高純度な重水素化誘導体及びその製造法
【課題】
本発明はＬＣ／ＭＳ／ＭＳ法において（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸と完全に分離でき、正確かつ効率的な測定が可能な測定用標準物質の提供、及びその製造法の提供。
【解決手段】
本発明は、質量分析における標準物質として有用な重水素化された（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−（３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル）アミノメチル］フェノキシ］酪酸、及びその製造法に関する。
本発明はＬＣ／ＭＳ／ＭＳ法において（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸と完全に分離でき、正確かつ効率的な測定が可能な測定用標準物質の提供、及びその製造法の提供。
【解決手段】
本発明は、質量分析における標準物質として有用な重水素化された（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−（３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル）アミノメチル］フェノキシ］酪酸、及びその製造法に関する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、薬物動態等の試験に用いる高純度な重水素化誘導体及びその製造法に関する。より詳細には、本発明は、式（１）で表される（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸の製造方法、及び新規な中間体化合物に関する。
【背景技術】
【０００２】
重水素化された化合物は種々の目的に有用であり、反応機構や生体内での物質代謝の解明に標識化合物として利用されてきた。特に医薬品の開発研究において有用な薬物を生体内に投与し、その薬物及び代謝物等の体内動態を調べる薬物動態研究では高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）がこれまで利用されてきた。これは対象とする特定化合物の定量に類似化合物を測定用標準物質として用い定量する手法である。しかし、本手法によると、ＵＶによる検出限界が１０−１００ｎｇ／ｍＬであり、それ以下の正確な定量が困難な場合が多い。
近年、より検出感度の高いＬＣ／ＭＳ／ＭＳ法が重用されるようになり、上記の測定に関わる問題を回避することが可能となった（非特許文献１）。しかしながら、ＨＰＬＣの溶出物がベーパーライザー中で加熱され、部分気化の状態でイオン源ブロックに噴霧され、さらに加熱されイオンが生成されるとイオン化は常に一定ではなくなり、ＭＳの測定においてバラツキに繋がることになる。このようなバラツキを補正するために内部標準物質を用いる。その際の内部標準物質としては、次の三つの要件を満たすことが望まれる。１）目的物はＨＰＬＣでほぼ同じ保持時間を持つこと。２）ピーク形状が目的物とほぼ同一であること。３）イオン化効率が目的物と同一であること。
このような要件を満たす内部標準物質として安定同位体の活用が挙げられる。安定同位体には炭素、窒素、水素、酸素等が挙げられるが、標識体の合成としては重水素化物の活用が実用的である。天然に存在する重水素の含量比を考慮すると、対象となる化合物の分子量よりも３以上大きい分子量を示す標識体を用いなければ、測定に支障を来す可能性があり、測定用標準物質としての重水素標識体は高度に重水素化されている方が望ましい。また、低用量で作用を発現する薬物やバイオアベイラビリティーの悪い薬物での未変化体及び代謝物濃度を測定する際には、血漿中、尿中、あるいは、組織中の濃度が著しく低いため、測定用標準物質の重水素標識率が不十分であると測定誤差の原因となる。なぜなら、重水素標識されていない化合物は測定対象の薬物そのものとなるからである。拠って、高い精度の測定のためには測定用標準物質の重水素標識率が限りなく１００％に近い、重水素標識されていない不純物が殆ど混在しないことが望ましい。
【０００３】
有機化合物の重水素化方法について多くの方法が報告されている。例えば、ＤＣｌやＣＨ３ＣＯ２Ｄ等の重水素を含む酸を用いる方法（非特許文献２、非特許文献３）、塩基性条件における活性水素と重水素との交換反応（非特許文献４）、均一系遷移金属触媒を用いる方法（非特許文献５、非特許文献６、非特許文献７、非特許文献８）、マイクロウェーブ装置を用いたハロゲン原子と重水素との交換反応（非特許文献９）、超臨界重水素交換法（非特許文献１０）、不均一系触媒を用いる方法（非特許文献１１、非特許文献１２）等の方法が知られている。しかしながら、これらの方法は重水素交換部位や対象とする化合物に制限があること、高温又は高圧力下での反応であること、高価な触媒を必要とすること、さらに満足いく重水素交換率が得られないことなどの何れかの問題を含み、実用的であるとは言い難い。一方、不均一系触媒を用いる方法の中でも、水素雰囲気下にて重水中でパラジウム炭素又は白金炭素を触媒に用いた重水素化反応が知られている。芳香環上の水素を重水素交換するには白金炭素を触媒に用いた場合、パラジウム炭素よりも高い重水素化が起こることが報告されているが、より高く重水素化された化合物を得るには芳香環上の置換基の種類によっては１８０℃と過酷な温度条件を必要とし、オートクレーブ等の特殊な装置を必要とする（非特許文献１３）。
【０００４】
このように、内部標準品の要件を満たす高純度かつ高度に重水素化された化合物の合成は極めて困難であり、その理由は重水素化された出発物質の市場利用性が極度に限定されることから一般製造法としては確立されていない。そこで、合理的かつ効率的な方法論の開拓が求められていた。
【０００５】
また、式（１）で表される重水素化化合物の重水素化されていない（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸（１Ａ）は、特許文献１に記載されており、当該化合物は、高脂血症、動脈硬化症、糖尿病、糖尿病合併症、炎症、心疾患等に有用と考えられるＰＰＡＲαを選択的に活性化する化合物として有用であるとされている。
【０００６】
【特許文献１】ＷＯ２００５／２３７７７号パンフレット
【非特許文献１】原田健一他，ＬＣ／ＭＳの実際，ｐ１４９，講談社サイエンティフィック
【非特許文献２】Journal of the American Chemical Society,1967,89,4546-4547.
【非特許文献３】Tetrahedron Letters,2002,43、3789-3792.
【非特許文献４】Journal of Labelled Compounds and Radiopharmaceuticals,1994,34,93-100.
【非特許文献５】Journal of the Chemical Society, Chemical Communication,1992,680-681.
【非特許文献６】Journal of the American Chemical Society,2002,124,2092-2093.
【非特許文献７】Journal of the American Chemical Society,1999,121,4385-4396.
【非特許文献８】Journal of Organic Chemistry,1974,39,48-50.
【非特許文献９】Tetrahedron Letter,2001,42,331-332.
【非特許文献１０】Tetrahedron Letter,1996,37,3445-3448
【非特許文献１１】Journal of the Chemical Society,Chemical Communication,2004,1714-1715.
【非特許文献１２】Chemistry Letters,2004,33,294-295.
【非特許文献１３】Tetrahedron Letter,2005,46,6995-6998
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明はＬＣ／ＭＳ／ＭＳ法において（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸と完全に分離でき、正確かつ効率的な測定が可能な測定用標準物質を提供することを目的とし、その合理的かつ効率的な製造法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
以前に本発明者らは、高脂血症、動脈硬化症、糖尿病、糖尿病合併症、炎症、心疾患等に有用と考えられるＰＰＡＲαを選択的に活性化する化合物の探索を行った結果、下記一般式（Ａ）：
【０００９】
【化１６】
【００１０】
[式中、Ｒ１及びＲ２は同一又は異なって水素原子、メチル基又はエチル基を示し；Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、Ｒ４ａ及びＲ４ｂは同一又は異なって水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、水酸基、Ｃ１−４アルキル基、トリフルオロメチル基、Ｃ１−４アルコキシ基、Ｃ１−４アルキルカルボニルオキシ基、ジ−Ｃ１−４アルキルアミノ基、Ｃ１−４アルキルスルフォニルオキシ基、Ｃ１−４アルキルスルフォニル基、Ｃ１−４アルキルスルフィニル基又はＣ１−４アルキルチオ基を示すか、Ｒ３ａとＲ３ｂあるいはＲ４ａとＲ４ｂが結合してアルキレンジオキシ基を示し；Ｘは酸素原子、硫黄原子又はＮ−Ｒ５（Ｒ５は水素原子、Ｃ１−４アルキル基、Ｃ１−４アルキルスルフォニル基、Ｃ１−４アルキルオキシカルボニル基を示す）を示し；Ｙは酸素原子、Ｓ（Ｏ）ｌ基（ｌは０〜２の数を示す）、カルボニル基、カルボニルアミノ基、アミノカルボニル基、スルホニルアミノ基、アミノスルホニル基又はＮＨ基を示し；ＺはＣＨ又はＮを示し；ｎは１〜６の数を示し；ｍは２〜６の数を示す。]
【００１１】
で表される化合物を創製し、特許出願を行った（特許文献１参照）。この特許文献中に記載されている（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸（１Ａ）（特許文献１の実施例１４及び８５参照）において、血漿中未変化体濃度や代謝物測定などの薬物動態研究を進めるためには、それらと標準物質とを完全分離し正確かつ効率的な測定を可能とする測定用の重水素標識化合物が求められていた。本発明者らは、（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸（１Ａ）の測定用標準物質を得るため、（１Ａ）の重水素標識体の製造法について鋭意研究を行ってきた。従来の重水素化法により、ある程度重水素化された化合物を製造することはできるが、重水素化の程度が低いだけでなく、重水素化物の混合物となり、質量分析（ＭＳ）における内部標準物質として使用できる高純度の重水素化物を製造することは困難であった。特に、重水素化率を９５％以上、好ましくは９８％以上とした高度に重水素化された重水素化物を、高純度で、かつ簡便な方法で安定して製造できる方法を確立させることは非常に困難であった。なかでも中間体のひとつであるベンズオキサゾール誘導体のベンゼン環上の４個の水素原子の平均重水素化率が９８％以上の高度に重水素化された化合物を確実に製造する方法を見出さなければ目的とする高純度にかつ高度に重水素置換した（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸（１）を製造することはできない。本発明者らは、このための方法を鋭意検討してきた結果、ついに高純度にかつ高度に重水素置換した目的物の製造方法を確立することができた。そして、この化合物を内部標準物質として用いた結果、ＬＣ／ＭＳ／ＭＳ法において非標識体との完全な分離を可能とし、正確かつ効率的な測定を実施できることも確認され、本発明に至った。
【００１２】
すなわち、本発明は、次式（ｇ）：
【００１３】
【化１７】
【００１４】
で表される化合物を金属触媒の存在下、重水素化溶媒中で溶媒の沸点以下の温度で反応させて重水素化する工程、さらに当該重水素化工程を２回以上繰り返し行うことより、次式（ｈ）：
【００１５】
【化１８】
【００１６】
（式中、Ｄは重水素を示す。当該重水素の置換率は、９５％以上、好ましくは９８％以上である。）
で表される重水素化化合物を製造する工程を含む、次式（１）
【００１７】
【化１９】
【００１８】
（式中、Ｄは重水素を示す。当該重水素の置換率は、９５％以上、好ましくは９８％以上である。）
で表される（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸の製造方法に関する。特に、本発明は、前記式（ｇ）で表される２−アミノフェノールを、金属触媒の存在下、重水素化溶媒中で溶媒の沸点以下の温度で反応させて重水素化し、得られた重水素化物を、さらに当該重水素化工程により２回以上繰り返し行うことより、重水素化率が９５％、好ましくは９８％以上の前記式（ｈ）で表される重水素化２−アミノフェノールを製造方法に関する。
また、本発明は、前記式（１）で表される（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸の製造方法であって、次式（ａ）：
【００１９】
【化２０】
【００２０】
で表される化合物と次式（ｂ）：
【００２１】
【化２１】
【００２２】
で表される化合物とを、重メタノール中で反応させて、次式（ｃ）：
【００２３】
【化２２】
【００２４】
（式中、Ｄは重水素を示す。）
で表される化合物を製造する工程、次いで、得られた式（ｃ）で表される化合物を、アクリロニトリルなどのシアノ化合物と反応させて、次式（ｄ）：
【００２５】
【化２３】
【００２６】
（式中、Ｄは重水素を示す。）
で表されるシアノ化合物（ｄ）を製造する工程、得られた式（ｄ）で表されるシアノ化合物を還元して次式（ｅ）：
【００２７】
【化２４】
【００２８】
（式中、Ｄは重水素を示す。）
で表されるアミノ化合物（ｅ）を製造する工程、式（ｅ）で表されるアミノ化合物と３−ヒドロキシベンズアルデヒドと反応さ、次いで得られたイミノ化合物を還元して次式（ｆ）：
【００２９】
【化２５】
【００３０】
（式中、Ｄは重水素を示す。）
で表されるアミン化合物（ｆ）を製造する工程を含む、製造方法に関する。特に、本発明は、前記式（ａ）で表される化合物と前記式（ｂ）で表される化合物とを、重メタノール中で反応させて、前記式（ｃ）で表されるメトキシフェノール化合物（ｃ）を製造する工程、次いで、得られた式（ｃ）で表されるメトキシフェノール化合物をシアノ化合物と反応させて前記式（ｄ）で表されるシアノ化合物（ｄ）を製造する工程、得られた前記式（ｄ）で表される化合物を還元して前記式（ｅ）で表されるアミノ化合物（ｅ）を製造する工程、前記式（ｅ）で表されるアミノ化合物をアルデヒドなどと反応させて対応するイミノ化合物とし、次いでこれを還元して前記式（ｆ）で表されるアミン化合物（ｆ）を製造する方法に関する。
さらに、本発明は、式（１）で表される（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸の製造方法であって、前記式（ｈ）で表される重水素化化合物を環化させて次式（ｉ）：
【００３１】
【化２６】
【００３２】
（式中、Ｄは重水素を示す。当該重水素の置換率は、９５％以上、好ましくは９８％以上である。）
で表される２−メルカプトベンズオキサゾール−ｄ４（ｉ）を製造し、次いで得られた式（ｉ）で表されるオキサゾール化合物を塩素化して次式（ｊ）：
【００３３】
【化２７】
【００３４】
（式中、Ｄは重水素を示す。当該重水素の置換率は、９５％以上、好ましくは９８％以上である。）
で表される２−クロロベンズオキサゾール−ｄ４（ｊ）を製造する工程を含む、製造方法に関する。特に、本発明は、前記式（ｈ）で表される重水素化化合物を環化させて前記式（ｉ）で表される化合物（ｉ）を製造し、次いで得られた式（ｉ）で表される化合物（ｉ）を塩素化して前記式（ｊ）で表される化合物を製造する方法に関する。
また、本発明は、前記式（１）で表される（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸の製造方法であって、前記式（ｊ）で表される化合物（ｊ）と、前記式（ｆ）で表されるアミン化合物（ｆ）とを反応させて、次式（ｋ）：
【００３５】
【化２８】
【００３６】
（式中、Ｄは重水素を示す。当該重水素の置換率は、９５％以上、好ましくは９８％以上である。）
で表されるフェノール化合物（ｋ）を製造する工程、次いで、式（ｋ）で表されるフェノール化合物（ｋ）を脱離基を有する酪酸誘導体と反応させて次式（ｌ）：
【００３７】
【化２９】
［式中、Ｒはカルボキシル基の置換基を示す。］
【００３８】
（式中、Ｄは重水素を示す。当該重水素の置換率は、９５％以上、好ましくは９８％以上である。）
で表されるエステル化合物（ｌ）を製造する工程、得られた式（ｌ）で表されるエステル化合物から式（１）で表される重水素化化合物を製造する工程を含む、製造方法に関する。特に、本発明は、前記式（ｊ）で表される化合物と、前記式（ｆ）で表されるアミン化合物とを反応させて、前記式（ｋ）で表されるフェノール化合物を製造する工程、次いで、式（ｋ）で表されるフェノール化合物を酪酸誘導体と反応させて前記式（ｌ）で表されるエステル化合物を製造する工程、及び得られた式（ｌ）で表されるエステル化合物から式（１）で表される重水素化化合物を製造する方法に関する。
【００３９】
さらに、本発明は、重水素化率が９５％以上、好ましくは９８％以上であり、実質的に純粋な（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸に関する。本発明は、重水素化率が９５％以上、好ましくは９８％以上であり、実質的に純粋な３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピオニトリルに関する。本発明は、重水素化率が９５％以上、好ましくは９８％以上であり、実質的に純粋な３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピルアミンに関する。本発明は、重水素化率が９５％以上、好ましくは９８％以上であり、実質的に純粋なＮ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］−３−ヒドロキシベンジルアミンに関する。本発明は、重水素化率が９５％以上、好ましくは９８％以上であり、実質的に純粋な２−メルカプトベンズオキサゾール−ｄ４に関する。本発明は、重水素化率が９５％以上、好ましくは９８％以上であり、実質的に純粋な２−クロロベンズオキサゾール−ｄ４に関する。
【００４０】
本発明をさらに詳細に説明すれば以下のとおりである。
（１）前記式（１）で表される（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸の製造方法であって、前記式（ｇ）で表される化合物を金属触媒の存在下、重水素化溶媒中で溶媒の沸点以下の温度で反応させて重水素化する工程、さらに当該重水素化工程を２回以上繰り返し行うことより、前記式（ｈ）で表される重水素化化合物を製造する工程を含む製造方法。
（２）重水素化溶媒が、重水である前記（１）に記載の製造方法。
（３）金属触媒が、パラジウム炭素又は白金炭素である前記（１）又は（２）に記載の製造方法。
（４）前記式（ｈ）で表される重水素化化合物の重水素化率が９８％以上である前記（１）〜（３）のいずれかに記載の製造方法。
（５）前記式（ｈ）で表される重水素化化合物を環化させて前記式（ｉ）で表される化合物を製造し、次いで得られた式（ｉ）で表される化合物から前記式（ｊ）で表される化合物を製造する工程を含む、前記（１）に記載の製造方法。
（６）前記式（１）で表される（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸の製造方法であって、前記式（ａ）で表される化合物と前記式（ｂ）で表される化合物とを、重メタノール中で反応させて、前記式（ｃ）で表される化合物を製造する工程、次いで得られた式（ｃ）で表される化合物から前記式（ｄ）で表される化合物を製造する工程、得られた式（ｄ）で表される化合物から前記式（ｅ）で表される化合物を製造する工程、得られた式（ｅ）で表される化合物から前記式（ｆ）で表される化合物を製造する工程を含む、製造方法。
（７）前記式（１）で表される（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸の製造方法であって、前記式（ｊ）で表される化合物と、前記式（ｆ）で表される化合物とを反応させて、前記式（ｋ）で表される化合物を製造する工程、次いで、式（ｋ）で表される化合物から前記式（ｌ）で表されるエステル化合物を製造する工程、得られた式（ｌ）で表されるエステル化合物から式（１）で表される重水素化化合物を製造する工程を含む、製造方法。
（８）内部標準物質である、（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸。
（９）製造中間体である３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピオニトリル、３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピルアミン、Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］−３−ヒドロキシベンジルアミン、２−メルカプトベンズオキサゾール−ｄ４、２−クロロベンズオキサゾール−ｄ４、Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］−３−ヒドロキシベンジルアミン、及び（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸ｎ−ブチル。
【００４１】
（１０）前記式（ｇ）で表される化合物を金属触媒の存在下、重水素化溶媒中で溶媒の沸点以下の温度で反応させて重水素化する工程、さらに当該重水素化工程を２回以上繰り返し行うことより、前記式（ｈ）で表される重水素化化合物を製造する方法。
（１１）前記式（ｈ）で表される重水素化化合物を環化させて前記式（ｉ）で表される化合物を製造し、次いで得られた式（ｉ）で表される化合物から前記式（ｊ）で表される化合物を製造する方法。
（１２）前記式（ａ）で表される化合物と前記式（ｂ）で表される化合物とを、重メタノール中で反応させて、前記式（ｃ）で表される化合物を製造する工程、次いで、得られた式（ｃ）で表される化合物から前記式（ｄ）で表される化合物を製造する工程、得られた式（ｄ）で表される化合物から前記式（ｅ）で表される化合物を製造する工程、及び前記式（ｅ）で表される化合物から前記式（ｆ）で表される化合物を製造する方法。
（１３）前記式（ｊ）で表される化合物と、前記式（ｆ）で表される化合物とを反応させて、前記式（ｋ）で表される化合物を製造する工程、次いで、前記式（ｋ）で表される化合物から前記式（ｌ）で表されるエステル化合物を製造する工程、得られた式（ｌ）で表されるエステル化合物から式（１）で表される重水素化化合物を製造する方法。
【発明の効果】
【００４２】
本発明の製造方法は、水素雰囲気下にて重水中で白金炭素を触媒に用いた重水素化反応を溶媒の沸点以下で繰り返し行うことにより、緩和な条件かつ高い重水素化率で芳香環部分が重水素化された２−アミノフェノールの標識体を製造するものであり、さらに別の重水素化された部分構造を一つの構造に組み込むことにより、非標識体の混在をさらに低減させた（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸（１）の製造を可能にした。本発明の（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸（１）は、非標識体である［Ｎ−（ベンズオキサゾール−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸（１Ａ）の水素原子を重水素に置換した共通の骨格を持つため、類似の性質を持ち、非標識体と分子量が離れていること、更に非標識体の混在が少ないことにより、ＬＣ／ＭＳ／ＭＳ法において非標識体と完全に分離でき、これを内部標準物質とすることにより正確かつ効率的な測定が可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４３】
本発明の（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸は下式（１）に示す構造式を持つ化合物である。
【００４４】
式（ｌ）で表されるエステル化合物におけるＲは、カルボン酸の保護基を示す。保護基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基等のアルキル基やベンジル基等のアラルキル基等の他、Protective Groups in Organic Synthesis Fourth Editon, John Wiley&Sons, Inc.等に記載されているカルボン酸の保護基を挙げることができる。
【００４５】
【化３０】
【００４６】
以下、（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸の製造方法を各反応工程について説明する。
【００４７】
製造中間体であるＮ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］−３−ヒドロキシベンジルアミン（ｆ）は次に示す反応経路の工程−１〜４の４工程を経て製造することができる。
【００４８】
【化３１】
【００４９】
［工程−１］
化合物（ａ）と化合物（ｂ）を重メタノールと硫酸、塩酸、燐酸、硝酸等の鉱酸、又はメタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、酢酸等の有機酸の存在下に、０〜５０℃、好ましくは２０〜３０℃で、０．５〜４８時間、好ましくは５〜２０時間反応させ４−メトキシフェノール−ｄ７（ｃ）を得る。好ましくは硫酸を酸に用い、１０℃〜５０℃で、１〜３６時間反応させればよく、より好ましくは硫酸を酸に用い、２０〜３０℃で、５〜２０時間反応させればよい。
なお、化合物（ａ）及び化合物（ｂ）、並びに重メタノールは、市販品の重水素化物を使用することもできる。重水素化率が９８％以上の重水素化化合物が市販されており、市販品の重水素化化合物を使用する場合には、重水素化率が９５％以上、好ましくは９８％以上のものが好ましい。
【００５０】
［工程−２］
化合物（ｃ）とアクリロニトリルとを、トリトンＢ、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基、又は炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機塩基の存在下に、０〜１５０℃、好ましくは５０〜１００℃で、１〜９６時間、好ましくは１０〜６０時間反応させ、３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピオニトリル（ｄ）を得る。好ましくは、トリトンＢ、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基の存在下、２０〜１２０℃で５〜７２時間反応させればよく、より好ましくはトリトンＢの存在下に、５０〜１００℃で、１０〜６０時間反応させればよい。
【００５１】
［工程−３］
化合物（ｄ）をテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トルエン等の溶媒中、０〜１２０℃、好ましくは１０〜１１０℃にてボラン・テトラヒドロフラン錯体、ボラン・ジメチルスルフィド錯体、ボラン・ピリジン錯体、水素化リチウムアルミニウム等を用いて０．５〜３６時間還元するか、水素雰囲気下又はアンモニア存在下、０〜１００℃にてラネーニッケル、酸化白金等の触媒を用いて０．５〜３６時間、還元し、３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピルアミン（ｅ）を得る。好ましくは、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジメチルエーテル中、１０〜１１０℃で、ボラン・テトラヒドロフラン錯体、ボラン・ジメチルスルフィド錯体、ボラン・ピリジン錯体を用いて０．５〜２４時間反応させればよく、より好ましくは、２５〜１００℃にてボラン・テトラヒドロフラン錯体を用いて、１〜１２時間反応させればよい。
【００５２】
［工程−４］
化合物（ｅ）をメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエン、アセトニトリル、クロロホルム、ジクロロメタン等の溶媒中で３−ヒドロキシベンズアルデヒドと０〜１２０℃、好ましくは１０〜１００℃にて０．５〜６０時間、好ましくは０．５〜４８時間反応させて、好ましくは得られた中間体を単離すること無く、次いで、水素化ホウ素ナトリウム、トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウム、水素化リチウムアルミニウム等の還元剤を用いて０〜１００℃、好ましくは１０〜５０℃にて０．５〜４８時間、好ましくは１〜２４時間還元反応するか、あるいは水素雰囲気下又はアンモニア存在下、０〜１００℃にてパラジウム炭素、白金炭素、ラネーニッケル、酸化白金等の触媒を用いて０．５〜３６時間還元して、Ｎ−（３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル）−３−ヒドロキシベンジルアミン（ｆ）を製造することができる。好ましくは、化合物（ｅ）をメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、アセトノトリル等の溶媒中で３−ヒドロキシベンズアルデヒドと０〜１００℃にて０．５〜４８時間反応させ、次いで水素化ホウ素ナトリウム、トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウムを用いて０〜１００℃にて０．５〜４８時間反応させればよく、より好ましくは、メタノール中で３−ヒドロキシベンズアルデヒドと１０〜８０℃にて１〜２４時間反応させて、次いで、水素化ホウ素ナトリウムを用いて１０〜５０℃にて０．５〜２４時間反応させればよい。
【００５３】
製造中間体である２−クロロベンズオキサゾール−ｄ４（ｊ）は、次に示す反応経路の工程−５〜７の３工程を経て製造することができる。
【００５４】
【化３２】
【００５５】
［工程−５］
２−アミノフェノール（ｇ）を重水、重メタノール、重エタノール、重塩化水素水、などの重水素化溶媒に加え、パラジウム炭素、白金炭素、ロジウム炭素、酸化白金などの金属触媒存在下、水素雰囲気下又はギ酸存在下にて１０℃〜溶媒の沸点で、０．５〜７２時間反応させる。この操作を２回以上、好ましくは２回〜１０回繰り返し行うことより、高度に重水素化された２−アミノフェノール−ｄ４（ｈ）を得ることができる。好ましくは、重水、重メタノール、重エタノール中、パラジウム炭素又は白金炭素存在下、水素雰囲気下にて５０℃〜溶媒の沸点で、１〜３６時間反応させ、この操作を２回以上、好ましくは３回以上、より好ましくは４回以上繰り返し行えばよく、さらに好ましくは、重水中、白金炭素存在下、水素雰囲気下にて８０〜１０２℃（重水の沸点）で、１〜３０時間反応させ、この操作を３回から６回繰り返し行うことで高度に重水素化された２−アミノフェノール−ｄ４（ｈ）を得ることができる。
【００５６】
［工程−６］
化合物（ｈ）と、キサントゲン酸カリウム、チオカルボニルジイミダゾール又は二硫化炭素をメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエン、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の溶媒中で０〜１５０℃、好ましくは２０〜１２０℃にて０．５〜４８時間、好ましくは１〜３６時間反応させ２−メルカプトベンズオキサゾール−ｄ４（ｉ）を得る。好ましくは、キサントゲン酸カリウム又はチオカルボニルジイミダゾールをメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール中で２０〜１２０℃にて１〜３６時間反応させればよく、さらに好ましくは、キサントゲン酸カリウムをエタノール中で５０〜１００℃にて１〜２４時間反応させればよい。
【００５７】
［工程−７］
化合物（ｉ）とオキシ塩化リン、五塩化リン、三塩化リン、塩化チオニルなどの塩素化剤とを−３０〜１００℃、好ましくは−２０〜８０℃で反応させ、必要であればトルエン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、クロロホルム、塩化メチレンなどの溶媒を用い、０．５〜３６時間、好ましくは０．５〜２４時間反応することにより、２−クロロベンズオキサゾール−ｄ４（ｊ）を製造することができる。好ましくは、塩化チオニルと、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを用い、−１０〜６０℃で０．５〜１２時間反応すればよい。
【００５８】
次に示す反応経路により、本発明化合物（１）は、化合物（ｆ）と化合物（ｊ）から、工程−８〜１０の３工程を経て製造することができる。
【００５９】
【化３３】
［式中、Ｒはカルボン酸の保護基を示す。］
【００６０】
［工程−８］
Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］−３−ヒドロキシベンジルアミン（ｆ）と２−クロロベンズオキサゾール−ｄ４（ｊ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、塩化メチレン、クロロホルム、酢酸エチル等の溶媒中で、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等の無機塩基やトリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン等の有機塩基の存在下、０〜１５０℃で０．５〜４８時間反応させることにより、Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−（３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル）−３−ヒドロキシベンジルアミン（ｋ）を得る。好ましくは、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド又はアセトニトリル中で、トリエチルアミン又はＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンの存在下、１０〜１２０℃で１〜３６時間反応させればよく、さらに好ましくは、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中で、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンの存在下、２０〜１００℃で１〜２４時間反応させればよい。
【００６１】
［工程−９］
化合物（ｋ）とメタンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基などの脱離基をα位に有する酪酸誘導体とを、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等の無機塩基やトリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、ルチジン等の有機塩基の存在下、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、クロロベンゼン、ベンゼン、トルエン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジオキサン、アセトン、メチルエチルケトン、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、酢酸エチル等の溶媒中で−１０〜１００℃で０．５〜４８時間反応させるか、光延反応の条件下で化合物（ｋ）と２−ヒドロキシ酪酸誘導体とを反応させることにより、化合物（ｌ）を得ることができる。好ましくは化合物（ｋ）とメタンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基などの脱離基をα位に有する酪酸誘導体とを炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムやトリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンの存在下、アセトニトリル、クロロホルム又はテトラヒドロフラン中で、０〜８０℃で０．５〜３６時間反応させればよく、さらに好ましくは、トリフルオロメタンスルホニル基などの脱離基をα位に有する酪酸誘導体を炭酸カリウム存在下、アセトニトリル中で、１０〜６０℃で０．５〜２４時間反応させればよい。
【００６２】
［工程−１０］
化合物（ｌ）のエステル部位の加水分解により、本発明化合物である（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸を製造することができる。反応条件としてはエステルの加水分解反応に用いられる反応条件のいずれもが適用でき、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の無機塩基；塩酸、硫酸、臭化水素酸等の鉱酸；あるいはｐ−トルエンスルホン酸等の有機酸等の存在下、水、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、酢酸等の溶媒又はこれらの混合溶媒中で行われる。好ましくは、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサン中で水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム又はその水溶液と０〜１００℃で０．５〜２４時間反応させればよく。さらに好ましくは、メタノール、エタノール中で水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム又はその水溶液と１０〜８０℃で０．５〜１２時間反応させればよい。
【００６３】
なお、本発明の各反応における目的物の単離は、必要に応じて、有機合成化学で常用される精製法、例えば濾過、洗浄、乾燥、再結晶、各種クロマトグラフィー等により行えばよい。
【００６４】
以下に実施例を用いて本発明を更に詳細に説明する。
【実施例１】
【００６５】
（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸（化合物１）の製造
［１］２−アミノフェノール−ｄ４（化合物ｈ）の製造
【００６６】
【化３４】
【００６７】
２−アミノフェノール（１０ｇ）に重水（７０ｍＬ）を加え、アルゴン雰囲気下、室温にて５％白金炭素（２．０ｇ）を加えた。次に水素置換し、１００℃にて一晩中撹拌した。２４時間撹拌後、反応液を室温に戻し、分液ロートに移した。酢酸エチルを加え激しく振とう後、セライトろ過した。有機層を抽出し、飽和食塩水で洗浄して無水硫酸ナトリウムで乾燥した。これを濾過し、減圧濃縮して赤褐色の粗体を得た（８．７７ｇ）。上記の操作をさらに４回繰り返し行った（５．５７ｇ）。
１３Ｃ−ＮＭＲ （６８ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ 136.41, 143.90.
（非標識部位由来のピーク； 113.71-114.29, 118.63-119.48）
ＩＲ（ＡＴＲ，solid sample） 3376, 3351, 3328, 3305, 1578, 1438, 1300ｃｍ−１
ＭＳ（ＥＩ）； Ｍ＋＝１１３
【００６８】
重水素化率は２−アセトアミノ−１−アセトキシベンゼン−ｄ４に誘導後、非標識部位のアセチル基の積分値と比較して算出した。以下に、上記反応操作を繰り返し行った際に得られた２−アミノフェノール−ｄ４の重水素化率を示す。本反応は単回では満足できる重水素化率ではないが、３回繰り返した時点で重水素化率９７％に到達し、５回繰り返した時点で９８％に到達した。
１回目の重水素化率、８６％
２回目の重水素化率、９１％
３回目の重水素化率、９７％
４回目の重水素化率、９７％
５回目の重水素化率、９８％
［２］２−アセトアミノ−１−アセトキシベンゼン−ｄ４の製造
【００６９】
【化３５】
【００７０】
得られた２−アミノフェノール−ｄ４の重水素化率を確認する為、アセチル化を行った。２−アミノフェノール−ｄ４（２９５ｍｇ）を酢酸エチル（１０ｍＬ）に溶解し、氷冷下にてトリエチルアミン（５２７ｍｇ）を加えた。次に、同温にて塩化アセチル（４０９ｍｇ）を加え、室温にて撹拌した。１時間後、酢酸エチルを加え、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒留去した。残渣を分取薄層クロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン／酢酸エチル＝１／２）で精製し、黄色結晶を得た（１３１ｍｇ，２６％）。
重水素化反応を５回繰り返して得られた２−アミノフェノール−ｄ４の２−アセトアミノ−１−アセトキシベンゼン−ｄ４を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ３ＯＤ）δ 2.13 (s, 3H),2.30 (s, 3H).
非標識部位由来のピーク ： 7.12, 7.18, 7.21 (0.07H), 7.74 (0.02H).
重水素化率、９８％
ｍｐ １２３−１２４℃
［３］４−メトキシフェノール−ｄ７（化合物ｃ）の製造
【００７１】
【化３６】
【００７２】
室温にてハイドロキノン−ｄ６（９８ａｔｏｍ％Ｄ、４．４８ｇ）とベンゾキノン−ｄ４（９８ａｔｏｍ％Ｄ、３２５ｍｇ）をメタノール−ｄ４（９９．８ａｔｏｍ％Ｄ、２５．０ｍＬ）に溶解し、同温にて硫酸（４．８０ｇ）を５分間で加えて攪拌した。１４時間後、反応液を氷中に注ぎ、氷冷下、４Ｍ水酸化ナトリウム水溶液を徐々に加え、約ｐＨ９とし、次に硫酸で約ｐＨ５にした。反応液に食塩を加え、ジエチルエーテルで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝５／１）で精製し、淡黄色結晶を得た（４．８３ｇ，８９％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ 4.87 (s,1H).
（非標識部位由来のピーク； 3.72, 3.74, 3.76 (0.06H), 6.76, 6.79 (0.20H))
重水素化率、９６．３％
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ 149.98, 153.61.
（非標識部位由来のピーク； 114.50-115.85）
ＩＲ（ＡＴＲ，solid sample） 3381, 2521, 2262, 2069, 1419, 1141, 1112ｃｍ−１
ＭＳ（ＥＩ）； Ｍ＋＝１３１
ｍｐ ５６−５７℃
［４］３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピオニトリル（化合物ｄ）の製造
【００７３】
【化３７】
【００７４】
４−メトキシフェノール−ｄ７（４．２８ｇ）を室温にてアクリロニトリル（３．５０ｇ）に溶解し、アルゴン雰囲気下、同温にてトリトンＢ（０．３０ｍＬ）を加えた後、８０℃にて攪拌した。２２時間攪拌後、反応液を室温に戻し、減圧濃縮した。酢酸エチルを加え、１Ｍ水酸化ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水の順に洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮した。減圧乾燥後、淡赤褐色の粗結晶を得た（４．５１ｇ）。淡赤褐色粗結晶を全量用いて酢酸エチル（１５．０ｍＬ）に８０℃で溶解し、ヘキサン（３０．０ｍＬ）を加えた後、室温にて撹拌した。結晶が生じた後、更にヘキサン（５０．０ｍＬ）を加え、同温にて一晩中撹拌した。結晶をろ取し、ヘキサンで洗浄した。得られた結晶を減圧乾燥して無色針状晶を得た（３．８７ｇ，６４％）。
１Ｈ−ＮＭＲ （４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３） δ
2.79 (t, J= 6.4Hz, 2H),4.13 (t, J= 6.4Hz, 2H).
（非標識部位由来のピーク ； 3.74 (0.01H), 6.84, 6.86 (0.06H))
重水素化率、９９％
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３） δ
18.61, 63.45, 117.25, 151.57, 154.48.
（標識部位由来のピーク； 114.14-115.90）
ＩＲ （ＡＴＲ， solid sample） 2930, 2886, 2255, 2219, 2069, 1446, 1420ｃｍ−１
ＭＳ（ＥＩ） Ｍ＋＝１８４
ｍｐ ６５−６６℃
［５］３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピルアミン（化合物ｅ）の製造
【００７５】
【化３８】
【００７６】
アルゴン雰囲気下、３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピオニトリル（３．８２ｇ）をテトラヒドロフラン（２０．０ｍＬ）に溶解し、室温にて１．１７Ｍボラン・テトラヒドロフラン錯体（２１．３ｍＬ）を１０分間かけて滴下した。次に８０℃にて３時間撹拌した。反応液を室温に戻し、氷冷下にてメタノール（５０．０ｍＬ）を少量ずつ加えた。再び、８０℃に加熱し３０分間撹拌後、反応液を減圧濃縮した。メタノール（５０．０ｍＬ）と４Ｍ塩酸を加え、８０℃にて一晩中撹拌した。１４時間後、反応液を室温に戻し、減圧濃縮した。水に溶解し、ジエチルエーテルで洗浄し、水層を４Ｍ水酸化ナトリウムでアルカリ性にした。酢酸エチルで２回抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧濃縮後、減圧乾燥して無色固体を得た（２．８７ｇ，７３％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３） δ
1.33 (brs, 2H), 1.90 (quintet, J= 6.6 Hz, 2H), 2.90 (t, J= 6.1 Hz, 2H),
4.00 (t, J= 6.1 Hz, 2H).
（非標識部位由来のピーク； 6.82, 6.83, 0.07H)
１３Ｃ−ＮＭＲ （１００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３） δ
33.21, 39.33, 66.49, 153.02, 153.69.
（標識部位由来のピーク； 114.22-115.23).
ＩＲ （ＡＴＲ，solid sample） 2937, 2872, 2216, 2070, 1600, 1426, 1378ｃｍ−１
ＭＳ（ＥＩ） Ｍ＋＝１８８
ｍｐ ３９−４０℃
［６］Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］−３−ヒドロキシベンジルアミン（化合物ｆ）の製造
【００７７】
【化３９】
【００７８】
３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピルアミン（１．８８ｇ）と３−ヒドロキシベンズアルデヒド（１．２２ｇ）をメタノール（２５．０ｍＬ）に溶解し、６０℃にて３時間撹拌した。反応液を室温に戻し、氷冷下にて水素化ホウ素ナトリウム（５６７ｍｇ）−水（１０．０ｍＬ）懸濁液を５分間で加えた。反応液を室温に戻し、一晩中撹拌した。水を加え、生じた結晶をろ取した。結晶を水で洗浄し、得られた無色粉末を減圧乾燥した（２．６６ｇ，９０％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６） δ
1.82 (quintet, J= 6.8 Hz, 2H), 2.60 (t, J= 6.8 Hz, 2H), 3.60 (s, 2H),
3.94 (t, J= 6.4 Hz, 2H), 6.59 (dd, J= 8.0, 2.2 Hz, 1H),
6.72 (d, J= 7.6 Hz, 1H), 6.74 (s, 1H), 7.07 (t, J= 7.6 Hz, 1H), 9.24 (s, 1H). （非標識部位由来のピーク； ６．８３）
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３） δ
29.33, 45.50, 53.08, 66.37, 113.38, 114.72, 118.44, 128.92, 142.51,
152.57, 153.10, 157.26.
（標識部位由来のピーク； 54.08, 54.23, 54.43, 54.67, 54.89, 113.91,114.15,
114.40, 114.66, 114.89, 115.14, 115.20).
ＩＲ（ＡＴＲ，solid sample) 3275, 1580, 1480, 1431, 1390, 1156, 1109ｃｍ−１
ＭＳ（ＥＩ） Ｍ＋＝２９４
ｍｐ １４２−１４３℃
［７］２−メルカプトベンズオキサゾール−ｄ４（化合物ｉ）の製造
【００７９】
【化４０】
【００８０】
２−アミノフェノール−ｄ４（５．１５ｇ、重水素化率９８％）とキサントゲン酸カリウム（８．０３ｇ）をエタノール（１００ｍＬ）に懸濁し、１００℃にて撹拌した。５時間、反応液を室温に戻し、減圧濃縮した。水を加え、４Ｍ塩酸でｐＨ１とした後、酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水の順に洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒留去し、赤褐色の粗体を得た。赤褐色の粗体を酢酸エチル−ヘキサンより再結晶し、減圧乾燥して赤褐色粉末状結晶を得た（２．９４ｇ，４１．７％）。ろ液を減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）で精製し、赤褐色粉末状結晶を得た（９３３ｍｇ，１３％，合計３．８７ｇ）。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ３ＯＤ） δ 4.91 (brs, 1H).
（非標識部位由来のピーク； 7.19, 7.24, 7.27, 7.35)
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤ３ＯＤ） δ 132.59, 150.09, 182.86
（標識部位由来のピーク； 110.83-111.21, 124.47-126.06)
ＩＲ（ＡＴＲ，solid sample） 3341, 1599, 1476, 1368, 1327, 1112, 932ｃｍ−１
ＭＳ（ＥＩ） Ｍ＋＝１５５
ｍｐ １８６−１８９℃
［８］２−クロロベンズオキサゾール−ｄ４（化合物ｊ）の製造
【００８１】
【化４１】
【００８２】
氷冷下、塩化チオニル（４．００ｍＬ）に２−メルカプトベンズオキサゾール−ｄ４（２．００ｇ）を懸濁し、アルゴン雰囲気下にてＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（９４０ｍｇ）を５分間で滴下した。同温にて２時間撹拌した後、反応液を減圧濃縮した。酢酸エチルで希釈し、水、飽和食塩水の順に洗浄して無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン／酢酸エチル＝１０／１）で精製し、黄色油状物を得た（９９９ｍｇ，４９％）。
１３Ｃ−ＮＭＲ（６８ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３） δ 143.73, 150.78, 151.39.
（標識部位由来のピーク； 109.50-110.25, 118.77-119.51, 123.60-125.21)
ＩＲ（ＡＴＲ，neat） 1783, 1584, 1523, 1436, 1370, 1208, 1113ｃｍ−１
ＭＳ（ＥＩ）； Ｍ＋＝１５７， Ｍ＋＋２＝１５９
【００８３】
［９］Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］−３−ヒドロキシベンジルアミン（化合物ｋ）の製造
【００８４】
【化４２】
【００８５】
Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］−３−ヒドロキシベンジルアミン（１．８７ｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１０．０ｍＬ）に溶解し、室温にてＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（９８３ｍｇ）を加え撹拌した。次に同温にて２−クロロベンズオキサゾール−ｄ４（９９９ｍｇ）を加え、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（５．００ｍＬ）で洗い込み、アルゴン雰囲気下８０℃にて一晩中撹拌した。１５時間撹拌後、室温に戻し放置した。反応液に酢酸エチルを加え、飽和食塩水で２回洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン／酢酸エチル＝５／１→２／１）で精製し、赤褐色アモルファスを得た（２．１９ｇ，８３％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３） δ
2.03 (quintet, J= 6.8 Hz, 2H), 3.45 (t, J= 6.8 Hz, 2H),
3.89 (t, J= 5.6 Hz, 2H), 4.65 (s, 2H), 6.70-6.73 (m, 2H), 6.75 (s, 1H),
7.14 (t, J= 7.8 Hz, 1H), 8.75 (s, 1H).
１３Ｃ−ＮＭＲ（６８ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３） δ
27.62, 45.01, 52.07, 65.32, 113.12, 115.33, 118.77, 129.79, 137.60,
141.40, 148.07, 152.61, 153.77, 157.82, 162.28.
ＩＲ（ＡＴＲ，solid sample） 2941, 1633, 1567, 1424, 1393, 1153, 1111ｃｍ−１
ＭＳ（ＥＩ）； Ｍ＋＝４１５
ｍｐ ９５−９６℃
【００８６】
［１０］（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸ｎ−ブチル（化合物ｌのＲがｎ−ブチルの化合物）の製造
【００８７】
【化４３】
【００８８】
Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］−３−ヒドロキシベンジルアミン（２．１６ｇ）をアセトニトリル（３０．０ｍＬ）に溶解し、室温にて炭酸カリウム（１．０８ｇ）を加えた。次に室温にてｎ−ブチル（Ｓ）−トリフルオロメタンスルホニルオキシ酪酸（１．３２ｇ）を加えてアセトニトリル（１０．０ｍＬ）で洗い込み、同温にて一晩中撹拌した。１９時間撹拌後、反応液を減圧濃縮し、酢酸エチルを加え、水、飽和食塩水の順に洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝５／１）で精製し、赤褐色油状物を得えた（２．８２ｇ，９７％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３） δ
0.85 (t, J= 7.3 Hz, 3H), 1.05 (t, J= 7.3 Hz, 3H), 1.22-1.28 (m, 2H),
1.49-1.55 (m, 2H), 1.96 (quintet, J= 6.4 Hz, 2H),
2.14 (quintet, J= 6.8 Hz, 2H), 3.70 (t, J= 7.1 Hz, 2H),
3.96 (t, J= 5.9 Hz, 2H), 4.00-4.14 (m, 2H), 4.53 (t, J= 6.3 Hz, 1H),
4.72 (d, J= 15.9 Hz, 1H), 4.77 (d, J= 15.6 Hz, 1H),
6.76 (dd, J= 8.0, 2.2 Hz,1H), 6.86 (s, 1H), 6.89 (d, J= 7.6Hz, 1H),
7.21 (t, J= 8.0 Hz, 1H).
１３Ｃ−ＮＭＲ （６８ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３） δ
9.67, 13.59, 18.92, 26.17, 27.51, 30.48, 45.11, 52.06, 64.96, 65.50,
77.60, 113.73, 114.66, 120.68, 129.82, 138.67, 143.41, 148.56, 152.69,
153.76, 158.31, 162.15, 171.67.
（非標識部位由来のピーク； 55.19, 108.64, 113.86, 114.24, 115.37,
115.78, 116.02, 119.88, 120.15, 120.68, 123.44, 123.72)
ＩＲ （ＡＴＲ， neat） 2960, 2067, 1751, 1633, 1563, 1425, 1154ｃｍ−１
ＭＳ（ＥＩ） Ｍ＋＝５５７
旋光度 ［α］Ｄ２０ ＋１９．１ （ｃ０．８９，ＣＨＣｌ３）
【００８９】
［１１］（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−（３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル）アミノメチル］フェノキシ］酪酸（化合物１）の製造
【００９０】
【化４４】
【００９１】
（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−（３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル）アミノメチル］フェノキシ］酪酸ｎ−ブチル（２．７０ｇ）をエタノール（２０．０ｍＬ）に溶解し、氷冷下にて４Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（２．４０ｍＬ）を加え、室温にて１時間撹拌した。氷冷下、反応液に水を加え、撹拌しながら４Ｍ塩酸を加えてｐＨ１とした。酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水の順に洗浄して無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝１／０→５０／１→１０／１）で精製し、淡黄色アモルファスを得た（２．１０ｇ，８７％）。これを酢酸エチルとヘキサンに８０℃にて溶解撹拌し、室温に戻した。結晶析出後、さらにヘキサンを加え、５時間撹拌し、結晶を濾取して無色粉末状結晶を得た（１．７４ｇ，７２％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６） δ
0.96 (t, J= 7.6 Hz, 3H), 1.79-1.89 (m, 2H),2.06 (quintet, J= 6.8 Hz, 2H),
3.65 (t, J= 6.8 Hz, 2H), 3.94 (t, J= 6.1 Hz, 2H), 4.60 (t, J= 6.6 Hz, 1H),
4.72 (s, 2H),6.78 (dd, J= 8.3, 2.4 Hz,1H), 6.86 (s, 1H),
6.89 (d, J= 7.8 Hz, 1H), 7.25 (t, J= 7.8 Hz, 1H), 13.1 (brs, 1H).
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６） δ
9.53, 25.42, 27.12, 45.29, 51.27, 65.47, 76.43, 113.30, 114.13, 119.77,
129.76, 139.02, 143.19, 148.43, 152.31, 153.25, 158.04, 162.24, 172.46 . （非標識部位由来のピーク； 113.91, 114.82, 115.04, 115.21, 115.45)
ＩＲ （ＡＴＲ，solid sample） 2959, 2939, 2887, 1716, 1628, 1426, 1377ｃｍ−１
ｍｐ ９５−９６℃
ＭＳ（ＦＡＢ） Ｍ＋＋１＝５０２
旋光度 ［α］Ｄ２４ ＋１７．１ （ｃ０．６７，ＭｅＯＨ）
【実施例２】
【００９２】
（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−２−イル）−Ｎ−（３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル）アミノメチル］フェノキシ］酪酸（化合物１Ｂ）の製造
【００９３】
［１］Ｎ−（ベンズオキサゾール−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］−３−ヒドロキシベンジルアミンの合成
【００９４】
【化４５】
【００９５】
Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］−３−ヒドロキシベンジルアミン（６．２２ｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドに加え、次にＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（２．７３ｇ）を加えてアルゴン雰囲気下、８０℃にて溶解した。さらに、同温にて２−クロロベンズオキサゾール（３．２４ｇ）を加え、１４時間撹拌した。反応液を減圧濃縮し、酢酸エチルを加えて有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）で精製し、黄色油状物を得た。これをｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルに溶解し、室温にて放置した。析出結晶を濾取し、無色結晶を得た（７．５６ｇ、８７％）
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６） δ
2.06 (quintet, J= 6.5 Hz,2H), 3.65 (t, J= 7.0Hz, 2H),
3.94 (t, J= 6.0 Hz, 2H), 4.70 (s, 2H), 6.70 (dd, J= 9.0, 1.7 Hz, 1H),
6.69-6.76 (m, 2H), , 7.00 (td, J= 7.7, 1.0 Hz,1H), 7.15 (t, J= 7.8 Hz, 2H),
7.30 (d, J= 7.4Hz, 1H), 7.36 (d, J= 8.0 Hz, 1H), 9.43 (s, 1H).
（非標識部位由来のピーク； 6.83, 6.85）
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６） δ
27.13, 45.22, 51.31, 65.50, 108.81, 113.92, 114.42, 115.59, 117.90,
120.13, 123.88, 129.64, 138.73, 143.31, 148.46, 152.30, 153.27, 157.63,
162.26
（非標識部位由来のピーク； 114.07, 114.16, 114.29, 114.80, 114.82, 115.04,
115.28, 115.34 ）
ＩＲ（ＡＴＲ，solid sample） 2937, 1638, 1600, 1582, 1459, 1424, 1394 ｃｍ−１
ｍｐ １００−１０１℃
ＭＳ（ＥＩ） Ｍ＋＝４１１
【００９６】
［２］（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸ベンジル（化合物ｌのＲがベンジルの化合物）の製造
【００９７】
【化４６】
【００９８】
Ｎ−（ベンズオキサゾール−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］−３−ヒドロキシベンジルアミン（４．５９ｇ）をアセトニトリルに懸濁後、７０℃で加温溶解した。次に室温に戻し、炭酸カリウム（２．３１ｇ）を加え、さらにベンジル（Ｓ）−トリフルオロメタンスルホニルオキシ酪酸（４．００ｇ）を加えて、室温にて撹拌した。１１時間撹拌後、反応液を減圧濃縮した。反応液に酢酸エチルを加え、水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝５／１）で精製し、無色油状物を得た（６．９７ｇ、１００％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３） δ
1.02 (t, J= 7.3 Hz, 3H), 1.96 (quintet, J= 7.1 Hz, 2H),
2.13 (quintet, J= 6.5 Hz, 2H), 3.68 (t, J= 7.1 Hz, 2H),
3.95 (t, J= 5.9 Hz, 2H), 4.57 (t, J= 6.2 Hz, 1H),
4.69 (d, J= 15.9 Hz, 1H), 4.74 (d, J= 15.9 Hz, 1H),
5.06 (d, J= 12.2 Hz, 1H), 5.15 (d, J= 12.2 Hz, 1H),
6.74 (dd, J= 8.1, 2.4 Hz, 1H), 6.84 (s, 1H), 6.89 (d, J= 7.6 Hz, 1H),
7.00 (d, J= 7.8 Hz, 1H), 7.14-7.30 (m, 8H), 7.37 (d, J= 7.8 Hz, 1H).
１３Ｃ−ＮＭＲ （１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ
9.52, 26.03, 27.27, 45.12, 52.00, 65.47, 66.64, 77.48, 108.69, 113.83,
114.61, 116.10, 120.32, 120.66, 123.88, 128.15, 128.27, 128.45, 129.78,
135.30, 138.65, 143.43, 148.85, 152.63, 153.72, 158.17, 162.56, 171.30.
（非標識部位由来のピーク；113.94, 114.19, 114.23, 114.75, 114.98, 115.23,
115.28 )
ＩＲ（ＡＴＲ，neat） 2938, 1752, 1638, 1459, 1578, 1425, 1153ｃｍ−１
ＭＳ（ＥＩ) Ｍ＋＝５８７
旋光度 ［α］Ｄ２０ ＋１６．４（ｃ１．００，ＣＨＣｌ３）
【００９９】
［３］（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸（化合物１Ｂ）の製造
【０１００】
【化４７】
【０１０１】
（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸ベンジル（６．３０ｇ）をエタノールに溶解した。氷水中にて４Ｎ水酸化ナトリウム水溶液を加えて室温にて撹拌した。２時間後、反応液をジエチルエーテルで洗浄した。水層を氷水で冷却し、濃塩酸を用いて約ｐＨ１とした後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝１／０→１０／１）で精製した。減圧濃縮後、室温にて１時間減圧乾燥し、白色アモルファスを得た（５．１１ｇ、９５．８％）。これを酢酸エチルに溶解し、７０℃で加温下、ヘキサンを加え室温に戻し５時間撹拌した。析出結晶を濾取し、無色針状晶を得た（４．５５ｇ、８５％）
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６） δ
0.98 (t, J= 7.3 Hz, 3H), 1.83-1.92 (m, 2H), 2.07 (quintet, J= 6.5 Hz, 2H),
3.67 (t, J= 7.1 Hz, 2H), 3.95 (t, J= 6.0 Hz, 2H), 4.64 (t, J=6.0 Hz, 1H),
4.74 (s, 2H), 6.80 (dd, 8.0,2.0 Hz, 1H), 6.90 (s, 1H),
6.91 (d, J= 8.2 Hz, 1H), 7.00 (t, J= 7.8 Hz, 1H), 7.15 (t, J= 7.7 Hz, 1H),
7.26 (t, J= 7.8 Hz, 1H), 7.31 (d, J= 7.8 Hz, 1H), 7.36 (d, J= 7.8 Hz, 1H),
13.1 (brs, 1H).
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ
9.46, 25.41, 27.14, 31.26, 45.29, 51.30, 65.49, 76.41, 108.85, 113.36,
114.17, 115.67, 119.85, 120.18, 123.89, 129.74, 139.01, 143.29, 148.51,
152.34, 153.29, 158.04, 162.25, 172.39.
（非標識部位由来のピーク； 53.99, 54.22, 54.45, 54.66, 54.90, 113.93,
113.96, 114.43, 114.46, 114.79, 114.81, 115.05, 115.28, 115.35）
ＩＲ（ＡＴＲ，solid sample） 2967, 2935, 1725, 1635, 1584, 1426, 1382ｃｍ−１
融点； ９１−９３℃
ＭＳ（ＦＡＢ）； Ｍ＋＋１＝４９８
旋光度 ［α］Ｄ２４ ＋１６．５ （ｃ０．６２，ＭｅＯＨ）
【実施例３】
【０１０２】
ＬＣ／ＭＳ／ＭＳ法によるｄ１１標準物質とｄ７標準物質の比較
１）測定
内部標準物質（ｄ１１体（１）又はｄ７体（１Ｂ））の５０％メタノール水溶液（２５０ｎｇ／ｍＬ，２５μＬ）を、ＨＰＬＣにより分離し、ＭＳ／ＭＳにて測定を行った。
２）測定機器
上述のサンプルをＬＣ／ＭＳ／ＭＳを用いて分析した。使用した機器は以下の通りである。
ＬＣ（液体クロマトグラフィー）：「Agilent 1100シリーズ」
ＭＳ／ＭＳ：「Applied Biosystems API4000」
カラムは４０℃に保温したSymmetry C18（5μm, 2.1mm I.D.×150mm）逆相カラムを用いた。ＬＣの移動相は０．１％ギ酸及びメタノールを２０：８０の割合とした。流速は０．２ｍＬ／ｍｉｎとした。
非標識体（１Ａ）、ｄ７体（１Ｂ）及びｄ１１体（１）をイオン化するには、大気圧イオン化法で、一般的なＥＳＩ（Electron Spray ionization）で表１に示す条件にて測定を行った。
【０１０３】
【表１】
【０１０４】
３）結果
図１ａ、図１ｂにｄ１１体（１）及びｄ７体（１Ｂ）とこれら標識体に含まれる非標識体のＭＳ／ＭＳクロマトグラムを重ね合わせたものを示した。図１より、製造した重水素体中に非標識体の混在が少ないことがわかる。さらに拡大図を見ると、ｄ１１体（１）はｄ７体（１Ｂ）と比較して明らかに非標識体の著しい減少が認められた。ＭＳ／ＭＳクロマトグラムにおけるピーク面積の測定結果と残存する非標識体の比率を算出すると、ｄ７体（１Ｂ）に検出された非標識体とのピーク面積比は０．１９であるのに対し、ｄ１１体（１）の場合ではピーク面積比は０．０２であり、測定誤差の原因となる非標識体の混在が少ないことが示された。
なお、図１はＭＳ／ＭＳクロマトグラムであり、図１ａ）はｄ１１体（１）、図１ｂ）はｄ７体（１Ｂ）、それぞれの下段はそれを１００倍に拡大したものである。
【実施例４】
【０１０５】
ＬＣ／ＭＳ／ＭＳ法による標準物質の測定
１）測定
ラット血漿中の（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸（１Ａ）を定量するために、検量線を作成し、その直線性を確認した。プロピレングリコールのエタノール溶液（２％溶液、２５０μＬ）及び非標識体（１Ａ）メタノール溶液（０．０２，０．０４，０．１，０．２，０．４，１，２，４ｎｇ／ｔｕｂｅ）をガラスチューブに添加し、溶媒を留去した。残留物にラット血漿１００μＬを添加した。１００μＬのｄ１１体（１）水溶液（２．５ｎｇ／ｍＬ）及び０．１％酢酸９００μＬを添加してボルテックスでよく攪拌した。ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルを５ｍＬ添加し、１０分間振とうした。３，０００ｒｐｍで１０分間遠心分離後、有機層３ｍＬを別のガラスチューブに移した。プロピレングリコールのエタノール溶液（２％溶液、２５０μＬ）を添加した後、溶媒を留去した。残渣に５０％メタノール水溶液を１５０μＬ加えて溶解し、測定用サンプルとした。
２）測定機器
ＬＣ／ＭＳ／ＭＳによる分析は実施例３と同一機器、同一条件で行った。
３）結果
異なった濃度の非標識体（１Ａ）を含むサンプルを上述のＬＣ／ＭＳ／ＭＳの条件下で分析した。結果を図２に示す。その結果、ｄ１１体（１）に対する非標識体（１Ａ）のピーク面積比をｙ軸に、添加濃度比をｘ軸に取り、図３に示す検量線を作成した。検量線の相関係数は０．９９９９と良好であり、各々のポイントの真度（測定濃度／理論濃度×１００）も９７．４〜１０２％と良好であった。結果を次の表２に示す。
【０１０６】
【表２】
【０１０７】
以上より、この検量線を用いて非標識体（１Ａ）のラット血漿中濃度を信頼性高く測定できることが判った。
【産業上の利用可能性】
【０１０８】
本発明は、高脂血症、動脈硬化症、糖尿病、糖尿病合併症、炎症、心疾患等に有用と考えられるＰＰＡＲαを選択的に活性化する化合物の生体内での動態を測定するための標準物質として有用な化合物及びその製造を提供するものであり、本発明の方法で製造された化合物を用いることにより、薬物の生体内での活性や代謝を正確に把握することが可能となる。したがって、本発明は、医薬品の開発や副作用の低減などに有用となり産業上の利用可能性を有している。
【図面の簡単な説明】
【０１０９】
【図１】図１は、ｄ１１体（１）及びｄ７体（１Ｂ）とこれら標識体に含まれる非標識体のＭＳ／ＭＳクロマトグラムを重ね合わせたものである。図１ａはｄ１１体（１）のＭＳ／ＭＳクロマトグラムであり、図１ｂはｄ７体（１Ｂ）のＭＳ／ＭＳクロマトグラムである。図１の下段は、非標識体の存在が確認できるための拡大図を示す。
【図２】図２は、血中濃度（０．２ｎｇ／ｍｌ）の非標識体（１Ａ）を含むラット血漿サンプルを分析したときのＭＳ／ＭＳクロマトグラムである。
【図３】図３は、異なった濃度の非標識体（１Ａ）を含むサンプルをＬＣ／ＭＳ／ＭＳの条件下で測定した結果得られた検量線である。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、薬物動態等の試験に用いる高純度な重水素化誘導体及びその製造法に関する。より詳細には、本発明は、式（１）で表される（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸の製造方法、及び新規な中間体化合物に関する。
【背景技術】
【０００２】
重水素化された化合物は種々の目的に有用であり、反応機構や生体内での物質代謝の解明に標識化合物として利用されてきた。特に医薬品の開発研究において有用な薬物を生体内に投与し、その薬物及び代謝物等の体内動態を調べる薬物動態研究では高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）がこれまで利用されてきた。これは対象とする特定化合物の定量に類似化合物を測定用標準物質として用い定量する手法である。しかし、本手法によると、ＵＶによる検出限界が１０−１００ｎｇ／ｍＬであり、それ以下の正確な定量が困難な場合が多い。
近年、より検出感度の高いＬＣ／ＭＳ／ＭＳ法が重用されるようになり、上記の測定に関わる問題を回避することが可能となった（非特許文献１）。しかしながら、ＨＰＬＣの溶出物がベーパーライザー中で加熱され、部分気化の状態でイオン源ブロックに噴霧され、さらに加熱されイオンが生成されるとイオン化は常に一定ではなくなり、ＭＳの測定においてバラツキに繋がることになる。このようなバラツキを補正するために内部標準物質を用いる。その際の内部標準物質としては、次の三つの要件を満たすことが望まれる。１）目的物はＨＰＬＣでほぼ同じ保持時間を持つこと。２）ピーク形状が目的物とほぼ同一であること。３）イオン化効率が目的物と同一であること。
このような要件を満たす内部標準物質として安定同位体の活用が挙げられる。安定同位体には炭素、窒素、水素、酸素等が挙げられるが、標識体の合成としては重水素化物の活用が実用的である。天然に存在する重水素の含量比を考慮すると、対象となる化合物の分子量よりも３以上大きい分子量を示す標識体を用いなければ、測定に支障を来す可能性があり、測定用標準物質としての重水素標識体は高度に重水素化されている方が望ましい。また、低用量で作用を発現する薬物やバイオアベイラビリティーの悪い薬物での未変化体及び代謝物濃度を測定する際には、血漿中、尿中、あるいは、組織中の濃度が著しく低いため、測定用標準物質の重水素標識率が不十分であると測定誤差の原因となる。なぜなら、重水素標識されていない化合物は測定対象の薬物そのものとなるからである。拠って、高い精度の測定のためには測定用標準物質の重水素標識率が限りなく１００％に近い、重水素標識されていない不純物が殆ど混在しないことが望ましい。
【０００３】
有機化合物の重水素化方法について多くの方法が報告されている。例えば、ＤＣｌやＣＨ３ＣＯ２Ｄ等の重水素を含む酸を用いる方法（非特許文献２、非特許文献３）、塩基性条件における活性水素と重水素との交換反応（非特許文献４）、均一系遷移金属触媒を用いる方法（非特許文献５、非特許文献６、非特許文献７、非特許文献８）、マイクロウェーブ装置を用いたハロゲン原子と重水素との交換反応（非特許文献９）、超臨界重水素交換法（非特許文献１０）、不均一系触媒を用いる方法（非特許文献１１、非特許文献１２）等の方法が知られている。しかしながら、これらの方法は重水素交換部位や対象とする化合物に制限があること、高温又は高圧力下での反応であること、高価な触媒を必要とすること、さらに満足いく重水素交換率が得られないことなどの何れかの問題を含み、実用的であるとは言い難い。一方、不均一系触媒を用いる方法の中でも、水素雰囲気下にて重水中でパラジウム炭素又は白金炭素を触媒に用いた重水素化反応が知られている。芳香環上の水素を重水素交換するには白金炭素を触媒に用いた場合、パラジウム炭素よりも高い重水素化が起こることが報告されているが、より高く重水素化された化合物を得るには芳香環上の置換基の種類によっては１８０℃と過酷な温度条件を必要とし、オートクレーブ等の特殊な装置を必要とする（非特許文献１３）。
【０００４】
このように、内部標準品の要件を満たす高純度かつ高度に重水素化された化合物の合成は極めて困難であり、その理由は重水素化された出発物質の市場利用性が極度に限定されることから一般製造法としては確立されていない。そこで、合理的かつ効率的な方法論の開拓が求められていた。
【０００５】
また、式（１）で表される重水素化化合物の重水素化されていない（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸（１Ａ）は、特許文献１に記載されており、当該化合物は、高脂血症、動脈硬化症、糖尿病、糖尿病合併症、炎症、心疾患等に有用と考えられるＰＰＡＲαを選択的に活性化する化合物として有用であるとされている。
【０００６】
【特許文献１】ＷＯ２００５／２３７７７号パンフレット
【非特許文献１】原田健一他，ＬＣ／ＭＳの実際，ｐ１４９，講談社サイエンティフィック
【非特許文献２】Journal of the American Chemical Society,1967,89,4546-4547.
【非特許文献３】Tetrahedron Letters,2002,43、3789-3792.
【非特許文献４】Journal of Labelled Compounds and Radiopharmaceuticals,1994,34,93-100.
【非特許文献５】Journal of the Chemical Society, Chemical Communication,1992,680-681.
【非特許文献６】Journal of the American Chemical Society,2002,124,2092-2093.
【非特許文献７】Journal of the American Chemical Society,1999,121,4385-4396.
【非特許文献８】Journal of Organic Chemistry,1974,39,48-50.
【非特許文献９】Tetrahedron Letter,2001,42,331-332.
【非特許文献１０】Tetrahedron Letter,1996,37,3445-3448
【非特許文献１１】Journal of the Chemical Society,Chemical Communication,2004,1714-1715.
【非特許文献１２】Chemistry Letters,2004,33,294-295.
【非特許文献１３】Tetrahedron Letter,2005,46,6995-6998
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明はＬＣ／ＭＳ／ＭＳ法において（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸と完全に分離でき、正確かつ効率的な測定が可能な測定用標準物質を提供することを目的とし、その合理的かつ効率的な製造法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
以前に本発明者らは、高脂血症、動脈硬化症、糖尿病、糖尿病合併症、炎症、心疾患等に有用と考えられるＰＰＡＲαを選択的に活性化する化合物の探索を行った結果、下記一般式（Ａ）：
【０００９】
【化１６】
【００１０】
[式中、Ｒ１及びＲ２は同一又は異なって水素原子、メチル基又はエチル基を示し；Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、Ｒ４ａ及びＲ４ｂは同一又は異なって水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、水酸基、Ｃ１−４アルキル基、トリフルオロメチル基、Ｃ１−４アルコキシ基、Ｃ１−４アルキルカルボニルオキシ基、ジ−Ｃ１−４アルキルアミノ基、Ｃ１−４アルキルスルフォニルオキシ基、Ｃ１−４アルキルスルフォニル基、Ｃ１−４アルキルスルフィニル基又はＣ１−４アルキルチオ基を示すか、Ｒ３ａとＲ３ｂあるいはＲ４ａとＲ４ｂが結合してアルキレンジオキシ基を示し；Ｘは酸素原子、硫黄原子又はＮ−Ｒ５（Ｒ５は水素原子、Ｃ１−４アルキル基、Ｃ１−４アルキルスルフォニル基、Ｃ１−４アルキルオキシカルボニル基を示す）を示し；Ｙは酸素原子、Ｓ（Ｏ）ｌ基（ｌは０〜２の数を示す）、カルボニル基、カルボニルアミノ基、アミノカルボニル基、スルホニルアミノ基、アミノスルホニル基又はＮＨ基を示し；ＺはＣＨ又はＮを示し；ｎは１〜６の数を示し；ｍは２〜６の数を示す。]
【００１１】
で表される化合物を創製し、特許出願を行った（特許文献１参照）。この特許文献中に記載されている（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸（１Ａ）（特許文献１の実施例１４及び８５参照）において、血漿中未変化体濃度や代謝物測定などの薬物動態研究を進めるためには、それらと標準物質とを完全分離し正確かつ効率的な測定を可能とする測定用の重水素標識化合物が求められていた。本発明者らは、（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸（１Ａ）の測定用標準物質を得るため、（１Ａ）の重水素標識体の製造法について鋭意研究を行ってきた。従来の重水素化法により、ある程度重水素化された化合物を製造することはできるが、重水素化の程度が低いだけでなく、重水素化物の混合物となり、質量分析（ＭＳ）における内部標準物質として使用できる高純度の重水素化物を製造することは困難であった。特に、重水素化率を９５％以上、好ましくは９８％以上とした高度に重水素化された重水素化物を、高純度で、かつ簡便な方法で安定して製造できる方法を確立させることは非常に困難であった。なかでも中間体のひとつであるベンズオキサゾール誘導体のベンゼン環上の４個の水素原子の平均重水素化率が９８％以上の高度に重水素化された化合物を確実に製造する方法を見出さなければ目的とする高純度にかつ高度に重水素置換した（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸（１）を製造することはできない。本発明者らは、このための方法を鋭意検討してきた結果、ついに高純度にかつ高度に重水素置換した目的物の製造方法を確立することができた。そして、この化合物を内部標準物質として用いた結果、ＬＣ／ＭＳ／ＭＳ法において非標識体との完全な分離を可能とし、正確かつ効率的な測定を実施できることも確認され、本発明に至った。
【００１２】
すなわち、本発明は、次式（ｇ）：
【００１３】
【化１７】
【００１４】
で表される化合物を金属触媒の存在下、重水素化溶媒中で溶媒の沸点以下の温度で反応させて重水素化する工程、さらに当該重水素化工程を２回以上繰り返し行うことより、次式（ｈ）：
【００１５】
【化１８】
【００１６】
（式中、Ｄは重水素を示す。当該重水素の置換率は、９５％以上、好ましくは９８％以上である。）
で表される重水素化化合物を製造する工程を含む、次式（１）
【００１７】
【化１９】
【００１８】
（式中、Ｄは重水素を示す。当該重水素の置換率は、９５％以上、好ましくは９８％以上である。）
で表される（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸の製造方法に関する。特に、本発明は、前記式（ｇ）で表される２−アミノフェノールを、金属触媒の存在下、重水素化溶媒中で溶媒の沸点以下の温度で反応させて重水素化し、得られた重水素化物を、さらに当該重水素化工程により２回以上繰り返し行うことより、重水素化率が９５％、好ましくは９８％以上の前記式（ｈ）で表される重水素化２−アミノフェノールを製造方法に関する。
また、本発明は、前記式（１）で表される（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸の製造方法であって、次式（ａ）：
【００１９】
【化２０】
【００２０】
で表される化合物と次式（ｂ）：
【００２１】
【化２１】
【００２２】
で表される化合物とを、重メタノール中で反応させて、次式（ｃ）：
【００２３】
【化２２】
【００２４】
（式中、Ｄは重水素を示す。）
で表される化合物を製造する工程、次いで、得られた式（ｃ）で表される化合物を、アクリロニトリルなどのシアノ化合物と反応させて、次式（ｄ）：
【００２５】
【化２３】
【００２６】
（式中、Ｄは重水素を示す。）
で表されるシアノ化合物（ｄ）を製造する工程、得られた式（ｄ）で表されるシアノ化合物を還元して次式（ｅ）：
【００２７】
【化２４】
【００２８】
（式中、Ｄは重水素を示す。）
で表されるアミノ化合物（ｅ）を製造する工程、式（ｅ）で表されるアミノ化合物と３−ヒドロキシベンズアルデヒドと反応さ、次いで得られたイミノ化合物を還元して次式（ｆ）：
【００２９】
【化２５】
【００３０】
（式中、Ｄは重水素を示す。）
で表されるアミン化合物（ｆ）を製造する工程を含む、製造方法に関する。特に、本発明は、前記式（ａ）で表される化合物と前記式（ｂ）で表される化合物とを、重メタノール中で反応させて、前記式（ｃ）で表されるメトキシフェノール化合物（ｃ）を製造する工程、次いで、得られた式（ｃ）で表されるメトキシフェノール化合物をシアノ化合物と反応させて前記式（ｄ）で表されるシアノ化合物（ｄ）を製造する工程、得られた前記式（ｄ）で表される化合物を還元して前記式（ｅ）で表されるアミノ化合物（ｅ）を製造する工程、前記式（ｅ）で表されるアミノ化合物をアルデヒドなどと反応させて対応するイミノ化合物とし、次いでこれを還元して前記式（ｆ）で表されるアミン化合物（ｆ）を製造する方法に関する。
さらに、本発明は、式（１）で表される（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸の製造方法であって、前記式（ｈ）で表される重水素化化合物を環化させて次式（ｉ）：
【００３１】
【化２６】
【００３２】
（式中、Ｄは重水素を示す。当該重水素の置換率は、９５％以上、好ましくは９８％以上である。）
で表される２−メルカプトベンズオキサゾール−ｄ４（ｉ）を製造し、次いで得られた式（ｉ）で表されるオキサゾール化合物を塩素化して次式（ｊ）：
【００３３】
【化２７】
【００３４】
（式中、Ｄは重水素を示す。当該重水素の置換率は、９５％以上、好ましくは９８％以上である。）
で表される２−クロロベンズオキサゾール−ｄ４（ｊ）を製造する工程を含む、製造方法に関する。特に、本発明は、前記式（ｈ）で表される重水素化化合物を環化させて前記式（ｉ）で表される化合物（ｉ）を製造し、次いで得られた式（ｉ）で表される化合物（ｉ）を塩素化して前記式（ｊ）で表される化合物を製造する方法に関する。
また、本発明は、前記式（１）で表される（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸の製造方法であって、前記式（ｊ）で表される化合物（ｊ）と、前記式（ｆ）で表されるアミン化合物（ｆ）とを反応させて、次式（ｋ）：
【００３５】
【化２８】
【００３６】
（式中、Ｄは重水素を示す。当該重水素の置換率は、９５％以上、好ましくは９８％以上である。）
で表されるフェノール化合物（ｋ）を製造する工程、次いで、式（ｋ）で表されるフェノール化合物（ｋ）を脱離基を有する酪酸誘導体と反応させて次式（ｌ）：
【００３７】
【化２９】
［式中、Ｒはカルボキシル基の置換基を示す。］
【００３８】
（式中、Ｄは重水素を示す。当該重水素の置換率は、９５％以上、好ましくは９８％以上である。）
で表されるエステル化合物（ｌ）を製造する工程、得られた式（ｌ）で表されるエステル化合物から式（１）で表される重水素化化合物を製造する工程を含む、製造方法に関する。特に、本発明は、前記式（ｊ）で表される化合物と、前記式（ｆ）で表されるアミン化合物とを反応させて、前記式（ｋ）で表されるフェノール化合物を製造する工程、次いで、式（ｋ）で表されるフェノール化合物を酪酸誘導体と反応させて前記式（ｌ）で表されるエステル化合物を製造する工程、及び得られた式（ｌ）で表されるエステル化合物から式（１）で表される重水素化化合物を製造する方法に関する。
【００３９】
さらに、本発明は、重水素化率が９５％以上、好ましくは９８％以上であり、実質的に純粋な（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸に関する。本発明は、重水素化率が９５％以上、好ましくは９８％以上であり、実質的に純粋な３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピオニトリルに関する。本発明は、重水素化率が９５％以上、好ましくは９８％以上であり、実質的に純粋な３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピルアミンに関する。本発明は、重水素化率が９５％以上、好ましくは９８％以上であり、実質的に純粋なＮ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］−３−ヒドロキシベンジルアミンに関する。本発明は、重水素化率が９５％以上、好ましくは９８％以上であり、実質的に純粋な２−メルカプトベンズオキサゾール−ｄ４に関する。本発明は、重水素化率が９５％以上、好ましくは９８％以上であり、実質的に純粋な２−クロロベンズオキサゾール−ｄ４に関する。
【００４０】
本発明をさらに詳細に説明すれば以下のとおりである。
（１）前記式（１）で表される（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸の製造方法であって、前記式（ｇ）で表される化合物を金属触媒の存在下、重水素化溶媒中で溶媒の沸点以下の温度で反応させて重水素化する工程、さらに当該重水素化工程を２回以上繰り返し行うことより、前記式（ｈ）で表される重水素化化合物を製造する工程を含む製造方法。
（２）重水素化溶媒が、重水である前記（１）に記載の製造方法。
（３）金属触媒が、パラジウム炭素又は白金炭素である前記（１）又は（２）に記載の製造方法。
（４）前記式（ｈ）で表される重水素化化合物の重水素化率が９８％以上である前記（１）〜（３）のいずれかに記載の製造方法。
（５）前記式（ｈ）で表される重水素化化合物を環化させて前記式（ｉ）で表される化合物を製造し、次いで得られた式（ｉ）で表される化合物から前記式（ｊ）で表される化合物を製造する工程を含む、前記（１）に記載の製造方法。
（６）前記式（１）で表される（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸の製造方法であって、前記式（ａ）で表される化合物と前記式（ｂ）で表される化合物とを、重メタノール中で反応させて、前記式（ｃ）で表される化合物を製造する工程、次いで得られた式（ｃ）で表される化合物から前記式（ｄ）で表される化合物を製造する工程、得られた式（ｄ）で表される化合物から前記式（ｅ）で表される化合物を製造する工程、得られた式（ｅ）で表される化合物から前記式（ｆ）で表される化合物を製造する工程を含む、製造方法。
（７）前記式（１）で表される（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸の製造方法であって、前記式（ｊ）で表される化合物と、前記式（ｆ）で表される化合物とを反応させて、前記式（ｋ）で表される化合物を製造する工程、次いで、式（ｋ）で表される化合物から前記式（ｌ）で表されるエステル化合物を製造する工程、得られた式（ｌ）で表されるエステル化合物から式（１）で表される重水素化化合物を製造する工程を含む、製造方法。
（８）内部標準物質である、（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸。
（９）製造中間体である３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピオニトリル、３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピルアミン、Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］−３−ヒドロキシベンジルアミン、２−メルカプトベンズオキサゾール−ｄ４、２−クロロベンズオキサゾール−ｄ４、Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］−３−ヒドロキシベンジルアミン、及び（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸ｎ−ブチル。
【００４１】
（１０）前記式（ｇ）で表される化合物を金属触媒の存在下、重水素化溶媒中で溶媒の沸点以下の温度で反応させて重水素化する工程、さらに当該重水素化工程を２回以上繰り返し行うことより、前記式（ｈ）で表される重水素化化合物を製造する方法。
（１１）前記式（ｈ）で表される重水素化化合物を環化させて前記式（ｉ）で表される化合物を製造し、次いで得られた式（ｉ）で表される化合物から前記式（ｊ）で表される化合物を製造する方法。
（１２）前記式（ａ）で表される化合物と前記式（ｂ）で表される化合物とを、重メタノール中で反応させて、前記式（ｃ）で表される化合物を製造する工程、次いで、得られた式（ｃ）で表される化合物から前記式（ｄ）で表される化合物を製造する工程、得られた式（ｄ）で表される化合物から前記式（ｅ）で表される化合物を製造する工程、及び前記式（ｅ）で表される化合物から前記式（ｆ）で表される化合物を製造する方法。
（１３）前記式（ｊ）で表される化合物と、前記式（ｆ）で表される化合物とを反応させて、前記式（ｋ）で表される化合物を製造する工程、次いで、前記式（ｋ）で表される化合物から前記式（ｌ）で表されるエステル化合物を製造する工程、得られた式（ｌ）で表されるエステル化合物から式（１）で表される重水素化化合物を製造する方法。
【発明の効果】
【００４２】
本発明の製造方法は、水素雰囲気下にて重水中で白金炭素を触媒に用いた重水素化反応を溶媒の沸点以下で繰り返し行うことにより、緩和な条件かつ高い重水素化率で芳香環部分が重水素化された２−アミノフェノールの標識体を製造するものであり、さらに別の重水素化された部分構造を一つの構造に組み込むことにより、非標識体の混在をさらに低減させた（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸（１）の製造を可能にした。本発明の（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸（１）は、非標識体である［Ｎ−（ベンズオキサゾール−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸（１Ａ）の水素原子を重水素に置換した共通の骨格を持つため、類似の性質を持ち、非標識体と分子量が離れていること、更に非標識体の混在が少ないことにより、ＬＣ／ＭＳ／ＭＳ法において非標識体と完全に分離でき、これを内部標準物質とすることにより正確かつ効率的な測定が可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４３】
本発明の（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸は下式（１）に示す構造式を持つ化合物である。
【００４４】
式（ｌ）で表されるエステル化合物におけるＲは、カルボン酸の保護基を示す。保護基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基等のアルキル基やベンジル基等のアラルキル基等の他、Protective Groups in Organic Synthesis Fourth Editon, John Wiley&Sons, Inc.等に記載されているカルボン酸の保護基を挙げることができる。
【００４５】
【化３０】
【００４６】
以下、（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸の製造方法を各反応工程について説明する。
【００４７】
製造中間体であるＮ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］−３−ヒドロキシベンジルアミン（ｆ）は次に示す反応経路の工程−１〜４の４工程を経て製造することができる。
【００４８】
【化３１】
【００４９】
［工程−１］
化合物（ａ）と化合物（ｂ）を重メタノールと硫酸、塩酸、燐酸、硝酸等の鉱酸、又はメタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、酢酸等の有機酸の存在下に、０〜５０℃、好ましくは２０〜３０℃で、０．５〜４８時間、好ましくは５〜２０時間反応させ４−メトキシフェノール−ｄ７（ｃ）を得る。好ましくは硫酸を酸に用い、１０℃〜５０℃で、１〜３６時間反応させればよく、より好ましくは硫酸を酸に用い、２０〜３０℃で、５〜２０時間反応させればよい。
なお、化合物（ａ）及び化合物（ｂ）、並びに重メタノールは、市販品の重水素化物を使用することもできる。重水素化率が９８％以上の重水素化化合物が市販されており、市販品の重水素化化合物を使用する場合には、重水素化率が９５％以上、好ましくは９８％以上のものが好ましい。
【００５０】
［工程−２］
化合物（ｃ）とアクリロニトリルとを、トリトンＢ、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基、又は炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機塩基の存在下に、０〜１５０℃、好ましくは５０〜１００℃で、１〜９６時間、好ましくは１０〜６０時間反応させ、３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピオニトリル（ｄ）を得る。好ましくは、トリトンＢ、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基の存在下、２０〜１２０℃で５〜７２時間反応させればよく、より好ましくはトリトンＢの存在下に、５０〜１００℃で、１０〜６０時間反応させればよい。
【００５１】
［工程−３］
化合物（ｄ）をテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トルエン等の溶媒中、０〜１２０℃、好ましくは１０〜１１０℃にてボラン・テトラヒドロフラン錯体、ボラン・ジメチルスルフィド錯体、ボラン・ピリジン錯体、水素化リチウムアルミニウム等を用いて０．５〜３６時間還元するか、水素雰囲気下又はアンモニア存在下、０〜１００℃にてラネーニッケル、酸化白金等の触媒を用いて０．５〜３６時間、還元し、３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピルアミン（ｅ）を得る。好ましくは、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジメチルエーテル中、１０〜１１０℃で、ボラン・テトラヒドロフラン錯体、ボラン・ジメチルスルフィド錯体、ボラン・ピリジン錯体を用いて０．５〜２４時間反応させればよく、より好ましくは、２５〜１００℃にてボラン・テトラヒドロフラン錯体を用いて、１〜１２時間反応させればよい。
【００５２】
［工程−４］
化合物（ｅ）をメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエン、アセトニトリル、クロロホルム、ジクロロメタン等の溶媒中で３−ヒドロキシベンズアルデヒドと０〜１２０℃、好ましくは１０〜１００℃にて０．５〜６０時間、好ましくは０．５〜４８時間反応させて、好ましくは得られた中間体を単離すること無く、次いで、水素化ホウ素ナトリウム、トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウム、水素化リチウムアルミニウム等の還元剤を用いて０〜１００℃、好ましくは１０〜５０℃にて０．５〜４８時間、好ましくは１〜２４時間還元反応するか、あるいは水素雰囲気下又はアンモニア存在下、０〜１００℃にてパラジウム炭素、白金炭素、ラネーニッケル、酸化白金等の触媒を用いて０．５〜３６時間還元して、Ｎ−（３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル）−３−ヒドロキシベンジルアミン（ｆ）を製造することができる。好ましくは、化合物（ｅ）をメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、アセトノトリル等の溶媒中で３−ヒドロキシベンズアルデヒドと０〜１００℃にて０．５〜４８時間反応させ、次いで水素化ホウ素ナトリウム、トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウムを用いて０〜１００℃にて０．５〜４８時間反応させればよく、より好ましくは、メタノール中で３−ヒドロキシベンズアルデヒドと１０〜８０℃にて１〜２４時間反応させて、次いで、水素化ホウ素ナトリウムを用いて１０〜５０℃にて０．５〜２４時間反応させればよい。
【００５３】
製造中間体である２−クロロベンズオキサゾール−ｄ４（ｊ）は、次に示す反応経路の工程−５〜７の３工程を経て製造することができる。
【００５４】
【化３２】
【００５５】
［工程−５］
２−アミノフェノール（ｇ）を重水、重メタノール、重エタノール、重塩化水素水、などの重水素化溶媒に加え、パラジウム炭素、白金炭素、ロジウム炭素、酸化白金などの金属触媒存在下、水素雰囲気下又はギ酸存在下にて１０℃〜溶媒の沸点で、０．５〜７２時間反応させる。この操作を２回以上、好ましくは２回〜１０回繰り返し行うことより、高度に重水素化された２−アミノフェノール−ｄ４（ｈ）を得ることができる。好ましくは、重水、重メタノール、重エタノール中、パラジウム炭素又は白金炭素存在下、水素雰囲気下にて５０℃〜溶媒の沸点で、１〜３６時間反応させ、この操作を２回以上、好ましくは３回以上、より好ましくは４回以上繰り返し行えばよく、さらに好ましくは、重水中、白金炭素存在下、水素雰囲気下にて８０〜１０２℃（重水の沸点）で、１〜３０時間反応させ、この操作を３回から６回繰り返し行うことで高度に重水素化された２−アミノフェノール−ｄ４（ｈ）を得ることができる。
【００５６】
［工程−６］
化合物（ｈ）と、キサントゲン酸カリウム、チオカルボニルジイミダゾール又は二硫化炭素をメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエン、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の溶媒中で０〜１５０℃、好ましくは２０〜１２０℃にて０．５〜４８時間、好ましくは１〜３６時間反応させ２−メルカプトベンズオキサゾール−ｄ４（ｉ）を得る。好ましくは、キサントゲン酸カリウム又はチオカルボニルジイミダゾールをメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール中で２０〜１２０℃にて１〜３６時間反応させればよく、さらに好ましくは、キサントゲン酸カリウムをエタノール中で５０〜１００℃にて１〜２４時間反応させればよい。
【００５７】
［工程−７］
化合物（ｉ）とオキシ塩化リン、五塩化リン、三塩化リン、塩化チオニルなどの塩素化剤とを−３０〜１００℃、好ましくは−２０〜８０℃で反応させ、必要であればトルエン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、クロロホルム、塩化メチレンなどの溶媒を用い、０．５〜３６時間、好ましくは０．５〜２４時間反応することにより、２−クロロベンズオキサゾール−ｄ４（ｊ）を製造することができる。好ましくは、塩化チオニルと、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを用い、−１０〜６０℃で０．５〜１２時間反応すればよい。
【００５８】
次に示す反応経路により、本発明化合物（１）は、化合物（ｆ）と化合物（ｊ）から、工程−８〜１０の３工程を経て製造することができる。
【００５９】
【化３３】
［式中、Ｒはカルボン酸の保護基を示す。］
【００６０】
［工程−８］
Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］−３−ヒドロキシベンジルアミン（ｆ）と２−クロロベンズオキサゾール−ｄ４（ｊ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、塩化メチレン、クロロホルム、酢酸エチル等の溶媒中で、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等の無機塩基やトリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン等の有機塩基の存在下、０〜１５０℃で０．５〜４８時間反応させることにより、Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−（３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル）−３−ヒドロキシベンジルアミン（ｋ）を得る。好ましくは、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド又はアセトニトリル中で、トリエチルアミン又はＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンの存在下、１０〜１２０℃で１〜３６時間反応させればよく、さらに好ましくは、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中で、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンの存在下、２０〜１００℃で１〜２４時間反応させればよい。
【００６１】
［工程−９］
化合物（ｋ）とメタンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基などの脱離基をα位に有する酪酸誘導体とを、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等の無機塩基やトリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、ルチジン等の有機塩基の存在下、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、クロロベンゼン、ベンゼン、トルエン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジオキサン、アセトン、メチルエチルケトン、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、酢酸エチル等の溶媒中で−１０〜１００℃で０．５〜４８時間反応させるか、光延反応の条件下で化合物（ｋ）と２−ヒドロキシ酪酸誘導体とを反応させることにより、化合物（ｌ）を得ることができる。好ましくは化合物（ｋ）とメタンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基などの脱離基をα位に有する酪酸誘導体とを炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムやトリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンの存在下、アセトニトリル、クロロホルム又はテトラヒドロフラン中で、０〜８０℃で０．５〜３６時間反応させればよく、さらに好ましくは、トリフルオロメタンスルホニル基などの脱離基をα位に有する酪酸誘導体を炭酸カリウム存在下、アセトニトリル中で、１０〜６０℃で０．５〜２４時間反応させればよい。
【００６２】
［工程−１０］
化合物（ｌ）のエステル部位の加水分解により、本発明化合物である（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸を製造することができる。反応条件としてはエステルの加水分解反応に用いられる反応条件のいずれもが適用でき、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の無機塩基；塩酸、硫酸、臭化水素酸等の鉱酸；あるいはｐ−トルエンスルホン酸等の有機酸等の存在下、水、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、酢酸等の溶媒又はこれらの混合溶媒中で行われる。好ましくは、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサン中で水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム又はその水溶液と０〜１００℃で０．５〜２４時間反応させればよく。さらに好ましくは、メタノール、エタノール中で水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム又はその水溶液と１０〜８０℃で０．５〜１２時間反応させればよい。
【００６３】
なお、本発明の各反応における目的物の単離は、必要に応じて、有機合成化学で常用される精製法、例えば濾過、洗浄、乾燥、再結晶、各種クロマトグラフィー等により行えばよい。
【００６４】
以下に実施例を用いて本発明を更に詳細に説明する。
【実施例１】
【００６５】
（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸（化合物１）の製造
［１］２−アミノフェノール−ｄ４（化合物ｈ）の製造
【００６６】
【化３４】
【００６７】
２−アミノフェノール（１０ｇ）に重水（７０ｍＬ）を加え、アルゴン雰囲気下、室温にて５％白金炭素（２．０ｇ）を加えた。次に水素置換し、１００℃にて一晩中撹拌した。２４時間撹拌後、反応液を室温に戻し、分液ロートに移した。酢酸エチルを加え激しく振とう後、セライトろ過した。有機層を抽出し、飽和食塩水で洗浄して無水硫酸ナトリウムで乾燥した。これを濾過し、減圧濃縮して赤褐色の粗体を得た（８．７７ｇ）。上記の操作をさらに４回繰り返し行った（５．５７ｇ）。
１３Ｃ−ＮＭＲ （６８ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ 136.41, 143.90.
（非標識部位由来のピーク； 113.71-114.29, 118.63-119.48）
ＩＲ（ＡＴＲ，solid sample） 3376, 3351, 3328, 3305, 1578, 1438, 1300ｃｍ−１
ＭＳ（ＥＩ）； Ｍ＋＝１１３
【００６８】
重水素化率は２−アセトアミノ−１−アセトキシベンゼン−ｄ４に誘導後、非標識部位のアセチル基の積分値と比較して算出した。以下に、上記反応操作を繰り返し行った際に得られた２−アミノフェノール−ｄ４の重水素化率を示す。本反応は単回では満足できる重水素化率ではないが、３回繰り返した時点で重水素化率９７％に到達し、５回繰り返した時点で９８％に到達した。
１回目の重水素化率、８６％
２回目の重水素化率、９１％
３回目の重水素化率、９７％
４回目の重水素化率、９７％
５回目の重水素化率、９８％
［２］２−アセトアミノ−１−アセトキシベンゼン−ｄ４の製造
【００６９】
【化３５】
【００７０】
得られた２−アミノフェノール−ｄ４の重水素化率を確認する為、アセチル化を行った。２−アミノフェノール−ｄ４（２９５ｍｇ）を酢酸エチル（１０ｍＬ）に溶解し、氷冷下にてトリエチルアミン（５２７ｍｇ）を加えた。次に、同温にて塩化アセチル（４０９ｍｇ）を加え、室温にて撹拌した。１時間後、酢酸エチルを加え、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒留去した。残渣を分取薄層クロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン／酢酸エチル＝１／２）で精製し、黄色結晶を得た（１３１ｍｇ，２６％）。
重水素化反応を５回繰り返して得られた２−アミノフェノール−ｄ４の２−アセトアミノ−１−アセトキシベンゼン−ｄ４を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ３ＯＤ）δ 2.13 (s, 3H),2.30 (s, 3H).
非標識部位由来のピーク ： 7.12, 7.18, 7.21 (0.07H), 7.74 (0.02H).
重水素化率、９８％
ｍｐ １２３−１２４℃
［３］４−メトキシフェノール−ｄ７（化合物ｃ）の製造
【００７１】
【化３６】
【００７２】
室温にてハイドロキノン−ｄ６（９８ａｔｏｍ％Ｄ、４．４８ｇ）とベンゾキノン−ｄ４（９８ａｔｏｍ％Ｄ、３２５ｍｇ）をメタノール−ｄ４（９９．８ａｔｏｍ％Ｄ、２５．０ｍＬ）に溶解し、同温にて硫酸（４．８０ｇ）を５分間で加えて攪拌した。１４時間後、反応液を氷中に注ぎ、氷冷下、４Ｍ水酸化ナトリウム水溶液を徐々に加え、約ｐＨ９とし、次に硫酸で約ｐＨ５にした。反応液に食塩を加え、ジエチルエーテルで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝５／１）で精製し、淡黄色結晶を得た（４．８３ｇ，８９％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ 4.87 (s,1H).
（非標識部位由来のピーク； 3.72, 3.74, 3.76 (0.06H), 6.76, 6.79 (0.20H))
重水素化率、９６．３％
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ 149.98, 153.61.
（非標識部位由来のピーク； 114.50-115.85）
ＩＲ（ＡＴＲ，solid sample） 3381, 2521, 2262, 2069, 1419, 1141, 1112ｃｍ−１
ＭＳ（ＥＩ）； Ｍ＋＝１３１
ｍｐ ５６−５７℃
［４］３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピオニトリル（化合物ｄ）の製造
【００７３】
【化３７】
【００７４】
４−メトキシフェノール−ｄ７（４．２８ｇ）を室温にてアクリロニトリル（３．５０ｇ）に溶解し、アルゴン雰囲気下、同温にてトリトンＢ（０．３０ｍＬ）を加えた後、８０℃にて攪拌した。２２時間攪拌後、反応液を室温に戻し、減圧濃縮した。酢酸エチルを加え、１Ｍ水酸化ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水の順に洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮した。減圧乾燥後、淡赤褐色の粗結晶を得た（４．５１ｇ）。淡赤褐色粗結晶を全量用いて酢酸エチル（１５．０ｍＬ）に８０℃で溶解し、ヘキサン（３０．０ｍＬ）を加えた後、室温にて撹拌した。結晶が生じた後、更にヘキサン（５０．０ｍＬ）を加え、同温にて一晩中撹拌した。結晶をろ取し、ヘキサンで洗浄した。得られた結晶を減圧乾燥して無色針状晶を得た（３．８７ｇ，６４％）。
１Ｈ−ＮＭＲ （４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３） δ
2.79 (t, J= 6.4Hz, 2H),4.13 (t, J= 6.4Hz, 2H).
（非標識部位由来のピーク ； 3.74 (0.01H), 6.84, 6.86 (0.06H))
重水素化率、９９％
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３） δ
18.61, 63.45, 117.25, 151.57, 154.48.
（標識部位由来のピーク； 114.14-115.90）
ＩＲ （ＡＴＲ， solid sample） 2930, 2886, 2255, 2219, 2069, 1446, 1420ｃｍ−１
ＭＳ（ＥＩ） Ｍ＋＝１８４
ｍｐ ６５−６６℃
［５］３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピルアミン（化合物ｅ）の製造
【００７５】
【化３８】
【００７６】
アルゴン雰囲気下、３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピオニトリル（３．８２ｇ）をテトラヒドロフラン（２０．０ｍＬ）に溶解し、室温にて１．１７Ｍボラン・テトラヒドロフラン錯体（２１．３ｍＬ）を１０分間かけて滴下した。次に８０℃にて３時間撹拌した。反応液を室温に戻し、氷冷下にてメタノール（５０．０ｍＬ）を少量ずつ加えた。再び、８０℃に加熱し３０分間撹拌後、反応液を減圧濃縮した。メタノール（５０．０ｍＬ）と４Ｍ塩酸を加え、８０℃にて一晩中撹拌した。１４時間後、反応液を室温に戻し、減圧濃縮した。水に溶解し、ジエチルエーテルで洗浄し、水層を４Ｍ水酸化ナトリウムでアルカリ性にした。酢酸エチルで２回抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧濃縮後、減圧乾燥して無色固体を得た（２．８７ｇ，７３％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３） δ
1.33 (brs, 2H), 1.90 (quintet, J= 6.6 Hz, 2H), 2.90 (t, J= 6.1 Hz, 2H),
4.00 (t, J= 6.1 Hz, 2H).
（非標識部位由来のピーク； 6.82, 6.83, 0.07H)
１３Ｃ−ＮＭＲ （１００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３） δ
33.21, 39.33, 66.49, 153.02, 153.69.
（標識部位由来のピーク； 114.22-115.23).
ＩＲ （ＡＴＲ，solid sample） 2937, 2872, 2216, 2070, 1600, 1426, 1378ｃｍ−１
ＭＳ（ＥＩ） Ｍ＋＝１８８
ｍｐ ３９−４０℃
［６］Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］−３−ヒドロキシベンジルアミン（化合物ｆ）の製造
【００７７】
【化３９】
【００７８】
３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピルアミン（１．８８ｇ）と３−ヒドロキシベンズアルデヒド（１．２２ｇ）をメタノール（２５．０ｍＬ）に溶解し、６０℃にて３時間撹拌した。反応液を室温に戻し、氷冷下にて水素化ホウ素ナトリウム（５６７ｍｇ）−水（１０．０ｍＬ）懸濁液を５分間で加えた。反応液を室温に戻し、一晩中撹拌した。水を加え、生じた結晶をろ取した。結晶を水で洗浄し、得られた無色粉末を減圧乾燥した（２．６６ｇ，９０％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６） δ
1.82 (quintet, J= 6.8 Hz, 2H), 2.60 (t, J= 6.8 Hz, 2H), 3.60 (s, 2H),
3.94 (t, J= 6.4 Hz, 2H), 6.59 (dd, J= 8.0, 2.2 Hz, 1H),
6.72 (d, J= 7.6 Hz, 1H), 6.74 (s, 1H), 7.07 (t, J= 7.6 Hz, 1H), 9.24 (s, 1H). （非標識部位由来のピーク； ６．８３）
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３） δ
29.33, 45.50, 53.08, 66.37, 113.38, 114.72, 118.44, 128.92, 142.51,
152.57, 153.10, 157.26.
（標識部位由来のピーク； 54.08, 54.23, 54.43, 54.67, 54.89, 113.91,114.15,
114.40, 114.66, 114.89, 115.14, 115.20).
ＩＲ（ＡＴＲ，solid sample) 3275, 1580, 1480, 1431, 1390, 1156, 1109ｃｍ−１
ＭＳ（ＥＩ） Ｍ＋＝２９４
ｍｐ １４２−１４３℃
［７］２−メルカプトベンズオキサゾール−ｄ４（化合物ｉ）の製造
【００７９】
【化４０】
【００８０】
２−アミノフェノール−ｄ４（５．１５ｇ、重水素化率９８％）とキサントゲン酸カリウム（８．０３ｇ）をエタノール（１００ｍＬ）に懸濁し、１００℃にて撹拌した。５時間、反応液を室温に戻し、減圧濃縮した。水を加え、４Ｍ塩酸でｐＨ１とした後、酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水の順に洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒留去し、赤褐色の粗体を得た。赤褐色の粗体を酢酸エチル−ヘキサンより再結晶し、減圧乾燥して赤褐色粉末状結晶を得た（２．９４ｇ，４１．７％）。ろ液を減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）で精製し、赤褐色粉末状結晶を得た（９３３ｍｇ，１３％，合計３．８７ｇ）。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ３ＯＤ） δ 4.91 (brs, 1H).
（非標識部位由来のピーク； 7.19, 7.24, 7.27, 7.35)
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤ３ＯＤ） δ 132.59, 150.09, 182.86
（標識部位由来のピーク； 110.83-111.21, 124.47-126.06)
ＩＲ（ＡＴＲ，solid sample） 3341, 1599, 1476, 1368, 1327, 1112, 932ｃｍ−１
ＭＳ（ＥＩ） Ｍ＋＝１５５
ｍｐ １８６−１８９℃
［８］２−クロロベンズオキサゾール−ｄ４（化合物ｊ）の製造
【００８１】
【化４１】
【００８２】
氷冷下、塩化チオニル（４．００ｍＬ）に２−メルカプトベンズオキサゾール−ｄ４（２．００ｇ）を懸濁し、アルゴン雰囲気下にてＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（９４０ｍｇ）を５分間で滴下した。同温にて２時間撹拌した後、反応液を減圧濃縮した。酢酸エチルで希釈し、水、飽和食塩水の順に洗浄して無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン／酢酸エチル＝１０／１）で精製し、黄色油状物を得た（９９９ｍｇ，４９％）。
１３Ｃ−ＮＭＲ（６８ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３） δ 143.73, 150.78, 151.39.
（標識部位由来のピーク； 109.50-110.25, 118.77-119.51, 123.60-125.21)
ＩＲ（ＡＴＲ，neat） 1783, 1584, 1523, 1436, 1370, 1208, 1113ｃｍ−１
ＭＳ（ＥＩ）； Ｍ＋＝１５７， Ｍ＋＋２＝１５９
【００８３】
［９］Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］−３−ヒドロキシベンジルアミン（化合物ｋ）の製造
【００８４】
【化４２】
【００８５】
Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］−３−ヒドロキシベンジルアミン（１．８７ｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１０．０ｍＬ）に溶解し、室温にてＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（９８３ｍｇ）を加え撹拌した。次に同温にて２−クロロベンズオキサゾール−ｄ４（９９９ｍｇ）を加え、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（５．００ｍＬ）で洗い込み、アルゴン雰囲気下８０℃にて一晩中撹拌した。１５時間撹拌後、室温に戻し放置した。反応液に酢酸エチルを加え、飽和食塩水で２回洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン／酢酸エチル＝５／１→２／１）で精製し、赤褐色アモルファスを得た（２．１９ｇ，８３％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３） δ
2.03 (quintet, J= 6.8 Hz, 2H), 3.45 (t, J= 6.8 Hz, 2H),
3.89 (t, J= 5.6 Hz, 2H), 4.65 (s, 2H), 6.70-6.73 (m, 2H), 6.75 (s, 1H),
7.14 (t, J= 7.8 Hz, 1H), 8.75 (s, 1H).
１３Ｃ−ＮＭＲ（６８ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３） δ
27.62, 45.01, 52.07, 65.32, 113.12, 115.33, 118.77, 129.79, 137.60,
141.40, 148.07, 152.61, 153.77, 157.82, 162.28.
ＩＲ（ＡＴＲ，solid sample） 2941, 1633, 1567, 1424, 1393, 1153, 1111ｃｍ−１
ＭＳ（ＥＩ）； Ｍ＋＝４１５
ｍｐ ９５−９６℃
【００８６】
［１０］（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸ｎ−ブチル（化合物ｌのＲがｎ−ブチルの化合物）の製造
【００８７】
【化４３】
【００８８】
Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］−３−ヒドロキシベンジルアミン（２．１６ｇ）をアセトニトリル（３０．０ｍＬ）に溶解し、室温にて炭酸カリウム（１．０８ｇ）を加えた。次に室温にてｎ−ブチル（Ｓ）−トリフルオロメタンスルホニルオキシ酪酸（１．３２ｇ）を加えてアセトニトリル（１０．０ｍＬ）で洗い込み、同温にて一晩中撹拌した。１９時間撹拌後、反応液を減圧濃縮し、酢酸エチルを加え、水、飽和食塩水の順に洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝５／１）で精製し、赤褐色油状物を得えた（２．８２ｇ，９７％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３） δ
0.85 (t, J= 7.3 Hz, 3H), 1.05 (t, J= 7.3 Hz, 3H), 1.22-1.28 (m, 2H),
1.49-1.55 (m, 2H), 1.96 (quintet, J= 6.4 Hz, 2H),
2.14 (quintet, J= 6.8 Hz, 2H), 3.70 (t, J= 7.1 Hz, 2H),
3.96 (t, J= 5.9 Hz, 2H), 4.00-4.14 (m, 2H), 4.53 (t, J= 6.3 Hz, 1H),
4.72 (d, J= 15.9 Hz, 1H), 4.77 (d, J= 15.6 Hz, 1H),
6.76 (dd, J= 8.0, 2.2 Hz,1H), 6.86 (s, 1H), 6.89 (d, J= 7.6Hz, 1H),
7.21 (t, J= 8.0 Hz, 1H).
１３Ｃ−ＮＭＲ （６８ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３） δ
9.67, 13.59, 18.92, 26.17, 27.51, 30.48, 45.11, 52.06, 64.96, 65.50,
77.60, 113.73, 114.66, 120.68, 129.82, 138.67, 143.41, 148.56, 152.69,
153.76, 158.31, 162.15, 171.67.
（非標識部位由来のピーク； 55.19, 108.64, 113.86, 114.24, 115.37,
115.78, 116.02, 119.88, 120.15, 120.68, 123.44, 123.72)
ＩＲ （ＡＴＲ， neat） 2960, 2067, 1751, 1633, 1563, 1425, 1154ｃｍ−１
ＭＳ（ＥＩ） Ｍ＋＝５５７
旋光度 ［α］Ｄ２０ ＋１９．１ （ｃ０．８９，ＣＨＣｌ３）
【００８９】
［１１］（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−（３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル）アミノメチル］フェノキシ］酪酸（化合物１）の製造
【００９０】
【化４４】
【００９１】
（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−（３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル）アミノメチル］フェノキシ］酪酸ｎ−ブチル（２．７０ｇ）をエタノール（２０．０ｍＬ）に溶解し、氷冷下にて４Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（２．４０ｍＬ）を加え、室温にて１時間撹拌した。氷冷下、反応液に水を加え、撹拌しながら４Ｍ塩酸を加えてｐＨ１とした。酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水の順に洗浄して無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝１／０→５０／１→１０／１）で精製し、淡黄色アモルファスを得た（２．１０ｇ，８７％）。これを酢酸エチルとヘキサンに８０℃にて溶解撹拌し、室温に戻した。結晶析出後、さらにヘキサンを加え、５時間撹拌し、結晶を濾取して無色粉末状結晶を得た（１．７４ｇ，７２％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６） δ
0.96 (t, J= 7.6 Hz, 3H), 1.79-1.89 (m, 2H),2.06 (quintet, J= 6.8 Hz, 2H),
3.65 (t, J= 6.8 Hz, 2H), 3.94 (t, J= 6.1 Hz, 2H), 4.60 (t, J= 6.6 Hz, 1H),
4.72 (s, 2H),6.78 (dd, J= 8.3, 2.4 Hz,1H), 6.86 (s, 1H),
6.89 (d, J= 7.8 Hz, 1H), 7.25 (t, J= 7.8 Hz, 1H), 13.1 (brs, 1H).
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６） δ
9.53, 25.42, 27.12, 45.29, 51.27, 65.47, 76.43, 113.30, 114.13, 119.77,
129.76, 139.02, 143.19, 148.43, 152.31, 153.25, 158.04, 162.24, 172.46 . （非標識部位由来のピーク； 113.91, 114.82, 115.04, 115.21, 115.45)
ＩＲ （ＡＴＲ，solid sample） 2959, 2939, 2887, 1716, 1628, 1426, 1377ｃｍ−１
ｍｐ ９５−９６℃
ＭＳ（ＦＡＢ） Ｍ＋＋１＝５０２
旋光度 ［α］Ｄ２４ ＋１７．１ （ｃ０．６７，ＭｅＯＨ）
【実施例２】
【００９２】
（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−２−イル）−Ｎ−（３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル）アミノメチル］フェノキシ］酪酸（化合物１Ｂ）の製造
【００９３】
［１］Ｎ−（ベンズオキサゾール−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］−３−ヒドロキシベンジルアミンの合成
【００９４】
【化４５】
【００９５】
Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］−３−ヒドロキシベンジルアミン（６．２２ｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドに加え、次にＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（２．７３ｇ）を加えてアルゴン雰囲気下、８０℃にて溶解した。さらに、同温にて２−クロロベンズオキサゾール（３．２４ｇ）を加え、１４時間撹拌した。反応液を減圧濃縮し、酢酸エチルを加えて有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）で精製し、黄色油状物を得た。これをｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルに溶解し、室温にて放置した。析出結晶を濾取し、無色結晶を得た（７．５６ｇ、８７％）
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６） δ
2.06 (quintet, J= 6.5 Hz,2H), 3.65 (t, J= 7.0Hz, 2H),
3.94 (t, J= 6.0 Hz, 2H), 4.70 (s, 2H), 6.70 (dd, J= 9.0, 1.7 Hz, 1H),
6.69-6.76 (m, 2H), , 7.00 (td, J= 7.7, 1.0 Hz,1H), 7.15 (t, J= 7.8 Hz, 2H),
7.30 (d, J= 7.4Hz, 1H), 7.36 (d, J= 8.0 Hz, 1H), 9.43 (s, 1H).
（非標識部位由来のピーク； 6.83, 6.85）
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６） δ
27.13, 45.22, 51.31, 65.50, 108.81, 113.92, 114.42, 115.59, 117.90,
120.13, 123.88, 129.64, 138.73, 143.31, 148.46, 152.30, 153.27, 157.63,
162.26
（非標識部位由来のピーク； 114.07, 114.16, 114.29, 114.80, 114.82, 115.04,
115.28, 115.34 ）
ＩＲ（ＡＴＲ，solid sample） 2937, 1638, 1600, 1582, 1459, 1424, 1394 ｃｍ−１
ｍｐ １００−１０１℃
ＭＳ（ＥＩ） Ｍ＋＝４１１
【００９６】
［２］（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸ベンジル（化合物ｌのＲがベンジルの化合物）の製造
【００９７】
【化４６】
【００９８】
Ｎ−（ベンズオキサゾール−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］−３−ヒドロキシベンジルアミン（４．５９ｇ）をアセトニトリルに懸濁後、７０℃で加温溶解した。次に室温に戻し、炭酸カリウム（２．３１ｇ）を加え、さらにベンジル（Ｓ）−トリフルオロメタンスルホニルオキシ酪酸（４．００ｇ）を加えて、室温にて撹拌した。１１時間撹拌後、反応液を減圧濃縮した。反応液に酢酸エチルを加え、水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝５／１）で精製し、無色油状物を得た（６．９７ｇ、１００％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３） δ
1.02 (t, J= 7.3 Hz, 3H), 1.96 (quintet, J= 7.1 Hz, 2H),
2.13 (quintet, J= 6.5 Hz, 2H), 3.68 (t, J= 7.1 Hz, 2H),
3.95 (t, J= 5.9 Hz, 2H), 4.57 (t, J= 6.2 Hz, 1H),
4.69 (d, J= 15.9 Hz, 1H), 4.74 (d, J= 15.9 Hz, 1H),
5.06 (d, J= 12.2 Hz, 1H), 5.15 (d, J= 12.2 Hz, 1H),
6.74 (dd, J= 8.1, 2.4 Hz, 1H), 6.84 (s, 1H), 6.89 (d, J= 7.6 Hz, 1H),
7.00 (d, J= 7.8 Hz, 1H), 7.14-7.30 (m, 8H), 7.37 (d, J= 7.8 Hz, 1H).
１３Ｃ−ＮＭＲ （１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ
9.52, 26.03, 27.27, 45.12, 52.00, 65.47, 66.64, 77.48, 108.69, 113.83,
114.61, 116.10, 120.32, 120.66, 123.88, 128.15, 128.27, 128.45, 129.78,
135.30, 138.65, 143.43, 148.85, 152.63, 153.72, 158.17, 162.56, 171.30.
（非標識部位由来のピーク；113.94, 114.19, 114.23, 114.75, 114.98, 115.23,
115.28 )
ＩＲ（ＡＴＲ，neat） 2938, 1752, 1638, 1459, 1578, 1425, 1153ｃｍ−１
ＭＳ（ＥＩ) Ｍ＋＝５８７
旋光度 ［α］Ｄ２０ ＋１６．４（ｃ１．００，ＣＨＣｌ３）
【００９９】
［３］（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸（化合物１Ｂ）の製造
【０１００】
【化４７】
【０１０１】
（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸ベンジル（６．３０ｇ）をエタノールに溶解した。氷水中にて４Ｎ水酸化ナトリウム水溶液を加えて室温にて撹拌した。２時間後、反応液をジエチルエーテルで洗浄した。水層を氷水で冷却し、濃塩酸を用いて約ｐＨ１とした後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝１／０→１０／１）で精製した。減圧濃縮後、室温にて１時間減圧乾燥し、白色アモルファスを得た（５．１１ｇ、９５．８％）。これを酢酸エチルに溶解し、７０℃で加温下、ヘキサンを加え室温に戻し５時間撹拌した。析出結晶を濾取し、無色針状晶を得た（４．５５ｇ、８５％）
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６） δ
0.98 (t, J= 7.3 Hz, 3H), 1.83-1.92 (m, 2H), 2.07 (quintet, J= 6.5 Hz, 2H),
3.67 (t, J= 7.1 Hz, 2H), 3.95 (t, J= 6.0 Hz, 2H), 4.64 (t, J=6.0 Hz, 1H),
4.74 (s, 2H), 6.80 (dd, 8.0,2.0 Hz, 1H), 6.90 (s, 1H),
6.91 (d, J= 8.2 Hz, 1H), 7.00 (t, J= 7.8 Hz, 1H), 7.15 (t, J= 7.7 Hz, 1H),
7.26 (t, J= 7.8 Hz, 1H), 7.31 (d, J= 7.8 Hz, 1H), 7.36 (d, J= 7.8 Hz, 1H),
13.1 (brs, 1H).
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ
9.46, 25.41, 27.14, 31.26, 45.29, 51.30, 65.49, 76.41, 108.85, 113.36,
114.17, 115.67, 119.85, 120.18, 123.89, 129.74, 139.01, 143.29, 148.51,
152.34, 153.29, 158.04, 162.25, 172.39.
（非標識部位由来のピーク； 53.99, 54.22, 54.45, 54.66, 54.90, 113.93,
113.96, 114.43, 114.46, 114.79, 114.81, 115.05, 115.28, 115.35）
ＩＲ（ＡＴＲ，solid sample） 2967, 2935, 1725, 1635, 1584, 1426, 1382ｃｍ−１
融点； ９１−９３℃
ＭＳ（ＦＡＢ）； Ｍ＋＋１＝４９８
旋光度 ［α］Ｄ２４ ＋１６．５ （ｃ０．６２，ＭｅＯＨ）
【実施例３】
【０１０２】
ＬＣ／ＭＳ／ＭＳ法によるｄ１１標準物質とｄ７標準物質の比較
１）測定
内部標準物質（ｄ１１体（１）又はｄ７体（１Ｂ））の５０％メタノール水溶液（２５０ｎｇ／ｍＬ，２５μＬ）を、ＨＰＬＣにより分離し、ＭＳ／ＭＳにて測定を行った。
２）測定機器
上述のサンプルをＬＣ／ＭＳ／ＭＳを用いて分析した。使用した機器は以下の通りである。
ＬＣ（液体クロマトグラフィー）：「Agilent 1100シリーズ」
ＭＳ／ＭＳ：「Applied Biosystems API4000」
カラムは４０℃に保温したSymmetry C18（5μm, 2.1mm I.D.×150mm）逆相カラムを用いた。ＬＣの移動相は０．１％ギ酸及びメタノールを２０：８０の割合とした。流速は０．２ｍＬ／ｍｉｎとした。
非標識体（１Ａ）、ｄ７体（１Ｂ）及びｄ１１体（１）をイオン化するには、大気圧イオン化法で、一般的なＥＳＩ（Electron Spray ionization）で表１に示す条件にて測定を行った。
【０１０３】
【表１】
【０１０４】
３）結果
図１ａ、図１ｂにｄ１１体（１）及びｄ７体（１Ｂ）とこれら標識体に含まれる非標識体のＭＳ／ＭＳクロマトグラムを重ね合わせたものを示した。図１より、製造した重水素体中に非標識体の混在が少ないことがわかる。さらに拡大図を見ると、ｄ１１体（１）はｄ７体（１Ｂ）と比較して明らかに非標識体の著しい減少が認められた。ＭＳ／ＭＳクロマトグラムにおけるピーク面積の測定結果と残存する非標識体の比率を算出すると、ｄ７体（１Ｂ）に検出された非標識体とのピーク面積比は０．１９であるのに対し、ｄ１１体（１）の場合ではピーク面積比は０．０２であり、測定誤差の原因となる非標識体の混在が少ないことが示された。
なお、図１はＭＳ／ＭＳクロマトグラムであり、図１ａ）はｄ１１体（１）、図１ｂ）はｄ７体（１Ｂ）、それぞれの下段はそれを１００倍に拡大したものである。
【実施例４】
【０１０５】
ＬＣ／ＭＳ／ＭＳ法による標準物質の測定
１）測定
ラット血漿中の（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸（１Ａ）を定量するために、検量線を作成し、その直線性を確認した。プロピレングリコールのエタノール溶液（２％溶液、２５０μＬ）及び非標識体（１Ａ）メタノール溶液（０．０２，０．０４，０．１，０．２，０．４，１，２，４ｎｇ／ｔｕｂｅ）をガラスチューブに添加し、溶媒を留去した。残留物にラット血漿１００μＬを添加した。１００μＬのｄ１１体（１）水溶液（２．５ｎｇ／ｍＬ）及び０．１％酢酸９００μＬを添加してボルテックスでよく攪拌した。ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルを５ｍＬ添加し、１０分間振とうした。３，０００ｒｐｍで１０分間遠心分離後、有機層３ｍＬを別のガラスチューブに移した。プロピレングリコールのエタノール溶液（２％溶液、２５０μＬ）を添加した後、溶媒を留去した。残渣に５０％メタノール水溶液を１５０μＬ加えて溶解し、測定用サンプルとした。
２）測定機器
ＬＣ／ＭＳ／ＭＳによる分析は実施例３と同一機器、同一条件で行った。
３）結果
異なった濃度の非標識体（１Ａ）を含むサンプルを上述のＬＣ／ＭＳ／ＭＳの条件下で分析した。結果を図２に示す。その結果、ｄ１１体（１）に対する非標識体（１Ａ）のピーク面積比をｙ軸に、添加濃度比をｘ軸に取り、図３に示す検量線を作成した。検量線の相関係数は０．９９９９と良好であり、各々のポイントの真度（測定濃度／理論濃度×１００）も９７．４〜１０２％と良好であった。結果を次の表２に示す。
【０１０６】
【表２】
【０１０７】
以上より、この検量線を用いて非標識体（１Ａ）のラット血漿中濃度を信頼性高く測定できることが判った。
【産業上の利用可能性】
【０１０８】
本発明は、高脂血症、動脈硬化症、糖尿病、糖尿病合併症、炎症、心疾患等に有用と考えられるＰＰＡＲαを選択的に活性化する化合物の生体内での動態を測定するための標準物質として有用な化合物及びその製造を提供するものであり、本発明の方法で製造された化合物を用いることにより、薬物の生体内での活性や代謝を正確に把握することが可能となる。したがって、本発明は、医薬品の開発や副作用の低減などに有用となり産業上の利用可能性を有している。
【図面の簡単な説明】
【０１０９】
【図１】図１は、ｄ１１体（１）及びｄ７体（１Ｂ）とこれら標識体に含まれる非標識体のＭＳ／ＭＳクロマトグラムを重ね合わせたものである。図１ａはｄ１１体（１）のＭＳ／ＭＳクロマトグラムであり、図１ｂはｄ７体（１Ｂ）のＭＳ／ＭＳクロマトグラムである。図１の下段は、非標識体の存在が確認できるための拡大図を示す。
【図２】図２は、血中濃度（０．２ｎｇ／ｍｌ）の非標識体（１Ａ）を含むラット血漿サンプルを分析したときのＭＳ／ＭＳクロマトグラムである。
【図３】図３は、異なった濃度の非標識体（１Ａ）を含むサンプルをＬＣ／ＭＳ／ＭＳの条件下で測定した結果得られた検量線である。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
次式（１）：
【化１】
で表される（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸の製造方法であって、次式（ｇ）：
【化２】
で表される化合物を金属触媒の存在下、重水素化溶媒中で溶媒の沸点以下の温度で反応させて重水素化する工程、さらに当該重水素化工程を２回以上繰り返し行うことより、次式（ｈ）：
【化３】
で表される重水素化化合物を製造する工程を含む製造方法。
【請求項２】
重水素化溶媒が、重水である請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
金属触媒が、パラジウム炭素又は白金炭素である請求項１又は２に記載の製造方法。
【請求項４】
式（ｈ）で表される重水素化化合物の重水素化率が９８％以上である請求項１〜３のいずれかに記載の製造方法。
【請求項５】
式（ｈ）で表される重水素化化合物を環化させて次式（ｉ）：
【化４】
で表される化合物を製造し、次いで得られた式（ｉ）で表される化合物から次式（ｊ）：
【化５】
で表される化合物を製造する工程を含む、請求項１に記載の製造方法。
【請求項６】
式（１）で表される（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸の製造方法であって、次式（ａ）：
【化６】
で表される化合物と次式（ｂ）：
【化７】
で表される化合物とを、重メタノール中で反応させて、式（ｃ）：
【化８】
で表される化合物を製造する工程、次いで、得られた式（ｃ）で表される化合物から次式（ｄ）：
【化９】
で表される化合物を製造する工程、得られた式（ｄ）で表される化合物から次式（ｅ）：
【化１０】
で表される化合物を製造する工程、式（ｅ）で表される化合物から次式（ｆ）：
【化１１】
で表される化合物を製造する工程を含む、製造方法。
【請求項７】
式（１）で表される（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸の製造方法であって、次式（ｊ）
【化１２】
で表される化合物と、次式（ｆ）
【化１３】
で表される化合物とを反応させて、次式（ｋ）：
【化１４】
で表される化合物を製造する工程、次いで、式（ｋ）で表される化合物から次式（ｌ）：
【化１５】
［式中、Ｒはカルボキシル基の保護基を示す。］
で表されるエステル化合物を製造する工程、得られた式（ｌ）で表されるエステル化合物から式（１）で表される重水素化化合物を製造する工程を含む、製造方法。
【請求項８】
（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸。
【請求項９】
３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピオニトリル。
【請求項１０】
３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピルアミン。
【請求項１１】
Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］−３−ヒドロキシベンジルアミン。
【請求項１２】
２−メルカプトベンズオキサゾール−ｄ４。
【請求項１３】
２−クロロベンズオキサゾール−ｄ４。
【請求項１】
次式（１）：
【化１】
で表される（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸の製造方法であって、次式（ｇ）：
【化２】
で表される化合物を金属触媒の存在下、重水素化溶媒中で溶媒の沸点以下の温度で反応させて重水素化する工程、さらに当該重水素化工程を２回以上繰り返し行うことより、次式（ｈ）：
【化３】
で表される重水素化化合物を製造する工程を含む製造方法。
【請求項２】
重水素化溶媒が、重水である請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
金属触媒が、パラジウム炭素又は白金炭素である請求項１又は２に記載の製造方法。
【請求項４】
式（ｈ）で表される重水素化化合物の重水素化率が９８％以上である請求項１〜３のいずれかに記載の製造方法。
【請求項５】
式（ｈ）で表される重水素化化合物を環化させて次式（ｉ）：
【化４】
で表される化合物を製造し、次いで得られた式（ｉ）で表される化合物から次式（ｊ）：
【化５】
で表される化合物を製造する工程を含む、請求項１に記載の製造方法。
【請求項６】
式（１）で表される（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸の製造方法であって、次式（ａ）：
【化６】
で表される化合物と次式（ｂ）：
【化７】
で表される化合物とを、重メタノール中で反応させて、式（ｃ）：
【化８】
で表される化合物を製造する工程、次いで、得られた式（ｃ）で表される化合物から次式（ｄ）：
【化９】
で表される化合物を製造する工程、得られた式（ｄ）で表される化合物から次式（ｅ）：
【化１０】
で表される化合物を製造する工程、式（ｅ）で表される化合物から次式（ｆ）：
【化１１】
で表される化合物を製造する工程を含む、製造方法。
【請求項７】
式（１）で表される（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸の製造方法であって、次式（ｊ）
【化１２】
で表される化合物と、次式（ｆ）
【化１３】
で表される化合物とを反応させて、次式（ｋ）：
【化１４】
で表される化合物を製造する工程、次いで、式（ｋ）で表される化合物から次式（ｌ）：
【化１５】
［式中、Ｒはカルボキシル基の保護基を示す。］
で表されるエステル化合物を製造する工程、得られた式（ｌ）で表されるエステル化合物から式（１）で表される重水素化化合物を製造する工程を含む、製造方法。
【請求項８】
（Ｒ）−２−［３−［Ｎ−（ベンズオキサゾール−ｄ４−２−イル）−Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］アミノメチル］フェノキシ］酪酸。
【請求項９】
３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピオニトリル。
【請求項１０】
３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピルアミン。
【請求項１１】
Ｎ−［３−（４−メトキシフェノキシ−ｄ７）プロピル］−３−ヒドロキシベンジルアミン。
【請求項１２】
２−メルカプトベンズオキサゾール−ｄ４。
【請求項１３】
２−クロロベンズオキサゾール−ｄ４。
【図１】
【図２】
【図３】
【図２】
【図３】
【公開番号】特開２０１０−６７６７（Ｐ２０１０−６７６７Ａ）
【公開日】平成２２年１月１４日（２０１０．１．１４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−１６９５３２（Ｐ２００８−１６９５３２）
【出願日】平成２０年６月２７日（２００８．６．２７）
【出願人】（０００１６３００６）興和株式会社 (618)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年１月１４日（２０１０．１．１４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年６月２７日（２００８．６．２７）
【出願人】（０００１６３００６）興和株式会社 (618)
【Ｆターム（参考）】
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