樹脂組成物及びこれを用いた膜状光学部材
【課題】透明、高屈折率でかつ膜状の光学部材を形成することが可能な樹脂組成物、及びこれを用いた光学部材を提供する。
【解決手段】（Ａ）含金属高屈折中間体と、（Ｂ）ポリマ若しくはオリゴマ及び／又は（Ｃ）反応性モノマとを含有する樹脂組成物であって、前記（Ａ）含金属高屈折中間体の成分が、チタンアルコキシド、多価アルコール、水、アミノアルコール、及び（Ｄ）溶媒を用いて合成される樹脂組成物である。
【解決手段】（Ａ）含金属高屈折中間体と、（Ｂ）ポリマ若しくはオリゴマ及び／又は（Ｃ）反応性モノマとを含有する樹脂組成物であって、前記（Ａ）含金属高屈折中間体の成分が、チタンアルコキシド、多価アルコール、水、アミノアルコール、及び（Ｄ）溶媒を用いて合成される樹脂組成物である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は樹脂組成物、及びこれを用いた膜状光学部材に関する。さらに、詳しくは、プラスチックレンズ、プリズム、光ファイバー、情報記録基板、フィルター、液晶ディスプレイ用部材、プラズマディスプレイ用部材、プリズムシート、ディフューザ、光散乱フィルム、視野角向上フィルム、輝度向上フィルム、偏光子、太陽電池用集光フィルムなどに代表される膜状光学部材、及びその作製に用いる樹脂組成物（樹脂材料）に関し、特に、高い屈折率を有する膜状光学部材、及びその樹脂組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、軽量でかつ加工性に富み、各種の光学部材として好適な樹脂材料として、１．６〜２．２程度の高い屈折率を有する透明樹脂材料（以下、適宜、高屈折性樹脂材料という）が要求されている。
従来技術における高屈折率樹脂材料は、ポリチオール化合物とポリイソシアネート化合物から得られるチオウレタン（例えば、特許文献１参照。）、エポキシ樹脂又はエピスルフィド樹脂から得られる重合体（例えば、特許文献２参照。）などが挙げられるが、これらイオウ系の高屈折樹脂材料は、屈折率の限界が１．７２程度であるのに加え、硬化前の臭気が激しく、工程上の制約を受ける。また、ベンゼン環に臭素を導入したポリマが既に市販化されているが、その屈折率は１．６程度である。
【０００３】
また、樹脂中に酸化チタンや酸化亜鉛などの高屈折率金属酸化物微粒子を分散させる技術が提案されているが（例えば、特許文献３参照）、光散乱を引き起こさないようにこれらの微粒子を分散させるのは極めて難しい。また、チタンアルコキシドのゾルゲル反応を樹脂マトリクス中で行う有機−無機ハイブリッド系も多々報告されているが（例えば、特許文献４や特許文献５参照）、光学用途としては、光散乱を引き起こしてしまうため実用化には至っていない。
また、本発明と比較的近いものとして、例えば、特許文献６や特許文献７が挙げられるが、特許文献６の発明では、粘度が低すぎて１〜１０００μｍ程度の厚膜を形成することはできない。また、特許文献７にある有機・無機ポリマ複合体及びその製造方法では、反応性の高い金属アルコキシドを用いる場合、その反応性制御と均一分散が困難である。例えば、チタンアルコキシドのゾルゲル反応は、非常に反応性が高いため、酸化チタン粒子が光を散乱させる程度以上の粒子サイズ（＞１００ｎｍ）になり易い。
【０００４】
【特許文献１】特公平４−５８４８９号公報
【特許文献２】特開平３−８１３２０号公報
【特許文献３】特開２００２−２７７６０９号公報
【特許文献４】特開平６−１０７４６１号公報
【特許文献５】特開２００１−８９１９６号公報
【特許文献６】特公平７−１４８３４号公報
【特許文献７】特開平６−３２２１３６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、透明、高屈折率でかつ膜状の光学部材を形成することが可能な樹脂組成物、及びこれを用いた膜状光学部材を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者等は、樹脂組成物中の金属アルコキシドの反応性を抑制し、その粒子成長を抑えることで、透明、高屈折率かつ所望膜厚の膜状光学部材を得ることが可能であることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、以下に記載の事項をその特徴とするものである。
【０００７】
（１）（Ａ）含金属高屈折中間体と、（Ｂ）ポリマ若しくはオリゴマ及び／又は（Ｃ）反応性モノマとを含有する樹脂組成物であって、
前記（Ａ）含金属高屈折中間体の成分が、チタンアルコキシド、多価アルコール、水、アミノアルコール、及び（Ｄ）溶媒を用いて合成されることを特徴とする樹脂組成物。
【０００８】
（２）（Ａ）含金属高屈折中間体と、（Ｂ）ポリマ若しくはオリゴマ及び／又は（Ｃ）反応性モノマとを含有する樹脂組成物であって、
前記（Ａ）含金属高屈折中間体の成分が、チタンアルコキシド、多価アルコール及び（Ｄ）溶媒を混合し加熱により、アルコキシド基と多価アルコールの置換により生じる副生成物の１価アルコールを留去して得たものに対して、さらに水とアミノアルコールとを混合して加熱し、加水分解による副生成物の１価アルコールを留去して合成されることを特徴とする樹脂組成物。
【０００９】
（３）前記（Ａ）含金属高屈折中間体の合成において使用される多価アルコールが、下記一般式（１）で表されることを特徴とする（１）または（２）に記載の樹脂組成物。
【化１】
（一般式（１）中、Ｒは炭素数２〜２０の炭化水素基を表し、ｎは２〜１０の整数を表す。）
【００１０】
（４）前記（Ａ）含金属高屈折中間体の合成において使用される多価アルコールが、下記一般式（２）で表されることを特徴とする（１）または（２）に記載の樹脂組成物。
【化２】
（一般式（２）中、Ｒは炭素数２〜２０のアルキレン基を表す。）
【００１１】
（５）前記（Ａ）含金属高屈折中間体の合成において使用される多価アルコールが、１，４−ブタンジオールであることを特徴とする（１）または（２）に記載の樹脂組成物。
【００１２】
（６）前記（Ａ）含金属高屈折中間体の合成において使用されるアミノアルコールが、下記一般式（３）で表されることを特徴とする（１）から（５）のいずれかに記載の樹脂組成物。
【化３】
（一般式（３）中、Ｎは窒素原子を表し、Ｒ１はＨ又は炭素数１〜２０のアルキル基を表し、Ｒ２は炭素数１〜２０のアルキレン基を表し、ｎは１〜３の整数を表す。Ｒ１又はＲ２が複数となる場合、当該複数の基はそれぞれ同じでも異なっていてもよい。）
【００１３】
（７）前記（Ａ）含金属高屈折中間体の合成において使用されるアミノアルコールが、ジエタノールアミンであることを特徴とする（１）から（５）のいずれかに記載の樹脂組成物。
【００１４】
（８）（１）から（７）のいずれかに記載の樹脂組成物を用いて形成されてなる膜状光学部材。
【００１５】
（９）膜厚が１〜１０００μｍの範囲であることを特徴とする（８）に記載の膜状光学部材。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、従来よりも透明、高屈折率でかつ所望する膜厚の光学部材を形成することが可能な樹脂組成物、及びこれを用いた光学部材を提供することが可能である。
本発明は、樹脂組成物中の金属アルコキシドの反応性を抑制し、その粒子成長を抑えることで、透明、高屈折率かつ所望膜厚の膜状光学部材を得ることが可能である。
また、本発明は、プラスチックレンズ、プリズム、光ファイバー、情報記録基板、フィルター、液晶ディスプレイ用部材、プラズマディスプレイ用部材、プリズムシート、ディフューザ、光散乱フィルム、視野角向上フィルム、輝度向上フィルム、偏光子、太陽電池用集光フィルムなどに代表される膜状光学部材、及びその樹脂材料に適用できる。特に、高い屈折率を有する薄膜状光学部材、及び該薄膜状光学部材の作製に用いる樹脂組成物に適用できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
＜樹脂組成物＞
以下、本発明の実施の形態について説明する。本発明の樹脂組成物は、第１の態様によると、（Ａ）含金属高屈折中間体と、（Ｂ）ポリマ若しくはオリゴマ及び／又は（Ｃ）反応性モノマとを含有する樹脂組成物であって、前記（Ａ）含金属高屈折中間体の成分が、チタンアルコキシド、多価アルコール、水、アミノアルコール及び（Ｄ）溶媒を用いて合成されることを特徴とする。
本発明の樹脂組成物は、第２の態様によると、（Ａ）含金属高屈折中間体と、（Ｂ）ポリマ若しくはオリゴマ及び／又は（Ｃ）反応性モノマとを含有する樹脂組成物であって、前記（Ａ）含金属高屈折中間体の成分が、チタンアルコキシド、多価アルコール及び（Ｄ）溶媒を混合し加熱により、アルコキシド基と多価アルコールの置換により生じる副生成物の１価アルコールを留去して得たものに対して、さらに水とアミノアルコールとを混合して加熱し、加水分解による副生成物の１価アルコールを留去して合成されることを特徴とする。
また、本発明の膜状光学部材は、この樹脂組成物を用いて形成される膜状光学部材である。
以下にまず、本発明の第１の態様及び第２の態様において用いられる樹脂組成物の各成分について詳述する。
【００１８】
［（Ａ）含金属高屈折中間体］
本発明の樹脂組成物において、上述の通り、前記（Ａ）含金属高屈折中間体の成分は、チタンアルコキシド、多価アルコール、水、アミノアルコール及び（Ｄ）溶媒を用いて合成されるが、合成は、これらの成分を混合して、加熱し、加水分解することにより行う。合成に際し、前記多価アルコールは、チタンアルコキシドに配位して、加水分解反応の進行を制御し、酸化チタン粒子の成長を抑制する役割を有する。そして、加水分解による副生成物の１価アルコールを積極的に留去して前記（Ａ）含金属高屈折中間体の成分が得られ、酸化チタン粒子の成長が抑制されるので、必要以上に大きな粒子とならず、結果として硬化物の光散乱を引き起こさないようにすることが可能となる。
【００１９】
（チタンアルコキシド）
前記（Ａ）含金属高屈折中間体のうちのチタンアルコキシドは、目的に応じて他の金属アルコキシドを部分的に用いることもできる。その金属としては、特に限定されないが、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｌａ、Ｔｈ、Ｔａなどが挙げられる。
【００２０】
前記（Ａ）含金属高屈折中間体に使用されるチタンアルコキシドの加水分解性アルコキシ基としては、特に限定されないが、例えば、炭素数１〜６のアルコキシ基、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基などが挙げられる。炭素数が３〜６であるとゾルゲル反応が十分に進行することから、好ましくはプロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基であり、特に好ましくはイソプロポキシ基である。金属上のこれらアルコキシ基の種類はすべて同一であっても、異なっていても構わない。
【００２１】
前記（Ａ）含金属高屈折中間体に使われるチタンアルコキシドとしては、例えば、チタニウムテトラメトキシ、チタニウムテトラエトキシ、チタニウムテトラ−ｎ−プロポキシ、チタニウムテトラ−ｉｓｏ−プロポキシ、チタニウムテトラ−ｎ−ブトキシ、チタニウムテトラ−ｓｅｃ−ブトキシ、チタニウムテトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシ、チタニウムテトラフェノキシなどのテトラアルコキシ、チタニウムトリメトキシ、チタニウムトリエトキシ、チタニウムトリプロポキシ、チタニウムフルオロトリメトキシ、チタニウムフルオロトリエトキシ、チタニウムメチルトリメトキシ、チタニウムメチルトリエトキシ、チタニウムメチルトリ−ｎ−プロポキシ、チタニウムメチルトリ−ｉｓｏ−プロポキシ、チタニウムメチルトリ−ｎ−ブトキシ、チタニウムメチルトリ−ｉｓｏ−ブトキシ、チタニウムメチルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシ、チタニウムメチルトリフェノキシ、チタニウムエチルトリメトキシ、チタニウムエチルトリエトキシ、チタニウムエチルトリ−ｎ−プロポキシ、チタニウムエチルトリ−ｉｓｏ−プロポキシ、チタニウムエチルトリ−ｎ−ブトキシ、チタニウムエチルトリ−ｉｓｏ−ブトキシ、チタニウムエチルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシ、チタニウムエチルトリフェノキシ、チタニウムｎ−プロピルトリメトキシ、チタニウムｎ−プロピルトリエトキシ、チタニウムｎ−プロピルトリ−ｎ−プロポキシ、チタニウムｎ−プロピルトリ−ｉｓｏ−プロポキシ、チタニウムｎ−プロピルトリ−ｎ−ブトキシ、チタニウムｎ−プロピルトリ−ｉｓｏ−ブトキシ、チタニウムｎ−プロピルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシ、チタニウムｎ−プロピルトリフェノキシ、チタニウムｉｓｏ−プロピルトリメトキシ、チタニウムｉｓｏ−プロピルトリエトキシ、チタニウムｉｓｏ−プロピルトリ−ｎ−プロポキシ、チタニウムｉｓｏ−プロピルトリ−ｉｓｏ−プロポキシ、チタニウムｉｓｏ−プロピルトリ−ｎ−ブトキシ、チタニウムｉｓｏ−プロピルトリ−ｉｓｏ−ブトキシ、チタニウムｉｓｏ−プロピルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシ、チタニウムｉｓｏ−プロピルトリフェノキシ、チタニウムｎ−ブチルトリメトキシ、チタニウムｎ−ブチルトリエトキシ、チタニウムｎ−ブチルトリ−ｎ−プロポキシ、チタニウムｎ−ブチルトリ−ｉｓｏ−プロポキシ、チタニウムｎ−ブチルトリ−ｎ−ブトキシ、チタニウムｎ−ブチルトリ−ｉｓｏ−ブトキシ、チタニウムｎ−ブチルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシ、チタニウムｎ−ブチルトリフェノキシ、チタニウムｓｅｃ−ブチルトリメトキシ、チタニウムｓｅｃ−ブチルトリエトキシ、チタニウムｓｅｃ−ブチルトリ−ｎ−プロポキシ、チタニウムｓｅｃ−ブチルトリ−ｉｓｏ−プロポキシ、チタニウムｓｅｃ−ブチルトリ−ｎ−ブトキシ、チタニウムｓｅｃ−ブチルトリ−ｉｓｏ−ブトキシ、チタニウムｓｅｃ−ブチルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシ、チタニウムｓｅｃ−ブチルトリフェノキシ、チタニウムｔｅｒｔ−ブチルトリメトキシ、チタニウムｔｅｒｔ−ブチルトリエトキシ、チタニウムｔｅｒｔ−ブチルトリ−ｎ−プロポキシ、チタニウムｔ−ブチルトリ−ｉｓｏ−プロポキシ、チタニウムｔｅｒｔ−ブチルトリ−ｎ−ブトキシ、チタニウムｔｅｒｔ−ブチルトリ−ｉｓｏ−ブトキシ、チタニウムｔｅｒｔ−ブチルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシ、チタニウムｔｅｒｔ−ブチルトリフェノキシ、チタニウムフェニルトリメトキシ、チタニウムフェニルトリエトキシ、チタニウムフェニルトリ−ｎ−プロポキシ、チタニウムフェニルトリ−ｉｓｏ−プロポキシ、チタニウムフェニルトリ−ｎ−ブトキシ、チタニウムフェニルトリ−ｉｓｏ−ブトキシ、チタニウムフェニルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシ、チタニウムフェニルトリフェノキシ、チタニウムトリフルオロメチルトリメトキシ、チタニウムペンタフルオロエチルトリメトキシ、チタニウム３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシ、チタニウム３，３，３−トリフルオロプロピルトリエトキシなどのトリアルコキシ、チタニウムジメチルジメトキシ、チタニウムジメチルジエトキシ、チタニウムジメチルジ−ｎ−プロポキシ、チタニウムジメチルジ−ｉｓｏ−プロポキシ、チタニウムジメチルジ−ｎ−ブトキシ、チタニウムジメチルジ−ｓｅｃ−ブトキシ、チタニウムジメチルジ−ｔｅｒｔ−ブトキシ、チタニウムジメチルジフェノキシ、チタニウムジエチルジメトキシ、チタニウムジエチルジエトキシ、チタニウムジエチルジ−ｎ−プロポキシ、チタニウムジエチルジ−ｉｓｏ−プロポキシ、チタニウムジエチルジ−ｎ−ブトキシ、チタニウムジエチルジ−ｓｅｃ−ブトキシ、チタニウムジエチルジ−ｔｅｒｔ−ブトキシ、チタニウムジエチルジフェノキシ、チタニウムジ−ｎ−プロピルジメトキシ、チタニウムジ−ｎ−プロピルジエトキシ、チタニウムジ−ｎ−プロピルジ−ｎ−プロポキシ、チタニウムジ−ｎ−プロピルジ−ｉｓｏ−プロポキシ、チタニウムジ−ｎ−プロピルジ−ｎ−ブトキシ、チタニウムジ−ｎ−プロピルジ−ｓｅｃ−ブトキシ、チタニウムジ−ｎ−プロピルジ−ｔｅｒｔ−ブトキシ、チタニウムジ−ｎ−プロピルジフェノキシ、チタニウムジ−ｉｓｏ−プロピルジメトキシ、チタニウムジ−ｉｓｏ−プロピルジエトキシ、チタニウムジ−ｉｓｏ−プロピルジ−ｎ−プロポキシ、チタニウムジ−ｉｓｏ−プロピルジ−ｉｓｏ−プロポキシ、チタニウムジ−ｉｓｏ−プロピルジ−ｎ−ブトキシ、チタニウムジ−ｉｓｏ−プロピルジ−ｓｅｃ−ブトキシ、チタニウムジ−ｉｓｏ−プロピルジ−ｔｅｒｔ−ブトキシ、チタニウムジ−ｉｓｏ−プロピルジフェノキシ、チタニウムジ−ｎ−ブチルジメトキシ、チタニウムジ−ｎ−ブチルジエトキシ、チタニウムジ−ｎ−ブチルジ−ｎ−プロポキシ、チタニウムジ−ｎ−ブチルジ−ｉｓｏ−プロポキシ、チタニウムジ−ｎ−ブチルジ−ｎ−ブトキシ、チタニウムジ−ｎ−ブチルジ−ｓｅｃ−ブトキシ、チタニウムジ−ｎ−ブチルジ−ｔｅｒｔ−ブトキシ、チタニウムジ−ｎ−ブチルジフェノキシ、チタニウムジ−ｓｅｃ−ブチルジメトキシ、チタニウムジ−ｓｅｃ−ブチルジエトキシ、チタニウムジ−ｓｅｃ−ブチルジ−ｎ−プロポキシ、チタニウムジ−ｓｅｃ−ブチルジ−ｉｓｏ−プロポキシ、チタニウムジ−ｓｅｃ−ブチルジ−ｎ−ブトキシ、チタニウムジ−ｓｅｃ−ブチルジ−ｓｅｃ−ブトキシ、チタニウムジ−ｓｅｃ−ブチルジ−ｔｅｒｔ−ブトキシ、チタニウムジ−ｓｅｃ−ブチルジフェノキシ、チタニウムジ−ｔｅｒｔ−ブチルジメトキシ、チタニウムジ−ｔｅｒｔ−ブチルジエトキシ、チタニウムジ−ｔｅｒｔ−ブチルジ−ｎ−プロポキシ、チタニウムジ−ｔｅｒｔ−ブチルジ−ｉｓｏ−プロポキシ、チタニウムジ−ｔｅｒｔ−ブチルジ−ｎ−ブトキシ、チタニウムジ−ｔｅｒｔ−ブチルジ−ｓｅｃ−ブトキシ、チタニウムジ−ｔｅｒｔ−ブチルジ−ｔｅｒｔ−ブトキシ、チタニウムジ−ｔｅｒｔ−ブチルジフェノキシ、チタニウムジフェニルジメトキシ、チタニウムジフェニルジエトキシ、チタニウムジフェニルジ−ｎ−プロポキシ、チタニウムジフェニルジ−ｉｓｏ−プロポキシ、チタニウムジフェニルジ−ｎ−ブトキシ、チタニウムジフェニルジ−ｓｅｃ−ブトキシ、チタニウムジフェニルジ−ｔｅｒｔ−ブトキシ、チタニウムジフェニルジフェノキシ、チタニウムビス（３，３，３−トリフルオロプロピル）ジメトキシ、チタニウムメチル（３，３，３−トリフルオロプロピル）ジメトキシなどのジオルガノジアルコキシなどが挙げられ、中でも、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基を含むものが好ましく、特に好ましくはイソプロポキシ基である。
【００２２】
（多価アルコール）
前記（Ａ）含金属高屈折中間体において、使用される多価アルコールは、下記一般式（１）で表される多価アルコールが好ましい。
【００２３】
【化４】
ここで、一般式（１）中、Ｒは炭素数２〜２０の炭化水素基、ｎは２〜１０の整数である。
【００２４】
一般式（１）中、Ｒは炭素数２〜２０の炭化水素基を表すが、該炭化水素基は、直鎖状、分岐状、及び環状のいずれでもよく、また、不飽和結合を有していてもよい。該炭化水素基の炭素数は、好ましくは２〜１０であり、より好ましくは２〜６である。また、ｎは２〜１０の整数であるが、好ましくは２〜６であり、より好ましくは２〜４である。
また、Ｒが表す炭化水素基は置換基を有していてもよく、該置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、メチレン基、アリール基、環状アルケニル基が挙げられる。
【００２５】
前記（Ａ）含金属高屈折中間体に使われる多価アルコールとしては、例えば、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、２，３−ブタンジオール、１，２−ペンタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，４−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、１，２−ヘキサンジオール、１，６−ヘキサンジオール、２，５−ヘキサンジオール、３，３−ジメチル−１，２−ブタンジオール、ヘキシレングリコール、ピナコール、１，７−ヘプタンジオール、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール、２−メチル−２−プロピル−１，３−プロパンジオール、１，２−オクタンジオール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、２，５−ジメチル−２，５−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、１，９−ノナンジオール、２−ブチル−２エチル−１，３−プロパンジオール、１，２−デカンジオール、１，１０−デカンジオール、２−ブチン−１，４−ジオール、１，２−シクロヘキサンジオール、１，３−シクロヘキサンジオール、１，４−シクロヘキセンジオール、１，２−シクロペンタンジオール、１，３−シクロペンタンジオール、１，２−ドデカンジオール、２−メチレン−１，３−プロパンジオール、１−フェニル−１，２−エタンジオール、１−フェニル−１，３−プロパンジオール、２，３−ピナンジオール、１，１４−テトラデカンジオール、グリセリン、１，２，４−ブタントリオール、１，２，３−ヘキサントリオール、１，２，６−ヘキサントリオール、１，２，３−ヘプタントリオール、エリスリトール、ペンタエリスリトール、アラビトール、キシリトール、ソルビトール、マンニトール、イノシトールなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００２６】
また、前記（Ａ）含金属高屈折中間体において、使用される多価アルコールは、下記一般式（２）で表される多価アルコールが好ましい。
【化５】
ここで、一般式（２）中、Ｒは炭素数２〜２０のアルキレン基である。
【００２７】
一般式（２）中、Ｒは炭素数２〜２０のアルキレン基を表すが、該アルキレン基は、直鎖状、分岐状、及び環状のいずれでもよく、また、不飽和結合を有していてもよい。該アルキレン基の炭素数は、好ましくは２〜１０であり、より好ましくは２〜６である。また、ｎは２〜１０の整数であるが、好ましくは２〜６であり、より好ましくは２〜４である。
また、Ｒが表す炭化水素基は置換基を有していてもよく、該置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、メチレン基、アリール基、環状アルケニル基が挙げられる。
【００２８】
前記（Ａ）含金属高屈折中間体に使われる多価アルコールとしては、例えば、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、２，３−ブタンジオール、１，２−ペンタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，４−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、１，２−ヘキサンジオール、１，６−ヘキサンジオール、２，５−ヘキサンジオール、３，３−ジメチルー１，２−ブタンジオール、ヘキシレングリコール、ピナコール、１，７−ヘプタンジオール、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール、２−メチルー２−プロピルー１，３−プロパンジオール、１，２−オクタンジオール、２−エチルー１，３−ヘキサンジオール、２，５−ジメチルー２，５−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、１，９−ノナンジオール、２−ブチル−２エチル−１，３−プロパンジオール、１，２−デカンジオール、１，１０−デカンジオール、２−ブチンー１，４−ジオール、１，２−シクロヘキサンジオール、１，３−シクロヘキサンジオール、１，２−シクロペンタンジオール、１，３−シクロペンタンジオール、ヒドロベンゾイン、１，２−ドデカンジオール、２−メチレンー１，３−プロパンジオール、１−フェニルー１，２−エタンジオール、１−フェニル−１，３−プロパンジオール、２，３−ピナンジオール、１，１４−テトラデカンジオールなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００２９】
前記（Ａ）含金属高屈折中間体に使われる多価アルコールとしては、１，４−ブタンジオールが好ましいが、これに限定されるものではない。
【００３０】
（アミノアルコール）
前記（Ａ）含金属高屈折中間体において、使用されるアミノアルコールは、一般式（３）で表されるアミノアルコールが好ましい。
【化６】
ここで、一般式（３）中、Ｎは窒素原子、Ｒ１はＨ又は炭素数１〜２０のアルキル基、Ｒ２は炭素数１〜２０のアルキレン基、ｎは１〜３の整数である。Ｒ１又はＲ２が複数となる場合、当該複数の基はそれぞれ同じでも異なっていてもよい。
なお、一般式（３）において、「Ｎ」と「Ｒ１」及び「Ｒ２ＯＨ」との間の直線は単結合を意味しているのではなく、３本あるＮ原子の結合手のそれぞれに「Ｒ１」及び「Ｒ２ＯＨ」が、ｎの数に応じて分配されることを示すために便宜上描いた直線を意味する。従って、一般式（３）において、Ｎは常に３本の結合手を有し、０〜２個の「Ｒ１」、及び１〜３個の「Ｒ２ＯＨ」のうちの合計３個が３本の結合手を介してＮに結合する。
【００３１】
一般式（３）中、前記Ｒ１はＨまたは炭素数１〜２０のアルキル基を表すが、該アルキル基としては、直鎖状、分岐鎖状または環状でもよい。該アルキル基の炭素数は１〜６が好ましく、１〜３がより好ましい。
このようなアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、イソブチル基、ターシャリーブチル基、ノルマルヘキシル基、ノルマルオクチル基、ノルマルノニル基、イソノニル基、ターシャリーノニル基、シクロヘキシル基等が挙げられ、中でも、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基が好ましい。
【００３２】
前記Ｒ２は炭素数１〜２０のアルキレン基を表すが、該アルキレン基としては、直鎖状、分岐鎖状でもよい。該アルキレン基の炭素数は１〜６が好ましく、１〜３がより好ましい。
このようなアルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基等が挙げられ、中でも、メチレン基、エチレン基、プロピレン基が好ましい。
【００３３】
以上の一般式（３）で表されるアミノアルコールとしては、例えば、２−エチルアミノエタノール、ジイソプロパノールアミン、ジエタノールアミン、２−ジメチルアミノエタノール、トリエタノールアミン、１，１’，１”−ニトリロトリ−２−プロパノール、Ｎ−ｎ−ブチル−２，２’−イミノエタノール、１−アミノ−２−プロパノール、３−アミノ−１−プロパノール、２−（メチルアミノ）エタノール、２−アミノエタノールなどが挙げられ、中でも、２−エチルアミノエタノール、ジイソプロパノールアミン、ジエタノールアミン、２−ジメチルアミノエタノール、トリエタノールアミン、２−アミノエタノールが好ましい。
【００３４】
他方、前記一般式（３）で表されるアミノアルコール以外のアミノアルコールの例としては、Ｎ−アセチルエタノールアミン、アセチルアミノメチルアルコールなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００３５】
本発明の第１の態様においては、（Ａ）含金属高屈折率中間体は、以上のチタンアルコキシド、多価アルコール、水、アミノアルコール、及び後述する（Ｄ）溶媒を混合して、加熱し、加水分解することにより合成される。加水分解によりアルコールが生成するが、当該アルコールは加熱により揮発し留去することができる。
加熱温度としては、副生成物のアルコールの沸点付近が好ましく、４０〜１５０℃とすることが好ましく、例えば、副生成物がイソプロピルアルコールの場合には６０〜１００℃とすることがより好ましい。また、加熱時間としては、チタンアルコキシド量から計算されるアルコールの留去量から決定することが好ましい。
【００３６】
一方、本発明の第２の態様においては、（Ａ）含金属高屈折率中間体は、以上のチタンアルコキシド、多価アルコール及び後述する（Ｄ）溶媒を混合し加熱により、アルコキシド基と多価アルコールの置換により生じる副生成物の１価アルコールを留去して得たものに対して、さらに水とアミノアルコールとを混合して加熱し、加水分解による副生成物の１価アルコールを留去して得られる。第２の態様では、（１）チタンアルコールと多価アルコールとから生成する１価アルコールを留去した後（以下、「（１）の段階」と称する。）、（２）さらにアミノアルコールを加え、加水分解により生成する１価アルコールを留去するが（以下、「（２）の段階」と称する。）、このように、アルコールの留去を（１）と（２）の２段階に分けて行うことにより、反応系が単純化されチタンアルコキシドにおけるアルコシキド基と多価アルコールの置換が確実になされることで、目的とする（Ａ）含金属高屈折率中間体が合成されやすくなり好ましい。
【００３７】
第２の態様における加熱温度は、前記（１）の段階及び（２）の段階のいずれにおいても、副生成物のアルコールを留去するという観点から、生成するアルコールの沸点付近が好ましい。従って、前記（１）の段階と（２）の段階とで生成するアルコールが同じであれば、各段階で同じ加熱温度とし、生成するアルコールが異なるのであれば、それぞれのアルコールの沸点付近となるように各段階において加熱温度を異ならせることが好ましい。加熱温度は具体的には、４０〜１５０℃とすることが好ましく、例えば、副生成物がイソプロピルアルコールの場合には６０〜１００℃とすることがより好ましい。
また、各段階のいずれの加熱においても、加熱時間としては、チタンアルコキシド量から計算されるアルコールの留去量から決定することが好ましい。
【００３８】
また、前記（１）の段階と（２）の段階の間において、加熱を続けた状態でもよいし、一度加熱を止めて冷却してから再度加熱してもよい。
【００３９】
［（Ｂ）ポリマ若しくはオリゴマ］
前記（Ｂ）ポリマ若しくはオリゴマとしては、特に限定されないが、光透過率や屈折率が高く、可塑性があり、耐候性の良いものが好ましく、例えば、エポキシ樹脂、ポリアミド、ポリウレタン、ポリ尿素、ポリイミン、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリビニル、ポリアクリル、ポリエーテル、ポリスルフィド、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリケトンなどが挙げられる。前記（Ｂ）ポリマ若しくはオリゴマの成分を配合させる場合、その配合量は、（Ａ）含金属高屈折中間体成分１００重量部に対して、１〜１００重量部であることが好ましい。
【００４０】
［（Ｃ）反応性モノマ］
前記（Ｃ）反応性モノマは、熱や光により重合、硬化する樹脂組成物において、成分となる。（Ｃ）反応性モノマ成分の重合形態には、例えば、イオン重合やラジカル重合がよく知られているが、本発明は、それら重合形態を限定するものではない。（Ｃ）成分としては、具体的には、エポキシ誘導体、イソシアネート、（メタ）アクリレート、ジカルボン酸、ジオール、ジアミン、スチレン、イソプレン、ブタジエン、アクリロニトリル、プロピレン、エチレンが挙げられ、中でも、エポキシ誘導体、イソシアネート、（メタ）アクリレート、ジカルボン酸、ジオール、ジアミン、スチレンが好ましい。
上記（Ｃ）成分を配合させる場合、その配合量は、（Ａ）含金属高屈折中間体成分１００重量部に対して、１〜１００重量部であることが好ましい。
【００４１】
［（Ｄ）溶媒］
本発明の樹脂組成物の製造過程においては（Ｄ）溶媒を使用する。前記（Ｄ）溶媒としては、炭化水素系溶剤、エーテル・ケトン類溶剤、エステル系溶剤、ハロゲン化炭化水素類、鉱物油や合成油、動植物油、アルコール系溶剤などが挙げられ、これらは１種類もしくは２種類以上を組み合わせて使用することができる。中でも、炭化水素溶剤、エーテル・ケトン類溶剤、エステル系溶剤、ハロゲン化炭化水素類、アルコール系溶剤が好適に使用することができる。
さらに、窒素原子がチタンアルコキシドを安定化させるという観点から、窒素原子を有する溶媒を含有することがより好ましい。窒素原子を有する溶媒としては、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドが挙げられ、Ｎ−メチルピロリドンが好適に使用することができる。
前記（Ｄ）溶媒成分の配合量は、（Ａ）含金属高屈折中間体成分１００重量部に対して、１〜１０００重量部であることが好ましい。前記（Ｄ）溶媒成分は、特に塗膜形成のための希釈剤として使用され、例えば、刷毛塗り、スピン塗布法、スプレー法、スリットコーター、グラビア印刷、スクリーン印刷などの方法により塗布された後、ホットプレート、電気炉などで揮発され、均一な塗布膜を得るのに有効な成分である。
【００４２】
［（Ｅ）添加剤］
また、本発明の樹脂組成物は、（Ｅ）添加剤を含有させることができる。前記（Ｅ）添加剤としては、必要な場合には、光ラジカル重合開始剤や熱ラジカル重合開始剤などの重合開始剤を用い、さらに必要に応じて、紫外線吸収剤、光安定化剤、酸化防止剤などの安定化剤、カップリング剤、難燃剤などを用いることができる。
【００４３】
これらラジカル重合開始剤の配合量は、（Ｂ）ポリマ若しくはオリゴマ成分と（Ｃ）反応性モノマ成分の総量１００重量部に対して０．０１〜１０重量部の範囲であることが好ましく、０．１〜５重量部の範囲であることがより好ましい。前記紫外線吸収剤や光安定化剤は、通常、（Ｂ）ポリマ若しくはオリゴマ成分と（Ｃ）反応性モノマ成分の総量１００重量部に対し０．０５〜２０重量部の範囲で添加されうる。前記酸化防止剤は、充填材との相性や目的とする成形作業性及び樹脂保存安定性などの条件により種類、量を変えて添加する。通常、（Ｂ）ポリマ若しくはオリゴマ成分と（Ｃ）反応性モノマ成分の総量に対し１０〜１０，０００ｐｐｍである。カップリング剤は、通常、（Ｂ）ポリマ若しくはオリゴマ成分と（Ｃ）反応性モノマ成分の総量１００重量部に対し、０．００１〜５重量部添加する。
【００４４】
前記難燃剤の添加量は（Ｂ）ポリマ若しくはオリゴマ成分と（Ｃ）反応性モノマ成分の総量１００重量部に対し１０〜３００重量部の範囲で用いることが好ましい。本発明の樹脂組成物は、前記した（Ａ）含金属高屈折中間体成分と、（Ｂ）ポリマ若しくはオリゴマ成分及び／又は（Ｃ）反応性モノマ成分とを成分とし、その他必要に応じて添加される成分を、通常の樹脂組成物と同様に攪拌、混合することにより得ることができる。
【００４５】
＜膜状光学部材＞
本発明の膜状光学部材は、例えば、本発明の樹脂組成物を基材上に塗布、乾燥し、必要に応じて硬化させることにより得ることができる。樹脂組成物を基材上に塗布する方法としては、特に限定されないが、例えば、刷毛塗り、スピン塗布法、スプレー法、スリットコーター、グラビア印刷、スクリーン印刷などを挙げることができる。また、前記基材としては、ガラス板、プラスチック板、プラスチックフィルム、太陽電池セルなどを挙げることができる。
【００４６】
また、樹脂組成物の塗布後に行う乾燥は、膜中の溶剤が十分に揮発すればよく、その方法や条件は特に限定されないが、例えば、ホットプレート、電気炉などを用い、好ましくは５０〜１５０℃、より好ましくは６０〜１２０℃の範囲で行うことができる。乾燥温度５０℃未満では、（Ｄ）成分などの乾燥が不十分になる恐れがあり、１５０℃を超えると（Ｃ）成分などが揮発してしまう恐れがあり、良好な硬化膜をえることが困難になる傾向がある。
【００４７】
また、乾燥後の硬化は、熱硬化性配合の場合には、その成分や配合量により硬化温度と時間を適宜決定すればよいが、好ましくは１００〜２００℃の温度で２〜６０分間、より好ましくは１３０〜２００℃の温度で２〜３０分間加熱して行うことができる。この加熱が１００℃未満であると、十分な硬化が行えない恐れがある。また、樹脂組成物が光硬化性配合の場合にも特に制限されないが、高圧水銀灯などを用い、１００〜２０００ｍＪ／ｃｍ２で露光し、硬化させることが好ましい。
【００４８】
本発明に係る膜状光学部材の膜厚は、この実施形態の樹脂組成物の粘度を調整したり、膜形成手段やその条件を適宜選択したりすることにより、容易に所望厚さに形成することが可能である。例えば、前記（Ｄ）溶媒成分である溶剤の配合量を少なくすると、樹脂組成物の粘度が上昇し、比較的厚膜の光学部材を形成しやすくなり、前記（Ｄ）溶媒成分の配合量を多くすると、樹脂組成物の粘度が低下し、比較的薄膜の光学部材を形成しやすくなる。また、樹脂組成物の塗布手段として、スピン塗布法を適用する場合には、その回転数を下げたり、塗布回数を増やしたりすることで、比較的厚膜の光学部材を形成することができ、その回転数を上げたり、塗布回数を減らしたりすることで、比較的薄膜の光学部材を形成することが可能である。具体的に好ましい厚さは、用途にもよるが１〜１０００μｍの範囲である。
【実施例】
【００４９】
以下に実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００５０】
［実施例１］
（Ａ１液（（Ａ）含金属高屈折中間体）の調製）
４つ口のセパラブルフラスコの１つに攪拌羽、１つに窒素供給、１つに揮発成分を留去できるように連結管、リービッヒ冷却器を接続した。１，４−ブタンジオール１５．７７ｇ、Ｎ−メチルピロリドン１７．１７ｇを、１００ｍＬセパラブルフラスコに入れ、窒素流下、攪拌した。数分後、攪拌が十分に行われたのを確認し、チタニウムテトライソプロポキシド３５．５３ｇをなるべく空気に触れないように注意しながら加えた。チタニウムテトライソプロポキシドを加えると、フラスコの温度は上昇するが、これを室温（２５℃）程度にまで冷ました後、８０℃オイルバスを用いて、揮発成分の留去を行った。なおこの際の留去物は、イソプロポキシ基と１，４−ブタンジオールの置換により生じる副生成物のイソプロピルアルコールである。
別なサンプル管を用い、水１．８０２ｇ、ジエタノールアミン１０．５１ｇをよく混ぜてこれを前記フラスコ内に添加した。数分後、攪拌が十分に行われたのを確認し、揮発成分の留去を６時間行った。この際の留去物は、チタニウムテトライソプロポキシドの加水分解反応による副生成物のイソプロピルアルコールである。このようにして合成された液体をＡ１液（（Ａ）含金属高屈折中間体）という。
【００５１】
（樹脂組成物の調製〜薄膜の作製）
Ａ１液９５重量部に対し、Ｂ１液（（Ｂ）ポリマもしくはオリゴマ）としてエポキシ樹脂（阪本薬品工業社製、ＳＲ−１６ＨＬ）５重量部を加え十分に攪拌した樹脂組成液（樹脂組成物）を、半導体用シリコンウエハとスライドガラスにスピンコートし、１５０℃のホットプレートで１０分間加熱することで溶剤を除去し、透明な薄膜を得た。この薄膜の波長６３２．８ｎｍの光に対する屈折率は１．６７であり、透明で均質な薄膜が得られた。なお、形成した薄膜の膜厚は、１μｍであった。また、屈折率の測定及び透明性の評価は以下のようにして行った。
〈屈折率の測定〉
Ａ１液と溶媒が重量比２対１となるように混合した。この混合溶液を２５ｍｍ角のシリコンウエハに滴下し、５０００ｒｐｍで３０秒スピンコートを行った。その後、１５０℃のホットプレートで１０分加熱することで溶剤を乾燥し、薄膜（膜厚約１μｍ）を得た。自動エリプソメータ（ＭＡＲＹ−１０２，ファイブラボ社製）を用いて、薄膜の波長６３２．８ｎｍにおける屈折率を測定した。
〈透明性〉
透明性の評価は目視により行った。
【００５２】
［比較例１］
水０．５４ｇ、Ｎ−メチルピロリドン３３．４４ｇを、１００ｍＬセパラブルフラスコに入れ、窒素流下、攪拌した。数分後、攪拌が十分に行われたのを確認し、チタニウムテトライソプロポキシド２１．３２ｇを加えた。チタニウムテトライソプロポキシドを加えると、液は瞬時に白濁した塊となり、光学的な評価は不可能であった。
【００５３】
［比較例２］
Ｎ−メチルピロリドン１４９４ｇ、ポリエステルポリオール（クラレ社製クラレポリオールＰ１０１０）４９６５ｇをセパラブルフラスコに入れ、十分に攪拌した。これにポリイソシアネート（住化バイエルウレタン社製ディスモジュール−Ｗ）１００９ｇを約２時間かけて滴下し、Ｂ２液（ウレタン樹脂）を得た。
Ｂ２液１００重量部に、チタニウムテトライソプロポキシド１００重量部を加え攪拌し、透明の液体を得たが、スピンコート、ホットプレートによる溶剤乾燥により、膜は白濁して、光学的な評価は不可能であった。
【００５４】
［比較例３］
チタニウムテトライソプロポキシド２００重量部、ジエタノールアミン８０重量部、水４重量部、Ｂ３液としてエポキシ樹脂（大日本インキ化学工業社製ＥＸＡ−４８５０−１００）１００重量部、トルエン１４０重量部をセパラブルフラスコに入れ、攪拌した。透明の液体を得ることができ、スピンコート、ホットプレートによる溶剤乾燥により、透明な膜を得たが、膜厚均一性が悪く、正当な評価ができなかった。
【００５５】
［比較例４］
４つ口のセパラブルフラスコの１つに攪拌羽、１つに窒素供給、１つに揮発成分を留去できるように連結管、リービッヒ冷却器を接続しておいた。トリエチルアミン１１．９２ｇ、水０．５４ｇ、Ｎ−メチルピロリドン１９．８８ｇを、１００ｍＬセパラブルフラスコに入れ、窒素流下、攪拌した。数分後、攪拌が十分に行われたのを確認し、チタニウムテトライソプロポキシド２１．３２ｇをなるべく空気に触れないように注意しながら、加えた。チタニウムテトライソプロポキシドを加えると、フラスコの温度は上昇するが、室温（２５℃）程度にまで冷えた後、８０℃オイルバスを用いて、揮発成分の留去を行った。この際の留去物は、チタニウムテトライソプロポキシドの加水分解反応による副生成物のイソプロピルアルコールである。別なサンプル管を用い、水０．２７ｇ、トリエチルアミン２．１９３ｇをよく混ぜておき、前記留去を６時間行った後に、フラスコを室温（２５℃）まで冷却し、この混合物を添加した。この液体をＡ２液という。
このＡ２液１００重量部に対し、Ｂ３液としてエポキシ樹脂（大日本インキ化学工業社製ＥＸＡ−４８５０−１０００）１０重量部を加え十分に攪拌した樹脂組成液を、半導体用シリコンウエハとスライドガラスにスピンコートし、８０℃のホットプレートで５分間加熱、溶剤を除去し、さらに１５０℃のホットプレートで１５分間加熱硬化し、薄膜を得ようとしたが、薄膜は粉々に砕け散って製膜ができなかった。
【００５６】
［比較例５］
Ａ１液９５重量部に対し、Ｂ４液としてエポキシ樹脂（東都化成社製ＺＸ−１５４２）５重量部を加え十分に攪拌した樹脂組成液を、半導体用シリコンウエハとスライドガラスにスピンコートし、１５０℃のホットプレートで３０分間加熱、溶剤を除去し、薄膜を得た。この薄膜の波長６３２．８ｎｍの光に対する屈折率は１．６５であり、透明で均質な薄膜が得られた。
【００５７】
以上の実施例及び比較例の評価結果を表１に示す。
【００５８】
【表１】
【００５９】
本発明により、従来よりも透明、高屈折率でかつ所望する膜厚の光学部材を形成することが可能な樹脂組成物、及びこれを用いた光学部材を提供することができた。
【技術分野】
【０００１】
本発明は樹脂組成物、及びこれを用いた膜状光学部材に関する。さらに、詳しくは、プラスチックレンズ、プリズム、光ファイバー、情報記録基板、フィルター、液晶ディスプレイ用部材、プラズマディスプレイ用部材、プリズムシート、ディフューザ、光散乱フィルム、視野角向上フィルム、輝度向上フィルム、偏光子、太陽電池用集光フィルムなどに代表される膜状光学部材、及びその作製に用いる樹脂組成物（樹脂材料）に関し、特に、高い屈折率を有する膜状光学部材、及びその樹脂組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、軽量でかつ加工性に富み、各種の光学部材として好適な樹脂材料として、１．６〜２．２程度の高い屈折率を有する透明樹脂材料（以下、適宜、高屈折性樹脂材料という）が要求されている。
従来技術における高屈折率樹脂材料は、ポリチオール化合物とポリイソシアネート化合物から得られるチオウレタン（例えば、特許文献１参照。）、エポキシ樹脂又はエピスルフィド樹脂から得られる重合体（例えば、特許文献２参照。）などが挙げられるが、これらイオウ系の高屈折樹脂材料は、屈折率の限界が１．７２程度であるのに加え、硬化前の臭気が激しく、工程上の制約を受ける。また、ベンゼン環に臭素を導入したポリマが既に市販化されているが、その屈折率は１．６程度である。
【０００３】
また、樹脂中に酸化チタンや酸化亜鉛などの高屈折率金属酸化物微粒子を分散させる技術が提案されているが（例えば、特許文献３参照）、光散乱を引き起こさないようにこれらの微粒子を分散させるのは極めて難しい。また、チタンアルコキシドのゾルゲル反応を樹脂マトリクス中で行う有機−無機ハイブリッド系も多々報告されているが（例えば、特許文献４や特許文献５参照）、光学用途としては、光散乱を引き起こしてしまうため実用化には至っていない。
また、本発明と比較的近いものとして、例えば、特許文献６や特許文献７が挙げられるが、特許文献６の発明では、粘度が低すぎて１〜１０００μｍ程度の厚膜を形成することはできない。また、特許文献７にある有機・無機ポリマ複合体及びその製造方法では、反応性の高い金属アルコキシドを用いる場合、その反応性制御と均一分散が困難である。例えば、チタンアルコキシドのゾルゲル反応は、非常に反応性が高いため、酸化チタン粒子が光を散乱させる程度以上の粒子サイズ（＞１００ｎｍ）になり易い。
【０００４】
【特許文献１】特公平４−５８４８９号公報
【特許文献２】特開平３−８１３２０号公報
【特許文献３】特開２００２−２７７６０９号公報
【特許文献４】特開平６−１０７４６１号公報
【特許文献５】特開２００１−８９１９６号公報
【特許文献６】特公平７−１４８３４号公報
【特許文献７】特開平６−３２２１３６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、透明、高屈折率でかつ膜状の光学部材を形成することが可能な樹脂組成物、及びこれを用いた膜状光学部材を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者等は、樹脂組成物中の金属アルコキシドの反応性を抑制し、その粒子成長を抑えることで、透明、高屈折率かつ所望膜厚の膜状光学部材を得ることが可能であることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、以下に記載の事項をその特徴とするものである。
【０００７】
（１）（Ａ）含金属高屈折中間体と、（Ｂ）ポリマ若しくはオリゴマ及び／又は（Ｃ）反応性モノマとを含有する樹脂組成物であって、
前記（Ａ）含金属高屈折中間体の成分が、チタンアルコキシド、多価アルコール、水、アミノアルコール、及び（Ｄ）溶媒を用いて合成されることを特徴とする樹脂組成物。
【０００８】
（２）（Ａ）含金属高屈折中間体と、（Ｂ）ポリマ若しくはオリゴマ及び／又は（Ｃ）反応性モノマとを含有する樹脂組成物であって、
前記（Ａ）含金属高屈折中間体の成分が、チタンアルコキシド、多価アルコール及び（Ｄ）溶媒を混合し加熱により、アルコキシド基と多価アルコールの置換により生じる副生成物の１価アルコールを留去して得たものに対して、さらに水とアミノアルコールとを混合して加熱し、加水分解による副生成物の１価アルコールを留去して合成されることを特徴とする樹脂組成物。
【０００９】
（３）前記（Ａ）含金属高屈折中間体の合成において使用される多価アルコールが、下記一般式（１）で表されることを特徴とする（１）または（２）に記載の樹脂組成物。
【化１】
（一般式（１）中、Ｒは炭素数２〜２０の炭化水素基を表し、ｎは２〜１０の整数を表す。）
【００１０】
（４）前記（Ａ）含金属高屈折中間体の合成において使用される多価アルコールが、下記一般式（２）で表されることを特徴とする（１）または（２）に記載の樹脂組成物。
【化２】
（一般式（２）中、Ｒは炭素数２〜２０のアルキレン基を表す。）
【００１１】
（５）前記（Ａ）含金属高屈折中間体の合成において使用される多価アルコールが、１，４−ブタンジオールであることを特徴とする（１）または（２）に記載の樹脂組成物。
【００１２】
（６）前記（Ａ）含金属高屈折中間体の合成において使用されるアミノアルコールが、下記一般式（３）で表されることを特徴とする（１）から（５）のいずれかに記載の樹脂組成物。
【化３】
（一般式（３）中、Ｎは窒素原子を表し、Ｒ１はＨ又は炭素数１〜２０のアルキル基を表し、Ｒ２は炭素数１〜２０のアルキレン基を表し、ｎは１〜３の整数を表す。Ｒ１又はＲ２が複数となる場合、当該複数の基はそれぞれ同じでも異なっていてもよい。）
【００１３】
（７）前記（Ａ）含金属高屈折中間体の合成において使用されるアミノアルコールが、ジエタノールアミンであることを特徴とする（１）から（５）のいずれかに記載の樹脂組成物。
【００１４】
（８）（１）から（７）のいずれかに記載の樹脂組成物を用いて形成されてなる膜状光学部材。
【００１５】
（９）膜厚が１〜１０００μｍの範囲であることを特徴とする（８）に記載の膜状光学部材。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、従来よりも透明、高屈折率でかつ所望する膜厚の光学部材を形成することが可能な樹脂組成物、及びこれを用いた光学部材を提供することが可能である。
本発明は、樹脂組成物中の金属アルコキシドの反応性を抑制し、その粒子成長を抑えることで、透明、高屈折率かつ所望膜厚の膜状光学部材を得ることが可能である。
また、本発明は、プラスチックレンズ、プリズム、光ファイバー、情報記録基板、フィルター、液晶ディスプレイ用部材、プラズマディスプレイ用部材、プリズムシート、ディフューザ、光散乱フィルム、視野角向上フィルム、輝度向上フィルム、偏光子、太陽電池用集光フィルムなどに代表される膜状光学部材、及びその樹脂材料に適用できる。特に、高い屈折率を有する薄膜状光学部材、及び該薄膜状光学部材の作製に用いる樹脂組成物に適用できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
＜樹脂組成物＞
以下、本発明の実施の形態について説明する。本発明の樹脂組成物は、第１の態様によると、（Ａ）含金属高屈折中間体と、（Ｂ）ポリマ若しくはオリゴマ及び／又は（Ｃ）反応性モノマとを含有する樹脂組成物であって、前記（Ａ）含金属高屈折中間体の成分が、チタンアルコキシド、多価アルコール、水、アミノアルコール及び（Ｄ）溶媒を用いて合成されることを特徴とする。
本発明の樹脂組成物は、第２の態様によると、（Ａ）含金属高屈折中間体と、（Ｂ）ポリマ若しくはオリゴマ及び／又は（Ｃ）反応性モノマとを含有する樹脂組成物であって、前記（Ａ）含金属高屈折中間体の成分が、チタンアルコキシド、多価アルコール及び（Ｄ）溶媒を混合し加熱により、アルコキシド基と多価アルコールの置換により生じる副生成物の１価アルコールを留去して得たものに対して、さらに水とアミノアルコールとを混合して加熱し、加水分解による副生成物の１価アルコールを留去して合成されることを特徴とする。
また、本発明の膜状光学部材は、この樹脂組成物を用いて形成される膜状光学部材である。
以下にまず、本発明の第１の態様及び第２の態様において用いられる樹脂組成物の各成分について詳述する。
【００１８】
［（Ａ）含金属高屈折中間体］
本発明の樹脂組成物において、上述の通り、前記（Ａ）含金属高屈折中間体の成分は、チタンアルコキシド、多価アルコール、水、アミノアルコール及び（Ｄ）溶媒を用いて合成されるが、合成は、これらの成分を混合して、加熱し、加水分解することにより行う。合成に際し、前記多価アルコールは、チタンアルコキシドに配位して、加水分解反応の進行を制御し、酸化チタン粒子の成長を抑制する役割を有する。そして、加水分解による副生成物の１価アルコールを積極的に留去して前記（Ａ）含金属高屈折中間体の成分が得られ、酸化チタン粒子の成長が抑制されるので、必要以上に大きな粒子とならず、結果として硬化物の光散乱を引き起こさないようにすることが可能となる。
【００１９】
（チタンアルコキシド）
前記（Ａ）含金属高屈折中間体のうちのチタンアルコキシドは、目的に応じて他の金属アルコキシドを部分的に用いることもできる。その金属としては、特に限定されないが、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｌａ、Ｔｈ、Ｔａなどが挙げられる。
【００２０】
前記（Ａ）含金属高屈折中間体に使用されるチタンアルコキシドの加水分解性アルコキシ基としては、特に限定されないが、例えば、炭素数１〜６のアルコキシ基、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基などが挙げられる。炭素数が３〜６であるとゾルゲル反応が十分に進行することから、好ましくはプロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基であり、特に好ましくはイソプロポキシ基である。金属上のこれらアルコキシ基の種類はすべて同一であっても、異なっていても構わない。
【００２１】
前記（Ａ）含金属高屈折中間体に使われるチタンアルコキシドとしては、例えば、チタニウムテトラメトキシ、チタニウムテトラエトキシ、チタニウムテトラ−ｎ−プロポキシ、チタニウムテトラ−ｉｓｏ−プロポキシ、チタニウムテトラ−ｎ−ブトキシ、チタニウムテトラ−ｓｅｃ−ブトキシ、チタニウムテトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシ、チタニウムテトラフェノキシなどのテトラアルコキシ、チタニウムトリメトキシ、チタニウムトリエトキシ、チタニウムトリプロポキシ、チタニウムフルオロトリメトキシ、チタニウムフルオロトリエトキシ、チタニウムメチルトリメトキシ、チタニウムメチルトリエトキシ、チタニウムメチルトリ−ｎ−プロポキシ、チタニウムメチルトリ−ｉｓｏ−プロポキシ、チタニウムメチルトリ−ｎ−ブトキシ、チタニウムメチルトリ−ｉｓｏ−ブトキシ、チタニウムメチルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシ、チタニウムメチルトリフェノキシ、チタニウムエチルトリメトキシ、チタニウムエチルトリエトキシ、チタニウムエチルトリ−ｎ−プロポキシ、チタニウムエチルトリ−ｉｓｏ−プロポキシ、チタニウムエチルトリ−ｎ−ブトキシ、チタニウムエチルトリ−ｉｓｏ−ブトキシ、チタニウムエチルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシ、チタニウムエチルトリフェノキシ、チタニウムｎ−プロピルトリメトキシ、チタニウムｎ−プロピルトリエトキシ、チタニウムｎ−プロピルトリ−ｎ−プロポキシ、チタニウムｎ−プロピルトリ−ｉｓｏ−プロポキシ、チタニウムｎ−プロピルトリ−ｎ−ブトキシ、チタニウムｎ−プロピルトリ−ｉｓｏ−ブトキシ、チタニウムｎ−プロピルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシ、チタニウムｎ−プロピルトリフェノキシ、チタニウムｉｓｏ−プロピルトリメトキシ、チタニウムｉｓｏ−プロピルトリエトキシ、チタニウムｉｓｏ−プロピルトリ−ｎ−プロポキシ、チタニウムｉｓｏ−プロピルトリ−ｉｓｏ−プロポキシ、チタニウムｉｓｏ−プロピルトリ−ｎ−ブトキシ、チタニウムｉｓｏ−プロピルトリ−ｉｓｏ−ブトキシ、チタニウムｉｓｏ−プロピルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシ、チタニウムｉｓｏ−プロピルトリフェノキシ、チタニウムｎ−ブチルトリメトキシ、チタニウムｎ−ブチルトリエトキシ、チタニウムｎ−ブチルトリ−ｎ−プロポキシ、チタニウムｎ−ブチルトリ−ｉｓｏ−プロポキシ、チタニウムｎ−ブチルトリ−ｎ−ブトキシ、チタニウムｎ−ブチルトリ−ｉｓｏ−ブトキシ、チタニウムｎ−ブチルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシ、チタニウムｎ−ブチルトリフェノキシ、チタニウムｓｅｃ−ブチルトリメトキシ、チタニウムｓｅｃ−ブチルトリエトキシ、チタニウムｓｅｃ−ブチルトリ−ｎ−プロポキシ、チタニウムｓｅｃ−ブチルトリ−ｉｓｏ−プロポキシ、チタニウムｓｅｃ−ブチルトリ−ｎ−ブトキシ、チタニウムｓｅｃ−ブチルトリ−ｉｓｏ−ブトキシ、チタニウムｓｅｃ−ブチルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシ、チタニウムｓｅｃ−ブチルトリフェノキシ、チタニウムｔｅｒｔ−ブチルトリメトキシ、チタニウムｔｅｒｔ−ブチルトリエトキシ、チタニウムｔｅｒｔ−ブチルトリ−ｎ−プロポキシ、チタニウムｔ−ブチルトリ−ｉｓｏ−プロポキシ、チタニウムｔｅｒｔ−ブチルトリ−ｎ−ブトキシ、チタニウムｔｅｒｔ−ブチルトリ−ｉｓｏ−ブトキシ、チタニウムｔｅｒｔ−ブチルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシ、チタニウムｔｅｒｔ−ブチルトリフェノキシ、チタニウムフェニルトリメトキシ、チタニウムフェニルトリエトキシ、チタニウムフェニルトリ−ｎ−プロポキシ、チタニウムフェニルトリ−ｉｓｏ−プロポキシ、チタニウムフェニルトリ−ｎ−ブトキシ、チタニウムフェニルトリ−ｉｓｏ−ブトキシ、チタニウムフェニルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシ、チタニウムフェニルトリフェノキシ、チタニウムトリフルオロメチルトリメトキシ、チタニウムペンタフルオロエチルトリメトキシ、チタニウム３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシ、チタニウム３，３，３−トリフルオロプロピルトリエトキシなどのトリアルコキシ、チタニウムジメチルジメトキシ、チタニウムジメチルジエトキシ、チタニウムジメチルジ−ｎ−プロポキシ、チタニウムジメチルジ−ｉｓｏ−プロポキシ、チタニウムジメチルジ−ｎ−ブトキシ、チタニウムジメチルジ−ｓｅｃ−ブトキシ、チタニウムジメチルジ−ｔｅｒｔ−ブトキシ、チタニウムジメチルジフェノキシ、チタニウムジエチルジメトキシ、チタニウムジエチルジエトキシ、チタニウムジエチルジ−ｎ−プロポキシ、チタニウムジエチルジ−ｉｓｏ−プロポキシ、チタニウムジエチルジ−ｎ−ブトキシ、チタニウムジエチルジ−ｓｅｃ−ブトキシ、チタニウムジエチルジ−ｔｅｒｔ−ブトキシ、チタニウムジエチルジフェノキシ、チタニウムジ−ｎ−プロピルジメトキシ、チタニウムジ−ｎ−プロピルジエトキシ、チタニウムジ−ｎ−プロピルジ−ｎ−プロポキシ、チタニウムジ−ｎ−プロピルジ−ｉｓｏ−プロポキシ、チタニウムジ−ｎ−プロピルジ−ｎ−ブトキシ、チタニウムジ−ｎ−プロピルジ−ｓｅｃ−ブトキシ、チタニウムジ−ｎ−プロピルジ−ｔｅｒｔ−ブトキシ、チタニウムジ−ｎ−プロピルジフェノキシ、チタニウムジ−ｉｓｏ−プロピルジメトキシ、チタニウムジ−ｉｓｏ−プロピルジエトキシ、チタニウムジ−ｉｓｏ−プロピルジ−ｎ−プロポキシ、チタニウムジ−ｉｓｏ−プロピルジ−ｉｓｏ−プロポキシ、チタニウムジ−ｉｓｏ−プロピルジ−ｎ−ブトキシ、チタニウムジ−ｉｓｏ−プロピルジ−ｓｅｃ−ブトキシ、チタニウムジ−ｉｓｏ−プロピルジ−ｔｅｒｔ−ブトキシ、チタニウムジ−ｉｓｏ−プロピルジフェノキシ、チタニウムジ−ｎ−ブチルジメトキシ、チタニウムジ−ｎ−ブチルジエトキシ、チタニウムジ−ｎ−ブチルジ−ｎ−プロポキシ、チタニウムジ−ｎ−ブチルジ−ｉｓｏ−プロポキシ、チタニウムジ−ｎ−ブチルジ−ｎ−ブトキシ、チタニウムジ−ｎ−ブチルジ−ｓｅｃ−ブトキシ、チタニウムジ−ｎ−ブチルジ−ｔｅｒｔ−ブトキシ、チタニウムジ−ｎ−ブチルジフェノキシ、チタニウムジ−ｓｅｃ−ブチルジメトキシ、チタニウムジ−ｓｅｃ−ブチルジエトキシ、チタニウムジ−ｓｅｃ−ブチルジ−ｎ−プロポキシ、チタニウムジ−ｓｅｃ−ブチルジ−ｉｓｏ−プロポキシ、チタニウムジ−ｓｅｃ−ブチルジ−ｎ−ブトキシ、チタニウムジ−ｓｅｃ−ブチルジ−ｓｅｃ−ブトキシ、チタニウムジ−ｓｅｃ−ブチルジ−ｔｅｒｔ−ブトキシ、チタニウムジ−ｓｅｃ−ブチルジフェノキシ、チタニウムジ−ｔｅｒｔ−ブチルジメトキシ、チタニウムジ−ｔｅｒｔ−ブチルジエトキシ、チタニウムジ−ｔｅｒｔ−ブチルジ−ｎ−プロポキシ、チタニウムジ−ｔｅｒｔ−ブチルジ−ｉｓｏ−プロポキシ、チタニウムジ−ｔｅｒｔ−ブチルジ−ｎ−ブトキシ、チタニウムジ−ｔｅｒｔ−ブチルジ−ｓｅｃ−ブトキシ、チタニウムジ−ｔｅｒｔ−ブチルジ−ｔｅｒｔ−ブトキシ、チタニウムジ−ｔｅｒｔ−ブチルジフェノキシ、チタニウムジフェニルジメトキシ、チタニウムジフェニルジエトキシ、チタニウムジフェニルジ−ｎ−プロポキシ、チタニウムジフェニルジ−ｉｓｏ−プロポキシ、チタニウムジフェニルジ−ｎ−ブトキシ、チタニウムジフェニルジ−ｓｅｃ−ブトキシ、チタニウムジフェニルジ−ｔｅｒｔ−ブトキシ、チタニウムジフェニルジフェノキシ、チタニウムビス（３，３，３−トリフルオロプロピル）ジメトキシ、チタニウムメチル（３，３，３−トリフルオロプロピル）ジメトキシなどのジオルガノジアルコキシなどが挙げられ、中でも、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基を含むものが好ましく、特に好ましくはイソプロポキシ基である。
【００２２】
（多価アルコール）
前記（Ａ）含金属高屈折中間体において、使用される多価アルコールは、下記一般式（１）で表される多価アルコールが好ましい。
【００２３】
【化４】
ここで、一般式（１）中、Ｒは炭素数２〜２０の炭化水素基、ｎは２〜１０の整数である。
【００２４】
一般式（１）中、Ｒは炭素数２〜２０の炭化水素基を表すが、該炭化水素基は、直鎖状、分岐状、及び環状のいずれでもよく、また、不飽和結合を有していてもよい。該炭化水素基の炭素数は、好ましくは２〜１０であり、より好ましくは２〜６である。また、ｎは２〜１０の整数であるが、好ましくは２〜６であり、より好ましくは２〜４である。
また、Ｒが表す炭化水素基は置換基を有していてもよく、該置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、メチレン基、アリール基、環状アルケニル基が挙げられる。
【００２５】
前記（Ａ）含金属高屈折中間体に使われる多価アルコールとしては、例えば、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、２，３−ブタンジオール、１，２−ペンタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，４−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、１，２−ヘキサンジオール、１，６−ヘキサンジオール、２，５−ヘキサンジオール、３，３−ジメチル−１，２−ブタンジオール、ヘキシレングリコール、ピナコール、１，７−ヘプタンジオール、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール、２−メチル−２−プロピル−１，３−プロパンジオール、１，２−オクタンジオール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、２，５−ジメチル−２，５−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、１，９−ノナンジオール、２−ブチル−２エチル−１，３−プロパンジオール、１，２−デカンジオール、１，１０−デカンジオール、２−ブチン−１，４−ジオール、１，２−シクロヘキサンジオール、１，３−シクロヘキサンジオール、１，４−シクロヘキセンジオール、１，２−シクロペンタンジオール、１，３−シクロペンタンジオール、１，２−ドデカンジオール、２−メチレン−１，３−プロパンジオール、１−フェニル−１，２−エタンジオール、１−フェニル−１，３−プロパンジオール、２，３−ピナンジオール、１，１４−テトラデカンジオール、グリセリン、１，２，４−ブタントリオール、１，２，３−ヘキサントリオール、１，２，６−ヘキサントリオール、１，２，３−ヘプタントリオール、エリスリトール、ペンタエリスリトール、アラビトール、キシリトール、ソルビトール、マンニトール、イノシトールなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００２６】
また、前記（Ａ）含金属高屈折中間体において、使用される多価アルコールは、下記一般式（２）で表される多価アルコールが好ましい。
【化５】
ここで、一般式（２）中、Ｒは炭素数２〜２０のアルキレン基である。
【００２７】
一般式（２）中、Ｒは炭素数２〜２０のアルキレン基を表すが、該アルキレン基は、直鎖状、分岐状、及び環状のいずれでもよく、また、不飽和結合を有していてもよい。該アルキレン基の炭素数は、好ましくは２〜１０であり、より好ましくは２〜６である。また、ｎは２〜１０の整数であるが、好ましくは２〜６であり、より好ましくは２〜４である。
また、Ｒが表す炭化水素基は置換基を有していてもよく、該置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、メチレン基、アリール基、環状アルケニル基が挙げられる。
【００２８】
前記（Ａ）含金属高屈折中間体に使われる多価アルコールとしては、例えば、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、２，３−ブタンジオール、１，２−ペンタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，４−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、１，２−ヘキサンジオール、１，６−ヘキサンジオール、２，５−ヘキサンジオール、３，３−ジメチルー１，２−ブタンジオール、ヘキシレングリコール、ピナコール、１，７−ヘプタンジオール、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール、２−メチルー２−プロピルー１，３−プロパンジオール、１，２−オクタンジオール、２−エチルー１，３−ヘキサンジオール、２，５−ジメチルー２，５−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、１，９−ノナンジオール、２−ブチル−２エチル−１，３−プロパンジオール、１，２−デカンジオール、１，１０−デカンジオール、２−ブチンー１，４−ジオール、１，２−シクロヘキサンジオール、１，３−シクロヘキサンジオール、１，２−シクロペンタンジオール、１，３−シクロペンタンジオール、ヒドロベンゾイン、１，２−ドデカンジオール、２−メチレンー１，３−プロパンジオール、１−フェニルー１，２−エタンジオール、１−フェニル−１，３−プロパンジオール、２，３−ピナンジオール、１，１４−テトラデカンジオールなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００２９】
前記（Ａ）含金属高屈折中間体に使われる多価アルコールとしては、１，４−ブタンジオールが好ましいが、これに限定されるものではない。
【００３０】
（アミノアルコール）
前記（Ａ）含金属高屈折中間体において、使用されるアミノアルコールは、一般式（３）で表されるアミノアルコールが好ましい。
【化６】
ここで、一般式（３）中、Ｎは窒素原子、Ｒ１はＨ又は炭素数１〜２０のアルキル基、Ｒ２は炭素数１〜２０のアルキレン基、ｎは１〜３の整数である。Ｒ１又はＲ２が複数となる場合、当該複数の基はそれぞれ同じでも異なっていてもよい。
なお、一般式（３）において、「Ｎ」と「Ｒ１」及び「Ｒ２ＯＨ」との間の直線は単結合を意味しているのではなく、３本あるＮ原子の結合手のそれぞれに「Ｒ１」及び「Ｒ２ＯＨ」が、ｎの数に応じて分配されることを示すために便宜上描いた直線を意味する。従って、一般式（３）において、Ｎは常に３本の結合手を有し、０〜２個の「Ｒ１」、及び１〜３個の「Ｒ２ＯＨ」のうちの合計３個が３本の結合手を介してＮに結合する。
【００３１】
一般式（３）中、前記Ｒ１はＨまたは炭素数１〜２０のアルキル基を表すが、該アルキル基としては、直鎖状、分岐鎖状または環状でもよい。該アルキル基の炭素数は１〜６が好ましく、１〜３がより好ましい。
このようなアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、イソブチル基、ターシャリーブチル基、ノルマルヘキシル基、ノルマルオクチル基、ノルマルノニル基、イソノニル基、ターシャリーノニル基、シクロヘキシル基等が挙げられ、中でも、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基が好ましい。
【００３２】
前記Ｒ２は炭素数１〜２０のアルキレン基を表すが、該アルキレン基としては、直鎖状、分岐鎖状でもよい。該アルキレン基の炭素数は１〜６が好ましく、１〜３がより好ましい。
このようなアルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基等が挙げられ、中でも、メチレン基、エチレン基、プロピレン基が好ましい。
【００３３】
以上の一般式（３）で表されるアミノアルコールとしては、例えば、２−エチルアミノエタノール、ジイソプロパノールアミン、ジエタノールアミン、２−ジメチルアミノエタノール、トリエタノールアミン、１，１’，１”−ニトリロトリ−２−プロパノール、Ｎ−ｎ−ブチル−２，２’−イミノエタノール、１−アミノ−２−プロパノール、３−アミノ−１−プロパノール、２−（メチルアミノ）エタノール、２−アミノエタノールなどが挙げられ、中でも、２−エチルアミノエタノール、ジイソプロパノールアミン、ジエタノールアミン、２−ジメチルアミノエタノール、トリエタノールアミン、２−アミノエタノールが好ましい。
【００３４】
他方、前記一般式（３）で表されるアミノアルコール以外のアミノアルコールの例としては、Ｎ−アセチルエタノールアミン、アセチルアミノメチルアルコールなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００３５】
本発明の第１の態様においては、（Ａ）含金属高屈折率中間体は、以上のチタンアルコキシド、多価アルコール、水、アミノアルコール、及び後述する（Ｄ）溶媒を混合して、加熱し、加水分解することにより合成される。加水分解によりアルコールが生成するが、当該アルコールは加熱により揮発し留去することができる。
加熱温度としては、副生成物のアルコールの沸点付近が好ましく、４０〜１５０℃とすることが好ましく、例えば、副生成物がイソプロピルアルコールの場合には６０〜１００℃とすることがより好ましい。また、加熱時間としては、チタンアルコキシド量から計算されるアルコールの留去量から決定することが好ましい。
【００３６】
一方、本発明の第２の態様においては、（Ａ）含金属高屈折率中間体は、以上のチタンアルコキシド、多価アルコール及び後述する（Ｄ）溶媒を混合し加熱により、アルコキシド基と多価アルコールの置換により生じる副生成物の１価アルコールを留去して得たものに対して、さらに水とアミノアルコールとを混合して加熱し、加水分解による副生成物の１価アルコールを留去して得られる。第２の態様では、（１）チタンアルコールと多価アルコールとから生成する１価アルコールを留去した後（以下、「（１）の段階」と称する。）、（２）さらにアミノアルコールを加え、加水分解により生成する１価アルコールを留去するが（以下、「（２）の段階」と称する。）、このように、アルコールの留去を（１）と（２）の２段階に分けて行うことにより、反応系が単純化されチタンアルコキシドにおけるアルコシキド基と多価アルコールの置換が確実になされることで、目的とする（Ａ）含金属高屈折率中間体が合成されやすくなり好ましい。
【００３７】
第２の態様における加熱温度は、前記（１）の段階及び（２）の段階のいずれにおいても、副生成物のアルコールを留去するという観点から、生成するアルコールの沸点付近が好ましい。従って、前記（１）の段階と（２）の段階とで生成するアルコールが同じであれば、各段階で同じ加熱温度とし、生成するアルコールが異なるのであれば、それぞれのアルコールの沸点付近となるように各段階において加熱温度を異ならせることが好ましい。加熱温度は具体的には、４０〜１５０℃とすることが好ましく、例えば、副生成物がイソプロピルアルコールの場合には６０〜１００℃とすることがより好ましい。
また、各段階のいずれの加熱においても、加熱時間としては、チタンアルコキシド量から計算されるアルコールの留去量から決定することが好ましい。
【００３８】
また、前記（１）の段階と（２）の段階の間において、加熱を続けた状態でもよいし、一度加熱を止めて冷却してから再度加熱してもよい。
【００３９】
［（Ｂ）ポリマ若しくはオリゴマ］
前記（Ｂ）ポリマ若しくはオリゴマとしては、特に限定されないが、光透過率や屈折率が高く、可塑性があり、耐候性の良いものが好ましく、例えば、エポキシ樹脂、ポリアミド、ポリウレタン、ポリ尿素、ポリイミン、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリビニル、ポリアクリル、ポリエーテル、ポリスルフィド、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリケトンなどが挙げられる。前記（Ｂ）ポリマ若しくはオリゴマの成分を配合させる場合、その配合量は、（Ａ）含金属高屈折中間体成分１００重量部に対して、１〜１００重量部であることが好ましい。
【００４０】
［（Ｃ）反応性モノマ］
前記（Ｃ）反応性モノマは、熱や光により重合、硬化する樹脂組成物において、成分となる。（Ｃ）反応性モノマ成分の重合形態には、例えば、イオン重合やラジカル重合がよく知られているが、本発明は、それら重合形態を限定するものではない。（Ｃ）成分としては、具体的には、エポキシ誘導体、イソシアネート、（メタ）アクリレート、ジカルボン酸、ジオール、ジアミン、スチレン、イソプレン、ブタジエン、アクリロニトリル、プロピレン、エチレンが挙げられ、中でも、エポキシ誘導体、イソシアネート、（メタ）アクリレート、ジカルボン酸、ジオール、ジアミン、スチレンが好ましい。
上記（Ｃ）成分を配合させる場合、その配合量は、（Ａ）含金属高屈折中間体成分１００重量部に対して、１〜１００重量部であることが好ましい。
【００４１】
［（Ｄ）溶媒］
本発明の樹脂組成物の製造過程においては（Ｄ）溶媒を使用する。前記（Ｄ）溶媒としては、炭化水素系溶剤、エーテル・ケトン類溶剤、エステル系溶剤、ハロゲン化炭化水素類、鉱物油や合成油、動植物油、アルコール系溶剤などが挙げられ、これらは１種類もしくは２種類以上を組み合わせて使用することができる。中でも、炭化水素溶剤、エーテル・ケトン類溶剤、エステル系溶剤、ハロゲン化炭化水素類、アルコール系溶剤が好適に使用することができる。
さらに、窒素原子がチタンアルコキシドを安定化させるという観点から、窒素原子を有する溶媒を含有することがより好ましい。窒素原子を有する溶媒としては、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドが挙げられ、Ｎ−メチルピロリドンが好適に使用することができる。
前記（Ｄ）溶媒成分の配合量は、（Ａ）含金属高屈折中間体成分１００重量部に対して、１〜１０００重量部であることが好ましい。前記（Ｄ）溶媒成分は、特に塗膜形成のための希釈剤として使用され、例えば、刷毛塗り、スピン塗布法、スプレー法、スリットコーター、グラビア印刷、スクリーン印刷などの方法により塗布された後、ホットプレート、電気炉などで揮発され、均一な塗布膜を得るのに有効な成分である。
【００４２】
［（Ｅ）添加剤］
また、本発明の樹脂組成物は、（Ｅ）添加剤を含有させることができる。前記（Ｅ）添加剤としては、必要な場合には、光ラジカル重合開始剤や熱ラジカル重合開始剤などの重合開始剤を用い、さらに必要に応じて、紫外線吸収剤、光安定化剤、酸化防止剤などの安定化剤、カップリング剤、難燃剤などを用いることができる。
【００４３】
これらラジカル重合開始剤の配合量は、（Ｂ）ポリマ若しくはオリゴマ成分と（Ｃ）反応性モノマ成分の総量１００重量部に対して０．０１〜１０重量部の範囲であることが好ましく、０．１〜５重量部の範囲であることがより好ましい。前記紫外線吸収剤や光安定化剤は、通常、（Ｂ）ポリマ若しくはオリゴマ成分と（Ｃ）反応性モノマ成分の総量１００重量部に対し０．０５〜２０重量部の範囲で添加されうる。前記酸化防止剤は、充填材との相性や目的とする成形作業性及び樹脂保存安定性などの条件により種類、量を変えて添加する。通常、（Ｂ）ポリマ若しくはオリゴマ成分と（Ｃ）反応性モノマ成分の総量に対し１０〜１０，０００ｐｐｍである。カップリング剤は、通常、（Ｂ）ポリマ若しくはオリゴマ成分と（Ｃ）反応性モノマ成分の総量１００重量部に対し、０．００１〜５重量部添加する。
【００４４】
前記難燃剤の添加量は（Ｂ）ポリマ若しくはオリゴマ成分と（Ｃ）反応性モノマ成分の総量１００重量部に対し１０〜３００重量部の範囲で用いることが好ましい。本発明の樹脂組成物は、前記した（Ａ）含金属高屈折中間体成分と、（Ｂ）ポリマ若しくはオリゴマ成分及び／又は（Ｃ）反応性モノマ成分とを成分とし、その他必要に応じて添加される成分を、通常の樹脂組成物と同様に攪拌、混合することにより得ることができる。
【００４５】
＜膜状光学部材＞
本発明の膜状光学部材は、例えば、本発明の樹脂組成物を基材上に塗布、乾燥し、必要に応じて硬化させることにより得ることができる。樹脂組成物を基材上に塗布する方法としては、特に限定されないが、例えば、刷毛塗り、スピン塗布法、スプレー法、スリットコーター、グラビア印刷、スクリーン印刷などを挙げることができる。また、前記基材としては、ガラス板、プラスチック板、プラスチックフィルム、太陽電池セルなどを挙げることができる。
【００４６】
また、樹脂組成物の塗布後に行う乾燥は、膜中の溶剤が十分に揮発すればよく、その方法や条件は特に限定されないが、例えば、ホットプレート、電気炉などを用い、好ましくは５０〜１５０℃、より好ましくは６０〜１２０℃の範囲で行うことができる。乾燥温度５０℃未満では、（Ｄ）成分などの乾燥が不十分になる恐れがあり、１５０℃を超えると（Ｃ）成分などが揮発してしまう恐れがあり、良好な硬化膜をえることが困難になる傾向がある。
【００４７】
また、乾燥後の硬化は、熱硬化性配合の場合には、その成分や配合量により硬化温度と時間を適宜決定すればよいが、好ましくは１００〜２００℃の温度で２〜６０分間、より好ましくは１３０〜２００℃の温度で２〜３０分間加熱して行うことができる。この加熱が１００℃未満であると、十分な硬化が行えない恐れがある。また、樹脂組成物が光硬化性配合の場合にも特に制限されないが、高圧水銀灯などを用い、１００〜２０００ｍＪ／ｃｍ２で露光し、硬化させることが好ましい。
【００４８】
本発明に係る膜状光学部材の膜厚は、この実施形態の樹脂組成物の粘度を調整したり、膜形成手段やその条件を適宜選択したりすることにより、容易に所望厚さに形成することが可能である。例えば、前記（Ｄ）溶媒成分である溶剤の配合量を少なくすると、樹脂組成物の粘度が上昇し、比較的厚膜の光学部材を形成しやすくなり、前記（Ｄ）溶媒成分の配合量を多くすると、樹脂組成物の粘度が低下し、比較的薄膜の光学部材を形成しやすくなる。また、樹脂組成物の塗布手段として、スピン塗布法を適用する場合には、その回転数を下げたり、塗布回数を増やしたりすることで、比較的厚膜の光学部材を形成することができ、その回転数を上げたり、塗布回数を減らしたりすることで、比較的薄膜の光学部材を形成することが可能である。具体的に好ましい厚さは、用途にもよるが１〜１０００μｍの範囲である。
【実施例】
【００４９】
以下に実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００５０】
［実施例１］
（Ａ１液（（Ａ）含金属高屈折中間体）の調製）
４つ口のセパラブルフラスコの１つに攪拌羽、１つに窒素供給、１つに揮発成分を留去できるように連結管、リービッヒ冷却器を接続した。１，４−ブタンジオール１５．７７ｇ、Ｎ−メチルピロリドン１７．１７ｇを、１００ｍＬセパラブルフラスコに入れ、窒素流下、攪拌した。数分後、攪拌が十分に行われたのを確認し、チタニウムテトライソプロポキシド３５．５３ｇをなるべく空気に触れないように注意しながら加えた。チタニウムテトライソプロポキシドを加えると、フラスコの温度は上昇するが、これを室温（２５℃）程度にまで冷ました後、８０℃オイルバスを用いて、揮発成分の留去を行った。なおこの際の留去物は、イソプロポキシ基と１，４−ブタンジオールの置換により生じる副生成物のイソプロピルアルコールである。
別なサンプル管を用い、水１．８０２ｇ、ジエタノールアミン１０．５１ｇをよく混ぜてこれを前記フラスコ内に添加した。数分後、攪拌が十分に行われたのを確認し、揮発成分の留去を６時間行った。この際の留去物は、チタニウムテトライソプロポキシドの加水分解反応による副生成物のイソプロピルアルコールである。このようにして合成された液体をＡ１液（（Ａ）含金属高屈折中間体）という。
【００５１】
（樹脂組成物の調製〜薄膜の作製）
Ａ１液９５重量部に対し、Ｂ１液（（Ｂ）ポリマもしくはオリゴマ）としてエポキシ樹脂（阪本薬品工業社製、ＳＲ−１６ＨＬ）５重量部を加え十分に攪拌した樹脂組成液（樹脂組成物）を、半導体用シリコンウエハとスライドガラスにスピンコートし、１５０℃のホットプレートで１０分間加熱することで溶剤を除去し、透明な薄膜を得た。この薄膜の波長６３２．８ｎｍの光に対する屈折率は１．６７であり、透明で均質な薄膜が得られた。なお、形成した薄膜の膜厚は、１μｍであった。また、屈折率の測定及び透明性の評価は以下のようにして行った。
〈屈折率の測定〉
Ａ１液と溶媒が重量比２対１となるように混合した。この混合溶液を２５ｍｍ角のシリコンウエハに滴下し、５０００ｒｐｍで３０秒スピンコートを行った。その後、１５０℃のホットプレートで１０分加熱することで溶剤を乾燥し、薄膜（膜厚約１μｍ）を得た。自動エリプソメータ（ＭＡＲＹ−１０２，ファイブラボ社製）を用いて、薄膜の波長６３２．８ｎｍにおける屈折率を測定した。
〈透明性〉
透明性の評価は目視により行った。
【００５２】
［比較例１］
水０．５４ｇ、Ｎ−メチルピロリドン３３．４４ｇを、１００ｍＬセパラブルフラスコに入れ、窒素流下、攪拌した。数分後、攪拌が十分に行われたのを確認し、チタニウムテトライソプロポキシド２１．３２ｇを加えた。チタニウムテトライソプロポキシドを加えると、液は瞬時に白濁した塊となり、光学的な評価は不可能であった。
【００５３】
［比較例２］
Ｎ−メチルピロリドン１４９４ｇ、ポリエステルポリオール（クラレ社製クラレポリオールＰ１０１０）４９６５ｇをセパラブルフラスコに入れ、十分に攪拌した。これにポリイソシアネート（住化バイエルウレタン社製ディスモジュール−Ｗ）１００９ｇを約２時間かけて滴下し、Ｂ２液（ウレタン樹脂）を得た。
Ｂ２液１００重量部に、チタニウムテトライソプロポキシド１００重量部を加え攪拌し、透明の液体を得たが、スピンコート、ホットプレートによる溶剤乾燥により、膜は白濁して、光学的な評価は不可能であった。
【００５４】
［比較例３］
チタニウムテトライソプロポキシド２００重量部、ジエタノールアミン８０重量部、水４重量部、Ｂ３液としてエポキシ樹脂（大日本インキ化学工業社製ＥＸＡ−４８５０−１００）１００重量部、トルエン１４０重量部をセパラブルフラスコに入れ、攪拌した。透明の液体を得ることができ、スピンコート、ホットプレートによる溶剤乾燥により、透明な膜を得たが、膜厚均一性が悪く、正当な評価ができなかった。
【００５５】
［比較例４］
４つ口のセパラブルフラスコの１つに攪拌羽、１つに窒素供給、１つに揮発成分を留去できるように連結管、リービッヒ冷却器を接続しておいた。トリエチルアミン１１．９２ｇ、水０．５４ｇ、Ｎ−メチルピロリドン１９．８８ｇを、１００ｍＬセパラブルフラスコに入れ、窒素流下、攪拌した。数分後、攪拌が十分に行われたのを確認し、チタニウムテトライソプロポキシド２１．３２ｇをなるべく空気に触れないように注意しながら、加えた。チタニウムテトライソプロポキシドを加えると、フラスコの温度は上昇するが、室温（２５℃）程度にまで冷えた後、８０℃オイルバスを用いて、揮発成分の留去を行った。この際の留去物は、チタニウムテトライソプロポキシドの加水分解反応による副生成物のイソプロピルアルコールである。別なサンプル管を用い、水０．２７ｇ、トリエチルアミン２．１９３ｇをよく混ぜておき、前記留去を６時間行った後に、フラスコを室温（２５℃）まで冷却し、この混合物を添加した。この液体をＡ２液という。
このＡ２液１００重量部に対し、Ｂ３液としてエポキシ樹脂（大日本インキ化学工業社製ＥＸＡ−４８５０−１０００）１０重量部を加え十分に攪拌した樹脂組成液を、半導体用シリコンウエハとスライドガラスにスピンコートし、８０℃のホットプレートで５分間加熱、溶剤を除去し、さらに１５０℃のホットプレートで１５分間加熱硬化し、薄膜を得ようとしたが、薄膜は粉々に砕け散って製膜ができなかった。
【００５６】
［比較例５］
Ａ１液９５重量部に対し、Ｂ４液としてエポキシ樹脂（東都化成社製ＺＸ−１５４２）５重量部を加え十分に攪拌した樹脂組成液を、半導体用シリコンウエハとスライドガラスにスピンコートし、１５０℃のホットプレートで３０分間加熱、溶剤を除去し、薄膜を得た。この薄膜の波長６３２．８ｎｍの光に対する屈折率は１．６５であり、透明で均質な薄膜が得られた。
【００５７】
以上の実施例及び比較例の評価結果を表１に示す。
【００５８】
【表１】
【００５９】
本発明により、従来よりも透明、高屈折率でかつ所望する膜厚の光学部材を形成することが可能な樹脂組成物、及びこれを用いた光学部材を提供することができた。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）含金属高屈折中間体と、（Ｂ）ポリマ若しくはオリゴマ及び／又は（Ｃ）反応性モノマとを含有する樹脂組成物であって、
前記（Ａ）含金属高屈折中間体の成分が、チタンアルコキシド、多価アルコール、水、アミノアルコール、及び（Ｄ）溶媒を用いて合成されることを特徴とする樹脂組成物。
【請求項２】
（Ａ）含金属高屈折中間体と、（Ｂ）ポリマ若しくはオリゴマ及び／又は（Ｃ）反応性モノマとを含有する樹脂組成物であって、
前記（Ａ）含金属高屈折中間体の成分が、チタンアルコキシド、多価アルコール及び（Ｄ）溶媒を混合し加熱により、アルコキシド基と多価アルコールの置換により生じる副生成物の１価アルコールを留去して得たものに対して、さらに水とアミノアルコールとを混合して加熱し、加水分解による副生成物の１価アルコールを留去して合成されることを特徴とする樹脂組成物。
【請求項３】
前記（Ａ）含金属高屈折中間体の合成において使用される多価アルコールが、下記一般式（１）で表されることを特徴とする請求項１または２に記載の樹脂組成物。
【化１】
（一般式（１）中、Ｒは炭素数２〜２０の炭化水素基を表し、ｎは２〜１０の整数を表す。）
【請求項４】
前記（Ａ）含金属高屈折中間体の合成において使用される多価アルコールが、下記一般式（２）で表されることを特徴とする請求項１または２に記載の樹脂組成物。
【化２】
（一般式（２）中、Ｒは炭素数２〜２０のアルキレン基を表す。）
【請求項５】
前記（Ａ）含金属高屈折中間体の合成において使用される多価アルコールが、１，４−ブタンジオールであることを特徴とする請求項１または２に記載の樹脂組成物。
【請求項６】
前記（Ａ）含金属高屈折中間体の合成において使用されるアミノアルコールが、下記一般式（３）で表されることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
【化３】
（一般式（３）中、Ｎは窒素原子を表し、Ｒ１はＨ又は炭素数１〜２０のアルキル基を表し、Ｒ２は炭素数１〜２０のアルキレン基を表し、ｎは１〜３の整数を表す。Ｒ１又はＲ２が複数となる場合、当該複数の基はそれぞれ同じでも異なっていてもよい。）
【請求項７】
前記（Ａ）含金属高屈折中間体の合成において使用されるアミノアルコールが、ジエタノールアミンであることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
【請求項８】
請求項１から７のいずれか１項に記載の樹脂組成物を用いて形成されてなる膜状光学部材。
【請求項９】
膜厚が１〜１０００μｍの範囲であることを特徴とする請求項８に記載の膜状光学部材。
【請求項１】
（Ａ）含金属高屈折中間体と、（Ｂ）ポリマ若しくはオリゴマ及び／又は（Ｃ）反応性モノマとを含有する樹脂組成物であって、
前記（Ａ）含金属高屈折中間体の成分が、チタンアルコキシド、多価アルコール、水、アミノアルコール、及び（Ｄ）溶媒を用いて合成されることを特徴とする樹脂組成物。
【請求項２】
（Ａ）含金属高屈折中間体と、（Ｂ）ポリマ若しくはオリゴマ及び／又は（Ｃ）反応性モノマとを含有する樹脂組成物であって、
前記（Ａ）含金属高屈折中間体の成分が、チタンアルコキシド、多価アルコール及び（Ｄ）溶媒を混合し加熱により、アルコキシド基と多価アルコールの置換により生じる副生成物の１価アルコールを留去して得たものに対して、さらに水とアミノアルコールとを混合して加熱し、加水分解による副生成物の１価アルコールを留去して合成されることを特徴とする樹脂組成物。
【請求項３】
前記（Ａ）含金属高屈折中間体の合成において使用される多価アルコールが、下記一般式（１）で表されることを特徴とする請求項１または２に記載の樹脂組成物。
【化１】
（一般式（１）中、Ｒは炭素数２〜２０の炭化水素基を表し、ｎは２〜１０の整数を表す。）
【請求項４】
前記（Ａ）含金属高屈折中間体の合成において使用される多価アルコールが、下記一般式（２）で表されることを特徴とする請求項１または２に記載の樹脂組成物。
【化２】
（一般式（２）中、Ｒは炭素数２〜２０のアルキレン基を表す。）
【請求項５】
前記（Ａ）含金属高屈折中間体の合成において使用される多価アルコールが、１，４−ブタンジオールであることを特徴とする請求項１または２に記載の樹脂組成物。
【請求項６】
前記（Ａ）含金属高屈折中間体の合成において使用されるアミノアルコールが、下記一般式（３）で表されることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
【化３】
（一般式（３）中、Ｎは窒素原子を表し、Ｒ１はＨ又は炭素数１〜２０のアルキル基を表し、Ｒ２は炭素数１〜２０のアルキレン基を表し、ｎは１〜３の整数を表す。Ｒ１又はＲ２が複数となる場合、当該複数の基はそれぞれ同じでも異なっていてもよい。）
【請求項７】
前記（Ａ）含金属高屈折中間体の合成において使用されるアミノアルコールが、ジエタノールアミンであることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
【請求項８】
請求項１から７のいずれか１項に記載の樹脂組成物を用いて形成されてなる膜状光学部材。
【請求項９】
膜厚が１〜１０００μｍの範囲であることを特徴とする請求項８に記載の膜状光学部材。
【公開番号】特開２００９−１３２８６０（Ｐ２００９−１３２８６０Ａ）
【公開日】平成２１年６月１８日（２００９．６．１８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−１０２４０４（Ｐ２００８−１０２４０４）
【出願日】平成２０年４月１０日（２００８．４．１０）
【出願人】（０００００４４５５）日立化成工業株式会社 (4,649)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年６月１８日（２００９．６．１８）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年４月１０日（２００８．４．１０）
【出願人】（０００００４４５５）日立化成工業株式会社 (4,649)
【Ｆターム（参考）】
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