転写箔、転写媒体および転写箔の製造方法
【課題】偽造防止媒体を剥離し、その偽造防止媒体を偽造品に貼り付けて使用する偽造を防止するために、転写箔が埋め込まれて転写されている外観とすることにより、剥離行為を防止できる転写箔を提供する。
【解決手段】接着層１５と、接着層上に回折構造形成層１３と、回折構造形成層の回折構造側に設けられた反射層１４とを備えた転写箔であって、回折構造形成層上の回折構造側と対峙する側に、転写箔の形状輪郭に沿って反射低減構造２が設けられ、前記反射低減構造が、頂点間隔が２０５０〜４００ｎｍでアスペクト比が０．２５以上の微細凹凸構造からなることを特徴とする転写箔。
【解決手段】接着層１５と、接着層上に回折構造形成層１３と、回折構造形成層の回折構造側に設けられた反射層１４とを備えた転写箔であって、回折構造形成層上の回折構造側と対峙する側に、転写箔の形状輪郭に沿って反射低減構造２が設けられ、前記反射低減構造が、頂点間隔が２０５０〜４００ｎｍでアスペクト比が０．２５以上の微細凹凸構造からなることを特徴とする転写箔。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、セキュリティを必要とする媒体に転写される、回折格子に代表されるＯＶＤ（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｖａｒｉａｂｌｅ Ｄｅｖｉｃｅ）を有する転写箔と、その製造方法に関するものであり、特に物品から偽造防止媒体を不正に剥離して偽造品に貼付されることを防止するための、転写箔および転写箔の製造方法関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、粗悪な偽造品被害が大きな社会問題となっている。そこで偽造防止対策として、真正品であることを判定するためのラベル等の偽造防止媒体を物品に設けることにより、本物と偽物を区別できるようにする手段がある。この偽造防止媒体としては、偽造防止用機能性インキ、特殊印刷、ホログラム、磁気記録、ＩＣタグ等、多くの偽造防止手段が採用されている。しかし、これら偽造防止策手段が物品に貼付されているとしても、偽造防止ラベルを真正品から剥がし取り、偽造品に貼りつけるといった不正行為が頻繁に行われてしまっている。
【０００３】
このようなことから、偽造防止ラベルの再貼り付け防止を目的とする方法が考えられている。例えば、偽造防止ラベルに切り欠きを設け、無理に剥がそうとすると、切り欠きがきっかけとなり偽造防止ラベルが裂けてしまう方法や、偽造防止ラベルの基材を脆性材料にする方法、もしくはラベルを剥がそうとすると表面基材に“ＶＯＩＤ”等の文字が現れ、物品にインキが付着するパターン脆性タイプのもの等がある。
【０００４】
しかしながら、これらの方法では、ラベル剥がし液等の有機溶剤を染みこませ、そっと偽造防止ラベルを剥がせば、ラベルが損傷しないため再使用が可能となってしまう。
【０００５】
さらに、有機溶剤による剥離を防止するために、有機溶剤溶解染料が含有されていて、ラベル剥がし液等で剥がそうとした時、前記染料が印刷部よりにじみ出すことで再貼り付けを防止する方法がある（特許文献１）。
【０００６】
また、ラベルの粘着層中に発泡粒子を含有することで、ドライヤー等でラベルを温めた場合、粘着層中の発泡粒子が発泡することで、再貼り付けを防止する方法がある（特許文献２）。
【０００７】
さらにラベルの粘着剤を難溶性にすることで再貼り付けを防止する方法がある（特許文献３）。
【０００８】
しかしながら、有機溶剤溶解染料を用いる方法では、ドライヤー等で偽造防止ラベルの表面を温めることによりきれいに剥がれる。また発泡粒子を含有させ、粘着剤を難溶性とする方法を用いても、偽造防止ラベルを貼付している物品の表層ごと削ぎ落とすことで、偽造防止ラベルに損傷を与えず再利用が可能となる。この場合、物品自身が損傷するが、物品が装置の消耗品である場合、消耗品等を使い終わった後に行うのならば、一部が損傷しても関係がないため、深刻な問題となってしまう。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開平１０−２０４３６３号公報
【特許文献２】特開２０００−２９３１０８号公報
【特許文献３】特開２００５―２６６１４７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、前記偽造防止技術の問題点に鑑みてなされた発明であり、偽造防止媒体を剥離し、その偽造防止媒体を偽造品に貼り付けて使用する偽造を防止するために、転写箔が埋め込まれて転写されている外観とすることにより、剥離行為を防止する転写箔を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記の課題を解決するための手段として、請求項１に記載の発明は、接着層と、接着層上に回折構造形成層と、回折構造形成層の回折構造側に設けられた反射層とを備えた転写箔であって、回折構造形成層上の回折構造側と対峙する側に、転写箔の形状輪郭に沿って反射低減構造が設けられ、前記反射低減構造が、頂点間隔が２００〜４００ｎｍでアスペクト比が０．２５以上の微細凹凸構造からなることを特徴とする転写箔である。
【００１２】
また、請求項２に記載の発明は、接着層と、接着層上に回折構造形成層と、回折構造形成層の回折構造側に設けられた反射層とを備えた転写箔であって、回折構造形成層上の回折構造側と対峙する側に、転写箔の形状輪郭に沿った領域と、形状輪郭に沿った領域以外の領域に文字や模様状に反射低減構造が設けられ、前記反射低減構造が、頂点間隔が２５０〜４００ｎｍでアスペクト比が０．２５以上の微細凹凸構造からなることを特徴とする転写箔である。
【００１３】
また、請求項３に記載の発明は、請求項１または請求項２に記載の転写箔を転写したことを特徴とする転写媒体である。
【００１４】
また、請求項４に記載の発明は、基材上に反射率低減構造形成層を設け、前記反射率低減構造形成層の表面に転写箔の形状輪郭に沿って、微細凹凸構造からなる反射率低減構造を形成し、続いて回折構造形成層を積層して、前記回折構造形成層に回折構造を形成し、さらに反射層、接着層を順次積層する、反射率低減構造形成層と回折構造形成層との界面にて剥離する転写箔の製造方法であって、反射率低減構造形成層に設けられる微細凹凸構造を、頂点間隔が２００〜４００ｎｍでアスペクト比が０．２５以上の微細凹凸構造を持つスタンパーを作製し、前記スタンパーの微細凹凸構造を転写させて形成することを特徴とする転写箔の製造方法である。
【００１５】
また、請求項５に記載の発明は、基材上に反射率低減構造形成層を設け、前記反射率低減構造形成層の表面に転写箔の形状輪郭に沿った領域と、形状輪郭に沿った領域以外の領域に文字や模様状に、微細凹凸構造からなる反射率低減構造を形成し、続いて回折構造形成層を積層して、前記回折構造形成層に回折構造を形成し、さらに反射層、接着層を順次積層する、反射率低減構造形成層と回折構造形成層との界面にて剥離する転写箔の製造方法であって、反射率低減構造形成層に設けられる微細凹凸構造を、頂点間隔が２５０〜４００ｎｍでアスペクト比が０．２５以上の微細凹凸構造を持つスタンパーを作製し、前記スタンパーの微細凹凸構造を転写させて形成することを特徴とする転写箔の製造方法である。
【発明の効果】
【００１６】
転写箔の形状輪郭に沿って反射低減構造が設けられることにより、転写箔の端部境界線が目立たなくなり、埋め込まれたような外観となるため、物品から転写箔を不正に剥離して偽造品に貼付される不正を防止でき、セキュリティ性の向上が図れる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の、転写箔の形状輪郭に沿って反射低減構造が設けられ転写箔を正面から見た時の概念図である。
【図２】本発明の、転写箔の形状輪郭に沿った領域と、形状輪郭に沿った領域以外の領域に文字や模様状に反射低減構造が設けられ転写箔を正面から見た時の概念図である。
【図３】本発明の転写箔の形状輪郭に沿って反射低減構造が設けられ転写箔を断面図を示した概念図である。
【図４】本発明の転写箔の形状輪郭に沿って反射低減構造が設けられ転写箔を被転写物に転写した状態を示した断面概念図である。
【図５】本発明の転写箔の形状輪郭に沿って反射低減構造が設けられ転写箔の製造方法において、支持体上の反射率低減構造形成層に、スタンパーに形成された反射率低減構造部を転写箔の形状輪郭に沿って転写する工程を示した概念図である。
【図６】本発明の転写箔の形状輪郭に沿って反射低減構造が設けられ転写箔の製造方法において、支持体上の反射率低減構造形成層に、スタンパーに形成された反射率低減構造部を光照射により形成する工程を示した概念図である。
【図７】本発明の転写箔の製造方法において転写箔の形状輪郭に沿って反射率低減構造部が成形された状態を示した概念図である。
【図８】本発明の非反射率低減構造部を転写箔の形状輪郭に沿った領域と、形状輪郭に沿った領域以外の領域に文字や模様状に設けた転写箔の製造方法において、支持体上の反射率低減構造形成層に、スタンパーに形成された反射率低減構造部を熱プレスにより形成する工程を示した概念図である。
【図９】本発明の非反射率低減構造部を転写箔の形状輪郭に沿った領域と、形状輪郭に沿った領域以外の領域に文字や模様状に設けた転写箔の製造方法において、支持体上の反射率低減構造形成層に、スタンパーに形成された反射率低減構造部を光照射により形成する工程を示した概念図である。
【図１０】本発明の非反射率低減構造部を転写箔の形状輪郭に沿った領域と、形状輪郭に沿った領域以外の領域に文字や模様状に設けた転写箔の製造方法において反射率低減構造部が成形された状態を示した概念図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下本発明を実施するための形態を、図面を用いて詳細に説明する。図1は本発明の被転写物１６に転写された転写箔1を示しており、転写箔の形状輪郭に沿って非反射率低減構造部が設けられているため、転写箔の端部境界線が目立たなくなり、埋め込まれたような外観となった状態を示している。
【００１９】
図２は反射部４及び回折構造部３の上に形成される反射率低減構造部２を転写箔の形状輪郭に沿った領域と、形状輪郭に沿った領域以外の領域に設け、形状輪郭に沿った領域以外の領域には、文字パターン「ＴＯＰ」を設けた状態を示しており、傾けると、反射光の強度の違いでパターンが出現する状態を示している。文字パターン「ＴＯＰ」の部分にだけ反射率低減構造部２が形成されており、角度によって「ＴＯＰ」文字パターンが観察できる。
【００２０】
図３は本発明の転写箔１の断面図を示した概念図であり、支持体１１上に反射率低減構造形成層１２が積層されており、低減構造形成層１２表面には反射率低減構造部２が転写箔の形状輪郭に沿って形成され、その上に回折構造形成層１３が積層され、回折構造形成層１３の表面には回折構造部３が形成され、回折構造部３の表面には反射層１４が設けられ、更に接着層１５が積層されている。
【００２１】
図４は本発明の転写箔１を被転写物１６に転写した状態を示した断面概念図であり、転写時には反射率低減構造形成層１２と回折構造形成層１３の界面から剥離し、転写された箔の表面には反射率低減構造部２が転写箔の形状輪郭に沿って形成されている。
【００２２】
図５、図６、図７は、本発明の転写箔１の表面に形成される反射率低減構造部２の成形方法を示しており、支持体１１上に積層された反射率低減構造形成層１２と表面に反射率低減構造部２を形成したスタンパー２１とを重ね合わせ、透明固定冶具２３にセットし、硬化光２２を照射することにより、反射率低減構造形成層１２表面に反射率低減構造部２を転写箔の形状輪郭に沿って形成する工程を示している。
【００２３】
図８、図９、図１０は、本発明の反射率低減構造部２を転写箔の形状輪郭に沿った領域と、転写箔の形状輪郭に沿った領域以外の領域には、パターン状に反射率低減構造部２を設ける転写箔の製造方法を示しており、支持体１１上に積層された反射率低減構造形成層１２と表面に反射率低減構造部２と非反射率低減構造部５とを形成したスタンパー２１とを重ね合わせ、透明固定冶具２３にセットし、硬化光２２を照射することにより、反射率低減構造形成層１２表面に反射率低減構造部２を形成する工程を示している。
【００２４】
形成された反射率低減構造部２を持つ反射率低減構造形成層１２上に、さらに回折構造形成層１３を積層し、回折構造形成層１３表面にホログラムや回折格子といった回折構造部３を形成したスタンパーを用い、熱プレスにより転写成形する。
【００２５】
更に回折構造形成層１３表面の回折構造部３の表面に反射層１４として、金属や金属酸化物を真空の抵抗加熱方式やＥＢ加熱方式により薄膜形成し、更にその上に接着層１５を設け転写箔を製造する。接着層１５として粘着剤を用いる場合には剥離紙を貼り合わせる必要がある。
【００２６】
製造された転写箔１は、被転写物１６に転写して使用されるが、転写後、支持体１１を剥がすと、反射率低減構造形成層１２と回折構造形成層１３の界面~剥がれ、転写箔１の表面の反射率低減構造部２が現れる。
【００２７】
本発明における反射低減構造部２の構造としては、頂点間隔が２００〜４００ｎｍ、アスペクト比が０．２５以上の凹凸構造にある。原理的には、頂点間隔が２００〜４００ｎｍと可視光波長よりも小さいスケールなので凹凸による可視光波長域（４００ｎｍから７００ｎｍ）で光の干渉による強め合いがないこと、アスペクト比が０．２５以上という、凹凸構造の深さ方向の規定により散乱・反射が抑制され、散乱も小さくなるためであり、照射光の入射角に拘わらず、法線方向へ回折光を射出するのを防ぐことができる。また頂点間隔が小さすぎると、アスペクト比を維持した場合でも深さが浅くなってしまうため、反射が増加してしまう。このため頂点間隔は２００ｎｍ以上が好ましい。
【００２８】
凹凸構造における凹部または凸部の配置パターンは、マトリックス状、ハニカム状に限定されるものではなく、矩形格子等の別の周期性を伴う配置パターン、あるいはランダムな凸部パターンであつても良い。少なくとも回折構造形成層の表面に２次元的に反射率低減構造部２が形成されていれば良い。
【００２９】
図７で示した全面に反射低減構造部２を形成した転写箔１では、転写箔１の形状輪郭に沿った領域の表面の反射が低減され、転写箔の端部境界線が目立たなくなり、埋め込まれたような外観となる。図１０で示したパターン状に反射低減構造部２を形成した箔では、形状輪郭に沿った領域以外の領域に、パターン状に反射低減構造部２が設けられ、見る角度により回折光以外の光がパターン状に確認できるため偽造防止効果を高めることになる。
【００３０】
本発明を構成する支持体１１、反射率低減構造形成層１２、回折構造形成層１３、反射層１４、接着層１５に使用する材料に関して説明する。
【００３１】
基材１としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）及びポリカーボネート（ＰＣ）などの樹脂からなるフィルム又はシートであり、反射率低減構造形成層１２を硬化させるために、透明であることが必要である。
【００３２】
反射率低減構造形成層１２には光硬化性樹脂等が使用できる。例えば、エポキシ（メタ）アクリル、ウレタン（メタ）アクリレート等が使用できる。
【００３３】
回折構造形成層１３には熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、が使用できる。例えば、熱可塑性樹脂では、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、セルロース系樹脂、ビニル系樹脂等があげられる。
【００３４】
また、反応性水酸基を有するアクリルポリオールやポリエステルポリオール等にポリイソシアネートを架橋剤として添加して架橋させたウレタン樹脂、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂等が使用できる。その厚さとしては０．５〜５．０μｍが好ましい。
【００３５】
反射層１４にはアルミニウム、金、銀、銅、Ｓｎ（スズ）及びこれらの金属を含む合金や金属の酸化物、硫化物を使用することができ、厚みとしては１００Å〜１０００Åが好ましい。
【００３６】
反射層１４のパターン化はマスクを用いパターン状に蒸着して形成し、回折構造形成部５上に蒸着層１４を設け、更にその上に透明な樹脂塗液をパターン状にレジストとして設け、乾燥後エッチング液にて、露出した蒸着膜からなる反射層１４を除去してパターンを形成することもできる。反射層１４としてアルミ蒸着膜を用いる場合には、水酸化ナトリウム水溶液をエッチング液として用いることが知られている。
【００３７】
接着層１５は、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ゴム系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂、塩化ビニル酢酸共重合樹脂等の熱可塑性樹脂が使用できる。膜厚は１〜２０μｍが好ましい。
【００３８】
頂点間隔が２５００〜４００ｎｍ、アスペクト比が０．２５以上の凹凸構造は、ガラス基板上に塗布されたＥＢ樹脂に電子ビーム描画して、凹凸構造を得るのが一般的である。形成された凹凸構造上に金や銀の薄膜を形成し、その上に金属めっきを行うことにより、スタンパー２１を形成する。
【００３９】
作製したスタンパーを２１そのまま用いて、反射率低減構造形成層１２に加熱加圧を行い、基材側から紫外線あるいは電子線を照射して硬化させ表面の反射率低減構造部２を転写成形しても良いが、一般的にはスタンパー２１は複製して用いられている。
【００４０】
また回折構造部３も同様の方法で形成でき、回折構造形成層１３に回折構造部３を持つスタンパー１３を用い回折構造部３に加熱加圧を行い転写形成する。
【００４１】
作製した転写箔１を被転写物１６に貼付け、基材１を剥がすと、反射率低減構造形成層１２と回折構造形成層１３との界面にて剥離し、転写箔１は表面に反射率低減構造部２を持った回折構造形成層１３となる。
【実施例】
【００４２】
以下実施例により詳細に説明する。厚さ２５μｍの透明なポリエチレンテレフタレートフィルムからなる支持体１１の片面に、反射率低減構造形成層１２として下記の配合比からなる組成物をグラビア印刷法により、塗布厚３μｍ、乾燥温度１１０℃で塗布し形成し
た。
＜反射率低減構造形成層＞
不飽和基含有ウレタン樹脂 １００部
光重合開始剤（チバスペシャリティケミカルズ社製イルガキュア１８４） １．５部
離型剤（ビックケミー社製アクリルシリコーンＢＹＫ−３７００） ３部
溶剤（メチルエチルケトン） ４００部
その後、頂点間隔３５０ｎｍ、アスペクト比０．５の微細凹凸構造を転写箔１の形状輪郭に沿った領域とパターン状に有するニッケルスタンパー（母型）と、前記フィルムを線圧５００Ｎ／ｃｍ、１３０℃で加熱圧接し、その状態で、支持体側からメタルハライドランプを使用して２００ｍＪ／ｃｍ２の光量を照射して硬化させた。そして、このエンボス加工したフィルムをニッケルスタンパー（母型）から剥離して、反射率低減構造が形成されたエンボス加工フィルムを得た。さらに表面硬度をあげるため、エンボス加工面から窒素雰囲気下、高圧水銀灯で３００ｍＪ／ｃｍ２の光量を追加露光した。
【００４３】
回折構造形成層として、下記の配合比からなる組成物を、グラビア印刷法によって、塗布厚２μｍ、乾燥温度１１０℃で塗布した。
＜回折構造形成層＞
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体とウレタン樹脂の混合物 ２５部
溶剤
（メチルエチルケトン） ７０部
（トルエン） ３０部
その後、頂点間隔０．０５ｍｍ、アスペクト比０．１の回折構造を有するニッケルスタンパー（母型）と、前記フィルムを線圧５００Ｎ／ｃｍ、１８０℃で加熱圧接し硬化させた。そして、このエンボス加工したフィルムをニッケルスタンパー（母型）から剥離して、回折構造が形成されたエンボス加工フィルムを得た。
【００４４】
成形された回折構造上に反射層１４として金属薄膜であるＡｌ薄膜を、真空蒸着法にて膜厚８０ｎｍを全面に設け、その後、前記回折構造の形成部分に位置整合させてパターンマスクを一時的に設けた後、アルカリ処理によって、パターンマスクが設けられていない部分の金属反射層を除去した。
【００４５】
次に接着層として、下記の配合比からなる組成物をグラビア印刷法によって、塗布厚４．０μｍ、乾燥温度１１０℃で塗布した。
＜接着層＞
ポリエステル樹脂 ３０部
溶剤
（トルエン） ４０部
（メチルエチルケトン） ４０部
以上のようにして作製した転写箔を、被転写媒体（紙）に転写し、偽造防止物品とし、作製した偽造防止物品を目視観察した。従来の回折構造付転写箔に比べ、本発明による回折構造付き転写箔は転写箔の端部境界線が目立たなくなり、埋め込まれたような外観となった。また転写箔１の形状輪郭に沿った領域以外の部分には、箔表面の反射光量による潜像が付与されており、偽造防止効果が高まった。
【符号の説明】
【００４６】
１・・・転写箔
２・・・反射率低減構造部
３・・・回折構造部
４・・・反射部
５・・・非反射率低減構造部
１１・・・支持体
１２・・・反射率低減構造形成層
１３・・・回折構造形成層
１４・・・反射層
１５・・・接着層
１６・・・被転写物
２１・・・スタンパー
２２・・・硬化光
２３・・・透明固定治具
【技術分野】
【０００１】
本発明は、セキュリティを必要とする媒体に転写される、回折格子に代表されるＯＶＤ（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｖａｒｉａｂｌｅ Ｄｅｖｉｃｅ）を有する転写箔と、その製造方法に関するものであり、特に物品から偽造防止媒体を不正に剥離して偽造品に貼付されることを防止するための、転写箔および転写箔の製造方法関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、粗悪な偽造品被害が大きな社会問題となっている。そこで偽造防止対策として、真正品であることを判定するためのラベル等の偽造防止媒体を物品に設けることにより、本物と偽物を区別できるようにする手段がある。この偽造防止媒体としては、偽造防止用機能性インキ、特殊印刷、ホログラム、磁気記録、ＩＣタグ等、多くの偽造防止手段が採用されている。しかし、これら偽造防止策手段が物品に貼付されているとしても、偽造防止ラベルを真正品から剥がし取り、偽造品に貼りつけるといった不正行為が頻繁に行われてしまっている。
【０００３】
このようなことから、偽造防止ラベルの再貼り付け防止を目的とする方法が考えられている。例えば、偽造防止ラベルに切り欠きを設け、無理に剥がそうとすると、切り欠きがきっかけとなり偽造防止ラベルが裂けてしまう方法や、偽造防止ラベルの基材を脆性材料にする方法、もしくはラベルを剥がそうとすると表面基材に“ＶＯＩＤ”等の文字が現れ、物品にインキが付着するパターン脆性タイプのもの等がある。
【０００４】
しかしながら、これらの方法では、ラベル剥がし液等の有機溶剤を染みこませ、そっと偽造防止ラベルを剥がせば、ラベルが損傷しないため再使用が可能となってしまう。
【０００５】
さらに、有機溶剤による剥離を防止するために、有機溶剤溶解染料が含有されていて、ラベル剥がし液等で剥がそうとした時、前記染料が印刷部よりにじみ出すことで再貼り付けを防止する方法がある（特許文献１）。
【０００６】
また、ラベルの粘着層中に発泡粒子を含有することで、ドライヤー等でラベルを温めた場合、粘着層中の発泡粒子が発泡することで、再貼り付けを防止する方法がある（特許文献２）。
【０００７】
さらにラベルの粘着剤を難溶性にすることで再貼り付けを防止する方法がある（特許文献３）。
【０００８】
しかしながら、有機溶剤溶解染料を用いる方法では、ドライヤー等で偽造防止ラベルの表面を温めることによりきれいに剥がれる。また発泡粒子を含有させ、粘着剤を難溶性とする方法を用いても、偽造防止ラベルを貼付している物品の表層ごと削ぎ落とすことで、偽造防止ラベルに損傷を与えず再利用が可能となる。この場合、物品自身が損傷するが、物品が装置の消耗品である場合、消耗品等を使い終わった後に行うのならば、一部が損傷しても関係がないため、深刻な問題となってしまう。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開平１０−２０４３６３号公報
【特許文献２】特開２０００−２９３１０８号公報
【特許文献３】特開２００５―２６６１４７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、前記偽造防止技術の問題点に鑑みてなされた発明であり、偽造防止媒体を剥離し、その偽造防止媒体を偽造品に貼り付けて使用する偽造を防止するために、転写箔が埋め込まれて転写されている外観とすることにより、剥離行為を防止する転写箔を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記の課題を解決するための手段として、請求項１に記載の発明は、接着層と、接着層上に回折構造形成層と、回折構造形成層の回折構造側に設けられた反射層とを備えた転写箔であって、回折構造形成層上の回折構造側と対峙する側に、転写箔の形状輪郭に沿って反射低減構造が設けられ、前記反射低減構造が、頂点間隔が２００〜４００ｎｍでアスペクト比が０．２５以上の微細凹凸構造からなることを特徴とする転写箔である。
【００１２】
また、請求項２に記載の発明は、接着層と、接着層上に回折構造形成層と、回折構造形成層の回折構造側に設けられた反射層とを備えた転写箔であって、回折構造形成層上の回折構造側と対峙する側に、転写箔の形状輪郭に沿った領域と、形状輪郭に沿った領域以外の領域に文字や模様状に反射低減構造が設けられ、前記反射低減構造が、頂点間隔が２５０〜４００ｎｍでアスペクト比が０．２５以上の微細凹凸構造からなることを特徴とする転写箔である。
【００１３】
また、請求項３に記載の発明は、請求項１または請求項２に記載の転写箔を転写したことを特徴とする転写媒体である。
【００１４】
また、請求項４に記載の発明は、基材上に反射率低減構造形成層を設け、前記反射率低減構造形成層の表面に転写箔の形状輪郭に沿って、微細凹凸構造からなる反射率低減構造を形成し、続いて回折構造形成層を積層して、前記回折構造形成層に回折構造を形成し、さらに反射層、接着層を順次積層する、反射率低減構造形成層と回折構造形成層との界面にて剥離する転写箔の製造方法であって、反射率低減構造形成層に設けられる微細凹凸構造を、頂点間隔が２００〜４００ｎｍでアスペクト比が０．２５以上の微細凹凸構造を持つスタンパーを作製し、前記スタンパーの微細凹凸構造を転写させて形成することを特徴とする転写箔の製造方法である。
【００１５】
また、請求項５に記載の発明は、基材上に反射率低減構造形成層を設け、前記反射率低減構造形成層の表面に転写箔の形状輪郭に沿った領域と、形状輪郭に沿った領域以外の領域に文字や模様状に、微細凹凸構造からなる反射率低減構造を形成し、続いて回折構造形成層を積層して、前記回折構造形成層に回折構造を形成し、さらに反射層、接着層を順次積層する、反射率低減構造形成層と回折構造形成層との界面にて剥離する転写箔の製造方法であって、反射率低減構造形成層に設けられる微細凹凸構造を、頂点間隔が２５０〜４００ｎｍでアスペクト比が０．２５以上の微細凹凸構造を持つスタンパーを作製し、前記スタンパーの微細凹凸構造を転写させて形成することを特徴とする転写箔の製造方法である。
【発明の効果】
【００１６】
転写箔の形状輪郭に沿って反射低減構造が設けられることにより、転写箔の端部境界線が目立たなくなり、埋め込まれたような外観となるため、物品から転写箔を不正に剥離して偽造品に貼付される不正を防止でき、セキュリティ性の向上が図れる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の、転写箔の形状輪郭に沿って反射低減構造が設けられ転写箔を正面から見た時の概念図である。
【図２】本発明の、転写箔の形状輪郭に沿った領域と、形状輪郭に沿った領域以外の領域に文字や模様状に反射低減構造が設けられ転写箔を正面から見た時の概念図である。
【図３】本発明の転写箔の形状輪郭に沿って反射低減構造が設けられ転写箔を断面図を示した概念図である。
【図４】本発明の転写箔の形状輪郭に沿って反射低減構造が設けられ転写箔を被転写物に転写した状態を示した断面概念図である。
【図５】本発明の転写箔の形状輪郭に沿って反射低減構造が設けられ転写箔の製造方法において、支持体上の反射率低減構造形成層に、スタンパーに形成された反射率低減構造部を転写箔の形状輪郭に沿って転写する工程を示した概念図である。
【図６】本発明の転写箔の形状輪郭に沿って反射低減構造が設けられ転写箔の製造方法において、支持体上の反射率低減構造形成層に、スタンパーに形成された反射率低減構造部を光照射により形成する工程を示した概念図である。
【図７】本発明の転写箔の製造方法において転写箔の形状輪郭に沿って反射率低減構造部が成形された状態を示した概念図である。
【図８】本発明の非反射率低減構造部を転写箔の形状輪郭に沿った領域と、形状輪郭に沿った領域以外の領域に文字や模様状に設けた転写箔の製造方法において、支持体上の反射率低減構造形成層に、スタンパーに形成された反射率低減構造部を熱プレスにより形成する工程を示した概念図である。
【図９】本発明の非反射率低減構造部を転写箔の形状輪郭に沿った領域と、形状輪郭に沿った領域以外の領域に文字や模様状に設けた転写箔の製造方法において、支持体上の反射率低減構造形成層に、スタンパーに形成された反射率低減構造部を光照射により形成する工程を示した概念図である。
【図１０】本発明の非反射率低減構造部を転写箔の形状輪郭に沿った領域と、形状輪郭に沿った領域以外の領域に文字や模様状に設けた転写箔の製造方法において反射率低減構造部が成形された状態を示した概念図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下本発明を実施するための形態を、図面を用いて詳細に説明する。図1は本発明の被転写物１６に転写された転写箔1を示しており、転写箔の形状輪郭に沿って非反射率低減構造部が設けられているため、転写箔の端部境界線が目立たなくなり、埋め込まれたような外観となった状態を示している。
【００１９】
図２は反射部４及び回折構造部３の上に形成される反射率低減構造部２を転写箔の形状輪郭に沿った領域と、形状輪郭に沿った領域以外の領域に設け、形状輪郭に沿った領域以外の領域には、文字パターン「ＴＯＰ」を設けた状態を示しており、傾けると、反射光の強度の違いでパターンが出現する状態を示している。文字パターン「ＴＯＰ」の部分にだけ反射率低減構造部２が形成されており、角度によって「ＴＯＰ」文字パターンが観察できる。
【００２０】
図３は本発明の転写箔１の断面図を示した概念図であり、支持体１１上に反射率低減構造形成層１２が積層されており、低減構造形成層１２表面には反射率低減構造部２が転写箔の形状輪郭に沿って形成され、その上に回折構造形成層１３が積層され、回折構造形成層１３の表面には回折構造部３が形成され、回折構造部３の表面には反射層１４が設けられ、更に接着層１５が積層されている。
【００２１】
図４は本発明の転写箔１を被転写物１６に転写した状態を示した断面概念図であり、転写時には反射率低減構造形成層１２と回折構造形成層１３の界面から剥離し、転写された箔の表面には反射率低減構造部２が転写箔の形状輪郭に沿って形成されている。
【００２２】
図５、図６、図７は、本発明の転写箔１の表面に形成される反射率低減構造部２の成形方法を示しており、支持体１１上に積層された反射率低減構造形成層１２と表面に反射率低減構造部２を形成したスタンパー２１とを重ね合わせ、透明固定冶具２３にセットし、硬化光２２を照射することにより、反射率低減構造形成層１２表面に反射率低減構造部２を転写箔の形状輪郭に沿って形成する工程を示している。
【００２３】
図８、図９、図１０は、本発明の反射率低減構造部２を転写箔の形状輪郭に沿った領域と、転写箔の形状輪郭に沿った領域以外の領域には、パターン状に反射率低減構造部２を設ける転写箔の製造方法を示しており、支持体１１上に積層された反射率低減構造形成層１２と表面に反射率低減構造部２と非反射率低減構造部５とを形成したスタンパー２１とを重ね合わせ、透明固定冶具２３にセットし、硬化光２２を照射することにより、反射率低減構造形成層１２表面に反射率低減構造部２を形成する工程を示している。
【００２４】
形成された反射率低減構造部２を持つ反射率低減構造形成層１２上に、さらに回折構造形成層１３を積層し、回折構造形成層１３表面にホログラムや回折格子といった回折構造部３を形成したスタンパーを用い、熱プレスにより転写成形する。
【００２５】
更に回折構造形成層１３表面の回折構造部３の表面に反射層１４として、金属や金属酸化物を真空の抵抗加熱方式やＥＢ加熱方式により薄膜形成し、更にその上に接着層１５を設け転写箔を製造する。接着層１５として粘着剤を用いる場合には剥離紙を貼り合わせる必要がある。
【００２６】
製造された転写箔１は、被転写物１６に転写して使用されるが、転写後、支持体１１を剥がすと、反射率低減構造形成層１２と回折構造形成層１３の界面~剥がれ、転写箔１の表面の反射率低減構造部２が現れる。
【００２７】
本発明における反射低減構造部２の構造としては、頂点間隔が２００〜４００ｎｍ、アスペクト比が０．２５以上の凹凸構造にある。原理的には、頂点間隔が２００〜４００ｎｍと可視光波長よりも小さいスケールなので凹凸による可視光波長域（４００ｎｍから７００ｎｍ）で光の干渉による強め合いがないこと、アスペクト比が０．２５以上という、凹凸構造の深さ方向の規定により散乱・反射が抑制され、散乱も小さくなるためであり、照射光の入射角に拘わらず、法線方向へ回折光を射出するのを防ぐことができる。また頂点間隔が小さすぎると、アスペクト比を維持した場合でも深さが浅くなってしまうため、反射が増加してしまう。このため頂点間隔は２００ｎｍ以上が好ましい。
【００２８】
凹凸構造における凹部または凸部の配置パターンは、マトリックス状、ハニカム状に限定されるものではなく、矩形格子等の別の周期性を伴う配置パターン、あるいはランダムな凸部パターンであつても良い。少なくとも回折構造形成層の表面に２次元的に反射率低減構造部２が形成されていれば良い。
【００２９】
図７で示した全面に反射低減構造部２を形成した転写箔１では、転写箔１の形状輪郭に沿った領域の表面の反射が低減され、転写箔の端部境界線が目立たなくなり、埋め込まれたような外観となる。図１０で示したパターン状に反射低減構造部２を形成した箔では、形状輪郭に沿った領域以外の領域に、パターン状に反射低減構造部２が設けられ、見る角度により回折光以外の光がパターン状に確認できるため偽造防止効果を高めることになる。
【００３０】
本発明を構成する支持体１１、反射率低減構造形成層１２、回折構造形成層１３、反射層１４、接着層１５に使用する材料に関して説明する。
【００３１】
基材１としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）及びポリカーボネート（ＰＣ）などの樹脂からなるフィルム又はシートであり、反射率低減構造形成層１２を硬化させるために、透明であることが必要である。
【００３２】
反射率低減構造形成層１２には光硬化性樹脂等が使用できる。例えば、エポキシ（メタ）アクリル、ウレタン（メタ）アクリレート等が使用できる。
【００３３】
回折構造形成層１３には熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、が使用できる。例えば、熱可塑性樹脂では、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、セルロース系樹脂、ビニル系樹脂等があげられる。
【００３４】
また、反応性水酸基を有するアクリルポリオールやポリエステルポリオール等にポリイソシアネートを架橋剤として添加して架橋させたウレタン樹脂、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂等が使用できる。その厚さとしては０．５〜５．０μｍが好ましい。
【００３５】
反射層１４にはアルミニウム、金、銀、銅、Ｓｎ（スズ）及びこれらの金属を含む合金や金属の酸化物、硫化物を使用することができ、厚みとしては１００Å〜１０００Åが好ましい。
【００３６】
反射層１４のパターン化はマスクを用いパターン状に蒸着して形成し、回折構造形成部５上に蒸着層１４を設け、更にその上に透明な樹脂塗液をパターン状にレジストとして設け、乾燥後エッチング液にて、露出した蒸着膜からなる反射層１４を除去してパターンを形成することもできる。反射層１４としてアルミ蒸着膜を用いる場合には、水酸化ナトリウム水溶液をエッチング液として用いることが知られている。
【００３７】
接着層１５は、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ゴム系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂、塩化ビニル酢酸共重合樹脂等の熱可塑性樹脂が使用できる。膜厚は１〜２０μｍが好ましい。
【００３８】
頂点間隔が２５００〜４００ｎｍ、アスペクト比が０．２５以上の凹凸構造は、ガラス基板上に塗布されたＥＢ樹脂に電子ビーム描画して、凹凸構造を得るのが一般的である。形成された凹凸構造上に金や銀の薄膜を形成し、その上に金属めっきを行うことにより、スタンパー２１を形成する。
【００３９】
作製したスタンパーを２１そのまま用いて、反射率低減構造形成層１２に加熱加圧を行い、基材側から紫外線あるいは電子線を照射して硬化させ表面の反射率低減構造部２を転写成形しても良いが、一般的にはスタンパー２１は複製して用いられている。
【００４０】
また回折構造部３も同様の方法で形成でき、回折構造形成層１３に回折構造部３を持つスタンパー１３を用い回折構造部３に加熱加圧を行い転写形成する。
【００４１】
作製した転写箔１を被転写物１６に貼付け、基材１を剥がすと、反射率低減構造形成層１２と回折構造形成層１３との界面にて剥離し、転写箔１は表面に反射率低減構造部２を持った回折構造形成層１３となる。
【実施例】
【００４２】
以下実施例により詳細に説明する。厚さ２５μｍの透明なポリエチレンテレフタレートフィルムからなる支持体１１の片面に、反射率低減構造形成層１２として下記の配合比からなる組成物をグラビア印刷法により、塗布厚３μｍ、乾燥温度１１０℃で塗布し形成し
た。
＜反射率低減構造形成層＞
不飽和基含有ウレタン樹脂 １００部
光重合開始剤（チバスペシャリティケミカルズ社製イルガキュア１８４） １．５部
離型剤（ビックケミー社製アクリルシリコーンＢＹＫ−３７００） ３部
溶剤（メチルエチルケトン） ４００部
その後、頂点間隔３５０ｎｍ、アスペクト比０．５の微細凹凸構造を転写箔１の形状輪郭に沿った領域とパターン状に有するニッケルスタンパー（母型）と、前記フィルムを線圧５００Ｎ／ｃｍ、１３０℃で加熱圧接し、その状態で、支持体側からメタルハライドランプを使用して２００ｍＪ／ｃｍ２の光量を照射して硬化させた。そして、このエンボス加工したフィルムをニッケルスタンパー（母型）から剥離して、反射率低減構造が形成されたエンボス加工フィルムを得た。さらに表面硬度をあげるため、エンボス加工面から窒素雰囲気下、高圧水銀灯で３００ｍＪ／ｃｍ２の光量を追加露光した。
【００４３】
回折構造形成層として、下記の配合比からなる組成物を、グラビア印刷法によって、塗布厚２μｍ、乾燥温度１１０℃で塗布した。
＜回折構造形成層＞
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体とウレタン樹脂の混合物 ２５部
溶剤
（メチルエチルケトン） ７０部
（トルエン） ３０部
その後、頂点間隔０．０５ｍｍ、アスペクト比０．１の回折構造を有するニッケルスタンパー（母型）と、前記フィルムを線圧５００Ｎ／ｃｍ、１８０℃で加熱圧接し硬化させた。そして、このエンボス加工したフィルムをニッケルスタンパー（母型）から剥離して、回折構造が形成されたエンボス加工フィルムを得た。
【００４４】
成形された回折構造上に反射層１４として金属薄膜であるＡｌ薄膜を、真空蒸着法にて膜厚８０ｎｍを全面に設け、その後、前記回折構造の形成部分に位置整合させてパターンマスクを一時的に設けた後、アルカリ処理によって、パターンマスクが設けられていない部分の金属反射層を除去した。
【００４５】
次に接着層として、下記の配合比からなる組成物をグラビア印刷法によって、塗布厚４．０μｍ、乾燥温度１１０℃で塗布した。
＜接着層＞
ポリエステル樹脂 ３０部
溶剤
（トルエン） ４０部
（メチルエチルケトン） ４０部
以上のようにして作製した転写箔を、被転写媒体（紙）に転写し、偽造防止物品とし、作製した偽造防止物品を目視観察した。従来の回折構造付転写箔に比べ、本発明による回折構造付き転写箔は転写箔の端部境界線が目立たなくなり、埋め込まれたような外観となった。また転写箔１の形状輪郭に沿った領域以外の部分には、箔表面の反射光量による潜像が付与されており、偽造防止効果が高まった。
【符号の説明】
【００４６】
１・・・転写箔
２・・・反射率低減構造部
３・・・回折構造部
４・・・反射部
５・・・非反射率低減構造部
１１・・・支持体
１２・・・反射率低減構造形成層
１３・・・回折構造形成層
１４・・・反射層
１５・・・接着層
１６・・・被転写物
２１・・・スタンパー
２２・・・硬化光
２３・・・透明固定治具
【特許請求の範囲】
【請求項１】
接着層と、接着層上に回折構造形成層と、回折構造形成層の回折構造側に設けられた反射層とを備えた転写箔であって、回折構造形成層上の回折構造側と対峙する側に、転写箔の形状輪郭に沿って反射低減構造が設けられ、前記反射低減構造が、頂点間隔が２００〜４００ｎｍでアスペクト比が０．２５以上の微細凹凸構造からなることを特徴とする転写箔。
【請求項２】
接着層と、接着層上に回折構造形成層と、回折構造形成層の回折構造側に設けられた反射層とを備えた転写箔であって、回折構造形成層上の回折構造側と対峙する側に、転写箔の形状輪郭に沿った領域と、形状輪郭に沿った領域以外の領域に文字や模様状に反射低減構造が設けられ、前記反射低減構造が、頂点間隔が２００〜４００ｎｍでアスペクト比が０．２５以上の微細凹凸構造からなることを特徴とする転写箔。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の転写箔を転写したことを特徴とする転写媒体。
【請求項４】
基材上に反射率低減構造形成層を設け、前記反射率低減構造形成層の表面に転写箔の形状輪郭に沿って、微細凹凸構造からなる反射率低減構造を形成し、続いて回折構造形成層を積層して、前記回折構造形成層に回折構造を形成し、さらに反射層、接着層を順次積層する、反射率低減構造形成層と回折構造形成層との界面にて剥離する転写箔の製造方法であって、反射率低減構造形成層に設けられる微細凹凸構造を、頂点間隔が２００〜４００ｎｍでアスペクト比が０．２５以上の微細凹凸構造を持つスタンパーを作製し、前記スタンパーの微細凹凸構造を転写させて形成することを特徴とする転写箔の製造方法。
【請求項５】
基材上に反射率低減構造形成層を設け、前記反射率低減構造形成層の表面に転写箔の形状輪郭に沿った領域と、形状輪郭に沿った領域以外の領域に文字や模様状に、微細凹凸構造からなる反射率低減構造を形成し、続いて回折構造形成層を積層して、前記回折構造形成層に回折構造を形成し、さらに反射層、接着層を順次積層する、反射率低減構造形成層と回折構造形成層との界面にて剥離する転写箔の製造方法であって、反射率低減構造形成層に設けられる微細凹凸構造を、頂点間隔が２００〜４００ｎｍでアスペクト比が０．２５以上の微細凹凸構造を持つスタンパーを作製し、前記スタンパーの微細凹凸構造を転写させて形成することを特徴とする転写箔の製造方法。
【請求項１】
接着層と、接着層上に回折構造形成層と、回折構造形成層の回折構造側に設けられた反射層とを備えた転写箔であって、回折構造形成層上の回折構造側と対峙する側に、転写箔の形状輪郭に沿って反射低減構造が設けられ、前記反射低減構造が、頂点間隔が２００〜４００ｎｍでアスペクト比が０．２５以上の微細凹凸構造からなることを特徴とする転写箔。
【請求項２】
接着層と、接着層上に回折構造形成層と、回折構造形成層の回折構造側に設けられた反射層とを備えた転写箔であって、回折構造形成層上の回折構造側と対峙する側に、転写箔の形状輪郭に沿った領域と、形状輪郭に沿った領域以外の領域に文字や模様状に反射低減構造が設けられ、前記反射低減構造が、頂点間隔が２００〜４００ｎｍでアスペクト比が０．２５以上の微細凹凸構造からなることを特徴とする転写箔。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の転写箔を転写したことを特徴とする転写媒体。
【請求項４】
基材上に反射率低減構造形成層を設け、前記反射率低減構造形成層の表面に転写箔の形状輪郭に沿って、微細凹凸構造からなる反射率低減構造を形成し、続いて回折構造形成層を積層して、前記回折構造形成層に回折構造を形成し、さらに反射層、接着層を順次積層する、反射率低減構造形成層と回折構造形成層との界面にて剥離する転写箔の製造方法であって、反射率低減構造形成層に設けられる微細凹凸構造を、頂点間隔が２００〜４００ｎｍでアスペクト比が０．２５以上の微細凹凸構造を持つスタンパーを作製し、前記スタンパーの微細凹凸構造を転写させて形成することを特徴とする転写箔の製造方法。
【請求項５】
基材上に反射率低減構造形成層を設け、前記反射率低減構造形成層の表面に転写箔の形状輪郭に沿った領域と、形状輪郭に沿った領域以外の領域に文字や模様状に、微細凹凸構造からなる反射率低減構造を形成し、続いて回折構造形成層を積層して、前記回折構造形成層に回折構造を形成し、さらに反射層、接着層を順次積層する、反射率低減構造形成層と回折構造形成層との界面にて剥離する転写箔の製造方法であって、反射率低減構造形成層に設けられる微細凹凸構造を、頂点間隔が２００〜４００ｎｍでアスペクト比が０．２５以上の微細凹凸構造を持つスタンパーを作製し、前記スタンパーの微細凹凸構造を転写させて形成することを特徴とする転写箔の製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【公開番号】特開２０１２−１９２５８６（Ｐ２０１２−１９２５８６Ａ）
【公開日】平成２４年１０月１１日（２０１２．１０．１１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−５７５７７（Ｐ２０１１−５７５７７）
【出願日】平成２３年３月１６日（２０１１．３．１６）
【出願人】（０００００３１９３）凸版印刷株式会社 (10,630)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年１０月１１日（２０１２．１０．１１）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年３月１６日（２０１１．３．１６）
【出願人】（０００００３１９３）凸版印刷株式会社 (10,630)
【Ｆターム（参考）】
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