電気光学装置の製造方法

【課題】サブ画素の開口部上に正確に着色層を形成し、かつ、製造工程の短縮化を図る。
【解決手段】透明基板の一方の面上の各色のサブ画素毎に透過領域と反射領域とを形成した後、各色のサブ画素の内部に各色の感光性樹脂（紫外線などの光が照射された部分が硬化するネガレジスト）からなる色材が塗布され、色材硬化工程では、前記透明基板の他方の面側より、色材を硬化させるための光を入射させ、前記透過領域に塗布された前記各色の色材を硬化する。色材エッチング工程では、前記各色の色材における硬化しなかった部分をエッチングにより取り除く。これにより、前記各色のサブ画素の透過領域に着色層を形成することができる。また、各サブ画素毎に各色の色材が塗布されているので、各色の色材を硬化させるための光の照射を、一回で済ませることができ、製造工程の短縮化を図ることができる。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、各種情報の表示に用いて好適な電気光学装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、携帯電話や携帯情報端末といった携帯機器等に液晶表示装置が用いられている。また、カラーフィルタ基板を用いてカラー表示を行う構造の液晶表示装置も広く用いられるようになってきている。
【０００３】
例えば、特許文献１に示す半透過反射型の液晶表示装置では、反射型表示の場合には、モノクロ表示を行い、透過型表示の場合には、カラー表示を行う機能を供えている。この液晶表示装置が用いられた携帯電話では、待ち受け時（反射型表示）の場合には、モノクロ表示を行い、オペレーション時（透過型表示）の場合には、カラー表示を行うことができる。
【０００４】
このような液晶表示装置の製造方法では、まず、Ｒ（赤）Ｇ（緑）Ｂ（青）の色材のうち、いずれか一色の色材を、光を透過する開口部及び光を反射する反射層が形成された基板の表面上の全面に塗布する。次に、塗布された色材の表面に対し、マスクを設置した後、紫外線などの光を照射することにより、基板の開口部上に塗布された色材の部分のみを硬化させる。このようにして、一色の着色層が形成される。この操作をＲＧＢの色材について、それぞれ行うことで、ＲＧＢの着色層が形成される。
【０００５】
【特許文献１】特開２００３−４３２３９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、このような液晶表示装置の製造方法では、マスクのマスク開口部を、基板の開口部と同じ寸法で形成し、かつ、基板の開口部上に精緻に設置することが求められる。そのため、サブ画素の開口部上に正確に着色層を形成することは、事実上困難であり、実際には、着色層は、反射層上にはみ出して形成されてしまうことが多い。また、色材の硬化のための光の照射も、各色の色材を塗布するごとに行わなければならず、その分、製造工程が増えるという欠点がある。
【０００７】
本発明は以上の点に鑑みてなされたものであり、サブ画素の開口部上に正確に着色層を形成し、かつ、製造工程の短縮化を図ることのできる液晶表示装置の製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の１つの観点では、各色のサブ画素毎に透過領域と反射領域とを有する電気光学装置の製造方法は、透明基板の一方の面上の前記反射領域に反射層を形成する反射層形成工程と、前記各色のサブ画素の内部に前記各色の色材を塗布する色材塗布工程と、前記透明基板の他方の面側より、色材を硬化させるための光を入射させ、前記透過領域に塗布された前記各色の色材を硬化させる色材硬化工程と、前記各色の色材における硬化しなかった部分をエッチングにより取り除く色材エッチング除去工程と、を備える。
【０００９】
上記の各色のサブ画素毎に透過領域と反射領域とを有する電気光学装置の製造方法では、反射層形成工程により、透明基板の一方の面上の前記反射領域に反射層が形成される。
色材塗布工程により、前記各色のサブ画素の内部に前記各色の色材が塗布される。前記各色の色材としては、感光性を有する感光性樹脂、具体的には、紫外線などの光が照射されときに照射された部分が硬化する性質を有する、いわゆるネガレジストが用いられる。色材硬化工程では、前記透明基板の他方の面側より、色材を硬化させるための光を入射させ、前記透過領域に塗布された前記各色の色材を硬化する。色材エッチング工程では、前記各色の色材における硬化しなかった部分をエッチングにより取り除く。これにより、前記各色のサブ画素の透過領域に着色層を形成することができる。また、各サブ画素毎に各色の色材が塗布されているので、各色の色材を硬化させるための光の照射を、一回で済ませることができ、製造工程の短縮化を図ることができる。
【００１０】
上記の電気光学装置の製造方法の一態様は、前記色材塗布工程は、インクジェットにより前記各色の色材の塗布を一度に行う。これにより、製造工程の短縮化を図ることができる。
【００１１】
本発明の他の観点では、各色のサブ画素毎に透過領域と反射領域とを有する電気光学装置の製造方法は、透明基板の一方の面上の前記反射領域に、反射層を形成する反射層形成工程と、前記各色の色材のうち、いずれか一色の色材を、少なくとも前記透明基板の前記一方の面の前記各色の着色層が形成される領域に塗布する色材塗布工程と、前記透明基板の他方の面側に、前記一色の色材と同じ色の着色層が形成される前記透過領域に光を入射させるためのマスクを設置するマスク設置工程と、前記他方の面上に設置された前記マスクに対し、色材を硬化させるための光を照射し、前記透過領域上に塗布された前記一色の色材を硬化させるマスク色材硬化工程と、前記色材硬化工程の後に、前記一色の色材における硬化しなかった部分をエッチングにより取り除く色材エッチング除去工程と、前記各色の色材のうち、前記一色の色材以外の他の色の色材について、前記色材塗布工程、前記マスク設置工程、前記色材硬化工程、前記色材エッチング除去工程を繰り返すことにより、他の色の着色層を形成する着色層形成工程と、を備える。
【００１２】
上記の各色のサブ画素毎に透過領域と反射領域とを有する電気光学装置の製造方法では、反射層形成工程により、透明基板の一方の面上の前記反射領域に、反射層を形成する。色材塗布工程により、前記各色の色材のうち、いずれか一色の色材が、少なくとも前記透明基板の前記一方の面の前記各色の着色層が形成される領域に塗布される。マスク設置工程により、前記透明基板の他方の面側に、前記一色の色材と同じ色の着色層が形成される前記透過領域に光を入射させるためのマスクが設置される。マスク色材硬化工程により、前記他方の面上に設置された前記マスクに対し、色材を硬化させるための光が照射され、前記透過領域上に塗布された前記一色の色材が硬化される。色材エッチング除去工程により、前記一色の色材における硬化しなかった部分が、エッチングにより取り除かれる。着色層形成工程により、前記各色の色材のうち、前記一色の色材以外の他の色の色材について、前記色材塗布工程、前記マスク設置工程、前記色材硬化工程、前記色材エッチング除去工程が繰り返される。この製造方法によっても、前記各色のサブ画素の透過領域に着色層を形成することができる。
【００１３】
上記の電気光学装置の製造方法の一態様は、マスク設置工程は、マスクの光を透過する部分がサブ画素の透過領域よりも大きく形成されている。ここで、マスクの光を透過する部分は、マスク開口部のことを指す。これにより、マスクの光を透過する部分と対応する透過領域のみに着色層が形成される。
【００１４】
上記の電気光学装置の製造方法の他の一態様は、前記色材硬化工程は、前記反射層をマスクとして透過領域の着色層を硬化させる。このように、反射層自体をマスクとして用いることで、着色層が反射層上にはみ出して形成されることを防ぐことができ、アライメント性の向上した電気光学装置を製造することができる。
【００１５】
上記の電気光学装置の製造方法の他の一態様は、前記反射層形成工程は、前記各色のサブ画素の間にも前記反射層を形成する。これにより、サブ画素間で、色材が硬化することを防ぐことができる。
【００１６】
上記の電気光学装置の製造方法の他の一態様は、前記反射層形成工程は、行方向及び列方向の少なくとも一方の前記各色のサブ画素間には前記反射層を設けず、前記反射層を設けていない前記各色のサブ画素間には黒色遮光層を設ける。これにより、黒色遮光層をマスクとして用いることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、図面を参照して本発明の好適な実施形態について説明する。尚、以下の実施形態は、本発明を液晶表示装置に適用したものである。
【００１８】
[液晶表示装置の構成]
まず、各実施形態に係る製造方法を適用することのできる液晶表示装置の構成の一例について説明する。図１は、各実施形態の製造方法を適用することのできる液晶表示装置１００の概略構成を模式的に示す断面図である。図１に示す液晶表示装置１００は、半透過反射型の液晶表示装置であり、スイッチング素子としてＴＦＴ素子を用いたアクティブ・マトリクス駆動方式の液晶表示装置である。液晶表示装置１００では、透過型表示の場合には、カラーの表示画像を表示し、反射型表示の場合には、モノクロの表示画像を表示する。
【００１９】
図１において、液晶表示装置１００は大きく分けて、液晶表示パネル３０と照明装置２０からなる。
【００２０】
液晶表示パネル３０は、素子基板１１と、その素子基板１１に対向して配置されるカラーフィルタ基板１２とが枠状のシール部材３を介して貼り合わされ、内部に液晶が封入されて液晶層４が形成されてなる。この枠状のシール部材３には、複数の金粒子などの導通部材７が混入されている。
【００２１】
まず、素子基板１１について説明する。素子基板１１は、ガラスなどの透明な上側基板１を有し、上側基板１の内面上には、図示しないデータ線および走査線がマトリクス状に配置される。データ線および走査線の交点には、サブ画素ＳＧが設けられる。サブ画素ＳＧ毎には、画素電極１０が形成されている。各画素電極１０には、例えば、アモルファスシリコンＴＦＴ（Thin Film Transistor）などのＴＦＴ素子１４が接続されており、データ線および走査線は、各画素電極１０に対応するＴＦＴ素子１４に電気的に接続されている。ＴＦＴ素子１４及び画素電極１０の内面上には、透明樹脂等からなる保護層１７が形成されている。
【００２２】
次に、カラーフィルタ基板１２について説明する。カラーフィルタ基板１２は、ガラスなどの透明な下側基板２を有し、下側基板２の内面上には、サブ画素ＳＧ毎に、所定の厚みを有する反射層５が形成されている。各反射層５には、矩形状の開口部１５が複数形成されている。各反射層５は、アルミニウム、アルミニウム合金、銀合金等の薄膜により形成することができる。開口部１５は、カラーフィルタ基板１２の内面上に縦横にマトリクス状に配列されたサブ画素ＳＧ毎に、当該サブ画素ＳＧの全面積を基準として所定割合の面積を有するように形成されている。サブ画素ＳＧでは、開口部１５に対応する部分を透過領域とし、それ以外の部分を反射領域とする。
【００２３】
反射層５上であって且つ各サブ画素ＳＧの間には、隣接するサブ画素ＳＧ間を隔て、一方のサブ画素から他方のサブ画素への光の混入を防止するため、黒色遮光層ＢＭが形成されている。
【００２４】
また、開口部１５上には、サブ画素ＳＧ毎にＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色のいずれかからなる領域６Ｒ、６Ｇ、６Ｂを有する着色層６が形成されている。着色層６の領域６Ｒ、６Ｇ、６Ｂは、それぞれの色のカラーフィルタとして構成される。画素Ｇは、ＲＧＢのサブ画素ＳＧから構成されるカラー１画素分の領域を示している。なお、以下の説明において、色を問わずに構成要素を指す場合は、例えば「着色層６」のように記し、色を区別して構成要素を指す場合は「着色層６Ｒ」のように記す。図１に示すように、着色層６は、反射層５上には形成されない。これにより、液晶表示装置１００は、透過型表示の場合にのみ、所望の色相を呈することとなる。
【００２５】
着色層６及び黒色遮光層ＢＭの上には、透明樹脂等からなる保護層１６が形成されている。この保護層１６は、各色間のカラーフィルタの段差を平滑化する機能を有すると共に、カラーフィルタ基板１２及び液晶表示装置１００の製造工程中に使用される薬剤等による腐食や汚染から、着色層６を保護する機能を有する。保護層１６の表面上には、ストライプ状のＩＴＯ（Indium-Tin Oxide）などの透明電極（走査電極）８が形成されている。この透明電極８の一端はシール部材３内に延在しており、そのシール部材３内の導通部材７と電気的に接続されている。この画素電極１０と透明電極８との間に電圧をかけ、液晶層４の液晶を配向制御することにより光の透過率を変化させて階調表示を行う。
【００２６】
下側基板２の透明電極８の内面上、及び上側基板１の保護層１７の内面上には、それぞれ図示しない配向膜が形成されている。それらの配向膜の間には、液晶層４の厚さを均一に保持するために粒子状のスペーサ（図示略）がランダムに配置されている。
【００２７】
次に照明装置２０について説明する。照明装置２０は、導光板２１と、導光板２１の一端面に取り付けられている光源２３より構成される。光源２３中には、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）２２が配置されている。
【００２８】
反射型表示が行われる場合、液晶表示装置１００に入射した外光は、図１に示す経路Ｒに沿って進行する。つまり、液晶表示装置１００に入射した外光は、反射層５によって反射され観察者に至る。この場合、外光は、液晶層４を通過し、反射層５により反射され、再度液晶層４を通過することにより、所定の明るさを呈する。なお、経路Ｒに示すように、外光は、着色層６を通過することはない。従って、反射型表示が行われる場合、所望のモノクロの表示画像が観察者によって視認される。
【００２９】
透過型表示が行われる場合、光源２３中のＬＥＤ２２が発光することにより光が導光体２１の入光端面２１ｃより入射する。導光板２１に入射した光は、出光面２１ａおよび反射面２１ｂで反射を繰り返すことにより、導光板２１内部を伝播する。導光板２１内部を伝播する光は、出光面２１ａとの臨界角を超えると、出光面２１ａより液晶パネルへ向かって出射される。こうして液晶表示パネル３０に照射された照射光は、図１に示す経路Ｔに沿って進行し、透過領域、即ち、開口部１５上の着色層６および液晶層４を通過して観察者に至る。この場合、照射光は、着色層６および液晶層４を透過することにより所定の色相及び明るさを呈する。従って、透過型表示が行われる場合、所望のカラー表示画像が観察者により視認される。
【００３０】
なお、液晶表示装置１００において、用いられるスイッチング素子としては、ＴＦＴ素子の代わりにＴＦＤ素子（Thin Film Diode）を用いるとすることもできる。また、液晶の駆動方式として、アクティブ・マトリクス駆動方式の代わりにパッシブ・マトリクス駆動方式を用いるとすることもできる。
【００３１】
[第１実施形態]
次に、図２乃至図７を参照して、第１実施形態に係る液晶表示装置１００の製造方法について述べる。
【００３２】
図２は、第１実施形態に係る液晶表示装置１００の製造方法を示すフローチャートである。図２のフローチャートに示すように、まず、カラーフィルタ基板１２を製造する（工程Ｐ１）。この工程Ｐ１におけるカラーフィルタ基板１２の製造方法については、後に詳述する。次に、カラーフィルタ基板１２は、データ線、走査線、画素電極１０、ＴＦＴ素子１４が形成された素子基板１１と枠状のシール部材３を介して貼り合わされる（工程Ｐ２）。カラーフィルタ基板１２と素子基板１１が貼り合わされた後、カラーフィルタ基板１２と素子基板１１の間に液晶が封入され、液晶層４が形成される（工程Ｐ３）。このようにして、液晶表示パネル３０が形成される。液晶表示パネル３０が形成された後、照明装置２０を取り付けて（工程Ｐ４）、液晶表示装置１００が完成する。
【００３３】
次に、工程Ｐ１におけるカラーフィルタ基板１２の製造方法について述べる。図３は、第１実施形態に係るカラーフィルタ基板１２の製造方法を示すフローチャートであり、図４乃至図７は、図３のフローチャートに示す各製造工程に対応する画素Ｇの平面図及び断面図である。
【００３４】
まず、下側基板２の表面上に反射層５及びバンクＢＫを形成する（工程Ｐ１１）。図４（ａ）に、そのときの画素Ｇの平面図を示し、図４（ｂ）にその断面図を示す。具体的には、図４に示すように、ガラスなどの透明な下側基板２の表面上に、アルミニウム、アルミニウム合金、銀合金等の薄膜を形成することにより、反射層５を形成する。下側基板２の表面上において、反射層５は、サブ画素ＳＧの開口部１５となるべき部分には形成されない。即ち、反射層５が形成されると、下側基板２の表面上における反射層５が形成されなかった部分が、サブ画素の開口部１５となる。反射層５を形成した後、反射層５の表面上には、各色のサブ画素ＳＧの縁沿いに、金属などを材料とするバンクＢＫが形成される。従って、各色のサブ画素ＳＧは、バンクＢＫによって仕切られる。この工程Ｐ１１が、反射層形成工程及びバンク形成工程となる。また、工程Ｐ１１では、サブ画素ＳＧ間にも反射層が形成されている。これにより、サブ画素ＳＧ間で色材１８が硬化するのを防ぐことができる。
【００３５】
なお、バンクＢＫを設けて各色のサブ画素ＳＧを仕切る代わりに、サブ画素ＳＧ沿いにサブ画素ＳＧ外にはみ出した色材を弾くための撥液処理を行い、各色のサブ画素ＳＧを仕切るとすることもできる。
【００３６】
次に、Ｒの色材１８Ｒ、Ｇの色材１８Ｇ、Ｂの色材１８Ｂが、下側基板２及び反射層５の表面上に対し、各色のサブ画素ごとに、インクジェットで一度に塗布される（工程Ｐ１２）。図５（ａ）に、そのときの画素Ｇの平面図を示し、図５（ｂ）にその断面図を示す。図５に示すように、各色のサブ画素ＳＧにおいて、隣り合ったサブ画素は、バンクＢＫによって仕切られている。各色の色材１８は、バンクＢＫによって囲まれたサブ画素内部に塗布される。バンクＢＫによって仕切られているので、隣り合ったサブ画素ＳＧにそれぞれ塗布された色材は、互いに混色することがない。各色の色材１８の材料としては、感光性を有する感光性樹脂、具体的には、紫外線などの光が照射された部分が硬化する性質を有する、いわゆるネガレジストが用いられる。また、下側基板２及び反射層５の表面上に対し、インクジェットで色材１８を一度に塗布することで製造工程の短縮化を図ることができる。この工程Ｐ１２が、色材塗布工程となる。
【００３７】
各色のサブ画素ごとにそれぞれ塗布された色材１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂは、一定時間、色材の硬化のため、紫外線などの光で露光される。このとき、色材の硬化のための光は、下側基板２における色材が塗布された表面に対向する裏面２ａの側より照射される（工程Ｐ１３）。図６に、そのときの画素Ｇの断面図を示す。照射された光は、裏面２ａより下側基板２に入射する。色材１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂの開口部１５上に塗布されている部分１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂは、下側基板２に入射した光によって露光される。しかし、色材１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂにおいて、部分１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂ以外の部分、即ち、反射層５上に塗布されている部分は、反射層５によって光が遮蔽されるので、下側基板２に入射した光によって露光されない。つまり、反射層５は、照射された光に対するマスクの機能を有する。このようにすることで、色材１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂの開口部１５上に塗布されている部分１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂのみが硬化される。この工程Ｐ１３が、色材硬化工程となる。
【００３８】
次に、色材１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂに対し、エッチングを行い、工程Ｐ１３で硬化されなかった部分、即ち、色材１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂの反射層５上に塗布されている部分を除去する（工程Ｐ１４）。図７（ａ）に、そのときの画素Ｇの平面図を示し、図７（ｂ）にその断面図を示す。図７に示すように、工程Ｐ１３において硬化しなかった部分、すなわち色材１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂの反射層５上に塗布されている部分は、エッチングにより除去され、工程Ｐ１３において硬化した部分、即ち、図６で示した色材１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂの開口部１５上に塗布されている部分１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂのみが残る。部分１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂが、それぞれ図７に示す着色層６Ｒ、６Ｇ、６Ｂとなる。この工程Ｐ１４が、色材エッチング工程となる。
【００３９】
下側基板２の開口部１５上に着色層６が形成された後、その他の構成要素、具体的には、保護層１６、透明電極８などが、下側基板２に形成される。このようにしてカラーフィルタ基板１２が形成され（工程Ｐ１５）、図１のフローチャートにおける工程Ｐ１が終了し、工程Ｐ２に移行する。なお、図７に示すように、バンクＢＫは、そのまま黒色遮光層ＢＭとして用いることもできる。
【００４０】
上述したように、第１実施形態に係る液晶表示装置１００の製造方法では、下側基板２の裏面２ａより色材の硬化のための光を入射させることで、反射層５をマスクとして用いることができる。これにより、着色層６が反射層５上にはみ出して形成されることを防ぐことができ、開口部１５に対する着色層６のアライメント性を向上させることができる。また、上述した第１実施形態に係る液晶表示装置１００の製造方法では、バンクＢＫが各サブ画素ごとに設けられ、各色の色材は各サブ画素ごとに塗布されている。よって、各色の色材を硬化させるための光の照射を、一回で済ませることができ、一般的な液晶表示装置の製造方法に比較して、製造工程を削減することができる。
【００４１】
また、第１実施形態では、サブ画素ＳＧ毎に反射層５を形成し、反射層５が形成された領域を反射領域、反射層５が形成されていない開口部１５を透過領域としているが、本発明の適用はこの態様には限定されない。例えば、開口部を有するように反射層を形成するのではなく、サブ画素ＳＧを２つの領域に分け、一方のみに反射層を形成し、他方には反射層を形成しないこととしてもよい。この場合、反射層を形成した領域が反射領域となり、反射層を形成していない領域が透過領域となる。
【００４２】
（第１実施形態の変形例）
次に、第１実施形態に係る液晶表示装置１００の製造方法の変形例について述べる。
【００４３】
図８は、第１実施形態に係る液晶表示装置１００の製造方法の第１変形例を示す図である。図８（ａ）は、第１変形例に係る液晶表示装置１００の画素Ｇの断面図を示し、図８（ｂ）は、下側基板２側からみたときの平面図を示す。第１変形例に係る液晶表示装置１００では、図８（ｂ）に示すように、反射層形成工程において、下側基板２上には、反射層５が島状に形成されると共に、黒色遮光層ＢＭも形成される。上述した第１実施形態に係る液晶表示装置１００は、反射層５をマスクとして用いていたが、第１変形例では、黒色遮光層ＢＭもマスクとして用いるものである。このようにしても、下側基板２上の開口部１５にのみ、着色層６を形成することができる。よって、サブ画素間に反射層が形成されない構成では、サブ画素ＳＧ間に黒色遮光層ＢＭを形成するのが望ましい。
【００４４】
図９は、第１実施形態に係る液晶表示装置１００の製造方法の第２変形例を示す図である。図９（ａ）は、第２変形例に係る液晶表示装置１００の画素Ｇの断面図を示し、図９（ｂ）は、下側基板２側からみたときの平面図を示す。第２変形例に係る液晶表示装置１００では、反射層形成工程において、さらに、上側基板１に黒色遮光層ＢＭを形成する。この形成された黒色遮光層ＢＭ間に色材を塗布した後、下側基板２側より光を露光することで、上側基板１に着色層６を形成する。ここで露光される光は、指向性を有する光が用いられ、上側基板１に到達するまでは、拡散しない。このような指向性を有する光を用いることで、上側基板１の下側基板２に形成されている反射層に対向する部分には着色層を形成せずに済ませることができ、反射型表示を行う場合における色付きを防ぐことができる。
【００４５】
図１０は、第１実施形態に係る液晶表示装置１００の製造方法の第３変形例を示す図である。図１０（ａ）は、第３変形例に係る液晶表示装置１００の画素Ｇの断面図を示し、図１０（ｂ）は、下側基板２側からみたときの平面図を示す。第３変形例では、上側基板１に色材を塗布した後、下側基板２に形成された反射層５をマスクとして、第２変形例と同様の指向性を有する光を、下側基板２側より露光するものである。このようにすることでも、上側基板１の下側基板２の開口部１５に対向する部分に着色層６を形成することができる。
【００４６】
[第２実施形態]
次に、図１１乃至図１３を参照して、第２実施形態に係る液晶表示装置１００の製造方法について述べる。
【００４７】
第２実施形態に係る液晶表示装置１００の製造方法を示すフローチャートは、図２の第１実施形態に係る液晶表示装置１００の製造方法を示すフローチャートと同じである。第２実施形態に係る液晶表示装置１００の製造方法では、工程Ｐ１におけるカラーフィルタ基板１２の製造方法が、第１実施形態に係る液晶表示装置１００の製造方法と異なる。図１１は、工程Ｐ１における、第２実施形態に係るカラーフィルタ基板１２の製造方法を示すフローチャートであり、図１２（ａ）〜（ｃ）は、図１１のフローチャートに示す各製造工程に対応する画素Ｇの断面図である。
【００４８】
まず、下側基板２の表面上に、第１実施形態のときと同様、反射層形成工程として、反射層５を形成した後（工程Ｐ２１）、画素Ｇ全面にＲの色材１８Ｒを塗布する（工程Ｐ２２）。図１２（ａ）は、そのときの画素Ｇの断面図を示している。この工程Ｐ２２が、色材塗布工程となる。その後、下側基板２の裏面２ａにマスク４１Ｒを配置する。
【００４９】
図１３（ａ）〜（ｃ）は、マスク４１Ｒ、４１Ｇ、４１Ｂのそれぞれの平面図を示す。図１３（ａ）に示すマスク４１Ｒは、着色層６Ｒを形成するためのものであり、Ｒのサブ画素ＳＧの開口部１５に対応する部分に、マスク開口部４２Ｒが設けられている。このマスク開口部４２Ｒの大きさは、Ｒのサブ画素ＳＧの開口部１５よりも大きくされるが、その隣のサブ画素の開口部にかからない大きさとされる。つまり、マスク４１Ｒは、Ｒのサブ画素ＳＧの開口部１５に対してのみ、色材の硬化のための光を入射させるためのものであり、他の色のサブ画素ＳＧの開口部に光が入射することを防ぐ機能を有する。
【００５０】
図１３（ｂ）に示すマスク４１Ｇは、着色層６Ｇを形成するためのものであり、Ｇのサブ画素ＳＧの開口部に対応する部分に、マスク開口部４２Ｇが設けられている。図１３（ｃ）に示すマスク４１Ｂは、着色層６Ｂを形成するためのものであり、Ｂのサブ画素ＳＧの開口部に対応する部分に、マスク開口部４２Ｂが設けられている。マスク４１Ｇ、４１Ｂにおけるマスク開口部４２Ｇ、４２Ｂの大きさも、マスク４１Ｒにおけるマスク開口部４２Ｒと同様、それぞれに対応するサブ画素ＳＧの開口部よりも大きくされるが、その隣のサブ画素の開口部にかからない大きさとされる。
【００５１】
下側基板２の裏面２ａ上にマスク４１Ｒが配置される際、そのマスク４１Ｒのマスク開口部４２Ｒは、サブ画素ＳＧの開口部１５と重なる位置に合わされる（工程Ｐ２３）。この工程Ｐ２３が、マスク設置工程となる。次に、図１２（ａ）に示すように、マスク４１Ｒの外面に対し、色材の硬化のために、紫外線などの光が照射される。照射された光は、マスク開口部４２Ｒのみを通過し、下側基板２を通過して、Ｒのサブ画素ＳＧの開口部１５に至る。これにより、Ｒのサブ画素ＳＧの開口部１５上の色材１８Ｒのみが硬化する（工程Ｐ２４）。この工程Ｐ２４が、マスク色材硬化工程となる。
【００５２】
次に、色材１８Ｒに対し、エッチングを行い、工程Ｐ２４で硬化されなかった部分を除去する（工程Ｐ２５）。図１２（ｂ）に、そのときの画素Ｇの断面図を示す。図１２（ｂ）に示すように、工程Ｐ２４において硬化していない部分、すなわち色材１８Ｒの反射層５上に塗布されている部分や、他の色のサブ画素に塗布されている部分は、エッチングにより除去される。これにより、工程Ｐ２４において硬化した部分、即ち色材１８Ｒの開口部１５上に塗布されている部分のみが残る。この色材１８Ｒの開口部１５上に塗布されている部分が、着色層６Ｒとなる。この工程Ｐ２５が、色材エッチング除去工程となる。
【００５３】
着色層６Ｒが形成された後、色材１８Ｇ及び色材１８Ｂについても上述した工程Ｐ２２〜Ｐ２５と同様の操作を行う（工程Ｐ２６）。具体的には、着色層６Ｒを形成した後、さらに色材１８Ｇを下側基板２の表面上に塗布し、マスク４１Ｇを下側基板２の裏面上に配置する。このとき、マスク４１Ｇのマスク開口部４２Ｇは、Ｇのサブ画素ＳＧの開口部と重なる位置に合わされる。この後、紫外線などの光の露光により、Ｇのサブ画素の開口部上の色材１８Ｇのみが硬化され、さらにエッチングを施すことにより、着色層６Ｇが形成される。着色層６Ｇを形成した後、色材１８Ｂを下側基板２の表面上に塗布し、マスク４１Ｂを下側基板２の裏面上に配置する。このとき、マスク４１Ｂのマスク開口部４２Ｂは、Ｂのサブ画素ＳＧの開口部と重なる位置に合わされる。この後、紫外線などの光の露光により、Ｂのサブ画素ＳＧの開口部上の色材１８Ｂのみが硬化され、さらにエッチングを施すことにより、着色層６Ｂが形成される。このようにして、着色層６Ｒ、６Ｇ、６Ｂが、形成されたときの画素Ｇの断面図を図１２（ｃ）に示す。この工程Ｐ２６が、着色層形成工程となる。
【００５４】
下側基板２の開口部１５上に着色層６が形成された後、その他の構成要素、具体的には、保護層１６、透明電極８などが、下側基板２に形成され、カラーフィルタ基板１２が形成される（工程Ｐ２７）。
【００５５】
このように、第２実施形態に係る液晶表示装置１００の製造方法によっても、反射層５をマスクとして用いることができ、着色層６が反射層５上にはみ出して形成されることを防ぐことができ、着色層６のアライメント性を向上させることができる。
【００５６】
（第２実施形態に係る変形例）
次に、第２実施形態に係る液晶表示装置１００の製造方法の変形例について述べる。
【００５７】
図１４は、第２実施形態に係る液晶表示装置１００の製造方法の変形例を示す図である。図１４（ａ）は、本変形例に係る液晶表示装置１００の画素Ｇの断面図を示し、図１４（ｂ）は、下側基板２側からみたときの平面図を示す。なお、図１４（ｂ）では、説明の便宜のため、２画素分示している。反射層形成工程において、上側基板１には、黒色遮光層ＢＭが、サブ画素ＳＧを囲んで形成され、下側基板２には、ストライプ状に反射層５が形成される。本変形例に係る製造方法では、ストライプ状に形成された反射層５間に、色材塗布工程では、さらにストライプ状に色材を塗布し、例えば、着色層６Ｒを形成する場合には、図１４（ａ）、（ｂ）に示すようなマスク開口部４２ＲＲを通して光を露光することにより形成する。本変形例の製造方法では、１つのストライプ状に塗布された色材に対し、サブ画素ＳＧと塗布された色材との重複部分よりも大きな幅を有するマスク開口部に光を露光することで、１つのストライプ状の着色層６を形成することができる。なお、着色層６はストライプ状に形成されているため、サブ画素ＳＧ間に着色層６がかかることとなるが、透過型表示のときは、上側基板１の黒色遮光層ＢＭによって遮光されるので問題はない。
【００５８】
[電子機器]
次に、各実施形態に係る液晶表示装置１００を適用可能な電子機器の具体例について図１５を参照して説明する。
【００５９】
まず、各実施形態に係る液晶表示装置１００を、可搬型のパーソナルコンピュータ（いわゆるノート型パソコン）の表示部に適用した例について説明する。図１５（ａ）は、このパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。同図に示すように、パーソナルコンピュータ７１０は、キーボード７１１を備えた本体部７１２と、各実施形態に係る液晶表示装置１００を適用した表示部７１３とを備えている。
【００６０】
続いて、各実施形態に係る液晶表示装置１００を、携帯電話機の表示部に適用した例について説明する。図１５（ｂ）は、この携帯電話機の構成を示す斜視図である。同図に示すように、携帯電話機７２０は、複数の操作ボタン７２１のほか、受話口７２２、送話口７２３とともに、各実施形態に係る液晶表示装置１００を適用した表示部７２４を備える。
【００６１】
なお、各実施形態に係る液晶表示装置１００を適用可能な電子機器としては、図１５（ａ）に示したパーソナルコンピュータや図１５（ｂ）に示した携帯電話機の他にも、液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、ディジタルスチルカメラなどが挙げられる。
【図面の簡単な説明】
【００６２】
【図１】各実施形態に係る製造方法を適用可能な液晶表示装置の概略構成を示す。
【図２】第１実施形態に係る液晶表示装置の製造方法を示すフローチャート。
【図３】第１実施形態に係るカラーフィルタ基板の製造方法を示すフローチャート。
【図４】工程Ｐ１１における画素の平面図及び断面図である。
【図５】工程Ｐ１２における画素の平面図及び断面図である。
【図６】工程Ｐ１３における画素の平面図及び断面図である。
【図７】工程Ｐ１４における画素の平面図及び断面図である。
【図８】第１実施形態に係る液晶表示装置の第１変形例の概略構成を示す図である。
【図９】第１実施形態に係る液晶表示装置の第２変形例の概略構成を示す図である。
【図１０】第１実施形態に係る液晶表示装置の第３変形例の概略構成を示す図である。
【図１１】第２実施形態に係るカラーフィルタ基板の製造方法を示すフローチャート。
【図１２】第２実施形態に係る各製造工程に対応する画素Ｇの断面図である。
【図１３】ＲＧＢの着色層を形成するためのマスクの形状を示す平面図である。
【図１４】第２実施形態に係る液晶表示装置の変形例の概略構成を示す図である。
【図１５】各実施形態に係る液晶表示装置を適用した電子機器を示す概略図である。
【符号の説明】
【００６３】
２下側基板、５反射層、６着色層、ＢＫバンク

【特許請求の範囲】
【請求項１】
各色のサブ画素毎に透過領域と反射領域とを有する電気光学装置の製造方法であって、
透明基板の一方の面上の前記反射領域に反射層を形成する反射層形成工程と、
前記各色のサブ画素の内部に前記各色の色材を塗布する色材塗布工程と、
前記透明基板の他方の面側より、色材を硬化させるための光を入射させ、前記透過領域に塗布された前記各色の色材を硬化させる色材硬化工程と、
前記各色の色材における硬化しなかった部分をエッチングにより取り除く色材エッチング除去工程と、を備えることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項２】
前記色材塗布工程は、インクジェットにより前記各色の色材の塗布を一度に行うことを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項３】
各色のサブ画素毎に透過領域と反射領域とを有する電気光学装置の製造方法であって、
透明基板の一方の面上の前記反射領域に、反射層を形成する反射層形成工程と、
前記各色の色材のうち、いずれか一色の色材を、少なくとも前記透明基板の前記一方の面の前記各色の着色層が形成される領域に塗布する色材塗布工程と、
前記透明基板の他方の面側に、前記一色の色材と同じ色の着色層が形成される前記透過領域に光を入射させるためのマスクを設置するマスク設置工程と、
前記他方の面上に設置された前記マスクに対し、色材を硬化させるための光を照射し、前記透過領域上に塗布された前記一色の色材を硬化させるマスク色材硬化工程と、
前記色材硬化工程の後に、前記一色の色材における硬化しなかった部分をエッチングにより取り除く色材エッチング除去工程と、
前記各色の色材のうち、前記一色の色材以外の他の色の色材について、前記色材塗布工程、前記マスク設置工程、前記色材硬化工程、前記色材エッチング除去工程を繰り返すことにより、他の色の着色層を形成する着色層形成工程と、を備えることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項４】
マスク設置工程は、マスクの光を透過する部分がサブ画素の透過領域よりも大きく形成されていることを特徴とする請求項３に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項５】
前記色材硬化工程は、前記反射層をマスクとして透過領域の着色層を硬化させることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項６】
前記反射層形成工程は、前記各色のサブ画素の間にも前記反射層を形成することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項７】
前記反射層形成工程は、行方向及び列方向の少なくとも一方の前記各色のサブ画素間には前記反射層を設けず、前記反射層を設けていない前記各色のサブ画素間には黒色遮光層を設けることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。

【図１】