方向性電磁鋼板の製造方法
【課題】鉄損の低い方向性電磁鋼板の製造方法を提供する。
【解決手段】冷間圧延と巻取りとの間に、珪素鋼板の板幅方向にレーザビームを通板方向で所定の間隔をあけて複数回照射し溝を形成する溝形成工程を有し、前記レーザビームの平均強度をＰ（Ｗ）、前記レーザビームの集光スポットの前記通板方向の集光径をＤｌ（ｍｍ）、前記板幅方向の集光径をＤｃ（ｍｍ）、前記レーザビームの前記板幅方向の走査速度をＶｃ（ｍｍ／ｓ）、前記レーザビームの照射エネルギー密度Ｕｐを下記式１、前記レーザビームの瞬時パワー密度Ｉｐを下記式２としたとき、下記の式３及び式４を満たす。Ｕｐ＝（４／π）×Ｐ／（Ｄｌ×Ｖｃ）…（式１）。Ｉｐ＝（４／π）×Ｐ／（Ｄｌ×Ｄｃ）×（１／１０００）…（式２）。１≦Ｕｐ≦１０（Ｊ／ｍｍ２）…（式３）。１００（ｋＷ／ｍｍ２）≦Ｉｐ≦２０００（ｋＷ／ｍｍ２）…（式４）。
【解決手段】冷間圧延と巻取りとの間に、珪素鋼板の板幅方向にレーザビームを通板方向で所定の間隔をあけて複数回照射し溝を形成する溝形成工程を有し、前記レーザビームの平均強度をＰ（Ｗ）、前記レーザビームの集光スポットの前記通板方向の集光径をＤｌ（ｍｍ）、前記板幅方向の集光径をＤｃ（ｍｍ）、前記レーザビームの前記板幅方向の走査速度をＶｃ（ｍｍ／ｓ）、前記レーザビームの照射エネルギー密度Ｕｐを下記式１、前記レーザビームの瞬時パワー密度Ｉｐを下記式２としたとき、下記の式３及び式４を満たす。Ｕｐ＝（４／π）×Ｐ／（Ｄｌ×Ｖｃ）…（式１）。Ｉｐ＝（４／π）×Ｐ／（Ｄｌ×Ｄｃ）×（１／１０００）…（式２）。１≦Ｕｐ≦１０（Ｊ／ｍｍ２）…（式３）。１００（ｋＷ／ｍｍ２）≦Ｉｐ≦２０００（ｋＷ／ｍｍ２）…（式４）。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、トランスの鉄芯等に好適な方向性電磁鋼板の製造方法に関する。本願は、２０１０年９月９日に、日本に出願された特願２０１０−２０２３９４号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
【背景技術】
【０００２】
方向性電磁鋼板の鉄損を低減するための技術として、地鉄の表面に歪みを導入して磁区を細分化する技術がある（特許文献３）。しかし、巻き鉄芯では、その製造工程で歪み取り焼鈍を行うため、焼鈍の際に、導入された歪みが緩和され、磁区の細分化が十分なものとならない。
【０００３】
この欠点を補う方法として地鉄の表面に溝を形成する技術がある（特許文献１、２、４、５）。更に、地鉄の表面に溝を形成すると共に、この溝の底部から板厚方向に地鉄の裏面にわたる結晶粒界を形成する技術がある（特許文献６）。
【０００４】
溝と粒界を形成する方法は鉄損改善効果が高い。しかし、特許文献６に記載された技術では、生産性が著しく低下する。これは、所望の効果を得るために溝の幅を３０μｍ〜３００μｍ程度とした上で、さらに結晶粒界の形成のために、溝へのＳｎ等の付着及び焼鈍、溝への歪みの付加、又は溝への熱処理のためのレーザ光やプラズマ等の放射が必要となるからである。つまり、狭い溝に正確に合わせて、Ｓｎの付着、歪みの付加、レーザ光の放射等の処理を行うことは困難であり、これを実現するためには、少なくとも、通板速度を極めて遅くする必要があるからである。特許文献６には、溝を形成する方法として電解エッチングを行う方法が挙げられている。しかし、電解エッチングを行うためには、レジストの塗布、エッチング液を用いた腐食処理、レジストの除去、及び洗浄を行う必要がある。そのため、工数及び処理時間が大幅に増加する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】日本国特公昭６２−５３５７９号公報
【特許文献２】日本国特公昭６２−５４８７３号公報
【特許文献３】日本国特開昭５６−５１５２８号公報
【特許文献４】日本国特開平６−５７３３５号公報
【特許文献５】日本国特開２００３−１２９１３５号公報
【特許文献６】日本国特開平７−２６８４７４号公報
【特許文献７】日本国特開２０００−１０９９６１号公報
【特許文献８】日本国特開平９−４９０２４号公報
【特許文献９】日本国特開平９−２６８３２２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、鉄損が低い方向性電磁鋼板を工業的に量産することができる方向性電磁鋼板の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決して係る目的を達成するために、本発明は以下の手段を採用した。
【０００８】
（１）すなわち、本発明の一態様に係る方向性電磁鋼板の製造方法は、Ｓｉを含む珪素鋼板を通板方向に沿って移動させながら冷間圧延を行う冷間圧延工程と；前記珪素鋼板の脱炭及び一次再結晶を生じさせる第１の連続焼鈍工程と；前記珪素鋼板に焼鈍分離剤を塗布する焼鈍分離剤塗布工程と；前記珪素鋼板を巻き取って鋼板コイルを得る巻き取り工程と；前記冷間圧延工程から前記巻き取り工程にかけての間に、前記珪素鋼板の表面に対して、前記珪素鋼板の板幅方向の一端縁から他端縁にかけてレーザビームを前記通板方向で所定の間隔をあけて複数回照射して、前記レーザビームの軌跡に沿う溝を形成する溝形成工程と；前記鋼板コイルに二次再結晶を生じさせるバッチ焼鈍工程と；前記鋼板コイルを巻き解いて平坦化する第２の連続焼鈍工程と；前記珪素鋼板の表面に張力と電気的絶縁性を付与する連続コーティング工程と；をこの順に有し、前記バッチ焼鈍工程で、前記溝に沿って前記珪素鋼板の表裏を貫通する結晶粒界を生じさせ、前記レーザビームの平均強度をＰ（Ｗ）、前記レーザビームの集光スポットの前記通板方向の集光径をＤｌ（ｍｍ）、前記板幅方向の集光径をＤｃ（ｍｍ）、前記レーザビームの前記板幅方向の走査速度をＶｃ（ｍｍ／ｓ）、前記レーザビームの照射エネルギー密度Ｕｐを下記式１、前記レーザビームの瞬時パワー密度Ｉｐを下記式２としたとき、下記の式３及び式４を満たす。
Ｕｐ＝（４／π）×Ｐ／（Ｄｌ×Ｖｃ）…（式１）
Ｉｐ＝（４／π）×Ｐ／（Ｄｌ×Ｄｃ）×（１／１０００）…（式２）
１≦Ｕｐ≦１０（Ｊ／ｍｍ２）…（式３）
１００（ｋＷ／ｍｍ２）≦Ｉｐ≦２０００（ｋＷ／ｍｍ２）…（式４）
【０００９】
（２）上記（１）に記載の態様では、前記溝形成工程で、前記珪素鋼板の、前記レーザビームが照射される部分に１０Ｌ／分以上５００Ｌ／分以下の流量でガスを吹き付けてもよい。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の上記態様によれば、工業的に量産することが可能な方法で鉄損の低い方向性電磁鋼板を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の実施形態に係る方向性電磁鋼板の製造方法を示す図である。
【図２】本発明の実施形態の変形例を示す図である。
【図３Ａ】本発明の実施形態におけるレーザビームを走査する方法の他の例を示す図である。
【図３Ｂ】本発明の実施形態におけるレーザビームを走査する方法の他の例を示す図である。
【図４Ａ】本発明の実施形態におけるレーザビーム集光スポットを示す図である。
【図４Ｂ】本発明の実施形態におけるレーザビーム集光スポットを示す図である。
【図５】本発明の実施形態において形成される溝及び結晶粒を示す図である。
【図６Ａ】本発明の実施形態において形成される結晶粒界を示す図である。
【図６Ｂ】本発明の実施形態において形成される結晶粒界を示す図である。
【図７Ａ】本発明の実施形態における珪素鋼板の表面の写真を示す図である。
【図７Ｂ】比較例の実施形態における珪素鋼板の表面の写真を示す図である。
【図８Ａ】本発明の実施形態における結晶粒界の他の例を示す図である。
【図８Ｂ】本発明の実施形態における結晶粒界の他の例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明の実施形態について、添付の図面を参照しながら説明する。図１は、本発明の実施形態に係る方向性電磁鋼板の製造方法を示す図である。
【００１３】
本実施形態では、図１に示すように、例えば２質量％〜４質量％のＳｉを含む珪素鋼板１に対して冷間圧延を行う。この珪素鋼板１は、例えば、溶鋼の連続鋳造、連続鋳造により得られたスラブの熱間圧延、及び熱間圧延により得られた熱間圧延鋼板の焼鈍等を経て作製される。この焼鈍の温度は、例えば約１１００℃である。冷間圧延後の珪素鋼板１の厚さは、例えば０．２ｍｍ〜０．３ｍｍ程度とし、例えば、冷間圧延後に珪素鋼板１はコイル状に巻き取って冷延コイルとしておく。
【００１４】
次いで、コイル状の珪素鋼板１を巻き解きながら、脱炭焼鈍炉３に供給し、焼鈍炉３内で第１の連続焼鈍、いわゆる脱炭焼鈍を行う。この焼鈍の温度は、例えば７００℃〜９００℃である。この焼鈍の際に、脱炭及び、一次再結晶が生じる。その結果、圧延方向に磁化容易軸が揃ったゴス方位の結晶粒が、ある程度の確率で形成される。その後、冷却装置４を用いて、脱炭焼鈍炉３から排出された珪素鋼板１を冷却する。続いて、ＭｇＯを主成分とする焼鈍分離剤の珪素鋼板１の表面への塗布５を行う。そして、焼鈍分離剤が塗布された珪素鋼板１をコイル状に巻き取って鋼板コイル３１とする。
【００１５】
本実施形態では、コイル状の珪素鋼板１を巻き解いてから脱炭焼鈍炉３に供給するまでの間に、レーザビーム照射装置２を用いて珪素鋼板１の表面に溝を形成する。その際、珪素鋼板１の板幅方向の一端縁から他端縁に向けてレーザビームを、所定の集光パワー密度Ｉｐ、かつ所定の集光エネルギー密度Ｕｐで通板方向に関して所定の間隔で複数回照射する。図２に示すように、レーザビーム照射装置２を冷却装置４よりも通板方向の下流側に配置し、冷却装置４による冷却から焼鈍分離剤の塗布５までの間に、珪素鋼板１の表面にレーザビームを照射してもよい。レーザビーム照射装置２を、焼鈍炉３よりも通板方向の上流側、冷却装置４よりも通板方向の下流側の双方に配置し、双方でレーザビームを照射してもよい。焼鈍炉３と冷却装置４との間にてレーザビームを照射してもよく、焼鈍炉３内又は冷却装置４内で照射してもよい。レーザビームによる溝の形成では、機械加工における溝形成と異なり、後述する溶融層を生じる。この溶融層は、脱炭焼鈍等では消失しないため、２次再結晶前のいずれの工程でレーザを照射してもその効果は得られる。
【００１６】
レーザビームの照射は、例えば、図３Ａに示すように、光源であるレーザ装置から出射されたレーザビーム９を、走査装置１０が、珪素鋼板１の圧延方向であるＬ方向にほぼ垂直な板幅方向であるＣ方向に、所定の間隔ＰＬで走査することにより行われる。この際、空気又は不活性ガス等のアシストガス２５が珪素鋼板１のレーザビーム９が照射される部位に吹き付けられる。これらの結果、珪素鋼板１の表面のレーザビーム９が照射された部分に溝２３が形成される。圧延方向は通板方向と一致している。
【００１７】
レーザビームの珪素鋼板１の全幅にわたる走査は、１台の走査装置１０により行われてもよく、図３Ｂに示すように、複数台の走査装置２０により行われてもよい。複数台の走査装置２０が用いられる場合、各走査装置２０に入射してくるレーザビーム１９の光源であるレーザ装置は１台のみ設けられていてもよく、走査装置２０毎に１台ずつ設けられていてもよい。光源が１台の場合、この光源から出射されたレーザビームを分割してレーザビーム１９とすればよい。複数台の走査装置２０を用いることで、板幅方向に照射領域を複数に分割することが可能となるため、レーザビーム１本当たりに要する走査及び照射の時間が短縮される。従って、特に高速の通板設備に適している。
【００１８】
レーザビーム９又は１９は走査装置１０又は２０内のレンズで集光される。図４Ａ及び図４Ｂに示すように、珪素鋼板１の表面におけるレーザビーム９又は１９のレーザビーム集光スポット２４の形状は、例えば、板幅方向であるＣ方向の径がＤｃ、圧延方向であるＬ方向の径がＤｌの円形又は楕円形である。レーザビーム９又は１９の走査は、例えば、走査装置１０又は２０内のポリゴンミラー等を用いて速度Ｖｃで行われる。例えば、板幅方向の径であるＣ方向径Ｄｃは０．４ｍｍ、圧延方向の径であるＬ方向径Ｄｌは０．０５ｍｍとすることができる。
【００１９】
光源であるレーザ装置としては、例えばＣＯ２レーザを用いることができる。ＹＡＧレーザ、半導体レーザ、ファイバレーザ等の一般的に工業用に用いられる高出力レーザを使用してもよい。用いるレーザは、溝２３と結晶粒２６が安定して形成されればパルスレーザ及び連続波レーザのいずれでもよい。
【００２０】
レーザビームの照射を行う際の珪素鋼板１の温度は特に限定しない。例えば、室温程度の珪素鋼板１に対してレーザビームの照射を行うことができる。レーザビームを走査する方向は板幅方向であるＣ方向と一致している必要はない。しかし、作業効率等の観点及び圧延方向に長い短冊状に磁区を細分する点から、走査方向と板幅方向であるＣ方向がなす角は４５°以内であることが好ましい。２０°以内であることがより好ましく、１０°以内であることが更に一層好ましい。
【００２１】
溝２３の形成に好適なレーザビームの瞬時パワー密度Ｉｐ及び照射エネルギー密度Ｕｐについて説明する。本実施形態では、以下に示す理由により、式２で定義されるレーザビームのピークパワー密度すなわち瞬時パワー密度Ｉｐが式４を満たしていることが好ましく、式１で定義されるレーザビームの照射エネルギー密度Ｕｐが式３を満たしていることが好ましい。
Ｕｐ＝（４／π）×Ｐ／（Ｄｌ×Ｖｃ） ・・・（式１）
Ｉｐ＝（４／π）×Ｐ／（Ｄｌ×Ｄｃ）×（１／１０００） ・・・（式２）
１≦Ｕｐ≦１０Ｊ／ｍｍ２ ・・・（式３）
１００ｋＷ／ｍｍ２≦Ｉｐ≦２０００ｋＷ／ｍｍ２ ・・・（式４）
ここで、Ｐはレーザビームの平均強度、すなわちパワー（Ｗ）を示し、Ｄｌはレーザビームの集光スポットの圧延方向の径（ｍｍ）を示し、Ｄｃはレーザビームの集光スポットの板幅方向の径（ｍｍ）を示し、Ｖｃはレーザビームの板幅方向の走査速度（ｍｍ／ｓ）を示す。
【００２２】
珪素鋼板１にレーザビーム９が照射されると、照射された部分が溶融し、その一部が飛散又は蒸発する。その結果、溝２３が形成される。溶融した部分のうち、飛散又は蒸発しなかった部分はそのまま残留し、レーザビーム９の照射終了後に凝固する。この凝固の際に、図５に示すように、溝の底部から珪素鋼板の内部に向かって長く伸びる柱状晶及び／又はレーザ非照射部に比べて粒径が大きい結晶粒、すなわち、一次再結晶により得られた結晶粒２７とは形状の異なる結晶粒２６が形成される。この結晶粒２６が二次再結晶の際の結晶粒界成長の起点となる。
【００２３】
上述の瞬時パワー密度Ｉｐが１００ｋＷ／ｍｍ２未満であると、珪素鋼板１の溶融及び飛散又は蒸発を十分に生じさせることが、困難になる。つまり、溝２３を形成しにくくなる。一方、瞬時パワー密度Ｉｐが２０００ｋＷ／ｍｍ２を超えると、溶融した鋼の多くが飛散又は蒸発して、結晶粒２６が形成されにくくなる。照射エネルギー密度Ｕｐが１０Ｊ／ｍｍ２を超えると、珪素鋼板１の溶融する部分が多くなり、珪素鋼板１が変形しやすくなる。一方、照射エネルギー密度が１Ｊ／ｍｍ２未満であると、磁気特性に改善がみられない。これらの理由により、上記の式３及び式４が満たされていることが好ましい。
【００２４】
レーザビームが照射される際、アシストガス２５が、珪素鋼板１から飛散又は蒸発した成分をレーザビーム９の照射経路から除去するために吹き付けられる。この吹き付けにより、レーザビーム９が安定して珪素鋼板１に到達するため、溝２３が安定して形成される。また、アシストガス２５が吹き付けられることにより、当該成分の珪素鋼板１への再付着を抑制できる。これらの効果を十分に得るためには、アシストガス２５の流量は、１０Ｌ（リットル）／分以上とすることが好ましい。一方で、５００Ｌ／分を超えると効果が飽和し、コストも高くなる。そのため、上限は、５００Ｌ／分とすることが好ましい。
【００２５】
上述してきた好ましい条件は、脱炭焼鈍と仕上焼鈍との間にレーザビームの照射を行う場合、並びに、脱炭焼鈍の前及び後にレーザビームの照射を行う場合も、同様である。
【００２６】
図１を用いた説明に戻る。焼鈍分離剤の塗布５及び巻き取りの後、図１に示すように、鋼板コイル３１を焼鈍炉６内に搬送し、鋼板コイル３１の中心軸をほぼ鉛直方向にして載置する。その後、バッチ処理で鋼板コイル３１のバッチ焼鈍、いわゆる仕上焼鈍を行う。このバッチ焼鈍の最高到達温度は、例えば１２００℃程度とし、保持時間は、例えば２０時間程度とする。このバッチ焼鈍の際に、二次再結晶が生じると共に、珪素鋼板１の表面にグラス皮膜が形成される。その後、焼鈍炉６から鋼板コイル３１を取り出す。
上述の態様によって得られたグラス皮膜は、方向性電磁鋼板表面の溝部以外のＭｇの特性Ｘ線強度の平均値を１とした場合における溝部のＭｇの特性Ｘ線強度のＸ線強度比Ｉｒが０≦Ｉｒ≦０．９の範囲内であることが望ましい。この範囲であれば、良好な鉄損特性が得られる。
上記Ｘ線強度比は、ＥＰＭＡ（Electron Probe MicroAnalyser）等を用いて、測定することで得られる。
【００２７】
続いて、鋼板コイル３１を巻き解きながら、焼鈍炉７に供給し、焼鈍炉７内で第２の連続焼鈍、いわゆる平坦化焼鈍を行う。この第２の連続焼鈍の際に、仕上焼鈍時に発生した巻癖及び歪み変形が取り除かれ、珪素鋼板１が平坦になる。焼鈍条件としては、例えば、７００℃以上９００℃以下の温度で１０秒以上１２０秒以下の保持とすることができる。次いで、珪素鋼板１の表面へのコーティング８を行う。コーティング８では、電気的絶縁性の確保、及び鉄損を低減する張力の作用が可能なものが塗布される。これらの一連の処理を経て方向性電磁鋼板３２が製造される。コーティング８で皮膜が形成された後、例えば、保管及び搬送等の便宜のために、方向性電磁鋼板３２をコイル状に巻き取る。
【００２８】
上述の方法で方向性電磁鋼板３２を製造すると、二次再結晶の際に、図６Ａ及び図６Ｂに示すように、溝２３に沿って珪素鋼板１の表裏を貫通する結晶粒界４１が生じる。これは、結晶粒２６がゴス方位の結晶粒に侵食されにくいために二次再結晶の終期まで残存することと、最終的にはゴス方位の結晶粒に吸収されるものの、その際には、溝２３の両側から大きく成長してきた結晶粒が互いに侵食できないことが原因である。
【００２９】
上記の実施形態に沿って製造された方向性電磁鋼板において、図７Ａに示す結晶粒界が観察された。これら結晶粒界には、溝に沿って形成された結晶粒界４１が含まれていた。また、レーザビームの照射を省略したことを除き上記の実施形態に沿って製造された方向性電磁鋼板において、図７Ｂに示す結晶粒界が観察された。
【００３０】
図７Ａ及び図７Ｂは、方向性電磁鋼板の表面からグラス皮膜等を除去し、地鉄を露出させた後に、その表面の酸洗を行って撮影された写真である。これらの写真には、二次再結晶により得られた結晶粒及び結晶粒界が現れている。
【００３１】
上述の方法により製造された方向性電磁鋼板では、地鉄の表面に形成されている溝２３によって、磁区細分化の効果が得られる。また、溝２３に沿って珪素鋼板１の表裏を貫通する結晶粒界４１によっても磁区細分化の効果が得られる。これらの相乗効果により鉄損をより低くすることができる。
【００３２】
溝２３は、所定のレーザビームの照射によって形成されているため、結晶粒界４１の形成は、極めて容易である。即ち、溝２３の形成後に、結晶粒界４１の形成のための溝２３の位置を基準にした位置合わせ等を行う必要がない。従って、通板速度の著しい低下等が必要なく、方向性電磁鋼板を工業的に量産することが可能である。
【００３３】
レーザビームの照射は高速で行うことが可能であり、微小空間に集光して高エネルギー密度が得られる。従って、レーザビームの照射を行わない場合と比較しても処理に要する時間の増加は少ない。すなわち、レーザビームの照射の有無にかかわらず、冷延コイルを巻き解きながらの脱炭焼鈍等を行う処理における通板速度を、ほとんど変化させる必要がない。更に、レーザビームの照射を行う温度が制限されないため、レーザ照射装置の断熱機構等が不要である。従って、高温炉内での処理が必要となる場合と比較して、装置の構成を簡素なものにできる。
【００３４】
溝２３の深さは特に限定しないが、１μｍ以上３０μｍ以下であることが好ましい。溝２３の深さが１μｍ未満であると、磁区の細分化が十分とならないことがある。溝２３の深さが３０μｍを超えると、磁性材料である珪素鋼板すなわち地鉄の量が低下し、磁束密度が低下する。より好ましくは、１０μｍ以上、２０μｍ以下である。溝２３は、珪素鋼板の片面のみに形成されていてもよく、両面に形成されていてもよい。
【００３５】
溝２３の間隔ＰＬは特に限定されないが、２ｍｍ以上１０ｍｍ以下であることが好ましい。間隔ＰＬが２ｍｍ未満であると、溝による磁束形成の阻害が顕著となり、トランスとして必要な十分な高磁束密度が形成され難くなる。一方、間隔ＰＬが１０ｍｍを超えると、溝及び粒界による磁気特性改善効果が大きく減少する。
【００３６】
上述の実施形態では、１つの溝２３に沿って１つの結晶粒界４１が形成されている。しかし、例えば、溝２３の幅が広く、結晶粒２６が圧延方向の広範囲にわたって形成されている場合には、二次再結晶の際に、一部の結晶粒２６が他の結晶粒２６よりも比較的早くに成長することがある。この場合、図８Ａ及び図８Ｂに示すように、溝２３の板厚方向下方に、ある程度の幅を持って溝２３に沿った複数の結晶粒５３が形成される。結晶粒５３の圧延方向の粒径Ｗｃｌは、０ｍｍ超であればよく、例えば１ｍｍ以上となるが、１０ｍｍ以下となりやすい。粒径Ｗｃｌが１０ｍｍ以下となりやすいのは、二次再結晶時に最優先で成長する結晶粒がゴス方位の結晶粒５４であり、結晶粒５４によって成長が妨げられるからである。結晶粒５３と結晶粒５４との間には、溝２３と略平行な結晶粒界５１が存在する。隣り合う結晶粒５３の間には、結晶粒界５２が存在する。結晶粒５３の板幅方向の粒径Ｗｃｃは、例えば１０ｍｍ以上となりやすい。結晶粒５３は、板幅全体にわたって幅方向に一つの結晶粒として存在してもよく、その場合には、結晶粒界５２は存在しなくてもよい。粒径については、例えば、以下の方法で測定することができる。グラス皮膜を除去し、酸洗を行って、地鉄を露出させた後に、圧延方向に３００ｍｍ板幅方向に１００ｍｍの視野を観察し、目視または画像処理で結晶粒の圧延方向および板厚方向の寸法を測定し、その平均値を得る。
【００３７】
溝２３に沿って延びる結晶粒５３は必ずしもゴス方位の結晶粒ではない。しかし、その大きさは限られているため、磁気特性への影響は極めて小さい。
【００３８】
特許文献１〜９には、上記の実施形態のように、レーザビームの照射により溝を形成し、更に、二次再結晶の際にこの溝に沿って延びる結晶粒界を生じさせることは記載されていない。即ち、レーザビームを照射することが記載されていても、その照射のタイミング等が適当なものではないため、上記の実施形態で得られる効果を得ることはできない。
【実施例】
【００３９】
（第１の実験）
第１の実験では、方向性電磁鋼用の鋼材の熱間圧延、焼鈍、及び冷間圧延を行い、珪素鋼板の厚さを０．２３ｍｍとし、これを巻き取って冷延コイルとした。冷延コイルは５個作製した。続いて、実施例Ｎｏ．１、Ｎｏ．２、Ｎｏ．３にあたる３個の冷延コイルについては、レーザビームの照射による溝の形成を行い、その後に、脱炭焼鈍を行って一次再結晶を生じさせた。レーザビームの照射は、ファイバレーザを使用して行った。いずれもパワーＰは２０００Ｗ、集光形状は、実施例Ｎｏ．１、Ｎｏ．２については、Ｌ方向径Ｄｌが０．０５ｍｍ、Ｃ方向径Ｄｃが０．４ｍｍである。実施例Ｎｏ．３については、Ｌ方向径Ｄｌが０．０４ｍｍ、Ｃ方向径Ｄｃが０．０４ｍｍである。走査速度Ｖｃは、実施例Ｎｏ．１とＮｏ．３が１０ｍ／ｓ、実施例Ｎｏ．２が、５０ｍ／ｓとした。従って、瞬時パワー密度Ｉｐは実施例Ｎｏ．１、Ｎｏ．２が１２７ｋＷ／ｍｍ２であり、実施例Ｎｏ．３が１６００ｋＷ／ｍｍ２である。照射エネルギー密度Ｕｐは、実施例Ｎｏ．１が５．１Ｊ／ｍｍ２、実施例Ｎｏ．２が１．０Ｊ／ｍｍ２、実施例Ｎｏ．３が６．４Ｊ／ｍｍ２である。照射ピッチＰＬは４ｍｍとし、アシストガスとして空気を１５Ｌ／分の流量で吹き付けた。この結果、形成された溝の幅は、実施例Ｎｏ．１、Ｎｏ．３が約０．０６ｍｍすなわち６０μｍで、実施例Ｎｏ．２が０．０５ｍｍすなわち５０μｍであった。溝の深さは実施例Ｎｏ．１が約０．０２ｍｍすなわち２０μｍで、実施例Ｎｏ．２が３μｍ、実施例Ｎｏ．３が３０μｍであった。幅のばらつきは±５μｍ以内、深さのばらつきは±２μｍ以内であった。
【００４０】
比較例Ｎｏ．１にあたる他の１個の冷延コイルについては、エッチングによる溝の形成を行い、その後に、脱炭焼鈍を行って一次再結晶を生じさせた。この溝の形状は、上記のレーザビームの照射により形成された実施例Ｎｏ．１の溝の形状と同様のものとした。比較例Ｎｏ．２にあたる残りの１個の冷延コイルについては、溝の形成を行わずに、その後に、脱炭焼鈍を行って一次再結晶を生じさせた。
【００４１】
実施例Ｎｏ．１、実施例Ｎｏ．２、実施例Ｎｏ．３、比較例Ｎｏ．１、比較例Ｎｏ．２のいずれにおいても、脱炭焼鈍後に、これらの珪素鋼板に、焼鈍分離剤の塗布、仕上焼鈍、平坦化焼鈍、及びコーティングを行った。このようにして、５種類の方向性電磁鋼板を製造した。
【００４２】
これらの方向性電磁鋼板の組織を観察したところ、実施例Ｎｏ．１、実施例Ｎｏ．２、実施例Ｎｏ．３、比較例Ｎｏ．１、比較例Ｎｏ．２のいずれにおいても、二次再結晶により形成された二次再結晶粒が存在した。実施例Ｎｏ．１、実施例Ｎｏ．２、実施例Ｎｏ．３では、図６Ａまたは図６Ｂに示す結晶粒界４１と同様に、溝に沿った結晶粒界が存在したが、比較例Ｎｏ．１及び比較例Ｎｏ．２では、このような結晶粒界は存在しなかった。
【００４３】
上記の各方向性電磁鋼板から、圧延方向の長さが３００ｍｍ、板幅方向の長さが６０ｍｍの単板をそれぞれ３０枚サンプリングし、単板磁気測定法（ＳＳＴ：Single Sheet Test）にて磁気特性の平均値を測定した。測定方法は、ＩＥＣ６０４０４−３：１９８２に準拠して実施した。磁気特性としては、磁束密度Ｂ８（Ｔ）及び鉄損Ｗ１７／５０（Ｗ／ｋｇ）を測定した。磁束密度Ｂ８は磁化力８００Ａ／ｍにおいて方向性電磁鋼板に発生する磁束密度である。磁束密度Ｂ８の値が大きい方向性電磁鋼板ほど、一定の磁化力で発生する磁束密度が大きいため、小型で効率の優れたトランスに適している。鉄損Ｗ１７／５０は、最大磁束密度が１．７Ｔ、周波数が５０Ｈｚの条件下で方向性電磁鋼板を交流励磁したときの鉄損である。鉄損Ｗ１７／５０の値が小さい方向性電磁鋼板ほど、エネルギー損失が低くトランスに適している。磁束密度Ｂ８（Ｔ）及び鉄損Ｗ１７／５０（Ｗ／ｋｇ）の各平均値を下記表１に示す。また、上記の単板サンプルについてＥＭＰＡを用いてＸ線強度比Ｉｒの測定を行った。各平均値を併せて下表１に示す。
【００４４】
【表１】
【００４５】
表１に示すように、実施例Ｎｏ．１、Ｎｏ．２、Ｎｏ．３では、比較例Ｎｏ．２と比較して、溝が形成された分だけ磁束密度Ｂ８が低かったが、溝及びこの溝に沿った結晶粒界が存在するため、著しく鉄損が低かった。実施例Ｎｏ．１、Ｎｏ．２、Ｎｏ．３では、比較例Ｎｏ．１と比較しても、溝に沿った結晶粒界が存在するため、鉄損が低かった。
【００４６】
（第２の実験）
第２の実験では、レーザビームの照射条件に関する検証を行った。ここでは、下記の４種の条件でレーザビームの照射を行った。
【００４７】
第１の条件では、連続波ファイバレーザを使用した。パワーＰは２０００Ｗ、Ｌ方向径Ｄｌは０．０５ｍｍ、Ｃ方向径Ｄｃは０．４ｍｍ、走査速度Ｖｃは５ｍ／ｓとした。従って、瞬時パワー密度Ｉｐは１２７ｋＷ／ｍｍ２であり、照射エネルギー密度Ｕｐは１０．２Ｊ／ｍｍ２である。つまり、第１の実験の条件よりも、走査速度を半減させ、照射エネルギー密度Ｕｐを２倍にした。従って、第１の条件は式３を満たさない。この結果、照射部を起点にして鋼板の反り変形が発生した。反り角度が３°〜１０°に達したため、コイル状に巻き取ることが困難であった。
【００４８】
第２の条件でも、連続波ファイバレーザを使用した。また、パワーＰは２０００Ｗ、Ｌ方向径Ｄｌは０．１０ｍｍ、Ｃ方向径Ｄｃは０．３ｍｍ、走査速度Ｖｃは１０ｍ／ｓとした。従って、瞬時パワー密度Ｉｐは８５ｋＷ／ｍｍ２であり、照射エネルギー密度Ｕｐは２．５Ｊ／ｍｍ２である。つまり、第１の実験の条件よりも、Ｌ方向径Ｄｌ、Ｃ方向系Ｄｃを変化させ、瞬時パワー密度Ｉｐを小さくした。第２の条件は式４を満たさない。この結果、貫通する粒界を形成することが困難であった。
【００４９】
第３の条件でも、連続波ファイバレーザを使用した。パワーＰは２０００Ｗ、Ｌ方向径Ｄｌは０．０３ｍｍ、Ｃ方向径Ｄｃは０．０３ｍｍ、走査速度Ｖｃは１０ｍ／ｓとした。従って、瞬時パワー密度Ｉｐは２８００ｋＷ／ｍｍ２、照射エネルギー密度Ｕｐは８．５Ｊ／ｍｍ２である。つまり、第１の実験の条件よりも、Ｌ方向径Ｄｌを小さくし、瞬時パワー密度Ｉｐを大きくした。従って、第３の条件も式４を満たさない。この結果、溝に沿った結晶粒界を十分に形成することが困難であった。
【００５０】
第４の条件でも、連続波ファイバレーザを使用した。パワーＰは２０００Ｗ、Ｌ方向径Ｄｌは０．０５ｍｍ、Ｃ方向径Ｄｃは０．４ｍｍ、走査速度Ｖｃは６０ｍ／ｓとした。従って、瞬時パワー密度Ｉｐは１２７ｋＷ／ｍｍ２、照射エネルギー密度Ｕｐは０．８Ｊ／ｍｍ２である。つまり、第１の実験の条件よりも、走査速度を大きくし、照射エネルギー密度Ｕｐを小さくした。第４の条件は式３を満たさない。この結果、第４の条件は、深さが１μｍ以上の溝を形成することが困難であった。
【００５１】
（第３の実験）
第３の実験では、アシストガスの流量を１０Ｌ／分未満とした条件、及びアシストガスを供給しないという条件の２種類の条件でレーザビームの照射を行った。この結果、溝の深さを安定させることが困難であり、溝の幅のばらつきが±１０μｍ以上、深さのばらつきが±５μｍ以上であった。このため、実施例と比較して磁気特性のばらつきが大きかった。
【産業上の利用可能性】
【００５２】
本発明の態様によれば、工業的に量産することが可能な方法で鉄損の低い方向性電磁鋼板を得ることができる。
【符号の説明】
【００５３】
１ 珪素鋼板
２ レーザビーム照射装置
３、６、７ 焼鈍炉
３１ 鋼板コイル
３２ 方向性電磁鋼板
９、１９ レーザビーム
１０、２０ 走査装置
２３ 溝
２４ レーザビーム集光スポット
２５ アシストガス
２６、２７、５３、５４ 結晶粒
４１、５１、５２ 結晶粒界
【技術分野】
【０００１】
本発明は、トランスの鉄芯等に好適な方向性電磁鋼板の製造方法に関する。本願は、２０１０年９月９日に、日本に出願された特願２０１０−２０２３９４号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
【背景技術】
【０００２】
方向性電磁鋼板の鉄損を低減するための技術として、地鉄の表面に歪みを導入して磁区を細分化する技術がある（特許文献３）。しかし、巻き鉄芯では、その製造工程で歪み取り焼鈍を行うため、焼鈍の際に、導入された歪みが緩和され、磁区の細分化が十分なものとならない。
【０００３】
この欠点を補う方法として地鉄の表面に溝を形成する技術がある（特許文献１、２、４、５）。更に、地鉄の表面に溝を形成すると共に、この溝の底部から板厚方向に地鉄の裏面にわたる結晶粒界を形成する技術がある（特許文献６）。
【０００４】
溝と粒界を形成する方法は鉄損改善効果が高い。しかし、特許文献６に記載された技術では、生産性が著しく低下する。これは、所望の効果を得るために溝の幅を３０μｍ〜３００μｍ程度とした上で、さらに結晶粒界の形成のために、溝へのＳｎ等の付着及び焼鈍、溝への歪みの付加、又は溝への熱処理のためのレーザ光やプラズマ等の放射が必要となるからである。つまり、狭い溝に正確に合わせて、Ｓｎの付着、歪みの付加、レーザ光の放射等の処理を行うことは困難であり、これを実現するためには、少なくとも、通板速度を極めて遅くする必要があるからである。特許文献６には、溝を形成する方法として電解エッチングを行う方法が挙げられている。しかし、電解エッチングを行うためには、レジストの塗布、エッチング液を用いた腐食処理、レジストの除去、及び洗浄を行う必要がある。そのため、工数及び処理時間が大幅に増加する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】日本国特公昭６２−５３５７９号公報
【特許文献２】日本国特公昭６２−５４８７３号公報
【特許文献３】日本国特開昭５６−５１５２８号公報
【特許文献４】日本国特開平６−５７３３５号公報
【特許文献５】日本国特開２００３−１２９１３５号公報
【特許文献６】日本国特開平７−２６８４７４号公報
【特許文献７】日本国特開２０００−１０９９６１号公報
【特許文献８】日本国特開平９−４９０２４号公報
【特許文献９】日本国特開平９−２６８３２２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、鉄損が低い方向性電磁鋼板を工業的に量産することができる方向性電磁鋼板の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決して係る目的を達成するために、本発明は以下の手段を採用した。
【０００８】
（１）すなわち、本発明の一態様に係る方向性電磁鋼板の製造方法は、Ｓｉを含む珪素鋼板を通板方向に沿って移動させながら冷間圧延を行う冷間圧延工程と；前記珪素鋼板の脱炭及び一次再結晶を生じさせる第１の連続焼鈍工程と；前記珪素鋼板に焼鈍分離剤を塗布する焼鈍分離剤塗布工程と；前記珪素鋼板を巻き取って鋼板コイルを得る巻き取り工程と；前記冷間圧延工程から前記巻き取り工程にかけての間に、前記珪素鋼板の表面に対して、前記珪素鋼板の板幅方向の一端縁から他端縁にかけてレーザビームを前記通板方向で所定の間隔をあけて複数回照射して、前記レーザビームの軌跡に沿う溝を形成する溝形成工程と；前記鋼板コイルに二次再結晶を生じさせるバッチ焼鈍工程と；前記鋼板コイルを巻き解いて平坦化する第２の連続焼鈍工程と；前記珪素鋼板の表面に張力と電気的絶縁性を付与する連続コーティング工程と；をこの順に有し、前記バッチ焼鈍工程で、前記溝に沿って前記珪素鋼板の表裏を貫通する結晶粒界を生じさせ、前記レーザビームの平均強度をＰ（Ｗ）、前記レーザビームの集光スポットの前記通板方向の集光径をＤｌ（ｍｍ）、前記板幅方向の集光径をＤｃ（ｍｍ）、前記レーザビームの前記板幅方向の走査速度をＶｃ（ｍｍ／ｓ）、前記レーザビームの照射エネルギー密度Ｕｐを下記式１、前記レーザビームの瞬時パワー密度Ｉｐを下記式２としたとき、下記の式３及び式４を満たす。
Ｕｐ＝（４／π）×Ｐ／（Ｄｌ×Ｖｃ）…（式１）
Ｉｐ＝（４／π）×Ｐ／（Ｄｌ×Ｄｃ）×（１／１０００）…（式２）
１≦Ｕｐ≦１０（Ｊ／ｍｍ２）…（式３）
１００（ｋＷ／ｍｍ２）≦Ｉｐ≦２０００（ｋＷ／ｍｍ２）…（式４）
【０００９】
（２）上記（１）に記載の態様では、前記溝形成工程で、前記珪素鋼板の、前記レーザビームが照射される部分に１０Ｌ／分以上５００Ｌ／分以下の流量でガスを吹き付けてもよい。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の上記態様によれば、工業的に量産することが可能な方法で鉄損の低い方向性電磁鋼板を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の実施形態に係る方向性電磁鋼板の製造方法を示す図である。
【図２】本発明の実施形態の変形例を示す図である。
【図３Ａ】本発明の実施形態におけるレーザビームを走査する方法の他の例を示す図である。
【図３Ｂ】本発明の実施形態におけるレーザビームを走査する方法の他の例を示す図である。
【図４Ａ】本発明の実施形態におけるレーザビーム集光スポットを示す図である。
【図４Ｂ】本発明の実施形態におけるレーザビーム集光スポットを示す図である。
【図５】本発明の実施形態において形成される溝及び結晶粒を示す図である。
【図６Ａ】本発明の実施形態において形成される結晶粒界を示す図である。
【図６Ｂ】本発明の実施形態において形成される結晶粒界を示す図である。
【図７Ａ】本発明の実施形態における珪素鋼板の表面の写真を示す図である。
【図７Ｂ】比較例の実施形態における珪素鋼板の表面の写真を示す図である。
【図８Ａ】本発明の実施形態における結晶粒界の他の例を示す図である。
【図８Ｂ】本発明の実施形態における結晶粒界の他の例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明の実施形態について、添付の図面を参照しながら説明する。図１は、本発明の実施形態に係る方向性電磁鋼板の製造方法を示す図である。
【００１３】
本実施形態では、図１に示すように、例えば２質量％〜４質量％のＳｉを含む珪素鋼板１に対して冷間圧延を行う。この珪素鋼板１は、例えば、溶鋼の連続鋳造、連続鋳造により得られたスラブの熱間圧延、及び熱間圧延により得られた熱間圧延鋼板の焼鈍等を経て作製される。この焼鈍の温度は、例えば約１１００℃である。冷間圧延後の珪素鋼板１の厚さは、例えば０．２ｍｍ〜０．３ｍｍ程度とし、例えば、冷間圧延後に珪素鋼板１はコイル状に巻き取って冷延コイルとしておく。
【００１４】
次いで、コイル状の珪素鋼板１を巻き解きながら、脱炭焼鈍炉３に供給し、焼鈍炉３内で第１の連続焼鈍、いわゆる脱炭焼鈍を行う。この焼鈍の温度は、例えば７００℃〜９００℃である。この焼鈍の際に、脱炭及び、一次再結晶が生じる。その結果、圧延方向に磁化容易軸が揃ったゴス方位の結晶粒が、ある程度の確率で形成される。その後、冷却装置４を用いて、脱炭焼鈍炉３から排出された珪素鋼板１を冷却する。続いて、ＭｇＯを主成分とする焼鈍分離剤の珪素鋼板１の表面への塗布５を行う。そして、焼鈍分離剤が塗布された珪素鋼板１をコイル状に巻き取って鋼板コイル３１とする。
【００１５】
本実施形態では、コイル状の珪素鋼板１を巻き解いてから脱炭焼鈍炉３に供給するまでの間に、レーザビーム照射装置２を用いて珪素鋼板１の表面に溝を形成する。その際、珪素鋼板１の板幅方向の一端縁から他端縁に向けてレーザビームを、所定の集光パワー密度Ｉｐ、かつ所定の集光エネルギー密度Ｕｐで通板方向に関して所定の間隔で複数回照射する。図２に示すように、レーザビーム照射装置２を冷却装置４よりも通板方向の下流側に配置し、冷却装置４による冷却から焼鈍分離剤の塗布５までの間に、珪素鋼板１の表面にレーザビームを照射してもよい。レーザビーム照射装置２を、焼鈍炉３よりも通板方向の上流側、冷却装置４よりも通板方向の下流側の双方に配置し、双方でレーザビームを照射してもよい。焼鈍炉３と冷却装置４との間にてレーザビームを照射してもよく、焼鈍炉３内又は冷却装置４内で照射してもよい。レーザビームによる溝の形成では、機械加工における溝形成と異なり、後述する溶融層を生じる。この溶融層は、脱炭焼鈍等では消失しないため、２次再結晶前のいずれの工程でレーザを照射してもその効果は得られる。
【００１６】
レーザビームの照射は、例えば、図３Ａに示すように、光源であるレーザ装置から出射されたレーザビーム９を、走査装置１０が、珪素鋼板１の圧延方向であるＬ方向にほぼ垂直な板幅方向であるＣ方向に、所定の間隔ＰＬで走査することにより行われる。この際、空気又は不活性ガス等のアシストガス２５が珪素鋼板１のレーザビーム９が照射される部位に吹き付けられる。これらの結果、珪素鋼板１の表面のレーザビーム９が照射された部分に溝２３が形成される。圧延方向は通板方向と一致している。
【００１７】
レーザビームの珪素鋼板１の全幅にわたる走査は、１台の走査装置１０により行われてもよく、図３Ｂに示すように、複数台の走査装置２０により行われてもよい。複数台の走査装置２０が用いられる場合、各走査装置２０に入射してくるレーザビーム１９の光源であるレーザ装置は１台のみ設けられていてもよく、走査装置２０毎に１台ずつ設けられていてもよい。光源が１台の場合、この光源から出射されたレーザビームを分割してレーザビーム１９とすればよい。複数台の走査装置２０を用いることで、板幅方向に照射領域を複数に分割することが可能となるため、レーザビーム１本当たりに要する走査及び照射の時間が短縮される。従って、特に高速の通板設備に適している。
【００１８】
レーザビーム９又は１９は走査装置１０又は２０内のレンズで集光される。図４Ａ及び図４Ｂに示すように、珪素鋼板１の表面におけるレーザビーム９又は１９のレーザビーム集光スポット２４の形状は、例えば、板幅方向であるＣ方向の径がＤｃ、圧延方向であるＬ方向の径がＤｌの円形又は楕円形である。レーザビーム９又は１９の走査は、例えば、走査装置１０又は２０内のポリゴンミラー等を用いて速度Ｖｃで行われる。例えば、板幅方向の径であるＣ方向径Ｄｃは０．４ｍｍ、圧延方向の径であるＬ方向径Ｄｌは０．０５ｍｍとすることができる。
【００１９】
光源であるレーザ装置としては、例えばＣＯ２レーザを用いることができる。ＹＡＧレーザ、半導体レーザ、ファイバレーザ等の一般的に工業用に用いられる高出力レーザを使用してもよい。用いるレーザは、溝２３と結晶粒２６が安定して形成されればパルスレーザ及び連続波レーザのいずれでもよい。
【００２０】
レーザビームの照射を行う際の珪素鋼板１の温度は特に限定しない。例えば、室温程度の珪素鋼板１に対してレーザビームの照射を行うことができる。レーザビームを走査する方向は板幅方向であるＣ方向と一致している必要はない。しかし、作業効率等の観点及び圧延方向に長い短冊状に磁区を細分する点から、走査方向と板幅方向であるＣ方向がなす角は４５°以内であることが好ましい。２０°以内であることがより好ましく、１０°以内であることが更に一層好ましい。
【００２１】
溝２３の形成に好適なレーザビームの瞬時パワー密度Ｉｐ及び照射エネルギー密度Ｕｐについて説明する。本実施形態では、以下に示す理由により、式２で定義されるレーザビームのピークパワー密度すなわち瞬時パワー密度Ｉｐが式４を満たしていることが好ましく、式１で定義されるレーザビームの照射エネルギー密度Ｕｐが式３を満たしていることが好ましい。
Ｕｐ＝（４／π）×Ｐ／（Ｄｌ×Ｖｃ） ・・・（式１）
Ｉｐ＝（４／π）×Ｐ／（Ｄｌ×Ｄｃ）×（１／１０００） ・・・（式２）
１≦Ｕｐ≦１０Ｊ／ｍｍ２ ・・・（式３）
１００ｋＷ／ｍｍ２≦Ｉｐ≦２０００ｋＷ／ｍｍ２ ・・・（式４）
ここで、Ｐはレーザビームの平均強度、すなわちパワー（Ｗ）を示し、Ｄｌはレーザビームの集光スポットの圧延方向の径（ｍｍ）を示し、Ｄｃはレーザビームの集光スポットの板幅方向の径（ｍｍ）を示し、Ｖｃはレーザビームの板幅方向の走査速度（ｍｍ／ｓ）を示す。
【００２２】
珪素鋼板１にレーザビーム９が照射されると、照射された部分が溶融し、その一部が飛散又は蒸発する。その結果、溝２３が形成される。溶融した部分のうち、飛散又は蒸発しなかった部分はそのまま残留し、レーザビーム９の照射終了後に凝固する。この凝固の際に、図５に示すように、溝の底部から珪素鋼板の内部に向かって長く伸びる柱状晶及び／又はレーザ非照射部に比べて粒径が大きい結晶粒、すなわち、一次再結晶により得られた結晶粒２７とは形状の異なる結晶粒２６が形成される。この結晶粒２６が二次再結晶の際の結晶粒界成長の起点となる。
【００２３】
上述の瞬時パワー密度Ｉｐが１００ｋＷ／ｍｍ２未満であると、珪素鋼板１の溶融及び飛散又は蒸発を十分に生じさせることが、困難になる。つまり、溝２３を形成しにくくなる。一方、瞬時パワー密度Ｉｐが２０００ｋＷ／ｍｍ２を超えると、溶融した鋼の多くが飛散又は蒸発して、結晶粒２６が形成されにくくなる。照射エネルギー密度Ｕｐが１０Ｊ／ｍｍ２を超えると、珪素鋼板１の溶融する部分が多くなり、珪素鋼板１が変形しやすくなる。一方、照射エネルギー密度が１Ｊ／ｍｍ２未満であると、磁気特性に改善がみられない。これらの理由により、上記の式３及び式４が満たされていることが好ましい。
【００２４】
レーザビームが照射される際、アシストガス２５が、珪素鋼板１から飛散又は蒸発した成分をレーザビーム９の照射経路から除去するために吹き付けられる。この吹き付けにより、レーザビーム９が安定して珪素鋼板１に到達するため、溝２３が安定して形成される。また、アシストガス２５が吹き付けられることにより、当該成分の珪素鋼板１への再付着を抑制できる。これらの効果を十分に得るためには、アシストガス２５の流量は、１０Ｌ（リットル）／分以上とすることが好ましい。一方で、５００Ｌ／分を超えると効果が飽和し、コストも高くなる。そのため、上限は、５００Ｌ／分とすることが好ましい。
【００２５】
上述してきた好ましい条件は、脱炭焼鈍と仕上焼鈍との間にレーザビームの照射を行う場合、並びに、脱炭焼鈍の前及び後にレーザビームの照射を行う場合も、同様である。
【００２６】
図１を用いた説明に戻る。焼鈍分離剤の塗布５及び巻き取りの後、図１に示すように、鋼板コイル３１を焼鈍炉６内に搬送し、鋼板コイル３１の中心軸をほぼ鉛直方向にして載置する。その後、バッチ処理で鋼板コイル３１のバッチ焼鈍、いわゆる仕上焼鈍を行う。このバッチ焼鈍の最高到達温度は、例えば１２００℃程度とし、保持時間は、例えば２０時間程度とする。このバッチ焼鈍の際に、二次再結晶が生じると共に、珪素鋼板１の表面にグラス皮膜が形成される。その後、焼鈍炉６から鋼板コイル３１を取り出す。
上述の態様によって得られたグラス皮膜は、方向性電磁鋼板表面の溝部以外のＭｇの特性Ｘ線強度の平均値を１とした場合における溝部のＭｇの特性Ｘ線強度のＸ線強度比Ｉｒが０≦Ｉｒ≦０．９の範囲内であることが望ましい。この範囲であれば、良好な鉄損特性が得られる。
上記Ｘ線強度比は、ＥＰＭＡ（Electron Probe MicroAnalyser）等を用いて、測定することで得られる。
【００２７】
続いて、鋼板コイル３１を巻き解きながら、焼鈍炉７に供給し、焼鈍炉７内で第２の連続焼鈍、いわゆる平坦化焼鈍を行う。この第２の連続焼鈍の際に、仕上焼鈍時に発生した巻癖及び歪み変形が取り除かれ、珪素鋼板１が平坦になる。焼鈍条件としては、例えば、７００℃以上９００℃以下の温度で１０秒以上１２０秒以下の保持とすることができる。次いで、珪素鋼板１の表面へのコーティング８を行う。コーティング８では、電気的絶縁性の確保、及び鉄損を低減する張力の作用が可能なものが塗布される。これらの一連の処理を経て方向性電磁鋼板３２が製造される。コーティング８で皮膜が形成された後、例えば、保管及び搬送等の便宜のために、方向性電磁鋼板３２をコイル状に巻き取る。
【００２８】
上述の方法で方向性電磁鋼板３２を製造すると、二次再結晶の際に、図６Ａ及び図６Ｂに示すように、溝２３に沿って珪素鋼板１の表裏を貫通する結晶粒界４１が生じる。これは、結晶粒２６がゴス方位の結晶粒に侵食されにくいために二次再結晶の終期まで残存することと、最終的にはゴス方位の結晶粒に吸収されるものの、その際には、溝２３の両側から大きく成長してきた結晶粒が互いに侵食できないことが原因である。
【００２９】
上記の実施形態に沿って製造された方向性電磁鋼板において、図７Ａに示す結晶粒界が観察された。これら結晶粒界には、溝に沿って形成された結晶粒界４１が含まれていた。また、レーザビームの照射を省略したことを除き上記の実施形態に沿って製造された方向性電磁鋼板において、図７Ｂに示す結晶粒界が観察された。
【００３０】
図７Ａ及び図７Ｂは、方向性電磁鋼板の表面からグラス皮膜等を除去し、地鉄を露出させた後に、その表面の酸洗を行って撮影された写真である。これらの写真には、二次再結晶により得られた結晶粒及び結晶粒界が現れている。
【００３１】
上述の方法により製造された方向性電磁鋼板では、地鉄の表面に形成されている溝２３によって、磁区細分化の効果が得られる。また、溝２３に沿って珪素鋼板１の表裏を貫通する結晶粒界４１によっても磁区細分化の効果が得られる。これらの相乗効果により鉄損をより低くすることができる。
【００３２】
溝２３は、所定のレーザビームの照射によって形成されているため、結晶粒界４１の形成は、極めて容易である。即ち、溝２３の形成後に、結晶粒界４１の形成のための溝２３の位置を基準にした位置合わせ等を行う必要がない。従って、通板速度の著しい低下等が必要なく、方向性電磁鋼板を工業的に量産することが可能である。
【００３３】
レーザビームの照射は高速で行うことが可能であり、微小空間に集光して高エネルギー密度が得られる。従って、レーザビームの照射を行わない場合と比較しても処理に要する時間の増加は少ない。すなわち、レーザビームの照射の有無にかかわらず、冷延コイルを巻き解きながらの脱炭焼鈍等を行う処理における通板速度を、ほとんど変化させる必要がない。更に、レーザビームの照射を行う温度が制限されないため、レーザ照射装置の断熱機構等が不要である。従って、高温炉内での処理が必要となる場合と比較して、装置の構成を簡素なものにできる。
【００３４】
溝２３の深さは特に限定しないが、１μｍ以上３０μｍ以下であることが好ましい。溝２３の深さが１μｍ未満であると、磁区の細分化が十分とならないことがある。溝２３の深さが３０μｍを超えると、磁性材料である珪素鋼板すなわち地鉄の量が低下し、磁束密度が低下する。より好ましくは、１０μｍ以上、２０μｍ以下である。溝２３は、珪素鋼板の片面のみに形成されていてもよく、両面に形成されていてもよい。
【００３５】
溝２３の間隔ＰＬは特に限定されないが、２ｍｍ以上１０ｍｍ以下であることが好ましい。間隔ＰＬが２ｍｍ未満であると、溝による磁束形成の阻害が顕著となり、トランスとして必要な十分な高磁束密度が形成され難くなる。一方、間隔ＰＬが１０ｍｍを超えると、溝及び粒界による磁気特性改善効果が大きく減少する。
【００３６】
上述の実施形態では、１つの溝２３に沿って１つの結晶粒界４１が形成されている。しかし、例えば、溝２３の幅が広く、結晶粒２６が圧延方向の広範囲にわたって形成されている場合には、二次再結晶の際に、一部の結晶粒２６が他の結晶粒２６よりも比較的早くに成長することがある。この場合、図８Ａ及び図８Ｂに示すように、溝２３の板厚方向下方に、ある程度の幅を持って溝２３に沿った複数の結晶粒５３が形成される。結晶粒５３の圧延方向の粒径Ｗｃｌは、０ｍｍ超であればよく、例えば１ｍｍ以上となるが、１０ｍｍ以下となりやすい。粒径Ｗｃｌが１０ｍｍ以下となりやすいのは、二次再結晶時に最優先で成長する結晶粒がゴス方位の結晶粒５４であり、結晶粒５４によって成長が妨げられるからである。結晶粒５３と結晶粒５４との間には、溝２３と略平行な結晶粒界５１が存在する。隣り合う結晶粒５３の間には、結晶粒界５２が存在する。結晶粒５３の板幅方向の粒径Ｗｃｃは、例えば１０ｍｍ以上となりやすい。結晶粒５３は、板幅全体にわたって幅方向に一つの結晶粒として存在してもよく、その場合には、結晶粒界５２は存在しなくてもよい。粒径については、例えば、以下の方法で測定することができる。グラス皮膜を除去し、酸洗を行って、地鉄を露出させた後に、圧延方向に３００ｍｍ板幅方向に１００ｍｍの視野を観察し、目視または画像処理で結晶粒の圧延方向および板厚方向の寸法を測定し、その平均値を得る。
【００３７】
溝２３に沿って延びる結晶粒５３は必ずしもゴス方位の結晶粒ではない。しかし、その大きさは限られているため、磁気特性への影響は極めて小さい。
【００３８】
特許文献１〜９には、上記の実施形態のように、レーザビームの照射により溝を形成し、更に、二次再結晶の際にこの溝に沿って延びる結晶粒界を生じさせることは記載されていない。即ち、レーザビームを照射することが記載されていても、その照射のタイミング等が適当なものではないため、上記の実施形態で得られる効果を得ることはできない。
【実施例】
【００３９】
（第１の実験）
第１の実験では、方向性電磁鋼用の鋼材の熱間圧延、焼鈍、及び冷間圧延を行い、珪素鋼板の厚さを０．２３ｍｍとし、これを巻き取って冷延コイルとした。冷延コイルは５個作製した。続いて、実施例Ｎｏ．１、Ｎｏ．２、Ｎｏ．３にあたる３個の冷延コイルについては、レーザビームの照射による溝の形成を行い、その後に、脱炭焼鈍を行って一次再結晶を生じさせた。レーザビームの照射は、ファイバレーザを使用して行った。いずれもパワーＰは２０００Ｗ、集光形状は、実施例Ｎｏ．１、Ｎｏ．２については、Ｌ方向径Ｄｌが０．０５ｍｍ、Ｃ方向径Ｄｃが０．４ｍｍである。実施例Ｎｏ．３については、Ｌ方向径Ｄｌが０．０４ｍｍ、Ｃ方向径Ｄｃが０．０４ｍｍである。走査速度Ｖｃは、実施例Ｎｏ．１とＮｏ．３が１０ｍ／ｓ、実施例Ｎｏ．２が、５０ｍ／ｓとした。従って、瞬時パワー密度Ｉｐは実施例Ｎｏ．１、Ｎｏ．２が１２７ｋＷ／ｍｍ２であり、実施例Ｎｏ．３が１６００ｋＷ／ｍｍ２である。照射エネルギー密度Ｕｐは、実施例Ｎｏ．１が５．１Ｊ／ｍｍ２、実施例Ｎｏ．２が１．０Ｊ／ｍｍ２、実施例Ｎｏ．３が６．４Ｊ／ｍｍ２である。照射ピッチＰＬは４ｍｍとし、アシストガスとして空気を１５Ｌ／分の流量で吹き付けた。この結果、形成された溝の幅は、実施例Ｎｏ．１、Ｎｏ．３が約０．０６ｍｍすなわち６０μｍで、実施例Ｎｏ．２が０．０５ｍｍすなわち５０μｍであった。溝の深さは実施例Ｎｏ．１が約０．０２ｍｍすなわち２０μｍで、実施例Ｎｏ．２が３μｍ、実施例Ｎｏ．３が３０μｍであった。幅のばらつきは±５μｍ以内、深さのばらつきは±２μｍ以内であった。
【００４０】
比較例Ｎｏ．１にあたる他の１個の冷延コイルについては、エッチングによる溝の形成を行い、その後に、脱炭焼鈍を行って一次再結晶を生じさせた。この溝の形状は、上記のレーザビームの照射により形成された実施例Ｎｏ．１の溝の形状と同様のものとした。比較例Ｎｏ．２にあたる残りの１個の冷延コイルについては、溝の形成を行わずに、その後に、脱炭焼鈍を行って一次再結晶を生じさせた。
【００４１】
実施例Ｎｏ．１、実施例Ｎｏ．２、実施例Ｎｏ．３、比較例Ｎｏ．１、比較例Ｎｏ．２のいずれにおいても、脱炭焼鈍後に、これらの珪素鋼板に、焼鈍分離剤の塗布、仕上焼鈍、平坦化焼鈍、及びコーティングを行った。このようにして、５種類の方向性電磁鋼板を製造した。
【００４２】
これらの方向性電磁鋼板の組織を観察したところ、実施例Ｎｏ．１、実施例Ｎｏ．２、実施例Ｎｏ．３、比較例Ｎｏ．１、比較例Ｎｏ．２のいずれにおいても、二次再結晶により形成された二次再結晶粒が存在した。実施例Ｎｏ．１、実施例Ｎｏ．２、実施例Ｎｏ．３では、図６Ａまたは図６Ｂに示す結晶粒界４１と同様に、溝に沿った結晶粒界が存在したが、比較例Ｎｏ．１及び比較例Ｎｏ．２では、このような結晶粒界は存在しなかった。
【００４３】
上記の各方向性電磁鋼板から、圧延方向の長さが３００ｍｍ、板幅方向の長さが６０ｍｍの単板をそれぞれ３０枚サンプリングし、単板磁気測定法（ＳＳＴ：Single Sheet Test）にて磁気特性の平均値を測定した。測定方法は、ＩＥＣ６０４０４−３：１９８２に準拠して実施した。磁気特性としては、磁束密度Ｂ８（Ｔ）及び鉄損Ｗ１７／５０（Ｗ／ｋｇ）を測定した。磁束密度Ｂ８は磁化力８００Ａ／ｍにおいて方向性電磁鋼板に発生する磁束密度である。磁束密度Ｂ８の値が大きい方向性電磁鋼板ほど、一定の磁化力で発生する磁束密度が大きいため、小型で効率の優れたトランスに適している。鉄損Ｗ１７／５０は、最大磁束密度が１．７Ｔ、周波数が５０Ｈｚの条件下で方向性電磁鋼板を交流励磁したときの鉄損である。鉄損Ｗ１７／５０の値が小さい方向性電磁鋼板ほど、エネルギー損失が低くトランスに適している。磁束密度Ｂ８（Ｔ）及び鉄損Ｗ１７／５０（Ｗ／ｋｇ）の各平均値を下記表１に示す。また、上記の単板サンプルについてＥＭＰＡを用いてＸ線強度比Ｉｒの測定を行った。各平均値を併せて下表１に示す。
【００４４】
【表１】
【００４５】
表１に示すように、実施例Ｎｏ．１、Ｎｏ．２、Ｎｏ．３では、比較例Ｎｏ．２と比較して、溝が形成された分だけ磁束密度Ｂ８が低かったが、溝及びこの溝に沿った結晶粒界が存在するため、著しく鉄損が低かった。実施例Ｎｏ．１、Ｎｏ．２、Ｎｏ．３では、比較例Ｎｏ．１と比較しても、溝に沿った結晶粒界が存在するため、鉄損が低かった。
【００４６】
（第２の実験）
第２の実験では、レーザビームの照射条件に関する検証を行った。ここでは、下記の４種の条件でレーザビームの照射を行った。
【００４７】
第１の条件では、連続波ファイバレーザを使用した。パワーＰは２０００Ｗ、Ｌ方向径Ｄｌは０．０５ｍｍ、Ｃ方向径Ｄｃは０．４ｍｍ、走査速度Ｖｃは５ｍ／ｓとした。従って、瞬時パワー密度Ｉｐは１２７ｋＷ／ｍｍ２であり、照射エネルギー密度Ｕｐは１０．２Ｊ／ｍｍ２である。つまり、第１の実験の条件よりも、走査速度を半減させ、照射エネルギー密度Ｕｐを２倍にした。従って、第１の条件は式３を満たさない。この結果、照射部を起点にして鋼板の反り変形が発生した。反り角度が３°〜１０°に達したため、コイル状に巻き取ることが困難であった。
【００４８】
第２の条件でも、連続波ファイバレーザを使用した。また、パワーＰは２０００Ｗ、Ｌ方向径Ｄｌは０．１０ｍｍ、Ｃ方向径Ｄｃは０．３ｍｍ、走査速度Ｖｃは１０ｍ／ｓとした。従って、瞬時パワー密度Ｉｐは８５ｋＷ／ｍｍ２であり、照射エネルギー密度Ｕｐは２．５Ｊ／ｍｍ２である。つまり、第１の実験の条件よりも、Ｌ方向径Ｄｌ、Ｃ方向系Ｄｃを変化させ、瞬時パワー密度Ｉｐを小さくした。第２の条件は式４を満たさない。この結果、貫通する粒界を形成することが困難であった。
【００４９】
第３の条件でも、連続波ファイバレーザを使用した。パワーＰは２０００Ｗ、Ｌ方向径Ｄｌは０．０３ｍｍ、Ｃ方向径Ｄｃは０．０３ｍｍ、走査速度Ｖｃは１０ｍ／ｓとした。従って、瞬時パワー密度Ｉｐは２８００ｋＷ／ｍｍ２、照射エネルギー密度Ｕｐは８．５Ｊ／ｍｍ２である。つまり、第１の実験の条件よりも、Ｌ方向径Ｄｌを小さくし、瞬時パワー密度Ｉｐを大きくした。従って、第３の条件も式４を満たさない。この結果、溝に沿った結晶粒界を十分に形成することが困難であった。
【００５０】
第４の条件でも、連続波ファイバレーザを使用した。パワーＰは２０００Ｗ、Ｌ方向径Ｄｌは０．０５ｍｍ、Ｃ方向径Ｄｃは０．４ｍｍ、走査速度Ｖｃは６０ｍ／ｓとした。従って、瞬時パワー密度Ｉｐは１２７ｋＷ／ｍｍ２、照射エネルギー密度Ｕｐは０．８Ｊ／ｍｍ２である。つまり、第１の実験の条件よりも、走査速度を大きくし、照射エネルギー密度Ｕｐを小さくした。第４の条件は式３を満たさない。この結果、第４の条件は、深さが１μｍ以上の溝を形成することが困難であった。
【００５１】
（第３の実験）
第３の実験では、アシストガスの流量を１０Ｌ／分未満とした条件、及びアシストガスを供給しないという条件の２種類の条件でレーザビームの照射を行った。この結果、溝の深さを安定させることが困難であり、溝の幅のばらつきが±１０μｍ以上、深さのばらつきが±５μｍ以上であった。このため、実施例と比較して磁気特性のばらつきが大きかった。
【産業上の利用可能性】
【００５２】
本発明の態様によれば、工業的に量産することが可能な方法で鉄損の低い方向性電磁鋼板を得ることができる。
【符号の説明】
【００５３】
１ 珪素鋼板
２ レーザビーム照射装置
３、６、７ 焼鈍炉
３１ 鋼板コイル
３２ 方向性電磁鋼板
９、１９ レーザビーム
１０、２０ 走査装置
２３ 溝
２４ レーザビーム集光スポット
２５ アシストガス
２６、２７、５３、５４ 結晶粒
４１、５１、５２ 結晶粒界
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｓｉを含む珪素鋼板を通板方向に沿って移動させながら冷間圧延を行う冷間圧延工程と；
前記珪素鋼板の脱炭及び一次再結晶を生じさせる第１の連続焼鈍工程と；
前記珪素鋼板に焼鈍分離剤を塗布する焼鈍分離剤塗布工程と；
前記珪素鋼板を巻き取って鋼板コイルを得る巻き取り工程と；
前記冷間圧延工程から前記巻き取り工程にかけての間に、前記珪素鋼板の表面に対して、前記珪素鋼板の板幅方向の一端縁から他端縁にかけてレーザビームを前記通板方向で所定の間隔をあけて複数回照射して、前記レーザビームの軌跡に沿う溝を形成する溝形成工程と；
前記鋼板コイルに二次再結晶を生じさせるバッチ焼鈍工程と；
前記鋼板コイルを巻き解いて平坦化する第２の連続焼鈍工程と；
前記珪素鋼板の表面に張力と電気的絶縁性を付与する連続コーティング工程と；
をこの順に有し、
前記バッチ焼鈍工程で、前記溝に沿って前記珪素鋼板の表裏を貫通する結晶粒界を生じさせ、
前記レーザビームの平均強度をＰ（Ｗ）、前記レーザビームの集光スポットの前記通板方向の集光径をＤｌ（ｍｍ）、前記板幅方向の集光径をＤｃ（ｍｍ）、前記レーザビームの前記板幅方向の走査速度をＶｃ（ｍｍ／ｓ）、前記レーザビームの照射エネルギー密度Ｕｐを下記式１、前記レーザビームの瞬時パワー密度Ｉｐを下記式２としたとき、下記の式３及び式４を満たす
ことを特徴とする方向性電磁鋼板の製造方法。
Ｕｐ＝（４／π）×Ｐ／（Ｄｌ×Ｖｃ）…（式１）
Ｉｐ＝（４／π）×Ｐ／（Ｄｌ×Ｄｃ）×（１／１０００）…（式２）
１≦Ｕｐ≦１０（Ｊ／ｍｍ２）…（式３）
１００（ｋＷ／ｍｍ２）≦Ｉｐ≦２０００（ｋＷ／ｍｍ２）…（式４）
【請求項２】
前記溝形成工程で、前記珪素鋼板の、前記レーザビームが照射される部分に１０Ｌ／分以上５００Ｌ／分以下の流量でガスを吹き付けることを特徴とする請求項１に記載の方向性電磁鋼板の製造方法。
【請求項１】
Ｓｉを含む珪素鋼板を通板方向に沿って移動させながら冷間圧延を行う冷間圧延工程と；
前記珪素鋼板の脱炭及び一次再結晶を生じさせる第１の連続焼鈍工程と；
前記珪素鋼板に焼鈍分離剤を塗布する焼鈍分離剤塗布工程と；
前記珪素鋼板を巻き取って鋼板コイルを得る巻き取り工程と；
前記冷間圧延工程から前記巻き取り工程にかけての間に、前記珪素鋼板の表面に対して、前記珪素鋼板の板幅方向の一端縁から他端縁にかけてレーザビームを前記通板方向で所定の間隔をあけて複数回照射して、前記レーザビームの軌跡に沿う溝を形成する溝形成工程と；
前記鋼板コイルに二次再結晶を生じさせるバッチ焼鈍工程と；
前記鋼板コイルを巻き解いて平坦化する第２の連続焼鈍工程と；
前記珪素鋼板の表面に張力と電気的絶縁性を付与する連続コーティング工程と；
をこの順に有し、
前記バッチ焼鈍工程で、前記溝に沿って前記珪素鋼板の表裏を貫通する結晶粒界を生じさせ、
前記レーザビームの平均強度をＰ（Ｗ）、前記レーザビームの集光スポットの前記通板方向の集光径をＤｌ（ｍｍ）、前記板幅方向の集光径をＤｃ（ｍｍ）、前記レーザビームの前記板幅方向の走査速度をＶｃ（ｍｍ／ｓ）、前記レーザビームの照射エネルギー密度Ｕｐを下記式１、前記レーザビームの瞬時パワー密度Ｉｐを下記式２としたとき、下記の式３及び式４を満たす
ことを特徴とする方向性電磁鋼板の製造方法。
Ｕｐ＝（４／π）×Ｐ／（Ｄｌ×Ｖｃ）…（式１）
Ｉｐ＝（４／π）×Ｐ／（Ｄｌ×Ｄｃ）×（１／１０００）…（式２）
１≦Ｕｐ≦１０（Ｊ／ｍｍ２）…（式３）
１００（ｋＷ／ｍｍ２）≦Ｉｐ≦２０００（ｋＷ／ｍｍ２）…（式４）
【請求項２】
前記溝形成工程で、前記珪素鋼板の、前記レーザビームが照射される部分に１０Ｌ／分以上５００Ｌ／分以下の流量でガスを吹き付けることを特徴とする請求項１に記載の方向性電磁鋼板の製造方法。
【図１】
【図２】
【図３Ａ】
【図３Ｂ】
【図４Ａ】
【図４Ｂ】
【図５】
【図６Ａ】
【図６Ｂ】
【図８Ａ】
【図８Ｂ】
【図７Ａ】
【図７Ｂ】
【図２】
【図３Ａ】
【図３Ｂ】
【図４Ａ】
【図４Ｂ】
【図５】
【図６Ａ】
【図６Ｂ】
【図８Ａ】
【図８Ｂ】
【図７Ａ】
【図７Ｂ】
【公開番号】特開２０１３−３６１２１（Ｐ２０１３−３６１２１Ａ）
【公開日】平成２５年２月２１日（２０１３．２．２１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１２−２０３６３０（Ｐ２０１２−２０３６３０）
【出願日】平成２４年９月１４日（２０１２．９．１４）
【分割の表示】特願２０１２−５０２７９２（Ｐ２０１２−５０２７９２）の分割
【原出願日】平成２３年９月９日（２０１１．９．９）
【出願人】（０００００６６５５）新日鐵住金株式会社 (6,474)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年２月２１日（２０１３．２．２１）
【国際特許分類】
【出願日】平成２４年９月１４日（２０１２．９．１４）
【分割の表示】特願２０１２−５０２７９２（Ｐ２０１２−５０２７９２）の分割
【原出願日】平成２３年９月９日（２０１１．９．９）
【出願人】（０００００６６５５）新日鐵住金株式会社 (6,474)
【Ｆターム（参考）】
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