膜積層体
ポリフッ化ビニリデン基材に熱結合している少なくとも１つのポリスルホンおよび／またはポリエーテルスルホン多孔性膜を含む積層体を提供する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本出願は、２００７年５月１７日に出願された米国仮特許出願第６０／９３０，５８５号の優先権の利益を主張し、この内容全体は参照により本明細書に組み込まれる。
【０００２】
本発明は、ＰＶＤＦ（ポリフッ化ビニリデン）基材に熱結合しているポリスルホンまたはポリエーテルスルホン膜を含む膜構造体に関する。
【背景技術】
【０００３】
現在のところ、濾過装置を製造する現場において予備滅菌され、濾過装置を使用する現場において無菌化される、生物学的流体からウイルスを除去する濾過装置を提供することが望まれている。一般に、製造現場における滅菌はガンマ線照射により実施され、無菌化は使用の現場において苛性アルカリにより実施される。苛性アルカリによる無菌化は、最初に苛性アルカリ水溶液（典型的には０．１規定の水酸化ナトリウム）により、次いで滅菌水により、次いで滅菌緩衝液により実施される。従って、濾過装置がガンマ線照射および苛性アルカリの両方に起因する分解に対して耐性であることが必要である。
【０００４】
濾過装置は、一般にポリスルホン（ＰＳ）膜またはポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）膜を含む濾過膜が結合している支持プレートを含むエレメントを利用する。なぜなら、このエレメントにより高性能限外濾過（ＵＦ）を実施することができるからである。
【０００５】
現在のところ、ＰＳまたはＰＥＳ膜はアクリル樹脂基材に熱結合させることができることが公知である。アクリル樹脂は耐苛性アルカリ性でないので、苛性アルカリによる滅菌を要求する方法におけるアクリル樹脂の使用は望ましくない。
【０００６】
ＰＳまたはＰＥＳ膜は、ポリスルホン基材（プレート）に加熱により容易に結合させることができる。なぜなら、材料が類似しているからである。しかしながら、プレートを一緒に結合させることは困難である。プレートを一緒に結合させるために典型的に使用される方法は、接触溶接と称される。この方法は、２つのプラスチックプレートをプラスチックが溶融し始めるまで加熱器に接触させることを含む。次いで、プレートを加熱器から取り出し、加熱器を移して離し、プレートを一緒に加圧する。この方法は、材料が冷却したときに２つのプレートが完全に溶接されるように、２つのプレートを一緒に加圧するまで溶融したままにするためのプラスチック材料を要求する。この方法を使用してポリスルホンまたはポリエーテルスルホンプレートを同一または類似の材料のプレートに溶接することは困難である。溶融したＰＳまたはＰＥＳは、加熱エレメントが溶融したＰＳまたはＰＥＳから除去されたとき、プレートとプレートとの良好な結合の形成を困難にする薄膜を急速に形成することが見出されている。
【０００７】
ＰＳまたはＰＥＳプレートを一緒に溶接する他の方法が試みられており、困難であること、または完成品に対して何らかの悪影響を生じさせることが判明している。他の方法の幾つかは、レーザ溶接、無線周波数（ＲＦ）溶接、振動溶接、超音波溶接および溶媒溶接を含む。レーザ溶接およびＲＦ溶接は、十分に強い結合を生じさせない。振動溶接および超音波溶接は、不所望なＰＳまたはＰＥＳ粒子の生成をもたらす。塩化メチレンのような溶媒による溶媒溶接は、膜が類似の材料から構成されており、溶媒により変化または溶解し得るので困難である。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
従って、接触溶接することができ、上述の悪影響を有しない、基材に熱結合している膜を含む濾過カートリッジのエレメントを提供することが望まれる。さらに、ガンマ線照射または苛性アルカリへの曝露による分解に対して耐性でもあるこのようなエレメントを提供することが望まれる。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）基材に熱結合しているＰＳまたはＰＥＳ膜を有する濾過カートリッジエレメントを提供する。さらに、２つ以上のＰＶＤＦ基材を容易に単純に一緒に結合させる。熱結合は、加熱エレメントをＰＳもしくはＰＥＳまたはこれらのコポリマーまたはこれらのブレンドを含む膜に圧力下で当て、次いでこの膜をＰＶＤＦ基材と接触させてＰＶＤＦ基材を溶融したＰＶＤＦがＰＳまたはＰＥＳ膜ポアに浸入する程度に部分溶融させることにより実施する。加熱エレメントを除去し、溶融したＰＶＤＦを冷却して凝固させる。得られた膜の基材への結合は、膜を基材から取り出そうとすると基材に結合したままの膜残留物をもたらすほど十分に強い。さらに、２つ以上のＰＶＤＦ基材を互いに熱結合させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明により製造された濾過カートリッジの分解組立図である。
【図２】本発明により製造された濾過カートリッジの分解組立図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本発明によれば、膜は、任意の構成、例えば対称または非対称（薄膜化（ｓｋｉｎｎｅｄ）または非薄膜化（ｕｎｓｋｉｎｎｅｄ））などの構成を有することができる。さらに、膜は、任意の多孔度、例えば逆浸透（ＲＯ）膜、限外濾過（ＵＦ）膜、精密濾過（ＭＦ）膜などの多孔度を有することができる。ＰＳまたはＰＥＳ膜は、一般に約４２８°Ｆ（１４０℃）から約４４６°Ｆ（２３０℃）の融点を有する。このような膜は公知であり、Ｍｉｌｌｉｐｏｒｅ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ ｏｆ Ｂｉｌｌｅｒｉｃａ、Ｍａｓｓａｃｈｕｓｅｔｔｓを含む多くの製造業者により、Ｍｉｌｌｉｐｏｒｅ Ｅｘｐｒｅｓｓ（登録商標）膜のような商標のもと作製されている。好ましい膜は、実質的に同時に互いに流延させる２種以上のポリマー溶液から複合膜を形成する共流延法により作製される単位膜である。共流延法により、特有の膜、例えば非対称または対称の２つの区域を有する膜、対称の区域を有する非対称の区域を有する膜などを製作することができる。これらの区域のそれぞれのポアサイズおよび厚さを変えることもできる。ＵＳ７，２０８，２００は、このような膜を作製する１つの方法を示している。
【００１２】
ＰＳおよび／またはＰＥＳ膜が結合しているＰＶＤＦ基材は、供給物、透過物および／または保持物のための内部ポート、ならびに所望の流体流を実施するための流体流路を含むように設計することができる。ＰＶＤＦは、一般に約２８４°Ｆ（１４０℃）から約３５６°Ｆ（１８０℃）の融点を有する。１つまたは複数のＰＳおよび／またはＰＥＳ膜のＰＶＤＦ基材への結合を実施するため、加熱エレメントを提供する。膜の基材への結合が悪影響を受けないように、膜と接触する加熱エレメントの部分に抗粘着性表面、例えばポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）を提供することが好ましい。加熱エレメントは約４９０°Ｆ（２５４℃）から約５３０°Ｆ（２７７℃）の温度に加熱し、加熱エレメントは膜に、ＰＶＤＦ基材の少なくとも一部と重なる所望の結合領域において膜と基材との密着を確保するために圧力下で当てる。圧力下での加熱は、ＰＶＤＦを所望の結合領域において溶融させ、溶融したＰＶＤＦを膜ポア中に浸入させるのに十分な時間実施する。次いで、加熱エレメントを膜との接触から除去し、得られた積層体を冷却させて溶融したＰＶＤＦを凝固させる。
【００１３】
次いで、膜を所望により含有することができ、または含有することができない第２のＰＶＤＦ基材を、ＰＳまたはＰＥＳ膜が上述の通り既に封止されている第１のＰＶＤＦ基材近傍に移動させる。第２の基材は、供給物、透過物および／または保持物、ガス排気などのための１つまたは複数のポートを所望により含有してよい。
【００１４】
第２の基材は加熱エレメントにより加熱し、次いで膜を含有する第１のＰＶＤＦ基材の表面に対して加圧して第１のＰＶＤＦ基材および第２のＰＶＤＦ基材を一緒に封止する。
【００１５】
以下の実施例は本発明を例示するものであり、本発明を限定するものではない。
【実施例１】
【００１６】
図１に示す通り、ポリエーテルスルホンＵＦ膜１０を、流体流出口１４を有する円形のＰＶＤＦ支持プレート１２に結合させた。使用した加熱エレメントの温度は、５１０°Ｆ（２６５℃）から５４０°Ｆ（２８２℃）であった。封止時間は、２０ｐｓｉｇから３０ｐｓｉｇの圧力において４秒から１０秒であった。次いで、流体流入口１８を有する円形のＰＶＤＦ上部プレート１６をＰＶＤＦ支持プレート１２に周縁部２０において熱結合させ、全ての流体供給物が流出口１４を導通する前に膜１０を導通することを要求されるＰＥＳ膜１０、流体流入口１８および流体流出口１４を有する濾過カートリッジを形成した。好ましくは、上部プレート１６を支持プレート１２に、膜１０が支持プレート１２に結合している領域の外側において結合させる。
【００１７】
本実施例によるデバイスは、支持プレートに一体的に封止されている膜および下部プレートに液密的に一体的に封止されている上部プレートを提供する。製造は単純、迅速および容易であり、過去の問題を回避する一方、ガンマ線照射および苛性アルカリの両方に安定であるデバイスを提供する。
【００１８】
必要に応じて図示の通り、別のポート１９を一方（図示）または両方のプレート１２、１６上で使用することもできる。ポート１９は、ポート１９に結合している適切なガスフィルタ（図示せず）、例えばＭｉｌｌｉｐｏｒｅ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ ｏｆ Ｂｉｌｌｅｒｉｃａ、Ｍａｓｓａｃｈｕｓｅｔｔｓから入手可能なＭＩＬＬＥＸ（登録商標）ガス排気フィルタによるガス排気に使用することができる。または、ポート１９は、タンジェンシャルフロー濾過において見られるような再循環のための供給に後に戻すことができる保持物のための導管（図示せず）に連結させることができる。
【００１９】
図１は丸型のデバイスを示しているが、他の型を使用することもできる。例えば、図２は、カセット式フィルタデバイスに使用されることが多い典型的なプレートおよびフレーム設計を示している。図２において、ＰＳまたはＰＥＳ膜３０は、第１のカセットフレーム３４の表面３２に封止ライン３６により図示の通り結合させる。次いで、第２のカセットフレーム３８を第１のカセットフレーム３４に、膜が第１のカセットフレーム３４に結合している領域３６の外側において結合させる。種々のポート４０は、カセットフレーム３４および３８中に示している。２つ以上のフレームを使用してよい。複数のカセットを互いに積層して好適に寸法化されたデバイスを形成することができる。カセットは、少なくとも最も外側のカセット上に各端部上で封止されている外表面を有してよく、またはカセットは、当該技術分野において公知である、カセットの外表面に類似の様式で結合している同様にＰＶＤＦから構成されている別個の追加の一体型端部プレート（図示せず）を有してよい。
【技術分野】
【０００１】
本出願は、２００７年５月１７日に出願された米国仮特許出願第６０／９３０，５８５号の優先権の利益を主張し、この内容全体は参照により本明細書に組み込まれる。
【０００２】
本発明は、ＰＶＤＦ（ポリフッ化ビニリデン）基材に熱結合しているポリスルホンまたはポリエーテルスルホン膜を含む膜構造体に関する。
【背景技術】
【０００３】
現在のところ、濾過装置を製造する現場において予備滅菌され、濾過装置を使用する現場において無菌化される、生物学的流体からウイルスを除去する濾過装置を提供することが望まれている。一般に、製造現場における滅菌はガンマ線照射により実施され、無菌化は使用の現場において苛性アルカリにより実施される。苛性アルカリによる無菌化は、最初に苛性アルカリ水溶液（典型的には０．１規定の水酸化ナトリウム）により、次いで滅菌水により、次いで滅菌緩衝液により実施される。従って、濾過装置がガンマ線照射および苛性アルカリの両方に起因する分解に対して耐性であることが必要である。
【０００４】
濾過装置は、一般にポリスルホン（ＰＳ）膜またはポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）膜を含む濾過膜が結合している支持プレートを含むエレメントを利用する。なぜなら、このエレメントにより高性能限外濾過（ＵＦ）を実施することができるからである。
【０００５】
現在のところ、ＰＳまたはＰＥＳ膜はアクリル樹脂基材に熱結合させることができることが公知である。アクリル樹脂は耐苛性アルカリ性でないので、苛性アルカリによる滅菌を要求する方法におけるアクリル樹脂の使用は望ましくない。
【０００６】
ＰＳまたはＰＥＳ膜は、ポリスルホン基材（プレート）に加熱により容易に結合させることができる。なぜなら、材料が類似しているからである。しかしながら、プレートを一緒に結合させることは困難である。プレートを一緒に結合させるために典型的に使用される方法は、接触溶接と称される。この方法は、２つのプラスチックプレートをプラスチックが溶融し始めるまで加熱器に接触させることを含む。次いで、プレートを加熱器から取り出し、加熱器を移して離し、プレートを一緒に加圧する。この方法は、材料が冷却したときに２つのプレートが完全に溶接されるように、２つのプレートを一緒に加圧するまで溶融したままにするためのプラスチック材料を要求する。この方法を使用してポリスルホンまたはポリエーテルスルホンプレートを同一または類似の材料のプレートに溶接することは困難である。溶融したＰＳまたはＰＥＳは、加熱エレメントが溶融したＰＳまたはＰＥＳから除去されたとき、プレートとプレートとの良好な結合の形成を困難にする薄膜を急速に形成することが見出されている。
【０００７】
ＰＳまたはＰＥＳプレートを一緒に溶接する他の方法が試みられており、困難であること、または完成品に対して何らかの悪影響を生じさせることが判明している。他の方法の幾つかは、レーザ溶接、無線周波数（ＲＦ）溶接、振動溶接、超音波溶接および溶媒溶接を含む。レーザ溶接およびＲＦ溶接は、十分に強い結合を生じさせない。振動溶接および超音波溶接は、不所望なＰＳまたはＰＥＳ粒子の生成をもたらす。塩化メチレンのような溶媒による溶媒溶接は、膜が類似の材料から構成されており、溶媒により変化または溶解し得るので困難である。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
従って、接触溶接することができ、上述の悪影響を有しない、基材に熱結合している膜を含む濾過カートリッジのエレメントを提供することが望まれる。さらに、ガンマ線照射または苛性アルカリへの曝露による分解に対して耐性でもあるこのようなエレメントを提供することが望まれる。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）基材に熱結合しているＰＳまたはＰＥＳ膜を有する濾過カートリッジエレメントを提供する。さらに、２つ以上のＰＶＤＦ基材を容易に単純に一緒に結合させる。熱結合は、加熱エレメントをＰＳもしくはＰＥＳまたはこれらのコポリマーまたはこれらのブレンドを含む膜に圧力下で当て、次いでこの膜をＰＶＤＦ基材と接触させてＰＶＤＦ基材を溶融したＰＶＤＦがＰＳまたはＰＥＳ膜ポアに浸入する程度に部分溶融させることにより実施する。加熱エレメントを除去し、溶融したＰＶＤＦを冷却して凝固させる。得られた膜の基材への結合は、膜を基材から取り出そうとすると基材に結合したままの膜残留物をもたらすほど十分に強い。さらに、２つ以上のＰＶＤＦ基材を互いに熱結合させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明により製造された濾過カートリッジの分解組立図である。
【図２】本発明により製造された濾過カートリッジの分解組立図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本発明によれば、膜は、任意の構成、例えば対称または非対称（薄膜化（ｓｋｉｎｎｅｄ）または非薄膜化（ｕｎｓｋｉｎｎｅｄ））などの構成を有することができる。さらに、膜は、任意の多孔度、例えば逆浸透（ＲＯ）膜、限外濾過（ＵＦ）膜、精密濾過（ＭＦ）膜などの多孔度を有することができる。ＰＳまたはＰＥＳ膜は、一般に約４２８°Ｆ（１４０℃）から約４４６°Ｆ（２３０℃）の融点を有する。このような膜は公知であり、Ｍｉｌｌｉｐｏｒｅ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ ｏｆ Ｂｉｌｌｅｒｉｃａ、Ｍａｓｓａｃｈｕｓｅｔｔｓを含む多くの製造業者により、Ｍｉｌｌｉｐｏｒｅ Ｅｘｐｒｅｓｓ（登録商標）膜のような商標のもと作製されている。好ましい膜は、実質的に同時に互いに流延させる２種以上のポリマー溶液から複合膜を形成する共流延法により作製される単位膜である。共流延法により、特有の膜、例えば非対称または対称の２つの区域を有する膜、対称の区域を有する非対称の区域を有する膜などを製作することができる。これらの区域のそれぞれのポアサイズおよび厚さを変えることもできる。ＵＳ７，２０８，２００は、このような膜を作製する１つの方法を示している。
【００１２】
ＰＳおよび／またはＰＥＳ膜が結合しているＰＶＤＦ基材は、供給物、透過物および／または保持物のための内部ポート、ならびに所望の流体流を実施するための流体流路を含むように設計することができる。ＰＶＤＦは、一般に約２８４°Ｆ（１４０℃）から約３５６°Ｆ（１８０℃）の融点を有する。１つまたは複数のＰＳおよび／またはＰＥＳ膜のＰＶＤＦ基材への結合を実施するため、加熱エレメントを提供する。膜の基材への結合が悪影響を受けないように、膜と接触する加熱エレメントの部分に抗粘着性表面、例えばポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）を提供することが好ましい。加熱エレメントは約４９０°Ｆ（２５４℃）から約５３０°Ｆ（２７７℃）の温度に加熱し、加熱エレメントは膜に、ＰＶＤＦ基材の少なくとも一部と重なる所望の結合領域において膜と基材との密着を確保するために圧力下で当てる。圧力下での加熱は、ＰＶＤＦを所望の結合領域において溶融させ、溶融したＰＶＤＦを膜ポア中に浸入させるのに十分な時間実施する。次いで、加熱エレメントを膜との接触から除去し、得られた積層体を冷却させて溶融したＰＶＤＦを凝固させる。
【００１３】
次いで、膜を所望により含有することができ、または含有することができない第２のＰＶＤＦ基材を、ＰＳまたはＰＥＳ膜が上述の通り既に封止されている第１のＰＶＤＦ基材近傍に移動させる。第２の基材は、供給物、透過物および／または保持物、ガス排気などのための１つまたは複数のポートを所望により含有してよい。
【００１４】
第２の基材は加熱エレメントにより加熱し、次いで膜を含有する第１のＰＶＤＦ基材の表面に対して加圧して第１のＰＶＤＦ基材および第２のＰＶＤＦ基材を一緒に封止する。
【００１５】
以下の実施例は本発明を例示するものであり、本発明を限定するものではない。
【実施例１】
【００１６】
図１に示す通り、ポリエーテルスルホンＵＦ膜１０を、流体流出口１４を有する円形のＰＶＤＦ支持プレート１２に結合させた。使用した加熱エレメントの温度は、５１０°Ｆ（２６５℃）から５４０°Ｆ（２８２℃）であった。封止時間は、２０ｐｓｉｇから３０ｐｓｉｇの圧力において４秒から１０秒であった。次いで、流体流入口１８を有する円形のＰＶＤＦ上部プレート１６をＰＶＤＦ支持プレート１２に周縁部２０において熱結合させ、全ての流体供給物が流出口１４を導通する前に膜１０を導通することを要求されるＰＥＳ膜１０、流体流入口１８および流体流出口１４を有する濾過カートリッジを形成した。好ましくは、上部プレート１６を支持プレート１２に、膜１０が支持プレート１２に結合している領域の外側において結合させる。
【００１７】
本実施例によるデバイスは、支持プレートに一体的に封止されている膜および下部プレートに液密的に一体的に封止されている上部プレートを提供する。製造は単純、迅速および容易であり、過去の問題を回避する一方、ガンマ線照射および苛性アルカリの両方に安定であるデバイスを提供する。
【００１８】
必要に応じて図示の通り、別のポート１９を一方（図示）または両方のプレート１２、１６上で使用することもできる。ポート１９は、ポート１９に結合している適切なガスフィルタ（図示せず）、例えばＭｉｌｌｉｐｏｒｅ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ ｏｆ Ｂｉｌｌｅｒｉｃａ、Ｍａｓｓａｃｈｕｓｅｔｔｓから入手可能なＭＩＬＬＥＸ（登録商標）ガス排気フィルタによるガス排気に使用することができる。または、ポート１９は、タンジェンシャルフロー濾過において見られるような再循環のための供給に後に戻すことができる保持物のための導管（図示せず）に連結させることができる。
【００１９】
図１は丸型のデバイスを示しているが、他の型を使用することもできる。例えば、図２は、カセット式フィルタデバイスに使用されることが多い典型的なプレートおよびフレーム設計を示している。図２において、ＰＳまたはＰＥＳ膜３０は、第１のカセットフレーム３４の表面３２に封止ライン３６により図示の通り結合させる。次いで、第２のカセットフレーム３８を第１のカセットフレーム３４に、膜が第１のカセットフレーム３４に結合している領域３６の外側において結合させる。種々のポート４０は、カセットフレーム３４および３８中に示している。２つ以上のフレームを使用してよい。複数のカセットを互いに積層して好適に寸法化されたデバイスを形成することができる。カセットは、少なくとも最も外側のカセット上に各端部上で封止されている外表面を有してよく、またはカセットは、当該技術分野において公知である、カセットの外表面に類似の様式で結合している同様にＰＶＤＦから構成されている別個の追加の一体型端部プレート（図示せず）を有してよい。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリフッ化ビニリデンを含む基材に熱結合しているポリスルホン、ポリエーテルスルホン、これらのブレンドおよびこれらのコポリマーからなる群から選択される少なくとも１つの多孔性膜を含む積層体。
【請求項２】
前記膜がポリスルホンを含む、請求項１の積層体。
【請求項３】
前記膜がポリエーテルスルホンを含む、請求項１の積層体。
【請求項４】
ポリフッ化ビニリデンを含む基材に熱結合しているポリスルホンおよびポリエーテルスルホンのブレンドを含む少なくとも１つの多孔性膜を含む積層体。
【請求項５】
ポリフッ化ビニリデンを含む基材に熱結合しているポリスルホンおよびポリエーテルスルホンのコポリマーを含む少なくとも１つの多孔性膜を含む積層体。
【請求項６】
複数の膜を有する、請求項１の積層体。
【請求項７】
複数の膜を有する、請求項５の積層体。
【請求項８】
前記基材が少なくとも１つの流体流路を含む、請求項１の積層体。
【請求項９】
前記基材が少なくとも１つの流体流路を含む、請求項３の積層体。
【請求項１０】
前記基材が少なくとも１つの流体流路を含む、請求項５の積層体。
【請求項１１】
ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、これらのブレンドおよびこれらのコポリマーからなる群から選択される少なくとも１つの多孔性膜、ポリフッ化ビニリデンを含む第１の基材（膜が第１の基材の表面上に熱結合している。）、およびポリフッ化ビニリデンを含む第２の基材（膜を含む第１の基材の表面に結合している。）を含むデバイス。
【請求項１２】
第１の基材が、該基材の面上に膜が結合している表面の反対側において形成されたポートを有し、ポートは、第１の基材を通り膜に隣接する領域に達する開口部を有し、ならびに第２の基材が、該基材の面上に第２の基材が第１の基材に結合している表面の反対側において形成されたポートを有する、請求項１１のデバイス。
【請求項１３】
濾過デバイスを形成する方法であって、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、これらのブレンドおよびこれらのコポリマーからなる群から選択される少なくとも１つの多孔性膜を提供すること；第１の支持プレートおよび第２の支持プレートを提供すること（第１の支持プレートおよび第２の支持プレートはＰＶＤＦから形成されており、支持プレートは互いに面する第１の表面および各プレートの第１の表面の反対側の第２の表面を有し、ならびにプレートは各プレートの第１の表面から第２の表面に形成された少なくとも１つのポートをそれぞれ有する。）；少なくとも１つの膜を第１の支持プレートの第１の表面に熱結合させること；および第１のプレートの第１の表面を第２のプレートの第１の表面に、膜が結合している第１のプレートの第１の表面の領域の外側の領域内で熱結合させることを含む、方法。
【請求項１４】
第１のプレートの第１の表面を第２のプレートの第１の表面にそれぞれの周縁部において結合させる、請求項１３の方法。
【請求項１５】
約４９０°Ｆ（２５４℃）から約５３０°Ｆ（２７７℃）の温度に加熱した加熱エレメントを提供すること、および加熱エレメントを膜に、第１の支持プレートの第１の表面の少なくとも１部と重なる所望の結合領域において当てること、および加熱エレメントを除去すること、および結合を冷却させることをさらに含む、請求項１３の方法。
【請求項１６】
約４９０°Ｆ（２５４℃）から約５３０°Ｆ（２７７℃）の温度に加熱した加熱エレメントを提供すること；加熱エレメントを膜に、第１の支持プレートの第１の表面の少なくとも１部と重なる所望の結合領域において、膜と支持プレートの第１の表面との密着を確保するのに十分な圧力により当てること、および加熱エレメントを除去すること、および結合を冷却させることをさらに含む、請求項１３の方法。
【請求項１７】
約２８４°Ｆ（１４０℃）から約５３０°Ｆ（２７７℃）の温度に加熱した加熱エレメントを提供すること、および加熱エレメントを第２の支持プレートの第１の表面に所望の結合領域において当てること；加熱エレメントを除去すること、および第２の支持プレートの第１の表面を第１のプレートの第１の表面に接触させることをさらに含む、請求項１３の方法。
【請求項１８】
約２８４°Ｆ（１４０℃）から約５３０°Ｆ（２７７℃）の温度に加熱した加熱エレメントを提供すること、および加熱エレメントを第２の支持プレートの第１の表面に所望の結合領域において当てること；加熱エレメントを除去すること、および第２の支持プレートの第１の表面を第１のプレートの第１の表面に接触させ、第１のプレートの第１の表面を第２のプレートの第１の表面にそれぞれの周縁部において結合させることをさらに含む、請求項１３の方法。
【請求項１】
ポリフッ化ビニリデンを含む基材に熱結合しているポリスルホン、ポリエーテルスルホン、これらのブレンドおよびこれらのコポリマーからなる群から選択される少なくとも１つの多孔性膜を含む積層体。
【請求項２】
前記膜がポリスルホンを含む、請求項１の積層体。
【請求項３】
前記膜がポリエーテルスルホンを含む、請求項１の積層体。
【請求項４】
ポリフッ化ビニリデンを含む基材に熱結合しているポリスルホンおよびポリエーテルスルホンのブレンドを含む少なくとも１つの多孔性膜を含む積層体。
【請求項５】
ポリフッ化ビニリデンを含む基材に熱結合しているポリスルホンおよびポリエーテルスルホンのコポリマーを含む少なくとも１つの多孔性膜を含む積層体。
【請求項６】
複数の膜を有する、請求項１の積層体。
【請求項７】
複数の膜を有する、請求項５の積層体。
【請求項８】
前記基材が少なくとも１つの流体流路を含む、請求項１の積層体。
【請求項９】
前記基材が少なくとも１つの流体流路を含む、請求項３の積層体。
【請求項１０】
前記基材が少なくとも１つの流体流路を含む、請求項５の積層体。
【請求項１１】
ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、これらのブレンドおよびこれらのコポリマーからなる群から選択される少なくとも１つの多孔性膜、ポリフッ化ビニリデンを含む第１の基材（膜が第１の基材の表面上に熱結合している。）、およびポリフッ化ビニリデンを含む第２の基材（膜を含む第１の基材の表面に結合している。）を含むデバイス。
【請求項１２】
第１の基材が、該基材の面上に膜が結合している表面の反対側において形成されたポートを有し、ポートは、第１の基材を通り膜に隣接する領域に達する開口部を有し、ならびに第２の基材が、該基材の面上に第２の基材が第１の基材に結合している表面の反対側において形成されたポートを有する、請求項１１のデバイス。
【請求項１３】
濾過デバイスを形成する方法であって、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、これらのブレンドおよびこれらのコポリマーからなる群から選択される少なくとも１つの多孔性膜を提供すること；第１の支持プレートおよび第２の支持プレートを提供すること（第１の支持プレートおよび第２の支持プレートはＰＶＤＦから形成されており、支持プレートは互いに面する第１の表面および各プレートの第１の表面の反対側の第２の表面を有し、ならびにプレートは各プレートの第１の表面から第２の表面に形成された少なくとも１つのポートをそれぞれ有する。）；少なくとも１つの膜を第１の支持プレートの第１の表面に熱結合させること；および第１のプレートの第１の表面を第２のプレートの第１の表面に、膜が結合している第１のプレートの第１の表面の領域の外側の領域内で熱結合させることを含む、方法。
【請求項１４】
第１のプレートの第１の表面を第２のプレートの第１の表面にそれぞれの周縁部において結合させる、請求項１３の方法。
【請求項１５】
約４９０°Ｆ（２５４℃）から約５３０°Ｆ（２７７℃）の温度に加熱した加熱エレメントを提供すること、および加熱エレメントを膜に、第１の支持プレートの第１の表面の少なくとも１部と重なる所望の結合領域において当てること、および加熱エレメントを除去すること、および結合を冷却させることをさらに含む、請求項１３の方法。
【請求項１６】
約４９０°Ｆ（２５４℃）から約５３０°Ｆ（２７７℃）の温度に加熱した加熱エレメントを提供すること；加熱エレメントを膜に、第１の支持プレートの第１の表面の少なくとも１部と重なる所望の結合領域において、膜と支持プレートの第１の表面との密着を確保するのに十分な圧力により当てること、および加熱エレメントを除去すること、および結合を冷却させることをさらに含む、請求項１３の方法。
【請求項１７】
約２８４°Ｆ（１４０℃）から約５３０°Ｆ（２７７℃）の温度に加熱した加熱エレメントを提供すること、および加熱エレメントを第２の支持プレートの第１の表面に所望の結合領域において当てること；加熱エレメントを除去すること、および第２の支持プレートの第１の表面を第１のプレートの第１の表面に接触させることをさらに含む、請求項１３の方法。
【請求項１８】
約２８４°Ｆ（１４０℃）から約５３０°Ｆ（２７７℃）の温度に加熱した加熱エレメントを提供すること、および加熱エレメントを第２の支持プレートの第１の表面に所望の結合領域において当てること；加熱エレメントを除去すること、および第２の支持プレートの第１の表面を第１のプレートの第１の表面に接触させ、第１のプレートの第１の表面を第２のプレートの第１の表面にそれぞれの周縁部において結合させることをさらに含む、請求項１３の方法。
【図１】
【図２】
【図２】
【公表番号】特表２０１０−５２７３０１（Ｐ２０１０−５２７３０１Ａ）
【公表日】平成２２年８月１２日（２０１０．８．１２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−５０８４５３（Ｐ２０１０−５０８４５３）
【出願日】平成２０年５月１５日（２００８．５．１５）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＵＳ２００８／００６３８２
【国際公開番号】ＷＯ２００８／１４４０３０
【国際公開日】平成２０年１１月２７日（２００８．１１．２７）
【出願人】（３９００１９５８５）ミリポア・コーポレイション (212)
【氏名又は名称原語表記】ＭＩＬＬＩＰＯＲＥ ＣＯＲＰＯＲＡＴＩＯＮ
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２２年８月１２日（２０１０．８．１２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年５月１５日（２００８．５．１５）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＵＳ２００８／００６３８２
【国際公開番号】ＷＯ２００８／１４４０３０
【国際公開日】平成２０年１１月２７日（２００８．１１．２７）
【出願人】（３９００１９５８５）ミリポア・コーポレイション (212)
【氏名又は名称原語表記】ＭＩＬＬＩＰＯＲＥ ＣＯＲＰＯＲＡＴＩＯＮ
【Ｆターム（参考）】
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