高屈折で高透明の光学ガラス
【課題】高屈折率で高透明の光学ガラスを提供する。
【解決手段】１．９４５≦ｎｄ≦１．９７の屈折率ｎｄ、３３≦νｄ≦３６のアッベ数νｄならびに４１０ｎｍおよび１０ｍｍの厚さで＞８０％の内部透過率を有する、鉛およびヒ素を含まない光学ガラスであって、前記ガラスはＢ３＋３５−４６カチオン％、Ｌａ３＋２５−３５カチオン％、Ｔａ５＋６−１４カチオン％、Ｗ６＋６−１３カチオン％、Ｚｒ４＋１−７カチオン％、Ｇｄ３＋０−５カチオン％、Ｎｂ５＋０−４カチオン％、Ｙ３＋０−４カチオン％、Ｂａ２＋０−２カチオン％、Σアルカリ土類酸化物０−２カチオン％を有することを特徴とする光学ガラス。
【解決手段】１．９４５≦ｎｄ≦１．９７の屈折率ｎｄ、３３≦νｄ≦３６のアッベ数νｄならびに４１０ｎｍおよび１０ｍｍの厚さで＞８０％の内部透過率を有する、鉛およびヒ素を含まない光学ガラスであって、前記ガラスはＢ３＋３５−４６カチオン％、Ｌａ３＋２５−３５カチオン％、Ｔａ５＋６−１４カチオン％、Ｗ６＋６−１３カチオン％、Ｚｒ４＋１−７カチオン％、Ｇｄ３＋０−５カチオン％、Ｎｂ５＋０−４カチオン％、Ｙ３＋０−４カチオン％、Ｂａ２＋０−２カチオン％、Σアルカリ土類酸化物０−２カチオン％を有することを特徴とする光学ガラス。
【発明の詳細な説明】
【発明の概要】
【０００１】
発明の詳細な説明
本発明は高屈折で高透明の光学ガラス、このようなガラスの使用、光学素子ならびにガラスおよび光学素子の製造方法にそれぞれ関する。
【０００２】
近年、光学技術および光電子技術（イメージング、投影、遠隔通信、光通信工学、モバイルドライブおよびレーザー技術の応用分野）の市場における小型化に対して増強された傾向がある。この傾向はますます小さくなる最終製品に見られ、当然このような最終製品の個々の部材と構成部品のさらなる小型化に対する要望をもたらす。従って屈折率を高めたガラス、すなわちより高い屈折率を有するガラスについての要望が存在する。加えて、同時にこれらの高屈折のガラスは低分散、すなわち高いアッベ数を有するべきである。高いアッベ数はレンズ系における色誤差（色収差）の修正を促進する。
【０００３】
通常、高い屈折率を有するガラスは低いアッベ数を有し、すなわちこれらはより高分散を有する。加えて、高まる質の要求のために材料の非常に高い内部透過率が必要である。高屈折ガラスはたいてい鉛、ビスマスまたはチタン酸化物を含み、これらは特にＵＶ領域において、内部透過率に対してマイナスの影響を有する。
【０００４】
実際、従来技術において同様の光学条件または化学組成を有するガラスは既に記載されているが、これらのガラスはかなりの不利点を有する。特に、多くのガラスはより高い割合のＳｉＯ２を含み、これは網目形成体としてガラスの変態点を高め、より長い粘度曲線の原因となりおよび屈折率を低下させる。ＳｉＯ２に加えて例えばＢ２Ｏ３、アルカリ酸化物および／またはＦのような成分も多くのガラスには含まれ、これらは屈折率の低下に加えて溶融および燃焼工程中に容易に気化するのでガラス組成の複雑で精密な調節を招く。
【０００５】
従来技術においてより大量の二酸化チタン成分（４重量％を超える）をしばしば用いるがこれは望ましくないことに結晶化への傾向を高め、アッベ数を低下させおよびＵＶ端をより長い波長領域の方向にシフトさせる。
【０００６】
高屈折ガラスにはとりわけ、ＴｈＯ２のような健康に有害である放射性成分も含まれる。
【０００７】
DE 0 691 356 は１．７１〜２．０１の高屈折率と１９〜５４のアッベ数を有する光学ガラスの製造方法を記載している。＞１．９４５の高屈折率と≧３３のアッベ数との組み合わせは記載されたガラス系では達成されない。加えて、ガラスはＴｉＯ２またはＴｈＯ２を含む。本発明によるガラスにおいて両成分は記載した理由によって含まれない。
【０００８】
JP 200601286 は精密で平滑な加圧成形に適した光学ガラスを記載している。後者はどの例も成分ＺｎＯとＬｉ２Ｏを含んでいるがこれらは屈折率とアッベ数の特定の組み合わせを容易にするために本発明によるガラスには含まれていない。JP 200601286 に記載されているガラスは１．９０の最大屈折率を容易にするのみである。
【０００９】
JP 2007269613 も精密で平滑な加圧成形を用いる加工のための光学ガラスを含む。従って、どの例もＺｎＯを５〜４２モル％の量で含んでいる。ＺｎＯは、ここに記載されているガラスの加工についての許容できる粘性挙動に関して粘性に好ましい影響を与える。しかしＺｎＯは屈折率を低下させもする。５モル％の最小の割合でも屈折率および所望される屈折率とアッベ数の組み合わせを達成することはできない。
【００１０】
文献 JP 534023 は１．７〜２．０の屈折率と２５〜５５のアッベ数を有するハフニウム含有光学ガラスを記載している。本発明によるガラスは酸化ハフニウム成分を含まない。何故ならこれは非常に高い溶融温度を必要とするので製造方法には都合が悪い。つまりこれはしばしば混合残留物すなわち溶解しない原料をもたらす可能性がある。
【００１１】
文献 WO 2008/050591 も精密で平滑な加圧成形に適する１．７８〜２．２の非常に高い屈折率と１６〜＜４０のアッベ数とを有する光学ガラスに関する。どの例も他の成分に加えてＺｎＯおよびＴｉＯ２とＮｂ２Ｏ５が含まれている。上記した理由のためＺｎＯはどの例でも除かれている。またＴｉＯ２とＮｂ２Ｏ５は合計で本発明によるガラスに２モル％を超える量では含まれない。両成分は内部透過率について、特にＵＶ端において不都合である。
【００１２】
JP 2007290899 はどの例でもフッ素を含み放射線保護に適するガラス組成物を記載している。しかしフッ素は揮発性の高い成分でありガラスを溶融した際に不均質性を容易にもたらす。加えて、これは屈折率を大いに低下させる。従って、フッ素は本発明によるガラスには含まれない。
【００１３】
高屈折ガラスの製造は難しく何故ならこれらは耐火材料を非常に激しく侵食するためである。このことはとりわけＢ２Ｏ３の割合に起因する。これは性質と均質性の著しい低下を招く。従ってシリカガラスるつぼの損傷の結果は例えばＳｉＯ２のストリーク（streak）、石英るつぼからのＳｉＯ２に起因する屈折率の低下または白金るつぼの侵食の場合は溶解した白金イオンか白金の金属粒子である。白金イオンはＵＶ領域において吸収してガラスの透過率のＵＶ領域における低下を招く、すなわちＵＶ端はより長い波長領域方向へとシフトする。他方で、白金粒子は散乱をもたらし波長の全領域に渡って透過率範囲の低下を招く。
【００１４】
耐火材料へのこの侵食は従来の溶融工程により溶融されたこれら光学ガラスがいくつかの用途については透過率と均質性に関して高まる技術的な要求をもはや満たさないという結果を有する。
【００１５】
加えて、記載したおよび必要とされる光学性質に加えてガラスは十分な化学的耐久性を有しかつ可能な限り低い膨張率を有するということが求められる。
【００１６】
所望の有利な光学性質（ｎｄ／νｄ＆τｉ）を有する光学ガラスを提供することが本発明の目的である。これらのガラスはイメージング、投影、遠隔通信、光通信工学、モバイルドライブおよびレーザー技術の応用分野に適するほうがよい。また容易に溶融してこれらを加工することができ、連続的に用いられる凝集体の製造を容易にする十分な結晶化安定性を有するほうがよい。さらに、光学ガラスは交番電磁場とりわけ高周波（省略：ＨＦ）の場と結合するほうがよく、その結果、大量のエネルギーを融液に誘導方式により与えることができる。その必要条件は最適な溶融を達成できる温度範囲に亘るガラスの良好な特有の導電率である。
【００１７】
高周波の交番場を用いる融液の直接誘電加熱は特に純粋な材料の製造を容易にする。というのは融液と加熱設備の材料との間の直接的な接触が起こらないためである。
【００１８】
上記目的を特許請求の範囲に記載する本発明の実施形態により解決する。
【００１９】
この明細書および特許請求の範囲において「Ｘを含まない」および「成分Ｘを含まない」という語は、それぞれ、この成分はガラスに特別な目的で意図的に加えられないが、ガラスの他の成分の不純物として加えられるにすぎないことを意味する。従ってこの成分Ｘはガラスに単一成分としては加えられない。
【００２０】
組成物の成分の含有量について上で示した情報をカチオン％で示し、ここでカチオンの全物質量の合計が参照値である。対応するアニオンは酸素アニオンである。
【００２１】
本発明によるガラスの基本系はランタン−タングステン−タンタル−ホウ素系であって意図する性質の優れた基礎となる。
【００２２】
特に、１．９４５≦ｎｄ≦１．９７の屈折率ｎｄと３３≦νｄ≦３６のアッベ数νｄとを有する光学ガラスを提供してこれは以下の成分（カチオン％で）を含む：
【表１−Ａ】
【００２３】
この場合、ガラスはＴｉ４＋、Ｔｈ４＋、Ｚｎ２＋、Ｆ−およびＨｆ４＋を含まない。好ましくは、ガラスは鉛、ヒ素、アルカリ、アルカリ土類およびビスマスも含まない。好ましくは、ガラスはＴｌ＋、Ｔｅ４＋およびＢｅ２＋も含まない。
【００２４】
本発明によるガラスはＴｉ４＋を含まない。この成分はＵＶ領域での吸収により透過率に悪影響を及ぼす。加えて、これは核剤として働くことがあり、失透を促進する。
【００２５】
特に好ましい実施形態によればガラスはアルカリ酸化物を含まない。アルカリイオンはガラスの屈折率を極度に低下させる。加えて、これらは融液中で気化する傾向を示して不均質性をもたらす。さらに、少ないモル質量を有するカチオンはＳｉ４＋について以下に記載する通り製造における本発明によるガラスの溶融安定性についての危険要素である。
【００２６】
本発明によるガラス中のアルカリ土類イオンの合計は０〜１カチオン％である。好ましくは多くて０．８カチオン％、より好ましくは多くて０．５カチオン％しか含まない。アルカリ土類金属酸化物の合計は多くて１カチオン％でありこの値は超えるべきでなく何故ならこのようなガラス系の屈折率があまりにも低下するだろうからである。アルカリ土類金属酸化物の添加はガラスの失透挙動の最適化のために用いられることがある。特に好ましい実施形態によればガラスはアルカリ土類酸化物を含まない。アルカリ土類酸化物はガラスの粘度曲線の急峻性をもたらしてホットプレス工程に関して好ましくない影響を有する。
【００２７】
製造に起因して、ガラスはＳｉ４＋を２カチオン％までの量で含んでいてもよい。多くて１．５カチオン％まで、好ましくは多くてＳｉ４＋を含むガラスがより適している。好ましくは、ガラスはＳｉ４＋を含まない。一方で、Ｓｉ４＋はガラスをその失透する傾向に対して安定化させることもあるが、ＨＦを用いた好ましい製造工程に関してはこのガラス系には不都合である。本発明によるガラスは実質的に（＞８６％）高いモル質量を有する成分からなる。しかし、本発明によるガラスの屈折率とアッベ数の安定性に対して融液の製造時間に亘って影響を及ぼしてばらつきをもたらすことがあるＳｉ４＋とＢ３＋は低いモル質量を有する。Ｂ３＋は良好な溶融性に必要ではあるけれど、Ｓｉ４＋は除いてもよく、従って製造工程の安定性を確実にすることができる。
【００２８】
Ｂ３＋のＳｉ４＋とＢ３＋の合計に対する物質量の比は０．５よりも高い。この比は少量のアルカリを含むかアルカリを含まないガラスにとって高周波との結合能力を確実にするためには特に重要である。
【００２９】
特に高周波場のような交番電磁場との融液の結合はこれに関連して誘導結合により融液中に与えられるエネルギー量が熱損失により失われる融液中のエネルギー量よりも高いことを意味する。このような場合にのみＨＦを用いる加熱による融液の温度の上昇または維持が可能である。
【００３０】
粘度−温度プロファイルと本発明によるガラスの加工温度を最適なホットプレスができるように調節する。
【００３１】
加えて、本発明によるガラスの結晶化安定性と適切な粘度−温度プロファイルの組み合わせは殆ど問題のない熱（さらなる）処理（加圧成形および／またはさらなる加圧成形）を容易にする。
【００３２】
特に、本発明によるガラスは１．９４５〜１．９７０、好ましくは１．９４６〜１．９６０、特に好ましくは１．９４７〜１．９５５の屈折率ｎｄを有する。好ましくは、ガラスは３３〜３６、好ましくは３３．１〜３５、好ましくは３３．２〜３５のアッベ数νｄにより特徴付けられる分散性を有する。
【００３３】
本発明の実施形態によると本発明によるガラスは７００℃以下、さらに好ましくは６９０℃以下の変態点Ｔｇを有する。
【００３４】
本発明によるガラスは少なくとも２５カチオン％、好ましくは少なくとも２６カチオン％、より好ましくは少なくとも２７カチオン％、特に好ましくは２８カチオン％のＬａ３＋の割合を有する。この下限値を下回るべきでなく、そうしないと高屈折率と高いアッベ数の組み合わせを達成できないためである。Ｌａ３＋の割合は多くて３５カチオン％、好ましくは３４カチオン％、より好ましくは３３カチオン％、特に好ましくは３２カチオン％に制限される。この上限を超えるべきではなく、そうしないとガラスの粘度があまりにも高まるだろうし加えて失透の傾向も高まるであろうからである。
【００３５】
Ｗ６＋も高い屈折率に寄与し、最低限の割合で６カチオン％、好ましくは７カチオン％、より好ましくは８カチオン％である。しかしながらＷ６＋は内部透過率に悪影響を及ぼす可能性があるため、Ｗ６＋の割合は多くて１３カチオン％、好ましくは多くて１２カチオン％、より好ましくは多くて１１カチオン％に制限される。
【００３６】
本発明によるガラスは少なくとも６カチオン％、好ましくは少なくとも７カチオン％、特に好ましくは少なくとも８カチオン％のＴａ５＋の割合を有する。Ｔａ５＋の最大割合は１４カチオン％、好ましくは多くて１３カチオン％、さらに好ましくは多くて１２カチオン％である。高屈折率を保証しおよび失透に対するガラスの安定性を与えるためにはこの下限値を下回るべきではない。加えて、定めた制限内のＴａ５＋は本発明によるこのガラスの高屈折率と高いアッベ数の組み合わせを保証する。
【００３７】
Ｂ３＋を網目形成体として用いることができ、従って少なくとも３５カチオン％、好ましくは少なくとも３６カチオン％、さらに好ましくは少なくとも３７カチオン％の量で含まれるべきである。しかしながら４６カチオン％、好ましくは４５カチオン％、より好ましくは４４カチオン％ですでに最大割合に達する。この割合を超えると、その際には本発明による高屈折率がもはや不可能である。しかしながら、記載した下限値を下回るべきでなく、何故ならＢ３＋の強力な網目形成性質は結晶化と化学的耐久性に対してのガラスの安定性を高めるためである。加えて、このようにしてガラスの溶融能力を得るであろう。
【００３８】
Ｇｄ３＋はガラスの光学性質に関してＬａ３＋のように作用する。従って、これをガラス中に５カチオン％まで、好ましくは４カチオン％まで、より好ましくは３．５カチオン％までの最大量で含むことができる。この上限値を超えるべきではなく、何故なら約５９０ｎｍに弱いバンドを有する希土類酸化物であるＧｄ３＋は内部透過率を低下させうるからである。
【００３９】
本発明によるガラスはＺｒ４＋を少なくとも１カチオン％、好ましくは少なくとも２カチオン％で多くて７カチオン％まで、好ましくは多くて６カチオン％、より好ましくは多くて５カチオン％の量で含む。
【００４０】
本発明によるガラスはＮｂ５＋を少なくとも０カチオン％、好ましくは少なくとも０．１カチオン％、より好ましくは０．５カチオン％で多くて４カチオン％、好ましくは多くて３カチオン％、より好ましくは多くて２カチオン％の量で含む。Ｎｂ５＋は高屈折率を促進するが、より低いアッベ数をもたらす。さらに、多くのＮｂ５＋を含むガラスは乏しい内部透過率を有する。従って、ガラスは２カチオン％を超えるＮｂ５＋を含むべきでない。
【００４１】
本発明によるガラスは少なくとも４カチオン％、好ましくは多くて３カチオン％、好ましくは多くて２．５カチオン％のＹ３＋の割合を有していてもよい。Ｙ３＋は高屈折率と高いアッベ数の望ましい組み合わせをサポートする。
【００４２】
好ましくは、カチオンＬａ３＋、Ｔａ５＋、Ｗ６＋、Ｚｒ４＋、Ｇｄ３＋、Ｎｂ５＋およびＹ３＋の合計は５０カチオン％以上、特に好ましくは５２カチオン％以上、より好ましくは５３カチオン％以上、特に好ましくは５４カチオン％以上である。この合計により本発明によるガラスの高屈折率と高いアッベ数の組み合わせが保証されるであろう。
【００４３】
光学ガラスとしての本発明によるガラスは好ましくはさらに着色活性および／または光学活性例えばレーザー活性の成分も含まない。
【００４４】
特に、本発明によるガラスは好ましくは酸化還元反応に敏感な成分、例えば銀またはビスマスも含まない。溶融温度において「酸化還元反応に敏感」な成分は融液中で原子価状態を容易に変化させるため望まない変色が起こることもあろう。この点でＡｇ＋は銀元素に容易に還元される可能性があり、これは黄変、すなわちＵＶ端の長波長領域方向へのシフトに加えて散乱をもたらす。
【００４５】
本発明の実施形態によれば本発明によるガラスは好ましくは特許請求の範囲に記載されていない他の成分も含まない、すなわちこのような実施形態によればガラスは記載されている成分から実質的になる。この場合において「実質的になる」という語は他の成分は不純物としてのみ存在することはあるが、ガラス組成物に単一成分として意図的には加えられないことを意味する。
【００４６】
本発明によるガラスは清澄剤を少量含んでいてもよい。好ましくは、加える清澄剤の合計は多くて０．３カチオン％、より好ましくは多くて０．２カチオン％、特に好ましくは０．１カチオン％である。本発明によるガラス中の清澄剤として以下の成分の少なくとも１種（カチオン％で）を含んでいてもよい：
Ｓｂ２Ｏ３ ０ − ０．３ および／または
ＳｎＯ ０ − ０．３ および／または
ＳＯ４２− ０ − ０．３ および／または
Ｆ− ０ − ０．３
【００４７】
本発明によるガラスは白金を白金イオンまたは白金粒子として６ｐｐｍよりも低い、好ましくは５ｐｐｍよりも低い含有量で含む。従ってそのＵＶ吸収が起こらないことおよびガラスが４１０ｎｍおよび１０ｍｍの層の厚さで８０％以上の高い内部透過率を得ることを保証する。
【００４８】
本発明によるガラスの膨張係数は好ましくは、２０〜３００℃の温度範囲に亘って測定して、９×１０−６／Ｋよりも低い範囲にある。４１０ｎｍおよび１０ｍｍの厚さでのガラスの内部透過率は８０％以上である。
【００４９】
さらに、本発明は本発明によるガラスのイメージング、投影、遠隔通信、光通信工学、モバイルドライブおよびレーザー技術の応用分野での使用に関する。
【００５０】
さらに、本発明は本発明によるガラスを含む光学素子に関する。この場合、特に光学素子はレンズ、非球面レンズ（aspheres）、プリズムおよび小型部品であろう。
【００５１】
また本発明は本発明によるガラスの製造方法に関し、交番電磁場による上記したガラス組成物の直接誘導加熱工程を含む。
【００５２】
さらに、本方法は好ましくは以下の工程を含む：
・上記の組成物の破片または混合物をスカルるつぼへ入れること
【００５３】
好ましくは、るつぼはアルミニウムからできている。スカルるつぼはそれ自体の材質内で溶融を促進するので特に純粋なガラスを得ることができる。混合物を不連続的にも連続的にも凝集状態で溶融させることができる。
【００５４】
さらに、本方法は好ましくは以下の工程を含む：
・混合物またはガラス破片の一部をバーナーにより液化させること、
・高周波場と事前に溶融した溶融材料を結合させて残りの材料または破片を融液への熱の供給により溶融させること。
【００５５】
その後にガラスの連続的または不連続な仕上げを行う。
【００５６】
加工を従来方式（白金内）または特に侵食的なガラス（aggressive glass）の場合には清澄に用いられる第２のＨＦユニットのいずれかにおいて行うことができる。用いられる方法は DE 10 257 049 に記載されている。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】図１は例のガラス４に係る本発明に係るガラスの内部透過率の曲線を示す。
【図２】図２は例のガラス４に係る本発明に係るガラスの粘度曲線を示す。これはホットプレスに関して１３５０℃よりも低い温度範囲を可能にし、ガラスの質たとえばストリークと透過率に関して利点を示す。
【００５８】
以下において本発明を一連の例により詳細に説明する。しかし本発明は記述した例に限定されない。
【００５９】
例：
酸化物のための原料を秤量し、１種以上の清澄剤を加えた後に十分に混合する。ガラス混合物を不連続または連続的な高周波溶融凝集体にスカルるつぼ内で溶融しおよび清澄化する（１４００℃）。１３５０℃以下のキャスト温度でガラスを所望の寸法にキャストおよび加工することができる。
【表１−Ｂ】
【００６０】
表２は本発明の１〜４に係るガラスについての例を含む
【表２】
【００６１】
好ましくは、本発明に係るガラスは７００℃以下のガラス転移点を有し、容易に加工されることができ、およびアルカリに対して優れた耐性（優れたアルカリ耐性）を有する。膨張係数は２０〜３００℃の温度範囲に亘って測定して９×１０−６／Ｋよりも十分に低い範囲にある。４１０ｎｍおよび１０ｍｍの厚さでのガラスの内部透過率は８０％以上である。
【発明の概要】
【０００１】
発明の詳細な説明
本発明は高屈折で高透明の光学ガラス、このようなガラスの使用、光学素子ならびにガラスおよび光学素子の製造方法にそれぞれ関する。
【０００２】
近年、光学技術および光電子技術（イメージング、投影、遠隔通信、光通信工学、モバイルドライブおよびレーザー技術の応用分野）の市場における小型化に対して増強された傾向がある。この傾向はますます小さくなる最終製品に見られ、当然このような最終製品の個々の部材と構成部品のさらなる小型化に対する要望をもたらす。従って屈折率を高めたガラス、すなわちより高い屈折率を有するガラスについての要望が存在する。加えて、同時にこれらの高屈折のガラスは低分散、すなわち高いアッベ数を有するべきである。高いアッベ数はレンズ系における色誤差（色収差）の修正を促進する。
【０００３】
通常、高い屈折率を有するガラスは低いアッベ数を有し、すなわちこれらはより高分散を有する。加えて、高まる質の要求のために材料の非常に高い内部透過率が必要である。高屈折ガラスはたいてい鉛、ビスマスまたはチタン酸化物を含み、これらは特にＵＶ領域において、内部透過率に対してマイナスの影響を有する。
【０００４】
実際、従来技術において同様の光学条件または化学組成を有するガラスは既に記載されているが、これらのガラスはかなりの不利点を有する。特に、多くのガラスはより高い割合のＳｉＯ２を含み、これは網目形成体としてガラスの変態点を高め、より長い粘度曲線の原因となりおよび屈折率を低下させる。ＳｉＯ２に加えて例えばＢ２Ｏ３、アルカリ酸化物および／またはＦのような成分も多くのガラスには含まれ、これらは屈折率の低下に加えて溶融および燃焼工程中に容易に気化するのでガラス組成の複雑で精密な調節を招く。
【０００５】
従来技術においてより大量の二酸化チタン成分（４重量％を超える）をしばしば用いるがこれは望ましくないことに結晶化への傾向を高め、アッベ数を低下させおよびＵＶ端をより長い波長領域の方向にシフトさせる。
【０００６】
高屈折ガラスにはとりわけ、ＴｈＯ２のような健康に有害である放射性成分も含まれる。
【０００７】
DE 0 691 356 は１．７１〜２．０１の高屈折率と１９〜５４のアッベ数を有する光学ガラスの製造方法を記載している。＞１．９４５の高屈折率と≧３３のアッベ数との組み合わせは記載されたガラス系では達成されない。加えて、ガラスはＴｉＯ２またはＴｈＯ２を含む。本発明によるガラスにおいて両成分は記載した理由によって含まれない。
【０００８】
JP 200601286 は精密で平滑な加圧成形に適した光学ガラスを記載している。後者はどの例も成分ＺｎＯとＬｉ２Ｏを含んでいるがこれらは屈折率とアッベ数の特定の組み合わせを容易にするために本発明によるガラスには含まれていない。JP 200601286 に記載されているガラスは１．９０の最大屈折率を容易にするのみである。
【０００９】
JP 2007269613 も精密で平滑な加圧成形を用いる加工のための光学ガラスを含む。従って、どの例もＺｎＯを５〜４２モル％の量で含んでいる。ＺｎＯは、ここに記載されているガラスの加工についての許容できる粘性挙動に関して粘性に好ましい影響を与える。しかしＺｎＯは屈折率を低下させもする。５モル％の最小の割合でも屈折率および所望される屈折率とアッベ数の組み合わせを達成することはできない。
【００１０】
文献 JP 534023 は１．７〜２．０の屈折率と２５〜５５のアッベ数を有するハフニウム含有光学ガラスを記載している。本発明によるガラスは酸化ハフニウム成分を含まない。何故ならこれは非常に高い溶融温度を必要とするので製造方法には都合が悪い。つまりこれはしばしば混合残留物すなわち溶解しない原料をもたらす可能性がある。
【００１１】
文献 WO 2008/050591 も精密で平滑な加圧成形に適する１．７８〜２．２の非常に高い屈折率と１６〜＜４０のアッベ数とを有する光学ガラスに関する。どの例も他の成分に加えてＺｎＯおよびＴｉＯ２とＮｂ２Ｏ５が含まれている。上記した理由のためＺｎＯはどの例でも除かれている。またＴｉＯ２とＮｂ２Ｏ５は合計で本発明によるガラスに２モル％を超える量では含まれない。両成分は内部透過率について、特にＵＶ端において不都合である。
【００１２】
JP 2007290899 はどの例でもフッ素を含み放射線保護に適するガラス組成物を記載している。しかしフッ素は揮発性の高い成分でありガラスを溶融した際に不均質性を容易にもたらす。加えて、これは屈折率を大いに低下させる。従って、フッ素は本発明によるガラスには含まれない。
【００１３】
高屈折ガラスの製造は難しく何故ならこれらは耐火材料を非常に激しく侵食するためである。このことはとりわけＢ２Ｏ３の割合に起因する。これは性質と均質性の著しい低下を招く。従ってシリカガラスるつぼの損傷の結果は例えばＳｉＯ２のストリーク（streak）、石英るつぼからのＳｉＯ２に起因する屈折率の低下または白金るつぼの侵食の場合は溶解した白金イオンか白金の金属粒子である。白金イオンはＵＶ領域において吸収してガラスの透過率のＵＶ領域における低下を招く、すなわちＵＶ端はより長い波長領域方向へとシフトする。他方で、白金粒子は散乱をもたらし波長の全領域に渡って透過率範囲の低下を招く。
【００１４】
耐火材料へのこの侵食は従来の溶融工程により溶融されたこれら光学ガラスがいくつかの用途については透過率と均質性に関して高まる技術的な要求をもはや満たさないという結果を有する。
【００１５】
加えて、記載したおよび必要とされる光学性質に加えてガラスは十分な化学的耐久性を有しかつ可能な限り低い膨張率を有するということが求められる。
【００１６】
所望の有利な光学性質（ｎｄ／νｄ＆τｉ）を有する光学ガラスを提供することが本発明の目的である。これらのガラスはイメージング、投影、遠隔通信、光通信工学、モバイルドライブおよびレーザー技術の応用分野に適するほうがよい。また容易に溶融してこれらを加工することができ、連続的に用いられる凝集体の製造を容易にする十分な結晶化安定性を有するほうがよい。さらに、光学ガラスは交番電磁場とりわけ高周波（省略：ＨＦ）の場と結合するほうがよく、その結果、大量のエネルギーを融液に誘導方式により与えることができる。その必要条件は最適な溶融を達成できる温度範囲に亘るガラスの良好な特有の導電率である。
【００１７】
高周波の交番場を用いる融液の直接誘電加熱は特に純粋な材料の製造を容易にする。というのは融液と加熱設備の材料との間の直接的な接触が起こらないためである。
【００１８】
上記目的を特許請求の範囲に記載する本発明の実施形態により解決する。
【００１９】
この明細書および特許請求の範囲において「Ｘを含まない」および「成分Ｘを含まない」という語は、それぞれ、この成分はガラスに特別な目的で意図的に加えられないが、ガラスの他の成分の不純物として加えられるにすぎないことを意味する。従ってこの成分Ｘはガラスに単一成分としては加えられない。
【００２０】
組成物の成分の含有量について上で示した情報をカチオン％で示し、ここでカチオンの全物質量の合計が参照値である。対応するアニオンは酸素アニオンである。
【００２１】
本発明によるガラスの基本系はランタン−タングステン−タンタル−ホウ素系であって意図する性質の優れた基礎となる。
【００２２】
特に、１．９４５≦ｎｄ≦１．９７の屈折率ｎｄと３３≦νｄ≦３６のアッベ数νｄとを有する光学ガラスを提供してこれは以下の成分（カチオン％で）を含む：
【表１−Ａ】
【００２３】
この場合、ガラスはＴｉ４＋、Ｔｈ４＋、Ｚｎ２＋、Ｆ−およびＨｆ４＋を含まない。好ましくは、ガラスは鉛、ヒ素、アルカリ、アルカリ土類およびビスマスも含まない。好ましくは、ガラスはＴｌ＋、Ｔｅ４＋およびＢｅ２＋も含まない。
【００２４】
本発明によるガラスはＴｉ４＋を含まない。この成分はＵＶ領域での吸収により透過率に悪影響を及ぼす。加えて、これは核剤として働くことがあり、失透を促進する。
【００２５】
特に好ましい実施形態によればガラスはアルカリ酸化物を含まない。アルカリイオンはガラスの屈折率を極度に低下させる。加えて、これらは融液中で気化する傾向を示して不均質性をもたらす。さらに、少ないモル質量を有するカチオンはＳｉ４＋について以下に記載する通り製造における本発明によるガラスの溶融安定性についての危険要素である。
【００２６】
本発明によるガラス中のアルカリ土類イオンの合計は０〜１カチオン％である。好ましくは多くて０．８カチオン％、より好ましくは多くて０．５カチオン％しか含まない。アルカリ土類金属酸化物の合計は多くて１カチオン％でありこの値は超えるべきでなく何故ならこのようなガラス系の屈折率があまりにも低下するだろうからである。アルカリ土類金属酸化物の添加はガラスの失透挙動の最適化のために用いられることがある。特に好ましい実施形態によればガラスはアルカリ土類酸化物を含まない。アルカリ土類酸化物はガラスの粘度曲線の急峻性をもたらしてホットプレス工程に関して好ましくない影響を有する。
【００２７】
製造に起因して、ガラスはＳｉ４＋を２カチオン％までの量で含んでいてもよい。多くて１．５カチオン％まで、好ましくは多くてＳｉ４＋を含むガラスがより適している。好ましくは、ガラスはＳｉ４＋を含まない。一方で、Ｓｉ４＋はガラスをその失透する傾向に対して安定化させることもあるが、ＨＦを用いた好ましい製造工程に関してはこのガラス系には不都合である。本発明によるガラスは実質的に（＞８６％）高いモル質量を有する成分からなる。しかし、本発明によるガラスの屈折率とアッベ数の安定性に対して融液の製造時間に亘って影響を及ぼしてばらつきをもたらすことがあるＳｉ４＋とＢ３＋は低いモル質量を有する。Ｂ３＋は良好な溶融性に必要ではあるけれど、Ｓｉ４＋は除いてもよく、従って製造工程の安定性を確実にすることができる。
【００２８】
Ｂ３＋のＳｉ４＋とＢ３＋の合計に対する物質量の比は０．５よりも高い。この比は少量のアルカリを含むかアルカリを含まないガラスにとって高周波との結合能力を確実にするためには特に重要である。
【００２９】
特に高周波場のような交番電磁場との融液の結合はこれに関連して誘導結合により融液中に与えられるエネルギー量が熱損失により失われる融液中のエネルギー量よりも高いことを意味する。このような場合にのみＨＦを用いる加熱による融液の温度の上昇または維持が可能である。
【００３０】
粘度−温度プロファイルと本発明によるガラスの加工温度を最適なホットプレスができるように調節する。
【００３１】
加えて、本発明によるガラスの結晶化安定性と適切な粘度−温度プロファイルの組み合わせは殆ど問題のない熱（さらなる）処理（加圧成形および／またはさらなる加圧成形）を容易にする。
【００３２】
特に、本発明によるガラスは１．９４５〜１．９７０、好ましくは１．９４６〜１．９６０、特に好ましくは１．９４７〜１．９５５の屈折率ｎｄを有する。好ましくは、ガラスは３３〜３６、好ましくは３３．１〜３５、好ましくは３３．２〜３５のアッベ数νｄにより特徴付けられる分散性を有する。
【００３３】
本発明の実施形態によると本発明によるガラスは７００℃以下、さらに好ましくは６９０℃以下の変態点Ｔｇを有する。
【００３４】
本発明によるガラスは少なくとも２５カチオン％、好ましくは少なくとも２６カチオン％、より好ましくは少なくとも２７カチオン％、特に好ましくは２８カチオン％のＬａ３＋の割合を有する。この下限値を下回るべきでなく、そうしないと高屈折率と高いアッベ数の組み合わせを達成できないためである。Ｌａ３＋の割合は多くて３５カチオン％、好ましくは３４カチオン％、より好ましくは３３カチオン％、特に好ましくは３２カチオン％に制限される。この上限を超えるべきではなく、そうしないとガラスの粘度があまりにも高まるだろうし加えて失透の傾向も高まるであろうからである。
【００３５】
Ｗ６＋も高い屈折率に寄与し、最低限の割合で６カチオン％、好ましくは７カチオン％、より好ましくは８カチオン％である。しかしながらＷ６＋は内部透過率に悪影響を及ぼす可能性があるため、Ｗ６＋の割合は多くて１３カチオン％、好ましくは多くて１２カチオン％、より好ましくは多くて１１カチオン％に制限される。
【００３６】
本発明によるガラスは少なくとも６カチオン％、好ましくは少なくとも７カチオン％、特に好ましくは少なくとも８カチオン％のＴａ５＋の割合を有する。Ｔａ５＋の最大割合は１４カチオン％、好ましくは多くて１３カチオン％、さらに好ましくは多くて１２カチオン％である。高屈折率を保証しおよび失透に対するガラスの安定性を与えるためにはこの下限値を下回るべきではない。加えて、定めた制限内のＴａ５＋は本発明によるこのガラスの高屈折率と高いアッベ数の組み合わせを保証する。
【００３７】
Ｂ３＋を網目形成体として用いることができ、従って少なくとも３５カチオン％、好ましくは少なくとも３６カチオン％、さらに好ましくは少なくとも３７カチオン％の量で含まれるべきである。しかしながら４６カチオン％、好ましくは４５カチオン％、より好ましくは４４カチオン％ですでに最大割合に達する。この割合を超えると、その際には本発明による高屈折率がもはや不可能である。しかしながら、記載した下限値を下回るべきでなく、何故ならＢ３＋の強力な網目形成性質は結晶化と化学的耐久性に対してのガラスの安定性を高めるためである。加えて、このようにしてガラスの溶融能力を得るであろう。
【００３８】
Ｇｄ３＋はガラスの光学性質に関してＬａ３＋のように作用する。従って、これをガラス中に５カチオン％まで、好ましくは４カチオン％まで、より好ましくは３．５カチオン％までの最大量で含むことができる。この上限値を超えるべきではなく、何故なら約５９０ｎｍに弱いバンドを有する希土類酸化物であるＧｄ３＋は内部透過率を低下させうるからである。
【００３９】
本発明によるガラスはＺｒ４＋を少なくとも１カチオン％、好ましくは少なくとも２カチオン％で多くて７カチオン％まで、好ましくは多くて６カチオン％、より好ましくは多くて５カチオン％の量で含む。
【００４０】
本発明によるガラスはＮｂ５＋を少なくとも０カチオン％、好ましくは少なくとも０．１カチオン％、より好ましくは０．５カチオン％で多くて４カチオン％、好ましくは多くて３カチオン％、より好ましくは多くて２カチオン％の量で含む。Ｎｂ５＋は高屈折率を促進するが、より低いアッベ数をもたらす。さらに、多くのＮｂ５＋を含むガラスは乏しい内部透過率を有する。従って、ガラスは２カチオン％を超えるＮｂ５＋を含むべきでない。
【００４１】
本発明によるガラスは少なくとも４カチオン％、好ましくは多くて３カチオン％、好ましくは多くて２．５カチオン％のＹ３＋の割合を有していてもよい。Ｙ３＋は高屈折率と高いアッベ数の望ましい組み合わせをサポートする。
【００４２】
好ましくは、カチオンＬａ３＋、Ｔａ５＋、Ｗ６＋、Ｚｒ４＋、Ｇｄ３＋、Ｎｂ５＋およびＹ３＋の合計は５０カチオン％以上、特に好ましくは５２カチオン％以上、より好ましくは５３カチオン％以上、特に好ましくは５４カチオン％以上である。この合計により本発明によるガラスの高屈折率と高いアッベ数の組み合わせが保証されるであろう。
【００４３】
光学ガラスとしての本発明によるガラスは好ましくはさらに着色活性および／または光学活性例えばレーザー活性の成分も含まない。
【００４４】
特に、本発明によるガラスは好ましくは酸化還元反応に敏感な成分、例えば銀またはビスマスも含まない。溶融温度において「酸化還元反応に敏感」な成分は融液中で原子価状態を容易に変化させるため望まない変色が起こることもあろう。この点でＡｇ＋は銀元素に容易に還元される可能性があり、これは黄変、すなわちＵＶ端の長波長領域方向へのシフトに加えて散乱をもたらす。
【００４５】
本発明の実施形態によれば本発明によるガラスは好ましくは特許請求の範囲に記載されていない他の成分も含まない、すなわちこのような実施形態によればガラスは記載されている成分から実質的になる。この場合において「実質的になる」という語は他の成分は不純物としてのみ存在することはあるが、ガラス組成物に単一成分として意図的には加えられないことを意味する。
【００４６】
本発明によるガラスは清澄剤を少量含んでいてもよい。好ましくは、加える清澄剤の合計は多くて０．３カチオン％、より好ましくは多くて０．２カチオン％、特に好ましくは０．１カチオン％である。本発明によるガラス中の清澄剤として以下の成分の少なくとも１種（カチオン％で）を含んでいてもよい：
Ｓｂ２Ｏ３ ０ − ０．３ および／または
ＳｎＯ ０ − ０．３ および／または
ＳＯ４２− ０ − ０．３ および／または
Ｆ− ０ − ０．３
【００４７】
本発明によるガラスは白金を白金イオンまたは白金粒子として６ｐｐｍよりも低い、好ましくは５ｐｐｍよりも低い含有量で含む。従ってそのＵＶ吸収が起こらないことおよびガラスが４１０ｎｍおよび１０ｍｍの層の厚さで８０％以上の高い内部透過率を得ることを保証する。
【００４８】
本発明によるガラスの膨張係数は好ましくは、２０〜３００℃の温度範囲に亘って測定して、９×１０−６／Ｋよりも低い範囲にある。４１０ｎｍおよび１０ｍｍの厚さでのガラスの内部透過率は８０％以上である。
【００４９】
さらに、本発明は本発明によるガラスのイメージング、投影、遠隔通信、光通信工学、モバイルドライブおよびレーザー技術の応用分野での使用に関する。
【００５０】
さらに、本発明は本発明によるガラスを含む光学素子に関する。この場合、特に光学素子はレンズ、非球面レンズ（aspheres）、プリズムおよび小型部品であろう。
【００５１】
また本発明は本発明によるガラスの製造方法に関し、交番電磁場による上記したガラス組成物の直接誘導加熱工程を含む。
【００５２】
さらに、本方法は好ましくは以下の工程を含む：
・上記の組成物の破片または混合物をスカルるつぼへ入れること
【００５３】
好ましくは、るつぼはアルミニウムからできている。スカルるつぼはそれ自体の材質内で溶融を促進するので特に純粋なガラスを得ることができる。混合物を不連続的にも連続的にも凝集状態で溶融させることができる。
【００５４】
さらに、本方法は好ましくは以下の工程を含む：
・混合物またはガラス破片の一部をバーナーにより液化させること、
・高周波場と事前に溶融した溶融材料を結合させて残りの材料または破片を融液への熱の供給により溶融させること。
【００５５】
その後にガラスの連続的または不連続な仕上げを行う。
【００５６】
加工を従来方式（白金内）または特に侵食的なガラス（aggressive glass）の場合には清澄に用いられる第２のＨＦユニットのいずれかにおいて行うことができる。用いられる方法は DE 10 257 049 に記載されている。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】図１は例のガラス４に係る本発明に係るガラスの内部透過率の曲線を示す。
【図２】図２は例のガラス４に係る本発明に係るガラスの粘度曲線を示す。これはホットプレスに関して１３５０℃よりも低い温度範囲を可能にし、ガラスの質たとえばストリークと透過率に関して利点を示す。
【００５８】
以下において本発明を一連の例により詳細に説明する。しかし本発明は記述した例に限定されない。
【００５９】
例：
酸化物のための原料を秤量し、１種以上の清澄剤を加えた後に十分に混合する。ガラス混合物を不連続または連続的な高周波溶融凝集体にスカルるつぼ内で溶融しおよび清澄化する（１４００℃）。１３５０℃以下のキャスト温度でガラスを所望の寸法にキャストおよび加工することができる。
【表１−Ｂ】
【００６０】
表２は本発明の１〜４に係るガラスについての例を含む
【表２】
【００６１】
好ましくは、本発明に係るガラスは７００℃以下のガラス転移点を有し、容易に加工されることができ、およびアルカリに対して優れた耐性（優れたアルカリ耐性）を有する。膨張係数は２０〜３００℃の温度範囲に亘って測定して９×１０−６／Ｋよりも十分に低い範囲にある。４１０ｎｍおよび１０ｍｍの厚さでのガラスの内部透過率は８０％以上である。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１．９４５≦ｎｄ≦１．９７の屈折率ｎｄ、３３≦νｄ≦３６のアッベ数νｄならびに４１０ｎｍおよび１０ｍｍの厚さで＞８０％の内部透過率を有する、鉛およびヒ素を含まない光学ガラスであって、前記ガラスは以下の組成（カチオン％で）を有する：
【表１】
ことを特徴とするガラス。
【請求項２】
その膨張係数α（２０，３００℃）が９×１０−６／Ｋよりも小さい請求項１に記載のガラス。
【請求項３】
以下の組成（カチオン％で）を有する請求項１または２に記載のガラス。
【表２】
【請求項４】
以下の組成（カチオン％）を有する請求項１ないし３の１項以上に記載のガラス。
【表３】
【請求項５】
清澄剤として少なくとも１種の以下の成分（カチオン％）を含む請求項１ないし４の１項以上に記載のガラス。
Ｓｂ２Ｏ３ ０ − ０．３ および／または
ＳｎＯ ０ − ０．３ および／または
ＳＯ４２− ０ − ０．３ および／または
Ｆ ０ − ０．３
【請求項６】
イメージング、投影、遠隔通信、光通信工学、モバイルドライブおよび／またはレーザー技術の分野における請求項１ないし５の１項以上に記載のガラスの使用。
【請求項７】
光学素子の製造のための請求項１ないし６の１項以上に記載のガラスの使用。
【請求項８】
請求項１ないし６の１項以上に記載のガラスを有する光学素子。
【請求項９】
交番電磁場を用いて前記混合物を直接誘導加熱する工程を有する請求項１ないし５の１項以上に記載の光学ガラスの製造方法。
【請求項１０】
請求項１ないし５の１項以上に記載のガラスを加圧成形する工程を有する光学素子の製造方法。
【請求項１】
１．９４５≦ｎｄ≦１．９７の屈折率ｎｄ、３３≦νｄ≦３６のアッベ数νｄならびに４１０ｎｍおよび１０ｍｍの厚さで＞８０％の内部透過率を有する、鉛およびヒ素を含まない光学ガラスであって、前記ガラスは以下の組成（カチオン％で）を有する：
【表１】
ことを特徴とするガラス。
【請求項２】
その膨張係数α（２０，３００℃）が９×１０−６／Ｋよりも小さい請求項１に記載のガラス。
【請求項３】
以下の組成（カチオン％で）を有する請求項１または２に記載のガラス。
【表２】
【請求項４】
以下の組成（カチオン％）を有する請求項１ないし３の１項以上に記載のガラス。
【表３】
【請求項５】
清澄剤として少なくとも１種の以下の成分（カチオン％）を含む請求項１ないし４の１項以上に記載のガラス。
Ｓｂ２Ｏ３ ０ − ０．３ および／または
ＳｎＯ ０ − ０．３ および／または
ＳＯ４２− ０ − ０．３ および／または
Ｆ ０ − ０．３
【請求項６】
イメージング、投影、遠隔通信、光通信工学、モバイルドライブおよび／またはレーザー技術の分野における請求項１ないし５の１項以上に記載のガラスの使用。
【請求項７】
光学素子の製造のための請求項１ないし６の１項以上に記載のガラスの使用。
【請求項８】
請求項１ないし６の１項以上に記載のガラスを有する光学素子。
【請求項９】
交番電磁場を用いて前記混合物を直接誘導加熱する工程を有する請求項１ないし５の１項以上に記載の光学ガラスの製造方法。
【請求項１０】
請求項１ないし５の１項以上に記載のガラスを加圧成形する工程を有する光学素子の製造方法。
【図１】
【図２】
【図２】
【公開番号】特開２０１１−１７３７８３（Ｐ２０１１−１７３７８３Ａ）
【公開日】平成２３年９月８日（２０１１．９．８）
【国際特許分類】
【外国語出願】
【出願番号】特願２０１０−２７１４８２（Ｐ２０１０−２７１４８２）
【出願日】平成２２年１２月６日（２０１０．１２．６）
【出願人】（５０５４５８６７０）ショット・アーゲー (32)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年９月８日（２０１１．９．８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−２７１４８２（Ｐ２０１０−２７１４８２）
【出願日】平成２２年１２月６日（２０１０．１２．６）
【出願人】（５０５４５８６７０）ショット・アーゲー (32)
【Ｆターム（参考）】
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