磁気記録媒体用基板の製造方法、磁気記録媒体用の製造方法、磁気記録媒体用基板の検査方法、及び磁気記録媒体用基板
【課題】磁気記録媒体用基板のテクスチャの形状を適切に管理する。
【解決手段】磁気記録媒体用基板の製造方法であって、基板を準備する準備工程Ｓ１０２と、テクスチャを基板の主表面に形成するテクスチャ形成工程Ｓ１０４と、テクスチャの形状を検査する検査工程Ｓ１０６とを備え、検査工程Ｓ１０６は、断面形状測定段階Ｓ２０２と、断面形状の波形をフーリエ変換することにより、断面形状の波形を波長と強度との関係に変換するフーリエ変換段階Ｓ２０４と、波長と強度との関係に基づき、全範囲の波長の範囲について強度を積分した全範囲積分値と、予め設定された波長の範囲について強度を積分した設定範囲積分値とを算出する積分段階Ｓ２０６と、全範囲積分値に対する設定範囲積分値の比が基準値以上の場合に基板を合格とする判定を行う判定段階Ｓ２０８とを有する。
【解決手段】磁気記録媒体用基板の製造方法であって、基板を準備する準備工程Ｓ１０２と、テクスチャを基板の主表面に形成するテクスチャ形成工程Ｓ１０４と、テクスチャの形状を検査する検査工程Ｓ１０６とを備え、検査工程Ｓ１０６は、断面形状測定段階Ｓ２０２と、断面形状の波形をフーリエ変換することにより、断面形状の波形を波長と強度との関係に変換するフーリエ変換段階Ｓ２０４と、波長と強度との関係に基づき、全範囲の波長の範囲について強度を積分した全範囲積分値と、予め設定された波長の範囲について強度を積分した設定範囲積分値とを算出する積分段階Ｓ２０６と、全範囲積分値に対する設定範囲積分値の比が基準値以上の場合に基板を合格とする判定を行う判定段階Ｓ２０８とを有する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気記録媒体用基板の製造方法、磁気記録媒体用の製造方法、磁気記録媒体用基板の検査方法、及び磁気記録媒体用基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、磁気記録媒体用基板の主表面に、テクスチャと呼ばれる無数の微小な溝を形成する方法が知られている（例えば、特許文献１、２参照。）。このテクスチャは、例えば特許文献１、２に記載されているように、研磨液を含む処理液と処理テープで、円盤状の基板の表面を円周方向へ擦ることによって、円周方向に延びるように加工される。これにより、基板の主表面上に磁気記録層を形成する場合に、磁性粒子がテクスチャの溝に沿って結晶成長し、磁化容易軸を円周方向に配向させやすくなる。
【０００３】
ここで、磁気記録層の磁性粒子の配向性の指標としては、円周方向と半径方向との磁化の比であるＯＲ（Ｏｒｉｅｎｔａｔｉｏｎ Ｒａｔｉｏ）が用いられる。ＯＲは、高ければ高いほど、再生ヘッドで読み出したときに同一の磁気記録層の膜厚で高い出力が得られる。そのため、同一出力を得るために必要な磁気記録層の膜厚を低減できる。また、磁気記録層の膜厚を低減することにより、高分解能、低ノイズ化が図れるため、良好な電磁変換特性が得られ、より高記録密度での記録が可能となる。
【０００４】
ＯＲを向上させるためには、基板の主表面に望ましい形状のテクスチャを形成する必要がある。また、そのためには、適切な指標を用いてテクスチャの形状を管理する必要がある。
【０００５】
従来、テクスチャの形状を表す指標としては、特許文献１、２に記載されているような、線密度あるいはラインデンシティと呼ばれる指標（以下、ＬＤという）を用いる方法が知られている。ＬＤは、例えば、ＡＦＭ（原子間力顕微鏡）で基板主表面を測定することによって得られる基板の半径方向一深さ方向の断面図において、１μｍあたりに存在するテクスチャの山の数（あるいは谷の数）、又は基準線と交差する回数の半分等として定義される。近年用いられている基板において、ＬＤは、例えば３０〜５０／μｍ程度である。また、ＬＤは、高いほど電磁変換特性がよいと考えられている。
【特許文献１】特開２００２−２５１７１６号公報
【特許文献２】特開２００４−１０３１８２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、基板の表面の断面図は単純な山と谷で構成されてはおらず、高さ深さや幅が不揃いである。そのため、どの程度の高さ、深さ、又は幅を有する形状を山又は谷と判断するかによって、ＬＤの値が変化してしまう。従って、ＬＤは、定義自体が曖昧さを含んでいるとも言える。また、定義の取り方によってＬＤの値自体が変化してしまうとすれば、絶対的な指標としては使いにくい。
【０００７】
更に、本願発明者は、同じ定義で算出したＬＤの値が同じ場合であっても、ＯＲの値に差が生じる場合があることを見いだした。そのため、ＬＤを指標に用いてテクスチャの形状を管理しても、ＯＲを適切に向上させることができない場合があった。
【０００８】
そこで、本発明は、上記の課題を解決できる磁気記録媒体用基板の製造方法、磁気記録媒体用の製造方法、磁気記録媒体用基板の検査方法、及び磁気記録媒体用基板を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本願発明者は、鋭意研究により、ＬＤの値が同じ場合にＯＲの値に差が生じるのは、テクスチャの形状の分布の違いが原因であることを見いだした。例えば、ＬＤの値が同じあっても、磁気記録層の磁性粒子の配向性を制御するのに有効でない山や谷を多く含むテクスチャの場合、ＯＲを向上させる効果が小さくなることを見いだした。そして、これらの知見に基づき、本発明に至った。本発明は、以下の構成を有する。
【００１０】
（構成１）磁気記録媒体用基板の製造方法であって、主表面が研磨された円盤状の基板を準備する準備工程と、基板の円周方向へ延びる複数の尾根状のテクスチャを、基板の主表面に形成するテクスチャ形成工程と、テクスチャの形状を検査する検査工程とを備え、検査工程は、基板の半径方向に沿った基板の断面形状を測定する断面形状測定段階と、断面形状測定段階で測定された断面形状の波形をフーリエ変換することにより、断面形状の波形を波長と強度との関係に変換するフーリエ変換段階と、フーリエ変換段階で得られた波長と強度との関係に基づき、測定された全範囲の波長の範囲について強度を積分した値である全範囲積分値と、予め設定された波長の範囲について強度を積分した値である設定範囲積分値とを算出する積分段階と、全範囲積分値に対する設定範囲積分値の比が基準値以上の場合に基板を合格とする判定を行う判定段階とを有する。
【００１１】
このようにした場合、フーリエ変換によって得られた波長と強度との関係において、波長は、例えば、半径方向におけるテクスチャを構成する山や谷の幅を反映する。また、強度は、それぞれの波長に対応する幅の山や谷の数を反映する。そのため、例えば、幅が小さな山や谷が多い場合、小さな波長領域の強度が大きくなる。また、幅が大きな山や谷が多い場合、大きな波長領域の強度が大きくなる。
【００１２】
そのため、構成１のようにした場合、設定範囲積分値は、例えば、特定の範囲の幅の山や谷の数を反映した値となる。また、全範囲積分値に対する設定範囲積分値の比は、例えば、テクスチャ全体に対する特定の範囲の幅の山や谷の数の割合を反映した値となる。
【００１３】
従って、このようにすれば、例えば、この磁気記録媒体用基板を用いて製造される磁気記録媒体における、磁気記録層の磁性粒子の配向性を制御するのに有効な山や谷の割合を適切に算出できる。また、例えば、この比を指標としてテクスチャの形状を管理することにより、磁気記録媒体のＯＲを適切に向上させることができる。
【００１４】
尚、検査工程は、必ずしも全数の磁気記録媒体用基板に対して検査を行う工程でなくてもよい。例えば、検査工程は、一定数の磁気記録媒体用基板毎に一部の磁気記録媒体用基板を検査する抜き取り検査や、品質を保持するために一定期間毎に行う検査の工程であってもよい。
【００１５】
断面形状測定段階は、例えば、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により断面形状を測定する。この測定は、１μｍあたり２５６点以上のサンプリング点を含む測定精度で行うことが好ましい。測定に必要な必要な解像度は、磁気記録層の磁性粒子の結晶粒径によるが、このような精度で測定すれば、測定に必要なコストを上げることなく、十分な精度で測定を行うことができる。
【００１６】
測定された全範囲の波長とは、例えば、測定可能範囲の下限値以上、測定上意味がある上限値以下の範囲である。断面形状測定段階においてＡＦＭを用いて測定を行う場合、測定上意味がある上限値とは、例えば、断面形状測定段階における測定の長さの１／４の波長である。これは、ＡＦＭによる測定において、測定の長さの１／４以上の波長成分は、平坦度補正等の要素によって変化し、真の表面形状を反映しないためである。測定された全範囲の波長は、例えば、磁気記録層に含まれる磁性粒子の平均粒径の０．６〜１２０倍程度であってもよい。このようにした場合も、テクスチャの形状を適切に管理できる。
【００１７】
（構成２）積分段階は、予め設定された波長の範囲として、基板上に形成される磁気記録層に含まれる磁性粒子の平均粒径の１〜５倍の波長の範囲を用いる。当該予め設定された波長の範囲は、望ましくは、磁気記録層に含まれる磁性粒子の平均粒径の１〜３倍の波長の範囲である。この磁性粒子は、例えば粒子全体が単結晶になっている磁性結晶粒子である。
【００１８】
本願発明者は、上記のフーリエ変換行った場合、磁気記録層に含まれる磁性粒子の平均粒径の１〜５倍、特に１〜３倍の波長に対応する山や谷が、ＯＲを向上させるために特に重要であることを見いだした。そのため、設定範囲積分値を求めるための波長として、このような範囲を用いることにより、磁性粒子の結晶粒径から決まる、ＯＲを向上させるために特に重要な波長範囲の凹凸密度に応じた設定積分値を得ることができる。また、これにより、ＯＲをより適切に向上させることができる。
【００１９】
ここで、この範囲より小さな波長に対応する山や谷は、例えば、その上で成長する磁性粒子の数が少な過ぎるため、磁性粒子の配向性の制御に対する寄与が小さくなると考えられる。また、この範囲より大きな波長に対応する山や谷は、例えば、磁性粒子にとって平坦な領域に近くなり、磁性粒子の配向性を制御する機能を発揮しにくくなると考えられる。
【００２０】
尚、磁気記録層に含まれる磁性粒子の平均粒径の１〜５倍等とは、必ずしも厳密に平均粒径の１〜５倍等である必要はない。例えば、上記の観点を考慮した上で、平均粒径と考えられる妥当な値の１〜５倍等であればよい。
【００２１】
（構成３）判定段階は、全範囲積分値に対する前記設定範囲積分値の比の基準値として、０．２以上の値を用いる。この基準値は、望ましくは３以上である。
【００２２】
このようにすれば、テクスチャにおいて、磁気記録層の磁性粒子の配向性を制御するのに有効な山や谷が十分な割合で含まれていることを確認できる。また、これにより、ＯＲを適切に向上させることができる。
【００２３】
（構成４）検査工程は、断面形状測定段階で測定された断面形状に基づき、単位長さあたりに含まれるテクスチャの数であるテクスチャ密度を算出するテクスチャ密度算出段階を更に有し、判定段階は、全範囲積分値に対する設定範囲積分値の比が当該比の基準値以上であり、かつ、テクスチャ密度算出段階で算出されたテクスチャ密度がテクスチャ密度の基準値以上の場合に、基板を合格とする。
【００２４】
このようにすれば、磁気記録層の磁性粒子の配向性を制御するのに有効な山や谷の割合に加え、このような山や谷の絶対数を適切に管理できる。そのため、テクスチャの形状をより適切に管理できる。また、これにより、ＯＲをより適切に向上させることができる。テクスチャ密度の基準値は、例えば３０／μｍ、望ましくは４０／μｍである。
【００２５】
尚、このテクスチャ密度は、基板の半径方向の単位長さあたりに含まれるテクスチャの数であり、例えば、従来のラインデンシティ（ＬＤ）と同一又は同様に定義される。例えば、このテクスチャ密度は、断面形状測定段階で測定を行った測定領域における平均高さにある線を基準線として、測定した断面形状の波形が基準点と交差する単位長さあたりの回数の半分として定義される。単位長さは、例えば１μｍである。
【００２６】
（構成５）磁気記録媒体の製造方法であって、構成１から４のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板を準備する準備工程と、磁気記録媒体用基板上に磁気記録層を形成する記録層形成工程とを備える。
【００２７】
このようにすれば、磁気記録層の磁性粒子の配向性を適切に制御できる。また、これにより、磁気記録媒体のＯＲを適切に向上させることができる。
【００２８】
（構成６）磁気記録媒体用基板の検査方法であって、円周方向へ延びる複数の尾根状のテクスチャが主表面に形成された円盤状の基板に対し、基板の半径方向に沿った基板の断面形状を測定する断面形状測定段階と、断面形状測定段階で測定された断面形状の波形をフーリエ変換することにより、断面形状の波形を波長と強度との関係に変換するフーリエ変換段階と、フーリエ変換段階で得られた波長と強度との関係に基づき、測定された全範囲の波長の範囲について強度を積分した値である全範囲積分値と、予め設定された波長の範囲について強度を積分した値である設定範囲積分値とを算出する積分段階と、全範囲積分値に対する設定範囲積分値の比が基準値以上の場合に基板を合格とする判定を行う判定段階とを備える。このようにすれば、構成１と同様の効果を得ることができる。
【００２９】
（構成７）磁気記録媒体用基板であって、円盤状の形状を有し、基板の円周方向へ延びる複数の尾根状のテクスチャが主表面に形成されており、複数の尾根状のテクスチャは、基板の半径方向に沿って測定した基板の断面形状の波形をフーリエ変換することにより、断面形状の波形を波長と強度との関係に変換して、当該フーリエ変換で得られた波長と強度との関係に基づき、測定された全範囲の波長の範囲について強度を積分した値である全範囲積分値と、予め設定された波長の範囲について強度を積分した値である設定範囲積分値とを算出した場合に、全範囲積分値に対する設定範囲積分値の比が０．２以上になるように形成されている。このように構成すれば、構成１と同様な効果を得ることができる。
【発明の効果】
【００３０】
本発明によれば、例えば、磁気記録媒体用基板を製造する場合に、主表面に形成されたテクスチャの形状を適切に管理できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
以下、本発明に係る実施形態を、図面を参照しながら説明する。図１は、本発明の一実施形態に係る磁気記録媒体１０の構成の一例を示す。図１（ａ）は、磁気記録媒体１０の断面図である。図１（ｂ）は、磁気記録媒体１０の基板１２の一例を示す上面図である。本例において、磁気記録媒体１０は、長手記録方式用の磁気ディスクであり、基板１２と、磁気記録層１４とを備える。長手記録方式とは、基板１２の主表面と平行な方向に磁気記録層１４中の磁性粒子の磁化容易軸を配向させて信号を記録する方式である。
【００３２】
基板１２は、中心に円孔１０２を有する円盤状のガラス基板である。このガラス基板は、例えばアルミノシリケートのアモルファスガラス基板である。基板１２の主表面１０４には、基板１２の円周方向へ延びる複数の尾根状のテクスチャ１０６が形成されている。テクスチャ１０６は、円孔１０２を囲む同心円、又は同心円の一部に沿って延びるように形成されている。このような方向に延びるテクスチャ１０６は、磁気記録層１４中の磁性粒子の磁化容易軸の方向を制御して、基板１２の円周方向を向きやすくする。そのため、このようなテクスチャ１０６を適切に形成すれば、磁気記録層１４における円周方向と半径方向との磁化の比であるＯＲを向上させることができる。
【００３３】
磁気記録層１４は、例えばＣｏＣｒ系合金の磁性層であり、基板１２上に形成される。また、磁気記録層１４は、例えば平均粒径が６ｎｍ程度（例えば５．５〜６．５ｎｍ）の磁性粒子を含む。
【００３４】
尚、上記では説明を簡単にするために省略したが、磁気記録媒体１０は、基板１２と磁気記録層１４との間や、磁気記録層１４上に更に他の層を備えてもよい。例えば、磁気記録媒体１０は、基板１２と磁気記録層１４との間に、磁気記録層１４の結晶配向を制御するための下地層等を更に備えてもよい。また、磁気記録層１４上に、例えば保護層や潤滑層等を更に備えてもよい。
【００３５】
図２は、基板１２の製造方法の一例を示すフローチャートである。本例において、この製造方法は、最初に、主表面が研磨された円盤状の基板を準備する（準備工程Ｓ１０２）。準備工程Ｓ１０２は、例えば、中心に円孔が形成されており、かつ主表面及び内外周の端面が所定の表面粗さに研磨された基板を準備する。
【００３６】
そして、この基板の主表面に、テクスチャ１０６を形成する（テクスチャ形成工程Ｓ１０４）。テクスチャ形成工程Ｓ１０４は、例えば、公知の機械的又は化学的な方法等と同一又は同様の方法によりテクスチャ１０６を形成する。例えば、テクスチャ形成工程Ｓ１０４は、研磨液を含む処理液と処理テープで、基板の表面を円周方向へ擦ることによって、円周方向に延びるテクスチャ１０６を形成する。この研磨液としては、例えば、酸化セリウム及びダイアモンドスラリーを含む研磨液を用いることができる。
【００３７】
尚、テクスチャ形成工程Ｓ１０４で用いられる研磨液や処理テープ等の各種条件は、その後に行われる検査工程の結果をフィードバックすることにより最適化されることが好ましい。このようにすれば、製造される基板１２の歩留まりを適切に高めることができる。
【００３８】
続いて、テクスチャ１０６が形成された基板１２に対し、テクスチャ１０６の形状の検査を行う（検査工程Ｓ１０６）。本例において、検査工程Ｓ１０６は、最初に、例えば原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により、半径方向に沿った基板１２の断面形状を測定する（断面形状測定段階Ｓ２０２）。これにより、断面形状測定段階Ｓ２０２は、テクスチャ１０６が延びる方向と直交する方向における断面形状（断面像）を取得する。
【００３９】
尚、ＡＦＭを用いた場合、例えばＪＩＳ Ｂ０６０１の規定に従って、各走査線毎の粗さ曲線を求めることができる。そのため、ＡＦＭを用いれば、基板１２の断面形状を適切かつ高い精度で測定できる。この測定は、１μｍあたり２５６点以上のサンプリング点を含む測定精度で行うことが好ましい。このような精度で測定すれば、測定に必要なコストを上げることなく、十分な精度で測定を行うことができる。
【００４０】
断面形状の測定は、基板１２の主表面１０４の一部の領域について行う測定であってよい。断面形状測定段階Ｓ２０２は、例えば、基板１２の半径方向に延びる５００ｎｍ程度の測定領域に対して、断面形状の測定を行う。
【００４１】
次に、測定された断面形状の波形をフーリエ変換することにより、断面形状の波形を波長と強度との関係に変換する（フーリエ変換段階Ｓ２０４）。フーリエ変換段階Ｓ２０４は、例えば高速フーリエ変換（ＦＦＴ）により、フーリエ変換を行う。高速フーリエ変換とは、離散フーリエ変換（ＤＦＴ）を計算機上で高速に計算するアルゴリズムである。
【００４２】
次に、得られた波長と強度との関係について、強度を波長で積分する演算を行う（積分段階Ｓ２０６）。本例において、積分段階Ｓ２０６は、測定された全範囲の波長の範囲について強度を積分した値である全範囲積分値と、予め設定された波長の範囲について強度を積分した値である設定範囲積分値とを算出する。また、本例において、積分段階Ｓ２０６は、設定範囲積分値を求めるための波長の範囲として、形成されるべき磁気記録層１４に含まれる磁性粒子の平均粒径の１〜５倍、望ましくは１〜３倍の波長の範囲を用いる。
【００４３】
次に、全範囲積分値に対する設定範囲積分値の比を算出することにより設定範囲積分値を規格化して、この比が基準値以上の場合に基板を合格とする判定を行う（判定段階Ｓ２０８）。この基準値は、例えば０．２以上、望ましくは０．３以上である。このようにすれば、テクスチャ１０６において、磁気記録層１４の磁性粒子の配向性を制御するのに有効な山や谷が十分な割合で含まれていることを確認できる。
【００４４】
そのため、本例によれば、この割合を示す上記の比を指標として、テクスチャ１０６の形状を適切に管理できる。また、これにより、磁気記録媒体１０のＯＲを適切に向上させることができる。
【００４５】
ここで、検査工程は、基板１２の半径方向におけるテクスチャ密度を算出するテクスチャ密度算出段階を更に有してもよい。テクスチャ密度算出段階は、例えば、断面形状測定段階Ｓ２０２で測定された断面形状に基づき、テクスチャ密度を算出する。
【００４６】
この場合、判定段階Ｓ２０８は、例えば、全範囲積分値に対する設定範囲積分値の比が当該比の基準値以上であり、かつ、算出されたテクスチャ密度がテクスチャ密度の基準値以上の場合に、基板１２を合格とする。このようにすれば、磁気記録層１４の磁性粒子の配向性を制御するのに有効な山や谷の割合に加え、このような山や谷の絶対数を適切に管理できる。そのため、テクスチャ１０６の形状をより適切に管理できる。また、これにより、ＯＲをより適切に向上させることができる。テクスチャ密度の基準値は、例えば３０／μｍ以上、望ましくは４０／μｍ以上である。
【００４７】
（実施例）
以下、実施例及び比較例により、本発明を更に詳しく説明する。アルミノシリケートのアモルファスガラス基板を準備して、公知の方法でテクスチャ１０６を形成することにより、実施例１〜３、参考例１、２、及び比較例１、２に係る基板を作製した。これら基板は、２．５インチ型磁気ディスク用基板であり、直径は６５ｍｍ、内径は２０ｍｍ、ディスク厚は０．６３５ｍｍである。尚、上記のテクスチャ密度ＬＤ、及び全範囲積分値に対する設定範囲積分値の比（以下、規格化強度という）とＯＲとの関係を確認するため、各実施例、参考例、及び比較例では、テクスチャ形成工程で用いる研磨液や処理テープ等の各種条件を異ならせ、テクスチャのＬＤ及び規格化強度がそれぞれ異なるようにした。
【００４８】
図３は、実施例１に係る基板の断面形状及びフーリエ変換の結果を示す。図３（ａ）は、半径方向に沿った基板の断面形状の測定結果である。この測定は、ＡＦＭにより、基板の半径方向に延びる５００ｎｍ程度の測定領域に対して、２５６点／１μｍの測定精度で行った。また、測定された断面形状に基づき、テクスチャ密度ＬＤを算出した。実施例１において、テクスチャ密度ＬＤは、４０／μｍであった。
【００４９】
図３（ｂ）は、実施例１について、測定された断面形状の波形をフーリエ変換した結果を示す。実施例１において、測定された全範囲の波長範囲２０２について、下限の波長λ１は、２５６点／１μｍの測定精度におけるサンプリング点間の距離（３．９ｎｍ）に合わせて４ｎｍとした。また、上限の波長λ４は、測定領域の長さ５００ｎｍの１／４である１２５ｎｍ（１２５ｎｍは除外）とした。これは、ＡＦＭの測定において、測定の長さの１／４以上の波長成分は、測定時の平坦度補正等の要素によって変化し、真の表面形状を反映しないためである。そのため、全範囲積分値の算出は、４ｎｍ以上１２８ｎｍ未満の波長範囲２０２に対して行った。その結果、実施例１において、全範囲積分値Ａは、２２．９５であった。
【００５０】
また、設定範囲積分値を算出するための波長範囲２０４について、下限の波長λ２を６ｎｍ、上限の波長λ３を１８ｎｍとした。これは、基板上に形成される磁気記録層に含まれる磁性粒子の平均粒径が６ｎｍ程度であることを考慮し、波長範囲２０４として、平均粒径の１〜３倍の波長の範囲を用いるためである。そのため、設定範囲積分値の算出は、６ｎｍ以上１８ｎｍ未満の波長範囲２０４に対して行った。その結果、実施例１において、設定範囲積分値Ｂは、８．８７６であった。そのため、実施例１において、規格化強度Ｂ／Ａは、０．３８７（約０．３９）となった。
【００５１】
また、実施例１と同様にして、実施例２、参考例１、２、及び比較例１、２について、テクスチャ密度ＬＤ、及び規格化強度を算出した。図４は、比較例１について、測定された断面形状の波形をフーリエ変換した結果を示す。比較例１において、実施例１と同じ波長範囲２０２、２０４を用いて算出した規格化強度Ｂ／Ａは、０．１６８（約０．１７）であった。
【００５２】
（評価）
実施例１、２、参考例１、２、及び比較例１、２に係る基板上にそれぞれ磁気記録層を形成し、公知の方法によりＯＲを測定した。表１は、実施例１、２、参考例１、２、及び比較例１、２におけるテクスチャ密度ＬＤ及び規格化強度と、ＯＲとの関係を示す。
【００５３】
【表１】
【００５４】
テクスチャ密度ＬＤの値が標準的な値（例えば４０／μｍ程度）であれば、実施例１〜３のように、規格化強度を０．３以上とすることにより、特に良好なＯＲ（例えばＯＲ＝２．１）を実現できることがわかる。
【００５５】
また、例えば参考例１のように、テクスチャ密度ＬＤの値が低めの場合であっても、規格化強度を０．３以上とすれば、良好なＯＲ（例えばＯＲ＝２．０）を実現できることがわかる。また、テクスチャ密度ＬＤの値が標準的な値であれば、例えば参考例２のように、規格化強度を０．２以上とすれば、良好なＯＲを実現できることがわかる。
【００５６】
一方、規格化強度が不十分である場合、例えば比較例１のようにテクスチャ密度ＬＤの値が標準的な値であっても、ＯＲは２．０未満（例えば１．６〜１．９程度）となり、ＯＲを十分に向上させることはできない。また、例えば比較例２のように、テクスチャ密度ＬＤの値が低めの場合には、ＯＲは更に低くなってしまう。
【００５７】
以上、本発明を実施形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施形態に記載の範囲には限定されない。上記実施形態に、多様な変更又は改良を加えることが可能であることが当業者に明らかである。その様な変更又は改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。
【産業上の利用可能性】
【００５８】
本発明は、例えば磁気記録媒体用基板に好適に用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】本発明の一実施形態に係る磁気記録媒体１０の構成の一例を示す図である。 図１（ａ）は、磁気記録媒体１０の断面図である。 図１（ｂ）は、基板１２の一例を示す上面図である。
【図２】基板１２の製造方法の一例を示すフローチャートである。
【図３】実施例１に係る基板の断面形状及びフーリエ変換の結果を示す。 図３（ａ）は、半径方向に沿った基板の断面形状の測定結果である。 図３（ｂ）は、実施例１について、測定された断面形状の波形をフーリエ変換した結果を示す。
【図４】比較例１について、測定された断面形状の波形をフーリエ変換した結果を示す。
【符号の説明】
【００６０】
１０・・・磁気記録媒体、１２・・・基板、１４・・・磁気記録層、１０２・・・円孔、１０４・・・主表面、１０６・・・テクスチャ、２０２・・・波長範囲、２０４・・・波長範囲
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気記録媒体用基板の製造方法、磁気記録媒体用の製造方法、磁気記録媒体用基板の検査方法、及び磁気記録媒体用基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、磁気記録媒体用基板の主表面に、テクスチャと呼ばれる無数の微小な溝を形成する方法が知られている（例えば、特許文献１、２参照。）。このテクスチャは、例えば特許文献１、２に記載されているように、研磨液を含む処理液と処理テープで、円盤状の基板の表面を円周方向へ擦ることによって、円周方向に延びるように加工される。これにより、基板の主表面上に磁気記録層を形成する場合に、磁性粒子がテクスチャの溝に沿って結晶成長し、磁化容易軸を円周方向に配向させやすくなる。
【０００３】
ここで、磁気記録層の磁性粒子の配向性の指標としては、円周方向と半径方向との磁化の比であるＯＲ（Ｏｒｉｅｎｔａｔｉｏｎ Ｒａｔｉｏ）が用いられる。ＯＲは、高ければ高いほど、再生ヘッドで読み出したときに同一の磁気記録層の膜厚で高い出力が得られる。そのため、同一出力を得るために必要な磁気記録層の膜厚を低減できる。また、磁気記録層の膜厚を低減することにより、高分解能、低ノイズ化が図れるため、良好な電磁変換特性が得られ、より高記録密度での記録が可能となる。
【０００４】
ＯＲを向上させるためには、基板の主表面に望ましい形状のテクスチャを形成する必要がある。また、そのためには、適切な指標を用いてテクスチャの形状を管理する必要がある。
【０００５】
従来、テクスチャの形状を表す指標としては、特許文献１、２に記載されているような、線密度あるいはラインデンシティと呼ばれる指標（以下、ＬＤという）を用いる方法が知られている。ＬＤは、例えば、ＡＦＭ（原子間力顕微鏡）で基板主表面を測定することによって得られる基板の半径方向一深さ方向の断面図において、１μｍあたりに存在するテクスチャの山の数（あるいは谷の数）、又は基準線と交差する回数の半分等として定義される。近年用いられている基板において、ＬＤは、例えば３０〜５０／μｍ程度である。また、ＬＤは、高いほど電磁変換特性がよいと考えられている。
【特許文献１】特開２００２−２５１７１６号公報
【特許文献２】特開２００４−１０３１８２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、基板の表面の断面図は単純な山と谷で構成されてはおらず、高さ深さや幅が不揃いである。そのため、どの程度の高さ、深さ、又は幅を有する形状を山又は谷と判断するかによって、ＬＤの値が変化してしまう。従って、ＬＤは、定義自体が曖昧さを含んでいるとも言える。また、定義の取り方によってＬＤの値自体が変化してしまうとすれば、絶対的な指標としては使いにくい。
【０００７】
更に、本願発明者は、同じ定義で算出したＬＤの値が同じ場合であっても、ＯＲの値に差が生じる場合があることを見いだした。そのため、ＬＤを指標に用いてテクスチャの形状を管理しても、ＯＲを適切に向上させることができない場合があった。
【０００８】
そこで、本発明は、上記の課題を解決できる磁気記録媒体用基板の製造方法、磁気記録媒体用の製造方法、磁気記録媒体用基板の検査方法、及び磁気記録媒体用基板を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本願発明者は、鋭意研究により、ＬＤの値が同じ場合にＯＲの値に差が生じるのは、テクスチャの形状の分布の違いが原因であることを見いだした。例えば、ＬＤの値が同じあっても、磁気記録層の磁性粒子の配向性を制御するのに有効でない山や谷を多く含むテクスチャの場合、ＯＲを向上させる効果が小さくなることを見いだした。そして、これらの知見に基づき、本発明に至った。本発明は、以下の構成を有する。
【００１０】
（構成１）磁気記録媒体用基板の製造方法であって、主表面が研磨された円盤状の基板を準備する準備工程と、基板の円周方向へ延びる複数の尾根状のテクスチャを、基板の主表面に形成するテクスチャ形成工程と、テクスチャの形状を検査する検査工程とを備え、検査工程は、基板の半径方向に沿った基板の断面形状を測定する断面形状測定段階と、断面形状測定段階で測定された断面形状の波形をフーリエ変換することにより、断面形状の波形を波長と強度との関係に変換するフーリエ変換段階と、フーリエ変換段階で得られた波長と強度との関係に基づき、測定された全範囲の波長の範囲について強度を積分した値である全範囲積分値と、予め設定された波長の範囲について強度を積分した値である設定範囲積分値とを算出する積分段階と、全範囲積分値に対する設定範囲積分値の比が基準値以上の場合に基板を合格とする判定を行う判定段階とを有する。
【００１１】
このようにした場合、フーリエ変換によって得られた波長と強度との関係において、波長は、例えば、半径方向におけるテクスチャを構成する山や谷の幅を反映する。また、強度は、それぞれの波長に対応する幅の山や谷の数を反映する。そのため、例えば、幅が小さな山や谷が多い場合、小さな波長領域の強度が大きくなる。また、幅が大きな山や谷が多い場合、大きな波長領域の強度が大きくなる。
【００１２】
そのため、構成１のようにした場合、設定範囲積分値は、例えば、特定の範囲の幅の山や谷の数を反映した値となる。また、全範囲積分値に対する設定範囲積分値の比は、例えば、テクスチャ全体に対する特定の範囲の幅の山や谷の数の割合を反映した値となる。
【００１３】
従って、このようにすれば、例えば、この磁気記録媒体用基板を用いて製造される磁気記録媒体における、磁気記録層の磁性粒子の配向性を制御するのに有効な山や谷の割合を適切に算出できる。また、例えば、この比を指標としてテクスチャの形状を管理することにより、磁気記録媒体のＯＲを適切に向上させることができる。
【００１４】
尚、検査工程は、必ずしも全数の磁気記録媒体用基板に対して検査を行う工程でなくてもよい。例えば、検査工程は、一定数の磁気記録媒体用基板毎に一部の磁気記録媒体用基板を検査する抜き取り検査や、品質を保持するために一定期間毎に行う検査の工程であってもよい。
【００１５】
断面形状測定段階は、例えば、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により断面形状を測定する。この測定は、１μｍあたり２５６点以上のサンプリング点を含む測定精度で行うことが好ましい。測定に必要な必要な解像度は、磁気記録層の磁性粒子の結晶粒径によるが、このような精度で測定すれば、測定に必要なコストを上げることなく、十分な精度で測定を行うことができる。
【００１６】
測定された全範囲の波長とは、例えば、測定可能範囲の下限値以上、測定上意味がある上限値以下の範囲である。断面形状測定段階においてＡＦＭを用いて測定を行う場合、測定上意味がある上限値とは、例えば、断面形状測定段階における測定の長さの１／４の波長である。これは、ＡＦＭによる測定において、測定の長さの１／４以上の波長成分は、平坦度補正等の要素によって変化し、真の表面形状を反映しないためである。測定された全範囲の波長は、例えば、磁気記録層に含まれる磁性粒子の平均粒径の０．６〜１２０倍程度であってもよい。このようにした場合も、テクスチャの形状を適切に管理できる。
【００１７】
（構成２）積分段階は、予め設定された波長の範囲として、基板上に形成される磁気記録層に含まれる磁性粒子の平均粒径の１〜５倍の波長の範囲を用いる。当該予め設定された波長の範囲は、望ましくは、磁気記録層に含まれる磁性粒子の平均粒径の１〜３倍の波長の範囲である。この磁性粒子は、例えば粒子全体が単結晶になっている磁性結晶粒子である。
【００１８】
本願発明者は、上記のフーリエ変換行った場合、磁気記録層に含まれる磁性粒子の平均粒径の１〜５倍、特に１〜３倍の波長に対応する山や谷が、ＯＲを向上させるために特に重要であることを見いだした。そのため、設定範囲積分値を求めるための波長として、このような範囲を用いることにより、磁性粒子の結晶粒径から決まる、ＯＲを向上させるために特に重要な波長範囲の凹凸密度に応じた設定積分値を得ることができる。また、これにより、ＯＲをより適切に向上させることができる。
【００１９】
ここで、この範囲より小さな波長に対応する山や谷は、例えば、その上で成長する磁性粒子の数が少な過ぎるため、磁性粒子の配向性の制御に対する寄与が小さくなると考えられる。また、この範囲より大きな波長に対応する山や谷は、例えば、磁性粒子にとって平坦な領域に近くなり、磁性粒子の配向性を制御する機能を発揮しにくくなると考えられる。
【００２０】
尚、磁気記録層に含まれる磁性粒子の平均粒径の１〜５倍等とは、必ずしも厳密に平均粒径の１〜５倍等である必要はない。例えば、上記の観点を考慮した上で、平均粒径と考えられる妥当な値の１〜５倍等であればよい。
【００２１】
（構成３）判定段階は、全範囲積分値に対する前記設定範囲積分値の比の基準値として、０．２以上の値を用いる。この基準値は、望ましくは３以上である。
【００２２】
このようにすれば、テクスチャにおいて、磁気記録層の磁性粒子の配向性を制御するのに有効な山や谷が十分な割合で含まれていることを確認できる。また、これにより、ＯＲを適切に向上させることができる。
【００２３】
（構成４）検査工程は、断面形状測定段階で測定された断面形状に基づき、単位長さあたりに含まれるテクスチャの数であるテクスチャ密度を算出するテクスチャ密度算出段階を更に有し、判定段階は、全範囲積分値に対する設定範囲積分値の比が当該比の基準値以上であり、かつ、テクスチャ密度算出段階で算出されたテクスチャ密度がテクスチャ密度の基準値以上の場合に、基板を合格とする。
【００２４】
このようにすれば、磁気記録層の磁性粒子の配向性を制御するのに有効な山や谷の割合に加え、このような山や谷の絶対数を適切に管理できる。そのため、テクスチャの形状をより適切に管理できる。また、これにより、ＯＲをより適切に向上させることができる。テクスチャ密度の基準値は、例えば３０／μｍ、望ましくは４０／μｍである。
【００２５】
尚、このテクスチャ密度は、基板の半径方向の単位長さあたりに含まれるテクスチャの数であり、例えば、従来のラインデンシティ（ＬＤ）と同一又は同様に定義される。例えば、このテクスチャ密度は、断面形状測定段階で測定を行った測定領域における平均高さにある線を基準線として、測定した断面形状の波形が基準点と交差する単位長さあたりの回数の半分として定義される。単位長さは、例えば１μｍである。
【００２６】
（構成５）磁気記録媒体の製造方法であって、構成１から４のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板を準備する準備工程と、磁気記録媒体用基板上に磁気記録層を形成する記録層形成工程とを備える。
【００２７】
このようにすれば、磁気記録層の磁性粒子の配向性を適切に制御できる。また、これにより、磁気記録媒体のＯＲを適切に向上させることができる。
【００２８】
（構成６）磁気記録媒体用基板の検査方法であって、円周方向へ延びる複数の尾根状のテクスチャが主表面に形成された円盤状の基板に対し、基板の半径方向に沿った基板の断面形状を測定する断面形状測定段階と、断面形状測定段階で測定された断面形状の波形をフーリエ変換することにより、断面形状の波形を波長と強度との関係に変換するフーリエ変換段階と、フーリエ変換段階で得られた波長と強度との関係に基づき、測定された全範囲の波長の範囲について強度を積分した値である全範囲積分値と、予め設定された波長の範囲について強度を積分した値である設定範囲積分値とを算出する積分段階と、全範囲積分値に対する設定範囲積分値の比が基準値以上の場合に基板を合格とする判定を行う判定段階とを備える。このようにすれば、構成１と同様の効果を得ることができる。
【００２９】
（構成７）磁気記録媒体用基板であって、円盤状の形状を有し、基板の円周方向へ延びる複数の尾根状のテクスチャが主表面に形成されており、複数の尾根状のテクスチャは、基板の半径方向に沿って測定した基板の断面形状の波形をフーリエ変換することにより、断面形状の波形を波長と強度との関係に変換して、当該フーリエ変換で得られた波長と強度との関係に基づき、測定された全範囲の波長の範囲について強度を積分した値である全範囲積分値と、予め設定された波長の範囲について強度を積分した値である設定範囲積分値とを算出した場合に、全範囲積分値に対する設定範囲積分値の比が０．２以上になるように形成されている。このように構成すれば、構成１と同様な効果を得ることができる。
【発明の効果】
【００３０】
本発明によれば、例えば、磁気記録媒体用基板を製造する場合に、主表面に形成されたテクスチャの形状を適切に管理できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
以下、本発明に係る実施形態を、図面を参照しながら説明する。図１は、本発明の一実施形態に係る磁気記録媒体１０の構成の一例を示す。図１（ａ）は、磁気記録媒体１０の断面図である。図１（ｂ）は、磁気記録媒体１０の基板１２の一例を示す上面図である。本例において、磁気記録媒体１０は、長手記録方式用の磁気ディスクであり、基板１２と、磁気記録層１４とを備える。長手記録方式とは、基板１２の主表面と平行な方向に磁気記録層１４中の磁性粒子の磁化容易軸を配向させて信号を記録する方式である。
【００３２】
基板１２は、中心に円孔１０２を有する円盤状のガラス基板である。このガラス基板は、例えばアルミノシリケートのアモルファスガラス基板である。基板１２の主表面１０４には、基板１２の円周方向へ延びる複数の尾根状のテクスチャ１０６が形成されている。テクスチャ１０６は、円孔１０２を囲む同心円、又は同心円の一部に沿って延びるように形成されている。このような方向に延びるテクスチャ１０６は、磁気記録層１４中の磁性粒子の磁化容易軸の方向を制御して、基板１２の円周方向を向きやすくする。そのため、このようなテクスチャ１０６を適切に形成すれば、磁気記録層１４における円周方向と半径方向との磁化の比であるＯＲを向上させることができる。
【００３３】
磁気記録層１４は、例えばＣｏＣｒ系合金の磁性層であり、基板１２上に形成される。また、磁気記録層１４は、例えば平均粒径が６ｎｍ程度（例えば５．５〜６．５ｎｍ）の磁性粒子を含む。
【００３４】
尚、上記では説明を簡単にするために省略したが、磁気記録媒体１０は、基板１２と磁気記録層１４との間や、磁気記録層１４上に更に他の層を備えてもよい。例えば、磁気記録媒体１０は、基板１２と磁気記録層１４との間に、磁気記録層１４の結晶配向を制御するための下地層等を更に備えてもよい。また、磁気記録層１４上に、例えば保護層や潤滑層等を更に備えてもよい。
【００３５】
図２は、基板１２の製造方法の一例を示すフローチャートである。本例において、この製造方法は、最初に、主表面が研磨された円盤状の基板を準備する（準備工程Ｓ１０２）。準備工程Ｓ１０２は、例えば、中心に円孔が形成されており、かつ主表面及び内外周の端面が所定の表面粗さに研磨された基板を準備する。
【００３６】
そして、この基板の主表面に、テクスチャ１０６を形成する（テクスチャ形成工程Ｓ１０４）。テクスチャ形成工程Ｓ１０４は、例えば、公知の機械的又は化学的な方法等と同一又は同様の方法によりテクスチャ１０６を形成する。例えば、テクスチャ形成工程Ｓ１０４は、研磨液を含む処理液と処理テープで、基板の表面を円周方向へ擦ることによって、円周方向に延びるテクスチャ１０６を形成する。この研磨液としては、例えば、酸化セリウム及びダイアモンドスラリーを含む研磨液を用いることができる。
【００３７】
尚、テクスチャ形成工程Ｓ１０４で用いられる研磨液や処理テープ等の各種条件は、その後に行われる検査工程の結果をフィードバックすることにより最適化されることが好ましい。このようにすれば、製造される基板１２の歩留まりを適切に高めることができる。
【００３８】
続いて、テクスチャ１０６が形成された基板１２に対し、テクスチャ１０６の形状の検査を行う（検査工程Ｓ１０６）。本例において、検査工程Ｓ１０６は、最初に、例えば原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により、半径方向に沿った基板１２の断面形状を測定する（断面形状測定段階Ｓ２０２）。これにより、断面形状測定段階Ｓ２０２は、テクスチャ１０６が延びる方向と直交する方向における断面形状（断面像）を取得する。
【００３９】
尚、ＡＦＭを用いた場合、例えばＪＩＳ Ｂ０６０１の規定に従って、各走査線毎の粗さ曲線を求めることができる。そのため、ＡＦＭを用いれば、基板１２の断面形状を適切かつ高い精度で測定できる。この測定は、１μｍあたり２５６点以上のサンプリング点を含む測定精度で行うことが好ましい。このような精度で測定すれば、測定に必要なコストを上げることなく、十分な精度で測定を行うことができる。
【００４０】
断面形状の測定は、基板１２の主表面１０４の一部の領域について行う測定であってよい。断面形状測定段階Ｓ２０２は、例えば、基板１２の半径方向に延びる５００ｎｍ程度の測定領域に対して、断面形状の測定を行う。
【００４１】
次に、測定された断面形状の波形をフーリエ変換することにより、断面形状の波形を波長と強度との関係に変換する（フーリエ変換段階Ｓ２０４）。フーリエ変換段階Ｓ２０４は、例えば高速フーリエ変換（ＦＦＴ）により、フーリエ変換を行う。高速フーリエ変換とは、離散フーリエ変換（ＤＦＴ）を計算機上で高速に計算するアルゴリズムである。
【００４２】
次に、得られた波長と強度との関係について、強度を波長で積分する演算を行う（積分段階Ｓ２０６）。本例において、積分段階Ｓ２０６は、測定された全範囲の波長の範囲について強度を積分した値である全範囲積分値と、予め設定された波長の範囲について強度を積分した値である設定範囲積分値とを算出する。また、本例において、積分段階Ｓ２０６は、設定範囲積分値を求めるための波長の範囲として、形成されるべき磁気記録層１４に含まれる磁性粒子の平均粒径の１〜５倍、望ましくは１〜３倍の波長の範囲を用いる。
【００４３】
次に、全範囲積分値に対する設定範囲積分値の比を算出することにより設定範囲積分値を規格化して、この比が基準値以上の場合に基板を合格とする判定を行う（判定段階Ｓ２０８）。この基準値は、例えば０．２以上、望ましくは０．３以上である。このようにすれば、テクスチャ１０６において、磁気記録層１４の磁性粒子の配向性を制御するのに有効な山や谷が十分な割合で含まれていることを確認できる。
【００４４】
そのため、本例によれば、この割合を示す上記の比を指標として、テクスチャ１０６の形状を適切に管理できる。また、これにより、磁気記録媒体１０のＯＲを適切に向上させることができる。
【００４５】
ここで、検査工程は、基板１２の半径方向におけるテクスチャ密度を算出するテクスチャ密度算出段階を更に有してもよい。テクスチャ密度算出段階は、例えば、断面形状測定段階Ｓ２０２で測定された断面形状に基づき、テクスチャ密度を算出する。
【００４６】
この場合、判定段階Ｓ２０８は、例えば、全範囲積分値に対する設定範囲積分値の比が当該比の基準値以上であり、かつ、算出されたテクスチャ密度がテクスチャ密度の基準値以上の場合に、基板１２を合格とする。このようにすれば、磁気記録層１４の磁性粒子の配向性を制御するのに有効な山や谷の割合に加え、このような山や谷の絶対数を適切に管理できる。そのため、テクスチャ１０６の形状をより適切に管理できる。また、これにより、ＯＲをより適切に向上させることができる。テクスチャ密度の基準値は、例えば３０／μｍ以上、望ましくは４０／μｍ以上である。
【００４７】
（実施例）
以下、実施例及び比較例により、本発明を更に詳しく説明する。アルミノシリケートのアモルファスガラス基板を準備して、公知の方法でテクスチャ１０６を形成することにより、実施例１〜３、参考例１、２、及び比較例１、２に係る基板を作製した。これら基板は、２．５インチ型磁気ディスク用基板であり、直径は６５ｍｍ、内径は２０ｍｍ、ディスク厚は０．６３５ｍｍである。尚、上記のテクスチャ密度ＬＤ、及び全範囲積分値に対する設定範囲積分値の比（以下、規格化強度という）とＯＲとの関係を確認するため、各実施例、参考例、及び比較例では、テクスチャ形成工程で用いる研磨液や処理テープ等の各種条件を異ならせ、テクスチャのＬＤ及び規格化強度がそれぞれ異なるようにした。
【００４８】
図３は、実施例１に係る基板の断面形状及びフーリエ変換の結果を示す。図３（ａ）は、半径方向に沿った基板の断面形状の測定結果である。この測定は、ＡＦＭにより、基板の半径方向に延びる５００ｎｍ程度の測定領域に対して、２５６点／１μｍの測定精度で行った。また、測定された断面形状に基づき、テクスチャ密度ＬＤを算出した。実施例１において、テクスチャ密度ＬＤは、４０／μｍであった。
【００４９】
図３（ｂ）は、実施例１について、測定された断面形状の波形をフーリエ変換した結果を示す。実施例１において、測定された全範囲の波長範囲２０２について、下限の波長λ１は、２５６点／１μｍの測定精度におけるサンプリング点間の距離（３．９ｎｍ）に合わせて４ｎｍとした。また、上限の波長λ４は、測定領域の長さ５００ｎｍの１／４である１２５ｎｍ（１２５ｎｍは除外）とした。これは、ＡＦＭの測定において、測定の長さの１／４以上の波長成分は、測定時の平坦度補正等の要素によって変化し、真の表面形状を反映しないためである。そのため、全範囲積分値の算出は、４ｎｍ以上１２８ｎｍ未満の波長範囲２０２に対して行った。その結果、実施例１において、全範囲積分値Ａは、２２．９５であった。
【００５０】
また、設定範囲積分値を算出するための波長範囲２０４について、下限の波長λ２を６ｎｍ、上限の波長λ３を１８ｎｍとした。これは、基板上に形成される磁気記録層に含まれる磁性粒子の平均粒径が６ｎｍ程度であることを考慮し、波長範囲２０４として、平均粒径の１〜３倍の波長の範囲を用いるためである。そのため、設定範囲積分値の算出は、６ｎｍ以上１８ｎｍ未満の波長範囲２０４に対して行った。その結果、実施例１において、設定範囲積分値Ｂは、８．８７６であった。そのため、実施例１において、規格化強度Ｂ／Ａは、０．３８７（約０．３９）となった。
【００５１】
また、実施例１と同様にして、実施例２、参考例１、２、及び比較例１、２について、テクスチャ密度ＬＤ、及び規格化強度を算出した。図４は、比較例１について、測定された断面形状の波形をフーリエ変換した結果を示す。比較例１において、実施例１と同じ波長範囲２０２、２０４を用いて算出した規格化強度Ｂ／Ａは、０．１６８（約０．１７）であった。
【００５２】
（評価）
実施例１、２、参考例１、２、及び比較例１、２に係る基板上にそれぞれ磁気記録層を形成し、公知の方法によりＯＲを測定した。表１は、実施例１、２、参考例１、２、及び比較例１、２におけるテクスチャ密度ＬＤ及び規格化強度と、ＯＲとの関係を示す。
【００５３】
【表１】
【００５４】
テクスチャ密度ＬＤの値が標準的な値（例えば４０／μｍ程度）であれば、実施例１〜３のように、規格化強度を０．３以上とすることにより、特に良好なＯＲ（例えばＯＲ＝２．１）を実現できることがわかる。
【００５５】
また、例えば参考例１のように、テクスチャ密度ＬＤの値が低めの場合であっても、規格化強度を０．３以上とすれば、良好なＯＲ（例えばＯＲ＝２．０）を実現できることがわかる。また、テクスチャ密度ＬＤの値が標準的な値であれば、例えば参考例２のように、規格化強度を０．２以上とすれば、良好なＯＲを実現できることがわかる。
【００５６】
一方、規格化強度が不十分である場合、例えば比較例１のようにテクスチャ密度ＬＤの値が標準的な値であっても、ＯＲは２．０未満（例えば１．６〜１．９程度）となり、ＯＲを十分に向上させることはできない。また、例えば比較例２のように、テクスチャ密度ＬＤの値が低めの場合には、ＯＲは更に低くなってしまう。
【００５７】
以上、本発明を実施形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施形態に記載の範囲には限定されない。上記実施形態に、多様な変更又は改良を加えることが可能であることが当業者に明らかである。その様な変更又は改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。
【産業上の利用可能性】
【００５８】
本発明は、例えば磁気記録媒体用基板に好適に用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】本発明の一実施形態に係る磁気記録媒体１０の構成の一例を示す図である。 図１（ａ）は、磁気記録媒体１０の断面図である。 図１（ｂ）は、基板１２の一例を示す上面図である。
【図２】基板１２の製造方法の一例を示すフローチャートである。
【図３】実施例１に係る基板の断面形状及びフーリエ変換の結果を示す。 図３（ａ）は、半径方向に沿った基板の断面形状の測定結果である。 図３（ｂ）は、実施例１について、測定された断面形状の波形をフーリエ変換した結果を示す。
【図４】比較例１について、測定された断面形状の波形をフーリエ変換した結果を示す。
【符号の説明】
【００６０】
１０・・・磁気記録媒体、１２・・・基板、１４・・・磁気記録層、１０２・・・円孔、１０４・・・主表面、１０６・・・テクスチャ、２０２・・・波長範囲、２０４・・・波長範囲
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気記録媒体用基板の製造方法であって、
主表面が研磨された円盤状の基板を準備する準備工程と、
前記基板の円周方向へ延びる複数の尾根状のテクスチャを、前記基板の主表面に形成するテクスチャ形成工程と、
前記テクスチャの形状を検査する検査工程と
を備え、
前記検査工程は、
前記基板の半径方向に沿った前記基板の断面形状を測定する断面形状測定段階と、
前記断面形状測定段階で測定された前記断面形状の波形をフーリエ変換することにより、前記断面形状の波形を波長と強度との関係に変換するフーリエ変換段階と、
前記フーリエ変換段階で得られた前記波長と強度との関係に基づき、測定された全範囲の波長の範囲について前記強度を積分した値である全範囲積分値と、予め設定された波長の範囲について前記強度を積分した値である設定範囲積分値とを算出する積分段階と、
前記全範囲積分値に対する前記設定範囲積分値の比が基準値以上の場合に前記基板を合格とする判定を行う判定段階と
を有することを特徴とする磁気記録媒体用基板の製造方法。
【請求項２】
前記積分段階は、前記予め設定された波長の範囲として、前記基板上に形成される磁気記録層に含まれる磁性粒子の平均粒径の１〜５倍の波長の範囲を用いることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。
【請求項３】
前記判定段階は、前記全範囲積分値に対する前記設定範囲積分値の比の基準値として、０．２以上の値を用いることを特徴とする請求項１又は２に記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。
【請求項４】
前記検査工程は、前記断面形状測定段階で測定された前記断面形状に基づき、単位長さあたりに含まれる前記テクスチャの数であるテクスチャ密度を算出するテクスチャ密度算出段階を更に有し、
前記判定段階は、前記全範囲積分値に対する前記設定範囲積分値の比が当該比の基準値以上であり、かつ、前記テクスチャ密度算出段階で算出された前記テクスチャ密度が前記テクスチャ密度の基準値以上の場合に、前記基板を合格とすることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。
【請求項５】
磁気記録媒体の製造方法であって、
請求項１から４のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板を準備する準備工程と、
前記磁気記録媒体用基板上に磁気記録層を形成する記録層形成工程と
を備えることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項６】
磁気記録媒体用基板の検査方法であって、
円周方向へ延びる複数の尾根状のテクスチャが主表面に形成された円盤状の基板に対し、前記基板の半径方向に沿った前記基板の断面形状を測定する断面形状測定段階と、
前記断面形状測定段階で測定された前記断面形状の波形をフーリエ変換することにより、前記断面形状の波形を波長と強度との関係に変換するフーリエ変換段階と、
前記フーリエ変換段階で得られた前記波長と強度との関係に基づき、測定された全範囲の波長の範囲について前記強度を積分した値である全範囲積分値と、予め設定された波長の範囲について前記強度を積分した値である設定範囲積分値とを算出する積分段階と、
前記全範囲積分値に対する前記設定範囲積分値の比が基準値以上の場合に前記基板を合格とする判定を行う判定段階と
を備えることを特徴とする磁気記録媒体用基板の検査方法。
【請求項７】
磁気記録媒体用基板であって、
円盤状の形状を有し、
前記基板の円周方向へ延びる複数の尾根状のテクスチャが主表面に形成されており、
前記複数の尾根状のテクスチャは、
前記基板の半径方向に沿って測定した前記基板の断面形状の波形をフーリエ変換することにより、前記断面形状の波形を波長と強度との関係に変換して、
当該フーリエ変換で得られた前記波長と強度との関係に基づき、測定された全範囲の波長の範囲について前記強度を積分した値である全範囲積分値と、予め設定された波長の範囲について前記強度を積分した値である設定範囲積分値とを算出した場合に、
前記全範囲積分値に対する前記設定範囲積分値の比が０．２以上になるように形成されていることを特徴とする磁気記録媒体用基板。
【請求項１】
磁気記録媒体用基板の製造方法であって、
主表面が研磨された円盤状の基板を準備する準備工程と、
前記基板の円周方向へ延びる複数の尾根状のテクスチャを、前記基板の主表面に形成するテクスチャ形成工程と、
前記テクスチャの形状を検査する検査工程と
を備え、
前記検査工程は、
前記基板の半径方向に沿った前記基板の断面形状を測定する断面形状測定段階と、
前記断面形状測定段階で測定された前記断面形状の波形をフーリエ変換することにより、前記断面形状の波形を波長と強度との関係に変換するフーリエ変換段階と、
前記フーリエ変換段階で得られた前記波長と強度との関係に基づき、測定された全範囲の波長の範囲について前記強度を積分した値である全範囲積分値と、予め設定された波長の範囲について前記強度を積分した値である設定範囲積分値とを算出する積分段階と、
前記全範囲積分値に対する前記設定範囲積分値の比が基準値以上の場合に前記基板を合格とする判定を行う判定段階と
を有することを特徴とする磁気記録媒体用基板の製造方法。
【請求項２】
前記積分段階は、前記予め設定された波長の範囲として、前記基板上に形成される磁気記録層に含まれる磁性粒子の平均粒径の１〜５倍の波長の範囲を用いることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。
【請求項３】
前記判定段階は、前記全範囲積分値に対する前記設定範囲積分値の比の基準値として、０．２以上の値を用いることを特徴とする請求項１又は２に記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。
【請求項４】
前記検査工程は、前記断面形状測定段階で測定された前記断面形状に基づき、単位長さあたりに含まれる前記テクスチャの数であるテクスチャ密度を算出するテクスチャ密度算出段階を更に有し、
前記判定段階は、前記全範囲積分値に対する前記設定範囲積分値の比が当該比の基準値以上であり、かつ、前記テクスチャ密度算出段階で算出された前記テクスチャ密度が前記テクスチャ密度の基準値以上の場合に、前記基板を合格とすることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。
【請求項５】
磁気記録媒体の製造方法であって、
請求項１から４のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板を準備する準備工程と、
前記磁気記録媒体用基板上に磁気記録層を形成する記録層形成工程と
を備えることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項６】
磁気記録媒体用基板の検査方法であって、
円周方向へ延びる複数の尾根状のテクスチャが主表面に形成された円盤状の基板に対し、前記基板の半径方向に沿った前記基板の断面形状を測定する断面形状測定段階と、
前記断面形状測定段階で測定された前記断面形状の波形をフーリエ変換することにより、前記断面形状の波形を波長と強度との関係に変換するフーリエ変換段階と、
前記フーリエ変換段階で得られた前記波長と強度との関係に基づき、測定された全範囲の波長の範囲について前記強度を積分した値である全範囲積分値と、予め設定された波長の範囲について前記強度を積分した値である設定範囲積分値とを算出する積分段階と、
前記全範囲積分値に対する前記設定範囲積分値の比が基準値以上の場合に前記基板を合格とする判定を行う判定段階と
を備えることを特徴とする磁気記録媒体用基板の検査方法。
【請求項７】
磁気記録媒体用基板であって、
円盤状の形状を有し、
前記基板の円周方向へ延びる複数の尾根状のテクスチャが主表面に形成されており、
前記複数の尾根状のテクスチャは、
前記基板の半径方向に沿って測定した前記基板の断面形状の波形をフーリエ変換することにより、前記断面形状の波形を波長と強度との関係に変換して、
当該フーリエ変換で得られた前記波長と強度との関係に基づき、測定された全範囲の波長の範囲について前記強度を積分した値である全範囲積分値と、予め設定された波長の範囲について前記強度を積分した値である設定範囲積分値とを算出した場合に、
前記全範囲積分値に対する前記設定範囲積分値の比が０．２以上になるように形成されていることを特徴とする磁気記録媒体用基板。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図２】
【図３】
【図４】
【公開番号】特開２００８−９０９１６（Ｐ２００８−９０９１６Ａ）
【公開日】平成２０年４月１７日（２００８．４．１７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−２６９９２５（Ｐ２００６−２６９９２５）
【出願日】平成１８年９月２９日（２００６．９．２９）
【出願人】（０００１１３２６３）ＨＯＹＡ株式会社 (3,820)
【出願人】（５０１２５９７３２）ホーヤ マグネティクス シンガポール プライベートリミテッド (124)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年４月１７日（２００８．４．１７）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年９月２９日（２００６．９．２９）
【出願人】（０００１１３２６３）ＨＯＹＡ株式会社 (3,820)
【出願人】（５０１２５９７３２）ホーヤ マグネティクス シンガポール プライベートリミテッド (124)
【Ｆターム（参考）】
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