【課題】導電性または半導体性を示す、新規な環状シロキサン重合体を含む半導体装置を提供する。
【解決手段】この半導体装置は、中心金属に遷移金属を有する構造単位（Ａ）と、隣り合う構造単位（Ａ）の間に位置し、環状シロキサン骨格を含む構造単位（Ｂ）と、を含むプラズマ重合体からなる電荷輸送層を備えている。なお、中心金属に遷移金属を有する有機金属化合物と、環状シロキサン化合物と、を反応炉でプラズマ重合させることにより、当該電荷輸送層を形成する。 （もっと読む）

【課題】ネガ現像において得られるレジストパターンに適用できるだけでなく、ポジ現像で得られるレジストパターンにも適用できるレジスト下層膜形成用組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）一般式（１）で表される加水分解性ケイ素化合物と一般式（２）で表される加水分解性化合物とを含有する混合物を加水分解縮合することにより得られるケイ素含有化合物、及びＲ^１_ｍ１Ｒ^２_ｍ２Ｒ^３_ｍ３Ｓｉ（ＯＲ）_{（４−ｍ１−ｍ２−ｍ３）}（１）Ｕ（ＯＲ^４）_ｍ４（ＯＲ^５）_ｍ５（２）（Ｂ）一般式（３）で表される加水分解性ケイ素化合物と一般式（４）で表される加水分解性ケイ素化合物とを含有する混合物を加水分解縮合することにより得られるケイ素含有化合物、Ｒ^６_ｍ６Ｒ^７_ｍ７Ｒ^８_ｍ８Ｓｉ（ＯＲ^９）_{（４−ｍ６−ｍ７−ｍ８）}（３）Ｓｉ（ＯＲ^１０）_４（４）を含むケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物。 （もっと読む）

【課題】高屈折率硬化性かつ光学的に透明な発光ダイオード封止材配合物を提供。
【解決手段】発光ダイオード封止材として使用するための硬化性液体ポリシロキサン／ＴｉＯ_２複合体であって；５ｎｍ未満の平均ドメインサイズを有するＴｉＯ_２ドメインを有するポリシロキサンプレポリマーを当該複合体が含み；前記硬化性液体ポリシロキサン／ＴｉＯ_２複合体が全固形分基準で２０〜６０モル％のＴｉＯ_２を含み；前記硬化性液体ポリシロキサン／ＴｉＯ_２複合体が１．６１より大きく１．７以下の屈折率を示し；並びに、前記硬化性液体ポリシロキサン／ＴｉＯ_２複合体が室温および大気圧で液体である；硬化性液体ポリシロキサン／ＴｉＯ_２複合体。 （もっと読む）

【課題】高い屈折率、良好な熱安定性、透明性を有し、並びにその未硬化状態で（一時的な溶媒（ｆｕｇｉｔｉｖｅ ｓｏｌｖｅｎｔ）の添加の必要なしに）液体であって、半導体発光ダイオードダイの大量生産を容易にする液体硬化性材料を用いて半導体発光ダイオードダイを製造する方法。
【解決手段】１．６１より大きく１．７以下の屈折率を示し、かつ室温および大気圧で液体である硬化性液体ポリシロキサン／ＴｉＯ_２複合体により、面を有する半導体発光ダイオードダイで、半導体発光ダイオードダイは面から光を放射するものであり、半導体発光ダイオードダイを硬化性液体ポリシロキサン／ＴｉＯ_２複合体と接触させ、並びに、硬化性液体ポリシロキサン／ＴｉＯ_２複合体を硬化させて、光学エレメントを形成し、光学エレメントの少なくとも一部分が面の近傍にあること。 （もっと読む）

【課題】、速いプロセススピードにおいても安定して感光体を帯電させられる、高い帯電能力を長期に亘って維持することのできる帯電部材の提供。
【解決手段】導電性支持体１０１、導電性弾性層１０２および表面層１０３を有する電子写真装置用帯電部材であって、該表面層は、Ｓｉ−Ｏ−Ｔｉ結合を分子構造中に有する高分子化合物を含み、該高分子化合物は、特定の構造で示される構成単位を有する。 （もっと読む）

【課題】有機溶剤現像によるネガ型レジストパターンの形成方法として最適なパターン形成方法、及び該プロセスで使用されるケイ素含有膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（Ａ−１）、下記一般式（Ａ−２−１）、及び下記一般式（Ａ−２−２）で表される反応性化合物及び／又はこれらの加水分解物、縮合物、加水分解縮合物の各々からなる群から選ばれる各々の１種以上の化合物、からなる混合物を加水分解縮合することにより得られるケイ素含有化合物、（Ｒ^２）_ｍ２（ＯＲ^３）_{（３−ｍ２）}Ｓｉ−Ｒ^１−Ｓｉ（Ｒ^４）_ｍ４（ＯＲ^５）_{（３−ｍ４）}（Ａ−１）Ｒ^１１_ｍ１１Ｒ^１２_ｍ１２Ｒ^１３_ｍ１３Ｓｉ（ＯＲ^１４）_{（４−ｍ１１−ｍ１２−ｍ１３）}（Ａ−２−１）Ｕ（ＯＲ^２１）_ｍ２１（ＯＲ^２２）_ｍ２２（Ｏ）_{ｍ２３／２}（Ａ−２−２）（Ｂ）有機溶剤を含む組成物によるケイ素含有膜上に、有機溶剤現像のフォトレジストでネガ型パターンを得る。 （もっと読む）

【課題】表面が粗面化されてなり、表面への汚れの付着を抑制し得る帯電部材の提供。
【解決手段】支持体、弾性層および表面層を有する帯電部材であって、該表面層は、Ｓｉ−Ｏ−Ｍ結合を有し、かつ、下記一般式（１）及び下記一般式（２）で示される構成単位から選ばれる少なくとも１つ、並びに下記一般式（３）で示される構成単位を有する高分子化合物を含み、該帯電部材は、その表面から該弾性層に至る亀裂を有し、該亀裂はその縁部が凸状に盛り上がり、それによって該表面が粗面にされている帯電部材。
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【課題】ポリエステルアミド酸系熱硬化性組成物の硬化物の持つ耐熱性を維持しつつ、平坦性の良い硬化膜を形成することができる熱硬化性組成物を提供すること、ならびに低温硬化性に優れた熱硬化性組成物を提供すること。
【解決手段】ジカルボン酸無水物（ａ１）、下記一般式（１）で表されるアミノ化合物（ａ２）、アミノ化合物（ａ２）以外の加水分解可能なケイ素化合物（ａ３）及び金属アルコキシド（ａ４）を反応させて得られる反応生成物（Ａ）。
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【課題】アウトガスが出ない付加硬化性であり、硬化性樹脂組成物に含有させて硬化した場合に耐熱無黄変性に優れる液状メタロシロキサン化合物を提供する。
【解決手段】２官能のシラン化合物（Ｓ１）と、ジルコニウム化合物又はチタニウム化合物である金属化合物（Ｍ）と必要に応じてＨ₂Ｏとを反応させる第１工程と、該第１工程の反応生成物と単官能のシラン化合物（Ｓ２）と必要に応じてＨ₂Ｏとを反応させる第２工程とを経ることにより得られ、該シラン化合物（Ｓ１）：該金属化合物（Ｍ）：該シラン化合物（Ｓ２）：第１工程のＨ₂Ｏ：第２工程のＨ₂Ｏを特定のモル比で反応させて製造され、１分子中にＳｉ−Ｈ結合又はＣ_2-10アルケニル基を少なくとも１つ有することを特徴とするメタロシロキサン化合物を提供する。 （もっと読む）

【課題】高い透明性を有し、長期の耐久性に優れ４００ナノメートル以上の厚膜の形成が可能で、さらに屈折率が１．６以上である新規な透明樹脂を光学材料および電子材料の分野に提供する。
【解決手段】下記式（１）：


（Ｍはジルコニウム又はチタンである。Ｒ^１は有機基。Ｒ^２はアルコキシ基、アシルオキシ基、又はハロゲン基である。）で示される少なくとも1種の化合（Ａ）と、下記式（２）（式中、Ｒ^３は水素原子又はメチル基を側鎖に有し、ケイ素―水素結合基の活性水素基が４０〜５００グラム／当量の割合で含有する）で表されるシリコーン樹脂である（Ｂ）と、無機塩類である（Ｃ）と、水（Ｄ）とを、（Ａ）１００モルに対して（Ｂ）を活性水素のモル数に換算して１０〜２００モル、（Ｃ）を０．０１〜５モル、（Ｄ）を８０〜３００モルの割合に混合し反応させることを特徴とする樹脂組成物の製造方法。
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【課題】弾性層からの低分子量成分の表面への染み出しの抑制と、電子写真感光体の帯電性能とを高いレベルで両立した帯電部材を提供する。
【解決手段】基体、弾性層および表面層を有し、該表面層は、下記式（１）、（２）及び（３）で示される構成単位を有し、かつ、Ｓｉ−Ｏ−Ｔｉ結合、Ｔｉ−Ｏ−Ｔａ結合、及びＳｉ−Ｏ−Ｔａ結合を有している高分子化合物を含む帯電部材。
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【課題】長期の通電によっても電気抵抗値が変動しにくく、長期に亘って安定した性能を発揮し得る導電部材の提供。
【解決手段】導電性の軸芯体１０１と、その外周に設けられた導電層１０２とを有する導電部材であって、該導電層は、バインダーとしての有機高分子化合物と、該有機高分子化合物に分散されている導電性の粒子とを含み、該粒子は、下記式（１）で示される構造を有する有機無機複合高分子からなることを特徴とする導電部材。式（１）中、Ｒ¹はイオン交換基を有する有機基を示し、Ｍはケイ素、チタン、ジルコニウムまたはハフニウムを示す。
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【課題】発光効率および耐久性が改善された発光素子を提供する。
【解決手段】発光素子１０は、基板１１と、第１電極１３と、発光層１５と、第２電極１７と、粒子含有層１８を備えている。粒子含有層１８は、シロキサン系重合体、チタノキサン系重合体およびこれらの共重合体から選ばれる少なくとも一種の重合体、および、金属酸化物粒子を含有する組成物の硬化物である。粒子含有層１８は、基板１１と第１電極１３の間に形成することもできる。 （もっと読む）

【課題】塗膜やパターン上に対する配向膜溶液のはじきを低減させる硬化性樹脂組成物。
【解決手段】樹脂、チタン化合物及び溶剤を含み、樹脂が、不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも１種に由来する構造単位と、炭素数２〜４の環状エーテル及び炭素−炭素不飽和二重結合を有する単量体に由来する構造単位とを含む付加重合体であり、該炭素数２〜４の環状エーテル及び炭素−炭素不飽和二重結合を有する単量体に由来する構造単位の含有量が、樹脂を構成する構造単位全量に対して、２モル％以上９５モル％以下である硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】
高い透明性と高屈折率を有し、レンズ材料等として有用な有機−無機複合体、及びこの有機−無機複合体の製造原料として有用なシリル化誘導体を提供する。
【解決手段】
無機成分と有機成分とからなる有機−無機複合体であって、前記無機成分が、（Ａ）有機溶媒中、酸、塩基、及び／若しくは分散安定化剤の非存在下、金属アルコキシドを該金属アルコキシドに対し０．５〜１倍モル未満の水を用いて加水分解して得られ、有機溶媒中凝集せずに安定に分散している金属−酸素結合を有する分散質、（Ｂ）金属アルコキシドを該金属アルコキシドに対して１．０〜１．７倍モルの水を用いて２０〜９０℃で加水分解し、次いで低沸点物質を留去して得られる金属化合物、又は（Ｃ）有機溶媒中、酸、塩基、及び／若しくは分散安定化剤の非存在下、−２０℃以下で、金属アルコキシドに対し１．０〜２．０倍モル未満の水を用いて加水分解して得られ、有機溶媒中凝集せずに安定に分散している金属−酸素結合を有する分散質のいずれかに、シリル化剤を反応させて得られるシリル化誘導体から得られる無機高分子である有機−無機複合体、及び前記シリル化誘導体。 （もっと読む）

【課題】高屈折率を有する有機無機ハイブリッド膜を提供する。
【解決手段】下記式で表されるフルオレン化合物と、非ケイ素系金属アルコキシド（チタンアルコキシドなど）とを含む重合性組成物をゾルゲル反応させて、ハイブリッド膜。


［式中、Ｒ^１は、ハロゲン原子、シアノ基又はアルキル基、Ｒ^２はアルキル基、Ｒ^３はアルキレン基、Ｘは−Ｓｉ(ＯＲ^４)_ａ(Ｒ^５)_３−ａで表される基を示し、ｋは０〜４の整数、ｍは０〜２の整数である。］ （もっと読む）

【課題】低コストで製造工程が平易であり、しかもコア部とクラッド部の屈折率差が大きく、小型の集積回路に好適な光導波路及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】
下記の（Ａ）工程乃至（Ｅ）工程を含む光導波路の製造方法：（Ａ）工程：ベースの表面上に、互いに或る間隔の空間を形成するパターンを為すクラッド型材を配置する工程、（Ｂ）工程：配置されたクラッド型材の上側及びクラッド型材が配置されていないベース表面上に、チタン原子とケイ素原子を含む酸化物前駆物質を含有する液を用いて塗膜を形成する工程、（Ｃ）工程：前記塗膜に、所定のパターンを有するフォトマスクを通して放射線を照射し、続いて加熱処理し、これにより放射線照射された屈折率のより高いコア部を形成する工程、（Ｄ）工程：放射線未照射又は低放射線照射の領域を現像により溶解・除去する工程、及び（Ｅ）工程：クラッド型材をベース表面より除去し、オールエアクラッド光導波路の構造に作り上げる工程。 （もっと読む）

【課題】２００℃以下の低温度での金属酸化物薄膜の製造、および均質な有機−無機
複合体の製造に適した金属−酸素結合を有する分散質を提供するとともに、各種機能を有
する金属酸化物薄膜および有機−無機複合体、特に高屈折率、高透明性を有する有機−無
機複合体を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の金属−酸素結合を有する分散質は、３以上の加水分解性基を有する金属化合物を酸及び塩基の非存在下に加水分解して得られた有機溶媒中で凝集せずに安定に分散しうる部分加水分解物と、該金属化合物総モル数に対して０．５倍モル以上２倍モル未満となる量から該部分加水分解物を製造する際に用いられた量を差し引いた量の水を、酸及び塩基の非存在下に、所定温度で混合して得られてくる金属−酸素結合を有する分散質であって、平均粒径が１〜２０ｎｍの範囲であり、所定温度が０℃未満の温度であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】省エネルギー型防食用金属塗膜組成物及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の省エネルギー型防食用金属塗膜組成物は、５〜１０μｍの粒子サイズを有し、アルミニウム、マグネシウム及びその合金よりなる群から選択される少なくとも一つの金属粉末と、ジルコニウムテトラ−ｎ−ブタノラート、ジルコニウムブトキシド、イソプロピルチタネート、及びその混合物よりなる群から選択される第１ゾルゲル樹脂と、トリ−（３−（トリメトキシシリル）プロピル）イソシアヌレート、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、及びその混合物よりなる群から選ばれる第２ゾルゲル樹脂と、溶媒とを含んでなる。 （もっと読む）