撮像装置
【課題】計測光の配列に対する走査方向の幅を小さくし、高ＳＮ比な断層像を得る。
【解決手段】本発明に係る撮像装置は、被検査物における前記複数の計測光の配列を検出する検出手段の検出結果に基づいて、複数の計測光を走査する走査手段の走査方向に対する上記配列を調整する。
【解決手段】本発明に係る撮像装置は、被検査物における前記複数の計測光の配列を検出する検出手段の検出結果に基づいて、複数の計測光を走査する走査手段の走査方向に対する上記配列を調整する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被検査物の断層像を取得する撮像装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、低コヒーレンス干渉計又は白色干渉計の技術を応用した光干渉断層撮像装置（ＯＣＴ（オプティカルコヒーレンストモグラフィー）装置）が実用化されている。ＯＣＴ装置は、医療分野、特に眼科領域において眼底網膜の断層像を得るために用いられている。ＯＣＴ装置は、光の性質を利用するため、光の波長のオーダーであるマイクロメートル程度の高分解能で測定することができる。ここで、測定信号の高い信号対雑音比（以下、ＳＮ比と称す）を確保し、高画質の断層像を得るためには、被測定物の同一位置の断層像を複数回に分けて取得し、それらを位置合わせした後に平均化し、加算平均する。これにより、ランダムノイズを相対的に小さくすることができ、断層像のＳＮ比を向上させている。しかし、医療分野において被測定物が生体である場合、例えば眼底測定においては非測定物である人眼は測定中にランダムに微動しているため、高速に測定を終えなければ測定像が歪んでしまうこととなる。
【０００３】
特許文献１には、複数の光源を用いて走査方向に計測光を並べて走査し、測定物の同じ測定箇所のデータ列を加算平均することにより高速化する方法が開示されている。なお、この方法はタンデムスキャンと呼ばれている。臨床現場では、病状により、横スキャン、縦スキャン、ラジアルスキャンと呼ばれる放射状のスキャン等、各種パターンのスキャンが求められる。複数の光源を持ち、横スキャン、縦スキャン、ラジアルスキャン等にタンデムスキャンを行うには、眼底への計測光の配列の角度を変更する必要がある。
【０００４】
タンデムスキャンで高ＳＮ比な画像を確保するには、各計測光は、走査方向に対してより平行な配列をとり、各計測光が作り出す走査方向に対する計測光の幅は、より微小範囲内に収める必要がある。近年より高分解能な画像を求めるために計測光の径を小さくし、高ＮＡの計測光にて撮像することが行われているが、それに伴って、計測光の配列は走査方向とより微小範囲内に収めることが求められる。そのため、光走査部の走査方向と計測光の配列方向との誤差を微小にしなければならないが、光走査部の走査方向と計測光の配列方向との誤差を微小にすることは、光走査部を駆動し、各計測光の位置関係を調整しなければならない。そのため、専門家による調整が必要となる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１０−１８８１１４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、光走査部はＯＣＴ装置の移動による振動等でずれることが多い。また、イメージローテータ等の計測光の配列の角度を変更する機構を備えた場合、ＯＣＴ装置の立ち上がり時にイメージローテータの基準位置を求めるセンサを用いてイメージローテータを所定の位置に導き、その位置を原点として計測光の配列の角度を整えている。但し、イメージローテータを所定の位置に導く際に位置のばらつきが生じる。そのため、走査方向と計測光の配列方向とのずれを微小範囲内に抑え、高ＳＮ比な画像を求めるためには、定期メンテナンスや、ＯＣＴ装置立ち上げ時に専門家による確認、調整が必要になるという問題があった。
【０００７】
そこで、本発明の目的は、計測光の配列に対する走査方向の幅を小さくし、高ＳＮ比な断層像を得ることにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明係る撮像装置は、複数の計測光を照射した被検査物からの複数の戻り光に基づいて、該被検査物の画像を取得する撮像装置であって、前記複数の計測光を走査する走査手段と、前記被検査物における前記複数の計測光の配列を検出する検出手段と、前記検出手段の検出結果に基づいて、前記走査手段の走査方向に対する前記配列を調整する配列調整手段と、を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、計測光の配列に対する走査方向の幅を小さくし、高ＳＮ比な断層像を得ることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】第１及び第２の実施形態に係る光干渉断層撮像装置の構成を示す図である。
【図２】光ファイバの配列を示す図である。
【図３】受光部と各計測光との位置関係を示す図である。
【図４】ラインセンサＬに対する計測光の配列の関係の求め方を説明するための図である。
【図５】ラインセンサＬに対する計測光の配列の傾きとの求め方について説明するための図である。
【図６】、ラインセンサＬの垂直方向（Ｘ軸）に対する光走査部６のＸ軸の傾きと、各計測光間の位置関係との求め方を説明するための図である。
【図７】ラインセンサＬに対する光走査部のＹ軸の傾きの求め方を説明するための図である。
【図８】タンデムスキャン時における計測光の配列方向での光走査部の補正方法を説明するための図である。
【図９】計測光Ｐ１、Ｐ２及びＰ３の距離の求め方を説明するための図である。
【図１０】計測光の配列の求め方を説明するための図である。
【図１１】イメージローテータ２の回転中心位置の求め方について説明するための図である。
【図１２】計測光の配列に対する光走査部のＸの傾きの求め方を説明するための図である。
【図１３】第３及び第４の実施形態に係る光干渉断層撮像装置の構成を示す図である。
【図１４】検出体を示す図である。
【図１５】検出体の横の帯と計測光の配列と光走査部の傾きとの求め方について説明するための図である。
【図１６】縦の帯と光走査部のＹ軸の走査方向との傾きの求め方について説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明を適用した好適な実施形態を、添付図面を参照しながら詳細に説明する。なお、本発明は、光干渉断層撮像装置以外にも、ＳＬＯ等の走査型の撮像装置（内視鏡を含む）であれば何でも良い。また、被検査物は、被検眼以外にも被検体の皮膚等でも良い。
【００１２】
（第１の実施形態）
先ず、本発明の第１の実施形態について説明する。図１（ａ）は、本発明の実施形態に係る光干渉断層撮像装置（以下、ＯＣＴ装置と称す）の構成を示す図である。本実施形態に係るＯＣＴ装置は、光源１、光分岐部３３、サンプルアーム１００１、参照アーム１００２、分光器１００３、制御部２３及び表示部２４を備える。光分岐部３３は、光ファイバ３２、３４、３９及び１４を介して、光源１、分光器１００３、サンプルアーム１００１及び参照アーム１００２とそれぞれ接続されている。なお、本実施形態のＯＣＴ装置は、光断層撮像装置の適用例となる構成である。
【００１３】
光源１は、低コヒーレンス光を発する光源である。ここで、光源１から射出された光（光束）は、光ファイバ３２を介して光分岐部３３に伝搬される。なお、光分岐部３３はファイバカプラ等で構成される。参照アーム１００２は、参照光学系として機能し、コリメータレンズ１２と参照ミラー１３とを具備する。参照アーム１００２には、光分岐部３３により光ファイバ３９側に分岐された光（以下、参照光と称す）が入射され、その光路上に上述した構成が設けられている。参照ミラー１３は、駆動部１３ａによる駆動力を受けて光軸方向に沿って移動する。これにより、眼軸長が異なる被検眼に対しても、参照光の光路長と後述する計測光の光路長とを一致させることができる。本実施形態では、光源１は３つの光源を持つものであり、光分岐部３３並びに光ファイバ３２、３４、３９及び１４は、３つの光源に対応して、それぞれ３つ設けられている。
【００１４】
サンプルアーム１００１は、撮像光学系として機能し、ファイバ接続部３５、イメージローテータ２、コリメータレンズ５及び光走査部６を備える。光分岐部３３により光ファイバ３４側に分岐された光（以下、計測光と称す）は、ファイバ接続部３５において、図２（ａ）に示すように光ファイバ３４の各々に対応して３５ａ、３５ｂ、３５ｃの配列で入射される。その光路上には、計測光の配列の角度を変更するためのイメージローテータ２が配置される。不図示の駆動装置によりイメージローテータ２が光路上で回転されることにより、計測光が回転され、計測光の配列の角度が変更される。
【００１５】
光走査部６には、コリメータレンズ５を介して計測光が入射される。なお、光走査部６は、タンデムに配置されたＸ方向及びＹ方向に計測光を走査させるガルバノミラーで構成される。計測光は、サンプルアーム１００１の光走査部６からコリメータレンズ７ａ及び接眼レンズ７ｂを介して被検眼８の眼底８ｒに対して走査される。なお、コリメータレンズ７ａと接眼レンズ７ｂとの間の計測光は、平行に照射される。
【００１６】
分光器１００３は、ファイバ接続部１５、コリメータレンズ１６、分光部１７、結像レンズ１８及び撮像部１９を備える。分光器１００３には、光分岐部３３から計測光（戻り光）と参照光（反射光）との合波が入射され、その光路上に上述した構成が設けられる。分光部１７は、光を回折により分光する機能を果たし、例えば、光の波長に近い寸法の回折格子（グレーティング、プリズム等）が等間隔に複数配置されている。
【００１７】
撮像部１９は、ラインセンサ（アレイ状に並んだ撮像素子（ＣＭＯＳ、ＣＣＤ等））で構成される。撮像部１９は、ラインセンサ上に各光源１に対する検出領域１９ａ、１９ｂ及び１９ｃを有し、入射した光の信号を別々に検出する。そして撮像部１９は、波長毎の強度に対応した信号を生成し、当該信号を制御部２３に向けて出力する。
【００１８】
ここで、眼底８ｒからの戻り光と参照ミラー１３からの反射光との合波光は、位相差を有する。この位相差は、光分岐部３３から眼底８ｒまでの光路長と、光分岐部３３から参照ミラー１３までの光路長との差に起因して生じる。そして、この位相差が波長により異なるため、検出領域１９ａ〜ｃ上に現れる分光強度分布には干渉縞が生じる。この強度分布（干渉縞）の周期を求めることにより、反射物体の位置に対応した明るさを求めることができる。
【００１９】
制御部２３は、例えば、ＣＰＵ（Central Processing Unit）、ＲＯＭ（Read Only Memory）、ＲＡＭ（Random Access Memory）等を備える。ＣＰＵがＲＯＭからプログラムをＲＡＭにロードして実行することにより、制御部２３はＯＣＴ装置における各部の動作を制御する。即ち、制御部２３は、例えばイメージローテータ２、光走査部６、駆動部１３ａ及び撮像部１９等の制御を行う。また制御部２３は、ＣＰＵがＲＯＭに格納されるプログラムを実行することにより、画像生成部２３１及び表示制御部２３２の機能を実現する。画像生成部２３１は、撮像部１９により検出された信号を解析又は演算し、被検査物である眼底８ｒの断層画像を生成する機能である。また、表示制御部２３２は、画像生成部２３１により生成された眼底の断層画像を表示部２４に表示させる機能である。計測光の走査の仕方は、撮像目的に応じて異なってくるが、例えば、計測光を１次方向に走査させることによりＢスキャン像を取得することができる。タンデムスキャンでは、イメージローテータ２で計測光の配列方向を光走査部６で走査する方向と一致させると、高ＳＮ比なＢスキャン像を得ることができる。なお、イメージローテータ２は、配列調整手段の例となる構成である。
【００２０】
コリメータレンズ７ａと接眼レンズ７ｂとの間のミラー９は、計測光路上と計測光路に干渉しない位置とに駆動可能である。眼底８ｒに対して計測光を走査させるときにはミラー９は計測光路に干渉しない位置に駆動される。受光部１０は、計測光を検出するものであり、一次元ＣＣＤラインセンサや２次元ＣＣＤ等で構成される。受光部１０は、ミラー９が計測光路上に配置されることにより、計測光を検出することができる。
【００２１】
制御部２３は、ミラー９及び受光部１０等も制御する。制御部２３は、受光部１０で検出された信号を受け、計測光の照射位置を演算し、イメージローテータ２と光走査部６と計測光との位置関係を算出する。なお、計測光の配列状態を計測する際には、ミラー９は計測光路上に配置される。光源１から照射された光は、サンプルアーム１００１を通り、ミラー９を介して計測光として受光部１０に照射される。
【００２２】
図３は、受光部１０と各計測光との位置関係を示す図である。なお、図３の例では、一次元ＣＣＤラインセンサ（以下、単にラインセンサと称す）を受光部１０として用いている。図３において、直線部Ｌはラインセンサであり、直線上に配置されたＰ１、Ｐ２及びＰ３は計測光である。ここではラインセンサＬの長手方向をラインセンサＬのＹ軸とし、その垂直方向をラインセンサＬのＸ軸とする。ＯＣＴ装置が立ち上がって各機器の初期駆動が終了し、ミラー９が計測光路上にあり、受光部１０に計測光が照射されるとき、図３に示すように、設計上はラインセンサＬの中心と計測光の配列の中心とが一致しているものとする。
【００２３】
光走査部６の位置は、ラインセンサＬに対して計測光がある位置となる。例えば、各誤差を含まない設計上において、中央の計測光Ｐ２がラインセンサＬ上のマイナス座標側を照射する場合、光走査部６の位置もマイナス座標側の位置となる。なお、スケールはラインセンサＬと同じとする。
【００２４】
また、イメージローテータ２は通常半回転すると、通過する光は回転するが、説明の便宜上、光の回転量をイメージローテータ２の回転量としている。また、計測光の配列をラインセンサＬに対して水平になるようにしたときのイメージローテータ２の角度を０°とし、反時計回りの方向をプラス方向とする。
【００２５】
先ず、制御部２３は、ラインセンサＬに対する計測光の配列の関係を調べる。ここでは、配列の両端である計測光Ｐ１と計測光Ｐ３とを結ぶ直線の傾きを計測光の配列の傾きとする。イメージローテータ２の回転により計測光の配列の傾きは変化する。従って、制御部２３は、イメージローテータ２が計測光の配列をラインセンサＬに対して水平にしようとしている回転中心位置を基準として、計測光Ｐ１と計測光Ｐ３とを結ぶ直線の傾きを求める。
【００２６】
図４は、ラインセンサＬに対する計測光の配列の関係の求め方を説明するための図である。本実施形態において、制御部２３は、イメージローテータ２が計測光の配列をラインセンサＬに対して水平にしようとしたときの、計測光の配列の誤差とイメージローテータ２の回転中心位置とを求める。
【００２７】
図４（ａ）に示すように、制御部２３は、設計値上で計測光の配列がラインセンサＬに対して水平になるような位置までイメージローテータ２を回転させ、ラインセンサＬ上から計測光Ｐ１と計測光Ｐ３との間隔の４分の１だけラインセンサＬのＸ軸方向に光走査部６のＸ軸をずらす。ここで光走査部６のＸ軸をずらした量をＸＳとすると、光走査部６の位置はラインセンサＬの座標系において（ＸＳ，０）となる。
【００２８】
ここでのイメージローテータ２の回転量と光走査部６のＸ軸の移動量とは設計値によって決定すればよい。従って、ファイバ接続部３５、光走査部６及びイメージローテータ２各々の取り付け誤差や、イメージローテータ２の回転方向の原点決め時の誤差等を考慮する必要はない。なお、光走査部６のＸ軸の移動量は、計算上及び説明上、都合のよい位置を選んでいるものであって、イメージローテータ２を回転させたとき、計測光Ｐ１及び計測光Ｐ３がラインセンサＬを通過する位置であればよい。但し、計測光Ｐ１と計測光Ｐ３との間隔の２分の１近傍の移動量は精度上好ましくない。
【００２９】
制御部２３は、この状態でイメージローテータ２を回転させ、計測光Ｐ１のラインセンサＬの通過点を２点求める。ここでは、計測光Ｐ１の中心がラインセンサＬ上を通過する点を、計測光Ｐ１が通過する点とする。例えば、計測光の口径が４０μｍ、ラインセンサＬの１ピクセルが５μｍ×５μｍ、光走査部６の移動最小量が１μｍであるような場合、ラインセンサＬの１ピクセルより光走査部６の分解能が高い。従って、計測光の光量が最大になる点を、計測光のラインセンサＬの通過点として探せばよい。
【００３０】
計測光がラインセンサＬ上を通過するときの計測光の中心位置の求め方の一つとしては、図４（ｂ）に示すように、制御部２３は、ラインセンサＬが計測光を検出するまでイメージローテータ２を回転させる。ラインセンサＬが計測光を検出すると、制御部２３は、そこでイメージローテータ２を停止させ、イメージローテータ２の角度を記憶させる。次に制御部２３は、光走査部６のＸ軸をその前後で移動させ、計測光を受光しているピクセルの光量の総和とＸ軸の各位置とからＸ軸の重心位置ＸＳＣを求める。次に制御部２３は、Ｘ軸の重心位置ＸＳＣに光走査部６のＸ軸を移動させ、ラインセンサＬが受光した各ピクセルの光量の重心位置ＹＣを計測光のＹ軸の中心位置として求める。以上により、計測光がラインセンサＬ上を通過するときの計測光の中心位置（ＸＳ−ＸＳＣ，ＹＣ）が求められる。制御部２３は、このように計測光のラインセンサＬ上の通過点（ＸＳ−ＸＳＣ，ＹＣ）を求めた後、光走査部６のＸ軸をＸＳの位置に戻す。以下、計測光がラインセンサＬを通過するときの計測光の中心位置の求め方は同様である。
【００３１】
次に、図４（ｃ）に示すように、制御部２３は、計測光Ｐ１の中心がラインセンサＬ上を２回通過した分の、計測光Ｐ１の中心がラインセンサＬ上を通過したときのイメージローテータ２の角度θ1、θ2と、計測光Ｐ１がラインセンサＬ上を通過するときの計測光Ｐ１の中心位置（ｘ1，ｙ1）、（ｘ2，ｙ2）とに基づいて、光走査部６のＸ軸をＸＳ移動させた状態におけるイメージローテータ２の回転中心位置ｒｃｓと、イメージローテータ２がラインセンサＬに対して計測光の配列を水平にしようとしたときの計測光Ｐ１の位置とを求める。なお、（ｘ1，ｙ1）＝（ＸＳ−ＸＳＣ，ＹＣ）である。同様に、制御部２３は、計測光Ｐ３の中心がラインセンサＬ上を２回通過した分の、計測光Ｐ３の中心がラインセンサＬ上を通過するときのイメージローテータ２の角度と、計測光Ｐ３がラインセンサＬ上を通過するときの計測光Ｐ３の中心位置とに基づいて、光走査部６のＸ軸をＸＳ移動させた状態におけるイメージローテータ２の回転中心位置ｒｃｓと、イメージローテータ２がラインセンサＬに対して計測光の配列を水平にしようとしたときの計測光Ｐ３の位置とを求める。
【００３２】
ここで、イメージローテータ２の回転中心位置ｒｃｓを用いてラインセンサＬに対して計測光の配列を水平にし、且つ、光走査部６のＸ軸をＸＳ移動させたときの計測光Ｐ１及びＰ３の位置をそれぞれ、Ｐ１ａ（Ｐ１ａｘ，Ｐ１ａｙ）、Ｐ３ａ（Ｐ３ａｘ，Ｐ３ａｙ）とする。なお、Ｐ１ａとＰ３ａとを結ぶ直線の傾きは、イメージローテータ２がラインセンサＬに対して計測光の配列を水平にしようとしたときの、ラインセンサＬに対する計測光の配列の傾きθlとなる。即ち、イメージローテータ２がラインセンサＬに対して計測光の配列を水平にしようとしたときのイメージローテータ２の角度を０度とすると、この傾きは、ラインセンサＬに対するイメージローテータ２の傾きと同じことを示す。
【００３３】
次に、図５を参照しながら、ラインセンサＬの垂直方向（Ｘ軸）に対する光走査部６のＸ軸の傾きと、各計測光間の位置関係と、その位置関係を考慮してイメージローテータ２がラインセンサＬに対して計測光の配列を水平にしようとしたときの、ラインセンサＬに対する計測光の配列の傾きとの求め方について説明する。
【００３４】
先ず、図５（ａ）に示すように、制御部２３は、イメージローテータ２を回転させ、計測光Ｐ１及びＰ３の配列がラインセンサＬに対して垂直になるようにする。即ち、制御部２３は、９０°から上記θlを差し引いた角度だけイメージローテータ２を回転させることにより、計測光Ｐ１及びＰ３の配列がラインセンサＬに対して垂直になるようにする。このときのイメージローテータ２の駆動残差角度α（ラインセンサＬの垂直方向（Ｘ軸）に対して不足したイメージローテータ２の回転角度）は、計測光Ｐ１及びＰ３の配列に対するラインセンサＬの垂直方向（Ｘ軸）の傾きとなる。
【００３５】
図５（ｂ）に示すように、制御部２３は、計測光Ｐ１とＰ３との間上にラインセンサＬがない位置まで光走査部６のＸ軸を移動させる。ここで制御部２３は、ラインセンサＬの方向に光走査部６のＸ軸を移動させる。そして制御部２３は、計測光Ｐ３の中心及び計測光Ｐ１の中心がラインセンサＬを通過したときのラインセンサＬ上の位置Ｐ３ｂｙ及びＰ１ｂｙと、そのときの光走査部６のＸ軸の位置Ｐ３ｂｘ及びＰ１ｂｘとから、ラインセンサＬの垂直方向（Ｘ軸）に対する光走査部６のＸ軸の傾きθxを求める。なお、イメージローテータ２の駆動残差角度αは微小であるため、θxは次の式によって求められる。
ｓｉｎ（θｘ）＝（（Ｐ１ｂｙ−Ｐ３ｂｙ）÷（Ｐ１ｂｘ−Ｐ３ｂｘ））−ｓｉｎα
【００３６】
制御部２３は、光走査部６をＸ軸側にスキャンして、計測光の中心がラインセンサＬ上を通る位置を求める際、光走査部６のＸ軸の各位置で受光したピクセルの総和の受光量を記憶する。次に制御部２３は、当該総和の受光量に対する重心位置を求め、これを光走査部６のＸ軸側における計測光の中心位置とする。なお、当該中心位置はラインセンサＬ上であるのでラインセンサＬのＸ軸の位置は０である。また、この位置でラインセンサＬが受光した各ピクセルの光量の重心位置を計測光のＹ軸の中心位置とすればよい。
【００３７】
計測光Ｐ１、Ｐ２及びＰ３の間の位置関係は、計測光Ｐ１の中心、計測光Ｐ２の中心及び計測光Ｐ３の中心がラインセンサＬを通過したときのラインセンサＬの座標上の位置Ｐ１ｂ（０，Ｐ１ｂｙ）、Ｐ２ｂ（０，Ｐ２ｂｙ）及びＰ３ｂ（０，Ｐ３ｂｙ）と、そのときの光走査部６のＸ軸の位置Ｐ１ｂｘ、Ｐ２ｂｘ及びＰ３ｂｘと、ラインセンサＬに対する光走査部６のＸ軸の傾きθxとにより求まる。ところで、イメージローテータ２の駆動残差角度αは微小である。従って、図５（ｃ）に示すように、光走査部６のＸ軸及びＹ軸を位置０としてイメージローテータ２が駆動残差角度α分駆動されたと仮定したとき(このときのイメージローテータ２の回転角度は９０°−θl)の計測光Ｐ１、Ｐ２及びＰ３の各位置Ｐ１Ｂ、Ｐ２Ｂ及びＰ３Ｂは、次の式によって求められる。
Ｐ１Ｂ＝Ｐ１ｂ＋（−Ｐ１ｂｘ×ｃｏｓθｘ，Ｐ１ｂｘ×（ｓｉｎα＋ｓｉｎθｘ））
Ｐ２Ｂ＝Ｐ２ｂ＋（−Ｐ２ｂｘ×ｃｏｓθｘ，Ｐ２ｂｘ×（ｓｉｎα＋ｓｉｎθｘ））
Ｐ３Ｂ＝Ｐ３ｂ＋（−Ｐ３ｂｘ×ｃｏｓθｘ，Ｐ３ｂｘ×（ｓｉｎα＋ｓｉｎθｘ））
【００３８】
図５（ｄ）は、イメージローテータ２の回転角度が０°であり、光走査部６のＸ軸及びＹ軸が０位置にあるときのラインセンサＬと計測光との位置関係と、そのときの計測光の配列の傾きとの求め方を示している。ここでのイメージローテータ２の回転中心位置は、光走査部６のＸ軸及びＹ軸の０位置としている。また、上述したように光走査部６のＸ軸を、ラインセンサＬのＸ軸方向にＸＳ移動させたときの回転中心位置はｒｃｓである。従って、光走査部６のＸ軸及びＹ軸が０位置にあるときのイメージローテータ２の回転中心位置ＲＣは、次の式によって求められる。
ＲＣ＝ｒｃｓ−（ＸＳ×ｃｏｓθｘ，ＸＳ×ｓｉｎθｘ）
【００３９】
次に制御部２３は、イメージローテータ２の角度を０°に戻す。即ち、制御部２３は図５（ｃ）に示す位置からイメージローテータ２をθl−９０°回転させる。そのときの計測光Ｐ１、Ｐ２及びＰ３の位置Ｐ１Ａ、Ｐ２Ａ及びＰ３Ａは、次の式によって求められる。
【００４０】
【数１】
【００４１】
ここで、制御部２３は、位置Ｐ１Ａ、Ｐ２Ａ及びＰ３Ａの近傍を通る直線を最小自乗法等で求める。そのラインセンサＬのＹ軸に対する傾きは、イメージローテータ２を回転させることによってラインセンサＬに対して計測光の配列を水平にしようとしたときの、ラインセンサＬに対する計測光全体の配列の傾きθＬとして求められる。
【００４２】
図６は、ラインセンサＬの垂直方向（Ｘ軸）に対する光走査部６のＸ軸の傾きと、各計測光間の位置関係との求め方を説明するための図であり、図５とは異なる方法を示している。
【００４３】
図６（ａ）に示すように、制御部２３は、ラインセンサＬに対して計測光の配列を水平にしようとしたときの位置にイメージローテータ２を回転させる。そして制御部２３は、ラインセンサＬから計測光Ｐ１と計測光Ｐ３との間隔の４分の１、即ちＸＳだけＸ軸方向へずらした位置に光走査部６のＸ軸を移動させる。このときイメージローテータ２を回転、光走査部６を駆動させるときには設計値により駆動量を決めればよい。ファイバ接続部３５、光走査部６及びイメージローテータ２各々の取り付け誤差、イメージローテータ２の回転方向の原点決め時の誤差を考慮する必要はない。即ち、このときの計測光Ｐ１の位置及び計測光Ｐ３の位置は、上述した処理で求めたＰ１ａ、Ｐ３ａとなる。
【００４４】
制御部２３は、ラインセンサＬの方向に光走査部６のＸ軸を移動させる。位置Ｐ１ａと、計測光Ｐ１の中心がラインセンサＬを通過したときの位置Ｐ１ｃ（０，ｐ１ｃｙ）とを結ぶ直線の傾きが、ラインセンサＬの垂直方向（Ｘ軸）に対する光走査部６のＸ軸の傾きにとして求められる。そのほか、ラインセンサＬの垂直方向（Ｘ軸）に対する光走査部６のＸ軸の傾きは、位置Ｐ３ａと、計測光Ｐ３の中心がラインセンサＬを通過したときの位置Ｐ３ｃとを結ぶ直線の傾きを求めることによって得てもよい。また、この位置Ｐ３ａと位置Ｐ３ｃとを結ぶ直線の傾きと、上述した位置Ｐ１ａと位置Ｐ１ｃとを結ぶ直線の傾きとの平均を求めることによって得てもよい。なお、図６（ａ）において、このラインセンサＬの垂直方向（Ｘ軸）に対する光走査部６のＸ軸の傾きの角度は、図５（ｂ）と同様にθxで表記してある。
【００４５】
計測光Ｐ１、Ｐ２及びＰ３の位置関係は、図６（ｂ）に示すように、計測光Ｐ１、Ｐ２及びＰ３の中心がラインセンサＬを通過したときのラインセンサＬ上の位置Ｐ１ｃ（０，Ｐ１ｃｙ）、Ｐ２ｃ（０，Ｐ２ｃｙ）及びＰ３ｃ（０，Ｐ３ｃｙ）と、そのときの光走査部６のＸ軸の位置Ｐ１ｃｘ、Ｐ２ｃｘ及びＰ３ｃｘとによって求められる。光走査部６のＸ軸の位置０としたときの計測光Ｐ１、Ｐ２及びＰ３の各位置Ｐ１Ａ、Ｐ２Ａ及びＰ３Ａは、次の式によって求められる。
Ｐ１Ａ＝Ｐ１ｃ−（Ｐ１ｃｘ×ｃｏｓθｘ，Ｐ１ｃｘ×ｓｉｎθｘ）
Ｐ２Ａ＝Ｐ２ｃ−（Ｐ２ｃｘ×ｃｏｓθｘ，Ｐ２ｃｘ×ｓｉｎθｘ）
Ｐ３Ａ＝Ｐ３ｃ−（Ｐ３ｃｘ×ｃｏｓθｘ，Ｐ３ｃｘ×ｓｉｎθｘ）
【００４６】
図６（ｃ）に示すように、制御部２３は、各位置Ｐ１Ａ、Ｐ２Ａ及びＰ３Ａを通る直線を最小自乗法等で求める。その直線のラインセンサＬのＹ軸に対する傾きが、ラインセンサＬに対して計測光の配列を水平にしようとしたときのラインセンサＬに対する計測光の配列全体の傾きθＬとして求められる。
【００４７】
次に制御部２３は、ラインセンサＬに対する光走査部６のＹ軸の傾きを求める。図７は、ラインセンサＬに対する光走査部６のＹ軸の傾きの求め方を説明するための図である。制御部２３は、光走査部６のＸ軸を０位置にして計測光Ｐ２がラインセンサＬの上部の近傍になる位置に光走査部６のＹ軸を移動させる。そして制御部２３は、光走査部６のＸ軸を移動させ、計測光Ｐ２の中心がラインセンサＬを通過する点を模索する。制御部２３は、計測光Ｐ２の中心がラインセンサＬを通過したときの光走査部６のＸ軸の位置Ｐ２ｕｌｘとそのときのラインセンサＬ上の計測光の位置Ｐ２ｕｌｙとから、光走査部６のＸ軸が０位置にあったときの計測光Ｐ２の位置Ｐｕ１を求める。ここでＰｕ１は次の式によって求められる。なお、θｘは、ラインセンサＬに対する光走査部６のＸ軸のずれである。
Ｐｕ１＝（−Ｐ２ｕｌｘ×ｃｏｓθｘ，Ｐ２ｕｌｙ×ｓｉｎθｘ）
【００４８】
次に制御部２３は、光走査部６のＸ軸を０位置にして計測光Ｐ２がラインセンサＬの下部の近傍になる位置に光走査部６のＹ軸を移動させる。そして制御部２３は、光走査部６のＸ軸を移動させ、計測光Ｐ２の中心がラインセンサＬを通過する点を模索する。制御部２３は、計測光Ｐ２の中心がラインセンサＬを通過したときの光走査部６のＸ軸の位置Ｐ２ｄｌｘとそのときのラインセンサＬ上の計測光の位置Ｐ２ｄｌｙとから、光走査部６のＸ軸が０位置にあったときの計測光Ｐ２の位置Ｐｄ１を求める。ここでＰｄ１は次の式によって求められる。なお、θｘは、ラインセンサＬに対する光走査部６のＸ軸のずれである。
Ｐ２ｄ＝（−Ｐ２ｄｌｘ×ｃｏｓθｘ，Ｐ２ｄｌｙ×ｓｉｎθｘ）
位置Ｐｕ１と位置Ｐｄ１とを結ぶ直線の傾きは、ラインセンサＬに対する光走査部６のＹ軸の傾き角度θｙとして求まる。
【００４９】
なお、光走査部６のＸ軸とＹ軸との垂直度は誤差が微小であり、このＸ軸に対する垂直度がずれることが構造的にないのであれば、θｘ＝θｙとして本計測を省いてもよい。
【００５０】
本実施形態では、受光部１０を一次元ＣＣＤラインセンサＬで構成しているが、２次元ＣＣＤで構成してもよく、２次元ＣＣＤに基準軸を設けて光走査部６を移動させ、各軸の角度誤差を計測し、各軸の補正量を求めてもよい。２次元ＣＣＤを用いた場合、イメージローテータ２等の計測光の配列の変更機構を駆動しなくとも、計測光の配列の傾きに対する光走査部６の軸の傾きを求めることができる。２次元ＣＣＤを用いて各計測光の中心位置を求めるには、計測光を受光したＣＣＤの各ピクセルの光量の重心位置を求めればよい。
【００５１】
以上のように、本実施形態においては、計測光を受光する受光部１０の位置を基準として、イメージローテータ２の回転中心位置のずれと、イメージローテータ２の位置に対する計測光の位置と、その位置から求まる計測光の配列の角度と、光走査部６の各軸の角度との位置関係を求めることが可能となる。求まった角度及び位置が設計値と異なる場合には、イメージローテータ２により計測光の配列の角度を補正することができる。またそれとともに、光走査部６によりイメージローテータ２の回転中心位置と計測光の配列の中心位置とを補正することができ、計測光を設計値の位置に近づけることが可能になる。
【００５２】
なお、上記計測位置は受光部１０の座標を基準としている。ミラー９が計測光路上になく、計測光が接眼レンズ７ｂ上に照射される位置と、ミラー９が計測光路上にあり、受光部１０に計測光が照射される位置とに対する関係を定義し、受光部１０の座標系を接眼レンズ７ｂの座標系と合わせる。これにより、上記計測位置を眼底８ｒ上の座標上の位置に補正することができる。
【００５３】
図８は、タンデムスキャン時における計測光の配列方向での光走査部６の補正方法を説明するための図である。タンデムスキャン時において、光走査部６を計測光の配列方向に走査させることにより、走査方向に対する計測光の幅を小さくすることが必要である。例えば図８（ａ）に示すように、制御部２３は、垂直にタンデムスキャンを行おうとすると、イメージローテータ２を−θＬ移動させる。ここで、イメージローテータ２の駆動分解能により−θＬに対して駆動残差角度θｄが生じた場合、計測光の配列自体がラインセンサＬに対してθｄ傾いていることになる。なお、駆動残差角度θｄが生じた状態とは、イメージローテータ２を−θＬだけ移動させようとしたが、実際には−θＬ−θｄだけしか移動しなかった状態である。従って、光走査部６がこのθｄに水平になるように計測光をスキャンすると、よりＳＮ比のよいタンデムスキャンを行うことができる。即ち、θｙ−θｄは、計測光の配列方向に対する光走査部６のＹ軸の角度であり、θｘ−θｄは、計測光の配列方向の垂直方向に対する光走査部６のＸ軸の角度である。従って、図８（ａ）に示すように、計測光の進行方向がＹ軸のプラス側である場合、配列方向θｄの角度に合わせて計測光を距離ｌ進めるためには、光走査部６のＸ軸及びＹ軸における距離に対して下記補正係数をかけた値だけ光走査部６を駆動させればよい。計測光の進行方向がＹ軸のマイナス側である場合、光走査部６を駆動させる値はマイナスの値をとる。また、このときＸ軸の補正係数は、θｙ−θｄがマイナスの値になった場合、下記Ｘ軸の補正係数に−１をかけた値がＸ軸の補正係数となる。
【００５４】
【数２】
【００５５】
光走査部６の各軸の走査量を補正すると、光走査部６の走査方向に対する各計測光の幅を小さくすることが可能となる。このθｄは、ラインセンサＬに対する計測光の配列の傾きである。従って、例えば図８（ｂ）に示すように、ラインセンサＬに対して角度θＴ傾けた角度でタンデムスキャンを行いたい場合、制御部２３は、イメージローテータ２をθＴ−θＬ移動させる。そのときの駆動残差角度をθＤとし、θｄをラインセンサＬに対する計測光の傾きとすると、次の式のように表され、計測光を１進めるための光走査部６の軸の補正量は、上記補正式を適応することが可能になる。
θｄ＝θＴ−θＬ−θＤ
【００５６】
なお、上記補正式は、θＴが±４５°内にない場合、ラインセンサＬに対して垂直方向を基準としてθｄを計算し、上記補正式のＸ軸とＹ軸とを入れ替えて補正係数を求めればよい。図８（ｃ）に示すように、計測光の進行方向がＸ軸のプラス側である場合、配列方向θｄの角度に合わせ、計測光を距離ｌ進めるためには、光走査部６へＸ軸とＹ軸との駆動軸に距離に対して下記補正係数をかけた値を駆動すればよい。進行方向がＸ軸のマイナス側であれば、距離はマイナス側の値をとる。また、このときＸ軸の補正係数は、θｘ−θｄがプラスの値になった場合、下記Ｙ軸の補正係数に−１をかけた値がＹ軸の補正係数となる。
【００５７】
【数３】
【００５８】
本実施形態では、ラインセンサＬをＹ軸の基準として、計測光の配列と、光走査部６の各軸の傾きの誤差角度とを計測し、各駆動物の補正量を求めている。但し、光走査部６のＸ軸、Ｙ軸又はイメージローテータ２の基準位置に対する計測光の配列の角度のどれかを基準として、当該基準に対する角度の誤差を計測し、各駆動部の補正量を求めてもよい。
【００５９】
以上のように、受光部１０が計測光を検出したときの計測光の位置及び光量と、イメージローテータ２の位置と、光走査部６との位置とに基づいて、計測光の位置と、計測光の配列の角度と、光走査部６の走査角度との位置関係が求められる。
【００６０】
上記位置関係から、計測光の配列に走査部６の走査方向を合わせることが可能になるため、組立時の調整に厳密な調整を行う必要がなく、計時変化や衝撃によるずれが発生しても、計測光の配列に対する光走査部の走査方向を補正することができる。従って、各計測光が作り出す走査方向に対する計測光の幅を小さくすることが可能となる。また、各計測光の位置関係を計測することができることにより、各計測光の設計値からずれているかがわかるので、ずれ分画像をずらすことで各光源が測定物の同じ測定箇所のデータ列を加算平均することが可能になる。これにより、タンデムスキャンでは高ＳＮ比の光断層画像を得ることが可能になる。
【００６１】
（第２の実施形態）
次に、本発明の第２の実施形態について説明する。図１（ｂ）は、本発明の第２の実施形態に係るＯＣＴ装置の構成を示す図である。ここでは、本実施形態に係るＯＣＴ装置として、フーリエドメイン方式の光干渉断層法を用いた撮像装置を例に挙げるものとする。第１の実施形態との違いは、ファイバ接続部３５と光走査部６との間に計測光の角度を変更させるイメージローテータ２が存在しないことである。臨床現場においては、目に対して水平方向の断層像をとる場合が多いので、ここでは、ファイバ接続部３５の計測光の配列は、水平で光ファイバ３４の各光源に対して図２（ａ）に示す配列（３５ａ、３５ｂ、３５ｃ）で固定されている。
【００６２】
本実施形態においては、計測光の配列状態を計測するため、ミラー９を計測光路上に配置する。光源１から照射された光はサンプルアーム１００１を通り、ミラー９を介して計測光として受光部１０に照射される。図１１は、受光部１０と各計測光の位置を示す図である。本実施形態では、受光部１０を一次元ラインセンサで構成した例について説明する。図１１において、直線部Ｌはラインセンサであり、Ｐ１、Ｐ２及びＰ３は計測光である。ここでは、ラインセンサＬをラインセンサ座標のＹ基準軸として取り扱う。装置が立ち上がり、各機器の初期駆動が終了し、ミラー９が計測光路上にあり、受光部１０に計測光が照射されるとき、図１１に示すように、設計上はラインセンサＬの中心と計測光の配列の中心とが一致しているものとする。
【００６３】
光走査部６の位置は、ラインセンサＬに対して計測光がある位置、即ち、各誤差を含まない設計上での計測光がラインセンサＬ上のマイナス座標側を照射するときの光走査部６の位置はマイナス位置である。なお、スケールはラインセンサＬと同じとする。
【００６４】
本実施形態では、計測光の配列を変更することができない。従って、計測光Ｐ１、Ｐ２及びＰ３の配列と光走査部６のＸ軸の傾き角度θｘとを求め、計測光の配列の傾きに光走査部６を補正することにより、計測光の配列の傾きに光走査部６の走査方向を合わせるようにする。
【００６５】
図１２は、計測光の配列に対する光走査部のＸの傾きの求め方を説明するための図である。制御部２３は、光走査部６のＸ軸を駆動し、計測光Ｐ１、Ｐ２及びＰ３間上にラインセンサＬがない位置まで移動させる。図１２（ａ）に示すように、制御部２３は、ラインセンサＬ方向に光走査部６のＸ軸を駆動させる。そして制御部２３は、計測光Ｐ１、Ｐ２及びＰ３の中心がラインセンサＬを通過したときのラインセンサ上の位置Ｐ１ｂ、Ｐ２ｂ及びＰ３ｂと、そのときの光走査部６のＸ軸の位置Ｐ１ｂｘ、Ｐ２ｂｘ及びＰ３ｂｘとを求める。
【００６６】
光走査部６でＸ軸側にスキャンをして計測光の中心がラインセンサＬ上を通る位置を求めるときは、スキャンして光走査部６のＸ軸の各位置で受光したピクセルの総和の受光量を覚えておく。そして、受光量に対する重心位置を求め、これをＸ側の計測光の中心位置（ラインセンサＬ上であるのでラインセンサ座標上のＸの位置は０）とし、この位置でラインセンサＬが受光した各ピクセルの光量の重心位置を計測光のＹ軸の中心位置とすればよい。ここで、Ｐ１ｂ＝（０，Ｐ１ｂｙ）；Ｐ２ｂ＝（０，Ｐ２ｂｙ）；Ｐ３ｂ＝（０，Ｐ３ｂｙ）；とし、計測光として離れているＰ１とＰ３とを取り上げて、計測光Ｐ１及びＰ３の配列に対する光走査部６のＸ軸の傾きとして角度θｘ１を求める。
ｔａｎ（θｘ１）＝（Ｐ３ｂｙ−Ｐ１ｂｙ）÷（Ｐ３ｂｘ−Ｐ１ｂｘ）
【００６７】
しかし、光走査部６が傾いていること等により、このθｘｑが１０°近傍と大きな値であった場合、ｃｏｓ誤差でも誤差が大きくなる。従って、例えば計測光Ｐ１とＰ３との距離が２ｍｍであるとき、このθｘ１の角度で補正すると、約５ｕｍ程、計測光の中心が補正された走査軸に対し幅を持つことになる。求める精度にもよるが、求まった角度θｘ１が大きい場合、図１２（ｂ）に示すように、光走査部６を角度θｘ１で補正した状態、即ち、光走査部６の走査方向を−θｘ１傾けて計測光の配列に近付けて再度、計測光Ｐ１及びＰ３に対する光走査部６の走査方向の傾きθｘ２を求めれば、十分な精度を得ることができる。ここで補正のための光走査部６の補正量の計算に使用する計測光の配列に対するＹ軸の傾きは、走査方向がＸ軸近傍であり、Ｙ軸傾きによる補正量の差が少ないため、０°でもよい。但し、θｘ１とした方が現実的なので、θｘ１として計算する。なお、後述の補正係数は、配列方向θｘ１の角度に合わせて計測光を進めるときの光走査部６のＸ軸及びＹ軸の駆動軸に対する補正係数であり、距離と後述の補正係数とをかけた値を計測光が距離ｌ移動するときのＸ軸及びＹ軸の各軸の駆動量とすればよい。計測光の進行方向がＸ軸のプラス側であれば、距離はプラスの値をとり、進行方向がＸ軸のマイナス側であれば、距離はマイナスの値をとる。また、このときＹ軸の補正係数は、θｘ１がプラスの値になった場合、上記Ｙ軸の係数に−１をかけた値となる。
【００６８】
【数４】
【００６９】
即ち、制御部２３は、この状態で再度光走査部６のＸ軸を駆動し、計測光Ｐ１、Ｐ２及びＰ３間上にラインセンサＬがない位置まで移動させる。図１２（ｂ）に示すように、制御部２３は、ラインセンサＬ方向に上記光走査部６をθｘ１の角度で補正した状態で光走査部６をＸ方向に駆動させる。そして制御部２３は、計測光Ｐ１、Ｐ２及びＰ３の中心がラインセンサＬを通過したときのラインセンサＬ上の位置Ｐ１ｂ、Ｐ２ｂ及びＰ３ｂと、そのときの光走査部６のＸ軸の位置Ｐ１ｂｘ、Ｐ２ｂｘ及びＰ３ｂｘとから、角度θｘ１で補正された走査軸の角度θｘ２を求める。角度θｘ１を求めたときと同様に、Ｐ１ｂ＝（０，Ｐ１ｂｙ）；Ｐ２ｂ＝（０，Ｐ２ｂｙ）；Ｐ３ｂ＝（０，Ｐ３ｂｙ）；とすると、角度θｘ２は次の式により求められる。
【００７０】
【数５】
【００７１】
光走査部６の位置が０のときの計測光Ｐ１、Ｐ２及びＰ３の位置Ｐ１Ｂ、Ｐ２Ｂ及びＰ３Ｂは、次の式により求められる。
【００７２】
【数６】
【００７３】
この位置Ｐ１Ｂ、Ｐ２Ｂ及びＰ３Ｂの近傍を通る直線を最小自乗法等で求めると、この直線の傾きの角度θｘ３が求まる。これにより、計測光の配列に対する光走査部６のＸ軸と傾きの角度θｘは、次の式により求められる。
θｘ＝θｘ１＋θｘ２−θｘ３
【００７４】
なお、本実施形態では、受光部１０を一次元ラインセンサＬで構成しているが、２次元ＣＣＤで構成してもよく、２次元ＣＣＤに基準軸を設けてＸ軸の角度誤差を計測し、各駆動軸の補正量を求めればよい。このとき、各計測光の中心位置を求めるには、求める計測光から受光した２次元ＣＣＤの各ピクセルの光量の重心位置を求めればよい。
【００７５】
また、受光部１０を２次元ＣＣＤで構成した場合、光走査部６を各軸単一に駆動し、そのときの光走査部の位置と受光部１０が計測した計測光の位置とにより、受光部１０に対する光走査部６のＸ軸の傾き及びＹ軸の傾きも求まる。
【００７６】
以上のように、計測光を受光する受光部１０の位置を基準とすることにより、光走査部６の走査方向に対する計測光の配列の位置と、その位置から求まる計測光の配列の光走査部６に対する角度とを求めることが可能となる。求まった位置が設計値と異なる場合には、光走査部６により計測光の配列の中心位置を補正でき、計測光を設計値の位置に近づけることが可能になる。
【００７７】
なお、上記計測位置は、受光部１０の座標を基準としているが、ミラー９が計測光路上になく、計測光が接眼レンズ７ｂ上に照射される位置と、ミラー９が計測光路上にあり、計測光が受光部１０に照射される位置とに対する関係を定義する。これにより、受光部１０の位置の座標系を接眼レンズ７ｂの座標系と合わせ、眼底８ｒ上の座標として位置の補正を行うことができる。
【００７８】
タンデムスキャンにおいて、光走査系の走査方向に対して各計測光が作り出す走査方向に対する計測光の幅を小さくすることが必要である。そのためには、計測光の配列の傾きに対して光走査系で走査方向を合わせることにより、走査方向に対する計測光の幅を小さくすることが可能になる。即ち、求まった計測光の配列に対する光走査部６のＸ軸と傾きの角度θｘを用い、光走査部６を次の式で補正することにより、計測光の配列に対して光走査部６の走査方向を合わすことができる。従って、光走査系の走査方向に対して各計測光が作り出す走査方向に対する計測光の幅を小さくすることができる。
【００７９】
【数７】
【００８０】
なお、この補正係数は、配列方向θｘの角度に合わせて計測光を進めるときの光走査部６のＸ軸及びＹ軸の駆動軸に対する補正係数であり、距離と上記記補正係数をかけた値を計測光が距離ｌ移動するときのＸ軸及びＹ軸の各軸の駆動量とすればよい。計測光の進行方向がＸ軸のプラス側である場合、距離はプラスの値をとり、進行方向がＸ軸のマイナス側であれば、距離はマイナスの値をとる。また、このときＹ軸の補正係数は、θｘがプラスの値になった場合、上記Ｙ軸の係数に−１をかけた値となる。
【００８１】
以上のように、受光部１０が計測光を検出したときの計測光の位置及び光量と、光走査部６の位置とにより、計測光の位置と、計測光の配列の角度と、光走査部６の走査角度との位置関係が求められる。
【００８２】
上記位置関係から、計測光の配列に走査部６の走査方向を合わせることが可能になるため、組立時の調整に厳密な調整を行う必要がなく、計時変化や衝撃によるずれが発生しても、計測光の配列に対する光走査部６の走査方向を補正することができる。従って、各計測光が作り出す走査方向に対する計測光の幅を小さくすることが可能になる。また、各計測光の位置関係を計測することにより、各計測光の設計値からずれている分がわかるので、ずれ分画像をずらすことで各光源が測定物の同じ測定箇所のデータ列を加算平均することが可能になる。これにより、タンデムスキャンでは高ＳＮ比の光断層画像を得ることが可能になる。
【００８３】
本実施形態では、ラインセンサＬをＹ軸の基準として、計測光の配列に対する光走査部６の各軸の傾きの誤差を計測し、各駆動物の補正量を求めている。但し、他の実施形態として、光走査部のＸ軸、Ｙ軸、又は計測光の配列の角度のどれかを基準として、当該基準に対する角度と位置との誤差を計測し、各駆動部の補正量を求めてもよい。
【００８４】
（第３の実施形態）
次に、本発明の第３の実施形態について説明する。図１３は、本発明の第３の実施形態に係るＯＣＴ装置の構成を示す図である。本実施形態においては、フーリエドメイン方式の光干渉断層法を用いた撮像装置を例に挙げる。第１の実施形態と第３の実施形態との違いは、受光部１０の代わりに検出体１１を眼底と光学的に等価な所とに設けていることにある。
【００８５】
検出体１１には、ミラー９が計測光路上に配置されることにより、接眼レンズ７ｃに計測光が照射され、検出体底部１１ｒの断層像を計測することが可能になる。この検出体１１は、図１４に示すような計測光を照射する位置によって検出される断層厚さが異なる帯を持つ。ここでファイバ接続部３５の計測光の配列は、水平で光ファイバ３４の各光源に対して図２（ａ）の３５ａ、３５ｂ及び３５ｃに示すように固定されているものとする。
【００８６】
第３の実施形態においては、計測光の配列状態を計測するために、ミラー９は計測光路上に配置される。光源１から照射された光はサンプルアーム１００１を通り、ミラー９を介して計測光として検出体１１に照射される。照射された計測光は、戻り光として参照光と合波されて分光器１００３に入射され、断層像を取得することが可能になる。
【００８７】
図１４は、検出体１１を示す図である。図１４に示すように、検出体１１は人眼に似せたものであり、水晶体の代わりにレンズ１１ａを持つ。計測光は、レンズ１１ａを介して、眼底部８ｒと光学的に同等なところにある検出体底部１１ｒとに結像し、戻り光として分光器１００３へ向かう。光走査部６は、レンズ１１ａの中心をピポットとして検出体底部１１ｒを走査する。検出体底部１１ｒは、ピポット部を中心とした球面を走査範囲において描いている。これにより、走査角度と検出体底部１１ｒの座標とが比例関係になり、計測光の入射位置の誤差による位置のずれも小さくなる。
【００８８】
また、図１４に示すように、検出体底部１１ｒには中央に断層像が検出される帯があり、この断層像の厚さは、帯の垂直方向に対して変化し、その断層像の厚さによって帯の垂直方向の位置を判断することができる。検出部１１は、直交する２つの帯１１ｖ及び１１ｆを十字にしたものであり、横に伸びた帯１１ｆの中央は、縦に伸びた帯１１ｖを横切る形になっており、中央の重なった部分は縦方向に断層像の厚さが変化しているものである。座標上縦の帯１１ｖはＹ軸の基準としており、この断層像は帯に垂直な方、即ちＸ軸方向に計測光が照射する位置が変化すると計測される断層像の厚さが異なり、厚さによって照射されたＸ方向の位置が一意に求まるものである。横の帯１１ｆにおいては、Ｙ方向に対して計測光が照射する位置によって断層像の厚さが変わり、厚さに対してＸ方向の位置が一意に求まるものである。よって、厚さ横の帯１１ｆは、厚さｔに対してＹ方向の位置Ｐｙが次のように求められる。
Ｐｙ＝ｆｙ（ｔ）
また、縦の帯１１ｖは、厚さｔに対してＸ方向の位置Ｐｘが次のように求められる。
Ｐｘ＝ｆｘ（ｔ）
【００８９】
本実施形態では、検出体に帯状の形状を使用している。これは、少量の計測光の位置の変化により計測する断層像の厚さの差を多くとることが可能であり、位置の分解能を上げることができる。
【００９０】
また、本実施形態では、検出体底部１１ｒはピポットを中心とした球面としているが、平面や眼球のように球状でピポットが水晶体の位置でもよく、その場合は走査角度に対する検出体底部１１ｒの位置を補正すればよい。
【００９１】
図１４において、Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３は計測光である。装置が立ち上がり各機器の初期駆動が終了し、ミラー９が計測光路上にあり、検出体１１に計測光が照射される場合、図１４に示すように、設計上は帯１１ｖ、１１ｆの中心と計測光の配列の中心とが一致しているものとする。光走査部６の位置は、検出体底部１１ｒに対して中央の計測光がある位置、即ち、各誤差を含まない設計上で中央の計測光が座標上のマイナス座標側を照射するときの光走査部６の位置は、マイナス位置としている。
【００９２】
また、本実施形態におけるイメージローテータ２は、通常半回転すると通過する光は回転するが、説明の便宜上、光の回転量をイメージローテータ２の回転量としている。イメージローテータ２は、計測光を横の帯１１ｆに対して水平になるようにしたときの角度を０°とし、反時計回りの方句をプラス方向とする。
【００９３】
先ず、制御部２３は、イメージローテータ２を０°の位置、即ち、計測光が設計上横の帯１１ｆに対し水平にし、横の帯１１ｆと光走査部６のＸ軸の走査方向との傾きと、計測光の配列の方向と光走査部６のＸ軸との傾きの概算を求める。
【００９４】
図１５は、検出体の横の帯１１ｆと計測光の配列と光走査部６の傾きとの求め方について説明するための図である。イメージローテータ２は０°の位置とする。図１５（ａ）に示すように、光走査部６のＸ軸及びＹ軸を中央に固定して横の帯１１ｆに計測光を照射する。制御部２３は、計測光Ｐ１及びＰ３の断層像を計測し、断層像の厚さから計測光Ｐ１及びＰ３のＹ方向の位置Ｐ１ａｙ及びＰ３ａｙを求める。ここで、計測光Ｐ１、Ｐ３の設計値上の位置を（ｐ１ａｘ，０）、（ｐ３ａｘ，０）θとすると、横の帯１１ｆと計測光Ｐ１及びＰ３の概算角度θ１は次の式で求められる。
ｓｉｎ（θ１）＝(Ｐ１ａｙ−Ｐ３ａｙ)÷（ｐ１ａｘ−ｐ３ａｘ）
【００９５】
横の帯１１ｆと光走査部６のＸ軸との傾きは、光走査部６のＸ軸を駆動して求められる。図１５（ｂ）に示すように、制御部２３は、上記状態のままで光走査部６のＸ軸を例えば(ｐ３ａｘ−ｐ１ａｘ)移動し、ここでの計測光Ｐ１の断層像を求め、断層像の厚さからこのときの１３のＹ方向の位置Ｐ１ｂｙを求める。これにより、横の帯１１ｆと光走査部６のＸ軸の傾きθｘは、次の式によって求められる。
ｓｉｎ（θｘ）＝（Ｐ１ｂｙ−Ｐ１ａｙ）÷（ｐ３ａｘ−ｐ１ａｘ）
また、計測光Ｐ１及びＰ３に対する光走査部６のＸ軸の走査方向の傾きの概算θ２は、次の式によって求められる。
θ２＝θｘ−θ１
【００９６】
次に、制御部２３は、縦の帯１１ｖと光走査部６のＹ軸の走査方向との傾きを求める。図１６は、縦の帯１１ｖと光走査部６のＹ軸の走査方向との傾きの求め方について説明するための図である。制御部２３は、光走査部６のＸ軸を中央に固定して、光走査部６のＹ軸に計測光Ｐ２を使用し、ＰＵ、ＰＤ近傍の断層像を計測する。ＰＵは縦の帯１１ｆの上部、ＰＤは縦の帯１１ｖの下部に位置し、双方Ｙ軸の中心にある。縦の帯１１ｖも横の帯１１ｆと同様に帯に垂直な方、即ち縦の帯１１ｖにおいてはＸ方向に対して計測光が照射する位置によって断層像の厚さが変わり、厚さに対し一意に位置が求まるものである。
【００９７】
ＰＵ、ＰＤ近傍での断層像の厚さから求まるＸ方句の位置をＰｕｘ、Ｐｄｘ、計測した時の光走査部６のＹ軸の位置をＰｕｙ、Ｐｄｙとすると、縦の帯１１ｖに対する光走査部６のＹ軸の走査方向の角度θｙは、次の式によって求められる。
Ｓｉｎ（θｙ)＝(Ｐｕｘ−Ｐｄｘ)÷（Ｐｕｙ−Ｐｄｙ）
【００９８】
次に、制御部２３は、計測光Ｐ１、Ｐ２及びＰ３間の距離を求める。図９は、計測光Ｐ１、Ｐ２及びＰ３の距離の求め方を説明するための図である。制御部２３は、光走査部６のＹ軸を中央からずらし、光走査部６のＸ軸を走査しても横の帯１１ｆに計測光が照射されない位置で、光走査部６のＸ軸が走査して計測光縦の帯１１ｖに計測光が照射される位置に移動させる。光走査部６の移動の際には、帯１１ｆ及び１１ｖと走査部６との角度θｘ及びθｙで補正して駆動される。そして制御部２３は、計測光Ｐ１、Ｐ２及びＰ３が縦の帯１１ｖ上の位置、例えばＰｃの位置になるように光走査部６を駆動する。即ち、Ｐｃの位置を（０，Ｐｃｙ）、計測光Ｐ１、Ｐ２及びＰ３の設計値の位置をそれぞれ（ｐ１ａｘ，０）、（ｐ２ａｘ，０）、（ｐ３ａｘ，０）とすると、計測光Ｐ１がＰｃ近傍の位置に照射するには光走査部６は検出体底部１１ｒの座標系で（−ｐ１ａｘ，Ｐｃｙ）の位置にある必要がある。これを光走査部６の座標系（Ｘ１，Ｙ１）に変換すると、次の式のようになる。制御部２３は、光走査部６をこの（Ｘ１，Ｙ１）の位置に駆動する。
【００９９】
【数８】
【０１００】
制御部２３は、この状態で計測光Ｐ１により断層像を計測し、求まった断層像の厚さｔｐ１から縦の帯１１ｖ上のＸ方向の位置Ｐ１ｄｘを求める。そして制御部２３は、この状態から前述で求めた計測光の概略の傾きθ１の方向に光走査軸をｐ１ａｘ−ｐ２ａｘだけ駆動する。即ち、制御部２３は、計測光Ｐ２がＰｃ上になるように駆動する。計測光Ｐ１で断層像を計測した状態から光走査部６を駆動することになる。ここで制御部２３は、計測光Ｐ２により断層像を計測し、求まった断層の厚さｔｐ２から縦の帯１１ｖ上のＸ方向の位置Ｐ２ｄｘを求める。
【０１０１】
【数９】
【０１０２】
同様に、制御部２３は、この状態から計測光Ｐ３をＰｃの位置に照射するように走査部６を計測光の概略の傾きθ1方向へｐ２ａｘ−ｐ３ａｘだけ駆動する。そして制御部２３は、計測光Ｐ３で断層像を計測し、求まった断層像の厚さｔｐ３から縦の帯１１ｖ上のＸ方向の位置Ｐ３ｄｘを求める。
【０１０３】
計測光Ｐ１及びＰ３を結ぶ方向の距離として、計測光Ｐ１及びＰ２間をｐ１２ｘｌ、計測光Ｐ２及びＰ３間の距離をｐ２３ｘｌ、計測光Ｐ１及びＰ３間の距離をｐ１３ｘｌとすると、次の式によって求められる。
Ｐ１２ｘｌ＝ｐ２ａｘ−ｐ１ａｘ−（（ｐ２ｄｘ−ｐ１ｄｘ）÷ｃｏｓθ１）
Ｐ２３ｘｌ＝ｐ３ａｘ−ｐ２ａｘ−（（ｐ３ｄｘ−ｐ２ｄｘ）÷ｃｏｓθ１）
Ｐ１３ｘｌ＝ｐ３ａｘ−ｐ１ａｘ−（（ｐ３ｄｘ−ｐ１ｄｘ）÷ｃｏｓθ１）
【０１０４】
図１０は、計測光の配列の求め方を説明するための図である。光走査部６を中心にし、横の帯１１ｆに計測光Ｐ１、Ｐ２及びＰ３を照射し、断層像を計測すると、計測光Ｐ１、Ｐ２及びＰ３が照射された位置の断層の厚さから求めた横の帯１１ｆに対するＸ方向の位置Ｐ１ｙａ、Ｐ２ｙａ及びＰ３ｙａから、計測光Ｐ１、Ｐ２及びＰ３は、横の帯１１ｆに対して次の位置関係を持ち、最少自乗法等で横の帯１１ｆに対する計測光の配列の角度θfが求まる。
（−Ｐ１２ｘｌ×ｃｏｓ（θ１２），Ｐ１ｙａ），（０，Ｐ２ｙａ），（Ｐ２３ｘｌ×ｃｏｓ（θ２３），Ｐ３ｙａ）
ここで、ｓｉｎ（θ１２）＝（Ｐ２ｙａ−Ｐ１ｙａ）÷Ｐ１２ｘｌ、ｓｉｎ（θ２３）＝（Ｐ３ｙａ−Ｐ２ｙａ）÷Ｐ２３ｘｌ
【０１０５】
これにより、Ｘ座標の基準となる横の帯１１ｆに対する光走査部６のＸ軸の傾きθｘ、Ｙ軸の基準となる縦の帯１１ｖに対する光走査部６のＹ軸の傾きθｙ、Ｘ座標の基準となる横の帯１１ｆに対するイメージローテータ２が横の帯１１ｆに対し計測光の配列を水平にしようとしたときの計測光の配列の傾きθｆが求まる。
【０１０６】
次に、イメージローテータ２の回転中心位置を求める。図１１は、イメージローテータ２の回転中心位置の求め方について説明するための図である。制御部２３は、光走査部６を中心位置にし、計測光Ｐ１を横の帯１１ｆ上にある位置になるようにイメージローテータ２を回転させる。ここで制御部２３は、計測光Ｐ１で断層像を計測し、断層像の厚さから計測光Ｐ１の横の帯１１ｆ上のＹ方向の位置ｐ１ｌｙを求める。制御部２３は、この状態からイメージローテータ２を１８０°回転させる。制御部２３は、計測光Ｐ１にて横の帯１１ｆの断層像を計測し、断層像の厚さから横の帯１１ｆ上のＹ方向の位置ｐ１ｒｙを求める。制御部２３は、この状態から計測光Ｐ１が縦の帯１１ｖの上部上になるようにイメージローテータ２を回転させる。制御部２３は、計測光Ｐ１にて断層像を計測し、断層像の厚さから縦の帯１１ｖ上のＸ方向の位置ｐ１ｕｘを求める。制御部２３は、この状態からイメージローテータ２を１８０°回転させる。制御部２３は、計測光Ｐ１にて縦の帯１１ｖの断層像を計測し、断層像の厚さから縦の帯１１ｖ上のｘ方向の位置ｐ１ｄｘを求める。イメージローテータ２の回転中心位置ＲＣは、次の式によって求められる。
ＲＣ＝（（ｐ１ｕｘ＋ｐ１ｄｘ）÷２，（ｐ１ｌｙ＋ｐ１ｒｙ）÷２）
【０１０７】
本実施形態では、計測光の配列の傾きを変更する機構であるイメージローテータ２を備えている。但し、上記実施形態において、イメージローテータ２を駆動しているのは、最初に計測光の配列を水平にするときと、本イメージローテータ２の回転中心位置を求めるときのみである。よって、計測光の配列の角度を変更する機構が無く、計測光の配列を横の帯１１ｆに固定している場合、イメージローテータ２の回転中心位置を求める工程を省けば計測光の配列の角度に対する光走査部６の走査軸の傾きを求めることができる。
【０１０８】
なお、上記計測位置は検出体底部１１ｒの座標を基準としているが、ミラー９が計測光路上になく、計測光が接眼レンズ７ｂ上に照射される位置と、ミラー９が計測光路上にあり、検出体底部１１ｒに計測光が照射されている位置に対する関係を定義する。これにより、受光体底部１１ｒの位置の座標系を接眼レンズ７ｂの座標系と合わせ、眼底８ｒ上の座標として位置の補正を行うことができる。
【０１０９】
以上のように、計測光によって照射される位置により、検出される断層像の厚さが変化し、その断層像の厚さによって基準軸となる方向に対し位置が求まる検出体１１を用いている。これにより、光走査部６の位置とそのときの計測された断層像の厚さに対応する検出体上の位置から、計測光の配列に対する走査部６の傾きを求めることができる。この傾きから計測光の配列に光走査部６の走査方向を合わせることが可能になるため、組立時の調整に厳密な調整を行う必要が無く、計時変化や衝撃によるずれが発生しても、計測光の配列に対する光走査部６の走査方向を補正することができる。従って、各計測光が作り出す走査方向に対する計測光の幅を小さくすることが可能となる。また、各計測光の位置関係が計測できることにより、各計測光の設計値からずれている分がわかるので、ずれ分画像をずらすことで各計測光が測定物の同じ測定箇所のデータ列を加算平均することが可能になる。これらのことにより、タンデムスキャンでは高ＳＮ比の光断層画像を得ることが可能になる。
【０１１０】
（第４の実施形態）
次に、本発明による第４の実施形態について説明する。図１３（ｂ）は、本発明の第４の実施形態に係わるＯＣＴ装置の構成を示す図である。本実施形態においては、フーリエドメイン方式の光干渉断層法を用いた撮像装置を例に挙げる。第１の実施形態との違いはサンプルアーム１００１に接続するファイバ接続部３５の代わりに、計測光の位置を駆動可能なファイバ接続部３６を設けていることである。図２（ｂ）は本実施形態でのファイバ接続部３６の構成を示す図であり、ファイバ接続部３６をファイバ端から見た図である。３６はサンプルアーム１００１に固定される。計測光は光ファイバ３４各々に対応するファイバ端３５ｉ、３５ｊ、３５ｋの配列でサンプルアーム１００１に入射される。ファイバ端３５ｉ、３５ｊ、３５ｋの位置は、駆動部３６ａ、３６ｂ、３６ｃにより図２（ｂ）における上下左右方向に位置の調整が可能で制御部２３の指示により駆動する。なお、ファイバ端は、それぞれの位置関係を独立に３次元方向に変更できるように構成されても良い。
【０１１１】
第１の実施形態において、光走査部６、イメージローテータ２を駆動し、その時のラインセンサＬに入射される計測光の位置により図５（ｄ）、図６（ｃ）で示すように、各計測光の位置Ｐ１Ａ，Ｐ２Ａ，Ｐ３Ａが求められる。本実施形態においては、この各計測光の位置から駆動部３６ａ、３６ｂ、３６ｃを駆動しファイバ端３５ｉ、３５ｊ、３５ｋの配列を設計上の位置へ計測光の位置を修正、又は直線状になるようにすることで、各計測光が作り出す走査方向に対する計測光の幅をより微小範囲に抑えることが可能になり、これらのことにより、タンデムスキャンでは高ＳＮ比の光断層画像を得ることが可能になる。本実施形態では３つの計測光を例としているので、３６ａ、３６ｂ、３６ｃ全てが駆動可能の必要はなく、少なくとも一つ駆動可能であればよい。
【０１１２】
本実施形態は第１の実施形態のファイバ接続部３５を計測光の配列位置を変更可能なファイバ接続部３６へ変更したものであるが、第２第３の実施形態も同様で、ファイバ接続部３５を計測光の配列位置を変更可能なファイバ接続部３６へ変更することにより計測光の位置を修正することが可能になる。第２の実施形態では数６で求まる計測光の位置Ｐ１Ｂ、Ｐ２Ｂ、Ｐ３Ｂを元に駆動部３６ａ、３６ｂ、３６ｃを駆動し、ファイバ端３５ｉ、３５ｊ、３５ｋの配列を設計上の位置へ計測光の位置を修正、又は直線状になるようにすることで、各計測光が作り出す走査方向に対する計測光の幅をより微小範囲に抑えることが可能になる。第３の実施形態では図１０で求まる計測光の位置Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３を元に駆動部３６ａ、３６ｂ、３６ｃを駆動し、ファイバ端３５ｉ、３５ｊ、３５ｋの配列を設計上の位置へ計測光の位置を修正、又は直線状になるようにすることで、各計測光が作り出す走査方向に対する計測光の幅をより微小範囲に抑えることが可能になる。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被検査物の断層像を取得する撮像装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、低コヒーレンス干渉計又は白色干渉計の技術を応用した光干渉断層撮像装置（ＯＣＴ（オプティカルコヒーレンストモグラフィー）装置）が実用化されている。ＯＣＴ装置は、医療分野、特に眼科領域において眼底網膜の断層像を得るために用いられている。ＯＣＴ装置は、光の性質を利用するため、光の波長のオーダーであるマイクロメートル程度の高分解能で測定することができる。ここで、測定信号の高い信号対雑音比（以下、ＳＮ比と称す）を確保し、高画質の断層像を得るためには、被測定物の同一位置の断層像を複数回に分けて取得し、それらを位置合わせした後に平均化し、加算平均する。これにより、ランダムノイズを相対的に小さくすることができ、断層像のＳＮ比を向上させている。しかし、医療分野において被測定物が生体である場合、例えば眼底測定においては非測定物である人眼は測定中にランダムに微動しているため、高速に測定を終えなければ測定像が歪んでしまうこととなる。
【０００３】
特許文献１には、複数の光源を用いて走査方向に計測光を並べて走査し、測定物の同じ測定箇所のデータ列を加算平均することにより高速化する方法が開示されている。なお、この方法はタンデムスキャンと呼ばれている。臨床現場では、病状により、横スキャン、縦スキャン、ラジアルスキャンと呼ばれる放射状のスキャン等、各種パターンのスキャンが求められる。複数の光源を持ち、横スキャン、縦スキャン、ラジアルスキャン等にタンデムスキャンを行うには、眼底への計測光の配列の角度を変更する必要がある。
【０００４】
タンデムスキャンで高ＳＮ比な画像を確保するには、各計測光は、走査方向に対してより平行な配列をとり、各計測光が作り出す走査方向に対する計測光の幅は、より微小範囲内に収める必要がある。近年より高分解能な画像を求めるために計測光の径を小さくし、高ＮＡの計測光にて撮像することが行われているが、それに伴って、計測光の配列は走査方向とより微小範囲内に収めることが求められる。そのため、光走査部の走査方向と計測光の配列方向との誤差を微小にしなければならないが、光走査部の走査方向と計測光の配列方向との誤差を微小にすることは、光走査部を駆動し、各計測光の位置関係を調整しなければならない。そのため、専門家による調整が必要となる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１０−１８８１１４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、光走査部はＯＣＴ装置の移動による振動等でずれることが多い。また、イメージローテータ等の計測光の配列の角度を変更する機構を備えた場合、ＯＣＴ装置の立ち上がり時にイメージローテータの基準位置を求めるセンサを用いてイメージローテータを所定の位置に導き、その位置を原点として計測光の配列の角度を整えている。但し、イメージローテータを所定の位置に導く際に位置のばらつきが生じる。そのため、走査方向と計測光の配列方向とのずれを微小範囲内に抑え、高ＳＮ比な画像を求めるためには、定期メンテナンスや、ＯＣＴ装置立ち上げ時に専門家による確認、調整が必要になるという問題があった。
【０００７】
そこで、本発明の目的は、計測光の配列に対する走査方向の幅を小さくし、高ＳＮ比な断層像を得ることにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明係る撮像装置は、複数の計測光を照射した被検査物からの複数の戻り光に基づいて、該被検査物の画像を取得する撮像装置であって、前記複数の計測光を走査する走査手段と、前記被検査物における前記複数の計測光の配列を検出する検出手段と、前記検出手段の検出結果に基づいて、前記走査手段の走査方向に対する前記配列を調整する配列調整手段と、を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、計測光の配列に対する走査方向の幅を小さくし、高ＳＮ比な断層像を得ることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】第１及び第２の実施形態に係る光干渉断層撮像装置の構成を示す図である。
【図２】光ファイバの配列を示す図である。
【図３】受光部と各計測光との位置関係を示す図である。
【図４】ラインセンサＬに対する計測光の配列の関係の求め方を説明するための図である。
【図５】ラインセンサＬに対する計測光の配列の傾きとの求め方について説明するための図である。
【図６】、ラインセンサＬの垂直方向（Ｘ軸）に対する光走査部６のＸ軸の傾きと、各計測光間の位置関係との求め方を説明するための図である。
【図７】ラインセンサＬに対する光走査部のＹ軸の傾きの求め方を説明するための図である。
【図８】タンデムスキャン時における計測光の配列方向での光走査部の補正方法を説明するための図である。
【図９】計測光Ｐ１、Ｐ２及びＰ３の距離の求め方を説明するための図である。
【図１０】計測光の配列の求め方を説明するための図である。
【図１１】イメージローテータ２の回転中心位置の求め方について説明するための図である。
【図１２】計測光の配列に対する光走査部のＸの傾きの求め方を説明するための図である。
【図１３】第３及び第４の実施形態に係る光干渉断層撮像装置の構成を示す図である。
【図１４】検出体を示す図である。
【図１５】検出体の横の帯と計測光の配列と光走査部の傾きとの求め方について説明するための図である。
【図１６】縦の帯と光走査部のＹ軸の走査方向との傾きの求め方について説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明を適用した好適な実施形態を、添付図面を参照しながら詳細に説明する。なお、本発明は、光干渉断層撮像装置以外にも、ＳＬＯ等の走査型の撮像装置（内視鏡を含む）であれば何でも良い。また、被検査物は、被検眼以外にも被検体の皮膚等でも良い。
【００１２】
（第１の実施形態）
先ず、本発明の第１の実施形態について説明する。図１（ａ）は、本発明の実施形態に係る光干渉断層撮像装置（以下、ＯＣＴ装置と称す）の構成を示す図である。本実施形態に係るＯＣＴ装置は、光源１、光分岐部３３、サンプルアーム１００１、参照アーム１００２、分光器１００３、制御部２３及び表示部２４を備える。光分岐部３３は、光ファイバ３２、３４、３９及び１４を介して、光源１、分光器１００３、サンプルアーム１００１及び参照アーム１００２とそれぞれ接続されている。なお、本実施形態のＯＣＴ装置は、光断層撮像装置の適用例となる構成である。
【００１３】
光源１は、低コヒーレンス光を発する光源である。ここで、光源１から射出された光（光束）は、光ファイバ３２を介して光分岐部３３に伝搬される。なお、光分岐部３３はファイバカプラ等で構成される。参照アーム１００２は、参照光学系として機能し、コリメータレンズ１２と参照ミラー１３とを具備する。参照アーム１００２には、光分岐部３３により光ファイバ３９側に分岐された光（以下、参照光と称す）が入射され、その光路上に上述した構成が設けられている。参照ミラー１３は、駆動部１３ａによる駆動力を受けて光軸方向に沿って移動する。これにより、眼軸長が異なる被検眼に対しても、参照光の光路長と後述する計測光の光路長とを一致させることができる。本実施形態では、光源１は３つの光源を持つものであり、光分岐部３３並びに光ファイバ３２、３４、３９及び１４は、３つの光源に対応して、それぞれ３つ設けられている。
【００１４】
サンプルアーム１００１は、撮像光学系として機能し、ファイバ接続部３５、イメージローテータ２、コリメータレンズ５及び光走査部６を備える。光分岐部３３により光ファイバ３４側に分岐された光（以下、計測光と称す）は、ファイバ接続部３５において、図２（ａ）に示すように光ファイバ３４の各々に対応して３５ａ、３５ｂ、３５ｃの配列で入射される。その光路上には、計測光の配列の角度を変更するためのイメージローテータ２が配置される。不図示の駆動装置によりイメージローテータ２が光路上で回転されることにより、計測光が回転され、計測光の配列の角度が変更される。
【００１５】
光走査部６には、コリメータレンズ５を介して計測光が入射される。なお、光走査部６は、タンデムに配置されたＸ方向及びＹ方向に計測光を走査させるガルバノミラーで構成される。計測光は、サンプルアーム１００１の光走査部６からコリメータレンズ７ａ及び接眼レンズ７ｂを介して被検眼８の眼底８ｒに対して走査される。なお、コリメータレンズ７ａと接眼レンズ７ｂとの間の計測光は、平行に照射される。
【００１６】
分光器１００３は、ファイバ接続部１５、コリメータレンズ１６、分光部１７、結像レンズ１８及び撮像部１９を備える。分光器１００３には、光分岐部３３から計測光（戻り光）と参照光（反射光）との合波が入射され、その光路上に上述した構成が設けられる。分光部１７は、光を回折により分光する機能を果たし、例えば、光の波長に近い寸法の回折格子（グレーティング、プリズム等）が等間隔に複数配置されている。
【００１７】
撮像部１９は、ラインセンサ（アレイ状に並んだ撮像素子（ＣＭＯＳ、ＣＣＤ等））で構成される。撮像部１９は、ラインセンサ上に各光源１に対する検出領域１９ａ、１９ｂ及び１９ｃを有し、入射した光の信号を別々に検出する。そして撮像部１９は、波長毎の強度に対応した信号を生成し、当該信号を制御部２３に向けて出力する。
【００１８】
ここで、眼底８ｒからの戻り光と参照ミラー１３からの反射光との合波光は、位相差を有する。この位相差は、光分岐部３３から眼底８ｒまでの光路長と、光分岐部３３から参照ミラー１３までの光路長との差に起因して生じる。そして、この位相差が波長により異なるため、検出領域１９ａ〜ｃ上に現れる分光強度分布には干渉縞が生じる。この強度分布（干渉縞）の周期を求めることにより、反射物体の位置に対応した明るさを求めることができる。
【００１９】
制御部２３は、例えば、ＣＰＵ（Central Processing Unit）、ＲＯＭ（Read Only Memory）、ＲＡＭ（Random Access Memory）等を備える。ＣＰＵがＲＯＭからプログラムをＲＡＭにロードして実行することにより、制御部２３はＯＣＴ装置における各部の動作を制御する。即ち、制御部２３は、例えばイメージローテータ２、光走査部６、駆動部１３ａ及び撮像部１９等の制御を行う。また制御部２３は、ＣＰＵがＲＯＭに格納されるプログラムを実行することにより、画像生成部２３１及び表示制御部２３２の機能を実現する。画像生成部２３１は、撮像部１９により検出された信号を解析又は演算し、被検査物である眼底８ｒの断層画像を生成する機能である。また、表示制御部２３２は、画像生成部２３１により生成された眼底の断層画像を表示部２４に表示させる機能である。計測光の走査の仕方は、撮像目的に応じて異なってくるが、例えば、計測光を１次方向に走査させることによりＢスキャン像を取得することができる。タンデムスキャンでは、イメージローテータ２で計測光の配列方向を光走査部６で走査する方向と一致させると、高ＳＮ比なＢスキャン像を得ることができる。なお、イメージローテータ２は、配列調整手段の例となる構成である。
【００２０】
コリメータレンズ７ａと接眼レンズ７ｂとの間のミラー９は、計測光路上と計測光路に干渉しない位置とに駆動可能である。眼底８ｒに対して計測光を走査させるときにはミラー９は計測光路に干渉しない位置に駆動される。受光部１０は、計測光を検出するものであり、一次元ＣＣＤラインセンサや２次元ＣＣＤ等で構成される。受光部１０は、ミラー９が計測光路上に配置されることにより、計測光を検出することができる。
【００２１】
制御部２３は、ミラー９及び受光部１０等も制御する。制御部２３は、受光部１０で検出された信号を受け、計測光の照射位置を演算し、イメージローテータ２と光走査部６と計測光との位置関係を算出する。なお、計測光の配列状態を計測する際には、ミラー９は計測光路上に配置される。光源１から照射された光は、サンプルアーム１００１を通り、ミラー９を介して計測光として受光部１０に照射される。
【００２２】
図３は、受光部１０と各計測光との位置関係を示す図である。なお、図３の例では、一次元ＣＣＤラインセンサ（以下、単にラインセンサと称す）を受光部１０として用いている。図３において、直線部Ｌはラインセンサであり、直線上に配置されたＰ１、Ｐ２及びＰ３は計測光である。ここではラインセンサＬの長手方向をラインセンサＬのＹ軸とし、その垂直方向をラインセンサＬのＸ軸とする。ＯＣＴ装置が立ち上がって各機器の初期駆動が終了し、ミラー９が計測光路上にあり、受光部１０に計測光が照射されるとき、図３に示すように、設計上はラインセンサＬの中心と計測光の配列の中心とが一致しているものとする。
【００２３】
光走査部６の位置は、ラインセンサＬに対して計測光がある位置となる。例えば、各誤差を含まない設計上において、中央の計測光Ｐ２がラインセンサＬ上のマイナス座標側を照射する場合、光走査部６の位置もマイナス座標側の位置となる。なお、スケールはラインセンサＬと同じとする。
【００２４】
また、イメージローテータ２は通常半回転すると、通過する光は回転するが、説明の便宜上、光の回転量をイメージローテータ２の回転量としている。また、計測光の配列をラインセンサＬに対して水平になるようにしたときのイメージローテータ２の角度を０°とし、反時計回りの方向をプラス方向とする。
【００２５】
先ず、制御部２３は、ラインセンサＬに対する計測光の配列の関係を調べる。ここでは、配列の両端である計測光Ｐ１と計測光Ｐ３とを結ぶ直線の傾きを計測光の配列の傾きとする。イメージローテータ２の回転により計測光の配列の傾きは変化する。従って、制御部２３は、イメージローテータ２が計測光の配列をラインセンサＬに対して水平にしようとしている回転中心位置を基準として、計測光Ｐ１と計測光Ｐ３とを結ぶ直線の傾きを求める。
【００２６】
図４は、ラインセンサＬに対する計測光の配列の関係の求め方を説明するための図である。本実施形態において、制御部２３は、イメージローテータ２が計測光の配列をラインセンサＬに対して水平にしようとしたときの、計測光の配列の誤差とイメージローテータ２の回転中心位置とを求める。
【００２７】
図４（ａ）に示すように、制御部２３は、設計値上で計測光の配列がラインセンサＬに対して水平になるような位置までイメージローテータ２を回転させ、ラインセンサＬ上から計測光Ｐ１と計測光Ｐ３との間隔の４分の１だけラインセンサＬのＸ軸方向に光走査部６のＸ軸をずらす。ここで光走査部６のＸ軸をずらした量をＸＳとすると、光走査部６の位置はラインセンサＬの座標系において（ＸＳ，０）となる。
【００２８】
ここでのイメージローテータ２の回転量と光走査部６のＸ軸の移動量とは設計値によって決定すればよい。従って、ファイバ接続部３５、光走査部６及びイメージローテータ２各々の取り付け誤差や、イメージローテータ２の回転方向の原点決め時の誤差等を考慮する必要はない。なお、光走査部６のＸ軸の移動量は、計算上及び説明上、都合のよい位置を選んでいるものであって、イメージローテータ２を回転させたとき、計測光Ｐ１及び計測光Ｐ３がラインセンサＬを通過する位置であればよい。但し、計測光Ｐ１と計測光Ｐ３との間隔の２分の１近傍の移動量は精度上好ましくない。
【００２９】
制御部２３は、この状態でイメージローテータ２を回転させ、計測光Ｐ１のラインセンサＬの通過点を２点求める。ここでは、計測光Ｐ１の中心がラインセンサＬ上を通過する点を、計測光Ｐ１が通過する点とする。例えば、計測光の口径が４０μｍ、ラインセンサＬの１ピクセルが５μｍ×５μｍ、光走査部６の移動最小量が１μｍであるような場合、ラインセンサＬの１ピクセルより光走査部６の分解能が高い。従って、計測光の光量が最大になる点を、計測光のラインセンサＬの通過点として探せばよい。
【００３０】
計測光がラインセンサＬ上を通過するときの計測光の中心位置の求め方の一つとしては、図４（ｂ）に示すように、制御部２３は、ラインセンサＬが計測光を検出するまでイメージローテータ２を回転させる。ラインセンサＬが計測光を検出すると、制御部２３は、そこでイメージローテータ２を停止させ、イメージローテータ２の角度を記憶させる。次に制御部２３は、光走査部６のＸ軸をその前後で移動させ、計測光を受光しているピクセルの光量の総和とＸ軸の各位置とからＸ軸の重心位置ＸＳＣを求める。次に制御部２３は、Ｘ軸の重心位置ＸＳＣに光走査部６のＸ軸を移動させ、ラインセンサＬが受光した各ピクセルの光量の重心位置ＹＣを計測光のＹ軸の中心位置として求める。以上により、計測光がラインセンサＬ上を通過するときの計測光の中心位置（ＸＳ−ＸＳＣ，ＹＣ）が求められる。制御部２３は、このように計測光のラインセンサＬ上の通過点（ＸＳ−ＸＳＣ，ＹＣ）を求めた後、光走査部６のＸ軸をＸＳの位置に戻す。以下、計測光がラインセンサＬを通過するときの計測光の中心位置の求め方は同様である。
【００３１】
次に、図４（ｃ）に示すように、制御部２３は、計測光Ｐ１の中心がラインセンサＬ上を２回通過した分の、計測光Ｐ１の中心がラインセンサＬ上を通過したときのイメージローテータ２の角度θ1、θ2と、計測光Ｐ１がラインセンサＬ上を通過するときの計測光Ｐ１の中心位置（ｘ1，ｙ1）、（ｘ2，ｙ2）とに基づいて、光走査部６のＸ軸をＸＳ移動させた状態におけるイメージローテータ２の回転中心位置ｒｃｓと、イメージローテータ２がラインセンサＬに対して計測光の配列を水平にしようとしたときの計測光Ｐ１の位置とを求める。なお、（ｘ1，ｙ1）＝（ＸＳ−ＸＳＣ，ＹＣ）である。同様に、制御部２３は、計測光Ｐ３の中心がラインセンサＬ上を２回通過した分の、計測光Ｐ３の中心がラインセンサＬ上を通過するときのイメージローテータ２の角度と、計測光Ｐ３がラインセンサＬ上を通過するときの計測光Ｐ３の中心位置とに基づいて、光走査部６のＸ軸をＸＳ移動させた状態におけるイメージローテータ２の回転中心位置ｒｃｓと、イメージローテータ２がラインセンサＬに対して計測光の配列を水平にしようとしたときの計測光Ｐ３の位置とを求める。
【００３２】
ここで、イメージローテータ２の回転中心位置ｒｃｓを用いてラインセンサＬに対して計測光の配列を水平にし、且つ、光走査部６のＸ軸をＸＳ移動させたときの計測光Ｐ１及びＰ３の位置をそれぞれ、Ｐ１ａ（Ｐ１ａｘ，Ｐ１ａｙ）、Ｐ３ａ（Ｐ３ａｘ，Ｐ３ａｙ）とする。なお、Ｐ１ａとＰ３ａとを結ぶ直線の傾きは、イメージローテータ２がラインセンサＬに対して計測光の配列を水平にしようとしたときの、ラインセンサＬに対する計測光の配列の傾きθlとなる。即ち、イメージローテータ２がラインセンサＬに対して計測光の配列を水平にしようとしたときのイメージローテータ２の角度を０度とすると、この傾きは、ラインセンサＬに対するイメージローテータ２の傾きと同じことを示す。
【００３３】
次に、図５を参照しながら、ラインセンサＬの垂直方向（Ｘ軸）に対する光走査部６のＸ軸の傾きと、各計測光間の位置関係と、その位置関係を考慮してイメージローテータ２がラインセンサＬに対して計測光の配列を水平にしようとしたときの、ラインセンサＬに対する計測光の配列の傾きとの求め方について説明する。
【００３４】
先ず、図５（ａ）に示すように、制御部２３は、イメージローテータ２を回転させ、計測光Ｐ１及びＰ３の配列がラインセンサＬに対して垂直になるようにする。即ち、制御部２３は、９０°から上記θlを差し引いた角度だけイメージローテータ２を回転させることにより、計測光Ｐ１及びＰ３の配列がラインセンサＬに対して垂直になるようにする。このときのイメージローテータ２の駆動残差角度α（ラインセンサＬの垂直方向（Ｘ軸）に対して不足したイメージローテータ２の回転角度）は、計測光Ｐ１及びＰ３の配列に対するラインセンサＬの垂直方向（Ｘ軸）の傾きとなる。
【００３５】
図５（ｂ）に示すように、制御部２３は、計測光Ｐ１とＰ３との間上にラインセンサＬがない位置まで光走査部６のＸ軸を移動させる。ここで制御部２３は、ラインセンサＬの方向に光走査部６のＸ軸を移動させる。そして制御部２３は、計測光Ｐ３の中心及び計測光Ｐ１の中心がラインセンサＬを通過したときのラインセンサＬ上の位置Ｐ３ｂｙ及びＰ１ｂｙと、そのときの光走査部６のＸ軸の位置Ｐ３ｂｘ及びＰ１ｂｘとから、ラインセンサＬの垂直方向（Ｘ軸）に対する光走査部６のＸ軸の傾きθxを求める。なお、イメージローテータ２の駆動残差角度αは微小であるため、θxは次の式によって求められる。
ｓｉｎ（θｘ）＝（（Ｐ１ｂｙ−Ｐ３ｂｙ）÷（Ｐ１ｂｘ−Ｐ３ｂｘ））−ｓｉｎα
【００３６】
制御部２３は、光走査部６をＸ軸側にスキャンして、計測光の中心がラインセンサＬ上を通る位置を求める際、光走査部６のＸ軸の各位置で受光したピクセルの総和の受光量を記憶する。次に制御部２３は、当該総和の受光量に対する重心位置を求め、これを光走査部６のＸ軸側における計測光の中心位置とする。なお、当該中心位置はラインセンサＬ上であるのでラインセンサＬのＸ軸の位置は０である。また、この位置でラインセンサＬが受光した各ピクセルの光量の重心位置を計測光のＹ軸の中心位置とすればよい。
【００３７】
計測光Ｐ１、Ｐ２及びＰ３の間の位置関係は、計測光Ｐ１の中心、計測光Ｐ２の中心及び計測光Ｐ３の中心がラインセンサＬを通過したときのラインセンサＬの座標上の位置Ｐ１ｂ（０，Ｐ１ｂｙ）、Ｐ２ｂ（０，Ｐ２ｂｙ）及びＰ３ｂ（０，Ｐ３ｂｙ）と、そのときの光走査部６のＸ軸の位置Ｐ１ｂｘ、Ｐ２ｂｘ及びＰ３ｂｘと、ラインセンサＬに対する光走査部６のＸ軸の傾きθxとにより求まる。ところで、イメージローテータ２の駆動残差角度αは微小である。従って、図５（ｃ）に示すように、光走査部６のＸ軸及びＹ軸を位置０としてイメージローテータ２が駆動残差角度α分駆動されたと仮定したとき(このときのイメージローテータ２の回転角度は９０°−θl)の計測光Ｐ１、Ｐ２及びＰ３の各位置Ｐ１Ｂ、Ｐ２Ｂ及びＰ３Ｂは、次の式によって求められる。
Ｐ１Ｂ＝Ｐ１ｂ＋（−Ｐ１ｂｘ×ｃｏｓθｘ，Ｐ１ｂｘ×（ｓｉｎα＋ｓｉｎθｘ））
Ｐ２Ｂ＝Ｐ２ｂ＋（−Ｐ２ｂｘ×ｃｏｓθｘ，Ｐ２ｂｘ×（ｓｉｎα＋ｓｉｎθｘ））
Ｐ３Ｂ＝Ｐ３ｂ＋（−Ｐ３ｂｘ×ｃｏｓθｘ，Ｐ３ｂｘ×（ｓｉｎα＋ｓｉｎθｘ））
【００３８】
図５（ｄ）は、イメージローテータ２の回転角度が０°であり、光走査部６のＸ軸及びＹ軸が０位置にあるときのラインセンサＬと計測光との位置関係と、そのときの計測光の配列の傾きとの求め方を示している。ここでのイメージローテータ２の回転中心位置は、光走査部６のＸ軸及びＹ軸の０位置としている。また、上述したように光走査部６のＸ軸を、ラインセンサＬのＸ軸方向にＸＳ移動させたときの回転中心位置はｒｃｓである。従って、光走査部６のＸ軸及びＹ軸が０位置にあるときのイメージローテータ２の回転中心位置ＲＣは、次の式によって求められる。
ＲＣ＝ｒｃｓ−（ＸＳ×ｃｏｓθｘ，ＸＳ×ｓｉｎθｘ）
【００３９】
次に制御部２３は、イメージローテータ２の角度を０°に戻す。即ち、制御部２３は図５（ｃ）に示す位置からイメージローテータ２をθl−９０°回転させる。そのときの計測光Ｐ１、Ｐ２及びＰ３の位置Ｐ１Ａ、Ｐ２Ａ及びＰ３Ａは、次の式によって求められる。
【００４０】
【数１】
【００４１】
ここで、制御部２３は、位置Ｐ１Ａ、Ｐ２Ａ及びＰ３Ａの近傍を通る直線を最小自乗法等で求める。そのラインセンサＬのＹ軸に対する傾きは、イメージローテータ２を回転させることによってラインセンサＬに対して計測光の配列を水平にしようとしたときの、ラインセンサＬに対する計測光全体の配列の傾きθＬとして求められる。
【００４２】
図６は、ラインセンサＬの垂直方向（Ｘ軸）に対する光走査部６のＸ軸の傾きと、各計測光間の位置関係との求め方を説明するための図であり、図５とは異なる方法を示している。
【００４３】
図６（ａ）に示すように、制御部２３は、ラインセンサＬに対して計測光の配列を水平にしようとしたときの位置にイメージローテータ２を回転させる。そして制御部２３は、ラインセンサＬから計測光Ｐ１と計測光Ｐ３との間隔の４分の１、即ちＸＳだけＸ軸方向へずらした位置に光走査部６のＸ軸を移動させる。このときイメージローテータ２を回転、光走査部６を駆動させるときには設計値により駆動量を決めればよい。ファイバ接続部３５、光走査部６及びイメージローテータ２各々の取り付け誤差、イメージローテータ２の回転方向の原点決め時の誤差を考慮する必要はない。即ち、このときの計測光Ｐ１の位置及び計測光Ｐ３の位置は、上述した処理で求めたＰ１ａ、Ｐ３ａとなる。
【００４４】
制御部２３は、ラインセンサＬの方向に光走査部６のＸ軸を移動させる。位置Ｐ１ａと、計測光Ｐ１の中心がラインセンサＬを通過したときの位置Ｐ１ｃ（０，ｐ１ｃｙ）とを結ぶ直線の傾きが、ラインセンサＬの垂直方向（Ｘ軸）に対する光走査部６のＸ軸の傾きにとして求められる。そのほか、ラインセンサＬの垂直方向（Ｘ軸）に対する光走査部６のＸ軸の傾きは、位置Ｐ３ａと、計測光Ｐ３の中心がラインセンサＬを通過したときの位置Ｐ３ｃとを結ぶ直線の傾きを求めることによって得てもよい。また、この位置Ｐ３ａと位置Ｐ３ｃとを結ぶ直線の傾きと、上述した位置Ｐ１ａと位置Ｐ１ｃとを結ぶ直線の傾きとの平均を求めることによって得てもよい。なお、図６（ａ）において、このラインセンサＬの垂直方向（Ｘ軸）に対する光走査部６のＸ軸の傾きの角度は、図５（ｂ）と同様にθxで表記してある。
【００４５】
計測光Ｐ１、Ｐ２及びＰ３の位置関係は、図６（ｂ）に示すように、計測光Ｐ１、Ｐ２及びＰ３の中心がラインセンサＬを通過したときのラインセンサＬ上の位置Ｐ１ｃ（０，Ｐ１ｃｙ）、Ｐ２ｃ（０，Ｐ２ｃｙ）及びＰ３ｃ（０，Ｐ３ｃｙ）と、そのときの光走査部６のＸ軸の位置Ｐ１ｃｘ、Ｐ２ｃｘ及びＰ３ｃｘとによって求められる。光走査部６のＸ軸の位置０としたときの計測光Ｐ１、Ｐ２及びＰ３の各位置Ｐ１Ａ、Ｐ２Ａ及びＰ３Ａは、次の式によって求められる。
Ｐ１Ａ＝Ｐ１ｃ−（Ｐ１ｃｘ×ｃｏｓθｘ，Ｐ１ｃｘ×ｓｉｎθｘ）
Ｐ２Ａ＝Ｐ２ｃ−（Ｐ２ｃｘ×ｃｏｓθｘ，Ｐ２ｃｘ×ｓｉｎθｘ）
Ｐ３Ａ＝Ｐ３ｃ−（Ｐ３ｃｘ×ｃｏｓθｘ，Ｐ３ｃｘ×ｓｉｎθｘ）
【００４６】
図６（ｃ）に示すように、制御部２３は、各位置Ｐ１Ａ、Ｐ２Ａ及びＰ３Ａを通る直線を最小自乗法等で求める。その直線のラインセンサＬのＹ軸に対する傾きが、ラインセンサＬに対して計測光の配列を水平にしようとしたときのラインセンサＬに対する計測光の配列全体の傾きθＬとして求められる。
【００４７】
次に制御部２３は、ラインセンサＬに対する光走査部６のＹ軸の傾きを求める。図７は、ラインセンサＬに対する光走査部６のＹ軸の傾きの求め方を説明するための図である。制御部２３は、光走査部６のＸ軸を０位置にして計測光Ｐ２がラインセンサＬの上部の近傍になる位置に光走査部６のＹ軸を移動させる。そして制御部２３は、光走査部６のＸ軸を移動させ、計測光Ｐ２の中心がラインセンサＬを通過する点を模索する。制御部２３は、計測光Ｐ２の中心がラインセンサＬを通過したときの光走査部６のＸ軸の位置Ｐ２ｕｌｘとそのときのラインセンサＬ上の計測光の位置Ｐ２ｕｌｙとから、光走査部６のＸ軸が０位置にあったときの計測光Ｐ２の位置Ｐｕ１を求める。ここでＰｕ１は次の式によって求められる。なお、θｘは、ラインセンサＬに対する光走査部６のＸ軸のずれである。
Ｐｕ１＝（−Ｐ２ｕｌｘ×ｃｏｓθｘ，Ｐ２ｕｌｙ×ｓｉｎθｘ）
【００４８】
次に制御部２３は、光走査部６のＸ軸を０位置にして計測光Ｐ２がラインセンサＬの下部の近傍になる位置に光走査部６のＹ軸を移動させる。そして制御部２３は、光走査部６のＸ軸を移動させ、計測光Ｐ２の中心がラインセンサＬを通過する点を模索する。制御部２３は、計測光Ｐ２の中心がラインセンサＬを通過したときの光走査部６のＸ軸の位置Ｐ２ｄｌｘとそのときのラインセンサＬ上の計測光の位置Ｐ２ｄｌｙとから、光走査部６のＸ軸が０位置にあったときの計測光Ｐ２の位置Ｐｄ１を求める。ここでＰｄ１は次の式によって求められる。なお、θｘは、ラインセンサＬに対する光走査部６のＸ軸のずれである。
Ｐ２ｄ＝（−Ｐ２ｄｌｘ×ｃｏｓθｘ，Ｐ２ｄｌｙ×ｓｉｎθｘ）
位置Ｐｕ１と位置Ｐｄ１とを結ぶ直線の傾きは、ラインセンサＬに対する光走査部６のＹ軸の傾き角度θｙとして求まる。
【００４９】
なお、光走査部６のＸ軸とＹ軸との垂直度は誤差が微小であり、このＸ軸に対する垂直度がずれることが構造的にないのであれば、θｘ＝θｙとして本計測を省いてもよい。
【００５０】
本実施形態では、受光部１０を一次元ＣＣＤラインセンサＬで構成しているが、２次元ＣＣＤで構成してもよく、２次元ＣＣＤに基準軸を設けて光走査部６を移動させ、各軸の角度誤差を計測し、各軸の補正量を求めてもよい。２次元ＣＣＤを用いた場合、イメージローテータ２等の計測光の配列の変更機構を駆動しなくとも、計測光の配列の傾きに対する光走査部６の軸の傾きを求めることができる。２次元ＣＣＤを用いて各計測光の中心位置を求めるには、計測光を受光したＣＣＤの各ピクセルの光量の重心位置を求めればよい。
【００５１】
以上のように、本実施形態においては、計測光を受光する受光部１０の位置を基準として、イメージローテータ２の回転中心位置のずれと、イメージローテータ２の位置に対する計測光の位置と、その位置から求まる計測光の配列の角度と、光走査部６の各軸の角度との位置関係を求めることが可能となる。求まった角度及び位置が設計値と異なる場合には、イメージローテータ２により計測光の配列の角度を補正することができる。またそれとともに、光走査部６によりイメージローテータ２の回転中心位置と計測光の配列の中心位置とを補正することができ、計測光を設計値の位置に近づけることが可能になる。
【００５２】
なお、上記計測位置は受光部１０の座標を基準としている。ミラー９が計測光路上になく、計測光が接眼レンズ７ｂ上に照射される位置と、ミラー９が計測光路上にあり、受光部１０に計測光が照射される位置とに対する関係を定義し、受光部１０の座標系を接眼レンズ７ｂの座標系と合わせる。これにより、上記計測位置を眼底８ｒ上の座標上の位置に補正することができる。
【００５３】
図８は、タンデムスキャン時における計測光の配列方向での光走査部６の補正方法を説明するための図である。タンデムスキャン時において、光走査部６を計測光の配列方向に走査させることにより、走査方向に対する計測光の幅を小さくすることが必要である。例えば図８（ａ）に示すように、制御部２３は、垂直にタンデムスキャンを行おうとすると、イメージローテータ２を−θＬ移動させる。ここで、イメージローテータ２の駆動分解能により−θＬに対して駆動残差角度θｄが生じた場合、計測光の配列自体がラインセンサＬに対してθｄ傾いていることになる。なお、駆動残差角度θｄが生じた状態とは、イメージローテータ２を−θＬだけ移動させようとしたが、実際には−θＬ−θｄだけしか移動しなかった状態である。従って、光走査部６がこのθｄに水平になるように計測光をスキャンすると、よりＳＮ比のよいタンデムスキャンを行うことができる。即ち、θｙ−θｄは、計測光の配列方向に対する光走査部６のＹ軸の角度であり、θｘ−θｄは、計測光の配列方向の垂直方向に対する光走査部６のＸ軸の角度である。従って、図８（ａ）に示すように、計測光の進行方向がＹ軸のプラス側である場合、配列方向θｄの角度に合わせて計測光を距離ｌ進めるためには、光走査部６のＸ軸及びＹ軸における距離に対して下記補正係数をかけた値だけ光走査部６を駆動させればよい。計測光の進行方向がＹ軸のマイナス側である場合、光走査部６を駆動させる値はマイナスの値をとる。また、このときＸ軸の補正係数は、θｙ−θｄがマイナスの値になった場合、下記Ｘ軸の補正係数に−１をかけた値がＸ軸の補正係数となる。
【００５４】
【数２】
【００５５】
光走査部６の各軸の走査量を補正すると、光走査部６の走査方向に対する各計測光の幅を小さくすることが可能となる。このθｄは、ラインセンサＬに対する計測光の配列の傾きである。従って、例えば図８（ｂ）に示すように、ラインセンサＬに対して角度θＴ傾けた角度でタンデムスキャンを行いたい場合、制御部２３は、イメージローテータ２をθＴ−θＬ移動させる。そのときの駆動残差角度をθＤとし、θｄをラインセンサＬに対する計測光の傾きとすると、次の式のように表され、計測光を１進めるための光走査部６の軸の補正量は、上記補正式を適応することが可能になる。
θｄ＝θＴ−θＬ−θＤ
【００５６】
なお、上記補正式は、θＴが±４５°内にない場合、ラインセンサＬに対して垂直方向を基準としてθｄを計算し、上記補正式のＸ軸とＹ軸とを入れ替えて補正係数を求めればよい。図８（ｃ）に示すように、計測光の進行方向がＸ軸のプラス側である場合、配列方向θｄの角度に合わせ、計測光を距離ｌ進めるためには、光走査部６へＸ軸とＹ軸との駆動軸に距離に対して下記補正係数をかけた値を駆動すればよい。進行方向がＸ軸のマイナス側であれば、距離はマイナス側の値をとる。また、このときＸ軸の補正係数は、θｘ−θｄがプラスの値になった場合、下記Ｙ軸の補正係数に−１をかけた値がＹ軸の補正係数となる。
【００５７】
【数３】
【００５８】
本実施形態では、ラインセンサＬをＹ軸の基準として、計測光の配列と、光走査部６の各軸の傾きの誤差角度とを計測し、各駆動物の補正量を求めている。但し、光走査部６のＸ軸、Ｙ軸又はイメージローテータ２の基準位置に対する計測光の配列の角度のどれかを基準として、当該基準に対する角度の誤差を計測し、各駆動部の補正量を求めてもよい。
【００５９】
以上のように、受光部１０が計測光を検出したときの計測光の位置及び光量と、イメージローテータ２の位置と、光走査部６との位置とに基づいて、計測光の位置と、計測光の配列の角度と、光走査部６の走査角度との位置関係が求められる。
【００６０】
上記位置関係から、計測光の配列に走査部６の走査方向を合わせることが可能になるため、組立時の調整に厳密な調整を行う必要がなく、計時変化や衝撃によるずれが発生しても、計測光の配列に対する光走査部の走査方向を補正することができる。従って、各計測光が作り出す走査方向に対する計測光の幅を小さくすることが可能となる。また、各計測光の位置関係を計測することができることにより、各計測光の設計値からずれているかがわかるので、ずれ分画像をずらすことで各光源が測定物の同じ測定箇所のデータ列を加算平均することが可能になる。これにより、タンデムスキャンでは高ＳＮ比の光断層画像を得ることが可能になる。
【００６１】
（第２の実施形態）
次に、本発明の第２の実施形態について説明する。図１（ｂ）は、本発明の第２の実施形態に係るＯＣＴ装置の構成を示す図である。ここでは、本実施形態に係るＯＣＴ装置として、フーリエドメイン方式の光干渉断層法を用いた撮像装置を例に挙げるものとする。第１の実施形態との違いは、ファイバ接続部３５と光走査部６との間に計測光の角度を変更させるイメージローテータ２が存在しないことである。臨床現場においては、目に対して水平方向の断層像をとる場合が多いので、ここでは、ファイバ接続部３５の計測光の配列は、水平で光ファイバ３４の各光源に対して図２（ａ）に示す配列（３５ａ、３５ｂ、３５ｃ）で固定されている。
【００６２】
本実施形態においては、計測光の配列状態を計測するため、ミラー９を計測光路上に配置する。光源１から照射された光はサンプルアーム１００１を通り、ミラー９を介して計測光として受光部１０に照射される。図１１は、受光部１０と各計測光の位置を示す図である。本実施形態では、受光部１０を一次元ラインセンサで構成した例について説明する。図１１において、直線部Ｌはラインセンサであり、Ｐ１、Ｐ２及びＰ３は計測光である。ここでは、ラインセンサＬをラインセンサ座標のＹ基準軸として取り扱う。装置が立ち上がり、各機器の初期駆動が終了し、ミラー９が計測光路上にあり、受光部１０に計測光が照射されるとき、図１１に示すように、設計上はラインセンサＬの中心と計測光の配列の中心とが一致しているものとする。
【００６３】
光走査部６の位置は、ラインセンサＬに対して計測光がある位置、即ち、各誤差を含まない設計上での計測光がラインセンサＬ上のマイナス座標側を照射するときの光走査部６の位置はマイナス位置である。なお、スケールはラインセンサＬと同じとする。
【００６４】
本実施形態では、計測光の配列を変更することができない。従って、計測光Ｐ１、Ｐ２及びＰ３の配列と光走査部６のＸ軸の傾き角度θｘとを求め、計測光の配列の傾きに光走査部６を補正することにより、計測光の配列の傾きに光走査部６の走査方向を合わせるようにする。
【００６５】
図１２は、計測光の配列に対する光走査部のＸの傾きの求め方を説明するための図である。制御部２３は、光走査部６のＸ軸を駆動し、計測光Ｐ１、Ｐ２及びＰ３間上にラインセンサＬがない位置まで移動させる。図１２（ａ）に示すように、制御部２３は、ラインセンサＬ方向に光走査部６のＸ軸を駆動させる。そして制御部２３は、計測光Ｐ１、Ｐ２及びＰ３の中心がラインセンサＬを通過したときのラインセンサ上の位置Ｐ１ｂ、Ｐ２ｂ及びＰ３ｂと、そのときの光走査部６のＸ軸の位置Ｐ１ｂｘ、Ｐ２ｂｘ及びＰ３ｂｘとを求める。
【００６６】
光走査部６でＸ軸側にスキャンをして計測光の中心がラインセンサＬ上を通る位置を求めるときは、スキャンして光走査部６のＸ軸の各位置で受光したピクセルの総和の受光量を覚えておく。そして、受光量に対する重心位置を求め、これをＸ側の計測光の中心位置（ラインセンサＬ上であるのでラインセンサ座標上のＸの位置は０）とし、この位置でラインセンサＬが受光した各ピクセルの光量の重心位置を計測光のＹ軸の中心位置とすればよい。ここで、Ｐ１ｂ＝（０，Ｐ１ｂｙ）；Ｐ２ｂ＝（０，Ｐ２ｂｙ）；Ｐ３ｂ＝（０，Ｐ３ｂｙ）；とし、計測光として離れているＰ１とＰ３とを取り上げて、計測光Ｐ１及びＰ３の配列に対する光走査部６のＸ軸の傾きとして角度θｘ１を求める。
ｔａｎ（θｘ１）＝（Ｐ３ｂｙ−Ｐ１ｂｙ）÷（Ｐ３ｂｘ−Ｐ１ｂｘ）
【００６７】
しかし、光走査部６が傾いていること等により、このθｘｑが１０°近傍と大きな値であった場合、ｃｏｓ誤差でも誤差が大きくなる。従って、例えば計測光Ｐ１とＰ３との距離が２ｍｍであるとき、このθｘ１の角度で補正すると、約５ｕｍ程、計測光の中心が補正された走査軸に対し幅を持つことになる。求める精度にもよるが、求まった角度θｘ１が大きい場合、図１２（ｂ）に示すように、光走査部６を角度θｘ１で補正した状態、即ち、光走査部６の走査方向を−θｘ１傾けて計測光の配列に近付けて再度、計測光Ｐ１及びＰ３に対する光走査部６の走査方向の傾きθｘ２を求めれば、十分な精度を得ることができる。ここで補正のための光走査部６の補正量の計算に使用する計測光の配列に対するＹ軸の傾きは、走査方向がＸ軸近傍であり、Ｙ軸傾きによる補正量の差が少ないため、０°でもよい。但し、θｘ１とした方が現実的なので、θｘ１として計算する。なお、後述の補正係数は、配列方向θｘ１の角度に合わせて計測光を進めるときの光走査部６のＸ軸及びＹ軸の駆動軸に対する補正係数であり、距離と後述の補正係数とをかけた値を計測光が距離ｌ移動するときのＸ軸及びＹ軸の各軸の駆動量とすればよい。計測光の進行方向がＸ軸のプラス側であれば、距離はプラスの値をとり、進行方向がＸ軸のマイナス側であれば、距離はマイナスの値をとる。また、このときＹ軸の補正係数は、θｘ１がプラスの値になった場合、上記Ｙ軸の係数に−１をかけた値となる。
【００６８】
【数４】
【００６９】
即ち、制御部２３は、この状態で再度光走査部６のＸ軸を駆動し、計測光Ｐ１、Ｐ２及びＰ３間上にラインセンサＬがない位置まで移動させる。図１２（ｂ）に示すように、制御部２３は、ラインセンサＬ方向に上記光走査部６をθｘ１の角度で補正した状態で光走査部６をＸ方向に駆動させる。そして制御部２３は、計測光Ｐ１、Ｐ２及びＰ３の中心がラインセンサＬを通過したときのラインセンサＬ上の位置Ｐ１ｂ、Ｐ２ｂ及びＰ３ｂと、そのときの光走査部６のＸ軸の位置Ｐ１ｂｘ、Ｐ２ｂｘ及びＰ３ｂｘとから、角度θｘ１で補正された走査軸の角度θｘ２を求める。角度θｘ１を求めたときと同様に、Ｐ１ｂ＝（０，Ｐ１ｂｙ）；Ｐ２ｂ＝（０，Ｐ２ｂｙ）；Ｐ３ｂ＝（０，Ｐ３ｂｙ）；とすると、角度θｘ２は次の式により求められる。
【００７０】
【数５】
【００７１】
光走査部６の位置が０のときの計測光Ｐ１、Ｐ２及びＰ３の位置Ｐ１Ｂ、Ｐ２Ｂ及びＰ３Ｂは、次の式により求められる。
【００７２】
【数６】
【００７３】
この位置Ｐ１Ｂ、Ｐ２Ｂ及びＰ３Ｂの近傍を通る直線を最小自乗法等で求めると、この直線の傾きの角度θｘ３が求まる。これにより、計測光の配列に対する光走査部６のＸ軸と傾きの角度θｘは、次の式により求められる。
θｘ＝θｘ１＋θｘ２−θｘ３
【００７４】
なお、本実施形態では、受光部１０を一次元ラインセンサＬで構成しているが、２次元ＣＣＤで構成してもよく、２次元ＣＣＤに基準軸を設けてＸ軸の角度誤差を計測し、各駆動軸の補正量を求めればよい。このとき、各計測光の中心位置を求めるには、求める計測光から受光した２次元ＣＣＤの各ピクセルの光量の重心位置を求めればよい。
【００７５】
また、受光部１０を２次元ＣＣＤで構成した場合、光走査部６を各軸単一に駆動し、そのときの光走査部の位置と受光部１０が計測した計測光の位置とにより、受光部１０に対する光走査部６のＸ軸の傾き及びＹ軸の傾きも求まる。
【００７６】
以上のように、計測光を受光する受光部１０の位置を基準とすることにより、光走査部６の走査方向に対する計測光の配列の位置と、その位置から求まる計測光の配列の光走査部６に対する角度とを求めることが可能となる。求まった位置が設計値と異なる場合には、光走査部６により計測光の配列の中心位置を補正でき、計測光を設計値の位置に近づけることが可能になる。
【００７７】
なお、上記計測位置は、受光部１０の座標を基準としているが、ミラー９が計測光路上になく、計測光が接眼レンズ７ｂ上に照射される位置と、ミラー９が計測光路上にあり、計測光が受光部１０に照射される位置とに対する関係を定義する。これにより、受光部１０の位置の座標系を接眼レンズ７ｂの座標系と合わせ、眼底８ｒ上の座標として位置の補正を行うことができる。
【００７８】
タンデムスキャンにおいて、光走査系の走査方向に対して各計測光が作り出す走査方向に対する計測光の幅を小さくすることが必要である。そのためには、計測光の配列の傾きに対して光走査系で走査方向を合わせることにより、走査方向に対する計測光の幅を小さくすることが可能になる。即ち、求まった計測光の配列に対する光走査部６のＸ軸と傾きの角度θｘを用い、光走査部６を次の式で補正することにより、計測光の配列に対して光走査部６の走査方向を合わすことができる。従って、光走査系の走査方向に対して各計測光が作り出す走査方向に対する計測光の幅を小さくすることができる。
【００７９】
【数７】
【００８０】
なお、この補正係数は、配列方向θｘの角度に合わせて計測光を進めるときの光走査部６のＸ軸及びＹ軸の駆動軸に対する補正係数であり、距離と上記記補正係数をかけた値を計測光が距離ｌ移動するときのＸ軸及びＹ軸の各軸の駆動量とすればよい。計測光の進行方向がＸ軸のプラス側である場合、距離はプラスの値をとり、進行方向がＸ軸のマイナス側であれば、距離はマイナスの値をとる。また、このときＹ軸の補正係数は、θｘがプラスの値になった場合、上記Ｙ軸の係数に−１をかけた値となる。
【００８１】
以上のように、受光部１０が計測光を検出したときの計測光の位置及び光量と、光走査部６の位置とにより、計測光の位置と、計測光の配列の角度と、光走査部６の走査角度との位置関係が求められる。
【００８２】
上記位置関係から、計測光の配列に走査部６の走査方向を合わせることが可能になるため、組立時の調整に厳密な調整を行う必要がなく、計時変化や衝撃によるずれが発生しても、計測光の配列に対する光走査部６の走査方向を補正することができる。従って、各計測光が作り出す走査方向に対する計測光の幅を小さくすることが可能になる。また、各計測光の位置関係を計測することにより、各計測光の設計値からずれている分がわかるので、ずれ分画像をずらすことで各光源が測定物の同じ測定箇所のデータ列を加算平均することが可能になる。これにより、タンデムスキャンでは高ＳＮ比の光断層画像を得ることが可能になる。
【００８３】
本実施形態では、ラインセンサＬをＹ軸の基準として、計測光の配列に対する光走査部６の各軸の傾きの誤差を計測し、各駆動物の補正量を求めている。但し、他の実施形態として、光走査部のＸ軸、Ｙ軸、又は計測光の配列の角度のどれかを基準として、当該基準に対する角度と位置との誤差を計測し、各駆動部の補正量を求めてもよい。
【００８４】
（第３の実施形態）
次に、本発明の第３の実施形態について説明する。図１３は、本発明の第３の実施形態に係るＯＣＴ装置の構成を示す図である。本実施形態においては、フーリエドメイン方式の光干渉断層法を用いた撮像装置を例に挙げる。第１の実施形態と第３の実施形態との違いは、受光部１０の代わりに検出体１１を眼底と光学的に等価な所とに設けていることにある。
【００８５】
検出体１１には、ミラー９が計測光路上に配置されることにより、接眼レンズ７ｃに計測光が照射され、検出体底部１１ｒの断層像を計測することが可能になる。この検出体１１は、図１４に示すような計測光を照射する位置によって検出される断層厚さが異なる帯を持つ。ここでファイバ接続部３５の計測光の配列は、水平で光ファイバ３４の各光源に対して図２（ａ）の３５ａ、３５ｂ及び３５ｃに示すように固定されているものとする。
【００８６】
第３の実施形態においては、計測光の配列状態を計測するために、ミラー９は計測光路上に配置される。光源１から照射された光はサンプルアーム１００１を通り、ミラー９を介して計測光として検出体１１に照射される。照射された計測光は、戻り光として参照光と合波されて分光器１００３に入射され、断層像を取得することが可能になる。
【００８７】
図１４は、検出体１１を示す図である。図１４に示すように、検出体１１は人眼に似せたものであり、水晶体の代わりにレンズ１１ａを持つ。計測光は、レンズ１１ａを介して、眼底部８ｒと光学的に同等なところにある検出体底部１１ｒとに結像し、戻り光として分光器１００３へ向かう。光走査部６は、レンズ１１ａの中心をピポットとして検出体底部１１ｒを走査する。検出体底部１１ｒは、ピポット部を中心とした球面を走査範囲において描いている。これにより、走査角度と検出体底部１１ｒの座標とが比例関係になり、計測光の入射位置の誤差による位置のずれも小さくなる。
【００８８】
また、図１４に示すように、検出体底部１１ｒには中央に断層像が検出される帯があり、この断層像の厚さは、帯の垂直方向に対して変化し、その断層像の厚さによって帯の垂直方向の位置を判断することができる。検出部１１は、直交する２つの帯１１ｖ及び１１ｆを十字にしたものであり、横に伸びた帯１１ｆの中央は、縦に伸びた帯１１ｖを横切る形になっており、中央の重なった部分は縦方向に断層像の厚さが変化しているものである。座標上縦の帯１１ｖはＹ軸の基準としており、この断層像は帯に垂直な方、即ちＸ軸方向に計測光が照射する位置が変化すると計測される断層像の厚さが異なり、厚さによって照射されたＸ方向の位置が一意に求まるものである。横の帯１１ｆにおいては、Ｙ方向に対して計測光が照射する位置によって断層像の厚さが変わり、厚さに対してＸ方向の位置が一意に求まるものである。よって、厚さ横の帯１１ｆは、厚さｔに対してＹ方向の位置Ｐｙが次のように求められる。
Ｐｙ＝ｆｙ（ｔ）
また、縦の帯１１ｖは、厚さｔに対してＸ方向の位置Ｐｘが次のように求められる。
Ｐｘ＝ｆｘ（ｔ）
【００８９】
本実施形態では、検出体に帯状の形状を使用している。これは、少量の計測光の位置の変化により計測する断層像の厚さの差を多くとることが可能であり、位置の分解能を上げることができる。
【００９０】
また、本実施形態では、検出体底部１１ｒはピポットを中心とした球面としているが、平面や眼球のように球状でピポットが水晶体の位置でもよく、その場合は走査角度に対する検出体底部１１ｒの位置を補正すればよい。
【００９１】
図１４において、Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３は計測光である。装置が立ち上がり各機器の初期駆動が終了し、ミラー９が計測光路上にあり、検出体１１に計測光が照射される場合、図１４に示すように、設計上は帯１１ｖ、１１ｆの中心と計測光の配列の中心とが一致しているものとする。光走査部６の位置は、検出体底部１１ｒに対して中央の計測光がある位置、即ち、各誤差を含まない設計上で中央の計測光が座標上のマイナス座標側を照射するときの光走査部６の位置は、マイナス位置としている。
【００９２】
また、本実施形態におけるイメージローテータ２は、通常半回転すると通過する光は回転するが、説明の便宜上、光の回転量をイメージローテータ２の回転量としている。イメージローテータ２は、計測光を横の帯１１ｆに対して水平になるようにしたときの角度を０°とし、反時計回りの方句をプラス方向とする。
【００９３】
先ず、制御部２３は、イメージローテータ２を０°の位置、即ち、計測光が設計上横の帯１１ｆに対し水平にし、横の帯１１ｆと光走査部６のＸ軸の走査方向との傾きと、計測光の配列の方向と光走査部６のＸ軸との傾きの概算を求める。
【００９４】
図１５は、検出体の横の帯１１ｆと計測光の配列と光走査部６の傾きとの求め方について説明するための図である。イメージローテータ２は０°の位置とする。図１５（ａ）に示すように、光走査部６のＸ軸及びＹ軸を中央に固定して横の帯１１ｆに計測光を照射する。制御部２３は、計測光Ｐ１及びＰ３の断層像を計測し、断層像の厚さから計測光Ｐ１及びＰ３のＹ方向の位置Ｐ１ａｙ及びＰ３ａｙを求める。ここで、計測光Ｐ１、Ｐ３の設計値上の位置を（ｐ１ａｘ，０）、（ｐ３ａｘ，０）θとすると、横の帯１１ｆと計測光Ｐ１及びＰ３の概算角度θ１は次の式で求められる。
ｓｉｎ（θ１）＝(Ｐ１ａｙ−Ｐ３ａｙ)÷（ｐ１ａｘ−ｐ３ａｘ）
【００９５】
横の帯１１ｆと光走査部６のＸ軸との傾きは、光走査部６のＸ軸を駆動して求められる。図１５（ｂ）に示すように、制御部２３は、上記状態のままで光走査部６のＸ軸を例えば(ｐ３ａｘ−ｐ１ａｘ)移動し、ここでの計測光Ｐ１の断層像を求め、断層像の厚さからこのときの１３のＹ方向の位置Ｐ１ｂｙを求める。これにより、横の帯１１ｆと光走査部６のＸ軸の傾きθｘは、次の式によって求められる。
ｓｉｎ（θｘ）＝（Ｐ１ｂｙ−Ｐ１ａｙ）÷（ｐ３ａｘ−ｐ１ａｘ）
また、計測光Ｐ１及びＰ３に対する光走査部６のＸ軸の走査方向の傾きの概算θ２は、次の式によって求められる。
θ２＝θｘ−θ１
【００９６】
次に、制御部２３は、縦の帯１１ｖと光走査部６のＹ軸の走査方向との傾きを求める。図１６は、縦の帯１１ｖと光走査部６のＹ軸の走査方向との傾きの求め方について説明するための図である。制御部２３は、光走査部６のＸ軸を中央に固定して、光走査部６のＹ軸に計測光Ｐ２を使用し、ＰＵ、ＰＤ近傍の断層像を計測する。ＰＵは縦の帯１１ｆの上部、ＰＤは縦の帯１１ｖの下部に位置し、双方Ｙ軸の中心にある。縦の帯１１ｖも横の帯１１ｆと同様に帯に垂直な方、即ち縦の帯１１ｖにおいてはＸ方向に対して計測光が照射する位置によって断層像の厚さが変わり、厚さに対し一意に位置が求まるものである。
【００９７】
ＰＵ、ＰＤ近傍での断層像の厚さから求まるＸ方句の位置をＰｕｘ、Ｐｄｘ、計測した時の光走査部６のＹ軸の位置をＰｕｙ、Ｐｄｙとすると、縦の帯１１ｖに対する光走査部６のＹ軸の走査方向の角度θｙは、次の式によって求められる。
Ｓｉｎ（θｙ)＝(Ｐｕｘ−Ｐｄｘ)÷（Ｐｕｙ−Ｐｄｙ）
【００９８】
次に、制御部２３は、計測光Ｐ１、Ｐ２及びＰ３間の距離を求める。図９は、計測光Ｐ１、Ｐ２及びＰ３の距離の求め方を説明するための図である。制御部２３は、光走査部６のＹ軸を中央からずらし、光走査部６のＸ軸を走査しても横の帯１１ｆに計測光が照射されない位置で、光走査部６のＸ軸が走査して計測光縦の帯１１ｖに計測光が照射される位置に移動させる。光走査部６の移動の際には、帯１１ｆ及び１１ｖと走査部６との角度θｘ及びθｙで補正して駆動される。そして制御部２３は、計測光Ｐ１、Ｐ２及びＰ３が縦の帯１１ｖ上の位置、例えばＰｃの位置になるように光走査部６を駆動する。即ち、Ｐｃの位置を（０，Ｐｃｙ）、計測光Ｐ１、Ｐ２及びＰ３の設計値の位置をそれぞれ（ｐ１ａｘ，０）、（ｐ２ａｘ，０）、（ｐ３ａｘ，０）とすると、計測光Ｐ１がＰｃ近傍の位置に照射するには光走査部６は検出体底部１１ｒの座標系で（−ｐ１ａｘ，Ｐｃｙ）の位置にある必要がある。これを光走査部６の座標系（Ｘ１，Ｙ１）に変換すると、次の式のようになる。制御部２３は、光走査部６をこの（Ｘ１，Ｙ１）の位置に駆動する。
【００９９】
【数８】
【０１００】
制御部２３は、この状態で計測光Ｐ１により断層像を計測し、求まった断層像の厚さｔｐ１から縦の帯１１ｖ上のＸ方向の位置Ｐ１ｄｘを求める。そして制御部２３は、この状態から前述で求めた計測光の概略の傾きθ１の方向に光走査軸をｐ１ａｘ−ｐ２ａｘだけ駆動する。即ち、制御部２３は、計測光Ｐ２がＰｃ上になるように駆動する。計測光Ｐ１で断層像を計測した状態から光走査部６を駆動することになる。ここで制御部２３は、計測光Ｐ２により断層像を計測し、求まった断層の厚さｔｐ２から縦の帯１１ｖ上のＸ方向の位置Ｐ２ｄｘを求める。
【０１０１】
【数９】
【０１０２】
同様に、制御部２３は、この状態から計測光Ｐ３をＰｃの位置に照射するように走査部６を計測光の概略の傾きθ1方向へｐ２ａｘ−ｐ３ａｘだけ駆動する。そして制御部２３は、計測光Ｐ３で断層像を計測し、求まった断層像の厚さｔｐ３から縦の帯１１ｖ上のＸ方向の位置Ｐ３ｄｘを求める。
【０１０３】
計測光Ｐ１及びＰ３を結ぶ方向の距離として、計測光Ｐ１及びＰ２間をｐ１２ｘｌ、計測光Ｐ２及びＰ３間の距離をｐ２３ｘｌ、計測光Ｐ１及びＰ３間の距離をｐ１３ｘｌとすると、次の式によって求められる。
Ｐ１２ｘｌ＝ｐ２ａｘ−ｐ１ａｘ−（（ｐ２ｄｘ−ｐ１ｄｘ）÷ｃｏｓθ１）
Ｐ２３ｘｌ＝ｐ３ａｘ−ｐ２ａｘ−（（ｐ３ｄｘ−ｐ２ｄｘ）÷ｃｏｓθ１）
Ｐ１３ｘｌ＝ｐ３ａｘ−ｐ１ａｘ−（（ｐ３ｄｘ−ｐ１ｄｘ）÷ｃｏｓθ１）
【０１０４】
図１０は、計測光の配列の求め方を説明するための図である。光走査部６を中心にし、横の帯１１ｆに計測光Ｐ１、Ｐ２及びＰ３を照射し、断層像を計測すると、計測光Ｐ１、Ｐ２及びＰ３が照射された位置の断層の厚さから求めた横の帯１１ｆに対するＸ方向の位置Ｐ１ｙａ、Ｐ２ｙａ及びＰ３ｙａから、計測光Ｐ１、Ｐ２及びＰ３は、横の帯１１ｆに対して次の位置関係を持ち、最少自乗法等で横の帯１１ｆに対する計測光の配列の角度θfが求まる。
（−Ｐ１２ｘｌ×ｃｏｓ（θ１２），Ｐ１ｙａ），（０，Ｐ２ｙａ），（Ｐ２３ｘｌ×ｃｏｓ（θ２３），Ｐ３ｙａ）
ここで、ｓｉｎ（θ１２）＝（Ｐ２ｙａ−Ｐ１ｙａ）÷Ｐ１２ｘｌ、ｓｉｎ（θ２３）＝（Ｐ３ｙａ−Ｐ２ｙａ）÷Ｐ２３ｘｌ
【０１０５】
これにより、Ｘ座標の基準となる横の帯１１ｆに対する光走査部６のＸ軸の傾きθｘ、Ｙ軸の基準となる縦の帯１１ｖに対する光走査部６のＹ軸の傾きθｙ、Ｘ座標の基準となる横の帯１１ｆに対するイメージローテータ２が横の帯１１ｆに対し計測光の配列を水平にしようとしたときの計測光の配列の傾きθｆが求まる。
【０１０６】
次に、イメージローテータ２の回転中心位置を求める。図１１は、イメージローテータ２の回転中心位置の求め方について説明するための図である。制御部２３は、光走査部６を中心位置にし、計測光Ｐ１を横の帯１１ｆ上にある位置になるようにイメージローテータ２を回転させる。ここで制御部２３は、計測光Ｐ１で断層像を計測し、断層像の厚さから計測光Ｐ１の横の帯１１ｆ上のＹ方向の位置ｐ１ｌｙを求める。制御部２３は、この状態からイメージローテータ２を１８０°回転させる。制御部２３は、計測光Ｐ１にて横の帯１１ｆの断層像を計測し、断層像の厚さから横の帯１１ｆ上のＹ方向の位置ｐ１ｒｙを求める。制御部２３は、この状態から計測光Ｐ１が縦の帯１１ｖの上部上になるようにイメージローテータ２を回転させる。制御部２３は、計測光Ｐ１にて断層像を計測し、断層像の厚さから縦の帯１１ｖ上のＸ方向の位置ｐ１ｕｘを求める。制御部２３は、この状態からイメージローテータ２を１８０°回転させる。制御部２３は、計測光Ｐ１にて縦の帯１１ｖの断層像を計測し、断層像の厚さから縦の帯１１ｖ上のｘ方向の位置ｐ１ｄｘを求める。イメージローテータ２の回転中心位置ＲＣは、次の式によって求められる。
ＲＣ＝（（ｐ１ｕｘ＋ｐ１ｄｘ）÷２，（ｐ１ｌｙ＋ｐ１ｒｙ）÷２）
【０１０７】
本実施形態では、計測光の配列の傾きを変更する機構であるイメージローテータ２を備えている。但し、上記実施形態において、イメージローテータ２を駆動しているのは、最初に計測光の配列を水平にするときと、本イメージローテータ２の回転中心位置を求めるときのみである。よって、計測光の配列の角度を変更する機構が無く、計測光の配列を横の帯１１ｆに固定している場合、イメージローテータ２の回転中心位置を求める工程を省けば計測光の配列の角度に対する光走査部６の走査軸の傾きを求めることができる。
【０１０８】
なお、上記計測位置は検出体底部１１ｒの座標を基準としているが、ミラー９が計測光路上になく、計測光が接眼レンズ７ｂ上に照射される位置と、ミラー９が計測光路上にあり、検出体底部１１ｒに計測光が照射されている位置に対する関係を定義する。これにより、受光体底部１１ｒの位置の座標系を接眼レンズ７ｂの座標系と合わせ、眼底８ｒ上の座標として位置の補正を行うことができる。
【０１０９】
以上のように、計測光によって照射される位置により、検出される断層像の厚さが変化し、その断層像の厚さによって基準軸となる方向に対し位置が求まる検出体１１を用いている。これにより、光走査部６の位置とそのときの計測された断層像の厚さに対応する検出体上の位置から、計測光の配列に対する走査部６の傾きを求めることができる。この傾きから計測光の配列に光走査部６の走査方向を合わせることが可能になるため、組立時の調整に厳密な調整を行う必要が無く、計時変化や衝撃によるずれが発生しても、計測光の配列に対する光走査部６の走査方向を補正することができる。従って、各計測光が作り出す走査方向に対する計測光の幅を小さくすることが可能となる。また、各計測光の位置関係が計測できることにより、各計測光の設計値からずれている分がわかるので、ずれ分画像をずらすことで各計測光が測定物の同じ測定箇所のデータ列を加算平均することが可能になる。これらのことにより、タンデムスキャンでは高ＳＮ比の光断層画像を得ることが可能になる。
【０１１０】
（第４の実施形態）
次に、本発明による第４の実施形態について説明する。図１３（ｂ）は、本発明の第４の実施形態に係わるＯＣＴ装置の構成を示す図である。本実施形態においては、フーリエドメイン方式の光干渉断層法を用いた撮像装置を例に挙げる。第１の実施形態との違いはサンプルアーム１００１に接続するファイバ接続部３５の代わりに、計測光の位置を駆動可能なファイバ接続部３６を設けていることである。図２（ｂ）は本実施形態でのファイバ接続部３６の構成を示す図であり、ファイバ接続部３６をファイバ端から見た図である。３６はサンプルアーム１００１に固定される。計測光は光ファイバ３４各々に対応するファイバ端３５ｉ、３５ｊ、３５ｋの配列でサンプルアーム１００１に入射される。ファイバ端３５ｉ、３５ｊ、３５ｋの位置は、駆動部３６ａ、３６ｂ、３６ｃにより図２（ｂ）における上下左右方向に位置の調整が可能で制御部２３の指示により駆動する。なお、ファイバ端は、それぞれの位置関係を独立に３次元方向に変更できるように構成されても良い。
【０１１１】
第１の実施形態において、光走査部６、イメージローテータ２を駆動し、その時のラインセンサＬに入射される計測光の位置により図５（ｄ）、図６（ｃ）で示すように、各計測光の位置Ｐ１Ａ，Ｐ２Ａ，Ｐ３Ａが求められる。本実施形態においては、この各計測光の位置から駆動部３６ａ、３６ｂ、３６ｃを駆動しファイバ端３５ｉ、３５ｊ、３５ｋの配列を設計上の位置へ計測光の位置を修正、又は直線状になるようにすることで、各計測光が作り出す走査方向に対する計測光の幅をより微小範囲に抑えることが可能になり、これらのことにより、タンデムスキャンでは高ＳＮ比の光断層画像を得ることが可能になる。本実施形態では３つの計測光を例としているので、３６ａ、３６ｂ、３６ｃ全てが駆動可能の必要はなく、少なくとも一つ駆動可能であればよい。
【０１１２】
本実施形態は第１の実施形態のファイバ接続部３５を計測光の配列位置を変更可能なファイバ接続部３６へ変更したものであるが、第２第３の実施形態も同様で、ファイバ接続部３５を計測光の配列位置を変更可能なファイバ接続部３６へ変更することにより計測光の位置を修正することが可能になる。第２の実施形態では数６で求まる計測光の位置Ｐ１Ｂ、Ｐ２Ｂ、Ｐ３Ｂを元に駆動部３６ａ、３６ｂ、３６ｃを駆動し、ファイバ端３５ｉ、３５ｊ、３５ｋの配列を設計上の位置へ計測光の位置を修正、又は直線状になるようにすることで、各計測光が作り出す走査方向に対する計測光の幅をより微小範囲に抑えることが可能になる。第３の実施形態では図１０で求まる計測光の位置Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３を元に駆動部３６ａ、３６ｂ、３６ｃを駆動し、ファイバ端３５ｉ、３５ｊ、３５ｋの配列を設計上の位置へ計測光の位置を修正、又は直線状になるようにすることで、各計測光が作り出す走査方向に対する計測光の幅をより微小範囲に抑えることが可能になる。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の計測光を照射した被検査物からの複数の戻り光に基づいて、該被検査物の画像を取得する撮像装置であって、
前記複数の計測光を走査する走査手段と、
前記被検査物における前記複数の計測光の配列を検出する検出手段と、
前記検出手段の検出結果に基づいて、前記走査手段の走査方向に対する前記配列を調整する配列調整手段と、
を有することを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記配列調整手段は、前記走査方向と前記取得した角度に基づいて前記配列の位置を調整することを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記複数の計測光を前記検出手段の光路に分割する分割手段と、
前記配列調整手段により前記配列の角度を調整した後に、前記分割手段を光路から外す制御手段と、
を更に有することを特徴とする請求項２に記載の撮像装置。
【請求項４】
前記検出手段の検出結果に基づいて、前記走査手段の走査方向に対する前記配列の角度を算出する算出手段を更に有することを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の撮像装置。
【請求項５】
前記検出手段は、前記被検査物における前記複数の計測光の照射位置を検出することを特徴とする請求項１乃至４の何れか１項に記載の撮像装置。
【請求項６】
前記複数の戻り光と前記複数の計測光それぞれに対応する複数の参照光とをそれぞれ合波した複数の合波光に基づいて、前記被検査物の断層画像を取得する断層画像取得手段を更に有することを特徴とする請求項１乃至５の何れか１項に記載の撮像装置。
【請求項７】
前記検出手段により検出される前記複数の計測光の位置と、前記配列調整手段の位置と、前記走査手段の位置とに基づいて、前記複数の計測光の位置と、前記複数の計測光の配列の角度と、前記走査手段の走査角度との関係を算出する算出手段を更に有することを特徴とする請求項１乃至６の何れか１項に記載の撮像装置。
【請求項８】
前記検出手段は、一次元の方向に前記複数の計測光の位置を検出することを特徴とする請求項７に記載の撮像装置。
【請求項９】
前記検出手段により検出される前記複数の計測光の位置と、前記走査手段の位置とに基づいて、前記複数の計測光の位置と、前記複数の計測光の配列の角度と、前記走査手段の走査角度との関係を算出する算出手段を更に有することを特徴とする請求項１乃至６の何れか１項に記載の撮像装置。
【請求項１０】
前記検出手段は、一次元の方向に前記複数の計測光の位置を検出し、前記複数の計測光の位置と、前記複数の計測光の配列の角度と、前記走査手段の走査角度との関係は、前記走査手段の走査軸に対する前記複数の計測光の配列の角度であることを特徴とする請求項９に記載の撮像装置。
【請求項１１】
光源から照射される複数の光を夫々計測光と参照光とに分岐させ、計測光を被検査物に導くとともに参照光を参照ミラーに導き、前記被検査物からの戻り光と前記参照ミラーからの反射光とに基づいて、前記被検査物の断層像を撮像する撮像装置であって、
直線上に配置された複数の計測光の配列の角度を調整する調整手段と、
前記調整手段によって配列の角度が調整された前記複数の計測光を走査する走査手段と、
前記調整手段と前記走査手段とを駆動することにより、前記被検査物と光学的に対応する位置に配置され、断層像を計測することが可能な検出体の断層像を計測する計測手段と、
前記計測手段により計測された前記検出体の断層像の厚さから前記複数の計測光の位置を測定する測定手段と、
前記測定手段により測定された前記複数の計測光の位置と、前記調整手段の位置と、前記走査手段の位置とに基づいて、前記複数の計測光の位置と、前記複数の計測光の配列の角度と、前記走査手段の走査角度との関係を算出する算出手段とを有することを特徴とする撮像装置。
【請求項１２】
光源から照射される複数の光を夫々計測光と参照光とに分岐させ、計測光を被検査物に導くとともに参照光を参照ミラーに導き、前記被検査物からの戻り光と前記参照ミラーからの反射光とに基づいて、前記被検査物の断層像を撮像する撮像装置であって、
直線上に配置された複数の計測光を走査する走査手段と、
前記走査手段を駆動することにより、前記被検査物と光学的に対応する位置に配置され、断層像を測定することが可能な検出体の断層像を計測する計測手段と、
前記計測手段により計測された前記検出体の断層像の厚さから前記複数の計測光の位置を測定する測定手段と、
前記測定手段により測定された前記複数の計測光の位置と、前記走査手段の位置とに基づいて、前記複数の計測光の位置と、前記複数の計測光の角度と、前記走査手段の走査角度との関係を算出する算出手段とを有することを特徴とする撮像装置。
【請求項１３】
前記検出体は、前記複数の計測光が照射される位置により計測される断層像の厚さが異なり、計測された断層像の厚さにより前記複数の計測光が照射されている位置が一意に定まる断層構造を直交する２つの軸で有することを特徴とする請求項１２に記載の撮像装置。
【請求項１４】
前記複数の計測光の角度に対する前記走査手段の走査軸の傾きのずれに基づいて、前記走査手段の駆動量を補正する補正手段を更に有することを特徴とする請求項１３に記載の撮像装置。
【請求項１５】
前記複数の計測光の位置に基づいて、前記複数の計測光により同じ位置で計測され、加算平均される断層像のデータを選択する選択手段を更に有することを特徴とする請求項１３又は１４に記載の撮像装置。
【請求項１】
複数の計測光を照射した被検査物からの複数の戻り光に基づいて、該被検査物の画像を取得する撮像装置であって、
前記複数の計測光を走査する走査手段と、
前記被検査物における前記複数の計測光の配列を検出する検出手段と、
前記検出手段の検出結果に基づいて、前記走査手段の走査方向に対する前記配列を調整する配列調整手段と、
を有することを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記配列調整手段は、前記走査方向と前記取得した角度に基づいて前記配列の位置を調整することを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記複数の計測光を前記検出手段の光路に分割する分割手段と、
前記配列調整手段により前記配列の角度を調整した後に、前記分割手段を光路から外す制御手段と、
を更に有することを特徴とする請求項２に記載の撮像装置。
【請求項４】
前記検出手段の検出結果に基づいて、前記走査手段の走査方向に対する前記配列の角度を算出する算出手段を更に有することを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の撮像装置。
【請求項５】
前記検出手段は、前記被検査物における前記複数の計測光の照射位置を検出することを特徴とする請求項１乃至４の何れか１項に記載の撮像装置。
【請求項６】
前記複数の戻り光と前記複数の計測光それぞれに対応する複数の参照光とをそれぞれ合波した複数の合波光に基づいて、前記被検査物の断層画像を取得する断層画像取得手段を更に有することを特徴とする請求項１乃至５の何れか１項に記載の撮像装置。
【請求項７】
前記検出手段により検出される前記複数の計測光の位置と、前記配列調整手段の位置と、前記走査手段の位置とに基づいて、前記複数の計測光の位置と、前記複数の計測光の配列の角度と、前記走査手段の走査角度との関係を算出する算出手段を更に有することを特徴とする請求項１乃至６の何れか１項に記載の撮像装置。
【請求項８】
前記検出手段は、一次元の方向に前記複数の計測光の位置を検出することを特徴とする請求項７に記載の撮像装置。
【請求項９】
前記検出手段により検出される前記複数の計測光の位置と、前記走査手段の位置とに基づいて、前記複数の計測光の位置と、前記複数の計測光の配列の角度と、前記走査手段の走査角度との関係を算出する算出手段を更に有することを特徴とする請求項１乃至６の何れか１項に記載の撮像装置。
【請求項１０】
前記検出手段は、一次元の方向に前記複数の計測光の位置を検出し、前記複数の計測光の位置と、前記複数の計測光の配列の角度と、前記走査手段の走査角度との関係は、前記走査手段の走査軸に対する前記複数の計測光の配列の角度であることを特徴とする請求項９に記載の撮像装置。
【請求項１１】
光源から照射される複数の光を夫々計測光と参照光とに分岐させ、計測光を被検査物に導くとともに参照光を参照ミラーに導き、前記被検査物からの戻り光と前記参照ミラーからの反射光とに基づいて、前記被検査物の断層像を撮像する撮像装置であって、
直線上に配置された複数の計測光の配列の角度を調整する調整手段と、
前記調整手段によって配列の角度が調整された前記複数の計測光を走査する走査手段と、
前記調整手段と前記走査手段とを駆動することにより、前記被検査物と光学的に対応する位置に配置され、断層像を計測することが可能な検出体の断層像を計測する計測手段と、
前記計測手段により計測された前記検出体の断層像の厚さから前記複数の計測光の位置を測定する測定手段と、
前記測定手段により測定された前記複数の計測光の位置と、前記調整手段の位置と、前記走査手段の位置とに基づいて、前記複数の計測光の位置と、前記複数の計測光の配列の角度と、前記走査手段の走査角度との関係を算出する算出手段とを有することを特徴とする撮像装置。
【請求項１２】
光源から照射される複数の光を夫々計測光と参照光とに分岐させ、計測光を被検査物に導くとともに参照光を参照ミラーに導き、前記被検査物からの戻り光と前記参照ミラーからの反射光とに基づいて、前記被検査物の断層像を撮像する撮像装置であって、
直線上に配置された複数の計測光を走査する走査手段と、
前記走査手段を駆動することにより、前記被検査物と光学的に対応する位置に配置され、断層像を測定することが可能な検出体の断層像を計測する計測手段と、
前記計測手段により計測された前記検出体の断層像の厚さから前記複数の計測光の位置を測定する測定手段と、
前記測定手段により測定された前記複数の計測光の位置と、前記走査手段の位置とに基づいて、前記複数の計測光の位置と、前記複数の計測光の角度と、前記走査手段の走査角度との関係を算出する算出手段とを有することを特徴とする撮像装置。
【請求項１３】
前記検出体は、前記複数の計測光が照射される位置により計測される断層像の厚さが異なり、計測された断層像の厚さにより前記複数の計測光が照射されている位置が一意に定まる断層構造を直交する２つの軸で有することを特徴とする請求項１２に記載の撮像装置。
【請求項１４】
前記複数の計測光の角度に対する前記走査手段の走査軸の傾きのずれに基づいて、前記走査手段の駆動量を補正する補正手段を更に有することを特徴とする請求項１３に記載の撮像装置。
【請求項１５】
前記複数の計測光の位置に基づいて、前記複数の計測光により同じ位置で計測され、加算平均される断層像のデータを選択する選択手段を更に有することを特徴とする請求項１３又は１４に記載の撮像装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【公開番号】特開２０１３−３１６３４（Ｐ２０１３−３１６３４Ａ）
【公開日】平成２５年２月１４日（２０１３．２．１４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１２−８９３５４（Ｐ２０１２−８９３５４）
【出願日】平成２４年４月１０日（２０１２．４．１０）
【出願人】（０００００１００７）キヤノン株式会社 (59,756)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年２月１４日（２０１３．２．１４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２４年４月１０日（２０１２．４．１０）
【出願人】（０００００１００７）キヤノン株式会社 (59,756)
【Ｆターム（参考）】
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