液体潤滑剤
【課題】 低粘度で、蒸発損失が少なく、かつ高引火点の液体潤滑剤を提供する
【解決手段】 ４０℃で液状である電解質（Ａ）を含有し、４０℃での動粘度が１〜２０ｍｍ2／ｓである液体潤滑剤であり、特に、電解質（Ａ）が、アミジニウムカチオン(ａ１）およびアニオン（ａ２）からなる分子量が１，０００以下の電解質であることが好ましく、電解質（Ａ）１００重量部への水の溶解度が１０重量部以下であって、電解質（Ａ）を構成するアニオンの当量以上の過剰のアニオンの含有量が、電解質（Ａ）を構成するアニオン１当量に対して０．１当量以下であることが好ましい。
【解決手段】 ４０℃で液状である電解質（Ａ）を含有し、４０℃での動粘度が１〜２０ｍｍ2／ｓである液体潤滑剤であり、特に、電解質（Ａ）が、アミジニウムカチオン(ａ１）およびアニオン（ａ２）からなる分子量が１，０００以下の電解質であることが好ましく、電解質（Ａ）１００重量部への水の溶解度が１０重量部以下であって、電解質（Ａ）を構成するアニオンの当量以上の過剰のアニオンの含有量が、電解質（Ａ）を構成するアニオン１当量に対して０．１当量以下であることが好ましい。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液体潤滑剤に関する。詳しくは軸受油用の液体潤滑剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＨＤＤなどに使用されるスピンドルモータには、処理スピードの高速化から、年々、高速回転が要求されるようになってきている。
従来のスピンドルモータには玉軸受に代表される転がり軸受が使用されてきたが、性能及びコスト面から非接触型の流体軸受が用いられるようになってきている。この流体軸受の高速回転時の性能（主に回転トルク）は、用いられる潤滑剤の粘度によって定まることが多く、低粘度であるほど高速回転時の回転トルクは低くなる傾向にある。
一方、これらの潤滑剤は、使用時に高温にさらされるため、蒸発損失や引火点を抑える必要がある。
これらの潤滑剤としては、炭化水素系液体潤滑剤やエステル油が提案されている。（特許文献−１〜３参照）
【特許文献−１】特開平１１−１７２２６７号公報
【特許文献−２】特開２００１−２４０８８５号公報
【特許文献−３】特開２００２−１４６３７４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、従来の潤滑剤では、比較的粘度が高いことによる潤滑特性の不十分さ、高温での蒸発損失および引火性などにおいて満足できないものであり、改良が必要とされていた。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明者等は、鋭意検討した結果、上記課題を解決できることを見いだし、本発明に到達した。即ち、本発明は、４０℃で液状である電解質（Ａ）を含有し、４０℃での動粘度が１〜２０ｍｍ2／ｓである液体潤滑剤である。
【発明の効果】
【０００５】
本発明の液体潤滑剤は、従来の液体潤滑剤に比較して低粘度であり、蒸発損失が少なく、かつ、引火点が低い。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
本発明の液体潤滑剤は４０℃で液状の電解質（Ａ）（以下において、単に、電解質（Ａ）または（Ａ）と表記する場合がある）を含有し、（Ａ）の４０℃における動粘度は、好ましくは１〜２０ｍｍ2／ｓ、さらに好ましくは２〜１８ｍｍ2／ｓ、特に好ましくは３〜１５ｍｍ2／ｓである。（Ａ）の動粘度が１ｍｍ2／ｓ以上であると耐摩耗性がさらに良好になり、２０ｍｍ2／ｓ以下であればさらに粘性抵抗が低くなる。
本発明における４０℃での動粘度は、ＪＩＳ Ｋ ２２８３に記載された方法を用い測定されたものである。
本発明の液体潤滑剤は、電解質（Ａ）そのものからなるか、または（Ａ）とその他の成分からなる。
本発明の液体潤滑剤は、４０℃における動粘度が１〜２０ｍｍ2／ｓ、好ましくは２〜１８ｍｍ2／ｓ、さらに好ましくは３〜１５ｍｍ2／ｓである。液体潤滑剤の動粘度が１ｍｍ2／ｓ未満であると、耐摩耗性に乏しくなり、２０ｍｍ2／ｓを越えると、粘性抵抗が高くなる。
【０００７】
本発明における電解質（Ａ）を構成するカチオンとしては、例えばアミジニウムカチオン、ピリジニウムカチオン、ピラゾリウムカチオン、ピペリジンカチオン、モルホリンカチオン、ピペラジンカチオンおよびピロールカチオンなどの第４級アンモニウムカチオン、ホスフォニウムカチオン、並びにスルホニウムカチオンなどの第４級オニウムカチオンなどが挙げられ、２種以上の混合物であってもよい。好ましくは、第４級アンモニウムカチオン、特に一般式（１）または（２）で示されるアミジニウムカチオン(ａ１)である。
【０００８】
【化３】
【０００９】
【化４】
【００１０】
一般式（１）および（２）においてＲ1は、水酸基で置換されていてもよい炭素数１〜２０の炭化水素基または水素原子である。
炭素数１〜２０の炭化水素基としては、炭素数１〜２０のアルキル基、及び芳香族基含有の炭素数６〜２０の炭化水素基が挙げられる。炭素数１〜２０のアルキル基としてはメチル、エチル、イソプロピル、ヘキシル、２−エチルヘキシル、ラウリル、ステアリル等、水酸基で置換された炭素数１〜２０の炭化水素基としてはヒドロキシエチル、２−ヒドロキシプロピル、１−ヒドロキシヘキシル、１−ヒドロキシラウリル等のヒドロキシアルキル基が挙げられる。芳香族基含有の炭素数６〜２０の炭化水素基としては、例えばフェニル基、ベンジル基が挙げられる。好ましくは、炭化水素数が１〜１０の炭化水素基又は水素原子である。特に好ましくは炭素数が１〜５の炭化水素基又は水素原子である。
【００１１】
Ｒは、それぞれ水酸基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、エーテル基、及びアルデヒド基からなる群より選ばれる少なくとも１種の基を有していてもよい炭素数１〜１０（官能基の炭素数は含まない）の炭化水素基であり、同じであっても異なっていてもよい。
Ｒとしては、上記Ｒ1にあげられた炭素数１〜１０の炭化水素基、及びこれらの任意の位置に水酸基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、アルデヒド基を有している基（例えば２−ヒドロキシブチル基、１−アミノエチル基、１−ニトロエチル基、２−シアノプロピル基、１−カルボキシプロピル基等）、また主鎖の中にエーテル基（例えばメトキシエチル基、エトキシプロピル基等）を有している基が挙げられる。Ｒ1およびＲの一部または全部は、それらの２〜４個が相互に結合して２〜４価の基となり窒素原子と共に複素環を形成していてもよい。
好ましくは、炭素数１〜５のアルキル基および環形成基であり、特に好ましくは、炭素数１〜３のアルキル基および環形成基である。
【００１２】
アミジニウムカチオン（ａ１）の具体例としては、下記に例記するようなカチオンが挙げられる。
（ｉ）イミダゾリニウムカチオン
１，２，３−トリメチルイミダゾリニウム、１，２，３，４−テトラメチルイミダゾリニウム、１，３，４−トリメチル−２−エチルイミダゾリニウム、１，３−ジメチル−２，４−ジエチルイミダゾリニウム、１，２−ジメチル−３，４−ジエチルイミダゾリニウム、１−メチル−２，３，４−トリエチルイミダゾリニウム、１，２，３，４−テトラエチルイミダゾリニウム、１，３−ジメチル−２−エチルイミダゾリニウム、１−エチル−２，３−ジメチルイミダゾリニウム、１，２，３−トリエチルイミダゾリニウム、１，１−ジメチル−２−ヘプチルイミダゾリニウム、１，１−ジメチル−２−（−２’ヘプチル）イミダゾリニウム、１，１−ジメチル−２−（−３’ヘプチル）イミダゾリニウム、１，１−ジメチル−２−（−４’ヘプチル）イミダゾリニウム、１，１−ジメチル−２−ドデシルイミダゾリニウム、１，１−ジメチルイミダゾリニウム、１，１，２−トリメチルイミダゾリニウム、１，１，２，４−テトラメチルイミダゾリニウム、１，１，２，５−テトラメチルイミダゾリニウム、１，１，２，４，５−ペンタメチルイミダゾリニウムなど。
（ｉｉ）イミダゾリウムカチオン
１，３−ジメチルイミダゾリウム、１−エチル−３−メチルイミダゾリウム、１，３−ジエチルイミダゾリウム、１，２，３−トリメチルイミダゾリウム、１，２，３，４−テトラメチルイミダゾリウム、１，３，４−トリメチル−２−エチルイミダゾリウム、１，３−ジメチル−２，４−ジエチルイミダゾリウム、１，２−ジメチル−３，４−ジエチルイミダゾリウム、１−メチル−２，３，４−トリエチルイミダゾリウム、１，２，３，４−テトラエチルイミダゾリウム、１，３−ジメチル−２−エチルイミダゾリウム、１−エチル−２，３−ジメチルイミダゾリウム、１，２，３−トリエチルイミダゾリウム、１，１−ジメチル−２−ヘプチルイミダゾリウム、１，１−ジメチル−２−（−２’ヘプチル）イミダゾリウム、１，１−ジメチル−２−（−３’ヘプチル）イミダゾリウム、１，１−ジメチル−２−（−４’ヘプチル）イミダゾリウム、１，１−ジメチル−２−ドデシルイミダゾリウム、１，１−ジメチルイミダゾリウム、１，１，２−トリメチルイミダゾリウム、１，１，２，４−テトラメチルイミダゾリウム、１，１，２，５−テトラメチルイミダゾリウム、１，１，２，４，５−ペンタメチルイミダゾリウムなど。
（ｉｉｉ）テトラヒドロピリミジニウムカチオン
１，３−ジメチル−１，４，５，６−テトラヒドロピリミジニウム、１，２，３−トリメチル−１，４，５，６−テトラヒドロピリミジニウム、１，２，３，４−テトラメチル−１，４，５，６−テトラヒドロピリミジニウム、１，２，３，５−テトラメチル−１，４，５，６−テトラヒドロピリミジニウム、８−メチル−１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセニウム、５−メチル−１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノネニウム、８−エチル−１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセニウム、５−エチル−１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノネニウムなど。
これらのうちで好ましいのは（ｉｉ）イミダゾリウムカチオン及び（ｉｉｉ）テトラヒドロピリミジニウムカチオンであり、さらに好ましいのは、１、３−ジメチルイミダゾリウム、１，３−ジエチルイミダゾリウム、１−エチル−３−メチルイミダゾリウム、１、２、３トリメチルイミダゾリウムであり、特に好ましいものは、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムである。
【００１３】
本発明におけるアニオン（ａ２）としては、公知のアニオンが使用でき、例えば下記に例示するような酸から水素原子を除いたアニオンである。アニオンは２種以上の混合物であってもよい。
【００１４】
（１）無機強酸：
フッ酸、塩酸、硫酸、燐酸、ＨＣｌＯ4、ＨＢＦ4、ＨＰＦ6、ＨＡｓＦ6、ＨＳｂＦ6、フルオロスルホン酸等；
（２）ハロゲン原子含有アルキル基置換無機強酸（アルキル基の炭素数１〜３０）：
ＨＢＦn（ＣＦ3）4-n、ＨＰＦn（ＣＦ3）6-n、トリフルオロメタンスルホン酸、ペンタフルオロエタンスルホン酸、ヘプタフルオロプロパンスルホン酸、トリクロロメタンスルホン酸、ペンタクロロプロパンスルホン酸、ヘプタクロロブタンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、ペンタフルオロプロピオン酸、ペンタフルオロブタン酸、トリクロロ酢酸、ペンタクロロプロピオン酸およびヘプタクロロブタン酸等；
（３）ハロゲン原子含有スルホニルイミド（炭素数１〜３０）：
ビス（フルオロメチルスルホニル）イミド、ビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミドおよびビス（フルオロスルホニル）イミド等；
（４）ハロゲン原子含有スルホニルメチド（炭素数３〜３０）：
トリス（トリフルオロメチルスルホニル）メチド等；
（５）ハロゲン原子含有カルボン酸アミド（炭素数２〜３０）：
ビス（トリフルオロアセト）アミド等；
（６）ニトリル基含有イミド：
ＨＮ（ＣＮ）2等；
（７）ニトリル含有メチド：
ＨＣ（ＣＮ）3等；
（８）炭素数１〜３０のハロゲン原子含有アルキルアミン：
ＨＮ（ＣＦ3）2等
（９）チオシアン酸等；が挙げられる。
【００１５】
これらのうちで好ましいものは、（２）ハロゲン原子含有アルキル基置換無機強酸および（３）ハロゲン原子含有スルホニルイミドであり、さらに好ましいのは（３）ハロゲン原子含有スルホニルイミド、特に好ましいのはビス（フルオロスルホニル）イミドおよびビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミドである。
【００１６】
本発明における電解質（Ａ）の具体例としては、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムカチオンとビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミドアニオンからなる電解質、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムカチオンとビス（フルオロスルホニル）イミドアニオンからなる電解質、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムカチオンとビス（フルオロメチルスルホニル）イミドアニオンからなる電解質、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムカチオンとＢＦ4アニオンからなる電解質、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムカチオンとＢＦ3（ＣＦ3）アニオンからなる電解質、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムカチオンとＢＦ2（ＣＦ3）2アニオンからなる電解質、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムカチオンとＢＦ3（Ｃ2Ｆ5）アニオンからなる電解質、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムカチオンとＢＦ3（Ｃ4Ｆ9）アニオンからなる電解質、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムカチオンとＮ（ＣＮ）2アニオンからなる電解質、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムカチオンとＣ（ＣＮ）3アニオンからなる電解質、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムカチオンとトリフルオロメタンスルホン酸アニオンからなる電解質、１，３−ジメチルイミダゾリウムカチオンとビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミドアニオンからなる電解質、１，３−ジエチルイミダゾリウムカチオンとビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミドアニオンからなる電解質、１−エチル−３−ブチルイミダゾリウムカチオンとビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミドアニオンからなる電解質、１−（２，２，２−トリフルオロエチル）−３−メチルイミダゾリウムカチオンとビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミドアニオンからなる電解質、１−メトキシエチル−３−メチルイミダゾリウムカチオンとビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミドアニオンからなる電解質、１，２−ジメチル−３−エチルイミダゾリウムカチオンとビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミドアニオンからなる電解質、などが挙げられる。
【００１７】
本発明において電解質（Ａ）の製造方法は特に限定されないが、例えば、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，６９，２２６９（１９４７）、米国特許第４８９２９４４号などに記載の方法（３級アミンを炭酸エステルで４級化後、塩交換する方法）などが挙げられる。
電解質（Ａ）を形成するカチオンが第４級アンモニウムカチオンである場合の主な製造方法を以下に例示する
【００１８】
製造方法−１
第３級アミン（第４級アンモニウムカチオン形成する前の第３級アミン）と同当量以上（好ましくは１．１〜５．０当量）の炭酸ジアルキルエステル（アルキル基の炭素数１〜５）を、溶媒（例えば、メタノール）の存在下（第３級アミンの重量に基づいて１０〜１，０００％）または非存在下、反応温度８０〜２００℃、好ましくは１００〜１５０℃で反応させて第４級アンモニウム塩を形成し、さらに前記のアニオンを形成する酸を添加（第４級アンモニウムの当量に基づいて０．９〜１．０当量）し、１０〜５０℃で１時間撹拌して塩交換する。溶媒を８０〜１２０℃で減圧留去して、目的の第４級アンモニウム塩を得る。炭酸ジアルキルエステルとしては、炭酸ジメチルおよび炭酸ジエチルが挙げられる。
第３級アミンとしては、例えば目的の第４級アンモニウムカチオンが上記のアミジニウムカチオン（ａ１）である場合は、１，２−ジメチルイミダゾール、１−メチルイミダゾール、１−エチルイミダゾールなどが挙げられる。
製造方法−２
第４級アンモニウム塩〔例えば、クロルアニオンからなる塩〕のアセトニトリル溶液（２０〜７０重量％）に前記の酸のアルカリ金属塩（ナトリウム塩またはカリウム塩など）を加え（第４級アンモニウム塩／塩の当量比は通常１／１〜１／１．５、好ましくは１／１．０５〜１／１．３）、室温で約２時間撹拌混合する。生成した沈殿物を遠心分離により除去し、上層中の溶媒を減圧留去して、目的の第４級アンモニウム塩を得る。
【００１９】
液体潤滑剤は、一般的に、吸湿すると使用中に粘度や体積が大きく変化し易く、腐食や錆を発生するおそれがあるため、電解質（Ａ）は、吸湿性が少なく、電解質への水の溶解度が少ない方が好ましい。
本発明における電解質（Ａ）１００重量部への水の溶解度は、１０重量部以下であることが好ましい。さらに好ましくは６重量部以下、特に好ましくは４重量部以下、最も好ましくは２重量部以下である。
【００２０】
本発明における水の溶解度は以下の方法で測定することができる。
２００ｍｌのビーカーに、電解質(Ａ)５０ｇに対して水５０ｇを入れて、２５℃で１時間攪拌（櫂型攪拌羽根で２００ｒｐｍ）した後、２４時間静置することにより電解質相と水相に分液させる。電解質相を取り出し、ＪＩＳ Ｋ ２２７５に記載された方法で水分を測定して溶解度を計算する。
【００２１】
また、一般に、電解質の分子量が大きく、長鎖アルキル基を有しているものは水の溶解度の低いことが知られているが、一般的に、分子量の大きい電解質は粘度が高いため、分子量の低いことが液体潤滑剤の成分としては好ましい。従って、本発明の電解質（Ａ）の分子量は１，０００以下が好ましい。さらに好ましくは８００以下、特に好ましくは６００以下、最も好ましくは５００以下である。なお、電解質（Ａ）の分子量は（Ａ）の化学式から算出できる。
【００２２】
本発明の液体潤滑剤は、当量のカチオンとアニオンから構成される電解質（Ａ）のみを含むものであってもよいが、その他の成分を含むものも含まれる。
【００２３】
その他の成分としては、電解質の製造における未反応物または副生成物としての過剰のアニオンが挙げられる。
本発明の液体潤滑剤は、過剰のアニオンを含まないことが金属材料の腐食防止の観点から好ましい。
本発明の液体潤滑剤において、電解質（Ａ）を構成するアニオンの当量以上の過剰のアニオンの含有量は、電解質（Ａ）を構成するアニオン１当量に対して０．１当量以下、さらに好ましくは０．０５当量以下、特に０．０１当量以下、とりわけ好ましくは０当量であることが好ましい。
なお、過剰のアニオンが存在する場合、その対イオンであるカチオンは、該アニオンと該カチオンとの塩が電解質（Ａ）に相当しない種類のカチオンであり、例えばアンモニウムカチオンおよびアミンカチオンなどの有機カチオン、並びにナトリウムカチオンおよびカリウムカチオンなどのアルカリ金属カチオンが挙げられる。
なお、本発明においては、過剰のアニオンがプロトンとから形成される酸として存在している場合も過剰のアニオンと見なされる。
【００２４】
本発明において、過剰のアニオンを減らす方法は特に限定されない。
製造段階でのアニオン投入量を減らす方法や、製造後に水および有機溶剤を用いて抽出する方法などが挙げられる。アニオン投入量を減らす場合、通常、カチオンに対して１．０当量とするところを０．９〜０．９９９当量にすることが挙げられる。過剰のアニオンを抽出をする場合、目的とする電解質（Ａ）が溶解せず、過剰のアニオンが溶解する溶剤を抽出剤として用いることができる。具体的には、疎水性の電解質（Ａ）から酸を形成する過剰のアニオンを抽出する場合、抽出剤として水を使用することができる。
【００２５】
液体潤滑剤中に含有する過剰のアニオンの当量は、核磁気共鳴（ＮＭＲ）測定装置を用いて測定できる。カチオンおよびアニオンともに水素原子を含有している場合、1Ｈ−ＮＭＲ測定におけるピーク強度からカチオンおよびアニオンの当量比を算出し、過剰当量を算出することができる。また、カチオンとアニオンが共通の元素を有していない場合も標準物質を添加して測定することによりカチオンおよびアニオンの当量比を算出し、過剰当量を算出することができる。例えば、また、カチオンがプロトンを含有し、アニオンがプロトンを含有せず、フッ素原子を含有する場合、標準物質として４−フルオロアセトフェノン（東京化成工業（株）製）を同重量添加し、19Ｆ−ＮＭＲおよび1Ｈ−ＮＭＲ測定を行う。それぞれのピーク強度からカチオンおよびアニオンの当量比を算出することができる。
【００２６】
本発明の液体潤滑剤のｐＨは、好ましくは５〜９、さらに好ましくは６〜８である。本発明におけるｐＨは、液体潤滑剤の１０重量％水分散液を２５℃でｐＨメーター（例えば、堀場製作所株式会社製「Ｆ−５０」など）を用いて測定できる。なお、前述の過剰のアニオンがプロトンとから形成される酸として存在している場合はｐＨが酸性側になりやすい。
【００２７】
本発明の液体潤滑剤は、腐食防止剤（Ｂ）を含有していることが好ましい。
本発明における腐食防止剤とは、金属表面に作用し金属の腐食速度を低下させる添加剤の総称であり、金属面に防腐食性の皮膜を形成させるものであれば全て使用することができる。
【００２８】
腐食防止剤（Ｂ）としては、以下の化合物が挙げられる。
（Ｂ１）：Ｎ−Ｎ結合、Ｎ＝Ｎ結合、Ｎ−Ｃ−Ｎ結合、Ｎ＝Ｃ−Ｎ結合、Ｎ−Ｃ−Ｓ結合、Ｎ＝Ｃ−Ｓ結合、Ｎ−Ｃ＝Ｓ結合およびＣ（＝Ｓ）−Ｓ結合からなる群から選ばれる１種以上の結合を有する化合物；
（Ｂ２）：カルボン酸エステル基、アミノ基およびカルボン酸アミド基からなる群から選ばれる１種以上の基を有する化合物；
（Ｂ３）：炭素数４〜２４の脂肪族アルコールおよびオキサゾール基含有化合物など。
【００２９】
（Ｂ１）としては以下のものが挙げられる。
Ｎ−Ｎ結合またはＮ＝Ｎ結合を有する化合物としては、例えばトリアゾール基含有化合物（具体的には、ベンゾトリアゾール、Nアルキル置換ベンゾトリアゾール、カルボキシル基置換ベンゾトリアゾールなど）およびインダゾール基含有化合物（具体的にはインダゾールなど）などが挙げられる。
【００３０】
Ｎ−Ｃ−Ｎ結合またはＮ＝Ｃ−Ｎ結合を有する化合物としては、例えばイミダゾール基含有化合物｛具体的には、イミダゾール、ベンゾイミダゾール、２−（ドデシルジチオ）ベンゾイミダゾール、２−（デシルチオ）ベンゾイミダゾールなど｝およびピリミジン基含有化合物（具体的には、ピリミジンなど）などが挙げられる。
【００３１】
Ｎ−Ｃ−Ｓ結合、Ｎ＝Ｃ−Ｓ結合またはＮ−Ｃ＝Ｓ結合を有する化合物としては、例えば
チアゾール基含有化合物｛具体的には、２−（ドデシルジチオ）ベンゾチアゾール、２−（ヘキシルジチオ）ベンゾチアゾール、２−（デシルチオ）ベンゾチアゾールなど｝およびチアジアゾール基含有化合物｛具体的には、２，５−ビス（ドデシルジチオ）−１，３，４−チアジアゾール、２，５−ビス（オクチルジチオ）−１，３，４−チアジアゾール、１，３，４−チアジアゾールポリスルフィドなど｝などが挙げられる。
【００３２】
Ｃ（＝Ｓ）−Ｓ結合を有する化合物としては、例えばドデシルチオ−Ｎ，Ｎ−ジエチルジチオカーバメート、ドデシルチオＮ，Ｎ−シクロペンタメチレンジチオカーバメート、ドデシルチオＮ，Ｎ−ジフェニルジチオカーバメート、２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルジチオカルバミル）ベンゾチアゾール、２，５−ビス（Ｎ，Ｎ−ジエチルジチオカルバミル）−１，３，４−チアジアゾール、テトラエチルチウラムジスルフィドおよびジシクロペンタメチレンチウラムジスルフィドなどが挙げられる。
【００３３】
（Ｂ１）のうち好ましいのはトリアゾール基含有化合物であり、さらに好ましいのはベンゾトリアゾールである。
【００３４】
（Ｂ２）としては、例えば炭素数３〜３０のアルキルまたはアルケニルコハク酸のジエステル、炭素数３〜３０の脂肪族アミン、並びに炭素数３〜３０のアルキルまたはアルケニルコハク酸モノアミドまたはジアミドなどが挙げられる。
【００３５】
（Ｂ３）のうちの炭素数４〜２４の脂肪族アルコールとしては、ブタノール、デシルアルコールおよびドデシルアルコールなどが挙げられ、オキサゾール基含有化合物としては、２−（ドデシルジチオ）ベンゾオキサゾールおよび２−（デシルチオ）ベンゾオキサゾールなどが挙げられる。
【００３６】
腐食防止剤（Ｂ）のうち好ましいのは、（Ｂ１）単独、（Ｂ１）および（Ｂ２）の併用、（Ｂ１）および（Ｂ３）の併用、並びに（Ｂ１）〜（Ｂ３）の併用であり、さらに好ましいのは（Ｂ１）および（Ｂ２）の併用である。（Ｂ１）の含有は銅など非鉄金属の腐食防止の観点から好ましく、（Ｂ２）の含有は鉄の腐食防止の観点から好ましい。
【００３７】
腐食防止剤の含有量は、液体潤滑剤の重量に基づいて、通常１０％以下（以下において、特に限定しない限り％は重量％を表す）、０．００１〜１０％が好ましく、さらに好ましくは０．０１〜６％、特に好ましくは０．０５〜４％、最も好ましくは０．１〜２％である。
【００３８】
腐食防止剤が２種以上の併用である場合の含有量は合計含有量が上記範囲にあることが好ましい。
（Ｂ１）および（Ｂ２）の併用の場合の重量比（Ｂ１）／（Ｂ２）は、好ましくは１／０．１〜１０、さらに好ましくは１／０．２〜５である。
（Ｂ１）と（Ｂ２）もしくは（Ｂ３）を併用する場合の重量比は、（Ｂ１）／（Ｂ２）もしくは（Ｂ３）が１／０．１〜１０、さらに好ましくは１／０．２〜８であり、特に好ましくは１／０．３〜５である。
（Ｂ１）〜（Ｂ３）の３種を併用する場合の重量比（Ｂ１）／（Ｂ２）／（Ｂ３）は、１／０．０１〜１０／０．０１〜１０、さらに好ましくは１／０．１〜８／０．１〜８であり、特に好ましくは１／０．２〜５／０．２〜５である。
【００３９】
本発明の液体潤滑剤は、希釈剤（Ｃ）を含有していてもよい。
希釈剤の存在により腐食性が抑制されるうえ、低粘度の希釈剤の含有により電解質（Ａ）単独よりも低粘度化できる。ところが、一般的に希釈剤は蒸発しやすく、その配合により液体潤滑剤の蒸発損失が大きくなってしまうため、希釈剤（Ｃ）は、数式（１）および（２）に基づいて含有することが好ましい。
希釈剤が下記の範囲内である場合、液体潤滑剤の粘度が低く、かつ蒸発損失が少ないという点で優れている。
０．０００１≦ｒ≦６×１０-7ｅｘｐ（０．０４５Ｂｐ） （１）
ただし、Ｂｐ≧１１４
０≦[１−ｒ]ｌｏｇ（Ｖａ）＋ｒ×ｌｏｇ（Ｖｃ）≦１．３ （２）
式中、ｒは電解質（Ａ）と希釈剤（Ｃ）の合計重量に対する希釈剤（Ｃ）の重量比、Ｂｐは希釈剤（Ｃ）の７６０ｍｍＨｇにおける沸点（℃）であり、ＶａおよびＶｃはそれぞれ電解質（Ａ）および希釈剤（Ｃ）の４０℃での動粘度（ｍｍ2／ｓｅｃ）である。
【００４０】
さらに好ましくは、数式（３）および（４）に基づいて含有することであり、
０．０００１≦ｒ≦４×１０-7ｅｘｐ（０．０４５Ｂｐ） （３）
ただし、Ｂｐ≧１２３
０≦[１−ｒ]ｌｏｇ（Ｖａ）＋ｒ×ｌｏｇ（Ｖｃ）≦１．３ （４）
特に好ましくは、数式（５）および（６）に基づいて含有することである。
０．００１≦ｒ≦２×１０-7ｅｘｐ（０．０４５Ｂｐ） （５）
ただし、Ｂｐ≧１９０
０≦[１−ｒ]ｌｏｇ（Ｖａ）＋ｒ×ｌｏｇ（Ｖｃ）≦１．３ （６）
【００４１】
希釈剤（Ｃ）は、電解質（Ａ）と配合する濃度範囲において均一に混合できることが好ましく、相溶性の観点から希釈剤（Ｃ）の双極子モーメント（Ｄｍ）は０．５以上が好ましく、０．５〜１０．０がさらに好ましく、１．０〜９．０が特に好ましく、１．５〜８．０が最も好ましい。
なお、双極子モーメントはＯＲＧＡＮＩＣ ＳＯＬＶＥＮＴＳ（ＪＯＨＮ Ａ．ＲＩＤＤＩＣＫおよびＷＩＬＬＩＡＭ Ｂ．ＢＵＮＧＥＲ著、ＷＩＬＥＹ−ＩＮＴＥＲＳＣＩＥＮＣＥ発行）に記載された数値を用いることができる。記載のない化合物もＣＡＣｈｅシステムにて計算することができる。例えば、富士通社製のＣＡＣｈｅＷＯＲＫＳＹＳＴＥＭ５．０２を利用して、Ｗｏｒｋｓｐａｃｅ上で計算したい分子構造を描き、構造最適化した後、ＭＭ／ＰＭ３ｇｅｏｍｅｔｒｙで計算することで求めることができる。
【００４２】
希釈剤（Ｃ）としては、例えばテトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシド［Ｂｐ＝２８５℃、Ｖｃ＝４．７、Ｄｍ＝４．８１］、ジフェニルプロパノン［Ｂｐ＝３３０℃、Ｖｃ＝７、Ｄｍ＝２．４０］およびエチレングリコール［Ｂｐ＝１８９℃、Ｖｃ＝８．８、Ｄｍ＝２．２８］などが挙げられる。
【００４３】
本発明の液体潤滑剤は、その用途により、もしくは要求される性能により、さらにその他の成分を含有していてもよい。
その他の成分としては、従来から公知の潤滑剤として使用されている鉱物油、エステル系潤滑剤（例えば、脂肪族二塩基酸エステル、ポリオールエステルなど）、またはリン酸エステル（例えば、トリクレジルフォスフェート、トリブチルフォスフェートなど）などを使用することができる。
これら公知の潤滑剤の含有量は、液体潤滑剤全体の重量に基づいて５０％以下が好ましく、さらに好ましくは３０％以下である。
【００４４】
本発明の液体潤滑剤は、さらに、酸化防止剤、油性剤、摩耗防止剤、極圧剤、防錆剤、粘度指数向上剤、流動点降下剤、消泡剤等の添加剤の１種又は２種以上を適宜配合することも可能である。
これらの添加剤の配合量は、所定の効果を奏する限り特に限定されるものではないが、液体潤滑剤の全体の重量に基づいて、それぞれの好ましい配合量の例を以下に示す。
酸化防止剤は、０〜５％、好ましくは０．０１〜３％；油性剤は、０〜５％、好ましくは０．０１〜３％；摩耗防止剤・極圧剤は、０〜１０％、好ましくは０．０１〜５％；防錆剤は、０〜５％、好ましくは０．０１〜２％；粘度指数向上剤または流動点降下剤は、０〜１５％、好ましくは０．１〜７％；消泡剤は、０〜０．１％、好ましくは０．０００５〜０．０１％；である。
【００４５】
本発明の液体潤滑剤は、低粘度でありながら低い蒸発損失と高い引火点を持つため、高速モータ等に使用される焼結含油軸受油 又は流体軸受油に適している。さらに好ましくは、ＣＤ，ＤＶＤ，ＨＤＤ，ポリゴンスキャナーなどに使用されるスピンドルモータの流体軸受油に適している。
【００４６】
［実施例］
以下、製造例、実施例および比較例により本発明を説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００４７】
製造例１〜７：電解質（Ａ）の製造
［製造例１］
ジメチルカーボネート１３５部（１．５モル部）のメタノール１９２部溶液に、１−エチルイミダゾール９６部（１．０モル部）を滴下して、１３０℃で４０時間攪拌することで、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムメチルカーボネート塩を生成した。さらにＨＢＦ4８７．８部（１．０モル部）を加えると炭酸ガスが激しく発生して、塩交換が起こった。１．０ｋＰａ以下の減圧度で１２０℃で加熱して、溶媒のメタノールを除去することで電解質１−エチル−３−メチルイミダゾリウム・ＢＦ4 （Ｅ−１）を得た。
［製造例２］
ＨＢＦ4をビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド２８１部（１．０モル部）に代える以外は製造例１と同様にして電解質１−エチル−３−メチルイミダゾリウム・ビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド（Ｅ−２）を得た。
［製造例３］
１−エチルイミダゾールを１−エチル−２−メチルイミダゾール１１０部（１．０モル部）に代える以外は製造例２と同様にして電解質１，２−ジメチル−３−エチルイミダゾリウム・ビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド（Ｅ−３）を得た。
［製造例４］
１−エチルイミダゾールを Ｎ，Ｎ−ジメチルプロピルアミン８７部（１．０モル部）に代える以外は製造例２と同様にして電解質トリメチルプロピルアンモニウム・ビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド（Ｅ−４）を得た。
［製造例５］
ジメチルカーボネート１３５部（１．５モル部）のメタノール１９２部溶液に、１−エチルイミダゾール９６部（１．０モル部）を滴下して、１３０℃で４０時間攪拌することで、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムメチルカーボネート塩を生成した。３５％塩酸１０４．３部（１．０モル部）を加えた後、１．０ｋＰａ以下の減圧度で１２０℃で加熱して蒸留し、メタノールおよび水を除去することで１−エチル−３−メチルイミダゾリウム塩化物塩（１．０モル部）を得た。アセトニトリル４１０部（１０モル部）およびＫＢＦ3（Ｃ4Ｆ9）３２６部（１．０モル部）を加え、２５℃にて１０時間攪拌すると、塩交換が起こり、塩化カリウムの沈殿が発生した。濾過により沈殿物を除去した後、１．０ｋＰａ以下の減圧度で１２０℃で加熱して、溶媒のアセトニトリルを除去することで電解質１−エチル−３−メチルイミダゾリウム・ＢＦ3（Ｃ4Ｆ9）（Ｅ−５）を得た。
［製造例６］
ビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミドを３０９部（１．１モル部）に代える以外は製造例２と同様にしてアニオン過剰の電解質１−エチル−３−メチルイミダゾリウム・ビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド（Ｅ−６）を得た。
［製造例７］
ＨＢＦ4をビス（フルオロスルホニル）イミド１８１部（１．０モル部）に代える以外は製造例１と同様にして電解質１−エチル−３−メチルイミダゾリウム・ビス（フルオロスルホニル）イミド（Ｅ−７）を得た。
【００４８】
得られた電解質（Ｅ−１）〜（Ｅ−７）は、それぞれ以下の組成を有する。
＜電解質＞
（Ｅ−１）：１−エチル−３−メチルイミダゾリウム・ＢＦ4
（Ｅ−２）：１−エチル−３−メチルイミダゾリウム・ビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド
（Ｅ−３）： １，２−ジメチル−３−エチルイミダゾリウム・ビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド
（Ｅ−４）：トリメチルプロピルアンモニウム・ビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド
（Ｅ−５）：１−エチル−３−メチルイミダゾリウム・ＢＦ3（Ｃ4Ｆ9）
（Ｅ−６）：１−エチル−３−メチルイミダゾリウム・ビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド
（Ｅ−７）：１−エチル−３−メチルイミダゾリウム・ビス（フルオロスルホニル）イミド
【００４９】
それぞれの電解質の４０℃での性状、４０℃での動粘度、分子量、および水の溶解度を表１に示す。測定法は以下のとおりである。
［４０℃での動粘度］
ＪＩＳ Ｋ ２２８３に従って測定した。
［水の溶解度］
２００ｍｌのビーカーに、電解質(Ａ)５０ｇに対して水５０ｇを入れて、２５℃で１時間攪拌（櫂型攪拌羽根で２００ｒｐｍ）した後、２４時間静置することにより電解質相と水相に分液させた。電解質相を取り出し、ＪＩＳ Ｋ ２２７５に記載された方法で水分を測定して計算した。
【００５０】
【表１】
【００５１】
［実施例１〜１０および比較例１〜４］
表２に記載のように、電解質（Ｅ−１）〜（Ｅ−７）、または下記の比較の液体潤滑剤を主成分とし、必要により、下記の腐食防止剤および／または希釈剤を添加、配合して、実施例および比較例の液体潤滑剤を調製した。表２中の（ ）内は配合重量部数である。
【００５２】
＜比較の液体潤滑剤＞
（Ｈ−１）：ポリアルファオレフィン（商品名：Ｎｅｘｂａｓｅ２００４（ネステ社製））
（Ｈ−２）：リン酸トリブチル（和光純薬（株）製）
（Ｈ−３）：１，３−ジフェニル−２−プロパノン（アルドリッチ（株）製）
（Ｈ−４）：リン酸トリトリル（和光純薬（株）製）
（Ｈ−５）：ジオクチルセバケート（和光純薬（株）製）
（Ｈ−６）：スピンドル油（出光興産（株）製）
＜腐食防止剤＞
（Ｉ−１）：ベンゾトリアゾール（和光純薬（株）製）
＜希釈剤＞
（Ｓ−１）：テトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシド［Ｂｐ＝２８５℃、Ｖｃ＝４．７、Ｄｍ＝４．８１］（和光純薬（株）製）
（Ｓ−２）：エチレングリコール［Ｂｐ＝１８９℃、Ｖｃ＝８．８、Ｄｍ＝２．２８］（和光純薬（株）製）
【００５３】
【表２】
【００５４】
得られた液体潤滑剤の４０℃での動粘度、引火点、蒸発損失、アニオン過剰当量および金属腐食性を下記の測定方法で測定した結果を表３に示した。
【００５５】
［４０℃での動粘度］
ＪＩＳ Ｋ ２２８３に従って測定した。
［引火点］
ＪＩＳ Ｋ ２２６５に従って測定した。
［蒸発損失］
測定方法−１：ＴＧ−ＤＴＡ法で、１００℃で１２時間の重量減少（重量％）を測定した。
測定方法−２：ＤＩＮ５１５８１記載の方法に従って測定した。
［アニオン過剰量］
前述のように核磁気共鳴（ＮＭＲ）測定装置を用いて測定した。
［金属腐食性］
ＪＩＳ Ｋ ２５１３に従って、研磨した銅板（材質Ｃ１１００Ｐ）を試験液に浸漬し、温度８０℃、湿度９０％にて１週間保持した際の金属表面の変色を４段階で評価した。数字の小さいほうが腐食性の小さいことを示す。
【００５６】
【表３】
【００５７】
比較例の液体潤滑剤のうち、動粘度の低いものは蒸発損失が大きく引火点も低い。逆に蒸発損失の少なく引火点も高いものは動粘度が高くなる。
本発明の液体潤滑剤は低粘度と低蒸発が両立されている。
【産業上の利用可能性】
【００５８】
本発明の液体潤滑剤は、電気機器、特にＣＤ，ＤＶＤ，ＨＤＤ，ポリゴンスキャナーなどに使用されるスピンドルモータなどの流体軸受け油として有用である。また、真空装置や半導体製造装置にも好適に使用できる。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液体潤滑剤に関する。詳しくは軸受油用の液体潤滑剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＨＤＤなどに使用されるスピンドルモータには、処理スピードの高速化から、年々、高速回転が要求されるようになってきている。
従来のスピンドルモータには玉軸受に代表される転がり軸受が使用されてきたが、性能及びコスト面から非接触型の流体軸受が用いられるようになってきている。この流体軸受の高速回転時の性能（主に回転トルク）は、用いられる潤滑剤の粘度によって定まることが多く、低粘度であるほど高速回転時の回転トルクは低くなる傾向にある。
一方、これらの潤滑剤は、使用時に高温にさらされるため、蒸発損失や引火点を抑える必要がある。
これらの潤滑剤としては、炭化水素系液体潤滑剤やエステル油が提案されている。（特許文献−１〜３参照）
【特許文献−１】特開平１１−１７２２６７号公報
【特許文献−２】特開２００１−２４０８８５号公報
【特許文献−３】特開２００２−１４６３７４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、従来の潤滑剤では、比較的粘度が高いことによる潤滑特性の不十分さ、高温での蒸発損失および引火性などにおいて満足できないものであり、改良が必要とされていた。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明者等は、鋭意検討した結果、上記課題を解決できることを見いだし、本発明に到達した。即ち、本発明は、４０℃で液状である電解質（Ａ）を含有し、４０℃での動粘度が１〜２０ｍｍ2／ｓである液体潤滑剤である。
【発明の効果】
【０００５】
本発明の液体潤滑剤は、従来の液体潤滑剤に比較して低粘度であり、蒸発損失が少なく、かつ、引火点が低い。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
本発明の液体潤滑剤は４０℃で液状の電解質（Ａ）（以下において、単に、電解質（Ａ）または（Ａ）と表記する場合がある）を含有し、（Ａ）の４０℃における動粘度は、好ましくは１〜２０ｍｍ2／ｓ、さらに好ましくは２〜１８ｍｍ2／ｓ、特に好ましくは３〜１５ｍｍ2／ｓである。（Ａ）の動粘度が１ｍｍ2／ｓ以上であると耐摩耗性がさらに良好になり、２０ｍｍ2／ｓ以下であればさらに粘性抵抗が低くなる。
本発明における４０℃での動粘度は、ＪＩＳ Ｋ ２２８３に記載された方法を用い測定されたものである。
本発明の液体潤滑剤は、電解質（Ａ）そのものからなるか、または（Ａ）とその他の成分からなる。
本発明の液体潤滑剤は、４０℃における動粘度が１〜２０ｍｍ2／ｓ、好ましくは２〜１８ｍｍ2／ｓ、さらに好ましくは３〜１５ｍｍ2／ｓである。液体潤滑剤の動粘度が１ｍｍ2／ｓ未満であると、耐摩耗性に乏しくなり、２０ｍｍ2／ｓを越えると、粘性抵抗が高くなる。
【０００７】
本発明における電解質（Ａ）を構成するカチオンとしては、例えばアミジニウムカチオン、ピリジニウムカチオン、ピラゾリウムカチオン、ピペリジンカチオン、モルホリンカチオン、ピペラジンカチオンおよびピロールカチオンなどの第４級アンモニウムカチオン、ホスフォニウムカチオン、並びにスルホニウムカチオンなどの第４級オニウムカチオンなどが挙げられ、２種以上の混合物であってもよい。好ましくは、第４級アンモニウムカチオン、特に一般式（１）または（２）で示されるアミジニウムカチオン(ａ１)である。
【０００８】
【化３】
【０００９】
【化４】
【００１０】
一般式（１）および（２）においてＲ1は、水酸基で置換されていてもよい炭素数１〜２０の炭化水素基または水素原子である。
炭素数１〜２０の炭化水素基としては、炭素数１〜２０のアルキル基、及び芳香族基含有の炭素数６〜２０の炭化水素基が挙げられる。炭素数１〜２０のアルキル基としてはメチル、エチル、イソプロピル、ヘキシル、２−エチルヘキシル、ラウリル、ステアリル等、水酸基で置換された炭素数１〜２０の炭化水素基としてはヒドロキシエチル、２−ヒドロキシプロピル、１−ヒドロキシヘキシル、１−ヒドロキシラウリル等のヒドロキシアルキル基が挙げられる。芳香族基含有の炭素数６〜２０の炭化水素基としては、例えばフェニル基、ベンジル基が挙げられる。好ましくは、炭化水素数が１〜１０の炭化水素基又は水素原子である。特に好ましくは炭素数が１〜５の炭化水素基又は水素原子である。
【００１１】
Ｒは、それぞれ水酸基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、エーテル基、及びアルデヒド基からなる群より選ばれる少なくとも１種の基を有していてもよい炭素数１〜１０（官能基の炭素数は含まない）の炭化水素基であり、同じであっても異なっていてもよい。
Ｒとしては、上記Ｒ1にあげられた炭素数１〜１０の炭化水素基、及びこれらの任意の位置に水酸基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、アルデヒド基を有している基（例えば２−ヒドロキシブチル基、１−アミノエチル基、１−ニトロエチル基、２−シアノプロピル基、１−カルボキシプロピル基等）、また主鎖の中にエーテル基（例えばメトキシエチル基、エトキシプロピル基等）を有している基が挙げられる。Ｒ1およびＲの一部または全部は、それらの２〜４個が相互に結合して２〜４価の基となり窒素原子と共に複素環を形成していてもよい。
好ましくは、炭素数１〜５のアルキル基および環形成基であり、特に好ましくは、炭素数１〜３のアルキル基および環形成基である。
【００１２】
アミジニウムカチオン（ａ１）の具体例としては、下記に例記するようなカチオンが挙げられる。
（ｉ）イミダゾリニウムカチオン
１，２，３−トリメチルイミダゾリニウム、１，２，３，４−テトラメチルイミダゾリニウム、１，３，４−トリメチル−２−エチルイミダゾリニウム、１，３−ジメチル−２，４−ジエチルイミダゾリニウム、１，２−ジメチル−３，４−ジエチルイミダゾリニウム、１−メチル−２，３，４−トリエチルイミダゾリニウム、１，２，３，４−テトラエチルイミダゾリニウム、１，３−ジメチル−２−エチルイミダゾリニウム、１−エチル−２，３−ジメチルイミダゾリニウム、１，２，３−トリエチルイミダゾリニウム、１，１−ジメチル−２−ヘプチルイミダゾリニウム、１，１−ジメチル−２−（−２’ヘプチル）イミダゾリニウム、１，１−ジメチル−２−（−３’ヘプチル）イミダゾリニウム、１，１−ジメチル−２−（−４’ヘプチル）イミダゾリニウム、１，１−ジメチル−２−ドデシルイミダゾリニウム、１，１−ジメチルイミダゾリニウム、１，１，２−トリメチルイミダゾリニウム、１，１，２，４−テトラメチルイミダゾリニウム、１，１，２，５−テトラメチルイミダゾリニウム、１，１，２，４，５−ペンタメチルイミダゾリニウムなど。
（ｉｉ）イミダゾリウムカチオン
１，３−ジメチルイミダゾリウム、１−エチル−３−メチルイミダゾリウム、１，３−ジエチルイミダゾリウム、１，２，３−トリメチルイミダゾリウム、１，２，３，４−テトラメチルイミダゾリウム、１，３，４−トリメチル−２−エチルイミダゾリウム、１，３−ジメチル−２，４−ジエチルイミダゾリウム、１，２−ジメチル−３，４−ジエチルイミダゾリウム、１−メチル−２，３，４−トリエチルイミダゾリウム、１，２，３，４−テトラエチルイミダゾリウム、１，３−ジメチル−２−エチルイミダゾリウム、１−エチル−２，３−ジメチルイミダゾリウム、１，２，３−トリエチルイミダゾリウム、１，１−ジメチル−２−ヘプチルイミダゾリウム、１，１−ジメチル−２−（−２’ヘプチル）イミダゾリウム、１，１−ジメチル−２−（−３’ヘプチル）イミダゾリウム、１，１−ジメチル−２−（−４’ヘプチル）イミダゾリウム、１，１−ジメチル−２−ドデシルイミダゾリウム、１，１−ジメチルイミダゾリウム、１，１，２−トリメチルイミダゾリウム、１，１，２，４−テトラメチルイミダゾリウム、１，１，２，５−テトラメチルイミダゾリウム、１，１，２，４，５−ペンタメチルイミダゾリウムなど。
（ｉｉｉ）テトラヒドロピリミジニウムカチオン
１，３−ジメチル−１，４，５，６−テトラヒドロピリミジニウム、１，２，３−トリメチル−１，４，５，６−テトラヒドロピリミジニウム、１，２，３，４−テトラメチル−１，４，５，６−テトラヒドロピリミジニウム、１，２，３，５−テトラメチル−１，４，５，６−テトラヒドロピリミジニウム、８−メチル−１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセニウム、５−メチル−１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノネニウム、８−エチル−１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセニウム、５−エチル−１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノネニウムなど。
これらのうちで好ましいのは（ｉｉ）イミダゾリウムカチオン及び（ｉｉｉ）テトラヒドロピリミジニウムカチオンであり、さらに好ましいのは、１、３−ジメチルイミダゾリウム、１，３−ジエチルイミダゾリウム、１−エチル−３−メチルイミダゾリウム、１、２、３トリメチルイミダゾリウムであり、特に好ましいものは、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムである。
【００１３】
本発明におけるアニオン（ａ２）としては、公知のアニオンが使用でき、例えば下記に例示するような酸から水素原子を除いたアニオンである。アニオンは２種以上の混合物であってもよい。
【００１４】
（１）無機強酸：
フッ酸、塩酸、硫酸、燐酸、ＨＣｌＯ4、ＨＢＦ4、ＨＰＦ6、ＨＡｓＦ6、ＨＳｂＦ6、フルオロスルホン酸等；
（２）ハロゲン原子含有アルキル基置換無機強酸（アルキル基の炭素数１〜３０）：
ＨＢＦn（ＣＦ3）4-n、ＨＰＦn（ＣＦ3）6-n、トリフルオロメタンスルホン酸、ペンタフルオロエタンスルホン酸、ヘプタフルオロプロパンスルホン酸、トリクロロメタンスルホン酸、ペンタクロロプロパンスルホン酸、ヘプタクロロブタンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、ペンタフルオロプロピオン酸、ペンタフルオロブタン酸、トリクロロ酢酸、ペンタクロロプロピオン酸およびヘプタクロロブタン酸等；
（３）ハロゲン原子含有スルホニルイミド（炭素数１〜３０）：
ビス（フルオロメチルスルホニル）イミド、ビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミドおよびビス（フルオロスルホニル）イミド等；
（４）ハロゲン原子含有スルホニルメチド（炭素数３〜３０）：
トリス（トリフルオロメチルスルホニル）メチド等；
（５）ハロゲン原子含有カルボン酸アミド（炭素数２〜３０）：
ビス（トリフルオロアセト）アミド等；
（６）ニトリル基含有イミド：
ＨＮ（ＣＮ）2等；
（７）ニトリル含有メチド：
ＨＣ（ＣＮ）3等；
（８）炭素数１〜３０のハロゲン原子含有アルキルアミン：
ＨＮ（ＣＦ3）2等
（９）チオシアン酸等；が挙げられる。
【００１５】
これらのうちで好ましいものは、（２）ハロゲン原子含有アルキル基置換無機強酸および（３）ハロゲン原子含有スルホニルイミドであり、さらに好ましいのは（３）ハロゲン原子含有スルホニルイミド、特に好ましいのはビス（フルオロスルホニル）イミドおよびビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミドである。
【００１６】
本発明における電解質（Ａ）の具体例としては、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムカチオンとビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミドアニオンからなる電解質、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムカチオンとビス（フルオロスルホニル）イミドアニオンからなる電解質、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムカチオンとビス（フルオロメチルスルホニル）イミドアニオンからなる電解質、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムカチオンとＢＦ4アニオンからなる電解質、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムカチオンとＢＦ3（ＣＦ3）アニオンからなる電解質、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムカチオンとＢＦ2（ＣＦ3）2アニオンからなる電解質、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムカチオンとＢＦ3（Ｃ2Ｆ5）アニオンからなる電解質、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムカチオンとＢＦ3（Ｃ4Ｆ9）アニオンからなる電解質、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムカチオンとＮ（ＣＮ）2アニオンからなる電解質、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムカチオンとＣ（ＣＮ）3アニオンからなる電解質、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムカチオンとトリフルオロメタンスルホン酸アニオンからなる電解質、１，３−ジメチルイミダゾリウムカチオンとビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミドアニオンからなる電解質、１，３−ジエチルイミダゾリウムカチオンとビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミドアニオンからなる電解質、１−エチル−３−ブチルイミダゾリウムカチオンとビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミドアニオンからなる電解質、１−（２，２，２−トリフルオロエチル）−３−メチルイミダゾリウムカチオンとビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミドアニオンからなる電解質、１−メトキシエチル−３−メチルイミダゾリウムカチオンとビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミドアニオンからなる電解質、１，２−ジメチル−３−エチルイミダゾリウムカチオンとビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミドアニオンからなる電解質、などが挙げられる。
【００１７】
本発明において電解質（Ａ）の製造方法は特に限定されないが、例えば、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，６９，２２６９（１９４７）、米国特許第４８９２９４４号などに記載の方法（３級アミンを炭酸エステルで４級化後、塩交換する方法）などが挙げられる。
電解質（Ａ）を形成するカチオンが第４級アンモニウムカチオンである場合の主な製造方法を以下に例示する
【００１８】
製造方法−１
第３級アミン（第４級アンモニウムカチオン形成する前の第３級アミン）と同当量以上（好ましくは１．１〜５．０当量）の炭酸ジアルキルエステル（アルキル基の炭素数１〜５）を、溶媒（例えば、メタノール）の存在下（第３級アミンの重量に基づいて１０〜１，０００％）または非存在下、反応温度８０〜２００℃、好ましくは１００〜１５０℃で反応させて第４級アンモニウム塩を形成し、さらに前記のアニオンを形成する酸を添加（第４級アンモニウムの当量に基づいて０．９〜１．０当量）し、１０〜５０℃で１時間撹拌して塩交換する。溶媒を８０〜１２０℃で減圧留去して、目的の第４級アンモニウム塩を得る。炭酸ジアルキルエステルとしては、炭酸ジメチルおよび炭酸ジエチルが挙げられる。
第３級アミンとしては、例えば目的の第４級アンモニウムカチオンが上記のアミジニウムカチオン（ａ１）である場合は、１，２−ジメチルイミダゾール、１−メチルイミダゾール、１−エチルイミダゾールなどが挙げられる。
製造方法−２
第４級アンモニウム塩〔例えば、クロルアニオンからなる塩〕のアセトニトリル溶液（２０〜７０重量％）に前記の酸のアルカリ金属塩（ナトリウム塩またはカリウム塩など）を加え（第４級アンモニウム塩／塩の当量比は通常１／１〜１／１．５、好ましくは１／１．０５〜１／１．３）、室温で約２時間撹拌混合する。生成した沈殿物を遠心分離により除去し、上層中の溶媒を減圧留去して、目的の第４級アンモニウム塩を得る。
【００１９】
液体潤滑剤は、一般的に、吸湿すると使用中に粘度や体積が大きく変化し易く、腐食や錆を発生するおそれがあるため、電解質（Ａ）は、吸湿性が少なく、電解質への水の溶解度が少ない方が好ましい。
本発明における電解質（Ａ）１００重量部への水の溶解度は、１０重量部以下であることが好ましい。さらに好ましくは６重量部以下、特に好ましくは４重量部以下、最も好ましくは２重量部以下である。
【００２０】
本発明における水の溶解度は以下の方法で測定することができる。
２００ｍｌのビーカーに、電解質(Ａ)５０ｇに対して水５０ｇを入れて、２５℃で１時間攪拌（櫂型攪拌羽根で２００ｒｐｍ）した後、２４時間静置することにより電解質相と水相に分液させる。電解質相を取り出し、ＪＩＳ Ｋ ２２７５に記載された方法で水分を測定して溶解度を計算する。
【００２１】
また、一般に、電解質の分子量が大きく、長鎖アルキル基を有しているものは水の溶解度の低いことが知られているが、一般的に、分子量の大きい電解質は粘度が高いため、分子量の低いことが液体潤滑剤の成分としては好ましい。従って、本発明の電解質（Ａ）の分子量は１，０００以下が好ましい。さらに好ましくは８００以下、特に好ましくは６００以下、最も好ましくは５００以下である。なお、電解質（Ａ）の分子量は（Ａ）の化学式から算出できる。
【００２２】
本発明の液体潤滑剤は、当量のカチオンとアニオンから構成される電解質（Ａ）のみを含むものであってもよいが、その他の成分を含むものも含まれる。
【００２３】
その他の成分としては、電解質の製造における未反応物または副生成物としての過剰のアニオンが挙げられる。
本発明の液体潤滑剤は、過剰のアニオンを含まないことが金属材料の腐食防止の観点から好ましい。
本発明の液体潤滑剤において、電解質（Ａ）を構成するアニオンの当量以上の過剰のアニオンの含有量は、電解質（Ａ）を構成するアニオン１当量に対して０．１当量以下、さらに好ましくは０．０５当量以下、特に０．０１当量以下、とりわけ好ましくは０当量であることが好ましい。
なお、過剰のアニオンが存在する場合、その対イオンであるカチオンは、該アニオンと該カチオンとの塩が電解質（Ａ）に相当しない種類のカチオンであり、例えばアンモニウムカチオンおよびアミンカチオンなどの有機カチオン、並びにナトリウムカチオンおよびカリウムカチオンなどのアルカリ金属カチオンが挙げられる。
なお、本発明においては、過剰のアニオンがプロトンとから形成される酸として存在している場合も過剰のアニオンと見なされる。
【００２４】
本発明において、過剰のアニオンを減らす方法は特に限定されない。
製造段階でのアニオン投入量を減らす方法や、製造後に水および有機溶剤を用いて抽出する方法などが挙げられる。アニオン投入量を減らす場合、通常、カチオンに対して１．０当量とするところを０．９〜０．９９９当量にすることが挙げられる。過剰のアニオンを抽出をする場合、目的とする電解質（Ａ）が溶解せず、過剰のアニオンが溶解する溶剤を抽出剤として用いることができる。具体的には、疎水性の電解質（Ａ）から酸を形成する過剰のアニオンを抽出する場合、抽出剤として水を使用することができる。
【００２５】
液体潤滑剤中に含有する過剰のアニオンの当量は、核磁気共鳴（ＮＭＲ）測定装置を用いて測定できる。カチオンおよびアニオンともに水素原子を含有している場合、1Ｈ−ＮＭＲ測定におけるピーク強度からカチオンおよびアニオンの当量比を算出し、過剰当量を算出することができる。また、カチオンとアニオンが共通の元素を有していない場合も標準物質を添加して測定することによりカチオンおよびアニオンの当量比を算出し、過剰当量を算出することができる。例えば、また、カチオンがプロトンを含有し、アニオンがプロトンを含有せず、フッ素原子を含有する場合、標準物質として４−フルオロアセトフェノン（東京化成工業（株）製）を同重量添加し、19Ｆ−ＮＭＲおよび1Ｈ−ＮＭＲ測定を行う。それぞれのピーク強度からカチオンおよびアニオンの当量比を算出することができる。
【００２６】
本発明の液体潤滑剤のｐＨは、好ましくは５〜９、さらに好ましくは６〜８である。本発明におけるｐＨは、液体潤滑剤の１０重量％水分散液を２５℃でｐＨメーター（例えば、堀場製作所株式会社製「Ｆ−５０」など）を用いて測定できる。なお、前述の過剰のアニオンがプロトンとから形成される酸として存在している場合はｐＨが酸性側になりやすい。
【００２７】
本発明の液体潤滑剤は、腐食防止剤（Ｂ）を含有していることが好ましい。
本発明における腐食防止剤とは、金属表面に作用し金属の腐食速度を低下させる添加剤の総称であり、金属面に防腐食性の皮膜を形成させるものであれば全て使用することができる。
【００２８】
腐食防止剤（Ｂ）としては、以下の化合物が挙げられる。
（Ｂ１）：Ｎ−Ｎ結合、Ｎ＝Ｎ結合、Ｎ−Ｃ−Ｎ結合、Ｎ＝Ｃ−Ｎ結合、Ｎ−Ｃ−Ｓ結合、Ｎ＝Ｃ−Ｓ結合、Ｎ−Ｃ＝Ｓ結合およびＣ（＝Ｓ）−Ｓ結合からなる群から選ばれる１種以上の結合を有する化合物；
（Ｂ２）：カルボン酸エステル基、アミノ基およびカルボン酸アミド基からなる群から選ばれる１種以上の基を有する化合物；
（Ｂ３）：炭素数４〜２４の脂肪族アルコールおよびオキサゾール基含有化合物など。
【００２９】
（Ｂ１）としては以下のものが挙げられる。
Ｎ−Ｎ結合またはＮ＝Ｎ結合を有する化合物としては、例えばトリアゾール基含有化合物（具体的には、ベンゾトリアゾール、Nアルキル置換ベンゾトリアゾール、カルボキシル基置換ベンゾトリアゾールなど）およびインダゾール基含有化合物（具体的にはインダゾールなど）などが挙げられる。
【００３０】
Ｎ−Ｃ−Ｎ結合またはＮ＝Ｃ−Ｎ結合を有する化合物としては、例えばイミダゾール基含有化合物｛具体的には、イミダゾール、ベンゾイミダゾール、２−（ドデシルジチオ）ベンゾイミダゾール、２−（デシルチオ）ベンゾイミダゾールなど｝およびピリミジン基含有化合物（具体的には、ピリミジンなど）などが挙げられる。
【００３１】
Ｎ−Ｃ−Ｓ結合、Ｎ＝Ｃ−Ｓ結合またはＮ−Ｃ＝Ｓ結合を有する化合物としては、例えば
チアゾール基含有化合物｛具体的には、２−（ドデシルジチオ）ベンゾチアゾール、２−（ヘキシルジチオ）ベンゾチアゾール、２−（デシルチオ）ベンゾチアゾールなど｝およびチアジアゾール基含有化合物｛具体的には、２，５−ビス（ドデシルジチオ）−１，３，４−チアジアゾール、２，５−ビス（オクチルジチオ）−１，３，４−チアジアゾール、１，３，４−チアジアゾールポリスルフィドなど｝などが挙げられる。
【００３２】
Ｃ（＝Ｓ）−Ｓ結合を有する化合物としては、例えばドデシルチオ−Ｎ，Ｎ−ジエチルジチオカーバメート、ドデシルチオＮ，Ｎ−シクロペンタメチレンジチオカーバメート、ドデシルチオＮ，Ｎ−ジフェニルジチオカーバメート、２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルジチオカルバミル）ベンゾチアゾール、２，５−ビス（Ｎ，Ｎ−ジエチルジチオカルバミル）−１，３，４−チアジアゾール、テトラエチルチウラムジスルフィドおよびジシクロペンタメチレンチウラムジスルフィドなどが挙げられる。
【００３３】
（Ｂ１）のうち好ましいのはトリアゾール基含有化合物であり、さらに好ましいのはベンゾトリアゾールである。
【００３４】
（Ｂ２）としては、例えば炭素数３〜３０のアルキルまたはアルケニルコハク酸のジエステル、炭素数３〜３０の脂肪族アミン、並びに炭素数３〜３０のアルキルまたはアルケニルコハク酸モノアミドまたはジアミドなどが挙げられる。
【００３５】
（Ｂ３）のうちの炭素数４〜２４の脂肪族アルコールとしては、ブタノール、デシルアルコールおよびドデシルアルコールなどが挙げられ、オキサゾール基含有化合物としては、２−（ドデシルジチオ）ベンゾオキサゾールおよび２−（デシルチオ）ベンゾオキサゾールなどが挙げられる。
【００３６】
腐食防止剤（Ｂ）のうち好ましいのは、（Ｂ１）単独、（Ｂ１）および（Ｂ２）の併用、（Ｂ１）および（Ｂ３）の併用、並びに（Ｂ１）〜（Ｂ３）の併用であり、さらに好ましいのは（Ｂ１）および（Ｂ２）の併用である。（Ｂ１）の含有は銅など非鉄金属の腐食防止の観点から好ましく、（Ｂ２）の含有は鉄の腐食防止の観点から好ましい。
【００３７】
腐食防止剤の含有量は、液体潤滑剤の重量に基づいて、通常１０％以下（以下において、特に限定しない限り％は重量％を表す）、０．００１〜１０％が好ましく、さらに好ましくは０．０１〜６％、特に好ましくは０．０５〜４％、最も好ましくは０．１〜２％である。
【００３８】
腐食防止剤が２種以上の併用である場合の含有量は合計含有量が上記範囲にあることが好ましい。
（Ｂ１）および（Ｂ２）の併用の場合の重量比（Ｂ１）／（Ｂ２）は、好ましくは１／０．１〜１０、さらに好ましくは１／０．２〜５である。
（Ｂ１）と（Ｂ２）もしくは（Ｂ３）を併用する場合の重量比は、（Ｂ１）／（Ｂ２）もしくは（Ｂ３）が１／０．１〜１０、さらに好ましくは１／０．２〜８であり、特に好ましくは１／０．３〜５である。
（Ｂ１）〜（Ｂ３）の３種を併用する場合の重量比（Ｂ１）／（Ｂ２）／（Ｂ３）は、１／０．０１〜１０／０．０１〜１０、さらに好ましくは１／０．１〜８／０．１〜８であり、特に好ましくは１／０．２〜５／０．２〜５である。
【００３９】
本発明の液体潤滑剤は、希釈剤（Ｃ）を含有していてもよい。
希釈剤の存在により腐食性が抑制されるうえ、低粘度の希釈剤の含有により電解質（Ａ）単独よりも低粘度化できる。ところが、一般的に希釈剤は蒸発しやすく、その配合により液体潤滑剤の蒸発損失が大きくなってしまうため、希釈剤（Ｃ）は、数式（１）および（２）に基づいて含有することが好ましい。
希釈剤が下記の範囲内である場合、液体潤滑剤の粘度が低く、かつ蒸発損失が少ないという点で優れている。
０．０００１≦ｒ≦６×１０-7ｅｘｐ（０．０４５Ｂｐ） （１）
ただし、Ｂｐ≧１１４
０≦[１−ｒ]ｌｏｇ（Ｖａ）＋ｒ×ｌｏｇ（Ｖｃ）≦１．３ （２）
式中、ｒは電解質（Ａ）と希釈剤（Ｃ）の合計重量に対する希釈剤（Ｃ）の重量比、Ｂｐは希釈剤（Ｃ）の７６０ｍｍＨｇにおける沸点（℃）であり、ＶａおよびＶｃはそれぞれ電解質（Ａ）および希釈剤（Ｃ）の４０℃での動粘度（ｍｍ2／ｓｅｃ）である。
【００４０】
さらに好ましくは、数式（３）および（４）に基づいて含有することであり、
０．０００１≦ｒ≦４×１０-7ｅｘｐ（０．０４５Ｂｐ） （３）
ただし、Ｂｐ≧１２３
０≦[１−ｒ]ｌｏｇ（Ｖａ）＋ｒ×ｌｏｇ（Ｖｃ）≦１．３ （４）
特に好ましくは、数式（５）および（６）に基づいて含有することである。
０．００１≦ｒ≦２×１０-7ｅｘｐ（０．０４５Ｂｐ） （５）
ただし、Ｂｐ≧１９０
０≦[１−ｒ]ｌｏｇ（Ｖａ）＋ｒ×ｌｏｇ（Ｖｃ）≦１．３ （６）
【００４１】
希釈剤（Ｃ）は、電解質（Ａ）と配合する濃度範囲において均一に混合できることが好ましく、相溶性の観点から希釈剤（Ｃ）の双極子モーメント（Ｄｍ）は０．５以上が好ましく、０．５〜１０．０がさらに好ましく、１．０〜９．０が特に好ましく、１．５〜８．０が最も好ましい。
なお、双極子モーメントはＯＲＧＡＮＩＣ ＳＯＬＶＥＮＴＳ（ＪＯＨＮ Ａ．ＲＩＤＤＩＣＫおよびＷＩＬＬＩＡＭ Ｂ．ＢＵＮＧＥＲ著、ＷＩＬＥＹ−ＩＮＴＥＲＳＣＩＥＮＣＥ発行）に記載された数値を用いることができる。記載のない化合物もＣＡＣｈｅシステムにて計算することができる。例えば、富士通社製のＣＡＣｈｅＷＯＲＫＳＹＳＴＥＭ５．０２を利用して、Ｗｏｒｋｓｐａｃｅ上で計算したい分子構造を描き、構造最適化した後、ＭＭ／ＰＭ３ｇｅｏｍｅｔｒｙで計算することで求めることができる。
【００４２】
希釈剤（Ｃ）としては、例えばテトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシド［Ｂｐ＝２８５℃、Ｖｃ＝４．７、Ｄｍ＝４．８１］、ジフェニルプロパノン［Ｂｐ＝３３０℃、Ｖｃ＝７、Ｄｍ＝２．４０］およびエチレングリコール［Ｂｐ＝１８９℃、Ｖｃ＝８．８、Ｄｍ＝２．２８］などが挙げられる。
【００４３】
本発明の液体潤滑剤は、その用途により、もしくは要求される性能により、さらにその他の成分を含有していてもよい。
その他の成分としては、従来から公知の潤滑剤として使用されている鉱物油、エステル系潤滑剤（例えば、脂肪族二塩基酸エステル、ポリオールエステルなど）、またはリン酸エステル（例えば、トリクレジルフォスフェート、トリブチルフォスフェートなど）などを使用することができる。
これら公知の潤滑剤の含有量は、液体潤滑剤全体の重量に基づいて５０％以下が好ましく、さらに好ましくは３０％以下である。
【００４４】
本発明の液体潤滑剤は、さらに、酸化防止剤、油性剤、摩耗防止剤、極圧剤、防錆剤、粘度指数向上剤、流動点降下剤、消泡剤等の添加剤の１種又は２種以上を適宜配合することも可能である。
これらの添加剤の配合量は、所定の効果を奏する限り特に限定されるものではないが、液体潤滑剤の全体の重量に基づいて、それぞれの好ましい配合量の例を以下に示す。
酸化防止剤は、０〜５％、好ましくは０．０１〜３％；油性剤は、０〜５％、好ましくは０．０１〜３％；摩耗防止剤・極圧剤は、０〜１０％、好ましくは０．０１〜５％；防錆剤は、０〜５％、好ましくは０．０１〜２％；粘度指数向上剤または流動点降下剤は、０〜１５％、好ましくは０．１〜７％；消泡剤は、０〜０．１％、好ましくは０．０００５〜０．０１％；である。
【００４５】
本発明の液体潤滑剤は、低粘度でありながら低い蒸発損失と高い引火点を持つため、高速モータ等に使用される焼結含油軸受油 又は流体軸受油に適している。さらに好ましくは、ＣＤ，ＤＶＤ，ＨＤＤ，ポリゴンスキャナーなどに使用されるスピンドルモータの流体軸受油に適している。
【００４６】
［実施例］
以下、製造例、実施例および比較例により本発明を説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００４７】
製造例１〜７：電解質（Ａ）の製造
［製造例１］
ジメチルカーボネート１３５部（１．５モル部）のメタノール１９２部溶液に、１−エチルイミダゾール９６部（１．０モル部）を滴下して、１３０℃で４０時間攪拌することで、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムメチルカーボネート塩を生成した。さらにＨＢＦ4８７．８部（１．０モル部）を加えると炭酸ガスが激しく発生して、塩交換が起こった。１．０ｋＰａ以下の減圧度で１２０℃で加熱して、溶媒のメタノールを除去することで電解質１−エチル−３−メチルイミダゾリウム・ＢＦ4 （Ｅ−１）を得た。
［製造例２］
ＨＢＦ4をビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド２８１部（１．０モル部）に代える以外は製造例１と同様にして電解質１−エチル−３−メチルイミダゾリウム・ビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド（Ｅ−２）を得た。
［製造例３］
１−エチルイミダゾールを１−エチル−２−メチルイミダゾール１１０部（１．０モル部）に代える以外は製造例２と同様にして電解質１，２−ジメチル−３−エチルイミダゾリウム・ビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド（Ｅ−３）を得た。
［製造例４］
１−エチルイミダゾールを Ｎ，Ｎ−ジメチルプロピルアミン８７部（１．０モル部）に代える以外は製造例２と同様にして電解質トリメチルプロピルアンモニウム・ビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド（Ｅ−４）を得た。
［製造例５］
ジメチルカーボネート１３５部（１．５モル部）のメタノール１９２部溶液に、１−エチルイミダゾール９６部（１．０モル部）を滴下して、１３０℃で４０時間攪拌することで、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムメチルカーボネート塩を生成した。３５％塩酸１０４．３部（１．０モル部）を加えた後、１．０ｋＰａ以下の減圧度で１２０℃で加熱して蒸留し、メタノールおよび水を除去することで１−エチル−３−メチルイミダゾリウム塩化物塩（１．０モル部）を得た。アセトニトリル４１０部（１０モル部）およびＫＢＦ3（Ｃ4Ｆ9）３２６部（１．０モル部）を加え、２５℃にて１０時間攪拌すると、塩交換が起こり、塩化カリウムの沈殿が発生した。濾過により沈殿物を除去した後、１．０ｋＰａ以下の減圧度で１２０℃で加熱して、溶媒のアセトニトリルを除去することで電解質１−エチル−３−メチルイミダゾリウム・ＢＦ3（Ｃ4Ｆ9）（Ｅ−５）を得た。
［製造例６］
ビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミドを３０９部（１．１モル部）に代える以外は製造例２と同様にしてアニオン過剰の電解質１−エチル−３−メチルイミダゾリウム・ビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド（Ｅ−６）を得た。
［製造例７］
ＨＢＦ4をビス（フルオロスルホニル）イミド１８１部（１．０モル部）に代える以外は製造例１と同様にして電解質１−エチル−３−メチルイミダゾリウム・ビス（フルオロスルホニル）イミド（Ｅ−７）を得た。
【００４８】
得られた電解質（Ｅ−１）〜（Ｅ−７）は、それぞれ以下の組成を有する。
＜電解質＞
（Ｅ−１）：１−エチル−３−メチルイミダゾリウム・ＢＦ4
（Ｅ−２）：１−エチル−３−メチルイミダゾリウム・ビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド
（Ｅ−３）： １，２−ジメチル−３−エチルイミダゾリウム・ビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド
（Ｅ−４）：トリメチルプロピルアンモニウム・ビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド
（Ｅ−５）：１−エチル−３−メチルイミダゾリウム・ＢＦ3（Ｃ4Ｆ9）
（Ｅ−６）：１−エチル−３−メチルイミダゾリウム・ビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド
（Ｅ−７）：１−エチル−３−メチルイミダゾリウム・ビス（フルオロスルホニル）イミド
【００４９】
それぞれの電解質の４０℃での性状、４０℃での動粘度、分子量、および水の溶解度を表１に示す。測定法は以下のとおりである。
［４０℃での動粘度］
ＪＩＳ Ｋ ２２８３に従って測定した。
［水の溶解度］
２００ｍｌのビーカーに、電解質(Ａ)５０ｇに対して水５０ｇを入れて、２５℃で１時間攪拌（櫂型攪拌羽根で２００ｒｐｍ）した後、２４時間静置することにより電解質相と水相に分液させた。電解質相を取り出し、ＪＩＳ Ｋ ２２７５に記載された方法で水分を測定して計算した。
【００５０】
【表１】
【００５１】
［実施例１〜１０および比較例１〜４］
表２に記載のように、電解質（Ｅ−１）〜（Ｅ−７）、または下記の比較の液体潤滑剤を主成分とし、必要により、下記の腐食防止剤および／または希釈剤を添加、配合して、実施例および比較例の液体潤滑剤を調製した。表２中の（ ）内は配合重量部数である。
【００５２】
＜比較の液体潤滑剤＞
（Ｈ−１）：ポリアルファオレフィン（商品名：Ｎｅｘｂａｓｅ２００４（ネステ社製））
（Ｈ−２）：リン酸トリブチル（和光純薬（株）製）
（Ｈ−３）：１，３−ジフェニル−２−プロパノン（アルドリッチ（株）製）
（Ｈ−４）：リン酸トリトリル（和光純薬（株）製）
（Ｈ−５）：ジオクチルセバケート（和光純薬（株）製）
（Ｈ−６）：スピンドル油（出光興産（株）製）
＜腐食防止剤＞
（Ｉ−１）：ベンゾトリアゾール（和光純薬（株）製）
＜希釈剤＞
（Ｓ−１）：テトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシド［Ｂｐ＝２８５℃、Ｖｃ＝４．７、Ｄｍ＝４．８１］（和光純薬（株）製）
（Ｓ−２）：エチレングリコール［Ｂｐ＝１８９℃、Ｖｃ＝８．８、Ｄｍ＝２．２８］（和光純薬（株）製）
【００５３】
【表２】
【００５４】
得られた液体潤滑剤の４０℃での動粘度、引火点、蒸発損失、アニオン過剰当量および金属腐食性を下記の測定方法で測定した結果を表３に示した。
【００５５】
［４０℃での動粘度］
ＪＩＳ Ｋ ２２８３に従って測定した。
［引火点］
ＪＩＳ Ｋ ２２６５に従って測定した。
［蒸発損失］
測定方法−１：ＴＧ−ＤＴＡ法で、１００℃で１２時間の重量減少（重量％）を測定した。
測定方法−２：ＤＩＮ５１５８１記載の方法に従って測定した。
［アニオン過剰量］
前述のように核磁気共鳴（ＮＭＲ）測定装置を用いて測定した。
［金属腐食性］
ＪＩＳ Ｋ ２５１３に従って、研磨した銅板（材質Ｃ１１００Ｐ）を試験液に浸漬し、温度８０℃、湿度９０％にて１週間保持した際の金属表面の変色を４段階で評価した。数字の小さいほうが腐食性の小さいことを示す。
【００５６】
【表３】
【００５７】
比較例の液体潤滑剤のうち、動粘度の低いものは蒸発損失が大きく引火点も低い。逆に蒸発損失の少なく引火点も高いものは動粘度が高くなる。
本発明の液体潤滑剤は低粘度と低蒸発が両立されている。
【産業上の利用可能性】
【００５８】
本発明の液体潤滑剤は、電気機器、特にＣＤ，ＤＶＤ，ＨＤＤ，ポリゴンスキャナーなどに使用されるスピンドルモータなどの流体軸受け油として有用である。また、真空装置や半導体製造装置にも好適に使用できる。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
４０℃で液状である電解質（Ａ）を含有し、４０℃での動粘度が１〜２０ｍｍ2／ｓである液体潤滑剤。
【請求項２】
電解質（Ａ）が、一般式（１）または（２）で示されるアミジニウムカチオン(ａ１）、並びにアニオン（ａ２）からなる電解質である請求項１記載の液体潤滑剤。
【化１】
【化２】
［式中、Ｒ1は水酸基で置換されていてもよい炭素数１〜２０の１価炭化水素基または水素原子；Ｒは、水酸基，アミノ基，ニトロ基，シアノ基，カルボキシル基，エーテル基もしくはアルデヒド基を有していてもよい、同一または異なる、炭素数１〜１０の１価炭化水素基であるか；またはＲ1およびＲの一部または全部は、それらの２〜４個が相互に結合して２〜４価の基となり窒素原子と共に複素環を形成していてもよい基である。］
【請求項３】
電解質（Ａ）の分子量が１，０００以下であり、電解質（Ａ）１００重量部への水の溶解度が１０重量部以下である請求項１または２記載の液体潤滑剤。
【請求項４】
電解質（Ａ）を構成するアニオンの当量以上の過剰のアニオンの含有量が、電解質（Ａ）を構成するアニオン１当量に対して０．１当量以下である請求項１〜３のいずれか記載の液体潤滑剤。
【請求項５】
さらに腐食防止剤（Ｂ）を液体潤滑剤の重量に基づいて０．００１〜１０重量％含有してなる請求項１〜４いずれか記載の液体潤滑剤。
【請求項６】
腐食防止剤（Ｂ）が、Ｎ−Ｎ結合、Ｎ＝Ｎ結合、Ｎ−Ｃ−Ｎ結合、Ｎ＝Ｃ−Ｎ結合、Ｎ−Ｃ−Ｓ結合、Ｎ＝Ｃ−Ｓ結合、Ｎ−Ｃ＝Ｓ結合およびＣ（＝Ｓ）−Ｓ結合からなる群から選ばれる１種以上の結合を有する化合物（Ｂ１）からなる請求項５記載の液体潤滑剤。
【請求項７】
腐食防止剤（Ｂ）が、前記（Ｂ１）、並びに、カルボン酸エステル基、アミノ基およびカルボン酸アミド基からなる群から選ばれる１種以上の基を有する化合物（Ｂ２）からなり、（Ｂ１）／（Ｂ２）の重量比が１／０．１〜１０である請求項６記載の液体潤滑剤。
【請求項８】
さらに、数式（１）および（２）に基づく重量の希釈剤（Ｃ）を含有する請求項１〜７いずれか記載の液体潤滑剤。
０．０００１≦ｒ≦６×１０-7ｅｘｐ（０．０４５×Ｂｐ） （１）
ただし、Ｂｐ≧１１４
０≦[１−ｒ]ｌｏｇ（Ｖａ）＋ｒ×ｌｏｇ（Ｖｃ）≦１．３ （２）
［式中、ｒは電解質（Ａ）と希釈剤（Ｃ）の合計重量に対する希釈剤（Ｃ）の重量比、Ｂｐは希釈剤（Ｃ）の７６０ｍｍＨｇにおける沸点（℃）であり、ＶａおよびＶｃはそれぞれ電解質（Ａ）および希釈剤（Ｃ）の４０℃での動粘度である。］
【請求項９】
該希釈剤（Ｃ）の双極子モーメントが０．５〜１０である請求項８記載の液体潤滑剤。
【請求項１０】
軸受油用である請求項１〜９いずれか記載の液体潤滑剤。
【請求項１】
４０℃で液状である電解質（Ａ）を含有し、４０℃での動粘度が１〜２０ｍｍ2／ｓである液体潤滑剤。
【請求項２】
電解質（Ａ）が、一般式（１）または（２）で示されるアミジニウムカチオン(ａ１）、並びにアニオン（ａ２）からなる電解質である請求項１記載の液体潤滑剤。
【化１】
【化２】
［式中、Ｒ1は水酸基で置換されていてもよい炭素数１〜２０の１価炭化水素基または水素原子；Ｒは、水酸基，アミノ基，ニトロ基，シアノ基，カルボキシル基，エーテル基もしくはアルデヒド基を有していてもよい、同一または異なる、炭素数１〜１０の１価炭化水素基であるか；またはＲ1およびＲの一部または全部は、それらの２〜４個が相互に結合して２〜４価の基となり窒素原子と共に複素環を形成していてもよい基である。］
【請求項３】
電解質（Ａ）の分子量が１，０００以下であり、電解質（Ａ）１００重量部への水の溶解度が１０重量部以下である請求項１または２記載の液体潤滑剤。
【請求項４】
電解質（Ａ）を構成するアニオンの当量以上の過剰のアニオンの含有量が、電解質（Ａ）を構成するアニオン１当量に対して０．１当量以下である請求項１〜３のいずれか記載の液体潤滑剤。
【請求項５】
さらに腐食防止剤（Ｂ）を液体潤滑剤の重量に基づいて０．００１〜１０重量％含有してなる請求項１〜４いずれか記載の液体潤滑剤。
【請求項６】
腐食防止剤（Ｂ）が、Ｎ−Ｎ結合、Ｎ＝Ｎ結合、Ｎ−Ｃ−Ｎ結合、Ｎ＝Ｃ−Ｎ結合、Ｎ−Ｃ−Ｓ結合、Ｎ＝Ｃ−Ｓ結合、Ｎ−Ｃ＝Ｓ結合およびＣ（＝Ｓ）−Ｓ結合からなる群から選ばれる１種以上の結合を有する化合物（Ｂ１）からなる請求項５記載の液体潤滑剤。
【請求項７】
腐食防止剤（Ｂ）が、前記（Ｂ１）、並びに、カルボン酸エステル基、アミノ基およびカルボン酸アミド基からなる群から選ばれる１種以上の基を有する化合物（Ｂ２）からなり、（Ｂ１）／（Ｂ２）の重量比が１／０．１〜１０である請求項６記載の液体潤滑剤。
【請求項８】
さらに、数式（１）および（２）に基づく重量の希釈剤（Ｃ）を含有する請求項１〜７いずれか記載の液体潤滑剤。
０．０００１≦ｒ≦６×１０-7ｅｘｐ（０．０４５×Ｂｐ） （１）
ただし、Ｂｐ≧１１４
０≦[１−ｒ]ｌｏｇ（Ｖａ）＋ｒ×ｌｏｇ（Ｖｃ）≦１．３ （２）
［式中、ｒは電解質（Ａ）と希釈剤（Ｃ）の合計重量に対する希釈剤（Ｃ）の重量比、Ｂｐは希釈剤（Ｃ）の７６０ｍｍＨｇにおける沸点（℃）であり、ＶａおよびＶｃはそれぞれ電解質（Ａ）および希釈剤（Ｃ）の４０℃での動粘度である。］
【請求項９】
該希釈剤（Ｃ）の双極子モーメントが０．５〜１０である請求項８記載の液体潤滑剤。
【請求項１０】
軸受油用である請求項１〜９いずれか記載の液体潤滑剤。
【公開番号】特開２００７−３９６５３（Ｐ２００７−３９６５３Ａ）
【公開日】平成１９年２月１５日（２００７．２．１５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−１３６５３３（Ｐ２００６−１３６５３３）
【出願日】平成１８年５月１６日（２００６．５．１６）
【出願人】（０００００２２８８）三洋化成工業株式会社 (1,719)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年２月１５日（２００７．２．１５）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年５月１６日（２００６．５．１６）
【出願人】（０００００２２８８）三洋化成工業株式会社 (1,719)
【Ｆターム（参考）】
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