説明

無機微粒子含有熱可塑性樹脂組成物、光学素子及び無機微粒子含有熱可塑性樹脂組成物の製造方法

【課題】透明性を維持しつつ、寸法安定性を確保することができる無機微粒子含有熱可塑性樹脂組成物、光学素子及び無機微粒子含有熱可塑性樹脂組成物の製造方法を提供すること。
【解決手段】光学素子として対物レンズ15の製造に用いられる無機微粒子含有熱可塑性樹脂組成物は、(a)体積平均分散粒径が30nm以下の無機微粒子と、(b)0.05μm以上の異物の含有量が5wt%以下である熱可塑性樹脂とを混合して得られる。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は光学素子用途として用いられる無機微粒子含有熱可塑性樹脂組成物と、この無機微粒子熱可塑性樹脂組成物を用いた光学素子と、無機微粒子含有熱可塑性樹脂組成物の製造方法とに関する。
【背景技術】
【0002】
MOやCD、DVDといった光情報記録媒体(以下、単に媒体という。)に対して、情報の読み取りや記録を行うプレーヤー、レコーダー、ドライブといった情報機器には、光ピックアップ装置が備えられている。光ピックアップ装置には、光源から発した所定波長の光を媒体に照射させたり、媒体から反射された光を受光素子で受光させるためのレンズ等の光学素子が具備されている。
【0003】
このような光学素子の材料としては、射出成形等の手段により安価に作製できる等の点で、環状オレフィンとα−オレフィンとの共重合体等のプラスチックが用いられている。
【0004】
ここで、光学素子に適用されるプラスチック材料としては、ガラス材料と同様に光学的安定性を有することが求められている。それゆえ、例えば、環状オレフィンのようなプラスチック材料では、従来用いられてきたプラスチック材料であるPMMAに比べて吸水率が極めて低く、吸水による屈折率の変化が大幅に改善されている。しかしながら、屈折率の温度依存性については未だ解決されておらず、無機ガラスより一桁以上大きいのが現状であった。
【0005】
そこで、このようなプラスチック材料の短所を改善するために、従来では、樹脂に対して無機微粒子等のフィラーを混合したフィラー充填樹脂組成物とすることで、剛性、耐熱性等の物性改良が行われている(特許文献1〜特許文献3参照)。そして、この場合、同時に透明性を確保する必要もあり、そのためにフィラー径を十分に小さくする検討もなされていた。
【特許文献1】特開平3−57615号公報
【特許文献2】特開平10−60048号公報
【特許文献3】特開2005−154661号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
しかしながら、特許文献1では、光学レンズ用の樹脂を成形する際に使用する射出成型機に用いられる鋼材の組成を規定するとともに、当該射出成型機に用いる樹脂中の異物量を規定して(0.5〜1.0μmの異物が5.0×10個/g以下)樹脂組成物を製造する方法が開示されているものの、透明性を維持しつつ、寸法安定性を確保するには不十分である。また、樹脂へのフィラー充填に関して特に記載されていない。
【0007】
一方、特許文献2では、異物量の少ない環状オレフィン系重合体として、0.5μm以上の異物の含有量が3×10個/g以下である環状オレフィン系重合体及びその製造方法が開示されているものの、透明性を維持しつつ、寸法安定性を確保するには不十分であり、また、特許文献1と同様、フィラー充填に関して特に記載されていない。
【0008】
また、特許文献3では、熱可塑性樹脂に数平均粒子径が50nm以下である無機微粒子を0.1〜30重量%配合して分散させてなる無機微粒子含有熱可塑性樹脂組成物の製造方法が開示されており、当該製造方法は、無機微粒子、熱可塑性樹脂及び溶剤を含む分散液(1)を得る工程(I)と、分散液(1)を濾過する工程(II)と、分散液(1)から溶剤を除去する工程(III)とを含んでおり、工程(II)で、凝集粒子の除去を目的として1〜50μmの機械的フィルターを用いて無機微粒子含有熱可塑性樹脂溶液を濾過するものの、当該樹脂組成物の透明性を維持しつつ、寸法安定性を確保するには未だ不十分であった。また、ここでいう凝集粒子とは、いわゆる欠陥粒子であり、無機微粒子と熱可塑性樹脂とを混合させる際に、均一に混合させることができずに生じてしまう無機微粒子の凝集物をさしており、熱可塑性樹脂の重合時に発生してしまうゲル状化物とは異なるものであると解される。
【0009】
このように、特許文献1〜特許文献3の技術では、フィラーを充填させた際に、これら樹脂組成物等の透明性を維持しつつ、寸法安定性を確保するには不十分であり、更なる改善が求められていた。
【0010】
本発明は、前記した点に鑑みてなされたものであり、透明性を維持しつつ、寸法安定性を確保することができる無機微粒子含有熱可塑性樹脂組成物、光学素子及び無機微粒子含有熱可塑性樹脂組成物の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0011】
請求項1に記載の発明は、無機微粒子含有熱可塑性樹脂組成物であって、
(a)体積平均分散粒径が30nm以下の無機微粒子と、(b)0.05μm以上の異物の含有量が5wt%以下である熱可塑性樹脂とを混合して得られたことを特徴とする。
【0012】
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の無機微粒子含有熱可塑性樹脂組成物において、
前記無機微粒子が少なくとも酸化珪素を含むことを特徴とする。
【0013】
請求項3に記載の発明は、無機微粒子含有熱可塑性樹脂組成物において、
請求項1又は請求項2に記載の異物が前記熱可塑性樹脂のゲル化分であることを特徴とする。
【0014】
請求項4に記載の発明は、光学素子であって、
請求項1〜請求項3のいずれか一項に記載の無機微粒子含有熱可塑性樹脂組成物を用いて作成されたことを特徴とする。
【0015】
請求項5に記載の発明は、無機微粒子含有熱可塑性樹脂組成物の製造方法であって、
熱可塑性樹脂から0.05μm以上の異物の含有量を5wt%以下まで異物を除去する除去工程と、前記除去工程後の熱可塑性樹脂と、体積平均分散粒径が30nm以下の無機微粒子とを混合する混合工程とを含むことを特徴とする。
【発明の効果】
【0016】
請求項1〜請求項5のいずれか一項に記載の発明によれば、体積平均分散粒径が30nm以下といった粒径の小さい無機微粒子を熱可塑性樹脂組成物中に均一に分散させることができ、透明性を維持しつつ、寸法安定性を確保された無機微粒子含有熱可塑性樹脂組成物、光学素子及び無機微粒子含有熱可塑性樹脂組成物の製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0017】
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。ただし、発明の範囲は図示例に限定されない。
本発明に係る無機微粒子含有熱可塑性樹脂組成物(以下、無機微粒子含有樹脂組成物という)は、(a)体積平均分散粒径が30nm以下の無機微粒子と、(b)0.05μm以上の異物の含有量が5wt%以下である熱可塑性樹脂とを混合して得られるものであり、少なくとも無機微粒子及び熱可塑性樹脂を含むものである。以下、この無機微粒子含有樹脂組成物の製造方法について説明した後、この無機微粒子含有樹脂組成物が適用された光学素子について説明する。
【0018】
(1)無機微粒子含有樹脂組成物の製造方法
まず、無機微粒子含有樹脂組成物の製造方法で使用される材料である熱可塑性樹脂及び無機微粒子について説明する。
【0019】
(1.1)熱可塑性樹脂
本発明に係る熱可塑性樹脂としては、光学材料として一般的に用いられる透明の熱可塑性樹脂材料であれば特に制限はないが、光学素子としての加工性を考慮すると、アクリル樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、またはポリイミド樹脂であることが好ましく、特に好ましくは環状オレフィン樹脂であり、例えば、特開2003−73559号公報等に記載の化合物を挙げることができ、その好ましい化合物を下記表1に示す。
【表1】

【0020】
また、これら熱可塑性樹脂は、寸法安定性の観点から吸水率が0.2質量%以下であることが好ましい。吸水率が0.2質量%以下の樹脂としては、例えば、ポリオレフィン樹脂(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等)、フッ素樹脂(例えば、ポリテトラフルオロエチレン、テフロン(登録商標)AF(デュポン社製)、サイトップ(旭硝子社製)等)、環状オレフィン樹脂(例えば、ZEONEX(日本ゼオン社製)、アートン(JSR社製)、アペル(三井化学社製)、TOPAS(ポリプラスチック社製)等)、インデン/スチレン系樹脂、ポリカーボネートなどが好適であるが、これらに限るものではない。
【0021】
また、これら熱可塑性樹脂においては、粒子分散性の観点から酸変性されたものを含んでもよく、例えば極性基を持つ不飽和単量体をオレフィン系樹脂と共重合させる方法等公知の技術で作成されたものも好適に用いられる。
【0022】
また、これらの樹脂と相溶性のある他の樹脂を併用することも好ましい。本発明内で用いられる相溶性とは任意の割合で分子状態に溶け合う完全相溶と任意の組成や温度等条件下で相溶する部分相溶の状態をいう。また、2成分以上樹脂を相溶化する場合、相溶化後の樹脂は各成分の物理的及び化学的性質の平均であるか、両者の最善の特性が示される物理的及び化学的性質を有する。例えば2種以上の樹脂を用いる場合、その吸水率は、個々の樹脂の吸水率の平均値にほぼ等しいと考えられ、その平均の吸水率が0.2%以下になればよい。
【0023】
また、かかる熱可塑性樹脂には、その生成過程において形成された異物が通常含まれており、本発明者は、この異物の存在により樹脂材料中に均一に無機微粒子を分散しようとしても、該異物中には無機微粒子を分散することができず、そのため十分な光線透過率が得られないことを見出した。これは、無機フィラー等屈折率の異なる物質を、異物を含んだ熱可塑性樹脂中に分散させると、フィラーが均一に充填した部分とフィラーを充填することができない異物とが海島構造のようになるためであり、本発明者は、この異物を除去した熱可塑性樹脂に無機微粒子を分散させることにより樹脂組成物の透明性を向上させることが可能なことを見出して、本発明の完成に至った。すなわち、本発明に係る熱可塑性樹脂には、後述する除去工程が施されている。
【0024】
ここで、熱可塑性樹脂中の異物について説明すると、本発明における熱可塑性樹脂中の異物とは、重合体と相溶化しない微小な不純物や残留している触媒及びゲル化物であり、本発明の目的、すなわち、剛性や耐熱性等の機能改善を実現するために意図的に熱可塑性樹脂中に充填される無機微粒子は異物に該当しない。
【0025】
また、熱可塑性樹脂中の異物の量は、所望の光線透過率とするために熱可塑性樹脂100重量部に対して5重量部以下が望ましく、ピックアップレンズ等に用いられる場合0.5重量部以下さらに好ましくは0.05重量部以下である。
【0026】
なお、熱可塑性樹脂中の異物量及び異物の粒径の測定に際しては、十分な量の溶媒を用いて溶解した熱可塑性樹脂溶液から遠心分離機で沈殿物を取り出す工程を数回行った後、取り出された沈殿物に対し、樹脂中に溶解しているその他の添加物を除去するためにアセトン及びメタノールで複数回洗浄を行ってから各測定に使用する。異物量は、洗浄後の沈殿物を乾燥させた後、測定を行い、異物の粒径は、洗浄後の沈殿物を溶液中に超音波分散機等を用いて分散させた後、粒度分布測定器(例えばParticle Sizing Systems社製AccuSizer 780)を用いて測定を行うものとする。
【0027】
次に、除去工程について説明する。除去工程は、熱可塑性樹脂から0.05μm以上の異物の含有量を5wt%以下まで異物を除去する工程であり、具体的には、熱可塑性樹脂を溶解させた溶液を(1)各種フィルター通すことにより異物除去する方法や、(2)遠心分離機を用いて分離する方法などをあげることができる。
【0028】
(1)の方法では、フィルターの種類については特に制限はなく、機械フィルターや電荷的粒子除去フィルター等が好適に用いられる。機械フィルターの濾材についてはセルロース製の繊維材や、ガラス繊維製の無機材等が挙げられるが、耐溶媒性などからガラス繊維無機フィルターが好適に用いられる。
【0029】
特に機械フィルターの場合、体積平均換算0.5μm以下のサブミクロン粒子は目詰まりを起こしやすいので、濾過圧力やメッシュ径を溶液粘度や異物の量に応じて適宜最適化することが望ましい。機械的濾過フィルターの口径が0.5μm以下、好ましくは0.2μm以下のものを用いて2回以上濾過操作を繰り返すことで熱可塑性樹脂中の異物の除去が達成される。また、この場合、熱可塑性樹脂溶液の濃度としては生産性と濾過圧力の関係より1〜40wt%程度が望ましく、5〜20wt%がさらに望ましい。
【0030】
電荷的粒子除去フィルターは、一般的なゼータ電位を制御したゼータ電位濾過フィルターが好適に用いられるが、生産性の観点から異物の量が非常に少ない場合に限られる。また、陽電荷変性剤を付与したフィルターなども好適に用いられる。
【0031】
本発明において除去しようとする異物の粒径は、通常体積平均50nm以上であるが、充填する無機微粒子との屈折率を考えると、光線透過率の維持の観点から粒径が30nm以上の異物の除去が望ましい。
【0032】
一方、(2)の方法は、サブミクロン以上の異物が多量にある場合好ましく用いられ、通常1000rpm〜10000rpmで操作を行う。特にコンタミの影響を避けるためには有用な方法である。
【0033】
(1.2)無機微粒子
本発明において用いられる無機粒子は、一次粒径の体積平均分散粒径が30nm以下であることが好ましく、1nm以上、30nm以下であることがより好ましく、更に好ましくは1nm以上、10nm以下である。体積平均分散粒径が1nm以上であれば、無機粒子の分散性を確保することができ、所望の性能を得ることができ、また体積平均分散粒径が30nm以下であれば、得られる熱可塑性材料組成物の良好な透明性を得ることができ、光線透過率として70%以上を達成することができる。ここでいう体積平均分散粒径とは、分散状態にある無機粒子を、同体積の球に換算した時の直径をいう。また、一次粒子が凝集したものの粒径が30nm以上であっても、凝集物を解凝集させ分散させることで所望の透明性を確保することが可能であるが、一次粒子を粉砕し30nm以下の粒径の粒子を得ることは困難であり、一次粒子の大きさが重要である。
【0034】
本発明において用いることのできる無機粒子の形状は、特に限定されるものではないが、好適には球状の微粒子が用いられる。また、粒径の分布に関しても特に制限されるものではないが、本発明の効果をより効率よく発現させるためには、広範な分布を有するものよりも、比較的狭い分布を持つものが好適に用いられる。
【0035】
本発明で用いることのできる無機粒子としては、例えば、酸化物微粒子が挙げられる。より具体的には、例えば、酸化珪素、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウム、酸化イットリウム、酸化ランタン、酸化セリウム、酸化インジウム、酸化錫、酸化鉛、これら酸化物より構成される複酸化物であるニオブ酸リチウム、ニオブ酸カリウム、タンタル酸リチウム等、あるいは、リン酸塩、硫酸塩等、を挙げることができる。
【0036】
また、本発明に係る無機粒子として、半導体結晶組成の微粒子も好ましく利用できる。該半導体結晶組成には、特に制限はないが、光学素子として使用する波長領域において吸収、発光、蛍光等が生じないものが望ましい。具体的な組成例としては、例えば、炭素、ケイ素、ゲルマニウム、錫等の周期表第14族元素の単体、リン(黒リン)等の周期表第15族元素の単体、セレン、テルル等の周期表第16族元素の単体、炭化ケイ素(SiC)等の複数の周期表第14族元素からなる化合物、酸化錫(IV)(SnO)、硫化錫(II、IV)(Sn(II)Sn(IV)S)、硫化錫(IV)(SnS)、硫化錫(II)(SnS)、セレン化錫(II)(SnSe)、テルル化錫(II)(SnTe)、硫化鉛(II)(PbS)、セレン化鉛(II)(PbSe)、テルル化鉛(II)(PbTe)等の周期表第14族元素と周期表第16族元素との化合物、窒化ホウ素(BN)、リン化ホウ素(BP)、砒化ホウ素(BAs)、窒化アルミニウム(AlN)、リン化アルミニウム(AlP)、砒化アルミニウム(AlAs)、アンチモン化アルミニウム(AlSb)、窒化ガリウム(GaN)、リン化ガリウム(GaP)、砒化ガリウム(GaAs)、アンチモン化ガリウム(GaSb)、窒化インジウム(InN)、リン化インジウム(InP)、砒化インジウム(InAs)、アンチモン化インジウム(InSb)等の周期表第13族元素と周期表第15族元素との化合物(あるいはIII−V族化合物半導体)、硫化アルミニウム(Al)、セレン化アルミニウム(AlSe)、硫化ガリウム(Ga)、セレン化ガリウム(GaSe)、テルル化ガリウム(GaTe)、酸化インジウム(In)、硫化インジウム(In)、セレン化インジウム(InSe)、テルル化インジウム(InTe)等の周期表第13族元素と周期表第16族元素との化合物、塩化タリウム(I)(TlCl)、臭化タリウム(I)(TlBr)、ヨウ化タリウム(I)(TlI)等の周期表第13族元素と周期表第17族元素との化合物、酸化亜鉛(ZnO)、硫化亜鉛(ZnS)、セレン化亜鉛(ZnSe)、テルル化亜鉛(ZnTe)、酸化カドミウム(CdO)、硫化カドミウム(CdS)、セレン化カドミウム(CdSe)、テルル化カドミウム(CdTe)、硫化水銀(HgS)、セレン化水銀(HgSe)、テルル化水銀(HgTe)等の周期表第12族元素と周期表第16族元素との化合物(あるいはII〜VI族化合物半導体)、硫化砒素(III)(As)、セレン化砒素(III)(AsSe)、テルル化砒素(III)(AsTe)、硫化アンチモン(III)(Sb)、セレン化アンチモン(III)(SbSe)、テルル化アンチモン(III)(SbTe)、硫化ビスマス(III)(Bi)、セレン化ビスマス(III)(BiSe)、テルル化ビスマス(III)(BiTe)等の周期表第15族元素と周期表第16族元素との化合物、酸化銅(I)(CuO)、セレン化銅(I)(CuSe)等の周期表第11族元素と周期表第16族元素との化合物、塩化銅(I)(CuCl)、臭化銅(I)(CuBr)、ヨウ化銅(I)(CuI)、塩化銀(AgCl)、臭化銀(AgBr)等の周期表第11族元素と周期表第17族元素との化合物、酸化ニッケル(II)(NiO)等の周期表第10族元素と周期表第16族元素との化合物、酸化コバルト(II)(CoO)、硫化コバルト(II)(CoS)等の周期表第9族元素と周期表第16族元素との化合物、四酸化三鉄(Fe)、硫化鉄(II)(FeS)等の周期表第8族元素と周期表第16族元素との化合物、酸化マンガン(II)(MnO)等の周期表第7族元素と周期表第16族元素との化合物、硫化モリブデン(IV)(MoS)、酸化タングステン(IV)(WO)等の周期表第6族元素と周期表第16族元素との化合物、酸化バナジウム(II)(VO)、酸化バナジウム(IV)(VO)、酸化タンタル(V)(Ta)等の周期表第5族元素と周期表第16族元素との化合物、酸化チタン(TiO、Ti、Ti、Ti等)等の周期表第4族元素と周期表第16族元素との化合物、硫化マグネシウム(MgS)、セレン化マグネシウム(MgSe)等の周期表第2族元素と周期表第16族元素との化合物、酸化カドミウム(II)クロム(III)(CdCr)、セレン化カドミウム(II)クロム(III)(CdCrSe)、硫化銅(II)クロム(III)(CuCr)、セレン化水銀(II)クロム(III)(HgCrSe)等のカルコゲンスピネル類、バリウムチタネート(BaTiO)等が挙げられる。なお、G.Schmidら;Adv.Mater.,4巻,494頁(1991)に報告されている(BN)75(BF2)15F15や、D.Fenskeら;Angew.Chem.Int.Ed.Engl.,29巻,1452頁(1990)に報告されているCu146Se73(トリエチルホスフィン)22のように構造の確定されている半導体クラスターも同様に例示される。
【0037】
これらの中でも特に酸化珪素は気相法、液相法及びゾルゲル法で作成された微粒子が市販されており安価で手に入るため好ましく用いられる。この中には各種微粒子の表面に酸化珪素膜を持つものも含む。例えば酸化チタンのような光触媒能を持つ無機微粒子をシリカコートすることで樹脂組成物中に含有する技術も好ましく用いられる。(特開2004−59421)
【0038】
また表面処理が困難な微小粒子も、表面に緻密な酸化珪素膜を作成することで樹脂に適した表面処理が可能になる。
【0039】
なお、これらの無機粒子は、1種類の無機粒子を用いてもよく、また複数種類の無機粒子を併用してもよい。また、複合組成の無機粒子を用いることも可能である。複数種類の無機微粒子は混合型、コアシェル(積層)型、化合物型及び複合型(1つの母材無機微粒子中にもう1つの無機微粒子が存在する形)等のどれでもよい。
【0040】
また、最終的な光学素子用無機微粒子含有樹脂組成物に含まれる無機微粒子体積比率は1〜70vol%であり、好ましくは10〜50vol%である。光学素子用無機微粒子含有樹脂組成物の無機微粒子含有量が1vol%以下の場合、所望の物性向上効果が得られない可能性がある。また、光学素子用無機微粒子含有樹脂組成物の無機微粒子含有量が70vol%以上の場合、経済性や成形性において問題となる。
【0041】
次に、このような無機微粒子の製造方法について説明する。
本発明に係る無機微粒子の製造方法は、特に限定されるものではなく、公知のいずれの方法も用いることができる。例えば、ハロゲン化金属やアルコキシ金属を原料に用い、水を含有する反応系において加水分解することにより、所望の酸化物微粒子を得ることができる。この際、微粒子の安定化のために有機酸や有機アミンなどを併用する方法も用いられる。より具体的には、例えば、二酸化チタン微粒子の場合、ジャーナル・オブ・ケミカルエンジニアリング・オブ・ジャパン第31巻1号21−28頁(1998年)や、硫化亜鉛の場合は、ジャーナル・オブ・フィジカルケミストリー第100巻468−471頁(1996年)に記載された公知の方法を用いることができる。例えば、これらの方法に従えば、体積平均分散粒径が5nmの酸化チタンは、チタニウムテトライソプロポキサイドや四塩化チタンを原料として、適当な溶媒中で加水分解させる際に適当な表面修飾剤を添加することにより容易に製造することができる。
【0042】
また、体積平均分散粒径が40nmの硫化亜鉛は、ジメチル亜鉛や塩化亜鉛を原料とし、硫化水素あるいは硫化ナトリウムなどで硫化する際に、表面修飾剤を添加することにより製造することができる。表面修飾する方法は、特に限定されるものではなく、公知のいずれの方法も用いることができる。例えば、水が存在する条件下で加水分解により微粒子の表面に修飾する方法が挙げられる。この方法では、酸またはアルカリなどの触媒が好適に用いられ、微粒子表面の水酸基と、表面修飾剤が加水分解して生じる水酸基とが、脱水して結合を形成することが一般に考えられている
【0043】
本発明に係る無機微粒子は表面処理を施されていることが好ましい。無機微粒子の表面処理の方法としては、カップリング剤等の表面修飾剤による表面処理、ポリマーグラフト、メカノケミカルによる表面処理などが挙げられる。
【0044】
ここで、無機微粒子の表面処理に適用可能な表面修飾剤の種類について説明する。
無機微粒子に適用される表面修飾剤としてはシランカップリング剤、アルミネート系カップリング剤、チタネート系カップリング剤、アミノ酸系分散剤及び各種シリコーンオイル等が挙げられる。これらは使用する上記微粒子によって適宜選択される。また、各種表面処理を二つ以上同時又は異なる時に行っても良い。
【0045】
シランカップリング剤の具体例として、ビニルシラザントリメチルクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、メチルトリクロロシラン、トリメチルアルコキシシラン、ジメチルジアルコキシシラン、メチルトリアルコキシシラン、ヘキサメチルジシラザン等公知のものが使用できるが、微粒子の表面を広く覆うためにヘキサメチルジシラザン等が好ましく用いられる。
【0046】
シリコーンオイル系処理剤としては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルといったストレートシリコーンオイルやアミノ変性シリコーンオイル、エポキシ変性シリコーンオイル、カルボキシル変性シリコーンオイル、カルビノール変性シリコーンオイル、メタクリル変性シリコーンオイル、メルカプト変性シリコーンオイル、フェノール変性シリコーンオイル、片末端反応性変性シリコーンオイル、異種官能基変性シリコーンオイル、ポリエーテル変性シリコーンオイル、メチルスチリル変性シリコーンオイル、アルキル変性シリコーンオイル、高級脂肪酸エステル変性シリコーンオイル、親水性特殊変性シリコーンオイル、高級アルコキシ変性シリコーンオイル、高級脂肪酸含有変性シリコーンオイル、フッ素変性シリコーンオイルなどの変性シリコーンオイルを用いることができる。
【0047】
また、これらの処理剤は、ヘキサン、トルエン、メタノール、エタノール、アセトン水等で適宜希釈して用いても良い。
【0048】
次に、前述の表面処理剤による無機微粒子の表面改質方法について説明する。
表面処理剤による表面改質方法としては、そのほかに湿式加熱法、湿式濾過法インテグラルブレンド法等があるが、本発明においては特に限定されない。本発明のマスターバッチ作成時前にこれらの方法で無機微粒子を予め表面処理を行っておいても良い。
その際の表面処理剤の添加量は、使用される無機微粒子がナノサイズであり比表面積が大きいため比較的多量に用いられる。具体的な量としては、無機微粒子100重量部に対して5重量部以上が必要である。これにより、期待する表面処理効果が得られずに粒子の凝集の発生を防止するとともに、熱可塑性材料中にボイド(空隙)を発生させ、これに伴う線膨張係数の増大や光線透過率の低下を防止することができる。なお、コストの増加や使用する樹脂との可溶化量の観点からは、表面処理剤の添加量は、無機微粒子100重量部に対して100重量部以下に抑えることが望ましい。
【0049】
なお、本発明においては、予め熱可塑性樹脂及び無機微粒子を混合することでマスターバッチを作成する方法も好ましく用いられる。
すなわち、予め、無機微粒子の濃度が所望の無機微粒子含有樹脂組成物より高濃度に調節された無機微粒子組成物を作成し、これをマスターバッチとして使用すればよい。この場合、無機微粒子組成物は、熱可塑性樹脂又は適当な分散媒に無機微粒子を混合して、無機微粒子が高濃度に分散されたものとすればよい。
【0050】
マスターバッチを作成する場合、ローラーコンパクターといった乾式混合やタンブラーミキサー、スーパーミキサー、ヘンシェルミキサー、スクリューブレンダー、リボンブレンダーといった湿式混合など公知の方法が適応できるが、特に混合トルクが大きく残留物の影響の少ないスーパーミキサー等が好適に用いられる。
【0051】
ここで、熱可塑性樹脂100体積部に対する無機微粒子の配合量は、25体積部以上300体積部以下であることが好ましい。25体積部より小さいと無機微粒子を添加することで得られる効果が十分に発揮されない。また、300体積部より大きいと、結着剤としての樹脂が不足し、均一な組成ができず、無機微粒子と熱可塑性樹脂との間の界面の密着が不十分となり、空隙を発生する。このように空隙を含んだマスターバッチを使用して光学素子用に無機微粒子含有樹脂組成物を製造した場合、空隙に含まれる酸素による樹脂劣化を発生させたり、空隙内の水分が気泡として樹脂組成物中に存在することで光線透過率を低下させるため光学素子として欠陥となる。
【0052】
また、本発明で熱可塑性樹脂及び体積平均分散粒径が30nm以下の無機微粒子を上記方法で湿式混合する場合、溶媒を使用することで均一に混合することができる。
【0053】
湿式混合時に使用する溶媒は、上記組成物が溶解するものであれば良く、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ヘプタノン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸−t−ブチル、酢酸−n−ブチル、酢酸−n−ヘキシル等のエステル類、1,2−ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、1,2−ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,3−ジオキサン、1,4−ジオキサン等のエーテル類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、N−メチル−2−ピロリドン、スルホラン等の非プロトン性極性溶媒等を挙げることができる。また、これらの溶媒は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
【0054】
使用する溶媒の大気圧時の沸点に関して、好ましくは30〜200℃であり、より好ましくは50〜150℃である。沸点が30℃より低いと、取り扱い上危険である。また、沸点が150℃より高いと、溶媒除去が困難であるばかりか、分解物の残留や加熱の影響で最終生成物に悪影響を与える。
【0055】
マスターバッチ作成時に使用される溶媒量は、熱可塑性樹脂が溶解する範囲内であれば特に制限されないが、樹脂100重量部に対して溶媒500〜2000重量部が好ましい。溶媒が500重量部より少ない場合、樹脂がすべて溶解せずマスターバッチ組成が不均一になる恐れがある。また、2000重量部以上の場合、生産性が低下するとともに湿式混合時に十分なトルクが得られず作成したマスターバッチ組成が不均一になる恐れがある。
【0056】
なお、湿式混合に使用する溶媒等の揮発残留分は、最終的な無機微粒子含有樹脂組成物への悪影響や経済性の観点から、総体積の2%以下であるのが好ましい。
【0057】
また、本発明の無機微粒子含有樹脂組成物には、一般に常用される酸化防止剤、中和剤、滑剤、帯電防止剤、白化剤、熱安定剤、耐光安定剤、可塑剤、着色剤、耐衝撃性改良剤、増量剤、離型剤、発泡剤、加工助剤などの樹脂添加剤を必要に応じて本発明の目的を損なわない範囲で配合することができる。これらの各種添加剤は一般に用いられており、当業者に公知である。また、樹脂添加剤は、様々な種類の添加剤を単独で又は組み合わせて使用してもよい。
【0058】
なお、マスターバッチを用いて無機微粒子含有樹脂組成物を作成する場合には、樹脂添加剤をマスターバッチに添加することで、マスターバッチ作成時の粒子の分散化効果や、バインダ機能を持たせることも可能である。これらの樹脂添加剤は使用される各材料と相溶化できる範囲で適宜使用される。
【0059】
かかる添加剤の具体例は、R.Gachter及びH.Muller, Plastics Additives Handbook, 4th edition, 1993に記載されている他、以下に具体例を挙げるが、樹脂添加剤はこれらに限定されない。
【0060】
(1.3)樹脂添加剤
(1.3.1)可塑剤
可塑剤としては、特に限定はないが、リン酸エステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、トリメリット酸エステル系可塑剤、ピロメリット酸系可塑剤、グリコレート系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤等を挙げることができる。
【0061】
リン酸エステル系可塑剤では、例えば、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等を挙げることができる。
【0062】
また、フタル酸エステル系可塑剤では、例えば、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−2−エチルヘキシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジフェニルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート等を挙げることができる。
【0063】
また、トリメリット酸系可塑剤では、例えば、トリブチルトリメリテート、トリフェニルトリメリテート、トリエチルトリメリテート等を挙げることができる。
また、ピロメリット酸エステル系可塑剤では、例えば、テトラブチルピロメリテート、テトラフェニルピロメリテート、テトラエチルピロメリテート等を挙げることができる。
【0064】
また、グリコレート系可塑剤では、例えば、トリアセチン、トリブチリン、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等を挙げることができる。
【0065】
また、クエン酸エステル系可塑剤では、例えば、トリエチルシトレート、トリ−n−ブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレート、アセチルトリ−n−ブチルシトレート、アセチルトリ−n−(2−エチルヘキシル)シトレート等を挙げることができる。
【0066】
(1.3.2)酸化防止剤
酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤などが挙げられ、これらの中でもフェノール系酸化防止剤、特にアルキル置換フェノール系酸化防止剤が好ましい。これらの酸化防止剤を配合することにより、透明性、耐熱性等を低下させることなく、成型時の酸化劣化等によるレンズの着色や強度低下を防止できる。なお、これらの酸化防止剤は、それぞれ単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができ、その配合量は、本発明の目的を損なわない範囲で適宜選択される。
【0067】
ここで、フェノール系酸化防止剤としては、従来公知のものが使用でき、例えば、2−t−ブチル−6−(3−t−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)−4−メチルフェニルアクリレート、2,4−ジ−t−アミル−6−(1−(3,5−ジ−t−アミル−2−ヒドロキシフェニル)エチル)フェニルアクリレートなどの特開昭63−179953号公報や特開平1−168643号公報に記載されるアクリレート系化合物;オクタデシル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、2,2′−メチレン−ビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタン、ペンタエリトリチル−テトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、チオジエチレンビス[3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオート]、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、トリエチレングリコールビス(3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオネート)などのアルキル置換フェノール系化合物;6−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルアニリノ)−2,4−ビスオクチルチオ−1,3,5−トリアジン、4−ビスオクチルチオ−1,3,5−トリアジン、2−オクチルチオ−4,6−ビス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−オキシアニリノ)−1,3,5−トリアジンなどのトリアジン基含有フェノール系化合物;などが挙げられる。
【0068】
また、リン系酸化防止剤としては、一般の樹脂工業で通常使用される物であれば格別な限定はなく、例えば、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、トリス(ジノニルフェニル)ホスファイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、トリス−(2,6−ジメチルフェニル)ホスファイト、10−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイドなどのモノホスファイト系化合物;4,4′−ブチリデン−ビス(3−メチル−6−t−ブチルフェニル−ジ−トリデシルホスファイト)、4,4′−イソプロピリデン−ビス(フェニル−ジ−アルキル(C12〜C15)ホスファイト)などのジホスファイト系化合物などが挙げられる。これらの中でも、モノホスファイト系化合物が好ましく、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、トリス(ジノニルフェニル)ホスファイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイトなどが特に好ましい。
【0069】
また、イオウ系酸化防止剤としては、例えば、ジラウリル3,3−チオジプロピオネート、ジミリスチル3,3′−チオジプロピピオネート、ジステアリル3,3−チオジプロピオネート、ラウリルステアリル3,3−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス−(β−ラウリル−チオ−プロピオネート)、3,9−ビス(2−ドデシルチオエチル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカンなどが挙げられる。
【0070】
(1.3.3)耐光安定剤
耐光安定剤としては、ベンゾフェノン系耐光安定剤、ベンゾトリアゾール系耐光安定剤、ヒンダードアミン系耐光安定剤などが挙げられるが、本発明においては、レンズの透明性、耐着色性等の観点から、ヒンダードアミン系耐光安定剤(以下、HALSとする)を用いるのが好ましい。
【0071】
特に、HALSの中でも、テトラヒドロフラン(THF)を溶媒として用いたGPCにより測定したポリスチレン換算のMnが1,000〜10,000であるものが好ましく、2,000〜5,000であるものがより好ましく、2,800〜3,800であるものが特に好ましい。Mnが小さすぎると、HALSを無機微粒子含有樹脂組成物に加熱溶融混練して配合する際に、揮発のため所定量を配合できず、射出成型等の加熱溶融成型時に発泡やシルバーストリークが生じるなど加工安定性が低下する。また、この無機微粒子含有樹脂組成物からレンズを成型した場合に、ランプを点灯させた状態で当該レンズを長時間使用すると、レンズから揮発性成分がガスとなって発生する。逆にMnが大き過ぎると、HALSの無機微粒子含有樹脂組成物への分散性が低下して、レンズの透明性が低下し、耐光性改良の効果が低減する。したがって、本発明においては、HALSのMnを上記範囲とすることにより加工安定性、低ガス発生性、透明性に優れたレンズが得られる。
【0072】
このようなHALSの具体例としては、N,N′,N″,N′″−テトラキス−〔4,6−ビス−{ブチル−(N−メチル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)アミノ}−トリアジン−2−イル〕−4,7−ジアザデカン−1,10−ジアミン、ジブチルアミンと1,3,5−トリアジンとN,N′−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ブチルアミンとの重縮合物、ポリ〔{(1,1,3,3−テトラメチルブチル)アミノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル}{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ}ヘキサメチレン{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ}〕、ビス(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル)セバケート、1,6−ヘキサンジアミン−N,N′−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)とモルフォリン−2,4,6−トリクロロ−1,3,5−トリアジンとの重縮合物、ポリ〔(6−モルフォリノ−s−トリアジン−2,4−ジイル)(2,2,6,6,−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ〕−ヘキサメチレン〔(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ〕などの、ピペリジン環がトリアジン骨格を介して複数結合した高分子量HALS;コハク酸ジメチルと4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジンエタノールとの重合物、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸と1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジノールと3,9−ビス(2−ヒドロキシ−1,1−ジメチルエチル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカンとの混合エステル化物などの、ピペリジン環がエステル結合を介して結合した高分子量HALS等が挙げられる。
【0073】
これらの中でも、ジブチルアミンと1,3,5−トリアジンとN,N′−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ブチルアミンとの重縮合物、ポリ〔{(1,1,3,3−テトラメチルブチル)アミノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル}{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ}ヘキサメチレン{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ}〕、コハク酸ジメチルと4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジンエタノールとの重合物などのMnが2,000〜5,000のものが好ましい。
【0074】
本発明に係る無機微粒子含有樹脂組成物の製造方法は、前述のようにして、熱可塑性樹脂、無機微粒子、マスターバッチ、樹脂添加剤等を準備した後、無機微粒子又はマスターバッチと、熱可塑性樹脂とを混合させる方法であり、少なくとも、熱可塑性樹脂から0.05μm以上の異物の含有量を5wt%以下まで異物を除去する除去工程と、前記除去工程後の熱可塑性樹脂と、体積平均分散粒径が30nm以下の無機微粒子とを混合する混合工程とを含むものである。
ここで、ナノ粒子である無機微粒子を熱可塑性樹脂中に高度に分散させる観点から、無機微粒子又はマスターバッチと、ホスト材である熱可塑性樹脂とを混合しながら溶融混練装置で剪断力を与えて製造する方法が好ましく用いられる。
【0075】
具体的な混練機としては、KRCニーダー(栗本鉄工所社製);ポリラボシステム(HAAKE社製);ラボプラストミル(東洋精機製作所社製);ナウターミキサーブス・コ・ニーダー(Buss社製);TEM型押し出し機(東芝機械社製);TEX二軸混練機(日本製鋼所社製);PCM混練機(池貝鉄工所社製);三本ロールミル、ミキシングロールミル、ニーダー(井上製作所社製);ニーデックス(三井鉱山社製);MS式加圧ニーダー、ニダールーダー(森山製作所社製);バンバリーミキサー(神戸製鋼所社製)が挙げられる。
【0076】
なお、樹脂添加剤は、どのタイミングで添加されても良く、マスターバッチ作成した場合には、マスターバッチ作成時を含むどのタイミングで添加されても良い。
【0077】
また、最終的に作成される無機微粒子含有樹脂組成物に含まれる無機微粒子の割合としては、通常5〜50wt%程度である。無機微粒子含有樹脂組成物中に含まれる無機微粒子の割合が大幅に少ない場合、無機微粒子を含有させることによる物性改善効果が期待できない。また、上記割合が大幅に大きい場合、混練装置中で均一な混合に時間がかかり樹脂の劣化を招くほか、混練装置内壁面への無機微粒子の付着が問題となる。
【0078】
また上記樹脂との混合は、酸化による機能低下を防ぐため、大気中ではなくAr、N等の不活性ガス雰囲気下で行うのが好ましい。
【0079】
また、無機微粒子と熱可塑性樹脂の混合に際しては、その程度への配慮が必要である。無機微粒子と熱可塑性樹脂の混合の程度が不十分の場合には、特に屈折率やアッベ数、光線透過率などの光学特性に影響を及ぼすことが懸念され、また熱可塑性や溶融成形性などの樹脂加工性にも悪影響する恐れがあることから、十分な混合を行う方が望ましいが、混合の程度は、用いる熱可塑性樹脂及び無機微粒子の特性を十分に勘案して選択することが重要である。
【0080】
したがって、前述のように作成された無機微粒子含有樹脂組成物では、(a)体積平均分散粒径が30nm以下の無機微粒子と、(b)0.05μm以上の異物の含有量が5wt%以下である熱可塑性樹脂とを含んでおり、分散媒である熱可塑性樹脂中に大きさが0.05μm以上であるゲル化分等の異物が極めて少ないため、体積平均粒径30nm以下の無機微粒子を均一に分散させることができる。したがって、樹脂組成物の組成を均一にすることができ、透明性を維持しつつ、寸法安定性に優れた無機微粒子含有樹脂組成物が作成される。
【0081】
また、無機微粒子含有樹脂組成物は、球状、棒状、板状、円柱状、筒状、チューブ状、繊維状、フィルムまたはシート形状など種々の形態に成型させることができ、成型物の低複屈折性、透明性、機械強度、耐熱性、低吸水性を向上させることができる。そのため、本発明に係る光学素子に好適に用いられる。
【0082】
(2)光学素子
前述の製造方法により得られる無機微粒子含有樹脂組成物が適用された光学素子としては、例えば、光学レンズや光学プリズムとして、顕微鏡、内視鏡、望遠鏡レンズなどのレンズや、レーザビームプリンターのfθレンズ、センサー用レンズなどのレーザ走査系レンズ、カメラの撮像系レンズ、ファインダー系のプリズムレンズ、眼鏡レンズなどの全光線透過型レンズ、光ディスクのピックアップレンズなどが挙げられる。
【0083】
なお、光ディスクとしては、CD、CD−ROM、WORM、MO、MD、DVD、BD(Blu-ray Disc)、AOD(advanced optical disc)などが挙げられる。
【0084】
また、光学素子の他の例としては、偏光フィルム、位相差フィルム、光拡散フィルムなどの光学フィルム、光拡散板、光カード、液晶表示素子基板、液晶ディスプレイなどの導光板などが挙げられる。
【0085】
これらの中でも、低複屈折性が要求されるピックアップレンズやレーザ走査系レンズが好適であり、ピックアップレンズが最も好適である。本発明に係る無機微粒子含有樹脂組成物を用いて作成された光学素子では、優れた温度特性を有し、青紫色レーザ光源を用いた高密度な光ディスク用のピックアップレンズとして好適に用いられる。
【0086】
以下、図1を参照しながら、本実施形態における光学素子が対物レンズとして用いられた光ピックアップ装置1について説明する。
【0087】
図1に示すように、本実施形態における光ピックアップ装置1には、光源としての3種類の半導体レーザ発振器LD1,LD2,LDが具備されている。このうち、半導体レーザ発振器LD1は、BD(又はAOD)10用として波長350〜450nm中の特定波長、例えば405nm,407nmの波長の光束を出射するようになっている。また、半導体レーザ発振器LD2は、DVD20用として波長620〜680nm中の特定波長の光束を出射するようになっている。さらに、半導体レーザLD3は、CD30用として750〜810nm中の特定波長の光束を出射するようになっている。
【0088】
半導体レーザ発振器LD1から出射される青色光の光軸方向には、図1中下方から上方に向かって、シェイバSH1、スプリッタBS1、コリメータCL、スプリッタBS4,BS5及び対物レンズ15が順次配設されており、対物レンズ15と対向する位置には、光情報記録媒体であるBD10、DVD20又はCD30が配置されるようになっている。また、スプリッタBS1の図1中右方には、シリンドリカルレンズL11、凹レンズL12及び光検出器PD1が順次配設されている。
【0089】
半導体レーザ発振器LD2から出射される赤色光の光軸方向には、図1中左方から右方に向けてスプリッタBS2,BS4が順次配設されている。また、スプリッタBS2の図1中下方にはシリンドリカルレンズL21、凹レンズL22及び光検出器PD2が順次配設されている。
【0090】
半導体レーザ発振器LD3から出射される光の光軸方向には、図1中右方から左方に向けてスプリッタBS3,BS5が順次配設されている。また、スプリッタBS3の図1中下方にはシリンドリカルレンズL31、凹レンズL32及び光検出器PD3が順次配設されている。
【0091】
本発明に係る光学素子としての対物レンズ15は、光情報記録媒体としてのBD10、DVD20又はCD30に対向配置されるものであり、各半導体レーザ発振器LD1,LD2,LD3から出射された光を、BD10、DVD20又はCD30に集光するようになっている。このような対物レンズ15には、2次元アクチュエータ2が具備されており、この2次元アクチュエータ2の動作により、対物レンズ15は、上下方向に移動自在となっている。
【0092】
次に、光ピックアップ装置1の作用について説明する。
本実施形態における光ピックアップ装置1は、光情報記録媒体の種類よってそれぞれ異なる動作をするため、以下において、BD10、DVD20及びCD30に対する動作態様の詳細について、それぞれ説明する。
【0093】
まず始めに、BD10に対する光ピックアップ装置1の動作について説明する。
BD10への情報の記録動作時や、BD10に記録された情報の再生動作時には、半導体レーザ発振器LD1が光を出射する。その光は、図1に示すように、光線L1となって、シェイバSH1を透過して整形され、スプリッタBS1を透過して、コリメータCLで平行光とされる。そして、各スプリッタBS4,BS5及び対物レンズ15を透過し、BD10の記録面10aに集光スポットを形成する。
【0094】
集光スポットを形成した光は、BD10の記録面10aで情報ピットにより変調され、記録面10aによって反射される。そして、この反射光は、対物レンズ15、スプリッタBS5,BS4及びコリメータCLを透過し、スプリッタBS1で反射した後、シリンドリカルレンズL11を透過して、非点収差が与えられる。その後、この光は凹レンズL12を透過して、光検出器PD1で受光される。以後、このような動作が繰り返し行われ、BD10に対する情報の記録動作や、BD10に記録された情報の再生動作が完了する。
【0095】
次に、DVD20に対する光ピックアップ装置1の動作について説明する。
DVD20への情報の記録動作時や、DVD20に記録された情報の再生動作時には、半導体レーザ発振器LD2が光を出射する。その光は、図1に示すように、光線L2となって、スプリッタBS2を透過し、スプリッタBS4によって反射される。反射された光線L2は、スプリッタBS5及び対物レンズ15を透過し、DVD20の記録面20aに集光スポットを形成する。
【0096】
集光スポットを形成した光は、DVD20の記録面20aで情報ピットにより変調されて、記録面20aによって反射される。そして、この反射光は、対物レンズ15及びスプリッタBS5を透過し、各スプリッタBS4,BS2で反射した後、シリンドリカルレンズL21を透過して、非点収差が与えられる。その後、この光は凹レンズL22を透過して、光検出器PD2で受光される。以後、このような動作が繰り返し行われ、DVD20に対する情報の記録動作や、DVD20に記録された情報の再生動作が完了する。
【0097】
最後に、CD30に対する光ピックアップ装置1の動作について説明する。
CD30への情報の記録時や、CD30に記録された情報の再生時には、半導体レーザ発振器LD3から光が出射される。出射された光は、図1に示すように、光線L3となって、スプリッタBS3を通過し、スプリッタBS5によって反射される。反射された光線L3は、対物レンズ15を透過し、CD30の記録面30aに集光スポットを形成する。
【0098】
集光スポットを形成した光は、CD30の記録面30aで情報ピットにより変調されて、記録面30aによって反射される。そして、この反射光は、対物レンズ15を透過し、各スプリッタBS5,BS3で反射した後、シリンドリカルレンズL31を透過して、非点収差が与えられる。その後、この光は凹レンズL32を透過して、光検出器PD3で受光される。以後、このような動作が繰り返し行われ、CD30に対する情報の記録動作や、CD30に記録された情報の再生動作が完了する。
【0099】
なお、この光ピックアップ装置1は、BD10、DVD20又はCD30に対する情報の記録動作時や、BD10、DVD20又はCD30に記録された情報の再生動作時には、各光検出器PD1,PD2,PD3でのスポットの形状変化又は位置変化による光量変化を検出して、合焦検出又はトラック検出を行うようになっている。そして、このような光ピックアップ装置1は、各光検出器PD1,PD2,PD3の検出結果に基づいて、2次元アクチュエータ2が半導体レーザ発振器LD1,LD2,LD3からの光をBD10、DVD20又はCD30の記録面10a,20a,30aに結像するように対物レンズ15を移動させるとともに、半導体レーザ発振器LD1,LD2,LD3からの光を各記録面10a,20a,30aの所定のトラックに結像させるように対物レンズ15を移動させるようになっている。
【0100】
以上の光ピックアップ装置1における対物レンズ15によれば、本発明の無機微粒子含有樹脂組成物を成型して形成されており、無機微粒子の体積平均分散粒径が30nm以下であるので、30nmより大きい従来の場合と比較して、対物レンズの透明性を高めることができる。
また、対物レンズ15に対する無機微粒子含有樹脂組成物の製造工程において、分散媒である熱可塑性樹脂中に0.05μm以上の大きさのゲル化分等の異物の含有量を5wt%以下にして、当該樹脂中の異物を極めて少ない状態にさせているので、無機微粒子を熱可塑性樹脂中に均一に分散させることができ、無機微粒子含有樹脂組成物を成型して得られる対物レンズ15の組成を均一化し、寸法安定性を維持することができる。
【0101】
なお、本発明の無機微粒子含有樹脂組成物を用いた光学素子の成型方法としては、格別制限されるものはないが、低複屈折性、機械強度、寸法精度等の特性に優れた成型物を得る観点から、溶融成型が好ましい。
溶融成型法としては、例えば、市販のプレス成型、市販の押し出し成型、市販の射出成型等が挙げられるが、射出成型が成型性、生産性の観点から好ましい。
【0102】
また、成型条件は使用目的、または成型方法により適宜選択されるが、例えば、射出成型における前記樹脂組成物の温度は、成型時に適度な流動性を樹脂に付与して成型品のヒケやひずみを防止し、樹脂の熱分解によるシルバーストリークの発生を防止し、更に、成型物の黄変を効果的に防止する観点から150℃〜400℃の範囲が好ましく、更に好ましくは200℃〜350℃の範囲であり、特に好ましくは200℃〜330℃の範囲である。
【実施例】
【0103】
以下、実施例および比較例を挙げることにより、本発明に係る光学素子をさらに具体的に説明する。但し、本発明は実施例に限定されるものではない。
【0104】
<実施例1>
実施例1の作成に際しては、まず、異物が除去された熱可塑性樹脂1を作成した後、当該熱可塑性樹脂と無機微粒子との混合を行う。
【0105】
(熱可塑性樹脂1の作成)
すなわち、先ず、熱可塑性樹脂「ZEONEX340R」(製品名、日本ゼオン製) 100重量部とシクロヘキサン(関東化学製) 2000重量部とを80℃に加熱しながら24hr混合した後、遠心分離機にて15000rpmで30min操作を行い、不溶分を完全に分離させた。次いで、分離した不溶分を除去し、この樹脂溶液を190℃で減圧乾燥を行い、不溶分のきわめて少ない熱可塑性樹脂1を得た。なお、不溶分を除去した段階の樹脂溶液において、当該樹脂溶液に含まれるサイズが0.05μm以上の異物量をAccuSizer 780(製品名、Particle Sizing Systems社製)を用いて測定したところ、熱可塑性樹脂100重量部に対して0.01重量部であった。
【0106】
(無機微粒子との混合)
次に、T.K.ハイビスディスパーミックス3D-20(特殊機化工業製)を用いて、前記熱可塑性樹脂1 100重量部、気相法SiO2粒子「RX300」(製品名、日本アエロジル製、体積平均分散粒径7nm)100重量部及びシクロヘキサン(関東化学製)500重量部を85℃で湿式混合した後、脱揮・乾燥を行ってマスターバッチ1を得た。
【0107】
その後、ラボプラストミル(製品名、東洋精機製)を用い、装置温度200℃として、マスターバッチ1と熱可塑性樹脂1とをSiO2粒子の比率が30vol%となるような比率で溶融混練を行い、無機微粒子含有樹脂組成物1を得た。得られた無機微粒子含有樹脂組成物1を射出成形機にて成形を行い、光学評価用の光学素子として実施例1を作成した。
【0108】
<実施例2>
(熱可塑性樹脂2の作成)
まず、実施例1の(熱可塑性樹脂1の作成)において、「ZEONEX340R」 100重量部を、熱可塑性樹脂「APEL5014」(三井化学製) 100重量部に変更した以外は、実施例1と同様の操作を行い、得られる熱可塑性樹脂を熱可塑性樹脂2とした。なお、不溶分を除去した段階の樹脂溶液に含まれるサイズが0.05μm以上の異物量は、熱可塑性樹脂100重量部に対して0.05重量部であった。
【0109】
(無機微粒子との混合)
次に、前記熱可塑性樹脂2 100重量部、気相法SiO2粒子「RX200」(製品名、日本アエロジル製、体積平均分散粒径12nm) 100重量部及びシクロヘキサン(関東化学製) 500重量部を実施例1と同様の方法で湿式混合及び脱揮・乾燥を行い、マスターバッチ2を得た。
その後、ポリラボシステム(製品名、HAAKE製)を用いて、このマスターバッチ2と熱可塑性樹脂2をSiO2粒子が30vol%になるような比率で溶融混練を行い、無機微粒子含有樹脂組成物2を得た。得られた無機微粒子含有樹脂組成物2を射出成形機にて成形を行い、光学評価用の光学素子として実施例2を作成した。
【0110】
<実施例3>
(熱可塑性樹脂3の作成)
まず、実施例1の(熱可塑性樹脂1の作成)において、「ZEONEX340R」 100重量部を、熱可塑性樹脂「Topas-5013」(製品名、チコナ製) 100重量部に変更した以外は実施例1と同様の操作を行い、得られる熱可塑性樹脂を熱可塑性樹脂3とした。なお、不溶分を除去した段階の樹脂溶液に含まれるサイズが0.05μm以上の異物量は、熱可塑性樹脂100重量部に対して0.20重量部であった。
【0111】
(無機微粒子との混合)
027モルのリン酸水素二ナトリウムを含有する水溶液3リットルに、3.53モルの硫酸アルミニウム水溶液と、7.06モルのリン酸水素二ナトリウム水溶液のそれぞれ2リットルを、ダブルジェット法で10分間かけて添加した。微粒子形成中のpHは硫酸を用いて3.0に、温度は30℃に制御した。
【0112】
添加終了後、限外濾過法により可溶性塩類を脱塩除去し、10質量%のリン酸アルミニウム分散液を得た。得られた粒子の組成分析を行ったところ、アルミニウムに対するリンのモル比が1.05であるナトリウムを少量含有するリン酸アルミニウムであった。また、X線回折の結果、明確な結晶構造がない非晶質粒子であることを確認した。
【0113】
さらに、この分散液100gに、メタノール300gと1モル%の硝酸水溶液を添加した。この液を50℃で撹拌しながら、メタノール100gとシクロペンチルトリメトキシシラン6gの混合液を60分かけて添加し、その後24時間撹拌して表面処理を行った。得られた透明な分散液を酢酸エチルに懸濁させ、遠心分離を行い白色の微粒粉末(リン酸アルミニウム微粒子)を得た。TEM観察によれば、この粉末は平均粒径約16nmであった。
【0114】
このリン酸アルミニウム微粒子(体積16nm) 100重量部と前記熱可塑性樹脂3 100重量部を実施例1と同様の方法で湿式混合及び脱揮・乾燥を行い、マスターバッチ3を得た。
【0115】
その後、ラボプラストミル(製品名、東洋精機製)を用い、装置温度を100℃として、前記マスターバッチ3と熱可塑性樹脂3をリン酸アルミニウム粒子が30vol%になるような比率で溶融混練を行い、無機微粒子含有樹脂組成物3を得た。得られた無機微粒子含有樹脂組成物3を射出成形機にて成形を行い、光学評価用の光学素子として実施例3を作成した。
【0116】
<実施例4>
(熱可塑性樹脂4の作成)
熱可塑性樹脂「APEL5014」(製品名、三井化学製) 100重量部とシクロヘキサン(関東化学製) 2000重量部を80℃に加熱しながら24hr混合した後、十分な量のメタノール溶液中に滴下した。析出してきた樹脂を再度シクロヘキサンに溶解した後、190℃にて減圧乾燥を行い熱可塑性樹脂4を得た。なお、再溶解処理した段階の樹脂溶液に含まれるサイズが0.05μm以上の異物量は、熱可塑性樹脂100重量部に対して0.03重量部であった。
【0117】
(無機微粒子との混合)
前記熱可塑性樹脂4及び気相法SiO2粒子「RX300」(製品名、日本アエロジル製、体積平均分散粒径 7nm)をラボプラストミル(製品名、東洋精機製)を用い、装置温度を230℃としてSiO2粒子が20vol%になるような比率で溶融混練を行い、無機微粒子含有樹脂組成物4を得た。得られた無機微粒子含有樹脂組成物4を射出成形機にて成形を行い、光学評価用の光学素子として実施例4を作成した。
【0118】
<実施例5>
(熱可塑性樹脂5の作成)
熱可塑性樹脂「ZEONEX340R」(製品名、日本ゼオン製) 100重量部とシクロヘキサン(関東化学製) 2000重量部とを80℃に加熱しながら24hr混合した後、ガラス繊維フィルター(口径47.5mm、メッシュ径0.2μm)を用いて数回吸引濾過を行った。そして、濾過後の樹脂溶液を190℃で減圧乾燥を行い、不溶分のきわめて少ない熱可塑性樹脂5を得た。なお、濾過した段階の樹脂溶液に含まれるサイズが0.05μm以上の異物量をAccuSizer 780(製品名、Particle Sizing Systems社製)を用いて測定したところ、熱可塑性樹脂100重量部に対して0.50重量部であった。
【0119】
(無機微粒子との混合)
次に、T.K.ハイビスディスパーミックス3D-20(特殊機化工業製)を用いて、前記熱可塑性樹脂5 100重量部、気相法Al2O3粒子「Alu-C」(製品名、日本アエロジル製、体積平均分散粒径12nm)100重量部及びシクロヘキサン(関東化学製) 500重量部を85℃で湿式混合を行い、スラリー5を得た。
その後、ラボプラストミル(東洋精機製)を用い、装置温度を120℃として、前記スラリー5と熱可塑性樹脂5をAl2O3粒子が20vol%になるような比率で溶融混練を行い、無機微粒子含有樹脂組成物5を得た。得られた無機微粒子含有樹脂組成物5を射出成形機にて成形を行い、光学評価用の光学素子として実施例5を作成した。
【0120】
<実施例6>
(熱可塑性樹脂6の作成)
熱可塑性樹脂「ZEONEX340R」(製品名、日本ゼオン製) 100重量部をポリラボシステム(製品名、HAAKE製)を用いて、230℃に加熱しながら10min溶融混練を行い、熱可塑性樹脂6を得た。なお、熱可塑性樹脂6に含まれるサイズが0.05μm以上の異物量をAccuSizer 780(製品名、Particle Sizing Systems社製)を用いて測定したところ、熱可塑性樹脂100重量部に対して2.00重量部であった。
【0121】
(無機微粒子との混合)
次に、前記熱可塑性樹脂6 100重量部、気相法SiO2粒子「RX300」(製品名、日本アエロジル製、体積平均分散粒径7nm)100重量部及びシクロヘキサン(関東化学製)500重量部を実施例1と同様の方法で湿式混合及び脱揮・乾燥を行い、マスターバッチ6を得た。
【0122】
その後、マスターバッチ6と熱可塑性樹脂6とを用い、SiO2粒子の比率が30vol%となるような比率で実施例1と同様の方法で溶融混練を行い、無機微粒子含有樹脂組成物6を得た。得られた無機微粒子含有樹脂組成物6を射出成形機にて成形を行い、光学評価用の光学素子として実施例6を作成した。
【0123】
<実施例7>
(熱可塑性樹脂7の作成)
熱可塑性樹脂「ZEONEX340R」(製品名、日本ゼオン製) 100重量部をポリラボシステム(製品名、HAAKE製)を用いて、240℃に加熱しながら15min溶融混練を行い、熱可塑性樹脂7を得た。なお、熱可塑性樹脂7に含まれるサイズが0.05μm以上の異物量をAccuSizer 780(製品名、Particle Sizing Systems社製)を用いて測定したところ、熱可塑性樹脂100重量部に対して4.50重量部であった。
【0124】
(無機微粒子との混合)
次に、前記熱可塑性樹脂7 100重量部、気相法SiO2粒子「RX300」(製品名、日本アエロジル製、体積平均分散粒径7nm)100重量部及びシクロヘキサン(関東化学製)500重量部を実施例1と同様の方法で湿式混合及び脱揮・乾燥を行い、マスターバッチ7を得た。
【0125】
その後、マスターバッチ7と熱可塑性樹脂7とを用い、SiO2粒子の比率が30vol%となるような比率で実施例1と同様の方法で溶融混練を行い、無機微粒子含有樹脂組成物7を得た。得られた無機微粒子含有樹脂組成物7を射出成形機にて成形を行い、光学評価用の光学素子として実施例7を作成した。
【0126】
<比較例1>
(熱可塑性樹脂8の作成)
熱可塑性樹脂「ZEONEX340R」(製品名、日本ゼオン製) 100重量部をポリラボシステム(製品名、HAAKE製)で250℃に加熱しながら30min溶融混練を行い、熱可塑性樹脂8を得た。得られた熱可塑性樹脂8 100重量部に対し、シクロヘキサン溶液 2000重量部とを混合させ、溶解された樹脂溶液中に含まれるサイズが0.05μm以上の異物量を測定したところ、異物量は、熱可塑性樹脂100重量部に対して6.50重量部であった。
【0127】
(無機微粒子との混合)
次に、前記熱可塑性樹脂8 100重量部、気相法SiO2粒子「RX300」(製品名、日本アエロジル製体積平均分散粒径 7nm) 100重量部及びシクロヘキサン(関東化学製) 500重量部をT.K.ハイビスディスパーミックス3D-20(製品名、特殊機化工業製)を用いて85℃で湿式混合を行った後、脱揮・乾燥を行い、マスターバッチ8を得た。
その後、ラボプラストミル(製品名、東洋精機製)を用い、装置温度を200℃として前記マスターバッチ8と熱可塑性樹脂8をSiO2粒子が30vol%になるような比率で溶融混練を行い、無機微粒子含有樹脂組成物8を得た。得られた無機微粒子含有樹脂組成物8を射出成形機にて成形を行い、光学評価用の光学素子として比較例1を作成した。
【0128】
<比較例2>
(熱可塑性樹脂9の作成)
比較例1の(熱可塑性樹脂8の作成)において、熱可塑性樹脂「ZEONEX340R」(製品名、日本ゼオン製) 100重量部を、熱可塑性樹脂「APEL5014」(製品名、三井化学製) 100重量部に変更した以外は、比較例1と同様の操作を行い、得られる熱可塑性樹脂を熱可塑性樹脂9とした。なお、熱可塑性樹脂9に含まれるサイズが0.05μm以上の異物量は、熱可塑性樹脂100重量部に対して10.00重量部であった。
【0129】
(無機微粒子との混合)
次に、気相法SiO2粒子「RX300」(製品名、日本アエロジル製、体積平均分散粒径7nm) 100重量部を気相法SiO2粒子「RX200」(製品名、日本アエロジル製、体積平均分散粒径12nm)100重量部に変更した以外は、比較例1の(無機微粒子との混合)における操作と同様の操作を行い、得られる光学評価用の光学素子を比較例2とした。
【0130】
<比較例3>
実施例1の(無機微粒子との混合)において、気相法SiO2粒子「RX300」(製品名、日本アエロジル製、体積平均分散粒径7nm) 100重量部を、気相法SiO2「A50」(製品名、日本アエロジル製、体積平均分散粒径40nm) 100重量部に変更した以外は、実施例1と同様の操作を行い、得られる光学評価用の光学素子を比較例3とした。なお、不溶分を除去した段階の樹脂溶液において、当該樹脂溶液に含まれるサイズが0.05μm以上の異物量は、熱可塑性樹脂100重量部に対して0.01重量部であった。
【0131】
<比較例4>
実施例2の(無機微粒子との混合)において、気相法SiO2粒子「RX200」(製品名、日本アエロジル製、体積平均分散粒径12nm)を添加しない以外は、実施例2と同様の操作を行い、得られる光学評価用の光学素子を比較例4とした。なお、不溶分を除去した段階の樹脂溶液に含まれるサイズが0.05μm以上の異物量は、熱可塑性樹脂100重量部に対して0.05重量部である。
【0132】
<比較例5>
比較例2の(無機微粒子との混合)において、気相法SiO2粒子「RX200」(製品名、日本アエロジル製、体積平均分散粒径12nm)を添加しない以外は、比較例2と同様の操作を行い、得られる光学評価用の光学素子を比較例5とした。なお、熱可塑性樹脂9に含まれるサイズが0.05μm以上の異物量は、熱可塑性樹脂100重量部に対して10.00重量部である。
【0133】
以上の実施例1〜実施例7,比較例1〜比較例5に対し、以下の通り光線透過率及び線膨張係数の測定を行った。結果を下記表2に示す。
【表2】

【0134】
(光線透過率の測定)
(株)島津製作所製の分光光度計UV−3150を測定装置として用い、実施例1〜実施例9,比較例1〜比較例5の厚さ方向(1mm厚)に対する波長405nmの光線の透過率をASTM D-1003に従って測定した。
【0135】
(線膨張係数の測定)
(株)リガク製のCN8098F1を測定装置として用い、実施例1〜実施例9,比較例1〜比較例5の平均線膨張係数をJIS R3102に従って測定した。
【0136】
表2に記載の結果より明らかなように、実施例1〜実施例7の光学素子は、比較例1〜比較例3の光学素子に対し、波長405nmの青色光線に対する透明性が高いことがわかる。また、60〜80℃における線膨張係数が小さいことから、温度依存性による屈折率の変化が少なく、寸法安定性に優れていることがわかり、樹脂組成が均一化されていることがわかる。
なお、比較例4及び比較例5の光学素子は、60〜80℃における線膨張係数が大き過ぎて実用に適していないため、実施例1〜実施例7に対する比較対照として不適当となっている。
【図面の簡単な説明】
【0137】
【図1】本発明に係る光学素子が用いられた光ピックアップ装置の構成を示す概略図である。
【符号の説明】
【0138】
15 対物レンズ

【特許請求の範囲】
【請求項1】
(a)体積平均分散粒径が30nm以下の無機微粒子と、(b)0.05μm以上の異物の含有量が5wt%以下である熱可塑性樹脂とを混合して得られたことを特徴とする無機微粒子含有熱可塑性樹脂組成物。
【請求項2】
前記無機微粒子が少なくとも酸化珪素を含むことを特徴とする請求項1に記載の無機微粒子含有熱可塑性樹脂組成物。
【請求項3】
請求項1又は請求項2に記載の異物が前記熱可塑性樹脂のゲル化分であることを特徴とする無機微粒子含有熱可塑性樹脂組成物。
【請求項4】
請求項1〜請求項3のいずれか一項に記載の無機微粒子含有熱可塑性樹脂組成物を用いて作成されたことを特徴とする光学素子。
【請求項5】
熱可塑性樹脂から0.05μm以上の異物の含有量を5wt%以下まで異物を除去する除去工程と、前記除去工程後の熱可塑性樹脂と、体積平均分散粒径が30nm以下の無機微粒子とを混合する混合工程とを含むことを特徴とする無機微粒子含有熱可塑性樹脂組成物の製造方法。

【図1】
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【公開番号】特開2007−161763(P2007−161763A)
【公開日】平成19年6月28日(2007.6.28)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2005−356310(P2005−356310)
【出願日】平成17年12月9日(2005.12.9)
【出願人】(303000408)コニカミノルタオプト株式会社 (3,255)
【Fターム(参考)】