薄膜蒸着用マスク・アセンブリ、及びこれを利用した有機発光装置、並びにその製造方法
【課題】薄膜蒸着用マスク・アセンブリ、及びこれを利用した有機発光装置、並びにこの製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に互いに対向するようにパターン化された第１電極並びに第２電極と、第１電極並びに第２電極間に形成された複数の有機膜とを含むが、該有機膜は、少なくとも複数個のストライプ型の有機膜と、１つの不連続的なドット型の有機膜を含む、有機発光装置、並びにこの製造方法であり、赤色、緑色及び青色の有機膜をコンパクトに配列できるので、高解像度の小型製品の製作が可能である。
【解決手段】基板上に互いに対向するようにパターン化された第１電極並びに第２電極と、第１電極並びに第２電極間に形成された複数の有機膜とを含むが、該有機膜は、少なくとも複数個のストライプ型の有機膜と、１つの不連続的なドット型の有機膜を含む、有機発光装置、並びにこの製造方法であり、赤色、緑色及び青色の有機膜をコンパクトに配列できるので、高解像度の小型製品の製作が可能である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機発光装置に係り、さらに詳細には、小型化製品において高解像度を実現でき、製造工程が単純な薄膜蒸着用マスク・アセンブリ、及びこれを利用した有機発光装置、並びにこの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般的に、ディスプレイ装置のうち有機発光装置は、視野角が広く、コントラストにすぐれるだけではなく、応答速度が速いという長所を有している。
【０００３】
有機発光装置は、アノードとカソードとに注入される正孔と電子とが、発光層で再結合して発光する原理によって色相を具現できるものであり、アノードとカソードとの間に発光層を挿入した積層型構造である。しかし、前記の構造では、高効率発光を得難いために、それぞれの電極と発光層との間に、電子注入層、電子輸送層、正孔輸送層及び正孔注入層のような中間層を選択的に追加挿入して利用している。
【０００４】
一方、有機発光装置の電極と、発光層を含んだ中間層は、さまざまな方法によって形成することができるが、そのうち１つの方法が蒸着法である。蒸着方法を利用して有機発光装置を製造するためには、基板上に形成される薄膜などのパターンと同じパターンを有するファインメタル・マスク（ＦＭＭ：ｆｉｎｅ ｍｅｔａｌ ｍａｓｋ）を整列させ、薄膜の原素材を蒸着して所望するパターンの薄膜を形成する。
【０００５】
ファインメタル・マスクを利用してパターンを形成する方法において、マスクの厚さと間隔は、形成しようとするパターンの位置や、形状決定及び解像度に密接に関係している。しかし、従来のストライプ型や、ドット型のパターンを有するマスクを利用する場合、高解像度の小型の製品を製造するためには、パターンの間隔と開口領域とが小さくなければならないが、これに対応するファインメタル・マスクの製造が容易ではない。
【０００６】
例えば、ストライプ型の赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の画素を構成する場合、３インチＶＧＡ（ｖｉｄｅｏ ｇｒａｐｈｉｃｓ ａｒｒａｙ）製品において、画素間ピッチは、ほぼ３２μｍであるが、２０μｍの画素定義膜の幅を考慮するとき、開口された領域は、１２μｍになるが、前記のような数値は、ファインメタル・マスクの製造限界に近い。
【０００７】
さらに、発光層の素材特性上、赤色、緑色、青色の発光層の発光効率が互いに異なるので、発光領域の比率が異ならなければならない。これによって、赤色、青色の発光領域を緑色発光領域より数倍広く形成しなければならないので、小型のＶＧＡ製品を製造するのが容易ではない。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、マスクのパターン形状を異ならせることによって、小型化製品で高解像度を具現できる薄膜蒸着用マスク・アセンブリ、及びこれを利用した有機発光装置、並びにこの製造方法を提供することを主な課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の一側面による薄膜蒸着用マスク・アセンブリを利用した有機発光装置は、基板上に互いに対向するようにパターン化された第１電極並びに第２電極と、前記第１電極並びに第２電極間に形成された複数の有機膜とを含むが、前記有機膜は、少なくとも複数個のストライプ型の有機膜と、１つの不連続的なドット型の有機膜とを含む。
【００１０】
また、前記複数のストライプ型の有機膜は、前記基板の第１方向に沿って、基板の１つの縁から他の縁に延びた第１有機膜と、前記基板の第２方向に沿って、基板の１つの縁から他の縁に延び、前記第１有機膜と交差するように配列された第２有機膜とを含む。
【００１１】
さらに、前記ドット型の有機膜は、前記第２有機膜に対して平行な方向に、基板の１つの縁から他の縁に不連続的に形成され、前記第１有機膜並びに第２有機膜が互いに交差する部分の内側空間にそれぞれ配列され、それらと共に１つの画素をなしている。
【００１２】
さらに、相対的に発光効率が高い素材からなる少なくともいずれか１つの有機膜の発光領域に対して、相対的に発光効率が低い素材からなる残りの有機膜の発光領域は、さらに大きく形成される。
【００１３】
さらに、１つの画素を構成するストライプ型の第２有機膜の発光領域に対して、ストライプ型の第１有機膜の発光領域及びドット型の有機膜の発光領域が、さらに大きく形成される。
【００１４】
本発明の他の側面による薄膜蒸着用マスク・アセンブリを利用した有機発光装置の製造方法は、基板上に第１ストライプ型の第１有機膜パターンをパターン化させる段階と、前記基板上に第２ストライプ型の第２有機膜パターンをパターン化させる段階と、前記基板上にドット型の第３有機膜パターンをパターン化させる段階とを含む。
【００１５】
また、前記第１有機膜パターンは、前記基板の第１方向に沿って、基板の１つの縁から他の縁に延び、前記第２有機膜パターンは、前記基板の第２方向に沿って、基板の１つの縁から他の縁に延びるが、前記第１有機膜パターンは、第２有機膜パターンに対して互いに交差する方向にパターン化させる。
【００１６】
さらに、前記ドット型の第３有機膜パターンは、前記第２有機膜パターンに対して平行な方向に、基板の１つの縁から他の縁に不連続的にパターン化され、前記第１有機膜パターンと第２有機膜パターンとが互いに交差する部分の内側空間にパターン化され、それらと共に１つの画素をなしている。
【００１７】
さらに、相対的に発光効率が高い素材からなる少なくともいずれか１つの第１有機膜ないし第３有機膜のパターン領域に対して、相対的に発光効率が低い素材からなる残りの有機膜のパターン領域を、さらに大きく形成する。
【００１８】
本発明のさらに他の側面による薄膜蒸着用マスク・アセンブリは、基板上に有機膜パターンを蒸着するためのものであり、第１有機膜パターンを、前記基板上に蒸着させるためのストライプ型の第１スリットを有する第１有機膜形成用マスクと、第２有機膜パターンを、前記基板上に蒸着させるためのストライプ型の第２スリットを有する第２有機膜形成用マスクと、第３有機膜パターンを、前記基板上に蒸着させるためのドット型の第３スリットを有する第３有機膜形成用マスクとを含む。
【００１９】
また、前記ストライプ型の第１スリットは、前記基板の第１方向に沿って、１つの縁から他の縁に延びて形成され、前記ストライプ型の第２スリットは、前記第１スリットに対して、基板上で互いに交差する方向に配列されるように、前記基板の第２方向に沿って、１つの縁から他の縁に延びて形成される。
【００２０】
さらに、前記ドット型の第３スリットは、前記ストライプ型の第２スリットに対して、平行な方向に１つの縁から他の縁に不連続的に形成され、前記第１スリット及び第２スリットが互いに交差する部分の内側空間に配列されている。
【発明の効果】
【００２１】
本発明の薄膜蒸着用マスク・アセンブリ、及びこれを利用した有機発光装置、並びにこの製造方法によれば、複数色相の有機膜をコンパクトに配列できるので、高解像度の小型製品の製作が可能である。また、複数色相の発光領域を任意に調節可能であり、有機膜用原素材の選択が自由となる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の一実施形態による真空蒸着装置を図示した構成図である。
【図２】本発明の一実施形態による有機発光装置の副画素を図示した断面図である。
【図３】図２の有機発光装置の画素配列を図示した構成図である。
【図４】図２の有機発光装置の画素をパターン化させるためのマスクを図示したものであり、本発明による第１有機膜形成用マスクを図示した構成図である。
【図５】図２の有機発光装置の画素をパターン化させるためのマスクを図示したものであり、本発明による第２有機膜形成用マスクを図示した構成図である。
【図６】図２の有機発光装置の画素をパターン化させるためのマスクを図示したものであり、本発明による第３有機膜形成用マスクを図示した構成図である。
【図７Ａ】本発明の一実施形態による有機発光装置の画素を製造する方法を順次に図示したものであり、本発明による基板上に、第１有機膜パターンを形成した後の状態を図示した構成図である。
【図７Ｂ】本発明の一実施形態による有機発光装置の画素を製造する方法を順次に図示したものであり、図７Ａの基板上に、第２有機膜パターンを形成した後の状態を図示した構成図である。
【図７Ｃ】本発明の一実施形態による有機発光装置の画素を製造する方法を順次に図示したものであり、図７Ｂの基板上に、第３有機膜パターンを形成した後の状態を図示した構成図である。
【図８】本発明の一実施形態による１つの画素での有機膜のサイズを比較した構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、添付された図面を参照しつつ、本発明による望ましい実施形態について詳細に説明すれば、次の通りである。
【００２４】
図１は、本発明の一実施形態による有機薄膜パターンを形成する真空蒸着装置１００を図示したものである。
【００２５】
図面を参照すれば、前記真空蒸着装置１００には、真空チャンバ１０１が設けられている。前記真空チャンバ１０１内には、有機物質を気化させることができる少なくとも一つ以上の蒸着源１０２が設置されている。前記蒸着源１０２に対向する側には、基板装着部１０３が設置されている。前記基板装着部１０３には、被蒸着対象である基板１０４が装着されている。前記基板１０４の前には、これと所定間隔離隔され、所定パターンを有するマスク１０５が整列されている。一方、前記真空チャンバ１０１は、排気装置１０６によって、所定の真空度を維持することが可能である。
【００２６】
このとき、蒸着される有機薄膜の膜均一度を確保するために、基板１０４を回転させたり、蒸着源１０２を線形往復動させることができる。そして、前記基板１０４に、所定形状の有機薄膜パターンを形成するために、形成しようとする有機薄膜パターン状の開口部パターン１０７が備わったマスク１０５を利用する。すなわち、前記蒸着源１０２で気化された有機物質は、マスク１０５の開口部パターン１０７を通過し、基板１０４に蒸着可能となる。
【００２７】
図２は、図１の蒸着装置１００を利用して蒸着されたアクティブ・マトリックス（ＡＭ）型有機発光装置２００の副画素（ｓｕｂ−ｐｉｘｅｌ）の一例を図示したものである。
【００２８】
ここで、副画素は、少なくとも１つの薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）と、有機発光素子（ＯＬＥＤ）とを有する。前記ＴＦＴは、必ずしも図２に図示された構造によってのみ可能なものではなく、その数と構造は、多様に変形可能である。
【００２９】
図面を参照すれば、基板２０１上には、バッファ層２０２が形成されている。前記基板２０１は、ガラスやプラスチックからなる。前記バッファ層２０２上には、所定パターンの半導体活性層２０３が形成されている。前記半導体活性層２０３の上部には、ゲート絶縁膜２０４が形成されており、前記ゲート絶縁膜２０４上部の所定領域には、ゲート電極２０５が形成されている。
【００３０】
前記ゲート電極２０５は、ＴＦＴのオン／オフ信号を印加するゲートライン（図示せず）と連結されている。前記ゲート電極２０５の上部には、層間絶縁膜２０６が形成されており、コンタクト・ホールを介して、ソース／ドレイン電極２０７が、それぞれ半導体活性層２０３のソース／ドレイン領域２０３ａに接するように形成されている。
【００３１】
前記ソース／ドレイン電極２０７の上部には、ＳｉＯ２、ＳｉＮｘなどからなるパッシベーション膜２０８が形成されている。前記パッシベーション膜２０８の上部には、アクリル、ポリイミド、ベンゾシクロブテン（ＢＣＢ）のような有機物質からなる平坦化膜２０９が形成されている。
【００３２】
前記平坦化膜２０９の上部には、有機発光素子のアノードになる画素電極２１０が形成され、これを覆うように、有機物からなる画素定義膜（ＰＤＬ：ｐｉｘｅｌ ｄｅｆｉｎｅ ｌａｙｅｒ）２１１が形成されている。前記画素定義膜２１１に所定の開口を形成した後、画素定義膜２１１の上部及び開口が形成され、外部に露出された画素電極２１０の上部に、有機膜２１２が形成されている。前記有機膜２１２は、発光層を含んだものになる。本発明は、必ずしもかような構造に限定されるものではなく、多様な有機発光装置の構造がそのまま適用されうることは、言うまでもない。
【００３３】
有機発光素子（ＯＬＥＤ）は、電流の流れによって、赤色、緑色、青色の光を発光し、所定の画像情報を表示するものであり、ＴＦＴのソース／ドレイン電極２０７に連結され、ここからプラス（＋）電源を供給される第１電極である画素電極２１０、全体画素を覆うように備わり、マイナス（−）電源を供給される第２電極である対向電極２１３、及びそれら画素電極２１０と対向電極２１３との間に配されて発光する有機膜２１２を含む。
【００３４】
前記画素電極２１０と対向電極２１３は、有機膜２１２によって互いに絶縁されており、有機膜２１２に、互いに異なる極性の電圧を加え、有機膜２１２で発光がなされる。
【００３５】
前記画素電極２１０は、アノードの機能を行い、対向電極２１３は、カソードの機能を行う。もちろん、それら画素電極２１０と対向電極２１３との極性は、反対になってもよい。
【００３６】
前記画素電極２１０は、透明電極または反射型電極として備わりうる。
【００３７】
透明電極として使われる場合、ＩＴＯ（ｉｎｄｉｕｍ ｔｉｎ ｏｘｉｄｅ）、ＩＺＯ（ｉｎｄｉｕｍ ｚｉｎｃ ｏｘｉｄｅ）、ＺｎＯまたはＩｎ２Ｏ３によって備わり、反射型電極として使われる場合、Ａｇ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｎｄ、Ｉｒ、Ｃｒ及びそれらの化合物で反射膜を形成した後、その上に、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯまたはＩｎ２Ｏ３を形成できる。
【００３８】
前記対向電極２１３も、透明電極または反射型電極として備わりうる。
【００３９】
透明電極として使われる場合、前記対向電極２１３がカソードとして使われるので、仕事関数が小さい金属、すなわち、Ｌｉ、Ｃａ、ＬｉＦ／Ｃａ、ＬｉＦ／Ａｌ、Ａｌ、Ａｇ、Ｍｇ及びそれらの化合物が、有機膜２１２の方向を向くように蒸着された後、その上に、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯまたはＩｎ２Ｏ３などの透明電極形成用物質で、補助電極層やバス電極ラインを形成できる。反射型電極として使われる場合、前記のＬｉ、Ｃａ、ＬｉＦ／Ｃａ、ＬｉＦ／Ａｌ、Ａｌ、Ａｇ、Ｍｇ及びそれらの化合物を全面蒸着して形成する。
【００４０】
一方、前記画素電極２１０は、前記透明電極または反射型電極として形成されたとき、各副画素の開口形態に対応する形態に形成されうる。また、前記対向電極２１３は、前記透明電極または反射型電極を、ディスプレイ領域全体に全面蒸着して形成できる。しかし、前記対向電極２１３は、必ずしも全面蒸着する必要はなく、多様なパターンで形成可能であることは、言うまでもない。前記画素電極２１０と対向電極２１３は、互いに位置が反対に積層されうることも、言うまでもない。
【００４１】
前記有機膜２１２は、低分子または高分子の有機膜が使われうる。
【００４２】
低分子有機膜を使用する場合、ホール注入層（ＨＩＬ：ｈｏｌｅ ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ ｌａｙｅｒ）、ホール輸送層（ＨＴＬ：ｈｏｌｅ ｔｒａｎｓｐｏｒｔ ｌａｙｅｒ）、発光層（ＥＭＬ：ｅｍｉｓｓｉｏｎ ｌａｙｅｒ）、電子輸送層（ＥＴＬ：ｅｌｅｃｔｒｏｎ ｔｒａｎｓｐｏｒｔ ｌａｙｅｒ）、電子注入層（ＥＩＬ：ｅｌｅｃｔｒｏｎ ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ ｌａｙｅｒ）などが、単一あるいは複合の構造に積層されて形成されうる。また、利用可能な有機材料も、銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）、Ｎ，Ｎ−ジ（ナフタレン−１−イル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ベンジジン（ＮＰＢ）、トリス−８−ヒドロキシキノリンアルミニウム（Ａｌｑ３）などを始めとして、多様に適用可能である。それら低分子有機膜は、真空蒸着の方法で形成される。
【００４３】
高分子有機膜を使用する場合、おおむねホール輸送層（ＨＴＬ）及び発光層（ＥＭＬ）を含む。ホール輸送層としては、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）（ＰＥＤＯＴ）を使用し、発光層としては、ポリフェニレンビニレン（ＰＰＶ）系及びポリフルオレン系のような高分子有機物質を使用し、これをスクリーン印刷法やインクジェット印刷法で形成できる。
【００４４】
かような有機膜は、必ずしもそれらに限定されるものではなく、多様な実施形態が適用されうることは、言うまでもない。
【００４５】
ここで、前記有機膜２１２は、特定のパターンを有したマスクを利用し、これと対応した特定のパターンの画素を形成している。
【００４６】
図３は、図２の有機発光装置２００の画素配列を図示したものである。
【００４７】
図面を参照すれば、前記有機発光装置２００の画素２２０は、複数のストライプ型パターンからなる第１有機膜２２１並びに第２有機膜２２２と、１つのドット型パターンからなる有機膜２２３とを含む。
【００４８】
前記第１有機膜２２１は、基板２０１（図２）のＸ方向に沿って、ストライプ型にパターン化されている。前記第１有機膜２２１は、基板２０１の一縁から他の縁に延びている。前記ストライプ型の第１有機膜２２１は、基板のＹ方向に沿って、所定間隔離隔されるように反復的に配列されている。前記第１有機膜２２１は、青色（Ｂ）に発光する有機膜パターンである。
【００４９】
前記第２有機膜２２２は、基板２０１のＹ方向に沿って、ストライプ型にパターン化されている。前記第２有機膜２２２は、前記第１有機膜２２１と交差する方向に、基板２０１の一縁から他の縁に延びている。前記ストライプ型の第２有機膜２２２は、基板２０１のＸ方向に沿って、所定間隔離隔されるように反復的に配列されている。前記第２有機膜２２２は、緑色（Ｇ）に発光する有機膜パターンである。
【００５０】
このとき、前記第１有機膜２２１と第２有機膜２２２は、交差する部分で互いに重複して蒸着される領域（ＯＬ：ｏｖｅｒｌａｐ ｒｅｇｉｏｎ）が生じるが、前記重複された領域（ＯＬ）には、画素電極２１０（図２）が連結されておらず、発光がなされない。
【００５１】
前記第１有機膜２２１と第２有機膜２２２とが互いに交差するそれぞれの内側空間には、それらと共に１つの画素をなすように、第３有機膜２２３がパターン化されている。前記第３有機膜２２３は、基板２０１のＹ方向に沿って、前記第１有機膜２２１と隣接するように、不連続的なドット型に配列されている。前記第３有機膜２２３は、赤色（Ｒ）に発光する有機膜パターンである。
【００５２】
このように、前記第１有機膜２２１、第２有機膜２２２及び第３有機膜２２３は、基板２０１の全体領域にわたって、前記のような配列で同一に反復的に配列されているが、これに係わる配列は、複数のストライプ型の有機膜パターンと１つのドット型有機膜パターンとを有する構造であるならば、必ずしもこれに限定されるものではない。
【００５３】
さらに、複数のストライプ型の有機膜パターンが交差する構造であるならば、ストライプ型の有機膜パターンとドット型有機膜パターンとの形状は、いずれか一つに限定されるものではない。さらに、赤色、緑色及び青色の有機膜パターンが配列される順序は、本実施形態とは異なって、他の順序で配列されてもよく、前記第１有機膜２２１、第２有機膜２２２及び第３有機膜２２２の配置は、特定の位置に制限されるものではない。
【００５４】
また、本実施形態では、前記第１有機膜２２１は、青色に発光する有機膜パターンであり、前記第２有機膜２２２は、緑色に発光する有機膜パターンであり、前記第３有機膜２２３は、赤色に発光する有機膜パターンであるとして説明しているが、これに限定されずに、白色（ｗｈｉｔｅ）や黄色（ｙｅｌｌｏｗ）や紫紅色（ｍａｇｅｎｔａ）や青緑色（ｃｙａｎ）のような他の色相に発光する有機膜パターンに代替可能である。
【００５５】
一方、図面番号２２４は、前記第１有機膜２２１、第２有機膜２２２及び第３有機膜２２３が形成されない非発光領域である。
【００５６】
図４ないし図６は、図２の有機発光装置２００の画素をパターン化させるためのマスク４００ないし６００を図示したものである。
【００５７】
図４を参照すれば、第１有機膜形成用マスク４００には、ストライプ型の第１スリット４０１が形成されている。前記第１スリット４０１は、マスク４００のＸ方向に沿って、一縁から他の縁に延びており、Ｙ方向に沿って、所定間隔離隔されるように、反復的に配列されている。前記第１有機膜形成用マスク４００は、図３の青色の第１有機膜２２１を形成するためのものであり、前記青色の第１有機膜２２１用の原素材が蒸着される通路（ｐａｓｓａｇｅ）を提供する前記第１スリット４０１の間隔ｄ１は、前記青色の第１有機膜２２１の間隔ｄ２と対応する。
【００５８】
図５を参照すれば、第２有機膜形成用マスク５００には、ストライプ型の第２スリット５０１が形成されている。前記第２スリット５０１は、マスク５００のＹ方向に沿って、一縁から他の縁に延びており、Ｘ方向に沿って、所定間隔離隔されるように、反復的に配列されている。前記第２有機膜形成用マスク５００は、図３の緑色の第２有機膜２２２を形成するためのものであり、前記緑色の第２有機膜２２２用の原素材が蒸着される通路を提供する第２スリット５０１の間隔ｄ３は、前記緑色の第２有機膜２２２の間隔ｄ４と対応する。
【００５９】
このとき、前記第２スリット５０１は、図３の画素をパターンするとき、青色の第１有機膜２２１と交差する方向に、緑色の第２有機膜２２２を形成できるように、前記第１スリット４０１（図４）と交差する方向に配列されている。
【００６０】
図６を参照すれば、第３有機膜形成用マスク６００には、ドット型の第３スリット６０１が形成されている。前記第３スリット６０１は、マスク６００のＹ方向に沿って、一縁から他の縁に、不連続的なドット型に配列されており、Ｘ方向に沿って、所定間隔離隔されるように、反復的に配列されている。
【００６１】
前記第３有機膜形成用マスク６００は、図３の赤色の第３有機膜２２３を形成するためのものであり、前記赤色の第３有機膜２２３用の原素材が蒸着される通路を提供する第３スリット６０１の間隔ｄ５は、前記赤色の第３有機膜２２３の間隔ｄ６と対応する。
【００６２】
このとき、前記第３スリット６０１は、図３の画素をパターンするとき、青色の第１有機膜２２１と緑色の第２有機膜２２２とが互いに交差する部分の内側空間に、赤色の第３有機膜２２３が配列されうるように形成されている。
【００６３】
また、前記ストライプ型の第２スリット５０１の間隔ｄ３に対して、前記ストライプ型の第１スリット４０１の間隔ｄ１、及びドット型の第３スリット６０１の間隔ｄ５は、それぞれ１：２以上である。
【００６４】
本実施形態では、前記間隔比率が特定割合でもって例示されているが、前記第１スリット４０１、第２スリット５０１及び第３スリット６０１のそれぞれの間隔ｄ１，ｄ３，ｄ５は、それらを介して形成される複数色相の有機膜２２１，２２２，２２３の各発光領域のサイズと関連しており、それらを構成する有機膜用原素材の発光効率特性によって、任意に調整可能である。
【００６５】
例えば、相対的に発光効率が高い素材からなる緑色の第２有機膜２２２パターンを形成するための第２スリット５０１の間隔ｄ３に対して、相対的に発光効率が低い素材からなる青色の第１有機膜２２１パターンを形成するための第１スリット４０１の間隔ｄ１、及び赤色の第３有機膜２２３パターンを形成させるための第３スリット６０１の間隔ｄ５がさらに大きく形成される。
【００６６】
一方、図３の赤色の第３有機膜２２３に対して、青色の第１有機膜２２１と、緑色の第２有機膜２２２との間隔は、前記第１有機膜形成用マスク４００、第２有機膜形成用マスク５００及び第３有機膜形成用マスク６００に形成された第１スリット４０１、第２スリット４０２及び第３スリット４０３の間隔を選択的に調節することによって、容易に所望する通りに形成することができる。
【００６７】
前記のような構成を有する有機発光装置２００の画素を製造する方法について、図７Ａないし図７Ｃを参照しつつ説明すれば、次の通りである。
【００６８】
まず、図７Ａに図示されているように、第１有機膜形成用マスク４００（図４）を利用し、基板２０１のＸ方向に沿って、青色の第１有機膜２２１をパターン化させる。このとき、前記青色の第１有機膜２２１用の原素材は、前記第１有機膜形成用マスク４００の第１スリット４０１を介して、基板２０１上に蒸着され、基板２０１のＸ方向に沿って、ストライプ型の青色の第１有機膜２２１が形成される。
【００６９】
次に、図７Ｂに図示されているように、前記第２有機膜形成用マスク５００（図５）を利用し、基板２０１のＹ方向に沿って、緑色の第２有機膜２２２をパターン化させる。このとき、前記緑色の第２有機膜２２２用の原素材は、前記第２有機膜形成用マスク５００の第２スリット５０１を介して、基板２０１上に蒸着され、基板２０１のＹ方向に沿って、ストライプ型の緑色の第２有機膜２２２が形成される。
【００７０】
このとき、前記緑色の第２有機膜２２２は、青色の第１有機膜２２１に対して互いに交差する方向に配列されるので、前記青色の第１有機膜２２１と緑色の第２有機膜２２２とが互いに重複して蒸着される領域（ＯＬ）が生じるが、前記重複蒸着された領域（ＯＬ）では、電極が連結されておらず、発光は発生しない。
【００７１】
次に、図７Ｃに図示されているように、前記第３有機膜形成用マスク６００（図６）を利用し、基板２０１上に、赤色の第３有機膜２２３をパターン化させる。このとき、赤色の第３有機膜２２３用の原素材は、前記第３有機膜形成用マスク６００の第３スリット６０１を介して、基板２０１上に蒸着され、ドット型の赤色の第３有機膜２２３は、前記青色の第１有機膜２２１と、緑色の第２有機膜２２２とが互いに交差する部分（ＯＬ）の内側空間に形成される。
【００７２】
このように、複数のストライプ型の第１有機膜形成用マスク４００及び第２有機膜形成用マスク５００と、１つのドット型の第３有機膜形成用マスク６００とを利用し、赤色、緑色及び青色の有機膜パターンを形成すれば、互いに交差するストライプ型の青色の第１有機膜２２１と、緑色の第２有機膜２２２との内側空間に、ドット型の赤色有機膜２２３が配列されるので、１つの画素において、赤色、緑色及び青色の有機膜が形成された領域がさらにコンパクト化される。
【００７３】
このとき、青色の第１有機膜、緑色の第２有機膜及び赤色の第３有機膜は、有機膜の発光効率によって、特定の領域割合に形成されている。
【００７４】
図８は、本発明の一実施形態による１つの画素８００での有機膜のサイズを比較したものである。
【００７５】
図面を参照すれば、基板８０１の上部領域には、青色の第１有機膜８２１が配列されている。前記青色の第１有機膜８２１は、各画素ごとに位置するように、基板８０１のＸ方向に沿って延びたストライプ型の有機膜である。
【００７６】
前記基板８０１の左側領域には、緑色の第２有機膜８２２が配列されている。前記緑色の第２有機膜８２２は、各画素ごとに位置するように、基板８０１のＹ方向に沿って延びたストライプ型の有機膜である。
【００７７】
前記青色の第１有機膜８２１及び緑色の第２有機膜８２２が互いに延びて交差する部分の内側空間である前記基板８０１の下部領域には、赤色の第３有機膜８２３が配列されている。前記赤色の第３有機膜８２３は、各画素ごとに位置するように、基板８０１のＹ方向に沿って、不連続的に配列されたドット型の有機膜である。
【００７８】
このとき、青色の第１有機膜８２１の発光領域、及び赤色の第３有機膜８２３の発光領域は、青色及び赤色の有機膜原素材の特性上、緑色の第２有機膜８２２の発光領域より広く形成されている。緑色の第２有機膜８２２の領域比率に対して、前記青色の第１有機膜８２１の領域及び赤色の第３有機膜８２３の領域の比率は、それぞれ１：２以上に形成されることが望ましい。
【００７９】
例えば、３インチＶＧＡ（ｖｉｄｅｏ ｇｒａｐｈｉｃｓ ａｒｒａｙ）小型製品に適用可能なサイズである１つの画素８００の横長Ｌ１が９６μｍであり、縦長Ｌ２が９６μｍである場合、青色の第１有機膜８２１領域の横長Ｌ３及び縦長Ｌ４は、それぞれ６４μｍ、２４μｍに形成する。これによって、前記青色の第１有機膜８２１領域の面積は、１，５３６μｍ２になる。
【００８０】
また、前記赤色の第３有機膜８２３領域の横長Ｌ７及び縦長Ｌ８は、それぞれ４４μｍ、３２μｍに形成する。これによって、前記赤色の第３有機膜８２１領域の面積は、１，４０８μｍ２になる。
【００８１】
一方、前記緑色の第２有機膜８２２領域の横長Ｌ５及び縦長Ｌ６は、それぞれ１２μｍ、５２μｍに形成する。これによって、前記緑色の第２有機膜８２２領域の面積は、６２４μｍ２になる。
【００８２】
一方、赤色の第３有機膜８２３領域に対して、青色の第１有機膜８２１領域と、緑色の第２有機膜８２２領域との間隔ｄ１，ｄ２は、それぞれ２０μｍになる。
【００８３】
このように、前記緑色の第２有機膜８２２領域に対する、青色の第１有機膜８２１領域、及び赤色の第３有機膜８２３領域は、発光効率によってサイズを異ならせ、青色の第１有機膜領域８２１：緑色の第２有機膜８２２領域：赤色の第３有機膜８２３領域の比率は、２．４６：１：２．２５になるように形成される。
【００８４】
これによって、従来のストライプ型の赤色、緑色、青色の有機膜領域の発光効率が異なる場合、赤色の有機膜領域及び青色の有機膜領域が緑色の有機膜領域より２倍以上広くならなければならないので、３インチＶＧＡ小型製品に適用し難いが、本実施形態では、青色の第１有機膜８２１領域、及び赤色の第３有機膜８２３領域が、緑色の第２有機膜８２２より２倍以上広くなっても、前記のようなコンパクト化された赤色、緑色及び青色の有機膜領域の配列構造により、３インチＶＧＡ小型製品の具現が可能である。
【００８５】
本実施形態では、前記第１有機膜８２１、第２有機膜８２２及び第３有機膜８２３は、青色、緑色及び赤色に発光する有機膜パターンを指すが、それらに限定されずに、白色や黄色や紫紅色や緑青色のような他の色相に発光する有機膜パターンに代替可能である。
【００８６】
また、前記第１有機膜８２１、第２有機膜８２２及び第３有機膜８２３の各発光領域のサイズは、それらを構成する有機膜素材の発光効率特性によって、任意に設計可能である。
【００８７】
さらに、相対的に発光効率が高い素材からなる第２有機膜８２２領域に対して、相対的に発光効率が低い素材からなる第１有機膜８２１及び第３有機膜８２３の領域比率は、本実施形態のように、必ずしも１：２に限定されるものではなく、任意に調整が可能であり、いずれか１つの特定色相に限定されるものでは、さらにないものである。
【００８８】
例えば、相対的に発光効率が高い素材からなる緑色に発光する第２有機膜８２２発光領域に対して、相対的に発光効率が低い素材からなる青色及び赤色にそれぞれ発光する第１有機膜８２１発光領域と第３有機膜８２３発光領域とが、さらに大きく形成される構造であるならば、いずれか一つの面積比率に限定されるものではない。
【００８９】
一方、前記第１有機膜８２１、第２有機膜８２２及び第３有機膜８２３が配列される順序も、本実施形態とは異なり、他の配列順序に配列されてもよく、前記第１有機膜８２１、第２有機膜８２２及び第３有機膜８２３の配置は、特定の位置に制限されるものではない。
【００９０】
本発明は、図面に図示された一実施形態を参考にして説明したが、それらは例示的なものに過ぎず、本技術分野の当業者であるならば、それらから多様な変形及び均等な他実施形態が可能であるという点を理解することができるであろう。よって、本発明の真の技術的保護範囲は、特許請求の範囲の技術的思想によってのみ決まるものである。
【符号の説明】
【００９１】
１００ 真空蒸着装置
１０１ 真空チャンバ
１０２ 蒸着源
１０３ 基板装着部
１０４，２０１，８０１ 基板
１０５ マスク
１０６ 排気装置
１０７ 開口部パターン
２００ 有機発光装置
２０２ バッファ層
２０３ 半導体活性層
２０３ａ ソース／ドレイン領域
２０４ ゲート絶縁膜
２０５ ゲート電極
２０６ 層間絶縁膜
２０７ ソース／ドレイン電極
２０８ パッシベーション膜
２０９ 平坦化膜
２１０ 画素電極
２１１ 画素定義膜
２１２ 有機膜
２１３ 対向電極
２１４ 非発光領域
２２０，８００ 画素
２２１，８２１ 第１有機膜
２２２，８２２ 第２有機膜
２２３，８２３ 第３有機膜
４００ 第１有機膜形成用マスク
４０１ 第１スロット
５００ 第２有機膜形成用マスク
５０１ 第２スロット
６００ 第３有機膜形成用マスク
６０１ 第３スロット
ＯＬ 重複された領域
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機発光装置に係り、さらに詳細には、小型化製品において高解像度を実現でき、製造工程が単純な薄膜蒸着用マスク・アセンブリ、及びこれを利用した有機発光装置、並びにこの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般的に、ディスプレイ装置のうち有機発光装置は、視野角が広く、コントラストにすぐれるだけではなく、応答速度が速いという長所を有している。
【０００３】
有機発光装置は、アノードとカソードとに注入される正孔と電子とが、発光層で再結合して発光する原理によって色相を具現できるものであり、アノードとカソードとの間に発光層を挿入した積層型構造である。しかし、前記の構造では、高効率発光を得難いために、それぞれの電極と発光層との間に、電子注入層、電子輸送層、正孔輸送層及び正孔注入層のような中間層を選択的に追加挿入して利用している。
【０００４】
一方、有機発光装置の電極と、発光層を含んだ中間層は、さまざまな方法によって形成することができるが、そのうち１つの方法が蒸着法である。蒸着方法を利用して有機発光装置を製造するためには、基板上に形成される薄膜などのパターンと同じパターンを有するファインメタル・マスク（ＦＭＭ：ｆｉｎｅ ｍｅｔａｌ ｍａｓｋ）を整列させ、薄膜の原素材を蒸着して所望するパターンの薄膜を形成する。
【０００５】
ファインメタル・マスクを利用してパターンを形成する方法において、マスクの厚さと間隔は、形成しようとするパターンの位置や、形状決定及び解像度に密接に関係している。しかし、従来のストライプ型や、ドット型のパターンを有するマスクを利用する場合、高解像度の小型の製品を製造するためには、パターンの間隔と開口領域とが小さくなければならないが、これに対応するファインメタル・マスクの製造が容易ではない。
【０００６】
例えば、ストライプ型の赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の画素を構成する場合、３インチＶＧＡ（ｖｉｄｅｏ ｇｒａｐｈｉｃｓ ａｒｒａｙ）製品において、画素間ピッチは、ほぼ３２μｍであるが、２０μｍの画素定義膜の幅を考慮するとき、開口された領域は、１２μｍになるが、前記のような数値は、ファインメタル・マスクの製造限界に近い。
【０００７】
さらに、発光層の素材特性上、赤色、緑色、青色の発光層の発光効率が互いに異なるので、発光領域の比率が異ならなければならない。これによって、赤色、青色の発光領域を緑色発光領域より数倍広く形成しなければならないので、小型のＶＧＡ製品を製造するのが容易ではない。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、マスクのパターン形状を異ならせることによって、小型化製品で高解像度を具現できる薄膜蒸着用マスク・アセンブリ、及びこれを利用した有機発光装置、並びにこの製造方法を提供することを主な課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の一側面による薄膜蒸着用マスク・アセンブリを利用した有機発光装置は、基板上に互いに対向するようにパターン化された第１電極並びに第２電極と、前記第１電極並びに第２電極間に形成された複数の有機膜とを含むが、前記有機膜は、少なくとも複数個のストライプ型の有機膜と、１つの不連続的なドット型の有機膜とを含む。
【００１０】
また、前記複数のストライプ型の有機膜は、前記基板の第１方向に沿って、基板の１つの縁から他の縁に延びた第１有機膜と、前記基板の第２方向に沿って、基板の１つの縁から他の縁に延び、前記第１有機膜と交差するように配列された第２有機膜とを含む。
【００１１】
さらに、前記ドット型の有機膜は、前記第２有機膜に対して平行な方向に、基板の１つの縁から他の縁に不連続的に形成され、前記第１有機膜並びに第２有機膜が互いに交差する部分の内側空間にそれぞれ配列され、それらと共に１つの画素をなしている。
【００１２】
さらに、相対的に発光効率が高い素材からなる少なくともいずれか１つの有機膜の発光領域に対して、相対的に発光効率が低い素材からなる残りの有機膜の発光領域は、さらに大きく形成される。
【００１３】
さらに、１つの画素を構成するストライプ型の第２有機膜の発光領域に対して、ストライプ型の第１有機膜の発光領域及びドット型の有機膜の発光領域が、さらに大きく形成される。
【００１４】
本発明の他の側面による薄膜蒸着用マスク・アセンブリを利用した有機発光装置の製造方法は、基板上に第１ストライプ型の第１有機膜パターンをパターン化させる段階と、前記基板上に第２ストライプ型の第２有機膜パターンをパターン化させる段階と、前記基板上にドット型の第３有機膜パターンをパターン化させる段階とを含む。
【００１５】
また、前記第１有機膜パターンは、前記基板の第１方向に沿って、基板の１つの縁から他の縁に延び、前記第２有機膜パターンは、前記基板の第２方向に沿って、基板の１つの縁から他の縁に延びるが、前記第１有機膜パターンは、第２有機膜パターンに対して互いに交差する方向にパターン化させる。
【００１６】
さらに、前記ドット型の第３有機膜パターンは、前記第２有機膜パターンに対して平行な方向に、基板の１つの縁から他の縁に不連続的にパターン化され、前記第１有機膜パターンと第２有機膜パターンとが互いに交差する部分の内側空間にパターン化され、それらと共に１つの画素をなしている。
【００１７】
さらに、相対的に発光効率が高い素材からなる少なくともいずれか１つの第１有機膜ないし第３有機膜のパターン領域に対して、相対的に発光効率が低い素材からなる残りの有機膜のパターン領域を、さらに大きく形成する。
【００１８】
本発明のさらに他の側面による薄膜蒸着用マスク・アセンブリは、基板上に有機膜パターンを蒸着するためのものであり、第１有機膜パターンを、前記基板上に蒸着させるためのストライプ型の第１スリットを有する第１有機膜形成用マスクと、第２有機膜パターンを、前記基板上に蒸着させるためのストライプ型の第２スリットを有する第２有機膜形成用マスクと、第３有機膜パターンを、前記基板上に蒸着させるためのドット型の第３スリットを有する第３有機膜形成用マスクとを含む。
【００１９】
また、前記ストライプ型の第１スリットは、前記基板の第１方向に沿って、１つの縁から他の縁に延びて形成され、前記ストライプ型の第２スリットは、前記第１スリットに対して、基板上で互いに交差する方向に配列されるように、前記基板の第２方向に沿って、１つの縁から他の縁に延びて形成される。
【００２０】
さらに、前記ドット型の第３スリットは、前記ストライプ型の第２スリットに対して、平行な方向に１つの縁から他の縁に不連続的に形成され、前記第１スリット及び第２スリットが互いに交差する部分の内側空間に配列されている。
【発明の効果】
【００２１】
本発明の薄膜蒸着用マスク・アセンブリ、及びこれを利用した有機発光装置、並びにこの製造方法によれば、複数色相の有機膜をコンパクトに配列できるので、高解像度の小型製品の製作が可能である。また、複数色相の発光領域を任意に調節可能であり、有機膜用原素材の選択が自由となる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の一実施形態による真空蒸着装置を図示した構成図である。
【図２】本発明の一実施形態による有機発光装置の副画素を図示した断面図である。
【図３】図２の有機発光装置の画素配列を図示した構成図である。
【図４】図２の有機発光装置の画素をパターン化させるためのマスクを図示したものであり、本発明による第１有機膜形成用マスクを図示した構成図である。
【図５】図２の有機発光装置の画素をパターン化させるためのマスクを図示したものであり、本発明による第２有機膜形成用マスクを図示した構成図である。
【図６】図２の有機発光装置の画素をパターン化させるためのマスクを図示したものであり、本発明による第３有機膜形成用マスクを図示した構成図である。
【図７Ａ】本発明の一実施形態による有機発光装置の画素を製造する方法を順次に図示したものであり、本発明による基板上に、第１有機膜パターンを形成した後の状態を図示した構成図である。
【図７Ｂ】本発明の一実施形態による有機発光装置の画素を製造する方法を順次に図示したものであり、図７Ａの基板上に、第２有機膜パターンを形成した後の状態を図示した構成図である。
【図７Ｃ】本発明の一実施形態による有機発光装置の画素を製造する方法を順次に図示したものであり、図７Ｂの基板上に、第３有機膜パターンを形成した後の状態を図示した構成図である。
【図８】本発明の一実施形態による１つの画素での有機膜のサイズを比較した構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、添付された図面を参照しつつ、本発明による望ましい実施形態について詳細に説明すれば、次の通りである。
【００２４】
図１は、本発明の一実施形態による有機薄膜パターンを形成する真空蒸着装置１００を図示したものである。
【００２５】
図面を参照すれば、前記真空蒸着装置１００には、真空チャンバ１０１が設けられている。前記真空チャンバ１０１内には、有機物質を気化させることができる少なくとも一つ以上の蒸着源１０２が設置されている。前記蒸着源１０２に対向する側には、基板装着部１０３が設置されている。前記基板装着部１０３には、被蒸着対象である基板１０４が装着されている。前記基板１０４の前には、これと所定間隔離隔され、所定パターンを有するマスク１０５が整列されている。一方、前記真空チャンバ１０１は、排気装置１０６によって、所定の真空度を維持することが可能である。
【００２６】
このとき、蒸着される有機薄膜の膜均一度を確保するために、基板１０４を回転させたり、蒸着源１０２を線形往復動させることができる。そして、前記基板１０４に、所定形状の有機薄膜パターンを形成するために、形成しようとする有機薄膜パターン状の開口部パターン１０７が備わったマスク１０５を利用する。すなわち、前記蒸着源１０２で気化された有機物質は、マスク１０５の開口部パターン１０７を通過し、基板１０４に蒸着可能となる。
【００２７】
図２は、図１の蒸着装置１００を利用して蒸着されたアクティブ・マトリックス（ＡＭ）型有機発光装置２００の副画素（ｓｕｂ−ｐｉｘｅｌ）の一例を図示したものである。
【００２８】
ここで、副画素は、少なくとも１つの薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）と、有機発光素子（ＯＬＥＤ）とを有する。前記ＴＦＴは、必ずしも図２に図示された構造によってのみ可能なものではなく、その数と構造は、多様に変形可能である。
【００２９】
図面を参照すれば、基板２０１上には、バッファ層２０２が形成されている。前記基板２０１は、ガラスやプラスチックからなる。前記バッファ層２０２上には、所定パターンの半導体活性層２０３が形成されている。前記半導体活性層２０３の上部には、ゲート絶縁膜２０４が形成されており、前記ゲート絶縁膜２０４上部の所定領域には、ゲート電極２０５が形成されている。
【００３０】
前記ゲート電極２０５は、ＴＦＴのオン／オフ信号を印加するゲートライン（図示せず）と連結されている。前記ゲート電極２０５の上部には、層間絶縁膜２０６が形成されており、コンタクト・ホールを介して、ソース／ドレイン電極２０７が、それぞれ半導体活性層２０３のソース／ドレイン領域２０３ａに接するように形成されている。
【００３１】
前記ソース／ドレイン電極２０７の上部には、ＳｉＯ２、ＳｉＮｘなどからなるパッシベーション膜２０８が形成されている。前記パッシベーション膜２０８の上部には、アクリル、ポリイミド、ベンゾシクロブテン（ＢＣＢ）のような有機物質からなる平坦化膜２０９が形成されている。
【００３２】
前記平坦化膜２０９の上部には、有機発光素子のアノードになる画素電極２１０が形成され、これを覆うように、有機物からなる画素定義膜（ＰＤＬ：ｐｉｘｅｌ ｄｅｆｉｎｅ ｌａｙｅｒ）２１１が形成されている。前記画素定義膜２１１に所定の開口を形成した後、画素定義膜２１１の上部及び開口が形成され、外部に露出された画素電極２１０の上部に、有機膜２１２が形成されている。前記有機膜２１２は、発光層を含んだものになる。本発明は、必ずしもかような構造に限定されるものではなく、多様な有機発光装置の構造がそのまま適用されうることは、言うまでもない。
【００３３】
有機発光素子（ＯＬＥＤ）は、電流の流れによって、赤色、緑色、青色の光を発光し、所定の画像情報を表示するものであり、ＴＦＴのソース／ドレイン電極２０７に連結され、ここからプラス（＋）電源を供給される第１電極である画素電極２１０、全体画素を覆うように備わり、マイナス（−）電源を供給される第２電極である対向電極２１３、及びそれら画素電極２１０と対向電極２１３との間に配されて発光する有機膜２１２を含む。
【００３４】
前記画素電極２１０と対向電極２１３は、有機膜２１２によって互いに絶縁されており、有機膜２１２に、互いに異なる極性の電圧を加え、有機膜２１２で発光がなされる。
【００３５】
前記画素電極２１０は、アノードの機能を行い、対向電極２１３は、カソードの機能を行う。もちろん、それら画素電極２１０と対向電極２１３との極性は、反対になってもよい。
【００３６】
前記画素電極２１０は、透明電極または反射型電極として備わりうる。
【００３７】
透明電極として使われる場合、ＩＴＯ（ｉｎｄｉｕｍ ｔｉｎ ｏｘｉｄｅ）、ＩＺＯ（ｉｎｄｉｕｍ ｚｉｎｃ ｏｘｉｄｅ）、ＺｎＯまたはＩｎ２Ｏ３によって備わり、反射型電極として使われる場合、Ａｇ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｎｄ、Ｉｒ、Ｃｒ及びそれらの化合物で反射膜を形成した後、その上に、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯまたはＩｎ２Ｏ３を形成できる。
【００３８】
前記対向電極２１３も、透明電極または反射型電極として備わりうる。
【００３９】
透明電極として使われる場合、前記対向電極２１３がカソードとして使われるので、仕事関数が小さい金属、すなわち、Ｌｉ、Ｃａ、ＬｉＦ／Ｃａ、ＬｉＦ／Ａｌ、Ａｌ、Ａｇ、Ｍｇ及びそれらの化合物が、有機膜２１２の方向を向くように蒸着された後、その上に、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯまたはＩｎ２Ｏ３などの透明電極形成用物質で、補助電極層やバス電極ラインを形成できる。反射型電極として使われる場合、前記のＬｉ、Ｃａ、ＬｉＦ／Ｃａ、ＬｉＦ／Ａｌ、Ａｌ、Ａｇ、Ｍｇ及びそれらの化合物を全面蒸着して形成する。
【００４０】
一方、前記画素電極２１０は、前記透明電極または反射型電極として形成されたとき、各副画素の開口形態に対応する形態に形成されうる。また、前記対向電極２１３は、前記透明電極または反射型電極を、ディスプレイ領域全体に全面蒸着して形成できる。しかし、前記対向電極２１３は、必ずしも全面蒸着する必要はなく、多様なパターンで形成可能であることは、言うまでもない。前記画素電極２１０と対向電極２１３は、互いに位置が反対に積層されうることも、言うまでもない。
【００４１】
前記有機膜２１２は、低分子または高分子の有機膜が使われうる。
【００４２】
低分子有機膜を使用する場合、ホール注入層（ＨＩＬ：ｈｏｌｅ ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ ｌａｙｅｒ）、ホール輸送層（ＨＴＬ：ｈｏｌｅ ｔｒａｎｓｐｏｒｔ ｌａｙｅｒ）、発光層（ＥＭＬ：ｅｍｉｓｓｉｏｎ ｌａｙｅｒ）、電子輸送層（ＥＴＬ：ｅｌｅｃｔｒｏｎ ｔｒａｎｓｐｏｒｔ ｌａｙｅｒ）、電子注入層（ＥＩＬ：ｅｌｅｃｔｒｏｎ ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ ｌａｙｅｒ）などが、単一あるいは複合の構造に積層されて形成されうる。また、利用可能な有機材料も、銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）、Ｎ，Ｎ−ジ（ナフタレン−１−イル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ベンジジン（ＮＰＢ）、トリス−８−ヒドロキシキノリンアルミニウム（Ａｌｑ３）などを始めとして、多様に適用可能である。それら低分子有機膜は、真空蒸着の方法で形成される。
【００４３】
高分子有機膜を使用する場合、おおむねホール輸送層（ＨＴＬ）及び発光層（ＥＭＬ）を含む。ホール輸送層としては、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）（ＰＥＤＯＴ）を使用し、発光層としては、ポリフェニレンビニレン（ＰＰＶ）系及びポリフルオレン系のような高分子有機物質を使用し、これをスクリーン印刷法やインクジェット印刷法で形成できる。
【００４４】
かような有機膜は、必ずしもそれらに限定されるものではなく、多様な実施形態が適用されうることは、言うまでもない。
【００４５】
ここで、前記有機膜２１２は、特定のパターンを有したマスクを利用し、これと対応した特定のパターンの画素を形成している。
【００４６】
図３は、図２の有機発光装置２００の画素配列を図示したものである。
【００４７】
図面を参照すれば、前記有機発光装置２００の画素２２０は、複数のストライプ型パターンからなる第１有機膜２２１並びに第２有機膜２２２と、１つのドット型パターンからなる有機膜２２３とを含む。
【００４８】
前記第１有機膜２２１は、基板２０１（図２）のＸ方向に沿って、ストライプ型にパターン化されている。前記第１有機膜２２１は、基板２０１の一縁から他の縁に延びている。前記ストライプ型の第１有機膜２２１は、基板のＹ方向に沿って、所定間隔離隔されるように反復的に配列されている。前記第１有機膜２２１は、青色（Ｂ）に発光する有機膜パターンである。
【００４９】
前記第２有機膜２２２は、基板２０１のＹ方向に沿って、ストライプ型にパターン化されている。前記第２有機膜２２２は、前記第１有機膜２２１と交差する方向に、基板２０１の一縁から他の縁に延びている。前記ストライプ型の第２有機膜２２２は、基板２０１のＸ方向に沿って、所定間隔離隔されるように反復的に配列されている。前記第２有機膜２２２は、緑色（Ｇ）に発光する有機膜パターンである。
【００５０】
このとき、前記第１有機膜２２１と第２有機膜２２２は、交差する部分で互いに重複して蒸着される領域（ＯＬ：ｏｖｅｒｌａｐ ｒｅｇｉｏｎ）が生じるが、前記重複された領域（ＯＬ）には、画素電極２１０（図２）が連結されておらず、発光がなされない。
【００５１】
前記第１有機膜２２１と第２有機膜２２２とが互いに交差するそれぞれの内側空間には、それらと共に１つの画素をなすように、第３有機膜２２３がパターン化されている。前記第３有機膜２２３は、基板２０１のＹ方向に沿って、前記第１有機膜２２１と隣接するように、不連続的なドット型に配列されている。前記第３有機膜２２３は、赤色（Ｒ）に発光する有機膜パターンである。
【００５２】
このように、前記第１有機膜２２１、第２有機膜２２２及び第３有機膜２２３は、基板２０１の全体領域にわたって、前記のような配列で同一に反復的に配列されているが、これに係わる配列は、複数のストライプ型の有機膜パターンと１つのドット型有機膜パターンとを有する構造であるならば、必ずしもこれに限定されるものではない。
【００５３】
さらに、複数のストライプ型の有機膜パターンが交差する構造であるならば、ストライプ型の有機膜パターンとドット型有機膜パターンとの形状は、いずれか一つに限定されるものではない。さらに、赤色、緑色及び青色の有機膜パターンが配列される順序は、本実施形態とは異なって、他の順序で配列されてもよく、前記第１有機膜２２１、第２有機膜２２２及び第３有機膜２２２の配置は、特定の位置に制限されるものではない。
【００５４】
また、本実施形態では、前記第１有機膜２２１は、青色に発光する有機膜パターンであり、前記第２有機膜２２２は、緑色に発光する有機膜パターンであり、前記第３有機膜２２３は、赤色に発光する有機膜パターンであるとして説明しているが、これに限定されずに、白色（ｗｈｉｔｅ）や黄色（ｙｅｌｌｏｗ）や紫紅色（ｍａｇｅｎｔａ）や青緑色（ｃｙａｎ）のような他の色相に発光する有機膜パターンに代替可能である。
【００５５】
一方、図面番号２２４は、前記第１有機膜２２１、第２有機膜２２２及び第３有機膜２２３が形成されない非発光領域である。
【００５６】
図４ないし図６は、図２の有機発光装置２００の画素をパターン化させるためのマスク４００ないし６００を図示したものである。
【００５７】
図４を参照すれば、第１有機膜形成用マスク４００には、ストライプ型の第１スリット４０１が形成されている。前記第１スリット４０１は、マスク４００のＸ方向に沿って、一縁から他の縁に延びており、Ｙ方向に沿って、所定間隔離隔されるように、反復的に配列されている。前記第１有機膜形成用マスク４００は、図３の青色の第１有機膜２２１を形成するためのものであり、前記青色の第１有機膜２２１用の原素材が蒸着される通路（ｐａｓｓａｇｅ）を提供する前記第１スリット４０１の間隔ｄ１は、前記青色の第１有機膜２２１の間隔ｄ２と対応する。
【００５８】
図５を参照すれば、第２有機膜形成用マスク５００には、ストライプ型の第２スリット５０１が形成されている。前記第２スリット５０１は、マスク５００のＹ方向に沿って、一縁から他の縁に延びており、Ｘ方向に沿って、所定間隔離隔されるように、反復的に配列されている。前記第２有機膜形成用マスク５００は、図３の緑色の第２有機膜２２２を形成するためのものであり、前記緑色の第２有機膜２２２用の原素材が蒸着される通路を提供する第２スリット５０１の間隔ｄ３は、前記緑色の第２有機膜２２２の間隔ｄ４と対応する。
【００５９】
このとき、前記第２スリット５０１は、図３の画素をパターンするとき、青色の第１有機膜２２１と交差する方向に、緑色の第２有機膜２２２を形成できるように、前記第１スリット４０１（図４）と交差する方向に配列されている。
【００６０】
図６を参照すれば、第３有機膜形成用マスク６００には、ドット型の第３スリット６０１が形成されている。前記第３スリット６０１は、マスク６００のＹ方向に沿って、一縁から他の縁に、不連続的なドット型に配列されており、Ｘ方向に沿って、所定間隔離隔されるように、反復的に配列されている。
【００６１】
前記第３有機膜形成用マスク６００は、図３の赤色の第３有機膜２２３を形成するためのものであり、前記赤色の第３有機膜２２３用の原素材が蒸着される通路を提供する第３スリット６０１の間隔ｄ５は、前記赤色の第３有機膜２２３の間隔ｄ６と対応する。
【００６２】
このとき、前記第３スリット６０１は、図３の画素をパターンするとき、青色の第１有機膜２２１と緑色の第２有機膜２２２とが互いに交差する部分の内側空間に、赤色の第３有機膜２２３が配列されうるように形成されている。
【００６３】
また、前記ストライプ型の第２スリット５０１の間隔ｄ３に対して、前記ストライプ型の第１スリット４０１の間隔ｄ１、及びドット型の第３スリット６０１の間隔ｄ５は、それぞれ１：２以上である。
【００６４】
本実施形態では、前記間隔比率が特定割合でもって例示されているが、前記第１スリット４０１、第２スリット５０１及び第３スリット６０１のそれぞれの間隔ｄ１，ｄ３，ｄ５は、それらを介して形成される複数色相の有機膜２２１，２２２，２２３の各発光領域のサイズと関連しており、それらを構成する有機膜用原素材の発光効率特性によって、任意に調整可能である。
【００６５】
例えば、相対的に発光効率が高い素材からなる緑色の第２有機膜２２２パターンを形成するための第２スリット５０１の間隔ｄ３に対して、相対的に発光効率が低い素材からなる青色の第１有機膜２２１パターンを形成するための第１スリット４０１の間隔ｄ１、及び赤色の第３有機膜２２３パターンを形成させるための第３スリット６０１の間隔ｄ５がさらに大きく形成される。
【００６６】
一方、図３の赤色の第３有機膜２２３に対して、青色の第１有機膜２２１と、緑色の第２有機膜２２２との間隔は、前記第１有機膜形成用マスク４００、第２有機膜形成用マスク５００及び第３有機膜形成用マスク６００に形成された第１スリット４０１、第２スリット４０２及び第３スリット４０３の間隔を選択的に調節することによって、容易に所望する通りに形成することができる。
【００６７】
前記のような構成を有する有機発光装置２００の画素を製造する方法について、図７Ａないし図７Ｃを参照しつつ説明すれば、次の通りである。
【００６８】
まず、図７Ａに図示されているように、第１有機膜形成用マスク４００（図４）を利用し、基板２０１のＸ方向に沿って、青色の第１有機膜２２１をパターン化させる。このとき、前記青色の第１有機膜２２１用の原素材は、前記第１有機膜形成用マスク４００の第１スリット４０１を介して、基板２０１上に蒸着され、基板２０１のＸ方向に沿って、ストライプ型の青色の第１有機膜２２１が形成される。
【００６９】
次に、図７Ｂに図示されているように、前記第２有機膜形成用マスク５００（図５）を利用し、基板２０１のＹ方向に沿って、緑色の第２有機膜２２２をパターン化させる。このとき、前記緑色の第２有機膜２２２用の原素材は、前記第２有機膜形成用マスク５００の第２スリット５０１を介して、基板２０１上に蒸着され、基板２０１のＹ方向に沿って、ストライプ型の緑色の第２有機膜２２２が形成される。
【００７０】
このとき、前記緑色の第２有機膜２２２は、青色の第１有機膜２２１に対して互いに交差する方向に配列されるので、前記青色の第１有機膜２２１と緑色の第２有機膜２２２とが互いに重複して蒸着される領域（ＯＬ）が生じるが、前記重複蒸着された領域（ＯＬ）では、電極が連結されておらず、発光は発生しない。
【００７１】
次に、図７Ｃに図示されているように、前記第３有機膜形成用マスク６００（図６）を利用し、基板２０１上に、赤色の第３有機膜２２３をパターン化させる。このとき、赤色の第３有機膜２２３用の原素材は、前記第３有機膜形成用マスク６００の第３スリット６０１を介して、基板２０１上に蒸着され、ドット型の赤色の第３有機膜２２３は、前記青色の第１有機膜２２１と、緑色の第２有機膜２２２とが互いに交差する部分（ＯＬ）の内側空間に形成される。
【００７２】
このように、複数のストライプ型の第１有機膜形成用マスク４００及び第２有機膜形成用マスク５００と、１つのドット型の第３有機膜形成用マスク６００とを利用し、赤色、緑色及び青色の有機膜パターンを形成すれば、互いに交差するストライプ型の青色の第１有機膜２２１と、緑色の第２有機膜２２２との内側空間に、ドット型の赤色有機膜２２３が配列されるので、１つの画素において、赤色、緑色及び青色の有機膜が形成された領域がさらにコンパクト化される。
【００７３】
このとき、青色の第１有機膜、緑色の第２有機膜及び赤色の第３有機膜は、有機膜の発光効率によって、特定の領域割合に形成されている。
【００７４】
図８は、本発明の一実施形態による１つの画素８００での有機膜のサイズを比較したものである。
【００７５】
図面を参照すれば、基板８０１の上部領域には、青色の第１有機膜８２１が配列されている。前記青色の第１有機膜８２１は、各画素ごとに位置するように、基板８０１のＸ方向に沿って延びたストライプ型の有機膜である。
【００７６】
前記基板８０１の左側領域には、緑色の第２有機膜８２２が配列されている。前記緑色の第２有機膜８２２は、各画素ごとに位置するように、基板８０１のＹ方向に沿って延びたストライプ型の有機膜である。
【００７７】
前記青色の第１有機膜８２１及び緑色の第２有機膜８２２が互いに延びて交差する部分の内側空間である前記基板８０１の下部領域には、赤色の第３有機膜８２３が配列されている。前記赤色の第３有機膜８２３は、各画素ごとに位置するように、基板８０１のＹ方向に沿って、不連続的に配列されたドット型の有機膜である。
【００７８】
このとき、青色の第１有機膜８２１の発光領域、及び赤色の第３有機膜８２３の発光領域は、青色及び赤色の有機膜原素材の特性上、緑色の第２有機膜８２２の発光領域より広く形成されている。緑色の第２有機膜８２２の領域比率に対して、前記青色の第１有機膜８２１の領域及び赤色の第３有機膜８２３の領域の比率は、それぞれ１：２以上に形成されることが望ましい。
【００７９】
例えば、３インチＶＧＡ（ｖｉｄｅｏ ｇｒａｐｈｉｃｓ ａｒｒａｙ）小型製品に適用可能なサイズである１つの画素８００の横長Ｌ１が９６μｍであり、縦長Ｌ２が９６μｍである場合、青色の第１有機膜８２１領域の横長Ｌ３及び縦長Ｌ４は、それぞれ６４μｍ、２４μｍに形成する。これによって、前記青色の第１有機膜８２１領域の面積は、１，５３６μｍ２になる。
【００８０】
また、前記赤色の第３有機膜８２３領域の横長Ｌ７及び縦長Ｌ８は、それぞれ４４μｍ、３２μｍに形成する。これによって、前記赤色の第３有機膜８２１領域の面積は、１，４０８μｍ２になる。
【００８１】
一方、前記緑色の第２有機膜８２２領域の横長Ｌ５及び縦長Ｌ６は、それぞれ１２μｍ、５２μｍに形成する。これによって、前記緑色の第２有機膜８２２領域の面積は、６２４μｍ２になる。
【００８２】
一方、赤色の第３有機膜８２３領域に対して、青色の第１有機膜８２１領域と、緑色の第２有機膜８２２領域との間隔ｄ１，ｄ２は、それぞれ２０μｍになる。
【００８３】
このように、前記緑色の第２有機膜８２２領域に対する、青色の第１有機膜８２１領域、及び赤色の第３有機膜８２３領域は、発光効率によってサイズを異ならせ、青色の第１有機膜領域８２１：緑色の第２有機膜８２２領域：赤色の第３有機膜８２３領域の比率は、２．４６：１：２．２５になるように形成される。
【００８４】
これによって、従来のストライプ型の赤色、緑色、青色の有機膜領域の発光効率が異なる場合、赤色の有機膜領域及び青色の有機膜領域が緑色の有機膜領域より２倍以上広くならなければならないので、３インチＶＧＡ小型製品に適用し難いが、本実施形態では、青色の第１有機膜８２１領域、及び赤色の第３有機膜８２３領域が、緑色の第２有機膜８２２より２倍以上広くなっても、前記のようなコンパクト化された赤色、緑色及び青色の有機膜領域の配列構造により、３インチＶＧＡ小型製品の具現が可能である。
【００８５】
本実施形態では、前記第１有機膜８２１、第２有機膜８２２及び第３有機膜８２３は、青色、緑色及び赤色に発光する有機膜パターンを指すが、それらに限定されずに、白色や黄色や紫紅色や緑青色のような他の色相に発光する有機膜パターンに代替可能である。
【００８６】
また、前記第１有機膜８２１、第２有機膜８２２及び第３有機膜８２３の各発光領域のサイズは、それらを構成する有機膜素材の発光効率特性によって、任意に設計可能である。
【００８７】
さらに、相対的に発光効率が高い素材からなる第２有機膜８２２領域に対して、相対的に発光効率が低い素材からなる第１有機膜８２１及び第３有機膜８２３の領域比率は、本実施形態のように、必ずしも１：２に限定されるものではなく、任意に調整が可能であり、いずれか１つの特定色相に限定されるものでは、さらにないものである。
【００８８】
例えば、相対的に発光効率が高い素材からなる緑色に発光する第２有機膜８２２発光領域に対して、相対的に発光効率が低い素材からなる青色及び赤色にそれぞれ発光する第１有機膜８２１発光領域と第３有機膜８２３発光領域とが、さらに大きく形成される構造であるならば、いずれか一つの面積比率に限定されるものではない。
【００８９】
一方、前記第１有機膜８２１、第２有機膜８２２及び第３有機膜８２３が配列される順序も、本実施形態とは異なり、他の配列順序に配列されてもよく、前記第１有機膜８２１、第２有機膜８２２及び第３有機膜８２３の配置は、特定の位置に制限されるものではない。
【００９０】
本発明は、図面に図示された一実施形態を参考にして説明したが、それらは例示的なものに過ぎず、本技術分野の当業者であるならば、それらから多様な変形及び均等な他実施形態が可能であるという点を理解することができるであろう。よって、本発明の真の技術的保護範囲は、特許請求の範囲の技術的思想によってのみ決まるものである。
【符号の説明】
【００９１】
１００ 真空蒸着装置
１０１ 真空チャンバ
１０２ 蒸着源
１０３ 基板装着部
１０４，２０１，８０１ 基板
１０５ マスク
１０６ 排気装置
１０７ 開口部パターン
２００ 有機発光装置
２０２ バッファ層
２０３ 半導体活性層
２０３ａ ソース／ドレイン領域
２０４ ゲート絶縁膜
２０５ ゲート電極
２０６ 層間絶縁膜
２０７ ソース／ドレイン電極
２０８ パッシベーション膜
２０９ 平坦化膜
２１０ 画素電極
２１１ 画素定義膜
２１２ 有機膜
２１３ 対向電極
２１４ 非発光領域
２２０，８００ 画素
２２１，８２１ 第１有機膜
２２２，８２２ 第２有機膜
２２３，８２３ 第３有機膜
４００ 第１有機膜形成用マスク
４０１ 第１スロット
５００ 第２有機膜形成用マスク
５０１ 第２スロット
６００ 第３有機膜形成用マスク
６０１ 第３スロット
ＯＬ 重複された領域
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に互いに対向するようにパターン化された第１電極並びに第２電極と、
前記第１電極並びに第２電極間に形成された複数の有機膜と、を含むが、
前記有機膜は、少なくとも複数個のストライプ型の有機膜と、１つの不連続的なドット型の有機膜と、を含む有機発光装置。
【請求項２】
前記複数のストライプ型の有機膜は、
前記基板の第１方向に沿って、基板の一縁から他の縁に延びた第１有機膜と、前記基板の第２方向に沿って、基板の一縁から他の縁に延び、前記第１有機膜と交差するように配列された第２有機膜と、を含むことを特徴とする請求項１に記載の有機発光装置。
【請求項３】
前記ドット型の有機膜は、前記第２有機膜に対して平行な方向に、基板の一縁から他の縁に不連続的に形成され、
前記第１有機膜並びに第２有機膜が互いに交差する部分の内側空間にそれぞれ配列され、それらと共に１つの画素をなすことを特徴とする請求項２に記載の有機発光装置。
【請求項４】
相対的に発光効率が高い素材からなる少なくともいずれか１つの有機膜の発光領域に対して、相対的に発光効率が低い素材からなる残りの有機膜の発光領域は、さらに大きく形成されたことを特徴とする請求項１に記載の有機発光装置。
【請求項５】
１つの画素を構成するストライプ型の第２有機膜の発光領域に対して、ストライプ型の第１有機膜の発光領域及びドット型の有機膜の発光領域が、さらに大きく形成されたことを特徴とすることを特徴とする請求項４に記載の有機発光装置。
【請求項６】
基板上に、第１ストライプ型の第１有機膜パターンをパターン化させる段階と、
前記基板上に、第２ストライプ型の第２有機膜パターンをパターン化させる段階と、
前記基板上に、ドット型の第３有機膜パターンをパターン化させる段階と、を含む有機発光装置の製造方法。
【請求項７】
前記第１有機膜パターンは、前記基板の第１方向に沿って、基板の一縁から他の縁に延び、
前記第２有機膜パターンは、前記基板の第２方向に沿って、基板の一縁から他の縁に延びるが、
前記第１有機膜パターンは、第２有機膜パターンに対して互いに交差する方向にパターン化させることを特徴とする請求項６に記載の有機発光装置の製造方法。
【請求項８】
前記ドット型の第３有機膜パターンは、前記第２有機膜パターンに対して平行な方向に、基板の一縁から他の縁に不連続的にパターン化され、
前記第１有機膜パターンと第２有機膜パターンとが互いに交差する部分の内側空間にパターン化され、それらと共に１つの画素をなすことを特徴とする請求項７に記載の有機発光装置の製造方法。
【請求項９】
相対的に発光効率が高い素材からなる少なくともいずれか１つの第１有機膜ないし第３有機膜のパターン領域に対して、相対的に発光効率が低い素材からなる残りの有機膜のパターン領域を、さらに大きく形成することを特徴とする請求項６に記載の有機発光装置の製造方法。
【請求項１０】
１つの画素を構成するストライプ型の第２有機膜パターン領域に対して、ストライプ型の第１有機膜のパターン領域及びドット型の有機膜のパターン領域をさらに大きく形成することを特徴とする請求項９に記載の有機発光装置の製造方法。
【請求項１１】
基板上に有機膜パターンを蒸着するためのものであり、
第１有機膜パターンを、前記基板上に蒸着させるためのストライプ型の第１スリットを有する第１有機膜形成用マスクと、
第２有機膜パターンを、前記基板上に蒸着させるためのストライプ型の第２スリットを有する第２有機膜形成用マスクと、
第３有機膜パターンを、前記基板上に蒸着させるためのドット型の第３スリットを有する第３有機膜形成用マスクと、を含む薄膜蒸着用マスク・アセンブリ。
【請求項１２】
前記ストライプ型の第１スリットは、前記基板の第１方向に沿って一縁から他の縁に延びて形成され、
前記ストライプ型の第２スリットは、前記第１スリットに対して、基板上で互いに交差する方向に配列されるように、前記基板の第２方向に沿って一縁から他の縁に延びて形成されたことを特徴とする請求項１１に記載の薄膜蒸着用マスク・アセンブリ。
【請求項１３】
前記ドット型の第３スリットは、前記ストライプ型の第２スリットに対して、平行な方向に一縁から他の縁に不連続的に形成され、
前記第１スリット及び第２スリットが互いに交差する部分の内側空間に配列されたことを特徴とする請求項１２に記載の薄膜蒸着用マスク・アセンブリ。
【請求項１４】
相対的に発光効率が高い素材からなる少なくともいずれか１つの第１有機膜パターンないし第３有機膜パターンを形成させるための有機膜原素材の蒸着される通路を提供するスリットの間隔に対して、相対的に発光効率が低い素材からなる残りの有機膜パターンを形成させるための有機膜原素材の通路を提供するスリットの間隔が、さらに大きく形成されたことを特徴とする請求項１１に記載の薄膜蒸着用マスク・アセンブリ。
【請求項１５】
１つの画素を構成するストライプ型の第２有機膜パターンを形成させるためのスリットの間隔に対して、ストライプ型の第１有機膜パターンを形成させるためのスリットの間隔及びドット型の有機膜パターンを形成させるためのスリットの間隔が、さらに大きく形成されたことを特徴とする請求項１１に記載の薄膜蒸着用アセンブリ。
【請求項１】
基板上に互いに対向するようにパターン化された第１電極並びに第２電極と、
前記第１電極並びに第２電極間に形成された複数の有機膜と、を含むが、
前記有機膜は、少なくとも複数個のストライプ型の有機膜と、１つの不連続的なドット型の有機膜と、を含む有機発光装置。
【請求項２】
前記複数のストライプ型の有機膜は、
前記基板の第１方向に沿って、基板の一縁から他の縁に延びた第１有機膜と、前記基板の第２方向に沿って、基板の一縁から他の縁に延び、前記第１有機膜と交差するように配列された第２有機膜と、を含むことを特徴とする請求項１に記載の有機発光装置。
【請求項３】
前記ドット型の有機膜は、前記第２有機膜に対して平行な方向に、基板の一縁から他の縁に不連続的に形成され、
前記第１有機膜並びに第２有機膜が互いに交差する部分の内側空間にそれぞれ配列され、それらと共に１つの画素をなすことを特徴とする請求項２に記載の有機発光装置。
【請求項４】
相対的に発光効率が高い素材からなる少なくともいずれか１つの有機膜の発光領域に対して、相対的に発光効率が低い素材からなる残りの有機膜の発光領域は、さらに大きく形成されたことを特徴とする請求項１に記載の有機発光装置。
【請求項５】
１つの画素を構成するストライプ型の第２有機膜の発光領域に対して、ストライプ型の第１有機膜の発光領域及びドット型の有機膜の発光領域が、さらに大きく形成されたことを特徴とすることを特徴とする請求項４に記載の有機発光装置。
【請求項６】
基板上に、第１ストライプ型の第１有機膜パターンをパターン化させる段階と、
前記基板上に、第２ストライプ型の第２有機膜パターンをパターン化させる段階と、
前記基板上に、ドット型の第３有機膜パターンをパターン化させる段階と、を含む有機発光装置の製造方法。
【請求項７】
前記第１有機膜パターンは、前記基板の第１方向に沿って、基板の一縁から他の縁に延び、
前記第２有機膜パターンは、前記基板の第２方向に沿って、基板の一縁から他の縁に延びるが、
前記第１有機膜パターンは、第２有機膜パターンに対して互いに交差する方向にパターン化させることを特徴とする請求項６に記載の有機発光装置の製造方法。
【請求項８】
前記ドット型の第３有機膜パターンは、前記第２有機膜パターンに対して平行な方向に、基板の一縁から他の縁に不連続的にパターン化され、
前記第１有機膜パターンと第２有機膜パターンとが互いに交差する部分の内側空間にパターン化され、それらと共に１つの画素をなすことを特徴とする請求項７に記載の有機発光装置の製造方法。
【請求項９】
相対的に発光効率が高い素材からなる少なくともいずれか１つの第１有機膜ないし第３有機膜のパターン領域に対して、相対的に発光効率が低い素材からなる残りの有機膜のパターン領域を、さらに大きく形成することを特徴とする請求項６に記載の有機発光装置の製造方法。
【請求項１０】
１つの画素を構成するストライプ型の第２有機膜パターン領域に対して、ストライプ型の第１有機膜のパターン領域及びドット型の有機膜のパターン領域をさらに大きく形成することを特徴とする請求項９に記載の有機発光装置の製造方法。
【請求項１１】
基板上に有機膜パターンを蒸着するためのものであり、
第１有機膜パターンを、前記基板上に蒸着させるためのストライプ型の第１スリットを有する第１有機膜形成用マスクと、
第２有機膜パターンを、前記基板上に蒸着させるためのストライプ型の第２スリットを有する第２有機膜形成用マスクと、
第３有機膜パターンを、前記基板上に蒸着させるためのドット型の第３スリットを有する第３有機膜形成用マスクと、を含む薄膜蒸着用マスク・アセンブリ。
【請求項１２】
前記ストライプ型の第１スリットは、前記基板の第１方向に沿って一縁から他の縁に延びて形成され、
前記ストライプ型の第２スリットは、前記第１スリットに対して、基板上で互いに交差する方向に配列されるように、前記基板の第２方向に沿って一縁から他の縁に延びて形成されたことを特徴とする請求項１１に記載の薄膜蒸着用マスク・アセンブリ。
【請求項１３】
前記ドット型の第３スリットは、前記ストライプ型の第２スリットに対して、平行な方向に一縁から他の縁に不連続的に形成され、
前記第１スリット及び第２スリットが互いに交差する部分の内側空間に配列されたことを特徴とする請求項１２に記載の薄膜蒸着用マスク・アセンブリ。
【請求項１４】
相対的に発光効率が高い素材からなる少なくともいずれか１つの第１有機膜パターンないし第３有機膜パターンを形成させるための有機膜原素材の蒸着される通路を提供するスリットの間隔に対して、相対的に発光効率が低い素材からなる残りの有機膜パターンを形成させるための有機膜原素材の通路を提供するスリットの間隔が、さらに大きく形成されたことを特徴とする請求項１１に記載の薄膜蒸着用マスク・アセンブリ。
【請求項１５】
１つの画素を構成するストライプ型の第２有機膜パターンを形成させるためのスリットの間隔に対して、ストライプ型の第１有機膜パターンを形成させるためのスリットの間隔及びドット型の有機膜パターンを形成させるためのスリットの間隔が、さらに大きく形成されたことを特徴とする請求項１１に記載の薄膜蒸着用アセンブリ。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７Ａ】
【図７Ｂ】
【図７Ｃ】
【図８】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７Ａ】
【図７Ｂ】
【図７Ｃ】
【図８】
【公開番号】特開２０１１−１９８７６１（Ｐ２０１１−１９８７６１Ａ）
【公開日】平成２３年１０月６日（２０１１．１０．６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−６０５２６（Ｐ２０１１−６０５２６）
【出願日】平成２３年３月１８日（２０１１．３．１８）
【出願人】（３０８０４０３５１）三星モバイルディスプレイ株式會社 (764)
【氏名又は名称原語表記】Ｓａｍｓｕｎｇ Ｍｏｂｉｌｅ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｃｏ．， Ｌｔｄ．
【住所又は居所原語表記】Ｓａｎ ＃２４ Ｎｏｎｇｓｅｏ−Ｄｏｎｇ，Ｇｉｈｅｕｎｇ−Ｇｕ，Ｙｏｎｇｉｎ−Ｃｉｔｙ，Ｇｙｅｏｎｇｇｉ−Ｄｏ ４４６−７１１ Ｒｅｐｕｂｌｉｃ ｏｆ ＫＯＲＥＡ
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年１０月６日（２０１１．１０．６）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年３月１８日（２０１１．３．１８）
【出願人】（３０８０４０３５１）三星モバイルディスプレイ株式會社 (764)
【氏名又は名称原語表記】Ｓａｍｓｕｎｇ Ｍｏｂｉｌｅ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｃｏ．， Ｌｔｄ．
【住所又は居所原語表記】Ｓａｎ ＃２４ Ｎｏｎｇｓｅｏ−Ｄｏｎｇ，Ｇｉｈｅｕｎｇ−Ｇｕ，Ｙｏｎｇｉｎ−Ｃｉｔｙ，Ｇｙｅｏｎｇｇｉ−Ｄｏ ４４６−７１１ Ｒｅｐｕｂｌｉｃ ｏｆ ＫＯＲＥＡ
【Ｆターム（参考）】
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