流体で満たされた装置における及びこれに関する改善
ｎを整数かつｎ≧２とする、ｎ個の流体（８０，８７；２２０，２３０；３２０，３３２；４２０，４２２，４３０，４３２）を含む密封されたキャビティを有する装置（１００；２００；３００；４００）が、記載されている。各流体は、隣接している各流体と、実質的に不混和である。前記キャビティは、ｎ個の連続的な領域６０，１７０；２６０，２７０；３６０，３６２，３７０；４６０，４６２，４７０，４７２）に分割されている内側表面によって規定されており、前記連続的な領域各々は、各々対応する流体と接触している。各領域の濡れ性は、各々対応する流体が、対応する領域に近接している何れの領域よりも、該対応する領域に、優先的に付着する濡れ性である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、流体で満たされた装置に関し、詳細には、密封されたキャビティを有する前記装置に関する。本発明は、詳細には、エレクトロウェッティング装置における使用に適している。
【背景技術】
【０００２】
流体で満たされた装置とは、少なくとも２つの流体を含む装置（即ち、複数の流体で満たされた装置）であって、典型的には、少なくとも１つの前記流体を変位させる（該体積の位置又は形状を変化させる）ことにより、機能を実施する装置である。
【０００３】
流体で満たされた光学装置（ｏｐｔｉｃａｌ ｆｌｕｉｄ ｆｉｌｌｅｄ ｄｅｖｉｃｅ）は、例えば、レンズ、絞り、回折格子、シャッタ、光スイッチ又はフィルタとして機能することができる。流体で満たされた光学装置の例と、例えばエレクトロウェッティングを使用することにより流体を変位させる種々の可能な方法とは、国際公開第０２／０６９０１６号公報に記載されている。
【０００４】
エレクトロウェッティング装置とは、動作するのにエレクトロウェッティング現象を利用する装置である。エレクトロウェッティングにおいて、三相の接触角が、印加電圧によって変化される。前記三相は、２つの流体と１つの固体とを構成している。流体という語は、液体及び気体の両方を包含している。典型的には、少なくとも第１流体は液体であり、第２流体は、液体、気体又は蒸気であり得る。
【０００５】
欧州特許出願公開第１，０６９，４５０号公報は、可変密度の光フィルタとして振舞うように、エレクトロウェッティング効果を利用している光学装置を記載している。図１は、前記のような典型的な光学装置９０の断面図である。光学装置９０は、密封された空間９２（即ち、チャンバ又はキャビティ）内に閉じ込められた２つの不混和性流体８０、８７を有する。不混和という語は、これら２つの流体が混和しないことを意味する。第１流体８０は、絶縁体（例えば、シリコーンオイル）であって、第２流体８７は、電気伝導体（例えば、水とエチルアルコールとの混合物）である。第１流体８０と第２流体８７とは、異なる光透過率を有している。
【０００６】
電圧源４０からの電圧は、流体８７と電極４２との間に電場を発生するように、２つの電極４１、４２に印加されることができる（絶縁層５０は、第２電極４２が導電性の前記第２流体と接触するのを防止している）。
【０００７】
第２流体８７に印加される前記電圧を変化させることにより、第１流体８０と第２流体８７との間の界面８５の形状が変更され、この結果、光学素子の全体的な透過率を変化させる。類似の構成であるが、２つの流体８０、８７が異なる屈折率を有する構成を使用して、可変レンズを提供することも知られている。
【０００８】
図１における装置９０は、第１流体８０を位置付けるように、絶縁層５０上に、親水剤の環７０によって囲まれている直径Ｄ１の撥水フィルム６０を有する。界面８５の形状は、前記装置の動作中、変化する。前記形状の変化により、流体８０は、撥水層６０から密封された空間の対向面まで延在し得る。第１流体８０が、前記対向面に付着（ａｄｈｅｒｅ）するのを防止するように、該対向面の一部は、直径Ｄ２の親水性フィルム７２の層によって覆われている。
【０００９】
界面２５に対する重力の振る舞いを制限するように、２つの流体８０、８７は、等しい密度であり得る。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明の実施例の目的は、改善されたエレクトロウェッティング装置を提供することにある。本発明の実施例の目的は、特に、加速力（ａｃｃｅｌｅｒａｔｉｖｅ ｆｏｒｃｅ）を受けている場合に、改善された安定性を有するエレクトロウェッティング装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
１つの見地において、本発明は、ｎを整数かつｎ≧２とするｎ個の流体を含む密封されたキャビティを有する装置であって、各流体は、隣接している（ｃｏｎｔｉｇｕｏｕｓ）各流体と実質的に混和せず、前記キャビティはｎ個の連続的な領域に分割されている内側表面によって規定されており、前記連続的な領域各々は、各々対応する流体と接触しており、各領域の濡れ性は、各々対応する流体が、対応する領域に近接している何れの領域よりも、該対応する領域に、優先的に（ｐｒｅｆｅｒｅｎｔｉａｌｌｙ）付着する濡れ性である装置を提供する。
【００１２】
前記のような構造を有する密封されたキャビティを設けることにより、流体が、前記キャビティの内側表面の不適切な部分に付着する可能性は、大幅に減少される。従って、加速力を受けている場合の前記装置の安定性が、改善される。更に、他の流体内に溶解している、ある少量の１つの流体が、不適切な面上に凝縮することは、防止される。
【００１３】
他の見地において、本発明は、光記録担体の情報層を走査する光走査装置であって、放射ビームを発生する放射源と、該放射ビームを情報層上に集束させる対物系とを有する光走査装置において、前記光走査装置は、ｎを整数かつｎ≧２とするｎ個の流体を含む密封されたキャビティを有し、各流体は、隣接している各流体と実質的に混和せず、前記キャビティはｎ個の連続的な領域に分割されている内側表面によって規定されており、前記連続的な領域各々は、各々対応する流体と接触しており、各領域の濡れ性は、各々対応する流体が、対応する領域に近接している何れの領域よりも、該対応する領域に、優先的に付着する濡れ性である装置を提供する。
【００１４】
更なる見地において、本発明は、ｎを整数かつｎ≧２とするｎ個の連続的な領域に分割されている内側表面を有するキャビティを設けるステップと；各流体は、前記連続的な領域各々が、各々対応する流体と接触するように、隣接している各流体と実質的に不混和であるｎ個の流体によって、前記キャビティを満たすステップと；各領域の濡れ性は、各々対応する流体が、対応する領域に近接している何れの領域よりも、該対応する領域に、優先的に付着する濡れ性である前記キャビティを、密封するステップと；を有する、装置を製造する方法を提供する。
【００１５】
他の見地において、本発明は、放射ビームを発生する放射源を設けるステップと；ｎを整数かつｎ≧２とするｎ個の流体を含む密封されたキャビティであって、各流体は、隣接している各流体と実質的に不混和であって、前記キャビティは、ｎ個の連続的な領域に分割されている内側表面によって規定されており、前記連続的な領域各々は、各々対応する流体と接触しており、各領域の濡れ性は、各々対応する流体が、対応する領域に近接している何れの領域よりも、該対応する領域に、優先的に付着する濡れ性であるキャビティを有する装置を設けるステップと；を有する、光記録担体の情報層を走査する光走査装置を製造する方法を提供する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
本発明の更なる理解のために、以下で、例として、添付図面を参照して、同様の複数の実施例がどのように実行されることができるかが示される。
【００１７】
本発明者らは、図１に示されている装置９０が乱され、この結果、両方の流体が所望の位置に完全に留まらないことが起こり得ることを、認識した。例えば、流体８０の一部８１が、図２に示されているように当該装置の角に留まり得る。この状況は、２つの流体が完全に不混和でない場合に、生じ得る。例えば、流体８０内の、流体の小さい（サブマイクロメートルサイズの）滴８１が、装置９０の内側表面の一部に、くっ付き、蓄積し得る。代替的には、前記状況は、例えば、該装置９０が揺らされた又は落下された場合のような、装置９０が加速力を受けている場合に、生じ得る。
【００１８】
所望の位置からの、前記流体の一部（又は、それどころか、流体全体）の変位は、当該装置の動作に影響を与え得るので、望ましくない。２つの流体８０、８７間の界面８５の形状は、第１流体８０の体積に、部分的に依存する。従って、第１流体８０の体積が減少された場合、印加される電圧の関数である界面８５の形状は、影響を受ける。このことは、装置９０の性能を変化させ、可変フィルタとして（又はレンズとして（流体８０、８７の特性に依存する））の前記装置の機能を害する。
【００１９】
本発明者らは、前記のような２つの流体のシステムに関して、全ての前記内側表面を、２つの分離された領域に分割し、前記領域各々は、各々前記２つの流体の一方に対応しており、好ましくは、それを引きつけることによって、この問題が克服されることができることを実現した。このことは、各流体が対応する領域に引きつけられるように、各流体に対し異なる濡れ性を有する当該装置の領域を設けることによって、達成される。濡れ性とは、固体が、流体によって濡らされる（覆われる）程度をいう。「〜に分割する」という語は、複数の、表面の前記領域が、近接している又は隣接しており（即ち、実質的に中間領域を有さない）、かつ、連続的である（即ち、前記領域各々は、他の流体を引きつける実質的な介在領域を含まない）ことを意味する。前記中間又は介在領域の最大幅は、前記流体内に形成され得る滴の直径よりも小さい。好ましくは、前記領域の最大幅は、１００μｍよりも小さく、より好ましくは、１０μｍよりも小さい。従って、前記のような滴が、前記のような中間領域に接触した場合、該中間領域は、前記滴に十分な接触域を与えないので、該滴は、付着しない。
【００２０】
図３は、本発明の第１実施例による装置１００の断面図を示している。装置１００は、概ね、図１及び２に示されている装置９０に対応しており、同一の符号は、類似のフィーチャを示している。装置１００は、非導電性かつ非極性（ｎｏｎ−ｐｏｌａｒ）である第１流体８０を引きつける直径Ｄ１の疎水面の領域６０を有する。内側表面の残部は、親水被膜１７０によって覆われており、親水被膜１７０は、導電性かつ極性の流体８７によって、優先的に濡らされる（即ち、親水被膜１７０が引きつける）。このことは、図２に示されている状況であって、液体８０の一部が、望まれない態様で内側キャビティの一部に付着する状況を、防止する。代わりに、望まれない滴が形成される場合、該滴は、前記内側表面の望まれない部分に付着せず、液体と合体し滑り落ちるまで、動き続け、これによって、前記流体の所望の配置に戻る。
【００２１】
この特定の実施例において、電極４１は、導電性かつ極性の流体８７と電気的に接触しており、（前記密封されたキャビティの内側表面の一部を形成する）前記電極の表面は、親水性である。前記電極の表面は、元々、親水性であることができる。代替的には、導電性かつ親水性の被膜が、全ての表面領域１７０に又は前記電極（若しくは該電極の、前記キャビティの内側表面の一部を形成する部分）のみに塗布されても良い。
【００２２】
他の実施例において、電極４１を覆う前記被膜は導電的でなく、即ち、これは絶縁体である。例えば、親水性の絶縁体であるシリコン酸化物が、使用されることができる。エレクトロウェッティングは、いくらか高い電圧においてであるが、静電結合によっても生じる。絶縁被膜が、対向電極４２を覆う絶縁層と比較して薄い場合、必要とされる電圧の増加は、最小限になる。
【００２３】
図４は、本発明の更なる実施例による装置２００を示している。装置２００は、再び、光学装置であって（即ち、これは、前記装置への入射光の特性を変更する）、この例において、装置２００は、可変焦点レンズとして働く。
【００２４】
装置２００は、第１流体２２０及び第２流体２３０を有しており、これら２つの流体は、不混和である。第１流体２２０は、非導電性かつ非極性の流体であって、例えば、シリコーンオイル又はアルカンである。第２流体２３０は、導電性又は極性の液体であって、例えば、塩溶液を含有する水（又は、水とエチレングリコールとの混合物）である。
【００２５】
２つの流体２２０、２３０は、好ましくは、レンズが向きと独立に機能するように、前記２つの流体間の重力作用を最小化するために、等しい密度を有する。２つの流体２２０、２３０は、該２つの流体間の界面２２５が、レンズとして働くように、異なる屈折率を有する。
【００２６】
界面２２５の形状が変化されると、前記レンズの焦点距離が変化される。界面２２５の形状は、前記流体と装置２００の壁との接触角を変更するように、電極２６０と電極２４２との間に電圧を印加することにより、エレクトロウェッティング現象によって、調整される。
【００２７】
前記装置を介する光の透過を可能にするように、少なくとも前記装置の対向している面（当該図に示されている向きにおいて、上面及び下面）は、透明である。この特定の実施例において、当該装置は、円筒体２１０の形態をとっており、光は、該円筒体の透明な端部２１２、２１４を介して入射及び出射する。流体２２０、２３０は、円筒体２１０によって規定されている密封された空間内に封入されている。円筒体２１０の内側表面の一方の端部２６０は、極性流体２３０を引きつけるように親水性である。円筒体２１０の残部（即ち、反対側の端部及び内側の側面壁）は、疎水性被膜２７０によって覆われている。
【００２８】
親水性領域２６０は、親水性材料（例えば、ガラス）によって、全体的に形成されることができ、又は、代替的には、親水層（例えば、シリコン二酸化物）によって覆われることができる。
【００２９】
この特定の実施例において、内側表面の親水領域２６０は、電極を形成するように、透明な親水性の導体（例えば、酸化インジウムスズ）によって完全に覆われている。
【００３０】
三相線の近傍の装置２００の周りに延在している環状電極２４２と透明電極２６０とにより極性液体２３０に印加される電圧は、可変電圧源２４０から印加される。電極２４２は、極性流体２３０と導電的に接触していない。
【００３１】
前記円筒体の内側表面の一つの領域を親水性に、該内側表面の残部を疎水性に配することにより、この２つの流体のシステムにおいて、当該装置の安定性が大幅に向上されることが、理解されるであろう。前記極性流体は、前記内側表面の非極性流体のみを有することが望まれている部分には付着せず、前記非極性流体も、前記内側表面の極性流体のみを有することが望まれている部分には付着しない。
【００３２】
この条件は、極性流体２３０が、疎水性被膜２７０の一部と接触するのを防止していないことに留意されたい。前記親水層の目的は、前記極性流体を位置させる、即ち、前記極性流体を所望の位置に保持する（該位置は、しばしば、少なくとも部分的に形状を規定する）ことにある。従って、比較的小さい親水性領域が、この目的に適切であり得る。例えば、装置の内側表面の全体は、（複数の）前記極性流体を特定の形状又は位置に保持することが必要である領域を別として、疎水性であり得る。
【００３３】
エレクトロウェッティングは、極性又は導電性の流体の、表面に対する濡れ性を増加させるのに使用されることができる。この濡れ性が、最初、小さい場合（極性流体の場合であり、これは、通常、疎水面と呼ばれ、例えば、テフロン（登録商標）のような面である）、電圧は、該濡れ性を大きくするように使用されることができる。前記濡れ性が、最初、大きい場合（極性流体の場合であって、これは、通常、親水面と呼ばれ、例えば、シリコン二酸化物である）、印加電圧は、比較的、あまり効果を有さない。従って、エレクトロウェッティング装置において、前記三相線は、最初、疎水層と接触しているのが好ましい。
【００３４】
本発明は、図５及び６の例によって示されているように、３つ以上の流体を有するエレクトロウェッティング装置に適用されることができることも、理解されたい。本発明は、ｎ個の流体を有するいかなる装置にも適用されることができ、ここで、ｎ≧２であり、ｎは、前記装置の設計により意図されている流体の数である。
【００３５】
図５は、非極性流体３２０によって分離されている２つの極性流体３３０、３３２を有する、エレクトロウェッティング装置３００を示している。極性流体３３０、３３２は、同一である又は代替的には異なる流体であることができる。好ましくは、各流体は、近接している流体と不混和であって、これらと界面３２５ａ、３２５ｂを形成する。更に好ましくは、前記流体の全ては、互いに不混和である。好ましくは、各流体は、ほぼ同じ密度を有する。
【００３６】
装置３００の内側表面は、３つの別個の領域３６０、３７０、３６２に分割されており、各領域は、各々流体３３０、３２０、３３２に対応している。各連続的な領域３６０、３７０、３６２の特性は、各領域が、前記対応する流体を、近接しており接続している流体よりも、優先的に引きつける特性である。例えば、領域３６０、３６２は親水性であるのに対し、領域３７０は疎水性である。
【００３７】
内側表面のこの配置は、前記流体の不適切な位置決めを完全には防止しておらず、例えば、流体３３０の一部は、装置３００が激しく揺らされている場合、結局、親水層３６２に付着し得ることを理解されたい。しかしながら、前記内側表面の配置により、極性流体３３０の何らかの一部が領域３６２に接触するためには、先ず、領域３７０によって囲まれている流体３２０を横切る必要がある。従って、流体３３０が、装置３００の前記内側表面の望まれていない部分に付着する可能性は、大幅に減少されており、この結果、比較的安定な装置を提供する。
【００３８】
図６は、４つの分離された流体４２０、４３０、４２２、４３２を含むエレクトロウェッティング装置４００の例を示している。各流体は、近接している流体と不混和である。更に、前記流体各々は、自身が（対応する領域に近接している何れの領域よりも）優先的に付着する該対応する領域と、接触している。例えば、流体４３２は、何れの近接している領域４７７、４７０よりも、環状の内部表面領域４６２に、優先的に付着する。同様に、流体４３０は、近接している領域４７０よりも、領域４６０に、優先的に付着する（近接している領域４７０は、流体４２０に対応している）。
【００３９】
便宜上、図５に示されているエレクトロウェッティング装置３００、又は図６に示されているエレクトロウェッティング装置４００の何れに関しても、電極は示されていない。
【００４０】
上述の実施例は、単に、例として与えられたものであることが理解されるであろう。
【００４１】
異なる濡れ性の領域は、疎水性又は親水性材料から、全体的に形成されることができることが理解されるであろう。代替的には、前記領域は、例えば、ディップコーティング又は化学蒸着法によって、疎水性又は親水性物質で他の材料を覆うことにより、形成されることもできる。
【００４２】
当該装置は、あらゆる、複数の流体で満たされた装置であり得て、動作するためにエレクトロウェッティング現象を利用する装置に限定されるものではない。
【００４３】
当該装置は、何らかの所望の形状を有することができる。例えば、本発明によるエレクトロウェッティング装置は、国際公開第００／５８７６３号公報に記載されている形状であることもできる。
【００４４】
当該装置は、光学装置であることができ、光学装置の一部を形成すること、又は、むしろいかなる他の種類の装置であることもできる。
【００４５】
図７は、光記録担体２を走査する装置１であって、本発明の実施例に従う可変焦点レンズを有する対物レンズ系のレンズ１８を含んでいる装置１を示している。この特定の実施例において、可変焦点レンズ１８は、図４に示されているエレクトロウェッティング装置２００に対応している。しかしながら、他の実施例は、何らかの所望の光学機能を実行するように他の流体で満たされた装置を使用し得ることを、理解されたい。例えば、適切な装置が、走査装置における、調整可能な強度を有する何らかのレンズとして、調整可能な絞りとして、又は波面補正部品（例えば、該部品を通過する放射ビームに、調整可能な量の球面収差を導入する）として、使用されることができる。
【００４６】
図７は、対物レンズ１８を含む、光記録担体２を走査する装置１を示している。前記光記録担体は、透明層３を有しており、該透明層３の一方の側に、情報層４が配されている。情報層の前記透明層から見て反対の側は、保護層５によって、環境の影響から保護されている。前記透明層の当該装置に面している側は、入射面６と呼ばれる。透明層３は、前記情報層に対する機械的支持を提供することにより、記録担体に対する基板として働く。
【００４７】
代替的には、前記透明層は、前記情報層を保護する機能のみを有し得る一方で、前記機械的支持は、前記情報層の他方の側における層によって（例えば、保護層５によって、又は情報層４に接続されている透明層及び更なる情報層によって）、提供される。
【００４８】
情報は、ほぼ平行な、同心又はらせん状のトラック（図示略）内に配される光学的に検出可能なマークの形態で、記録担体の情報層４に記憶されることができる。前記マークは、何らかの光学的に読み出し可能な形態のものであることができ、該形態とは、例えば、ピットの形態、反射係数若しくは自身の周囲とは異なる磁化の方向を有する領域、又はこれらの形態の組み合わせである。
【００４９】
走査装置１は、放射ビーム１２を発することができる放射源１１を有する。前記放射源は、半導体レーザであり得る。ビームスプリッタ１３は、発散している放射ビーム１２を、コリメータレンズ１４に向かって反射し、該コリメータレンズ１４は、発散しているビーム１２を、コリメートされたビーム１５に変換する。コリメートされたビーム１５は、対物系１８に入射する。
【００５０】
前記対物系は、１つ以上のレンズ及び／又は回折格子を有し得る。対物系１８は、光軸１９を有する。対物系１８は、ビーム１７を、記録担体２の入射面６に入射する集束ビーム２０に変化させる。前記対物系は、透明層３の厚さを介する前記放射ビームの通過に適応化された球面収差補正を有する。集束ビーム２０は、情報層４上にスポット２１を形成する。情報層４によって反射された放射は、発散しているビーム２２を形成し、これは、対物系１８によってほぼコリメートされたビーム２３に変形され、コリメータレンズ１４によって集束ビーム２４に変形される。ビームスプリッタ１３は、集束ビーム２４の少なくとも一部を、検出システム２５に向かって透過させることによって、順方向のビームと反射されたビームとを分離する。前記検出システムは、前記放射を捕捉し、これを、電気的な出力信号２６に変換する。信号プロセッサ２７は、これらの出力信号を、様々な他の信号に変換する。
【００５１】
前記信号の１つは、情報信号２８であり、この値は、情報層４から読み出された情報を表している。前記情報信号は、エラー訂正用の情報処理ユニット２９によって処理される。信号情報プロセッサ２７からの他の信号は、フォーカスエラー信号及び半径誤差信号３０である。フォーカスエラー信号は、スポット２１と情報層４との間の高さの軸方向の差を表している。半径誤差信号は、スポット２１と、該スポットによって追従されるべき情報層内のトラックの中心との間の、情報層４の平面内の距離を表している。フォーカスエラー信号と半径誤差信号とは、サーボ回路３１に供給され、該サーボ回路３１は、これらの信号を、それぞれフォーカスアクチュエータ及び半径アクチュエータを制御するサーボ制御信号３２に変換する。これらのアクチュエータは、図に示されていない。フォーカスアクチェータは、対物系１８の位置を、フォーカス方向３３に制御し、これにより、スポット２１の実際の位置が情報層４の面とほぼ一致するように、スポット２１の実際の位置を制御する。半径アクチュエータは、対物レンズ１８の位置を半径方向３４に制御し、これによって、スポット２１の半径位置が情報層４内の追従されるべきトラックの中心線とほぼ一致するように、スポット２１の半径位置を制御する。この図におけるトラックは、該図の平面に対して垂直な方向に走っている。
【００５２】
この特定の実施例における図７の装置は、記録担体２よりも厚い透明層を有する第２の種類の記録担体も走査する。当該装置は、放射ビーム１２、又は前記第２の種類の記録担体を走査するための異なる波長を有する放射ビームを使用することができる。この放射ビームのＮＡは、記録担体の種類に適応化されることができる。前記対物系の球面収差補正は、これに応じて適応化されなければならない。
【００５３】
上述のような内側表面を有する装置を設けることによって、前記流体が、当該装置の前記内側表面の不適切な部分に付着する見込みは、大幅に減少される。従って、当該装置の安定性が、改善される。このことは、当該装置が、携帯可能なＣＤ（コンパクトディスク）又はＤＶＤ（デジタル多用途ディスク）プレーヤのような携帯可能なユニットにおいて使用される場合、特に有利である。
【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１】既知のエレクトロウェッティング装置の断面図を示している。
【図２】図１に示されている装置の断面図であって、前記装置がどのように乱され得るかを示している。
【図３】本発明の第１実施例による装置の断面図を示している。
【図４】本発明の更なる実施例による装置の断面図を示している。
【図５】本発明の他の実施例による装置の断面図を示している。
【図６】本発明の更なる実施例による装置の断面図を示している。
【図７】本発明の実施例によるエレクトロウェッティング装置を含む、光記録担体を走査する装置を示している。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、流体で満たされた装置に関し、詳細には、密封されたキャビティを有する前記装置に関する。本発明は、詳細には、エレクトロウェッティング装置における使用に適している。
【背景技術】
【０００２】
流体で満たされた装置とは、少なくとも２つの流体を含む装置（即ち、複数の流体で満たされた装置）であって、典型的には、少なくとも１つの前記流体を変位させる（該体積の位置又は形状を変化させる）ことにより、機能を実施する装置である。
【０００３】
流体で満たされた光学装置（ｏｐｔｉｃａｌ ｆｌｕｉｄ ｆｉｌｌｅｄ ｄｅｖｉｃｅ）は、例えば、レンズ、絞り、回折格子、シャッタ、光スイッチ又はフィルタとして機能することができる。流体で満たされた光学装置の例と、例えばエレクトロウェッティングを使用することにより流体を変位させる種々の可能な方法とは、国際公開第０２／０６９０１６号公報に記載されている。
【０００４】
エレクトロウェッティング装置とは、動作するのにエレクトロウェッティング現象を利用する装置である。エレクトロウェッティングにおいて、三相の接触角が、印加電圧によって変化される。前記三相は、２つの流体と１つの固体とを構成している。流体という語は、液体及び気体の両方を包含している。典型的には、少なくとも第１流体は液体であり、第２流体は、液体、気体又は蒸気であり得る。
【０００５】
欧州特許出願公開第１，０６９，４５０号公報は、可変密度の光フィルタとして振舞うように、エレクトロウェッティング効果を利用している光学装置を記載している。図１は、前記のような典型的な光学装置９０の断面図である。光学装置９０は、密封された空間９２（即ち、チャンバ又はキャビティ）内に閉じ込められた２つの不混和性流体８０、８７を有する。不混和という語は、これら２つの流体が混和しないことを意味する。第１流体８０は、絶縁体（例えば、シリコーンオイル）であって、第２流体８７は、電気伝導体（例えば、水とエチルアルコールとの混合物）である。第１流体８０と第２流体８７とは、異なる光透過率を有している。
【０００６】
電圧源４０からの電圧は、流体８７と電極４２との間に電場を発生するように、２つの電極４１、４２に印加されることができる（絶縁層５０は、第２電極４２が導電性の前記第２流体と接触するのを防止している）。
【０００７】
第２流体８７に印加される前記電圧を変化させることにより、第１流体８０と第２流体８７との間の界面８５の形状が変更され、この結果、光学素子の全体的な透過率を変化させる。類似の構成であるが、２つの流体８０、８７が異なる屈折率を有する構成を使用して、可変レンズを提供することも知られている。
【０００８】
図１における装置９０は、第１流体８０を位置付けるように、絶縁層５０上に、親水剤の環７０によって囲まれている直径Ｄ１の撥水フィルム６０を有する。界面８５の形状は、前記装置の動作中、変化する。前記形状の変化により、流体８０は、撥水層６０から密封された空間の対向面まで延在し得る。第１流体８０が、前記対向面に付着（ａｄｈｅｒｅ）するのを防止するように、該対向面の一部は、直径Ｄ２の親水性フィルム７２の層によって覆われている。
【０００９】
界面２５に対する重力の振る舞いを制限するように、２つの流体８０、８７は、等しい密度であり得る。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明の実施例の目的は、改善されたエレクトロウェッティング装置を提供することにある。本発明の実施例の目的は、特に、加速力（ａｃｃｅｌｅｒａｔｉｖｅ ｆｏｒｃｅ）を受けている場合に、改善された安定性を有するエレクトロウェッティング装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
１つの見地において、本発明は、ｎを整数かつｎ≧２とするｎ個の流体を含む密封されたキャビティを有する装置であって、各流体は、隣接している（ｃｏｎｔｉｇｕｏｕｓ）各流体と実質的に混和せず、前記キャビティはｎ個の連続的な領域に分割されている内側表面によって規定されており、前記連続的な領域各々は、各々対応する流体と接触しており、各領域の濡れ性は、各々対応する流体が、対応する領域に近接している何れの領域よりも、該対応する領域に、優先的に（ｐｒｅｆｅｒｅｎｔｉａｌｌｙ）付着する濡れ性である装置を提供する。
【００１２】
前記のような構造を有する密封されたキャビティを設けることにより、流体が、前記キャビティの内側表面の不適切な部分に付着する可能性は、大幅に減少される。従って、加速力を受けている場合の前記装置の安定性が、改善される。更に、他の流体内に溶解している、ある少量の１つの流体が、不適切な面上に凝縮することは、防止される。
【００１３】
他の見地において、本発明は、光記録担体の情報層を走査する光走査装置であって、放射ビームを発生する放射源と、該放射ビームを情報層上に集束させる対物系とを有する光走査装置において、前記光走査装置は、ｎを整数かつｎ≧２とするｎ個の流体を含む密封されたキャビティを有し、各流体は、隣接している各流体と実質的に混和せず、前記キャビティはｎ個の連続的な領域に分割されている内側表面によって規定されており、前記連続的な領域各々は、各々対応する流体と接触しており、各領域の濡れ性は、各々対応する流体が、対応する領域に近接している何れの領域よりも、該対応する領域に、優先的に付着する濡れ性である装置を提供する。
【００１４】
更なる見地において、本発明は、ｎを整数かつｎ≧２とするｎ個の連続的な領域に分割されている内側表面を有するキャビティを設けるステップと；各流体は、前記連続的な領域各々が、各々対応する流体と接触するように、隣接している各流体と実質的に不混和であるｎ個の流体によって、前記キャビティを満たすステップと；各領域の濡れ性は、各々対応する流体が、対応する領域に近接している何れの領域よりも、該対応する領域に、優先的に付着する濡れ性である前記キャビティを、密封するステップと；を有する、装置を製造する方法を提供する。
【００１５】
他の見地において、本発明は、放射ビームを発生する放射源を設けるステップと；ｎを整数かつｎ≧２とするｎ個の流体を含む密封されたキャビティであって、各流体は、隣接している各流体と実質的に不混和であって、前記キャビティは、ｎ個の連続的な領域に分割されている内側表面によって規定されており、前記連続的な領域各々は、各々対応する流体と接触しており、各領域の濡れ性は、各々対応する流体が、対応する領域に近接している何れの領域よりも、該対応する領域に、優先的に付着する濡れ性であるキャビティを有する装置を設けるステップと；を有する、光記録担体の情報層を走査する光走査装置を製造する方法を提供する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
本発明の更なる理解のために、以下で、例として、添付図面を参照して、同様の複数の実施例がどのように実行されることができるかが示される。
【００１７】
本発明者らは、図１に示されている装置９０が乱され、この結果、両方の流体が所望の位置に完全に留まらないことが起こり得ることを、認識した。例えば、流体８０の一部８１が、図２に示されているように当該装置の角に留まり得る。この状況は、２つの流体が完全に不混和でない場合に、生じ得る。例えば、流体８０内の、流体の小さい（サブマイクロメートルサイズの）滴８１が、装置９０の内側表面の一部に、くっ付き、蓄積し得る。代替的には、前記状況は、例えば、該装置９０が揺らされた又は落下された場合のような、装置９０が加速力を受けている場合に、生じ得る。
【００１８】
所望の位置からの、前記流体の一部（又は、それどころか、流体全体）の変位は、当該装置の動作に影響を与え得るので、望ましくない。２つの流体８０、８７間の界面８５の形状は、第１流体８０の体積に、部分的に依存する。従って、第１流体８０の体積が減少された場合、印加される電圧の関数である界面８５の形状は、影響を受ける。このことは、装置９０の性能を変化させ、可変フィルタとして（又はレンズとして（流体８０、８７の特性に依存する））の前記装置の機能を害する。
【００１９】
本発明者らは、前記のような２つの流体のシステムに関して、全ての前記内側表面を、２つの分離された領域に分割し、前記領域各々は、各々前記２つの流体の一方に対応しており、好ましくは、それを引きつけることによって、この問題が克服されることができることを実現した。このことは、各流体が対応する領域に引きつけられるように、各流体に対し異なる濡れ性を有する当該装置の領域を設けることによって、達成される。濡れ性とは、固体が、流体によって濡らされる（覆われる）程度をいう。「〜に分割する」という語は、複数の、表面の前記領域が、近接している又は隣接しており（即ち、実質的に中間領域を有さない）、かつ、連続的である（即ち、前記領域各々は、他の流体を引きつける実質的な介在領域を含まない）ことを意味する。前記中間又は介在領域の最大幅は、前記流体内に形成され得る滴の直径よりも小さい。好ましくは、前記領域の最大幅は、１００μｍよりも小さく、より好ましくは、１０μｍよりも小さい。従って、前記のような滴が、前記のような中間領域に接触した場合、該中間領域は、前記滴に十分な接触域を与えないので、該滴は、付着しない。
【００２０】
図３は、本発明の第１実施例による装置１００の断面図を示している。装置１００は、概ね、図１及び２に示されている装置９０に対応しており、同一の符号は、類似のフィーチャを示している。装置１００は、非導電性かつ非極性（ｎｏｎ−ｐｏｌａｒ）である第１流体８０を引きつける直径Ｄ１の疎水面の領域６０を有する。内側表面の残部は、親水被膜１７０によって覆われており、親水被膜１７０は、導電性かつ極性の流体８７によって、優先的に濡らされる（即ち、親水被膜１７０が引きつける）。このことは、図２に示されている状況であって、液体８０の一部が、望まれない態様で内側キャビティの一部に付着する状況を、防止する。代わりに、望まれない滴が形成される場合、該滴は、前記内側表面の望まれない部分に付着せず、液体と合体し滑り落ちるまで、動き続け、これによって、前記流体の所望の配置に戻る。
【００２１】
この特定の実施例において、電極４１は、導電性かつ極性の流体８７と電気的に接触しており、（前記密封されたキャビティの内側表面の一部を形成する）前記電極の表面は、親水性である。前記電極の表面は、元々、親水性であることができる。代替的には、導電性かつ親水性の被膜が、全ての表面領域１７０に又は前記電極（若しくは該電極の、前記キャビティの内側表面の一部を形成する部分）のみに塗布されても良い。
【００２２】
他の実施例において、電極４１を覆う前記被膜は導電的でなく、即ち、これは絶縁体である。例えば、親水性の絶縁体であるシリコン酸化物が、使用されることができる。エレクトロウェッティングは、いくらか高い電圧においてであるが、静電結合によっても生じる。絶縁被膜が、対向電極４２を覆う絶縁層と比較して薄い場合、必要とされる電圧の増加は、最小限になる。
【００２３】
図４は、本発明の更なる実施例による装置２００を示している。装置２００は、再び、光学装置であって（即ち、これは、前記装置への入射光の特性を変更する）、この例において、装置２００は、可変焦点レンズとして働く。
【００２４】
装置２００は、第１流体２２０及び第２流体２３０を有しており、これら２つの流体は、不混和である。第１流体２２０は、非導電性かつ非極性の流体であって、例えば、シリコーンオイル又はアルカンである。第２流体２３０は、導電性又は極性の液体であって、例えば、塩溶液を含有する水（又は、水とエチレングリコールとの混合物）である。
【００２５】
２つの流体２２０、２３０は、好ましくは、レンズが向きと独立に機能するように、前記２つの流体間の重力作用を最小化するために、等しい密度を有する。２つの流体２２０、２３０は、該２つの流体間の界面２２５が、レンズとして働くように、異なる屈折率を有する。
【００２６】
界面２２５の形状が変化されると、前記レンズの焦点距離が変化される。界面２２５の形状は、前記流体と装置２００の壁との接触角を変更するように、電極２６０と電極２４２との間に電圧を印加することにより、エレクトロウェッティング現象によって、調整される。
【００２７】
前記装置を介する光の透過を可能にするように、少なくとも前記装置の対向している面（当該図に示されている向きにおいて、上面及び下面）は、透明である。この特定の実施例において、当該装置は、円筒体２１０の形態をとっており、光は、該円筒体の透明な端部２１２、２１４を介して入射及び出射する。流体２２０、２３０は、円筒体２１０によって規定されている密封された空間内に封入されている。円筒体２１０の内側表面の一方の端部２６０は、極性流体２３０を引きつけるように親水性である。円筒体２１０の残部（即ち、反対側の端部及び内側の側面壁）は、疎水性被膜２７０によって覆われている。
【００２８】
親水性領域２６０は、親水性材料（例えば、ガラス）によって、全体的に形成されることができ、又は、代替的には、親水層（例えば、シリコン二酸化物）によって覆われることができる。
【００２９】
この特定の実施例において、内側表面の親水領域２６０は、電極を形成するように、透明な親水性の導体（例えば、酸化インジウムスズ）によって完全に覆われている。
【００３０】
三相線の近傍の装置２００の周りに延在している環状電極２４２と透明電極２６０とにより極性液体２３０に印加される電圧は、可変電圧源２４０から印加される。電極２４２は、極性流体２３０と導電的に接触していない。
【００３１】
前記円筒体の内側表面の一つの領域を親水性に、該内側表面の残部を疎水性に配することにより、この２つの流体のシステムにおいて、当該装置の安定性が大幅に向上されることが、理解されるであろう。前記極性流体は、前記内側表面の非極性流体のみを有することが望まれている部分には付着せず、前記非極性流体も、前記内側表面の極性流体のみを有することが望まれている部分には付着しない。
【００３２】
この条件は、極性流体２３０が、疎水性被膜２７０の一部と接触するのを防止していないことに留意されたい。前記親水層の目的は、前記極性流体を位置させる、即ち、前記極性流体を所望の位置に保持する（該位置は、しばしば、少なくとも部分的に形状を規定する）ことにある。従って、比較的小さい親水性領域が、この目的に適切であり得る。例えば、装置の内側表面の全体は、（複数の）前記極性流体を特定の形状又は位置に保持することが必要である領域を別として、疎水性であり得る。
【００３３】
エレクトロウェッティングは、極性又は導電性の流体の、表面に対する濡れ性を増加させるのに使用されることができる。この濡れ性が、最初、小さい場合（極性流体の場合であり、これは、通常、疎水面と呼ばれ、例えば、テフロン（登録商標）のような面である）、電圧は、該濡れ性を大きくするように使用されることができる。前記濡れ性が、最初、大きい場合（極性流体の場合であって、これは、通常、親水面と呼ばれ、例えば、シリコン二酸化物である）、印加電圧は、比較的、あまり効果を有さない。従って、エレクトロウェッティング装置において、前記三相線は、最初、疎水層と接触しているのが好ましい。
【００３４】
本発明は、図５及び６の例によって示されているように、３つ以上の流体を有するエレクトロウェッティング装置に適用されることができることも、理解されたい。本発明は、ｎ個の流体を有するいかなる装置にも適用されることができ、ここで、ｎ≧２であり、ｎは、前記装置の設計により意図されている流体の数である。
【００３５】
図５は、非極性流体３２０によって分離されている２つの極性流体３３０、３３２を有する、エレクトロウェッティング装置３００を示している。極性流体３３０、３３２は、同一である又は代替的には異なる流体であることができる。好ましくは、各流体は、近接している流体と不混和であって、これらと界面３２５ａ、３２５ｂを形成する。更に好ましくは、前記流体の全ては、互いに不混和である。好ましくは、各流体は、ほぼ同じ密度を有する。
【００３６】
装置３００の内側表面は、３つの別個の領域３６０、３７０、３６２に分割されており、各領域は、各々流体３３０、３２０、３３２に対応している。各連続的な領域３６０、３７０、３６２の特性は、各領域が、前記対応する流体を、近接しており接続している流体よりも、優先的に引きつける特性である。例えば、領域３６０、３６２は親水性であるのに対し、領域３７０は疎水性である。
【００３７】
内側表面のこの配置は、前記流体の不適切な位置決めを完全には防止しておらず、例えば、流体３３０の一部は、装置３００が激しく揺らされている場合、結局、親水層３６２に付着し得ることを理解されたい。しかしながら、前記内側表面の配置により、極性流体３３０の何らかの一部が領域３６２に接触するためには、先ず、領域３７０によって囲まれている流体３２０を横切る必要がある。従って、流体３３０が、装置３００の前記内側表面の望まれていない部分に付着する可能性は、大幅に減少されており、この結果、比較的安定な装置を提供する。
【００３８】
図６は、４つの分離された流体４２０、４３０、４２２、４３２を含むエレクトロウェッティング装置４００の例を示している。各流体は、近接している流体と不混和である。更に、前記流体各々は、自身が（対応する領域に近接している何れの領域よりも）優先的に付着する該対応する領域と、接触している。例えば、流体４３２は、何れの近接している領域４７７、４７０よりも、環状の内部表面領域４６２に、優先的に付着する。同様に、流体４３０は、近接している領域４７０よりも、領域４６０に、優先的に付着する（近接している領域４７０は、流体４２０に対応している）。
【００３９】
便宜上、図５に示されているエレクトロウェッティング装置３００、又は図６に示されているエレクトロウェッティング装置４００の何れに関しても、電極は示されていない。
【００４０】
上述の実施例は、単に、例として与えられたものであることが理解されるであろう。
【００４１】
異なる濡れ性の領域は、疎水性又は親水性材料から、全体的に形成されることができることが理解されるであろう。代替的には、前記領域は、例えば、ディップコーティング又は化学蒸着法によって、疎水性又は親水性物質で他の材料を覆うことにより、形成されることもできる。
【００４２】
当該装置は、あらゆる、複数の流体で満たされた装置であり得て、動作するためにエレクトロウェッティング現象を利用する装置に限定されるものではない。
【００４３】
当該装置は、何らかの所望の形状を有することができる。例えば、本発明によるエレクトロウェッティング装置は、国際公開第００／５８７６３号公報に記載されている形状であることもできる。
【００４４】
当該装置は、光学装置であることができ、光学装置の一部を形成すること、又は、むしろいかなる他の種類の装置であることもできる。
【００４５】
図７は、光記録担体２を走査する装置１であって、本発明の実施例に従う可変焦点レンズを有する対物レンズ系のレンズ１８を含んでいる装置１を示している。この特定の実施例において、可変焦点レンズ１８は、図４に示されているエレクトロウェッティング装置２００に対応している。しかしながら、他の実施例は、何らかの所望の光学機能を実行するように他の流体で満たされた装置を使用し得ることを、理解されたい。例えば、適切な装置が、走査装置における、調整可能な強度を有する何らかのレンズとして、調整可能な絞りとして、又は波面補正部品（例えば、該部品を通過する放射ビームに、調整可能な量の球面収差を導入する）として、使用されることができる。
【００４６】
図７は、対物レンズ１８を含む、光記録担体２を走査する装置１を示している。前記光記録担体は、透明層３を有しており、該透明層３の一方の側に、情報層４が配されている。情報層の前記透明層から見て反対の側は、保護層５によって、環境の影響から保護されている。前記透明層の当該装置に面している側は、入射面６と呼ばれる。透明層３は、前記情報層に対する機械的支持を提供することにより、記録担体に対する基板として働く。
【００４７】
代替的には、前記透明層は、前記情報層を保護する機能のみを有し得る一方で、前記機械的支持は、前記情報層の他方の側における層によって（例えば、保護層５によって、又は情報層４に接続されている透明層及び更なる情報層によって）、提供される。
【００４８】
情報は、ほぼ平行な、同心又はらせん状のトラック（図示略）内に配される光学的に検出可能なマークの形態で、記録担体の情報層４に記憶されることができる。前記マークは、何らかの光学的に読み出し可能な形態のものであることができ、該形態とは、例えば、ピットの形態、反射係数若しくは自身の周囲とは異なる磁化の方向を有する領域、又はこれらの形態の組み合わせである。
【００４９】
走査装置１は、放射ビーム１２を発することができる放射源１１を有する。前記放射源は、半導体レーザであり得る。ビームスプリッタ１３は、発散している放射ビーム１２を、コリメータレンズ１４に向かって反射し、該コリメータレンズ１４は、発散しているビーム１２を、コリメートされたビーム１５に変換する。コリメートされたビーム１５は、対物系１８に入射する。
【００５０】
前記対物系は、１つ以上のレンズ及び／又は回折格子を有し得る。対物系１８は、光軸１９を有する。対物系１８は、ビーム１７を、記録担体２の入射面６に入射する集束ビーム２０に変化させる。前記対物系は、透明層３の厚さを介する前記放射ビームの通過に適応化された球面収差補正を有する。集束ビーム２０は、情報層４上にスポット２１を形成する。情報層４によって反射された放射は、発散しているビーム２２を形成し、これは、対物系１８によってほぼコリメートされたビーム２３に変形され、コリメータレンズ１４によって集束ビーム２４に変形される。ビームスプリッタ１３は、集束ビーム２４の少なくとも一部を、検出システム２５に向かって透過させることによって、順方向のビームと反射されたビームとを分離する。前記検出システムは、前記放射を捕捉し、これを、電気的な出力信号２６に変換する。信号プロセッサ２７は、これらの出力信号を、様々な他の信号に変換する。
【００５１】
前記信号の１つは、情報信号２８であり、この値は、情報層４から読み出された情報を表している。前記情報信号は、エラー訂正用の情報処理ユニット２９によって処理される。信号情報プロセッサ２７からの他の信号は、フォーカスエラー信号及び半径誤差信号３０である。フォーカスエラー信号は、スポット２１と情報層４との間の高さの軸方向の差を表している。半径誤差信号は、スポット２１と、該スポットによって追従されるべき情報層内のトラックの中心との間の、情報層４の平面内の距離を表している。フォーカスエラー信号と半径誤差信号とは、サーボ回路３１に供給され、該サーボ回路３１は、これらの信号を、それぞれフォーカスアクチュエータ及び半径アクチュエータを制御するサーボ制御信号３２に変換する。これらのアクチュエータは、図に示されていない。フォーカスアクチェータは、対物系１８の位置を、フォーカス方向３３に制御し、これにより、スポット２１の実際の位置が情報層４の面とほぼ一致するように、スポット２１の実際の位置を制御する。半径アクチュエータは、対物レンズ１８の位置を半径方向３４に制御し、これによって、スポット２１の半径位置が情報層４内の追従されるべきトラックの中心線とほぼ一致するように、スポット２１の半径位置を制御する。この図におけるトラックは、該図の平面に対して垂直な方向に走っている。
【００５２】
この特定の実施例における図７の装置は、記録担体２よりも厚い透明層を有する第２の種類の記録担体も走査する。当該装置は、放射ビーム１２、又は前記第２の種類の記録担体を走査するための異なる波長を有する放射ビームを使用することができる。この放射ビームのＮＡは、記録担体の種類に適応化されることができる。前記対物系の球面収差補正は、これに応じて適応化されなければならない。
【００５３】
上述のような内側表面を有する装置を設けることによって、前記流体が、当該装置の前記内側表面の不適切な部分に付着する見込みは、大幅に減少される。従って、当該装置の安定性が、改善される。このことは、当該装置が、携帯可能なＣＤ（コンパクトディスク）又はＤＶＤ（デジタル多用途ディスク）プレーヤのような携帯可能なユニットにおいて使用される場合、特に有利である。
【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１】既知のエレクトロウェッティング装置の断面図を示している。
【図２】図１に示されている装置の断面図であって、前記装置がどのように乱され得るかを示している。
【図３】本発明の第１実施例による装置の断面図を示している。
【図４】本発明の更なる実施例による装置の断面図を示している。
【図５】本発明の他の実施例による装置の断面図を示している。
【図６】本発明の更なる実施例による装置の断面図を示している。
【図７】本発明の実施例によるエレクトロウェッティング装置を含む、光記録担体を走査する装置を示している。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ｎを整数かつｎ≧２とする、ｎ個の流体を含む密封されたキャビティを有する装置であって、各流体は、隣接している各流体と実質的に不混和であって、前記キャビティは、ｎ個の連続的な領域に分割されている内側表面によって規定されており、前記連続的な領域各々は、各々対応する流体と接触しており、各領域の濡れ性は、各々対応する流体が、対応する領域に近接している何れの領域よりも、該対応する領域に、優先的に付着する濡れ性である装置。
【請求項２】
前記連続的な領域の少なくとも１つの領域が、電気的絶縁層によって覆われている電極を有する、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記連続的な領域の少なくとも１つの領域が、電極の表面を含む、請求項１又は請求項２に記載の装置。
【請求項４】
ｎ＝２である、請求項１ないし３の何れか一項に記載の装置。
【請求項５】
前記流体のそれぞれが液体である、請求項１ないし４の何れか一項に記載の装置。
【請求項６】
前記流体の少なくとも１つが、気体又は蒸気である、請求項１ないし４の何れか一項に記載の装置。
【請求項７】
各流体が、ほぼ同じ密度を有している、請求項１ないし６の何れか一項に記載の装置。
【請求項８】
光記録担体の情報層を走査する光走査装置であって、放射ビームを発生する放射源と前記放射ビームを前記情報層上に集束させる対物系とを有する光走査装置において、ｎを整数かつｎ≧２とする、ｎ個の流体を含む密封されたキャビティを有し、各流体は、隣接している各流体と実質的に不混和であり、前記キャビティは、ｎ個の連続的な領域に分割されている内側表面によって規定されており、前記連続的な領域各々は、各々対応する流体と接触しており、各領域の濡れ性は、各々対応する流体が、対応する領域に近接している何れの領域よりも、該対応する領域に、優先的に付着する濡れ性である装置を有する、光走査装置。
【請求項９】
前記対物系が、エレクトロウェッティング装置を含む、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
― ｎを整数かつｎ≧２とする、ｎ個の連続的な領域に分割されている内側表面を有するキャビティを設けるステップと、
― 各流体は、前記連続的な領域各々が、各々対応する流体と接触するように、隣接している各流体と実質的に不混和であるｎ個の流体によって、前記キャビティを満たすステップと、
― 各領域の濡れ性は、各々対応する流体が、対応する領域に近接している何れの領域よりも、該対応する領域に、優先的に付着する濡れ性である、前記キャビティを密封するステップと、
を有する装置を製造する方法。
【請求項１１】
― 放射ビームを発生する放射源を設けるステップと、
― ｎを整数かつｎ≧２とする、ｎ個の流体を含む密封されたキャビティであって、各流体は、隣接している各流体と実質的に不混和であって、該キャビティは、ｎ個の連続的な領域に分割されている内側表面によって規定されており、前記連続的な領域各々は、各々対応する流体と接触しており、各領域の濡れ性は、各々対応する流体が、対応する領域に近接している何れの領域よりも、該対応する領域に、優先的に付着する濡れ性である、密封されたキャビティを有する装置を設けるステップと、
を有する、光記録担体の情報層を走査する光走査装置を製造する方法。
【請求項１】
ｎを整数かつｎ≧２とする、ｎ個の流体を含む密封されたキャビティを有する装置であって、各流体は、隣接している各流体と実質的に不混和であって、前記キャビティは、ｎ個の連続的な領域に分割されている内側表面によって規定されており、前記連続的な領域各々は、各々対応する流体と接触しており、各領域の濡れ性は、各々対応する流体が、対応する領域に近接している何れの領域よりも、該対応する領域に、優先的に付着する濡れ性である装置。
【請求項２】
前記連続的な領域の少なくとも１つの領域が、電気的絶縁層によって覆われている電極を有する、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記連続的な領域の少なくとも１つの領域が、電極の表面を含む、請求項１又は請求項２に記載の装置。
【請求項４】
ｎ＝２である、請求項１ないし３の何れか一項に記載の装置。
【請求項５】
前記流体のそれぞれが液体である、請求項１ないし４の何れか一項に記載の装置。
【請求項６】
前記流体の少なくとも１つが、気体又は蒸気である、請求項１ないし４の何れか一項に記載の装置。
【請求項７】
各流体が、ほぼ同じ密度を有している、請求項１ないし６の何れか一項に記載の装置。
【請求項８】
光記録担体の情報層を走査する光走査装置であって、放射ビームを発生する放射源と前記放射ビームを前記情報層上に集束させる対物系とを有する光走査装置において、ｎを整数かつｎ≧２とする、ｎ個の流体を含む密封されたキャビティを有し、各流体は、隣接している各流体と実質的に不混和であり、前記キャビティは、ｎ個の連続的な領域に分割されている内側表面によって規定されており、前記連続的な領域各々は、各々対応する流体と接触しており、各領域の濡れ性は、各々対応する流体が、対応する領域に近接している何れの領域よりも、該対応する領域に、優先的に付着する濡れ性である装置を有する、光走査装置。
【請求項９】
前記対物系が、エレクトロウェッティング装置を含む、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
― ｎを整数かつｎ≧２とする、ｎ個の連続的な領域に分割されている内側表面を有するキャビティを設けるステップと、
― 各流体は、前記連続的な領域各々が、各々対応する流体と接触するように、隣接している各流体と実質的に不混和であるｎ個の流体によって、前記キャビティを満たすステップと、
― 各領域の濡れ性は、各々対応する流体が、対応する領域に近接している何れの領域よりも、該対応する領域に、優先的に付着する濡れ性である、前記キャビティを密封するステップと、
を有する装置を製造する方法。
【請求項１１】
― 放射ビームを発生する放射源を設けるステップと、
― ｎを整数かつｎ≧２とする、ｎ個の流体を含む密封されたキャビティであって、各流体は、隣接している各流体と実質的に不混和であって、該キャビティは、ｎ個の連続的な領域に分割されている内側表面によって規定されており、前記連続的な領域各々は、各々対応する流体と接触しており、各領域の濡れ性は、各々対応する流体が、対応する領域に近接している何れの領域よりも、該対応する領域に、優先的に付着する濡れ性である、密封されたキャビティを有する装置を設けるステップと、
を有する、光記録担体の情報層を走査する光走査装置を製造する方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【公表番号】特表２００７−５２８００８（Ｐ２００７−５２８００８Ａ）
【公表日】平成１９年１０月４日（２００７．１０．４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−５０２６０５（Ｐ２００６−５０２６０５）
【出願日】平成１６年２月１９日（２００４．２．１９）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＩＢ２００４／０５０１３３
【国際公開番号】ＷＯ２００４／０７７１２５
【国際公開日】平成１６年９月１０日（２００４．９．１０）
【出願人】（５９００００２４８）コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ (12,071)
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成１９年１０月４日（２００７．１０．４）
【国際特許分類】
【出願日】平成１６年２月１９日（２００４．２．１９）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＩＢ２００４／０５０１３３
【国際公開番号】ＷＯ２００４／０７７１２５
【国際公開日】平成１６年９月１０日（２００４．９．１０）
【出願人】（５９００００２４８）コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ (12,071)
【Ｆターム（参考）】
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