活性水素水の製造方法とその製造装置
【目的】
水素結合水を自然界の作用に頼ることなく人工的に製造できるようにすると共に、その水素結合水すなわち活性水素水を大量に且つ安価に製造することができる活性水素水の製造方法とその製造装置を提供することを目的とする。
【解決手段】
水３にマグネット４から発生する磁気を照射し、次にその水３に溶解するガスや空気等の気体を真空ポンプ５等の減圧手段によって排除し、そして５気圧に昇圧したタンク２ａ内で水３に水素７ａを間欠的に接触させることによって活性水素水３ａを製造する。
水素結合水を自然界の作用に頼ることなく人工的に製造できるようにすると共に、その水素結合水すなわち活性水素水を大量に且つ安価に製造することができる活性水素水の製造方法とその製造装置を提供することを目的とする。
【解決手段】
水３にマグネット４から発生する磁気を照射し、次にその水３に溶解するガスや空気等の気体を真空ポンプ５等の減圧手段によって排除し、そして５気圧に昇圧したタンク２ａ内で水３に水素７ａを間欠的に接触させることによって活性水素水３ａを製造する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、活性水素水の製造方法とその製造装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、体内での酸化作用によって発生する活性酸素の脅威は多くの人が知るところである。そして、今日では活性酸素を体内から除去するための方法も種々開発されており、それらの方法によって排除が試みられている。
また、研究が進むにつれ、活性酸素を体内から除去してくれる活性水素を含む水が自然界に存在することも判明した。この水は、これを飲用することによって体内に発生した活性酸素とその水に含まれる活性水素とが結び付き、無害な水（Ｈ２Ｏ）となって体内から排出される。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかして、上述の水は自然界の作用によって作られるものであり、また、その水が涌き出る所もフランス／ドイツ／メキシコと極めて遠方の地であり、且つ貴重な水であるため容易に入手することができないものであった。
従って、本発明は上述した問題点に鑑みてなされたもので、活性水素水を大量に且つ安価に製造することができる活性水素水の製造方法とその製造装置を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明の要旨とするところは、水を磁界内に通過させた後、水に溶解するガスや空気等の気体を排除し、その水に水素を間欠的に接触させることを特徴とする活性水素水の製造方である。
また、少なくとも、水を磁界内に通過させるための磁気発生手段を備える磁気照射部と、その磁界内を通過された水に溶解するガスや空気等の気体を排除するための気体排除手段を備える気体排除部と、その気体が排除された水に水素を間欠的に接触させるための水素注入手段を備える水素接触部からなることを特徴とする活性水素水の製造装置である。
【０００５】
本発明の活性水素水の製造方法と活性水素水の製造装置をさらに詳しく説明すると、水は蒸留水や普通の水道水や天然水を用いればよい。また、磁界内を通過させる前にフィルターを通過させてろ過してもよい。そのフィルターの具体的な製品としては、東レ製造のトレビーノ（商標）が望ましい。
先ず、水を磁界内に通過させるのであるが、少なくとも磁気によって発生した磁界が水の中を通過するようにする。その磁気を発生させる方法や装置等も特に限定するものではないが照射する磁気は強い方がよい。
その磁界内を通過させた水に溶解するガスや空気等の気体を排除するのであるが、この排除方法も、例えば、水を収容する容器内を減圧することによって水から気体を排除してもよい。
そして、ガスや空気等の気体が排除された水と水素を間欠的に接触させるのであるが、その接触時間は、５分間隔で接触と停止が所定の回数、具体的には５回行うのがよく、また、水素接触の際の水と水素の比率が、水１０リットルに対し水素２０リットルから２５リットル程度の比率で行うのがよい。また、その水と水素を間欠的に接触させる部位は、その内部を５気圧に昇圧するのがよい。
【０００６】
また、水を磁界内に通過させる前に、水を水素化用触媒と接触させてもよい。その接触とは、原材料の水と水素化用触媒とを触れさせることであり、その接触方法や接触形態も特に限定するものではない。接触の具体的な方法としては、適当な容器に水と水素化用触媒を入れて接触させるようにしてもよい。その接触の際に攪拌してもよい。水素化用触媒としては、ニッケル触媒のスポンジメタル触媒（一般にラネー触媒と呼ばれている）を用いるのが望ましく、特にスポンジニッケルからなるものがよい。そのスポンジニッケルの具体的な製品としては、日興リカ製造の粉末スポンジニッケルＲ−５０またはＲ−２０が望ましく、Ｒ−５０が最も望ましい。
他の水素化用触媒としては、鶏等の卵の殻に水素を含ませたものまたはイチョウの葉を乾燥させたものに水素を含ませたものを用いてもよい。すなわち、卵の殻またはイチョウの葉を粉末にしてそれに水素を含ませて触媒にしたものである。
また、触媒は水との接触の後、適当に除去しておけばよい。
【０００７】
活性水素水の製造装置の具体的な形態としては、少なくとも、水を磁界内に通過させるための磁気発生手段を備える磁気照射部と、その磁界内を通過された水に溶解するガスや空気等の気体を排除するための気体排除手段を備える気体排除部と、その気体が排除された水に水素を間欠的に接触させるための水素注入手段を備える水素接触部から構成する。
磁気発生手段とは、磁気を発生することができるもの全てを含むものであり、例えば、電気的（電磁石）あるいは適宜の構成の装置や永久磁石等が上げられる。
磁気照射部とは、触媒処理が終了した水に磁気を当てるために設けている装置の任意の箇所（部位）であり、例えば、一定量の水を貯留可能な容器、また、水を所定の部位に案内（流す）するための導水路（例えば、磁気に影響が無いホース等）であってもよい。この時、貯留可能な器の入口および／または出口、導水路の入口および／または出口および／または途中に触媒を取り除くフィルターを設けてもよく、例えば、東レ製造のトレビーノ（商標）がよい。
また、磁気の照射は、触媒処理が終了した水が磁気発生手段から発生された磁界中を通過することができるようになっていればよいが、逆に、磁界が水の中を通るようになっていてもよい。
【０００８】
そして、磁気照射部が導水路である場合、磁気発生手段はマグネットとするのがよく、そのマグネットをホース等の導水路に近接して配置するのがよい。近接とは、マグネットが導水路に接触状態での設置、また、任意の隙間を開けての設置の両方を含むものである。
マグネットの配置形態も特に限定するものではないが、具体的には、導水路を挟んで一対に、且つそれぞれの異なる磁極を対向させて設けるのがよい。また、その一対のマグネットは、導水路の延設方向に対して複数対を並べて設けてもよく、その並んでいるそれぞれの磁極が互い違いになるように設けるのがよい。
【０００９】
マグネットも特に限定するものではなく好適なものを用いればよいが、望ましくは、高性能マグネットすなわち高ＢＨＭＡＸの永久磁石がよい。とりわけ本発明者が考案したＹＴマグネット（商標）が適している。また、ＢＨＭＡＸ置が４８ＭＧＯｅ以上あるものがよい。
このＹＴマグネットは、内層にＣｏ−Ｆｅ−Ｙを用い、外層にＦｅ−Ｎｄ−Ｂを用いた２重構造のマグネットである。
しかし、上述の条件を満たす限り如何なるマグネットでもよく、例えば、磁化後の減衰が少ないガラスボンド磁石等のマグネットを用いてもよい。
【００１０】
気体排除手段とは、水中に溶解しているガスや空気等の気体を除去するために構成されているものであり、そのガスや空気等の気体を除去できれば除去方法や装置構成等も特に限定するものではない。
具体的には、水を収容する容器内を減圧することによって水からガスや空気等の気体を除去するようにしてもよく、そした、減圧するための方法等も特に限定するものではなく真空ポンプ等の減圧装置を用いて行ってもよい。また、減圧程度は気体の抜く時間や容器の形態等によって選定すればよい。
【００１１】
水素接触部とは、上述のガスや空気等の気体が除去された水と水素を間欠的に接触させるための部位である。そして、その接触時間は、５分間隔で接触と停止が所定の回数、具体的には５回行うのがよく、また、水素接触の際の水と水素の比率が、水１０リットルに対し水素２０リットルから２５リットル程度の比率で行うのがよい。
この水素接触部（水素噴射室）は導水路中に設けたり、あるいは、完成された水を貯留する貯留容器内に設けてもよい。また、その形態も得に限定するものではないが、水素接触部を管状にした場合、その水素接触部の外壁にその内部と通じる通孔を複数設けてもよい。そして、水素接触部または水素接触部が設けられた貯留容器内を昇圧するのがよく、その圧力は５気圧程度が望ましい。
【００１２】
また、水を磁界内に通過させる前に水を水素化用触媒と接触させてもよい。その際、容器を用いて行ってもよい。例えば、触媒接触容器等であり、その触媒接触容器とは、原材料の水と水素化用触媒（日興リカ製造の粉末スポンジニッケルＲ−５０またはＲ−２０、卵の殻に水素を含ませた触媒、イチョウの葉を乾燥させたものに水素を含ませた触媒）とを触れさせることによって触媒処理をするための容器であり、市販の適宜の素材からなるものを用いればよい。そして、容器に攪拌手段を設けてもよく、例えば、容器内に羽根を設けてその羽根をモーター等の駆動手段で回転させてもよい。勿論、市販の攪拌手段を用いてもよい。そして、水と接触させた触媒はフィルター等によってその後段で取り除けばよい。
【００１３】
そして、製造装置による活性水素水の製造の際、水は、磁気照射部、摘出容器、水素接触部の各部位を通過して活性水素水となった水を収容する貯留容器に流れていくのであるが、その水をどう流すかは製造装置の構成等を考慮して決定すればよい。例えば、高低差を利用することによって水を流すようにしたり、また、ポンプ等を利用して水を強制的に流すようにしてもよい。勿論、各工程の前段または後段には手動あるいは自動制御される開閉ゲートが必要に応じて設けられる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の活性水素水の製造方法とその製造装置は以上のように構成されているので、水に溶解する水素量が極めて多く、また、長期に渡って水素を保持することが可能になる。
これにより、活性水素水の使用に際し、従来のような自然界の作用によって作られる貴重なものに頼ることもなく、その活性水素水をいつでも且つ誰もが利用できる。そして、活性水素水は安価に且つ大量に製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
本発明の活性水素水の製造方法とその製造装置を以下図面に従って説明すると、図１は、本発明に係わる活性水素水の製造方法の概略図である。
（ａ）図は、容器１に原材料の水３を入れ、その水３にマグネット４から発生する磁気を当てている所である。マグネット４の磁気（電磁誘導）によってイオン化が増進する。
（ｂ）図は、タンク２内を真空ポンプ５によって減圧し、水３に溶解するガスや空気等の気体を排除している所である。
（ｃ）図は、タンク２ａ内を昇圧装置６によって５気圧に昇圧し、水３に水素７ａを接触させている所である。
（ｄ）図は、完成した還元水素水３ａである。
【００１６】
そして、本発明によって製造された活性水素水に溶解する水素量と、その処理前の水に溶解する水素量を次の表によって比較する。処理前の水は、表１「普通の水の大気圧での各気体の溶解度」で、製造された活性水素水は、表２「本発明の製造方法で製造された活性水素水の大気圧での水素の溶解度」に示している。この表の比較から、常温での水素（Ｈ２）量は極めて多くなっていることが分かるものである。
また、本発明によって製造された活性水素水に溶解する水素量の経日推移を次の表によって比較する。７日後の活性水素は、表３「７日間ビーカー内に収容した状態の本発明の製造方法で製造された活性水素水の大気圧での水素の溶解度」で、３０日後の変化は、表４「３０日間ビーカー内に収容した状態の本発明の製造方法で製造された活性水素水の大気圧での水素の溶解度」に示している。この表の比較から、常温での水素（Ｈ２）量の低下は認められるものの、極端な低下がないことが分かる。勿論、普通の水（表１）よりもその水素量ははるかに多いものである。また、表５は普通の水（表１）を７日間ビーカー内に収容した状態の大気圧での水素の溶解度である。
【００１７】
図２は、水を触媒処理してから用いる際の活性水素水の製造方法の概略図である。
（ａ）図は、容器１に原材料の水３と触媒１７を入れて触媒処理している所である。触媒１７の作用によって水３が水素（Ｈ２）と酸素（Ｏ２）とに分離し易くなる。
（ｂ）図は、容器１に原材料の水３を入れ、その水３にマグネット４から発生する磁気を当てている所である。マグネット４の磁気（電磁誘導）によってイオン化が増進する。
（ｃ）図は、タンク２内を真空ポンプ５によって減圧し、水３に溶解するガスや空気等の気体を排除している所である。
（ｄ）図は、タンク２ａ内を昇圧装置６によって５気圧に昇圧し、水３に水素７ａを接触させている所である。
（ｅ）図は、完成した還元水素水３ａである。
【００１８】
図３は、活性水素水の製造装置の一例を示す概略図であり、原材料となる水３はポンプ１５によって導水路８に供給され、その導水路８に設けられているマグネット４から発生する磁気によってイオン化の増進がなされる。すなわち酸化還元電位が還元側（マイナス側）に大きい水３（イオン水）となっていく。
次に、水３は気体排除容器１０に入り、そこで真空ポンプ５によってタンク５内が減圧されて、水３に溶解するガスや空気等の気体が排除される。
そして、水３は水素接触容器１１に入り、そこで昇圧装置６によってタンク５内が５気圧に昇圧されると共に、水素供給装置７から水素７ａが送気管１４を通過して水素噴射室１３に供給されて、水素接触容器１１内の水３に水素７ａが接触され、溶解する水素量が極めて多く、また、長期に渡って水素を保持できる活性水素水３ａとなっていく。その活性水素水３ａは水素水収容容器１ａに収容される。
【００１９】
図４は、水を触媒処理してから用いる際の活性水素水の製造装置の一例を示す概略図であり、本図は、水３をマグネット４から発生する磁気による磁気処理を行う前に触媒処理を行うようにしたもので、触媒処理によって水３を水素と酸素とに分離し易くしたものである。触媒１７を入れた水３は攪拌してもよい。１７は触媒、１８は触媒１７をろ過するフィルターである。
この触媒処理を行った際の水３の水素含有量の測定値を以下に示すと、測定方法は、５０℃に暖めた水１リットル中に触媒１０ｇを入れて３０分間攪拌し、その水中の水素濃度を、エイブル（株）製、気中・溶存水素測定装置（気中や水溶液中の水素濃度を連続測定する装置）を使用して測定したものである。
１．「ニッケルラノー触媒 Ｒ−２０ 日興リカ製」の場合、５０℃の水１リット
ル中の水素濃度は０.０８％であり、また、触媒を入れ３０分攪拌後の水１リ
ットル中の水素濃度は０.３５％である。
２．「卵の殻の触媒 日興リカ製」の場合、５０℃の水１リットル中の水素濃度は
０.０６％であり、また、触媒を入れ３０分攪拌後の水１リットル中の水素濃
度は０.４２％である。
３．「イチョウの葉の触媒 日興リカ製」の場合、５０℃の水１リットル中の水素
濃度は０.０７％であり、また、触媒を入れ３０分攪拌後の水１リットル中の
水素濃度は０.５２％である。
【００２０】
図５は、水素噴射室の拡大図であり、１３は水素噴射室、８は気体排除容器１０からの水３の導水路、１４は水素供給装置７からの水素７ａの送気管である。本図の形態は、水素７ａが噴射される水素噴射室１３に導水路８を直接接続した形態のものである。１３ａは水素噴射室１３に形成された通孔で、噴射された水素７ａを細泡状にして水３に溶解し易くするためのものである。１３ｂは筒状に形成された水素噴射室１３の端部開口である。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明に係わる活性水素水の製造方法の概略図
【図２】水を触媒処理してから用いる際の活性水素水の製造方法の概略図
【図３】活性水素水の製造装置の一例を示す概略図
【図４】水を触媒処理してから用いる際の活性水素水の製造装置の一例を示す 概略図
【図５】水素噴射室の拡大図
【符号の説明】
【００２２】
１−容器，１ａ−水素水収容容器，２−タンク，２ａ−タンク，３−水，３ａ−活性水素水，４−マグネット，５−真空ポンプ，６−昇圧装置，７−水素供給装置，７ａ−水素，８−導水路，９−排出管，１０−気体排除容器，１１−水素接触容器，１２−バルブ，１３−水素噴射室，１３ａ−通孔，１３ｂ−端部開口，１４−送気管，１５−ポンプ，１６−触媒接触容器，１７−触媒，１８−フィルター
【技術分野】
【０００１】
本発明は、活性水素水の製造方法とその製造装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、体内での酸化作用によって発生する活性酸素の脅威は多くの人が知るところである。そして、今日では活性酸素を体内から除去するための方法も種々開発されており、それらの方法によって排除が試みられている。
また、研究が進むにつれ、活性酸素を体内から除去してくれる活性水素を含む水が自然界に存在することも判明した。この水は、これを飲用することによって体内に発生した活性酸素とその水に含まれる活性水素とが結び付き、無害な水（Ｈ２Ｏ）となって体内から排出される。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかして、上述の水は自然界の作用によって作られるものであり、また、その水が涌き出る所もフランス／ドイツ／メキシコと極めて遠方の地であり、且つ貴重な水であるため容易に入手することができないものであった。
従って、本発明は上述した問題点に鑑みてなされたもので、活性水素水を大量に且つ安価に製造することができる活性水素水の製造方法とその製造装置を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明の要旨とするところは、水を磁界内に通過させた後、水に溶解するガスや空気等の気体を排除し、その水に水素を間欠的に接触させることを特徴とする活性水素水の製造方である。
また、少なくとも、水を磁界内に通過させるための磁気発生手段を備える磁気照射部と、その磁界内を通過された水に溶解するガスや空気等の気体を排除するための気体排除手段を備える気体排除部と、その気体が排除された水に水素を間欠的に接触させるための水素注入手段を備える水素接触部からなることを特徴とする活性水素水の製造装置である。
【０００５】
本発明の活性水素水の製造方法と活性水素水の製造装置をさらに詳しく説明すると、水は蒸留水や普通の水道水や天然水を用いればよい。また、磁界内を通過させる前にフィルターを通過させてろ過してもよい。そのフィルターの具体的な製品としては、東レ製造のトレビーノ（商標）が望ましい。
先ず、水を磁界内に通過させるのであるが、少なくとも磁気によって発生した磁界が水の中を通過するようにする。その磁気を発生させる方法や装置等も特に限定するものではないが照射する磁気は強い方がよい。
その磁界内を通過させた水に溶解するガスや空気等の気体を排除するのであるが、この排除方法も、例えば、水を収容する容器内を減圧することによって水から気体を排除してもよい。
そして、ガスや空気等の気体が排除された水と水素を間欠的に接触させるのであるが、その接触時間は、５分間隔で接触と停止が所定の回数、具体的には５回行うのがよく、また、水素接触の際の水と水素の比率が、水１０リットルに対し水素２０リットルから２５リットル程度の比率で行うのがよい。また、その水と水素を間欠的に接触させる部位は、その内部を５気圧に昇圧するのがよい。
【０００６】
また、水を磁界内に通過させる前に、水を水素化用触媒と接触させてもよい。その接触とは、原材料の水と水素化用触媒とを触れさせることであり、その接触方法や接触形態も特に限定するものではない。接触の具体的な方法としては、適当な容器に水と水素化用触媒を入れて接触させるようにしてもよい。その接触の際に攪拌してもよい。水素化用触媒としては、ニッケル触媒のスポンジメタル触媒（一般にラネー触媒と呼ばれている）を用いるのが望ましく、特にスポンジニッケルからなるものがよい。そのスポンジニッケルの具体的な製品としては、日興リカ製造の粉末スポンジニッケルＲ−５０またはＲ−２０が望ましく、Ｒ−５０が最も望ましい。
他の水素化用触媒としては、鶏等の卵の殻に水素を含ませたものまたはイチョウの葉を乾燥させたものに水素を含ませたものを用いてもよい。すなわち、卵の殻またはイチョウの葉を粉末にしてそれに水素を含ませて触媒にしたものである。
また、触媒は水との接触の後、適当に除去しておけばよい。
【０００７】
活性水素水の製造装置の具体的な形態としては、少なくとも、水を磁界内に通過させるための磁気発生手段を備える磁気照射部と、その磁界内を通過された水に溶解するガスや空気等の気体を排除するための気体排除手段を備える気体排除部と、その気体が排除された水に水素を間欠的に接触させるための水素注入手段を備える水素接触部から構成する。
磁気発生手段とは、磁気を発生することができるもの全てを含むものであり、例えば、電気的（電磁石）あるいは適宜の構成の装置や永久磁石等が上げられる。
磁気照射部とは、触媒処理が終了した水に磁気を当てるために設けている装置の任意の箇所（部位）であり、例えば、一定量の水を貯留可能な容器、また、水を所定の部位に案内（流す）するための導水路（例えば、磁気に影響が無いホース等）であってもよい。この時、貯留可能な器の入口および／または出口、導水路の入口および／または出口および／または途中に触媒を取り除くフィルターを設けてもよく、例えば、東レ製造のトレビーノ（商標）がよい。
また、磁気の照射は、触媒処理が終了した水が磁気発生手段から発生された磁界中を通過することができるようになっていればよいが、逆に、磁界が水の中を通るようになっていてもよい。
【０００８】
そして、磁気照射部が導水路である場合、磁気発生手段はマグネットとするのがよく、そのマグネットをホース等の導水路に近接して配置するのがよい。近接とは、マグネットが導水路に接触状態での設置、また、任意の隙間を開けての設置の両方を含むものである。
マグネットの配置形態も特に限定するものではないが、具体的には、導水路を挟んで一対に、且つそれぞれの異なる磁極を対向させて設けるのがよい。また、その一対のマグネットは、導水路の延設方向に対して複数対を並べて設けてもよく、その並んでいるそれぞれの磁極が互い違いになるように設けるのがよい。
【０００９】
マグネットも特に限定するものではなく好適なものを用いればよいが、望ましくは、高性能マグネットすなわち高ＢＨＭＡＸの永久磁石がよい。とりわけ本発明者が考案したＹＴマグネット（商標）が適している。また、ＢＨＭＡＸ置が４８ＭＧＯｅ以上あるものがよい。
このＹＴマグネットは、内層にＣｏ−Ｆｅ−Ｙを用い、外層にＦｅ−Ｎｄ−Ｂを用いた２重構造のマグネットである。
しかし、上述の条件を満たす限り如何なるマグネットでもよく、例えば、磁化後の減衰が少ないガラスボンド磁石等のマグネットを用いてもよい。
【００１０】
気体排除手段とは、水中に溶解しているガスや空気等の気体を除去するために構成されているものであり、そのガスや空気等の気体を除去できれば除去方法や装置構成等も特に限定するものではない。
具体的には、水を収容する容器内を減圧することによって水からガスや空気等の気体を除去するようにしてもよく、そした、減圧するための方法等も特に限定するものではなく真空ポンプ等の減圧装置を用いて行ってもよい。また、減圧程度は気体の抜く時間や容器の形態等によって選定すればよい。
【００１１】
水素接触部とは、上述のガスや空気等の気体が除去された水と水素を間欠的に接触させるための部位である。そして、その接触時間は、５分間隔で接触と停止が所定の回数、具体的には５回行うのがよく、また、水素接触の際の水と水素の比率が、水１０リットルに対し水素２０リットルから２５リットル程度の比率で行うのがよい。
この水素接触部（水素噴射室）は導水路中に設けたり、あるいは、完成された水を貯留する貯留容器内に設けてもよい。また、その形態も得に限定するものではないが、水素接触部を管状にした場合、その水素接触部の外壁にその内部と通じる通孔を複数設けてもよい。そして、水素接触部または水素接触部が設けられた貯留容器内を昇圧するのがよく、その圧力は５気圧程度が望ましい。
【００１２】
また、水を磁界内に通過させる前に水を水素化用触媒と接触させてもよい。その際、容器を用いて行ってもよい。例えば、触媒接触容器等であり、その触媒接触容器とは、原材料の水と水素化用触媒（日興リカ製造の粉末スポンジニッケルＲ−５０またはＲ−２０、卵の殻に水素を含ませた触媒、イチョウの葉を乾燥させたものに水素を含ませた触媒）とを触れさせることによって触媒処理をするための容器であり、市販の適宜の素材からなるものを用いればよい。そして、容器に攪拌手段を設けてもよく、例えば、容器内に羽根を設けてその羽根をモーター等の駆動手段で回転させてもよい。勿論、市販の攪拌手段を用いてもよい。そして、水と接触させた触媒はフィルター等によってその後段で取り除けばよい。
【００１３】
そして、製造装置による活性水素水の製造の際、水は、磁気照射部、摘出容器、水素接触部の各部位を通過して活性水素水となった水を収容する貯留容器に流れていくのであるが、その水をどう流すかは製造装置の構成等を考慮して決定すればよい。例えば、高低差を利用することによって水を流すようにしたり、また、ポンプ等を利用して水を強制的に流すようにしてもよい。勿論、各工程の前段または後段には手動あるいは自動制御される開閉ゲートが必要に応じて設けられる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の活性水素水の製造方法とその製造装置は以上のように構成されているので、水に溶解する水素量が極めて多く、また、長期に渡って水素を保持することが可能になる。
これにより、活性水素水の使用に際し、従来のような自然界の作用によって作られる貴重なものに頼ることもなく、その活性水素水をいつでも且つ誰もが利用できる。そして、活性水素水は安価に且つ大量に製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
本発明の活性水素水の製造方法とその製造装置を以下図面に従って説明すると、図１は、本発明に係わる活性水素水の製造方法の概略図である。
（ａ）図は、容器１に原材料の水３を入れ、その水３にマグネット４から発生する磁気を当てている所である。マグネット４の磁気（電磁誘導）によってイオン化が増進する。
（ｂ）図は、タンク２内を真空ポンプ５によって減圧し、水３に溶解するガスや空気等の気体を排除している所である。
（ｃ）図は、タンク２ａ内を昇圧装置６によって５気圧に昇圧し、水３に水素７ａを接触させている所である。
（ｄ）図は、完成した還元水素水３ａである。
【００１６】
そして、本発明によって製造された活性水素水に溶解する水素量と、その処理前の水に溶解する水素量を次の表によって比較する。処理前の水は、表１「普通の水の大気圧での各気体の溶解度」で、製造された活性水素水は、表２「本発明の製造方法で製造された活性水素水の大気圧での水素の溶解度」に示している。この表の比較から、常温での水素（Ｈ２）量は極めて多くなっていることが分かるものである。
また、本発明によって製造された活性水素水に溶解する水素量の経日推移を次の表によって比較する。７日後の活性水素は、表３「７日間ビーカー内に収容した状態の本発明の製造方法で製造された活性水素水の大気圧での水素の溶解度」で、３０日後の変化は、表４「３０日間ビーカー内に収容した状態の本発明の製造方法で製造された活性水素水の大気圧での水素の溶解度」に示している。この表の比較から、常温での水素（Ｈ２）量の低下は認められるものの、極端な低下がないことが分かる。勿論、普通の水（表１）よりもその水素量ははるかに多いものである。また、表５は普通の水（表１）を７日間ビーカー内に収容した状態の大気圧での水素の溶解度である。
【００１７】
図２は、水を触媒処理してから用いる際の活性水素水の製造方法の概略図である。
（ａ）図は、容器１に原材料の水３と触媒１７を入れて触媒処理している所である。触媒１７の作用によって水３が水素（Ｈ２）と酸素（Ｏ２）とに分離し易くなる。
（ｂ）図は、容器１に原材料の水３を入れ、その水３にマグネット４から発生する磁気を当てている所である。マグネット４の磁気（電磁誘導）によってイオン化が増進する。
（ｃ）図は、タンク２内を真空ポンプ５によって減圧し、水３に溶解するガスや空気等の気体を排除している所である。
（ｄ）図は、タンク２ａ内を昇圧装置６によって５気圧に昇圧し、水３に水素７ａを接触させている所である。
（ｅ）図は、完成した還元水素水３ａである。
【００１８】
図３は、活性水素水の製造装置の一例を示す概略図であり、原材料となる水３はポンプ１５によって導水路８に供給され、その導水路８に設けられているマグネット４から発生する磁気によってイオン化の増進がなされる。すなわち酸化還元電位が還元側（マイナス側）に大きい水３（イオン水）となっていく。
次に、水３は気体排除容器１０に入り、そこで真空ポンプ５によってタンク５内が減圧されて、水３に溶解するガスや空気等の気体が排除される。
そして、水３は水素接触容器１１に入り、そこで昇圧装置６によってタンク５内が５気圧に昇圧されると共に、水素供給装置７から水素７ａが送気管１４を通過して水素噴射室１３に供給されて、水素接触容器１１内の水３に水素７ａが接触され、溶解する水素量が極めて多く、また、長期に渡って水素を保持できる活性水素水３ａとなっていく。その活性水素水３ａは水素水収容容器１ａに収容される。
【００１９】
図４は、水を触媒処理してから用いる際の活性水素水の製造装置の一例を示す概略図であり、本図は、水３をマグネット４から発生する磁気による磁気処理を行う前に触媒処理を行うようにしたもので、触媒処理によって水３を水素と酸素とに分離し易くしたものである。触媒１７を入れた水３は攪拌してもよい。１７は触媒、１８は触媒１７をろ過するフィルターである。
この触媒処理を行った際の水３の水素含有量の測定値を以下に示すと、測定方法は、５０℃に暖めた水１リットル中に触媒１０ｇを入れて３０分間攪拌し、その水中の水素濃度を、エイブル（株）製、気中・溶存水素測定装置（気中や水溶液中の水素濃度を連続測定する装置）を使用して測定したものである。
１．「ニッケルラノー触媒 Ｒ−２０ 日興リカ製」の場合、５０℃の水１リット
ル中の水素濃度は０.０８％であり、また、触媒を入れ３０分攪拌後の水１リ
ットル中の水素濃度は０.３５％である。
２．「卵の殻の触媒 日興リカ製」の場合、５０℃の水１リットル中の水素濃度は
０.０６％であり、また、触媒を入れ３０分攪拌後の水１リットル中の水素濃
度は０.４２％である。
３．「イチョウの葉の触媒 日興リカ製」の場合、５０℃の水１リットル中の水素
濃度は０.０７％であり、また、触媒を入れ３０分攪拌後の水１リットル中の
水素濃度は０.５２％である。
【００２０】
図５は、水素噴射室の拡大図であり、１３は水素噴射室、８は気体排除容器１０からの水３の導水路、１４は水素供給装置７からの水素７ａの送気管である。本図の形態は、水素７ａが噴射される水素噴射室１３に導水路８を直接接続した形態のものである。１３ａは水素噴射室１３に形成された通孔で、噴射された水素７ａを細泡状にして水３に溶解し易くするためのものである。１３ｂは筒状に形成された水素噴射室１３の端部開口である。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明に係わる活性水素水の製造方法の概略図
【図２】水を触媒処理してから用いる際の活性水素水の製造方法の概略図
【図３】活性水素水の製造装置の一例を示す概略図
【図４】水を触媒処理してから用いる際の活性水素水の製造装置の一例を示す 概略図
【図５】水素噴射室の拡大図
【符号の説明】
【００２２】
１−容器，１ａ−水素水収容容器，２−タンク，２ａ−タンク，３−水，３ａ−活性水素水，４−マグネット，５−真空ポンプ，６−昇圧装置，７−水素供給装置，７ａ−水素，８−導水路，９−排出管，１０−気体排除容器，１１−水素接触容器，１２−バルブ，１３−水素噴射室，１３ａ−通孔，１３ｂ−端部開口，１４−送気管，１５−ポンプ，１６−触媒接触容器，１７−触媒，１８−フィルター
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水を磁界内に通過させた後、水に溶解するガスや空気等の気体を排除し、その水に水素を間欠的に接触させることを特徴とする活性水素水の製造方法
【請求項２】
前記気体の排除が、水を収容する容器内を減圧することによって水から気体を排除することを特徴とする請求項１の活性水素水の製造方法
【請求項３】
前記水に水素を間欠的に接触させる時間が、５分間隔で接触と停止が所定の回数行われ、また、水素接触の際の水と水素の比率が、水１０リットルに対し水素２０リットルから２５リットル程度の比率で行われることを特徴とする請求項１の活性水素水の製造方法
【請求項４】
前記回数が少なくとも５回行われることを特徴とする請求項３の活性水素水の製造方法
【請求項５】
前記水に水素を間欠的に接触させる部位の内部が５気圧に昇圧されていることを特徴とする請求項１の活性水素水の製造方法
【請求項６】
前記水を磁界内に通過させる前に、水に水素化用触媒を接触させることを特徴とする請求項１の活性水素水の製造方法
【請求項７】
前記水素化用触媒が、スポンジニッケルまたは卵の殻に水素を含ませたものまたはイチョウの葉を乾燥させたものに水素を含ませたものであることを特徴とする請求項６の活性水素水の製造方法
【請求項８】
少なくとも、水を磁界内に通過させるための磁気発生手段を備える磁気照射部と、その磁界内を通過された水に溶解するガスや空気等の気体を排除するための気体排除手段を備える気体排除部と、その気体が排除された水に水素を間欠的に接触させるための水素注入手段を備える水素接触部からなることを特徴とする活性水素水の製造装置
【請求項９】
前記磁気照射部が水の導水路に設けられると共に、磁気発生手段がマグネットであり、そのマグネットは導水路を挟んで一対に且つ異なる磁極を対向させて導水路の延設方向に対して複数対が磁極をそれぞれ互い違いになるように設けられていることを特徴とする請求項８の活性水素水の製造装置
【請求項１０】
前記マグネットが高ＢＨＭＡＸの永久磁石であると共に、そのＢＨＭＡＸ置が４８ＭＧＯｅ以上であることを特徴とする請求項９の活性水素水の製造装置
【請求項１１】
前記気体排除手段が真空ポンプであると共に、その真空ポンプによって水を収容する容器内を減圧して水から気体を排除することを特徴とする請求項８の活性水素水の製造装置
【請求項１２】
前記水に水素を間欠的に接触させる時間が、５分間隔で接触と停止が所定の回数行われ、また、水素接触の際の水と水素の比率が、水１０リットルに対し水素２０リットルから２５リットル程度の比率で行われることを特徴とする請求項８の活性水素水の製造装置
【請求項１３】
前記回数が少なくとも５回行われることを特徴とする請求項１２の活性水素水の製造装置
【請求項１４】
前記水素接触部の本体が、気体を排除した水を収容する貯留容器内に設けられており、また、その本体の外壁に本体内部と通じる通孔が複数設けられていることを特徴とする請求項８の活性水素水の製造装置
【請求項１５】
前記貯留容器内が５気圧に昇圧されていることを特徴とする請求項１４の活性水素水の製造装置
【請求項１６】
前記水を磁界内に通過させる前に、水に水素化用触媒を接触させることを特徴とする請求項８の活性水素水の製造装置
【請求項１７】
前記水素化用触媒が、スポンジニッケルまたは卵の殻に水素を含ませたものまたはイチョウの葉を乾燥させたものに水素を含ませたものであることを特徴とする請求項１６の活性水素水の製造装置
【請求項１】
水を磁界内に通過させた後、水に溶解するガスや空気等の気体を排除し、その水に水素を間欠的に接触させることを特徴とする活性水素水の製造方法
【請求項２】
前記気体の排除が、水を収容する容器内を減圧することによって水から気体を排除することを特徴とする請求項１の活性水素水の製造方法
【請求項３】
前記水に水素を間欠的に接触させる時間が、５分間隔で接触と停止が所定の回数行われ、また、水素接触の際の水と水素の比率が、水１０リットルに対し水素２０リットルから２５リットル程度の比率で行われることを特徴とする請求項１の活性水素水の製造方法
【請求項４】
前記回数が少なくとも５回行われることを特徴とする請求項３の活性水素水の製造方法
【請求項５】
前記水に水素を間欠的に接触させる部位の内部が５気圧に昇圧されていることを特徴とする請求項１の活性水素水の製造方法
【請求項６】
前記水を磁界内に通過させる前に、水に水素化用触媒を接触させることを特徴とする請求項１の活性水素水の製造方法
【請求項７】
前記水素化用触媒が、スポンジニッケルまたは卵の殻に水素を含ませたものまたはイチョウの葉を乾燥させたものに水素を含ませたものであることを特徴とする請求項６の活性水素水の製造方法
【請求項８】
少なくとも、水を磁界内に通過させるための磁気発生手段を備える磁気照射部と、その磁界内を通過された水に溶解するガスや空気等の気体を排除するための気体排除手段を備える気体排除部と、その気体が排除された水に水素を間欠的に接触させるための水素注入手段を備える水素接触部からなることを特徴とする活性水素水の製造装置
【請求項９】
前記磁気照射部が水の導水路に設けられると共に、磁気発生手段がマグネットであり、そのマグネットは導水路を挟んで一対に且つ異なる磁極を対向させて導水路の延設方向に対して複数対が磁極をそれぞれ互い違いになるように設けられていることを特徴とする請求項８の活性水素水の製造装置
【請求項１０】
前記マグネットが高ＢＨＭＡＸの永久磁石であると共に、そのＢＨＭＡＸ置が４８ＭＧＯｅ以上であることを特徴とする請求項９の活性水素水の製造装置
【請求項１１】
前記気体排除手段が真空ポンプであると共に、その真空ポンプによって水を収容する容器内を減圧して水から気体を排除することを特徴とする請求項８の活性水素水の製造装置
【請求項１２】
前記水に水素を間欠的に接触させる時間が、５分間隔で接触と停止が所定の回数行われ、また、水素接触の際の水と水素の比率が、水１０リットルに対し水素２０リットルから２５リットル程度の比率で行われることを特徴とする請求項８の活性水素水の製造装置
【請求項１３】
前記回数が少なくとも５回行われることを特徴とする請求項１２の活性水素水の製造装置
【請求項１４】
前記水素接触部の本体が、気体を排除した水を収容する貯留容器内に設けられており、また、その本体の外壁に本体内部と通じる通孔が複数設けられていることを特徴とする請求項８の活性水素水の製造装置
【請求項１５】
前記貯留容器内が５気圧に昇圧されていることを特徴とする請求項１４の活性水素水の製造装置
【請求項１６】
前記水を磁界内に通過させる前に、水に水素化用触媒を接触させることを特徴とする請求項８の活性水素水の製造装置
【請求項１７】
前記水素化用触媒が、スポンジニッケルまたは卵の殻に水素を含ませたものまたはイチョウの葉を乾燥させたものに水素を含ませたものであることを特徴とする請求項１６の活性水素水の製造装置
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【公開番号】特開２００６−２８９２８９（Ｐ２００６−２８９２８９Ａ）
【公開日】平成１８年１０月２６日（２００６．１０．２６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−１１５２１３（Ｐ２００５−１１５２１３）
【出願日】平成１７年４月１３日（２００５．４．１３）
【出願人】（５９８００４６５３）アクア・エナジー株式会社 (3)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年１０月２６日（２００６．１０．２６）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年４月１３日（２００５．４．１３）
【出願人】（５９８００４６５３）アクア・エナジー株式会社 (3)
【Ｆターム（参考）】
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