【課題】安定に製造でき、かつ、熱処理後の結晶化度が高く、リチウムイオン伝導率が高いリチウムイオン伝導体前駆体ガラスを得る。
【解決手段】ガラス組成として、モル％で、Ｐ_２Ｏ_５ ２５〜３５％（ただし、３５％を含まない）、ＧｅＯ_２ ２５〜５０％、Ｌｉ_２Ｏ １０〜２５％およびＡｌ_２Ｏ_３ ０〜１０％（ただし、０％を含まない）を含有することを特徴とするリチウムイオン伝導体前駆体ガラス。さらに、ガラス組成として、モル％で、ＳｉＯ_２ ０〜５％（ただし、５％を含まない）を含有することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】炭素、Ｃｕ又は燐光物質をドープすることなく、紫外線を照射したときの蛍光が白色蛍光であるノンドープ白色蛍光合成シリカガラスを提供する。
【解決手段】ＯＨ基含有量が１ｐｐｍ以下であり、塩素の含有量が３０ｐｐｍ以下で、１２８０℃での粘度（Ｌｏｇη）が１２．２poise以上であり、Ｃｕの含有量が１ｐｐｍ以下、Ｃの含有量が１００ｐｐｍ以下であり、紫外線を照射することで可視光領域に１秒以上の遅延蛍光を発生する合成シリカガラスであって、紫外線を照射したときの蛍光が白色蛍光であるようにした。 （もっと読む）

【課題】 ＴＦＴ形成時や通常使用時の熱による寸法変化が小さく、且つ、透明性及び信頼性に優れた樹脂−ガラス複合透明基板を得ることが可能な樹脂−ガラス複合透明基板用ガラスを提供する。
【解決手段】 質量％で、ＳｉＯ_２ ６０〜８０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜１０％、Ｂ_２Ｏ_３ １５〜２５％、ＭｇＯ ０〜１０％、ＣａＯ ０〜１０％、ＳｒＯ ０〜１０％、ＢａＯ ０〜１０％、ＺｎＯ ０〜１０％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜５％、Ｎａ_２Ｏ ０〜５％、Ｋ_２Ｏ ０〜５％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ０〜５％、ＴｉＯ_２ ０〜１０％、ＺｒＯ_２ ０〜１０％を含有し、３０〜３８０℃における線熱膨張係数が４０×１０^−７／℃未満であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】温度の影響による変形を低減する、ＥＵＶリソグラフィ用の光学機構、特に投影レンズと、光学素子を有する該光学機構を構成する方法とを提供する。
【解決手段】反射面３１ａ及び第１ゼロ交差温度Ｔ_ＺＣ１でゼロ交差を有する温度依存性の熱膨張率を有するＴｉＯ_２ドープ石英ガラスから構成された基板３２を備える第２ミラー２２と、反射面及び第１ゼロ交差温度とは異なる第２ゼロ交差温度でゼロ交差を有する温度依存性の熱膨張率を有するＴｉＯ_２ドープ石英ガラスから構成された第２基板を備える第２光学素子とを備え、第１ゼロ交差温度における第１基板３２の熱膨張率の勾配（ΔＣＴＥ_１>）及び／又は第２ゼロ交差温度における第２基板の熱膨張率の勾配（ΔＣＴＥ_２）は負の符号を有する光学機構に関する。 （もっと読む）

【課題】ビスマス系ガラスは構造的に不安定なガラスが多く、焼成途中で結晶化し、結晶化することで流動性が損なわれ、十分な接着強度、気密性が得にくいという問題があった。従って、本発明は透明で、焼成時に結晶化し難いビスマス系ガラスを得ることを目的とした。
【解決手段】Ｂｉ_２Ｏ_３、Ｂ_２Ｏ_３、ＺｎＯを含むビスマス系ガラス組成物であり、質量％でＢｉ_２Ｏ_３を５５〜８０、ＲＯ（ＳｒＯ＋ＢａＯ）を０．１〜５含み、３０℃〜３００℃における線膨張係数が（６５〜９５）×１０^−７／℃、軟化点が４５０℃以上５３０℃以下であることを特徴とするビスマス系ガラス組成物。 （もっと読む）

【課題】特に歯科用ガラス及び光学ガラスとして適し、非常に良好な耐薬品性を有するＢａＯ−フリー及びＰｂＯ−フリーのＸ線不透過性ガラスを提供する。
【解決手段】せいぜい不純物を除きＢａＯ−フリー及びＰｂＯ−フリーであるＸ線不透過性ガラスは、Ｌａ_２Ｏ_３とＺｒＯ_２を付加したＳｉＯ_２−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｒＯ−Ｒ_２Ｏ系であり、酸化物基準の質量％表示で、ＳｉＯ_２ ５５〜７５％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜９％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０．５〜４％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜２％、Ｎａ_２Ｏ ０〜７％、Ｋ_２Ｏ ０〜９％、Ｃｓ_２Ｏ ０〜１５％、ＳｒＯ ４〜１７％、ＣａＯ ０〜１１％、ＭｇＯ ０〜＜３％、ＺｒＯ_２ １〜＜１１％、Ｌａ_２Ｏ_３ １〜１０％、ＳｎＯ_２ ０〜４％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ０．５〜１２％、ＳｒＯ＋Ｃｓ_２Ｏ＋Ｌａ_２Ｏ_３＋ＳｎＯ_２＋ＺｒＯ_２ ≧１０％を含有し、１．５０〜１．５８の屈折率ｎ_ｄ及び少なくとも３００％のアルミニウム等価厚を有する。 （もっと読む）

【課題】４８０℃以上で一次焼成しても、失透することがなく、その後に供される二次焼成で良好な流動性および封着強度を確保することが可能なビスマス系ガラス組成物およびビスマス系封着材料を提供すること。
【解決手段】本発明のビスマス系ガラス組成物は、下記酸化物換算のモル％で、Ｂｉ_２Ｏ_３ ３０〜５０％、Ｂ_２Ｏ_３ ２０〜３５％、ＺｎＯ １０〜２５％、ＢａＯ １〜１５％、ＢａＯ＋ＳｒＯ＋ＭｇＯ＋ＣａＯ ３〜１５％のガラス組成を含有し、且つモル分率でＢｉ_２Ｏ_３／Ｂ_２Ｏ_３ １．０〜１．７５（但し、１．７５は含まない）、ＺｎＯ／（ＢａＯ＋ＳｒＯ＋ＭｇＯ＋ＣａＯ） １．０〜３．５の関係を満たすことに特徴付けられる。 （もっと読む）

【課題】液晶ディスプレイ基板用に所望の物理および化学特性を示すアルカリを含まないガラスを提供する。
【解決手段】酸化物基準においてモルパーセントで、
ＳｉＯ_２ ６４．０−７２．０
Ａｌ_２Ｏ_３ ９．０−１６．０
Ｂ_２Ｏ_３ １．０−５．０
ＭｇＯ＋Ｌａ_２Ｏ_３ １．０−７．５
ＣａＯ ２．０−７．５
ＳｒＯ ０．０−４．５
ＢａＯ １．０−７．０
を含み、
ここで、モルパーセントにおけるＢａＯ／ＳｒＯ比が、２．０以上であり、
７００℃以上のひずみ点を有する。 （もっと読む）

【課題】充分な厚みの圧縮応力層を有していることにより優れた耐衝撃性を有し、かつ、高平滑性を備えるとともに、高温高湿環境下においても歪みの発生しにくいＨＤＤ用ガラス基板および該ＨＤＤ用ガラス基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】一対の主表面に圧縮応力層が設けられたＨＤＤ用ガラス基板であって、前記主表面にイオン交換層を有さず、前記圧縮応力層の厚みが２〜３０μｍであることを特徴とするＨＤＤ用ガラス基板。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、鉛、アンチモン、テルル、ビスマスの酸化物を含有しないガラス粉末であり、軟化点が５００℃以下で、熱的に安定で、かつ耐水性に優れた低軟化点ガラス粉末を提供することである。
【解決手段】本発明に係るガラス粉末は、実質的に鉛、アンチモン、テルル、ビスマスの酸化物を含有しないガラス粉末において、重量％でV₂O₅を25〜55%、BaOを30〜35%、SrOを6〜8%、MgOを0〜1%、ZnOを4.5〜5.5%含有し、更にB₂O₃の2〜8%もしくはP₂O₅の10〜25%のどちらか一方を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ポリカーボネート樹脂に配合するガラスフィラーに好適に用いられ得るガラス組成物を提供する。
【解決手段】
質量％で表して、４５≦ＳｉＯ₂≦６５、０．５≦Ｂ₂Ｏ₃＜２、５≦Ａｌ₂Ｏ₃≦１５、５≦ＣａＯ≦２５、０．１≦ＭｇＯ≦１０、７＜ＴｉＯ₂≦１２、０≦（Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ）＜２、の成分を含有するガラス組成物を提供する。このガラス組成物は、１．５７５〜１．５９５の屈折率ｎ_dと、４５〜４９のアッベ数ν_dとを有することができる。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎｄ）が１．７８〜２．２、アッベ数（νｄ）が１６〜４０未満の範囲であり、ガラス転移点が低くて精密モールドプレス成形に適した新規の光学ガラスを提供すること。
【解決手段】酸化物基準のモル％でＢ_２Ｏ_３を２５〜６０％、ＴｉＯ_２とＮｂ_２Ｏ_５の合計量を２〜４５％、ＷＯ_３を１〜２５％含有し、屈折率ｎｄが１．７８〜２．２、アッベ数νｄが１６〜４０未満である光学ガラス。さらに、Ｌａ_２Ｏ_３を５〜３５％、ＺｎＯを１〜４０％を含有する。また、ガラス転移点（Ｔｇ）が７００℃以下である。これによって、ガラスの溶融性、安定性や耐失透性に優れ、また、高い屈折率と光の高分散性を有すると共に、精密プレス成形に優れた光学ガラスとなる。 （もっと読む）

【課題】表面品位を向上させることができ、且つ耐失透性が良好な太陽電池用ガラス基板を得ること。
【解決手段】本発明の太陽電池用ガラス基板は、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ_２ ３０〜７０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ３〜２０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜１０％、ＭｇＯ ０〜１０％、ＣａＯ ０〜１０％、ＳｒＯ ０〜２５％、ＢａＯ ０〜２５％、Ｎａ_２Ｏ ０〜１０％、Ｋ_２Ｏ ０〜１０％、ＺｒＯ_２ ０〜８％を含有し、且つ３０〜３８０℃における熱膨張係数が５０〜９５×１０^−７／℃であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ホットスポットが従来よりも発生しにくい電子レンジ用耐熱ガラスおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る電子レンジ用耐熱ガラスは、質量％で、ＳｉＯ_２ ７５〜８５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜５％、Ｂ_２Ｏ_３ １０〜２０％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜５％、Ｎａ_２Ｏ １〜１０％、Ｋ_２Ｏ ０〜５％の組成を含有し、（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）／（ＳｉＯ_２＋Ｂ_２Ｏ_３＋Ａｌ_２Ｏ_３）が０．０４５〜０．０５５であり、内部の残留応力が５ＭＰａ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明の技術的課題は、洗浄工程で保護膜が消失し難く、長期に亘って、傷が付き難いガラス板を創案することである。
【解決手段】本発明のガラス板は、少なくとも一方の表面に保護膜を有するガラス板において、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ４０〜７０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜２０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜１５％、Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ０〜３０％、ＳｒＯ＋ＢａＯ １〜４０％を含有し、且つ保護膜がＳｒ含有硫酸塩及び／又はＢａ含有硫酸塩を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガラス組成物の焼成後に生じるベース基板との段差を平坦化して、キャビティの内部と外部の導通性を確保することができるガラスパッケージの製造方法、ガラスパッケージ、圧電振動子、発振器、電子機器、及び電波時計を提供する。
【解決手段】貫通孔２１，２２と金属芯材３１との間に充填された結晶性ガラス体３２は、酸化物換算の質量％表示でＢｉ₂Ｏ₃６０〜８０％、ＳｉＯ₂５〜２０％、Ａｌ₂Ｏ₃０．５〜８％、Ｂ₂Ｏ₃０．５〜１３％、及びＺｎＯ０〜１２％を含有するビスマス系ガラス組成物を焼成により焼結してなるものであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明の技術的課題は、フロート法で成形されているにもかかわらず、反り量が小さい強化ガラス基板及びその製造方法を創案することである。
【解決手段】本発明の強化ガラス基板は、フロート法で成形されてなる強化ガラス基板において、ボトム面の圧縮応力値が、トップ面の圧縮応力値より大きいことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、錫リン酸系ガラスの耐水性を改善すると同時に、低酸素雰囲気、特に減圧雰囲気で良好に封着できるとともに、４９０℃以下の低温で封着可能であり、且つ熱的安定性の良好な封着用ガラス組成物および封着材料を得ることを技術課題とする。
【解決手段】本発明の封着用ガラス組成物は、ガラス組成として、下記酸化物換算のモル％表示で、ＳｎＯ ３０〜８０％、Ｐ_２Ｏ_５ １０〜２５％（但し、２５％は含まない）、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜２０％、ＺｎＯ ０〜２０％、ＳｉＯ_２ ０〜１０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜１０％、ＷＯ_３ ０〜２０％、Ｒ_２Ｏ（ＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓを指す） ０〜２０％含有し、且つ低酸素雰囲気、特に減圧雰囲気における封着に用いることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明の技術的課題は、低出力のレーザーでレーザー封着が可能な封着材料層付きガラス基板の製造方法を創案することにより、有機ＥＬデバイス等の長期信頼性を高めることである。
【解決手段】本発明の封着材料層付きガラス基板は、封着材料を焼結させた封着材料層を備える封着材料層付きガラス基板において、封着材料が無機粉末と顔料を含み、無機粉末がガラス粉末と耐火性フィラーを含み、無機粉末中の耐火性フィラーの含有量が１０〜３５体積％であり、封着材料層の表面粗さＲａが０．５μｍ未満であることを特徴とする。 （もっと読む）