有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネル及びその製造方法
【課題】隔壁形成に要する製造コストを抑え、また画素内の発光の均一性を向上させることの可能な有機ＥＬディスプレイパネル、特にテレビや大型モニター用途の有機ＥＬディスプレイパネルおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】ＴＦＴ基板の各画素上に有機エレクトロルミネッセンス素子が形成される有機ＥＬディスプレイパネルにおいて、前記有機ＥＬ素子を構成する有機層の内、少なくとも一層が凸版印刷法を用いて各画素列の位置に合わせてストライプ状に形成され、前記ＴＦＴ基板は、各画素周辺に隔壁が形成されていないことを特徴とする有機ＥＬディスプレイパネル及びその製造方法。
【解決手段】ＴＦＴ基板の各画素上に有機エレクトロルミネッセンス素子が形成される有機ＥＬディスプレイパネルにおいて、前記有機ＥＬ素子を構成する有機層の内、少なくとも一層が凸版印刷法を用いて各画素列の位置に合わせてストライプ状に形成され、前記ＴＦＴ基板は、各画素周辺に隔壁が形成されていないことを特徴とする有機ＥＬディスプレイパネル及びその製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）ディスプレイパネル及びその製造方法に関し、特に有機層の少なくとも一層を凸版印刷法によって形成する有機ＥＬディスプレイパネル及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ素子は、ふたつの対向する電極の間に有機発光材料からなる発光層が形成され、発光層に電流を流すことで発光させるものであるが、効率よく発光させるには発光層の膜厚が重要であり、１００ｎｍ程度の薄膜にする必要がある。さらに、これをディスプレイ化するには高精細にパターニングする必要がある。
発光層を形成する有機発光材料には、低分子材料と高分子材料があり、一般に低分子材料は抵抗加熱蒸着法等により薄膜形成し、このときに微細パターンのマスクを用いてパターニングするが、この方法では基板が大型化すればするほどパターニング精度が出難いという問題がある。
そこで、最近では有機発光材料に高分子材料を用い、有機発光材料を溶剤に分散または溶解させて塗工液にし、これをウェットコーティング法で薄膜形成する方法が試みられるようになってきている。薄膜形成するためのウェットコーティング法としては、スピンコート法、バーコート法、突出コート法、ディップコート法等があるが、高精細にパターニングしたりＲＧＢ３色に塗り分けしたりするためには、これらのウェットコーティング法では難しく、塗り分け・パターニングを得意とする印刷法による薄膜形成もしくは画素毎に液滴を滴下するインクジェット法が有効であると考えられる。
【０００３】
高分子材料で発光層を形成する方法として印刷法を選択する場合、ガラスから成るＴＦＴ基板上に発光層を形成するための印刷法としては、グラビア印刷法等のように金属製の印刷版等の硬い版を用いる方法は不向きであり、弾性を有するゴムブランケットを用いるオフセット印刷法や同じく弾性を有するゴム版や樹脂版を用いる凸版印刷法が適正である。実際ににこれらの印刷法による試みとして、オフセット印刷による方法（特許文献１）、凸版印刷による方法（特許文献２）などが提唱されている。
【０００４】
一方、高分子の有機発光材料やインタレーヤ材料は、水、アルコール系の溶剤に対する溶解性が悪く、塗工液（以下インキと記す）化するには、有機溶剤を用いて溶解、分散させる必要があり、中でも、トルエンやキシレンその他の有機溶剤が好適である。したがって、有機発光材料やインターレイヤ材料のインキ（以下有機ＥＬインキと記す）は有機溶剤のインキとなっている。
ところが、オフセット印刷に用いるゴムブランケットはトルエンやキシレン有機溶剤によって膨潤や変形を起こしやすいという問題がある。ブランケットに使用されるゴムの種類はオレフィン系のゴムからシリコーン系のゴムまで多様であるが、いづれのゴムもトルエン、キシレンその他の溶剤に対して耐性がなく、膨潤や変形が起こりやすく、よって有機ＥＬインキの印刷には不適切である。
また、弾性を有する凸版を使用する凸版印刷方式にも、ゴム製の版を用いるフレキソ印刷方式と樹脂性の版を用いる樹脂凸版方式があるが、このうち水現像タイプの樹脂凸版を用いる方式であれば、トルエン、キシレン、その他の有機溶剤に対する耐性も高く、有機ＥＬインキの印刷に使用可能である。
以上に述べた理由から、ガラス基板のような硬い基材の上に、トルエン、キシレン等の芳香族溶剤からなる有機ＥＬインキを印刷する方式としては、水現像タイプの樹脂凸版を用いる凸版印刷方式が最適である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００１−９３６６８公報
【特許文献２】特開２００１−１５５８５８公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
背景技術の項で述べたように、高分子材料から成る有機ＥＬインキを用いて、ＴＦＴ基板の画素上にＲＧＢの各色を塗分ける方法としては、インクジェット法もしくは印刷法が有効な方法であり、特に印刷法では水現像タイプの樹脂凸版を用いる凸版印刷方式が最適である。
インクジェット法による有機ＥＬインキの塗布方式と凸版印刷法による塗布方式の大きな違いは、インクジェット方式ではほとんど液体状態のインキを液滴として画素上に滴下させるのに対して、凸版印刷方式では、版上で半乾き状態となったインキすなわちある程度粘性をもったインキを画素上に転移させる点にある。
すなわち、インクジェット法で滴下したインキの液滴は、流動して広がり易いため、ＴＦＴ基板の画素上に隔壁を形成して、インキが流れないように保持する必要がある。しかも、固形分濃度１〜３％程度のインキで最終膜厚１００ｎｍ程度の有機発光層を形成するには、３〜１０μｍ近い厚みの液状インキを供給する必要があり、そのため形成する隔壁の高さとしては少なくとも３〜８μｍ程度が要求される。
【０００７】
それに対して、凸版印刷法では転移されるインキは半乾き状態である程度粘性を持っていることから、インクジェットの液滴ほどは流動して広がることはない。
したがって、インクジェット法では、ＴＦＴ基板の画素周辺に図１に示すような隔壁が高さ数μｍ程度で形成されていることが必須であるが、それに対して凸版印刷法では隔壁が必ずしも必要ではない。
【０００８】
一方、ＴＦＴ基板における隔壁形成の必然性を考察すると、ＴＦＴ基板側から光を取出すボトムエミッション方式の場合、ＴＦＴの回路を画素の開口部を避けて配置する必要があり、画素の周辺部に配置することになる。ＴＦＴの回路を配置した部分には、保護層、絶縁層として窒化シランや樹脂からなる層を形成する必要があり、画素周辺部には必然的に図２に示すような段差が形成され、それを発光層インキ塗布時の隔壁として利用することは可能である。ただし、本来はＴＦＴ回路に対する保護や絶縁が目的であるから、樹脂層を用いた数μｍもの高さの隔壁を形成する必要はなく、窒化膜から成る1μｍ以下の薄膜層のみで用を成すものである。
また、ＴＦＴ基板と反対の側から光を取出すトップエミッション方式では、ＴＦＴ回路を画素周辺部にのみ集約して配置する必要はなく、またそれらを保護・絶縁するための層も基板全面に均一な層として形成すれば良く、ボトムエミッションの場合のように画素の開口部毎に窓を開けて形成する必要はない。
【０００９】
以上のように、ＴＦＴ基板としては、インクジェット方式で必須である高さ数μｍの隔壁を形成することは必ずしも必要ではなく、特にトップエミッション方式ではＴＦＴ基板としては平坦に形成されていても問題ない。
従って、発光層を形成するのにインクジェット方式を用いるとすると、ＴＦＴ基板上にバンクを形成するための工程を余分に必要とし、そのため製造コストも余分にかかってしまうという問題が生じる。ちなみに、樹脂を用いて隔壁を形成する場合、樹脂膜を塗布する工程、パターニングのための露光・現像といった工程が必要であり、製造コストとしてはこれらの工程にかかるコストの他に材料費としての樹脂代や露光のためのフォトマスクの費用などが加算されることになる。
さらに、隔壁を形成してその中にインキを供給して塗布する場合、インキが隔壁に塗れ上がってしまうことから、画素周辺部で発光層の膜厚が厚くなってしまい、発光層の厚い部分が光り難いことから、画素内での発光面積が低下するという問題もある。その点、隔壁なしで発光層を形成できれば、画素内の発光の均一性を向上させることもできる。
【００１０】
これらの状況を勘案すると、隔壁なしで発光層を形成できれば、製造コストの面や画素内の発光の均一性といった点で有益である。前述したように、隔壁なしで発光層を形成するには、インクジェット方式に比べて、印刷方式の方がインキが広がり難いことから有利である。特にテレビや大型モニター用途等の精細度の低いディスプレイにおいては、モバイル用途等の精細度の高いディスプレイに比べて、画素ピッチが大きく、従って隣接画素間の距離も大きく、インキ広がりに対する許容範囲も広くなることから、印刷方式を採用してバンクなしで発光層を形成することが十分に可能である。
【００１１】
そこで本発明では、隔壁形成に要する製造コストを抑え、また画素内の発光の均一性を向上させることの可能な有機ＥＬディスプレイパネル、特にテレビや大型モニター用途の有機ＥＬディスプレイパネルおよびその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記目的を達成するために、本発明者等は、ＴＦＴ基板上に改めて隔壁を形成しなくても、隣接画素に発光層が広がって混色することなしに、ＲＧＢ各色毎に発光層を塗分けして形成する方法として、凸版印刷方式による次のような手段が有効であることを見出した。
【００１３】
請求項１に記載の発明は、ＴＦＴ基板の各画素上に有機エレクトロルミネッセンス素子が形成される有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルにおいて、
前記有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する有機層の内、少なくとも一層が凸版印刷法を用いて各画素列の位置に合わせてストライプ状に形成され、
前記ＴＦＴ基板は、各画素周辺に隔壁が形成されていないことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルである。
請求項２に記載の発明は、前記ＴＦＴ基板上のＴＦＴ回路を保護するための絶縁層が、各画素の発光領域を除いた周辺部に形成されていることを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルである。
請求項３に記載の発明は、前記絶縁層と前記発光領域側の第一電極との段差が０．２μｍ〜１μｍの範囲にあることを特徴とする請求項２記載の有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルである。
請求項４に記載の発明は、サブピクセルの間が４０μｍ以上あり、精細度が１インチ当たり１００ピクセル以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルである。
請求項５に記載の発明は、請求項１〜４のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルを製造する方法であって、
前記有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する有機層の内、少なくとも発光層を凸版印刷法によって各画素列の位置に合わせてストライプ状に形成する工程を有し、
前記発光層のストライプパターンの線幅を、サブピクセルの発光領域幅の２分の１以下にしたことを特徴とする、前記製造方法である。
【発明の効果】
【００１４】
本発明では、上記のような手段を用いることで、例えばＴＦＴ基板上に改めて隔壁を形成することなく発光層を形成することで、隔壁形成に要する製造コストを抑え、また画素内の発光の均一性を向上させることの可能な有機ＥＬディスプレイパネル、特にテレビや大型モニター用途の有機ＥＬディスプレイパネルおよびその製造方法を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】隔壁を有するアクティブマトリックスタイプの有機ＥＬディスプレイパネルを説明するための断面図である。
【図２】隔壁を有さないアクティブマトリックスタイプの有機ＥＬディスプレイパネルを説明するための断面図である。
【図３】本発明で使用可能な凸版印刷機構を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
本発明の実施の形態を、ＴＦＴ基板を用いたアクティブマトリックスタイプの有機ＥＬディスプレイパネルを作成する場合を例に説明する。パネル作成に用いるＴＦＴ基板は、画素電極（第一電極。例えばＩＴＯ）、ＴＦＴ回路、絶縁層等がすでに形成された基板を用いて、その上に有機層、陰極、封止層を形成する例として説明する。しかし、本発明はこの例に限定されるものではない。
【００１７】
図２に示すように、ＴＦＴ基板は、ＴＦＴ回路を保護するための絶縁層である窒化シリコン膜が各画素の周辺に形成されており、画素の発光領域は窒化シリコン膜が窓状に抜けて陽極電極であるＩＴＯが剥き出しになっている。本発明では、絶縁層である窒化シリコンと発光領域側の第一電極であるＩＴＯとの段差が０．２μｍ〜１μｍの範囲にあることが好ましい。
【００１８】
このＴＦＴ基板を用いて、まず正孔輸送層を形成する。正孔輸送層を形成する正孔輸送材料としては、ポリアニリン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）誘導体、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）（ＰＥＤＯＴ）等が挙げらる。これらの材料は溶媒に溶解または分散させて正孔輸送材料インキとし、スピンコート法で全面塗布して薄膜形成できる。
【００１９】
正孔輸送層形成後に、有機発光層を形成する。有機発光層を形成する有機発光材料は、例えばクマリン系、ペリレン系、ピラン系、アンスロン系、ポルフィレン系、キナクドリン系、Ｎ，Ｎ’−ジアルキル置換キナクドリン系、ナフタルイミド系、Ｎ，Ｎ‘−ジアリール置換ピロロピロール系、イリジウム錯体系等の発光性色素を、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルカルバゾール等の高分子中に分散させたものや、ポリアリーレン系、ポリアリーレンビニレン系やポリオレフィン系の高分子材料が挙げられる。
これらの有機発光材料は溶媒に溶解または分散させて有機発光インキとすることができる。有機発光材料を溶解または分散させる溶媒としては、単独の有機溶媒またはこれらの混合溶媒が挙げられる。
【００２０】
有機発光層の形成方法は、水現像タイプの樹脂凸版を用いて凸版印刷法で行うことができる。本発明における樹脂版を構成する水現像タイプの感光性樹脂としては、例えば親水性のポリマーと不飽和結合を含むモノマーいわゆる架橋性モノマー及び光重合開始剤を構成要素とするタイプが挙げられる。このタイプでは、親水性ポリマーとしてポリアミド、ポリビニルアルコール、セルロース誘導体等が用いられる。また、架橋性モノマーとしては、例えばビニル結合を有するメタクリレート類が挙げられ、光重合開始剤としては例えば芳香族カルボニル化合物が挙げられる。中でも、印刷適正の面からポリアミド系の水現像タイプの感光性樹脂が好適である。
【００２１】
有機発光層の形成に用いる印刷機は、平板に印刷する方式の凸版印刷機であれば使用可能であるが、以下に示すような印刷機が望ましい。図３は、本発明で使用可能な凸版印刷機構を説明するための図である。本装置は、インクタンク１６とインキチャンバー１２とアニロックスロール１１と樹脂凸版９を取り付けした版胴８を有している。インクタンク１６には、溶剤タンク１８および溶剤滴下装置１７によって溶剤で希釈された有機発光インキが収容されており、インキチャンバー１２には、インクタンク１６より有機発光インキが送り込まれるようになっている。アニロックスロール１１は、インキチャンバー１２のインキ供給部及び版胴８に接して回転するようになっている。
アニロックスロール１１の回転にともない、インキ循環ポンプ１５によって供給されたインキは、ドクター１０によりアニロクスロール１１表面に均一に保持されたあと、版胴８に取り付けされた樹脂凸版９の凸部に均一な膜厚で転移する。さらに、被印刷基板１３は摺動可能な基板固定台１４上に固定され、版のパターンと基板のパターンの位置調整機構により、位置調整しながら印刷開始位置まで移動して、版胴８の回転に合わせて版の凸部が基板に接しながらさらに移動し、基板の所定位置にパターニングしてインキを転移する。本発明では、サブピクセルの間が４０μｍ以上あり、精細度が１インチ当たり１００ピクセル以下である形態が好ましい。
【００２２】
有機発光層の形成後、陰極層を形成する。陰極層の材料としては、有機発光層の発光特性に応じたものを使用でき、例えば、リチウム、マグネシウム、カルシウム、イッテルビウム、アルミニウム等の金属単体やこれらと金、銀などの安定な金属との合金などが挙げられる。また、インジウム、亜鉛、錫などの導電性酸化物を用いることもできる。陰極層の形成方法としては、マスクを用いた真空蒸着法による形成方法が挙げられる。
最後にこれらの有機ＥＬ構成体を、外部の酸素や水分から保護するために、ガラスキャップと接着剤を用いて密封封止し、有機ＥＬディスプレイパネルを得ることができる。
【実施例】
【００２３】
以下、本発明を実施例および比較例によりさらに説明するが、本発明は下記例に制限されない。
【００２４】
実施例１
本実施例においては、既に画素電極、取り出し電極、ＴＦＴ回路および回路を保護するための窒化シリコン膜からなる絶縁層を備え、当該窒化シリコン膜は各画素の周辺に形成されており、画素の発光領域は窒化シリコン膜が窓状に抜けて陽極のＩＴＯが剥き出しになっており、窒化シリコン膜の膜厚は０．４μｍとした。
このＴＦＴ基板を用いて、その上に正孔輸送層、インターレイヤ層、発光層、陰極を順次形成して、アクティブマトリックス方式の有機ＥＬディスプレイパネルを作成した。
用いたＴＦＴ基板の画素精細度は約１００ｐｐｉで、従って画素ピッチは２４０μｍであり、色画素（サブピクセル）のピッチは８０μｍ、隣接する色画素同士の間は４０μｍ、画素の発光領域であるＩＴＯが剥き出しとなった部分の幅も４０μｍであった。
正孔輸送層は、ＴＦＴ基板上にＰＥＤＯＴ／ＰＳＳの水分散液をスピンコート法で塗布して膜厚５０ｎｍの薄膜を得ることで形成した。
発光層は有機発光材料であるポリフルオレン系のＲ材料、Ｇ材料、Ｂ材料をそれぞれ濃度１．５％になるようにキシレンに溶解させたＲＧＢ３色の有機発光インキを用い、凸版印刷法で印刷した。発光層印刷に用いた樹脂凸版は、凸部のラインがピッチが２４０μｍ、幅２０μｍでストライプに形成されたており、この版を用いて、ＲＧＢサブピクセル毎に、ＲＧＢストライプと平行な方向で、各色を３回に分けて印刷した。
その上に陰極層を抵抗過熱蒸着法により真空蒸着して形成した。最後にこれらの有機ＥＬ構成体を、外部の酸素や水分から保護するために、ガラスキャップと接着剤を用いて密閉封止し、有機ＥＬディスプレイ用素子パネルを作成した。
得られたパネルの表示部の周縁部には、各画素電極に接続されている陽極側および陰極側それぞれの取り出し電極があり、これらをドライバーを介して駆動装置に接続することでパネルの点灯表示確認を行い、発光状態のチェックを行った。
このようにして作製したパネルについて、発光させた状態で、画素内の発光状態を評価した。また、発光層を印刷段階で画素内の発光層膜の膜形状を測定し、画素内の膜の平坦性も評価しておいた。
その結果、実施例１では混色なくＲＧＢ各色の色画素毎の塗膜形成が可能であり、また画素内の膜の平坦性も良好であった。画素内の発光状態も均一であった。
【００２５】
実施例２
実施例２においては、用いたＴＦＴ基板の画素精細度が１５０ｐｐｉ、画素ピッチ１６９μｍで、色画素（サブピクセル）のピッチは５６μｍ、隣接する色画素同士の間は２８μｍ、画素の発光領域であるＩＴＯが剥き出しとなった部分の幅も２８μｍであった。
発光層の印刷には、凸部のラインがピッチが１６９μｍ、幅１４μｍでストライプに形成されるよう製版した樹脂凸版を用いて、ＲＧＢのサブピクセル毎に、ＲＧＢストライプと平行な方向で、各色を３回に分けて印刷した。
その他は実施例１と全く同様にして有機ＥＬディスプレイパネルを作成した。
また実施例２でも、実施例１と同様の評価を行った。
その結果、実施例１では混色なくＲＧＢ各色の色画素毎の塗膜形成が可能であったが、画素内の膜の平坦性は実施例１に比較するとやや不良であった。画素内の発光状態も画素端部がやや暗く、均一性がやや悪かった。
【００２６】
比較例１
比較例１においては、用いたＴＦＴ基板の画素精細度は実施例１と同じで１００ｐｐｉ、画素ピッチは２４０μｍであり、色画素（サブピクセル）のピッチは８０μｍ、隣接する色画素同士の間は４０μｍ、画素の発光領域であるＩＴＯが剥き出しとなった部分の幅も４０μｍであった。
発光層の形成はインクジェット法でインキの塗布を試みた。発光材料インキは固形分濃度１％のものを、それぞれＲＧＢインキ毎に、１画素当たりの滴下量を調整して最終膜厚１００ｎｍとなるように塗布した。
その結果、各色画素上にインキを保持することができず、各画素のインキが周辺の画素まで流れ、激しく混色した。したがって比較例１においてはパネル化は行わなかった。
【００２７】
比較例２
比較例２においては、用いたＴＦＴ基板の画素精細度は実施例１と同じで１００ｐｐｉ、画素ピッチは２４０μｍであり、色画素（サブピクセル）のピッチは８０μｍ、隣接する色画素同士の間は４０μｍ、画素の発光領域であるＩＴＯが剥き出しとなった部分の幅も４０μｍであった。
発光層の印刷には、凸部のラインがピッチが２４０μｍ、幅４０μｍでストライプに形成されるよう製版した樹脂凸版を用いて、ＲＧＢのサブピクセル毎に、ＲＧＢストライプと平行な方向で、各色を３回に分けて印刷した。
その他は実施例１と全く同様にして有機ＥＬディスプレイパネルを作成した。
また比較例２でも、実施例１と同様の評価を行った。
その結果、比較例１ではＲＧＢ各色の色画素毎に印刷して形成したストライプ状の塗膜が隣接画素まで広がってしまい、一部混色を起した。
【００２８】
比較例３
比較例３においては、用いたＴＦＴ基板の画素精細度は実施例１と同じで１００ｐｐｉ、画素ピッチは２４０μｍであり、色画素（サブピクセル）のピッチは８０μｍ、隣接する色画素同士の間は４０μｍ、画素の発光領域であるＩＴＯが剥き出しとなった部分の幅も４０μｍで、各色画素（サブピクセル）はポリイミド樹脂からなる隔壁で仕切られ、隔壁の高さは２μｍであった。
発光層の印刷には、凸部のラインがピッチが２４０μｍ、幅２０μｍでストライプに形成されるよう製版した樹脂凸版を用いて、ＲＧＢのサブピクセル毎に、ＲＧＢストライプと平行な方向で、各色を３回に分けて印刷した。
その他は実施例１と全く同様にして有機ＥＬディスプレイパネルを作成した。
また比較例３でも、実施例１と同様の評価を行った。
その結果、比較例３では混色なくＲＧＢ各色の色画素毎の塗膜形成が可能であったが、画素内の膜の平坦性は実施例１に比較すると不良であった。画素内の発光状態も画素端部が暗く、均一性が悪かった。
【００２９】
【表１】
【００３０】
表１では、実施例１〜２及び比較例１〜３の混色状態の有無、画素内発光層膜厚の均一性、画素内発光の均一性について評価した結果を示す。
これからわかる通り、隔壁が形成されていないＴＦＴ基板を用いた実施例１〜２及び比較例１では、インクジェット法で塗布した比較例１が激しく混色して正常な塗布ができなかったのに対して、印刷法で塗布した実施例１〜２では、混色なく印刷可能であった。これは、印刷法によって塗布したインキの流動性がインクジェット法で塗布したインキに比べて低いことの効果であると思われる。
しかし、同じく隔壁が形成されていないＴＦＴ基板に印刷法で塗布した比較例２は、一部混色を起した。これは、実施例１〜２に比べて版の線幅が広かったための考えられる。
一方、画素内の膜厚平坦性や画素内での発光の均一性を比較すると、隔壁を形成していなＴＦＴ基板に印刷法で発光層を形成した実施例１〜２では、隔壁を有する比較例３に比べて平坦性、発光均一性ともに良好であった。これは、隔壁がないことにより、発光層の隔壁への塗れ上がりが起こらないことによると考えられる。
さらに、実施例１と実施例２を比較すると、実施例１の方が画素精細度１００ｐｐｉであるのに対して実施例２は１５０ｐｐｉと高精細であるが、実施例２では混色こそ起していないが、印刷した発光層の線幅が隣接する画素の際まで広がっており、混色のリスクが高まっていた。
以上のことから、隔壁を形成しないＴＦＴ基板に、樹脂凸版印刷法で、例えば発光層を形成することで、混色を起すことなく、画素内の膜平坦性や発光均一性の良好な有機ＥＬディスプレイパネルを作製することが可能となる。ただし、その場合の樹脂凸版の凸部の線幅はサブピクセルの開口部の幅の２分の１以下であることが望ましい。また、この方式で混色起す恐れの少ない画素精細度は１００ｐｐｉ以下と考えられる。
【符号の説明】
【００３１】
８ 版胴
９ 樹脂凸版
１０ ドクター
１１ アニロックスロール
１２ インキチャンバー
１３ 被印刷基板
１４ 基板工程台
１５ インキ循環ポンプ
１６ インキタンク
１７ 溶剤滴下装置
１８ 溶剤タンク
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）ディスプレイパネル及びその製造方法に関し、特に有機層の少なくとも一層を凸版印刷法によって形成する有機ＥＬディスプレイパネル及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ素子は、ふたつの対向する電極の間に有機発光材料からなる発光層が形成され、発光層に電流を流すことで発光させるものであるが、効率よく発光させるには発光層の膜厚が重要であり、１００ｎｍ程度の薄膜にする必要がある。さらに、これをディスプレイ化するには高精細にパターニングする必要がある。
発光層を形成する有機発光材料には、低分子材料と高分子材料があり、一般に低分子材料は抵抗加熱蒸着法等により薄膜形成し、このときに微細パターンのマスクを用いてパターニングするが、この方法では基板が大型化すればするほどパターニング精度が出難いという問題がある。
そこで、最近では有機発光材料に高分子材料を用い、有機発光材料を溶剤に分散または溶解させて塗工液にし、これをウェットコーティング法で薄膜形成する方法が試みられるようになってきている。薄膜形成するためのウェットコーティング法としては、スピンコート法、バーコート法、突出コート法、ディップコート法等があるが、高精細にパターニングしたりＲＧＢ３色に塗り分けしたりするためには、これらのウェットコーティング法では難しく、塗り分け・パターニングを得意とする印刷法による薄膜形成もしくは画素毎に液滴を滴下するインクジェット法が有効であると考えられる。
【０００３】
高分子材料で発光層を形成する方法として印刷法を選択する場合、ガラスから成るＴＦＴ基板上に発光層を形成するための印刷法としては、グラビア印刷法等のように金属製の印刷版等の硬い版を用いる方法は不向きであり、弾性を有するゴムブランケットを用いるオフセット印刷法や同じく弾性を有するゴム版や樹脂版を用いる凸版印刷法が適正である。実際ににこれらの印刷法による試みとして、オフセット印刷による方法（特許文献１）、凸版印刷による方法（特許文献２）などが提唱されている。
【０００４】
一方、高分子の有機発光材料やインタレーヤ材料は、水、アルコール系の溶剤に対する溶解性が悪く、塗工液（以下インキと記す）化するには、有機溶剤を用いて溶解、分散させる必要があり、中でも、トルエンやキシレンその他の有機溶剤が好適である。したがって、有機発光材料やインターレイヤ材料のインキ（以下有機ＥＬインキと記す）は有機溶剤のインキとなっている。
ところが、オフセット印刷に用いるゴムブランケットはトルエンやキシレン有機溶剤によって膨潤や変形を起こしやすいという問題がある。ブランケットに使用されるゴムの種類はオレフィン系のゴムからシリコーン系のゴムまで多様であるが、いづれのゴムもトルエン、キシレンその他の溶剤に対して耐性がなく、膨潤や変形が起こりやすく、よって有機ＥＬインキの印刷には不適切である。
また、弾性を有する凸版を使用する凸版印刷方式にも、ゴム製の版を用いるフレキソ印刷方式と樹脂性の版を用いる樹脂凸版方式があるが、このうち水現像タイプの樹脂凸版を用いる方式であれば、トルエン、キシレン、その他の有機溶剤に対する耐性も高く、有機ＥＬインキの印刷に使用可能である。
以上に述べた理由から、ガラス基板のような硬い基材の上に、トルエン、キシレン等の芳香族溶剤からなる有機ＥＬインキを印刷する方式としては、水現像タイプの樹脂凸版を用いる凸版印刷方式が最適である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００１−９３６６８公報
【特許文献２】特開２００１−１５５８５８公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
背景技術の項で述べたように、高分子材料から成る有機ＥＬインキを用いて、ＴＦＴ基板の画素上にＲＧＢの各色を塗分ける方法としては、インクジェット法もしくは印刷法が有効な方法であり、特に印刷法では水現像タイプの樹脂凸版を用いる凸版印刷方式が最適である。
インクジェット法による有機ＥＬインキの塗布方式と凸版印刷法による塗布方式の大きな違いは、インクジェット方式ではほとんど液体状態のインキを液滴として画素上に滴下させるのに対して、凸版印刷方式では、版上で半乾き状態となったインキすなわちある程度粘性をもったインキを画素上に転移させる点にある。
すなわち、インクジェット法で滴下したインキの液滴は、流動して広がり易いため、ＴＦＴ基板の画素上に隔壁を形成して、インキが流れないように保持する必要がある。しかも、固形分濃度１〜３％程度のインキで最終膜厚１００ｎｍ程度の有機発光層を形成するには、３〜１０μｍ近い厚みの液状インキを供給する必要があり、そのため形成する隔壁の高さとしては少なくとも３〜８μｍ程度が要求される。
【０００７】
それに対して、凸版印刷法では転移されるインキは半乾き状態である程度粘性を持っていることから、インクジェットの液滴ほどは流動して広がることはない。
したがって、インクジェット法では、ＴＦＴ基板の画素周辺に図１に示すような隔壁が高さ数μｍ程度で形成されていることが必須であるが、それに対して凸版印刷法では隔壁が必ずしも必要ではない。
【０００８】
一方、ＴＦＴ基板における隔壁形成の必然性を考察すると、ＴＦＴ基板側から光を取出すボトムエミッション方式の場合、ＴＦＴの回路を画素の開口部を避けて配置する必要があり、画素の周辺部に配置することになる。ＴＦＴの回路を配置した部分には、保護層、絶縁層として窒化シランや樹脂からなる層を形成する必要があり、画素周辺部には必然的に図２に示すような段差が形成され、それを発光層インキ塗布時の隔壁として利用することは可能である。ただし、本来はＴＦＴ回路に対する保護や絶縁が目的であるから、樹脂層を用いた数μｍもの高さの隔壁を形成する必要はなく、窒化膜から成る1μｍ以下の薄膜層のみで用を成すものである。
また、ＴＦＴ基板と反対の側から光を取出すトップエミッション方式では、ＴＦＴ回路を画素周辺部にのみ集約して配置する必要はなく、またそれらを保護・絶縁するための層も基板全面に均一な層として形成すれば良く、ボトムエミッションの場合のように画素の開口部毎に窓を開けて形成する必要はない。
【０００９】
以上のように、ＴＦＴ基板としては、インクジェット方式で必須である高さ数μｍの隔壁を形成することは必ずしも必要ではなく、特にトップエミッション方式ではＴＦＴ基板としては平坦に形成されていても問題ない。
従って、発光層を形成するのにインクジェット方式を用いるとすると、ＴＦＴ基板上にバンクを形成するための工程を余分に必要とし、そのため製造コストも余分にかかってしまうという問題が生じる。ちなみに、樹脂を用いて隔壁を形成する場合、樹脂膜を塗布する工程、パターニングのための露光・現像といった工程が必要であり、製造コストとしてはこれらの工程にかかるコストの他に材料費としての樹脂代や露光のためのフォトマスクの費用などが加算されることになる。
さらに、隔壁を形成してその中にインキを供給して塗布する場合、インキが隔壁に塗れ上がってしまうことから、画素周辺部で発光層の膜厚が厚くなってしまい、発光層の厚い部分が光り難いことから、画素内での発光面積が低下するという問題もある。その点、隔壁なしで発光層を形成できれば、画素内の発光の均一性を向上させることもできる。
【００１０】
これらの状況を勘案すると、隔壁なしで発光層を形成できれば、製造コストの面や画素内の発光の均一性といった点で有益である。前述したように、隔壁なしで発光層を形成するには、インクジェット方式に比べて、印刷方式の方がインキが広がり難いことから有利である。特にテレビや大型モニター用途等の精細度の低いディスプレイにおいては、モバイル用途等の精細度の高いディスプレイに比べて、画素ピッチが大きく、従って隣接画素間の距離も大きく、インキ広がりに対する許容範囲も広くなることから、印刷方式を採用してバンクなしで発光層を形成することが十分に可能である。
【００１１】
そこで本発明では、隔壁形成に要する製造コストを抑え、また画素内の発光の均一性を向上させることの可能な有機ＥＬディスプレイパネル、特にテレビや大型モニター用途の有機ＥＬディスプレイパネルおよびその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記目的を達成するために、本発明者等は、ＴＦＴ基板上に改めて隔壁を形成しなくても、隣接画素に発光層が広がって混色することなしに、ＲＧＢ各色毎に発光層を塗分けして形成する方法として、凸版印刷方式による次のような手段が有効であることを見出した。
【００１３】
請求項１に記載の発明は、ＴＦＴ基板の各画素上に有機エレクトロルミネッセンス素子が形成される有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルにおいて、
前記有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する有機層の内、少なくとも一層が凸版印刷法を用いて各画素列の位置に合わせてストライプ状に形成され、
前記ＴＦＴ基板は、各画素周辺に隔壁が形成されていないことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルである。
請求項２に記載の発明は、前記ＴＦＴ基板上のＴＦＴ回路を保護するための絶縁層が、各画素の発光領域を除いた周辺部に形成されていることを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルである。
請求項３に記載の発明は、前記絶縁層と前記発光領域側の第一電極との段差が０．２μｍ〜１μｍの範囲にあることを特徴とする請求項２記載の有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルである。
請求項４に記載の発明は、サブピクセルの間が４０μｍ以上あり、精細度が１インチ当たり１００ピクセル以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルである。
請求項５に記載の発明は、請求項１〜４のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルを製造する方法であって、
前記有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する有機層の内、少なくとも発光層を凸版印刷法によって各画素列の位置に合わせてストライプ状に形成する工程を有し、
前記発光層のストライプパターンの線幅を、サブピクセルの発光領域幅の２分の１以下にしたことを特徴とする、前記製造方法である。
【発明の効果】
【００１４】
本発明では、上記のような手段を用いることで、例えばＴＦＴ基板上に改めて隔壁を形成することなく発光層を形成することで、隔壁形成に要する製造コストを抑え、また画素内の発光の均一性を向上させることの可能な有機ＥＬディスプレイパネル、特にテレビや大型モニター用途の有機ＥＬディスプレイパネルおよびその製造方法を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】隔壁を有するアクティブマトリックスタイプの有機ＥＬディスプレイパネルを説明するための断面図である。
【図２】隔壁を有さないアクティブマトリックスタイプの有機ＥＬディスプレイパネルを説明するための断面図である。
【図３】本発明で使用可能な凸版印刷機構を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
本発明の実施の形態を、ＴＦＴ基板を用いたアクティブマトリックスタイプの有機ＥＬディスプレイパネルを作成する場合を例に説明する。パネル作成に用いるＴＦＴ基板は、画素電極（第一電極。例えばＩＴＯ）、ＴＦＴ回路、絶縁層等がすでに形成された基板を用いて、その上に有機層、陰極、封止層を形成する例として説明する。しかし、本発明はこの例に限定されるものではない。
【００１７】
図２に示すように、ＴＦＴ基板は、ＴＦＴ回路を保護するための絶縁層である窒化シリコン膜が各画素の周辺に形成されており、画素の発光領域は窒化シリコン膜が窓状に抜けて陽極電極であるＩＴＯが剥き出しになっている。本発明では、絶縁層である窒化シリコンと発光領域側の第一電極であるＩＴＯとの段差が０．２μｍ〜１μｍの範囲にあることが好ましい。
【００１８】
このＴＦＴ基板を用いて、まず正孔輸送層を形成する。正孔輸送層を形成する正孔輸送材料としては、ポリアニリン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）誘導体、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）（ＰＥＤＯＴ）等が挙げらる。これらの材料は溶媒に溶解または分散させて正孔輸送材料インキとし、スピンコート法で全面塗布して薄膜形成できる。
【００１９】
正孔輸送層形成後に、有機発光層を形成する。有機発光層を形成する有機発光材料は、例えばクマリン系、ペリレン系、ピラン系、アンスロン系、ポルフィレン系、キナクドリン系、Ｎ，Ｎ’−ジアルキル置換キナクドリン系、ナフタルイミド系、Ｎ，Ｎ‘−ジアリール置換ピロロピロール系、イリジウム錯体系等の発光性色素を、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルカルバゾール等の高分子中に分散させたものや、ポリアリーレン系、ポリアリーレンビニレン系やポリオレフィン系の高分子材料が挙げられる。
これらの有機発光材料は溶媒に溶解または分散させて有機発光インキとすることができる。有機発光材料を溶解または分散させる溶媒としては、単独の有機溶媒またはこれらの混合溶媒が挙げられる。
【００２０】
有機発光層の形成方法は、水現像タイプの樹脂凸版を用いて凸版印刷法で行うことができる。本発明における樹脂版を構成する水現像タイプの感光性樹脂としては、例えば親水性のポリマーと不飽和結合を含むモノマーいわゆる架橋性モノマー及び光重合開始剤を構成要素とするタイプが挙げられる。このタイプでは、親水性ポリマーとしてポリアミド、ポリビニルアルコール、セルロース誘導体等が用いられる。また、架橋性モノマーとしては、例えばビニル結合を有するメタクリレート類が挙げられ、光重合開始剤としては例えば芳香族カルボニル化合物が挙げられる。中でも、印刷適正の面からポリアミド系の水現像タイプの感光性樹脂が好適である。
【００２１】
有機発光層の形成に用いる印刷機は、平板に印刷する方式の凸版印刷機であれば使用可能であるが、以下に示すような印刷機が望ましい。図３は、本発明で使用可能な凸版印刷機構を説明するための図である。本装置は、インクタンク１６とインキチャンバー１２とアニロックスロール１１と樹脂凸版９を取り付けした版胴８を有している。インクタンク１６には、溶剤タンク１８および溶剤滴下装置１７によって溶剤で希釈された有機発光インキが収容されており、インキチャンバー１２には、インクタンク１６より有機発光インキが送り込まれるようになっている。アニロックスロール１１は、インキチャンバー１２のインキ供給部及び版胴８に接して回転するようになっている。
アニロックスロール１１の回転にともない、インキ循環ポンプ１５によって供給されたインキは、ドクター１０によりアニロクスロール１１表面に均一に保持されたあと、版胴８に取り付けされた樹脂凸版９の凸部に均一な膜厚で転移する。さらに、被印刷基板１３は摺動可能な基板固定台１４上に固定され、版のパターンと基板のパターンの位置調整機構により、位置調整しながら印刷開始位置まで移動して、版胴８の回転に合わせて版の凸部が基板に接しながらさらに移動し、基板の所定位置にパターニングしてインキを転移する。本発明では、サブピクセルの間が４０μｍ以上あり、精細度が１インチ当たり１００ピクセル以下である形態が好ましい。
【００２２】
有機発光層の形成後、陰極層を形成する。陰極層の材料としては、有機発光層の発光特性に応じたものを使用でき、例えば、リチウム、マグネシウム、カルシウム、イッテルビウム、アルミニウム等の金属単体やこれらと金、銀などの安定な金属との合金などが挙げられる。また、インジウム、亜鉛、錫などの導電性酸化物を用いることもできる。陰極層の形成方法としては、マスクを用いた真空蒸着法による形成方法が挙げられる。
最後にこれらの有機ＥＬ構成体を、外部の酸素や水分から保護するために、ガラスキャップと接着剤を用いて密封封止し、有機ＥＬディスプレイパネルを得ることができる。
【実施例】
【００２３】
以下、本発明を実施例および比較例によりさらに説明するが、本発明は下記例に制限されない。
【００２４】
実施例１
本実施例においては、既に画素電極、取り出し電極、ＴＦＴ回路および回路を保護するための窒化シリコン膜からなる絶縁層を備え、当該窒化シリコン膜は各画素の周辺に形成されており、画素の発光領域は窒化シリコン膜が窓状に抜けて陽極のＩＴＯが剥き出しになっており、窒化シリコン膜の膜厚は０．４μｍとした。
このＴＦＴ基板を用いて、その上に正孔輸送層、インターレイヤ層、発光層、陰極を順次形成して、アクティブマトリックス方式の有機ＥＬディスプレイパネルを作成した。
用いたＴＦＴ基板の画素精細度は約１００ｐｐｉで、従って画素ピッチは２４０μｍであり、色画素（サブピクセル）のピッチは８０μｍ、隣接する色画素同士の間は４０μｍ、画素の発光領域であるＩＴＯが剥き出しとなった部分の幅も４０μｍであった。
正孔輸送層は、ＴＦＴ基板上にＰＥＤＯＴ／ＰＳＳの水分散液をスピンコート法で塗布して膜厚５０ｎｍの薄膜を得ることで形成した。
発光層は有機発光材料であるポリフルオレン系のＲ材料、Ｇ材料、Ｂ材料をそれぞれ濃度１．５％になるようにキシレンに溶解させたＲＧＢ３色の有機発光インキを用い、凸版印刷法で印刷した。発光層印刷に用いた樹脂凸版は、凸部のラインがピッチが２４０μｍ、幅２０μｍでストライプに形成されたており、この版を用いて、ＲＧＢサブピクセル毎に、ＲＧＢストライプと平行な方向で、各色を３回に分けて印刷した。
その上に陰極層を抵抗過熱蒸着法により真空蒸着して形成した。最後にこれらの有機ＥＬ構成体を、外部の酸素や水分から保護するために、ガラスキャップと接着剤を用いて密閉封止し、有機ＥＬディスプレイ用素子パネルを作成した。
得られたパネルの表示部の周縁部には、各画素電極に接続されている陽極側および陰極側それぞれの取り出し電極があり、これらをドライバーを介して駆動装置に接続することでパネルの点灯表示確認を行い、発光状態のチェックを行った。
このようにして作製したパネルについて、発光させた状態で、画素内の発光状態を評価した。また、発光層を印刷段階で画素内の発光層膜の膜形状を測定し、画素内の膜の平坦性も評価しておいた。
その結果、実施例１では混色なくＲＧＢ各色の色画素毎の塗膜形成が可能であり、また画素内の膜の平坦性も良好であった。画素内の発光状態も均一であった。
【００２５】
実施例２
実施例２においては、用いたＴＦＴ基板の画素精細度が１５０ｐｐｉ、画素ピッチ１６９μｍで、色画素（サブピクセル）のピッチは５６μｍ、隣接する色画素同士の間は２８μｍ、画素の発光領域であるＩＴＯが剥き出しとなった部分の幅も２８μｍであった。
発光層の印刷には、凸部のラインがピッチが１６９μｍ、幅１４μｍでストライプに形成されるよう製版した樹脂凸版を用いて、ＲＧＢのサブピクセル毎に、ＲＧＢストライプと平行な方向で、各色を３回に分けて印刷した。
その他は実施例１と全く同様にして有機ＥＬディスプレイパネルを作成した。
また実施例２でも、実施例１と同様の評価を行った。
その結果、実施例１では混色なくＲＧＢ各色の色画素毎の塗膜形成が可能であったが、画素内の膜の平坦性は実施例１に比較するとやや不良であった。画素内の発光状態も画素端部がやや暗く、均一性がやや悪かった。
【００２６】
比較例１
比較例１においては、用いたＴＦＴ基板の画素精細度は実施例１と同じで１００ｐｐｉ、画素ピッチは２４０μｍであり、色画素（サブピクセル）のピッチは８０μｍ、隣接する色画素同士の間は４０μｍ、画素の発光領域であるＩＴＯが剥き出しとなった部分の幅も４０μｍであった。
発光層の形成はインクジェット法でインキの塗布を試みた。発光材料インキは固形分濃度１％のものを、それぞれＲＧＢインキ毎に、１画素当たりの滴下量を調整して最終膜厚１００ｎｍとなるように塗布した。
その結果、各色画素上にインキを保持することができず、各画素のインキが周辺の画素まで流れ、激しく混色した。したがって比較例１においてはパネル化は行わなかった。
【００２７】
比較例２
比較例２においては、用いたＴＦＴ基板の画素精細度は実施例１と同じで１００ｐｐｉ、画素ピッチは２４０μｍであり、色画素（サブピクセル）のピッチは８０μｍ、隣接する色画素同士の間は４０μｍ、画素の発光領域であるＩＴＯが剥き出しとなった部分の幅も４０μｍであった。
発光層の印刷には、凸部のラインがピッチが２４０μｍ、幅４０μｍでストライプに形成されるよう製版した樹脂凸版を用いて、ＲＧＢのサブピクセル毎に、ＲＧＢストライプと平行な方向で、各色を３回に分けて印刷した。
その他は実施例１と全く同様にして有機ＥＬディスプレイパネルを作成した。
また比較例２でも、実施例１と同様の評価を行った。
その結果、比較例１ではＲＧＢ各色の色画素毎に印刷して形成したストライプ状の塗膜が隣接画素まで広がってしまい、一部混色を起した。
【００２８】
比較例３
比較例３においては、用いたＴＦＴ基板の画素精細度は実施例１と同じで１００ｐｐｉ、画素ピッチは２４０μｍであり、色画素（サブピクセル）のピッチは８０μｍ、隣接する色画素同士の間は４０μｍ、画素の発光領域であるＩＴＯが剥き出しとなった部分の幅も４０μｍで、各色画素（サブピクセル）はポリイミド樹脂からなる隔壁で仕切られ、隔壁の高さは２μｍであった。
発光層の印刷には、凸部のラインがピッチが２４０μｍ、幅２０μｍでストライプに形成されるよう製版した樹脂凸版を用いて、ＲＧＢのサブピクセル毎に、ＲＧＢストライプと平行な方向で、各色を３回に分けて印刷した。
その他は実施例１と全く同様にして有機ＥＬディスプレイパネルを作成した。
また比較例３でも、実施例１と同様の評価を行った。
その結果、比較例３では混色なくＲＧＢ各色の色画素毎の塗膜形成が可能であったが、画素内の膜の平坦性は実施例１に比較すると不良であった。画素内の発光状態も画素端部が暗く、均一性が悪かった。
【００２９】
【表１】
【００３０】
表１では、実施例１〜２及び比較例１〜３の混色状態の有無、画素内発光層膜厚の均一性、画素内発光の均一性について評価した結果を示す。
これからわかる通り、隔壁が形成されていないＴＦＴ基板を用いた実施例１〜２及び比較例１では、インクジェット法で塗布した比較例１が激しく混色して正常な塗布ができなかったのに対して、印刷法で塗布した実施例１〜２では、混色なく印刷可能であった。これは、印刷法によって塗布したインキの流動性がインクジェット法で塗布したインキに比べて低いことの効果であると思われる。
しかし、同じく隔壁が形成されていないＴＦＴ基板に印刷法で塗布した比較例２は、一部混色を起した。これは、実施例１〜２に比べて版の線幅が広かったための考えられる。
一方、画素内の膜厚平坦性や画素内での発光の均一性を比較すると、隔壁を形成していなＴＦＴ基板に印刷法で発光層を形成した実施例１〜２では、隔壁を有する比較例３に比べて平坦性、発光均一性ともに良好であった。これは、隔壁がないことにより、発光層の隔壁への塗れ上がりが起こらないことによると考えられる。
さらに、実施例１と実施例２を比較すると、実施例１の方が画素精細度１００ｐｐｉであるのに対して実施例２は１５０ｐｐｉと高精細であるが、実施例２では混色こそ起していないが、印刷した発光層の線幅が隣接する画素の際まで広がっており、混色のリスクが高まっていた。
以上のことから、隔壁を形成しないＴＦＴ基板に、樹脂凸版印刷法で、例えば発光層を形成することで、混色を起すことなく、画素内の膜平坦性や発光均一性の良好な有機ＥＬディスプレイパネルを作製することが可能となる。ただし、その場合の樹脂凸版の凸部の線幅はサブピクセルの開口部の幅の２分の１以下であることが望ましい。また、この方式で混色起す恐れの少ない画素精細度は１００ｐｐｉ以下と考えられる。
【符号の説明】
【００３１】
８ 版胴
９ 樹脂凸版
１０ ドクター
１１ アニロックスロール
１２ インキチャンバー
１３ 被印刷基板
１４ 基板工程台
１５ インキ循環ポンプ
１６ インキタンク
１７ 溶剤滴下装置
１８ 溶剤タンク
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＴＦＴ基板の各画素上に有機エレクトロルミネッセンス素子が形成される有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルにおいて、
前記有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する有機層の内、少なくとも一層が凸版印刷法を用いて各画素列の位置に合わせてストライプ状に形成され、
前記ＴＦＴ基板は、各画素周辺に隔壁が形成されていないことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネル。
【請求項２】
前記ＴＦＴ基板上のＴＦＴ回路を保護するための絶縁層が、各画素の発光領域を除いた周辺部に形成されていることを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネル。
【請求項３】
前記絶縁層と前記発光領域側の第一電極との段差が０．２μｍ〜１μｍの範囲にあることを特徴とする請求項２記載の有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネル。
【請求項４】
サブピクセルの間が４０μｍ以上あり、精細度が１インチ当たり１００ピクセル以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネル。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルを製造する方法であって、
前記有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する有機層の内、少なくとも発光層を凸版印刷法によって各画素列の位置に合わせてストライプ状に形成する工程を有し、
前記発光層のストライプパターンの線幅を、サブピクセルの発光領域幅の２分の１以下にしたことを特徴とする、前記製造方法。
【請求項１】
ＴＦＴ基板の各画素上に有機エレクトロルミネッセンス素子が形成される有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルにおいて、
前記有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する有機層の内、少なくとも一層が凸版印刷法を用いて各画素列の位置に合わせてストライプ状に形成され、
前記ＴＦＴ基板は、各画素周辺に隔壁が形成されていないことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネル。
【請求項２】
前記ＴＦＴ基板上のＴＦＴ回路を保護するための絶縁層が、各画素の発光領域を除いた周辺部に形成されていることを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネル。
【請求項３】
前記絶縁層と前記発光領域側の第一電極との段差が０．２μｍ〜１μｍの範囲にあることを特徴とする請求項２記載の有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネル。
【請求項４】
サブピクセルの間が４０μｍ以上あり、精細度が１インチ当たり１００ピクセル以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネル。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルを製造する方法であって、
前記有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する有機層の内、少なくとも発光層を凸版印刷法によって各画素列の位置に合わせてストライプ状に形成する工程を有し、
前記発光層のストライプパターンの線幅を、サブピクセルの発光領域幅の２分の１以下にしたことを特徴とする、前記製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図２】
【図３】
【公開番号】特開２０１０−２５７６７０（Ｐ２０１０−２５７６７０Ａ）
【公開日】平成２２年１１月１１日（２０１０．１１．１１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−１０４７１４（Ｐ２００９−１０４７１４）
【出願日】平成２１年４月２３日（２００９．４．２３）
【出願人】（０００００３１９３）凸版印刷株式会社 (10,630)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年１１月１１日（２０１０．１１．１１）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年４月２３日（２００９．４．２３）
【出願人】（０００００３１９３）凸版印刷株式会社 (10,630)
【Ｆターム（参考）】
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