積層フィルム及びその製造方法
【課題】光学機能及び導電機能を別々に形成する積層フィルムよりも製造工程を削減し、かつ、歩留まりを向上させることができる優れた積層フィルムを提供すること。
【解決手段】積層フィルム１０は、透明な樹脂基板１１と、ハードコート層１２と、光学膜１３、１４，１５と、透明導電膜１６とを具備している。光学膜１３、１４、１５及び透明導電膜１６は、樹脂基板１１の屈折率とは異なる屈折率を有している。積層フィルム１０は、４０℃９０％Ｒｈにおける水蒸気透過速度が１．０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であるように形成されている。積層フィルム１０は、全光線透過率（ＪＩＳ−Ｋ７１０５）が９０％以上であり、かつ、Ｄ６５光源の透過光の色相をＬ＊ａ＊ｂ＊表色系で表す場合のｂ＊の値が−１．０以上１．５以下であることが望ましい。
【解決手段】積層フィルム１０は、透明な樹脂基板１１と、ハードコート層１２と、光学膜１３、１４，１５と、透明導電膜１６とを具備している。光学膜１３、１４、１５及び透明導電膜１６は、樹脂基板１１の屈折率とは異なる屈折率を有している。積層フィルム１０は、４０℃９０％Ｒｈにおける水蒸気透過速度が１．０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であるように形成されている。積層フィルム１０は、全光線透過率（ＪＩＳ−Ｋ７１０５）が９０％以上であり、かつ、Ｄ６５光源の透過光の色相をＬ＊ａ＊ｂ＊表色系で表す場合のｂ＊の値が−１．０以上１．５以下であることが望ましい。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、水蒸気バリア機能、光学機能及び導電機能を有する積層フィルム及びその製造方法に関するものある。
【背景技術】
【０００２】
バリア機能、光学機能及び導電機能のうち２つ又は３つの機能を併せ持つ積層フィルムの例として、特許文献１及び特許文献２に挙げられるような光学膜及び透明導電膜をそれぞれ積層したものが知られている。また、特許文献３及び特許文献４に挙げられるようなバリア膜、光学膜及び透明導電膜をそれぞれ積層したもの、又は、特許文献５に挙げられるようなバリア機能、光学機能及び導電機能のいずれかの機能を有するフィルムを粘着により貼り合わせることにより複数の機能を持たせることが知られている。また、バリア機能と反射防止機能を満たす薄膜をフィルム上に形成する例として、特許文献６のように光学膜の少なくとも１層にバリア機能を持たせる方法が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平11-286066
【特許文献２】特許第3626624
【特許文献３】特開2005-70616
【特許文献４】特開2006-4633
【特許文献５】特開2006-327098
【特許文献６】特開2004-291464
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
電子デバイスに用いられるフィルムに要求される機能として、光学機能及び導電機能が挙げられる。これらの機能を別々にフィルムに付与する場合、工程が増えてしまう問題がある。
【０００５】
また、透明電極として最も一般的に用いられている酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）は、一般的なガラスやプラスチック基材に比べ、屈折率の高い高屈折率材料に分類されることから、単純に基板上にＩＴＯを形成すると、透過率が低下（反射率が増大）してしまう。また、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）は短波長域での透過率が低下するため、透過色が黄色味を帯びてしまう問題がある。さらに、基材がプラスチックの場合、基材に含まれるＨ２０に代表されるようなガス分子の影響により、ＩＴＯ膜の特性が劣化する問題がある。
【０００６】
本発明の目的は、光学機能及び導電機能を別々に形成する積層フィルムよりも製造工程を削減し、かつ、歩留まりを向上させることができる優れた積層フィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
請求項１の発明に係る積層フィルムは、透明な樹脂基板と、前記樹脂基板の少なくとも一方の面に形成されている光学膜と、前記光学膜の表面に形成されている透明導電膜とを具備し、前記光学膜及び前記透明導電膜は前記樹脂基板の屈折率とは異なる屈折率を有し、４０℃９０％Ｒｈにおける水蒸気透過速度が１．０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることを特徴とする。
【０００８】
請求項１の発明によれば、樹脂基板の少なくとも一方の面に光学膜及び透明導電膜を有するため、光学機能及び導電機能を別々に形成する積層フィルムよりも製造工程を削減し、かつ、歩留まりを向上させることができる優れた積層フィルムを提供することができる。
【０００９】
請求項２の発明に係る積層フィルムは、請求項１に記載の積層フィルムにおいて、
前記光学膜が、前記樹脂基板に順次に積層されている第１の薄膜層、第２の薄膜層及び第３の薄膜層を具備し、前記第１の薄膜層が１．５０〜２．２０の屈折率を有し、かつ、１〜１０ｎｍの膜厚を有し、前記第２の薄膜層が１．９０〜２．５０の屈折率を有し．かつ、１５〜３５ｎｍの膜厚を有し、前記第３の薄膜層が１．３５〜１．５０の屈折率を有し、かつ、３５〜７０ｎｍの膜厚を有し、前記透明導電膜が１．９０〜２．２０の屈折率を有し、かつ、１０〜３０ｎｍの膜厚を有することを特徴とする。
【００１０】
請求項２の発明によれば、請求項１の発明の効果を有し、かつ、光学膜が複数の高屈折率膜又は低屈折率膜を用いた積層膜であるため、単層よりも高度な光学性能を付与することができる。請求項２の発明によれば、例えば、可視光域での反射防止機能、高透過機能、透過又は反射色相調整機能を有する積層フィルムの提供が可能となる。
【００１１】
請求項３の発明に係る積層フィルムは、請求項１又は２に記載の積層フィルムにおいて、全光線透過率（ＪＩＳ−Ｋ７１０５）が９０％以上であり、かつ、Ｄ６５光源の透過光の色相をＬ＊ａ＊ｂ＊表色系で表す場合のｂ＊の値が−１．０以上１．５以下であることを特徴とする。
【００１２】
請求項３の発明によれば、請求項１又は２に記載の発明の効果を有し、かつ、さらに優れた積層フィルムを提供することができる。
【００１３】
請求項４の発明に係る積層フィルムは、請求項１乃至３のいずれかに記載の積層フィルムにおいて、前記透明導電膜が、Ｉｎ、Ｚｎ及びＳｎの少なくとも１つを主原料とする酸化物からなり、かつ、表面抵抗値が１５０〜８００Ω／□であることを特徴とする。
【００１４】
請求項４の発明によれば、請求項１乃至３のいずれかに記載の発明の効果を有し、かつ、さらに優れた積層フィルムを提供することができる。
【００１５】
請求項５の発明に係る積層フィルムは、請求項１乃至４のいずれかに記載の積層フィルムにおいて、前記樹脂基板の片面又は両面に形成されているハードコート、表面平滑層及びオリゴマー析出防止層の少なくとも１層を具備していることを特徴とする。
【００１６】
請求項５の発明によれば、請求項１乃至４のいずれかに記載の発明の効果を有し、かつ、さらに優れた積層フィルムを提供することができる。
【００１７】
請求項６の発明に係る積層フィルムは、請求項１乃至５のいずれかに記載の積層フィルムにおいて、前記樹脂基板における前記透明導電膜が形成されている側とは反対側の面上に積層されている可視光域の光線の反射を低減させる薄膜を具備し、前記樹脂基板の前記透明導電膜が位置する裏面側の光線の反射を除外し測定する場合の波長が３８０〜７８０ｎｍである光線の平均反射率が２％以下であることを特徴とする。
【００１８】
請求項６の発明によれば、請求項１乃至５のいずれかに記載の発明の効果を有し、かつ、さらに優れた積層フィルムを提供することができる。
【００１９】
請求項７の発明に係る積層フィルムは、請求項１乃至６のいずれかに記載の積層フィルムにおいて、前記樹脂基板における前記透明導電膜が形成されている側とは反対側の最表面に形成されている防汚層を具備することを特徴とする。
【００２０】
請求項７の発明によれば、請求項１乃至６のいずれかに記載の発明の効果を有し、かつ、さらに優れた積層フィルムを提供することができる。
【００２１】
請求項８の発明に係る積層体は、請求項１乃至７のいずれかに記載の積層フィルムが、他のフィルム、プラスチック基板及びガラス基板のいずれかと、粘着剤又は接着剤によって貼り合わされていることを特徴とする。
【００２２】
請求項８の発明によれば、請求項１乃至７のいずれかに記載の発明の効果を有する積層フィルムを具備する積層体を提供することができる。
【００２３】
請求項９の発明に係る電子デバイスは、請求項１乃至７のいずれかに記載の積層フィルム又は請求項８に記載の積層体を具備することを特徴とする。
【００２４】
請求項９の発明によれば、請求項１乃至７のいずれかに記載の効果を有する積層フィルム又は請求項８に記載の効果を有する積層体を具備する電子デバイスを提供することができる。
【００２５】
請求項１０の発明に係る積層フィルムの製造方法は、請求項１乃至７のいずれか記載の積層フィルムの製造方法であって、真空チャンバーの内部において前記樹脂基板を繰り出して搬送して巻き取る工程と、前記真空チャンバーの内部において前記樹脂基板に前記光学膜及び前記透明導電膜を順次に形成する工程と、を具備することを特徴とする。
【００２６】
請求項１０の発明によれば、前記樹脂基板を大気に晒すことなく前記樹脂基板に前記光学膜及び前記透明導電膜を順次に形成することができる。
【発明の効果】
【００２７】
本発明によれば、樹脂基板の少なくとも一方の面に光学膜及び透明導電膜を有するため、光学機能及び導電機能を別々に形成する積層フィルムよりも製造工程を削減し、かつ、歩留まりを向上させることができる優れた積層フィルムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本発明の実施の形態１に係る積層フィルムを示す概略断面図である。
【図２】本発明の実施の形態２に係る積層フィルムを示す概略断面図である。
【図３】本発明の実施の形態３に係る積層フィルムを示す概略断面図である。
【図４】本発明の実施の形態４に係る巻取式真空成膜装置を示す概略図である。
【図５】本発明の実施例と比較例の評価を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
以下に、本発明を実施するための最良の形態について、図面を用いながら詳細に説明する。
【００３０】
（実施の形態１）
図１は、本発明の実施の形態１に係る積層フィルムを示す概略断面図である。図１に示すように、本発明の実施の形態１に係る積層フィルム１０は、透明な樹脂基板１１と、ハードコート層１２と、光学膜１３、１４，１５と、透明導電膜１６とを具備している。
【００３１】
ハードコート層１２は、樹脂基板１１の一方の面に形成されている。光学膜１３、１４、１５は、樹脂基板１１の他の面に順次に積層されている第１の薄膜層、第２の薄膜層及び第３の薄膜層である。透明導電膜１６は、光学膜１５の表面に形成されている。光学膜１３、１４、１５及び透明導電膜１６は、樹脂基板１１の屈折率とは異なる屈折率を有している。
【００３２】
積層フィルム１０は、４０℃９０％Ｒｈにおける水蒸気透過速度が１．０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であるように形成されている。水蒸気透過速度が１．０ｇ／ｍ２・ｄａｙを上回ると、高温多湿の劣悪な環境でデバイスが使用された場合、積層フィルムを通してデバイス内に水蒸気が透過し、結露によりデバイス内でショートによる誤動作、最悪の場合、デバイスの破壊につながる深刻な影響を及ぼす。また、有機EL等、有機デバイスの電極として用いた場合、水分子により容易に腐食し、デバイスが早期に機能しなくなる。したがって、デバイスに与える影響を考慮すると、水蒸気透過速度は低ければ、低い程、良い。
【００３３】
光学膜１３は、１．５０〜２．２０の屈折率を有し、かつ、１〜１０ｎｍの膜厚を有している。光学膜１４は、１．９０〜２．５０の屈折率を有し．かつ、１５〜３５ｎｍの膜厚を有している。光学膜１５は、１．３５〜１．５０の屈折率を有し、かつ、３５〜７０ｎｍの膜厚を有している。透明導電膜１６は、１．９０〜２．２０の屈折率を有し、かつ、１０〜３０ｎｍの膜厚を有していることが望ましい。
【００３４】
積層フィルムは、層間で干渉を起こすことにより、特定の波長領域の透過率あるいは反射率を増大させたり、低減したりすることができるが、そのためには、それらの層の屈折率および膜厚を特定の範囲内にする必要がある。
【００３５】
例えば、第３の薄膜層の屈折率１．５０を超える材料を使用、あるいは膜厚が70ｎｍを超える膜厚を堆積させた場合、透過光b*が増大し、黄色味の強いフィルムとなる。逆に、屈折率が１．３５を下回る屈折率材料を使用、あるいは膜厚を３５ｎｍ未満とすると、全光線透過率が低下する。第２の薄膜層に関しても同様の傾向があり、前記範囲以外の屈折率および膜厚にすることは不適である。
【００３６】
第１の薄膜層に関しては、樹脂基板と薄膜層の密着性を高める観点から化学両論に満たない材料を用いることが多く、この場合、１０ｎｍを超える膜厚だと透過率が低下し、１ｎｍ未満だと、樹脂基板表面に堆積する面積が不十分で、密着性が低下する。
【００３７】
積層フィルム１０は、全光線透過率（ＪＩＳ−Ｋ７１０５）が９０％以上であり、かつ、Ｄ６５光源の透過光の色相をＬ＊ａ＊ｂ＊表色系で表す場合のｂ＊の値が−１．０以上１．５以下であることが望ましい。
【００３８】
樹脂基板１１として用いられるプラスチックフィルムとしては、成膜工程及び後工程において十分な強度があり、表面の平滑性が良好であれば、特に限定されない。樹脂基板１１として用いられるプラスチックフィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリアリレートフィルム、環状ポリオレフィンフィルム、ポリイミド等が挙げられる。樹脂基板１１の厚さは、部材の薄型化と基材の可撓性とを考慮し、１０〜２００μm程度が望ましい。樹脂基板１１の表面に周知の種々の添加剤や安定剤、例えば帯電防止剤、紫外線防止剤、可塑剤、滑剤及び易接着剤などが使用されてもよい。樹脂基板１１の表面に、光学膜２３との密着性を改善するため、前処理としてコロナ処理、低温プラズマ処理、イオンボンバード処理又は薬品処理などを施してもよい。
【００３９】
光学膜１３，１４、１５及び透明導電膜１６としては、酸化物、硫化物、フッ化物、窒化物などの材料が使用可能である。前記無機化合物からなる薄膜は、その材料により屈折率が異なり、その屈折率の異なるセラミック薄膜を特定の膜厚で形成することにより、光学特性を調整することが可能となる。
【００４０】
光学膜１３，１４、１５及び透明導電膜１６に用いられる屈折率の低い材料としては、酸化マグネシウム（屈折率１．６）、二酸化珪素（屈折率１．５）、フッ化マグネシウム（屈折率１．４）、フッ化カルシウム（屈折率１．３〜１．４）、フッ化セリウム（屈折率１．６）、フッ化アルミニウム（屈折率１．３）などが挙げられる。また、光学膜１３，１４、１５及び透明導電膜１６に用いられる屈折率の高い材料としては、酸化チタン（屈折率２．４）、酸化ジルコニウム（屈折率２．４）、硫化亜鉛（屈折率２．３）、酸化タンタル（屈折率２．１）、酸化亜鉛（屈折率２．１）、酸化インジウム（屈折率２．０）、酸化ニオブ（屈折率２．３）、酸化タンタル（屈折率２．２）が挙げられる。
【００４１】
光学膜１３，１４、１５及び透明導電膜１６に用いられるバリア性能を有する材料としては、珪素やアルミニウムの酸化物、窒化物等、酸窒化物等が挙げられるが、特に限定されるものではない。一方、薄膜層成膜中又は成膜後に熱やプラズマにより、薄膜を処理し、緻密な薄膜を形成する方法でもバリア性能を向上させることが可能である。プラズマ処理の際に、樹脂基板１１にバイアスを印加することにより、その効果を高めることも可能である。
【００４２】
積層ファイル１０の水蒸気透過速度は、JIS-Z0208、JIS-Z7129に代表されるような方法で測定可能である。水蒸気透過速度としては、４０℃９０%Ｒｈの環境下で最表面の透明導電膜１６の形成前で約１．５ｇ/ｍ２・ｄａｙ以下であることが望ましく、また、透明導電膜１６まで形成された状態で１．０ｇ/ｍ２・ｄａｙ以下であれば性能バラツキの少なく、かつ、再現性の良い透明導電膜２６を形成できる。
【００４３】
本発明の実施の形態１における水蒸気バリア膜、光学膜１３、１４、１５及び透明導電膜１６の製造方法としては、膜厚の制御が可能であればいかなる成膜方法でも良く、なかでも薄膜の生成には乾式法が優れている。これには真空蒸着法又はスパッタリング等の物理的気相析出法やＣＶＤ法のような化学的気相析出法を用いることができる。特に大面積に均一な膜質の薄膜を形成するために、プロセスが安定し、薄膜が緻密化するスパッタリング法が望ましい。
【００４４】
透明導電膜１６は、Ｉｎ、Ｚｎ及びＳｎの少なくとも１つを主原料とする酸化物からなり、かつ、表面抵抗値が１５０〜８００Ω/□であることが望ましい。透明導電膜１６の表面抵抗値は、光線透過率の観点から１５０Ω/□以上とすることがより望ましく、膜の耐久性の観点から、８００Ω/□以下であることが望ましい。
【００４５】
透明導電膜１６の材料としては、酸化インジウム、酸化亜鉛及び酸化スズのいずれか、又は、それらの２種類もしくは３種類の混合酸化物、さらには、その他添加物が加えられた物等が挙げられるが、目的・用途により種々の材料が使用でき、特に限定されるものではない。現在のところ、最も信頼性が高く、かつ、多くの実績のある透明導電膜１６の材料は、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）である。
【００４６】
透明導電膜１６として酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）を用いる場合、酸化インジウムにドープされる酸化スズの含有比はデバイスに求められる仕様に応じて、任意の割合を選択される。例えば、機械強度を高める目的で薄膜を結晶化させるために用いるスパッタリングターゲット材料は、酸化スズの含有比が１０重量％未満が望ましく、薄膜をアモルファス化しフレキシブル性を持たせるためには、酸化スズの含有比は１０重量％以上が望ましい。また、薄膜に低抵抗が求められる場合には、酸化スズの含有比は３重量％から２０重量％の範囲が望ましい。
【００４７】
樹脂基板１０における透明導電膜１６が形成されている側とは反対側の面上に積層されている可視光域の光線の反射を低減させる薄膜を具備し、樹脂基板１０の透明導電膜１６が位置する裏面側の光線の反射を除外し測定する場合の波長が３８０〜７８０ｎｍである光線の平均反射率が２％以下であることが望ましい。
【００４８】
樹脂基板１０の透明導電膜１６が位置する裏面側の光線の反射を除外する方法としては、透明導電膜１６の面側をつや消しスプレーで黒塗りする方法が容易で最適である。また、樹脂基材１０の反射率は片面当たり５％であり、両面で１０％である。透明導電膜１６の面の反対面の反射率を２％以下とすることで、視認性を向上させることができます。また、反射率を低減させることは、透過率を増大させることでもあり、好適である。一方、透明導電膜１６がＩＴＯで形成されている構成では、１〜２％程度の反射低減効果であるので、ＩＴＯの成膜面の反対面の構成を平均反射率が２％以下の構成にすることは、より大きな効果がある。
【００４９】
ハードコート層１２は、透明性と適度な硬度と機械的強度があれば、特に限定されるものではない。ハードコート層１２の材料としては、電離放射線や紫外線の照射による硬化樹脂や熱硬化性の樹脂が使用でき、特に紫外線照射硬化型のアクリルや有機珪素系の樹脂や、熱硬化型のポリシロキサン樹脂が好適である。これらの樹脂は、透明な樹脂基板１１と屈折率が同等もしくは近似していることがより好ましい。ハードコート層１２の膜厚は、３μｍ以上あれば十分な強度となるが、透明性、塗工精度及び取り扱いから３〜７μｍの範囲が好ましい。
【００５０】
（実施の形態２）
図２は、本発明の実施の形態２に係る積層フィルムを示す概略断面図である。本発明の実施の形態２においては、本発明の実施の形態１と同じ構成要素には同じ参照符号を付して説明を省略する。
【００５１】
図２に示すように、本発明の実施の形態２に係る積層フィルム２０は、透明な樹脂基板１１と、ハードコート層１２と、平滑層２１、光学膜１３、１４，１５と、透明導電膜１６と、反射防止光学膜２２、２３、２４、２５と、防汚層２６を具備している。
【００５２】
平滑層２７は、樹脂基板１１と光学膜１３との間に形成されている。平滑層２７は、光学膜１３、１４，１５の成膜前に形成することにより、透明導電膜３２の表面の平滑性を高める目的で施される。防汚層２７は表面に汚れを付きにくくする目的で形成される。
反射防止光学膜２２、２３、２４、２５は、ハードコート層１２の表面に順次に積層されている。防汚層２７は、反射防止光学膜２５の表面に形成されている。防汚層２７は、積層フィルム２０の表面に汚れを付きにくくする目的で形成されている。
【００５３】
反射防止光学膜２２、２３、２４、２５は、通常、屈折率の異なる薄膜を形成することにより、反射防止の機能が付与される。反射防止光学膜としては、樹脂基板１１よりも屈折率の低い無機薄膜を真空成膜で形成したり、紫外線照射硬化型の樹脂を塗布したりして形成される１層のものがある。また、反射防止光学膜としては、屈折率が１．９０〜２．５０である高屈折率薄膜と屈折率が１．３０〜１．５０である低屈折率薄膜を用い、透明な樹脂基板１１の上に複数の層を形成してなるものがある。反射防止光学膜としては、一般に、複数の薄膜構成を用いることにより、より広い波長領域に渡って低反射の特性を実現できる。
【００５４】
平滑層２１の材料としては、透明性、適度な硬度及び機械的強度を有するものであれば良く、アクリル系樹脂、有機シリコーン系樹脂、ポリシロキサン等の樹脂材料が挙げられる。ウェットプロセスでは、マイクログラビア、スクリーン等の各種コーティング方法を用いて塗工することができる。また、有機層を塗工する際に、塗工液に樹脂フィラーや無機のフィラーを混合させることにより高硬度化・易滑化も可能である。一方、有機蒸着法により保護層を形成する方法としては、特に限定されないが、例えば、アクリレートもしくはメタクリレート、又はそれらの混合樹脂溶液を有機物蒸着装置で蒸発させ、コーティングドラム上のフィルム上に凝縮させる。その後、電子線照射装置にて硬化処理を行うことにより保護層を形成することができる。また、電子線硬化の替わりに紫外線硬化を用いてもよい。
【００５５】
積層フィルム２０は、樹脂基板１１の片面又は両面に形成されているハードコート、表面平滑層及びオリゴマー析出防止層の少なくとも１層を具備していることが望ましい。
【００５６】
防汚層２６の材料は、撥水性及び撥油性の少なくとも１つ有することにより、表面を保護し、さらに防汚性を高めるものであり、要求性能を満たすものであれば、いかなる材料であっても制限されるものではない。防汚層２６の材料の代表的な例としては、有機化合物、好ましくはフッ素含有有機化合物が適している。防汚層２６の材料として撥水性を示すものとしては、例えば、疎水基を有する化合物がよく、フルオロカーボンやパーフルオロシラン、又はこれらの高分子化合物等が適している。
【００５７】
防汚層２６の材料は、これらの材料に応じて真空蒸着法、プラズマＣＶＤ法などの真空成膜プロセスや、マイクログラビア、スクリーン印刷等のウェットプロセスの各種コーティング方法を用いて形成することができる。防汚層２６の膜厚は、光学デバイスに用いる場合、光学機能を損なわないように設定しなければならず、５０ｎｍ以下であればよく、さらには１０ｎｍ以下にすることが好ましい。
【００５８】
（実施の形態３）
図３は、本発明の実施の形態３に係る積層体を示す概略断面図である。本発明の実施の形態３においては、本発明の実施の形態１と同じ構成要素には同じ参照符号を付して説明を省略する。
【００５９】
図３に示すように、本発明の実施の形態３に係る積層体４０は、積層フィルム４１と、透明な基板４２と、ハードコート層４３と、粘着層４４と、を具備している。積層フィルム４１は、透明な樹脂基板１１と、光学膜１３、１４，１５と、透明導電膜１６を具備している。基板４２は、樹脂基板１１の表面に粘着層４４により接着されている。なお、基板４２は、樹脂基板１１の表面に接着層により接着されてもよい。ハードコート層４３は、基板４２の表面に形成されている。
【００６０】
基板４２は、樹脂フィルム、プラスチック基板又はガラス基板により形成されている。基板４７としては、可とう性の樹脂フィルムを用いることにより、ロール状に巻かれた積層フィルム４１と粘着剤４４とラミネートした後にロールに巻き取ることが可能となる。
【００６１】
（実施の形態４）
図４は、本発明の実施の形態４に係る巻取式真空成膜装置を示す概略図である。本発明の実施の形態４においては、本発明の実施の形態１、２、３と同じ構成要素には同じ参照符号を付して説明を省略する。
【００６２】
図４に示すように、本発明の実施の形態４に係る巻取式真空成膜装置５０は、積層フィルム１０，２０を製造するものである。巻取式真空成膜装置５０は、真空チャンバー５０１と、繰出ロール５１と、巻取ロール５２と、案内ロール５３と、成膜ユニット５５ａ、５５ｂ、５５ｃ、５５ｄ、５５ｅと、仕切り部材５０２と、成膜ドラム５７と、を具備している。
【００６３】
真空チャンバー５０１の内部は、仕切り部材５０２により上下に仕切られて、上に基板搬送巻取室５０３が形成され、下に成膜室５６ａ、５６ｂ、５６ｃ、５６ｄ、５６ｅが形成されている。基板搬送巻取室５０３には、繰出ロール５１、巻取ロール５２及び案内ロール５３が配置されている。繰出ロール５１には、樹脂基板１１が巻回されている。繰出ロール５１から繰り出される樹脂基板１１は、案内ロ−ル５３に案内されて成膜ドラム５７の外表面の巻かれ、かつ、巻取ロール５２に巻き取られている。繰出ロール５１、巻取ロール５２及び案内ロール５３は、成膜ドルム５７の外表面において樹脂基板１１を所定速度で所定方向へ搬送して巻き取る基板搬送巻取手段を構成している。
【００６４】
成膜室５６ａ、５６ｂ、５６ｃ、５６ｄ、５６ｅには、成膜ユニット５５ａ、５５ｂ、５５ｃ、５５ｄ、５５ｅが配置されている。成膜ユニット５５ａ、５５ｂ、５５ｃ、５５ｄ、５５ｅは、成膜ドルム５７の外表面において所定速度で所定方向へ搬送される樹脂基板１１の表面に光学膜１３、１４，１５及び透明導電膜１６を順次に成膜するものである。
【００６５】
成膜速度の遅い材料の成膜工程については２個以上の成膜ユニットが設けられ、他方の成膜速度の高い工程とマッチングをとることにより、複層の薄膜層をインラインで一度に成膜することも可能となる。インラインで複数の薄膜層を一度に成膜する場合、各薄膜層で相互に不純物や成膜ガスが混合しないように、成膜室の間のコンダクタンスをできる限り小さくし、また、必要に応じて成膜室の間にポンプを取り付けた中間室を設けることにより、成膜室間の差圧が１：１００以上を実現できることが好ましい。
【００６６】
なお、透明導電膜１６は、成膜時の雰囲気により、膜質が変化する傾向があるが、透明導電膜１６を成膜する前に、水蒸気バリア性を有する薄膜を形成することにより、プラスチック基材から放出されるガスによる影響が抑制される。また、該水蒸気バリア性を有する薄膜を光学膜として用いることにより、水蒸気バリア性を有する薄膜を別に形成した積層フィルムよりも工程が減り、歩留まりが向上する。
【００６７】
次に、本発明の具体的な実施例を詳細に説明する。
【００６８】
（実施例１）
図１に示すような積層フィルム１０がデュアルマグネトロンスパッタリング（ＤＭＳ）法により作成された。この積層フィルム１０の樹脂基板１１は、ポリエチレンテレフタレートで１８８μｍの膜厚及び１０００ｍｍの幅に形成されている。この積層フィルム１０のハードコート層は、樹脂基板１１の一面に膜厚が３μｍであるように形成されている。ＳｉＯｘ（１＜ｘ＜２）薄膜（光学膜１３）、Ｎｂ２Ｏ５薄膜（光学膜１４）、ＳｉＯ２薄膜（光学膜１５）及びＩＴＯ薄膜（透明導電膜１６）は、デュアルマグネトロンスパッタリング（ＤＭＳ）法により順次に積層された。
【００６９】
ＳｉＯｘ（１＜ｘ＜２）薄膜（光学膜１３）は、１．７０の屈折率を有し、かつ、３ｎｍの膜厚を有している。Ｎｂ２Ｏ５薄膜（光学膜１４）は、２．３０の屈折率を有し．かつ、２５ｎｍの膜厚を有している。ＳｉＯ２薄膜（光学膜１５）は、１．４５の屈折率を有し、かつ、６０ｎｍの膜厚を有している。ＩＴＯ薄膜（透明導電膜１６）は、１．９８の屈折率を有し、かつ、２０ｎｍの膜厚を有している。
【００７０】
作製された積層フィルム１０の水蒸気透過速度は、測定したところ、０．１ｇ/ｍ２・ｄａｙだった。この積層フィルム１０の表面抵抗値は３５０Ω/□であり、この積層フィルム１０の全光線透過率は９１．１％である。この積層フィルム１０の透過色相は、Ｄ６５光源２°視野でｂ*＝０．９となり、透過色のニュートラルな積層フィルム１０が得られた。積層フィルム１０表面抵抗値のバラツキを確認したところ、標準偏差８．９の良好な膜が得られた。
【００７１】
（実施例２）
図４に示す巻取式真空成膜装置が用いられて図１に示すような積層フィルム１０が作成された。この積層フィルム１０の樹脂基板１１は、ポリエチレンテレフタレートで１８８μｍの膜厚及び１０００ｍｍの幅に形成されている。この積層フィルム１０のハードコート層は、樹脂基板１１の一面に膜厚が３μｍであるように形成されている。ＳｉＯｘ（１＜ｘ＜２）薄膜（光学膜１３）、ＴｉＯ２薄膜（光学膜１４）、ＳｉＯ２薄膜（光学膜１５）及びＩＴＯ薄膜（透明導電膜１６）は、真空成膜法により順次に積層された。
【００７２】
ＳｉＯｘ（１＜ｘ＜２）薄膜（光学膜１３）は、１．７０の屈折率を有し、かつ、３ｎｍの膜厚を有している。ＴｉＯ２薄膜（光学膜１４）は、２．３５の屈折率を有し．かつ、２６ｎｍの膜厚を有している。ＳｉＯ２薄膜（光学膜１５）は、１．４５の屈折率を有し、かつ、５５ｎｍの膜厚を有している。ＩＴＯ薄膜（透明導電膜１６）は、１．９８の屈折率を有し、かつ、２０ｎｍの膜厚を有している。
【００７３】
この際、カソードの磁場のバランスを調整した装置を用い、薄膜に高エネルギーイオンを入射し、緻密な膜が形成された。そして、ガラス基板上にＩＴＯ膜が形成された下部電極にスペーサーを介し、この積層フィルムを上部電極とし、透明導電膜をガラス基板と対向させて配置させたタッチパネルが形成された。
【００７４】
作製された積層フィルム１０の水蒸気透過速度は、測定したところ、０．４ｇ/ｍ２・ｄａｙだった。この積層フィルム１０の表面抵抗値は３５０Ω/□であり、この積層フィルム１０の全光線透過率は９０．５％である。この積層フィルム１０の透過色相は、Ｄ６５光源２°視野でb*＝０．５となり、透過色のニュートラルな積層フィルム１０が得られた。作製したタッチパネルのリニアリティーは、測定したところ、１．１％であって良好な特性を示した。また、タッチパネルを６０℃９０％RHの環境下に１０００ｈ放置した後も、タッチパネルの動作に問題は見られなかった。
【００７５】
（比較例１）
比較例１の積層フィルムが真空蒸着法により作成された。この積層フィルムの樹脂基板は、ポリエチレンテレフタレートで１８８μｍの膜厚及び１０００ｍｍの幅に形成されている。この積層フィルムのハードコート層は、樹脂基板の一面に膜厚が３μｍであるように形成されている。樹脂基板におけるハードコート層とは反対側の面に、ＴｉＯ２薄膜、ＳｉＯ２薄膜及びＩＴＯ薄膜が、真空蒸着法により順次に積層された。
【００７６】
ＴｉＯ２薄膜は、２．３０の屈折率を有し．かつ、２５ｎｍの膜厚を有している。ＳｉＯ２薄膜は、１．４５の屈折率を有し、かつ、６０ｎｍの膜厚を有している。ＩＴＯ薄膜は、１．９８の屈折率を有し、かつ、２０ｎｍの膜厚を有している。
【００７７】
作製された積層フィルムの水蒸気透過速度は、測定したところ、２．９ｇ/ｍ２・ｄａｙだった。この積層フィルムの表面抵抗値は４３０Ω/□であり、この積層フィルムの全光線透過率は９０．２％である。この積層フィルムの透過色相は、Ｄ６５光源２°視野でb*＝０．７となり、透過色のニュートラルな積層フィルムが得られた。しかしながら、表面抵抗値のバラツキは、確認したところ、標準偏差３２．１の表面抵抗分布の大きい膜であった。
【００７８】
さらに、作製された積層フィルムを用いてタッチパネルを作製し、６０℃９０％RHの環境下に１０００ｈ放置した後に、常温に取り出したところ、タッチパネルの内部に結露が見られた。通常の打鍵加重（２５０ｇｆ）によりタッチパネルの動作を確認したところ、ON/OFFのスイッチング時間が通常よりも長い現象や、OFF信号が得られない（ショート）現象が確認された。
【００７９】
実施例１，２と比較例１の評価結果が図５に示されている。図５により、実施例１，２の積層フイルムが比較例１の積層フイルムより優れていることが分かる。
【符号の説明】
【００８０】
１０ 積層フィルム
１１ 樹脂基板
１２ ハードコート層
１３、１４、１５ 光学層
１６ 透明導電膜
２０ 積層フィルム
２１ 平滑層
２２、２３、２４、２５ 反射防止光学膜
２６ 防汚層
４０ 積層体
４１ 積層フィルム
４２ 基板
４３ ハードコート層
４４ 粘着層
５０ 巻取式真空成膜装置
５０１ 真空チャンバー
５１ 繰出ロール
５２ 巻取ロール
５３ 案内ロール
５５ａ、５５ｂ、５５ｃ、５５ｄ、５５ｅ 成膜ユニット
５７ 成膜ドラム
５０２ 仕切り部材
５６ａ、５６ｂ、５６ｃ、５６ｄ、５６ｅ 成膜室
【技術分野】
【０００１】
本発明は、水蒸気バリア機能、光学機能及び導電機能を有する積層フィルム及びその製造方法に関するものある。
【背景技術】
【０００２】
バリア機能、光学機能及び導電機能のうち２つ又は３つの機能を併せ持つ積層フィルムの例として、特許文献１及び特許文献２に挙げられるような光学膜及び透明導電膜をそれぞれ積層したものが知られている。また、特許文献３及び特許文献４に挙げられるようなバリア膜、光学膜及び透明導電膜をそれぞれ積層したもの、又は、特許文献５に挙げられるようなバリア機能、光学機能及び導電機能のいずれかの機能を有するフィルムを粘着により貼り合わせることにより複数の機能を持たせることが知られている。また、バリア機能と反射防止機能を満たす薄膜をフィルム上に形成する例として、特許文献６のように光学膜の少なくとも１層にバリア機能を持たせる方法が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平11-286066
【特許文献２】特許第3626624
【特許文献３】特開2005-70616
【特許文献４】特開2006-4633
【特許文献５】特開2006-327098
【特許文献６】特開2004-291464
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
電子デバイスに用いられるフィルムに要求される機能として、光学機能及び導電機能が挙げられる。これらの機能を別々にフィルムに付与する場合、工程が増えてしまう問題がある。
【０００５】
また、透明電極として最も一般的に用いられている酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）は、一般的なガラスやプラスチック基材に比べ、屈折率の高い高屈折率材料に分類されることから、単純に基板上にＩＴＯを形成すると、透過率が低下（反射率が増大）してしまう。また、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）は短波長域での透過率が低下するため、透過色が黄色味を帯びてしまう問題がある。さらに、基材がプラスチックの場合、基材に含まれるＨ２０に代表されるようなガス分子の影響により、ＩＴＯ膜の特性が劣化する問題がある。
【０００６】
本発明の目的は、光学機能及び導電機能を別々に形成する積層フィルムよりも製造工程を削減し、かつ、歩留まりを向上させることができる優れた積層フィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
請求項１の発明に係る積層フィルムは、透明な樹脂基板と、前記樹脂基板の少なくとも一方の面に形成されている光学膜と、前記光学膜の表面に形成されている透明導電膜とを具備し、前記光学膜及び前記透明導電膜は前記樹脂基板の屈折率とは異なる屈折率を有し、４０℃９０％Ｒｈにおける水蒸気透過速度が１．０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることを特徴とする。
【０００８】
請求項１の発明によれば、樹脂基板の少なくとも一方の面に光学膜及び透明導電膜を有するため、光学機能及び導電機能を別々に形成する積層フィルムよりも製造工程を削減し、かつ、歩留まりを向上させることができる優れた積層フィルムを提供することができる。
【０００９】
請求項２の発明に係る積層フィルムは、請求項１に記載の積層フィルムにおいて、
前記光学膜が、前記樹脂基板に順次に積層されている第１の薄膜層、第２の薄膜層及び第３の薄膜層を具備し、前記第１の薄膜層が１．５０〜２．２０の屈折率を有し、かつ、１〜１０ｎｍの膜厚を有し、前記第２の薄膜層が１．９０〜２．５０の屈折率を有し．かつ、１５〜３５ｎｍの膜厚を有し、前記第３の薄膜層が１．３５〜１．５０の屈折率を有し、かつ、３５〜７０ｎｍの膜厚を有し、前記透明導電膜が１．９０〜２．２０の屈折率を有し、かつ、１０〜３０ｎｍの膜厚を有することを特徴とする。
【００１０】
請求項２の発明によれば、請求項１の発明の効果を有し、かつ、光学膜が複数の高屈折率膜又は低屈折率膜を用いた積層膜であるため、単層よりも高度な光学性能を付与することができる。請求項２の発明によれば、例えば、可視光域での反射防止機能、高透過機能、透過又は反射色相調整機能を有する積層フィルムの提供が可能となる。
【００１１】
請求項３の発明に係る積層フィルムは、請求項１又は２に記載の積層フィルムにおいて、全光線透過率（ＪＩＳ−Ｋ７１０５）が９０％以上であり、かつ、Ｄ６５光源の透過光の色相をＬ＊ａ＊ｂ＊表色系で表す場合のｂ＊の値が−１．０以上１．５以下であることを特徴とする。
【００１２】
請求項３の発明によれば、請求項１又は２に記載の発明の効果を有し、かつ、さらに優れた積層フィルムを提供することができる。
【００１３】
請求項４の発明に係る積層フィルムは、請求項１乃至３のいずれかに記載の積層フィルムにおいて、前記透明導電膜が、Ｉｎ、Ｚｎ及びＳｎの少なくとも１つを主原料とする酸化物からなり、かつ、表面抵抗値が１５０〜８００Ω／□であることを特徴とする。
【００１４】
請求項４の発明によれば、請求項１乃至３のいずれかに記載の発明の効果を有し、かつ、さらに優れた積層フィルムを提供することができる。
【００１５】
請求項５の発明に係る積層フィルムは、請求項１乃至４のいずれかに記載の積層フィルムにおいて、前記樹脂基板の片面又は両面に形成されているハードコート、表面平滑層及びオリゴマー析出防止層の少なくとも１層を具備していることを特徴とする。
【００１６】
請求項５の発明によれば、請求項１乃至４のいずれかに記載の発明の効果を有し、かつ、さらに優れた積層フィルムを提供することができる。
【００１７】
請求項６の発明に係る積層フィルムは、請求項１乃至５のいずれかに記載の積層フィルムにおいて、前記樹脂基板における前記透明導電膜が形成されている側とは反対側の面上に積層されている可視光域の光線の反射を低減させる薄膜を具備し、前記樹脂基板の前記透明導電膜が位置する裏面側の光線の反射を除外し測定する場合の波長が３８０〜７８０ｎｍである光線の平均反射率が２％以下であることを特徴とする。
【００１８】
請求項６の発明によれば、請求項１乃至５のいずれかに記載の発明の効果を有し、かつ、さらに優れた積層フィルムを提供することができる。
【００１９】
請求項７の発明に係る積層フィルムは、請求項１乃至６のいずれかに記載の積層フィルムにおいて、前記樹脂基板における前記透明導電膜が形成されている側とは反対側の最表面に形成されている防汚層を具備することを特徴とする。
【００２０】
請求項７の発明によれば、請求項１乃至６のいずれかに記載の発明の効果を有し、かつ、さらに優れた積層フィルムを提供することができる。
【００２１】
請求項８の発明に係る積層体は、請求項１乃至７のいずれかに記載の積層フィルムが、他のフィルム、プラスチック基板及びガラス基板のいずれかと、粘着剤又は接着剤によって貼り合わされていることを特徴とする。
【００２２】
請求項８の発明によれば、請求項１乃至７のいずれかに記載の発明の効果を有する積層フィルムを具備する積層体を提供することができる。
【００２３】
請求項９の発明に係る電子デバイスは、請求項１乃至７のいずれかに記載の積層フィルム又は請求項８に記載の積層体を具備することを特徴とする。
【００２４】
請求項９の発明によれば、請求項１乃至７のいずれかに記載の効果を有する積層フィルム又は請求項８に記載の効果を有する積層体を具備する電子デバイスを提供することができる。
【００２５】
請求項１０の発明に係る積層フィルムの製造方法は、請求項１乃至７のいずれか記載の積層フィルムの製造方法であって、真空チャンバーの内部において前記樹脂基板を繰り出して搬送して巻き取る工程と、前記真空チャンバーの内部において前記樹脂基板に前記光学膜及び前記透明導電膜を順次に形成する工程と、を具備することを特徴とする。
【００２６】
請求項１０の発明によれば、前記樹脂基板を大気に晒すことなく前記樹脂基板に前記光学膜及び前記透明導電膜を順次に形成することができる。
【発明の効果】
【００２７】
本発明によれば、樹脂基板の少なくとも一方の面に光学膜及び透明導電膜を有するため、光学機能及び導電機能を別々に形成する積層フィルムよりも製造工程を削減し、かつ、歩留まりを向上させることができる優れた積層フィルムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本発明の実施の形態１に係る積層フィルムを示す概略断面図である。
【図２】本発明の実施の形態２に係る積層フィルムを示す概略断面図である。
【図３】本発明の実施の形態３に係る積層フィルムを示す概略断面図である。
【図４】本発明の実施の形態４に係る巻取式真空成膜装置を示す概略図である。
【図５】本発明の実施例と比較例の評価を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
以下に、本発明を実施するための最良の形態について、図面を用いながら詳細に説明する。
【００３０】
（実施の形態１）
図１は、本発明の実施の形態１に係る積層フィルムを示す概略断面図である。図１に示すように、本発明の実施の形態１に係る積層フィルム１０は、透明な樹脂基板１１と、ハードコート層１２と、光学膜１３、１４，１５と、透明導電膜１６とを具備している。
【００３１】
ハードコート層１２は、樹脂基板１１の一方の面に形成されている。光学膜１３、１４、１５は、樹脂基板１１の他の面に順次に積層されている第１の薄膜層、第２の薄膜層及び第３の薄膜層である。透明導電膜１６は、光学膜１５の表面に形成されている。光学膜１３、１４、１５及び透明導電膜１６は、樹脂基板１１の屈折率とは異なる屈折率を有している。
【００３２】
積層フィルム１０は、４０℃９０％Ｒｈにおける水蒸気透過速度が１．０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であるように形成されている。水蒸気透過速度が１．０ｇ／ｍ２・ｄａｙを上回ると、高温多湿の劣悪な環境でデバイスが使用された場合、積層フィルムを通してデバイス内に水蒸気が透過し、結露によりデバイス内でショートによる誤動作、最悪の場合、デバイスの破壊につながる深刻な影響を及ぼす。また、有機EL等、有機デバイスの電極として用いた場合、水分子により容易に腐食し、デバイスが早期に機能しなくなる。したがって、デバイスに与える影響を考慮すると、水蒸気透過速度は低ければ、低い程、良い。
【００３３】
光学膜１３は、１．５０〜２．２０の屈折率を有し、かつ、１〜１０ｎｍの膜厚を有している。光学膜１４は、１．９０〜２．５０の屈折率を有し．かつ、１５〜３５ｎｍの膜厚を有している。光学膜１５は、１．３５〜１．５０の屈折率を有し、かつ、３５〜７０ｎｍの膜厚を有している。透明導電膜１６は、１．９０〜２．２０の屈折率を有し、かつ、１０〜３０ｎｍの膜厚を有していることが望ましい。
【００３４】
積層フィルムは、層間で干渉を起こすことにより、特定の波長領域の透過率あるいは反射率を増大させたり、低減したりすることができるが、そのためには、それらの層の屈折率および膜厚を特定の範囲内にする必要がある。
【００３５】
例えば、第３の薄膜層の屈折率１．５０を超える材料を使用、あるいは膜厚が70ｎｍを超える膜厚を堆積させた場合、透過光b*が増大し、黄色味の強いフィルムとなる。逆に、屈折率が１．３５を下回る屈折率材料を使用、あるいは膜厚を３５ｎｍ未満とすると、全光線透過率が低下する。第２の薄膜層に関しても同様の傾向があり、前記範囲以外の屈折率および膜厚にすることは不適である。
【００３６】
第１の薄膜層に関しては、樹脂基板と薄膜層の密着性を高める観点から化学両論に満たない材料を用いることが多く、この場合、１０ｎｍを超える膜厚だと透過率が低下し、１ｎｍ未満だと、樹脂基板表面に堆積する面積が不十分で、密着性が低下する。
【００３７】
積層フィルム１０は、全光線透過率（ＪＩＳ−Ｋ７１０５）が９０％以上であり、かつ、Ｄ６５光源の透過光の色相をＬ＊ａ＊ｂ＊表色系で表す場合のｂ＊の値が−１．０以上１．５以下であることが望ましい。
【００３８】
樹脂基板１１として用いられるプラスチックフィルムとしては、成膜工程及び後工程において十分な強度があり、表面の平滑性が良好であれば、特に限定されない。樹脂基板１１として用いられるプラスチックフィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリアリレートフィルム、環状ポリオレフィンフィルム、ポリイミド等が挙げられる。樹脂基板１１の厚さは、部材の薄型化と基材の可撓性とを考慮し、１０〜２００μm程度が望ましい。樹脂基板１１の表面に周知の種々の添加剤や安定剤、例えば帯電防止剤、紫外線防止剤、可塑剤、滑剤及び易接着剤などが使用されてもよい。樹脂基板１１の表面に、光学膜２３との密着性を改善するため、前処理としてコロナ処理、低温プラズマ処理、イオンボンバード処理又は薬品処理などを施してもよい。
【００３９】
光学膜１３，１４、１５及び透明導電膜１６としては、酸化物、硫化物、フッ化物、窒化物などの材料が使用可能である。前記無機化合物からなる薄膜は、その材料により屈折率が異なり、その屈折率の異なるセラミック薄膜を特定の膜厚で形成することにより、光学特性を調整することが可能となる。
【００４０】
光学膜１３，１４、１５及び透明導電膜１６に用いられる屈折率の低い材料としては、酸化マグネシウム（屈折率１．６）、二酸化珪素（屈折率１．５）、フッ化マグネシウム（屈折率１．４）、フッ化カルシウム（屈折率１．３〜１．４）、フッ化セリウム（屈折率１．６）、フッ化アルミニウム（屈折率１．３）などが挙げられる。また、光学膜１３，１４、１５及び透明導電膜１６に用いられる屈折率の高い材料としては、酸化チタン（屈折率２．４）、酸化ジルコニウム（屈折率２．４）、硫化亜鉛（屈折率２．３）、酸化タンタル（屈折率２．１）、酸化亜鉛（屈折率２．１）、酸化インジウム（屈折率２．０）、酸化ニオブ（屈折率２．３）、酸化タンタル（屈折率２．２）が挙げられる。
【００４１】
光学膜１３，１４、１５及び透明導電膜１６に用いられるバリア性能を有する材料としては、珪素やアルミニウムの酸化物、窒化物等、酸窒化物等が挙げられるが、特に限定されるものではない。一方、薄膜層成膜中又は成膜後に熱やプラズマにより、薄膜を処理し、緻密な薄膜を形成する方法でもバリア性能を向上させることが可能である。プラズマ処理の際に、樹脂基板１１にバイアスを印加することにより、その効果を高めることも可能である。
【００４２】
積層ファイル１０の水蒸気透過速度は、JIS-Z0208、JIS-Z7129に代表されるような方法で測定可能である。水蒸気透過速度としては、４０℃９０%Ｒｈの環境下で最表面の透明導電膜１６の形成前で約１．５ｇ/ｍ２・ｄａｙ以下であることが望ましく、また、透明導電膜１６まで形成された状態で１．０ｇ/ｍ２・ｄａｙ以下であれば性能バラツキの少なく、かつ、再現性の良い透明導電膜２６を形成できる。
【００４３】
本発明の実施の形態１における水蒸気バリア膜、光学膜１３、１４、１５及び透明導電膜１６の製造方法としては、膜厚の制御が可能であればいかなる成膜方法でも良く、なかでも薄膜の生成には乾式法が優れている。これには真空蒸着法又はスパッタリング等の物理的気相析出法やＣＶＤ法のような化学的気相析出法を用いることができる。特に大面積に均一な膜質の薄膜を形成するために、プロセスが安定し、薄膜が緻密化するスパッタリング法が望ましい。
【００４４】
透明導電膜１６は、Ｉｎ、Ｚｎ及びＳｎの少なくとも１つを主原料とする酸化物からなり、かつ、表面抵抗値が１５０〜８００Ω/□であることが望ましい。透明導電膜１６の表面抵抗値は、光線透過率の観点から１５０Ω/□以上とすることがより望ましく、膜の耐久性の観点から、８００Ω/□以下であることが望ましい。
【００４５】
透明導電膜１６の材料としては、酸化インジウム、酸化亜鉛及び酸化スズのいずれか、又は、それらの２種類もしくは３種類の混合酸化物、さらには、その他添加物が加えられた物等が挙げられるが、目的・用途により種々の材料が使用でき、特に限定されるものではない。現在のところ、最も信頼性が高く、かつ、多くの実績のある透明導電膜１６の材料は、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）である。
【００４６】
透明導電膜１６として酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）を用いる場合、酸化インジウムにドープされる酸化スズの含有比はデバイスに求められる仕様に応じて、任意の割合を選択される。例えば、機械強度を高める目的で薄膜を結晶化させるために用いるスパッタリングターゲット材料は、酸化スズの含有比が１０重量％未満が望ましく、薄膜をアモルファス化しフレキシブル性を持たせるためには、酸化スズの含有比は１０重量％以上が望ましい。また、薄膜に低抵抗が求められる場合には、酸化スズの含有比は３重量％から２０重量％の範囲が望ましい。
【００４７】
樹脂基板１０における透明導電膜１６が形成されている側とは反対側の面上に積層されている可視光域の光線の反射を低減させる薄膜を具備し、樹脂基板１０の透明導電膜１６が位置する裏面側の光線の反射を除外し測定する場合の波長が３８０〜７８０ｎｍである光線の平均反射率が２％以下であることが望ましい。
【００４８】
樹脂基板１０の透明導電膜１６が位置する裏面側の光線の反射を除外する方法としては、透明導電膜１６の面側をつや消しスプレーで黒塗りする方法が容易で最適である。また、樹脂基材１０の反射率は片面当たり５％であり、両面で１０％である。透明導電膜１６の面の反対面の反射率を２％以下とすることで、視認性を向上させることができます。また、反射率を低減させることは、透過率を増大させることでもあり、好適である。一方、透明導電膜１６がＩＴＯで形成されている構成では、１〜２％程度の反射低減効果であるので、ＩＴＯの成膜面の反対面の構成を平均反射率が２％以下の構成にすることは、より大きな効果がある。
【００４９】
ハードコート層１２は、透明性と適度な硬度と機械的強度があれば、特に限定されるものではない。ハードコート層１２の材料としては、電離放射線や紫外線の照射による硬化樹脂や熱硬化性の樹脂が使用でき、特に紫外線照射硬化型のアクリルや有機珪素系の樹脂や、熱硬化型のポリシロキサン樹脂が好適である。これらの樹脂は、透明な樹脂基板１１と屈折率が同等もしくは近似していることがより好ましい。ハードコート層１２の膜厚は、３μｍ以上あれば十分な強度となるが、透明性、塗工精度及び取り扱いから３〜７μｍの範囲が好ましい。
【００５０】
（実施の形態２）
図２は、本発明の実施の形態２に係る積層フィルムを示す概略断面図である。本発明の実施の形態２においては、本発明の実施の形態１と同じ構成要素には同じ参照符号を付して説明を省略する。
【００５１】
図２に示すように、本発明の実施の形態２に係る積層フィルム２０は、透明な樹脂基板１１と、ハードコート層１２と、平滑層２１、光学膜１３、１４，１５と、透明導電膜１６と、反射防止光学膜２２、２３、２４、２５と、防汚層２６を具備している。
【００５２】
平滑層２７は、樹脂基板１１と光学膜１３との間に形成されている。平滑層２７は、光学膜１３、１４，１５の成膜前に形成することにより、透明導電膜３２の表面の平滑性を高める目的で施される。防汚層２７は表面に汚れを付きにくくする目的で形成される。
反射防止光学膜２２、２３、２４、２５は、ハードコート層１２の表面に順次に積層されている。防汚層２７は、反射防止光学膜２５の表面に形成されている。防汚層２７は、積層フィルム２０の表面に汚れを付きにくくする目的で形成されている。
【００５３】
反射防止光学膜２２、２３、２４、２５は、通常、屈折率の異なる薄膜を形成することにより、反射防止の機能が付与される。反射防止光学膜としては、樹脂基板１１よりも屈折率の低い無機薄膜を真空成膜で形成したり、紫外線照射硬化型の樹脂を塗布したりして形成される１層のものがある。また、反射防止光学膜としては、屈折率が１．９０〜２．５０である高屈折率薄膜と屈折率が１．３０〜１．５０である低屈折率薄膜を用い、透明な樹脂基板１１の上に複数の層を形成してなるものがある。反射防止光学膜としては、一般に、複数の薄膜構成を用いることにより、より広い波長領域に渡って低反射の特性を実現できる。
【００５４】
平滑層２１の材料としては、透明性、適度な硬度及び機械的強度を有するものであれば良く、アクリル系樹脂、有機シリコーン系樹脂、ポリシロキサン等の樹脂材料が挙げられる。ウェットプロセスでは、マイクログラビア、スクリーン等の各種コーティング方法を用いて塗工することができる。また、有機層を塗工する際に、塗工液に樹脂フィラーや無機のフィラーを混合させることにより高硬度化・易滑化も可能である。一方、有機蒸着法により保護層を形成する方法としては、特に限定されないが、例えば、アクリレートもしくはメタクリレート、又はそれらの混合樹脂溶液を有機物蒸着装置で蒸発させ、コーティングドラム上のフィルム上に凝縮させる。その後、電子線照射装置にて硬化処理を行うことにより保護層を形成することができる。また、電子線硬化の替わりに紫外線硬化を用いてもよい。
【００５５】
積層フィルム２０は、樹脂基板１１の片面又は両面に形成されているハードコート、表面平滑層及びオリゴマー析出防止層の少なくとも１層を具備していることが望ましい。
【００５６】
防汚層２６の材料は、撥水性及び撥油性の少なくとも１つ有することにより、表面を保護し、さらに防汚性を高めるものであり、要求性能を満たすものであれば、いかなる材料であっても制限されるものではない。防汚層２６の材料の代表的な例としては、有機化合物、好ましくはフッ素含有有機化合物が適している。防汚層２６の材料として撥水性を示すものとしては、例えば、疎水基を有する化合物がよく、フルオロカーボンやパーフルオロシラン、又はこれらの高分子化合物等が適している。
【００５７】
防汚層２６の材料は、これらの材料に応じて真空蒸着法、プラズマＣＶＤ法などの真空成膜プロセスや、マイクログラビア、スクリーン印刷等のウェットプロセスの各種コーティング方法を用いて形成することができる。防汚層２６の膜厚は、光学デバイスに用いる場合、光学機能を損なわないように設定しなければならず、５０ｎｍ以下であればよく、さらには１０ｎｍ以下にすることが好ましい。
【００５８】
（実施の形態３）
図３は、本発明の実施の形態３に係る積層体を示す概略断面図である。本発明の実施の形態３においては、本発明の実施の形態１と同じ構成要素には同じ参照符号を付して説明を省略する。
【００５９】
図３に示すように、本発明の実施の形態３に係る積層体４０は、積層フィルム４１と、透明な基板４２と、ハードコート層４３と、粘着層４４と、を具備している。積層フィルム４１は、透明な樹脂基板１１と、光学膜１３、１４，１５と、透明導電膜１６を具備している。基板４２は、樹脂基板１１の表面に粘着層４４により接着されている。なお、基板４２は、樹脂基板１１の表面に接着層により接着されてもよい。ハードコート層４３は、基板４２の表面に形成されている。
【００６０】
基板４２は、樹脂フィルム、プラスチック基板又はガラス基板により形成されている。基板４７としては、可とう性の樹脂フィルムを用いることにより、ロール状に巻かれた積層フィルム４１と粘着剤４４とラミネートした後にロールに巻き取ることが可能となる。
【００６１】
（実施の形態４）
図４は、本発明の実施の形態４に係る巻取式真空成膜装置を示す概略図である。本発明の実施の形態４においては、本発明の実施の形態１、２、３と同じ構成要素には同じ参照符号を付して説明を省略する。
【００６２】
図４に示すように、本発明の実施の形態４に係る巻取式真空成膜装置５０は、積層フィルム１０，２０を製造するものである。巻取式真空成膜装置５０は、真空チャンバー５０１と、繰出ロール５１と、巻取ロール５２と、案内ロール５３と、成膜ユニット５５ａ、５５ｂ、５５ｃ、５５ｄ、５５ｅと、仕切り部材５０２と、成膜ドラム５７と、を具備している。
【００６３】
真空チャンバー５０１の内部は、仕切り部材５０２により上下に仕切られて、上に基板搬送巻取室５０３が形成され、下に成膜室５６ａ、５６ｂ、５６ｃ、５６ｄ、５６ｅが形成されている。基板搬送巻取室５０３には、繰出ロール５１、巻取ロール５２及び案内ロール５３が配置されている。繰出ロール５１には、樹脂基板１１が巻回されている。繰出ロール５１から繰り出される樹脂基板１１は、案内ロ−ル５３に案内されて成膜ドラム５７の外表面の巻かれ、かつ、巻取ロール５２に巻き取られている。繰出ロール５１、巻取ロール５２及び案内ロール５３は、成膜ドルム５７の外表面において樹脂基板１１を所定速度で所定方向へ搬送して巻き取る基板搬送巻取手段を構成している。
【００６４】
成膜室５６ａ、５６ｂ、５６ｃ、５６ｄ、５６ｅには、成膜ユニット５５ａ、５５ｂ、５５ｃ、５５ｄ、５５ｅが配置されている。成膜ユニット５５ａ、５５ｂ、５５ｃ、５５ｄ、５５ｅは、成膜ドルム５７の外表面において所定速度で所定方向へ搬送される樹脂基板１１の表面に光学膜１３、１４，１５及び透明導電膜１６を順次に成膜するものである。
【００６５】
成膜速度の遅い材料の成膜工程については２個以上の成膜ユニットが設けられ、他方の成膜速度の高い工程とマッチングをとることにより、複層の薄膜層をインラインで一度に成膜することも可能となる。インラインで複数の薄膜層を一度に成膜する場合、各薄膜層で相互に不純物や成膜ガスが混合しないように、成膜室の間のコンダクタンスをできる限り小さくし、また、必要に応じて成膜室の間にポンプを取り付けた中間室を設けることにより、成膜室間の差圧が１：１００以上を実現できることが好ましい。
【００６６】
なお、透明導電膜１６は、成膜時の雰囲気により、膜質が変化する傾向があるが、透明導電膜１６を成膜する前に、水蒸気バリア性を有する薄膜を形成することにより、プラスチック基材から放出されるガスによる影響が抑制される。また、該水蒸気バリア性を有する薄膜を光学膜として用いることにより、水蒸気バリア性を有する薄膜を別に形成した積層フィルムよりも工程が減り、歩留まりが向上する。
【００６７】
次に、本発明の具体的な実施例を詳細に説明する。
【００６８】
（実施例１）
図１に示すような積層フィルム１０がデュアルマグネトロンスパッタリング（ＤＭＳ）法により作成された。この積層フィルム１０の樹脂基板１１は、ポリエチレンテレフタレートで１８８μｍの膜厚及び１０００ｍｍの幅に形成されている。この積層フィルム１０のハードコート層は、樹脂基板１１の一面に膜厚が３μｍであるように形成されている。ＳｉＯｘ（１＜ｘ＜２）薄膜（光学膜１３）、Ｎｂ２Ｏ５薄膜（光学膜１４）、ＳｉＯ２薄膜（光学膜１５）及びＩＴＯ薄膜（透明導電膜１６）は、デュアルマグネトロンスパッタリング（ＤＭＳ）法により順次に積層された。
【００６９】
ＳｉＯｘ（１＜ｘ＜２）薄膜（光学膜１３）は、１．７０の屈折率を有し、かつ、３ｎｍの膜厚を有している。Ｎｂ２Ｏ５薄膜（光学膜１４）は、２．３０の屈折率を有し．かつ、２５ｎｍの膜厚を有している。ＳｉＯ２薄膜（光学膜１５）は、１．４５の屈折率を有し、かつ、６０ｎｍの膜厚を有している。ＩＴＯ薄膜（透明導電膜１６）は、１．９８の屈折率を有し、かつ、２０ｎｍの膜厚を有している。
【００７０】
作製された積層フィルム１０の水蒸気透過速度は、測定したところ、０．１ｇ/ｍ２・ｄａｙだった。この積層フィルム１０の表面抵抗値は３５０Ω/□であり、この積層フィルム１０の全光線透過率は９１．１％である。この積層フィルム１０の透過色相は、Ｄ６５光源２°視野でｂ*＝０．９となり、透過色のニュートラルな積層フィルム１０が得られた。積層フィルム１０表面抵抗値のバラツキを確認したところ、標準偏差８．９の良好な膜が得られた。
【００７１】
（実施例２）
図４に示す巻取式真空成膜装置が用いられて図１に示すような積層フィルム１０が作成された。この積層フィルム１０の樹脂基板１１は、ポリエチレンテレフタレートで１８８μｍの膜厚及び１０００ｍｍの幅に形成されている。この積層フィルム１０のハードコート層は、樹脂基板１１の一面に膜厚が３μｍであるように形成されている。ＳｉＯｘ（１＜ｘ＜２）薄膜（光学膜１３）、ＴｉＯ２薄膜（光学膜１４）、ＳｉＯ２薄膜（光学膜１５）及びＩＴＯ薄膜（透明導電膜１６）は、真空成膜法により順次に積層された。
【００７２】
ＳｉＯｘ（１＜ｘ＜２）薄膜（光学膜１３）は、１．７０の屈折率を有し、かつ、３ｎｍの膜厚を有している。ＴｉＯ２薄膜（光学膜１４）は、２．３５の屈折率を有し．かつ、２６ｎｍの膜厚を有している。ＳｉＯ２薄膜（光学膜１５）は、１．４５の屈折率を有し、かつ、５５ｎｍの膜厚を有している。ＩＴＯ薄膜（透明導電膜１６）は、１．９８の屈折率を有し、かつ、２０ｎｍの膜厚を有している。
【００７３】
この際、カソードの磁場のバランスを調整した装置を用い、薄膜に高エネルギーイオンを入射し、緻密な膜が形成された。そして、ガラス基板上にＩＴＯ膜が形成された下部電極にスペーサーを介し、この積層フィルムを上部電極とし、透明導電膜をガラス基板と対向させて配置させたタッチパネルが形成された。
【００７４】
作製された積層フィルム１０の水蒸気透過速度は、測定したところ、０．４ｇ/ｍ２・ｄａｙだった。この積層フィルム１０の表面抵抗値は３５０Ω/□であり、この積層フィルム１０の全光線透過率は９０．５％である。この積層フィルム１０の透過色相は、Ｄ６５光源２°視野でb*＝０．５となり、透過色のニュートラルな積層フィルム１０が得られた。作製したタッチパネルのリニアリティーは、測定したところ、１．１％であって良好な特性を示した。また、タッチパネルを６０℃９０％RHの環境下に１０００ｈ放置した後も、タッチパネルの動作に問題は見られなかった。
【００７５】
（比較例１）
比較例１の積層フィルムが真空蒸着法により作成された。この積層フィルムの樹脂基板は、ポリエチレンテレフタレートで１８８μｍの膜厚及び１０００ｍｍの幅に形成されている。この積層フィルムのハードコート層は、樹脂基板の一面に膜厚が３μｍであるように形成されている。樹脂基板におけるハードコート層とは反対側の面に、ＴｉＯ２薄膜、ＳｉＯ２薄膜及びＩＴＯ薄膜が、真空蒸着法により順次に積層された。
【００７６】
ＴｉＯ２薄膜は、２．３０の屈折率を有し．かつ、２５ｎｍの膜厚を有している。ＳｉＯ２薄膜は、１．４５の屈折率を有し、かつ、６０ｎｍの膜厚を有している。ＩＴＯ薄膜は、１．９８の屈折率を有し、かつ、２０ｎｍの膜厚を有している。
【００７７】
作製された積層フィルムの水蒸気透過速度は、測定したところ、２．９ｇ/ｍ２・ｄａｙだった。この積層フィルムの表面抵抗値は４３０Ω/□であり、この積層フィルムの全光線透過率は９０．２％である。この積層フィルムの透過色相は、Ｄ６５光源２°視野でb*＝０．７となり、透過色のニュートラルな積層フィルムが得られた。しかしながら、表面抵抗値のバラツキは、確認したところ、標準偏差３２．１の表面抵抗分布の大きい膜であった。
【００７８】
さらに、作製された積層フィルムを用いてタッチパネルを作製し、６０℃９０％RHの環境下に１０００ｈ放置した後に、常温に取り出したところ、タッチパネルの内部に結露が見られた。通常の打鍵加重（２５０ｇｆ）によりタッチパネルの動作を確認したところ、ON/OFFのスイッチング時間が通常よりも長い現象や、OFF信号が得られない（ショート）現象が確認された。
【００７９】
実施例１，２と比較例１の評価結果が図５に示されている。図５により、実施例１，２の積層フイルムが比較例１の積層フイルムより優れていることが分かる。
【符号の説明】
【００８０】
１０ 積層フィルム
１１ 樹脂基板
１２ ハードコート層
１３、１４、１５ 光学層
１６ 透明導電膜
２０ 積層フィルム
２１ 平滑層
２２、２３、２４、２５ 反射防止光学膜
２６ 防汚層
４０ 積層体
４１ 積層フィルム
４２ 基板
４３ ハードコート層
４４ 粘着層
５０ 巻取式真空成膜装置
５０１ 真空チャンバー
５１ 繰出ロール
５２ 巻取ロール
５３ 案内ロール
５５ａ、５５ｂ、５５ｃ、５５ｄ、５５ｅ 成膜ユニット
５７ 成膜ドラム
５０２ 仕切り部材
５６ａ、５６ｂ、５６ｃ、５６ｄ、５６ｅ 成膜室
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明な樹脂基板と、前記樹脂基板の少なくとも一方の面に形成されている光学膜と、前記光学膜の表面に形成されている透明導電膜とを具備し、前記光学膜及び前記透明導電膜は前記樹脂基板の屈折率とは異なる屈折率を有し、
４０℃９０％Ｒｈにおける水蒸気透過速度が１．０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることを特徴とする積層フィルム。
【請求項２】
前記光学膜は、前記樹脂基板に順次に積層されている第１の薄膜層、第２の薄膜層及び第３の薄膜層を具備し、
前記第１の薄膜層は１．５０〜２．２０の屈折率を有し、かつ、１〜１０ｎｍの膜厚を有し、前記第２の薄膜層は１．９０〜２．５０の屈折率を有し．かつ、１５〜３５ｎｍの膜厚を有し、前記第３の薄膜層は１．３５〜１．５０の屈折率を有し。かつ、３５〜７０ｎｍの膜厚を有し、
前記透明導電膜は１．９０〜２．２０の屈折率を有し、かつ、１０〜３０ｎｍの膜厚を有することを特徴とする請求項１に記載の積層フィルム。
【請求項３】
全光線透過率（ＪＩＳ−Ｋ７１０５）が９０％以上であり、かつ、Ｄ６５光源の透過光の色相をＬ＊ａ＊ｂ＊表色系で表す場合のｂ＊の値が−１．０以上１．５以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載の積層フィルム。
【請求項４】
前記透明導電膜は、Ｉｎ、Ｚｎ及びＳｎの少なくとも１つを主原料とする酸化物からなり、かつ、表面抵抗値が１５０〜８００Ω／□であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の積層フィルム。
【請求項５】
前記樹脂基板の片面又は両面に形成されているハードコート、表面平滑層及びオリゴマー析出防止層の少なくとも１層を具備していることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の積層フィルム。
【請求項６】
前記樹脂基板における前記透明導電膜が形成されている側とは反対側の面上に積層されている可視光域の光線の反射を低減させる薄膜を具備し、前記樹脂基板の前記透明導電膜が位置する裏面側の光線の反射を除外し測定する場合の波長が３８０〜７８０ｎｍである光線の平均反射率が２％以下であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の積層フィルム。
【請求項７】
前記樹脂基板における前記透明導電膜が形成されている側とは反対側の最表面に形成されている防汚層を具備することを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の積層フィルム。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれかに記載の積層フィルムが、他のフィルム、プラスチック基板及びガラス基板のいずれかと、粘着剤又は接着剤によって貼り合わされていることを特徴とする積層体。
【請求項９】
請求項１乃至７のいずれかに記載の積層フィルム又は請求項８に記載の積層体を具備することを特徴とする電子デバイス。
【請求項１０】
請求項１乃至７のいずれか記載の積層フィルムの製造方法であって、
真空チャンバーの内部において前記樹脂基板を繰り出して搬送して巻き取る工程と、
前記真空チャンバーの内部において前記樹脂基板に前記光学膜及び前記透明導電膜を順次に形成する工程と、
を具備することを特徴とする積層フィルムの製造方法。
【請求項１】
透明な樹脂基板と、前記樹脂基板の少なくとも一方の面に形成されている光学膜と、前記光学膜の表面に形成されている透明導電膜とを具備し、前記光学膜及び前記透明導電膜は前記樹脂基板の屈折率とは異なる屈折率を有し、
４０℃９０％Ｒｈにおける水蒸気透過速度が１．０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることを特徴とする積層フィルム。
【請求項２】
前記光学膜は、前記樹脂基板に順次に積層されている第１の薄膜層、第２の薄膜層及び第３の薄膜層を具備し、
前記第１の薄膜層は１．５０〜２．２０の屈折率を有し、かつ、１〜１０ｎｍの膜厚を有し、前記第２の薄膜層は１．９０〜２．５０の屈折率を有し．かつ、１５〜３５ｎｍの膜厚を有し、前記第３の薄膜層は１．３５〜１．５０の屈折率を有し。かつ、３５〜７０ｎｍの膜厚を有し、
前記透明導電膜は１．９０〜２．２０の屈折率を有し、かつ、１０〜３０ｎｍの膜厚を有することを特徴とする請求項１に記載の積層フィルム。
【請求項３】
全光線透過率（ＪＩＳ−Ｋ７１０５）が９０％以上であり、かつ、Ｄ６５光源の透過光の色相をＬ＊ａ＊ｂ＊表色系で表す場合のｂ＊の値が−１．０以上１．５以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載の積層フィルム。
【請求項４】
前記透明導電膜は、Ｉｎ、Ｚｎ及びＳｎの少なくとも１つを主原料とする酸化物からなり、かつ、表面抵抗値が１５０〜８００Ω／□であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の積層フィルム。
【請求項５】
前記樹脂基板の片面又は両面に形成されているハードコート、表面平滑層及びオリゴマー析出防止層の少なくとも１層を具備していることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の積層フィルム。
【請求項６】
前記樹脂基板における前記透明導電膜が形成されている側とは反対側の面上に積層されている可視光域の光線の反射を低減させる薄膜を具備し、前記樹脂基板の前記透明導電膜が位置する裏面側の光線の反射を除外し測定する場合の波長が３８０〜７８０ｎｍである光線の平均反射率が２％以下であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の積層フィルム。
【請求項７】
前記樹脂基板における前記透明導電膜が形成されている側とは反対側の最表面に形成されている防汚層を具備することを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の積層フィルム。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれかに記載の積層フィルムが、他のフィルム、プラスチック基板及びガラス基板のいずれかと、粘着剤又は接着剤によって貼り合わされていることを特徴とする積層体。
【請求項９】
請求項１乃至７のいずれかに記載の積層フィルム又は請求項８に記載の積層体を具備することを特徴とする電子デバイス。
【請求項１０】
請求項１乃至７のいずれか記載の積層フィルムの製造方法であって、
真空チャンバーの内部において前記樹脂基板を繰り出して搬送して巻き取る工程と、
前記真空チャンバーの内部において前記樹脂基板に前記光学膜及び前記透明導電膜を順次に形成する工程と、
を具備することを特徴とする積層フィルムの製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【公開番号】特開２０１０−１８４４７７（Ｐ２０１０−１８４４７７Ａ）
【公開日】平成２２年８月２６日（２０１０．８．２６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−３１７８２（Ｐ２００９−３１７８２）
【出願日】平成２１年２月１３日（２００９．２．１３）
【出願人】（０００００３１９３）凸版印刷株式会社 (10,630)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年８月２６日（２０１０．８．２６）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年２月１３日（２００９．２．１３）
【出願人】（０００００３１９３）凸版印刷株式会社 (10,630)
【Ｆターム（参考）】
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