現像方法
【課題】小粒径トナーを用いた非磁性一成分接触現像において使用温度による画像濃度変化が少なく現像スジやカブリが良好で高精細な画像が得られる現像方法を提供すること。
【解決手段】現像ローラに担持させたトナーで感光ドラムの表面に形成された静電潜像を現像する工程を有する現像方法であり該現像ローラは導電性軸芯体と該導電性軸芯体の外周面上に弾性層と被覆層とを含み該弾性層はＭｎが３００以上３００００以下である直鎖状又は分岐鎖状の飽和炭化水素化合物を１５質量％以上５０質量％以下と明細書中に定義される式１で表されるアミノ酸誘導体を該飽和炭化水素化合物１００質量部に対し０．６質量部以上１０質量部以下とゴムとを含有し該トナーの体積平均粒径が５．０μｍ以上６．５μｍ以下である現像方法。
【解決手段】現像ローラに担持させたトナーで感光ドラムの表面に形成された静電潜像を現像する工程を有する現像方法であり該現像ローラは導電性軸芯体と該導電性軸芯体の外周面上に弾性層と被覆層とを含み該弾性層はＭｎが３００以上３００００以下である直鎖状又は分岐鎖状の飽和炭化水素化合物を１５質量％以上５０質量％以下と明細書中に定義される式１で表されるアミノ酸誘導体を該飽和炭化水素化合物１００質量部に対し０．６質量部以上１０質量部以下とゴムとを含有し該トナーの体積平均粒径が５．０μｍ以上６．５μｍ以下である現像方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真装置に用いられる現像方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
複写機やレーザープリンターなどの電子写真方式を用いた画像形成装置に使用される現像方法として、非磁性一成分接触現像方法が知られている。
【０００３】
非磁性一成分接触現像とは、非磁性一成分トナーを現像ローラ上にトナー規制ブレード等で均一にコーティングし、現像ローラと感光ドラムとが接触した状態で電圧を印加してトナーを感光ドラム上の静電潜像に転移させて現像を行う方法である。
【０００４】
上記非磁性一成分トナーを用いる画像形成装置において、現像ローラは、トナーへのストレスを軽減するためと、感光ドラムやトナー規制ブレードとの安定した当接幅を確保するために適度な柔軟性が求められる。また現像ローラに求められる特性として、使用環境差による画像濃度変化の低減が要求される。
【０００５】
特許文献１には、現像ローラを柔軟にする手法として、弾性体を発泡ゴムで構成する方法が開示され、特許文献２には可塑剤を多量に配合する方法が開示されている。
【０００６】
一方、特許文献３には、使用環境の温度の変動に起因する画像濃度の変化の低減について、現像ローラ表面層の比誘電率を規定することで使用温度差による画像濃度変化の低減する提案がされている。一方、近年、トナーの小粒径化が進んでいる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００１−１３４０７１号公報
【特許文献２】特開２００７−２４０７４２号公報
【特許文献３】特開２０００−２９３０３２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、小粒径のトナーは、その流動性が低いため、現像ローラ表面上に長時間存在することで、繰り返し摺擦をうけ、劣化しやすいことがある。また、低温低湿環境や高温高湿環境といった使用温度差により画像濃度の変化が大きくなる場合がある。
【０００９】
このような背景から、小粒径のトナーと組み合わせる現像ローラに対しては、トナーへのストレスを低減するために、より低硬度な表面を有することが求められている。
【００１０】
そこで本発明の目的は、小粒径トナーを用いた非磁性一成分接触現像において、良好な電子写真画像の形成を行うことできる現像方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本出願によれば、現像ローラに担持させたトナーで感光ドラムの表面に形成された静電潜像を現像する工程を有し、
該現像ローラは、導電性軸芯体と、該導電性軸芯体の外周面上に弾性層と、該弾性層の外周面上に被覆層とを含み、
該弾性層は、数平均分子量Ｍｎが３００以上３００００以下である直鎖状または分岐鎖状の飽和炭化水素化合物を１５質量％以上５０質量％以下と、式１で表されるアミノ酸誘導体を該飽和炭化水素化合物１００質量部に対し０．６質量部以上１０質量部以下と、ゴムと、を含有し、
該トナーは、その体積平均粒径が、５．０μｍ以上６．５μｍ以下である現像方法が提供される。
【００１２】
【化１】
【００１３】
Ｒ1およびＲ2は、各々独立に炭素数３以上１０以下の直鎖または分岐鎖のアルキル基を表し、Ｒ3は、炭素数７以上２０以下の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を表す。ｎは１または２を表す。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、小粒径トナーを用いた場合であっても、現像スジやカブリが抑制された高精細な電子写真画像を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】現像ローラの一例を説明するための図である
【図２】本発明を適用可能な電子写真画像形成装置の一例を説明するための図である。
【図３】本発明を適用可能な電子写真プロセスカートリッジの一例を説明するための図である。
【図４】本発明を適用可能なプラズマＣＶＤ装置の一例を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
本発明者らは、小粒径トナーを用いた非磁性一成分接触現像において、使用温度による画像濃度変化が少なく、現像スジやカブリが良好で高精細な画像が得られる現像方法及び現像ローラの製造方法を提供することに関し鋭意検討を行った。その結果、特定のアミノ酸誘導体を用いることにより現像ローラの弾性層中に含まれる飽和炭化水素化合物の粘度の温度依存性を抑制することで、課題を解決できることを見出し本発明に至った。
すなわち、本発明に係る第一の発明によれば、小粒径トナーを用いた非磁性一成分接触現像において、使用温度による画像濃度変化が少なく、現像スジやカブリが良好な現像方法を提供することが可能となる。
【００１７】
＜現像方法＞
本発明の現像方法は、少なくとも現像ローラとトナー供給ローラと感光ドラムとを用いる。また、本発明の現像方法は、感光ドラム表面に直接またはトナーを介して、現像ローラを接触させ、現像ローラが担持するトナーによって感光ドラム表面上の静電潜像を現像する。以下にこの現像方法に用いる現像ローラおよびトナーについて説明する。
【００１８】
＜現像ローラ＞
本発明の現像方法に用いられる現像ローラは、図１に示すように導電性軸芯体１と、導電性軸芯体１の外周面上に弾性層２と、弾性層２の外周面上に被覆層３とを含む構成となっている。また、現像ローラは、プライマー処理層およびＵＶやコロナ処理等による表面改質を施した層を含むことができる。
【００１９】
（導電性軸芯体）
現像ローラの導電性軸芯体としては、従来から画像形成装置の現像ローラに用いられているものが使用可能であり、その材料は、十分な強度を有し、かつ導電性を有するものを用いることができる。導電性軸芯体を作製する材料としては、例えば、銅、アルミニウム、チタン、ニッケル、鉄などの金属や、複数の金属からなる合金鋼、炭素繊維をプラスチックで固めた複合材料等の剛直で導電性を示す材料が挙げられる。合金鋼としては、ステンレス鋼、ニッケルクロム鋼、ニッケルクロムモリブテン鋼、クロム鋼、クロムモリブテン鋼、Ａｌ、Ｃｒ、Ｍｏ及びＶを添加した窒化用鋼が挙げられる。その中でも特に強度の観点から、合金製のものが好ましい。更に防錆対策として軸芯体材料にめっきを施すことができる。導電性軸芯体の形状としては棒状体またはパイプ状体のものが使用できる。また、弾性層との密着性を向上させる目的で、必要に応じて、導電性軸芯体の表面にプライマー処理層を形成してもよい。導電性軸芯体の外径は通常直径４ｍｍ以上直径２０ｍｍ以下の範囲が好ましい。
【００２０】
（弾性層）
前記弾性層は、後述する飽和炭化水素化合物と、式１で表されるアミノ酸誘導体と、ゴムとを含有する。以下にこれらの材料について説明する。
【００２１】
＜ゴム＞
現像ローラを構成する弾性層２に用いられるゴムとしては、以下のものが挙げられる。エチレン‐プロピレンゴム（ＥＰＭ）、エチレン‐プロピレン‐ジエンゴム（ＥＰＤＭ）、ブタジエンゴム（ＢＲ）、イソプレンゴム（ＩＲ）、スチレン‐ブタジエンゴム（ＳＢＲ）、ブチルゴム（ＩＩＲ）。
これらのゴムの中でも、飽和炭化水素化合物との親和性からＥＰＤＭやＥＰＭ、ＢＲ、ＩＲが好適である。その中でも特にＥＰＭ及びＥＰＤＭは主鎖が飽和炭化水素であるため、前記飽和炭化水素化合物との相溶性が優れ、軟化効果が特に大きく、また良好な耐オゾン性を容易に得ることができるため特に好ましい。なお、異なるゴムを２種以上混合して用いても良い。
【００２２】
本発明に使用されるＥＰＤＭは、工業的に実用されているものなら使用可能で、特に制限されるものではない。例えば、ＥＰＤＭの第三成分であるジエンモノマーとして、エチリデンノルボルネン、ヘキサジエン、オクタジエンが用いられているポリマーを使用することができる。なかでも、エチリデンノルボルネンを第三成分とするＥＰＤＭが、架橋速度が特に速く、しかも物性のバランスが非常に良い点において好適に用いられる。また、本発明におけるＥＰＤＭのジエン量（質量％）は、飽和炭化水素化合物の分散性及び弾性層の弾性の観点から、３質量％以上２０質量％以下のものが適している。なお、ジエン量の異なる２種以上のＥＰＤＭを混合して用いてもよい。
【００２３】
また、本発明に用いるＥＰＤＭは、加工性を向上させる目的で油展したもの、非油展のいずれをも用いることができる。ここでいう油展とは、飽和炭化水素化合物が添加されていることを意味する。油展ＥＰＤＭの場合、ＥＰＤＭの質量とは、油展ＥＰＤＭから飽和炭化水素化合物を除いたゴム分のみの質量を指す。つまり油展ＥＰＤＭ中に含まれる飽和炭化水素化合物の質量は、本発明における飽和炭化水素化合物の質量に含める。また、ＥＰＤＭを目的に合わせて２種以上混合して用いることも可能である。混合したＥＰＤＭに油展ＥＰＤＭが含まれる場合以下のように判断する。すなわち、その油展ＥＰＤＭ中のＥＰＤＭの質量、および飽和炭化水素化合物の質量はそれぞれ、弾性層中のＥＰＤＭの質量、および飽和炭化水素化合物の質量に含める。
【００２４】
工業的に実用されているＥＰＤＭとしては、以下のものが挙げられる。エスプレン ２０１、３０１、３０５、４００、５０１Ａ、５０２、５０５、５０５Ａ、５１２Ｆ、５１４Ｆ、５２２、５２４、５３２、５５２、５５３、５６７、５８２Ｆ、５８６、６００Ｆ、６０１Ｆ、６０６、６７０Ｆ、６７１Ｆ、６７３、５２１４、５７５４、６５０６Ｓ、６１８２Ｆ（全て商品名、住友化学工業株式会社製）、
ＪＳＲ ＥＰ９１２Ｐ、ＥＰ０１Ｐ、ＥＰ０２Ｐ、ＥＰ９４１Ｐ、ＥＰ９６１ＳＰ、ＥＰ０７Ｐ、ＥＰ５７Ｐ、ＥＰ１８１ＳＰ、ＥＰ１１、ＥＰ４３、ＥＰ９３、ＥＰ２４、ＥＰ２７、ＥＰ２１、ＥＰ１３２、ＥＰ２２、ＥＰ２５、ＥＰ３３、ＥＰ３５、ＥＰ３７Ｃ／Ｆ、ＥＰ６５、ＥＰ５１、ＥＰ５７Ｃ／Ｆ、ＥＰ７５Ｆ、ＥＰ８６、ＥＰ９６、ＥＰ９８、ＥＰ１０３ＡＦ、ＥＰ１０６ＥＦ、ＥＰ１０７Ｆ、ＥＰ８０１Ｅ、ＥＰ００１ＤＥ（全て商品名、ＪＳＲ株式会社製）
ＮＯＲＤＥＬ １０４０、１０７０、１１４５、１３２０、１４４０、１４７０、１６６０、２５２２、２７２２／Ｐ、２７４４／Ｐ、２７６０／Ｐ（全て商品名、デュポン社製）、
Ｅｐｓｙｎ ４０−Ａ、７０−Ａ、５５、２３０８、２５０６、４５０６、４９０６、５２０６、５５０８、５８０５、７５０６、Ｅ８０１、Ｎ５５７、Ｎ５９７、Ｎ９９７、Ｐ５５７、Ｐ５５８、Ｐ５９７、ＭＤＥ２３９、ＭＤＥ２４８（全て商品名、コポリマー・ラバー・アンド・ケミカル・コーポレーション社製）、
ＰＯＬＹＳＡＲ ２２７、３０６、３４５、５８５、４８７ＸＰ、８６５、９６５、５４６５、５６７２Ｘ、５８７５、６４６３（全て商品名、ポリサー・ラバー・コーポレーション社製）。
【００２５】
＜飽和炭化水素化合物＞
本発明に用いられる飽和炭化水素化合物は、パラフィンオイルのような直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン構造を持つ化合物、及びそれらを主要成分とするパラフィン系オイルを用いることが好ましい。
これらの飽和炭化水素化合物を用いた場合、環状の飽和炭化水素化合物であるナフテンオイルや芳香環構造を有するアロマティックオイル等に比べ、アミノ酸誘導体添加による粘度の温度依存性を抑制する効果が特に大きく得られやすい。これは飽和炭化水素化合物の分子鎖が長いため、アミノ酸誘導体の繊維状構造体の効果を受けやすいためと考えられる。それゆえ粘度の温度依存性が強く抑制されるため、使用温度差による濃度の変化がより少なくなる。本発明において想定される現像ローラの使用温度は、１５℃以上３０℃以下であり、最大使用温度差は１５℃である。
【００２６】
また直鎖状もしくは分岐鎖状の飽和炭化水素化合物を添加した架橋ゴムは、ナフテンオイルやアロマティックオイルを添加した架橋ゴムに比べ、圧縮永久変形などのゴム物性においても優れる。現像ローラは常にトナー規制ブレードと接触している。ゆえにトナー規制ブレードと長期間同じ位置で接触した場合、現像ローラは圧縮永久変形を起こす傾向がある。圧縮永久変形が生じた後、画像を出力すると、現像ローラピッチで横スジが発生してしまう。小粒径トナーの場合、流動性が低下している場合があるので、現像ローラの圧縮永久変形した部分にトナーを均一に塗布することがより難しくなる。その結果、横スジが従来のトナーに比べ、よりはっきり見えやすくなる。ゆえに圧縮永久変形性の低下が少ない飽和炭化水素化合物を使用することが好ましい。
【００２７】
本発明に用いられる飽和炭化水素化合物の弾性層中における含有量は、１５質量％以上５０質量％以下である。飽和炭化水素化合物の弾性層中における含有量が１５質量％未満では、弾性層を低硬度化する効果が安定して得られず、高硬度現像ローラとなるためローラとして他部材に接触させた際の適切な接触幅を得ることが出来ず画像弊害を引き起こす。５０質量％よりも多い場合には、使用温度による硬度変化を抑えきれない。
【００２８】
本発明に用いる飽和炭化水素化合物の数平均分子量Ｍｎは、３００以上３００００以下である。飽和炭化水素化合物の数平均分子量は３００以上であれば、飽和炭化水素化合物の分子鎖が十分長くなり、アミノ酸誘導体が形成する繊維状構造体による飽和炭化水素化合物の粘度の温度依存性抑制効果が得られる。その結果、使用温度による画像濃度変化を抑制できる。さらに、飽和炭化水素化合物の数平均分子量は、１０００以上であることが好ましい。１０００以上であれば、現像ローラの弾性層の硬度変化に起因する画像濃度変化をより抑制することが可能となる。また数平均分子量が３００００以下の場合、飽和炭化水素化合物がゴム中に入り込み易く、低硬度の現像ローラとなり、ローラとして他部材に接触させた際の適切な接触幅を得ることが出来る。
【００２９】
本発明に用いる飽和炭化水素化合物としては、例えば以下のものを挙げることができる。
・エチレンとα−オレフィンとのコオリゴマー（商品名：ルーカントＨＣ−４０、１００、６００、２０００、三井化学社製）、
・流動パラフィン（商品名：モレスコホワイトＰ−４０、５５、６０、７０、８０、１００、１２０、１５０、２００、２６０、３００、３５０Ｐ、松村石油研究所製）、
・水素添加イソプレン系液状ゴム（商品名：クラプレンＬＩＲ−２００、クラレ社製）、
・水素添加型ＰＢ樹脂（商品名：ＮＩＳＳＯ−ＰＢＢＩ−２０００、３０００、日本曹達社製）、
・パラフィン系オイル（商品名：ダフニーオイルＫＰ−６８、１００、ダプロセスオイルＰＷ−３２、９０、１５０、３８０、出光興産社製）。
【００３０】
＜アミノ酸誘導体＞
本発明に用いられるアミノ酸誘導体を式１に示す。
【００３１】
【化２】
【００３２】
なお、式１中のＲ1およびＲ2は、各々独立に炭素数３以上１０以下の直鎖または分岐鎖のアルキル基を表す。アミノ酸誘導体は、その構造中に含まれるアミド基が分子間で水素結合することにより自己集合すると考えられる。Ｒ1およびＲ2の炭素数が３以上１０以下であればアルキル鎖の立体障害が少ないため、分子間でのアミド基同士の水素結合が阻害されづらい。それゆえアミノ酸誘導体が自己集合しやすくなり可逆的な繊維構造を形成しやすくなり、飽和炭化水素化合物の粘度の温度依存性を抑制する効果が良好となる。
【００３３】
また、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立に炭素数３以上５以下の直鎖または分岐鎖のアルキル基を表すことが好ましい。Ｒ1およびＲ2の炭素数が３以上５以下の範囲であれば、アルキル鎖の立体障害がより少なくなると同時に、良好な溶解性や分散性を容易に得ることができるため、アミノ酸誘導体がさらに自己集合しやすく、容易に可逆的な繊維構造を形成することができる。その結果、飽和炭化水素化合物の粘度の温度依存性を抑制する効果を容易に得ることができ、低硬度を維持したまま粘度の温度依存性抑制効果が優れる。
【００３４】
式１中のＲ3は、炭素数７以上２０以下の直鎖または分岐鎖のアルキル基を表す。アミノ酸誘導体は、可逆的な繊維構造全体で飽和炭化水素化合物の粘度の温度依存性を抑制すると同時に、Ｒ3のアルキル鎖と飽和炭化水素化合物間で働くファンデルワールス力でも飽和炭化水素化合物の粘度の温度依存性を抑制していると考えられる。Ｒ3の炭素数が７以上２０以下であれば、Ｒ3のアルキル鎖と飽和炭化水素化合物との間にファンデルワールス力が得られ、飽和炭化水素化合物の粘度の温度依存性を抑制が良好になる。
【００３５】
また、Ｒ3は、炭素数７以上１１以下の直鎖または分岐鎖のアルキル基を表すことが好ましい。Ｒ3の炭素数が７以上１１以下の範囲であれば、Ｒ3のアルキル鎖と飽和炭化水素化合物との間にファンデルワールス力が容易に得られる上、アミド基同士の水素結合による自己集合を、Ｒ3のアルキル鎖の立体障害により阻害することがより少なくなる。さらに、飽和炭化水素化合物の粘度の温度依存性を抑制する効果を容易に得ることができ、低硬度を維持したまま粘度の温度依存性抑制効果が優れている。
【００３６】
式１中のｎ（メチレン基の個数）は１または２を表す。メチレン基の個数ｎが１または２であれば、アミノ酸誘導体の原料であるグルタミン酸またはアスパラギン酸を安価に得ることができる。また、メチレン基の個数ｎは２であることが好ましい。ｎが２であれば、Ｒ1及びＲ2のアルキル基間に適度な距離を容易に生じさせることができ、アミド基の自己集合がより起こりやすく、また溶解性や分散性もより良くなる。このため、飽和炭化水素化合物の粘度の温度依存性の抑制効果を容易に得ることができる。
【００３７】
式１で表されるアミノ酸誘導体は、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3の種類により１以上の不斉炭素を有する場合があるが、このような不斉炭素に基づく光学異性体またはジアステレオマーなどの立体異性体、任意の立体異性体の混合物、あるいはラセミ体を用いてもよい。さらに２種以上のアミノ酸誘導体を組み合わせて用いてもよい。
【００３８】
上記アミノ酸誘導体は、例えば、以下の方法により得ることができる。まず、水酸化ナトリウムなどの塩基性触媒下で、グルタミン酸またはアスパラギン酸と、脂肪酸ハライドとをショッテン・バウマン反応で反応させることによりＮ−アシル化グルタミン酸またはＮ−アシル化アスパラギン酸を得る。ついで、このＮ−アシル化グルタミン酸またはＮ−アシル化アスパラギン酸のカルボキシル基をエステル、酸ハライド、酸無水物等の反応性の高い活性基に変換した後、アミンと反応させる。この方法により、式１で表されるアミノ酸誘導体を得ることが出来る。また、この他にも、Ｎ−アシルアミノ酸とアミンを加熱脱水することにより直接アミド化する方法でも得ることができる。
【００３９】
弾性層における、アミノ酸誘導体の添加部数は、前記飽和炭化水素化合物１００質量部に対し０．６質量部以上１０質量部以下である。０．６質量部未満では、アミノ酸誘導体が形成する繊維状構造体が足りず飽和炭化水素化合物の粘度の温度依存性抑制が不十分であり、使用温度での硬度変化が大きく、画像濃度変化抑制の効果が得られない。１０質量部よりも多い場合、弾性層のアミノ酸誘導体の分散性が低下し、現像ローラに硬度ムラが生じ、画像弊害を発生させる。
【００４０】
被覆層を含む現像ローラのＪＩＳ−Ａ硬度は、３０°以上６０°以下が好ましい。硬度が３０°以上である場合、圧縮永久変形による画像弊害をより少なくすることができる。また６０°以下である場合、トナー劣化が特に少ないが故に、現像スジおよびカブリなどといった弊害をより少なくすることができ、良好な画像形成性を容易に得ることができる。
【００４１】
・各種添加剤
さらに、前記弾性層には、必要に応じて導電剤、充填剤、増量剤、架橋剤、架橋助剤、酸化防止剤、老化防止剤又は加工助剤等の各種添加剤を使用することができる。
【００４２】
本発明において、飽和炭化水素化合物とアミノ酸誘導体とを混練する場合、他の添加剤と同時にゴム中に飽和炭化水素化合物とアミノ酸誘導体とを混練してもよい。より好ましくは、飽和炭化水素化合物とアミノ酸誘導体とを加熱混合することで溶解させ、冷却した混合物をゴム中に混練すると良い。これは、あらかじめ飽和炭化水素化合物とアミノ酸誘導体とを加熱混合し冷却して用いた場合、飽和炭化水素化合物中のみにアミノ酸誘導体の繊維状構造体が形成され、飽和炭化水素化合物の温度による粘度変化がより抑制されるためである。
【００４３】
アミノ酸誘導体は、水素結合やファンデルワールス力など弱い力により繊維状構造体を形成する。それ故に、予め加熱混練および冷却した混合物を用いることで、飽和炭化水素化合物とアミノ酸誘導体との混合物をゴム中に混合する際に、加熱することにより、水素結合などの弱い結合が切れてしまう可能性を容易に防ぐことができる。なお、冷却すればアミノ酸誘導体は、再び繊維状構造体を形成するが、ゴムのような粘度の高い物体中ではアミノ酸誘導体は自己集合しづらい傾向がある。さらに一度ばらばらになったアミノ酸誘導体が飽和炭化水素化合物中ではなく、ゴム中に繊維状構造体を形成する可能性があり、飽和炭化水素化合物中に繊維状構造体を形成した場合と比べて、飽和炭化水素化合物の温度による粘度変化の抑制が弱くなる場合がある。
【００４４】
また、他の添加剤と同時にゴム中に加熱混練する場合、ゴムのような粘度の高い物体中ではアミノ酸誘導体は自己集合しづらい傾向がある。さらにアミノ酸誘導体が原料ゴム中に可逆的な繊維構造を形成してしまう可能性がある。これにより飽和炭化水素化合物中に形成されるアミノ酸誘導体由来の繊維状構造体が少なくなり、予め加熱混練および冷却した混合物を用いた場合と比べて、飽和炭化水素化合物の温度による粘度変化の抑制効果が低下する場合がある。またアミノ酸誘導体が飽和炭化水素化合物に溶解されず十分な可逆的な繊維構造を形成されない場合がある。
【００４５】
なお弾性層を架橋する際の加熱により、アミノ酸誘導体由来の繊維状構造体が一部ばらばらになる可能性が考えられる。しかし前述したようにゴムのような高粘度の物体中では、ばらばらとなったアミノ酸誘導体は拡散しづらく、近傍に集中して存在するため容易に再凝集し、繊維状構造体を形成しやすいと考えられる。
【００４６】
このように、以下の工程を含む現像ローラの製造方法により、現像ローラを得ることが好ましい。
（１）式１で表されるアミノ酸誘導体、および数平均分子量Ｍｎが３００以上３００００以下である直鎖状または分岐鎖状の飽和炭化水素化合物を加熱混合することで溶解させ冷却する工程。
（２）工程（１）により得られる混合物をゴムと混練し、架橋を行い、弾性層を形成する工程。
なお、工程（１）および（２）は、以下の条件で行うことが好ましい。即ち、アミノ酸誘導体、および飽和炭化水素化合物を加熱混合し、溶解させる際の温度は、飽和炭化水素化合物の分解の観点から１８０℃以下が好ましく、さらにその溶解させた混合物を冷却する際の温度は、温度調整が容易かつ、アミノ酸誘導体が飽和炭化水素化合物中で可逆的な繊維構造を形成できるという観点から室温（２３℃）が好ましい。
【００４７】
本発明における前記弾性層の成形方法は、従来から知られている押出成形法、射出成形法などの成型方法を用いることができる。本発明の効果を得られる範囲で層構成は必要に応じて選択することができ、２層以上からなる弾性層とすることもできる。この場合、その２層以上の弾性層のいずれか一つ以上が本発明に記載された弾性層の条件を満たす。弾性層の厚みとしては、本発明の効果を得られる範囲で適宜選択することができ、１ｍｍ以上５ｍｍ以下とすることが好ましい。１ｍｍ以上５ｍｍ以下であれば他部材と適切な接触幅がより得られやすく、成形加工性が特に安定しており、画像弊害がより生じにくい。
本発明においては弾性層２の外周上にさらに被覆層３を有している。被覆層を形成する時、弾性層と被覆層との剥離が生じないようにより密着性を向上させるために、弾性層の外周上をコロナ処理、フレーム処理、エキシマＵＶ処理の表面改質方法にて改質してもよい。
【００４８】
（被覆層）
本発明における被覆層の種類としては、有機系および無機系の被覆層を用いることができる。なお、被覆層とは、弾性層の外周面上に単層或いは複数にわたり存在する層を意味する。
【００４９】
有機系の被覆層としては、例えば、以下の樹脂で形成された被覆層が挙げられる。ポリアミド樹脂；フッ素樹脂；スチレン系樹脂；ビニル系樹脂；ポリカーボネート樹脂；アクリル系樹脂；ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン酢酸ビニル共重合樹脂のポリオレフィン系樹脂等の熱可塑性樹脂；エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン樹脂、尿素樹脂、シリコン樹脂、ポリイミド樹脂などの熱硬化性樹脂。
【００５０】
無機系の被覆層としては、例えば酸化ケイ素膜や炭素膜が挙げられる。特に本発明においては酸化ケイ素膜が好ましい。これは、酸化ケイ素膜はトナー離形成に優れるため現像ローラ表面にトナーが特に融着しづらく、それ故、現像スジなどの画像弊害が特に起こりづらいためである。さらに、本発明に用いる酸化ケイ素膜は、構造中にケイ素原子と化学結合している炭素原子を含むこと、即ち構造中にＳｉ−Ｏ及びＳｉ−Ｃの化学結合を有することが好ましい。また、酸化ケイ素膜において、ケイ素原子と化学結合している酸素原子のケイ素原子に対する存在比（Ｏ／Ｓｉ）が、０．６５以上１．９５以下であることが好ましい。存在比Ｏ／Ｓｉが０．６５以上であると、膜表面に粘着が発生することを容易に防ぐことができる。これにより、トナーの離型性が低下することを容易に防ぎ、トナー融着の発生を容易に防ぐことができる。また１．９５以下では、酸化ケイ素膜自体が硬くなること、ヒビ割れが生じることを容易に防ぎ、現像ローラとして使用した際、得られた画像に、ヒビに起因するスジが発生することを容易に防ぐことができる。
【００５１】
また、構造中にＳｉ−Ｃ結合を有する酸化ケイ素膜において、ケイ素原子と化学結合を形成している炭素原子のケイ素原子に対する存在比（Ｃ／Ｓｉ）が、０．０５以上１．６５以下であることが好ましい。存在比Ｃ／Ｓｉが０．０５以上であると、酸化ケイ素の膜と弾性層表面との密着性が低下することを容易に防ぎ、均一かつ適正な表面層、すなわち被覆層を容易に得ることができる。また存在比Ｃ／Ｓｉが１．６５以下では、膜表面に粘着が発生することを容易に防ぎ、トナー融着が発生することを容易に防ぎ、現像スジが生じることを容易に防ぐことができる。
【００５２】
本発明において酸化ケイ素膜等の被覆層を弾性層の上に形成する方法としては、例えば以下の方法が挙げられる。ディップコート、スプレーコート、ロールコート、リングコートなどの湿式コート法；真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティングなどの物理的気相成長（ＰＶＤ）法；プラズマＣＶＤ、熱ＣＶＤ、レーザーＣＶＤなどの化学的気相成長（ＣＶＤ）法等。また、多層押出成形やチューブ被覆などの方法も挙げられる。
【００５３】
中でも、弾性層と被覆層（特に構造中にＳｉ−Ｃ結合を含む酸化ケイ素膜）との密着性や処理時間及び処理温度、装置の簡便性、得られる表面層の均一性を考慮すると、プラズマＣＶＤ法が好ましい。
なお、構造中にＳｉ−Ｃ結合を有する酸化ケイ素膜の各元素の存在比率は次のようにして求める。
【００５４】
Ｘ線光電子分光装置「Ｑｕａｎｔｕｍ２０００」（商品名、アルバック・ファイ株式会社製）を用い、Ｘ線源をＡｌＫαとして、酸化ケイ素膜のＳｉの２ｐ軌道、Ｏ及びＣの１ｓ軌道の結合エネルギーに起因するピークを測定する。それぞれのピークから各原子の存在比を算出し、得られた存在比よりＯ／Ｓｉ及びＣ／Ｓｉを求める。
【００５５】
構造中にＳｉ−Ｃ結合を有する酸化ケイ素膜の化学結合については、フーリエ変換赤外分光分析（ＦＴ−ＩＲ）装置「ＳｐｅｃｔｒｕｍＯｎｅ」（商品名、株式会社パーキンエルマージャパン製）により、酸化ケイ素膜を構成するＳｉＯｘ膜の表面のＩＲ測定にて確認する。すなわち、Ｓｉ−Ｏ振動ピーク（４５０ｃｍ-1）、Ｓｉ−Ｃ伸縮ピーク（８００−８２０ｃｍ-1）の存在により、Ｓｉ−Ｏ及びＳｉ−Ｃの化学結合の存在を確認する。
【００５６】
被覆層として用いる炭素膜としては、例えば、高硬度、電気絶縁性、赤外線透過性を持つカーボン薄膜のダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）が挙げられる。前記ＤＬＣの構造はＣを主骨格とし、かつ若干のＨを含有し、ダイヤモンド結合（ＳＰ３結合）とグラファイト結合（ＳＰ２結合）の両方の結合が混在しているアモルファス構造である。
【００５７】
これら被覆層の厚みは、形成される被覆層の種類や形成方法により適宜選択することができる。
有機系の被覆層の場合には、被覆層の厚みは、３μｍ以上１００μｍ以下とすることが好ましい。３μｍ以上では弾性層の削れ、および磨耗が生じることを容易に防ぐことができ、１００μｍ以下の場合、現像ローラの体積抵抗ムラの原因となることを容易に防ぐことができる。
無機系の被覆層の厚みは、０．０１μｍ以上３μｍ以下が好ましい。０．０１μｍ以上では、弾性層への被覆が容易であり、弾性層の削れ、および磨耗が生じることを優れて防ぐことができ、３μｍ以下であると、被覆層の種類によらず、被覆層の割れが生じることを容易に防ぐことができる。
また、被覆層の構成としては、本発明の効果を得られる範囲で必要に応じて選択でき、１層あるいは２層以上の構成とすることができる。
【００５８】
＜トナー＞
本現像方法で用いられるトナーの体積平均粒径は、５．０μｍ以上６．５μｍ以下である。トナーの体積平均粒径が５．０μｍ以上６．５μｍ以下である時、静電潜像の再現性及び階調再現性が良好なため、高品位な画像が得られる。さらに本発明記載の現像ローラを用いれば、使用温度差による画像濃度変化が少なく、トナー劣化も少ないが故に現像スジやカブリなどの現象も生じにくい。
【００５９】
トナーの体積平均粒径が６．５μｍより大きい場合、静電潜像の再現性及び階調再現性を十分に満たさない場合がある。またトナーの体積平均粒径が５．０μｍ未満である場合、トナー間での凝集力が高まり、現像ローラ表面上に均一にトナーを塗布することが難しい。また体積平均粒子径が５．０μｍ未満のトナーは、電荷が高まりやすいが故に、現像ローラ表面とのクーロン力により現像ローラ上に強固に付着しやすい。その結果、摺擦回数が増え、トナー劣化を引き起こし、現像ローラ表面へのトナー融着が多くなり、現像スジやカブリなどの現象が生じやすくなる。
【００６０】
ここで、トナーの体積平均粒径は、精密粒度分布測定装置（商品名：マルチサイザー（Ｍｕｌｔｉｓｉｚｅｒ）２：ベックマン・コールター社製）を用いて測定することができる。以下に測定方法を詳しく説明する。
まず、この精密粒度分布測定装置に、個数分布及び体積分布を出力するインターフェース（日科機バイオス社製）並びにパーソナルコンピューターを接続する。
続いて、電解液として、一級塩化ナトリウムを用いて１質量％ＮａＣｌ水溶液を調製する。電解液としては、アイソトン（ＩＳＯＴＯＮ） Ｒ−ＩＩ：商品名、ベックマン・コールター社製などを使用してもよい。前記電解液１００〜１５０ｍｌ中に分散剤として界面活性剤を０．１〜５ｍｌ加え、さらに測定試料を２〜２０ｍｇ加える。測定試料を懸濁した電解液を、超音波分散器で約１〜３分間分散処理する。前記超音波処理された電解液を測定サンプルに用いる。そして、１００μｍのアパーチャーを採用する前記コールターマルチサイザーにより、１．５９μｍ以上６４．００μｍ以下の範囲で１６チャンネルの体積粒度分布を測定する。測定された５０％Ｄ径を本発明におけるトナーの体積平均粒径とする。
【００６１】
本発明で用いられるトナーの平均円形度は、０．９４０以上０．９９５以下であることが好ましい。トナーの平均円形度が０．９４０以上０．９９５以下である時、トナーにかかる機械的ストレスが容易に均一化され、局部的に大きなストレスが一層かからず、トナー劣化が容易に抑えられる。またトナーの良好な帯電性を容易に得ることができ、高温高湿環境下における画像濃度の変化やカブリがより少なくなる。
トナーの平均円形度が０．９４０以上の場合、トナー割れが発生することを容易に防ぐことができる。その結果、トナー帯電量がブロードになることを容易に防ぎ、高温高湿環境下における画像濃度の変化やカブリが生じることを容易に防ぐことができる。またトナーの平均円形度が０．９９５以下の場合は、容易に製造することができ、現像後に感光ドラムに残ってしまったトナーのクリーニング不良が起こることを容易に防ぐことができる。
【００６２】
ここで、トナーの平均円形度は、フロー式粒子像分析装置（商品名：ＦＰＩＡ−１０００：東亜医用電子社製）を用いて測定することができる。
具体的には、界面活性剤が約０．１ｍｇ溶解している水１０ｍｌに、トナー５ｍｇを分散させて分散液を調製し、超音波（２０ｋＨｚ、５０Ｗ）を分散液に５分間照射し、分散液濃度を５千個／μｌ以上２万個／μｌ以下として前記装置により測定を行う。そして３μｍ以上の円相当径の粒子群の平均円形度及びモード円形度を求める。
【００６３】
本発明における平均円形度は、トナーの凹凸度合いの指標であり、トナーが完全な球形の場合１．０００を示し、表面形状が複雑になるほど円形度は小さな値となる。
【００６４】
本発明の現像方法において使用されるトナーは以下のような方法で製造することができるが、以下の方法に限定されるものではない。
１）特公昭３６−１０２３１号公報、特開昭５９−５３８５６号公報、特開昭５９−６１８４２号公報、特開２００６−１０６１９８号公報等に記載されている懸濁重合法を用いて直接トナーを生成する方法。
２）モノマーに可溶かつ水溶性である重合開始剤の存在下で直接モノマーを重合させてトナーを生成するソープフリー重合法に代表される乳化重合法。
３）マイクロカプセル製法のような界面重合法。
４）ｉｎ ｓｉｔｅ重合法による方法。
５）コアセルベーション法による方法。
６）特開昭６２−１０６４７３号公報や特開昭６３−１８６２５３号公報等に開示されている少なくとも１種以上の微粒子を凝集させ、所望の粒径のトナーを得る会合重合法による方法。
７）単分散を特徴とする分散重合法による方法。
８）非水溶性有機溶媒に必要な樹脂類を溶解させた後、水中でトナーを得る乳化分散法による方法。
９）以下の工程を含む破砕法。
加圧ニーダーやエクストルーダー、又はメディア分散機等を用いてトナー成分を混練、均一に分散させる工程。その後、冷却し、混練物を機械的又はジェット気流下でターゲットに衝突させて所望のトナー粒径に微粉砕する工程。その後、更に粒度分布をシャープにする分級工程。
１０）粉砕法で得られたトナーを溶媒中で加熱等により球形化処理し、トナーを得る方法。
【００６５】
なかでも、懸濁重合法、会合重合法、乳化分散法によるトナーの製造が好ましく、より好ましくは小粒径かつ高円形度のトナーが容易に得られる懸濁重合方法である。
【００６６】
＜画像形成装置＞
図２、図３は本発明を用いることができる電子写真画像形成装置及び電子写真プロセスカートリッジの概略構成を示す模式図の一例である。
【００６７】
感光ドラム４が矢印方向に回転し、感光ドラム４を帯電処理するための帯電ローラ１１によって一様に帯電され、感光ドラム４に静電潜像を書き込む露光手段であるレーザー光１０により、その表面に静電潜像が形成される。上記静電潜像は、感光ドラム４に対して接触配置される現像装置９によってトナー７を付与されることにより現像され、トナーが付着した像として可視化される。
【００６８】
現像は露光部にトナー像を形成するいわゆる反転現像を行っている。可視化された感光ドラム４上のトナー像は、転写部材である転写ローラ１６によって記録媒体である紙２１に転写される。なお紙２１は、給紙ローラ２２により電子写真画像形成装置内に取り込まれ、吸着ローラ２３により転写搬送ベルト１９上に供給される。転写搬送ベルト１９は、駆動ローラ１５及び従動ローラ２０及びテンションローラ１８により支持されており、紙２１を搬送する。トナー像を転写された紙２１は、定着装置１４により定着処理され、装置外に排紙されプリント動作が終了する。なお符号１７はバイアス電源である。
【００６９】
一方、転写されずに感光ドラム４上に残存したトナーは、感光ドラム表面をクリーニングするためのクリーニング部材であるクリーニングブレード１３により掻き取られ廃トナー容器１２に収納され、クリーニングされた感光ドラム４は上述作用を繰り返し行う。
現像装置９は、一成分トナーとして非磁性トナーを収容した現像容器と、現像容器内の長手方向に延在する開口部に位置し感光ドラム４と対向設置された現像ローラ５とを備え、感光ドラム４上の静電潜像を現像して可視化するようになっている。
【００７０】
電子写真プロセスカートリッジは、図３に示すように、現像ローラ５とトナー規制ブレード８、現像装置９、帯電ローラ１１を有し、その他トナー塗布部材６、感光ドラム４も組みこんでもよい。電子写真プロセスカートリッジは、これらの部材が一体的に保持されてなるものであり、画像形成装置に着脱可能に設けられる。
【００７１】
トナー塗布部材６の構造としては、発泡骨格状スポンジ構造や導電性軸芯体上にレーヨン、ポリアミド等の繊維を植毛したファーブラシ構造のものが、現像ローラ５へのトナー供給および未使用トナーの剥ぎ取りの点から好ましい。例えば、導電性軸芯体上にポリウレタンフォームを設けた直径１６ｍｍのローラをトナー塗布部材として用いることができる。
【実施例】
【００７２】
以下、実施例によってさらに本発明を詳細に説明する。また原材料に特に記載がない場合においては、市販の高純度品を使用した。
【００７３】
〔飽和炭化水素化合物の分子量の測定〕
本発明における各飽和炭化水素化合物の数平均分子量の測定は、ゲルパーミネーションクロマトグラフィー法によって行った。ゲルパーミネーションクロマトグラフィー法の測定方法とは以下の方法である。すなわち、４０℃のヒートチャンバ中でカラムを安定化させ、この温度におけるカラムに、溶媒としてＴＨＦ（テトラヒドロフラン）を毎分１ｍｌの流速で流し、ＴＨＦ試料溶液を約１００μｌ注入して測定した。試料の分子量測定に当っては、試料の有する分子量分布を、数種の単分散ポリスチレン標準試料により作製された検量線の対数値とカウント数との関係から算出した。また、検出器にはＲＩ（屈折率）検出器を用いた。また各飽和炭化水素化合物の数平均分子量を表３に示す。
【００７４】
〔現像ローラのＪＩＳ−Ａ硬度測定〕
被覆層を含む現像ローラのＪＩＳ−Ａ硬度は、常温常湿（温度２３℃／湿度５５％ＲＨ）の環境中に１２時間以上放置した後、現像ローラの長手方向の中心及び両端部から２cm内側の３点を、ＪＩＳ−Ａ硬度計で測定したその平均の値である。
【００７５】
［アミノ酸誘導体Ａの合成］
水酸化ナトリウム２０ｇを１８０ｇの水に溶解した後、グルタミン酸ナトリウム一水和物９５．５ｇ（０．５モル）とアセトン１００ｇを加え溶液とした。その後、溶液を５℃に冷却し、ラウロイルクロライド１０９．４ｇ（０．５モル）と２０質量％水酸化ナトリウム水溶液１０５ｇを同時に２時間かけて滴下し反応液を得た。
反応液を８０ｇの水で希釈し１０℃に冷却し、９５質量％硫酸６３ｇを加え、得られた溶液の水層を除去し有機層を減圧濃縮して油状物質を得た。この油状物質をメタノール７４０ｇに溶解し、９５質量％硫酸６．３ｇを加え１０時間還流させた後、２０℃まで冷却し、ｎ−ブチルアミン８．９ｇ（０．１２モル）を加えメタノールを減圧濃縮し、濃縮物質を得た。この濃縮物質をトルエン６４３ｇと、ｎ−ブチルアミン２７１ｇ（３．７モル）を加えて、８０℃で１０時間加熱撹拌し、冷却後これに水５００ｇ、９５質量％硫酸１３０ｇを加えて、水層を除去し化合物Ａが存在する有機層を得た。化合物Ａが存在する有機層に水１０００ｇを加えて、常圧で溶媒を除去し、析出した白色固体を吸引ろ過した。得られた白色個体を５０℃で真空乾燥してアミノ酸誘導体Ａを得た。
【００７６】
なお各例に使用するアミノ酸誘導体の構造を、以下に示す。なお、アミノ酸誘導体Ｏ〜Ｓは、本発明に用いるアミノ酸誘導体の条件を満たしていない。アミノ酸誘導体Ｂ〜Ｓは、それぞれの構造に対応した原料を使用してアミノ酸誘導体Ａと同様の方法にて合成した。
【００７７】
【化３】
【００７８】
【化４】
【００７９】
【化５】
【００８０】
【化６】
【００８１】
【化７】
【００８２】
【化８】
【００８３】
【化９】
【００８４】
【化１０】
【００８５】
【化１１】
【００８６】
【化１２】
【００８７】
【化１３】
【００８８】
【化１４】
【００８９】
【化１５】
【００９０】
【化１６】
【００９１】
【化１７】
【００９２】
【化１８】
【００９３】
【化１９】
【００９４】
【化２０】
【００９５】
【化２１】
【００９６】
上記アミノ酸誘導体Ａ〜Ｓについて、式１中のｎの数、および、Ｒ1乃至Ｒ3の炭素数を下記表１に示す。
【００９７】
【表１】
【００９８】
［トナーの作製］
下記の手順に従って重合法によりトナーを作製した。
６０℃に加温したイオン交換水９００質量部に、リン酸三カルシウム４質量部を添加し、これをＴＫ式ホモミキサー（特殊機化工業製）により１０，０００ｒｐｍにて撹拌し、水系媒体を作製した。
次に、下記の組成物をＴＫ式ホモミキサー（特殊機化工業製）に投入し、６０℃に加温した後、９，０００ｒｐｍにて攪拌して溶解、分散した。
・スチレン １６０質量部
・ｎ−ブチルアクリレート ４０質量部
・Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：３ １４質量部
・サリチル酸アルミニウム化合物 ２質量部
（商品名：ボントロンＥ−８８、オリエント化学社製）
・ポリエステル樹脂 ７質量部
（プロピレンオキサイド変性ビスフェノールＡとイソフタル酸との重縮合物、Ｔｇ（ガラス転移温度）＝６５℃、Ｍｗ（重量平均分子量）＝１００００、Ｍｎ＝６０００）
・ステアリン酸ステアリルワックス（ＤＳＣのメインピーク６０℃） ２０質量部
・ジビニルベンゼン ０．２質量部
これに、重合開始剤ｔ−ブチルパーオキシピバレート２０質量部（１０時間半減期温度：５４．６℃、分子量：１７４）を溶解し、重合性単量体系組成物を調製した。
【００９９】
調整した重合性単量体組成物を、前記水系媒体中に投入し、６０℃，窒素雰囲気下において、ＴＫ式ホモミキサーを用いて９，０００ｒｐｍで攪拌して懸濁させた。
【０１００】
その後、プロペラ式攪拌装置に移して攪拌しつつ、３時間かけて７０℃に昇温し、さらに４時間後、昇温速度４０℃／ｈｒで８０℃まで昇温し、８０℃で５時間反応を行い、重合体粒子を製造した。重合反応終了後、前記粒子を含むスラリーを冷却し、スラリーの１０倍量の水で洗浄し、ろ過した後、６．６７×１０-1ｋＰａの圧力下、４０℃で４８時間乾燥し、分級によって粒子径をそれぞれ調整された重合体粒子を得た。
【０１０１】
上記粒子径を調整されたそれぞれの重合粒子１００質量部に対して、流動性向上剤として、シリコーンオイルで処理され、トナーと同極性（負極性）に帯電する疎水性シリカ微粉体（１次粒子径：１０ｎｍ、ＢＥＴ比表面積：１７０ｍ2／ｇ）１．５質量部を、ヘンシェルミキサー（三井三池社製）で５分間混合して体積平均粒子径および円形度が異なるトナーを得た。得られたそれらのトナーの、体積平均粒径および平均円形度を、前記した方法により測定した。これらの測定結果を表２に示す。
【０１０２】
【表２】
【０１０３】
続いて、以下に現像ローラ１〜５２の製造方法を示す。なお、現像ローラ４０〜５２は、本発明の現像方法に用いる現像ローラの条件を満たしていない。
【０１０４】
［現像ローラ１の作製］
［弾性層の作製］
飽和炭化水素化合物（商品名：ルーカントＨＣ−２０００三井化学社製、Ｍｎ：３４００）５８質量部にアミノ酸誘導体Ａ０．５８質量部を加熱混練し、溶解させ冷却した。これにＥＰＤＭとしてエスプレン５０５（商品名、住友化学工業株式会社製）１００質量部、ステアリン酸亜鉛２質量部、ＭＴカーボンブラックのサーマックスフローフォームＮ９９０（商品名、ＣＡＮＣＡＢ社製）３０質量部を加えた。その後これらの材料をニーダーにて混練した。然る後、そこに硫黄１質量部、メルカプトベンゾチアゾール（ＭＢＴ）１質量部をオープンロールにて混合し、弾性層のゴム組成物を得た。
次にクロスヘッドを備えたベント式ゴム押出機（直径５０ｍｍベント押出機 Ｌ／Ｄ＝１６ ＥＭ技研社製）を用いて、ＳＵＳ（ステンレス鋼）製の直径６．０ｍｍで長さ２５２．０ｍｍの導電性軸芯体の同軸状にゴム組成物を押出した。導電性軸芯体端部の余分なゴムを切り離し、導電性軸芯体上のゴム組成物の長さを２４２．０ｍｍにした後、熱風乾燥炉中１６０℃で１時間架橋させた。この架橋後のローラの両端部のゴムを切り離し、ゴム部分の長さを２３２ｍｍとした後、ゴム部分をＧＣ８０の砥石を使用して回転研磨機にて研磨加工し、直径１２ｍｍの弾性体層（弾性体層の厚み：３ｍｍ）を有するローラを得た。
【０１０５】
［被覆層の作製］
ポリオール（商品名：ニッポラン５０３３、日本ポリウレタン社製）と、イソシアネート（商品名：コロネートＬ、日本ポリウレタン社製）とを合わせて固形分として１００質量部とした。その比率は、［ＮＣＯ］／［ＯＨ］のモル比の値が１．２となるようにした。さらに、そこに、カーボンブラック（商品名：ＭＡ１００、三菱化学社製）を３０質量部添加し、原料混合液を作製した。
この原料混合液に有機溶剤を加え、被覆層の膜厚が２０μｍとなるように固形分２０質量％以上３０質量％以下の範囲で調整した。その後、これに、ウレタン樹脂粒子（商品名：ＣＦＢ−１０１−４０、大日本インキ化学工業社製）を５質量部加え、分散させて被覆層の原料液とした。この樹脂原料液中に、得られた現像ローラを浸漬してコーティングした後乾燥させ、熱風乾燥炉中で１６０℃にて２０分間加熱処理することで、厚さ２０μｍの被覆層を弾性層の外周に設けた現像ローラ１を作製した。
【０１０６】
［現像ローラ２の作製］
現像ローラ１の作製で用いた飽和炭化水素化合物を、モレスコホワイトＰ−７０（商品名、松村石油研究所製、Ｍｎ：３００）に変え、その添加量を２３．５質量部とした。また、アミノ酸誘導体Ａの添加量を０．１４１質量部に変更した。その他は現像ローラ１と同様の方法にて現像ローラ２を作製した。
【０１０７】
［現像ローラ３の作製］
現像ローラ１の作製で用いた飽和炭化水素化合物を上記モレスコホワイトＰ−７０に置き換え、その添加量を１３３量部とし、さらにアミノ酸誘導体Ａの添加量を０．７９８質量に変更した。それ以外は現像ローラ１と同様の方法にて現像ローラ３を作製した。
【０１０８】
［現像ローラ４の作製］
現像ローラ２の作製で用いたモレスコホワイトＰ−７０の添加量を２４質量部に変更し、アミノ酸誘導体Ａの添加量を２．４質量部に変更した。それ以外は現像ローラ２と同様の方法にて現像ローラ４を作製した。
【０１０９】
［現像ローラ５の作製］
現像ローラ１の作製で用いた飽和炭化水素化合物をモレスコホワイトＰ−７０（商品名、松村石油研究所製）に置き換え、その添加量を１５０質量部とした。また、アミノ酸誘導体Ａの添加量を１５．０質量部に変更した。それ以外は現像ローラ１と同様の方法にて現像ローラ５を作製した。
【０１１０】
［現像ローラ６の作製］
クラプレンＬＩＲ―５０（商品名、クラレ社製）をシクロヘキサン溶媒中でパラジウム−炭素を触媒として２ＭＰａの水素雰囲気下で水素添加を行い、飽和炭化水素化合物としてＬＩＲ−５０水添物（Ｍｎ：３００００）を得た。現像ローラ１の作製で用いた飽和炭化水素化合物をルーカントＨＣ−２０００からこのＬＩＲ−５０水添物に置き換え、その添加量を２３．５質量部とし、さらにアミノ酸誘導体Ａの添加量を０．１４１質量部に変更した。それ以外は現像ローラ１と同様の方法にて現像ローラ６を作製した。現像ローラ６の処方を表３に示す。
【０１１１】
［現像ローラ７の作製］
現像ローラ１の作製で用いた飽和炭化水素化合物をＬＩＲ−５０水添物に換え、その添加量を１３３質量部とし、さらに、アミノ酸誘導体Ａの添加量を０．７９８質量部に変更した。それ以外は現像ローラ１と同様の方法にて現像ローラ７を作製した。
【０１１２】
［現像ローラ８の作製］
現像ローラ１の作製で用いた飽和炭化水素化合物をＬＩＲ−５０水添物に換え、その添加量を２４質量部とし、さらにアミノ酸誘導体Ａの添加量を２．４質量部に変更した。それ以外は現像ローラ１と同様の方法にて現像ローラ８を作製した。
【０１１３】
［現像ローラ９の作製］
現像ローラ５の作製で用いた飽和炭化水素化合物をＬＩＲ−５０水添物に換え、その添加量を１５０質量部とし、さらにアミノ酸誘導体Ａの添加量を１５質量部に変更した。それ以外は現像ローラ５と同様の方法にて現像ローラ９を作製した。
【０１１４】
［現像ローラ１０の作製］
現像ローラ２の作製で用いた飽和炭化水素化合物をルーカントＨＣ−４０（商品名、三井化学社製、Ｍｎ：１０００）に換え、その添加量を２３．５質量部とした。さらに、アミノ酸誘導体の添加量を０．１４１質量部に変更した。それ以外は現像ローラ２と同様の方法にて現像ローラ１０を作製した。現像ローラ１０の処方を表３に示す。
【０１１５】
［現像ローラ１１の作製］
現像ローラ３の作製で用いた飽和炭化水素化合物をルーカントＨＣ−４０に換え、その添加量を１３３質量部とし、アミノ酸誘導体Ａの添加量を０．７９８質量部に変更した。それ以外は現像ローラ３と同様の方法にて現像ローラ１１を作製した。現像ローラ１１の処方を表３に示す。
【０１１６】
［現像ローラ１２の作製］
現像ローラ４の作製で用いた飽和炭化水素化合物をルーカントＨＣ−４０に換え、その添加量を２３．５質量部とし、アミノ酸誘導体Ａの添加量を２．３５質量部に変更した。それ以外は現像ローラ４と同様の方法にて現像ローラ１２を作製した。
【０１１７】
［現像ローラ１３の作製］
現像ローラ５の作製で用いた飽和炭化水素化合物をルーカントＨＣ−４０に換え、その飽和炭化水素化合物の添加量を１５０質量部とし、アミノ酸誘導体Ａの添加量を１５質量部に変更した。それ以外は現像ローラ５と同様の方法にて現像ローラ１３を作製した。現像ローラ１３の処方を表３に示す。
【０１１８】
［現像ローラ１４の作製］
現像ローラ１の作製で用いたＥＰＤＭを、ＢＲ（商品名：ＢＲ−１５０、宇部興産社製）に換えた以外は現像ローラ１と同様の方法にて現像ローラ１４を作製した。
【０１１９】
［現像ローラ１５の作製］
現像ローラ１の作製で用いたＥＰＤＭを、ＳＢＲ（商品名：ニポールＮＳ１１６Ｒ；結合スチレン量２１％、日本ゼオン社製）に換えた以外は現像ローラ１と同様にして現像ローラ１５を作製した。
【０１２０】
［現像ローラ１６の作製］
現像ローラ１の作製で用いたＥＰＤＭを、イソプレンゴム（商品名：ニポールＩＲ２２００、日本ゼオン社製）に換えた以外は現像ローラ１と同様にして現像ローラ１６を作製した。
【０１２１】
［現像ローラ１７の作製］
現像ローラ１の作製で用いたＥＰＤＭを、ブチルゴム（商品名：ブチル０６５、日本ブチル社製）に換えた以外は現像ローラ１と同様の方法にて現像ローラ１７を作製した。
【０１２２】
［現像ローラ１８の作製］
現像ローラ１の作製で用いたアミノ酸誘導体Ａをアミノ酸誘導体Ｂに変更した以外は現像ローラ１と同様の方法にて現像ローラ１８を作製した。
【０１２３】
［現像ローラ１９、２７の作製］
現像ローラ２の作製で用いたアミノ酸誘導体Ａをアミノ酸誘導体Ｂまたはアミノ酸誘導体Ｉに変更した以外は現像ローラ２と同様の方法にて現像ローラ１９、２７を作製した。
【０１２４】
［現像ローラ２０、２８の作製］
現像ローラ３の作製で用いたアミノ酸誘導体Ａをアミノ酸誘導体Ｂまたはアミノ酸誘導体Ｊに変更した以外は現像ローラ３と同様の方法にて現像ローラ２０、２８を作製した。
【０１２５】
［現像ローラ２１、２９の作製］
現像ローラ４の作製で用いたアミノ酸誘導体Ａをアミノ酸誘導体Ｃまたはアミノ酸誘導体Ｋに変更した以外は現像ローラ４と同様の方法にて現像ローラ２１、２９を作製した。
【０１２６】
［現像ローラ２２、３０の作製］
現像ローラ５の作製で用いたアミノ酸誘導体Ａをアミノ酸誘導体Ｄまたはアミノ酸誘導体Ｌに変更した以外は現像ローラ５と同様の方法にて現像ローラ２２、３０を作製した。
【０１２７】
［現像ローラ２３、３１の作製］
現像ローラ６の作製で用いたアミノ酸誘導体Ａをアミノ酸誘導体Ｅまたはアミノ酸誘導体Ｍに変更した以外は現像ローラ６と同様の方法にて現像ローラ２３、３１を作製した。
【０１２８】
［現像ローラ２４、３２の作製］
現像ローラ７の作製で用いたアミノ酸誘導体Ａをアミノ酸誘導体Ｆまたはアミノ酸誘導体Ｎに変更した以外は現像ローラ７と同様の方法にて現像ローラ２４、３２を作製した。
【０１２９】
［現像ローラ２５の作製］
現像ローラ８の作製で用いたアミノ酸誘導体Ａをアミノ酸誘導体Ｇに変更した以外は現像ローラ８と同様の方法にて現像ローラ２５を作製した。
【０１３０】
［現像ローラ２６の作製］
現像ローラ９の作製で用いたアミノ酸誘導体Ａをアミノ酸誘導体Ｈに変更した以外は現像ローラ９と同様の方法にて現像ローラ２６を作製した。
【０１３１】
［現像ローラ３３の作製］
現像ローラ１のアミノ酸誘導体ＡをルーカントＨＣ−２０００（商品名、三井化学社製）に溶解させずに、他の材料と同時にニーダーにて加熱混練し、弾性層の未架橋ゴム組成物を得た。それ以外は現像ローラ１と同様の方法にて現像ローラ３３を作製した。
【０１３２】
［現像ローラ３４の作製］
現像ローラ３の被覆層を、以下に示す、構造中にケイ素原子と炭素原子との化学結合（Ｓｉ−Ｃ結合）を含む酸化ケイ素膜に変更した。それ以外は、現像ローラ３と同様の方法にて現像ローラ３４を作製した。
【０１３３】
［酸化ケイ素膜の作製］
被覆層形成前の現像ローラを図４に示したプラズマＣＶＤ装置内に設置した。その後、真空ポンプ２８を用いて真空チャンバ２４内を１Ｐａまで減圧にした。その後、原料ガスとしてヘキサメチルジシロキサン蒸気１．０ｓｃｃｍ（０℃、１０１．３ｋＰａでのｍｌ／ｍｉｎ）、酸素１．５ｓｃｃｍ（０℃、１０１．３ｋＰａでのｍｌ／ｍｉｎ）及びアルゴンガス２２．５ｓｃｃｍ（０℃、１０１．３ｋＰａでのｍｌ／ｍｉｎ）の混合ガスを真空チャンバ２４内に導入した。その時真空チャンバ内の圧力は２５．３Ｐａとした。圧力が一定になった後、高周波供給手段２９より、周波数１３．５６ＭＨｚ、１２０Ｗの電力を平板電極２５に供給し、電極間にプラズマを発生させた。真空チャンバ内に設置した被覆層形成前の現像ローラをモータ３０により２４ｒｐｍで回転させて、３分間処理した。処理終了後電力供給を停止し、真空チャンバ内に残留している原料ガスを排気し、空気を真空チャンバ内に大気圧になるまで導入した。その後、表面層が形成された現像ローラを取り出した。なお２６は原料ガスボンベ及び原料液体タンク、２７は原料供給手段である。なお、酸化ケイ素膜の厚みは、０．９μｍであった。
【０１３４】
Ｘ線光電子分光装置で、得られた現像ローラ３４の表面の存在比Ｏ／Ｓｉ及び存在比Ｃ／Ｓｉを求めたところ、それぞれ１．５４、０．３５であった。
【０１３５】
［現像ローラ３５の作製］
現像ローラ３４の弾性層を現像ローラ５の弾性層に変更した。次に酸化ケイ素膜の形成において条件を以下のように変更した。原料ガス組成を１、１、３、３−テトラメチルジシロキサン蒸気１．０ｓｃｃｍ（０℃、１０１．３ｋＰａでのｍｌ／ｍｉｎ）、酸素２．５ｓｃｃｍ（０℃、１０１．３ｋＰａでのｍｌ／ｍｉｎ）及びアルゴンガス２２．５ｓｃｃｍ（０℃、１０１．３ｋＰａでのｍｌ／ｍｉｎ）に変更した。さらにチャンバ内圧力を５０．６Ｐａ、及び高周波電源を１３．５６ＭＨｚ、２００Ｗに変え、プラズマＣＶＤ処理の時間を１分間に変更した。それ以外は現像ローラ３４と同様にして現像ローラ３５を作製した。Ｘ線光電子分光装置で、得られた現像ローラ３５表面の存在比Ｏ／Ｓｉ及び存在比Ｃ／Ｓｉを求めたところ、それぞれ１．９５、０．０５であった。
【０１３６】
［現像ローラ３６の作製］
現像ローラ３４の弾性層を現像ローラ８の弾性層に変更した。次に酸化ケイ素膜の形成において条件を以下のように変更した。原料ガス組成としてヘキサメチルジシロキサン蒸気２０ｓｃｃｍ（０℃、１０１．３ｋＰａでのｍｌ／ｍｉｎ）を真空チャンバ内に導入し、真空チャンバ内の圧力を６Ｐａに変更した。さらに高周波電源により１５０Ｗの電力を平行平板電極に供給し、５分間処理した。それ以外は現像ローラ３４と同様にして現像ローラ３６を作製した。Ｘ線光電子分光装置で、得られた現像ローラ３６表面の存在比Ｏ／Ｓｉ及び存在比Ｃ／Ｓｉを求めたところ、それぞれ０．６５、１．６５であった。
【０１３７】
［現像ローラ３７の作製］
現像ローラ３６の弾性層を現像ローラ９の弾性層に変更した。次に酸化ケイ素膜の形成において条件を以下のように変更した。原料ガスとしてヘキサメチルジシロキサン蒸気１０ｓｃｃｍ（０℃、１０１．３ｋＰａでのｍｌ／ｍｉｎ）及びトルエン蒸気１０ｓｃｃｍ（０℃、１０１．３ｋＰａでのｍｌ／ｍｉｎ）の混合ガスを真空チャンバ内に導入し、真空チャンバ内の圧力を６Ｐａに変更した。それ以外は現像ローラ３６と同様にして現像ローラ３７を作製した。Ｘ線光電子分光装置で、得られた現像ローラ３７表面の存在比Ｏ／Ｓｉ及び存在比Ｃ／Ｓｉを求めたところ、それぞれ１．９５、０．６５であった。
【０１３８】
［現像ローラ３８の作製］
現像ローラ３７の弾性層を現像ローラ１９の弾性層に変更した。次に酸化ケイ素膜の形成において条件を以下のように変更した。原料ガスとしてヘキサメチルシロキサン蒸気３ｓｃｃｍ（０℃、１０１．３ｋＰａでのｍｌ／ｍｉｎ）を真空チャンバ内に導入し、真空チャンバ内の圧力を２Ｐａに変更した。さらに高周波電源により２００Ｗの電力を平行平板電極に供給した。それ以外は現像ローラ３７と同様にして現像ローラ３８を作製した。Ｘ線光電子分光装置で、得られた現像ローラ３８表面の存在比Ｏ／Ｓｉ及び存在比Ｃ／Ｓｉを求めたところ、それぞれ０．６５、０．０５であった。
【０１３９】
［現像ローラ３９の作製］
現像ローラ３８の弾性層を現像ローラ２１の弾性層に変更した。次に酸化ケイ素膜の形成において条件を以下のように変更した。原料ガスとしてヘキサメチルジシロキサン蒸気１０ｓｃｃｍ（０℃、１０１．３ｋＰａでのｍｌ／ｍｉｎ）及びトルエン蒸気２０ｓｃｃｍ（０℃、１０１．３ｋＰａでのｍｌ／ｍｉｎ）の混合ガスを真空チャンバ内に導入し、真空チャンバ内圧力を８Ｐａに変更した。さらに高周波電源により３０Ｗの電力を平行平板電極に供給した。それ以外は現像ローラ３８と同様にして現像ローラ３９を作製した。Ｘ線光電子分光装置で、得られた現像ローラ３９表面の存在比Ｏ／Ｓｉ及び存在比Ｃ／Ｓｉを求めたところ、それぞれ１．９０、１．６５であった。
【０１４０】
［現像ローラ４０の作製］
現像ローラ１の作製で用いた飽和炭化水素化合物であるルーカントＨＣ−２０００をモレスコＰ−４０（商品名、松村石油研究所製、Ｍｎ：２５０）に置き換えた。それ以外は現像ローラ１と同様の方法にて現像ローラ４０を作製した。
【０１４１】
［現像ローラ４１の作製］
現像ローラ１の作製で用いた飽和炭化水素化合物であるルーカントＨＣ−２０００をクラプレンＬＩＲ−２００（商品名、クラレ社製、Ｍｎ：３２０００）に置き換えた。それ以外は現像ローラ１と同様の方法にて現像ローラ４１を作製した。
【０１４２】
［現像ローラ４２の作製］
現像ローラ１の作製で用いた飽和炭化水素化合物であるルーカントＨＣ−２０００の添加量を１５質量部に変更し、アミノ酸誘導体Ａの添加量は０．１５質量部に変更した。それ以外は現像ローラ１と同様の方法にて現像ローラ４２を作製した。なお、弾性層中の飽和炭化水素化合物の含有量は、１０質量％であった。
【０１４３】
［現像ローラ４３の作製］
現像ローラ１の作製で用いた飽和炭化水素化合物であるルーカントＨＣ−２０００の添加量を２０３質量部に変更し、アミノ酸誘導体Ａの添加量は２．０３質量部に変更した。それ以外は現像ローラ１と同様の方法にて現像ローラ４３を作製した。なお、弾性層中の飽和炭化水素化合物の含有量は、６０質量％であった。
【０１４４】
［現像ローラ４４の作製］
現像ローラ１の作製で用いたアミノ酸誘導体Ａの添加量を０．０５８質量部に変更した。それ以外は現像ローラ１と同様の方法にて現像ローラ４４を作製した。現像ローラ４４の処方を表３に示す。なお、弾性層中の飽和炭化水素化合物１００質量部に対する、アミノ酸誘導体の含有量は、０．１質量部であった。
【０１４５】
［現像ローラ４５の作製］
現像ローラ１の作製で用いたアミノ酸誘導体Ａの添加量を、６．９６質量部に変更した。それ以外は現像ローラ１と同様の方法にて現像ローラ４５を作製した。なお、弾性層中の飽和炭化水素化合物１００質量部に対する、アミノ酸誘導体の含有量は、１２質量部であった。
【０１４６】
［現像ローラ４６の作製］
現像ローラ１の作製で用いたアミノ酸誘導体Ａを添加せず、その他のアミノ酸誘導体Ａも添加しなかった。それ以外は現像ローラ１と同様の方法にて現像ローラ４６を作製した。
【０１４７】
［現像ローラ４７〜５１の作製］
現像ローラ１の作製で用いたアミノ酸誘導体Ａをアミノ酸誘導体Ｏ、Ｐ、Ｑ、ＲまたはＳに変更した以外は現像ローラ１と同様の方法にて現像ローラ４７〜５１を作製した。
【０１４８】
［現像ローラ５２の作製］
現像ローラ１の作製で用いた飽和炭化水素化合物であるルーカントＨＣ−２０００をナフテンオイルであるダイアナプロセスオイルＮＭ３００（商品名、出光興産社製）に変更した。それ以外は現像ローラ１と同様の方法にて現像ローラ５２を作製した。
以上作製した現像ローラ１から５２の処方を表３に示す。
【０１４９】
【表３】
【０１５０】
以上により得られた現像ローラとトナーとを、表４〜６に示す実施例１〜３９、および表７に示す比較例１〜１５に記載した組み合わせで用いて、各例の画像濃度、カブリ、現像スジおよび解像度の評価をそれぞれ行った。
【０１５１】
［画像濃度変化］
得られたトナー及び現像ローラをカラーレーザープリンターＬＢＰ５４００（商品名、キヤノン社製）用の電子写真プロセスカートリッジへ組み込みこんだ。そしてこの電子写真プロセスカートリッジをＬＢＰ５４００本体に取り付け、高温高湿環境下（３０℃、８０％ＲＨ（相対湿度））に１日放置した。１日放置後、この高温高湿環境にて印字率１％濃度の画像を５００枚出力した後、印字率１００％濃度のベタ画像を出力した。その後、マシンごと常温常湿（２３℃、６０％ＲＨ）環境下に１日放置した。更にマシンごと低温低湿環境（１５℃、１０％ＲＨ）下で１日放置した。１日放置後、この低温低湿環境にて印字率１％濃度の画像を５００枚出力した後、印字率１００％濃度のベタ画像を出力した。各環境で出力したベタ画像について、マクベス株式会社製のマクベス濃度計「マクベスカラーチェッカー ＲＤ−１２５５」（商品名）にて濃度測定した。各環境での濃度差（低温低湿環境でのベタ画像濃度−高温高湿環境でのベタ画像濃度）を以下の基準で評価した。それぞれの結果を表４〜７に示す。
Ａ：０．０２未満、
Ｂ：０．０２以上０．０５未満、
Ｃ：０．０５以上０．０８未満、
Ｄ：０．０８以上。
【０１５２】
［カブリ］
得られたトナー及び現像ローラをカラーレーザープリンターＬＢＰ５４００（商品名、キヤノン社製）用の電子写真プロセスカートリッジへ組み込みこんだ。そしてこの電子写真プロセスカートリッジをＬＢＰ５４００本体に取り付け、高温高湿環境下（３０℃、８０％ＲＨ）に１日放置した。１日放置後、高温高湿環境にて印字率１％濃度の画像を４０００枚出力した後、白ベタ画像を出力し、その出力中にプリンターを停止した。停止後感光ドラム上に付着したトナーを粘着テープで剥がし取り、粘着テープの粘着面の反射率を測定した。粘着テープのみの反射率とトナーが付着した粘着テープの反射率より、カブリを評価した。なお、反射率の測定には、反射濃度計（商品名：ＴＣ−６ＤＳ／Ａ、東京電色社製）を用いた。それぞれの結果を表４〜７に示す。
Ａ：反射率の低下が２％未満、
Ｂ：反射率の低下が２％以上４％未満、
Ｃ：反射率の低下が４％以上６％未満、
Ｄ：反射率の低下が６％以上。
【０１５３】
［現像スジ］
得られたトナー及び現像ローラをカラーレーザープリンターＬＢＰ５４００（商品名、キヤノン社製）用の電子写真プロセスカートリッジへ組み込みこんだ。そしてこの電子写真プロセスカートリッジをＬＢＰ５４００本体に取り付け、低温低湿環境（１５℃、１０％ＲＨ）環境下で１日放置した。１日放置後、低温低湿環境にて印字率１％濃度の画像を４０００枚出力した後、ベタ画像を出力した。そのベタ画像を以下の基準で評価した。それぞれの結果を表４〜７に示す。
Ａ：現像スジの発生が認められない。
Ｂ：極軽微な現像スジの発生が認められる。
Ｃ：画像に影響を及ぼす現像スジの発生が認められる。
Ｄ：画像に大きな影響を及ぼす現像スジの発生が認められる。
【０１５４】
［解像度］
得られたトナー及び現像ローラをカラーレーザープリンターＬＢＰ５４００（商品名、キヤノン社製）用の電子写真プロセスカートリッジへ組み込みこんだ。そしてこの電子写真プロセスカートリッジをＬＢＰ５４００本体に取り付け、６００ｄｐｉにおける小径孤立１ドットの再現性によって評価した。
Ａ：１００個中の欠損が５個以下、
Ｂ：１００個中の欠損が６個以上１０未満、
Ｃ：１００個中の欠損が１０個以上２０未満、
Ｄ：１００個中の欠損が２０個以上。
【０１５５】
【表４】
【０１５６】
【表５】
【０１５７】
【表６】
【０１５８】
【表７】
【０１５９】
以上説明したように、本発明によれば小粒径トナーを用いた非磁性一成分接触現像において、使用温度による画像濃度変化が少なく、現像スジやカブリが良好で高精細な現像方法及び現像ローラの製造方法を提供することが可能となる。
【符号の説明】
【０１６０】
１ ・・・導電性軸芯体
２ ・・・弾性層
３ ・・・被覆層
４ ・・・感光ドラム
５ ・・・現像ローラ
６ ・・・トナー塗布部材
７ ・・・トナー
８ ・・・トナー規制ブレード
９ ・・・現像装置
１０ ・・・レーザー光
１１ ・・・帯電ローラ
１２ ・・・廃トナー容器
１３ ・・・クリーニングブレード
１４ ・・・定着装置
１５ ・・・駆動ローラ
１６ ・・・転写ローラ
１７ ・・・バイアス電源
１８ ・・・テンションローラ
１９ ・・・転写搬送ベルト
２０ ・・・従動ローラ
２１ ・・・紙
２２ ・・・給紙ローラ
２３ ・・・吸着ローラ
２４ ・・・真空チャンバ
２５ ・・・平板電極
２６ ・・・原料ガスボンベ及び原料液体タンク
２７ ・・・原料供給手段
２８ ・・・真空ポンプ
２９ ・・・高周波供給手段
３０ ・・・モータ
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真装置に用いられる現像方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
複写機やレーザープリンターなどの電子写真方式を用いた画像形成装置に使用される現像方法として、非磁性一成分接触現像方法が知られている。
【０００３】
非磁性一成分接触現像とは、非磁性一成分トナーを現像ローラ上にトナー規制ブレード等で均一にコーティングし、現像ローラと感光ドラムとが接触した状態で電圧を印加してトナーを感光ドラム上の静電潜像に転移させて現像を行う方法である。
【０００４】
上記非磁性一成分トナーを用いる画像形成装置において、現像ローラは、トナーへのストレスを軽減するためと、感光ドラムやトナー規制ブレードとの安定した当接幅を確保するために適度な柔軟性が求められる。また現像ローラに求められる特性として、使用環境差による画像濃度変化の低減が要求される。
【０００５】
特許文献１には、現像ローラを柔軟にする手法として、弾性体を発泡ゴムで構成する方法が開示され、特許文献２には可塑剤を多量に配合する方法が開示されている。
【０００６】
一方、特許文献３には、使用環境の温度の変動に起因する画像濃度の変化の低減について、現像ローラ表面層の比誘電率を規定することで使用温度差による画像濃度変化の低減する提案がされている。一方、近年、トナーの小粒径化が進んでいる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００１−１３４０７１号公報
【特許文献２】特開２００７−２４０７４２号公報
【特許文献３】特開２０００−２９３０３２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、小粒径のトナーは、その流動性が低いため、現像ローラ表面上に長時間存在することで、繰り返し摺擦をうけ、劣化しやすいことがある。また、低温低湿環境や高温高湿環境といった使用温度差により画像濃度の変化が大きくなる場合がある。
【０００９】
このような背景から、小粒径のトナーと組み合わせる現像ローラに対しては、トナーへのストレスを低減するために、より低硬度な表面を有することが求められている。
【００１０】
そこで本発明の目的は、小粒径トナーを用いた非磁性一成分接触現像において、良好な電子写真画像の形成を行うことできる現像方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本出願によれば、現像ローラに担持させたトナーで感光ドラムの表面に形成された静電潜像を現像する工程を有し、
該現像ローラは、導電性軸芯体と、該導電性軸芯体の外周面上に弾性層と、該弾性層の外周面上に被覆層とを含み、
該弾性層は、数平均分子量Ｍｎが３００以上３００００以下である直鎖状または分岐鎖状の飽和炭化水素化合物を１５質量％以上５０質量％以下と、式１で表されるアミノ酸誘導体を該飽和炭化水素化合物１００質量部に対し０．６質量部以上１０質量部以下と、ゴムと、を含有し、
該トナーは、その体積平均粒径が、５．０μｍ以上６．５μｍ以下である現像方法が提供される。
【００１２】
【化１】
【００１３】
Ｒ1およびＲ2は、各々独立に炭素数３以上１０以下の直鎖または分岐鎖のアルキル基を表し、Ｒ3は、炭素数７以上２０以下の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を表す。ｎは１または２を表す。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、小粒径トナーを用いた場合であっても、現像スジやカブリが抑制された高精細な電子写真画像を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】現像ローラの一例を説明するための図である
【図２】本発明を適用可能な電子写真画像形成装置の一例を説明するための図である。
【図３】本発明を適用可能な電子写真プロセスカートリッジの一例を説明するための図である。
【図４】本発明を適用可能なプラズマＣＶＤ装置の一例を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
本発明者らは、小粒径トナーを用いた非磁性一成分接触現像において、使用温度による画像濃度変化が少なく、現像スジやカブリが良好で高精細な画像が得られる現像方法及び現像ローラの製造方法を提供することに関し鋭意検討を行った。その結果、特定のアミノ酸誘導体を用いることにより現像ローラの弾性層中に含まれる飽和炭化水素化合物の粘度の温度依存性を抑制することで、課題を解決できることを見出し本発明に至った。
すなわち、本発明に係る第一の発明によれば、小粒径トナーを用いた非磁性一成分接触現像において、使用温度による画像濃度変化が少なく、現像スジやカブリが良好な現像方法を提供することが可能となる。
【００１７】
＜現像方法＞
本発明の現像方法は、少なくとも現像ローラとトナー供給ローラと感光ドラムとを用いる。また、本発明の現像方法は、感光ドラム表面に直接またはトナーを介して、現像ローラを接触させ、現像ローラが担持するトナーによって感光ドラム表面上の静電潜像を現像する。以下にこの現像方法に用いる現像ローラおよびトナーについて説明する。
【００１８】
＜現像ローラ＞
本発明の現像方法に用いられる現像ローラは、図１に示すように導電性軸芯体１と、導電性軸芯体１の外周面上に弾性層２と、弾性層２の外周面上に被覆層３とを含む構成となっている。また、現像ローラは、プライマー処理層およびＵＶやコロナ処理等による表面改質を施した層を含むことができる。
【００１９】
（導電性軸芯体）
現像ローラの導電性軸芯体としては、従来から画像形成装置の現像ローラに用いられているものが使用可能であり、その材料は、十分な強度を有し、かつ導電性を有するものを用いることができる。導電性軸芯体を作製する材料としては、例えば、銅、アルミニウム、チタン、ニッケル、鉄などの金属や、複数の金属からなる合金鋼、炭素繊維をプラスチックで固めた複合材料等の剛直で導電性を示す材料が挙げられる。合金鋼としては、ステンレス鋼、ニッケルクロム鋼、ニッケルクロムモリブテン鋼、クロム鋼、クロムモリブテン鋼、Ａｌ、Ｃｒ、Ｍｏ及びＶを添加した窒化用鋼が挙げられる。その中でも特に強度の観点から、合金製のものが好ましい。更に防錆対策として軸芯体材料にめっきを施すことができる。導電性軸芯体の形状としては棒状体またはパイプ状体のものが使用できる。また、弾性層との密着性を向上させる目的で、必要に応じて、導電性軸芯体の表面にプライマー処理層を形成してもよい。導電性軸芯体の外径は通常直径４ｍｍ以上直径２０ｍｍ以下の範囲が好ましい。
【００２０】
（弾性層）
前記弾性層は、後述する飽和炭化水素化合物と、式１で表されるアミノ酸誘導体と、ゴムとを含有する。以下にこれらの材料について説明する。
【００２１】
＜ゴム＞
現像ローラを構成する弾性層２に用いられるゴムとしては、以下のものが挙げられる。エチレン‐プロピレンゴム（ＥＰＭ）、エチレン‐プロピレン‐ジエンゴム（ＥＰＤＭ）、ブタジエンゴム（ＢＲ）、イソプレンゴム（ＩＲ）、スチレン‐ブタジエンゴム（ＳＢＲ）、ブチルゴム（ＩＩＲ）。
これらのゴムの中でも、飽和炭化水素化合物との親和性からＥＰＤＭやＥＰＭ、ＢＲ、ＩＲが好適である。その中でも特にＥＰＭ及びＥＰＤＭは主鎖が飽和炭化水素であるため、前記飽和炭化水素化合物との相溶性が優れ、軟化効果が特に大きく、また良好な耐オゾン性を容易に得ることができるため特に好ましい。なお、異なるゴムを２種以上混合して用いても良い。
【００２２】
本発明に使用されるＥＰＤＭは、工業的に実用されているものなら使用可能で、特に制限されるものではない。例えば、ＥＰＤＭの第三成分であるジエンモノマーとして、エチリデンノルボルネン、ヘキサジエン、オクタジエンが用いられているポリマーを使用することができる。なかでも、エチリデンノルボルネンを第三成分とするＥＰＤＭが、架橋速度が特に速く、しかも物性のバランスが非常に良い点において好適に用いられる。また、本発明におけるＥＰＤＭのジエン量（質量％）は、飽和炭化水素化合物の分散性及び弾性層の弾性の観点から、３質量％以上２０質量％以下のものが適している。なお、ジエン量の異なる２種以上のＥＰＤＭを混合して用いてもよい。
【００２３】
また、本発明に用いるＥＰＤＭは、加工性を向上させる目的で油展したもの、非油展のいずれをも用いることができる。ここでいう油展とは、飽和炭化水素化合物が添加されていることを意味する。油展ＥＰＤＭの場合、ＥＰＤＭの質量とは、油展ＥＰＤＭから飽和炭化水素化合物を除いたゴム分のみの質量を指す。つまり油展ＥＰＤＭ中に含まれる飽和炭化水素化合物の質量は、本発明における飽和炭化水素化合物の質量に含める。また、ＥＰＤＭを目的に合わせて２種以上混合して用いることも可能である。混合したＥＰＤＭに油展ＥＰＤＭが含まれる場合以下のように判断する。すなわち、その油展ＥＰＤＭ中のＥＰＤＭの質量、および飽和炭化水素化合物の質量はそれぞれ、弾性層中のＥＰＤＭの質量、および飽和炭化水素化合物の質量に含める。
【００２４】
工業的に実用されているＥＰＤＭとしては、以下のものが挙げられる。エスプレン ２０１、３０１、３０５、４００、５０１Ａ、５０２、５０５、５０５Ａ、５１２Ｆ、５１４Ｆ、５２２、５２４、５３２、５５２、５５３、５６７、５８２Ｆ、５８６、６００Ｆ、６０１Ｆ、６０６、６７０Ｆ、６７１Ｆ、６７３、５２１４、５７５４、６５０６Ｓ、６１８２Ｆ（全て商品名、住友化学工業株式会社製）、
ＪＳＲ ＥＰ９１２Ｐ、ＥＰ０１Ｐ、ＥＰ０２Ｐ、ＥＰ９４１Ｐ、ＥＰ９６１ＳＰ、ＥＰ０７Ｐ、ＥＰ５７Ｐ、ＥＰ１８１ＳＰ、ＥＰ１１、ＥＰ４３、ＥＰ９３、ＥＰ２４、ＥＰ２７、ＥＰ２１、ＥＰ１３２、ＥＰ２２、ＥＰ２５、ＥＰ３３、ＥＰ３５、ＥＰ３７Ｃ／Ｆ、ＥＰ６５、ＥＰ５１、ＥＰ５７Ｃ／Ｆ、ＥＰ７５Ｆ、ＥＰ８６、ＥＰ９６、ＥＰ９８、ＥＰ１０３ＡＦ、ＥＰ１０６ＥＦ、ＥＰ１０７Ｆ、ＥＰ８０１Ｅ、ＥＰ００１ＤＥ（全て商品名、ＪＳＲ株式会社製）
ＮＯＲＤＥＬ １０４０、１０７０、１１４５、１３２０、１４４０、１４７０、１６６０、２５２２、２７２２／Ｐ、２７４４／Ｐ、２７６０／Ｐ（全て商品名、デュポン社製）、
Ｅｐｓｙｎ ４０−Ａ、７０−Ａ、５５、２３０８、２５０６、４５０６、４９０６、５２０６、５５０８、５８０５、７５０６、Ｅ８０１、Ｎ５５７、Ｎ５９７、Ｎ９９７、Ｐ５５７、Ｐ５５８、Ｐ５９７、ＭＤＥ２３９、ＭＤＥ２４８（全て商品名、コポリマー・ラバー・アンド・ケミカル・コーポレーション社製）、
ＰＯＬＹＳＡＲ ２２７、３０６、３４５、５８５、４８７ＸＰ、８６５、９６５、５４６５、５６７２Ｘ、５８７５、６４６３（全て商品名、ポリサー・ラバー・コーポレーション社製）。
【００２５】
＜飽和炭化水素化合物＞
本発明に用いられる飽和炭化水素化合物は、パラフィンオイルのような直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン構造を持つ化合物、及びそれらを主要成分とするパラフィン系オイルを用いることが好ましい。
これらの飽和炭化水素化合物を用いた場合、環状の飽和炭化水素化合物であるナフテンオイルや芳香環構造を有するアロマティックオイル等に比べ、アミノ酸誘導体添加による粘度の温度依存性を抑制する効果が特に大きく得られやすい。これは飽和炭化水素化合物の分子鎖が長いため、アミノ酸誘導体の繊維状構造体の効果を受けやすいためと考えられる。それゆえ粘度の温度依存性が強く抑制されるため、使用温度差による濃度の変化がより少なくなる。本発明において想定される現像ローラの使用温度は、１５℃以上３０℃以下であり、最大使用温度差は１５℃である。
【００２６】
また直鎖状もしくは分岐鎖状の飽和炭化水素化合物を添加した架橋ゴムは、ナフテンオイルやアロマティックオイルを添加した架橋ゴムに比べ、圧縮永久変形などのゴム物性においても優れる。現像ローラは常にトナー規制ブレードと接触している。ゆえにトナー規制ブレードと長期間同じ位置で接触した場合、現像ローラは圧縮永久変形を起こす傾向がある。圧縮永久変形が生じた後、画像を出力すると、現像ローラピッチで横スジが発生してしまう。小粒径トナーの場合、流動性が低下している場合があるので、現像ローラの圧縮永久変形した部分にトナーを均一に塗布することがより難しくなる。その結果、横スジが従来のトナーに比べ、よりはっきり見えやすくなる。ゆえに圧縮永久変形性の低下が少ない飽和炭化水素化合物を使用することが好ましい。
【００２７】
本発明に用いられる飽和炭化水素化合物の弾性層中における含有量は、１５質量％以上５０質量％以下である。飽和炭化水素化合物の弾性層中における含有量が１５質量％未満では、弾性層を低硬度化する効果が安定して得られず、高硬度現像ローラとなるためローラとして他部材に接触させた際の適切な接触幅を得ることが出来ず画像弊害を引き起こす。５０質量％よりも多い場合には、使用温度による硬度変化を抑えきれない。
【００２８】
本発明に用いる飽和炭化水素化合物の数平均分子量Ｍｎは、３００以上３００００以下である。飽和炭化水素化合物の数平均分子量は３００以上であれば、飽和炭化水素化合物の分子鎖が十分長くなり、アミノ酸誘導体が形成する繊維状構造体による飽和炭化水素化合物の粘度の温度依存性抑制効果が得られる。その結果、使用温度による画像濃度変化を抑制できる。さらに、飽和炭化水素化合物の数平均分子量は、１０００以上であることが好ましい。１０００以上であれば、現像ローラの弾性層の硬度変化に起因する画像濃度変化をより抑制することが可能となる。また数平均分子量が３００００以下の場合、飽和炭化水素化合物がゴム中に入り込み易く、低硬度の現像ローラとなり、ローラとして他部材に接触させた際の適切な接触幅を得ることが出来る。
【００２９】
本発明に用いる飽和炭化水素化合物としては、例えば以下のものを挙げることができる。
・エチレンとα−オレフィンとのコオリゴマー（商品名：ルーカントＨＣ−４０、１００、６００、２０００、三井化学社製）、
・流動パラフィン（商品名：モレスコホワイトＰ−４０、５５、６０、７０、８０、１００、１２０、１５０、２００、２６０、３００、３５０Ｐ、松村石油研究所製）、
・水素添加イソプレン系液状ゴム（商品名：クラプレンＬＩＲ−２００、クラレ社製）、
・水素添加型ＰＢ樹脂（商品名：ＮＩＳＳＯ−ＰＢＢＩ−２０００、３０００、日本曹達社製）、
・パラフィン系オイル（商品名：ダフニーオイルＫＰ−６８、１００、ダプロセスオイルＰＷ−３２、９０、１５０、３８０、出光興産社製）。
【００３０】
＜アミノ酸誘導体＞
本発明に用いられるアミノ酸誘導体を式１に示す。
【００３１】
【化２】
【００３２】
なお、式１中のＲ1およびＲ2は、各々独立に炭素数３以上１０以下の直鎖または分岐鎖のアルキル基を表す。アミノ酸誘導体は、その構造中に含まれるアミド基が分子間で水素結合することにより自己集合すると考えられる。Ｒ1およびＲ2の炭素数が３以上１０以下であればアルキル鎖の立体障害が少ないため、分子間でのアミド基同士の水素結合が阻害されづらい。それゆえアミノ酸誘導体が自己集合しやすくなり可逆的な繊維構造を形成しやすくなり、飽和炭化水素化合物の粘度の温度依存性を抑制する効果が良好となる。
【００３３】
また、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立に炭素数３以上５以下の直鎖または分岐鎖のアルキル基を表すことが好ましい。Ｒ1およびＲ2の炭素数が３以上５以下の範囲であれば、アルキル鎖の立体障害がより少なくなると同時に、良好な溶解性や分散性を容易に得ることができるため、アミノ酸誘導体がさらに自己集合しやすく、容易に可逆的な繊維構造を形成することができる。その結果、飽和炭化水素化合物の粘度の温度依存性を抑制する効果を容易に得ることができ、低硬度を維持したまま粘度の温度依存性抑制効果が優れる。
【００３４】
式１中のＲ3は、炭素数７以上２０以下の直鎖または分岐鎖のアルキル基を表す。アミノ酸誘導体は、可逆的な繊維構造全体で飽和炭化水素化合物の粘度の温度依存性を抑制すると同時に、Ｒ3のアルキル鎖と飽和炭化水素化合物間で働くファンデルワールス力でも飽和炭化水素化合物の粘度の温度依存性を抑制していると考えられる。Ｒ3の炭素数が７以上２０以下であれば、Ｒ3のアルキル鎖と飽和炭化水素化合物との間にファンデルワールス力が得られ、飽和炭化水素化合物の粘度の温度依存性を抑制が良好になる。
【００３５】
また、Ｒ3は、炭素数７以上１１以下の直鎖または分岐鎖のアルキル基を表すことが好ましい。Ｒ3の炭素数が７以上１１以下の範囲であれば、Ｒ3のアルキル鎖と飽和炭化水素化合物との間にファンデルワールス力が容易に得られる上、アミド基同士の水素結合による自己集合を、Ｒ3のアルキル鎖の立体障害により阻害することがより少なくなる。さらに、飽和炭化水素化合物の粘度の温度依存性を抑制する効果を容易に得ることができ、低硬度を維持したまま粘度の温度依存性抑制効果が優れている。
【００３６】
式１中のｎ（メチレン基の個数）は１または２を表す。メチレン基の個数ｎが１または２であれば、アミノ酸誘導体の原料であるグルタミン酸またはアスパラギン酸を安価に得ることができる。また、メチレン基の個数ｎは２であることが好ましい。ｎが２であれば、Ｒ1及びＲ2のアルキル基間に適度な距離を容易に生じさせることができ、アミド基の自己集合がより起こりやすく、また溶解性や分散性もより良くなる。このため、飽和炭化水素化合物の粘度の温度依存性の抑制効果を容易に得ることができる。
【００３７】
式１で表されるアミノ酸誘導体は、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3の種類により１以上の不斉炭素を有する場合があるが、このような不斉炭素に基づく光学異性体またはジアステレオマーなどの立体異性体、任意の立体異性体の混合物、あるいはラセミ体を用いてもよい。さらに２種以上のアミノ酸誘導体を組み合わせて用いてもよい。
【００３８】
上記アミノ酸誘導体は、例えば、以下の方法により得ることができる。まず、水酸化ナトリウムなどの塩基性触媒下で、グルタミン酸またはアスパラギン酸と、脂肪酸ハライドとをショッテン・バウマン反応で反応させることによりＮ−アシル化グルタミン酸またはＮ−アシル化アスパラギン酸を得る。ついで、このＮ−アシル化グルタミン酸またはＮ−アシル化アスパラギン酸のカルボキシル基をエステル、酸ハライド、酸無水物等の反応性の高い活性基に変換した後、アミンと反応させる。この方法により、式１で表されるアミノ酸誘導体を得ることが出来る。また、この他にも、Ｎ−アシルアミノ酸とアミンを加熱脱水することにより直接アミド化する方法でも得ることができる。
【００３９】
弾性層における、アミノ酸誘導体の添加部数は、前記飽和炭化水素化合物１００質量部に対し０．６質量部以上１０質量部以下である。０．６質量部未満では、アミノ酸誘導体が形成する繊維状構造体が足りず飽和炭化水素化合物の粘度の温度依存性抑制が不十分であり、使用温度での硬度変化が大きく、画像濃度変化抑制の効果が得られない。１０質量部よりも多い場合、弾性層のアミノ酸誘導体の分散性が低下し、現像ローラに硬度ムラが生じ、画像弊害を発生させる。
【００４０】
被覆層を含む現像ローラのＪＩＳ−Ａ硬度は、３０°以上６０°以下が好ましい。硬度が３０°以上である場合、圧縮永久変形による画像弊害をより少なくすることができる。また６０°以下である場合、トナー劣化が特に少ないが故に、現像スジおよびカブリなどといった弊害をより少なくすることができ、良好な画像形成性を容易に得ることができる。
【００４１】
・各種添加剤
さらに、前記弾性層には、必要に応じて導電剤、充填剤、増量剤、架橋剤、架橋助剤、酸化防止剤、老化防止剤又は加工助剤等の各種添加剤を使用することができる。
【００４２】
本発明において、飽和炭化水素化合物とアミノ酸誘導体とを混練する場合、他の添加剤と同時にゴム中に飽和炭化水素化合物とアミノ酸誘導体とを混練してもよい。より好ましくは、飽和炭化水素化合物とアミノ酸誘導体とを加熱混合することで溶解させ、冷却した混合物をゴム中に混練すると良い。これは、あらかじめ飽和炭化水素化合物とアミノ酸誘導体とを加熱混合し冷却して用いた場合、飽和炭化水素化合物中のみにアミノ酸誘導体の繊維状構造体が形成され、飽和炭化水素化合物の温度による粘度変化がより抑制されるためである。
【００４３】
アミノ酸誘導体は、水素結合やファンデルワールス力など弱い力により繊維状構造体を形成する。それ故に、予め加熱混練および冷却した混合物を用いることで、飽和炭化水素化合物とアミノ酸誘導体との混合物をゴム中に混合する際に、加熱することにより、水素結合などの弱い結合が切れてしまう可能性を容易に防ぐことができる。なお、冷却すればアミノ酸誘導体は、再び繊維状構造体を形成するが、ゴムのような粘度の高い物体中ではアミノ酸誘導体は自己集合しづらい傾向がある。さらに一度ばらばらになったアミノ酸誘導体が飽和炭化水素化合物中ではなく、ゴム中に繊維状構造体を形成する可能性があり、飽和炭化水素化合物中に繊維状構造体を形成した場合と比べて、飽和炭化水素化合物の温度による粘度変化の抑制が弱くなる場合がある。
【００４４】
また、他の添加剤と同時にゴム中に加熱混練する場合、ゴムのような粘度の高い物体中ではアミノ酸誘導体は自己集合しづらい傾向がある。さらにアミノ酸誘導体が原料ゴム中に可逆的な繊維構造を形成してしまう可能性がある。これにより飽和炭化水素化合物中に形成されるアミノ酸誘導体由来の繊維状構造体が少なくなり、予め加熱混練および冷却した混合物を用いた場合と比べて、飽和炭化水素化合物の温度による粘度変化の抑制効果が低下する場合がある。またアミノ酸誘導体が飽和炭化水素化合物に溶解されず十分な可逆的な繊維構造を形成されない場合がある。
【００４５】
なお弾性層を架橋する際の加熱により、アミノ酸誘導体由来の繊維状構造体が一部ばらばらになる可能性が考えられる。しかし前述したようにゴムのような高粘度の物体中では、ばらばらとなったアミノ酸誘導体は拡散しづらく、近傍に集中して存在するため容易に再凝集し、繊維状構造体を形成しやすいと考えられる。
【００４６】
このように、以下の工程を含む現像ローラの製造方法により、現像ローラを得ることが好ましい。
（１）式１で表されるアミノ酸誘導体、および数平均分子量Ｍｎが３００以上３００００以下である直鎖状または分岐鎖状の飽和炭化水素化合物を加熱混合することで溶解させ冷却する工程。
（２）工程（１）により得られる混合物をゴムと混練し、架橋を行い、弾性層を形成する工程。
なお、工程（１）および（２）は、以下の条件で行うことが好ましい。即ち、アミノ酸誘導体、および飽和炭化水素化合物を加熱混合し、溶解させる際の温度は、飽和炭化水素化合物の分解の観点から１８０℃以下が好ましく、さらにその溶解させた混合物を冷却する際の温度は、温度調整が容易かつ、アミノ酸誘導体が飽和炭化水素化合物中で可逆的な繊維構造を形成できるという観点から室温（２３℃）が好ましい。
【００４７】
本発明における前記弾性層の成形方法は、従来から知られている押出成形法、射出成形法などの成型方法を用いることができる。本発明の効果を得られる範囲で層構成は必要に応じて選択することができ、２層以上からなる弾性層とすることもできる。この場合、その２層以上の弾性層のいずれか一つ以上が本発明に記載された弾性層の条件を満たす。弾性層の厚みとしては、本発明の効果を得られる範囲で適宜選択することができ、１ｍｍ以上５ｍｍ以下とすることが好ましい。１ｍｍ以上５ｍｍ以下であれば他部材と適切な接触幅がより得られやすく、成形加工性が特に安定しており、画像弊害がより生じにくい。
本発明においては弾性層２の外周上にさらに被覆層３を有している。被覆層を形成する時、弾性層と被覆層との剥離が生じないようにより密着性を向上させるために、弾性層の外周上をコロナ処理、フレーム処理、エキシマＵＶ処理の表面改質方法にて改質してもよい。
【００４８】
（被覆層）
本発明における被覆層の種類としては、有機系および無機系の被覆層を用いることができる。なお、被覆層とは、弾性層の外周面上に単層或いは複数にわたり存在する層を意味する。
【００４９】
有機系の被覆層としては、例えば、以下の樹脂で形成された被覆層が挙げられる。ポリアミド樹脂；フッ素樹脂；スチレン系樹脂；ビニル系樹脂；ポリカーボネート樹脂；アクリル系樹脂；ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン酢酸ビニル共重合樹脂のポリオレフィン系樹脂等の熱可塑性樹脂；エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン樹脂、尿素樹脂、シリコン樹脂、ポリイミド樹脂などの熱硬化性樹脂。
【００５０】
無機系の被覆層としては、例えば酸化ケイ素膜や炭素膜が挙げられる。特に本発明においては酸化ケイ素膜が好ましい。これは、酸化ケイ素膜はトナー離形成に優れるため現像ローラ表面にトナーが特に融着しづらく、それ故、現像スジなどの画像弊害が特に起こりづらいためである。さらに、本発明に用いる酸化ケイ素膜は、構造中にケイ素原子と化学結合している炭素原子を含むこと、即ち構造中にＳｉ−Ｏ及びＳｉ−Ｃの化学結合を有することが好ましい。また、酸化ケイ素膜において、ケイ素原子と化学結合している酸素原子のケイ素原子に対する存在比（Ｏ／Ｓｉ）が、０．６５以上１．９５以下であることが好ましい。存在比Ｏ／Ｓｉが０．６５以上であると、膜表面に粘着が発生することを容易に防ぐことができる。これにより、トナーの離型性が低下することを容易に防ぎ、トナー融着の発生を容易に防ぐことができる。また１．９５以下では、酸化ケイ素膜自体が硬くなること、ヒビ割れが生じることを容易に防ぎ、現像ローラとして使用した際、得られた画像に、ヒビに起因するスジが発生することを容易に防ぐことができる。
【００５１】
また、構造中にＳｉ−Ｃ結合を有する酸化ケイ素膜において、ケイ素原子と化学結合を形成している炭素原子のケイ素原子に対する存在比（Ｃ／Ｓｉ）が、０．０５以上１．６５以下であることが好ましい。存在比Ｃ／Ｓｉが０．０５以上であると、酸化ケイ素の膜と弾性層表面との密着性が低下することを容易に防ぎ、均一かつ適正な表面層、すなわち被覆層を容易に得ることができる。また存在比Ｃ／Ｓｉが１．６５以下では、膜表面に粘着が発生することを容易に防ぎ、トナー融着が発生することを容易に防ぎ、現像スジが生じることを容易に防ぐことができる。
【００５２】
本発明において酸化ケイ素膜等の被覆層を弾性層の上に形成する方法としては、例えば以下の方法が挙げられる。ディップコート、スプレーコート、ロールコート、リングコートなどの湿式コート法；真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティングなどの物理的気相成長（ＰＶＤ）法；プラズマＣＶＤ、熱ＣＶＤ、レーザーＣＶＤなどの化学的気相成長（ＣＶＤ）法等。また、多層押出成形やチューブ被覆などの方法も挙げられる。
【００５３】
中でも、弾性層と被覆層（特に構造中にＳｉ−Ｃ結合を含む酸化ケイ素膜）との密着性や処理時間及び処理温度、装置の簡便性、得られる表面層の均一性を考慮すると、プラズマＣＶＤ法が好ましい。
なお、構造中にＳｉ−Ｃ結合を有する酸化ケイ素膜の各元素の存在比率は次のようにして求める。
【００５４】
Ｘ線光電子分光装置「Ｑｕａｎｔｕｍ２０００」（商品名、アルバック・ファイ株式会社製）を用い、Ｘ線源をＡｌＫαとして、酸化ケイ素膜のＳｉの２ｐ軌道、Ｏ及びＣの１ｓ軌道の結合エネルギーに起因するピークを測定する。それぞれのピークから各原子の存在比を算出し、得られた存在比よりＯ／Ｓｉ及びＣ／Ｓｉを求める。
【００５５】
構造中にＳｉ−Ｃ結合を有する酸化ケイ素膜の化学結合については、フーリエ変換赤外分光分析（ＦＴ−ＩＲ）装置「ＳｐｅｃｔｒｕｍＯｎｅ」（商品名、株式会社パーキンエルマージャパン製）により、酸化ケイ素膜を構成するＳｉＯｘ膜の表面のＩＲ測定にて確認する。すなわち、Ｓｉ−Ｏ振動ピーク（４５０ｃｍ-1）、Ｓｉ−Ｃ伸縮ピーク（８００−８２０ｃｍ-1）の存在により、Ｓｉ−Ｏ及びＳｉ−Ｃの化学結合の存在を確認する。
【００５６】
被覆層として用いる炭素膜としては、例えば、高硬度、電気絶縁性、赤外線透過性を持つカーボン薄膜のダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）が挙げられる。前記ＤＬＣの構造はＣを主骨格とし、かつ若干のＨを含有し、ダイヤモンド結合（ＳＰ３結合）とグラファイト結合（ＳＰ２結合）の両方の結合が混在しているアモルファス構造である。
【００５７】
これら被覆層の厚みは、形成される被覆層の種類や形成方法により適宜選択することができる。
有機系の被覆層の場合には、被覆層の厚みは、３μｍ以上１００μｍ以下とすることが好ましい。３μｍ以上では弾性層の削れ、および磨耗が生じることを容易に防ぐことができ、１００μｍ以下の場合、現像ローラの体積抵抗ムラの原因となることを容易に防ぐことができる。
無機系の被覆層の厚みは、０．０１μｍ以上３μｍ以下が好ましい。０．０１μｍ以上では、弾性層への被覆が容易であり、弾性層の削れ、および磨耗が生じることを優れて防ぐことができ、３μｍ以下であると、被覆層の種類によらず、被覆層の割れが生じることを容易に防ぐことができる。
また、被覆層の構成としては、本発明の効果を得られる範囲で必要に応じて選択でき、１層あるいは２層以上の構成とすることができる。
【００５８】
＜トナー＞
本現像方法で用いられるトナーの体積平均粒径は、５．０μｍ以上６．５μｍ以下である。トナーの体積平均粒径が５．０μｍ以上６．５μｍ以下である時、静電潜像の再現性及び階調再現性が良好なため、高品位な画像が得られる。さらに本発明記載の現像ローラを用いれば、使用温度差による画像濃度変化が少なく、トナー劣化も少ないが故に現像スジやカブリなどの現象も生じにくい。
【００５９】
トナーの体積平均粒径が６．５μｍより大きい場合、静電潜像の再現性及び階調再現性を十分に満たさない場合がある。またトナーの体積平均粒径が５．０μｍ未満である場合、トナー間での凝集力が高まり、現像ローラ表面上に均一にトナーを塗布することが難しい。また体積平均粒子径が５．０μｍ未満のトナーは、電荷が高まりやすいが故に、現像ローラ表面とのクーロン力により現像ローラ上に強固に付着しやすい。その結果、摺擦回数が増え、トナー劣化を引き起こし、現像ローラ表面へのトナー融着が多くなり、現像スジやカブリなどの現象が生じやすくなる。
【００６０】
ここで、トナーの体積平均粒径は、精密粒度分布測定装置（商品名：マルチサイザー（Ｍｕｌｔｉｓｉｚｅｒ）２：ベックマン・コールター社製）を用いて測定することができる。以下に測定方法を詳しく説明する。
まず、この精密粒度分布測定装置に、個数分布及び体積分布を出力するインターフェース（日科機バイオス社製）並びにパーソナルコンピューターを接続する。
続いて、電解液として、一級塩化ナトリウムを用いて１質量％ＮａＣｌ水溶液を調製する。電解液としては、アイソトン（ＩＳＯＴＯＮ） Ｒ−ＩＩ：商品名、ベックマン・コールター社製などを使用してもよい。前記電解液１００〜１５０ｍｌ中に分散剤として界面活性剤を０．１〜５ｍｌ加え、さらに測定試料を２〜２０ｍｇ加える。測定試料を懸濁した電解液を、超音波分散器で約１〜３分間分散処理する。前記超音波処理された電解液を測定サンプルに用いる。そして、１００μｍのアパーチャーを採用する前記コールターマルチサイザーにより、１．５９μｍ以上６４．００μｍ以下の範囲で１６チャンネルの体積粒度分布を測定する。測定された５０％Ｄ径を本発明におけるトナーの体積平均粒径とする。
【００６１】
本発明で用いられるトナーの平均円形度は、０．９４０以上０．９９５以下であることが好ましい。トナーの平均円形度が０．９４０以上０．９９５以下である時、トナーにかかる機械的ストレスが容易に均一化され、局部的に大きなストレスが一層かからず、トナー劣化が容易に抑えられる。またトナーの良好な帯電性を容易に得ることができ、高温高湿環境下における画像濃度の変化やカブリがより少なくなる。
トナーの平均円形度が０．９４０以上の場合、トナー割れが発生することを容易に防ぐことができる。その結果、トナー帯電量がブロードになることを容易に防ぎ、高温高湿環境下における画像濃度の変化やカブリが生じることを容易に防ぐことができる。またトナーの平均円形度が０．９９５以下の場合は、容易に製造することができ、現像後に感光ドラムに残ってしまったトナーのクリーニング不良が起こることを容易に防ぐことができる。
【００６２】
ここで、トナーの平均円形度は、フロー式粒子像分析装置（商品名：ＦＰＩＡ−１０００：東亜医用電子社製）を用いて測定することができる。
具体的には、界面活性剤が約０．１ｍｇ溶解している水１０ｍｌに、トナー５ｍｇを分散させて分散液を調製し、超音波（２０ｋＨｚ、５０Ｗ）を分散液に５分間照射し、分散液濃度を５千個／μｌ以上２万個／μｌ以下として前記装置により測定を行う。そして３μｍ以上の円相当径の粒子群の平均円形度及びモード円形度を求める。
【００６３】
本発明における平均円形度は、トナーの凹凸度合いの指標であり、トナーが完全な球形の場合１．０００を示し、表面形状が複雑になるほど円形度は小さな値となる。
【００６４】
本発明の現像方法において使用されるトナーは以下のような方法で製造することができるが、以下の方法に限定されるものではない。
１）特公昭３６−１０２３１号公報、特開昭５９−５３８５６号公報、特開昭５９−６１８４２号公報、特開２００６−１０６１９８号公報等に記載されている懸濁重合法を用いて直接トナーを生成する方法。
２）モノマーに可溶かつ水溶性である重合開始剤の存在下で直接モノマーを重合させてトナーを生成するソープフリー重合法に代表される乳化重合法。
３）マイクロカプセル製法のような界面重合法。
４）ｉｎ ｓｉｔｅ重合法による方法。
５）コアセルベーション法による方法。
６）特開昭６２−１０６４７３号公報や特開昭６３−１８６２５３号公報等に開示されている少なくとも１種以上の微粒子を凝集させ、所望の粒径のトナーを得る会合重合法による方法。
７）単分散を特徴とする分散重合法による方法。
８）非水溶性有機溶媒に必要な樹脂類を溶解させた後、水中でトナーを得る乳化分散法による方法。
９）以下の工程を含む破砕法。
加圧ニーダーやエクストルーダー、又はメディア分散機等を用いてトナー成分を混練、均一に分散させる工程。その後、冷却し、混練物を機械的又はジェット気流下でターゲットに衝突させて所望のトナー粒径に微粉砕する工程。その後、更に粒度分布をシャープにする分級工程。
１０）粉砕法で得られたトナーを溶媒中で加熱等により球形化処理し、トナーを得る方法。
【００６５】
なかでも、懸濁重合法、会合重合法、乳化分散法によるトナーの製造が好ましく、より好ましくは小粒径かつ高円形度のトナーが容易に得られる懸濁重合方法である。
【００６６】
＜画像形成装置＞
図２、図３は本発明を用いることができる電子写真画像形成装置及び電子写真プロセスカートリッジの概略構成を示す模式図の一例である。
【００６７】
感光ドラム４が矢印方向に回転し、感光ドラム４を帯電処理するための帯電ローラ１１によって一様に帯電され、感光ドラム４に静電潜像を書き込む露光手段であるレーザー光１０により、その表面に静電潜像が形成される。上記静電潜像は、感光ドラム４に対して接触配置される現像装置９によってトナー７を付与されることにより現像され、トナーが付着した像として可視化される。
【００６８】
現像は露光部にトナー像を形成するいわゆる反転現像を行っている。可視化された感光ドラム４上のトナー像は、転写部材である転写ローラ１６によって記録媒体である紙２１に転写される。なお紙２１は、給紙ローラ２２により電子写真画像形成装置内に取り込まれ、吸着ローラ２３により転写搬送ベルト１９上に供給される。転写搬送ベルト１９は、駆動ローラ１５及び従動ローラ２０及びテンションローラ１８により支持されており、紙２１を搬送する。トナー像を転写された紙２１は、定着装置１４により定着処理され、装置外に排紙されプリント動作が終了する。なお符号１７はバイアス電源である。
【００６９】
一方、転写されずに感光ドラム４上に残存したトナーは、感光ドラム表面をクリーニングするためのクリーニング部材であるクリーニングブレード１３により掻き取られ廃トナー容器１２に収納され、クリーニングされた感光ドラム４は上述作用を繰り返し行う。
現像装置９は、一成分トナーとして非磁性トナーを収容した現像容器と、現像容器内の長手方向に延在する開口部に位置し感光ドラム４と対向設置された現像ローラ５とを備え、感光ドラム４上の静電潜像を現像して可視化するようになっている。
【００７０】
電子写真プロセスカートリッジは、図３に示すように、現像ローラ５とトナー規制ブレード８、現像装置９、帯電ローラ１１を有し、その他トナー塗布部材６、感光ドラム４も組みこんでもよい。電子写真プロセスカートリッジは、これらの部材が一体的に保持されてなるものであり、画像形成装置に着脱可能に設けられる。
【００７１】
トナー塗布部材６の構造としては、発泡骨格状スポンジ構造や導電性軸芯体上にレーヨン、ポリアミド等の繊維を植毛したファーブラシ構造のものが、現像ローラ５へのトナー供給および未使用トナーの剥ぎ取りの点から好ましい。例えば、導電性軸芯体上にポリウレタンフォームを設けた直径１６ｍｍのローラをトナー塗布部材として用いることができる。
【実施例】
【００７２】
以下、実施例によってさらに本発明を詳細に説明する。また原材料に特に記載がない場合においては、市販の高純度品を使用した。
【００７３】
〔飽和炭化水素化合物の分子量の測定〕
本発明における各飽和炭化水素化合物の数平均分子量の測定は、ゲルパーミネーションクロマトグラフィー法によって行った。ゲルパーミネーションクロマトグラフィー法の測定方法とは以下の方法である。すなわち、４０℃のヒートチャンバ中でカラムを安定化させ、この温度におけるカラムに、溶媒としてＴＨＦ（テトラヒドロフラン）を毎分１ｍｌの流速で流し、ＴＨＦ試料溶液を約１００μｌ注入して測定した。試料の分子量測定に当っては、試料の有する分子量分布を、数種の単分散ポリスチレン標準試料により作製された検量線の対数値とカウント数との関係から算出した。また、検出器にはＲＩ（屈折率）検出器を用いた。また各飽和炭化水素化合物の数平均分子量を表３に示す。
【００７４】
〔現像ローラのＪＩＳ−Ａ硬度測定〕
被覆層を含む現像ローラのＪＩＳ−Ａ硬度は、常温常湿（温度２３℃／湿度５５％ＲＨ）の環境中に１２時間以上放置した後、現像ローラの長手方向の中心及び両端部から２cm内側の３点を、ＪＩＳ−Ａ硬度計で測定したその平均の値である。
【００７５】
［アミノ酸誘導体Ａの合成］
水酸化ナトリウム２０ｇを１８０ｇの水に溶解した後、グルタミン酸ナトリウム一水和物９５．５ｇ（０．５モル）とアセトン１００ｇを加え溶液とした。その後、溶液を５℃に冷却し、ラウロイルクロライド１０９．４ｇ（０．５モル）と２０質量％水酸化ナトリウム水溶液１０５ｇを同時に２時間かけて滴下し反応液を得た。
反応液を８０ｇの水で希釈し１０℃に冷却し、９５質量％硫酸６３ｇを加え、得られた溶液の水層を除去し有機層を減圧濃縮して油状物質を得た。この油状物質をメタノール７４０ｇに溶解し、９５質量％硫酸６．３ｇを加え１０時間還流させた後、２０℃まで冷却し、ｎ−ブチルアミン８．９ｇ（０．１２モル）を加えメタノールを減圧濃縮し、濃縮物質を得た。この濃縮物質をトルエン６４３ｇと、ｎ−ブチルアミン２７１ｇ（３．７モル）を加えて、８０℃で１０時間加熱撹拌し、冷却後これに水５００ｇ、９５質量％硫酸１３０ｇを加えて、水層を除去し化合物Ａが存在する有機層を得た。化合物Ａが存在する有機層に水１０００ｇを加えて、常圧で溶媒を除去し、析出した白色固体を吸引ろ過した。得られた白色個体を５０℃で真空乾燥してアミノ酸誘導体Ａを得た。
【００７６】
なお各例に使用するアミノ酸誘導体の構造を、以下に示す。なお、アミノ酸誘導体Ｏ〜Ｓは、本発明に用いるアミノ酸誘導体の条件を満たしていない。アミノ酸誘導体Ｂ〜Ｓは、それぞれの構造に対応した原料を使用してアミノ酸誘導体Ａと同様の方法にて合成した。
【００７７】
【化３】
【００７８】
【化４】
【００７９】
【化５】
【００８０】
【化６】
【００８１】
【化７】
【００８２】
【化８】
【００８３】
【化９】
【００８４】
【化１０】
【００８５】
【化１１】
【００８６】
【化１２】
【００８７】
【化１３】
【００８８】
【化１４】
【００８９】
【化１５】
【００９０】
【化１６】
【００９１】
【化１７】
【００９２】
【化１８】
【００９３】
【化１９】
【００９４】
【化２０】
【００９５】
【化２１】
【００９６】
上記アミノ酸誘導体Ａ〜Ｓについて、式１中のｎの数、および、Ｒ1乃至Ｒ3の炭素数を下記表１に示す。
【００９７】
【表１】
【００９８】
［トナーの作製］
下記の手順に従って重合法によりトナーを作製した。
６０℃に加温したイオン交換水９００質量部に、リン酸三カルシウム４質量部を添加し、これをＴＫ式ホモミキサー（特殊機化工業製）により１０，０００ｒｐｍにて撹拌し、水系媒体を作製した。
次に、下記の組成物をＴＫ式ホモミキサー（特殊機化工業製）に投入し、６０℃に加温した後、９，０００ｒｐｍにて攪拌して溶解、分散した。
・スチレン １６０質量部
・ｎ−ブチルアクリレート ４０質量部
・Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：３ １４質量部
・サリチル酸アルミニウム化合物 ２質量部
（商品名：ボントロンＥ−８８、オリエント化学社製）
・ポリエステル樹脂 ７質量部
（プロピレンオキサイド変性ビスフェノールＡとイソフタル酸との重縮合物、Ｔｇ（ガラス転移温度）＝６５℃、Ｍｗ（重量平均分子量）＝１００００、Ｍｎ＝６０００）
・ステアリン酸ステアリルワックス（ＤＳＣのメインピーク６０℃） ２０質量部
・ジビニルベンゼン ０．２質量部
これに、重合開始剤ｔ−ブチルパーオキシピバレート２０質量部（１０時間半減期温度：５４．６℃、分子量：１７４）を溶解し、重合性単量体系組成物を調製した。
【００９９】
調整した重合性単量体組成物を、前記水系媒体中に投入し、６０℃，窒素雰囲気下において、ＴＫ式ホモミキサーを用いて９，０００ｒｐｍで攪拌して懸濁させた。
【０１００】
その後、プロペラ式攪拌装置に移して攪拌しつつ、３時間かけて７０℃に昇温し、さらに４時間後、昇温速度４０℃／ｈｒで８０℃まで昇温し、８０℃で５時間反応を行い、重合体粒子を製造した。重合反応終了後、前記粒子を含むスラリーを冷却し、スラリーの１０倍量の水で洗浄し、ろ過した後、６．６７×１０-1ｋＰａの圧力下、４０℃で４８時間乾燥し、分級によって粒子径をそれぞれ調整された重合体粒子を得た。
【０１０１】
上記粒子径を調整されたそれぞれの重合粒子１００質量部に対して、流動性向上剤として、シリコーンオイルで処理され、トナーと同極性（負極性）に帯電する疎水性シリカ微粉体（１次粒子径：１０ｎｍ、ＢＥＴ比表面積：１７０ｍ2／ｇ）１．５質量部を、ヘンシェルミキサー（三井三池社製）で５分間混合して体積平均粒子径および円形度が異なるトナーを得た。得られたそれらのトナーの、体積平均粒径および平均円形度を、前記した方法により測定した。これらの測定結果を表２に示す。
【０１０２】
【表２】
【０１０３】
続いて、以下に現像ローラ１〜５２の製造方法を示す。なお、現像ローラ４０〜５２は、本発明の現像方法に用いる現像ローラの条件を満たしていない。
【０１０４】
［現像ローラ１の作製］
［弾性層の作製］
飽和炭化水素化合物（商品名：ルーカントＨＣ−２０００三井化学社製、Ｍｎ：３４００）５８質量部にアミノ酸誘導体Ａ０．５８質量部を加熱混練し、溶解させ冷却した。これにＥＰＤＭとしてエスプレン５０５（商品名、住友化学工業株式会社製）１００質量部、ステアリン酸亜鉛２質量部、ＭＴカーボンブラックのサーマックスフローフォームＮ９９０（商品名、ＣＡＮＣＡＢ社製）３０質量部を加えた。その後これらの材料をニーダーにて混練した。然る後、そこに硫黄１質量部、メルカプトベンゾチアゾール（ＭＢＴ）１質量部をオープンロールにて混合し、弾性層のゴム組成物を得た。
次にクロスヘッドを備えたベント式ゴム押出機（直径５０ｍｍベント押出機 Ｌ／Ｄ＝１６ ＥＭ技研社製）を用いて、ＳＵＳ（ステンレス鋼）製の直径６．０ｍｍで長さ２５２．０ｍｍの導電性軸芯体の同軸状にゴム組成物を押出した。導電性軸芯体端部の余分なゴムを切り離し、導電性軸芯体上のゴム組成物の長さを２４２．０ｍｍにした後、熱風乾燥炉中１６０℃で１時間架橋させた。この架橋後のローラの両端部のゴムを切り離し、ゴム部分の長さを２３２ｍｍとした後、ゴム部分をＧＣ８０の砥石を使用して回転研磨機にて研磨加工し、直径１２ｍｍの弾性体層（弾性体層の厚み：３ｍｍ）を有するローラを得た。
【０１０５】
［被覆層の作製］
ポリオール（商品名：ニッポラン５０３３、日本ポリウレタン社製）と、イソシアネート（商品名：コロネートＬ、日本ポリウレタン社製）とを合わせて固形分として１００質量部とした。その比率は、［ＮＣＯ］／［ＯＨ］のモル比の値が１．２となるようにした。さらに、そこに、カーボンブラック（商品名：ＭＡ１００、三菱化学社製）を３０質量部添加し、原料混合液を作製した。
この原料混合液に有機溶剤を加え、被覆層の膜厚が２０μｍとなるように固形分２０質量％以上３０質量％以下の範囲で調整した。その後、これに、ウレタン樹脂粒子（商品名：ＣＦＢ−１０１−４０、大日本インキ化学工業社製）を５質量部加え、分散させて被覆層の原料液とした。この樹脂原料液中に、得られた現像ローラを浸漬してコーティングした後乾燥させ、熱風乾燥炉中で１６０℃にて２０分間加熱処理することで、厚さ２０μｍの被覆層を弾性層の外周に設けた現像ローラ１を作製した。
【０１０６】
［現像ローラ２の作製］
現像ローラ１の作製で用いた飽和炭化水素化合物を、モレスコホワイトＰ−７０（商品名、松村石油研究所製、Ｍｎ：３００）に変え、その添加量を２３．５質量部とした。また、アミノ酸誘導体Ａの添加量を０．１４１質量部に変更した。その他は現像ローラ１と同様の方法にて現像ローラ２を作製した。
【０１０７】
［現像ローラ３の作製］
現像ローラ１の作製で用いた飽和炭化水素化合物を上記モレスコホワイトＰ−７０に置き換え、その添加量を１３３量部とし、さらにアミノ酸誘導体Ａの添加量を０．７９８質量に変更した。それ以外は現像ローラ１と同様の方法にて現像ローラ３を作製した。
【０１０８】
［現像ローラ４の作製］
現像ローラ２の作製で用いたモレスコホワイトＰ−７０の添加量を２４質量部に変更し、アミノ酸誘導体Ａの添加量を２．４質量部に変更した。それ以外は現像ローラ２と同様の方法にて現像ローラ４を作製した。
【０１０９】
［現像ローラ５の作製］
現像ローラ１の作製で用いた飽和炭化水素化合物をモレスコホワイトＰ−７０（商品名、松村石油研究所製）に置き換え、その添加量を１５０質量部とした。また、アミノ酸誘導体Ａの添加量を１５．０質量部に変更した。それ以外は現像ローラ１と同様の方法にて現像ローラ５を作製した。
【０１１０】
［現像ローラ６の作製］
クラプレンＬＩＲ―５０（商品名、クラレ社製）をシクロヘキサン溶媒中でパラジウム−炭素を触媒として２ＭＰａの水素雰囲気下で水素添加を行い、飽和炭化水素化合物としてＬＩＲ−５０水添物（Ｍｎ：３００００）を得た。現像ローラ１の作製で用いた飽和炭化水素化合物をルーカントＨＣ−２０００からこのＬＩＲ−５０水添物に置き換え、その添加量を２３．５質量部とし、さらにアミノ酸誘導体Ａの添加量を０．１４１質量部に変更した。それ以外は現像ローラ１と同様の方法にて現像ローラ６を作製した。現像ローラ６の処方を表３に示す。
【０１１１】
［現像ローラ７の作製］
現像ローラ１の作製で用いた飽和炭化水素化合物をＬＩＲ−５０水添物に換え、その添加量を１３３質量部とし、さらに、アミノ酸誘導体Ａの添加量を０．７９８質量部に変更した。それ以外は現像ローラ１と同様の方法にて現像ローラ７を作製した。
【０１１２】
［現像ローラ８の作製］
現像ローラ１の作製で用いた飽和炭化水素化合物をＬＩＲ−５０水添物に換え、その添加量を２４質量部とし、さらにアミノ酸誘導体Ａの添加量を２．４質量部に変更した。それ以外は現像ローラ１と同様の方法にて現像ローラ８を作製した。
【０１１３】
［現像ローラ９の作製］
現像ローラ５の作製で用いた飽和炭化水素化合物をＬＩＲ−５０水添物に換え、その添加量を１５０質量部とし、さらにアミノ酸誘導体Ａの添加量を１５質量部に変更した。それ以外は現像ローラ５と同様の方法にて現像ローラ９を作製した。
【０１１４】
［現像ローラ１０の作製］
現像ローラ２の作製で用いた飽和炭化水素化合物をルーカントＨＣ−４０（商品名、三井化学社製、Ｍｎ：１０００）に換え、その添加量を２３．５質量部とした。さらに、アミノ酸誘導体の添加量を０．１４１質量部に変更した。それ以外は現像ローラ２と同様の方法にて現像ローラ１０を作製した。現像ローラ１０の処方を表３に示す。
【０１１５】
［現像ローラ１１の作製］
現像ローラ３の作製で用いた飽和炭化水素化合物をルーカントＨＣ−４０に換え、その添加量を１３３質量部とし、アミノ酸誘導体Ａの添加量を０．７９８質量部に変更した。それ以外は現像ローラ３と同様の方法にて現像ローラ１１を作製した。現像ローラ１１の処方を表３に示す。
【０１１６】
［現像ローラ１２の作製］
現像ローラ４の作製で用いた飽和炭化水素化合物をルーカントＨＣ−４０に換え、その添加量を２３．５質量部とし、アミノ酸誘導体Ａの添加量を２．３５質量部に変更した。それ以外は現像ローラ４と同様の方法にて現像ローラ１２を作製した。
【０１１７】
［現像ローラ１３の作製］
現像ローラ５の作製で用いた飽和炭化水素化合物をルーカントＨＣ−４０に換え、その飽和炭化水素化合物の添加量を１５０質量部とし、アミノ酸誘導体Ａの添加量を１５質量部に変更した。それ以外は現像ローラ５と同様の方法にて現像ローラ１３を作製した。現像ローラ１３の処方を表３に示す。
【０１１８】
［現像ローラ１４の作製］
現像ローラ１の作製で用いたＥＰＤＭを、ＢＲ（商品名：ＢＲ−１５０、宇部興産社製）に換えた以外は現像ローラ１と同様の方法にて現像ローラ１４を作製した。
【０１１９】
［現像ローラ１５の作製］
現像ローラ１の作製で用いたＥＰＤＭを、ＳＢＲ（商品名：ニポールＮＳ１１６Ｒ；結合スチレン量２１％、日本ゼオン社製）に換えた以外は現像ローラ１と同様にして現像ローラ１５を作製した。
【０１２０】
［現像ローラ１６の作製］
現像ローラ１の作製で用いたＥＰＤＭを、イソプレンゴム（商品名：ニポールＩＲ２２００、日本ゼオン社製）に換えた以外は現像ローラ１と同様にして現像ローラ１６を作製した。
【０１２１】
［現像ローラ１７の作製］
現像ローラ１の作製で用いたＥＰＤＭを、ブチルゴム（商品名：ブチル０６５、日本ブチル社製）に換えた以外は現像ローラ１と同様の方法にて現像ローラ１７を作製した。
【０１２２】
［現像ローラ１８の作製］
現像ローラ１の作製で用いたアミノ酸誘導体Ａをアミノ酸誘導体Ｂに変更した以外は現像ローラ１と同様の方法にて現像ローラ１８を作製した。
【０１２３】
［現像ローラ１９、２７の作製］
現像ローラ２の作製で用いたアミノ酸誘導体Ａをアミノ酸誘導体Ｂまたはアミノ酸誘導体Ｉに変更した以外は現像ローラ２と同様の方法にて現像ローラ１９、２７を作製した。
【０１２４】
［現像ローラ２０、２８の作製］
現像ローラ３の作製で用いたアミノ酸誘導体Ａをアミノ酸誘導体Ｂまたはアミノ酸誘導体Ｊに変更した以外は現像ローラ３と同様の方法にて現像ローラ２０、２８を作製した。
【０１２５】
［現像ローラ２１、２９の作製］
現像ローラ４の作製で用いたアミノ酸誘導体Ａをアミノ酸誘導体Ｃまたはアミノ酸誘導体Ｋに変更した以外は現像ローラ４と同様の方法にて現像ローラ２１、２９を作製した。
【０１２６】
［現像ローラ２２、３０の作製］
現像ローラ５の作製で用いたアミノ酸誘導体Ａをアミノ酸誘導体Ｄまたはアミノ酸誘導体Ｌに変更した以外は現像ローラ５と同様の方法にて現像ローラ２２、３０を作製した。
【０１２７】
［現像ローラ２３、３１の作製］
現像ローラ６の作製で用いたアミノ酸誘導体Ａをアミノ酸誘導体Ｅまたはアミノ酸誘導体Ｍに変更した以外は現像ローラ６と同様の方法にて現像ローラ２３、３１を作製した。
【０１２８】
［現像ローラ２４、３２の作製］
現像ローラ７の作製で用いたアミノ酸誘導体Ａをアミノ酸誘導体Ｆまたはアミノ酸誘導体Ｎに変更した以外は現像ローラ７と同様の方法にて現像ローラ２４、３２を作製した。
【０１２９】
［現像ローラ２５の作製］
現像ローラ８の作製で用いたアミノ酸誘導体Ａをアミノ酸誘導体Ｇに変更した以外は現像ローラ８と同様の方法にて現像ローラ２５を作製した。
【０１３０】
［現像ローラ２６の作製］
現像ローラ９の作製で用いたアミノ酸誘導体Ａをアミノ酸誘導体Ｈに変更した以外は現像ローラ９と同様の方法にて現像ローラ２６を作製した。
【０１３１】
［現像ローラ３３の作製］
現像ローラ１のアミノ酸誘導体ＡをルーカントＨＣ−２０００（商品名、三井化学社製）に溶解させずに、他の材料と同時にニーダーにて加熱混練し、弾性層の未架橋ゴム組成物を得た。それ以外は現像ローラ１と同様の方法にて現像ローラ３３を作製した。
【０１３２】
［現像ローラ３４の作製］
現像ローラ３の被覆層を、以下に示す、構造中にケイ素原子と炭素原子との化学結合（Ｓｉ−Ｃ結合）を含む酸化ケイ素膜に変更した。それ以外は、現像ローラ３と同様の方法にて現像ローラ３４を作製した。
【０１３３】
［酸化ケイ素膜の作製］
被覆層形成前の現像ローラを図４に示したプラズマＣＶＤ装置内に設置した。その後、真空ポンプ２８を用いて真空チャンバ２４内を１Ｐａまで減圧にした。その後、原料ガスとしてヘキサメチルジシロキサン蒸気１．０ｓｃｃｍ（０℃、１０１．３ｋＰａでのｍｌ／ｍｉｎ）、酸素１．５ｓｃｃｍ（０℃、１０１．３ｋＰａでのｍｌ／ｍｉｎ）及びアルゴンガス２２．５ｓｃｃｍ（０℃、１０１．３ｋＰａでのｍｌ／ｍｉｎ）の混合ガスを真空チャンバ２４内に導入した。その時真空チャンバ内の圧力は２５．３Ｐａとした。圧力が一定になった後、高周波供給手段２９より、周波数１３．５６ＭＨｚ、１２０Ｗの電力を平板電極２５に供給し、電極間にプラズマを発生させた。真空チャンバ内に設置した被覆層形成前の現像ローラをモータ３０により２４ｒｐｍで回転させて、３分間処理した。処理終了後電力供給を停止し、真空チャンバ内に残留している原料ガスを排気し、空気を真空チャンバ内に大気圧になるまで導入した。その後、表面層が形成された現像ローラを取り出した。なお２６は原料ガスボンベ及び原料液体タンク、２７は原料供給手段である。なお、酸化ケイ素膜の厚みは、０．９μｍであった。
【０１３４】
Ｘ線光電子分光装置で、得られた現像ローラ３４の表面の存在比Ｏ／Ｓｉ及び存在比Ｃ／Ｓｉを求めたところ、それぞれ１．５４、０．３５であった。
【０１３５】
［現像ローラ３５の作製］
現像ローラ３４の弾性層を現像ローラ５の弾性層に変更した。次に酸化ケイ素膜の形成において条件を以下のように変更した。原料ガス組成を１、１、３、３−テトラメチルジシロキサン蒸気１．０ｓｃｃｍ（０℃、１０１．３ｋＰａでのｍｌ／ｍｉｎ）、酸素２．５ｓｃｃｍ（０℃、１０１．３ｋＰａでのｍｌ／ｍｉｎ）及びアルゴンガス２２．５ｓｃｃｍ（０℃、１０１．３ｋＰａでのｍｌ／ｍｉｎ）に変更した。さらにチャンバ内圧力を５０．６Ｐａ、及び高周波電源を１３．５６ＭＨｚ、２００Ｗに変え、プラズマＣＶＤ処理の時間を１分間に変更した。それ以外は現像ローラ３４と同様にして現像ローラ３５を作製した。Ｘ線光電子分光装置で、得られた現像ローラ３５表面の存在比Ｏ／Ｓｉ及び存在比Ｃ／Ｓｉを求めたところ、それぞれ１．９５、０．０５であった。
【０１３６】
［現像ローラ３６の作製］
現像ローラ３４の弾性層を現像ローラ８の弾性層に変更した。次に酸化ケイ素膜の形成において条件を以下のように変更した。原料ガス組成としてヘキサメチルジシロキサン蒸気２０ｓｃｃｍ（０℃、１０１．３ｋＰａでのｍｌ／ｍｉｎ）を真空チャンバ内に導入し、真空チャンバ内の圧力を６Ｐａに変更した。さらに高周波電源により１５０Ｗの電力を平行平板電極に供給し、５分間処理した。それ以外は現像ローラ３４と同様にして現像ローラ３６を作製した。Ｘ線光電子分光装置で、得られた現像ローラ３６表面の存在比Ｏ／Ｓｉ及び存在比Ｃ／Ｓｉを求めたところ、それぞれ０．６５、１．６５であった。
【０１３７】
［現像ローラ３７の作製］
現像ローラ３６の弾性層を現像ローラ９の弾性層に変更した。次に酸化ケイ素膜の形成において条件を以下のように変更した。原料ガスとしてヘキサメチルジシロキサン蒸気１０ｓｃｃｍ（０℃、１０１．３ｋＰａでのｍｌ／ｍｉｎ）及びトルエン蒸気１０ｓｃｃｍ（０℃、１０１．３ｋＰａでのｍｌ／ｍｉｎ）の混合ガスを真空チャンバ内に導入し、真空チャンバ内の圧力を６Ｐａに変更した。それ以外は現像ローラ３６と同様にして現像ローラ３７を作製した。Ｘ線光電子分光装置で、得られた現像ローラ３７表面の存在比Ｏ／Ｓｉ及び存在比Ｃ／Ｓｉを求めたところ、それぞれ１．９５、０．６５であった。
【０１３８】
［現像ローラ３８の作製］
現像ローラ３７の弾性層を現像ローラ１９の弾性層に変更した。次に酸化ケイ素膜の形成において条件を以下のように変更した。原料ガスとしてヘキサメチルシロキサン蒸気３ｓｃｃｍ（０℃、１０１．３ｋＰａでのｍｌ／ｍｉｎ）を真空チャンバ内に導入し、真空チャンバ内の圧力を２Ｐａに変更した。さらに高周波電源により２００Ｗの電力を平行平板電極に供給した。それ以外は現像ローラ３７と同様にして現像ローラ３８を作製した。Ｘ線光電子分光装置で、得られた現像ローラ３８表面の存在比Ｏ／Ｓｉ及び存在比Ｃ／Ｓｉを求めたところ、それぞれ０．６５、０．０５であった。
【０１３９】
［現像ローラ３９の作製］
現像ローラ３８の弾性層を現像ローラ２１の弾性層に変更した。次に酸化ケイ素膜の形成において条件を以下のように変更した。原料ガスとしてヘキサメチルジシロキサン蒸気１０ｓｃｃｍ（０℃、１０１．３ｋＰａでのｍｌ／ｍｉｎ）及びトルエン蒸気２０ｓｃｃｍ（０℃、１０１．３ｋＰａでのｍｌ／ｍｉｎ）の混合ガスを真空チャンバ内に導入し、真空チャンバ内圧力を８Ｐａに変更した。さらに高周波電源により３０Ｗの電力を平行平板電極に供給した。それ以外は現像ローラ３８と同様にして現像ローラ３９を作製した。Ｘ線光電子分光装置で、得られた現像ローラ３９表面の存在比Ｏ／Ｓｉ及び存在比Ｃ／Ｓｉを求めたところ、それぞれ１．９０、１．６５であった。
【０１４０】
［現像ローラ４０の作製］
現像ローラ１の作製で用いた飽和炭化水素化合物であるルーカントＨＣ−２０００をモレスコＰ−４０（商品名、松村石油研究所製、Ｍｎ：２５０）に置き換えた。それ以外は現像ローラ１と同様の方法にて現像ローラ４０を作製した。
【０１４１】
［現像ローラ４１の作製］
現像ローラ１の作製で用いた飽和炭化水素化合物であるルーカントＨＣ−２０００をクラプレンＬＩＲ−２００（商品名、クラレ社製、Ｍｎ：３２０００）に置き換えた。それ以外は現像ローラ１と同様の方法にて現像ローラ４１を作製した。
【０１４２】
［現像ローラ４２の作製］
現像ローラ１の作製で用いた飽和炭化水素化合物であるルーカントＨＣ−２０００の添加量を１５質量部に変更し、アミノ酸誘導体Ａの添加量は０．１５質量部に変更した。それ以外は現像ローラ１と同様の方法にて現像ローラ４２を作製した。なお、弾性層中の飽和炭化水素化合物の含有量は、１０質量％であった。
【０１４３】
［現像ローラ４３の作製］
現像ローラ１の作製で用いた飽和炭化水素化合物であるルーカントＨＣ−２０００の添加量を２０３質量部に変更し、アミノ酸誘導体Ａの添加量は２．０３質量部に変更した。それ以外は現像ローラ１と同様の方法にて現像ローラ４３を作製した。なお、弾性層中の飽和炭化水素化合物の含有量は、６０質量％であった。
【０１４４】
［現像ローラ４４の作製］
現像ローラ１の作製で用いたアミノ酸誘導体Ａの添加量を０．０５８質量部に変更した。それ以外は現像ローラ１と同様の方法にて現像ローラ４４を作製した。現像ローラ４４の処方を表３に示す。なお、弾性層中の飽和炭化水素化合物１００質量部に対する、アミノ酸誘導体の含有量は、０．１質量部であった。
【０１４５】
［現像ローラ４５の作製］
現像ローラ１の作製で用いたアミノ酸誘導体Ａの添加量を、６．９６質量部に変更した。それ以外は現像ローラ１と同様の方法にて現像ローラ４５を作製した。なお、弾性層中の飽和炭化水素化合物１００質量部に対する、アミノ酸誘導体の含有量は、１２質量部であった。
【０１４６】
［現像ローラ４６の作製］
現像ローラ１の作製で用いたアミノ酸誘導体Ａを添加せず、その他のアミノ酸誘導体Ａも添加しなかった。それ以外は現像ローラ１と同様の方法にて現像ローラ４６を作製した。
【０１４７】
［現像ローラ４７〜５１の作製］
現像ローラ１の作製で用いたアミノ酸誘導体Ａをアミノ酸誘導体Ｏ、Ｐ、Ｑ、ＲまたはＳに変更した以外は現像ローラ１と同様の方法にて現像ローラ４７〜５１を作製した。
【０１４８】
［現像ローラ５２の作製］
現像ローラ１の作製で用いた飽和炭化水素化合物であるルーカントＨＣ−２０００をナフテンオイルであるダイアナプロセスオイルＮＭ３００（商品名、出光興産社製）に変更した。それ以外は現像ローラ１と同様の方法にて現像ローラ５２を作製した。
以上作製した現像ローラ１から５２の処方を表３に示す。
【０１４９】
【表３】
【０１５０】
以上により得られた現像ローラとトナーとを、表４〜６に示す実施例１〜３９、および表７に示す比較例１〜１５に記載した組み合わせで用いて、各例の画像濃度、カブリ、現像スジおよび解像度の評価をそれぞれ行った。
【０１５１】
［画像濃度変化］
得られたトナー及び現像ローラをカラーレーザープリンターＬＢＰ５４００（商品名、キヤノン社製）用の電子写真プロセスカートリッジへ組み込みこんだ。そしてこの電子写真プロセスカートリッジをＬＢＰ５４００本体に取り付け、高温高湿環境下（３０℃、８０％ＲＨ（相対湿度））に１日放置した。１日放置後、この高温高湿環境にて印字率１％濃度の画像を５００枚出力した後、印字率１００％濃度のベタ画像を出力した。その後、マシンごと常温常湿（２３℃、６０％ＲＨ）環境下に１日放置した。更にマシンごと低温低湿環境（１５℃、１０％ＲＨ）下で１日放置した。１日放置後、この低温低湿環境にて印字率１％濃度の画像を５００枚出力した後、印字率１００％濃度のベタ画像を出力した。各環境で出力したベタ画像について、マクベス株式会社製のマクベス濃度計「マクベスカラーチェッカー ＲＤ−１２５５」（商品名）にて濃度測定した。各環境での濃度差（低温低湿環境でのベタ画像濃度−高温高湿環境でのベタ画像濃度）を以下の基準で評価した。それぞれの結果を表４〜７に示す。
Ａ：０．０２未満、
Ｂ：０．０２以上０．０５未満、
Ｃ：０．０５以上０．０８未満、
Ｄ：０．０８以上。
【０１５２】
［カブリ］
得られたトナー及び現像ローラをカラーレーザープリンターＬＢＰ５４００（商品名、キヤノン社製）用の電子写真プロセスカートリッジへ組み込みこんだ。そしてこの電子写真プロセスカートリッジをＬＢＰ５４００本体に取り付け、高温高湿環境下（３０℃、８０％ＲＨ）に１日放置した。１日放置後、高温高湿環境にて印字率１％濃度の画像を４０００枚出力した後、白ベタ画像を出力し、その出力中にプリンターを停止した。停止後感光ドラム上に付着したトナーを粘着テープで剥がし取り、粘着テープの粘着面の反射率を測定した。粘着テープのみの反射率とトナーが付着した粘着テープの反射率より、カブリを評価した。なお、反射率の測定には、反射濃度計（商品名：ＴＣ−６ＤＳ／Ａ、東京電色社製）を用いた。それぞれの結果を表４〜７に示す。
Ａ：反射率の低下が２％未満、
Ｂ：反射率の低下が２％以上４％未満、
Ｃ：反射率の低下が４％以上６％未満、
Ｄ：反射率の低下が６％以上。
【０１５３】
［現像スジ］
得られたトナー及び現像ローラをカラーレーザープリンターＬＢＰ５４００（商品名、キヤノン社製）用の電子写真プロセスカートリッジへ組み込みこんだ。そしてこの電子写真プロセスカートリッジをＬＢＰ５４００本体に取り付け、低温低湿環境（１５℃、１０％ＲＨ）環境下で１日放置した。１日放置後、低温低湿環境にて印字率１％濃度の画像を４０００枚出力した後、ベタ画像を出力した。そのベタ画像を以下の基準で評価した。それぞれの結果を表４〜７に示す。
Ａ：現像スジの発生が認められない。
Ｂ：極軽微な現像スジの発生が認められる。
Ｃ：画像に影響を及ぼす現像スジの発生が認められる。
Ｄ：画像に大きな影響を及ぼす現像スジの発生が認められる。
【０１５４】
［解像度］
得られたトナー及び現像ローラをカラーレーザープリンターＬＢＰ５４００（商品名、キヤノン社製）用の電子写真プロセスカートリッジへ組み込みこんだ。そしてこの電子写真プロセスカートリッジをＬＢＰ５４００本体に取り付け、６００ｄｐｉにおける小径孤立１ドットの再現性によって評価した。
Ａ：１００個中の欠損が５個以下、
Ｂ：１００個中の欠損が６個以上１０未満、
Ｃ：１００個中の欠損が１０個以上２０未満、
Ｄ：１００個中の欠損が２０個以上。
【０１５５】
【表４】
【０１５６】
【表５】
【０１５７】
【表６】
【０１５８】
【表７】
【０１５９】
以上説明したように、本発明によれば小粒径トナーを用いた非磁性一成分接触現像において、使用温度による画像濃度変化が少なく、現像スジやカブリが良好で高精細な現像方法及び現像ローラの製造方法を提供することが可能となる。
【符号の説明】
【０１６０】
１ ・・・導電性軸芯体
２ ・・・弾性層
３ ・・・被覆層
４ ・・・感光ドラム
５ ・・・現像ローラ
６ ・・・トナー塗布部材
７ ・・・トナー
８ ・・・トナー規制ブレード
９ ・・・現像装置
１０ ・・・レーザー光
１１ ・・・帯電ローラ
１２ ・・・廃トナー容器
１３ ・・・クリーニングブレード
１４ ・・・定着装置
１５ ・・・駆動ローラ
１６ ・・・転写ローラ
１７ ・・・バイアス電源
１８ ・・・テンションローラ
１９ ・・・転写搬送ベルト
２０ ・・・従動ローラ
２１ ・・・紙
２２ ・・・給紙ローラ
２３ ・・・吸着ローラ
２４ ・・・真空チャンバ
２５ ・・・平板電極
２６ ・・・原料ガスボンベ及び原料液体タンク
２７ ・・・原料供給手段
２８ ・・・真空ポンプ
２９ ・・・高周波供給手段
３０ ・・・モータ
【特許請求の範囲】
【請求項１】
現像ローラに担持させたトナーで感光ドラムの表面に形成された静電潜像を現像する工程を有する現像方法であって、
該現像ローラは、導電性軸芯体と、該導電性軸芯体の外周面上に弾性層と、該弾性層の外周面上に被覆層とを含み、
該弾性層は、数平均分子量Ｍｎが３００以上３００００以下である直鎖状または分岐鎖状の飽和炭化水素化合物を１５質量％以上５０質量％以下と、下記式１で表されるアミノ酸誘導体を該飽和炭化水素化合物１００質量部に対し０．６質量部以上１０質量部以下と、ゴムと、を含有し、
該トナーは、その体積平均粒径が、５．０μｍ以上６．５μｍ以下であることを特徴とする現像方法：
【化１】
（Ｒ1およびＲ2は、各々独立に炭素数３以上１０以下の直鎖または分岐鎖のアルキル基を表し、Ｒ3は炭素数７以上２０以下の直鎖または分岐鎖のアルキル基を表す。ｎは１または２を表す）。
【請求項２】
前記式１で示されるアミノ酸誘導体が、上記式１におけるＲ1およびＲ2が各々独立に炭素数３以上５以下の直鎖または分岐鎖のアルキル基であり、Ｒ3が炭素数７以上１１以下の直鎖または分岐鎖のアルキル基であり、ｎが２であるものである請求項１に記載の現像方法。
【請求項３】
前記ゴムがエチレン‐プロピレン‐ジエンゴムである請求項１又は２に記載の現像方法。
【請求項４】
前記飽和炭化水素化合物の数平均分子量Ｍｎが、１０００以上、３００００以下である請求項１から３のいずれか１項に記載の現像方法。
【請求項５】
前記トナーの平均円形度が、０．９４０以上０．９９５以下である請求項１から４のいずれか１項に記載の現像方法。
【請求項６】
前記被覆層が、構造中にケイ素原子と炭素原子との化学結合（Ｓｉ−Ｃ結合）を含む酸化ケイ素膜である請求項１から５のいずれか１項に記載の現像方法。
【請求項７】
導電性軸芯体の外周面上に弾性層を形成する現像ローラの製造方法であって、
（１）下記式１で表されるアミノ酸誘導体、および数平均分子量Ｍｎが３００以上３００００以下である直鎖状または分岐鎖状の飽和炭化水素化合物を加熱混練することで溶解させ冷却する工程と、
（２）工程（１）により得られる混合物をゴムと混練し、架橋を行い、該弾性層を形成する工程と、を含むことを特徴とする現像ローラの製造方法：
【化２】
（式（１）中、Ｒ1およびＲ2は、各々独立に炭素数３以上１０以下の直鎖または分岐鎖のアルキル基を表し、Ｒ3は、炭素数７以上２０以下の直鎖または分岐鎖のアルキル基を表し、ｎは１または２を表す）。
【請求項１】
現像ローラに担持させたトナーで感光ドラムの表面に形成された静電潜像を現像する工程を有する現像方法であって、
該現像ローラは、導電性軸芯体と、該導電性軸芯体の外周面上に弾性層と、該弾性層の外周面上に被覆層とを含み、
該弾性層は、数平均分子量Ｍｎが３００以上３００００以下である直鎖状または分岐鎖状の飽和炭化水素化合物を１５質量％以上５０質量％以下と、下記式１で表されるアミノ酸誘導体を該飽和炭化水素化合物１００質量部に対し０．６質量部以上１０質量部以下と、ゴムと、を含有し、
該トナーは、その体積平均粒径が、５．０μｍ以上６．５μｍ以下であることを特徴とする現像方法：
【化１】
（Ｒ1およびＲ2は、各々独立に炭素数３以上１０以下の直鎖または分岐鎖のアルキル基を表し、Ｒ3は炭素数７以上２０以下の直鎖または分岐鎖のアルキル基を表す。ｎは１または２を表す）。
【請求項２】
前記式１で示されるアミノ酸誘導体が、上記式１におけるＲ1およびＲ2が各々独立に炭素数３以上５以下の直鎖または分岐鎖のアルキル基であり、Ｒ3が炭素数７以上１１以下の直鎖または分岐鎖のアルキル基であり、ｎが２であるものである請求項１に記載の現像方法。
【請求項３】
前記ゴムがエチレン‐プロピレン‐ジエンゴムである請求項１又は２に記載の現像方法。
【請求項４】
前記飽和炭化水素化合物の数平均分子量Ｍｎが、１０００以上、３００００以下である請求項１から３のいずれか１項に記載の現像方法。
【請求項５】
前記トナーの平均円形度が、０．９４０以上０．９９５以下である請求項１から４のいずれか１項に記載の現像方法。
【請求項６】
前記被覆層が、構造中にケイ素原子と炭素原子との化学結合（Ｓｉ−Ｃ結合）を含む酸化ケイ素膜である請求項１から５のいずれか１項に記載の現像方法。
【請求項７】
導電性軸芯体の外周面上に弾性層を形成する現像ローラの製造方法であって、
（１）下記式１で表されるアミノ酸誘導体、および数平均分子量Ｍｎが３００以上３００００以下である直鎖状または分岐鎖状の飽和炭化水素化合物を加熱混練することで溶解させ冷却する工程と、
（２）工程（１）により得られる混合物をゴムと混練し、架橋を行い、該弾性層を形成する工程と、を含むことを特徴とする現像ローラの製造方法：
【化２】
（式（１）中、Ｒ1およびＲ2は、各々独立に炭素数３以上１０以下の直鎖または分岐鎖のアルキル基を表し、Ｒ3は、炭素数７以上２０以下の直鎖または分岐鎖のアルキル基を表し、ｎは１または２を表す）。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図２】
【図３】
【図４】
【公開番号】特開２０１３−１１８１３（Ｐ２０１３−１１８１３Ａ）
【公開日】平成２５年１月１７日（２０１３．１．１７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１４５７６９（Ｐ２０１１−１４５７６９）
【出願日】平成２３年６月３０日（２０１１．６．３０）
【出願人】（０００００１００７）キヤノン株式会社 (59,756)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年１月１７日（２０１３．１．１７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年６月３０日（２０１１．６．３０）
【出願人】（０００００１００７）キヤノン株式会社 (59,756)
【Ｆターム（参考）】
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