発光装置
【課題】効果的に共通電極の電圧降下を防ぐことのできる発光装置を提供する。
【解決手段】基板１０と、基板１０上に設けられる複数の画素２と、から構成され、
画素２が、第一副画素２ａと、第二副画素２ｂと、からなり、第一副画素２ａ及び第二副画素２ｂが、下部電極（１１ａ，１１ｂ）と、第一有機化合物層（１３ａ，１３ｂ）と、中間電極層１４と、第二有機化合物層１５と、上部電極（１６ａ，１６ｂ）と、をこの順に含み、第一副画素２ａに含まれる中間電極層１４が、第一副画素２ａに含まれる下部電極１１ａ又は上部電極１６ａに接続される配線と電気接続されていることを特徴とする、発光装置１。
【解決手段】基板１０と、基板１０上に設けられる複数の画素２と、から構成され、
画素２が、第一副画素２ａと、第二副画素２ｂと、からなり、第一副画素２ａ及び第二副画素２ｂが、下部電極（１１ａ，１１ｂ）と、第一有機化合物層（１３ａ，１３ｂ）と、中間電極層１４と、第二有機化合物層１５と、上部電極（１６ａ，１６ｂ）と、をこの順に含み、第一副画素２ａに含まれる中間電極層１４が、第一副画素２ａに含まれる下部電極１１ａ又は上部電極１６ａに接続される配線と電気接続されていることを特徴とする、発光装置１。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、発光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一対の電極と、この一対の電極間に挟持される有機化合物層とからなる有機ＥＬ素子を複数有する有機ＥＬ表示装置において、近年、有機ＥＬ素子に相当する積層体が複数積層されている有機ＥＬ表示装置が報告されている。ここで有機ＥＬ素子に相当する積層体を複数積層すると、有機ＥＬ表示装置を構成する画素（又は副画素）の開口率が向上すると共に、同一の画素（又は副画素）から複数の発光色を取り出すことが可能となる。
【０００３】
有機ＥＬ素子に相当する積層体を複数積層している有機ＥＬ表示装置の具体例として、特許文献１にて開示されている有機ＥＬ表示装置がある。この有機ＥＬ表示装置は、下記（ｉ）及び（ｉｉ）に示される２種類の副画素を有する画素が複数基板上に並列されている。
（ｉ）第一副画素（下部電極／Ｒ（Ｒｅｄ）有機化合物層／中間電極層／Ｂ（Ｂｌｕｅ）有機化合物層／上部電極）
（ｉｉ）第二副画素（下部電極／Ｇ（Ｇｒｅｅｎ）有機化合物層／中間電極層／Ｂ（Ｂｌｕｅ）有機化合物層／上部電極）
【０００４】
ところで特許文献１に開示されている発光装置は、中間電極層が透明導電膜であって、各副画素において共通する電極になっている。また特許文献１において、中間電極層では駆動電圧の降下を防ぐために、透明導電膜とは別の低抵抗配線が用いられている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００５−１７４６３９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
一方で、有機ＥＬ素子に相当する積層体が複数積層されている有機ＥＬ表示装置において、配線の役割を果たす層が増えることはコストアップにつながるため、なるべく配線の役割を果たす層の数を増やさないようにして電圧降下を防ぐ方法が求められる。
【０００７】
本発明は、上記の問題点を解決するためになされたものであり、その目的は、効果的に共通電極の電圧降下を防ぐことのできる発光装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の発光装置は、基板と、
該基板上に設けられる複数の画素と、から構成され、
該画素が、第一副画素と、第二副画素と、からなり、
該第一副画素及び該第二副画素が、下部電極と、第一有機化合物層と、中間電極層と、第二有機化合物層と、上部電極と、をこの順に含み、
該第一副画素に含まれる中間電極層が、該第一副画素に含まれる下部電極又は上部電極に接続される配線と電気接続されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、従来の発光装置に比べて少ない層構成で電圧降下を防ぎ、良好な表示特性を得ることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の発光装置における第一の実施形態を示す概略図であり、（ａ）は当該第一の実施形態の平面概略図であり、（ｂ）及び（ｃ）は当該第一の実施形態の断面概略図である。
【図２】図１の発光装置の作製プロセスを示す図である。
【図３】図１の発光装置の等価回路を示す回路図である。
【図４】本発明の発光装置における第二の実施形態を示す概略図であり、（ａ）は当該第二の実施形態の平面概略図であり、（ｂ）及び（ｃ）は当該第二の実施形態の断面概略図である。
【図５】図４の発光装置の作製プロセスを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本発明の発光装置は、基板と、該基板上に設けられる複数の画素と、から構成される。ここで画素は、第一副画素と、第二副画素と、からなる部材である。また画素に含まれる第一副画素及び第二副画素は、下部電極と、第一有機化合物層と、中間電極層と、第二有機化合物層と、上部電極と、をこの順に含んでいる。
【００１２】
本発明において、第一副画素に含まれる中間電極層は、第一副画素に含まれる下部電極又は上部電極に接続される配線と電気接続されている。この配線は、好ましくは、下部電極又は前記上部電極と同一の導電層にあり、かつ他の電極とは絶縁されている。つまり、当該配線が下部電極と同一の導電層にある場合は、当該配線は上部電極とは絶縁される一方で、当該配線が上部電極と同一の導電層にある場合は、当該配線は下部電極とは絶縁される。この配線は、より好ましくは、上部電極と同一の導電層にあり、かつ下部電極とは絶縁される。
【００１３】
また本発明の発光装置は、上部電極又は下部電極から光が取り出されるため、中間層電極は、好ましくは、透明導電性材料からなる。一方、製造プロセスの簡便化の観点から、中間電極層は各画素に共通した電極であることが好ましい。
【００１４】
本発明の構成は、好ましくは、有機ＥＬ発光装置で適用することができるがこれに限定されない。例えば、無機ＥＬ発光装置等でも適用することができる。
【００１５】
以下、図面を参照しながら、本発明の発光装置の実施形態について説明する。ただし、後述する実施形態はあくまでも本発明の一つの実施形態であって、本発明はこれらに限定されるものではない。また以下の説明において、特に図示又は記載されない部分に関しては、当該技術分野の周知技術又は公知技術を適用することができる。
【実施例１】
【００１６】
図１は、本発明の発光装置における第一の実施形態を示す概略図であり、（ａ）は当該第一の実施形態の平面概略図であり、（ｂ）及び（ｃ）は当該第一の実施形態の断面概略図である。図１（ａ）に示される発光装置１は、大まかには、断面構造が図１（ｂ）で示される表示部と、断面構造が図１（ｃ）で示される配線接続部とからなる。尚、図１（ｂ）の断面構造は、図１（ａ）のＡＡ’間の断面構造であり、図１（ｃ）の断面構造は、図１（ａ）のＢＢ’間の断面構造である。
【００１７】
図１（ｂ）に示されるように、発光装置１には、基板１０上に、第一副画素２ａと、第二副画素２ｂとからなる画素２を有している。尚、実際の発光装置には、図１で示される画素２が基板１０上にマトリックス状に配列されている。
【００１８】
図１の発光装置１において、第一副画素２ａは、基本的には、基板１０上に設けられる積層体、即ち、下部電極１１ａ、第一有機化合物層１３ａ、中間電極層１４、第二有機化合物層１５及び上部電極１６ａがこの順で積層されている積層体からなる部材である。一方、第二副画素２ｂは、基本的には、基板１０上に設けられる積層体、即ち、下部電極１１ｂ、第一有機化合物層１３ｂ、中間電極層１４、第二有機化合物層１５及び上部電極１６ｂがこの順で積層されている積層体からなる部材である。
【００１９】
各有機化合物層（１３ａ，１３ｂ，１５）は、いずれかがＲ（Ｒｅｄ）有機化合物層、Ｇ（Ｇｒｅｅｎ）有機化合物層又はＢ（Ｂｌｕｅ）有機化合物層である。具体例として、第一副画素２ａに含まれる第一有機化合物層１３ａをＧ有機化合物層とし、第二副画素２ｂに含まれる第一有機化合物層１３ｂをＢ有機化合物層とし、第二有機化合物層１６をＲ有機化合物層とする態様がある。ただし本発明においてその組み合わせは特に限定されるものではない。
【００２０】
本実施形態において、表示部に設けられる上部電極１６ａと、配線接続部に設けられる上部電極１６ａとは、同一の工程により形成された同一の層（同一の導電層）である。このため上部電極１６ａは、第一副画素の構成部材である電極層の一つとして機能すると共に、中間電極層１５と電気接続する配線、即ち、補助配線として機能する。同様に、表示部に設けられる上部電極１６ｂと、配線接続部に設けられる上部電極１６ｂとは、同一の工程により形成された同一の層（同一の導電層）である。このため上部電極１６ｂは、第二副画素の構成部材である電極層の一つとして機能すると共に、基板１０上に設けられる下部電極でもある制御電極１１ｃと電気接続する配線として機能する。以上のように、副画素（第一副画素２ａ）に含まれる電極層（上部電極１６ａ）と配線部材とを、同一の工程により形成された同一の層（同一の導電層）とすることにより、配線部材に相当する電極層を改めて設ける必要がない。
【００２１】
本実施形態において、中間電極層１４は、上部電極１６ａと電気接続されているが、下部電極１１ａとは電気接続されていない。これにより、中間電極層１４と上部電極１６ａとの間で電気的短絡が生じるので、第一副画素２ａの構成部材である第二有機化合物層１４に含まれる発光層は発光しない。このため第一副画素２ａにおいては、第一有機化合物層１３ａに含まれる発光層からの発光のみを取り出すことができる。
【００２２】
一方、本実施形態において、中間電極層１４は、各副画素（２ａ、２ｂ）に共通して形成されるため、上部電極１６ａから印加される電流が第二副画素２ｂを構成する中間電極層１４まで流れる。このため第二副画素２ｂにおいて、下部電極１１ｂから印加される電流と中間電極層１４から印加される電流とにより、第一有機化合物層１３ｂに含まれる発光層が発光する。また第二副画素２ｂにおいて、中間電極層１４から印加される電流と上部電極１６ｂから印加される電流とにより、第二有機化合物層１５に含まれる発光層が発光する。
【００２３】
以下、図面を参照しながら、本実施形態の発光装置の作製方法について説明する。図２は、図１の発光装置の作製プロセスを示す図である。
【００２４】
まず図２（ａ）に示されるように、基板１０上に下部電極１１ａ及び１１ｂ、並びに制御電極１１ｃを所定の位置に形成する。尚、下部電極１１ａ及び１１ｂ、並びに制御電極１１ｃが予め形成されている基板１０を用意してもよい。
【００２５】
一方、図示はしていないが、基板１０内に、ゲート電極、ソース・ドレインメタル層、Ｐｏｌｙ−Ｓｉを含むＴＦＴ回路や、当該ＴＦＴ回路と制御電極１１ｃとを電気接続する手段（コンタクトホール等）を設けてもよい。尚、ＴＦＴ回路を基板１０内に設ける場合は、短絡防止用の絶縁層、及びＴＦＴ回路を設けることで生じた凹凸を平坦にする平坦化層を別途設ける必要がある。
【００２６】
次に、図２（ｂ）に示されるように、素子分離膜１２を形成する。この素子分離膜１２は、公知の方法により、所望の形状にパターン形成される。
【００２７】
次に、図２（ｃ）に示されるように、下部電極１１ａ上に第一有機化合物層１３ａを、下部電極１１ｂ及び制御電極１１ｃ上に第一有機化合物層１３ｂをそれぞれ形成する。ここで各副画素にそれぞれ形成される第一有機化合物層（１３ａ、１３ｂ）は、それぞれ発光層を有する一層又は複数の層からなる積層体である。形成される第一有機化合物層（１３ａ、１３ｂ）の具体例を以下に示す。ただしこれらはあくまでも具体例であり、本発明はこれらに限定されるものではない。
（１）（陽極／）発光層（／陰極）
（２）（陽極／）正孔注入層／発光層（／陰極）
（３）（陽極／）正孔輸送層／発光層／電子輸送層（／陰極）
（４）（陽極／）正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子注入層（／陰極）
（５）（陽極／）正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電子注入層（／陰極）
【００２８】
尚、発光層は、例えば、電荷注入又は電荷輸送の機能（正孔注入、正孔輸送、電子注入、電子輸送）を併せ持つ複合機能層であってもよい。
【００２９】
第一有機化合物層（１３ａ、１３ｂ）の構成材料として、有機発光材料、正孔注入材料、電子注入材料、正孔輸送材料又は電子輸送材料が挙げられる。ここで電荷注入・輸送材料（正孔輸送材料、電子輸送材料、正孔注入材料、電子注入材料）に有機発光材料をドーピングすると、発光色の選択の幅を広げることができる。また第一有機化合物層（１３ａ、１３ｂ）にそれぞれ含まれる発光層は、発光効率の観点からアモルファス膜であることが好ましい。
【００３０】
有機発光材料は、各有機化合物層の発光色に応じて適宜選択することができる。例えば、トリアリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、ポリアリーレン、芳香族縮合多環化合物、芳香族複素環化合物、芳香族複素縮合環化合物、金属錯体化合物等及びこれらの単独オリゴ体あるいは複合オリゴ体を使用することができる。ただし本発明はこれらに限定されるものではない。
【００３１】
正孔注入・輸送層の構成材料として、フタロシアニン化合物、トリアリールアミン化合物、導電性高分子、ペリレン系化合物、Ｅｕ錯体等が使用することができる。ただし本発明はこれらに限定されるものではない。
【００３２】
電子注入・輸送層の構成材料として、アルミイオンに８−ヒドロキシキノリンの３量体が配位したＡｌｑ3、アゾメチン亜鉛錯体、ジスチリルビフェニル誘導体系等を使用することができる。
【００３３】
第一有機化合物層（１３ａ、１３ｂ）の膜厚は、好ましくは、０．０５μｍ〜０．３μｍであり、より好ましくは、０．０５μｍ〜０．１５μｍである。
【００３４】
第一有機化合物層（１３ａ、１３ｂ）は、公知の方法により形成することができる。
【００３５】
次に、図２（ｄ）に示されるように、第一有機化合物層（１３ａ、１３ｂ）を覆うように中間電極層１４を形成する。
【００３６】
中間電極層１４の構成材料は、光透過性が高い電極材料が望ましい。例えば、Ａｇ合金、Ａｌ、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ等が挙げられる。ただし、中間電極層１５がＡｇ合金、Ａｌ等の金属材料からなる場合は、中間電極層１４において光を透過できるように層の膜厚を制御する必要がある。
【００３７】
中間電極層１４は、スパッタ法、レーザーアブレーション等による転写法等の公知の方法を用いて成膜することができる。ここで中間電極層１４は、画素毎に個別に制御することが必要な制御電極ではなく、全画素に共通する共通電極であっても構わない。ただし、後の工程で制御電極１１ｃと上部電極１６ｂとを電気接続するコンタクトホール（１７ｂ）を形成する際に、当該コンタクトホールの形成領域に中間電極層１４が配置されないようにするために所定のパターニングを行う。ここでパターニングの方法として、例えば、メタルマスクを用いたマスク蒸着法によってＡｇ等の電極材料を成膜する方法が挙げられる。
【００３８】
次に、図２（ｅ）に示されるように、中間電極層１４、並びに中間電極層１４で覆われていない第一有機化合物層（１３ａ、１３ｂ）を覆うように第二有機化合物層１５を形成する。
【００３９】
第二有機化合物層１５の層構成は、基本的には、第一有機化合物層（１３ａ、１３ｂ）と同様である。また第二有機化合物層１５を形成する際に、形成する層の順番は、中間電極層１５の性質に応じて適宜設定することができる。具体的には、中間電極層１４が陽極の場合は、正孔注入層又は正孔輸送層を先に形成する一方で、中間電極層１４が陰極の場合は、電子注入層又は電子輸送層を先に形成する。
【００４０】
次に、図２（ｆ）に示されるように、二種類のコンタクトホール、即ち、制御電極用コンタクトホール１７ａ、共通電極用コンタクトホール１７ｂをそれぞれ形成する。ここで制御電極用コンタクトホール１７ａは、上部電極１６ｂと、制御電極１１ｃ及びこの制御電極１１ｃに電気接続されているＴＦＴ回路とを電気接続するために、第一有機化合物層１３ｂと第二有機化合物層１５とを部分的に除去して設けられる。一方、共通電極用コンタクトホール１７ｂは、上部電極１６ａと、共通電極である中間電極層１４とを電気接続するために、高抵抗層である第二有機化合物層１５を部分的に除去して設けられる。これら二種類のコンタクトホールの形成方法としては、レーザー照射による加工（除去加工）が好ましい。例えば、ＹＡＧレーザー（ＳＨＧ、ＴＨＧを含む）、エキシマレーザー等一般に薄膜加工に使用するものを用いることができる。また具体的な加工方法としては、これらのレーザー光を数μｍに絞って走査したり、面状光源にしてコンタクトホール部分を透過するマスクを介したりして、基板上に所定のパターンで照射する方法がある。
【００４１】
上記二種類のコンタクトホール（１７ａ，１７ｂ）の径の大きさは、好ましくは、２μｍ〜１５μｍである。
【００４２】
次に、図２（ｇ）に示されるように、上部電極（１６ａ、１６ｂ）となる電極薄膜１６を形成する。図２（ｇ）に示されるように、上部電極（１６ａ、１６ｂ）となる電極薄膜１６を形成することにより、表示部に含まれる部分と配線接続部に含まれる部分を同一の導電層として形成することができる。上部電極（１６ａ、１６ｂ）の構成材料は、発光層からの発光の取り出し形式（トップエミッション型、ボトムエミッション型）に応じて適宜選択することができる。例えば、Ａｇ合金、Ａｌ、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ等が挙げられる。
【００４３】
次に、図２（ｈ）に示されるように、上部電極（１６ａ、１６ｂ）となる電極薄膜１６を加工して上部電極（１６ａ、１６ｂ）をそれぞれ形成する。電極薄膜１６の加工方法としては、例えば、レーザーアブレーション等によるパターニングが挙げられる。また別法として、メタルマスクを用いたマスクスパッタ法、マスク蒸着法等も使用することができる。
【００４４】
尚、上部電極（１６ａ、１６ｂ）を形成した後、大気中の水分や酸素から発光装置を保護するため保護層を形成するのが望ましい。
【００４５】
図３は、図１の発光装置の等価回路を示す回路図である。第一副画素２ａにおいて、コンタクトホール１７ａは、中間電極層１４と上部電極１６ａとを電気接続するために利用される。このコンタクトホール１７ａを設けることにより、上部電極１６ａは、中間電極層１４の補助配線として機能する。一方第二副画素２ｂにおいて、下部電極１２ｂ及び上部電極１６ｂは陽極として機能し、中間電極層１４は陰極として機能する。また第二副画素２ｂにおいて、制御電極用コンタクトホール１７ｂは、第三有機化合物層１３（Ｒ有機化合物層）に含まれる発光層（Ｒ発光層）の発光を制御するために利用される。具体的には、コンタクトホール１７ａは、Ｒ発光層の発光を制御する制御電極１１ｃと、上部電極１６ｂとを電気接続するために利用される。
【００４６】
以上のように作製した発光装置は、Ｒ、Ｇ、Ｂの発光を単一の副画素から取り出すことができる。
【実施例２】
【００４７】
次に、図面を参照しながら、本発明の発光装置における第二の実施形態について説明する。尚、以下の説明においては、上述した第一の実施形態との相違点を中心に説明する。図４は、本発明の発光装置における第二の実施形態を示す概略図であり、（ａ）は当該第二の実施形態の平面概略図であり、（ｂ）及び（ｃ）は当該第二の実施形態の断面概略図である。
【００４８】
図４の発光装置３は、図１の発光装置１と比較すると、配線接続部において中間電極層１４が、基板１０上に設けられ下部電極でもある電極１１ｄと電気接続されており、かつ上部電極１６ｂとは電気接続されていない点が異なっている。ここで電極１１ｄは、基板１０内に設けられ制御電極１１ｃに電気接続されるＴＦＴ回路とは別個のＴＦＴ回路（不図示）から送信される電気信号を中間電極層１４へ送信する電極として機能する。
【００４９】
また図４の発光装置３は、各副画素（２ａ、２ｂ）に設けられる２つの有機化合物層に含まれる発光層をそれぞれ個別に発光させることができる。具体的には、第一副画素２ａにおいては、中間電極層１４と、下部電極１２ａ又は上部電極１６ａとに電流を印加することにより、第一有機化合物層１３ａ又は第二有機化合物層１５に含まれている発光層を選択的に発光させることができる。一方、第二副画素２ｂにおいては、中間電極層１４と、下部電極１２ｂ又は上部電極１６ｂとに電流を印加することにより、第一有機化合物層１３ｂ又は第二有機化合物層１５に含まれている発光層を選択的に発光させることができる。
【００５０】
以下、図面を参照しながら、本実施形態の発光装置の作製方法について説明する。図５は、図４の発光装置の作製プロセスを示す図である。
【００５１】
まず図５（ａ）に示されるように、基板１０上に下部電極１１ａ及び１１ｂ、並びに制御電極１１ｃ及び電極１１ｄを所定の位置に形成する。尚、下部電極１１ａ及び１１ｂ、並びに制御電極１１ｃ及び電極１１ｄが予め形成されている基板１０を用意してもよい。
【００５２】
次に、図５（ｂ）に示されるように、素子分離膜１２を形成する。この素子分離膜１２は、公知の方法により、所望の形状にパターン形成される。
【００５３】
次に、図５（ｃ）に示されるように、下部電極１１ａ上に第一有機化合物層１３ａを、下部電極１１ｂ及び制御電極１１ｃ上に第一有機化合物層１３ｂをそれぞれ形成する。第一有機化合物層（１３ａ，１３ｂ）の層構成及び形成方法については、実施例１（第一の実施形態）で示される構成及び方法を採用してもよい。
【００５４】
次に、図５（ｄ）に示されるように、第一副画素２ａの配線接続部に共通電極用コンタクトホール１７ｃを形成する。共通電極用コンタクトホール１７ｃの形成方法としては、レーザー照射による加工（高抵抗層である第一有機化合物層１３ａの一部除去加工）が好ましい。例えば、ＹＡＧレーザー（ＳＨＧ、ＴＨＧを含む）、エキシマレーザー等一般に薄膜加工に使用するものを用いることができる。また具体的な加工方法としては、これらのレーザー光を数μｍに絞って走査したり、面状光源にしてコンタクトホール部分を透過するマスクを介したりして、基板上に所定のパターンで照射する方法がある。
【００５５】
上記コンタクトホール１７ｃの径の大きさは、好ましくは、２μｍ〜１５μｍである。
【００５６】
次に、図５（ｅ）に示されるように、第一有機化合物層（１３ａ、１３ｂ）を覆うように中間電極層１４を形成する。中間電極層１４の構成材料及び形成方法は、実施例１（第一の実施形態）で示される材料及び方法を採用してもよい。尚、実施例１と同様に、後の工程で制御電極１１ｃと上部電極１６ｂとを電気接続するコンタクトホール（１７ｂ）を形成する際に、当該コンタクトホールの形成領域に中間電極層１４が配置されないようにするために所定のパターニングを行う。この工程で、副画素（第一副画素２ａ）に含まれる電極層（中間電極層１４）と配線部材とが同一の層（同一の導電層）で形成される。これにより、別工程で配線部材に相当する電極層を改めて設ける必要がない。
【００５７】
次に、図５（ｆ）に示されるように、中間電極層１４、並びに中間電極層１４で覆われていない第一有機化合物層（１３ａ、１３ｂ）を覆うように第二有機化合物層１５を形成する。第二有機化合物層１５の層構成及び形成方法については、実施例１（第一の実施形態）で示される構成及び方法を採用してもよい。
【００５８】
次に、図５（ｇ）に示されるように、制御電極用コンタクトホール１７ｂを形成する。制御電極用コンタクトホール１７ｂの形成方法については、実施例１（第一の実施形態）で示される構成及び方法を採用してもよい。
【００５９】
次に、図５（ｈ）に示されるように、上部電極１６となる電極薄膜を形成する。上部電極１６となる電極薄膜の構成材料は、実施例１（第一の実施形態）と同様の材料を使用することができる。
【００６０】
次に、図５（ｉ）に示されるように、上部電極１６となる電極薄膜を加工して上部電極１６ａ及び１６ｂをそれぞれ形成する。当該電極薄膜の加工方法については、実施例１（第一の実施形態）で示される方法を採用してもよい。
【実施例３】
【００６１】
上記の実施例１及び２において、画素に含まれる２種類の副画素（第一副画素、第二副画素）がそれぞれ３層の電極層及び２層の有機化合物層を有する発光装置について説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、４層の電極層及び３層の有機化合物層を有する発光装置においても本発明を適用することができる。ここで４層の電極層及び３層の有機化合物層で構成される発光装置とは、具体的には、以下に示される構成の発光装置をいう。
下部電極／第一有機化合物層／第一中間電極層／第二有機化合物層／第二中間電極層／第三有機化合物層／上部電極
【００６２】
本実施形態においては、例えば、第一副画素に含まれる所定の中間電極層のいずれかを他の電極層に接続される配線と電気接続させる。この電気接続により、第一副画素を構成する三種類の有機化合物層に含まれる発光層を選択的に発光させること、及び各電極層を有効活用することが可能になる。
【００６３】
ここで所定の中間電極層と他の電極層との電気接続の態様を以下に示す。
【００６４】
【表１】
【００６５】
また第一副画素に限らず、第二副画素についても同様に所定の中間電極層を他の電極層と電気接続させてもよい。
【符号の説明】
【００６６】
１（３）：発光装置、２：画素、２ａ：第一副画素、２ｂ：第二副画素、１０：基板、１１ａ（１１ｂ）：下部電極、１３ａ（１３ｂ）：第一有機化合物層、１４：中間電極、１５：第二有機化合物層、１６ａ（１６ｂ）：上部電極
【技術分野】
【０００１】
本発明は、発光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一対の電極と、この一対の電極間に挟持される有機化合物層とからなる有機ＥＬ素子を複数有する有機ＥＬ表示装置において、近年、有機ＥＬ素子に相当する積層体が複数積層されている有機ＥＬ表示装置が報告されている。ここで有機ＥＬ素子に相当する積層体を複数積層すると、有機ＥＬ表示装置を構成する画素（又は副画素）の開口率が向上すると共に、同一の画素（又は副画素）から複数の発光色を取り出すことが可能となる。
【０００３】
有機ＥＬ素子に相当する積層体を複数積層している有機ＥＬ表示装置の具体例として、特許文献１にて開示されている有機ＥＬ表示装置がある。この有機ＥＬ表示装置は、下記（ｉ）及び（ｉｉ）に示される２種類の副画素を有する画素が複数基板上に並列されている。
（ｉ）第一副画素（下部電極／Ｒ（Ｒｅｄ）有機化合物層／中間電極層／Ｂ（Ｂｌｕｅ）有機化合物層／上部電極）
（ｉｉ）第二副画素（下部電極／Ｇ（Ｇｒｅｅｎ）有機化合物層／中間電極層／Ｂ（Ｂｌｕｅ）有機化合物層／上部電極）
【０００４】
ところで特許文献１に開示されている発光装置は、中間電極層が透明導電膜であって、各副画素において共通する電極になっている。また特許文献１において、中間電極層では駆動電圧の降下を防ぐために、透明導電膜とは別の低抵抗配線が用いられている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００５−１７４６３９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
一方で、有機ＥＬ素子に相当する積層体が複数積層されている有機ＥＬ表示装置において、配線の役割を果たす層が増えることはコストアップにつながるため、なるべく配線の役割を果たす層の数を増やさないようにして電圧降下を防ぐ方法が求められる。
【０００７】
本発明は、上記の問題点を解決するためになされたものであり、その目的は、効果的に共通電極の電圧降下を防ぐことのできる発光装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の発光装置は、基板と、
該基板上に設けられる複数の画素と、から構成され、
該画素が、第一副画素と、第二副画素と、からなり、
該第一副画素及び該第二副画素が、下部電極と、第一有機化合物層と、中間電極層と、第二有機化合物層と、上部電極と、をこの順に含み、
該第一副画素に含まれる中間電極層が、該第一副画素に含まれる下部電極又は上部電極に接続される配線と電気接続されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、従来の発光装置に比べて少ない層構成で電圧降下を防ぎ、良好な表示特性を得ることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の発光装置における第一の実施形態を示す概略図であり、（ａ）は当該第一の実施形態の平面概略図であり、（ｂ）及び（ｃ）は当該第一の実施形態の断面概略図である。
【図２】図１の発光装置の作製プロセスを示す図である。
【図３】図１の発光装置の等価回路を示す回路図である。
【図４】本発明の発光装置における第二の実施形態を示す概略図であり、（ａ）は当該第二の実施形態の平面概略図であり、（ｂ）及び（ｃ）は当該第二の実施形態の断面概略図である。
【図５】図４の発光装置の作製プロセスを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本発明の発光装置は、基板と、該基板上に設けられる複数の画素と、から構成される。ここで画素は、第一副画素と、第二副画素と、からなる部材である。また画素に含まれる第一副画素及び第二副画素は、下部電極と、第一有機化合物層と、中間電極層と、第二有機化合物層と、上部電極と、をこの順に含んでいる。
【００１２】
本発明において、第一副画素に含まれる中間電極層は、第一副画素に含まれる下部電極又は上部電極に接続される配線と電気接続されている。この配線は、好ましくは、下部電極又は前記上部電極と同一の導電層にあり、かつ他の電極とは絶縁されている。つまり、当該配線が下部電極と同一の導電層にある場合は、当該配線は上部電極とは絶縁される一方で、当該配線が上部電極と同一の導電層にある場合は、当該配線は下部電極とは絶縁される。この配線は、より好ましくは、上部電極と同一の導電層にあり、かつ下部電極とは絶縁される。
【００１３】
また本発明の発光装置は、上部電極又は下部電極から光が取り出されるため、中間層電極は、好ましくは、透明導電性材料からなる。一方、製造プロセスの簡便化の観点から、中間電極層は各画素に共通した電極であることが好ましい。
【００１４】
本発明の構成は、好ましくは、有機ＥＬ発光装置で適用することができるがこれに限定されない。例えば、無機ＥＬ発光装置等でも適用することができる。
【００１５】
以下、図面を参照しながら、本発明の発光装置の実施形態について説明する。ただし、後述する実施形態はあくまでも本発明の一つの実施形態であって、本発明はこれらに限定されるものではない。また以下の説明において、特に図示又は記載されない部分に関しては、当該技術分野の周知技術又は公知技術を適用することができる。
【実施例１】
【００１６】
図１は、本発明の発光装置における第一の実施形態を示す概略図であり、（ａ）は当該第一の実施形態の平面概略図であり、（ｂ）及び（ｃ）は当該第一の実施形態の断面概略図である。図１（ａ）に示される発光装置１は、大まかには、断面構造が図１（ｂ）で示される表示部と、断面構造が図１（ｃ）で示される配線接続部とからなる。尚、図１（ｂ）の断面構造は、図１（ａ）のＡＡ’間の断面構造であり、図１（ｃ）の断面構造は、図１（ａ）のＢＢ’間の断面構造である。
【００１７】
図１（ｂ）に示されるように、発光装置１には、基板１０上に、第一副画素２ａと、第二副画素２ｂとからなる画素２を有している。尚、実際の発光装置には、図１で示される画素２が基板１０上にマトリックス状に配列されている。
【００１８】
図１の発光装置１において、第一副画素２ａは、基本的には、基板１０上に設けられる積層体、即ち、下部電極１１ａ、第一有機化合物層１３ａ、中間電極層１４、第二有機化合物層１５及び上部電極１６ａがこの順で積層されている積層体からなる部材である。一方、第二副画素２ｂは、基本的には、基板１０上に設けられる積層体、即ち、下部電極１１ｂ、第一有機化合物層１３ｂ、中間電極層１４、第二有機化合物層１５及び上部電極１６ｂがこの順で積層されている積層体からなる部材である。
【００１９】
各有機化合物層（１３ａ，１３ｂ，１５）は、いずれかがＲ（Ｒｅｄ）有機化合物層、Ｇ（Ｇｒｅｅｎ）有機化合物層又はＢ（Ｂｌｕｅ）有機化合物層である。具体例として、第一副画素２ａに含まれる第一有機化合物層１３ａをＧ有機化合物層とし、第二副画素２ｂに含まれる第一有機化合物層１３ｂをＢ有機化合物層とし、第二有機化合物層１６をＲ有機化合物層とする態様がある。ただし本発明においてその組み合わせは特に限定されるものではない。
【００２０】
本実施形態において、表示部に設けられる上部電極１６ａと、配線接続部に設けられる上部電極１６ａとは、同一の工程により形成された同一の層（同一の導電層）である。このため上部電極１６ａは、第一副画素の構成部材である電極層の一つとして機能すると共に、中間電極層１５と電気接続する配線、即ち、補助配線として機能する。同様に、表示部に設けられる上部電極１６ｂと、配線接続部に設けられる上部電極１６ｂとは、同一の工程により形成された同一の層（同一の導電層）である。このため上部電極１６ｂは、第二副画素の構成部材である電極層の一つとして機能すると共に、基板１０上に設けられる下部電極でもある制御電極１１ｃと電気接続する配線として機能する。以上のように、副画素（第一副画素２ａ）に含まれる電極層（上部電極１６ａ）と配線部材とを、同一の工程により形成された同一の層（同一の導電層）とすることにより、配線部材に相当する電極層を改めて設ける必要がない。
【００２１】
本実施形態において、中間電極層１４は、上部電極１６ａと電気接続されているが、下部電極１１ａとは電気接続されていない。これにより、中間電極層１４と上部電極１６ａとの間で電気的短絡が生じるので、第一副画素２ａの構成部材である第二有機化合物層１４に含まれる発光層は発光しない。このため第一副画素２ａにおいては、第一有機化合物層１３ａに含まれる発光層からの発光のみを取り出すことができる。
【００２２】
一方、本実施形態において、中間電極層１４は、各副画素（２ａ、２ｂ）に共通して形成されるため、上部電極１６ａから印加される電流が第二副画素２ｂを構成する中間電極層１４まで流れる。このため第二副画素２ｂにおいて、下部電極１１ｂから印加される電流と中間電極層１４から印加される電流とにより、第一有機化合物層１３ｂに含まれる発光層が発光する。また第二副画素２ｂにおいて、中間電極層１４から印加される電流と上部電極１６ｂから印加される電流とにより、第二有機化合物層１５に含まれる発光層が発光する。
【００２３】
以下、図面を参照しながら、本実施形態の発光装置の作製方法について説明する。図２は、図１の発光装置の作製プロセスを示す図である。
【００２４】
まず図２（ａ）に示されるように、基板１０上に下部電極１１ａ及び１１ｂ、並びに制御電極１１ｃを所定の位置に形成する。尚、下部電極１１ａ及び１１ｂ、並びに制御電極１１ｃが予め形成されている基板１０を用意してもよい。
【００２５】
一方、図示はしていないが、基板１０内に、ゲート電極、ソース・ドレインメタル層、Ｐｏｌｙ−Ｓｉを含むＴＦＴ回路や、当該ＴＦＴ回路と制御電極１１ｃとを電気接続する手段（コンタクトホール等）を設けてもよい。尚、ＴＦＴ回路を基板１０内に設ける場合は、短絡防止用の絶縁層、及びＴＦＴ回路を設けることで生じた凹凸を平坦にする平坦化層を別途設ける必要がある。
【００２６】
次に、図２（ｂ）に示されるように、素子分離膜１２を形成する。この素子分離膜１２は、公知の方法により、所望の形状にパターン形成される。
【００２７】
次に、図２（ｃ）に示されるように、下部電極１１ａ上に第一有機化合物層１３ａを、下部電極１１ｂ及び制御電極１１ｃ上に第一有機化合物層１３ｂをそれぞれ形成する。ここで各副画素にそれぞれ形成される第一有機化合物層（１３ａ、１３ｂ）は、それぞれ発光層を有する一層又は複数の層からなる積層体である。形成される第一有機化合物層（１３ａ、１３ｂ）の具体例を以下に示す。ただしこれらはあくまでも具体例であり、本発明はこれらに限定されるものではない。
（１）（陽極／）発光層（／陰極）
（２）（陽極／）正孔注入層／発光層（／陰極）
（３）（陽極／）正孔輸送層／発光層／電子輸送層（／陰極）
（４）（陽極／）正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子注入層（／陰極）
（５）（陽極／）正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電子注入層（／陰極）
【００２８】
尚、発光層は、例えば、電荷注入又は電荷輸送の機能（正孔注入、正孔輸送、電子注入、電子輸送）を併せ持つ複合機能層であってもよい。
【００２９】
第一有機化合物層（１３ａ、１３ｂ）の構成材料として、有機発光材料、正孔注入材料、電子注入材料、正孔輸送材料又は電子輸送材料が挙げられる。ここで電荷注入・輸送材料（正孔輸送材料、電子輸送材料、正孔注入材料、電子注入材料）に有機発光材料をドーピングすると、発光色の選択の幅を広げることができる。また第一有機化合物層（１３ａ、１３ｂ）にそれぞれ含まれる発光層は、発光効率の観点からアモルファス膜であることが好ましい。
【００３０】
有機発光材料は、各有機化合物層の発光色に応じて適宜選択することができる。例えば、トリアリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、ポリアリーレン、芳香族縮合多環化合物、芳香族複素環化合物、芳香族複素縮合環化合物、金属錯体化合物等及びこれらの単独オリゴ体あるいは複合オリゴ体を使用することができる。ただし本発明はこれらに限定されるものではない。
【００３１】
正孔注入・輸送層の構成材料として、フタロシアニン化合物、トリアリールアミン化合物、導電性高分子、ペリレン系化合物、Ｅｕ錯体等が使用することができる。ただし本発明はこれらに限定されるものではない。
【００３２】
電子注入・輸送層の構成材料として、アルミイオンに８−ヒドロキシキノリンの３量体が配位したＡｌｑ3、アゾメチン亜鉛錯体、ジスチリルビフェニル誘導体系等を使用することができる。
【００３３】
第一有機化合物層（１３ａ、１３ｂ）の膜厚は、好ましくは、０．０５μｍ〜０．３μｍであり、より好ましくは、０．０５μｍ〜０．１５μｍである。
【００３４】
第一有機化合物層（１３ａ、１３ｂ）は、公知の方法により形成することができる。
【００３５】
次に、図２（ｄ）に示されるように、第一有機化合物層（１３ａ、１３ｂ）を覆うように中間電極層１４を形成する。
【００３６】
中間電極層１４の構成材料は、光透過性が高い電極材料が望ましい。例えば、Ａｇ合金、Ａｌ、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ等が挙げられる。ただし、中間電極層１５がＡｇ合金、Ａｌ等の金属材料からなる場合は、中間電極層１４において光を透過できるように層の膜厚を制御する必要がある。
【００３７】
中間電極層１４は、スパッタ法、レーザーアブレーション等による転写法等の公知の方法を用いて成膜することができる。ここで中間電極層１４は、画素毎に個別に制御することが必要な制御電極ではなく、全画素に共通する共通電極であっても構わない。ただし、後の工程で制御電極１１ｃと上部電極１６ｂとを電気接続するコンタクトホール（１７ｂ）を形成する際に、当該コンタクトホールの形成領域に中間電極層１４が配置されないようにするために所定のパターニングを行う。ここでパターニングの方法として、例えば、メタルマスクを用いたマスク蒸着法によってＡｇ等の電極材料を成膜する方法が挙げられる。
【００３８】
次に、図２（ｅ）に示されるように、中間電極層１４、並びに中間電極層１４で覆われていない第一有機化合物層（１３ａ、１３ｂ）を覆うように第二有機化合物層１５を形成する。
【００３９】
第二有機化合物層１５の層構成は、基本的には、第一有機化合物層（１３ａ、１３ｂ）と同様である。また第二有機化合物層１５を形成する際に、形成する層の順番は、中間電極層１５の性質に応じて適宜設定することができる。具体的には、中間電極層１４が陽極の場合は、正孔注入層又は正孔輸送層を先に形成する一方で、中間電極層１４が陰極の場合は、電子注入層又は電子輸送層を先に形成する。
【００４０】
次に、図２（ｆ）に示されるように、二種類のコンタクトホール、即ち、制御電極用コンタクトホール１７ａ、共通電極用コンタクトホール１７ｂをそれぞれ形成する。ここで制御電極用コンタクトホール１７ａは、上部電極１６ｂと、制御電極１１ｃ及びこの制御電極１１ｃに電気接続されているＴＦＴ回路とを電気接続するために、第一有機化合物層１３ｂと第二有機化合物層１５とを部分的に除去して設けられる。一方、共通電極用コンタクトホール１７ｂは、上部電極１６ａと、共通電極である中間電極層１４とを電気接続するために、高抵抗層である第二有機化合物層１５を部分的に除去して設けられる。これら二種類のコンタクトホールの形成方法としては、レーザー照射による加工（除去加工）が好ましい。例えば、ＹＡＧレーザー（ＳＨＧ、ＴＨＧを含む）、エキシマレーザー等一般に薄膜加工に使用するものを用いることができる。また具体的な加工方法としては、これらのレーザー光を数μｍに絞って走査したり、面状光源にしてコンタクトホール部分を透過するマスクを介したりして、基板上に所定のパターンで照射する方法がある。
【００４１】
上記二種類のコンタクトホール（１７ａ，１７ｂ）の径の大きさは、好ましくは、２μｍ〜１５μｍである。
【００４２】
次に、図２（ｇ）に示されるように、上部電極（１６ａ、１６ｂ）となる電極薄膜１６を形成する。図２（ｇ）に示されるように、上部電極（１６ａ、１６ｂ）となる電極薄膜１６を形成することにより、表示部に含まれる部分と配線接続部に含まれる部分を同一の導電層として形成することができる。上部電極（１６ａ、１６ｂ）の構成材料は、発光層からの発光の取り出し形式（トップエミッション型、ボトムエミッション型）に応じて適宜選択することができる。例えば、Ａｇ合金、Ａｌ、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ等が挙げられる。
【００４３】
次に、図２（ｈ）に示されるように、上部電極（１６ａ、１６ｂ）となる電極薄膜１６を加工して上部電極（１６ａ、１６ｂ）をそれぞれ形成する。電極薄膜１６の加工方法としては、例えば、レーザーアブレーション等によるパターニングが挙げられる。また別法として、メタルマスクを用いたマスクスパッタ法、マスク蒸着法等も使用することができる。
【００４４】
尚、上部電極（１６ａ、１６ｂ）を形成した後、大気中の水分や酸素から発光装置を保護するため保護層を形成するのが望ましい。
【００４５】
図３は、図１の発光装置の等価回路を示す回路図である。第一副画素２ａにおいて、コンタクトホール１７ａは、中間電極層１４と上部電極１６ａとを電気接続するために利用される。このコンタクトホール１７ａを設けることにより、上部電極１６ａは、中間電極層１４の補助配線として機能する。一方第二副画素２ｂにおいて、下部電極１２ｂ及び上部電極１６ｂは陽極として機能し、中間電極層１４は陰極として機能する。また第二副画素２ｂにおいて、制御電極用コンタクトホール１７ｂは、第三有機化合物層１３（Ｒ有機化合物層）に含まれる発光層（Ｒ発光層）の発光を制御するために利用される。具体的には、コンタクトホール１７ａは、Ｒ発光層の発光を制御する制御電極１１ｃと、上部電極１６ｂとを電気接続するために利用される。
【００４６】
以上のように作製した発光装置は、Ｒ、Ｇ、Ｂの発光を単一の副画素から取り出すことができる。
【実施例２】
【００４７】
次に、図面を参照しながら、本発明の発光装置における第二の実施形態について説明する。尚、以下の説明においては、上述した第一の実施形態との相違点を中心に説明する。図４は、本発明の発光装置における第二の実施形態を示す概略図であり、（ａ）は当該第二の実施形態の平面概略図であり、（ｂ）及び（ｃ）は当該第二の実施形態の断面概略図である。
【００４８】
図４の発光装置３は、図１の発光装置１と比較すると、配線接続部において中間電極層１４が、基板１０上に設けられ下部電極でもある電極１１ｄと電気接続されており、かつ上部電極１６ｂとは電気接続されていない点が異なっている。ここで電極１１ｄは、基板１０内に設けられ制御電極１１ｃに電気接続されるＴＦＴ回路とは別個のＴＦＴ回路（不図示）から送信される電気信号を中間電極層１４へ送信する電極として機能する。
【００４９】
また図４の発光装置３は、各副画素（２ａ、２ｂ）に設けられる２つの有機化合物層に含まれる発光層をそれぞれ個別に発光させることができる。具体的には、第一副画素２ａにおいては、中間電極層１４と、下部電極１２ａ又は上部電極１６ａとに電流を印加することにより、第一有機化合物層１３ａ又は第二有機化合物層１５に含まれている発光層を選択的に発光させることができる。一方、第二副画素２ｂにおいては、中間電極層１４と、下部電極１２ｂ又は上部電極１６ｂとに電流を印加することにより、第一有機化合物層１３ｂ又は第二有機化合物層１５に含まれている発光層を選択的に発光させることができる。
【００５０】
以下、図面を参照しながら、本実施形態の発光装置の作製方法について説明する。図５は、図４の発光装置の作製プロセスを示す図である。
【００５１】
まず図５（ａ）に示されるように、基板１０上に下部電極１１ａ及び１１ｂ、並びに制御電極１１ｃ及び電極１１ｄを所定の位置に形成する。尚、下部電極１１ａ及び１１ｂ、並びに制御電極１１ｃ及び電極１１ｄが予め形成されている基板１０を用意してもよい。
【００５２】
次に、図５（ｂ）に示されるように、素子分離膜１２を形成する。この素子分離膜１２は、公知の方法により、所望の形状にパターン形成される。
【００５３】
次に、図５（ｃ）に示されるように、下部電極１１ａ上に第一有機化合物層１３ａを、下部電極１１ｂ及び制御電極１１ｃ上に第一有機化合物層１３ｂをそれぞれ形成する。第一有機化合物層（１３ａ，１３ｂ）の層構成及び形成方法については、実施例１（第一の実施形態）で示される構成及び方法を採用してもよい。
【００５４】
次に、図５（ｄ）に示されるように、第一副画素２ａの配線接続部に共通電極用コンタクトホール１７ｃを形成する。共通電極用コンタクトホール１７ｃの形成方法としては、レーザー照射による加工（高抵抗層である第一有機化合物層１３ａの一部除去加工）が好ましい。例えば、ＹＡＧレーザー（ＳＨＧ、ＴＨＧを含む）、エキシマレーザー等一般に薄膜加工に使用するものを用いることができる。また具体的な加工方法としては、これらのレーザー光を数μｍに絞って走査したり、面状光源にしてコンタクトホール部分を透過するマスクを介したりして、基板上に所定のパターンで照射する方法がある。
【００５５】
上記コンタクトホール１７ｃの径の大きさは、好ましくは、２μｍ〜１５μｍである。
【００５６】
次に、図５（ｅ）に示されるように、第一有機化合物層（１３ａ、１３ｂ）を覆うように中間電極層１４を形成する。中間電極層１４の構成材料及び形成方法は、実施例１（第一の実施形態）で示される材料及び方法を採用してもよい。尚、実施例１と同様に、後の工程で制御電極１１ｃと上部電極１６ｂとを電気接続するコンタクトホール（１７ｂ）を形成する際に、当該コンタクトホールの形成領域に中間電極層１４が配置されないようにするために所定のパターニングを行う。この工程で、副画素（第一副画素２ａ）に含まれる電極層（中間電極層１４）と配線部材とが同一の層（同一の導電層）で形成される。これにより、別工程で配線部材に相当する電極層を改めて設ける必要がない。
【００５７】
次に、図５（ｆ）に示されるように、中間電極層１４、並びに中間電極層１４で覆われていない第一有機化合物層（１３ａ、１３ｂ）を覆うように第二有機化合物層１５を形成する。第二有機化合物層１５の層構成及び形成方法については、実施例１（第一の実施形態）で示される構成及び方法を採用してもよい。
【００５８】
次に、図５（ｇ）に示されるように、制御電極用コンタクトホール１７ｂを形成する。制御電極用コンタクトホール１７ｂの形成方法については、実施例１（第一の実施形態）で示される構成及び方法を採用してもよい。
【００５９】
次に、図５（ｈ）に示されるように、上部電極１６となる電極薄膜を形成する。上部電極１６となる電極薄膜の構成材料は、実施例１（第一の実施形態）と同様の材料を使用することができる。
【００６０】
次に、図５（ｉ）に示されるように、上部電極１６となる電極薄膜を加工して上部電極１６ａ及び１６ｂをそれぞれ形成する。当該電極薄膜の加工方法については、実施例１（第一の実施形態）で示される方法を採用してもよい。
【実施例３】
【００６１】
上記の実施例１及び２において、画素に含まれる２種類の副画素（第一副画素、第二副画素）がそれぞれ３層の電極層及び２層の有機化合物層を有する発光装置について説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、４層の電極層及び３層の有機化合物層を有する発光装置においても本発明を適用することができる。ここで４層の電極層及び３層の有機化合物層で構成される発光装置とは、具体的には、以下に示される構成の発光装置をいう。
下部電極／第一有機化合物層／第一中間電極層／第二有機化合物層／第二中間電極層／第三有機化合物層／上部電極
【００６２】
本実施形態においては、例えば、第一副画素に含まれる所定の中間電極層のいずれかを他の電極層に接続される配線と電気接続させる。この電気接続により、第一副画素を構成する三種類の有機化合物層に含まれる発光層を選択的に発光させること、及び各電極層を有効活用することが可能になる。
【００６３】
ここで所定の中間電極層と他の電極層との電気接続の態様を以下に示す。
【００６４】
【表１】
【００６５】
また第一副画素に限らず、第二副画素についても同様に所定の中間電極層を他の電極層と電気接続させてもよい。
【符号の説明】
【００６６】
１（３）：発光装置、２：画素、２ａ：第一副画素、２ｂ：第二副画素、１０：基板、１１ａ（１１ｂ）：下部電極、１３ａ（１３ｂ）：第一有機化合物層、１４：中間電極、１５：第二有機化合物層、１６ａ（１６ｂ）：上部電極
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
該基板上に設けられる複数の画素と、から構成され、
該画素が、第一副画素と、第二副画素と、からなり、
該第一副画素及び該第二副画素が、下部電極と、第一有機化合物層と、中間電極層と、第二有機化合物層と、上部電極と、をこの順に含み、
該第一副画素に含まれる中間電極層が、該第一副画素に含まれる下部電極又は上部電極に接続される配線と電気接続されていることを特徴とする、発光装置。
【請求項２】
前記配線が、前記下部電極又は前記上部電極と同一の導電層にあり、かつ他の電極とは絶縁されていることを特徴とする、請求項１に記載の発光装置。
【請求項３】
前記配線が、前記上部電極と同一の導電層にあり、かつ前記下部電極とは電気的に絶縁されていることを特徴とする、請求項１又は２に記載の発光装置。
【請求項４】
前記中間電極層が透明導電性材料からなることを特徴とする、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の発光装置。
【請求項５】
前記中間電極層が各画素に共通した電極であることを特徴とする、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の発光装置。
【請求項６】
前記中間電極層と、前記下部電極又は前記上部電極との電気接続が、レーザー照射による高抵抗層の除去により行われることを特徴とする、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の発光装置。
【請求項７】
有機ＥＬ発光装置であることを特徴とする、請求項１乃至６のいずれか一項に記載の発光装置。
【請求項１】
基板と、
該基板上に設けられる複数の画素と、から構成され、
該画素が、第一副画素と、第二副画素と、からなり、
該第一副画素及び該第二副画素が、下部電極と、第一有機化合物層と、中間電極層と、第二有機化合物層と、上部電極と、をこの順に含み、
該第一副画素に含まれる中間電極層が、該第一副画素に含まれる下部電極又は上部電極に接続される配線と電気接続されていることを特徴とする、発光装置。
【請求項２】
前記配線が、前記下部電極又は前記上部電極と同一の導電層にあり、かつ他の電極とは絶縁されていることを特徴とする、請求項１に記載の発光装置。
【請求項３】
前記配線が、前記上部電極と同一の導電層にあり、かつ前記下部電極とは電気的に絶縁されていることを特徴とする、請求項１又は２に記載の発光装置。
【請求項４】
前記中間電極層が透明導電性材料からなることを特徴とする、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の発光装置。
【請求項５】
前記中間電極層が各画素に共通した電極であることを特徴とする、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の発光装置。
【請求項６】
前記中間電極層と、前記下部電極又は前記上部電極との電気接続が、レーザー照射による高抵抗層の除去により行われることを特徴とする、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の発光装置。
【請求項７】
有機ＥＬ発光装置であることを特徴とする、請求項１乃至６のいずれか一項に記載の発光装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【公開番号】特開２０１１−３４９０１（Ｐ２０１１−３４９０１Ａ）
【公開日】平成２３年２月１７日（２０１１．２．１７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−１８２１１６（Ｐ２００９−１８２１１６）
【出願日】平成２１年８月５日（２００９．８．５）
【出願人】（０００００１００７）キヤノン株式会社 (59,756)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年２月１７日（２０１１．２．１７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年８月５日（２００９．８．５）
【出願人】（０００００１００７）キヤノン株式会社 (59,756)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]