説明

発光素子および発光素子形成用樹脂組成物

【課題】光の取り出し効率および耐久性に優れる発光素子を提供すること。
【解決手段】基板と第1電極と発光層と第2電極と樹脂層とを備える発光素子であって、
前記基板と前記第1電極と前記発光層と前記第2電極とがこの順に積層されてなり、
前記樹脂層は、
(a)前記第1電極の、前記発光層が形成された側とは反対側、および、
(b)前記第2電極の、前記発光層が形成された側とは反対側、
の少なくとも一方に形成されており、
前記樹脂層が、示差走査熱量測定(DSC、昇温速度20℃/分)によるガラス転移温度(Tg)が230〜350℃である芳香族ポリエーテル系重合体を含む層であることを特徴とする発光素子。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、発光素子および発光素子の樹脂層を形成する材料として用いられる発光素子形成用樹脂組成物に関する。
【背景技術】
【0002】
発光素子は、透明基板の表面に、透明陽電極層、発光材料層および陰電極層がこの順に積層された基本構成を有する。例えば、有機エレクトロルミネッセンス素子は、その陽電極層から正孔を、その陰電極層から電子を、有機材料からなる発光材料層の内部に注入し、発光材料層の内部で正孔と電子を再結合させることによって、励起子(エキシトン)を生成させ、この励起子が失活する際の光の放出(蛍光、燐光)により発光する発光素子である。発光材料層で発生した光は、透明基板の側から発光素子の外部に取り出される。
特許文献1には、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエーテルイミド樹脂などの高屈折率樹脂を用いた高屈折率層を有する発光素子が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開2004−296438号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
特許文献1に記載の発光素子によれば、透明基板の側からある程度効率良く発光材料層で生じた光を取り出すことができる。しかしながら、発光材料層が発する光によって、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエーテルイミド樹脂などの高屈折率樹脂が劣化してしまうという問題がある。
そこで本発明は、光の取り出し効率および耐久性に優れる発光素子を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0005】
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定のガラス転移温度を有する芳香族ポリエーテル系重合体を含んでなる樹脂層を備えた発光素子によれば、上記目的を達成しうることを見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明は、以下の[1]〜[8]を提供するものである。
【0006】
[1] 基板と第1電極と発光層と第2電極と樹脂層とを備える発光素子であって、
前記基板と前記第1電極と前記発光層と前記第2電極とがこの順に積層されてなり、
前記樹脂層は、
(a)前記第1電極の、前記発光層が形成された側とは反対側、および、
(b)前記第2電極の、前記発光層が形成された側とは反対側、
の少なくとも一方に形成されており、
前記樹脂層が、示差走査熱量測定(DSC、昇温速度20℃/分)によるガラス転移温度(Tg)が230〜350℃である芳香族ポリエーテル系重合体(以下「重合体(I)」ともいう。)を含む層であることを特徴とする発光素子。
[2] 前記発光素子が有機エレクトロルミネッセンス素子である、[1]に記載の発光素子。
【0007】
[3] 前記芳香族ポリエーテル系重合体が、下記式(1)で表わされる構造単位および下記式(2)で表わされる構造単位からなる群より選ばれる少なくとも一つの構造単位(i)を有する、[1]または[2]に記載の発光素子。
【0008】
【化1】

(式(1)中、R1〜R4は、それぞれ独立に炭素数1〜12の1価の有機基を示し、a〜dは、それぞれ独立に0〜4の整数を示す。)
【0009】
【化2】

(式(2)中、R1〜R4およびa〜dは、それぞれ独立に前記式(1)中のR1〜R4およびa〜dと同義であり、Yは、単結合、−SO2−または>C=Oを示し、R7およびR8は、それぞれ独立にハロゲン原子、炭素数1〜12の1価の有機基またはニトロ基を示し、gおよびhは、それぞれ独立に0〜4の整数を示し、mは、0または1を示す。但し、mが0の時、R7はシアノ基ではない。)
【0010】
[4] 前記芳香族ポリエーテル系重合体が、さらに、下記式(3)で表わされる構造単位および下記式(4)で表わされる構造単位からなる群より選ばれる少なくとも一つの構造単位(ii)を有する、[1]〜[3]のいずれかに記載の発光素子。
【0011】
【化3】

(式(3)中、R5およびR6は、それぞれ独立に炭素数1〜12の1価の有機基を示し、Zは、単結合、−O−、−S−、−SO2−、>C=O、−CONH−、−COO−または炭素数1〜12の2価の有機基を示し、eおよびfは、それぞれ独立に0〜4の整数を示し、nは0または1を示す。)
【0012】
【化4】

(式(4)中、R7、R8、Y、m、gおよびhは、それぞれ独立に前記式(2)中のR7、R8、Y、m、gおよびhと同義であり、R5、R6、Z、n、eおよびfは、それぞれ独立に前記式(3)中のR5、R6、Z、n、eおよびfと同義である。)
【0013】
[5] 前記芳香族ポリエーテル系重合体において、前記構造単位(i)と前記構造単位(ii)とのモル比が50:50〜100:0である、[1]〜[4]のいずれかに記載の発光素子。
[6] 前記芳香族ポリエーテル系重合体のゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)によるポリスチレン換算の重量平均分子量が5,000〜500,000である、[1]〜[5]のいずれかに記載の発光素子。
[7] 前記樹脂層が、さらに金属酸化物粒子を含有する、[1]〜[6]のいずれかに記載の発光素子。
【0014】
[8] 下記式(1)で表わされる構造単位および下記式(2)で表わされる構造単位からなる群より選ばれる少なくとも一つの構造単位(i)を有する重合体、および有機溶媒を含有する、発光素子の樹脂層を形成するための発光素子形成用樹脂組成物。
【0015】
【化5】

(式(1)中、R1〜R4は、それぞれ独立に炭素数1〜12の1価の有機基を示し、a〜dは、それぞれ独立に0〜4の整数を示す。)
【0016】
【化6】

(式(2)中、R1〜R4およびa〜dは、それぞれ独立に前記式(1)中のR1〜R4およびa〜dと同義であり、Yは、単結合、−SO2−または>C=Oを示し、R7およびR8は、それぞれ独立にハロゲン原子、炭素数1〜12の1価の有機基またはニトロ基を示し、gおよびhは、それぞれ独立に0〜4の整数を示し、mは、0または1を示す。但し、mが0の時、R7はシアノ基ではない。)
【発明の効果】
【0017】
本発明の発光素子は、特定のガラス転移温度を有する芳香族ポリエーテル系重合体を含む樹脂層を備えており、該樹脂層のガラス転移温度が高く、透明性に優れ、屈折率が高いため、優れた光の取り出し効率を有する。
また、本発明の発光素子は、耐久性にも優れるため、厳しい使用条件下であっても、長期に亘って性能を低下させずに用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【0018】
【図1】本発明の発光素子の実施形態例1を概念的に示す断面図である。
【図2】本発明の発光素子の実施形態例2を概念的に示す断面図である。
【図3】本発明の発光素子の実施形態例3を概念的に示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0019】
≪発光素子≫
以下、図面を参照して、本発明の発光素子の種々の実施形態例を説明するが、基板と第1電極と発光層と第2電極と樹脂層とを備える発光素子であって、
前記基板と前記第1電極と前記発光層と前記第2電極とがこの順に積層されてなり、
前記樹脂層が、示差走査熱量測定(DSC、昇温速度20℃/分)によるガラス転移温度(Tg)が230〜350℃である芳香族ポリエーテル系重合体(以下「重合体(I)」ともいう。)を含む層であり、
前記樹脂層が、
(a)前記第1電極の、前記発光層が形成された側とは反対側、および、
(b)前記第2電極の、前記発光層が形成された側とは反対側、
の少なくとも一方に形成されている発光素子である限り特に制限されない。
【0020】
図1は、本発明の発光素子の実施形態例1である発光素子10を示す。発光素子10は、基板11、第1電極13、発光層15、第2電極17および樹脂層18がこの順に積層された構造を有する。つまり、樹脂層18は、第2電極17の、発光層15が設けられた側とは反対側の面に設けられる。第2電極17は透過型電極であることが好ましく、この場合、発光層15で生じた光は、第2電極17および樹脂層18を通過して、発光素子10の外部に取り出されうる。
【0021】
発光素子10は、第2電極17の屈折率、樹脂層18の屈折率、空気の屈折率(約1.0)がこの順で小さくなる発光素子が好ましい。また、第2電極17と樹脂層18との屈折率の差、樹脂層18と空気との屈折率の差が小さいことが好ましい。第2電極、樹脂層および空気の屈折率がこのような関係にあると、発光層15で生じた光が発光素子10の外部に取り出される工程で、第2電極17と樹脂層18との界面および樹脂層18と空気との界面で全反射しにくくなるため、光の取り出し効率が高くなると考えられる。
【0022】
基板11としては、一般的な発光素子で使われる基板を使用することができるが、機械的強度、熱的安定性、透明性、表面平滑性、取扱容易性および防水性に優れるガラス基板または透明プラスチック基板が好ましい。
【0023】
第1電極13は、第1電極形成用物質を用いた、蒸着法またはスパッタリング法などにより基板11の上面に製造できる。透過型電極を形成する場合には、第1電極形成用物質として、透明であって伝導性に優れる酸化インジウムスズ(ITO)、酸化インジウム亜鉛(IZO)、酸化スズ(SnO2)、酸化亜鉛(ZnO)などを用いることができる。また、反射型電極を形成する場合には、第1電極形成用物質として、マグネシウム(Mg)、アルミニウム(Al)、アルミニウム−リチウム(Al−Li)、カルシウム(Ca)、マグネシウム−インジウム(Mg−In)、マグネシウム−銀(Mg−Ag)などを用いることができる。第1電極13の厚さは、所望の目的に応じて適宜選択すればよい。
【0024】
発光層15は、電界が印加されることにより発光現象を示す物質により成膜されたものである。このような物質としては、付活硫化亜鉛ZnS:X(但し、Xは、Mn、Tb、Cu,Sm等の付活元素である。)、CaS:Eu、SrS:Ce、SrGa24:Ce、CaGa24:Ce、CaS:Pb、BaAl24:Eu等の無機エレクトロルミネッセンス(EL)物質、8−ヒドロキシキノリンのアルミニウム錯体、芳香族アミン類、アントラセン単結晶等の低分子色素系の有機EL物質、ポリ(p−フェニレンビニレン)、ポリ[2−メトキシ−5−(2−エチルヘキシルオキシ)−1,4−フェニレンビニレン]、ポリ(3−アルキルチオフェン)、ポリビニルカルバゾールなどの共役高分子系の有機EL物質等、従来より使用されているEL物質を用いることができきる。これらの中でも樹脂層18は重合体(I)を含むため、発光層15は有機EL物質を用いて形成される層であることが好ましい。発光層15の厚さは、通常10〜1000nm、好ましくは30〜500nm、さらに好ましくは50〜200nmである。発光層15は、蒸着やスパッタリング等の真空成膜プロセス、あるいはクロロホルム等を溶媒とする塗布プロセスにより形成することができる。
【0025】
第2電極17は、電子注入電極であるカソードであることが好ましい。第2電極17は、第2電極形成用物質を用いて、蒸着法またはスパッタリング法などにより製造できる。第2電極形成用物質としては、リチウム(Li)、マグネシウム(Mg)、アルミニウム(Al)、アルミニウム−リチウム(Al−Li)、カルシウム(Ca)、マグネシウム−インジウム(Mg−In)、マグネシウム−銀(Mg−Ag)などが挙げられる。これらの物質から薄膜を形成することによって、透過型電極を得ることができる。また、ITO、IZOを含んでなる透過型電極であってもよい。第2電極17の厚さは、所望の目的に応じて適宜選択すればよい。
【0026】
樹脂層18は下記重合体(I)および有機溶媒(以下「特定溶媒」ともいう。)を含有し、さらに必要により金属酸化物粒子等を含有する発光素子形成用組成物から形成される層であることが好ましい。
【0027】
[重合体(I)]
前記重合体(I)は、示差走査熱量測定(DSC、昇温速度20℃/分)によるガラス転移温度(Tg)が230〜350℃である芳香族ポリエーテル系重合体であり、重合体(I)のガラス転移温度は、好ましくは240〜330℃であり、さらに好ましくは250〜300℃である。
前記重合体(I)のガラス転移温度は、例えばRigaku社製8230型DSC測定装置(昇温速度20℃/分)を用いて測定される。
【0028】
このような重合体(I)を含んでなる発光素子形成用樹脂組成物から形成される樹脂層は、耐熱性、力学的強度および電気的特性等にバランスよく優れる。
【0029】
前記重合体(I)は、主鎖にエーテル結合を形成する反応により得られる重合体であり、下記式(1)で表わされる構造単位(以下「構造単位(1)」ともいう。)および下記式(2)で表わされる構造単位(以下「構造単位(2)」ともいう。)からなる群より選ばれる少なくとも一つの構造単位(i)を有する重合体(以下「重合体(II)」ともいう。)であることが好ましい。重合体が構造単位(i)を有することで、ガラス転移温度が230〜350℃である芳香族ポリエーテル系重合体となる。このような重合体(II)を含む発光素子形成用樹脂組成物から形成される樹脂層は、優れた耐熱性と電気的特性、ならびに透明性に優れ、高い屈折率を有する。また、樹脂層が重合体(II)を含むと、光の取り出し効率および耐久性に優れる発光素子を得ることができる。
【0030】
【化7】

【0031】
前記式(1)中、R1〜R4は、それぞれ独立に炭素数1〜12の1価の有機基を示す。a〜dは、それぞれ独立に0〜4の整数を示し、好ましくは0または1である。
炭素数1〜12の1価の有機基としては、炭素数1〜12の1価の炭化水素基、ならびに酸素原子および窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも1種の原子を含む炭素数1〜12の1価の有機基等を挙げることができる。
【0032】
炭素数1〜12の1価の炭化水素基としては、炭素数1〜12の直鎖または分岐鎖の炭化水素基、炭素数3〜12の脂環式炭化水素基および炭素数6〜12の芳香族炭化水素基等が挙げられる。
【0033】
前記炭素数1〜12の直鎖または分岐鎖の炭化水素基としては、炭素数1〜8の直鎖または分岐鎖の炭化水素基が好ましく、炭素数1〜5の直鎖または分岐鎖の炭化水素基がより好ましい。
【0034】
前記直鎖または分岐鎖の炭化水素基の好適な具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基およびn−ヘプチル基等が挙げられる。
【0035】
前記炭素数3〜12の脂環式炭化水素基としては、炭素数3〜8の脂環式炭化水素基が好ましく、炭素数3または4の脂環式炭化水素基がより好ましい。
【0036】
炭素数3〜12の脂環式炭化水素基の好適な具体例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基およびシクロへキシル基等のシクロアルキル基;シクロブテニル基、シクロペンテニル基およびシクロヘキセニル基等のシクロアルケニル基が挙げられる。当該脂環式炭化水素基の結合部位は、脂環上のいずれの炭素でもよい。
【0037】
前記炭素数6〜12の芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ビフェニル基およびナフチル基等が挙げられる。当該芳香族炭化水素基の結合部位は、芳香族環上のいずれの炭素でもよい。
【0038】
酸素原子を含む炭素数1〜12の有機基としては、水素原子、炭素原子および酸素原子からなる有機基が挙げられ、中でも、エーテル結合、カルボニル基またはエステル結合と炭化水素基とからなる総炭素数1〜12の有機基等を好ましく挙げることができる。
【0039】
エーテル結合を有する総炭素数1〜12の有機基としては、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数2〜12のアルケニルオキシ基、炭素数2〜12のアルキニルオキシ基、炭素数6〜12のアリールオキシ基および炭素数1〜12のアルコキシアルキル基などを挙げることができる。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、フェノキシ基、プロペニルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基およびメトキシメチル基等が挙げられる。
【0040】
また、カルボニル基を有する総炭素数1〜12の有機基としては、炭素数2〜12のアシル基等を挙げることができる。具体的には、アセチル基、プロピオニル基、イソプロピオニル基およびベンゾイル基等が挙げられる。
エステル結合を有する総炭素数1〜12の有機基としては、炭素数2〜12のアシルオキシ基等が挙げられる。具体的には、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、イソプロピオニルオキシ基およびベンゾイルオキシ基等が挙げられる。
【0041】
窒素原子を含む炭素数1〜12の有機基としては、水素原子、炭素原子および窒素原子からなる有機基が挙げられ、具体的には、シアノ基、イミダゾール基、トリアゾール基、ベンズイミダゾール基およびベンズトリアゾール基等が挙げられる。
【0042】
酸素原子および窒素原子を含む炭素数1〜12の有機基としては、水素原子、炭素原子、酸素原子および窒素原子からなる有機基が挙げられ、具体的には、オキサゾール基、オキサジアゾール基、ベンズオキサゾール基およびベンズオキサジアゾール基等が挙げられる。
【0043】
前記式(1)におけるR1〜R4としては、炭素数1〜12の1価の炭化水素基が好ましく、炭素数6〜12の芳香族炭化水素基がより好ましく、フェニル基がさらに好ましい。
【0044】
【化8】

【0045】
前記式(2)中、R1〜R4およびa〜dは、それぞれ独立に前記式(1)中のR1〜R4およびa〜dと同義であり、Yは、単結合、−SO2−または>C=Oを示し、R7およびR8は、それぞれ独立にハロゲン原子、炭素数1〜12の1価の有機基またはニトロ基を示し、mは、0または1を示す。但し、mが0の時、R7はシアノ基ではない。gおよびhは、それぞれ独立に0〜4の整数を示し、好ましくは0である。
炭素数1〜12の1価の有機基としては、前記式(1)における炭素数1〜12の1価の有機基と同様の有機基等を挙げることができる。
【0046】
前記重合体(II)は、上記構造単位(1)と上記構造単位(2)とのモル比(但し、両者(構造単位(1)+構造単位(2))の合計は100である。)が、光学特性、耐熱性および力学的特性の観点から構造単位(1):構造単位(2)=50:50〜100:0であることが好ましく、構造単位(1):構造単位(2)=70:30〜100:0であることがより好ましく、構造単位(1):構造単位(2)=80:20〜100:0であることがさらに好ましい。
ここで、力学的特性とは、重合体の引張強度、破断伸びおよび引張弾性率等の性質のことをいう。
【0047】
また、前記重合体(II)は、さらに、下記式(3)で表わされる構造単位および下記式(4)で表わされる構造単位からなる群より選ばれる少なくとも一つの構造単位(ii)を有してもよい。前記重合体(II)がこのような構造単位(ii)を有すると、該重合体(II)を有する組成物から得られる樹脂層の力学的特性が向上するため好ましい。
【0048】
【化9】

【0049】
前記式(3)中、R5およびR6は、それぞれ独立に炭素数1〜12の1価の有機基を示し、Zは、単結合、−O−、−S−、−SO2−、>C=O、−CONH−、−COO−または炭素数1〜12の2価の有機基を示し、nは、0または1を示す。eおよびfは、それぞれ独立に0〜4の整数を示し、好ましくは0である。
炭素数1〜12の1価の有機基としては、前記式(1)における炭素数1〜12の1価の有機基と同様の有機基等を挙げることができる。
【0050】
炭素数1〜12の2価の有機基としては、炭素数1〜12の2価の炭化水素基、炭素数1〜12の2価のハロゲン化炭化水素基、酸素原子および窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも1種の原子を含む炭素数1〜12の2価の有機基、ならびに酸素原子および窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも1種の原子を含む炭素数1〜12の2価のハロゲン化有機基等を挙げることができる。
【0051】
炭素数1〜12の2価の炭化水素基としては、炭素数1〜12の直鎖または分岐鎖の2価の炭化水素基、炭素数3〜12の2価の脂環式炭化水素基および炭素数6〜12の2価の芳香族炭化水素基等が挙げられる。
【0052】
炭素数1〜12の直鎖または分岐鎖の2価の炭化水素基としては、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、イソプロピリデン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基およびヘプタメチレン基等が挙げられる。
【0053】
炭素数3〜12の2価の脂環式炭化水素基としては、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基およびシクロへキシレン基等のシクロアルキレン基;シクロブテニレン基、シクロペンテニレン基およびシクロヘキセニレン基等のシクロアルケニレン基などが挙げられる。
【0054】
炭素数6〜12の2価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基、ナフチレン基およびビフェニレン基等が挙げられる。
【0055】
炭素数1〜12の2価のハロゲン化炭化水素基としては、炭素数1〜12の直鎖または分岐鎖の2価のハロゲン化炭化水素基、炭素数3〜12の2価のハロゲン化脂環式炭化水素基および炭素数6〜12の2価のハロゲン化芳香族炭化水素基等が挙げられる。
【0056】
炭素数1〜12の直鎖または分岐鎖の2価のハロゲン化炭化水素基としては、ジフロオロメチレン基、ジクロロメチレン基、テトラフルオロエチレン基、テトラクロロエチレン基、ヘキサフルオロトリメチレン基、ヘキサクロロトリメチレン基、ヘキサフルオロイソプロピリデン基およびヘキサクロロイソプロピリデン基等が挙げられる。
【0057】
炭素数3〜12の2価のハロゲン化脂環式炭化水素基としては、前記炭素数3〜12の2価の脂環式炭化水素基において例示した基の少なくとも一部の水素原子がフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子で置換された基等が挙げられる。
【0058】
炭素数6〜12の2価のハロゲン化芳香族炭化水素基としては、前記炭素数6〜12の2価の芳香族炭化水素基において例示した基の少なくとも一部の水素原子がフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子で置換された基等が挙げられる。
【0059】
酸素原子および窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも1種の原子を含む炭素数1〜12の有機基としては、水素原子および炭素原子と、酸素原子および/または窒素原子とからなる有機基が挙げられ、エーテル結合、カルボニル基、エステル結合またはアミド結合と炭化水素基とを有する総炭素数1〜12の2価の有機基等が挙げられる。
【0060】
酸素原子および窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも1種の原子を含む炭素数1〜12の2価のハロゲン化有機基としては、具体的には、酸素原子および窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも1種の原子を含む炭素数1〜12の2価の有機基において例示した基の少なくとも一部の水素原子がフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子で置換された基等が挙げられる。
【0061】
前記式(3)におけるZとしては、単結合、−O−、−SO2−、>C=Oまたは炭素数1〜12の2価の有機基が好ましく、炭素数1〜12の2価の炭化水素基、炭素数1〜12の2価のハロゲン化炭化水素基または炭素数3〜12の2価の脂環式炭化水素基がより好ましい。
【0062】
【化10】

【0063】
前記式(4)中、R7、R8、Y、m、gおよびhは、それぞれ独立に前記式(2)中のR7、R8、Y、m、gおよびhと同義であり、R5、R6、Z、n、eおよびfは、それぞれ独立に前記式(3)中のR5、R6、Z、n、eおよびfと同義である。なお、mが0の時、R7はシアノ基ではない。
【0064】
前記重合体(II)は、前記構造単位(i)と前記構造単位(ii)とのモル比(但し、両者((i)+(ii))の合計は100である。)が、光学特性、耐熱性および力学的特性の観点から(i):(ii)=50:50〜100:0であることが好ましく、(i):(ii)=70:30〜100:0であることがより好ましく、(i):(ii)=80:20〜100:0であることがさらに好ましい。
ここで、力学的特性とは、重合体の引張強度、破断伸びおよび引張弾性率等の性質のことをいう。
【0065】
前記重合体(II)は、光学特性、耐熱性および力学的特性の観点から前記構造単位(i)および前記構造単位(ii)を全構造単位中70モル%以上含むことが好ましく、全構造単位中95モル%以上含むことがより好ましい。
【0066】
前記重合体(II)は、例えば、下記式(5)で表わされる化合物(以下「化合物(5)」ともいう。)および下記式(7)で表わされる化合物(以下「化合物(7)」ともいう。)からなる群より選ばれる少なくとも一つの化合物を含む成分(以下「(A)成分」ともいう。)と、下記式(6)で表わされる化合物を含む成分(以下「(B)成分」ともいう。)とを、反応させることにより得ることができる。
【0067】
【化11】

【0068】
前記式(5)中、Xは独立してハロゲン原子を示し、フッ素原子が好ましい。
【0069】
【化12】

【0070】
前記式(7)中、R7、R8、Y、m、gおよびhは、それぞれ独立に前記式(2)中のR7、R8、Y、m、gおよびhと同義であり、Xは、独立に前記式(5)中のXと同義である。
但し、mが0の時、R7はシアノ基ではない。
【0071】
【化13】

【0072】
前記式(6)中、Raは、それぞれ独立に水素原子、メチル基、エチル基、アセチル基、メタンスルホニル基またはトリフルオロメチルスルホニル基を示し、この中でも水素原子が好ましい。なお、式(6)中、R1〜R4およびa〜dは、それぞれ独立に前記式(1)中のR1〜R4およびa〜dと同義である。
【0073】
上記化合物(5)としては、具体的には、2,6−ジフルオロベンゾニトリル(DFBN)、2,5−ジフルオロベンゾニトリル、2,4−ジフルオロベンゾニトリル、2,6−ジクロロベンゾニトリル、2,5−ジクロロベンゾニトリル、2,4−ジクロロベンゾニトリルおよびこれらの反応性誘導体を挙げることができる。特に、反応性および経済性等の観点から、2,6−ジフルオロベンゾニトリルおよび2,6−ジクロロベンゾニトリルが好適に用いられる。これらの化合物は2種以上を組み合わせて用いることも可能である。
【0074】
上記式(6)で表わされる化合物(以下「化合物(6)」ともいう。)としては、具体的には、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン(BPFL)、9,9−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(3,5−ジフェニル−4−ヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−シクロヘキシルフェニル)フルオレンおよびこれらの反応性誘導体等が挙げられる。上述の化合物の中でも、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレンおよび9,9−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)フルオレンが好適に用いられる。これらの化合物は2種以上を組み合わせて用いることも可能である。
【0075】
上記化合物(7)としては、具体的には、4,4'−ジフルオロベンゾフェノン、4,4'−ジフルオロジフェニルスルホン(DFDS)、2,4'−ジフルオロベンゾフェノン、2,4'−ジフルオロジフェニルスルホン、2,2'−ジフルオロベンゾフェノン、2,2'−ジフルオロジフェニルスルホン、3,3'−ジニトロ−4,4'−ジフルオロベンゾフェノン、3,3'−ジニトロ−4,4'−ジフルオロジフェニルスルホン、4,4'−ジクロロベンゾフェノン、4,4'−ジクロロジフェニルスルホン、2,4'−ジクロロベンゾフェノン、2,4'−ジクロロジフェニルスルホン、2,2'−ジクロロベンゾフェノン、2,2'−ジクロロジフェニルスルホン、3,3'−ジニトロ−4,4'−ジクロロベンゾフェノンおよび3,3'−ジニトロ−4,4'−ジクロロジフェニルスルホン等を挙げることができる。これらの中でも、4,4'−ジフルオロベンゾフェノン、4,4'−ジフルオロジフェニルスルホンが好ましい。これらの化合物は2種以上を組み合わせて用いることも可能である。
【0076】
化合物(5)および化合物(7)からなる群より選ばれる少なくとも一つの化合物は、(A)成分100モル%中に、80モル%〜100モル%含まれていることが好ましく、90モル%〜100モル%含まれていることがより好ましい。
また、(B)成分は、必要に応じて下記式(8)で表わされる化合物を含むことが好ましい。化合物(6)は、(B)成分100モル%中に、50モル%〜100モル%含まれていることが好ましく、80モル%〜100モル%含まれていることがより好ましく、90モル%〜100モル%含まれていることがさらに好ましい。
【0077】
【化14】

【0078】
前記式(8)中、R5、R6、Z、n、eおよびfは、それぞれ独立に前記式(3)中のR5、R6、Z、n、eおよびfと同義であり、Raは、それぞれ独立に前記式(6)中のRaと同義である。
【0079】
前記式(8)で表わされる化合物としては、ヒドロキノン、レゾルシノール、2−フェニルヒドロキノン、4,4'−ビフェノール、3,3'−ビフェノール、4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホン、3,3'−ジヒドロキシジフェニルスルホン、4,4'−ジヒドロキシベンゾフェノン、3,3'−ジヒドロキシベンゾフェノン、1,1'−ビ−2−ナフトール、1,1'−ビ−4−ナフトール、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパンおよびこれらの反応性誘導体等が挙げられる。上述の化合物の中でも、レゾルシノール、4,4'−ビフェノール、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパンが好ましく、反応性および力学的特性の観点から、4,4'−ビフェノールが好適に用いられる。これらの化合物は2種以上を組み合わせて用いることも可能である。
【0080】
前記重合体(II)は、より具体的には、以下に示す方法(I')で合成することができる。
方法(I'):
(B)成分を有機溶媒中でアルカリ金属化合物と反応させて、(B)成分(化合物(6)および/または化合物(8)等)のアルカリ金属塩を得た後に、得られたアルカリ金属塩と、(A)成分とを反応させる。なお、(B)成分とアルカリ金属化合物との反応を(A)成分の存在下で行うことで、(B)成分のアルカリ金属塩と(A)成分とを反応させることもできる。
【0081】
反応に使用するアルカリ金属化合物としては、リチウム、カリウムおよびナトリウム等のアルカリ金属;水素化リチウム、水素化カリウムおよび水素化ナトリウム等の水素化アルカリ金属;水酸化リチウム、水酸化カリウムおよび水酸化ナトリウム等の水酸化アルカリ金属;炭酸水素リチウム、炭酸水素カリウムおよび炭酸水素ナトリウム等のアルカリ金属炭酸塩などを挙げることができる。これらは、1種または2種以上を組み合わせて用いることも可能である。
【0082】
アルカリ金属化合物は、前記(B)成分中の全ての−O−Raに対し、アルカリ金属化合物中の金属原子の量が通常1〜3倍当量、好ましくは1.1〜2倍当量、さらに好ましくは1.2〜1.5倍当量となる量で使用される。
【0083】
また、反応に使用する有機溶媒としては、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチル−2−ピロリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、γ−ブチルラクトン、スルホラン、ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシド、ジメチルスルホン、ジエチルスルホン、ジイソプロピルスルホン、ジフェニルスルホン、ジフェニルエーテル、ベンゾフェノン、ジアルコキシベンゼン(アルコキシ基の炭素数1〜4)およびトリアルコキシベンゼン(アルコキシ基の炭素数1〜4)などを使用することができる。これらの溶媒の中でも、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルアセトアミド、スルホラン、ジフェニルスルホンおよびジメチルスルホキシド等の誘電率の高い極性有機溶媒が特に好適に用いられる。
【0084】
さらに、前記反応の際には、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、シクロヘキサン、オクタン、クロロベンゼン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトールなどの水と共沸する溶媒をさらに用いることもできる。
【0085】
(A)成分と(B)成分の使用割合は、(A)成分と(B)成分との合計を100モル%とした場合に、(A)成分が好ましくは45モル%以上55モル%以下、より好ましくは50モル%以上52モル%以下、さらに好ましくは50モル%を超えて52モル%以下であり、(B)成分が好ましくは45モル%以上55モル%以下、より好ましくは48モル%以上50モル%以下であり、さらに好ましくは48モル%以上50モル%未満である。
【0086】
また、反応温度は、好ましくは60〜250℃、より好ましくは80〜200℃の範囲である。反応時間は、好ましくは15分〜100時間、より好ましくは1時間〜24時間の範囲である。
【0087】
前記重合体(I)は、TOSOH製HLC−8220型GPC装置(カラム:TSKgelα―M、展開溶剤:テトラヒドロフラン(以下「THF」ともいう。))で測定した、ポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)が、好ましくは5,000〜500,000、より好ましくは15,000〜400,000、さらに好ましくは30,000〜300,000である。
【0088】
前記重合体(I)は、熱重量分析法(TGA)で測定した熱分解温度が、好ましくは450℃以上、より好ましくは475℃以上、さらに好ましくは490℃以上である。
【0089】
前記発光素子形成用樹脂組成物としては、前記の方法(I')で得られた重合体(II)と有機溶媒との混合物をそのまま使用することができる。この場合、前記反応に使用された有機溶媒は特定溶媒である。
また、前記組成物は、前記の方法で得られた重合体(II)と有機溶媒との混合物から、重合体(II)を固体分として単離(精製)した後、特定溶媒に再溶解して調製することもできる。
【0090】
前記重合体(II)を固体分として単離(精製)する方法は、例えば、メタノール等の重合体の貧溶媒に重合体を再沈殿させ、その後ろ過し、次いでろ物を減圧乾燥すること等により行うことができる。
【0091】
前記重合体(II)を再溶解させる特定溶媒としては、前記重合体(II)を容易に溶解するものが好適に選ばれる。例えば、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、シクロヘキサノン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドンおよびγ−ブチロラクトンが好適に用いられ、塗工性、経済性の観点から、好ましくは、塩化メチレン、シクロヘキサノン、N,N−ジメチルアセトアミドおよびN−メチルピロリドンが好適に使用される。これらの溶媒は、1種単独であるいは2種以上を併用することができる。
【0092】
また、塗工時の乾燥性や均一性、表面平滑性などの向上を狙い、その他の特定溶媒、例えば、エーテル系有機溶媒、エステル系有機溶媒、ケトン系有機溶媒、炭化水素系有機溶媒、アルコール系有機溶媒から選ばれる1種、あるいは2種以上の溶媒を適宜組み合わせて使用することができる。この場合、大気圧下(1,013hPa)での沸点が40〜250℃、さらには50〜150℃の範囲内にある有機溶媒が好適であり、重合体(II)を均一に溶解、分散させることのできる範囲で用いられることが好ましい。
【0093】
これらのその他の特定溶媒の好ましい例としては、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコールエーテル類;エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテートなどのエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類;乳酸エチル、2−ヒドロキシプロピオン酸エチルなどのエステル類;ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテルなどのジエチレングリコール類;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、2−ヘプタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトンなどのケトン類;γ−ブチロラクトンが挙げられる。
【0094】
なお、前記特定溶媒は、重合体(I)を含む発光素子形成用樹脂組成物にも好適に用いられる。
【0095】
前記発光素子形成用樹脂組成物中の重合体(I)の濃度は、重合体の分子量にもよるが、通常、1〜40質量%、好ましくは5〜25質量%である。組成物中の重合体(I)の濃度が前記範囲にあると、厚膜化可能で、ピンホールが生じにくく、表面平滑性に優れる樹脂層を形成することができる。
【0096】
なお、前記発光素子形成用樹脂組成物の粘度は、重合体の分子量や濃度にもよるが、好ましくは50〜100,000mPa・s、より好ましくは500〜50,000mPa・s、さらに好ましくは1000〜20,000mPa・sである。組成物の粘度が前記範囲にあると、層形成中の組成物の滞留性に優れ、厚みの調整が容易であるため、樹脂層の成形が容易である。
【0097】
また、前記発光素子形成用樹脂組成物にはさらに老化防止剤を含有させることができ、老化防止剤を含有することで、得られる樹脂層の耐久性をより向上させることができる。
老化防止剤としては、好ましくはヒンダードフェノール系化合物を挙げることができる。
【0098】
本発明で使用することのできるヒンダードフェノール系化合物としては、トリエチレングリコール−ビス[3−(3−tert−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロオネート]、1,6−ヘキサンジオール−ビス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、2,4−ビス−(n−オクチルチオ)−6−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−ブチルアニリノ)−3,5−トリアジン、ペンタエリスリトールテトラキス[3−(3,5−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、1,1,3−トリス[2−メチル−4−[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ]−5−tert−ブチルフェニル]ブタン、2,2−チオ−ジエチレンビス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、オクタデシル−3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート)、N,N−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド)、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、トリス−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−イソシアヌレイト、および、3,9−ビス[2−〔3−(3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ〕−1,1−ジメチルエチル]−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカンなどを挙げることができる。
【0099】
本発明において、老化防止剤は、前記重合体(I)100重量部に対して、0.01〜10重量部の量で使用することが好ましい。
【0100】
[金属酸化物粒子]
前記発光素子形成用樹脂組成物には、さらに高屈折率を有する樹脂層を得るために、高屈折率を有する金属酸化物粒子を配合することもできる。このような金属酸化物粒子は、25℃における波長400nmの光の屈折率が好ましくは1.55以上、より好ましくは1.60以上、特に好ましくは1.70以上の微粒子である。前記金属酸化物粒子としては、例えば、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化タンタル、酸化インジウム、酸化ハフニウム、酸化スズ、酸化ニオブおよびこれらの複合体などの金属酸化物粒子が挙げられる。中でも、酸化ジルコニウム(ZrO2)の微粒子が好ましい。
上記酸化チタンは、TiO2構造を有するものであれば特に限定されず、例えばアナターゼ型、ルチル型、ブルッカイト型などが挙げられる。
これらの金属酸化物粒子は、1種を単独で、または2種以上を組み合わせて用いることができる。
【0101】
前記金属酸化物粒子の数平均1次粒子径は、好ましくは1〜100nm、より好ましくは3〜70nm、特に好ましくは5〜50nmである。数平均1次粒子径が上記範囲内であると、透明性に優れた樹脂層を得ることができる。
前記金属酸化物粒子は、粉体状であってもよいし、溶媒分散ゾルであってもよい。溶媒分散ゾルには、溶媒として、例えば、2−ブタノール、メタノール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、N−メチル−2−ピロリドン、プロピレングレコールモノメチルエーテルが含まれる。
【0102】
前記金属酸化物粒子の配合量は、得られる樹脂層の透明性を損なわない限り特に制限されないが、前記樹脂組成物中の重合体(I)の濃度や樹脂組成物の粘度が前記範囲となるような量であることが好ましく、具体的には、重合体(I)100質量部に対して0〜2,000、好ましくは10〜1,500質量部、より好ましくは30〜1,000質量部、さらに好ましくは50〜500質量部である。金属酸化物粒子の配合量が前記範囲にあると、透明性やクラック耐性等を維持したまま樹脂層の屈折率所望の値に調整することができる。
なお、用いる金属酸化物粒子が溶媒分散ゾルである場合、前記金属酸化物粒子の配合量は、溶媒を含まない質量を意味し、該ゾルに含まれる溶媒の量は、前記特定溶媒の量としてカウントする。
【0103】
前記発光素子形成用樹脂組成物に前記金属酸化物粒子を配合する場合、該組成物中の体積平均粒径は、好ましくは1〜400nm、より好ましくは3〜200nm、さらに好ましくは5〜100nm、特に好ましくは5〜50nmである。体積平均粒径が上記範囲内であると、透明性に優れた樹脂層を得ることができる。
【0104】
[分散剤]
前記発光素子形成用樹脂組成物は、前記金属酸化物粒子を配合する場合、金属酸化物粒子の分散性を向上させるために、各種の分散剤を含むことが好ましい。
前記分散剤としては、例えば、アルミニウム化合物を用いることができる。アルミニウム化合物の例としては、アルミニウムアルコキシド、アルミニウムβ−ジケトナート錯体などを挙げることができる。具体的には、トリエトキシアルミニウム、トリ(n−プロポキシ)アルミニウム、トリ(i−プロポキシ)アルミニウム、トリ(n−ブトキシ)アルミニウム、トリ(sec−ブトキシ)アルミニウムなどのアルコキシド化合物、アルミニウムトリス(メチルアセトアセテート)、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)、トリス(アセトアセトナト)アルミニウム、アルミニウムモノアセチルアセトナトビス(メチルアセテート)、アルミニウムモノアセチルアセトナトビス(エチルアセテート)などのβ−ジケトナート錯体などを挙げることができる。
【0105】
アルミニウム化合物の市販品としては、AIPD、PADM、AMD、ASBD、アルミニウムエトキサイド、ALCH、ALCH−50F、ALCH−75、ALCH−TR、ALCH−TR−20、アルミキレートM、アルミキレートD、アルミキレートA(W)、表面処理剤OL−1000、アルゴマー、アルゴマー800AF、アルゴマー1000SF(以上、川研ファインケミカル社製)などが挙げられる。
【0106】
前記分散剤としては、ノニオン型分散剤を用いることもできる。ノニオン型分散剤を用いることによって、金属酸化物粒子の分散性を高めることができる。前記ノニオン型分散剤の好ましい例は、ポリオキシエチレンアルキル構造を有するリン酸エステル系ノニオン型分散剤である。
前記分散剤の配合量は、本発明の効果を損なわない限り特に限定されないが、分散剤を含む場合には、前記特定溶媒を除く組成物の成分全量100質量%に対して、例えば0.1〜5質量%である。
【0107】
[分散助剤]
前記発光素子形成用組成物は、金属酸化物粒子の分散性を高めるために、さらに分散助剤を含むことが好ましい。分散助剤としては、アセチルアセトン、N,N−ジメチルアセトアセトアミドなどから選択される1種以上を好適に使用することができる。
前記分散助剤の配合量は、本発明の効果を損なわない限り特に限定されないが、分散助剤を含む場合には、特定溶媒を除く組成物の成分全量100質量%に対して、例えば0.1〜5質量%である。
【0108】
[界面活性剤]
前記発光素子形成用樹脂組成物には、金属酸化物粒子を配合する場合、均一な厚さを有する樹脂層を得る観点から、界面活性剤を配合することが好ましい。前記界面活性剤としては、シリコーン系の界面活性剤、フッ素系の界面活性剤などが挙げられる。中でも、シリコーン系の界面活性剤が好ましい。
【0109】
シリコーン系の界面活性剤の例としては、例えば、SH28PA(東レダウコーニング社製、ジメチルポリシロキサンポリオキシアルキレン共重合体)、ペインタッド19、ペインタッド54(東レダウコーニング社製、ジメチルポリシロキサンポリオキシアルキレン共重合体)、FM0411(サイラプレーン、チッソ社製)、SF8428(東レダウコーニング社製、ジメチルポリシロキサンポリオキシアルキレン共重合体(側鎖にOH基含有))、BYKUV3510(ビックケミー・ジャパン社製、ジメチルポリシロキサン−ポリオキシアルキレン共重合体)、DC57(東レ・ダウコーニング・シリコーン社製、ジメチルポリシロキサン−ポリオキシアルキレン共重合体)、DC190(東レ・ダウコーニング・シリコーン社製、ジメチルポリシロキサン−ポリオキシアルキレン共重合体)、サイラプレーンFM−4411、FM−4421、FM−4425、FM−7711、FM−7721、FM−7725、FM−0411、FM−0421、FM−0425、FM−DA11、FM−DA21、FM−DA26、FM0711、FM0721、FM−0725、TM−0701、TM−0701T(チッソ社製)、UV3500、UV3510、UV3530(ビックケミー・ジャパン社製)、BY16−004、SF8428(東レ・ダウコーニング・シリコーン社製)、VPS−1001(和光純薬製)などが挙げられる。特に好ましい例としては、サイラプレーンFM−7711、FM−7721、FM−7725、FM−0411、FM−0421、FM−0425、FM0711、FM0721、FM−0725、VPS−1001などが挙げられる。また、エチレン性不飽和基を有するシリコーン化合物の市販品としては、例えば、TegoRad2300、2200N(テゴ・ケミー社製)などが挙げられる。
【0110】
フッ素系の界面活性剤の例として、例えば、メガファックF−114、F410、F411、F450、F493、F494、F443、F444、F445、F446、F470、F471、F472SF、F474、F475、R30、F477、F478、F479、F480SF、F482、F483、F484、F486、F487、F172D、F178K、F178RM、ESM−1、MCF350SF、BL20、R08、R61、R90(DIC社製)が挙げられる。
【0111】
前記界面活性剤の配合割合は、特定溶媒を除く組成物の成分全量100質量%に対して、好ましくは0〜10質量%、より好ましくは0.1〜5質量%、特に好ましくは0.5〜3質量%である。界面活性剤の配合量が特定溶媒を除く組成物の成分全量100質量%に対して10質量%を超えると、得られる樹脂層の屈折率が低下するおそれがある。
【0112】
[その他の添加剤]
前記発光素子形成用樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない範囲内で、上記以外の各種の添加剤を含むことができる。このような添加剤としては、例えば、上記成分以外の硬化性化合物、紫外線吸収剤などが挙げられる。
【0113】
[発光素子形成用樹脂組成物の製造方法]
前記発光素子形成用樹脂組成物は、前記重合体(I)および必要に応じて配合される他の任意成分を混合することによって調製される。通常、重合体(I)、特定溶媒および任意で添加されるその他の成分を、所定の割合で混合することによって調製することができる。
【0114】
<樹脂層>
本発明の発光素子を形成する樹脂層の製造方法としては、特に制限されないが、前記発光素子形成用樹脂組成物を第2電極17等に直接塗布して塗膜を形成し、次いで必要に応じて該塗膜から特定溶媒を除去する方法、発光素子形成用樹脂組成物をポリエチレンテレフタラート(PET)等からなる支持体上に塗布して塗膜を形成し、次いで該塗膜を支持体から剥離し、第2電極17上等に積層する方法などが挙げられる。
【0115】
前記樹脂層は、重合体(I)、好ましくは重合体(II)を含むため、屈折率が高い。このため、例えば第2電極17として、ITOからなる電極(屈折率約2.12)を用いる場合、第2電極17、樹脂層18および空気の屈折率はこの順で小さくなる。また、第2電極17と樹脂層18との屈折率の差、樹脂層18と空気との屈折率の差は小さい。このため、高い光の取り出し効率を有する発光素子が得られる。
【0116】
前記樹脂組成物を塗布して塗膜を形成する方法としては、ロールコート法、グラビアコート法、スピンコート法、スリットコート法およびドクターブレードを用いる方法等が挙げられる。
【0117】
前記樹脂組成物を塗布して塗膜を形成する時の厚さは、特に限定されないが、例えば1〜250μmであり、好ましくは2〜150μmであり、より好ましくは5〜125μmである。
【0118】
また、塗膜から前記特定溶媒を除去する方法としては、特に制限されないが、例えば、塗膜を加熱する方法が挙げられる。塗膜を加熱することにより、該塗膜中の有機溶媒を蒸発させて除去することができる。前記加熱の条件は、有機溶媒が蒸発すればよく、熱変形や熱による各種材料の変性等が発生しないよう適宜決めればよいが、例えば加熱温度は30℃〜300℃であることが好ましく、40℃〜250℃であることがより好ましく、50℃〜230℃であることがさらに好ましい。
【0119】
また、加熱時間としては、10分〜5時間であることが好ましい。なお、加熱は二段階以上で行ってもよい。具体的には、30〜80℃の温度で10分〜2時間乾燥後、100℃〜250℃でさらに10分〜2時間加熱するなどである。また、必要に応じて、窒素雰囲気下もしくは減圧下にて乾燥を行ってもよい。
【0120】
前記樹脂層の厚みは、所望の用途に応じて適宜選択されるが、好ましくは20nm〜100μm、より好ましくは80nm〜50μmである。
【0121】
また、前記樹脂層は、Rigaku社製8230型DSC測定装置(昇温速度20℃/分)によるガラス転移温度(Tg)が、230〜350℃であることが好ましく、240〜330℃であることがより好ましく、250〜300℃であることがさらに好ましい。
前記樹脂層が、このようなガラス転移温度を有すると、該層上に電極等を形成する際の加熱や熱処理を高温で行うことができるため、低抵抗で高透過率となり、光の取り出し効率および耐久性に優れた発光素子を容易に製造することができる。
【0122】
前記樹脂層は、引張強度が、50〜200MPaであることが好ましく、80〜150MPaであることがより好ましい。引張強度は、引張試験機5543(INSTRON社製)を用いて測定することができる。
【0123】
前記樹脂層は、破断伸びが、5〜100%であることが好ましく、15〜100%であることがより好ましい。破断伸びは、引張試験機5543(INSTRON社製)を用いて測定することができる。
【0124】
前記樹脂層は、引張弾性率が、2.5〜4.0GPaであることが好ましく、2.7〜3.7GPaであることがより好ましい。引張弾性率は、引張試験機5543(INSTRON社製)を用いて測定することができる。
【0125】
前記樹脂層は、Seiko Instruments社製SSC−5200型TMA測定装置を用いて測定した線膨張係数が、好ましくは80ppm/K以下、より好ましくは75ppm/K以下である。
【0126】
前記樹脂層は、湿度膨張係数が、15ppm/%RH以下であることが好ましく、12ppm/%RH以下であることがより好ましい。湿度膨張係数は、MA(SIIナノテクノロジー社製、TMA−SS6100)湿度制御オプションを用いて測定することができる。樹脂層の膨張係数が前記範囲にあると、寸法安定性(環境信頼性)が高いことを示すため、発光素子により好適に用いることができる。
【0127】
前記樹脂層は、比誘電率が2.0〜4.0であることが好ましく、2.3〜3.5であることがより好ましく、2.5〜3.2であることがさらに好ましい。比誘電率は、HP(株)製の4284A型LCRメーターを用いて測定することができる。比誘電率が前記範囲にあると、前記樹脂層を含む発光素子は、安定した発光状態を示す傾向が高い。
【0128】
前記樹脂層は、厚みが30μmである場合に、JIS K7105透明度試験法における全光線透過率が、85%以上であることが好ましく、88%以上であることがより好ましい。全光線透過率は高いほど好ましいが、95%以下、さらに限定すれば90%以下であっても十分な光取り出し効率が得られる。全光線透過率は、ヘイズメーターSC−3H(スガ試験機社製)を用いて測定することができる。
【0129】
前記樹脂層は、厚みが30μmである場合に、波長400nmにおける光線透過率が、好ましくは70%以上であり、より好ましくは75%以上であり、さらに好ましくは80%以上である。波長400nmにおける光線透過率は、紫外・可視分光光度計V−570(JASCO社製)を用いて測定することができる。
【0130】
前記樹脂層は、厚みが30μmである場合に、YI値(イエローインデックス)が、3.0以下であることが好ましく、2.5以下であることがより好ましく、2.0以下であることがさらに好ましい。YI値は、スガ試験機社製SM−T型色彩測定器を用いて測定することができる。
【0131】
前記樹脂層は、厚みが30μmである場合に、熱風乾燥機にて大気中230℃で1時間の加熱を行った後のYI値が3.0以下であることが好ましく、2.5以下であることがより好ましく、2.0以下であることがさらに好ましい。
【0132】
前記樹脂層の波長633nmの光に対する屈折率は、好ましくは1.60以上、さらに好ましくは1.65以上、特に好ましくは1.70以上である。前記樹脂層の屈折率が1.60以上であると、得られる発光素子の光の取り出し効率が高くなる。屈折率は、プリズムカプラ モデル2010(Metricon社製)を用いて測定することができる。
【0133】
本発明の発光素子は、樹脂層18を備えているので、発光層15で生じた光が第2電極17を通過して空気中に進入する時に、光の屈折によって、発光素子の外部に取り出される効率を高めることができる。
【0134】
図1中、樹脂層18は、第2電極17の一面に接触して形成されたものとして図示されているが、樹脂層18と第2電極17の間には、必要によって多様な層がさらに設けられていてもよく、基板11の第1電極13が形成された側とは反対側、基板11と第1電極13との間、第1電極13と発光層15との間、発光層15と第2電極17との間、樹脂層18の第2電極17が形成された側とは反対側にも、必要に応じて多様な層が設けられていてもよい。また、図1には図示されていないが、樹脂層18の上部には、発光素子10の密封のための公知の密封層がさらに設けられてもよく、多様な変形例が可能である。
【0135】
図2は、本発明の発光素子の実施形態例2である発光素子20を示す。
発光素子20は、基板21、樹脂層28、第1電極23、発光層25および第2電極27このが順に積層された構造を有する。つまり、樹脂層28は、第1電極23の、発光層が設けられた面とは反対側の面に設けられる。第1電極23は透過型電極であることが好ましく、この場合、発光層25で生じた光は、第1電極23、樹脂層28および基板21を通過して、発光素子20の外部に取り出されうる。発光素子20を構成する各層についての詳細な説明および発光素子の変形例は、前述と同様である。なお、発光素子20の光の取り出し効率を考慮すると前記基板21としては、屈折率が樹脂層28より小さい透明プラスチック基板であることが好ましい。樹脂層28は高い屈折率を有し、発光層25で生じた光は、光の屈折によって効果的に外部に取り出されうるので、光の取り出し効率の高い発光素子となる。
【0136】
図3は、本発明の発光素子の実施形態例3である発光素子30を示す。
発光素子30は、基板31、樹脂層38、第1電極33、発光層35、第2電極37および樹脂層39がこの順に積層された構造を有する。つまり、樹脂層38は、第1電極33の、発光層が設けられた面とは反対側の面に設けられており、樹脂層39は、第2電極37の、発光層が設けられた面とは反対側の面に設けられる。第1電極33および第2電極37は透過型電極であることが好ましく、この場合、発光層35で生じた光は、第1電極33および第2電極37を通過した後、それぞれ、樹脂層38および樹脂層39を通過して、発光素子30の外部に取り出されうる。発光素子30を構成する各層についての詳細な説明および発光素子の変形例は、前述と同様である。なお、発光素子30の光の取り出し効率を考慮すると前記基板31としては、屈折率が樹脂層38より小さい透明プラスチック基板であることが好ましい。樹脂層38および樹脂層39は高い屈折率を有し、発光層35で生じた光は、光の屈折によって効果的に外部に取り出されうるので、光の取り出し効率の高い発光素子となる。
【実施例】
【0137】
以下、本発明を実施例によってさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によって何ら限定されるものではない。
(1)構造分析
下記実施例および比較例で得られた重合体の構造分析は、IR(ATR法、FT−IR,6700(NICOLET社製))およびNMR(ADVANCE500型,BRUKAR社製)により行った。
【0138】
(2)重量平均分子量(Mw)、数平均分子量(Mw)および分子量分布(Mw/Mn)
下記実施例および比較例で得られた重合体の重量平均分子量(Mw)、数平均分子量(Mw)および分子量分布(Mw/Mn)は、TOSOH製HLC−8220型GPC装置(カラム:TSKgelα―M、展開溶剤:THF)を用いて測定した。
【0139】
(3)ガラス転移温度(Tg)
下記実施例および比較例で得られた重合体または評価用樹脂層のガラス転移温度は、Rigaku社製8230型DSC測定装置を用いて、昇温速度20℃/minとして測定した。
【0140】
(3')熱分解温度
下記実施例および比較例で得られた重合体の熱分解温度を熱重量分析法(TGA:窒素雰囲気下、昇温速度10℃/分、5%重量減少温度)により測定した。
【0141】
(4)機械的強度
下記実施例および比較例で得られた評価用樹脂層の室温における引張強度、破断伸び、引張弾性率を、引張試験機5543(INSTRON社製)を用いて、JIS K7127に準じて測定した。
【0142】
(5)環境安定性
下記実施例および比較例で得られた評価用樹脂層の線膨張係数をSeiko Instruments社製SSC−5200型TMA測定装置を用いて測定した。得られた評価用樹脂層を一度Tgマイナス20℃まで昇温した後、3℃/minで降温した際の200〜100℃でのTMA曲線の勾配から線膨張係数を算出した。
下記実施例および比較例で得られた評価用樹脂層の湿度膨張係数をMA(SIIナノテクノロジー社製、TMA−SS6100)湿度制御オプションを用いて下記条件にて測定した。
湿度条件:40%RHから70%RHに加湿した(引張法:加重5g) 温度:23℃
【0143】
(6)比誘電率
HP(株)製の4284A型LCRメーターを用い、下記実施例および比較例で得られた評価用樹脂層の比誘電率を測定した。なお、測定条件は、以下のとおりである。周波数:100MHz、雰囲気:大気下室温、電極:直径5mmのアルミが蒸着された電極(ガード電極付き)
【0144】
(7)吸水性
下記実施例および比較例で得られた評価用樹脂層を、3cm×4cmの大きさに3枚切り出し、減圧乾燥下180℃で8時間乾燥させた。乾燥後の樹脂層の質量を測定した後、蒸留水に25℃で24時間浸漬させた。浸漬後樹脂層表面の水滴をふき取り、浸漬前後の質量変化から吸水率を算出し、3枚の平均値を算出した。
【0145】
(8)光学特性
下記実施例および比較例で得られた評価用樹脂層について、全光線透過率およびイエローインデックス(YI値)をJIS K7105透明度試験法に準じて測定した。具体的には、全光線透過率を、スガ試験機社製ヘイズメーターSC−3Hを用いて測定し、YI値を、スガ試験機社製SM−T型色彩測定器を用いて測定した(加熱前YI)。
また、下記実施例および比較例で得られた評価用樹脂層を熱風乾燥機にて大気中230℃で1時間の加熱を行った後、YI値をスガ試験機社製SM−T型色彩測定器を用いて測定した(加熱後YI)。なお、測定は、JIS K7105条件に準じて行った。
【0146】
実施例および比較例で得られた評価用樹脂層の波長400nmにおける光線透過率は、紫外・可視分光光度計V−570(JASCO社製)を用いて測定し、得られた評価用樹脂層の屈折率は、プリズムカプラ モデル2010(Metricon社製)を用いて測定した。なお、屈折率は、波長633nmを用いて測定した。
【0147】
(9)発光素子用樹脂層の成膜性
4インチ径の溶融石英またはシリコン基板上に、実施例および比較例で得られた樹脂組成物をディスペンスし、厚さ約1μmになるようにスピンコートを用いて塗布し、70℃で30分間乾燥させ、ついで150℃で10分間加熱し、さらに230℃で2時間乾燥して、発光素子用樹脂層(膜厚:1μm)を作製した。この樹脂層について、はじきや発泡(表面凹凸)、変色の有無を目視により調べた。はじきや発泡、変色のないものを「○」、これらが一部見られるもの「△」、これらが全面に発生しているものを「×」とした。なお、「はじき」は、外観として樹脂層表面の干渉ムラの有無を目視により観察することで評価した。
【0148】
[実施例1]
<重合体の合成>
3Lの4つ口フラスコに(A)成分:2,6−ジフルオロベンゾニトリル(以下「DFBN」ともいう。)35.12g(0.253mol)、(B)成分:9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン(以下「BPFL」ともいう。)70.08g(0.200mol)およびレゾルシノール(以下「RES」ともいう。)5.51g(0.050mol)、炭酸カリウム41.46g(0.300mol)、N,N−ジメチルアセトアミド(以下「DMAc」ともいう。)443gならびにトルエン111gを添加した。続いて、4つ口フラスコに温度計、撹拌機、窒素導入管付き三方コック、Dean−Stark管および冷却管を取り付けた。
【0149】
次いで、フラスコ内を窒素置換した後、得られた溶液を140℃で3時間反応させ、生成する水をDean−Stark管から随時取り除いた。水の生成が認められなくなったところで、徐々に温度を160℃まで上昇させ、そのままの温度で6時間反応させた。
室温(25℃)まで冷却後、生成した塩をろ紙で除去し、ろ液をメタノールに投じて再沈殿させ、ろ別によりろ物(残渣)を単離した。得られたろ物を60℃で一晩真空乾燥し、白色粉末(重合体)を得た(収量95.67g、収率95%)。
【0150】
得られた重合体の物性を表1に示す。得られた重合体の構造分析および重量平均分子量の測定を行った。結果は、赤外吸収スペクトルの特性吸収が、3035cm-1(C−H伸縮)、2229cm-1(CN)、1574cm-1、1499cm-1(芳香環骨格吸収)、1240cm-1(−O−)であり、重量平均分子量が130,000であった。得られた重合体は前記構造単位(1)および(3)を有していた。
【0151】
次いで、得られた重合体をDMAcに再溶解させることで重合体濃度20質量%の樹脂組成物を得た。該樹脂組成物を、ポリエチレンテレフタラート(PET)からなる支持体上にドクターブレードを用いて塗布し、70℃で30分乾燥させ、ついで100℃で30分乾燥して塗膜を得た後、PET支持体より剥離した。その後、塗膜を金枠に固定し、さらに230℃、2時間乾燥して、膜厚30μmの評価用樹脂層を得た。得られた重合体、評価用樹脂層および発光素子用樹脂層の成膜性の結果を表1に示す。
得られた樹脂層(発光素子用樹脂層)は、屈折率が高く、耐熱性(高いTg)、成膜性および環境安定性等に優れるため、この樹脂層を含む発光素子は、光の取り出し効率および耐久性に優れる。
【0152】
[実施例2]
RESの代わりに2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン11.41g(0.050mol)を使用した以外は、実施例1と同様に行った。得られた重合体、評価用樹脂層および発光素子用樹脂層の成膜性の結果を表1に示す。
得られた樹脂層(発光素子用樹脂層)は、屈折率が高く、耐熱性(高いTg)、成膜性および環境安定性等に優れるため、この樹脂層を含む発光素子は、光の取り出し効率および耐久性に優れる。
【0153】
[実施例3]
(B)成分として、BPFL70.08gおよびRES5.51gの代わりに、BPFL78.84g(0.225mol)および2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン8.41g(0.025mol)を使用した以外は実施例1と同様に行った。得られた重合体、評価用樹脂層および発光素子用樹脂層の成膜性の結果を表1に示す。
得られた樹脂層(発光素子用樹脂層)は、屈折率が高く、耐熱性(高いTg)、成膜性および環境安定性等に優れるため、この樹脂層を含む発光素子は、光の取り出し効率および耐久性に優れる。
【0154】
[実施例4]
(B)成分として、BPFL70.08gおよびRES5.51gの代わりに、9,9−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)フルオレン125.65g(0.250mol)を使用した以外は実施例1と同様に行った。得られた重合体、評価用樹脂層および発光素子用樹脂層の成膜性の結果を表1に示す。
得られた樹脂層(発光素子用樹脂層)は、屈折率が高く、耐熱性(高いTg)、成膜性および環境安定性等に優れるため、この樹脂層を含む発光素子は、光の取り出し効率および耐久性に優れる。
【0155】
[実施例5]
(B)成分として、BPFL70.08gおよびRES5.51gの代わりに、BPFL87.60g(0.250mol)を使用した以外は実施例1と同様に行った。得られた重合体、評価用樹脂層および発光素子用樹脂層の成膜性の結果を表1に示す。
得られた樹脂層(発光素子用樹脂層)は、屈折率が高く、耐熱性(高いTg)、成膜性および環境安定性等に優れるため、この樹脂層を含む発光素子は、光の取り出し効率および耐久性に優れる。
【0156】
[実施例6]
(B)成分として、BPFL70.08gおよびRES5.51gの代わりに、BPFL78.84g(0.225mol)および1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン6.71g(0.025mol)を使用した以外は実施例1と同様に行った。得られた重合体、評価用樹脂層および発光素子用樹脂層の成膜性の結果を表1に示す。
得られた樹脂層(発光素子用樹脂層)は、屈折率が高く、耐熱性(高いTg)、成膜性および環境安定性等に優れるため、この樹脂層を含む発光素子は、光の取り出し効率および耐久性に優れる。
【0157】
[実施例7]
(A)成分として、DFBN35.12gの代わりに、DFBN28.10g(0.202mol)および4,4'−ジフルオロベンゾフェノン11.02g(0.051mol)を用いた以外は実施例5と同様に行った。得られた重合体、評価用樹脂層および発光素子用樹脂層の成膜性の結果を表1に示す。
得られた樹脂層(発光素子用樹脂層)は、屈折率が高く、耐熱性(高いTg)、成膜性および環境安定性等に優れるため、この樹脂層を含む発光素子は、光の取り出し効率および耐久性に優れる。
【0158】
[実施例8]
(A)成分の配合量を、DFBN17.56g(0.126mol)および4,4'−ジフルオロベンゾフェノン27.55g(0.126mol)に変更した以外は実施例7と同様に行った。得られた重合体、評価用樹脂層、および発光素子用樹脂層の成膜性の結果を表1に示す。
得られた樹脂層(発光素子用樹脂層)は、屈折率が高く、耐熱性(高いTg)、成膜性および環境安定性等に優れるため、この樹脂層を含む発光素子は、光の取り出し効率および耐久性に優れる。
【0159】
[実施例9]
(A)成分として、DFBN35.12gの代わりに、4,4'−ジフルオロジフェニルスルホン(DFDS)78.84g(0.250mol)を使用した以外は実施例5と同様に行った。得られた重合体、評価用樹脂層および発光素子用樹脂層の成膜性の結果を表1に示す。
得られた樹脂層(発光素子用樹脂層)は、屈折率が高く、耐熱性(高いTg)、成膜性および環境安定性等に優れるため、この樹脂層を含む発光素子は、光の取り出し効率および耐久性に優れる。
【0160】
[実施例10]
実施例1で得られた重合体を重合体濃度が20質量%となるようDMAcに再溶解させた溶液をビーズミル用容器に加え、次いで、得られた溶液に酸化ジルコニウム(一次平均粒子径:15nm)を該重合体100質量部に対して80質量部になるように加え、さらに粒径0.1mmのジルコニアビーズ(ニッカトー社製)350質量部を加えて、ビーズミルを用いて、1500rpm、10時間攪拌して、酸化ジルコニウムの微粒子を分散させた後、ジルコニアビーズを除去することで樹脂組成物を得た。この樹脂組成物を用いたこと以外は、実施例1と同様に行った。評価用樹脂層および発光素子用樹脂層の成膜性の結果を表1に示す。
【0161】
得られた樹脂組成物中の微粒子について、25℃での体積平均粒径を堀場製作所社製の動的光散乱式粒径分布測定装置により測定したところ、体積平均粒径は50nm未満であった。
得られた樹脂層(発光素子用樹脂層)は、屈折率が高く、耐熱性(高いTg)、成膜性および環境安定性等に優れるため、この樹脂層を含む発光素子は、光の取り出し効率および耐久性に優れる。
【0162】
[比較例1]
(B)成分として、BPFL70.08gおよびRES5.51gの代わりに、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン84.06g(0.250mol)を使用した以外は、実施例1と同様に行った。得られた重合体、評価用樹脂層および発光素子用樹脂層の成膜性の結果を表1に示す。
【0163】
【表1】

【符号の説明】
【0164】
10、20、30 発光素子
11、21、31 基板
13、23、33 第1電極
15、25、35 発光層
17、27、37 第2電極
18、28、38、39 樹脂層

【特許請求の範囲】
【請求項1】
基板と第1電極と発光層と第2電極と樹脂層とを備える発光素子であって、
前記基板と前記第1電極と前記発光層と前記第2電極とがこの順に積層されてなり、
前記樹脂層は、
(a)前記第1電極の、前記発光層が形成された側とは反対側、および、
(b)前記第2電極の、前記発光層が形成された側とは反対側、
の少なくとも一方に形成されており、
前記樹脂層が、示差走査熱量測定(DSC、昇温速度20℃/分)によるガラス転移温度(Tg)が230〜350℃である芳香族ポリエーテル系重合体を含む層であることを特徴とする発光素子。
【請求項2】
前記発光素子が有機エレクトロルミネッセンス素子である、請求項1に記載の発光素子。
【請求項3】
前記芳香族ポリエーテル系重合体が、下記式(1)で表わされる構造単位および下記式(2)で表わされる構造単位からなる群より選ばれる少なくとも一つの構造単位(i)を有する、請求項1または2に記載の発光素子。
【化1】

(式(1)中、R1〜R4は、それぞれ独立に炭素数1〜12の1価の有機基を示し、a〜dは、それぞれ独立に0〜4の整数を示す。)
【化2】

(式(2)中、R1〜R4およびa〜dは、それぞれ独立に前記式(1)中のR1〜R4およびa〜dと同義であり、Yは、単結合、−SO2−または>C=Oを示し、R7およびR8は、それぞれ独立にハロゲン原子、炭素数1〜12の1価の有機基またはニトロ基を示し、gおよびhは、それぞれ独立に0〜4の整数を示し、mは、0または1を示す。但し、mが0の時、R7はシアノ基ではない。)
【請求項4】
前記芳香族ポリエーテル系重合体が、さらに、下記式(3)で表わされる構造単位および下記式(4)で表わされる構造単位からなる群より選ばれる少なくとも一つの構造単位(ii)を有する、請求項1〜3のいずれか1項に記載の発光素子。
【化3】

(式(3)中、R5およびR6は、それぞれ独立に炭素数1〜12の1価の有機基を示し、Zは、単結合、−O−、−S−、−SO2−、>C=O、−CONH−、−COO−または炭素数1〜12の2価の有機基を示し、eおよびfは、それぞれ独立に0〜4の整数を示し、nは0または1を示す。)
【化4】

(式(4)中、R7、R8、Y、m、gおよびhは、それぞれ独立に前記式(2)中のR7、R8、Y、m、gおよびhと同義であり、R5、R6、Z、n、eおよびfは、それぞれ独立に前記式(3)中のR5、R6、Z、n、eおよびfと同義である。)
【請求項5】
前記芳香族ポリエーテル系重合体において、前記構造単位(i)と前記構造単位(ii)とのモル比が50:50〜100:0である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の発光素子。
【請求項6】
前記芳香族ポリエーテル系重合体のゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)によるポリスチレン換算の重量平均分子量が5,000〜500,000である、請求項1〜5のいずれか1項に記載の発光素子。
【請求項7】
前記樹脂層が、さらに金属酸化物粒子を含有する、請求項1〜6のいずれか1項に記載の発光素子。
【請求項8】
下記式(1)で表わされる構造単位および下記式(2)で表わされる構造単位からなる群より選ばれる少なくとも一つの構造単位(i)を有する重合体、および有機溶媒を含有する、発光素子の樹脂層を形成するための発光素子形成用樹脂組成物。
【化5】

(式(1)中、R1〜R4は、それぞれ独立に炭素数1〜12の1価の有機基を示し、a〜dは、それぞれ独立に0〜4の整数を示す。)
【化6】

(式(2)中、R1〜R4およびa〜dは、それぞれ独立に前記式(1)中のR1〜R4およびa〜dと同義であり、Yは、単結合、−SO2−または>C=Oを示し、R7およびR8は、それぞれ独立にハロゲン原子、炭素数1〜12の1価の有機基またはニトロ基を示し、gおよびhは、それぞれ独立に0〜4の整数を示し、mは、0または1を示す。但し、mが0の時、R7はシアノ基ではない。)

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【公開番号】特開2012−221554(P2012−221554A)
【公開日】平成24年11月12日(2012.11.12)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2011−82458(P2011−82458)
【出願日】平成23年4月4日(2011.4.4)
【出願人】(000004178)JSR株式会社 (3,320)
【Fターム(参考)】