【課題】表面平滑性に優れた磁気記録媒体用基板、磁気記録媒体、磁気記録媒体用基板の製造方法及び表面検査方法を提供する。
【解決手段】中心孔を有する円盤状の磁気記録媒体用基板であって、その主面における表面粗さは、円周方向のうねりの空間周期(Ｌ)が１０〜１０００μｍの範囲における二乗平均平方根粗さ(Ｒｑ)で１Å以下であり、且つ、表面粗さについてスペクトル解析を行い、その空間周期(Ｌ)を横軸［μｍ］とし、そのパワースペクトル密度(ＰＳＤ)を縦軸［ｋ・Å^２・μｍ］（ｋは定数）とした両対数グラフ上に表される曲線Ｓにおいて、空間周期(Ｌ)が１０μｍとなる点Ａと、空間周期(Ｌ)が１０００μｍとなる点Ｂとを結ぶ線分Ｚの縦軸方向の成分をＨとし、この線分Ｚに対して曲線Ｓの縦軸方向の成分が最大となる変位をΔＨとしたときに、ΔＨ／Ｈ×１００［％］で表される値(Ｐ)が１５％以下である。 （もっと読む）

【課題】ヘッドトランスデューサに支持され、抵抗の温度係数（ＴＣＲ）およびセンサ抵抗を有するセンサを提供する。
【解決手段】センサは、周囲よりも高い温度で動作し、センサと媒体との間の間隔の変化に反応する。センサに接続された導電性接点は、接触抵抗を有し、センサの断面積よりも大きな断面積をセンサに隣接して有しており、このため、接触抵抗がセンサ抵抗に対して小さくなり、センサによって生成される信号に対する寄与が無視できるほどになる。複数のヘッドトランスデューサは各々、ＴＣＲセンサを支持し、電源は、センサに影響を及ぼす熱伝達変化がある状態で、周囲温度よりも高い一定の温度で各々のセンサを維持するように、各ヘッドの各センサにバイアス電力を供給することができる。ヘッドトランスデューサのＴＣＲセンサは、媒体の凹凸の一方または両方を検知するためのトラック指向型ＴＣＲセンサワイヤを含み得る。 （もっと読む）

【課題】磁性層の表面が極めて平滑で、記録再生特性及び走行特性に優れた磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体と、前記非磁性支持体の一方の主面上に形成された、非磁性粉末と結合剤と潤滑剤とを含む非磁性層と、前記非磁性層の前記非磁性支持体側とは反対側の主面上に形成された、磁性粉末と結合剤と潤滑剤とを含む磁性層とを有する磁気記録媒体であって、前記磁性粉末は、六方晶系フェライト磁性粉末、強磁性金属鉄系磁性粉末及び窒化鉄系磁性粉末からなる群から選ばれるいずれか１種であり、前記磁性粉末の平均粒子径が、１０ｎｍ以上３５ｎｍ以下であり、前記潤滑剤をｎ−ヘキサンで洗浄する前後の前記磁性層の表面のスペーシングをＴＳＡ（Ｔａｐｅ Ｓｐａｃｉｎｇ Ａｎａｌｙｚｅｒ）で測定したとき、洗浄後のスペーシングの値は、３〜１０ｎｍであり、洗浄前のスペーシングの値は、前記洗浄後のスペーシングの値に比べて１〜５ｎｍ小さい。 （もっと読む）

【課題】検査装置の検査エリア内に損傷ディスクが持ち込まれないようにすること。
【解決手段】検査対象であるディスク３０は搬送カゴ３１に収納して搬送される。センシング部１１は、事前にディスクのキズや割れ欠けといった損傷の有無を検査する。光学式欠陥検査部１０は、ディスク表面の微細な欠陥の有無を検査する。ディスク取出部１７は、センシング部１１の検査結果に応じて、損傷なしとされたディスクのみを搬送カゴから取り出して光学式欠陥検査部１０に供給する。 （もっと読む）

【課題】磁気記録媒体用ガラス基板の記録再生領域の全面について、微小うねりの変化量が所定の範囲内にある、磁気記録媒体用ガラス基板、及び、該磁気記録媒体用ガラス基板を用いた磁気記録媒体を提供することを目的とする。
【解決手段】一対の主平面と、外周端面と、内周端面と、を有する磁気記録媒体用ガラス基板であって、少なくとも一方の主平面は、主平面の全面に設定される格子状の各評価領域で微小うねり（ｎＷｑ）を測定したとき、一の評価領域と、これに隣接する評価領域との間における微小うねりの変化量の絶対値（ΔｎＷｑ）は、前記一の評価領域の微小うねりに対する比率が１０％以下であることを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板、及び、該磁気記録媒体用ガラス基板を用いた磁気記録媒体を提供する。 （もっと読む）

【課題】情報記録媒体用ガラス基板の製造過程で生じる不良を低減することが可能な、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板の洗浄を行なう工程は、ロールスクラブ洗浄装置を用いてガラス基板に対してロールスクラブ洗浄を行なう工程と、ロールスクラブ洗浄の後に、カップスクラブ洗浄装置を用いてガラス基板に対してカップスクラブ洗浄を行なう工程とを含み、カップスクラブ洗浄は、ロールスクラブ洗浄後のガラス基板の主表面が乾かないうちに実施する。 （もっと読む）

【課題】平行度に優れた磁気記録媒体用ガラス基板を得ることが可能な磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法及び平行度に優れた磁気記録媒体用ガラス基板を提供する。
【解決手段】一対の主平面１１と、外周端面１２と、内周端面１３と、を有する磁気記録媒体用ガラス基板１０の製造方法であって、外周端面は外周側面部１２０と外周面取り部１２１とを有し、両面研磨装置を用いてキャリアに保持された磁気記録媒体用ガラス基板の主平面を研磨する主平面研磨工程を有し、主平面研磨工程で研磨される前の磁気記録媒体用ガラス基板は、外周端面において、磁気記録媒体用ガラス基板の中心角で１５度間隔に設けた計２４の外周端面測定箇所で表面粗さＲａを測定したとき、外周側面部の表面粗さＲａの最大値は０．５μｍ以下、標準偏差は０．２μｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】塗布シートをシワやタルミなく略平面状に保持することにより、塗布面の表面観察を容易にする。
【解決手段】固定台２０は、基面２１から突出し、第１方向に沿って延びる、平滑な上面３１を有する凸条３０と、凸条に対して第１方向と直交する第２方向の両側に形成された第１吸引孔とを備える。塗布面を基面とは反対側に向けて、凸条及び第１吸引孔を覆うように塗布シートを基面上に載置し、塗布シートを第１吸引孔に吸引して塗布シートを凸条の上面に密着させる。 （もっと読む）

【課題】１平方インチ当たり４０ギガビット以上のような高記録密度での使用に供される磁気ディスクとして構成しても、サーマルアスぺリテイ障害を起こすことがなく、耐衝撃性にも優れた磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを提供する。携帯電話、デジタルカメラ、携帯型「ＭＰ３プレイヤ」、ＰＤＡ等の携帯情報機器や、「カーナビゲーションシステム」など車載用機器にも搭載できるように、例えば、外径３０ｍｍ以下の小型磁気ディスクとして構成しても、安定した動作を実現できる磁気ディスク用ガラス基板を提供する。
【解決手段】端面部が鏡面加工されており、端面部の算術平均粗さ（Ｒａ）が１００ｎｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】強度に優れたＨＤＤ用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ダイレクトプレス法により作製した円盤状のガラス基板前駆体を用いたＨＤＤ用ガラス基板の製造方法であって、前記ガラス基板前駆体の表面を４〜１０μｍの固定砥粒を用いて研削する粗ラッピング工程と、前記ガラス基板前駆体の表面を４μｍより小さい固定砥粒を用いて研削する精密ラッピング工程と、前記ガラス基板前駆体の表面を処理する化学処理工程と、を含み、前記粗ラッピング工程と前記精密ラッピング工程との間に前記化学処理工程を行うことを特徴とするＨＤＤ用ガラス基板の製造方法。前記化学処理工程において除去されるガラス基板前駆体の深さが１〜３μｍであることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】化学強化工程を施したガラス基板を破壊することなく、該化学強化層のばらつきを基板全体に対して一様に評価することのできるＨＤＤ用ガラス基板の検品・選別方法を提供することを目的としており、更には、この検品・選別方法により、長期間使用された場合においても読み取りエラーの発生が少ないＨＤＤ用情報記録媒体を製造可能な製造方法を提供することを目的としている。
【解決手段】本発明は、化学強化工程によって表層に圧縮応力層が付与されたＨＤＤ用ガラス基板を検品・選別する工程において、前記ＨＤＤ用ガラス基板の径方向において、中心孔の径端から０．５ｍｍの位置から、前記ＨＤＤ用ガラス基板の外径端から０．５ｍｍの位置までの位相差の最大値が、５．０ｎｍ未満であるものを選択することを特徴とするＨＤＤ用ガラス基板の検品・選別方法である。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の端面を酸化セリウム砥粒の使用をできるだけ抑えながら、かつ高い研磨速度で研磨し、面取り部等の端面にキズ等の加工変質層がない磁気記録媒体用ガラス基板を得る。
【解決手段】 中央部に貫通孔を有し、前記貫通孔を構成する内周側面と、外周側面、および互いに対向する１対の主平面を有する円盤形状のガラス基板において、前記内周側面および前記外周側面と前記主平面との交差部に、それぞれ内周面取り部および外周面取り部が形成された磁気記録媒体用ガラス基板であって、前記内周面取り部と外周面取り部の少なくとも一方は、ガラス基板の表面を５μｍエッチングしてから評価される、直径または長径の最大径が１０μｍ以上のピット欠陥数が５個／ｍｍ^２以下である。 （もっと読む）

【課題】適切な指標を用いて行う評価により検査された垂直磁気記録媒体用基板を提供する。
【解決手段】垂直磁気記録媒体用基板であって、主表面が研磨された円盤状の基板の主表面の断面形状を測定し、測定した断面形状の波形をフーリエ変換することにより、主表面の断面形状の波形を波長と強度との関係に変換して、フーリエ変換により得られた波長と強度との関係に基づき、測定された全範囲の波長の範囲について強度を積分した値である全範囲積分値と、予め設定された波長の範囲について強度を積分した値である設定範囲積分値とを算出した場合に、全範囲積分値に対する設定範囲積分値の比が、０．３以下であり、全範囲の波長は、４ｎｍ以上、１２５ｎｍ未満の範囲の波長であり、設定範囲積分値を算出する波長の範囲は、８〜２４ｎｍの波長範囲である。 （もっと読む）

【課題】磁気記録媒体に対する検査精度を向上させた磁気記録媒体の検査方法を提供する。
【解決手段】少なくとも非磁性基板の上に磁性層を有する磁気記録媒体Ｍの表面を検査する方法であって、検査対象となる磁気記録媒体Ｍの面上において、感熱素子を有する検査ヘッド２２を第１の高さで走査しながら、感熱素子から出力される信号のうち、欠陥部分として特定した箇所の感熱素子から出力される第１の信号を抽出するステップと、この後に、検査ヘッド２２を第１の高さとは異なる第２の高さで走査しながら、特定した箇所の感熱素子から出力される第２の信号を抽出するステップと、第１の信号と第２の信号とを比較することによって、欠陥部分が磁気記録媒体Ｍの表面において凹形状又は凸形状を有するかを判別するステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】コロイダルシリカや酸化セリウム等の研磨材に由来する微粒子汚れを良好に除去できるハードディスク基板用洗浄剤を提供する。
【解決手段】（Ａ）成分：ホスホン酸系キレート剤と、（Ｂ）成分：アニオン界面活性剤と、（Ｃ）成分：ノニオン界面活性剤とを含有し、（Ｂ）成分／（Ｃ）成分で表される質量比が０．０５〜１５、（Ａ）成分／［（Ａ）成分＋（Ｂ）成分＋（Ｃ）成分］で表される質量比が０．３５〜０．９５であり、純水で２質量％に希釈した希釈液の２５℃におけるｐＨが５．０以下であることよりなる。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の端部の加工について砥石を使用しない新たな加工方法を用いた磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】この磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、円環状のガラス基板の外周端部を加工する外周加工工程を有するこの外周加工工程では、ガラス基板を中心軸周りに回転させつつ、ガラス基板の外側から前記外周端部に向けてブラスト材を噴射させることでガラス基板の外周端部の一部を除去するように加工する。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の内周端部または外周端部を適切に研磨することができるようにした磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】研磨ブラシを用いて円環状のガラス基板の端部を鏡面研磨する工程を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、ガラス基板の主表面と垂直な側壁部と、主表面と側壁部の間に介在する面取り部とを均一に研磨すべく、前記研磨ブラシの毛材の先端形状は、実質的に凹状である基本形態が中心軸に沿って繰り返された形状となっていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】スクラッチ（傷）や異物付着等による表面欠陥を更に低減させることができ、基板表面品質がさらに厳しいものとなっている次世代用の基板として使用することが可能な高品質のガラス基板を低コストで製造できる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】研磨砥粒としてコロイダルシリカを含む研磨液と、研磨パッドが配備された定盤とを用いて、ガラス基板の主表面を研磨する研磨工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法である。ここで、上記研磨工程の前に、スルホン酸基を含むアクリル系ポリマーを含有する水溶液中に上記ガラス基板を浸漬させ、しかる後、上記研磨工程を行う。 （もっと読む）

【課題】安定した品質を有し生産性の高い磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】フロートバス内で溶融金属の上に溶融ガラスを浮かせて板状ガラスに成形する成形工程と、板状ガラスを冷却する冷却工程と、を備えた磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、フロートバスの出口からガラスの温度が歪点となる場所までの板状ガラスの温度降下速度を５０℃／ｍｉｎ以上とする。 （もっと読む）

【課題】アルミナ突き刺さりを低減できる磁気ディスク基板の製造方法の提供。
【解決手段】下記（１）〜（４）の工程を有する、磁気ディスク基板の製造方法。
（１）アルミナ粒子及び水を含有する研磨液組成物Ａを用いて被研磨基板の研磨対象面を研磨する工程、
（２）平均一次粒子径（Ｄ５０）が５〜６０ｎｍであり、一次粒子径の標準偏差が４０ｎｍ未満であるシリカ粒子及び水を含有する研磨液組成物Ｂを用いて前記工程（１）で得られた基板の研磨対象面を研磨する工程、
（３）工程（２）で得られた基板を洗浄する工程、
（４）シリカ粒子及び水を含有する研磨液組成物Ｃを用いて工程（３）で得られた基板の研磨対象面を研磨する工程。 （もっと読む）