMは0.06mmであった。なお、基材11の各種寸法は、触媒層12a及び12bの形成前後で変化はなかった。
【0094】
<触媒C7の製造>
図1乃至図7を参照しながら説明した排ガス浄化用触媒1を、以下の方法により製造した。
【0095】
100gの粉末P1と80gのセリア粉末とを450mLの脱イオン水中に分散させた。以下、このようにして得られたスラリーを「スラリーS13」と呼ぶ。
【0096】
また、0.15gのロジウムを含んだ硝酸ロジウム水溶液と、20gのアルミナ粉末と、20gのジルコニア粉末とを、100mLの脱イオン水中に分散させた。以下、このようにして得られたスラリーを「スラリーS14」と呼ぶ。
【0097】
スラリーS1及びS2の代わりにスラリーS13及びS14をそれぞれ使用し、触媒層12F及び12Rを形成するためのスラリーの吸引条件を以下のように変更したこと以外は、触媒C1について上述したのと同様の方法により排ガス浄化用触媒1を製造した。即ち、ここでは、スラリーS13の吸引を40m/秒の風速で6秒間に亘って行い、スラリーS14の吸引を40m/秒の風速で3秒間に亘って行った。以下、この排ガス浄化用触媒1を「触媒C7」と呼ぶ。
【0098】
次に、触媒C7の各種寸法を測定した。触媒層12Fについては、長さLFは60mmであり、最小厚さdF1は0.1mmであり、最小厚さdFMは0.06mmであった。また、触媒層12Rについては、長さLRは60mmであり、最小厚さdR2は0.015mmであり、最小厚さdRMは0.008mmであった。なお、基材11の各種寸法は、触媒層12a及び12bの形成前後で変化はなかった。
【0099】
触媒C1乃至C7の各種寸法を、以下の表1に纏める。
【0100】
【表1】
【0101】
<性能評価1>
触媒C1及びC2の各々に、その端面EF側から1hPaの空気を5m3/分の流量で供給して、端面EF側における空気の圧力と端面ER側における空気の圧力とを測定し、それら圧力の差を圧力損失として求めた。ここでは、空気の温度及び相対湿度はそれぞれ20℃及び65%に設定した。図10に、その結果を示す。
【0102】
図10は、排ガス浄化用触媒の構造が圧力損失に及ぼす影響の一例を示すグラフである。図10に示すように、触媒C1は、触媒C2と比較して、排ガスの圧力損失が小さかった。
【0103】
<性能評価2>
触媒C3及びC7の各々に、その端面EF側から1hPaの空気を5m3/分の流量で供給して、端面EF側における空気の圧力と端面ER側における空気の圧力とを測定し、それら圧力の差を圧力損失として求めた。ここでは、空気の温度及び相対湿度はそれぞれ20℃及び65%に設定した。図11に、その結果を示す。
【0104】
図11は、排ガス浄化用触媒の構造が圧力損失に及ぼす影響の他の例を示すグラフである。触媒C3乃至C5について得られたデータから明らかなように、比(dF1−dFM)/R及び(dR2−dRM)/Rの各々を大きくすると圧力損失は大きくなり、それらの各々を小さくすると圧力損失は小さくなった。また、触媒C3、C4、C6及びC7について得られたデータから明らかなように、比(dF1−dFM)/R及び(dR2−dRM)/Rの一方のみを大きくすると圧力損失は大きくなり、それらの一方のみを小さくすると圧力損失は小さくなった。
【0105】
<性能評価3>
触媒C3乃至C7の各々を流通式の耐久試験装置内に配置し、触媒床に窒素を主成分としたガスを500mL/分の流量で5時間流通させた。この間、触媒の温度は1000℃に維持した。また、触媒に流通させるガスとしては、リーンガスとリッチガスとを使用し、これらガスは5分毎に切り替えた。なお、リーンガスは、窒素に酸素を5%加えてなる混合ガスに10%の水蒸気をさらに加えてなるガスであり、リッチガスは、窒素に一酸化炭素を10%加えてなる混合ガスに10%の水蒸気をさらに加えてなるガスである。
【0106】
その後、これら排ガス浄化用触媒を、常圧固定床流通反応装置内に配置した。次いで、触媒床にモデルガスを流通させながら、触媒床温度を100℃から500℃まで12℃/分の速度で昇温させ、その間の排ガス浄化率を連続的に測定した。なお、モデルガスとしては、酸化性成分(酸素及び窒素酸化物)と還元性成分(一酸化炭素、炭化水素、水素)とを化学量論的に当量としたガスを使用した。その結果を、図12に示す。
【0107】
図12は、排ガス浄化用触媒の構造が炭化水素浄化能に及ぼす影響の一例を示すグラフである。図12において、「HC−T50%」は、モデルガスに含まれる炭化水素の50%以上を浄化できた触媒の最低温度、即ち炭化水素の50%浄化温度を意味している。
【0108】
触媒C3乃至C5について得られたデータから明らかなように、比(dF1−dFM)/R及び(dR2−dRM)/Rの各々を大きくすると炭化水素の50%浄化温度は低くなり、それらの各々を小さくすると炭化水素の50%浄化温度は高くなった。また、触媒C3、C4、C6及びC7について得られたデータから明らかなように、比(dF1−dFM)/R及び(dR2−dRM)/Rの一方のみを大きくすると炭化水素の50%浄化温度は低くなり、それらの一方のみを小さくすると炭化水素の50%浄化温度は高くなった。
【符号の説明】
【0109】
1…排ガス浄化用触媒、11…基材、12F…第1触媒層、12R…第2触媒層、EF…第1端面、ER…第2端面、P1…位置、P2…位置、PM…位置、PW…隔壁、TH…貫通孔。
【特許請求の範囲】
【請求項1】
第1及び第2端面を有し、前記第1端面から前記第2端面へと延びた貫通孔が設けられた基材と、
前記貫通孔の側壁のうち前記第1端面の位置から前記第1及び第2端面間の第1位置までの部分を被覆し、前記第1端面の位置から前記第1位置へ向けて厚さが減少している第1触媒層と、
前記貫通孔の前記側壁のうち前記第2端面の位置から前記第1及び第2端面間の第2位置までの部分を前記第1端面側の端部が前記第1触媒層と接触するように被覆し、前記第2端面の位置から前記第2位置へ向けて厚さが減少している第2触媒層と
を具備し、
前記第1端面の位置における前記第1触媒層の最小厚さdF1と前記第1及び第2位置の中間位置における前記第1触媒層の最小厚さdFMとの差dF1−dFMの前記貫通孔の最小径Rに対する比(dF1−dFM)/Rは0.01乃至0.06の範囲内にあり、前記第2端面の位置における前記第2触媒層の最小厚さdR2と前記中間位置における前記第2触媒層の最小厚さdRMとの差dR2−dRMの前記貫通孔の最小径Rに対する比(dR2−dRM)/Rは0.01乃至0.06の範囲内にある排ガス浄化用触媒。
【請求項2】
前記第1及び第2触媒層は組成が互いに異なっている請求項1に記載の排ガス浄化用触媒。
【請求項3】
前記第1及び第2触媒層は部分的に重なり合っている請求項1又は2に記載の排ガス浄化用触媒。
【請求項1】
第1及び第2端面を有し、前記第1端面から前記第2端面へと延びた貫通孔が設けられた基材と、
前記貫通孔の側壁のうち前記第1端面の位置から前記第1及び第2端面間の第1位置までの部分を被覆し、前記第1端面の位置から前記第1位置へ向けて厚さが減少している第1触媒層と、
前記貫通孔の前記側壁のうち前記第2端面の位置から前記第1及び第2端面間の第2位置までの部分を前記第1端面側の端部が前記第1触媒層と接触するように被覆し、前記第2端面の位置から前記第2位置へ向けて厚さが減少している第2触媒層と
を具備し、
前記第1端面の位置における前記第1触媒層の最小厚さdF1と前記第1及び第2位置の中間位置における前記第1触媒層の最小厚さdFMとの差dF1−dFMの前記貫通孔の最小径Rに対する比(dF1−dFM)/Rは0.01乃至0.06の範囲内にあり、前記第2端面の位置における前記第2触媒層の最小厚さdR2と前記中間位置における前記第2触媒層の最小厚さdRMとの差dR2−dRMの前記貫通孔の最小径Rに対する比(dR2−dRM)/Rは0.01乃至0.06の範囲内にある排ガス浄化用触媒。
【請求項2】
前記第1及び第2触媒層は組成が互いに異なっている請求項1に記載の排ガス浄化用触媒。
【請求項3】
前記第1及び第2触媒層は部分的に重なり合っている請求項1又は2に記載の排ガス浄化用触媒。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【公開番号】特開2011−212508(P2011−212508A)
【公開日】平成23年10月27日(2011.10.27)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2010−80140(P2010−80140)
【出願日】平成22年3月31日(2010.3.31)
【出願人】(000104607)株式会社キャタラー (161)
【出願人】(000003207)トヨタ自動車株式会社 (59,920)
【出願人】(000003609)株式会社豊田中央研究所 (4,200)
【出願人】(000002967)ダイハツ工業株式会社 (2,560)
【Fターム(参考)】
【公開日】平成23年10月27日(2011.10.27)
【国際特許分類】
【出願日】平成22年3月31日(2010.3.31)
【出願人】(000104607)株式会社キャタラー (161)
【出願人】(000003207)トヨタ自動車株式会社 (59,920)
【出願人】(000003609)株式会社豊田中央研究所 (4,200)
【出願人】(000002967)ダイハツ工業株式会社 (2,560)
【Fターム(参考)】
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