有機電界発光素子およびその製造方法
【課題】透明カソードの光透過率を改善した有機電界発光素子及びその製造方法が開示される。
【解決手段】本発明の有機電界発光素子は、 基板、基板上に形成される第１電極、第１電極上に形成される有機物層、有機物層上に形成される第２電極、及び有機物層と第２電極との間および第２電極の上部のうち少なくともいずれか１つに形成され、酸化物系、窒化物系、塩類およびこれらの複合物のうちいずれか１つを含む透光層を含むことができる。これにより、本発明は、カソード電極に透光層を形成して光透過率の増大及び抵抗の減少を実現することにより、製品の電気的性能を向上させることができる。
【解決手段】本発明の有機電界発光素子は、 基板、基板上に形成される第１電極、第１電極上に形成される有機物層、有機物層上に形成される第２電極、及び有機物層と第２電極との間および第２電極の上部のうち少なくともいずれか１つに形成され、酸化物系、窒化物系、塩類およびこれらの複合物のうちいずれか１つを含む透光層を含むことができる。これにより、本発明は、カソード電極に透光層を形成して光透過率の増大及び抵抗の減少を実現することにより、製品の電気的性能を向上させることができる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機電界発光素子に関し、特に、透明カソードの光透過率を改善した有機電界発光素子およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に有機電界発光素子（Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ：ＯＬＥＤ）は、基板、基板上に積層される下部電極、下部電極上に積層される有機物層、および有機物層上に積層される上部電極を含む。
【０００３】
このような有機電界発光素子は、下部電極として用いられるアノード（ａｎｏｄｅ）と上部電極として用いられるカソード（ｃａｔｈｏｄｅ）との間の通電により発光する。即ち、有機電界発光素子の発光は、上部電極の電子および下部電極の正孔により上部電極と下部電極との間に介した有機物層で起こる。
【０００４】
ここで、有機電界発光素子は、発光方式により上部電極および下部電極を通じて発光する両面発光有機電界発光素子（ｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔ ＯＬＥＤ）、上部電極を通じて発光する前面発光有機電界発光素子（ｔｏｐ ＯＬＥＤ）および下部電極を通じて発光する背面発光有機電界発光素子（ｂｏｔｔｏｍ ＯＬＥＤ）に分けられる。
【０００５】
有機電界発光素子の発光方式は、上部電極および下部電極のうち透過性を有する電極によりなされる。両面発光方式の場合、上部電極および下部電極は透過性を有していなければならない。一般に、下部電極は、透過性のある燐−錫酸化物電極（ｉｎｄｉｕｍ−ｔｉｎ ｏｘｉｄｅ：ＩＴＯ）が用いられる。上部電極は、透過性のある金属薄膜を用い、このような金属薄膜の厚さを減少させると透過率が増加する。
【０００６】
ところが、上部電極の透過率を増加させるための上部電極の厚さの減少は、上部電極の面抵抗の増加をもたらす。即ち、上部電極の透過率を高めるためにその厚さを減少させると、これにより抵抗が高くなって全体的な有機電界発光素子の性能低下を招くという問題点がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上記のような問題点を解決するためになされたものであり、カソード電極の透過率を向上させることができる有機電界発光素子を提供することにその目的がある。
【０００８】
本発明の他の目的は、カソード電極の透過率の増加による抵抗の増加を阻むことができるように、構造が改善された有機電界発光素子を提供することにある。
本発明の又他の目的は、上記のような有機電界発光素子の製造方法を提供することにある。
【０００９】
本発明の目的は、以上で言及した目的に制限されず、言及されていない又他の目的は下記の記載から当業者が明確に理解するであろう。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するための本発明の望ましい実施例による有機電界発光素子は、基板、上記基板上に形成される第１電極、上記第１電極上に形成される有機物層、上記有機物層上に形成される第２電極、および上記有機物層と上記第２電極との間および上記第２電極の上部のうち少なくともいずれか１つに形成され、酸化物系、窒化物系、塩類およびこれらの複合物のうちいずれか１つを含む透光層を含むことができる。
【００１１】
ここで、上記酸化物系は、ＭｏＯ３、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＩＯ、ＺｎＯ、ＴＯ、ＴｉＯ２、ＳｉＯ２、ＷＯ３、Ａｌ２Ｏ３、Ｃｒ２Ｏ３、ＴｅＯ２、及びＳｒＯ２のうちいずれか１つを含むことができる。
【００１２】
なお、上記窒化物系は、Ｓｉ３Ｎ４、ＡＩＮのうちいずれか１つを含むことができる。
【００１３】
なお、上記塩類は、Ｃｓ２ＣＯ３、Ｌｉ２ＣＯ３、Ｋ２ＣＯ３、Ｎａ２ＣＯ３、ＬｉＦ、ＣｓＦ、及びＺｎＳｅのうちいずれか１つを含むことができる。
【００１４】
なお、上記透光層の厚さは０．１ｎｍ以上１００ｎｍ未満に形成されることが望ましい。
【００１５】
なお、上記有機物層は、上記第２電極からの電子注入を円滑にするために、仕事関数が低い金属類およびこれらの複合物のうちいずれか１つをドープして形成した電子輸送層を含むことができる。
【００１６】
ここで、上記仕事関数の低い金属類は、Ｃｓ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、及びＣａのうちいずれか１つを含むことができる。
【００１７】
なお、上記のこれらの複合物は、Ｌｉ−Ａｌ、ＬｉＦ、ＣｓＦ、及びＣｓ２ＣＯ３のうちいずれか１つを含むことができる。
【００１８】
なお、本発明による有機電界発光素子は波長（ｎｍ）によって７０〜９９％の透過率を示すことができる。
【００１９】
上記の目的を達成するための本発明の望ましい実施例による有機電界発光素子の製造方法は、基板上に第１電極を形成する段階、上記第１電極上に有機物層を形成する段階、上記有機物層上に第２電極を形成する段階、および上記有機物層と上記第２電極との間および上記第２電極の上部のうち少なくともいずれか１つに酸化物系、窒化物系、塩類およびこれらの複合物のうちいずれか１つを含む透光層を形成する段階を含むことができる。
【００２０】
その他の実施例の具体的な事項は詳細な説明および図面に含まれている。
【発明の効果】
【００２１】
上述のような本発明の有機電界発光素子およびその製造方法は、酸化物系、窒化物系、塩類およびこれらの複合物のうちいずれか１つを含む透光層を有機物層と第２電極（カソード電極）との間および第２電極の上部のうち少なくともいずれか１つに形成することにより、両面発光を実現すると同時に透過率を向上させることができる。
【００２２】
なお、透光層を酸化物系、窒化物系、塩類およびこれらの複合物のうちいずれか１つを含む物質から構成することにより、第２電極の内部抵抗の増加を阻むことができ、製品の電気的性能を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明の望ましい実施例による有機電界発光素子の構成を示す断面図である。
【図２】本発明に係る有機電界発光素子の透光層による透過率グラフである。
【図３】本発明に係る有機電界発光素子の透光層による輝度グラフである。
【図４】本発明に係る有機電界発光素子に、酸化物系と、塩類およびこれらの複合物で各々透光層を形成する時における透過率グラフである。
【図５】本発明に係る有機電界発光素子の製造方法を示す手順図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
本発明を実施例により詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。明細書全体に亘って同一な構成要素には同一な符号を付す。
【００２５】
以下、添付の図面を参照して本発明の望ましい実施例による有機電界発光素子およびその製造方法を詳しく説明する。参考までに、本発明の説明において、関連公知の機能あるいは構成についての具体的な説明が、本発明の要旨を不明確にさせると判断された場合、その詳細な説明は省略する。
【００２６】
図１に示すように、本発明の有機電界発光素子１は、基板１０、第１電極３０、第２電極５０、有機物層７０および透光層９０などを含むことができる。
【００２７】
基板１０は、第１電極３０、第２電極５０、有機物層７０および透光層９０を支持する。基板１０は、発光された光が透過できるように透過性を有しているガラス材質又はプラスチック材質を用いる。
【００２８】
第１電極３０は、通常、下部電極と言い、基板１０上に形成される。第１電極３０は、陽極（＋）のアノード（ａｎｏｄｅ）であり、スパッタ（ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ）法、イオンプレーティング（ｉｏｎ ｐｌａｔｉｎｇ）法および電子銃（ｅ−ｇｕｎ）などを用いた熱蒸着法により基板１０上に形成される。ここで、本発明の実施例による第１電極３０は、透過性を有する燐−錫酸化物（ｉｎｄｉｕｍ ｔｉｎ−ｏｘｉｄｅ）電極を用いるが、透過性を有する燐−亜鉛酸化物（ｉｎｄｉｕｍ ｚｉｎ−ｏｘｉｄｅ）電極を用いても良い。
【００２９】
第２電極５０は、通常、第１電極３０と対向される上部電極と言い、有機物層７０上に形成される。第２電極５０は、陽極（＋）の第１電極３０とは反対の陰極（−）のカソード（ｃａｔｈｏｄｅ）である。第２電極５０は、透過性を有する金属の銀（Ａｇ）、アルミニウム（Ａｌ）およびマグネシウム−銀（Ｍｇ：Ａｇ）合金のうちいずれか１つを選んで用いる。
【００３０】
有機物層７０は、第１電極３０と第２電極５０との間に介して、第１電極３０と第２電極５０との間の通電により発光する。有機物層７０は、第１電極３０と第２電極５０との間の通電により発光するように正孔注入層（ｈｏｌｅ ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ ｌａｙｅｒ：ＨＩＬ）７２、正孔輸送層（ｈｏｌｅ ｔｒａｎｓｐｏｒｔｉｎｇ ｌａｙｅｒ：ＨＴＬ）７４、発光層（ｅｍｉｓｓｉｖｅ ｌａｙｅｒ：ＥＭＬ）７６、電子輸送層（ｅｌｅｃｔｒｏｎ ｔｒａｎｓｐｏｒｔｉｎｇ ｌａｙｅｒ：ＥＴＬ）７８および電子注入層（ｅｌｅｃｔｒｏｎ ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ ｌａｙｅｒ：ＥＩＬ）７９から形成される。
【００３１】
ここで、有機物層７０は、スピンコート（ｓｐｉｎ ｃｏａｔｉｎｇ）法、熱蒸着（ｔｈｅｒｍａｌ ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ）法、スピンキャスティング（ｓｐｉｎ ｃａｓｔｉｎｇ）法、スパッタ法、電子ビーム蒸着（ｅ−ｂｅａｍ ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ）法および化学気相蒸着（ｃｈｅｍｉｃａｌ ｖａｐｏｒ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ：ＣＶＤ）法などにより第１電極３０と第２電極５０との間に介する。
【００３２】
正孔注入層７２は、第１電極３０からの正孔を注入する役割をし、正孔輸送層７４は、正孔注入層７２から注入された正孔が第２電極５０の電子と出会うための正孔の移動路の役割をする。
【００３３】
電子注入層７９は、第２電極５０からの電子を注入する役割をし、電子輸送層７８は、電子注入層７９から注入された電子が、正孔輸送層７４から移動する正孔と発光層７６で出会うための電子の移動路の役割をする。
【００３４】
電子輸送層７８には、第２電極５０からの電子注入を円滑にするために、仕事関数が低い金属類およびこれらの複合物のうちいずれか１つをドープして形成でき、これは電子注入層７９の有無に関係なく全て適用することができる。
【００３５】
ここで、上記仕事関数の低い金属類は、Ｃｓ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、およびＣａなどを、上記のこれらの複合物はＬｉ−Ａｌ、ＬｉＦ、ＣｓＦ、およびＣｓ２ＣＯ３などを含むことができる。
【００３６】
一方、発光層７６は、正孔輸送層７４と電子輸送層７８との間に介して正孔輸送層７４からの正孔と電子輸送層７８からの電子により発光する。即ち、発光層７６は、各々正孔輸送層７４および電子輸送層７８との界面で出会う正孔と電子によって発光するのである。
【００３７】
透光層９０は、有機物層７０と第２電極５０との間および第２電極５０の上部のうち少なくともいずれか１つに形成することができる。例えば、透光層９０は、第２電極５０の上面と下面ともに形成されても、第２電極５０の下面および上面のいずれか片面にだけ形成されても良い。
【００３８】
以下、本実施例では、透光層９０が第２電極５０を挟んで上面と下面に形成される構成を例示するが、これに限定されず、第２電極５０の下面および上面のいずれか片面にだけ形成される構成も同様に適用できることは勿論である。
【００３９】
透光層９０は、有機物層７０と第２電極５０との間に形成される第１透光層９１と、第２電極５０の上部に形成される第２透光層９２とを含むことができる。
【００４０】
望ましくは、第１透光層９１は、有機物層７０中の電子注入層７９と第２電極５０との間に形成されても、電子注入層７９自体に形成されても良い。また、第２透光層９２は第１透光層９１に対向する第２電極５０の上面に積層されても良い。
【００４１】
ここで、透光層９０は、第２電極５０が透過性を有すると共に、高い透過率を有するように機能をする。そして、透光層９０は、薄膜から形成され、第２電極５０の面抵抗を減少させることにより、有機電界発光素子１の性能低下を防ぐ。このような透光層９０の特性については、後述する酸化物系、窒化物系、塩類およびこれらの複合物を説明した後に、図２〜図４を参照して詳細に説明する。
【００４２】
本発明の透光層９０は、酸化物系、窒化物系、塩類およびこれらの複合物のうちいずれか１つを含むことができる。
ここで、上記酸化物系は、ＭｏＯ３、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＩＯ、ＺｎＯ、ＴＯ、ＴｉＯ２、ＳｉＯ２、ＷＯ３、Ａｌ２Ｏ３、Ｃｒ２Ｏ３、ＴｅＯ２、およびＳｒＯ２などを含むことができる。また、上記窒化物系はＳｉ３Ｎ４、ＡＩＮなどを含むことができる。また、上記塩類はＣｓ２ＣＯ３、Ｌｉ２ＣＯ３、Ｋ２ＣＯ３、Ｎａ２ＣＯ３、ＬｉＦ、ＣｓＦ、およびＺｎＳｅなどを含むことができる。
【００４３】
上記のように、透光層９０を構成する酸化物系、窒化物系、塩類およびこれらの複合物を用いると、図２〜図４に示すように、優れた透過率と輝度効果を有するので望ましいが、上記のような物質以外にも第２電極５０が透過性を有すると共に、高い透過率を有するようにする物質であれば良い。
【００４４】
透光層９０は、第１透光層９１と第２透光層９２が同一の物質で構成されるが、互いに異なる物質で構成されても良い。例えば、第１透光層９１は酸化物系を含み、第２透光層９２は窒化物系、塩類およびこれらの複合物を含んでも良い。又は、第１透光層９１は窒化物系を含み、第２透光層９２は酸化物系、塩類およびこれらの複合物を含んでも良い。又は、第１透光層９１は塩類を含み、第２透光層９２は酸化物系、窒化物系およびこれらの複合物を含んでも良い。
【００４５】
透光層９０の厚さは０．１ｎｍ以上１００ｎｍ未満に形成されることが望ましい。このような透光層９０の厚さ寸法の限定理由を例を挙げて説明すると、透光層９０の厚さが０．１ｎｍ未満に小さくなると、透過率は増加するが、これに比例して抵抗も増加するので、有機電界発光素子１の性能が低下する。
【００４６】
その反面、透光層９０の厚さが１００ｎｍ以上に大きくなると、抵抗が減少して性能の低下は発生しないが、透光層９０厚さの増加により透過率が減少する。そして、本発明の実施例による透光層９０は、熱蒸着法により形成されることが望ましい。
【００４７】
次に図２〜図４に示すように、このような構成について本発明による有機電界発光素子１の特性を以下で説明する。
【００４８】
図２は、本発明の有機電界発光素子１に形成された透光層９０の有無による透過率グラフである。ここで、図２の‘ａ’は透光層９０を形成した本発明による有機電界発光素子１の線図であり、‘ｂ’は本発明と異なり透光層９０がない有機電界発光素子１の線図である。
【００４９】
本発明による有機電界発光素子１は波長（ｎｍ）によって７０〜９９％の透過率を示すことができる。例えば、図２に示すように、波長（ｎｍ）による透過率をみると、５５０ｎｍで本発明による有機電界発光素子１の透過率は約８０％を示し、透光層９０がない有機電界発光素子１は約４７％を示している。このような結果から、透光層９０がある有機電界発光素子１の透過率は、透光層９０がない有機電界発光素子１に比べて１．７倍がより高いことが分かる。
そして、図３は、透光層９０の有無による有機電界発光素子１の輝度グラフである。図３に示す‘ｃ’は、本発明による有機電界発光素子１の線図であり、‘ｄ’は、透光層９０がない有機電界発光素子１の線図である。
【００５０】
電圧（Ｖ）１０Ｖによる輝度をみると、透光層９０がある有機電界発光素子１は約２５，０００を示し、透光層９０がない有機電界発光素子１は約２０，０００を示している。透光層９０の有無により輝度は１．２５倍の差があることが分かる。
【００５１】
次に図４の‘ｅ’線図は ＭｏＯ３、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＩＯ、ＺｎＯ、ＴＯ、ＴｉＯ２、ＳｉＯ２、ＷＯ３、Ａｌ２Ｏ３、Ｃｒ２Ｏ３、ＴｅＯ２、およびＳｒＯ２などの酸化物系から形成された透光層９０に対する透過率であり、‘ｆ’線図は、Ｃｓ２ＣＯ３、Ｌｉ２ＣＯ３、Ｋ２ＣＯ３、Ｎａ２ＣＯ３、ＬｉＦ、ＣｓＦ、およびＺｎＳｅなどの塩類から形成された透光層９０に対する透過率である。
【００５２】
図４に示すように、酸化物系から透光層９０を形成する場合は、約８０％の透過率を有し、塩類から透光層９０を形成する場合は約７５％の透過率を有する。酸化物系を含む透光層９０は、塩類を含む透光層９０より５％程度透過率が高いものの、その差は僅かであるから、本発明の実施例のように、酸化物系と塩類およびこれらの複合物を選択的に用いることが望ましい。
以下、このような本発明による有機電界発光素子１の製造方法を図５を参照して説明する。
【００５３】
先ず、基板１０上に陽極（＋）の第１電極３０を形成する（Ｓ１０）。
【００５４】
基板１０上に第１電極３０を形成した後、第１電極３０上に有機物層７０を形成する（Ｓ３０）。ここで、第１電極３０上に形成する有機物層７０は、正孔注入層７２、正孔輸送層７４、発光層７６、電子輸送層７８および電子注入層７９の順に形成する。
【００５５】
有機物層７０上に第１透光層９１を形成する（Ｓ５０）。本発明の一実施例として、第１透光層９１は、酸化物系のＭｏＯ３、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＩＯ、ＺｎＯ、ＴＯ、ＴｉＯ２、ＳｉＯ２、ＷＯ３、Ａｌ２Ｏ３、Ｃｒ２Ｏ３、ＴｅＯ２、およびＳｒＯ２などを含むことができる。第１透光層９１は、抵抗および透過率を考慮して０．１ｎｍ以上１００ｎｍ未満の厚さに形成する。
【００５６】
そして、第１透光層９１上に第２電極５０を形成する（Ｓ７０）。第２電極５０は陰極（−）として金属薄膜を用いる。 第２電極５０として用いられる金属薄膜は、銀（Ａｇ）、アルミニウム（Ａｌ）およびマグネシウム−銀（Ｍｇ：Ａｇ）合金のうちいずれか１つである。
【００５７】
第２電極５０上に第２透光層９２を再度形成する（Ｓ９０）。第２透光層９２は、‘Ｓ５０’の段階のように酸化物系を含むことができる。しかし、第２電極５０上に形成される第２透光層９２は、Ｓｉ３Ｎ４、ＡＩＮなどの窒化物系を含んでも、Ｃｓ２ＣＯ３、Ｌｉ２ＣＯ３、Ｋ２ＣＯ３、Ｎａ２ＣＯ３、ＬｉＦ、ＣｓＦ、およびＺｎＳｅなどの塩類、およびこれらの複合物を含んでも良い。
【００５８】
これに、第２電極５０を挟んで透光層９０を形成することにより、両面発光を実現し、透過率を向上させることができる。
【００５９】
また、透光層９０を形成することにより、第２電極５０の厚さを調整でき、これにより透過率および電気的性能を向上させることができる。
【符号の説明】
【００６０】
１ 有機電界発光素子 １０基板
３０ 第１電極 ５０ 第２電極
７０ 有機物層 ７２ 正孔注入層
７４ 正孔輸送層 ７６ 発光層
７８ 電子輸送層 ７９ 電子注入層
９０ 透光層 ９１ 第１透光層
９２ 第２透光層
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機電界発光素子に関し、特に、透明カソードの光透過率を改善した有機電界発光素子およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に有機電界発光素子（Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ：ＯＬＥＤ）は、基板、基板上に積層される下部電極、下部電極上に積層される有機物層、および有機物層上に積層される上部電極を含む。
【０００３】
このような有機電界発光素子は、下部電極として用いられるアノード（ａｎｏｄｅ）と上部電極として用いられるカソード（ｃａｔｈｏｄｅ）との間の通電により発光する。即ち、有機電界発光素子の発光は、上部電極の電子および下部電極の正孔により上部電極と下部電極との間に介した有機物層で起こる。
【０００４】
ここで、有機電界発光素子は、発光方式により上部電極および下部電極を通じて発光する両面発光有機電界発光素子（ｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔ ＯＬＥＤ）、上部電極を通じて発光する前面発光有機電界発光素子（ｔｏｐ ＯＬＥＤ）および下部電極を通じて発光する背面発光有機電界発光素子（ｂｏｔｔｏｍ ＯＬＥＤ）に分けられる。
【０００５】
有機電界発光素子の発光方式は、上部電極および下部電極のうち透過性を有する電極によりなされる。両面発光方式の場合、上部電極および下部電極は透過性を有していなければならない。一般に、下部電極は、透過性のある燐−錫酸化物電極（ｉｎｄｉｕｍ−ｔｉｎ ｏｘｉｄｅ：ＩＴＯ）が用いられる。上部電極は、透過性のある金属薄膜を用い、このような金属薄膜の厚さを減少させると透過率が増加する。
【０００６】
ところが、上部電極の透過率を増加させるための上部電極の厚さの減少は、上部電極の面抵抗の増加をもたらす。即ち、上部電極の透過率を高めるためにその厚さを減少させると、これにより抵抗が高くなって全体的な有機電界発光素子の性能低下を招くという問題点がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上記のような問題点を解決するためになされたものであり、カソード電極の透過率を向上させることができる有機電界発光素子を提供することにその目的がある。
【０００８】
本発明の他の目的は、カソード電極の透過率の増加による抵抗の増加を阻むことができるように、構造が改善された有機電界発光素子を提供することにある。
本発明の又他の目的は、上記のような有機電界発光素子の製造方法を提供することにある。
【０００９】
本発明の目的は、以上で言及した目的に制限されず、言及されていない又他の目的は下記の記載から当業者が明確に理解するであろう。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するための本発明の望ましい実施例による有機電界発光素子は、基板、上記基板上に形成される第１電極、上記第１電極上に形成される有機物層、上記有機物層上に形成される第２電極、および上記有機物層と上記第２電極との間および上記第２電極の上部のうち少なくともいずれか１つに形成され、酸化物系、窒化物系、塩類およびこれらの複合物のうちいずれか１つを含む透光層を含むことができる。
【００１１】
ここで、上記酸化物系は、ＭｏＯ３、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＩＯ、ＺｎＯ、ＴＯ、ＴｉＯ２、ＳｉＯ２、ＷＯ３、Ａｌ２Ｏ３、Ｃｒ２Ｏ３、ＴｅＯ２、及びＳｒＯ２のうちいずれか１つを含むことができる。
【００１２】
なお、上記窒化物系は、Ｓｉ３Ｎ４、ＡＩＮのうちいずれか１つを含むことができる。
【００１３】
なお、上記塩類は、Ｃｓ２ＣＯ３、Ｌｉ２ＣＯ３、Ｋ２ＣＯ３、Ｎａ２ＣＯ３、ＬｉＦ、ＣｓＦ、及びＺｎＳｅのうちいずれか１つを含むことができる。
【００１４】
なお、上記透光層の厚さは０．１ｎｍ以上１００ｎｍ未満に形成されることが望ましい。
【００１５】
なお、上記有機物層は、上記第２電極からの電子注入を円滑にするために、仕事関数が低い金属類およびこれらの複合物のうちいずれか１つをドープして形成した電子輸送層を含むことができる。
【００１６】
ここで、上記仕事関数の低い金属類は、Ｃｓ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、及びＣａのうちいずれか１つを含むことができる。
【００１７】
なお、上記のこれらの複合物は、Ｌｉ−Ａｌ、ＬｉＦ、ＣｓＦ、及びＣｓ２ＣＯ３のうちいずれか１つを含むことができる。
【００１８】
なお、本発明による有機電界発光素子は波長（ｎｍ）によって７０〜９９％の透過率を示すことができる。
【００１９】
上記の目的を達成するための本発明の望ましい実施例による有機電界発光素子の製造方法は、基板上に第１電極を形成する段階、上記第１電極上に有機物層を形成する段階、上記有機物層上に第２電極を形成する段階、および上記有機物層と上記第２電極との間および上記第２電極の上部のうち少なくともいずれか１つに酸化物系、窒化物系、塩類およびこれらの複合物のうちいずれか１つを含む透光層を形成する段階を含むことができる。
【００２０】
その他の実施例の具体的な事項は詳細な説明および図面に含まれている。
【発明の効果】
【００２１】
上述のような本発明の有機電界発光素子およびその製造方法は、酸化物系、窒化物系、塩類およびこれらの複合物のうちいずれか１つを含む透光層を有機物層と第２電極（カソード電極）との間および第２電極の上部のうち少なくともいずれか１つに形成することにより、両面発光を実現すると同時に透過率を向上させることができる。
【００２２】
なお、透光層を酸化物系、窒化物系、塩類およびこれらの複合物のうちいずれか１つを含む物質から構成することにより、第２電極の内部抵抗の増加を阻むことができ、製品の電気的性能を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明の望ましい実施例による有機電界発光素子の構成を示す断面図である。
【図２】本発明に係る有機電界発光素子の透光層による透過率グラフである。
【図３】本発明に係る有機電界発光素子の透光層による輝度グラフである。
【図４】本発明に係る有機電界発光素子に、酸化物系と、塩類およびこれらの複合物で各々透光層を形成する時における透過率グラフである。
【図５】本発明に係る有機電界発光素子の製造方法を示す手順図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
本発明を実施例により詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。明細書全体に亘って同一な構成要素には同一な符号を付す。
【００２５】
以下、添付の図面を参照して本発明の望ましい実施例による有機電界発光素子およびその製造方法を詳しく説明する。参考までに、本発明の説明において、関連公知の機能あるいは構成についての具体的な説明が、本発明の要旨を不明確にさせると判断された場合、その詳細な説明は省略する。
【００２６】
図１に示すように、本発明の有機電界発光素子１は、基板１０、第１電極３０、第２電極５０、有機物層７０および透光層９０などを含むことができる。
【００２７】
基板１０は、第１電極３０、第２電極５０、有機物層７０および透光層９０を支持する。基板１０は、発光された光が透過できるように透過性を有しているガラス材質又はプラスチック材質を用いる。
【００２８】
第１電極３０は、通常、下部電極と言い、基板１０上に形成される。第１電極３０は、陽極（＋）のアノード（ａｎｏｄｅ）であり、スパッタ（ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ）法、イオンプレーティング（ｉｏｎ ｐｌａｔｉｎｇ）法および電子銃（ｅ−ｇｕｎ）などを用いた熱蒸着法により基板１０上に形成される。ここで、本発明の実施例による第１電極３０は、透過性を有する燐−錫酸化物（ｉｎｄｉｕｍ ｔｉｎ−ｏｘｉｄｅ）電極を用いるが、透過性を有する燐−亜鉛酸化物（ｉｎｄｉｕｍ ｚｉｎ−ｏｘｉｄｅ）電極を用いても良い。
【００２９】
第２電極５０は、通常、第１電極３０と対向される上部電極と言い、有機物層７０上に形成される。第２電極５０は、陽極（＋）の第１電極３０とは反対の陰極（−）のカソード（ｃａｔｈｏｄｅ）である。第２電極５０は、透過性を有する金属の銀（Ａｇ）、アルミニウム（Ａｌ）およびマグネシウム−銀（Ｍｇ：Ａｇ）合金のうちいずれか１つを選んで用いる。
【００３０】
有機物層７０は、第１電極３０と第２電極５０との間に介して、第１電極３０と第２電極５０との間の通電により発光する。有機物層７０は、第１電極３０と第２電極５０との間の通電により発光するように正孔注入層（ｈｏｌｅ ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ ｌａｙｅｒ：ＨＩＬ）７２、正孔輸送層（ｈｏｌｅ ｔｒａｎｓｐｏｒｔｉｎｇ ｌａｙｅｒ：ＨＴＬ）７４、発光層（ｅｍｉｓｓｉｖｅ ｌａｙｅｒ：ＥＭＬ）７６、電子輸送層（ｅｌｅｃｔｒｏｎ ｔｒａｎｓｐｏｒｔｉｎｇ ｌａｙｅｒ：ＥＴＬ）７８および電子注入層（ｅｌｅｃｔｒｏｎ ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ ｌａｙｅｒ：ＥＩＬ）７９から形成される。
【００３１】
ここで、有機物層７０は、スピンコート（ｓｐｉｎ ｃｏａｔｉｎｇ）法、熱蒸着（ｔｈｅｒｍａｌ ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ）法、スピンキャスティング（ｓｐｉｎ ｃａｓｔｉｎｇ）法、スパッタ法、電子ビーム蒸着（ｅ−ｂｅａｍ ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ）法および化学気相蒸着（ｃｈｅｍｉｃａｌ ｖａｐｏｒ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ：ＣＶＤ）法などにより第１電極３０と第２電極５０との間に介する。
【００３２】
正孔注入層７２は、第１電極３０からの正孔を注入する役割をし、正孔輸送層７４は、正孔注入層７２から注入された正孔が第２電極５０の電子と出会うための正孔の移動路の役割をする。
【００３３】
電子注入層７９は、第２電極５０からの電子を注入する役割をし、電子輸送層７８は、電子注入層７９から注入された電子が、正孔輸送層７４から移動する正孔と発光層７６で出会うための電子の移動路の役割をする。
【００３４】
電子輸送層７８には、第２電極５０からの電子注入を円滑にするために、仕事関数が低い金属類およびこれらの複合物のうちいずれか１つをドープして形成でき、これは電子注入層７９の有無に関係なく全て適用することができる。
【００３５】
ここで、上記仕事関数の低い金属類は、Ｃｓ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、およびＣａなどを、上記のこれらの複合物はＬｉ−Ａｌ、ＬｉＦ、ＣｓＦ、およびＣｓ２ＣＯ３などを含むことができる。
【００３６】
一方、発光層７６は、正孔輸送層７４と電子輸送層７８との間に介して正孔輸送層７４からの正孔と電子輸送層７８からの電子により発光する。即ち、発光層７６は、各々正孔輸送層７４および電子輸送層７８との界面で出会う正孔と電子によって発光するのである。
【００３７】
透光層９０は、有機物層７０と第２電極５０との間および第２電極５０の上部のうち少なくともいずれか１つに形成することができる。例えば、透光層９０は、第２電極５０の上面と下面ともに形成されても、第２電極５０の下面および上面のいずれか片面にだけ形成されても良い。
【００３８】
以下、本実施例では、透光層９０が第２電極５０を挟んで上面と下面に形成される構成を例示するが、これに限定されず、第２電極５０の下面および上面のいずれか片面にだけ形成される構成も同様に適用できることは勿論である。
【００３９】
透光層９０は、有機物層７０と第２電極５０との間に形成される第１透光層９１と、第２電極５０の上部に形成される第２透光層９２とを含むことができる。
【００４０】
望ましくは、第１透光層９１は、有機物層７０中の電子注入層７９と第２電極５０との間に形成されても、電子注入層７９自体に形成されても良い。また、第２透光層９２は第１透光層９１に対向する第２電極５０の上面に積層されても良い。
【００４１】
ここで、透光層９０は、第２電極５０が透過性を有すると共に、高い透過率を有するように機能をする。そして、透光層９０は、薄膜から形成され、第２電極５０の面抵抗を減少させることにより、有機電界発光素子１の性能低下を防ぐ。このような透光層９０の特性については、後述する酸化物系、窒化物系、塩類およびこれらの複合物を説明した後に、図２〜図４を参照して詳細に説明する。
【００４２】
本発明の透光層９０は、酸化物系、窒化物系、塩類およびこれらの複合物のうちいずれか１つを含むことができる。
ここで、上記酸化物系は、ＭｏＯ３、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＩＯ、ＺｎＯ、ＴＯ、ＴｉＯ２、ＳｉＯ２、ＷＯ３、Ａｌ２Ｏ３、Ｃｒ２Ｏ３、ＴｅＯ２、およびＳｒＯ２などを含むことができる。また、上記窒化物系はＳｉ３Ｎ４、ＡＩＮなどを含むことができる。また、上記塩類はＣｓ２ＣＯ３、Ｌｉ２ＣＯ３、Ｋ２ＣＯ３、Ｎａ２ＣＯ３、ＬｉＦ、ＣｓＦ、およびＺｎＳｅなどを含むことができる。
【００４３】
上記のように、透光層９０を構成する酸化物系、窒化物系、塩類およびこれらの複合物を用いると、図２〜図４に示すように、優れた透過率と輝度効果を有するので望ましいが、上記のような物質以外にも第２電極５０が透過性を有すると共に、高い透過率を有するようにする物質であれば良い。
【００４４】
透光層９０は、第１透光層９１と第２透光層９２が同一の物質で構成されるが、互いに異なる物質で構成されても良い。例えば、第１透光層９１は酸化物系を含み、第２透光層９２は窒化物系、塩類およびこれらの複合物を含んでも良い。又は、第１透光層９１は窒化物系を含み、第２透光層９２は酸化物系、塩類およびこれらの複合物を含んでも良い。又は、第１透光層９１は塩類を含み、第２透光層９２は酸化物系、窒化物系およびこれらの複合物を含んでも良い。
【００４５】
透光層９０の厚さは０．１ｎｍ以上１００ｎｍ未満に形成されることが望ましい。このような透光層９０の厚さ寸法の限定理由を例を挙げて説明すると、透光層９０の厚さが０．１ｎｍ未満に小さくなると、透過率は増加するが、これに比例して抵抗も増加するので、有機電界発光素子１の性能が低下する。
【００４６】
その反面、透光層９０の厚さが１００ｎｍ以上に大きくなると、抵抗が減少して性能の低下は発生しないが、透光層９０厚さの増加により透過率が減少する。そして、本発明の実施例による透光層９０は、熱蒸着法により形成されることが望ましい。
【００４７】
次に図２〜図４に示すように、このような構成について本発明による有機電界発光素子１の特性を以下で説明する。
【００４８】
図２は、本発明の有機電界発光素子１に形成された透光層９０の有無による透過率グラフである。ここで、図２の‘ａ’は透光層９０を形成した本発明による有機電界発光素子１の線図であり、‘ｂ’は本発明と異なり透光層９０がない有機電界発光素子１の線図である。
【００４９】
本発明による有機電界発光素子１は波長（ｎｍ）によって７０〜９９％の透過率を示すことができる。例えば、図２に示すように、波長（ｎｍ）による透過率をみると、５５０ｎｍで本発明による有機電界発光素子１の透過率は約８０％を示し、透光層９０がない有機電界発光素子１は約４７％を示している。このような結果から、透光層９０がある有機電界発光素子１の透過率は、透光層９０がない有機電界発光素子１に比べて１．７倍がより高いことが分かる。
そして、図３は、透光層９０の有無による有機電界発光素子１の輝度グラフである。図３に示す‘ｃ’は、本発明による有機電界発光素子１の線図であり、‘ｄ’は、透光層９０がない有機電界発光素子１の線図である。
【００５０】
電圧（Ｖ）１０Ｖによる輝度をみると、透光層９０がある有機電界発光素子１は約２５，０００を示し、透光層９０がない有機電界発光素子１は約２０，０００を示している。透光層９０の有無により輝度は１．２５倍の差があることが分かる。
【００５１】
次に図４の‘ｅ’線図は ＭｏＯ３、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＩＯ、ＺｎＯ、ＴＯ、ＴｉＯ２、ＳｉＯ２、ＷＯ３、Ａｌ２Ｏ３、Ｃｒ２Ｏ３、ＴｅＯ２、およびＳｒＯ２などの酸化物系から形成された透光層９０に対する透過率であり、‘ｆ’線図は、Ｃｓ２ＣＯ３、Ｌｉ２ＣＯ３、Ｋ２ＣＯ３、Ｎａ２ＣＯ３、ＬｉＦ、ＣｓＦ、およびＺｎＳｅなどの塩類から形成された透光層９０に対する透過率である。
【００５２】
図４に示すように、酸化物系から透光層９０を形成する場合は、約８０％の透過率を有し、塩類から透光層９０を形成する場合は約７５％の透過率を有する。酸化物系を含む透光層９０は、塩類を含む透光層９０より５％程度透過率が高いものの、その差は僅かであるから、本発明の実施例のように、酸化物系と塩類およびこれらの複合物を選択的に用いることが望ましい。
以下、このような本発明による有機電界発光素子１の製造方法を図５を参照して説明する。
【００５３】
先ず、基板１０上に陽極（＋）の第１電極３０を形成する（Ｓ１０）。
【００５４】
基板１０上に第１電極３０を形成した後、第１電極３０上に有機物層７０を形成する（Ｓ３０）。ここで、第１電極３０上に形成する有機物層７０は、正孔注入層７２、正孔輸送層７４、発光層７６、電子輸送層７８および電子注入層７９の順に形成する。
【００５５】
有機物層７０上に第１透光層９１を形成する（Ｓ５０）。本発明の一実施例として、第１透光層９１は、酸化物系のＭｏＯ３、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＩＯ、ＺｎＯ、ＴＯ、ＴｉＯ２、ＳｉＯ２、ＷＯ３、Ａｌ２Ｏ３、Ｃｒ２Ｏ３、ＴｅＯ２、およびＳｒＯ２などを含むことができる。第１透光層９１は、抵抗および透過率を考慮して０．１ｎｍ以上１００ｎｍ未満の厚さに形成する。
【００５６】
そして、第１透光層９１上に第２電極５０を形成する（Ｓ７０）。第２電極５０は陰極（−）として金属薄膜を用いる。 第２電極５０として用いられる金属薄膜は、銀（Ａｇ）、アルミニウム（Ａｌ）およびマグネシウム−銀（Ｍｇ：Ａｇ）合金のうちいずれか１つである。
【００５７】
第２電極５０上に第２透光層９２を再度形成する（Ｓ９０）。第２透光層９２は、‘Ｓ５０’の段階のように酸化物系を含むことができる。しかし、第２電極５０上に形成される第２透光層９２は、Ｓｉ３Ｎ４、ＡＩＮなどの窒化物系を含んでも、Ｃｓ２ＣＯ３、Ｌｉ２ＣＯ３、Ｋ２ＣＯ３、Ｎａ２ＣＯ３、ＬｉＦ、ＣｓＦ、およびＺｎＳｅなどの塩類、およびこれらの複合物を含んでも良い。
【００５８】
これに、第２電極５０を挟んで透光層９０を形成することにより、両面発光を実現し、透過率を向上させることができる。
【００５９】
また、透光層９０を形成することにより、第２電極５０の厚さを調整でき、これにより透過率および電気的性能を向上させることができる。
【符号の説明】
【００６０】
１ 有機電界発光素子 １０基板
３０ 第１電極 ５０ 第２電極
７０ 有機物層 ７２ 正孔注入層
７４ 正孔輸送層 ７６ 発光層
７８ 電子輸送層 ７９ 電子注入層
９０ 透光層 ９１ 第１透光層
９２ 第２透光層
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
上記基板上に形成される第１電極と、
上記第１電極上に形成される有機物層と、
上記有機物層上に形成される第２電極と、
上記有機物層と上記第２電極との間および上記第２電極の上部のうち少なくともいずれか１つに形成され、酸化物系、窒化物系、塩類およびこれらの複合物のうちいずれか１つを含む透光層と、を含む有機電界発光素子。
【請求項２】
上記酸化物系は、ＭｏＯ３、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＩＯ、ＺｎＯ、ＴＯ、ＴｉＯ２、ＳｉＯ２、ＷＯ３、Ａｌ２Ｏ３、Ｃｒ２Ｏ３、ＴｅＯ２、及びＳｒＯ２のうちいずれか１つを含む請求項１に記載の有機電界発光素子。
【請求項３】
上記窒化物系は、Ｓｉ３Ｎ４、ＡＩＮのうちいずれか１つを含む請求項１に記載の有機電界発光素子。
【請求項４】
上記塩類は、Ｃｓ２ＣＯ３、Ｌｉ２ＣＯ３、Ｋ２ＣＯ３、Ｎａ２ＣＯ３、ＬｉＦ、ＣｓＦ、及びＺｎＳｅのうちいずれか１つを含む請求項１に記載の有機電界発光素子。
【請求項５】
上記透光層の厚さは０．１ｎｍ以上１００ｎｍ未満に形成されることを特徴とする請求項１に記載の有機電界発光素子。
【請求項６】
上記有機物層は、上記第２電極からの電子注入を円滑にするために、仕事関数が低い金属類およびこれらの複合物のうちいずれか１つをドープして形成した電子輸送層を含むことを特徴とする請求項１に記載の有機電界発光素子。
【請求項７】
上記仕事関数の低い金属類は、Ｃｓ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、及びＣａのうちいずれか１つを含む請求項６に記載の有機電界発光素子。
【請求項８】
上記のこれらの複合物は、Ｌｉ−Ａｌ、ＬｉＦ、ＣｓＦ、及びＣｓ２ＣＯ３のうちいずれか１つを含む請求項６に記載の有機電界発光素子。
【請求項９】
上記有機電界発光素子は、波長（ｎｍ）によって７０〜９９％の透過率を示すことを特徴とする請求項１に記載の有機電界発光素子。
【請求項１０】
基板上に第１電極を形成する段階と、
上記第１電極上に有機物層を形成する段階と、
上記有機物層上に第２電極を形成する段階と、
上記有機物層と上記第２電極との間および上記第２電極の上部のうち少なくともいずれか１つに酸化物系、窒化物系、塩類およびこれらの複合物のうちいずれか１つを含む透光層を形成する段階と、を含む有機電界発光素子の製造方法。
【請求項１１】
上記酸化物系は、ＭｏＯ３、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＩＯ、ＺｎＯ、ＴＯ、ＴｉＯ２、ＳｉＯ２、ＷＯ３、Ａｌ２Ｏ３、Ｃｒ２Ｏ３、ＴｅＯ２、およびＳｒＯ２のうちいずれか１つを含む請求項１０に記載の有機電界発光素子の製造方法。
【請求項１２】
上記窒化物系は、Ｓｉ３Ｎ４、ＡＩＮのうちいずれか１つを含む請求項１０に記載の有機電界発光素子の製造方法。
【請求項１３】
上記塩類は、Ｃｓ２ＣＯ３、Ｌｉ２ＣＯ３、Ｋ２ＣＯ３、Ｎａ２ＣＯ３、ＬｉＦ、ＣｓＦ、及びＺｎＳｅのうちいずれか１つを含む請求項１０に記載の有機電界発光素子の製造方法。
【請求項１４】
上記透光層を形成する段階は、上記透光層の厚さを０．１ｎｍ以上１００ｎｍ未満に形成することを特徴とする請求項１０に記載の有機電界発光素子の製造方法。
【請求項１５】
上記有機物層は、上記第２電極からの電子注入を円滑にするために、仕事関数が低い金属類およびこれらの複合物のうちいずれか１つをドープして形成した電子輸送層を含むことを特徴とする請求項１０に記載の有機電界発光素子の製造方法。
【請求項１６】
上記仕事関数の低い金属類は、Ｃｓ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、及びＣａのうちいずれか１つを含む請求項１５に記載の有機電界発光素子の製造方法。
【請求項１７】
上記のこれらの複合物は、Ｌｉ−Ａｌ、ＬｉＦ、ＣｓＦ、およびＣｓ２ＣＯ３のうちいずれか１つを含む請求項１５に記載の有機電界発光素子の製造方法。
【請求項１】
基板と、
上記基板上に形成される第１電極と、
上記第１電極上に形成される有機物層と、
上記有機物層上に形成される第２電極と、
上記有機物層と上記第２電極との間および上記第２電極の上部のうち少なくともいずれか１つに形成され、酸化物系、窒化物系、塩類およびこれらの複合物のうちいずれか１つを含む透光層と、を含む有機電界発光素子。
【請求項２】
上記酸化物系は、ＭｏＯ３、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＩＯ、ＺｎＯ、ＴＯ、ＴｉＯ２、ＳｉＯ２、ＷＯ３、Ａｌ２Ｏ３、Ｃｒ２Ｏ３、ＴｅＯ２、及びＳｒＯ２のうちいずれか１つを含む請求項１に記載の有機電界発光素子。
【請求項３】
上記窒化物系は、Ｓｉ３Ｎ４、ＡＩＮのうちいずれか１つを含む請求項１に記載の有機電界発光素子。
【請求項４】
上記塩類は、Ｃｓ２ＣＯ３、Ｌｉ２ＣＯ３、Ｋ２ＣＯ３、Ｎａ２ＣＯ３、ＬｉＦ、ＣｓＦ、及びＺｎＳｅのうちいずれか１つを含む請求項１に記載の有機電界発光素子。
【請求項５】
上記透光層の厚さは０．１ｎｍ以上１００ｎｍ未満に形成されることを特徴とする請求項１に記載の有機電界発光素子。
【請求項６】
上記有機物層は、上記第２電極からの電子注入を円滑にするために、仕事関数が低い金属類およびこれらの複合物のうちいずれか１つをドープして形成した電子輸送層を含むことを特徴とする請求項１に記載の有機電界発光素子。
【請求項７】
上記仕事関数の低い金属類は、Ｃｓ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、及びＣａのうちいずれか１つを含む請求項６に記載の有機電界発光素子。
【請求項８】
上記のこれらの複合物は、Ｌｉ−Ａｌ、ＬｉＦ、ＣｓＦ、及びＣｓ２ＣＯ３のうちいずれか１つを含む請求項６に記載の有機電界発光素子。
【請求項９】
上記有機電界発光素子は、波長（ｎｍ）によって７０〜９９％の透過率を示すことを特徴とする請求項１に記載の有機電界発光素子。
【請求項１０】
基板上に第１電極を形成する段階と、
上記第１電極上に有機物層を形成する段階と、
上記有機物層上に第２電極を形成する段階と、
上記有機物層と上記第２電極との間および上記第２電極の上部のうち少なくともいずれか１つに酸化物系、窒化物系、塩類およびこれらの複合物のうちいずれか１つを含む透光層を形成する段階と、を含む有機電界発光素子の製造方法。
【請求項１１】
上記酸化物系は、ＭｏＯ３、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＩＯ、ＺｎＯ、ＴＯ、ＴｉＯ２、ＳｉＯ２、ＷＯ３、Ａｌ２Ｏ３、Ｃｒ２Ｏ３、ＴｅＯ２、およびＳｒＯ２のうちいずれか１つを含む請求項１０に記載の有機電界発光素子の製造方法。
【請求項１２】
上記窒化物系は、Ｓｉ３Ｎ４、ＡＩＮのうちいずれか１つを含む請求項１０に記載の有機電界発光素子の製造方法。
【請求項１３】
上記塩類は、Ｃｓ２ＣＯ３、Ｌｉ２ＣＯ３、Ｋ２ＣＯ３、Ｎａ２ＣＯ３、ＬｉＦ、ＣｓＦ、及びＺｎＳｅのうちいずれか１つを含む請求項１０に記載の有機電界発光素子の製造方法。
【請求項１４】
上記透光層を形成する段階は、上記透光層の厚さを０．１ｎｍ以上１００ｎｍ未満に形成することを特徴とする請求項１０に記載の有機電界発光素子の製造方法。
【請求項１５】
上記有機物層は、上記第２電極からの電子注入を円滑にするために、仕事関数が低い金属類およびこれらの複合物のうちいずれか１つをドープして形成した電子輸送層を含むことを特徴とする請求項１０に記載の有機電界発光素子の製造方法。
【請求項１６】
上記仕事関数の低い金属類は、Ｃｓ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、及びＣａのうちいずれか１つを含む請求項１５に記載の有機電界発光素子の製造方法。
【請求項１７】
上記のこれらの複合物は、Ｌｉ−Ａｌ、ＬｉＦ、ＣｓＦ、およびＣｓ２ＣＯ３のうちいずれか１つを含む請求項１５に記載の有機電界発光素子の製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【公表番号】特表２０１２−５２７０８３（Ｐ２０１２−５２７０８３Ａ）
【公表日】平成２４年１１月１日（２０１２．１１．１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１２−５１０７３８（Ｐ２０１２−５１０７３８）
【出願日】平成２２年４月２９日（２０１０．４．２９）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＫＲ２０１０／００２７２１
【国際公開番号】ＷＯ２０１０／１３１８５３
【国際公開日】平成２２年１１月１８日（２０１０．１１．１８）
【出願人】（５１１０６２２４３）ネオビューコロン カンパニー，リミテッド (8)
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２４年１１月１日（２０１２．１１．１）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年４月２９日（２０１０．４．２９）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＫＲ２０１０／００２７２１
【国際公開番号】ＷＯ２０１０／１３１８５３
【国際公開日】平成２２年１１月１８日（２０１０．１１．１８）
【出願人】（５１１０６２２４３）ネオビューコロン カンパニー，リミテッド (8)
【Ｆターム（参考）】
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