【課題】ネガ現像において得られる親水性有機化合物で形成されるレジストパターンに適用出来るだけでなく従来のポジ現像で得られる疎水性化合物からなるレジストパターンにも適用出来るレジスト下層膜を提供することを目的とする。
【解決手段】少なくとも、下記一般式（１）で示される有機ホウ素化合物及びその縮合物からなる群から選ばれる化合物（Ａ）一種以上と、下記一般式（２）で示されるケイ素化合物（Ｂ）一種以上とを含む混合物の縮合物及び／又は加水分解縮合物を含有するものであることを特徴とするケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物。
Ｒ^１_ｍ０Ｂ（ＯＨ）_ｍ１（ＯＲ）_{（３−ｍ０−ｍ１）} （１）
Ｒ^１０_ｍ１０Ｒ^１１_ｍ１１Ｒ^１２_ｍ１２Ｓｉ（ＯＲ^１３）_{（４−ｍ１０−ｍ１１−ｍ１２）} （２） （もっと読む）

【課題】短波長紫外線領域の光線透過性を確保し、しかもＬＥＤ素子による発熱や紫外線自体にも耐久性を備えるとともに経済性も併せ持つＬＥＤ用封止材料を提供する。
【解決手段】ヒドロキシ末端を有するジメチルポリシロキサン（Ａ）と、アルミニウムアルコキシド（Ｂ）と、ケイ素アルコキシド（Ｃ）とを含み脱水縮合反応により生じた有機無機ハイブリッド組成物（Ｘ）よりなり、有機無機ハイブリッド組成物におけるヒドロキシ末端を有するジメチルポリシロキサンのヒドロキシ基の数とアルミニウムアルコキシドのアルコキシ基の数の比率が、１：０．１ないし１：１．５の範囲を満たし、有機無機ハイブリッド組成物におけるヒドロキシ末端を有するジメチルポリシロキサンのヒドロキシ基の数とケイ素アルコキシドのアルコキシ基の数の比率が、１：２ないし１：５０の範囲を満たし、ＬＥＤ２を実装した基板１に滴下されて該基板に被着される。 （もっと読む）

【課題】ネガ現像において得られるレジストパターンに適用できるだけでなく、ポジ現像で得られるレジストパターンにも適用できるレジスト下層膜形成用組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）一般式（１）で表される加水分解性ケイ素化合物と一般式（２）で表される加水分解性化合物とを含有する混合物を加水分解縮合することにより得られるケイ素含有化合物、及びＲ^１_ｍ１Ｒ^２_ｍ２Ｒ^３_ｍ３Ｓｉ（ＯＲ）_{（４−ｍ１−ｍ２−ｍ３）}（１）Ｕ（ＯＲ^４）_ｍ４（ＯＲ^５）_ｍ５（２）（Ｂ）一般式（３）で表される加水分解性ケイ素化合物と一般式（４）で表される加水分解性ケイ素化合物とを含有する混合物を加水分解縮合することにより得られるケイ素含有化合物、Ｒ^６_ｍ６Ｒ^７_ｍ７Ｒ^８_ｍ８Ｓｉ（ＯＲ^９）_{（４−ｍ６−ｍ７−ｍ８）}（３）Ｓｉ（ＯＲ^１０）_４（４）を含むケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物。 （もっと読む）

【課題】高い屈折率、良好な熱安定性、透明性を有し、並びにその未硬化状態で（一時的な溶媒（ｆｕｇｉｔｉｖｅ ｓｏｌｖｅｎｔ）の添加の必要なしに）液体であって、半導体発光ダイオードダイの大量生産を容易にする液体硬化性材料を用いて半導体発光ダイオードダイを製造する方法。
【解決手段】１．６１より大きく１．７以下の屈折率を示し、かつ室温および大気圧で液体である硬化性液体ポリシロキサン／ＴｉＯ_２複合体により、面を有する半導体発光ダイオードダイで、半導体発光ダイオードダイは面から光を放射するものであり、半導体発光ダイオードダイを硬化性液体ポリシロキサン／ＴｉＯ_２複合体と接触させ、並びに、硬化性液体ポリシロキサン／ＴｉＯ_２複合体を硬化させて、光学エレメントを形成し、光学エレメントの少なくとも一部分が面の近傍にあること。 （もっと読む）

【課題】分散溶媒としてテトラヒドロフランを用いることがなく、安全な溶媒を用い、この溶媒を用いることでアルコキシ化反応効率が向上し、もって製造されたＭｏ吸着剤が、Ｍｏ吸着能力が高く、しかも安定性がよく、^９９ｍＴｃ溶出能力を向上させることができるようにする。
【解決手段】原料としてのジルコニウムのハロゲン化物とアルコールに分散溶媒としてのブチルエーテルを添加し、反応させ、アルコキシ化生成物を生成する第１工程のアルコキシ化工程と、反応生成したアルコキシ化生成物に水と更にブチルエーテルを添加して、加水分解及び脱水縮合して前駆生成物を生成する第２工程の加水分解・脱水縮合工程と、生成した前駆生成物を重合濃縮し、溶媒除去、熱処理する第３工程とを用いることによって、−Ｏ−Ｚｒ−Ｃｌの骨格構造であって、塩素の含有量が１６０ｍｇ（Ｃｌ）／ｇ以上の性状を示すＭｏ吸着剤を生成する。 （もっと読む）

【課題】表面が粗面化されてなり、表面への汚れの付着を抑制し得る帯電部材の提供。
【解決手段】支持体、弾性層および表面層を有する帯電部材であって、該表面層は、Ｓｉ−Ｏ−Ｍ結合を有し、かつ、下記一般式（１）及び下記一般式（２）で示される構成単位から選ばれる少なくとも１つ、並びに下記一般式（３）で示される構成単位を有する高分子化合物を含み、該帯電部材は、その表面から該弾性層に至る亀裂を有し、該亀裂はその縁部が凸状に盛り上がり、それによって該表面が粗面にされている帯電部材。
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【課題】ポリエステルアミド酸系熱硬化性組成物の硬化物の持つ耐熱性を維持しつつ、平坦性の良い硬化膜を形成することができる熱硬化性組成物を提供すること、ならびに低温硬化性に優れた熱硬化性組成物を提供すること。
【解決手段】ジカルボン酸無水物（ａ１）、下記一般式（１）で表されるアミノ化合物（ａ２）、アミノ化合物（ａ２）以外の加水分解可能なケイ素化合物（ａ３）及び金属アルコキシド（ａ４）を反応させて得られる反応生成物（Ａ）。
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【課題】アウトガスが出ない付加硬化性であり、硬化性樹脂組成物に含有させて硬化した場合に耐熱無黄変性に優れる液状メタロシロキサン化合物を提供する。
【解決手段】２官能のシラン化合物（Ｓ１）と、ジルコニウム化合物又はチタニウム化合物である金属化合物（Ｍ）と必要に応じてＨ₂Ｏとを反応させる第１工程と、該第１工程の反応生成物と単官能のシラン化合物（Ｓ２）と必要に応じてＨ₂Ｏとを反応させる第２工程とを経ることにより得られ、該シラン化合物（Ｓ１）：該金属化合物（Ｍ）：該シラン化合物（Ｓ２）：第１工程のＨ₂Ｏ：第２工程のＨ₂Ｏを特定のモル比で反応させて製造され、１分子中にＳｉ−Ｈ結合又はＣ_2-10アルケニル基を少なくとも１つ有することを特徴とするメタロシロキサン化合物を提供する。 （もっと読む）

【課題】弾性層からの低分子量成分の表面への染み出しの抑制と、電子写真感光体の帯電性能とを高いレベルで両立した帯電部材を提供する。
【解決手段】基体、弾性層および表面層を有し、該表面層は、下記式（１）、（２）及び（３）で示される構成単位を有し、かつ、Ｓｉ−Ｏ−Ｔｉ結合、Ｔｉ−Ｏ−Ｔａ結合、及びＳｉ−Ｏ−Ｔａ結合を有している高分子化合物を含む帯電部材。
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【課題】発光効率および耐久性が改善された発光素子を提供する。
【解決手段】発光素子１０は、基板１１と、第１電極１３と、発光層１５と、第２電極１７と、粒子含有層１８を備えている。粒子含有層１８は、シロキサン系重合体、チタノキサン系重合体およびこれらの共重合体から選ばれる少なくとも一種の重合体、および、金属酸化物粒子を含有する組成物の硬化物である。粒子含有層１８は、基板１１と第１電極１３の間に形成することもできる。 （もっと読む）

【課題】高屈折率を有する有機無機ハイブリッド膜を提供する。
【解決手段】下記式で表されるフルオレン化合物と、非ケイ素系金属アルコキシド（チタンアルコキシドなど）とを含む重合性組成物をゾルゲル反応させて、ハイブリッド膜。


［式中、Ｒ^１は、ハロゲン原子、シアノ基又はアルキル基、Ｒ^２はアルキル基、Ｒ^３はアルキレン基、Ｘは−Ｓｉ(ＯＲ^４)_ａ(Ｒ^５)_３−ａで表される基を示し、ｋは０〜４の整数、ｍは０〜２の整数である。］ （もっと読む）

【課題】低コストで製造工程が平易であり、しかもコア部とクラッド部の屈折率差が大きく、小型の集積回路に好適な光導波路及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】
下記の（Ａ）工程乃至（Ｅ）工程を含む光導波路の製造方法：（Ａ）工程：ベースの表面上に、互いに或る間隔の空間を形成するパターンを為すクラッド型材を配置する工程、（Ｂ）工程：配置されたクラッド型材の上側及びクラッド型材が配置されていないベース表面上に、チタン原子とケイ素原子を含む酸化物前駆物質を含有する液を用いて塗膜を形成する工程、（Ｃ）工程：前記塗膜に、所定のパターンを有するフォトマスクを通して放射線を照射し、続いて加熱処理し、これにより放射線照射された屈折率のより高いコア部を形成する工程、（Ｄ）工程：放射線未照射又は低放射線照射の領域を現像により溶解・除去する工程、及び（Ｅ）工程：クラッド型材をベース表面より除去し、オールエアクラッド光導波路の構造に作り上げる工程。 （もっと読む）

【課題】省エネルギー型防食用金属塗膜組成物及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の省エネルギー型防食用金属塗膜組成物は、５〜１０μｍの粒子サイズを有し、アルミニウム、マグネシウム及びその合金よりなる群から選択される少なくとも一つの金属粉末と、ジルコニウムテトラ−ｎ−ブタノラート、ジルコニウムブトキシド、イソプロピルチタネート、及びその混合物よりなる群から選択される第１ゾルゲル樹脂と、トリ−（３−（トリメトキシシリル）プロピル）イソシアヌレート、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、及びその混合物よりなる群から選ばれる第２ゾルゲル樹脂と、溶媒とを含んでなる。 （もっと読む）

【課題】２００℃以下の低温度での金属酸化物薄膜の製造、および均質な有機−無機
複合体の製造に適した金属−酸素結合を有する分散質を提供するとともに、各種機能を有
する金属酸化物薄膜および有機−無機複合体、特に高屈折率、高透明性を有する有機−無
機複合体を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の金属−酸素結合を有する分散質は、３以上の加水分解性基を有する金属化合物を酸及び塩基の非存在下に加水分解して得られた有機溶媒中で凝集せずに安定に分散しうる部分加水分解物と、該金属化合物総モル数に対して０．５倍モル以上２倍モル未満となる量から該部分加水分解物を製造する際に用いられた量を差し引いた量の水を、酸及び塩基の非存在下に、所定温度で混合して得られてくる金属−酸素結合を有する分散質であって、平均粒径が１〜２０ｎｍの範囲であり、所定温度が０℃未満の温度であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】耐候性および耐熱性が良く、高温条件下においても長期にわたり光学的透明性を維持することが可能な硬化物を与える有機・無機ハイブリッド組成物の製造方法を提供すること。
【解決手段】（工程１）（Ａ）化学改質されていない周期律表第５族の金属アルコキシドと（Ｂ）前記（Ａ）成分と反応可能なケイ素原子に直接結合する水酸基を有する有機ケイ素化合物との混合物〔成分（Ａ）中のアルコキシ基に対する成分（Ｂ）中の水酸基が０．０３〜０．５０（モル比）〕を無水条件下、かつ、加熱条件下で反応させる工程、
（工程２）前記工程１で得られた反応生成物と（Ｃ）オルガノアルコキシシラン〔成分（Ｃ）中のアルコキシ基/前記成分（Ａ）中のアルコキシ基が０．５〜５．０（モル比）〕
を水〔成分（Ａ）、（Ｃ）中の全アルコキシ基に対して０．１５（モル比）以上〕で加水分解して縮合反応させる工程、
（工程３）前記工程２で得られた反応生成物を加熱して低沸物を留去または還流させながら、加水分解と縮合反応を促進させる工程を含むことを特徴とする有機・無機ハイブリッド組成物の製造方法、その製造方法により得られた組成物、および、その組成物により半導体素子を被覆してなる半導体装置である。 （もっと読む）

【課題】クラックが生じにくく、高コントラストの金属酸化物薄膜パターンを製造できる感光性組成物、感光性金属錯体、塗布液、及び金属酸化物薄膜パターンの製造方法を提供すること。
【解決手段】式(1)で表される感光性組成物。式（１）におけるＲ¹〜Ｒ⁴のうちの少なくとも１つは、式（２）〜（５）のいずれかである。式（２）〜（４）におけるＲ¹³は、式（６）又は式（７）である。式（１）におけるＲ¹〜Ｒ⁴のうち、式（２）〜（５）のいずれでもないもの、及び式（６）〜（７）におけるＲ⁵〜Ｒ⁸は、それぞれ、下記（ａ１）〜（ａ１４）のうちのいずれかである。式（５）におけるＹは、下記（ｂ１）〜（ｂ５）のうちのいずれかである。式（６）におけるＲ⁹〜Ｒ¹⁰及び式（７）におけるＲ⁹〜Ｒ¹²は、それぞれ、下記（ｃ１）〜（ｃ１５）のうちのいずれかである。 （もっと読む）

【課題】液中で凝集などが起こり難くコーティング用としての安定性の高い酸化アルミニウム前駆体ゾルを用いることにより、高い反射防止性能を示し、反射率のばらつきの少ない反射防止膜を有する光学用部材の製造方法を提供する。
【解決手段】
アルミニウム化合物の加水分解物および／またはその縮合物を成分として含有する粒子と、溶媒を含み、前記粒子の平均粒子径が２．５ｎｍ以上７ｎｍ以下である酸化アルミニウム前駆体ゾル。前記酸化アルミニウム前駆体ゾルを基材上に供給して形成した酸化アルミニウム膜を６０℃以上１００℃以下の温水中に浸漬して酸化アルミニウムベーマイトの凹凸構造を形成する工程を有する光学用部材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】反射防止組成物およびこの組成物を用いて回路を形成する方法を提供する。
【解決手段】溶媒中に拡散または溶解されたポリマーを含む。好適実施形態において、組成物のポリマーは、有機化合物と高分子アルコキシド金属とが反応することにより生成され、前記高分子アルコキシド金属は、下記式を有する連鎖ユニットを含む。


ここで、Ｍは、各々、チタン、ジルコニウム、シリコン、およびアルミニウムからなる群から選択される金属、各Ｌは、各々、ジケトおよびアルコキシド配位子とからなる群から選択され、前記有機化合物は、前記高分子アルコキシド金属のＭに配位する官能基を含む。 （もっと読む）

本発明は、ａ）少なくとも１つの無機相または有機金属相と、ｂ）有機ポリマー相とで構成されたナノ複合材料を製造するための方法に関する。前記方法は、金属または半金属Ｍを含む少なくとも１つの第１の重合性モノマー単位Ａと、共有化学結合を介して重合性単位Ａに結合された少なくとも１つの第２の重合性有機モノマー単位Ｂとを含む少なくとも１つのモノマーＭを、両重合性モノマー単位Ａおよび重合性単位Ｂが重合すると同時にＡとＢの結合が破壊される条件で重合させることを含む。重合されるモノマーＭは、第１のモノマーＭ１と、モノマーＭ１と異なる少なくとも１つの第２のモノマーＭ２とをモノマー単位ＡまたはＢの少なくとも一方に含む（実施形態１）。あるいは、重合されるモノマーは、少なくとも１つのモノマーＭに加えて、モノマー単位Ａを含まない従来のモノマーであり、モノマー単位Ｂと共重合可能な、モノマーＭと異なる少なくとも１つのモノマーＭ’を含む（実施形態２）。 （もっと読む）