電気光学装置及び電子機器
【課題】電気光学装置のシール領域において容易に基板間ギャップを制御する。
【解決手段】電気光学装置は、一対の基板（１０、２０）と、一対の基板のうち少なくとも一方の基板上の画素領域（１０ａ）に形成され、互いに異なる色を有する複数の着色層（Ｃｆ）と、一対の基板間における画素領域の周囲に沿って配置され、一対の基板間のギャップを制御するギャップ材（５６）を含んでなると共に一対の基板を互いに貼り合せるシール材（５２）と、少なくとも一方の基板上のシール領域に、複数の着色層と同一層に間隔を空けて配列され、前記複数の着色層のうち少なくとも一の着色層を模擬する複数のダミー着色層（ｄＣｆ）とを備える。
【解決手段】電気光学装置は、一対の基板（１０、２０）と、一対の基板のうち少なくとも一方の基板上の画素領域（１０ａ）に形成され、互いに異なる色を有する複数の着色層（Ｃｆ）と、一対の基板間における画素領域の周囲に沿って配置され、一対の基板間のギャップを制御するギャップ材（５６）を含んでなると共に一対の基板を互いに貼り合せるシール材（５２）と、少なくとも一方の基板上のシール領域に、複数の着色層と同一層に間隔を空けて配列され、前記複数の着色層のうち少なくとも一の着色層を模擬する複数のダミー着色層（ｄＣｆ）とを備える。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば液晶装置等の電気光学装置、及び該電気光学装置を備えた、例えば液晶プロジェクタ等の電子機器の技術分野に関する。
【背景技術】
【０００２】
この種の電気光学装置は、複数の画素部が形成された画素領域の周辺におけるシール領域においてシール材により一対の基板が貼り合わされ、一対の基板間には電気光学物質として例えば液晶が挟持される。この一対の基板間における液晶の厚み（セルギャップ）を制御するために、少なくともシール領域にギャップ材が設けられ一対の基板間の間隔（基板間ギャップ）が制御される。
【０００３】
画素領域に配置された複数の画素部の各々でカラー表示を行うために、一対の基板のうち少なくとも一方の基板上の画素領域に着色層が設けられる。この場合、画素領域と着色層が設けられないシール領域とでは、着色層の配置される層において段差が生じ、基板間ギャップが異なることとなる。特許文献１によれば、このような事態を回避するために、シール領域において着色層を形成する。また、特許文献２によれば、シール領域において部分的に青色の着色層を形成し、この着色層を介してシール領域に光を照射させることによりシール材を光硬化させる。
【０００４】
【特許文献１】特開平５−３４６８２号公報
【特許文献２】特開２００７−４１６２５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ここに、特許文献１に開示された構成において、光硬化性のシール材により一対の基板を貼り合わせる場合には、シール領域に着色層を配置させずに、シール材に対して光を照射させる領域を確保する必要がある。また、特許文献２に開示された構成によれば、着色層の配置される層においてシール領域には、着色層の配置された部分と、着色層の配置されない部分とで段差が生じ、各々の部分で基板間ギャップが異なる不具合が生じる。ここに、着色層より上層側にはそれよりも下層側の層の段差を緩和させるための平坦化膜が形成されることがある。しかしながら、着色層はその本来の機能を発揮させるために比較的大きい膜厚を有しており、その上層側に平坦化膜を形成したとしても、シール領域において平坦化膜の表面には着色層の存否に起因する段差が生じる。よって、結果的にはシール領域に生じた段差により、基板間ギャップの制御が困難となる。
【０００６】
本発明は例えば上記問題点等に鑑みてなされたものであり、シール領域において容易に基板間ギャップを制御することが可能な電気光学装置及びこのような電気光学装置を具備してなる電子機器を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の電気光学装置は上記課題を解決するために、一対の基板と、該一対の基板のうち少なくとも一方の基板上の画素領域に形成され、互いに異なる色を有する複数の着色層と、前記一対の基板間における前記画素領域の周囲に沿って配置され、前記一対の基板間のギャップを制御するギャップ材を含んでなると共に前記一対の基板を互いに貼り合せるシール材と、前記少なくとも一方の基板上の少なくとも前記シール材が配置されたシール領域に、前記複数の着色層と同一層に間隔を空けて配列され、前記複数の着色層のうち少なくとも一の着色層を模擬する複数のダミー着色層とを備える。
【０００８】
本発明の電気光学装置によれば、一対の基板がシール領域においてシール材によって互いに貼り合わされ、これらの基板間に電気光学物質として例えば液晶が封入される。また、シール材にはギャップ材が散布或いは混入されており、このギャップ材によって一対の基板間のギャップが制御されることにより、セルギャップ（液晶の厚み）が調整される。
【０００９】
本発明の電気光学装置において、複数の画素の各々において複数色として、典型的には例えば赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の３色のうちいずれかの色に相当する光を表示に寄与する光として出射可能なように、一対の基板のうち少なくとも一方の基板上の画素領域（即ち、複数の画素が配列されてなる画素アレイ領域或いは画像表示領域）に着色層が設けられる。着色層は、基板上の画素領域において複数色として例えばＲ、Ｇ、Ｂの各色毎に複数設けられる。
【００１０】
一方、このように着色層が設けられた基板上において、周辺領域のうち少なくともシール領域には複数のダミー着色層が設けられる。複数のダミー着色層は夫々、複数の着色層のうち少なくとも一の着色層を模擬して、この着色層と同一層に形成される。より具体的には、複数の着色層のうち少なくとも一の着色層について、例えばこの着色層と同一の膜厚を有するようにこれに加えて若しくは代えて同一の材料により、複数のダミー着色層は夫々形成される。
【００１１】
従って、基板上において着色層の配置される層において、着色層が形成されないシール領域と着色層が形成される画素領域とで生じる段差を、仮にシール領域にダミー着色層を形成しない場合と比較してより小さくすることが可能となる。これにより、シール領域と画素領域とで基板間ギャップを同程度の値に近づけることができ、理想的には同一とすることができる。従って、シール材に含まれるギャップ材の径を、画素領域における基板間ギャップに対して異ならせる必要が無くなり、セルギャップの制御が煩雑となるのを防止することが可能となる。
【００１２】
尚、一対の基板間において、液晶はシール材が形成されるシール領域より内周側において一対の基板間に封入される。ダミー着色層は、周辺領域において、シール領域からシール領域よりも内周側に位置する部分にまで延在させるように形成してもよい。このように構成すれば、液晶が封入される周辺領域の一部において、ダミー着色層の存否に基づく段差が生じて、シール領域と基板間ギャップが相違する事態を防止することができる。
【００１３】
また、複数のダミー着色層は夫々間隔を空けてシール領域に配列される。よって、配列された複数のダミー着色層は夫々、互いに隣り合うダミー着色層との間に隙間が空いており、この隙間を介してシール材に対して光を照射させることにより、シール材を容易に光硬化させることが可能となる。
【００１４】
本発明の電気光学装置の一態様では、前記少なくとも一方の基板上における前記複数のダミー着色層より上層側に、少なくとも前記シール領域に形成された絶縁膜を備え、前記複数のダミー着色層は、前記絶縁膜の上層側表面における、前記複数のダミー着色層及び前記間隔の各々に基づいて生じる段差が緩和されるように、夫々形成されると共に前記間隔が調整される。
【００１５】
この態様によれば、複数のダミー画素領域より上層側にこれらを覆って絶縁膜が形成され、該絶縁膜の上層側表面において、ダミー着色層に対応する位置の表面部分と、互いに隣り合うダミー着色層間の隙間に対応する位置の表面部分との間の高低差による段差が、ダミー着色層の位置する層におけるダミー着色層と互いに隣り合うダミー着色層間の隙間との間に生じる段差より小さくなり、この段差が絶縁膜の表面において緩和されるように、ダミー着色層が形成され且つ互いに隣り合うダミー着色層間の間隔が調整される。従って、絶縁膜の表面において、ダミー着色層の位置する層におけるダミー着色層と隣り合うダミー着色層間の隙間との間に生じる段差に応じて、比較的大きな段差が生じるのを防止し、その表面を平坦化することが可能となる。
【００１６】
よって、このように平坦化された絶縁膜上にギャップ材が配置されることにより、シール領域における基板間ギャップの制御をより容易に行うことができる。従って、本態様によれば、シール材に含まれるギャップ材により、セルギャップの制御を容易に且つ精度良く行うことが可能となる。その結果、表示ムラ等の表示不良の発生を防止しつつ高精細な表示を行うことができ、且つ電気光学装置を小型化することが可能となる。
【００１７】
上述した絶縁膜を備える態様では、前記絶縁膜は、前記画素領域から前記シール領域に前記複数の着色層及び前記複数のダミー着色層を埋め込んで連続的に形成される。
【００１８】
この態様によれば、画素領域において、絶縁膜が着色層の配置される層の表面に生じる段差を埋めこんで形成されることで、この段差を絶縁膜の表面において緩和させることが可能となる。従って、複数の着色層において例えばＲ、Ｇ、Ｂの各色毎に着色層の膜厚が異なることで、着色層間に生じる段差を絶縁膜を形成することで緩和させることができる。
【００１９】
一方、シール領域においては、上述したように絶縁膜の表面において、ダミー着色層の位置する層における段差が緩和されるように、ダミー着色層が形成されると共に隣り合うダミー着色層間の間隔が調整される。従って、ダミー着色層の位置する層において、ダミー着色層と隣り合うダミー着色層間の隙間との間に生じる段差を、それよりも上層側において、これを埋め込んで絶縁膜が画素領域から連続的に形成されることにより、絶縁膜の表面において緩和することが可能となる。
【００２０】
よって、以上によりこの態様によれば、シール領域から画素領域にかけて絶縁膜を連続的に形成し、絶縁膜上にギャップ材が配置されることにより、シール領域と、画素領域とで基板間ギャップを同程度の値により近づけることができ且つ、シール領域における基板間ギャップの制御をより容易に行うことが可能となる。
【００２１】
本発明の電気光学装置の他の態様では、前記複数のダミー着色層は、前記シール領域の面積に対する、前記複数のダミー着色層の全ての配置面積及び前記間隔に係る隙間の全ての面積の各々の割合が夫々５０％程度となるように形成される。
【００２２】
この態様によれば、複数のダミー着色層、及び互いに隣り合うダミー着色層間の間隔に係る隙間の各々の配置面積が調整されることにより、絶縁膜の表面においてダミー着色層の位置する層におけるダミー着色層と互いに隣り合うダミー着色層間の隙間との間に生じる段差を緩和することが可能となる。
【００２３】
尚、この態様では、複数のダミー着色層の各々の配置面積を互いに同一としてもよいし、異ならせてもよい。この点については、互いに隣り合うダミー着色層間の間隔についても同様である。
【００２４】
本発明の電気光学装置の他の態様では、前記ダミー着色層の膜厚と前記間隔との比が１：１となるように形成される。
【００２５】
この態様によれば、各ダミー着色層の膜厚と、互いに隣り合うダミー着色層間の間隔との比が調整されることにより、例えば、ダミー着色層より上層側に形成された絶縁膜の表面においてダミー着色層の位置する層におけるダミー着色層と互いに隣り合うダミー着色層間の隙間との間に生じる段差を緩和することが可能となる。
【００２６】
本発明の電気光学装置の他の態様では、前記画素領域の周辺において、前記一対の基板間の電気的な導通を行うための上下導通部に形成された上下導通材を備え、前記ダミー着色層は、前記上下導通部にも形成される。
【００２７】
この態様によれば、電気光学装置の動作時に、上下導通部において電気的導通がなされることにより、一対の基板間に挟持された液晶には所定の電圧が印加される。上下導通部にもダミー着色層が形成されることにより、シール領域と同様に、画素領域における基板間ギャップに対して上下導通部における基板間ギャップを同程度の値に近づけることが可能となる。従って、上下導通材の径を、画素領域における基板間ギャップに対して異ならせる必要が無くなり、より精度良くセルギャップの制御を行うことができる。
【００２８】
本発明の電子機器は上記課題を解決するために、上述した本発明の電気光学装置（但し、その各種態様も含む）を具備してなる。
【００２９】
本発明の電子機器によれば、上述した本発明の電気光学装置を具備してなるので、高品位な表示を行うことが可能な、投射型表示装置、携帯電話、電子手帳、ワードプロセッサ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルなどの各種電子機器を実現できる。
【００３０】
本発明のこのような作用及び他の利得は次に説明する実施するための最良の形態から明らかにされる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
以下図面を参照しながら、本発明に係る電気光学装置並びに電子機器の各実施形態を説明する。尚、本実施形態では、電気光学装置の一例として、駆動回路内蔵型のＴＦＴアクティブマトリクス駆動方式の液晶装置を例に挙げる。
【００３２】
先ず、本実施形態に係る液晶装置の全体構成について、図１及び図２を参照して説明する。ここに図１は、ＴＦＴアレイ基板をその上に形成された各構成要素と共に対向基板の側から見た液晶装置の平面図であり、図２は、図１のＨ−Ｈ´線断面図である。
【００３３】
図１及び図２において、本実施形態に係る液晶装置は、対向配置されたＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とから構成されている。ＴＦＴアレイ基板１０は例えば石英基板、ガラス基板、シリコン基板等の透明基板である。対向基板２０も例えばＴＦＴアレイ基板１０と同様の材料からなる透明基板である。ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間には液晶層５０が封入されており、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とは、画像表示領域１０ａの周囲に位置するシール領域５２ａに設けられたシール材５２により相互に接着されている。なお、画像表示領域１０ａは、表示に寄与する光が出射され、画像表示を行うことが可能な領域であり、本発明に係る「画素領域」の一例である。ここに、「画素領域」は、額縁遮光膜５３が配置される額縁領域において、少なくとも部分的に、表示には寄与しないが画素を模して形成されたダミー画素が配置される場合には、画像表示領域１０ａから額縁領域をも少なくとも部分的に含む場合もある。
【００３４】
シール材５２は、両基板を貼り合わせるための、例えば紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂等からなり、製造プロセスにおいてＴＦＴアレイ基板１０上に塗布された後、紫外線照射、加熱等により硬化させられたものである。また、例えばシール材５２中には、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間隔（基板間ギャップ）を所定値とするためのグラスファイバ或いはガラスビーズ等のギャップ材５６が散布されている。本実施形態に係る液晶装置は、プロジェクタのライトバルブ用として小型で拡大表示を行うのに適している。
【００３５】
シール材５２が配置されたシール領域５２ａの内側に並行して、画像表示領域１０ａの額縁領域を規定する遮光性の額縁遮光膜５３が、対向基板２０側に設けられている。但し、このような額縁遮光膜５３の一部又は全部は、ＴＦＴアレイ基板１０側に内蔵遮光膜として設けられてもよい。
【００３６】
ＴＦＴアレイ基板１０上における、周辺領域に配置された周辺回路領域には、データ線駆動回路１０１及びサンプリング回路７、走査線駆動回路１０４、外部回路接続端子１０２がそれぞれ形成される。
【００３７】
シール領域５２ａより外周側に、データ線駆動回路１０１及び外部回路接続端子１０２が、ＴＦＴアレイ基板１０の一辺に沿って設けられている。また、シール領域５２ａより内側に位置する領域には、ＴＦＴアレイ基板１０の一辺に沿う画像表示領域１０ａの一辺に沿って且つ額縁遮光膜５３に覆われるようにしてサンプリング回路７が配置される。走査線駆動回路１０４は、ＴＦＴアレイ基板１０の一辺に隣接する２辺に沿い、且つ、額縁遮光膜５３に覆われるようにして設けられている。更に、このように画像表示領域１０ａの両側に設けられた二つの走査線駆動回路１０４間を電気的に接続するため、ＴＦＴアレイ基板１０の残る一辺に沿い、且つ額縁遮光膜５３に覆われるようにして複数の配線１０５が設けられている。
【００３８】
また、ＴＦＴアレイ基板１０上の周辺領域において、対向基板２０の４つのコーナー部に対して、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０間の電気的導通を行うための上下導通部１０６ａが設けられている。
【００３９】
図２において、ＴＦＴアレイ基板１０上には、駆動素子である画素スイッチング用のＴＦＴや走査線、データ線等の配線が作り込まれた積層構造が形成される。画像表示領域１０ａには、画素スイッチング用ＴＦＴ(Thin Film Transistor)や走査線、データ線等の配線の上層に、絶縁膜１４を介して画素電極９ａがマトリクス状に設けられている。画素電極９ａ上には、配向膜（図２中、図示省略）が形成される。尚、本実施形態では、画素スイッチング素子はＴＦＴのほか、各種トランジスタ或いはＴＦＤ等により構成されてもよい。
【００４０】
他方、対向基板２０におけるＴＦＴアレイ基板１０との対向面上に、遮光膜２３が形成されている。遮光膜２３は、例えば遮光性金属膜等から形成されており、対向基板２０上の画像表示領域１０ａ内で、例えば格子状等にパターニングされている。そして、遮光膜２３上（図２中遮光膜２３より下側）に、絶縁膜２４を介してＩＴＯ等の透明材料からなる対向電極２１が複数の画素電極９ａと対向して例えばベタ状に形成され、更に対向電極２１上（図２中対向電極２１より下側）には配向膜（図２中、図示省略）が形成される。
【００４１】
液晶層５０は、例えば一種又は数種類のネマティック液晶を混合した液晶からなり、これら一対の配向膜間で、所定の配向状態をとる。そして、液晶装置の駆動時、夫々に電圧が印加されることで、画素電極９ａと対向電極２１との間には液晶保持容量が形成される。
【００４２】
尚、ここでは図示しないが、ＴＦＴアレイ基板１０上には、データ線駆動回路１０１、走査線駆動回路１０４の他に、複数のデータ線に所定電圧レベルのプリチャージ信号を画像信号に先行して各々供給するプリチャージ回路、製造途中や出荷時の当該液晶装置の品質、欠陥等を検査するための検査回路等が形成されていてもよい。
【００４３】
次に、図３から図６を参照して、対向基板の構成をより詳細に説明する。図３は、図１において点線Ａ０で囲まれた部分における、対向基板側の主要な構成要素の配置関係を概略的に示す部分拡大平面図であり、図４は、図３のＡ−Ａ’線に沿う断面部分の構成を示す断面図であり、図５は、比較例の構成について図４に対応する断面部分の構成を示す断面図である。図６は、図３のＢ−Ｂ’線に沿う断面部分の構成を示す断面図である。尚、図３から図６では、各層・各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、該各層・各部材ごとに縮尺を異ならしめてある。この点については、後述の該当する各図について同様である。また、図４及び図６では、対向基板側に着目して、その主要な構成を図示すると共にＴＦＴアレイ基板側の詳細な構成について図示を省略し、その説明は省略することもある。
【００４４】
図３から図６において、シール領域５２ａに配置されたシール材５２により対向基板２０は、ＴＦＴアレイ基板１０と貼り合わされる。また、図４及び図６において、シール領域５２ａに配置されたギャップ材５６により、対向基板２０及びＴＦＴアレイ基板１０間のギャップが制御されることで、セルギャップが調整される。
【００４５】
図３又は図４において、複数の画素の各々において、典型的には例えば赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の３色のうちいずれかの色に相当する光を表示に寄与する光として出射可能なように、対向基板２０上の画像表示領域１０ａには着色層Ｃｆが設けられる。この場合、着色層Ｃｆは、対向基板２０上においてＲ、Ｇ、Ｂの各色毎に複数設けられる。
【００４６】
ここに、液晶装置の動作時に液晶５０には画素電極９ａ及び対向電極２１間の電位差に応じた電圧が印加される。液晶５０は、印加される電圧レベルにより分子集合の配向や秩序が変化することにより、光を変調し、階調表示を可能とする。各画素では着色層Ｃｆを介して液晶５０を透過した光が表示に寄与する光として出射されることにより、画像表示領域１０ａではカラー表示を行うことが可能となる。尚、各画素では、画素スイッチング用のＴＦＴ等の駆動素子が設けられることで画素電極９ａに対する画像信号の供給が所定のタイミングで行われ、アクティブマトリクス駆動が可能となる。
【００４７】
一方、図３及び図４において、対向基板２０上のシール領域５２ａには、複数のダミー着色層ｄＣｆが設けられる。複数のダミー着色層ｄＣｆは、画像表示領域１０ａにおける複数の着色層Ｃｆのうち少なくとも一の着色層Ｃｆを模擬して形成される。より具体的には、複数のダミー着色層ｄＣｆの各々は、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色のうち、いずれか一色の着色層Ｃｆを模擬して、着色層Ｃｆと同一の層に形成される。よって、複数のダミー着色層ｄＣｆは夫々、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色のうち、いずれか一色の着色層Ｃｆと同一の膜厚を有するように、これに加えて若しくは代えて同一の材料により、形成される。複数のダミー着色層ｄＣｆは、画像表示領域１０ａ外のシール領域５２ａに配置され、着色層Ｃｆと同様の構成を有していても、着色層Ｃｆと同様には機能しない。
【００４８】
図４及び図６において、対向基板２０におけるＴＦＴアレイ基板２０との対向面側において、画像表示領域１０ａにおいて遮光膜２３上に着色層Ｃｆが形成されると共に、着色層Ｃｆと同一層において、シール領域５２ａにダミー着色層ｄＣｆが形成される。着色層Ｃｆ及びダミー着色層ｄＣｆを埋め込んで、その上層側に絶縁膜２４が形成され、この絶縁膜２４上に、図２を参照して説明したように対向電極２１及び配向膜２２が形成される。尚、図４において、ＴＦＴアレイ基板１０側の対向基板２０との対向面側においては、画像表示領域１０ａにおいて複数の画素電極９ａ上に配向膜１６が形成される。
【００４９】
図３又は図６に示されるように、複数のダミー着色層ｄＣｆは夫々間隔ｄｐを空けてシール領域５２ａに配列される。複数のダミー着色層ｄＣｆについて夫々、膜厚やシール領域５２ａにおける配置面積等の構成に加えて、配列における隣り合うダミー着色層ｄＣｆ間の間隔ｄｐは次のように調整される。図６において、シール領域５２ａの複数のダミー着色層ｄＣｆより上層側において、これらを覆って本発明に係る「絶縁膜」の一例としての絶縁膜２４が形成されている。この絶縁膜２４の表面において、ダミー着色層ｄＣｆに応じる位置の表面部分と、隣り合うダミー着色層ｄＣｆ間の隙間に応じる位置の表面部分との間の高低差による段差が、ダミー着色層ｄＣｆの位置する層におけるダミー着色層ｄＣｆと互いに隣り合うダミー着色層ｄＣｆ間の隙間との間に生じる段差より小さくなり、この段差が絶縁膜２４の表面において緩和されるように、ダミー着色層ｄＣｆが形成され且つダミー着色層ｄＣｆ間の間隔ｄｐが調整される。
【００５０】
このため、本実施形態では、対向基板２０上におけるシール領域５２ａの配置面積に対して、複数のダミー着色層ｄＣｆの全ての配置面積、及び隣り合うダミー着色層ｄＣｆ間の間隔ｄｐによる隙間の全ての配置面積の各々の割合が夫々５０％程度となるように形成されるのが好ましい。加えて、図６において、ダミー着色層ｄＣｆの膜厚ｈ０と、ダミー着色層ｄＣｆ間の間隔ｄｐとの比が１：１となるように形成されるのがよい。この場合、複数のダミー着色層ｄＣｆ及びダミー着色層ｄＣｆ間の間隔ｄｐによる隙間について夫々、各々の配置面積を互いに同一としてもよいし、異ならせてもよい。また、複数のダミー着色層ｄＣｆは夫々、各間隔ｄｐが所定値となるように規則的に配列されていてもよいし、間隔ｄｐ毎に異なる値となるような不規則的な配列として形成されてもよい。
【００５１】
また、図４において、画像表示領域１０ａでは、複数の着色層Ｃｆにおいて例えばＲ、Ｇ、Ｂの各色毎に着色層Ｃｆの膜厚が異なることで、着色層Ｃｆ間に段差が生じることがある。上述したように、画像表示領域１０ａにおいても、絶縁膜２４が複数の着色層Ｃｆを埋め込んで形成されることにより、着色層Ｃｆの配置される層の表面に生じる段差をも埋めこまれる。よって、この段差を絶縁膜２４の表面において緩和させることが可能となる。
【００５２】
一方、シール領域５２ａにおいては、上述したようにダミー着色層ｄＣｆの構成に加えてダミー着色層ｄＣｆ間の間隔ｄｐが調整されることで、ダミー着色層ｄＣｆの位置する層において、ダミー着色層ｄＣｆと、隣り合うダミー着色層ｄＣｆ間の隙間との間に生じる段差を、それよりも上層側において、これを埋め込んで絶縁膜２４が画像表示領域１０ａから連続的に形成されることにより、絶縁膜２４の表面において緩和することが可能となる。従って、絶縁膜２４において、画像表示領域１０ａからシール領域５２ａに亘って連続的に平坦化された表面を形成することができる。
【００５３】
ここに、図５に示す比較例について、本実施形態と異なる点に着目すれば、シール領域５２ａにはダミー着色層ｄＣｆは形成されていないため、対向基板２０上において、着色層Ｃｆの配置される層では、シール領域５２ａと画像表示領域１０ａとでは着色層Ｃｆの存否に基づく段差が生じている。その結果、画像表示領域１０ａにおける基板間ギャップｄ０に対して、シール領域５２ａにおける基板間ギャップが異なるため、ギャップ材５６の径ｒ１も画像表示領域１０ａにおける基板間ギャップｄ０に対して異なることとなる。この場合、セルギャップを制御するために、ギャップ材５６の径ｒ１を画像表示領域１０ａにおける基板間ギャップｄ０に対して調整する必要が生じ、セルギャップの制御が煩雑となるおそれがある。
【００５４】
これに対して本実施形態では、図４において、対向基板２０上において着色層Ｃｆの配置される層において、着色層Ｃｆが形成されないシール領域５２ａと、画像表示領域１０ａとで生じる段差を、シール領域５２ａにダミー着色層ｄＣｆを配置することで、図５に示す構成と比較してより小さくすることが可能となる。これにより、シール領域５２ａと、画像表示領域１０ａとで基板間ギャップを同程度の値に近づけることができ、理想的には同一とすることができる。従って、シール領域５２ａにおけるギャップ材の径ｒ０を、画像表示領域１０ａにおける基板間ギャップｄ０に対して異ならせる必要が無くなる。また、画像表示領域１０ａからシール領域５２ａに亘って連続的に絶縁膜２４の表面を平坦化することができるため、このように平坦化された絶縁膜２４上にギャップ材５６が配置されることで、シール領域５２ａにおける基板間ギャップの制御をより容易に行うことができる。従って、セルギャップの制御が煩雑となるのを防止することが可能となる。
【００５５】
また、図６において、複数のダミー着色層ｄＣｆは夫々、隣り合うダミー着色層ｄＣｆとの間に隙間が空いており、この隙間を介してシール材５２に対して例えば同図中矢印Ｐ０で示される進行方向に従って光を照射させることにより、シール材５２を容易に光硬化させることが可能となる。
【００５６】
従って以上説明したような本実施形態では、シール領域５２ａに配置されたギャップ材５６により、セルギャップの制御を容易に且つ精度良く行うことが可能となる。その結果、画像表示領域１０ａにギャップ材を配置しなくても、表示ムラ等の表示不良の発生を防止することができるため、高精細な表示を行うと共に液晶装置を小型化することが可能となる。
【００５７】
尚、図３に示すように、複数のダミー着色層ｄＣｆは夫々ストライプ状に配置する構成に限られず、例えば市松模様状に配置する構成とするようにしてもよい。
【００５８】
次に、本実施形態に対する一の変形例について説明する。本変形例においては、対向基板２０側に加えて若しくは代えて、ＴＦＴアレイ基板１０側に着色層が形成されると共に、ダミー着色層が配置される。
【００５９】
ここに、図７は、図１において点線Ｂ０で囲まれた部分における、ＴＦＴアレイ基板側の主要な構成要素の配置関係を概略的に示す部分拡大平面図であり、図８は、図７のＣ−Ｃ’線に沿う断面部分の構成を示す断面図である。尚、図７及び図８では、ＴＦＴアレイ基板側に着目して、その主要な構成を図示すると共に対向基板側の詳細な構成について図示を省略し、その説明は省略することもある。
【００６０】
図７又は図８において、ＴＦＴアレイ基板１０上において、図３から図６と同様に、画像表示領域１０ａに着色層Ｃｆが設けられ、且つシール領域５２ａに複数のダミー着色層ｄＣｆが間隔を空けて配列される。
【００６１】
ここに、図８において、ＴＦＴアレイ基板１０上の画像表示領域１０ａには、積層構造において各種配線６ａ及びＴＦＴ３０ａが作りこまれており、これらよりも上層側に着色層Ｃｆが形成されると共に、着色層Ｃｆを埋め込んで絶縁膜１４が形成され、絶縁膜１４上に画素電極９ａが形成されている。
【００６２】
また、図７において、ＴＦＴアレイ基板１０上の周辺領域には、図１を参照して説明したように、シール領域５２ａを含み、データ線駆動回路１０１や走査線駆動回路１０４等が設けられる周辺回路領域１１０が形成されている。図８において、周辺回路領域１１０においても、走査線駆動回路１０４等を形成する各種の配線６０ａやＴＦＴ３０ｂ等が積層構造内に作りこまれる。ダミー着色層ｄＣｆは、シール領域５２ａにおいて積層構造中の着色層Ｃｆと同一層に形成される。絶縁膜１４は、着色層Ｃｆ及びダミー着色層ｄＣｆを埋め込んで、画像表示領域１０ａからシール領域５２ａにまで連続的に形成される。
【００６３】
尚、図７又は図８に示すように、ダミー着色層ｄＣｆは、シール領域５２ａからシール領域５２ａよりも内側に位置する周辺回路領域１１０の一部にまで延在させるようにしてもよい。
【００６４】
ここに、液晶５０はシール材５２が形成されるシール領域５２ａより内側において対向基板２０及びＴＦＴアレイ基板１０間に封入される。よって、上述したように、ダミー着色層ｄＣｆをシール領域５２ａよりも内側にまで延在させることにより、周辺回路領域１１０において、シール領域５２ａの配置された一部とシール領域５２ａより内側の他部において、ダミー着色層ｄＣｆの存否に基づく段差が生じて基板間ギャップが異なる事態を防止することができる。その結果、より容易に且つ精度良くセルギャップの制御を行うことが可能となる。尚、このようなダミー着色層ｄＣｆの構成は、図３から図６を参照して説明したような対向基板２０側の構成に適用させることもできる。
【００６５】
従って、本変形例においても、既に説明したような対向基板２０側にダミー着色層ｄＣｆが設けられる場合と同様の効果を得ることが可能である。
【００６６】
次に、本実施形態に対する他の変形例について説明する。ダミー着色層ｄＣｆを、上述したようにシール領域５２ａに配置するのに加えて、上下導通部１０６ａにも配置するようにしてもよい。
【００６７】
図９は、上下導通部に着目しその主要な構成を概略的に示す部分拡大平面図であり、図１０は、図９におけるＦ−Ｆ’線に沿う断面部分の構成を示す断面図である。
【００６８】
図１を参照して説明したように、上下導通部１０６ａは、例えば対向基板２０の４つのコーナー部に対し、これに対応するシール領域５２ａの角部に配置される。図１０に示すように、上下導通部１０６ａには、ＴＦＴアレイ基板１０側に上下導通端子１０６が配置されると共に、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０間に上下導通材５７が配置される。上下導通部１０６ａでは、上下導通端子１０６と、対向基板２０側に例えばベタ状に上下導通部１０６ａにまで形成された対向電極２１とが、上下導通材５７を介して電気的に接続される。
【００６９】
ダミー着色層ｄＣｆは、上下導通部１０６ａにおいて対向基板２０上に、例えば図９に示すように上下導通部１０６ａの平面形状に対応するパターンで、複数の着色層Ｃｆのうち少なくとも一の着色層Ｃｆを模擬して、着色層Ｃｆと同一の層に形成される。尚、図１０において、上下導通部１０６ａにおいて、ダミー着色層ｄＣｆを埋め込んで、その上層側に絶縁膜２４が形成され、この絶縁膜２４上に対向電極２１が形成される。
【００７０】
よって、上下導通部１０６ａにおいても、シール領域５２ａと同様に、画像表示領域１０ａにおける基板間ギャップに対して上下導通部１０６ａにおける基板間ギャップを同程度の値に近づけることが可能となる。従って、上下導通材５７の径ｒ０を、シール領域５２ａにおけるギャップ材５６（図４参照）と同程度とし、画像表示領域１０ａにおける基板間ギャップに対して異ならせる必要が無くなり、より精度良くセルギャップの制御を行うことができる。
【００７１】
尚、上下導通部１０６ａについても、シール領域５２ａと同様に対向基板２０側に加えて若しくは代えて、ＴＦＴアレイ基板１０側にダミー着色層ｄＣｆが配置されるようにしてもよい。
【００７２】
次に、上述した電気光学装置である液晶装置を各種の電子機器に適用する場合について説明する。ここに図１１は、プロジェクタの構成例を示す平面図である。以下では、この液晶装置をライトバルブとして用いたプロジェクタについて説明する。
【００７３】
図１１に示されるように、プロジェクタ１１００内部には、ハロゲンランプ等の白色光源からなるランプユニット１１０２が設けられている。このランプユニット１１０２から射出された投射光は、ライトガイド１１０４内に配置された４枚のミラー１１０６及び２枚のダイクロイックミラー１１０８によってＲＧＢの３原色に分離され、各原色に対応するライトバルブとしての液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂ及び１１１０Ｇに入射される。
【００７４】
液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂ及び１１１０Ｇの構成は、上述した液晶装置と同等であり、画像信号処理回路から供給されるＲ、Ｇ、Ｂの原色信号でそれぞれ駆動されるものである。そして、これらの液晶パネルによって変調された光は、ダイクロイックプリズム１１１２に３方向から入射される。このダイクロイックプリズム１１１２においては、Ｒ及びＢの光が９０度に屈折する一方、Ｇの光が直進する。従って、各色の画像が合成される結果、投射レンズ１１１４を介して、スクリーン等にカラー画像が投写されることとなる。
【００７５】
尚、図１１を参照して説明した電子機器の他にも、モバイル型のパーソナルコンピュータや、携帯電話、液晶テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた装置等が挙げられる。そして、これらの各種電子機器に適用可能なのは言うまでもない。
【００７６】
また、本発明は上述の各実施形態で説明した液晶装置以外にも反射型液晶装置（ＬＣＯＳ）等にも適用可能である。
【００７７】
本発明は、上述した実施形態に限られるものではなく、請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う電気光学装置、及び該電気光学装置を備えた電子機器もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。
【図面の簡単な説明】
【００７８】
【図１】本実施形態に係る液晶装置の概略的な平面図である。
【図２】図１のＨ−Ｈ'線断面図である。
【図３】図１において点線Ａ０で囲まれた部分における、対向基板側の主要な構成要素の配置関係を概略的に示す部分拡大平面図である。
【図４】図３のＡ−Ａ’線に沿う断面部分の構成を示す断面図である。
【図５】比較例の構成について図４に対応する断面部分の構成を示す断面図である。
【図６】図３のＢ−Ｂ’線に沿う断面部分の構成を示す断面図である。
【図７】図１において点線Ｂ０で囲まれた部分における、ＴＦＴアレイ基板側の主要な構成要素の配置関係を概略的に示す部分拡大平面図である。
【図８】図７のＣ−Ｃ’線に沿う断面部分の構成を示す断面図である。
【図９】上下導通部に着目しその主要な構成を概略的に示す部分拡大平面図である。
【図１０】図９におけるＦ−Ｆ’線に沿う断面部分の構成を示す断面図である。
【図１１】液晶装置を適用した電子機器の一例たるプロジェクタの構成を示す平面図である。
【符号の説明】
【００７９】
１０…ＴＦＴアレイ基板、１０ａ…画像表示領域、２０…対向基板、５２ａ…シール領域、５２…シール材、５６…ギャップ材、Ｃｆ…着色層、ｄＣｆ…ダミー着色層
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば液晶装置等の電気光学装置、及び該電気光学装置を備えた、例えば液晶プロジェクタ等の電子機器の技術分野に関する。
【背景技術】
【０００２】
この種の電気光学装置は、複数の画素部が形成された画素領域の周辺におけるシール領域においてシール材により一対の基板が貼り合わされ、一対の基板間には電気光学物質として例えば液晶が挟持される。この一対の基板間における液晶の厚み（セルギャップ）を制御するために、少なくともシール領域にギャップ材が設けられ一対の基板間の間隔（基板間ギャップ）が制御される。
【０００３】
画素領域に配置された複数の画素部の各々でカラー表示を行うために、一対の基板のうち少なくとも一方の基板上の画素領域に着色層が設けられる。この場合、画素領域と着色層が設けられないシール領域とでは、着色層の配置される層において段差が生じ、基板間ギャップが異なることとなる。特許文献１によれば、このような事態を回避するために、シール領域において着色層を形成する。また、特許文献２によれば、シール領域において部分的に青色の着色層を形成し、この着色層を介してシール領域に光を照射させることによりシール材を光硬化させる。
【０００４】
【特許文献１】特開平５−３４６８２号公報
【特許文献２】特開２００７−４１６２５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ここに、特許文献１に開示された構成において、光硬化性のシール材により一対の基板を貼り合わせる場合には、シール領域に着色層を配置させずに、シール材に対して光を照射させる領域を確保する必要がある。また、特許文献２に開示された構成によれば、着色層の配置される層においてシール領域には、着色層の配置された部分と、着色層の配置されない部分とで段差が生じ、各々の部分で基板間ギャップが異なる不具合が生じる。ここに、着色層より上層側にはそれよりも下層側の層の段差を緩和させるための平坦化膜が形成されることがある。しかしながら、着色層はその本来の機能を発揮させるために比較的大きい膜厚を有しており、その上層側に平坦化膜を形成したとしても、シール領域において平坦化膜の表面には着色層の存否に起因する段差が生じる。よって、結果的にはシール領域に生じた段差により、基板間ギャップの制御が困難となる。
【０００６】
本発明は例えば上記問題点等に鑑みてなされたものであり、シール領域において容易に基板間ギャップを制御することが可能な電気光学装置及びこのような電気光学装置を具備してなる電子機器を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の電気光学装置は上記課題を解決するために、一対の基板と、該一対の基板のうち少なくとも一方の基板上の画素領域に形成され、互いに異なる色を有する複数の着色層と、前記一対の基板間における前記画素領域の周囲に沿って配置され、前記一対の基板間のギャップを制御するギャップ材を含んでなると共に前記一対の基板を互いに貼り合せるシール材と、前記少なくとも一方の基板上の少なくとも前記シール材が配置されたシール領域に、前記複数の着色層と同一層に間隔を空けて配列され、前記複数の着色層のうち少なくとも一の着色層を模擬する複数のダミー着色層とを備える。
【０００８】
本発明の電気光学装置によれば、一対の基板がシール領域においてシール材によって互いに貼り合わされ、これらの基板間に電気光学物質として例えば液晶が封入される。また、シール材にはギャップ材が散布或いは混入されており、このギャップ材によって一対の基板間のギャップが制御されることにより、セルギャップ（液晶の厚み）が調整される。
【０００９】
本発明の電気光学装置において、複数の画素の各々において複数色として、典型的には例えば赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の３色のうちいずれかの色に相当する光を表示に寄与する光として出射可能なように、一対の基板のうち少なくとも一方の基板上の画素領域（即ち、複数の画素が配列されてなる画素アレイ領域或いは画像表示領域）に着色層が設けられる。着色層は、基板上の画素領域において複数色として例えばＲ、Ｇ、Ｂの各色毎に複数設けられる。
【００１０】
一方、このように着色層が設けられた基板上において、周辺領域のうち少なくともシール領域には複数のダミー着色層が設けられる。複数のダミー着色層は夫々、複数の着色層のうち少なくとも一の着色層を模擬して、この着色層と同一層に形成される。より具体的には、複数の着色層のうち少なくとも一の着色層について、例えばこの着色層と同一の膜厚を有するようにこれに加えて若しくは代えて同一の材料により、複数のダミー着色層は夫々形成される。
【００１１】
従って、基板上において着色層の配置される層において、着色層が形成されないシール領域と着色層が形成される画素領域とで生じる段差を、仮にシール領域にダミー着色層を形成しない場合と比較してより小さくすることが可能となる。これにより、シール領域と画素領域とで基板間ギャップを同程度の値に近づけることができ、理想的には同一とすることができる。従って、シール材に含まれるギャップ材の径を、画素領域における基板間ギャップに対して異ならせる必要が無くなり、セルギャップの制御が煩雑となるのを防止することが可能となる。
【００１２】
尚、一対の基板間において、液晶はシール材が形成されるシール領域より内周側において一対の基板間に封入される。ダミー着色層は、周辺領域において、シール領域からシール領域よりも内周側に位置する部分にまで延在させるように形成してもよい。このように構成すれば、液晶が封入される周辺領域の一部において、ダミー着色層の存否に基づく段差が生じて、シール領域と基板間ギャップが相違する事態を防止することができる。
【００１３】
また、複数のダミー着色層は夫々間隔を空けてシール領域に配列される。よって、配列された複数のダミー着色層は夫々、互いに隣り合うダミー着色層との間に隙間が空いており、この隙間を介してシール材に対して光を照射させることにより、シール材を容易に光硬化させることが可能となる。
【００１４】
本発明の電気光学装置の一態様では、前記少なくとも一方の基板上における前記複数のダミー着色層より上層側に、少なくとも前記シール領域に形成された絶縁膜を備え、前記複数のダミー着色層は、前記絶縁膜の上層側表面における、前記複数のダミー着色層及び前記間隔の各々に基づいて生じる段差が緩和されるように、夫々形成されると共に前記間隔が調整される。
【００１５】
この態様によれば、複数のダミー画素領域より上層側にこれらを覆って絶縁膜が形成され、該絶縁膜の上層側表面において、ダミー着色層に対応する位置の表面部分と、互いに隣り合うダミー着色層間の隙間に対応する位置の表面部分との間の高低差による段差が、ダミー着色層の位置する層におけるダミー着色層と互いに隣り合うダミー着色層間の隙間との間に生じる段差より小さくなり、この段差が絶縁膜の表面において緩和されるように、ダミー着色層が形成され且つ互いに隣り合うダミー着色層間の間隔が調整される。従って、絶縁膜の表面において、ダミー着色層の位置する層におけるダミー着色層と隣り合うダミー着色層間の隙間との間に生じる段差に応じて、比較的大きな段差が生じるのを防止し、その表面を平坦化することが可能となる。
【００１６】
よって、このように平坦化された絶縁膜上にギャップ材が配置されることにより、シール領域における基板間ギャップの制御をより容易に行うことができる。従って、本態様によれば、シール材に含まれるギャップ材により、セルギャップの制御を容易に且つ精度良く行うことが可能となる。その結果、表示ムラ等の表示不良の発生を防止しつつ高精細な表示を行うことができ、且つ電気光学装置を小型化することが可能となる。
【００１７】
上述した絶縁膜を備える態様では、前記絶縁膜は、前記画素領域から前記シール領域に前記複数の着色層及び前記複数のダミー着色層を埋め込んで連続的に形成される。
【００１８】
この態様によれば、画素領域において、絶縁膜が着色層の配置される層の表面に生じる段差を埋めこんで形成されることで、この段差を絶縁膜の表面において緩和させることが可能となる。従って、複数の着色層において例えばＲ、Ｇ、Ｂの各色毎に着色層の膜厚が異なることで、着色層間に生じる段差を絶縁膜を形成することで緩和させることができる。
【００１９】
一方、シール領域においては、上述したように絶縁膜の表面において、ダミー着色層の位置する層における段差が緩和されるように、ダミー着色層が形成されると共に隣り合うダミー着色層間の間隔が調整される。従って、ダミー着色層の位置する層において、ダミー着色層と隣り合うダミー着色層間の隙間との間に生じる段差を、それよりも上層側において、これを埋め込んで絶縁膜が画素領域から連続的に形成されることにより、絶縁膜の表面において緩和することが可能となる。
【００２０】
よって、以上によりこの態様によれば、シール領域から画素領域にかけて絶縁膜を連続的に形成し、絶縁膜上にギャップ材が配置されることにより、シール領域と、画素領域とで基板間ギャップを同程度の値により近づけることができ且つ、シール領域における基板間ギャップの制御をより容易に行うことが可能となる。
【００２１】
本発明の電気光学装置の他の態様では、前記複数のダミー着色層は、前記シール領域の面積に対する、前記複数のダミー着色層の全ての配置面積及び前記間隔に係る隙間の全ての面積の各々の割合が夫々５０％程度となるように形成される。
【００２２】
この態様によれば、複数のダミー着色層、及び互いに隣り合うダミー着色層間の間隔に係る隙間の各々の配置面積が調整されることにより、絶縁膜の表面においてダミー着色層の位置する層におけるダミー着色層と互いに隣り合うダミー着色層間の隙間との間に生じる段差を緩和することが可能となる。
【００２３】
尚、この態様では、複数のダミー着色層の各々の配置面積を互いに同一としてもよいし、異ならせてもよい。この点については、互いに隣り合うダミー着色層間の間隔についても同様である。
【００２４】
本発明の電気光学装置の他の態様では、前記ダミー着色層の膜厚と前記間隔との比が１：１となるように形成される。
【００２５】
この態様によれば、各ダミー着色層の膜厚と、互いに隣り合うダミー着色層間の間隔との比が調整されることにより、例えば、ダミー着色層より上層側に形成された絶縁膜の表面においてダミー着色層の位置する層におけるダミー着色層と互いに隣り合うダミー着色層間の隙間との間に生じる段差を緩和することが可能となる。
【００２６】
本発明の電気光学装置の他の態様では、前記画素領域の周辺において、前記一対の基板間の電気的な導通を行うための上下導通部に形成された上下導通材を備え、前記ダミー着色層は、前記上下導通部にも形成される。
【００２７】
この態様によれば、電気光学装置の動作時に、上下導通部において電気的導通がなされることにより、一対の基板間に挟持された液晶には所定の電圧が印加される。上下導通部にもダミー着色層が形成されることにより、シール領域と同様に、画素領域における基板間ギャップに対して上下導通部における基板間ギャップを同程度の値に近づけることが可能となる。従って、上下導通材の径を、画素領域における基板間ギャップに対して異ならせる必要が無くなり、より精度良くセルギャップの制御を行うことができる。
【００２８】
本発明の電子機器は上記課題を解決するために、上述した本発明の電気光学装置（但し、その各種態様も含む）を具備してなる。
【００２９】
本発明の電子機器によれば、上述した本発明の電気光学装置を具備してなるので、高品位な表示を行うことが可能な、投射型表示装置、携帯電話、電子手帳、ワードプロセッサ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルなどの各種電子機器を実現できる。
【００３０】
本発明のこのような作用及び他の利得は次に説明する実施するための最良の形態から明らかにされる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
以下図面を参照しながら、本発明に係る電気光学装置並びに電子機器の各実施形態を説明する。尚、本実施形態では、電気光学装置の一例として、駆動回路内蔵型のＴＦＴアクティブマトリクス駆動方式の液晶装置を例に挙げる。
【００３２】
先ず、本実施形態に係る液晶装置の全体構成について、図１及び図２を参照して説明する。ここに図１は、ＴＦＴアレイ基板をその上に形成された各構成要素と共に対向基板の側から見た液晶装置の平面図であり、図２は、図１のＨ−Ｈ´線断面図である。
【００３３】
図１及び図２において、本実施形態に係る液晶装置は、対向配置されたＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とから構成されている。ＴＦＴアレイ基板１０は例えば石英基板、ガラス基板、シリコン基板等の透明基板である。対向基板２０も例えばＴＦＴアレイ基板１０と同様の材料からなる透明基板である。ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間には液晶層５０が封入されており、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とは、画像表示領域１０ａの周囲に位置するシール領域５２ａに設けられたシール材５２により相互に接着されている。なお、画像表示領域１０ａは、表示に寄与する光が出射され、画像表示を行うことが可能な領域であり、本発明に係る「画素領域」の一例である。ここに、「画素領域」は、額縁遮光膜５３が配置される額縁領域において、少なくとも部分的に、表示には寄与しないが画素を模して形成されたダミー画素が配置される場合には、画像表示領域１０ａから額縁領域をも少なくとも部分的に含む場合もある。
【００３４】
シール材５２は、両基板を貼り合わせるための、例えば紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂等からなり、製造プロセスにおいてＴＦＴアレイ基板１０上に塗布された後、紫外線照射、加熱等により硬化させられたものである。また、例えばシール材５２中には、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間隔（基板間ギャップ）を所定値とするためのグラスファイバ或いはガラスビーズ等のギャップ材５６が散布されている。本実施形態に係る液晶装置は、プロジェクタのライトバルブ用として小型で拡大表示を行うのに適している。
【００３５】
シール材５２が配置されたシール領域５２ａの内側に並行して、画像表示領域１０ａの額縁領域を規定する遮光性の額縁遮光膜５３が、対向基板２０側に設けられている。但し、このような額縁遮光膜５３の一部又は全部は、ＴＦＴアレイ基板１０側に内蔵遮光膜として設けられてもよい。
【００３６】
ＴＦＴアレイ基板１０上における、周辺領域に配置された周辺回路領域には、データ線駆動回路１０１及びサンプリング回路７、走査線駆動回路１０４、外部回路接続端子１０２がそれぞれ形成される。
【００３７】
シール領域５２ａより外周側に、データ線駆動回路１０１及び外部回路接続端子１０２が、ＴＦＴアレイ基板１０の一辺に沿って設けられている。また、シール領域５２ａより内側に位置する領域には、ＴＦＴアレイ基板１０の一辺に沿う画像表示領域１０ａの一辺に沿って且つ額縁遮光膜５３に覆われるようにしてサンプリング回路７が配置される。走査線駆動回路１０４は、ＴＦＴアレイ基板１０の一辺に隣接する２辺に沿い、且つ、額縁遮光膜５３に覆われるようにして設けられている。更に、このように画像表示領域１０ａの両側に設けられた二つの走査線駆動回路１０４間を電気的に接続するため、ＴＦＴアレイ基板１０の残る一辺に沿い、且つ額縁遮光膜５３に覆われるようにして複数の配線１０５が設けられている。
【００３８】
また、ＴＦＴアレイ基板１０上の周辺領域において、対向基板２０の４つのコーナー部に対して、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０間の電気的導通を行うための上下導通部１０６ａが設けられている。
【００３９】
図２において、ＴＦＴアレイ基板１０上には、駆動素子である画素スイッチング用のＴＦＴや走査線、データ線等の配線が作り込まれた積層構造が形成される。画像表示領域１０ａには、画素スイッチング用ＴＦＴ(Thin Film Transistor)や走査線、データ線等の配線の上層に、絶縁膜１４を介して画素電極９ａがマトリクス状に設けられている。画素電極９ａ上には、配向膜（図２中、図示省略）が形成される。尚、本実施形態では、画素スイッチング素子はＴＦＴのほか、各種トランジスタ或いはＴＦＤ等により構成されてもよい。
【００４０】
他方、対向基板２０におけるＴＦＴアレイ基板１０との対向面上に、遮光膜２３が形成されている。遮光膜２３は、例えば遮光性金属膜等から形成されており、対向基板２０上の画像表示領域１０ａ内で、例えば格子状等にパターニングされている。そして、遮光膜２３上（図２中遮光膜２３より下側）に、絶縁膜２４を介してＩＴＯ等の透明材料からなる対向電極２１が複数の画素電極９ａと対向して例えばベタ状に形成され、更に対向電極２１上（図２中対向電極２１より下側）には配向膜（図２中、図示省略）が形成される。
【００４１】
液晶層５０は、例えば一種又は数種類のネマティック液晶を混合した液晶からなり、これら一対の配向膜間で、所定の配向状態をとる。そして、液晶装置の駆動時、夫々に電圧が印加されることで、画素電極９ａと対向電極２１との間には液晶保持容量が形成される。
【００４２】
尚、ここでは図示しないが、ＴＦＴアレイ基板１０上には、データ線駆動回路１０１、走査線駆動回路１０４の他に、複数のデータ線に所定電圧レベルのプリチャージ信号を画像信号に先行して各々供給するプリチャージ回路、製造途中や出荷時の当該液晶装置の品質、欠陥等を検査するための検査回路等が形成されていてもよい。
【００４３】
次に、図３から図６を参照して、対向基板の構成をより詳細に説明する。図３は、図１において点線Ａ０で囲まれた部分における、対向基板側の主要な構成要素の配置関係を概略的に示す部分拡大平面図であり、図４は、図３のＡ−Ａ’線に沿う断面部分の構成を示す断面図であり、図５は、比較例の構成について図４に対応する断面部分の構成を示す断面図である。図６は、図３のＢ−Ｂ’線に沿う断面部分の構成を示す断面図である。尚、図３から図６では、各層・各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、該各層・各部材ごとに縮尺を異ならしめてある。この点については、後述の該当する各図について同様である。また、図４及び図６では、対向基板側に着目して、その主要な構成を図示すると共にＴＦＴアレイ基板側の詳細な構成について図示を省略し、その説明は省略することもある。
【００４４】
図３から図６において、シール領域５２ａに配置されたシール材５２により対向基板２０は、ＴＦＴアレイ基板１０と貼り合わされる。また、図４及び図６において、シール領域５２ａに配置されたギャップ材５６により、対向基板２０及びＴＦＴアレイ基板１０間のギャップが制御されることで、セルギャップが調整される。
【００４５】
図３又は図４において、複数の画素の各々において、典型的には例えば赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の３色のうちいずれかの色に相当する光を表示に寄与する光として出射可能なように、対向基板２０上の画像表示領域１０ａには着色層Ｃｆが設けられる。この場合、着色層Ｃｆは、対向基板２０上においてＲ、Ｇ、Ｂの各色毎に複数設けられる。
【００４６】
ここに、液晶装置の動作時に液晶５０には画素電極９ａ及び対向電極２１間の電位差に応じた電圧が印加される。液晶５０は、印加される電圧レベルにより分子集合の配向や秩序が変化することにより、光を変調し、階調表示を可能とする。各画素では着色層Ｃｆを介して液晶５０を透過した光が表示に寄与する光として出射されることにより、画像表示領域１０ａではカラー表示を行うことが可能となる。尚、各画素では、画素スイッチング用のＴＦＴ等の駆動素子が設けられることで画素電極９ａに対する画像信号の供給が所定のタイミングで行われ、アクティブマトリクス駆動が可能となる。
【００４７】
一方、図３及び図４において、対向基板２０上のシール領域５２ａには、複数のダミー着色層ｄＣｆが設けられる。複数のダミー着色層ｄＣｆは、画像表示領域１０ａにおける複数の着色層Ｃｆのうち少なくとも一の着色層Ｃｆを模擬して形成される。より具体的には、複数のダミー着色層ｄＣｆの各々は、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色のうち、いずれか一色の着色層Ｃｆを模擬して、着色層Ｃｆと同一の層に形成される。よって、複数のダミー着色層ｄＣｆは夫々、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色のうち、いずれか一色の着色層Ｃｆと同一の膜厚を有するように、これに加えて若しくは代えて同一の材料により、形成される。複数のダミー着色層ｄＣｆは、画像表示領域１０ａ外のシール領域５２ａに配置され、着色層Ｃｆと同様の構成を有していても、着色層Ｃｆと同様には機能しない。
【００４８】
図４及び図６において、対向基板２０におけるＴＦＴアレイ基板２０との対向面側において、画像表示領域１０ａにおいて遮光膜２３上に着色層Ｃｆが形成されると共に、着色層Ｃｆと同一層において、シール領域５２ａにダミー着色層ｄＣｆが形成される。着色層Ｃｆ及びダミー着色層ｄＣｆを埋め込んで、その上層側に絶縁膜２４が形成され、この絶縁膜２４上に、図２を参照して説明したように対向電極２１及び配向膜２２が形成される。尚、図４において、ＴＦＴアレイ基板１０側の対向基板２０との対向面側においては、画像表示領域１０ａにおいて複数の画素電極９ａ上に配向膜１６が形成される。
【００４９】
図３又は図６に示されるように、複数のダミー着色層ｄＣｆは夫々間隔ｄｐを空けてシール領域５２ａに配列される。複数のダミー着色層ｄＣｆについて夫々、膜厚やシール領域５２ａにおける配置面積等の構成に加えて、配列における隣り合うダミー着色層ｄＣｆ間の間隔ｄｐは次のように調整される。図６において、シール領域５２ａの複数のダミー着色層ｄＣｆより上層側において、これらを覆って本発明に係る「絶縁膜」の一例としての絶縁膜２４が形成されている。この絶縁膜２４の表面において、ダミー着色層ｄＣｆに応じる位置の表面部分と、隣り合うダミー着色層ｄＣｆ間の隙間に応じる位置の表面部分との間の高低差による段差が、ダミー着色層ｄＣｆの位置する層におけるダミー着色層ｄＣｆと互いに隣り合うダミー着色層ｄＣｆ間の隙間との間に生じる段差より小さくなり、この段差が絶縁膜２４の表面において緩和されるように、ダミー着色層ｄＣｆが形成され且つダミー着色層ｄＣｆ間の間隔ｄｐが調整される。
【００５０】
このため、本実施形態では、対向基板２０上におけるシール領域５２ａの配置面積に対して、複数のダミー着色層ｄＣｆの全ての配置面積、及び隣り合うダミー着色層ｄＣｆ間の間隔ｄｐによる隙間の全ての配置面積の各々の割合が夫々５０％程度となるように形成されるのが好ましい。加えて、図６において、ダミー着色層ｄＣｆの膜厚ｈ０と、ダミー着色層ｄＣｆ間の間隔ｄｐとの比が１：１となるように形成されるのがよい。この場合、複数のダミー着色層ｄＣｆ及びダミー着色層ｄＣｆ間の間隔ｄｐによる隙間について夫々、各々の配置面積を互いに同一としてもよいし、異ならせてもよい。また、複数のダミー着色層ｄＣｆは夫々、各間隔ｄｐが所定値となるように規則的に配列されていてもよいし、間隔ｄｐ毎に異なる値となるような不規則的な配列として形成されてもよい。
【００５１】
また、図４において、画像表示領域１０ａでは、複数の着色層Ｃｆにおいて例えばＲ、Ｇ、Ｂの各色毎に着色層Ｃｆの膜厚が異なることで、着色層Ｃｆ間に段差が生じることがある。上述したように、画像表示領域１０ａにおいても、絶縁膜２４が複数の着色層Ｃｆを埋め込んで形成されることにより、着色層Ｃｆの配置される層の表面に生じる段差をも埋めこまれる。よって、この段差を絶縁膜２４の表面において緩和させることが可能となる。
【００５２】
一方、シール領域５２ａにおいては、上述したようにダミー着色層ｄＣｆの構成に加えてダミー着色層ｄＣｆ間の間隔ｄｐが調整されることで、ダミー着色層ｄＣｆの位置する層において、ダミー着色層ｄＣｆと、隣り合うダミー着色層ｄＣｆ間の隙間との間に生じる段差を、それよりも上層側において、これを埋め込んで絶縁膜２４が画像表示領域１０ａから連続的に形成されることにより、絶縁膜２４の表面において緩和することが可能となる。従って、絶縁膜２４において、画像表示領域１０ａからシール領域５２ａに亘って連続的に平坦化された表面を形成することができる。
【００５３】
ここに、図５に示す比較例について、本実施形態と異なる点に着目すれば、シール領域５２ａにはダミー着色層ｄＣｆは形成されていないため、対向基板２０上において、着色層Ｃｆの配置される層では、シール領域５２ａと画像表示領域１０ａとでは着色層Ｃｆの存否に基づく段差が生じている。その結果、画像表示領域１０ａにおける基板間ギャップｄ０に対して、シール領域５２ａにおける基板間ギャップが異なるため、ギャップ材５６の径ｒ１も画像表示領域１０ａにおける基板間ギャップｄ０に対して異なることとなる。この場合、セルギャップを制御するために、ギャップ材５６の径ｒ１を画像表示領域１０ａにおける基板間ギャップｄ０に対して調整する必要が生じ、セルギャップの制御が煩雑となるおそれがある。
【００５４】
これに対して本実施形態では、図４において、対向基板２０上において着色層Ｃｆの配置される層において、着色層Ｃｆが形成されないシール領域５２ａと、画像表示領域１０ａとで生じる段差を、シール領域５２ａにダミー着色層ｄＣｆを配置することで、図５に示す構成と比較してより小さくすることが可能となる。これにより、シール領域５２ａと、画像表示領域１０ａとで基板間ギャップを同程度の値に近づけることができ、理想的には同一とすることができる。従って、シール領域５２ａにおけるギャップ材の径ｒ０を、画像表示領域１０ａにおける基板間ギャップｄ０に対して異ならせる必要が無くなる。また、画像表示領域１０ａからシール領域５２ａに亘って連続的に絶縁膜２４の表面を平坦化することができるため、このように平坦化された絶縁膜２４上にギャップ材５６が配置されることで、シール領域５２ａにおける基板間ギャップの制御をより容易に行うことができる。従って、セルギャップの制御が煩雑となるのを防止することが可能となる。
【００５５】
また、図６において、複数のダミー着色層ｄＣｆは夫々、隣り合うダミー着色層ｄＣｆとの間に隙間が空いており、この隙間を介してシール材５２に対して例えば同図中矢印Ｐ０で示される進行方向に従って光を照射させることにより、シール材５２を容易に光硬化させることが可能となる。
【００５６】
従って以上説明したような本実施形態では、シール領域５２ａに配置されたギャップ材５６により、セルギャップの制御を容易に且つ精度良く行うことが可能となる。その結果、画像表示領域１０ａにギャップ材を配置しなくても、表示ムラ等の表示不良の発生を防止することができるため、高精細な表示を行うと共に液晶装置を小型化することが可能となる。
【００５７】
尚、図３に示すように、複数のダミー着色層ｄＣｆは夫々ストライプ状に配置する構成に限られず、例えば市松模様状に配置する構成とするようにしてもよい。
【００５８】
次に、本実施形態に対する一の変形例について説明する。本変形例においては、対向基板２０側に加えて若しくは代えて、ＴＦＴアレイ基板１０側に着色層が形成されると共に、ダミー着色層が配置される。
【００５９】
ここに、図７は、図１において点線Ｂ０で囲まれた部分における、ＴＦＴアレイ基板側の主要な構成要素の配置関係を概略的に示す部分拡大平面図であり、図８は、図７のＣ−Ｃ’線に沿う断面部分の構成を示す断面図である。尚、図７及び図８では、ＴＦＴアレイ基板側に着目して、その主要な構成を図示すると共に対向基板側の詳細な構成について図示を省略し、その説明は省略することもある。
【００６０】
図７又は図８において、ＴＦＴアレイ基板１０上において、図３から図６と同様に、画像表示領域１０ａに着色層Ｃｆが設けられ、且つシール領域５２ａに複数のダミー着色層ｄＣｆが間隔を空けて配列される。
【００６１】
ここに、図８において、ＴＦＴアレイ基板１０上の画像表示領域１０ａには、積層構造において各種配線６ａ及びＴＦＴ３０ａが作りこまれており、これらよりも上層側に着色層Ｃｆが形成されると共に、着色層Ｃｆを埋め込んで絶縁膜１４が形成され、絶縁膜１４上に画素電極９ａが形成されている。
【００６２】
また、図７において、ＴＦＴアレイ基板１０上の周辺領域には、図１を参照して説明したように、シール領域５２ａを含み、データ線駆動回路１０１や走査線駆動回路１０４等が設けられる周辺回路領域１１０が形成されている。図８において、周辺回路領域１１０においても、走査線駆動回路１０４等を形成する各種の配線６０ａやＴＦＴ３０ｂ等が積層構造内に作りこまれる。ダミー着色層ｄＣｆは、シール領域５２ａにおいて積層構造中の着色層Ｃｆと同一層に形成される。絶縁膜１４は、着色層Ｃｆ及びダミー着色層ｄＣｆを埋め込んで、画像表示領域１０ａからシール領域５２ａにまで連続的に形成される。
【００６３】
尚、図７又は図８に示すように、ダミー着色層ｄＣｆは、シール領域５２ａからシール領域５２ａよりも内側に位置する周辺回路領域１１０の一部にまで延在させるようにしてもよい。
【００６４】
ここに、液晶５０はシール材５２が形成されるシール領域５２ａより内側において対向基板２０及びＴＦＴアレイ基板１０間に封入される。よって、上述したように、ダミー着色層ｄＣｆをシール領域５２ａよりも内側にまで延在させることにより、周辺回路領域１１０において、シール領域５２ａの配置された一部とシール領域５２ａより内側の他部において、ダミー着色層ｄＣｆの存否に基づく段差が生じて基板間ギャップが異なる事態を防止することができる。その結果、より容易に且つ精度良くセルギャップの制御を行うことが可能となる。尚、このようなダミー着色層ｄＣｆの構成は、図３から図６を参照して説明したような対向基板２０側の構成に適用させることもできる。
【００６５】
従って、本変形例においても、既に説明したような対向基板２０側にダミー着色層ｄＣｆが設けられる場合と同様の効果を得ることが可能である。
【００６６】
次に、本実施形態に対する他の変形例について説明する。ダミー着色層ｄＣｆを、上述したようにシール領域５２ａに配置するのに加えて、上下導通部１０６ａにも配置するようにしてもよい。
【００６７】
図９は、上下導通部に着目しその主要な構成を概略的に示す部分拡大平面図であり、図１０は、図９におけるＦ−Ｆ’線に沿う断面部分の構成を示す断面図である。
【００６８】
図１を参照して説明したように、上下導通部１０６ａは、例えば対向基板２０の４つのコーナー部に対し、これに対応するシール領域５２ａの角部に配置される。図１０に示すように、上下導通部１０６ａには、ＴＦＴアレイ基板１０側に上下導通端子１０６が配置されると共に、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０間に上下導通材５７が配置される。上下導通部１０６ａでは、上下導通端子１０６と、対向基板２０側に例えばベタ状に上下導通部１０６ａにまで形成された対向電極２１とが、上下導通材５７を介して電気的に接続される。
【００６９】
ダミー着色層ｄＣｆは、上下導通部１０６ａにおいて対向基板２０上に、例えば図９に示すように上下導通部１０６ａの平面形状に対応するパターンで、複数の着色層Ｃｆのうち少なくとも一の着色層Ｃｆを模擬して、着色層Ｃｆと同一の層に形成される。尚、図１０において、上下導通部１０６ａにおいて、ダミー着色層ｄＣｆを埋め込んで、その上層側に絶縁膜２４が形成され、この絶縁膜２４上に対向電極２１が形成される。
【００７０】
よって、上下導通部１０６ａにおいても、シール領域５２ａと同様に、画像表示領域１０ａにおける基板間ギャップに対して上下導通部１０６ａにおける基板間ギャップを同程度の値に近づけることが可能となる。従って、上下導通材５７の径ｒ０を、シール領域５２ａにおけるギャップ材５６（図４参照）と同程度とし、画像表示領域１０ａにおける基板間ギャップに対して異ならせる必要が無くなり、より精度良くセルギャップの制御を行うことができる。
【００７１】
尚、上下導通部１０６ａについても、シール領域５２ａと同様に対向基板２０側に加えて若しくは代えて、ＴＦＴアレイ基板１０側にダミー着色層ｄＣｆが配置されるようにしてもよい。
【００７２】
次に、上述した電気光学装置である液晶装置を各種の電子機器に適用する場合について説明する。ここに図１１は、プロジェクタの構成例を示す平面図である。以下では、この液晶装置をライトバルブとして用いたプロジェクタについて説明する。
【００７３】
図１１に示されるように、プロジェクタ１１００内部には、ハロゲンランプ等の白色光源からなるランプユニット１１０２が設けられている。このランプユニット１１０２から射出された投射光は、ライトガイド１１０４内に配置された４枚のミラー１１０６及び２枚のダイクロイックミラー１１０８によってＲＧＢの３原色に分離され、各原色に対応するライトバルブとしての液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂ及び１１１０Ｇに入射される。
【００７４】
液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂ及び１１１０Ｇの構成は、上述した液晶装置と同等であり、画像信号処理回路から供給されるＲ、Ｇ、Ｂの原色信号でそれぞれ駆動されるものである。そして、これらの液晶パネルによって変調された光は、ダイクロイックプリズム１１１２に３方向から入射される。このダイクロイックプリズム１１１２においては、Ｒ及びＢの光が９０度に屈折する一方、Ｇの光が直進する。従って、各色の画像が合成される結果、投射レンズ１１１４を介して、スクリーン等にカラー画像が投写されることとなる。
【００７５】
尚、図１１を参照して説明した電子機器の他にも、モバイル型のパーソナルコンピュータや、携帯電話、液晶テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた装置等が挙げられる。そして、これらの各種電子機器に適用可能なのは言うまでもない。
【００７６】
また、本発明は上述の各実施形態で説明した液晶装置以外にも反射型液晶装置（ＬＣＯＳ）等にも適用可能である。
【００７７】
本発明は、上述した実施形態に限られるものではなく、請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う電気光学装置、及び該電気光学装置を備えた電子機器もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。
【図面の簡単な説明】
【００７８】
【図１】本実施形態に係る液晶装置の概略的な平面図である。
【図２】図１のＨ−Ｈ'線断面図である。
【図３】図１において点線Ａ０で囲まれた部分における、対向基板側の主要な構成要素の配置関係を概略的に示す部分拡大平面図である。
【図４】図３のＡ−Ａ’線に沿う断面部分の構成を示す断面図である。
【図５】比較例の構成について図４に対応する断面部分の構成を示す断面図である。
【図６】図３のＢ−Ｂ’線に沿う断面部分の構成を示す断面図である。
【図７】図１において点線Ｂ０で囲まれた部分における、ＴＦＴアレイ基板側の主要な構成要素の配置関係を概略的に示す部分拡大平面図である。
【図８】図７のＣ−Ｃ’線に沿う断面部分の構成を示す断面図である。
【図９】上下導通部に着目しその主要な構成を概略的に示す部分拡大平面図である。
【図１０】図９におけるＦ−Ｆ’線に沿う断面部分の構成を示す断面図である。
【図１１】液晶装置を適用した電子機器の一例たるプロジェクタの構成を示す平面図である。
【符号の説明】
【００７９】
１０…ＴＦＴアレイ基板、１０ａ…画像表示領域、２０…対向基板、５２ａ…シール領域、５２…シール材、５６…ギャップ材、Ｃｆ…着色層、ｄＣｆ…ダミー着色層
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板と、
該一対の基板のうち少なくとも一方の基板上の画素領域に形成され、互いに異なる色を有する複数の着色層と、
前記一対の基板間における前記画素領域の周囲に沿って配置され、前記一対の基板間のギャップを制御するギャップ材を含んでなると共に前記一対の基板を互いに貼り合せるシール材と、
前記少なくとも一方の基板上の少なくとも前記シール材が配置されたシール領域に、前記複数の着色層と同一層に間隔を空けて配列され、前記複数の着色層のうち少なくとも一の着色層を模擬する複数のダミー着色層と
を備えることを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記少なくとも一方の基板上における前記複数のダミー着色層より上層側に、少なくとも前記シール領域に形成された絶縁膜を備え、
前記複数のダミー着色層は、前記絶縁膜の上層側表面における、前記複数のダミー着色層及び前記間隔の各々に基づいて生じる段差が緩和されるように、夫々形成されると共に前記間隔が調整される
ことを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記絶縁膜は、前記画素領域から前記シール領域に前記複数の着色層及び前記複数のダミー着色層を埋め込んで連続的に形成されることを特徴とする請求項２に記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記複数のダミー着色層は、前記シール領域の面積に対する、前記複数のダミー着色層の全ての配置面積及び前記間隔に係る隙間の全ての面積の各々の割合が夫々５０％程度となるように形成されることを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項５】
前記ダミー着色層の膜厚と前記間隔との比が１：１となるように形成されることを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項６】
前記画素領域の周辺において、前記一対の基板間の電気的な導通を行うための上下導通部に形成された上下導通材を備え、
前記ダミー着色層は、前記上下導通部にも形成される
ことを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項７】
請求項１から６のいずれか一項に記載の電気光学装置を具備してなることを特徴とする電子機器。
【請求項１】
一対の基板と、
該一対の基板のうち少なくとも一方の基板上の画素領域に形成され、互いに異なる色を有する複数の着色層と、
前記一対の基板間における前記画素領域の周囲に沿って配置され、前記一対の基板間のギャップを制御するギャップ材を含んでなると共に前記一対の基板を互いに貼り合せるシール材と、
前記少なくとも一方の基板上の少なくとも前記シール材が配置されたシール領域に、前記複数の着色層と同一層に間隔を空けて配列され、前記複数の着色層のうち少なくとも一の着色層を模擬する複数のダミー着色層と
を備えることを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記少なくとも一方の基板上における前記複数のダミー着色層より上層側に、少なくとも前記シール領域に形成された絶縁膜を備え、
前記複数のダミー着色層は、前記絶縁膜の上層側表面における、前記複数のダミー着色層及び前記間隔の各々に基づいて生じる段差が緩和されるように、夫々形成されると共に前記間隔が調整される
ことを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記絶縁膜は、前記画素領域から前記シール領域に前記複数の着色層及び前記複数のダミー着色層を埋め込んで連続的に形成されることを特徴とする請求項２に記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記複数のダミー着色層は、前記シール領域の面積に対する、前記複数のダミー着色層の全ての配置面積及び前記間隔に係る隙間の全ての面積の各々の割合が夫々５０％程度となるように形成されることを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項５】
前記ダミー着色層の膜厚と前記間隔との比が１：１となるように形成されることを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項６】
前記画素領域の周辺において、前記一対の基板間の電気的な導通を行うための上下導通部に形成された上下導通材を備え、
前記ダミー着色層は、前記上下導通部にも形成される
ことを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項７】
請求項１から６のいずれか一項に記載の電気光学装置を具備してなることを特徴とする電子機器。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【公開番号】特開２００９−１６３１６８（Ｐ２００９−１６３１６８Ａ）
【公開日】平成２１年７月２３日（２００９．７．２３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−２９０３（Ｐ２００８−２９０３）
【出願日】平成２０年１月１０日（２００８．１．１０）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年７月２３日（２００９．７．２３）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年１月１０日（２００８．１．１０）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
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