現像処理装置及び現像処理方法
【課題】基板を平流し方式で搬送しながら現像処理を行う現像処理装置において、基板の処理条件の違いに拘わらず、現像処理を効果的に行う。
【解決手段】基板Ｇの搬送路２と、前記搬送路を搬送される前記基板の前端から後端にわたり現像液Ｄを液盛りする第一の現像ノズル１０と、前記基板の処理に係る情報を取得する基板情報取得手段２０と、前記第一の現像ノズルの下流側に搬送路に沿って移動可能に設けられた第二の現像ノズル１３と、前記第二の現像ノズルを移動させるノズル移動手段１４と、前記第二の現像ノズル及び前記ノズル移動手段の駆動を制御する制御手段２５とを備え、前記制御手段は、前記基板情報取得手段から得られた情報に基づき、前記ノズル移動手段を駆動し、前記搬送路上における所定位置に前記第二の現像ノズルを移動させ、前記第二の現像ノズルから前記基板に現像液を供給する。
【解決手段】基板Ｇの搬送路２と、前記搬送路を搬送される前記基板の前端から後端にわたり現像液Ｄを液盛りする第一の現像ノズル１０と、前記基板の処理に係る情報を取得する基板情報取得手段２０と、前記第一の現像ノズルの下流側に搬送路に沿って移動可能に設けられた第二の現像ノズル１３と、前記第二の現像ノズルを移動させるノズル移動手段１４と、前記第二の現像ノズル及び前記ノズル移動手段の駆動を制御する制御手段２５とを備え、前記制御手段は、前記基板情報取得手段から得られた情報に基づき、前記ノズル移動手段を駆動し、前記搬送路上における所定位置に前記第二の現像ノズルを移動させ、前記第二の現像ノズルから前記基板に現像液を供給する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板を平流し方式で搬送しながら現像処理を行う現像処理装置及び現像処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）製造におけるレジスト塗布現像処理システムでは、例えば特許文献１に開示されるように被処理基板（例えばガラス基板）を平流し搬送しながら現像処理を行う方式が普及している。
具体的には、例えば、コロを水平方向に敷設した搬送路によって基板を搬送し、搬送中の基板に対し現像、リンス、乾燥等の一連の現像処理が行われる。
このような平流し方式は、基板を回転運動させるスピンナ方式と較べて、大型基板の取扱いが簡単であり、ミストの発生ないし基板への再付着が少ない等の利点がある。
【０００３】
ところで、本発明者らは、パターン露光されたフォトレジストが成膜された基板に現像液を液盛りし、現像処理を進行させる場合、基板上に盛られた現像液を揺動させることにより、現像処理の効率が向上することを知見するに至った。
【０００４】
具体的に説明すると、図７のグラフは、ある種のフォトレジスト（レジストＲ１と呼ぶ）が成膜（膜厚１．６μｍ、露光量４０ｍＪ）された基板に対し現像液を液盛りし、その現像時間の経過に対する残膜量を測定したものである。グラフ中、黒丸（●）は現像処理中に基板上の現像液を静止状態としたものであり、黒三角（▲）は現像処理中に基板上の現像液を揺動させたものである。
【０００５】
また、図８のグラフは、レジストＲ１とは種類の異なるフォトレジスト（レジストＲ２と呼ぶ）が成膜（膜厚２．２μｍ、露光量１５ｍＪ）された基板に対し現像液を液盛りし、その現像時間の経過に対する残膜量を測定したものである。グラフ中、黒丸（●）は現像処理中に基板上の現像液を静止状態としたものであり、黒三角（▲）は現像処理中に基板上の現像液を揺動させたものである。
【０００６】
図７、図８の両グラフから明らかなように、フォトレジストの種類や、塗布膜厚、露光量等の諸条件に拘わらず、基板上の現像液を揺動させた場合、現像時間の経過に対し、残膜量がより少なくなるという結果が得られた。
この結果は、現像液を揺動させることにより、配線パターンに沿って溶解したフォトレジストが滞留せずに現像液によって攪拌され、現像処理の進行を邪魔しないことを示している。
したがって、現像液を揺動させることにより、溶解したフォトレジストが基板面内で偏ることがなく、均一に現像処理を進行させることができ、面内における配線パターンの均一性が向上するといえる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００３−１００６２３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
前記した現像処理にあっては、基板上の現像液を揺動させることが望ましいという結果が得られたが、基板を平流し搬送しながら現像処理を行う場合、基板自体を揺動させることは困難である。
このため、現像液を供給するノズルを二段の構成とする方法が考えられる。即ち、一段目の現像ノズルにより基板に現像液を液盛りし、基板が搬送路を所定の距離移動後（所定時間経過後）に、二段目の現像ノズルから現像液を供給して、基板上の現像液を揺動（攪拌）させる方法である。
【０００９】
ここで、一段目の現像ノズルと二段目の現像ノズルとの好ましい配置間隔は、例えば一段目のノズルによる現像液の液盛り後、現像液に溶解したレジストが浮き上がった直後に二段目のノズルによる現像液の供給がなされる間隔である。
しかしながら、レジストの種類や、膜厚、露光量等の諸条件によって、現像液に溶解したレジストの浮き上がり方が異なるため、二段の現像ノズルを所定位置に定配置すると、現像液を効果的に攪拌できず、面内の配線パターンの線幅にばらつきが生じるという課題があった。
【００１０】
本発明は、上記のような従来技術の問題点に鑑みてなされたものであり、基板を平流し方式で搬送しながら現像処理を行う現像処理装置において、基板の処理条件の違いに拘わらず、現像処理を面内均一に、且つ効率的に行うことのできる現像処理装置及び現像処理方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
前記した課題を解決するために、本発明に係る現像処理装置は、パターン露光されたフォトレジストが成膜されてなる被処理基板を平流し搬送し、搬送される前記基板に対し現像処理を施す現像処理装置であって、前記基板が平流し搬送される搬送路と、前記搬送路上に配置され、前記搬送路を移動する前記基板の前端から後端にわたり現像液を液盛りする第一の現像ノズルと、前記基板の処理に係る情報を取得する基板情報取得手段と、前記第一の現像ノズルの下流側に前記搬送路に沿って移動可能に設けられた第二の現像ノズルと、前記第二の現像ノズルを移動させるノズル移動手段と、前記第二の現像ノズル及び前記ノズル移動手段の駆動を制御する制御手段とを備え、前記制御手段は、前記基板情報取得手段から得られた情報に基づき、前記ノズル移動手段を駆動し、前記搬送路上における所定位置に前記第二の現像ノズルを移動させ、前記第二の現像ノズルから前記基板に現像液を供給することを特徴とすることに特徴を有する。
【００１２】
このような構成によれば、二段構成とされた第一の現像ノズルと第二の現像ノズルとの配置間隔を、処理する基板ごとに最適な設定とすることができる。
即ち、基板の諸条件（フォトレジストの種類、フォトレジストの膜厚、露光量等）の違いに拘わらず、第一の現像ノズルによって盛られた現像液によりフォトレジストが所定の溶解状態に達すると、その領域に対し第二の現像ノズルにより直ぐさま現像液を供給することができる。
これにより、溶解したフォトレジストが基板面内で偏って滞留することなく、現像処理を効果的かつ均一に進行させることができる。
【００１３】
また、前記した課題を解決するために、本発明に係る現像処理方法は、パターン露光されたフォトレジストが成膜されてなる被処理基板を平流し搬送し、搬送される前記基板に対し現像処理を施す現像処理方法であって、搬送路に沿って前記基板を平流し搬送し、前記搬送路上に配置された第一の現像ノズルにより、前記基板の前端から後端にわたり現像液を液盛りするステップと、前記基板の処理に係る情報を取得するステップと、前記第一の現像ノズルの下流側において前記搬送路に沿って移動可能に設けられた第二の現像ノズルを、前記取得した基板の処理に係る情報に基づき前記搬送路上における所定位置に移動させ、前記第二の現像ノズルから前記基板に現像液を供給するステップとを実行することに特徴を有する。
【００１４】
このような方法によれば、二段構成とされた第一の現像ノズルと第二の現像ノズルとの配置間隔を、処理される基板ごとに最適な設定とすることができる。
即ち、基板の諸条件（フォトレジストの種類、フォトレジストの膜厚、露光量等）の違いに拘わらず、第一の現像ノズルによって盛られた現像液によりフォトレジストが所定の溶解状態に達すると、その領域に対し第二の現像ノズルにより直ぐさま現像液を供給することができる。
これにより、溶解したフォトレジストが基板面内で偏って滞留することなく、現像処理を効果的かつ均一に進行させることができる。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、基板を平流し方式で搬送しながら現像処理を行う現像処理装置において、基板の処理条件の違いに拘わらず、現像処理を面内均一に、且つ効率的に行うことのできる現像処理装置及び現像処理方法を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】図１は、本発明の一実施形態である現像処理装置が適用される現像ユニットの全体構成を模式的に示す断面図である。
【図２】図２は、本発明の一実施形態である現像処理装置が適用される現像ユニットの全体構成を模式的に示す平面図である。
【図３】図３は、本発明に係る現像処理装置の第１の実施形態の動作（現像処理方法）の流れを示すフローである。
【図４】図４は、本発明に係る現像処理装置の第１の実施形態の動作遷移を示す平面図である。
【図５】図５は、本発明に係る現像処理装置の第２の実施形態の動作（現像処理方法）の流れを示すフローである。
【図６】図６は、本発明に係る現像処理装置の第２の実施形態の動作遷移を示す平面図である。
【図７】図７は、パターン露光されたフォトレジストＲ１が成膜された基板に対し現像液を液盛りし、その現像時間の経過に対する残膜量を測定したものである。
【図８】図８は、パターン露光されたフォトレジストＲ２が成膜された基板に対し現像液を液盛りし、その現像時間の経過に対する残膜量を測定したものである。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明の現像処理装置及び現像処理方法にかかる実施形態を、図に基づいて説明する。先ず、図１乃至図４に基づき本発明の第１の実施形態について説明する。
本発明に係る現像処理装置は、例えばフォトリソグラフィ工程において現像処理を行う現像ユニットに適用することができる。以下、フォトリソグラフィ工程における現像ユニットに適用した場合を例にとって説明する。
この現像ユニット１には、図１、図２に示すように、プロセスラインＡに沿って水平方向（Ｘ方向）に延びるコロ搬送による平流しの搬送ライン２（搬送路）が設置されている。この搬送ライン２に沿って上流側から順に搬入部３と、現像部４と、リンス部５と、乾燥部６と、搬出部７とが設けられている。
【００１８】
搬送ライン２は、コロ８（搬送体）を搬送方向（Ｘ方向）に一定間隔（例えば１００ｍｍ間隔）で敷設してなり、基板Ｇを、その被処理面を上に向けた仰向けの姿勢として所定速度（例えば６０ｍｍ／ｓ）で搬送するように構成されている。
各コロ８は、たとえば電気モータを有する搬送駆動部（図示せず）に歯車機構またはベルト機構等の伝動機構（図示せず）を介して接続されている。
【００１９】
現像部４においては、基板搬送方向に二段の現像ノズル１０，１３が設けられている。一段目のノズルである第一の現像ノズル１０は、図示するように搬送ライン２の上方に（位置固定されて）配置された２本１組の長尺状のノズル１０ａ、１０ｂとから構成されている。各ノズル１０ａ、１０ｂは、図２に示すように、基板幅方向（Ｙ方向）に延設されると共に、そのノズル１０ａ、１０ｂの下端面には、同方向にスリット状に延びる吐出口１０ｃ、１０ｄが形成されている。
この現像ノズル１０には、図１に示すように現像液供給部１１から所定濃度の現像液が供給され、搬送ライン２を搬送される基板Ｇの被処理面（上面）に向けて現像液Ｄを吐出するようになされている。
【００２０】
また、前記第一の現像ノズル１０よりも下流側には、図２に示すように搬送ライン２の左右両側に沿って、一対のガイドレール１２が設けられている。このガイドレール１２には、二段目の現像ノズルである第二の現像ノズル１３がレールに沿って移動自在に吊り下げられている。
この第二の現像ノズル１３は、図２に示すように基板幅方向（Ｙ方向）に長尺状に延設され、その下端に同方向に延びるスリット状のノズル口１３ａが形成されている。
この第二の現像ノズル１３には、図１に示すように現像液供給部１５から所定濃度の現像液が供給される。そして、前記第一のノズル１０によって現像液が液盛りされた状態の基板Ｇに対し、さらにノズル口１３ａから現像液Ｄを吐出可能な構成となされている。
また、この第二の現像ノズル１３は、駆動機構１４（ノズル移動手段）によって前記ガイドレール１２に沿って（即ち搬送ライン２に沿って）移動可能となされている。
【００２１】
また、現像部４において、前記第一の現像ノズル１０よりも下流側には、平流し搬送中の基板Ｇの前縁部Ｔ（図２参照）を撮像するＣＣＤカメラ２０（溶解検出手段、基板情報取得手段）が配置されている。このＣＣＤカメラ２０は、画像処理部２１（溶解検出手段、基板情報取得手段）に接続されている。
尚、ＣＣＤカメラ２０は、基板Ｇが第一の現像ノズル１０の下方を通過後、所定距離（例えば、基板搬送方向への第二の現像ノズル１３の最大移動可能位置まで）を移動するまでの間は、基板Ｇの前縁部Ｔをカメラの視野内に収め、撮像を継続して行う。そのために、ＣＣＤカメラ２０は、搬送されて移動する基板Ｇの前縁部Ｔを追従するよう、その姿勢（撮像方向）が制御される、あるいは、カメラ本体が基板Ｇの移動に同期して移動するよう制御されることが好ましい。あるいは、基板Ｇが第一の現像ノズル１０の下方を通過後、前記所定距離を移動するまでの間、一方向を撮像するカメラの視野内に収まるのであれば、ＣＣＤカメラ２０を固定配置してもよい。
【００２２】
ＣＣＤカメラ２０によって撮像された画像は、基板処理に係る情報として画像処理部２１に供給され、前記画像処理部２１における解析の結果、基板Ｇの前縁部Ｔにおける現像液の変化が検出される。前記現像液の変化とは、フォトレジストの溶解状態であり、具体的には現像液に浮上するフォトレジスト量が所定値（閾値）を超えるか否か（或いは、現像液の色変化）によって検出の有無が判定される。
尚、前記画像処理部２１と、前記現像液供給部１１，１５と、前記駆動機構１４とは、現像部３の制御を行う制御部２５（制御手段）に接続されている。
【００２３】
また、現像部４内には、搬送ライン２の下に落ちた現像液を受け集めるためのパン１６が設けられている。このパン１６の排液口は排液管１７を介して現像液再利用機構１８に通じている。
前記現像液再利用機構１８は、搬送ライン２からこぼれ落ちた現像液をパン１６および排液管１７を介して回収する。この現像液再利用機構１８では、回収した現像液に原液や溶媒を加え、基準濃度に調整したリサイクルの現像液を前記現像液供給部１１，１５に送るようになっている。
【００２４】
また、リンス部５は、基板上の現像液を除去し、純粋等のリンス液に置換する現像液除去部５ａと、基板Ｇの表裏面をリンス洗浄する洗浄部５ｂとにより構成されている。
現像液除去部５ａにおいては、図１に示すように搬送ライン２においてコロ８の配置により隆起部１９が形成されている。この隆起部１９が設けられることにより、基板Ｇが隆起部１９を通過する際、大部分の現像液が基板手前側（上流側）に流れ落ちる。
【００２５】
尚、より効率的に現像液を基板Ｇから流し落とすために、前記隆起部１９の登り斜面側には、基板Ｇの表面に接触し、基板表面を均すための均しローラ２２が基板幅方向に沿って設けられている。この均しローラ２２は、隆起部１９の上り傾斜で現像液の大部分が流れ落ち、薄膜状態で基板Ｇ上に残る現像液を、均一に基板後方に押し流して均すために設けられている。この均しローラ２２を設けることにより、基板Ｇから殆どの現像液を除去することができ、後段のリンス処理の効果をより向上させることができる。
【００２６】
また、隆起部１９の下り斜面側には、基板上にリンス液Ｌを供給し、現像液Ｄをリンス液Ｌに完全に置換するためのリンスノズル２３が設けられている。これにより略、現像処理が停止状態となされる。
また、現像液除去部５ａには、搬送ライン２の下に落ちた現像液を集めるためのパン２４が設けられている。このパン２４の排液口は排液管２６を介して前記現像液再利用機構１８に通じている。
【００２７】
また、洗浄部５ｂは、その入口に、搬送ライン２において上り傾斜部２７が形成されている。この上り傾斜部２７が設けられることにより、前記リンスノズル２３から基板上に供給された現像液が現像液除去部５ａのパン２４及び洗浄部５ｂのパン２８に流し落とされるよう構成されている。
洗浄部５ｂには、搬送ライン２の上方から基板Ｇの上面に対して洗浄用のリンス液を吹き掛けるリンスノズル３１と、搬送ライン２の下方から基板Ｇの下面に対して洗浄用のリンス液を吹き掛けるリンスノズル３２，３８が設けられている。
【００２８】
尚、各リンスノズル２３，３１，３２，３８は、例えば長尺型ノズルからなり、図示しないリンス液供給源から配管を介してリンス液が給液されるようになっている。
また、基板Ｇの上面に対してリンス液Ｌを吹き掛けるリンスノズル３１の下流には、高圧力のエアを基板上面に吹き掛けるエアノズル３４が設けられ、前記リンスノズル３１によって基板上に供給されたリンス液Ｌを風圧で除去するようになされている。
前記したように洗浄部５ｂには、搬送ライン２の下に落ちたリンス液を受け集めるためのパン２８が設けられるが、このパン２８の排液口は排液管２９を介してリンス液回収部３５に通じている。
【００２９】
また、乾燥部６においては、基板Ｇに向けて上方及び下方から搬送方向と逆向きに液切りないし乾燥用の高圧ガス流（通常はエア流）を当てる長尺型のエアナイフ３６，３７が配置されている。
【００３０】
また、この現像ユニット１において、一体的なハウジング３９内に収容される各処理部の空間は隔壁４０、４１、４２、４３、４４の開口４０ａ、４１ａ、４２ａ、４３ａ、４４ａを介して相互に連通している。
搬入部３及び搬出部７の天井には、それぞれ室外の空気を引き込むためのファン５０，５１と、これらのファン５０，５１からの空気流を除塵するエアフィルタ５２，５３が設けられている。
また、リンス部５の底部には、たとえば排気ポンプまたは排気ファンを有する排気機構５５に通じる排気口５６が設けられている。
【００３１】
これにより、搬入部３の天井から供給される清浄空気は、現像部４に供給されると共に、現像処理で発生する現像液のミストを巻き込むようにして前記リンス部５の排気口５６から排気されるようになされている。
一方、乾燥部６の天井から供給される清浄空気は、乾燥（液切り）処理で発生するリンス液のミストを巻き込むようにして前記リンス部４の排気口５６から排気されるようになされている。
【００３２】
続いて、この現像ユニット１における動作の流れを図３のフローに基づき説明する。
パターン露光されたフォトレジストが被処理面に成膜されてなる基板Ｇが搬入部３から搬送ライン２上に水平に移載されると、一定速度（例えば６０ｍｍ／ｓ）のコロ搬送で現像部４に向けて搬送される（図３のステップＳ１、図４（ａ）の状態）。
現像部４では、基板Ｇが搬送ライン２を水平姿勢で移動する間に、定位置の第一の現像ノズル１０より現像液Ｄが供給開始される（図３のステップＳ２、図４（ｂ）の状態）。これにより基板Ｇ上には基板前端から基板後端にわたり搬送速度と等しい走査速度で現像液Ｄが盛られ始める。
【００３３】
前記のように第一の現像ノズル１０により基板前端から基板後端に向かって現像液Ｄが供給開始されると、ＣＣＤカメラ２０により基板Ｇの前縁部Ｔ（図４（ｂ）の破線領域）における現像液Ｄの状態が撮像開始される（図３のステップＳ３）。ＣＣＤカメラ２０により撮像された基板前縁部Ｔの画像（映像）は、画像処理部２１において解析され、フォトレジストの溶解状態（所定の溶解量閾値を超えるか否か、或いは現像液Ｄの色変化）の検出が行われる（図３のステップＳ４）。また、その検出結果は、制御部２５に出力される。
【００３４】
基板前縁部Ｔにおけるフォトレジストの溶解量が所定の閾値を超えたと判定（検出）されると（図３のステップＳ４）、制御部２５は、第一の現像ノズル１０による現像液供給開始から前記検出までの時間と、基板搬送速度とに基づき、第二の現像ノズル１３の配置位置を決定する。
具体的には、前記検出がなされた時点での前記基板前縁部Ｔの搬送ライン２上の位置が前記第二の現像ノズル１３の位置として決定される。
これにより、平流し搬送される基板Ｇに現像液Ｄが供給されてから、現像処理の進行によりフォトレジストが所定量溶解するまでの基板Ｇの移動距離が、第一の現像ノズル１０と、第二の現像ノズル１３との配置間隔として設定される。
【００３５】
制御部２５は、駆動機構１４を制御し、ガイドレール１２に沿って第二の現像ノズル１３を前記設定された位置まで移動させる（図３のステップＳ５）。
第二の現像ノズル１３の移動が完了すると、その現像ノズル１３から、直ぐさま基板Ｇ上に現像液Ｄを供給開始する（図３のステップＳ６、図４（ｃ）の状態）。
この新たな現像液Ｄが供給されることにより、既に第一の現像ノズル１０により盛られた現像液Ｄ中に滞留する溶解したレジストが攪拌され、その溶解したレジストと共に余分な現像液Ｄが現像部４のパン１６に流し落とされる。
【００３６】
ここで、図４（ｄ）に示すように、前記第二の現像ノズル１３の配置が固定されることによって、基板Ｇのどの領域をとっても、第一の現像ノズル１０の下を通過し、第二の現像ノズル１３の下を通過するまでの時間は一定である。
即ち、第一の現像ノズル１０から供給された現像液Ｄによって、基板前端から後端にわたり順に現像処理が進行し、溶解したフォトレジストが所定量を超えると、その領域には、直ぐさま第二の現像ノズル１３から新たな現像液Ｄが供給される。
したがって、溶解したフォトレジストが基板面内で偏って滞留することなく、現像処理を効率的かつ面内均一に進行させることができる。
【００３７】
前記第二の現像ノズル１３による現像液Ｄの供給が基板Ｇの後端まで完了すると、所定時間の経過後、基板Ｇはリンス部５の現像液除去部５ａに搬送される。
基板Ｇ上に残る現像液Ｄは、隆起部１９を通過する際、重力により後方へ移動して基板後端から流れ落ちる。また、薄膜状態で基板Ｇ上に残る現像液Ｄは、均しローラ２２によって均一に基板後方に押し流される。
基板上から大部分の現像液Ｄが除去されると、リンスノズル２３により、基板上に例えば純水からなるリンス液Ｌが供給される。これにより、基板上の現像液Ｄは、リンス液Ｌに完全に置換され、現像処理が停止状態となされる（図３のステップＳ７）。
【００３８】
基板Ｇは、さらに洗浄部５ｂに搬入され、その上下面に対しリンスノズル３１，３２，３８から洗浄用のリンス液Ｌが吹き掛けられる（図３のステップＳ８）。これにより、基板Ｇの上下面に付着して残る現像液Ｄが完全に洗い落とされる。
また、基板Ｇの上面に対しては、さらにエアノズル３４によって高圧力のエアが吹き掛けられ、リンスノズル３１によって基板上に供給されたリンス液Ｌが風圧で除去される。
【００３９】
このようにしてリンス処理が完了すると、基板Ｇは搬送ライン２によって乾燥部６に搬入される。
基板Ｇの上下面には、エアナイフ３６、３７により搬送方向と逆向きに高圧ガス流が吹き掛けられる（図３のステップＳ９）。これにより、基板Ｇ上に残っていたリンス液Ｌは基板後方へ寄せられて基板後端から追い出される（液切りされる）。
こうして現像ユニット１内で一連の現像処理工程を終えた基板Ｇは、搬送ライン２上を移動し、搬出部７を経由して後段の処理部に搬送される（図３のステップＳ１０）。
【００４０】
以上のように、本発明に係る第１の実施の形態によれば、パターン露光されたフォトレジストが成膜され、平流し搬送される基板Ｇに対し現像液Ｄを供給する現像部４において、二段構成とされた第一の現像ノズル１０と第二の現像ノズル１３との配置間隔が、処理する基板ごとに最適な設定となされる。
即ち、基板Ｇの諸条件（フォトレジストの種類、フォトレジストの膜厚、露光量等）の違いに拘わらず、第一の現像ノズル１０によって盛られた現像液Ｄにより基板Ｇの所定領域でのフォトレジストの溶解量が所定量を超えると、第二の現像ノズル１３により直ぐさま前記所定領域に現像液Ｄが供給される。
これにより、溶解したフォトレジストが基板面内で偏って滞留することなく、現像処理を効率的かつ面内均一に進行させることができる。
【００４１】
続いて、本発明に係る第２の実施の形態について図面に基づき説明する。尚、この第２の実施の形態において、前記第１の実施形態との共通部分については、同じ符号で示し、その詳細な説明は省略する。
本発明の現像処理装置に係る第２の実施の形態にあっては、前記第１の実施の形態において図１、図２に示した構成と略同一の構成を有するが、制御部２５による第二の現像ノズル１３の駆動制御が異なるものとなる。
【００４２】
以下、この第２の実施形態における現像ユニット１の動作の流れを図５、図６に基づき説明する。尚、この第２の実施形態にあっては、図６に示すように基板前縁部Ｔを撮像するＣＣＤカメラ２０は、第二の現像ノズル１３に取り付けられ、第二の現像ノズル１３と一体に移動する構成としている。
パターン露光されたフォトレジストが被処理面に成膜されてなる基板Ｇが搬入部３において搬送ライン２上に水平に移載されると、基板Ｇは、現像部４に向けて一定速度（例えば６０ｍｍ／ｓ）でコロ搬送される（図５のステップＳｔ１、図６（ａ）の状態）。尚、第二の現像ノズル１３は、ガイドレール１２の始点位置（待機位置）で待機状態となされる。
現像部４では、基板Ｇが搬送ライン２を水平姿勢で移動する間に、定位置の第一の現像ノズル１０より現像液Ｄが供給開始される（図５のステップＳｔ２、図６（ｂ）の状態）。これにより基板Ｇ上には基板前端から基板後端にわたり搬送速度と等しい走査速度で現像液Ｄが盛られ始める。
【００４３】
前記のように第一の現像ノズル１０により基板前端から基板後端に向かって現像液Ｄが供給開始されると、ＣＣＤカメラ２０により基板Ｇの前縁部Ｔにおける現像液Ｄの状態が撮像開始される（図５のステップＳｔ３）。
また、ガイドレール１２の始点位置で待機していた第二の現像ノズル１３は、その下方に基板Ｇの前縁部Ｔが達すると、基板Ｇの移動速度に同期してガイドレール１２に沿って移動を開始する（図５のステップＳｔ４）。
即ち、第二の現像ノズル１３が基板Ｇに同期して移動することによって、その移動の間、第二の現像ノズル１３及びＣＣＤカメラ２０は、基板Ｇの前縁部上方に位置することになる。また、このとき、ＣＣＤカメラ２０により、前縁部Ｔにおける現像液Ｄに対し距離間隔を維持したまま撮像が行われる（図６（ｃ）の状態）。
尚、前記ステップＳｔ４における基板Ｇの前縁部Ｔの位置検出は、ＣＣＤカメラ２０の撮像結果に基づき行うことができる（即ち、ＣＣＤカメラ２０及び画像処理部２１を基板検出手段として機能させる）。或いは、基板Ｇの位置を検出するために、基板検出手段として専用のセンサを設けてもよい。
【００４４】
ＣＣＤカメラ２０により撮像された基板前縁部Ｔの画像（映像）は、画像処理部２１において解析され、フォトレジストの溶解状態（所定の溶解量閾値を超えるか否か、或いは現像液Ｄの色変化）の検出が行われる。また、その検出結果は、制御部２５に出力される。尚、前記のように、第二の現像ノズル１３が基板Ｇに移動する間、ＣＣＤカメラ２０と、基板Ｇの前縁部Ｔとの距離が一定であるため、精度よい検出が可能となる。
【００４５】
基板前縁部Ｔにおけるフォトレジストの溶解量が所定の閾値を超えたと判定（検出）されると（図５のステップＳｔ５）、制御部２５は、第二の現像ノズル１３の移動を停止させると共に（図５のステップＳｔ６）、第二の現像ノズル１３から現像液Ｄを吐出させる（図５のステップＳｔ７、図６（ｄ）の状態）。
この新たな現像液Ｄが供給されることにより、既に第一の現像ノズル１０により盛られた現像液Ｄ中に滞留する溶解したレジストが攪拌され、その溶解したレジストと共に余分な現像液Ｄが現像部４のパン１６に流し落とされる。
【００４６】
ここで、図６（ｄ）に示すように、前記第二の現像ノズル１３の移動が停止された後は、基板Ｇのどの領域をとっても、第一の現像ノズル１０の下を通過し、第二の現像ノズル１３の下を通過するまでの時間は一定となる。
即ち、第一の現像ノズル１０から供給された現像液Ｄによって、基板前端から後端にわたり順に現像処理が進行し、溶解したフォトレジストが所定量を超えると、その領域には、直ぐさま第二の現像ノズル１３から新たな現像液Ｄが供給される。
したがって、溶解したフォトレジストが基板面内で偏って滞留することなく、現像処理を効率的かつ面内均一に進行させることができる。
【００４７】
前記第二の現像ノズル１３による現像液Ｄの供給が基板Ｇの後端まで完了すると、所定時間の経過後、基板Ｇはリンス部５の現像液除去部５ａに搬送される。
基板Ｇ上に残る現像液Ｄは、隆起部１９を通過する際、重力により後方へ移動して基板後端から流れ落ちる。また、薄膜状態で基板Ｇ上に残る現像液Ｄは、均しローラ２２によって均一に基板後方に押し流される。
基板上から大部分の現像液Ｄが除去されると、リンスノズル２３により、基板上に例えば純水からなるリンス液Ｌが供給される。これにより、基板上の現像液Ｄは、リンス液Ｌに完全に置換され、現像処理が停止状態となされる（図５のステップＳｔ８）。
【００４８】
基板Ｇは、さらに洗浄部５ｂに搬入され、その上下面に対しリンスノズル３１，３２，３８から洗浄用のリンス液Ｌが吹き掛けられる（図５のステップＳｔ９）。これにより、基板Ｇの上下面に付着して残る現像液Ｄが完全に洗い落とされる。
また、基板Ｇの上面に対しては、さらにエアノズル３４によって高圧力のエアが吹き掛けられ、リンスノズル３１によって基板上に供給されたリンス液Ｌが風圧で除去される。
【００４９】
このようにしてリンス処理が完了すると、基板Ｇは搬送ライン２によって乾燥部６に搬入される。
基板Ｇの上下面には、エアナイフ３６、３７により搬送方向と逆向きに高圧ガス流が吹き掛けられる（図５のステップＳｔ１０）。これにより、基板Ｇ上に残っていたリンス液Ｌは基板後方へ寄せられて基板後端から追い出される（液切りされる）。
こうして現像ユニット１内で一連の現像処理工程を終えた基板Ｇは、搬送ライン２上を移動し、搬出部７を経由して後段の処理部に搬送される（図５のステップＳｔ１１）。
【００５０】
以上のように、本発明に係る第２の実施の形態によれば、第一の現像ノズル１０の後段に設けられ、基板Ｇの前縁部Ｔに同期して移動する第二の現像ノズル１３は、基板上のフォトレジストの溶解量が所定量を超えたときに停止し、基板上にさらに現像液Ｄが供給される。
即ち、基板Ｇの諸条件（フォトレジストの種類、フォトレジストの膜厚、露光量等）の違いに拘わらず、二段構成とされた第一の現像ノズル１０と第二の現像ノズル１３との配置間隔が、処理する基板ごとに最適な設定となされる。
これにより、溶解したフォトレジストが基板面内で偏って滞留することなく、現像処理を効率的かつ面内均一に進行させることができる。
【００５１】
尚、前記第２の実施形態においては、ＣＣＤカメラ２０を第二の現像ノズル１３に一体的に取り付け、第二の現像ノズル１３と共にガイドレール１２に沿って移動する構成としたが、本発明にあっては、その形態に限定されるものではない。
即ち、ＣＣＤカメラ２０は、前記第１の実施形態と同様に、搬送されて移動する基板Ｇの前縁部Ｔを追従するよう、その姿勢（撮像方向）が制御される、或いは、カメラ２０本体が基板Ｇの移動に同期して移動するものであればよい。
例えば、ＣＣＤカメラ２０を第二の現像ノズル１３に取り付けず、ＣＣＤカメラ２０と第二の現像ノズル１３とが、共に搬送ライン２に沿って移動する構成としてもよい。あるいは、基板Ｇが第一の現像ノズル１０の下方を通過後、所定距離を移動するまでの間、一方向を撮像するカメラの視野内に収まるのであれば、ＣＣＤカメラ２０を固定配置してもよい。
【００５２】
また、前記第１及び第２の実施形態においては、ＣＣＤカメラ２０（溶解検出手段、基板情報取得手段）により基板前縁部Ｔを撮像し、画像処理部２１（溶解検出手段、基板情報取得手段）による解析結果に基づき基板Ｇの状態情報を得るものとしたが、本発明にあっては、それに限定されるものではない。
例えば、各基板の処理情報（少なくともフォトレジストの種類、フォトレジストの膜厚、露光量のいずれかを含む情報）に対応する第一の現像ノズル１０と第二の現像ノズル１３との最適な配置間隔情報とを制御部２５が参照可能なルックアップテーブルとして予め備えてもよい。
そのように構成することにより、制御部２５は、前記ルックアップテーブルを参照し、処理する基板の情報を取得し、第二のノズル１３の配置を容易に設定することができる。
尚、その場合、制御部２５は、基板情報取得手段及び制御手段として機能する。
また、その場合には、第二の現像ノズル１３を定位置に固定し、第一の現像ノズル１０を搬送ライン２に沿って移動可能に配置することもできる。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板を平流し方式で搬送しながら現像処理を行う現像処理装置及び現像処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）製造におけるレジスト塗布現像処理システムでは、例えば特許文献１に開示されるように被処理基板（例えばガラス基板）を平流し搬送しながら現像処理を行う方式が普及している。
具体的には、例えば、コロを水平方向に敷設した搬送路によって基板を搬送し、搬送中の基板に対し現像、リンス、乾燥等の一連の現像処理が行われる。
このような平流し方式は、基板を回転運動させるスピンナ方式と較べて、大型基板の取扱いが簡単であり、ミストの発生ないし基板への再付着が少ない等の利点がある。
【０００３】
ところで、本発明者らは、パターン露光されたフォトレジストが成膜された基板に現像液を液盛りし、現像処理を進行させる場合、基板上に盛られた現像液を揺動させることにより、現像処理の効率が向上することを知見するに至った。
【０００４】
具体的に説明すると、図７のグラフは、ある種のフォトレジスト（レジストＲ１と呼ぶ）が成膜（膜厚１．６μｍ、露光量４０ｍＪ）された基板に対し現像液を液盛りし、その現像時間の経過に対する残膜量を測定したものである。グラフ中、黒丸（●）は現像処理中に基板上の現像液を静止状態としたものであり、黒三角（▲）は現像処理中に基板上の現像液を揺動させたものである。
【０００５】
また、図８のグラフは、レジストＲ１とは種類の異なるフォトレジスト（レジストＲ２と呼ぶ）が成膜（膜厚２．２μｍ、露光量１５ｍＪ）された基板に対し現像液を液盛りし、その現像時間の経過に対する残膜量を測定したものである。グラフ中、黒丸（●）は現像処理中に基板上の現像液を静止状態としたものであり、黒三角（▲）は現像処理中に基板上の現像液を揺動させたものである。
【０００６】
図７、図８の両グラフから明らかなように、フォトレジストの種類や、塗布膜厚、露光量等の諸条件に拘わらず、基板上の現像液を揺動させた場合、現像時間の経過に対し、残膜量がより少なくなるという結果が得られた。
この結果は、現像液を揺動させることにより、配線パターンに沿って溶解したフォトレジストが滞留せずに現像液によって攪拌され、現像処理の進行を邪魔しないことを示している。
したがって、現像液を揺動させることにより、溶解したフォトレジストが基板面内で偏ることがなく、均一に現像処理を進行させることができ、面内における配線パターンの均一性が向上するといえる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００３−１００６２３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
前記した現像処理にあっては、基板上の現像液を揺動させることが望ましいという結果が得られたが、基板を平流し搬送しながら現像処理を行う場合、基板自体を揺動させることは困難である。
このため、現像液を供給するノズルを二段の構成とする方法が考えられる。即ち、一段目の現像ノズルにより基板に現像液を液盛りし、基板が搬送路を所定の距離移動後（所定時間経過後）に、二段目の現像ノズルから現像液を供給して、基板上の現像液を揺動（攪拌）させる方法である。
【０００９】
ここで、一段目の現像ノズルと二段目の現像ノズルとの好ましい配置間隔は、例えば一段目のノズルによる現像液の液盛り後、現像液に溶解したレジストが浮き上がった直後に二段目のノズルによる現像液の供給がなされる間隔である。
しかしながら、レジストの種類や、膜厚、露光量等の諸条件によって、現像液に溶解したレジストの浮き上がり方が異なるため、二段の現像ノズルを所定位置に定配置すると、現像液を効果的に攪拌できず、面内の配線パターンの線幅にばらつきが生じるという課題があった。
【００１０】
本発明は、上記のような従来技術の問題点に鑑みてなされたものであり、基板を平流し方式で搬送しながら現像処理を行う現像処理装置において、基板の処理条件の違いに拘わらず、現像処理を面内均一に、且つ効率的に行うことのできる現像処理装置及び現像処理方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
前記した課題を解決するために、本発明に係る現像処理装置は、パターン露光されたフォトレジストが成膜されてなる被処理基板を平流し搬送し、搬送される前記基板に対し現像処理を施す現像処理装置であって、前記基板が平流し搬送される搬送路と、前記搬送路上に配置され、前記搬送路を移動する前記基板の前端から後端にわたり現像液を液盛りする第一の現像ノズルと、前記基板の処理に係る情報を取得する基板情報取得手段と、前記第一の現像ノズルの下流側に前記搬送路に沿って移動可能に設けられた第二の現像ノズルと、前記第二の現像ノズルを移動させるノズル移動手段と、前記第二の現像ノズル及び前記ノズル移動手段の駆動を制御する制御手段とを備え、前記制御手段は、前記基板情報取得手段から得られた情報に基づき、前記ノズル移動手段を駆動し、前記搬送路上における所定位置に前記第二の現像ノズルを移動させ、前記第二の現像ノズルから前記基板に現像液を供給することを特徴とすることに特徴を有する。
【００１２】
このような構成によれば、二段構成とされた第一の現像ノズルと第二の現像ノズルとの配置間隔を、処理する基板ごとに最適な設定とすることができる。
即ち、基板の諸条件（フォトレジストの種類、フォトレジストの膜厚、露光量等）の違いに拘わらず、第一の現像ノズルによって盛られた現像液によりフォトレジストが所定の溶解状態に達すると、その領域に対し第二の現像ノズルにより直ぐさま現像液を供給することができる。
これにより、溶解したフォトレジストが基板面内で偏って滞留することなく、現像処理を効果的かつ均一に進行させることができる。
【００１３】
また、前記した課題を解決するために、本発明に係る現像処理方法は、パターン露光されたフォトレジストが成膜されてなる被処理基板を平流し搬送し、搬送される前記基板に対し現像処理を施す現像処理方法であって、搬送路に沿って前記基板を平流し搬送し、前記搬送路上に配置された第一の現像ノズルにより、前記基板の前端から後端にわたり現像液を液盛りするステップと、前記基板の処理に係る情報を取得するステップと、前記第一の現像ノズルの下流側において前記搬送路に沿って移動可能に設けられた第二の現像ノズルを、前記取得した基板の処理に係る情報に基づき前記搬送路上における所定位置に移動させ、前記第二の現像ノズルから前記基板に現像液を供給するステップとを実行することに特徴を有する。
【００１４】
このような方法によれば、二段構成とされた第一の現像ノズルと第二の現像ノズルとの配置間隔を、処理される基板ごとに最適な設定とすることができる。
即ち、基板の諸条件（フォトレジストの種類、フォトレジストの膜厚、露光量等）の違いに拘わらず、第一の現像ノズルによって盛られた現像液によりフォトレジストが所定の溶解状態に達すると、その領域に対し第二の現像ノズルにより直ぐさま現像液を供給することができる。
これにより、溶解したフォトレジストが基板面内で偏って滞留することなく、現像処理を効果的かつ均一に進行させることができる。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、基板を平流し方式で搬送しながら現像処理を行う現像処理装置において、基板の処理条件の違いに拘わらず、現像処理を面内均一に、且つ効率的に行うことのできる現像処理装置及び現像処理方法を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】図１は、本発明の一実施形態である現像処理装置が適用される現像ユニットの全体構成を模式的に示す断面図である。
【図２】図２は、本発明の一実施形態である現像処理装置が適用される現像ユニットの全体構成を模式的に示す平面図である。
【図３】図３は、本発明に係る現像処理装置の第１の実施形態の動作（現像処理方法）の流れを示すフローである。
【図４】図４は、本発明に係る現像処理装置の第１の実施形態の動作遷移を示す平面図である。
【図５】図５は、本発明に係る現像処理装置の第２の実施形態の動作（現像処理方法）の流れを示すフローである。
【図６】図６は、本発明に係る現像処理装置の第２の実施形態の動作遷移を示す平面図である。
【図７】図７は、パターン露光されたフォトレジストＲ１が成膜された基板に対し現像液を液盛りし、その現像時間の経過に対する残膜量を測定したものである。
【図８】図８は、パターン露光されたフォトレジストＲ２が成膜された基板に対し現像液を液盛りし、その現像時間の経過に対する残膜量を測定したものである。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明の現像処理装置及び現像処理方法にかかる実施形態を、図に基づいて説明する。先ず、図１乃至図４に基づき本発明の第１の実施形態について説明する。
本発明に係る現像処理装置は、例えばフォトリソグラフィ工程において現像処理を行う現像ユニットに適用することができる。以下、フォトリソグラフィ工程における現像ユニットに適用した場合を例にとって説明する。
この現像ユニット１には、図１、図２に示すように、プロセスラインＡに沿って水平方向（Ｘ方向）に延びるコロ搬送による平流しの搬送ライン２（搬送路）が設置されている。この搬送ライン２に沿って上流側から順に搬入部３と、現像部４と、リンス部５と、乾燥部６と、搬出部７とが設けられている。
【００１８】
搬送ライン２は、コロ８（搬送体）を搬送方向（Ｘ方向）に一定間隔（例えば１００ｍｍ間隔）で敷設してなり、基板Ｇを、その被処理面を上に向けた仰向けの姿勢として所定速度（例えば６０ｍｍ／ｓ）で搬送するように構成されている。
各コロ８は、たとえば電気モータを有する搬送駆動部（図示せず）に歯車機構またはベルト機構等の伝動機構（図示せず）を介して接続されている。
【００１９】
現像部４においては、基板搬送方向に二段の現像ノズル１０，１３が設けられている。一段目のノズルである第一の現像ノズル１０は、図示するように搬送ライン２の上方に（位置固定されて）配置された２本１組の長尺状のノズル１０ａ、１０ｂとから構成されている。各ノズル１０ａ、１０ｂは、図２に示すように、基板幅方向（Ｙ方向）に延設されると共に、そのノズル１０ａ、１０ｂの下端面には、同方向にスリット状に延びる吐出口１０ｃ、１０ｄが形成されている。
この現像ノズル１０には、図１に示すように現像液供給部１１から所定濃度の現像液が供給され、搬送ライン２を搬送される基板Ｇの被処理面（上面）に向けて現像液Ｄを吐出するようになされている。
【００２０】
また、前記第一の現像ノズル１０よりも下流側には、図２に示すように搬送ライン２の左右両側に沿って、一対のガイドレール１２が設けられている。このガイドレール１２には、二段目の現像ノズルである第二の現像ノズル１３がレールに沿って移動自在に吊り下げられている。
この第二の現像ノズル１３は、図２に示すように基板幅方向（Ｙ方向）に長尺状に延設され、その下端に同方向に延びるスリット状のノズル口１３ａが形成されている。
この第二の現像ノズル１３には、図１に示すように現像液供給部１５から所定濃度の現像液が供給される。そして、前記第一のノズル１０によって現像液が液盛りされた状態の基板Ｇに対し、さらにノズル口１３ａから現像液Ｄを吐出可能な構成となされている。
また、この第二の現像ノズル１３は、駆動機構１４（ノズル移動手段）によって前記ガイドレール１２に沿って（即ち搬送ライン２に沿って）移動可能となされている。
【００２１】
また、現像部４において、前記第一の現像ノズル１０よりも下流側には、平流し搬送中の基板Ｇの前縁部Ｔ（図２参照）を撮像するＣＣＤカメラ２０（溶解検出手段、基板情報取得手段）が配置されている。このＣＣＤカメラ２０は、画像処理部２１（溶解検出手段、基板情報取得手段）に接続されている。
尚、ＣＣＤカメラ２０は、基板Ｇが第一の現像ノズル１０の下方を通過後、所定距離（例えば、基板搬送方向への第二の現像ノズル１３の最大移動可能位置まで）を移動するまでの間は、基板Ｇの前縁部Ｔをカメラの視野内に収め、撮像を継続して行う。そのために、ＣＣＤカメラ２０は、搬送されて移動する基板Ｇの前縁部Ｔを追従するよう、その姿勢（撮像方向）が制御される、あるいは、カメラ本体が基板Ｇの移動に同期して移動するよう制御されることが好ましい。あるいは、基板Ｇが第一の現像ノズル１０の下方を通過後、前記所定距離を移動するまでの間、一方向を撮像するカメラの視野内に収まるのであれば、ＣＣＤカメラ２０を固定配置してもよい。
【００２２】
ＣＣＤカメラ２０によって撮像された画像は、基板処理に係る情報として画像処理部２１に供給され、前記画像処理部２１における解析の結果、基板Ｇの前縁部Ｔにおける現像液の変化が検出される。前記現像液の変化とは、フォトレジストの溶解状態であり、具体的には現像液に浮上するフォトレジスト量が所定値（閾値）を超えるか否か（或いは、現像液の色変化）によって検出の有無が判定される。
尚、前記画像処理部２１と、前記現像液供給部１１，１５と、前記駆動機構１４とは、現像部３の制御を行う制御部２５（制御手段）に接続されている。
【００２３】
また、現像部４内には、搬送ライン２の下に落ちた現像液を受け集めるためのパン１６が設けられている。このパン１６の排液口は排液管１７を介して現像液再利用機構１８に通じている。
前記現像液再利用機構１８は、搬送ライン２からこぼれ落ちた現像液をパン１６および排液管１７を介して回収する。この現像液再利用機構１８では、回収した現像液に原液や溶媒を加え、基準濃度に調整したリサイクルの現像液を前記現像液供給部１１，１５に送るようになっている。
【００２４】
また、リンス部５は、基板上の現像液を除去し、純粋等のリンス液に置換する現像液除去部５ａと、基板Ｇの表裏面をリンス洗浄する洗浄部５ｂとにより構成されている。
現像液除去部５ａにおいては、図１に示すように搬送ライン２においてコロ８の配置により隆起部１９が形成されている。この隆起部１９が設けられることにより、基板Ｇが隆起部１９を通過する際、大部分の現像液が基板手前側（上流側）に流れ落ちる。
【００２５】
尚、より効率的に現像液を基板Ｇから流し落とすために、前記隆起部１９の登り斜面側には、基板Ｇの表面に接触し、基板表面を均すための均しローラ２２が基板幅方向に沿って設けられている。この均しローラ２２は、隆起部１９の上り傾斜で現像液の大部分が流れ落ち、薄膜状態で基板Ｇ上に残る現像液を、均一に基板後方に押し流して均すために設けられている。この均しローラ２２を設けることにより、基板Ｇから殆どの現像液を除去することができ、後段のリンス処理の効果をより向上させることができる。
【００２６】
また、隆起部１９の下り斜面側には、基板上にリンス液Ｌを供給し、現像液Ｄをリンス液Ｌに完全に置換するためのリンスノズル２３が設けられている。これにより略、現像処理が停止状態となされる。
また、現像液除去部５ａには、搬送ライン２の下に落ちた現像液を集めるためのパン２４が設けられている。このパン２４の排液口は排液管２６を介して前記現像液再利用機構１８に通じている。
【００２７】
また、洗浄部５ｂは、その入口に、搬送ライン２において上り傾斜部２７が形成されている。この上り傾斜部２７が設けられることにより、前記リンスノズル２３から基板上に供給された現像液が現像液除去部５ａのパン２４及び洗浄部５ｂのパン２８に流し落とされるよう構成されている。
洗浄部５ｂには、搬送ライン２の上方から基板Ｇの上面に対して洗浄用のリンス液を吹き掛けるリンスノズル３１と、搬送ライン２の下方から基板Ｇの下面に対して洗浄用のリンス液を吹き掛けるリンスノズル３２，３８が設けられている。
【００２８】
尚、各リンスノズル２３，３１，３２，３８は、例えば長尺型ノズルからなり、図示しないリンス液供給源から配管を介してリンス液が給液されるようになっている。
また、基板Ｇの上面に対してリンス液Ｌを吹き掛けるリンスノズル３１の下流には、高圧力のエアを基板上面に吹き掛けるエアノズル３４が設けられ、前記リンスノズル３１によって基板上に供給されたリンス液Ｌを風圧で除去するようになされている。
前記したように洗浄部５ｂには、搬送ライン２の下に落ちたリンス液を受け集めるためのパン２８が設けられるが、このパン２８の排液口は排液管２９を介してリンス液回収部３５に通じている。
【００２９】
また、乾燥部６においては、基板Ｇに向けて上方及び下方から搬送方向と逆向きに液切りないし乾燥用の高圧ガス流（通常はエア流）を当てる長尺型のエアナイフ３６，３７が配置されている。
【００３０】
また、この現像ユニット１において、一体的なハウジング３９内に収容される各処理部の空間は隔壁４０、４１、４２、４３、４４の開口４０ａ、４１ａ、４２ａ、４３ａ、４４ａを介して相互に連通している。
搬入部３及び搬出部７の天井には、それぞれ室外の空気を引き込むためのファン５０，５１と、これらのファン５０，５１からの空気流を除塵するエアフィルタ５２，５３が設けられている。
また、リンス部５の底部には、たとえば排気ポンプまたは排気ファンを有する排気機構５５に通じる排気口５６が設けられている。
【００３１】
これにより、搬入部３の天井から供給される清浄空気は、現像部４に供給されると共に、現像処理で発生する現像液のミストを巻き込むようにして前記リンス部５の排気口５６から排気されるようになされている。
一方、乾燥部６の天井から供給される清浄空気は、乾燥（液切り）処理で発生するリンス液のミストを巻き込むようにして前記リンス部４の排気口５６から排気されるようになされている。
【００３２】
続いて、この現像ユニット１における動作の流れを図３のフローに基づき説明する。
パターン露光されたフォトレジストが被処理面に成膜されてなる基板Ｇが搬入部３から搬送ライン２上に水平に移載されると、一定速度（例えば６０ｍｍ／ｓ）のコロ搬送で現像部４に向けて搬送される（図３のステップＳ１、図４（ａ）の状態）。
現像部４では、基板Ｇが搬送ライン２を水平姿勢で移動する間に、定位置の第一の現像ノズル１０より現像液Ｄが供給開始される（図３のステップＳ２、図４（ｂ）の状態）。これにより基板Ｇ上には基板前端から基板後端にわたり搬送速度と等しい走査速度で現像液Ｄが盛られ始める。
【００３３】
前記のように第一の現像ノズル１０により基板前端から基板後端に向かって現像液Ｄが供給開始されると、ＣＣＤカメラ２０により基板Ｇの前縁部Ｔ（図４（ｂ）の破線領域）における現像液Ｄの状態が撮像開始される（図３のステップＳ３）。ＣＣＤカメラ２０により撮像された基板前縁部Ｔの画像（映像）は、画像処理部２１において解析され、フォトレジストの溶解状態（所定の溶解量閾値を超えるか否か、或いは現像液Ｄの色変化）の検出が行われる（図３のステップＳ４）。また、その検出結果は、制御部２５に出力される。
【００３４】
基板前縁部Ｔにおけるフォトレジストの溶解量が所定の閾値を超えたと判定（検出）されると（図３のステップＳ４）、制御部２５は、第一の現像ノズル１０による現像液供給開始から前記検出までの時間と、基板搬送速度とに基づき、第二の現像ノズル１３の配置位置を決定する。
具体的には、前記検出がなされた時点での前記基板前縁部Ｔの搬送ライン２上の位置が前記第二の現像ノズル１３の位置として決定される。
これにより、平流し搬送される基板Ｇに現像液Ｄが供給されてから、現像処理の進行によりフォトレジストが所定量溶解するまでの基板Ｇの移動距離が、第一の現像ノズル１０と、第二の現像ノズル１３との配置間隔として設定される。
【００３５】
制御部２５は、駆動機構１４を制御し、ガイドレール１２に沿って第二の現像ノズル１３を前記設定された位置まで移動させる（図３のステップＳ５）。
第二の現像ノズル１３の移動が完了すると、その現像ノズル１３から、直ぐさま基板Ｇ上に現像液Ｄを供給開始する（図３のステップＳ６、図４（ｃ）の状態）。
この新たな現像液Ｄが供給されることにより、既に第一の現像ノズル１０により盛られた現像液Ｄ中に滞留する溶解したレジストが攪拌され、その溶解したレジストと共に余分な現像液Ｄが現像部４のパン１６に流し落とされる。
【００３６】
ここで、図４（ｄ）に示すように、前記第二の現像ノズル１３の配置が固定されることによって、基板Ｇのどの領域をとっても、第一の現像ノズル１０の下を通過し、第二の現像ノズル１３の下を通過するまでの時間は一定である。
即ち、第一の現像ノズル１０から供給された現像液Ｄによって、基板前端から後端にわたり順に現像処理が進行し、溶解したフォトレジストが所定量を超えると、その領域には、直ぐさま第二の現像ノズル１３から新たな現像液Ｄが供給される。
したがって、溶解したフォトレジストが基板面内で偏って滞留することなく、現像処理を効率的かつ面内均一に進行させることができる。
【００３７】
前記第二の現像ノズル１３による現像液Ｄの供給が基板Ｇの後端まで完了すると、所定時間の経過後、基板Ｇはリンス部５の現像液除去部５ａに搬送される。
基板Ｇ上に残る現像液Ｄは、隆起部１９を通過する際、重力により後方へ移動して基板後端から流れ落ちる。また、薄膜状態で基板Ｇ上に残る現像液Ｄは、均しローラ２２によって均一に基板後方に押し流される。
基板上から大部分の現像液Ｄが除去されると、リンスノズル２３により、基板上に例えば純水からなるリンス液Ｌが供給される。これにより、基板上の現像液Ｄは、リンス液Ｌに完全に置換され、現像処理が停止状態となされる（図３のステップＳ７）。
【００３８】
基板Ｇは、さらに洗浄部５ｂに搬入され、その上下面に対しリンスノズル３１，３２，３８から洗浄用のリンス液Ｌが吹き掛けられる（図３のステップＳ８）。これにより、基板Ｇの上下面に付着して残る現像液Ｄが完全に洗い落とされる。
また、基板Ｇの上面に対しては、さらにエアノズル３４によって高圧力のエアが吹き掛けられ、リンスノズル３１によって基板上に供給されたリンス液Ｌが風圧で除去される。
【００３９】
このようにしてリンス処理が完了すると、基板Ｇは搬送ライン２によって乾燥部６に搬入される。
基板Ｇの上下面には、エアナイフ３６、３７により搬送方向と逆向きに高圧ガス流が吹き掛けられる（図３のステップＳ９）。これにより、基板Ｇ上に残っていたリンス液Ｌは基板後方へ寄せられて基板後端から追い出される（液切りされる）。
こうして現像ユニット１内で一連の現像処理工程を終えた基板Ｇは、搬送ライン２上を移動し、搬出部７を経由して後段の処理部に搬送される（図３のステップＳ１０）。
【００４０】
以上のように、本発明に係る第１の実施の形態によれば、パターン露光されたフォトレジストが成膜され、平流し搬送される基板Ｇに対し現像液Ｄを供給する現像部４において、二段構成とされた第一の現像ノズル１０と第二の現像ノズル１３との配置間隔が、処理する基板ごとに最適な設定となされる。
即ち、基板Ｇの諸条件（フォトレジストの種類、フォトレジストの膜厚、露光量等）の違いに拘わらず、第一の現像ノズル１０によって盛られた現像液Ｄにより基板Ｇの所定領域でのフォトレジストの溶解量が所定量を超えると、第二の現像ノズル１３により直ぐさま前記所定領域に現像液Ｄが供給される。
これにより、溶解したフォトレジストが基板面内で偏って滞留することなく、現像処理を効率的かつ面内均一に進行させることができる。
【００４１】
続いて、本発明に係る第２の実施の形態について図面に基づき説明する。尚、この第２の実施の形態において、前記第１の実施形態との共通部分については、同じ符号で示し、その詳細な説明は省略する。
本発明の現像処理装置に係る第２の実施の形態にあっては、前記第１の実施の形態において図１、図２に示した構成と略同一の構成を有するが、制御部２５による第二の現像ノズル１３の駆動制御が異なるものとなる。
【００４２】
以下、この第２の実施形態における現像ユニット１の動作の流れを図５、図６に基づき説明する。尚、この第２の実施形態にあっては、図６に示すように基板前縁部Ｔを撮像するＣＣＤカメラ２０は、第二の現像ノズル１３に取り付けられ、第二の現像ノズル１３と一体に移動する構成としている。
パターン露光されたフォトレジストが被処理面に成膜されてなる基板Ｇが搬入部３において搬送ライン２上に水平に移載されると、基板Ｇは、現像部４に向けて一定速度（例えば６０ｍｍ／ｓ）でコロ搬送される（図５のステップＳｔ１、図６（ａ）の状態）。尚、第二の現像ノズル１３は、ガイドレール１２の始点位置（待機位置）で待機状態となされる。
現像部４では、基板Ｇが搬送ライン２を水平姿勢で移動する間に、定位置の第一の現像ノズル１０より現像液Ｄが供給開始される（図５のステップＳｔ２、図６（ｂ）の状態）。これにより基板Ｇ上には基板前端から基板後端にわたり搬送速度と等しい走査速度で現像液Ｄが盛られ始める。
【００４３】
前記のように第一の現像ノズル１０により基板前端から基板後端に向かって現像液Ｄが供給開始されると、ＣＣＤカメラ２０により基板Ｇの前縁部Ｔにおける現像液Ｄの状態が撮像開始される（図５のステップＳｔ３）。
また、ガイドレール１２の始点位置で待機していた第二の現像ノズル１３は、その下方に基板Ｇの前縁部Ｔが達すると、基板Ｇの移動速度に同期してガイドレール１２に沿って移動を開始する（図５のステップＳｔ４）。
即ち、第二の現像ノズル１３が基板Ｇに同期して移動することによって、その移動の間、第二の現像ノズル１３及びＣＣＤカメラ２０は、基板Ｇの前縁部上方に位置することになる。また、このとき、ＣＣＤカメラ２０により、前縁部Ｔにおける現像液Ｄに対し距離間隔を維持したまま撮像が行われる（図６（ｃ）の状態）。
尚、前記ステップＳｔ４における基板Ｇの前縁部Ｔの位置検出は、ＣＣＤカメラ２０の撮像結果に基づき行うことができる（即ち、ＣＣＤカメラ２０及び画像処理部２１を基板検出手段として機能させる）。或いは、基板Ｇの位置を検出するために、基板検出手段として専用のセンサを設けてもよい。
【００４４】
ＣＣＤカメラ２０により撮像された基板前縁部Ｔの画像（映像）は、画像処理部２１において解析され、フォトレジストの溶解状態（所定の溶解量閾値を超えるか否か、或いは現像液Ｄの色変化）の検出が行われる。また、その検出結果は、制御部２５に出力される。尚、前記のように、第二の現像ノズル１３が基板Ｇに移動する間、ＣＣＤカメラ２０と、基板Ｇの前縁部Ｔとの距離が一定であるため、精度よい検出が可能となる。
【００４５】
基板前縁部Ｔにおけるフォトレジストの溶解量が所定の閾値を超えたと判定（検出）されると（図５のステップＳｔ５）、制御部２５は、第二の現像ノズル１３の移動を停止させると共に（図５のステップＳｔ６）、第二の現像ノズル１３から現像液Ｄを吐出させる（図５のステップＳｔ７、図６（ｄ）の状態）。
この新たな現像液Ｄが供給されることにより、既に第一の現像ノズル１０により盛られた現像液Ｄ中に滞留する溶解したレジストが攪拌され、その溶解したレジストと共に余分な現像液Ｄが現像部４のパン１６に流し落とされる。
【００４６】
ここで、図６（ｄ）に示すように、前記第二の現像ノズル１３の移動が停止された後は、基板Ｇのどの領域をとっても、第一の現像ノズル１０の下を通過し、第二の現像ノズル１３の下を通過するまでの時間は一定となる。
即ち、第一の現像ノズル１０から供給された現像液Ｄによって、基板前端から後端にわたり順に現像処理が進行し、溶解したフォトレジストが所定量を超えると、その領域には、直ぐさま第二の現像ノズル１３から新たな現像液Ｄが供給される。
したがって、溶解したフォトレジストが基板面内で偏って滞留することなく、現像処理を効率的かつ面内均一に進行させることができる。
【００４７】
前記第二の現像ノズル１３による現像液Ｄの供給が基板Ｇの後端まで完了すると、所定時間の経過後、基板Ｇはリンス部５の現像液除去部５ａに搬送される。
基板Ｇ上に残る現像液Ｄは、隆起部１９を通過する際、重力により後方へ移動して基板後端から流れ落ちる。また、薄膜状態で基板Ｇ上に残る現像液Ｄは、均しローラ２２によって均一に基板後方に押し流される。
基板上から大部分の現像液Ｄが除去されると、リンスノズル２３により、基板上に例えば純水からなるリンス液Ｌが供給される。これにより、基板上の現像液Ｄは、リンス液Ｌに完全に置換され、現像処理が停止状態となされる（図５のステップＳｔ８）。
【００４８】
基板Ｇは、さらに洗浄部５ｂに搬入され、その上下面に対しリンスノズル３１，３２，３８から洗浄用のリンス液Ｌが吹き掛けられる（図５のステップＳｔ９）。これにより、基板Ｇの上下面に付着して残る現像液Ｄが完全に洗い落とされる。
また、基板Ｇの上面に対しては、さらにエアノズル３４によって高圧力のエアが吹き掛けられ、リンスノズル３１によって基板上に供給されたリンス液Ｌが風圧で除去される。
【００４９】
このようにしてリンス処理が完了すると、基板Ｇは搬送ライン２によって乾燥部６に搬入される。
基板Ｇの上下面には、エアナイフ３６、３７により搬送方向と逆向きに高圧ガス流が吹き掛けられる（図５のステップＳｔ１０）。これにより、基板Ｇ上に残っていたリンス液Ｌは基板後方へ寄せられて基板後端から追い出される（液切りされる）。
こうして現像ユニット１内で一連の現像処理工程を終えた基板Ｇは、搬送ライン２上を移動し、搬出部７を経由して後段の処理部に搬送される（図５のステップＳｔ１１）。
【００５０】
以上のように、本発明に係る第２の実施の形態によれば、第一の現像ノズル１０の後段に設けられ、基板Ｇの前縁部Ｔに同期して移動する第二の現像ノズル１３は、基板上のフォトレジストの溶解量が所定量を超えたときに停止し、基板上にさらに現像液Ｄが供給される。
即ち、基板Ｇの諸条件（フォトレジストの種類、フォトレジストの膜厚、露光量等）の違いに拘わらず、二段構成とされた第一の現像ノズル１０と第二の現像ノズル１３との配置間隔が、処理する基板ごとに最適な設定となされる。
これにより、溶解したフォトレジストが基板面内で偏って滞留することなく、現像処理を効率的かつ面内均一に進行させることができる。
【００５１】
尚、前記第２の実施形態においては、ＣＣＤカメラ２０を第二の現像ノズル１３に一体的に取り付け、第二の現像ノズル１３と共にガイドレール１２に沿って移動する構成としたが、本発明にあっては、その形態に限定されるものではない。
即ち、ＣＣＤカメラ２０は、前記第１の実施形態と同様に、搬送されて移動する基板Ｇの前縁部Ｔを追従するよう、その姿勢（撮像方向）が制御される、或いは、カメラ２０本体が基板Ｇの移動に同期して移動するものであればよい。
例えば、ＣＣＤカメラ２０を第二の現像ノズル１３に取り付けず、ＣＣＤカメラ２０と第二の現像ノズル１３とが、共に搬送ライン２に沿って移動する構成としてもよい。あるいは、基板Ｇが第一の現像ノズル１０の下方を通過後、所定距離を移動するまでの間、一方向を撮像するカメラの視野内に収まるのであれば、ＣＣＤカメラ２０を固定配置してもよい。
【００５２】
また、前記第１及び第２の実施形態においては、ＣＣＤカメラ２０（溶解検出手段、基板情報取得手段）により基板前縁部Ｔを撮像し、画像処理部２１（溶解検出手段、基板情報取得手段）による解析結果に基づき基板Ｇの状態情報を得るものとしたが、本発明にあっては、それに限定されるものではない。
例えば、各基板の処理情報（少なくともフォトレジストの種類、フォトレジストの膜厚、露光量のいずれかを含む情報）に対応する第一の現像ノズル１０と第二の現像ノズル１３との最適な配置間隔情報とを制御部２５が参照可能なルックアップテーブルとして予め備えてもよい。
そのように構成することにより、制御部２５は、前記ルックアップテーブルを参照し、処理する基板の情報を取得し、第二のノズル１３の配置を容易に設定することができる。
尚、その場合、制御部２５は、基板情報取得手段及び制御手段として機能する。
また、その場合には、第二の現像ノズル１３を定位置に固定し、第一の現像ノズル１０を搬送ライン２に沿って移動可能に配置することもできる。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パターン露光されたフォトレジストが成膜されてなる被処理基板を平流し搬送し、搬送される前記基板に対し現像処理を施す現像処理装置であって、
前記基板が平流し搬送される搬送路と、前記搬送路上に配置され、前記搬送路を移動する前記基板の前端から後端にわたり現像液を液盛りする第一の現像ノズルと、前記基板の処理に係る情報を取得する基板情報取得手段と、前記第一の現像ノズルの下流側に前記搬送路に沿って移動可能に設けられた第二の現像ノズルと、前記第二の現像ノズルを移動させるノズル移動手段と、前記第二の現像ノズル及び前記ノズル移動手段の駆動を制御する制御手段とを備え、
前記制御手段は、前記基板情報取得手段から得られた情報に基づき、前記ノズル移動手段を駆動し、前記搬送路上における所定位置に前記第二の現像ノズルを移動させ、前記第二の現像ノズルから前記基板に現像液を供給することを特徴とする現像処理装置。
【請求項２】
前記基板情報取得手段は、前記第一の現像ノズルにより現像液が盛られた基板の前縁部におけるフォトレジストの溶解状態を検出する溶解検出手段であって、
前記制御手段は、前記溶解検出手段が所定の溶解状態を検出すると、前記ノズル移動手段を駆動し、前記搬送路上における前記基板の前縁部の位置に前記第二の現像ノズルを移動させ、前記第二の現像ノズルから前記基板に現像液を供給することを特徴とする請求項１に記載された現像処理装置。
【請求項３】
前記基板情報取得手段は、前記第一の現像ノズルにより現像液が盛られた前記基板の前縁部が前記第二の現像ノズルの待機位置に達したことを検出する基板検出手段と、前記基板の前縁部におけるフォトレジストの溶解状態を検出する溶解検出手段とを有し、
前記制御手段は、前記基板検出手段により前記基板の前縁部が前記第二の現像ノズルの待機位置に達したことを検出すると、前記ノズル移動手段を駆動し、前記第二の現像ノズルを前記基板の移動速度に同期して移動させ、
前記溶解検出手段が所定の溶解状態を検出すると、前記第二の現像ノズルの移動を停止させると共に、前記第二の現像ノズルから前記基板に現像液を供給することを特徴とする請求項１に記載された現像処理装置。
【請求項４】
前記溶解検出手段は、前記第一の現像ノズルにより現像液が盛られた前記基板の前縁部を撮像する撮像手段と、前記撮像手段により撮像された画像から溶解したフォトレジストを検出する画像処理手段とを有することを特徴とする請求項２または請求項３に記載された現像処理装置。
【請求項５】
前記基板情報取得手段が取得する情報は、少なくともフォトレジストの種類と、フォトレジストの膜厚と、露光量のいずれかに対応して、前記基板ごとにそれぞれ予め設定された前記第一の現像ノズルと第二の現像ノズルとの配置間隔を含むことを特徴とする請求項１に記載された現像処理装置。
【請求項６】
パターン露光されたフォトレジストが成膜されてなる被処理基板を平流し搬送し、搬送される前記基板に対し現像処理を施す現像処理方法であって、
搬送路に沿って前記基板を平流し搬送し、前記搬送路上に配置された第一の現像ノズルにより、前記基板の前端から後端にわたり現像液を液盛りするステップと、
前記基板の処理に係る情報を取得するステップと、
前記第一の現像ノズルの下流側において前記搬送路に沿って移動可能に設けられた第二の現像ノズルを、前記取得した基板の処理に係る情報に基づき前記搬送路上における所定位置に移動させ、前記第二の現像ノズルから前記基板に現像液を供給するステップとを実行することを特徴とする現像処理方法。
【請求項７】
前記基板の処理に係る情報として、前記第一の現像ノズルにより現像液が盛られた基板の前縁部におけるフォトレジストの溶解状態を取得し、
所定の溶解状態を検出すると、前記搬送路上における前記基板の前縁部の位置に前記第二の現像ノズルを移動させ、前記第二の現像ノズルから前記基板に現像液を供給することを特徴とする請求項６に記載された現像処理方法。
【請求項８】
前記第一の現像ノズルにより現像液が盛られた前記基板の前縁部が前記第二の現像ノズルの待機位置に達すると、前記第二の現像ノズルを前記基板の移動速度に同期して移動させ、
前記基板の処理に係る情報として、前記基板の前縁部におけるフォトレジストの溶解状態を取得し、所定の溶解状態を検出すると、前記第二の現像ノズルの移動を停止させると共に、前記第二の現像ノズルから前記基板に現像液を供給することを特徴とする請求項６に記載された現像処理方法。
【請求項９】
前記フォトレジストの溶解状態の取得において、前記第一の現像ノズルにより現像液が盛られた前記基板の前縁部を撮像し、撮像された画像からフォトレジストの溶解量を検出することを特徴とする請求項７または請求項８に記載された現像処理方法。
【請求項１０】
前記基板の処理に係る情報は、少なくともフォトレジストの種類と、フォトレジストの膜厚と、露光量のいずれかに対応して、前記基板ごとにそれぞれ予め設定された前記第一の現像ノズルと第二の現像ノズルとの配置間隔を含むことを特徴とする請求項６に記載された現像処理方法。
【請求項１】
パターン露光されたフォトレジストが成膜されてなる被処理基板を平流し搬送し、搬送される前記基板に対し現像処理を施す現像処理装置であって、
前記基板が平流し搬送される搬送路と、前記搬送路上に配置され、前記搬送路を移動する前記基板の前端から後端にわたり現像液を液盛りする第一の現像ノズルと、前記基板の処理に係る情報を取得する基板情報取得手段と、前記第一の現像ノズルの下流側に前記搬送路に沿って移動可能に設けられた第二の現像ノズルと、前記第二の現像ノズルを移動させるノズル移動手段と、前記第二の現像ノズル及び前記ノズル移動手段の駆動を制御する制御手段とを備え、
前記制御手段は、前記基板情報取得手段から得られた情報に基づき、前記ノズル移動手段を駆動し、前記搬送路上における所定位置に前記第二の現像ノズルを移動させ、前記第二の現像ノズルから前記基板に現像液を供給することを特徴とする現像処理装置。
【請求項２】
前記基板情報取得手段は、前記第一の現像ノズルにより現像液が盛られた基板の前縁部におけるフォトレジストの溶解状態を検出する溶解検出手段であって、
前記制御手段は、前記溶解検出手段が所定の溶解状態を検出すると、前記ノズル移動手段を駆動し、前記搬送路上における前記基板の前縁部の位置に前記第二の現像ノズルを移動させ、前記第二の現像ノズルから前記基板に現像液を供給することを特徴とする請求項１に記載された現像処理装置。
【請求項３】
前記基板情報取得手段は、前記第一の現像ノズルにより現像液が盛られた前記基板の前縁部が前記第二の現像ノズルの待機位置に達したことを検出する基板検出手段と、前記基板の前縁部におけるフォトレジストの溶解状態を検出する溶解検出手段とを有し、
前記制御手段は、前記基板検出手段により前記基板の前縁部が前記第二の現像ノズルの待機位置に達したことを検出すると、前記ノズル移動手段を駆動し、前記第二の現像ノズルを前記基板の移動速度に同期して移動させ、
前記溶解検出手段が所定の溶解状態を検出すると、前記第二の現像ノズルの移動を停止させると共に、前記第二の現像ノズルから前記基板に現像液を供給することを特徴とする請求項１に記載された現像処理装置。
【請求項４】
前記溶解検出手段は、前記第一の現像ノズルにより現像液が盛られた前記基板の前縁部を撮像する撮像手段と、前記撮像手段により撮像された画像から溶解したフォトレジストを検出する画像処理手段とを有することを特徴とする請求項２または請求項３に記載された現像処理装置。
【請求項５】
前記基板情報取得手段が取得する情報は、少なくともフォトレジストの種類と、フォトレジストの膜厚と、露光量のいずれかに対応して、前記基板ごとにそれぞれ予め設定された前記第一の現像ノズルと第二の現像ノズルとの配置間隔を含むことを特徴とする請求項１に記載された現像処理装置。
【請求項６】
パターン露光されたフォトレジストが成膜されてなる被処理基板を平流し搬送し、搬送される前記基板に対し現像処理を施す現像処理方法であって、
搬送路に沿って前記基板を平流し搬送し、前記搬送路上に配置された第一の現像ノズルにより、前記基板の前端から後端にわたり現像液を液盛りするステップと、
前記基板の処理に係る情報を取得するステップと、
前記第一の現像ノズルの下流側において前記搬送路に沿って移動可能に設けられた第二の現像ノズルを、前記取得した基板の処理に係る情報に基づき前記搬送路上における所定位置に移動させ、前記第二の現像ノズルから前記基板に現像液を供給するステップとを実行することを特徴とする現像処理方法。
【請求項７】
前記基板の処理に係る情報として、前記第一の現像ノズルにより現像液が盛られた基板の前縁部におけるフォトレジストの溶解状態を取得し、
所定の溶解状態を検出すると、前記搬送路上における前記基板の前縁部の位置に前記第二の現像ノズルを移動させ、前記第二の現像ノズルから前記基板に現像液を供給することを特徴とする請求項６に記載された現像処理方法。
【請求項８】
前記第一の現像ノズルにより現像液が盛られた前記基板の前縁部が前記第二の現像ノズルの待機位置に達すると、前記第二の現像ノズルを前記基板の移動速度に同期して移動させ、
前記基板の処理に係る情報として、前記基板の前縁部におけるフォトレジストの溶解状態を取得し、所定の溶解状態を検出すると、前記第二の現像ノズルの移動を停止させると共に、前記第二の現像ノズルから前記基板に現像液を供給することを特徴とする請求項６に記載された現像処理方法。
【請求項９】
前記フォトレジストの溶解状態の取得において、前記第一の現像ノズルにより現像液が盛られた前記基板の前縁部を撮像し、撮像された画像からフォトレジストの溶解量を検出することを特徴とする請求項７または請求項８に記載された現像処理方法。
【請求項１０】
前記基板の処理に係る情報は、少なくともフォトレジストの種類と、フォトレジストの膜厚と、露光量のいずれかに対応して、前記基板ごとにそれぞれ予め設定された前記第一の現像ノズルと第二の現像ノズルとの配置間隔を含むことを特徴とする請求項６に記載された現像処理方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【公開番号】特開２０１１−５４６９７（Ｐ２０１１−５４６９７Ａ）
【公開日】平成２３年３月１７日（２０１１．３．１７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−２０１２２７（Ｐ２００９−２０１２２７）
【出願日】平成２１年９月１日（２００９．９．１）
【出願人】（０００２１９９６７）東京エレクトロン株式会社 (5,184)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年３月１７日（２０１１．３．１７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年９月１日（２００９．９．１）
【出願人】（０００２１９９６７）東京エレクトロン株式会社 (5,184)
【Ｆターム（参考）】
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