有機リン誘導体及びその脱共役剤としての使用
本発明は、式（１）（ｎは、４〜２０、好ましくは５〜１０からなる数であり、ｍは０〜１０、好ましくは０〜１の数であり、Ｙは陰イオンである。）の有機ホスホニウム誘導体に関するものである。
また、本発明は、同誘導体の製造方法及び水溶液系での細菌バイオマスの増殖を制御する方法であって、上記有機ホスホニウム誘導体から選択される脱共役剤の有効量を該水溶液系に添加し又は該水溶液系と接触させることを含む方法に関するものでもある。
また、本発明は、同誘導体の製造方法及び水溶液系での細菌バイオマスの増殖を制御する方法であって、上記有機ホスホニウム誘導体から選択される脱共役剤の有効量を該水溶液系に添加し又は該水溶液系と接触させることを含む方法に関するものでもある。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ホスホニウム誘導体、それらの製造方法及びそれらの脱共役剤としての使用に関する。
【０００２】
本発明は、水性系、特に廃水処理場での細菌バイオマス制御の範囲内での使用を目的とした脱共役剤並びにこれらの脱共役剤の使用及びこれらの脱共役剤の使用方法に関するものである。
【背景技術】
【０００３】
分子の脱共役活性は、有機分子の生物学的分解により廃水のバイオマス生成量を減少させると共に細菌細胞の精製活性を維持するように細菌細胞のエネルギーに作用することにある。細胞の呼吸に関与する生化学及び機構の詳しい内容は、例えば「Ｂｉｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ」，第３版，著者：Ｌｕｂｅｒｔ Ｓｔｒｙｅｒ，編者：Ｗ．Ｈ．Ｆｒｅｅｍｅｎ ＆ Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，ＵＳＡ，１９９８及び「Ｇｅｎｅｒａｌ Ｍｉｃｒｏｂｉｏｌｏｇｙ」，第３版，著者：Ｒｏｇｅｒ Ｙ．Ｓｔａｎｉｅｒ，Ｍｉｃｈａｅｌ Ｄｏｕｄｏｒｏｆｆ及びＥｄｗａｒｄ Ａ．Ａｄｅｌｂｅｒｇ，編者：Ｍａｃｍｉｌｌａｎ，１９７１で議論されている。
【０００４】
細菌増殖に対する分子の脱共役活性は、結局のところ、細菌のエネルギーのアンバランスによって誘導される酸素の過剰消費により表される。
【０００５】
この分子の脱共役活性は、活性汚泥の生産源で有意な減少を可能にする廃水処理場（以下、フランス語の略語のＳＴＥＰで示す）での適用に興味が持たれる。
【０００６】
バイオマス生産、すなわち、廃水処理の際の活性汚泥の生成は、廃水中における栄養物の消費に由来する。呼吸過程によって栄養物が酸化され、そしてこれがエネルギーを放出し、このエネルギーは、微生物により細胞分裂の範囲内で利用され得る。ここで、栄養物の消費は、酸化的リン酸化現象により細菌細胞膜でのプロトンの流れを誘導する。この流れは、プロトン勾配を確立させ、それ自体がＡＤＰ＋ＰからＡＴＰ（アデノシン三リン酸）の合成を可能にするプロトンポンプを作動させる。ＡＴＰは、細胞過程（細胞分裂を含む）の間に細胞にエネルギーを与える。
【０００７】
仮に、このエネルギー放出を避けることができたとしたら、エネルギー生成を抑制することでバイオマス生成量が減少すると考えられる。
【０００８】
脱共役は、ＡＴＰの形態でのエネルギー供給の形成の阻害に相当する。脱共役剤は、炭素消費のエネルギー収率を減少させると同時に、ＣＯ2に酸化される炭素の割合を増加させる。したがって、脱共役は、少量のバイオマス生産と、より多量の酸素消費とによって表される。
【０００９】
廃水処理中に生産される細菌バイオマスは、除去するのに費用がかかるため、バイオマスの減少により除去費用の削減となる。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【００１０】
【非特許文献１】「Ｂｉｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ」，第３版，著者：Ｌｕｂｅｒｔ Ｓｔｒｙｅｒ，編者：Ｗ．Ｈ．Ｆｒｅｅｍｅｎ ＆ Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，ＵＳＡ，１９９８年
【非特許文献２】「Ｇｅｎｅｒａｌ Ｍｉｃｒｏｂｉｏｌｏｇｙ」，第３版，著者：Ｒｏｇｅｒ Ｙ．Ｓｔａｎｉｅｒ，Ｍｉｃｈａｅｌ Ｄｏｕｄｏｒｏｆｆ及びＥｄｗａｒｄ Ａ．Ａｄｅｌｂｅｒｇ，編者：Ｍａｃｍｉｌｌａｎ，１９７１年
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明の目的は、効率が生物汚泥のその生産源での生成量の低下、すなわち、都市廃水処理場の曝気槽において少なくとも３０％の低下により測定される脱共役分子を提案することである。
【００１２】
本発明の別の目的は、効率が基準分子ＴＨＰＳ（テトラキスヒドロキシメチルホスホニウム）の効率（生物汚泥生成量の減少効率が国際特許出願ＷＯ２００４／１１３２３６に示されている）と実質的に等しい又はそれよりも大きい脱共役分子を提案することである。
【００１３】
本発明の別の目的は、非生物分解性及び生物分解性がＴＨＰＳよりも迅速ではない、ＴＨＰＳの代わりとなる脱共役分子を提案することである。ただし、該分子は、環境問題を引き起こす非分解性ではない。
【００１４】
最後に、本発明の別の目的は、毒性及び生態毒性プロファイルが満足のいくものであり、かつ、ＳＴＥＰに使用するのに適した脱共役分子を提案することである。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
これらの目的及び他の目的は、次の一般式（１）の有機ホスホニウム誘導体に関する本発明により達成される：
【化１】
式中：
ｎは、４〜２０、好ましくは５〜１０からなる数であり、
ｍは、０〜１０、好ましくは０〜１からなる数であり、そして
Ｙは、陰イオン、好ましくは塩化物、硫酸、リン酸又は臭化物陰イオンである。
【００１６】
本発明の好ましい化合物について、ｎは５〜１０からなり、ｍは０又は１であり、そして、Ｙは塩化物、硫酸、リン酸又は臭化物陰イオンである。
【００１７】
本発明のさらに好ましい化合物について、ｎは８であり、ｍは０又は１である。
【００１８】
また、本発明は、次の工程を含む、上記有機ホスホニウム誘導体の製造方法に関するものでもある：
（ａ）以下の反応スキームに従って、不活性雰囲気下で塩化テトラキス（ヒドロメチル）ホスホニウムとソーダなどの強塩基とを反応させてトリスヒドロキシメチルホスフィンを得ると共にホルムアルデヒドを除去し：
【化２】
（ここで、Ｘは陰イオンを表す）；
（ｂ）α，ω−ジハロゲノアルキレンと工程（ａ）で得られた反応物とを反応させ、そして対応するアルキレンジホスホニウムを得、
【化３】
（ｃ）随意に、上記反応スキームに従って、工程（ｂ）で得られたアルキレンジホスホニウムを過剰のジハロゲノアルキレン及びトリスヒドロキシメチルホスフィンと反応させてホルムアルデヒドの脱離によりトリホスホニウム又はポリホスホニウムを得る：
【化４】
Ｘ、Ｙ、ｎ及びｍは、上記式（１）について与えた意味を有する。
【００１９】
また、本発明は、水性系での細菌バイオマスの増殖を制御する方法であって、次の一般式（１）の有機ホスホニウム誘導体：
（式中：
ｎは４〜２０、好ましくは５〜１０からなる数であり、
ｍは、０〜１０、好ましくは０〜１からなる数であり、そして
Ｙは、好ましくは塩化物、硫酸、リン酸、酢酸及び臭化物イオンよりなる群から選択される陰イオンである。）
から選択される脱共役剤の有効量を該水性系に添加し又は該水性系と接触させることを含む方法に関するものでもある。
【００２０】
さらに好ましくは、ｎは８であり、ｍは０又は１である。
【００２１】
また、本発明は、水性系での細菌バイオマスの増殖を制御する方法であって、上記有機ホスホニウム誘導体から選択される脱共役剤の有効量を該水性系に添加し又は該水性系と接触させることを含む方法に関するものでもある。
【００２２】
水性系に添加される有機ホスホニウム誘導体の有効量は、１００ｍｇ／Ｌまで、例えば５０ｍｇ／Ｌまで、例えば３０ｍｇ／Ｌまでに相当することができる。
【００２３】
好ましくは、水性系に添加される有機ホスホニウム誘導体の有効量は、０．０００１ｍｇ／Ｌ〜１００ｍｇ／Ｌ、０．００５ｍｇ／Ｌ〜５０ｍｇ／Ｌ、例えば０．０１ｍｇ／Ｌ〜３０ｍｇ／Ｌ、例えば０．０５ｍｇ／Ｌ〜１０ｍｇ／Ｌに相当する。より好ましくは、有機ホスホニウム誘導体の有効量は、０．１〜１０ｍｇ／Ｌ、例えば０．５ｍｇ／Ｌ〜７．５ｍｇ／Ｌ、例えば１〜５ｍｇ／Ｌに相当する。
【００２４】
脱共役剤用途における有機ホスホニウム誘導体は、廃水処理に従来から使用されている次の化学物質の１種以上：界面活性剤；消泡剤；スケール防止剤；腐食防止剤；殺生物剤；凝集剤；固／液分離促進剤；及び分散剤と共に処方できる。
【００２５】
好ましくは、水性系は、産業廃水又は都市廃水を処理するために使用される廃水処理場である。この施設は、有機汚染物質を消費させ、かつ、再利用又は環境への廃棄に好適な水を生じさせるために微生物を好気的無酸素方法（例えば脱窒）で使用することによって、産業プロセス（例えば、紙生産、食品産業、化学工業）及び／又は住宅、公共施設並びに同様の施設から廃水を回収する。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
したがって、本発明は、水性系での細菌バイオマスの増殖を制御する方法であって、上記脱共役剤の有効量を該水性系に添加する又は該水性系と接触させることを含む方法を提供する。
【００２７】
好ましい実施形態では、本発明は、水性系での細菌バイオマスの増殖を制御する方法であって、上記脱共役剤の有効量と該細菌バイオマスとを直接接触させることを含む方法を提供する。この方法を適用するにあたっては、脱共役剤から最適の効率を得るために、一定時間内に最大容量の活性汚泥と脱共役剤とを接触させることが推奨される。
【００２８】
例えば、研究室での生物パイロット試験について、水中での脱共役剤と細菌バイオマスとの直接接触は、「瞬間投与」又は「瞬間混合」（フラッシュ混合ともいう）という表現で呼ばれている。
【００２９】
脱共役剤を、汚泥を含むバイオリアクターにただ単に直接添加したに過ぎない場合には、脱共役剤はこのバイオリアクター内に存在する他の材料と相互作用し、有機ホスホニウム誘導体の作用が実質的に低減するため、この薬剤の効率が実質的に低下することが分かった。
【００３０】
さらに、該有機ホスホニウム誘導体の有効量は、前記水性系の汚泥中に存在する固形物（乾燥物又はＤＭとして表す）１グラム当たり０．１〜１００ｍｇ、好ましくは０．５〜１００ｍｇ／ｇ、例えば１〜５０ｍｇ／ｇ、例えば２〜１０ｍｇ／ｇに相当することができる。
【００３１】
次の実施例は、本願発明を例示するものであって、その範囲を限定するものではない。
【実施例】
【００３２】
例１：
工程（ａ）トリスヒドロキシメチルホスフィン溶液の合成
真空蒸留装置を備え、予め窒素下で不活性化された完全撹拌反応器に、次のものを仕込む：
８０％ＴＨＰＣ（塩化テトラキス（ヒドロメチル）ホスホニウム）を滴定し、かつ、１５０ｇのＴＨＰＣ（０．６３ｍｏｌ）を含有する溶液；
この混合物を５〜１５℃に冷却する；
３８５ｇの８％ソーダ溶液を、温度を５〜１５℃に制御しつつ３時間以内に注ぐ；
この注入の終了時に、この反応混合物を１０℃で１２時間にわたり保持する；
形成されたホルムアルデヒドを、水／ホルムアルデヒド混合物を１５〜３０℃の温度及び＜１０ｍｂａｒの圧力で蒸留することにより除去する；
９７０ｇのエタノールを添加し、そして同じ条件下で蒸留を実施してホルムアルデヒドを使い果たす；
ＮａＣｌの沈殿を回収し、そして蒸留後に反応生成物を分析する：
分析：９３.５％のＴＨＰ／３％のＴＨＰＯ／３．５％のＴＨＰＣ。
【００３３】
例２：
工程（ｂ）及び（ｃ）：ホスホニウム（式（１）：ｎ＝８、ｍ＝０又は１）の合成
例１で製造された反応生成物を、真空蒸留装置を備え、予め不活性化された完全撹拌反応器に導入する。
温度を４５〜５５℃に制御しながら、１１１．８ｇの１，８−ジヨードオクタンを３０分以内に注ぐ。
この反応媒体は二相性であり、塩の沈殿が観察される（ＮａＩ／ＮａＣｌ）。
５０℃で５０時間保持した後に、この反応媒体をろ過したところ、得られた生成物は淡黄色の透明な溶液であり、これから 次のＮＭＲ分析（核磁気共鳴）を有する６６５ｇの質量を抽出する：
31Ｐ ＮＭＲ分析
３％ＴＨＰＯ
３％ＴＨＰ
１４％ＴＨＰＣ
ジホスホニウム及びトリホスホニウムの次のモル組成に従う７８％のホスホニウム誘導体：
【化５】
ｎ＝８
８７％
【化６】
ｎ=８
１３％。
【００３４】
例３：
工程（a）トリスヒドロキシメチルホスフィン溶液の合成：
真空蒸留装置を備え、予め窒素下で不活性化された完全撹拌反応器に、８０％ＴＨＰＣ（塩化テトラキス（ヒドロメチル）ホスホニウム）を滴定し１００ｇのＴＨＰＣ（０.４２ｍｏｌ）及び水（５０ｇ）を有する溶液を仕込む；
この混合物を５〜１５℃に冷却する；
２２８ｇの８％ソーダＮａＯＨ溶液を３時間以内に５〜１５℃の温度に制御しつつ注ぐ；
この注入の終了時に、１０℃を１２時間にわたり維持する；
形成されたホルムアルデヒドを、１５〜３０℃の温度及び１０ｍｂａｒ未満の圧力で水／ホルムアルデヒド混合物を蒸留することによって除去する；
７８６ｇのエタノールを添加し、そしてこの反応混合物を同じ条件下で蒸留してホルムアルデヒドを使い果たす；
ＮａＣｌの沈殿が観察される。
【００３５】
例４：
工程（ｂ）及び（ｃ）：ホスホニウム（式（１）：ｎ＝６、ｍ＝０又は１）の合成
例３で製造された反応生成物を、真空蒸留装置を備え、予め不活性化された完全撹拌反応器に、温度を４５〜５５℃に制御しつつ導入する；
１１１．８ｇの１，６−ジヨードヘキサンを３０分以内に注ぎ、そして温度を４５〜５５℃に制御する；
得られた反応媒体は二相性であり、そして塩の沈殿が観察される（ＮａＩ／ＮａＣｌ）；
この反応混合物の温度を１５％のＴＨＰＣを存在させつつ５０℃で３０分間保持する；
１０℃の温度で、３０ｇの８％ＮａＯＨを添加する；
温度を４０℃に設定する；
１４．５ｇの１，６−ジヨードヘキサンを注入する；
反応媒体を５０℃で１２時間にわたり保持する；
この反応混合物を１０℃に冷却し、続いて多孔度３のフリットでろ過する；
形成されたホルムアルデヒドを、水／ホルムアルデヒド混合物を１５〜３０℃の温度及び＜１０ｍｂａｒの圧力で蒸留することにより除去する；
そして、４００ｇのエタノールを添加し、そして同じ条件下で蒸留してホルムアルデヒドを使い果たす。
１０℃の温度で、１５ｇの８％ＮａＯＨを添加する；
温度を４０％に設定する；
１０ｇの１，６−ジヨードヘキサンを注入すると同時に、この反応混合物を５０℃で１２時間保持する；この反応媒体を10℃に冷却し、続いて多孔度３のフリットでろ過する；形成されたホルムアルデヒドを、水／ホルムアルデヒド混合物を１５〜３０℃の温度及び＜１０ｍｂａｒの圧力で蒸留することにより除去する；
続いて３５０ｇの水を添加し、そして同じ条件下で蒸留してホルムアルデヒドを使い果たす；
得られた生成物は淡黄色の透明な溶液であり、これから３２７．７ｇの質量を取り出す；取り出された水性相を酢酸エチルで３回洗浄する（ＡｃＯＥｔ ３５０ｇ）。
洗浄された水性相をロータリーエバポレーターで脱溶媒和させ、そして２８４ｇの淡黄色の溶液が得られ、次の核磁気共鳴分析を行う：
31Ｐ ＮＭＲ分析
1.６％ＴＨＰＯ
３％ＴＨＰＣ
次の組成の９５％ホスホニウム誘導体：
【化７】
ｎ＝６
６０％
【化８】
ｎ=６
４０％。
【００３６】
例５：
ｏｘｙｔｏｐ（商標）スクリーニング試験での有機ホスホニウム誘導体による活性汚泥減少の検出：
脱共役化学剤によるスラッジ生成の減少を呼吸計で評価するために（脱共役剤の特徴的な性質である酸素過剰消費を測定するために）、合成培地と、脱共役剤に特に感受性のある細菌株とを含むｏｘｙｔｏｐ（商標）試験技術を使用する。これらのモデル細菌株（特にＳｃｈｉｎｅｌｌａ ｇｒａｎｕｌｉ菌株）は、特にＳＴＥＰの活性汚泥を代表するものである。というのは、これらの細菌株は、曝気槽内において活性汚泥から単離されるからである。
使用する方法及び装置は、参考として引用されるＷＯ２００４／１１３２３６号の例３に記載されたものである。Ｓｃｈｉｎｅｌｌａ ｇｒａｎｕｌｉ株は、この方法における接種材料として使用した（これは、活性汚泥を使用したＷＯ２００４／１１３２３６の例３とは異なる）。
【００３７】
このスクリーニング試験で得られた結果を以下の表１にまとめる。これらは、コントロール（脱共役剤を含まないもの）に対する脱共役パーセントとして表される。これは、例２について、０.０５ｍｇ／Ｌで、脱共役剤を含まないコントロールに対して１８％の酸素過剰消費を有することを意味する。ＴＨＰＳ（テトラキス（ヒドロメチル）ホスホニウムスルフェート）は、ｏｘｉｔｏｐ（商標）呼吸試験において、３ｐｐｍの指定濃度について１６±８％の脱共役効果を発揮する。ここで、脱共役因子に関して９５％のＴＨＰＳ信頼区間は、［１０２２］である。この値は、２６ Ｏｘｉｔｏｐ（商標）試験で得られた結果から算出されたものである。
【００３８】
【表１】
【００３９】
これらの誘導体が良好な効率を示すかなり狭い濃度範囲が、例２で合成されたホスホニウム誘導体で観察される。
【００４０】
この濃度範囲は、低濃度での脱共役効果の活性化、その後僅かな抑制、続いて５ｐｐｍ付近で得られる毒性（指定濃度）を示す場合が多い。
【００４１】
ＴＨＰＳで得られるのと同じ桁の脱共役効果が観察される（１６±８％、すなわち、３ｐｐｍのＴＨＰＳによる２６ Ｏｘｉｔｏｐ（商標）試験で得られた平均値）。例２のトリホスホニウム及びジホスホニウムの混合物は、０．１〜２ｐｐｍからなる比較的低い濃度範囲で再現可能で有意な脱共役効果を与える。最適濃度は、およそ１５％の効果で１ｐｐｍにあるように思われる。
【００４２】
例６
Ｃｈｅｍｏｓｔａｔ（商標）生物パイロットでの有機ホスホニウム誘導体による活性汚泥減少の検出
上記例２の分子で対処された合成排水と共に連続的に供給される生物パイロットでの試験から、汚泥生成量の減少に及ぼす有意な脱共役効果が示される。生物パイロットは、５リットルの容積を有し、かつ、連続的に曝気される；約７日の汚泥年齢を得るために、生物パイロットのパージを毎日行う（週末を除く）。生物パイロットに、Ｓｔ−Ｆｏｎｓ（フランス）の都市ＳＴＥＰからの活性汚泥を播種した。汚泥の短い順化期間後に、例２の分子での処理を参考として引用するＷＯ２００４／１１３２３６号の例１にも記載されたフラッシュ混合方法に従って実施する。
【００４３】
３ヶ月間続くフラッシュ混合方法に従う脱共役物質の全注入期間から、次の結果が得られた：
【００４４】
【表２】
【００４５】
汚泥生成量の減少について例２の化合物の、特に２．３ｐｐｍでの良好な効率が、未処理コントロールと比較して２０％よりも僅かに大きい減少率で観察される。
【００４６】
補完試験（今回は、上記例２の化合物の２つの異なる等級を使用する（以下、例２１及び例２２ａという））から、１ヶ月で次の結果が得られた：
【００４７】
【表３】
【００４８】
例２２の化合物は、２７．６％の汚泥生成量の減少及び２６％の増殖速度の減少で良好な効率を示す（これは、この濃度で、汚泥の生成能力を変更しないことを確認するものである）
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ホスホニウム誘導体、それらの製造方法及びそれらの脱共役剤としての使用に関する。
【０００２】
本発明は、水性系、特に廃水処理場での細菌バイオマス制御の範囲内での使用を目的とした脱共役剤並びにこれらの脱共役剤の使用及びこれらの脱共役剤の使用方法に関するものである。
【背景技術】
【０００３】
分子の脱共役活性は、有機分子の生物学的分解により廃水のバイオマス生成量を減少させると共に細菌細胞の精製活性を維持するように細菌細胞のエネルギーに作用することにある。細胞の呼吸に関与する生化学及び機構の詳しい内容は、例えば「Ｂｉｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ」，第３版，著者：Ｌｕｂｅｒｔ Ｓｔｒｙｅｒ，編者：Ｗ．Ｈ．Ｆｒｅｅｍｅｎ ＆ Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，ＵＳＡ，１９９８及び「Ｇｅｎｅｒａｌ Ｍｉｃｒｏｂｉｏｌｏｇｙ」，第３版，著者：Ｒｏｇｅｒ Ｙ．Ｓｔａｎｉｅｒ，Ｍｉｃｈａｅｌ Ｄｏｕｄｏｒｏｆｆ及びＥｄｗａｒｄ Ａ．Ａｄｅｌｂｅｒｇ，編者：Ｍａｃｍｉｌｌａｎ，１９７１で議論されている。
【０００４】
細菌増殖に対する分子の脱共役活性は、結局のところ、細菌のエネルギーのアンバランスによって誘導される酸素の過剰消費により表される。
【０００５】
この分子の脱共役活性は、活性汚泥の生産源で有意な減少を可能にする廃水処理場（以下、フランス語の略語のＳＴＥＰで示す）での適用に興味が持たれる。
【０００６】
バイオマス生産、すなわち、廃水処理の際の活性汚泥の生成は、廃水中における栄養物の消費に由来する。呼吸過程によって栄養物が酸化され、そしてこれがエネルギーを放出し、このエネルギーは、微生物により細胞分裂の範囲内で利用され得る。ここで、栄養物の消費は、酸化的リン酸化現象により細菌細胞膜でのプロトンの流れを誘導する。この流れは、プロトン勾配を確立させ、それ自体がＡＤＰ＋ＰからＡＴＰ（アデノシン三リン酸）の合成を可能にするプロトンポンプを作動させる。ＡＴＰは、細胞過程（細胞分裂を含む）の間に細胞にエネルギーを与える。
【０００７】
仮に、このエネルギー放出を避けることができたとしたら、エネルギー生成を抑制することでバイオマス生成量が減少すると考えられる。
【０００８】
脱共役は、ＡＴＰの形態でのエネルギー供給の形成の阻害に相当する。脱共役剤は、炭素消費のエネルギー収率を減少させると同時に、ＣＯ2に酸化される炭素の割合を増加させる。したがって、脱共役は、少量のバイオマス生産と、より多量の酸素消費とによって表される。
【０００９】
廃水処理中に生産される細菌バイオマスは、除去するのに費用がかかるため、バイオマスの減少により除去費用の削減となる。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【００１０】
【非特許文献１】「Ｂｉｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ」，第３版，著者：Ｌｕｂｅｒｔ Ｓｔｒｙｅｒ，編者：Ｗ．Ｈ．Ｆｒｅｅｍｅｎ ＆ Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，ＵＳＡ，１９９８年
【非特許文献２】「Ｇｅｎｅｒａｌ Ｍｉｃｒｏｂｉｏｌｏｇｙ」，第３版，著者：Ｒｏｇｅｒ Ｙ．Ｓｔａｎｉｅｒ，Ｍｉｃｈａｅｌ Ｄｏｕｄｏｒｏｆｆ及びＥｄｗａｒｄ Ａ．Ａｄｅｌｂｅｒｇ，編者：Ｍａｃｍｉｌｌａｎ，１９７１年
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明の目的は、効率が生物汚泥のその生産源での生成量の低下、すなわち、都市廃水処理場の曝気槽において少なくとも３０％の低下により測定される脱共役分子を提案することである。
【００１２】
本発明の別の目的は、効率が基準分子ＴＨＰＳ（テトラキスヒドロキシメチルホスホニウム）の効率（生物汚泥生成量の減少効率が国際特許出願ＷＯ２００４／１１３２３６に示されている）と実質的に等しい又はそれよりも大きい脱共役分子を提案することである。
【００１３】
本発明の別の目的は、非生物分解性及び生物分解性がＴＨＰＳよりも迅速ではない、ＴＨＰＳの代わりとなる脱共役分子を提案することである。ただし、該分子は、環境問題を引き起こす非分解性ではない。
【００１４】
最後に、本発明の別の目的は、毒性及び生態毒性プロファイルが満足のいくものであり、かつ、ＳＴＥＰに使用するのに適した脱共役分子を提案することである。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
これらの目的及び他の目的は、次の一般式（１）の有機ホスホニウム誘導体に関する本発明により達成される：
【化１】
式中：
ｎは、４〜２０、好ましくは５〜１０からなる数であり、
ｍは、０〜１０、好ましくは０〜１からなる数であり、そして
Ｙは、陰イオン、好ましくは塩化物、硫酸、リン酸又は臭化物陰イオンである。
【００１６】
本発明の好ましい化合物について、ｎは５〜１０からなり、ｍは０又は１であり、そして、Ｙは塩化物、硫酸、リン酸又は臭化物陰イオンである。
【００１７】
本発明のさらに好ましい化合物について、ｎは８であり、ｍは０又は１である。
【００１８】
また、本発明は、次の工程を含む、上記有機ホスホニウム誘導体の製造方法に関するものでもある：
（ａ）以下の反応スキームに従って、不活性雰囲気下で塩化テトラキス（ヒドロメチル）ホスホニウムとソーダなどの強塩基とを反応させてトリスヒドロキシメチルホスフィンを得ると共にホルムアルデヒドを除去し：
【化２】
（ここで、Ｘは陰イオンを表す）；
（ｂ）α，ω−ジハロゲノアルキレンと工程（ａ）で得られた反応物とを反応させ、そして対応するアルキレンジホスホニウムを得、
【化３】
（ｃ）随意に、上記反応スキームに従って、工程（ｂ）で得られたアルキレンジホスホニウムを過剰のジハロゲノアルキレン及びトリスヒドロキシメチルホスフィンと反応させてホルムアルデヒドの脱離によりトリホスホニウム又はポリホスホニウムを得る：
【化４】
Ｘ、Ｙ、ｎ及びｍは、上記式（１）について与えた意味を有する。
【００１９】
また、本発明は、水性系での細菌バイオマスの増殖を制御する方法であって、次の一般式（１）の有機ホスホニウム誘導体：
（式中：
ｎは４〜２０、好ましくは５〜１０からなる数であり、
ｍは、０〜１０、好ましくは０〜１からなる数であり、そして
Ｙは、好ましくは塩化物、硫酸、リン酸、酢酸及び臭化物イオンよりなる群から選択される陰イオンである。）
から選択される脱共役剤の有効量を該水性系に添加し又は該水性系と接触させることを含む方法に関するものでもある。
【００２０】
さらに好ましくは、ｎは８であり、ｍは０又は１である。
【００２１】
また、本発明は、水性系での細菌バイオマスの増殖を制御する方法であって、上記有機ホスホニウム誘導体から選択される脱共役剤の有効量を該水性系に添加し又は該水性系と接触させることを含む方法に関するものでもある。
【００２２】
水性系に添加される有機ホスホニウム誘導体の有効量は、１００ｍｇ／Ｌまで、例えば５０ｍｇ／Ｌまで、例えば３０ｍｇ／Ｌまでに相当することができる。
【００２３】
好ましくは、水性系に添加される有機ホスホニウム誘導体の有効量は、０．０００１ｍｇ／Ｌ〜１００ｍｇ／Ｌ、０．００５ｍｇ／Ｌ〜５０ｍｇ／Ｌ、例えば０．０１ｍｇ／Ｌ〜３０ｍｇ／Ｌ、例えば０．０５ｍｇ／Ｌ〜１０ｍｇ／Ｌに相当する。より好ましくは、有機ホスホニウム誘導体の有効量は、０．１〜１０ｍｇ／Ｌ、例えば０．５ｍｇ／Ｌ〜７．５ｍｇ／Ｌ、例えば１〜５ｍｇ／Ｌに相当する。
【００２４】
脱共役剤用途における有機ホスホニウム誘導体は、廃水処理に従来から使用されている次の化学物質の１種以上：界面活性剤；消泡剤；スケール防止剤；腐食防止剤；殺生物剤；凝集剤；固／液分離促進剤；及び分散剤と共に処方できる。
【００２５】
好ましくは、水性系は、産業廃水又は都市廃水を処理するために使用される廃水処理場である。この施設は、有機汚染物質を消費させ、かつ、再利用又は環境への廃棄に好適な水を生じさせるために微生物を好気的無酸素方法（例えば脱窒）で使用することによって、産業プロセス（例えば、紙生産、食品産業、化学工業）及び／又は住宅、公共施設並びに同様の施設から廃水を回収する。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
したがって、本発明は、水性系での細菌バイオマスの増殖を制御する方法であって、上記脱共役剤の有効量を該水性系に添加する又は該水性系と接触させることを含む方法を提供する。
【００２７】
好ましい実施形態では、本発明は、水性系での細菌バイオマスの増殖を制御する方法であって、上記脱共役剤の有効量と該細菌バイオマスとを直接接触させることを含む方法を提供する。この方法を適用するにあたっては、脱共役剤から最適の効率を得るために、一定時間内に最大容量の活性汚泥と脱共役剤とを接触させることが推奨される。
【００２８】
例えば、研究室での生物パイロット試験について、水中での脱共役剤と細菌バイオマスとの直接接触は、「瞬間投与」又は「瞬間混合」（フラッシュ混合ともいう）という表現で呼ばれている。
【００２９】
脱共役剤を、汚泥を含むバイオリアクターにただ単に直接添加したに過ぎない場合には、脱共役剤はこのバイオリアクター内に存在する他の材料と相互作用し、有機ホスホニウム誘導体の作用が実質的に低減するため、この薬剤の効率が実質的に低下することが分かった。
【００３０】
さらに、該有機ホスホニウム誘導体の有効量は、前記水性系の汚泥中に存在する固形物（乾燥物又はＤＭとして表す）１グラム当たり０．１〜１００ｍｇ、好ましくは０．５〜１００ｍｇ／ｇ、例えば１〜５０ｍｇ／ｇ、例えば２〜１０ｍｇ／ｇに相当することができる。
【００３１】
次の実施例は、本願発明を例示するものであって、その範囲を限定するものではない。
【実施例】
【００３２】
例１：
工程（ａ）トリスヒドロキシメチルホスフィン溶液の合成
真空蒸留装置を備え、予め窒素下で不活性化された完全撹拌反応器に、次のものを仕込む：
８０％ＴＨＰＣ（塩化テトラキス（ヒドロメチル）ホスホニウム）を滴定し、かつ、１５０ｇのＴＨＰＣ（０．６３ｍｏｌ）を含有する溶液；
この混合物を５〜１５℃に冷却する；
３８５ｇの８％ソーダ溶液を、温度を５〜１５℃に制御しつつ３時間以内に注ぐ；
この注入の終了時に、この反応混合物を１０℃で１２時間にわたり保持する；
形成されたホルムアルデヒドを、水／ホルムアルデヒド混合物を１５〜３０℃の温度及び＜１０ｍｂａｒの圧力で蒸留することにより除去する；
９７０ｇのエタノールを添加し、そして同じ条件下で蒸留を実施してホルムアルデヒドを使い果たす；
ＮａＣｌの沈殿を回収し、そして蒸留後に反応生成物を分析する：
分析：９３.５％のＴＨＰ／３％のＴＨＰＯ／３．５％のＴＨＰＣ。
【００３３】
例２：
工程（ｂ）及び（ｃ）：ホスホニウム（式（１）：ｎ＝８、ｍ＝０又は１）の合成
例１で製造された反応生成物を、真空蒸留装置を備え、予め不活性化された完全撹拌反応器に導入する。
温度を４５〜５５℃に制御しながら、１１１．８ｇの１，８−ジヨードオクタンを３０分以内に注ぐ。
この反応媒体は二相性であり、塩の沈殿が観察される（ＮａＩ／ＮａＣｌ）。
５０℃で５０時間保持した後に、この反応媒体をろ過したところ、得られた生成物は淡黄色の透明な溶液であり、これから 次のＮＭＲ分析（核磁気共鳴）を有する６６５ｇの質量を抽出する：
31Ｐ ＮＭＲ分析
３％ＴＨＰＯ
３％ＴＨＰ
１４％ＴＨＰＣ
ジホスホニウム及びトリホスホニウムの次のモル組成に従う７８％のホスホニウム誘導体：
【化５】
ｎ＝８
８７％
【化６】
ｎ=８
１３％。
【００３４】
例３：
工程（a）トリスヒドロキシメチルホスフィン溶液の合成：
真空蒸留装置を備え、予め窒素下で不活性化された完全撹拌反応器に、８０％ＴＨＰＣ（塩化テトラキス（ヒドロメチル）ホスホニウム）を滴定し１００ｇのＴＨＰＣ（０.４２ｍｏｌ）及び水（５０ｇ）を有する溶液を仕込む；
この混合物を５〜１５℃に冷却する；
２２８ｇの８％ソーダＮａＯＨ溶液を３時間以内に５〜１５℃の温度に制御しつつ注ぐ；
この注入の終了時に、１０℃を１２時間にわたり維持する；
形成されたホルムアルデヒドを、１５〜３０℃の温度及び１０ｍｂａｒ未満の圧力で水／ホルムアルデヒド混合物を蒸留することによって除去する；
７８６ｇのエタノールを添加し、そしてこの反応混合物を同じ条件下で蒸留してホルムアルデヒドを使い果たす；
ＮａＣｌの沈殿が観察される。
【００３５】
例４：
工程（ｂ）及び（ｃ）：ホスホニウム（式（１）：ｎ＝６、ｍ＝０又は１）の合成
例３で製造された反応生成物を、真空蒸留装置を備え、予め不活性化された完全撹拌反応器に、温度を４５〜５５℃に制御しつつ導入する；
１１１．８ｇの１，６−ジヨードヘキサンを３０分以内に注ぎ、そして温度を４５〜５５℃に制御する；
得られた反応媒体は二相性であり、そして塩の沈殿が観察される（ＮａＩ／ＮａＣｌ）；
この反応混合物の温度を１５％のＴＨＰＣを存在させつつ５０℃で３０分間保持する；
１０℃の温度で、３０ｇの８％ＮａＯＨを添加する；
温度を４０℃に設定する；
１４．５ｇの１，６−ジヨードヘキサンを注入する；
反応媒体を５０℃で１２時間にわたり保持する；
この反応混合物を１０℃に冷却し、続いて多孔度３のフリットでろ過する；
形成されたホルムアルデヒドを、水／ホルムアルデヒド混合物を１５〜３０℃の温度及び＜１０ｍｂａｒの圧力で蒸留することにより除去する；
そして、４００ｇのエタノールを添加し、そして同じ条件下で蒸留してホルムアルデヒドを使い果たす。
１０℃の温度で、１５ｇの８％ＮａＯＨを添加する；
温度を４０％に設定する；
１０ｇの１，６−ジヨードヘキサンを注入すると同時に、この反応混合物を５０℃で１２時間保持する；この反応媒体を10℃に冷却し、続いて多孔度３のフリットでろ過する；形成されたホルムアルデヒドを、水／ホルムアルデヒド混合物を１５〜３０℃の温度及び＜１０ｍｂａｒの圧力で蒸留することにより除去する；
続いて３５０ｇの水を添加し、そして同じ条件下で蒸留してホルムアルデヒドを使い果たす；
得られた生成物は淡黄色の透明な溶液であり、これから３２７．７ｇの質量を取り出す；取り出された水性相を酢酸エチルで３回洗浄する（ＡｃＯＥｔ ３５０ｇ）。
洗浄された水性相をロータリーエバポレーターで脱溶媒和させ、そして２８４ｇの淡黄色の溶液が得られ、次の核磁気共鳴分析を行う：
31Ｐ ＮＭＲ分析
1.６％ＴＨＰＯ
３％ＴＨＰＣ
次の組成の９５％ホスホニウム誘導体：
【化７】
ｎ＝６
６０％
【化８】
ｎ=６
４０％。
【００３６】
例５：
ｏｘｙｔｏｐ（商標）スクリーニング試験での有機ホスホニウム誘導体による活性汚泥減少の検出：
脱共役化学剤によるスラッジ生成の減少を呼吸計で評価するために（脱共役剤の特徴的な性質である酸素過剰消費を測定するために）、合成培地と、脱共役剤に特に感受性のある細菌株とを含むｏｘｙｔｏｐ（商標）試験技術を使用する。これらのモデル細菌株（特にＳｃｈｉｎｅｌｌａ ｇｒａｎｕｌｉ菌株）は、特にＳＴＥＰの活性汚泥を代表するものである。というのは、これらの細菌株は、曝気槽内において活性汚泥から単離されるからである。
使用する方法及び装置は、参考として引用されるＷＯ２００４／１１３２３６号の例３に記載されたものである。Ｓｃｈｉｎｅｌｌａ ｇｒａｎｕｌｉ株は、この方法における接種材料として使用した（これは、活性汚泥を使用したＷＯ２００４／１１３２３６の例３とは異なる）。
【００３７】
このスクリーニング試験で得られた結果を以下の表１にまとめる。これらは、コントロール（脱共役剤を含まないもの）に対する脱共役パーセントとして表される。これは、例２について、０.０５ｍｇ／Ｌで、脱共役剤を含まないコントロールに対して１８％の酸素過剰消費を有することを意味する。ＴＨＰＳ（テトラキス（ヒドロメチル）ホスホニウムスルフェート）は、ｏｘｉｔｏｐ（商標）呼吸試験において、３ｐｐｍの指定濃度について１６±８％の脱共役効果を発揮する。ここで、脱共役因子に関して９５％のＴＨＰＳ信頼区間は、［１０２２］である。この値は、２６ Ｏｘｉｔｏｐ（商標）試験で得られた結果から算出されたものである。
【００３８】
【表１】
【００３９】
これらの誘導体が良好な効率を示すかなり狭い濃度範囲が、例２で合成されたホスホニウム誘導体で観察される。
【００４０】
この濃度範囲は、低濃度での脱共役効果の活性化、その後僅かな抑制、続いて５ｐｐｍ付近で得られる毒性（指定濃度）を示す場合が多い。
【００４１】
ＴＨＰＳで得られるのと同じ桁の脱共役効果が観察される（１６±８％、すなわち、３ｐｐｍのＴＨＰＳによる２６ Ｏｘｉｔｏｐ（商標）試験で得られた平均値）。例２のトリホスホニウム及びジホスホニウムの混合物は、０．１〜２ｐｐｍからなる比較的低い濃度範囲で再現可能で有意な脱共役効果を与える。最適濃度は、およそ１５％の効果で１ｐｐｍにあるように思われる。
【００４２】
例６
Ｃｈｅｍｏｓｔａｔ（商標）生物パイロットでの有機ホスホニウム誘導体による活性汚泥減少の検出
上記例２の分子で対処された合成排水と共に連続的に供給される生物パイロットでの試験から、汚泥生成量の減少に及ぼす有意な脱共役効果が示される。生物パイロットは、５リットルの容積を有し、かつ、連続的に曝気される；約７日の汚泥年齢を得るために、生物パイロットのパージを毎日行う（週末を除く）。生物パイロットに、Ｓｔ−Ｆｏｎｓ（フランス）の都市ＳＴＥＰからの活性汚泥を播種した。汚泥の短い順化期間後に、例２の分子での処理を参考として引用するＷＯ２００４／１１３２３６号の例１にも記載されたフラッシュ混合方法に従って実施する。
【００４３】
３ヶ月間続くフラッシュ混合方法に従う脱共役物質の全注入期間から、次の結果が得られた：
【００４４】
【表２】
【００４５】
汚泥生成量の減少について例２の化合物の、特に２．３ｐｐｍでの良好な効率が、未処理コントロールと比較して２０％よりも僅かに大きい減少率で観察される。
【００４６】
補完試験（今回は、上記例２の化合物の２つの異なる等級を使用する（以下、例２１及び例２２ａという））から、１ヶ月で次の結果が得られた：
【００４７】
【表３】
【００４８】
例２２の化合物は、２７．６％の汚泥生成量の減少及び２６％の増殖速度の減少で良好な効率を示す（これは、この濃度で、汚泥の生成能力を変更しないことを確認するものである）
【特許請求の範囲】
【請求項１】
次の一般式（１）の有機ホスホニウム誘導体：
式中：
ｎは、４〜２０、好ましくは５〜１０からなる数であり、
ｍは、０〜１０、好ましくは０〜１からなる数であり、そして
Ｙは陰イオンである。
【請求項２】
ｎが５〜１０からなり、ｍが０又は１であり、Ｙが塩化物、硫酸塩、リン酸塩又は臭化物陰イオンであることを特徴とする、請求項１に記載の誘導体。
【請求項３】
ｎが８であり、ｍが０又は１であることを特徴とする、請求項１又は２に記載の誘導体。
【請求項４】
水性系での細菌バイオマスの増殖を制御する方法であって、請求項１〜３のいずれかに記載の有機ホスホニウム誘導体から選択される脱共役剤の有効量を前記水性系に添加し又は該水性系と接触させることを特徴とする方法。
【請求項５】
前記脱共役剤の有効量が０．００１〜１００ｍｇ／Ｌからなることを特徴とする、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記脱共役剤の有効量が０．００５〜５０ｍｇ／Ｌからなることを特徴とする、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記脱共役剤の有効量が０．０１ｍｇ／Ｌ〜３０ｍｇ／Ｌからなることを特徴とする、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記脱共役剤の有効量が０．１ｍｇ／Ｌ〜１０ｍｇ／Ｌからなることを特徴とする、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記脱共役剤の有効量が０．５ｍｇ／Ｌ〜７．５ｍｇ／Ｌからなることを特徴とする、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記脱共役剤の有効量が１ｍｇ／Ｌ〜５ｍｇ／Ｌからなることを特徴とする、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記脱共役剤の有効量が、前記水性系の汚泥中に存在する固形物（乾燥物として表す）１ｇ当たり０．１ｍｇ〜１００ｍｇからなることを特徴とする、請求項４に記載の方法。
【請求項１２】
前記脱共役剤の有効量が前記水性系の汚泥中に存在する固形物１ｇ当たり１ｍｇ〜５０ｍｇからなることを特徴とする、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記脱共役剤の有効量が、前記水性系の汚泥中に存在する固形物１ｇ当たり２ｍｇ〜１０ｍｇからなることを特徴とする、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記水性系が産業廃水又は都市廃水の処理を目的とした廃水処理場であることを特徴とする、請求項４〜１３のいずれかに記載の方法。
【請求項１５】
次の工程：
（ａ）以下の反応スキームに従って、不活性雰囲気下で塩化テトラキス（ヒドロメチル）ホスホニウムとソーダのような強塩基とを反応させてトリスヒドロキシメチルホスフィンを得ると共にホルムアルデヒドを除去し：
【化１】
（ここで、Ｘは陰イオンを表す）；
（ｂ）α，ω−ジハロゲノアルキレンと工程（ａ）で得られた反応生成物とを反応させて、対応するアルキレンジホスホニウムを得、
【化２】
（ｃ）適宜、次の反応スキームに従って、工程（ｂ）で得られたアルキレンジホスホニウムと過剰のジハロゲノアルキレン及びトリスヒドロキシメチルホスフィンとを反応させてトリホスホニウム又はポリホスホニウムを得ると共に、ホルムアルデヒドを脱離させること：
【化３】
（ここで、Ｘ、Ｙ、ｎ及びｍは上記式（１）において与えた意味を有する。）。
【請求項１】
次の一般式（１）の有機ホスホニウム誘導体：
式中：
ｎは、４〜２０、好ましくは５〜１０からなる数であり、
ｍは、０〜１０、好ましくは０〜１からなる数であり、そして
Ｙは陰イオンである。
【請求項２】
ｎが５〜１０からなり、ｍが０又は１であり、Ｙが塩化物、硫酸塩、リン酸塩又は臭化物陰イオンであることを特徴とする、請求項１に記載の誘導体。
【請求項３】
ｎが８であり、ｍが０又は１であることを特徴とする、請求項１又は２に記載の誘導体。
【請求項４】
水性系での細菌バイオマスの増殖を制御する方法であって、請求項１〜３のいずれかに記載の有機ホスホニウム誘導体から選択される脱共役剤の有効量を前記水性系に添加し又は該水性系と接触させることを特徴とする方法。
【請求項５】
前記脱共役剤の有効量が０．００１〜１００ｍｇ／Ｌからなることを特徴とする、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記脱共役剤の有効量が０．００５〜５０ｍｇ／Ｌからなることを特徴とする、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記脱共役剤の有効量が０．０１ｍｇ／Ｌ〜３０ｍｇ／Ｌからなることを特徴とする、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記脱共役剤の有効量が０．１ｍｇ／Ｌ〜１０ｍｇ／Ｌからなることを特徴とする、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記脱共役剤の有効量が０．５ｍｇ／Ｌ〜７．５ｍｇ／Ｌからなることを特徴とする、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記脱共役剤の有効量が１ｍｇ／Ｌ〜５ｍｇ／Ｌからなることを特徴とする、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記脱共役剤の有効量が、前記水性系の汚泥中に存在する固形物（乾燥物として表す）１ｇ当たり０．１ｍｇ〜１００ｍｇからなることを特徴とする、請求項４に記載の方法。
【請求項１２】
前記脱共役剤の有効量が前記水性系の汚泥中に存在する固形物１ｇ当たり１ｍｇ〜５０ｍｇからなることを特徴とする、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記脱共役剤の有効量が、前記水性系の汚泥中に存在する固形物１ｇ当たり２ｍｇ〜１０ｍｇからなることを特徴とする、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記水性系が産業廃水又は都市廃水の処理を目的とした廃水処理場であることを特徴とする、請求項４〜１３のいずれかに記載の方法。
【請求項１５】
次の工程：
（ａ）以下の反応スキームに従って、不活性雰囲気下で塩化テトラキス（ヒドロメチル）ホスホニウムとソーダのような強塩基とを反応させてトリスヒドロキシメチルホスフィンを得ると共にホルムアルデヒドを除去し：
【化１】
（ここで、Ｘは陰イオンを表す）；
（ｂ）α，ω−ジハロゲノアルキレンと工程（ａ）で得られた反応生成物とを反応させて、対応するアルキレンジホスホニウムを得、
【化２】
（ｃ）適宜、次の反応スキームに従って、工程（ｂ）で得られたアルキレンジホスホニウムと過剰のジハロゲノアルキレン及びトリスヒドロキシメチルホスフィンとを反応させてトリホスホニウム又はポリホスホニウムを得ると共に、ホルムアルデヒドを脱離させること：
【化３】
（ここで、Ｘ、Ｙ、ｎ及びｍは上記式（１）において与えた意味を有する。）。
【公表番号】特表２０１３−５０５２７９（Ｐ２０１３−５０５２７９Ａ）
【公表日】平成２５年２月１４日（２０１３．２．１４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１２−５３０２０６（Ｐ２０１２−５３０２０６）
【出願日】平成２２年９月８日（２０１０．９．８）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２０１０／０６３１４０
【国際公開番号】ＷＯ２０１１／０３６０５２
【国際公開日】平成２３年３月３１日（２０１１．３．３１）
【出願人】（５０８０７６５９８）ロディア オペレーションズ (98)
【氏名又は名称原語表記】ＲＨＯＤＩＡ ＯＰＥＲＡＴＩＯＮＳ
【住所又は居所原語表記】４０ ｒｕｅ ｄｅ ｌａ Ｈａｉｅ Ｃｏｑ Ｆ−９３３０６ Ａｕｂｅｒｖｉｌｌｉｅｒｓ ＦＲＡＮＣＥ
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２５年２月１４日（２０１３．２．１４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年９月８日（２０１０．９．８）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２０１０／０６３１４０
【国際公開番号】ＷＯ２０１１／０３６０５２
【国際公開日】平成２３年３月３１日（２０１１．３．３１）
【出願人】（５０８０７６５９８）ロディア オペレーションズ (98)
【氏名又は名称原語表記】ＲＨＯＤＩＡ ＯＰＥＲＡＴＩＯＮＳ
【住所又は居所原語表記】４０ ｒｕｅ ｄｅ ｌａ Ｈａｉｅ Ｃｏｑ Ｆ−９３３０６ Ａｕｂｅｒｖｉｌｌｉｅｒｓ ＦＲＡＮＣＥ
【Ｆターム（参考）】
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