（３Ｒ，５Ｒ）−７−［２−（４−フルオロフェニル）−５−イソプロピル−３−フェニル−４−［（４−ヒドロキシメチルフェニルアミノ）カルボニル］−ピロール−１−イル］−３，５−ジヒドロキシ−ヘプタン酸ヘミカルシウム塩の製法
本発明は、（３Ｒ，５Ｒ）―７―［２―（４―フルオロフェニル）―５―イソプロピル―３―フェニル―４―［（４―ヒドロキシメチルフェニルアミノ）カルボニル］―ピロール―１―イル］―３，５―ジヒドロキシ―ヘプタン酸ヘミカルシウム塩の製法に関する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、（３Ｒ，５Ｒ）−７−［２−（４−フルオロフェニル）−５−イソプロピル−３−フェニル−４−［（４−ヒドロキシメチルフェニルアミノ）カルボニル］−ピロール−１−イル］−３，５−ジヒドロキシ−ヘプタン酸ヘミカルシウム塩の製法に関する。
【背景技術】
【０００２】
心血管疾患およびその関連疾患、機能不全および合併症は障害の主な原因および死亡の主な原因である。この病態生理学的プロセスに有意に寄与する１つの具体的因子はアテローム性動脈硬化症であり、これは死亡率および健康管理コスト双方に関する主導的な健康管理問題として大いに認識されてきた。アテローム性動脈硬化症は脂肪物質、主としてコレステロールの沈積によって特徴付けられ、その結果、動脈壁の内部表面にプラークが形成され、動脈に対して変性変化がもたらされる。
【０００３】
今や、心筋梗塞、冠状動脈性心臓病、高血圧および低血圧を含めた心血管障害、脳卒中、脳血栓形成および脳卒中による記憶喪失を含めた脳血管障害、；末梢血管病および腸梗塞はアテローム性動脈硬化症プラークによる動脈および細動脈の閉鎖によって引き起こされるということがよく確立されている。アテローム性動脈硬化症プラーク形成はその生産において多因子的である。高コレステロール血症、特に高レベルの低密度リポ蛋白質コレステロール（ＬＤＬ）はアテローム性動脈硬化症および動脈硬化症、ならびに関連病に対する重要な危険因子である。
【０００４】
ＨＭＧ−ＣｏＡレダクターゼ阻害剤（スタチン）はＬＤＬコレステロールの血中レベルを低下させるのに用いられてきた。コレステロールはメバロン酸経路を介して生産される。コレステロールへの前駆体であるメバロン酸の形成の低下は、コレステロールの細胞プールの低下を伴う肝臓コレステロール生合成の対応する減少に導く。ＰＣＴ公開番号ＷＯ ２００４／１０６２９９は、効果的なＨＭＧ−ＣｏＡ（３−ヒドロキシ−３−メチルグルタリル−コエンザイムＡ）レダクターゼ阻害剤としての式Ｉ：
【０００５】
【化１】
を有する（３Ｒ，５Ｒ）−７−［２−（４−フルオロフェニル）−５−イソプロピル−３−フェニル−４−［（４−ヒドロキシメチルフェニルアミノ）カルボニル］−ピロール−１−イル］−３，５−ジヒドロキシ−ヘプタン酸ヘミカルシウム塩を開示しており、かくして、脂質低下剤およびコレステロール低下剤として有用である。
【０００６】
（３Ｒ，５Ｒ）−７−［２−（４−フルオロフェニル）−５−イソプロピル−３−フェニル−４−［（４−ヒドロキシメチルフェニルアミノ）カルボニル］−ピロール−１−イル］−３，５−ジヒドロキシ−ヘプタン酸ヘミカルシウム塩の合成のための手法はＷＯ ２００４／１０６２９９に開示されている。前記した合成経路はカラムクロマトグラフィーによるプロセスの各工程における中間体の単離および精製を含む。しかしながら、総じての全収率は低く、生産の高いコストは該プロセスを大規模な製造で使用できなくする。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
１つの態様において、本明細書中において、商業的スケールでの前記した式Ｉの化合物の製造のための改良されたプロセスが提供される。
【０００８】
もう１つの態様において、本明細書中において、精製方法としてのカラムクロマトグラフィーの使用を回避し、かつコスト的に有利であって、大規模な生産に容易に使用できる改良された製法が提供される。
【０００９】
なおもう１つの態様において、本明細書中において、製法の各段階における種々の溶媒および溶媒組合せ、温度条件、時間および仕上げ手法を含む反応条件を使用することによって、増大した全収率でもって式Ｉ高純度化合物を製造する方法が提供される。また、さらにもう１つの態様において、本明細書中において、プロセスのいずれの段階においてもカラムクロマトグラフィーによる精製に頼ることのない、優れた収率での、高純度の中間体の単離が提供される。
【００１０】
なおもう１つの態様において、本明細書中において、最終工程において特定のジヒドロキシ化合物を式Ｉの所望のカルシウム塩へ変換するためのワン−ポットプロセスが提供され、かくして、該プロセスをより経済的なものとする。
【００１１】
議論するように、本明細書中において、式Ｉの化合物の製造方法が提供される。
【００１２】
【化２】
【課題を解決するための手段】
【００１３】
式Ｉの化合物である（３Ｒ，５Ｒ）−７−［２−（４−フルオロフェニル）−５−イソプロピル−３−フェニル−４−［（４−ヒドロキシメチルフェニルアミノ）カルボニル］−ピロール−１−イル］−３，５−ジヒドロキシ−ヘプタン酸ヘミカルシウム塩は、例えば、スキームＩに示した以下の反応系列によって調製することができる。
【００１４】
【化３】
かくして、式ＩＩのアミンは、還流炭化水素溶媒中でメチル−４−メチル−３−オキソペンタノエートと反応させた場合に、式ＩＶ（式中、Ｒはアリール、アルキルまたはアリールアルキルである）のβ−ケトアミドをもたらすことができる。ベンズアルデヒドとの反応に際して式ＩＶの化合物は、ＥおよびＺ異性体の混合物である式Ｖの化合物を与えることができる。４−フルオロベンズアルデヒドとのアシル化縮合に付すと、式Ｖの化合物は式ＶＩの１，４ジケト化合物を与えることができる。式ＶＩＩのキラルアミンとの縮合に際し、式ＶＩの化合物は式ＶＩＩＩの化合物をもたらすことができ、これは、引き続いての脱保護に際して式ＩＸの化合物を与えることができる。式ＩＸの化合物におけるカルボキシル基の選択的還元は、式Ｘの化合物を与えることができる。式Ｘの化合物中のケタール基の酸触媒開裂は、式ＸＩのジヒドロキシ化合物をもたらすことができ、これは２つの方法：
ｉ）Ｃａ（ＯＨ）２を用いて相間移動触媒下で式ＸＩの化合物を式Ｉのそのヘミカルシウム塩へ直接的に変換することによって、または
ｉｉ）水酸化ナトリウムを用いてその場で生じたそのナトリウム塩へ式ＸＩの化合物を変換し、引き続いて、酢酸カルシウムまたは塩化カルシウムを用いてナトリウムをＣａで置換して、式Ｉのヘミカルシウム塩を生じさせることによって、
所望の式Ｉのカルシウム塩へ変換することができる。
【００１５】
式ＩＩのアミンと４−メチル−３−オキソペンタノエートとの反応は、有機塩基、例えば、触媒量のトリエチルアミン、ピリジンまたは１，２−エチレンジアミンの存在下で、１以上の溶媒、例えば、炭化水素溶媒（例えば、ヘキサン、ヘプタン、キシレンまたはトルエン）中で行うことができる。
【００１６】
式ＩＶの化合物とベンズアルデヒドとの反応は、有機塩基、例えば、ピペリジン、ピリジンまたはβ−アラニン、および有機酸、例えば、氷酢酸または安息香酸の存在下で１以上の溶媒、例えば、ヘキサン、ヘプタンまたはトルエン中で行うことができる。
【００１７】
式Ｖの化合物と４−フルオロベンズアルデヒドとの反応は、無溶媒環境中で、あるいは溶媒、例えば、極性溶媒（例えば、メタノール、エタノール、プロパノールまたはイソプロパノール）、エーテル溶媒（例えば、ジオキサン、ジエチルエーテルまたはテトラヒドロフラン）またはその混合液中で、あるいは有機塩基（例えば、トリエチルアミン、またはピリジン）の存在下で触媒（例えば、シアン化ナトリウム、臭化３−エチル−５−（２−ヒドロキシ−エチル）−４−メチルチアゾリウムまたは塩化３−ベンジル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム）の存在下で行うことができる。別法として、反応は過剰の塩基、例えば、それ自体が溶媒として作用するトリエチルアミンの存在下で行うことができる。
【００１８】
式ＶＩ化合物と式ＶＩＩの化合物との反応は、有機酸、例えば、ピバル酸またはｐ−トルエンスルホン酸の存在下で、１以上の溶媒、例えば、炭化水素溶媒（例えば、キシレン、トルエン、ヘキサン、またはヘプタン）、エーテル溶媒（例えば、テトラヒドロフランまたはジオキサン）またはその混合液中で行うことができる。
【００１９】
式ＶＩＩＩの化合物の脱保護は、無機塩基（例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、重炭酸ナトリウムまたは重炭酸カリウム）の存在下で；１以上の溶媒、例えば、極性溶媒（例えば、メタノール、エタノール、アセトニトリル、イソプロピルアルコールまたはｔ−ブタノール）またはエーテル溶媒（例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルまたはジオキサン）あるいはその混合液中で、約１０℃ないし還流温度の範囲の温度にて、例えば、約４０ないし約５０℃の範囲の温度で行うことができる。別法として、脱保護は、水性アルコール溶媒、例えば、エタノールまたはメタノール中でＴＢＡＢを用い、還流温度にて相間移動触媒下で行うことができる。
【００２０】
式ＩＸの化合物の還元は、還元剤（例えば、ホウ素―ジメチルスルフィド錯体またはホウ素―テトラヒドロフラン錯体）の存在下で；１以上の溶媒、例えば、炭化水素溶媒（例えば、ヘキサン、ｎ−ヘプタンまたはトルエン）、エーテル溶媒（例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、またはジエチルエーテル）、またはその混合液中で行うことができる。
【００２１】
式Ｘの化合物のケタール基の酸（例えば、塩酸）での開裂は、１以上の溶媒、例えば、極性溶媒（例えば、メタノール、エタノールまたはイソプロピルアルコール）、エーテル溶媒（例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、またはジエチルエーテル）またはその組合せ中で、約室温（約２５℃）、ないし還流温度の範囲の温度、好ましくは約４０ないし約５５℃の範囲の温度で行うことができる。
【００２２】
式ＸＩの化合物は：
ｉ）まず、約０ないし約３０℃の範囲の温度にて、例えば、約０ないし約１０℃の範囲の温度にて、ＮａＯＨでの処理によって式ＸＩ化合物をそのナトリウム塩へ変換し、引き続いて、１以上のアルコール溶媒、例えば、メタノール、エタノールなど、または他のエーテル溶媒（例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、またはジエチルエーテル）、またはその組合せの存在下で酢酸カルシウムを用いてナトリウムをカルシウムで置換することによって、あるいは
ｉｉ）還流水性アルコール溶媒、例えば、メタノールまたはエタノール中で、触媒としての臭化テトラブチルアンモニウム、および塩基としての水酸化カルシウムを用い、式ＸＩ化合物を相間移動触媒に付すことによって、
式Ｉのその対応するヘミカルシウム塩へ変換することができる。
【００２３】
前記したプロセスは以下の具体例の１以上を含むことができる。例えば、式ＩＩの化合物の反応はトルエン中で行うことができる。式Ｖの化合物の反応は、それ自体が溶媒として作用できるトリエチルアミンの存在下で行うことができる。式ＶＩＩＩの化合物の反応は、水酸化ナトリウムの存在下、アセトニトリルまたはメタノール：テトラヒドロフラン（１：３）中で約５０ないし５５℃の温度範囲にて約４ないし５時間または例えば、約３０℃にて約８ないし１０時間行うことができる。式ＩＸの化合物の反応は、約４０ないし約４５℃の範囲の温度にて、約５時間行うことができる。式Ｘの化合物の反応は、メタノール：テトラヒドロフラン：水（１：１：１）中で行うことができる。式ＸＩの化合物の反応は、臭化テトラブチルアンモニウムの存在下で、テトラヒドロフラン：脱イオン水（１：１）またはエタノール：水（４：１）中で約３０ないし約５０℃の範囲の温度で約２ないし８時間行うことができる。
【００２４】
前記にて掲げたプロセスは、工程のいずれも精製方法としてのカラムクロマトグラフィーの使用を含まず、かくして、高収率を達成し、それを大規模な生産に使用できるようにするそのようなプロセスを可能とするという利点を有する。
【００２５】
式ＩＶの化合物は、式ＩＶの粗生成物を酢酸エチルに溶解させ、酢酸エチル層を、順次、酸、次いで、脱イオン水によって洗浄することによって精製することができ、過剰な酸は溶液を、順次、重炭酸ナトリウム溶液、脱イオン水で洗浄することによって除去し、濃縮して固体を得ることができ、これはヘキサンに加え、生成物が沈殿するまで攪拌することができ、これは濾過し、乾燥される。
【００２６】
式Ｖの化合物は、式Ｖの粗生成物をヘキサンで洗浄して、有機不純物を除去し、続いて生成物を乾燥することによって精製することができ、これを酢酸エチルに溶解させ、脱イオン水で分配して、無機不純物を除去することができ、有機相を分離し、乾燥し、イソプロピルアルコールに加熱しつつ溶解させることができ、これは、冷却に際して固体産物を与え、これを濾過し、約４０ないし約５０℃の範囲の温度にて約６時間真空トレイドライヤーで乾燥することができる。
【００２７】
式ＶＩの化合物は、式ＶＩの粗生成物および活性炭をメタノールおよび水の溶媒系に溶解させ、反応混合物を還流することによって精製し、濾過することができ、そのように得られた残渣を溶媒メタノール：水（９：１）で洗浄し、濾液を濃縮して固体が得られ、ヘキサン中にスラリー化し、濾過し、真空下で濃縮することができる。
【００２８】
式ＶＩＩＩの化合物は、反応混合物を約０℃まで冷却し、生成物が沈殿するまで攪拌することによって精製することができ、これを濾過し、ヘキサンで洗浄し、乾燥することができる。
【００２９】
式ＩＸの化合物は、ａ）反応混合物を室温まで冷却し、それを酸性化し、濾過して固体が得られ、それを脱イオン水およびアセトニトリルで洗浄し、該固体をさらに変性スピリット中で還流し、生成物は沈殿するまで冷却し、濾過し、変性スピリットで洗浄し、真空下で乾燥することによって、ｂ）反応混合物を濃縮し、それを酢酸エチルおよび水の溶媒系に抽出し、酢酸エチル層を分離し、それをブラインで洗浄し、有機相をさらに酸性化し、ここに、過剰の酸を塩基によって中和し、脱―イオン水で洗浄し、反応混合物を濃縮し、残渣をヘキサンでトリチュレートして、固体を形成させ、濾過し、真空下で乾燥することによって精製することができる。
【００３０】
式Ｘの化合物は、ａ）粗生成物を酢酸エチルに溶解させ、脱イオン水、重炭酸ナトリウムおよびブラインで順次その層を洗浄し、濃縮して固体が得られ、これをヘキサン中にスラリー化し、濾過し、真空下で乾燥することによって、ｂ）粗生成物をイソプロピルアルコール、脱イオン水および酢酸の溶媒系に溶解させ、それを水酸化カルシウムの同時添加と共に還流し、その熱溶液を濾過し、そのように得られた濾液を固体が沈殿するまで室温へ冷却し、濾過し、氷冷イソプロピルアルコールおよび水で洗浄し、真空トレイドライヤー中で約６０℃にて約７ないし８時間乾燥することによって精製することができる。
【００３１】
式ＸＩの化合物は、ａ）粗生成物を酢酸エチルおよびトルエン（１：２）の溶媒系に溶解させ、脱イオン水およびブラインで順次その層を洗浄し、生成物を単離し、ヘキサン中で約４０℃にて約１時間スラリー化し、冷却し、濾過し、真空トレイドライヤー中で約６０℃にて約３時間乾燥し、ｂ）粗生成物を約４０ないし約５０℃の範囲の温度にて約１時間同時に加熱しつつ（１０％）酢酸エチル―ヘキサン溶媒系に溶解させ、室温（約２５℃）に冷却し、約１時間、または生成物が沈殿するまで攪拌し、そのように得られた固体を濾過し、水およびヘキサンで洗浄し、真空トレイドライヤーで乾燥することによって精製することができる。
【００３２】
式Ｉの化合物は、ａ）粗生成物を酢酸エチルで洗浄し、それを、約６０ないし約７０℃の範囲の温度にて真空下で約１０時間乾燥し、メタノール中に溶解させ、それにブチル化ヒドロキシアニソールを加え、溶液を濾過して固体が得られ、これを約４０ないし約５０℃の温度範囲にて真空トレイドライヤーで乾燥して、純粋なアモルファス化合物を形成することによって、ｂ）粗製カルシウム塩を酢酸エチルおよび水（１：１）およびブチル化ヒドロキシアニソールの溶媒系中で還流し、熱溶液を濾過し、生成物が完全に沈殿するまで濾液を冷却し、濾過し、酢酸エチルで洗浄し、真空下で乾燥して、純粋なアモルファス化合物を形成させることによって、ｃ）熱反応混合物を濾過し、そのようにして得られた濾液を冷却し、それに脱イオン水を加え、生成物を沈殿させ、濾過し、酢酸エチルおよび水混合液（１：１）中での還流に付し、反応混合物を生成物が沈殿するまで冷却し、続いて生成物を単離し、それを酢酸エチルで洗浄し、それを真空トレイドライヤーで乾燥して、純粋なアモルファス化合物を形成することによって精製することができる。
【００３３】
前記反応スキームにおいて、具体的な還元剤、溶媒、塩基、触媒、酸などに言及する場合、当業者に知られた他の還元剤、溶媒、塩基、触媒、酸などを用いることができるのは理解されるべきである。同様に、反応温度および継続時間を調整することができる。本発明をその特別な具体例に関連させて記載してきたが、ある修飾および同等物は当業者に明らかであって、それは本発明の範囲内に含まれる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３４】
【実施例１】
【００３５】
式ＩＶの４―［（４―メチル―３―オキソペンタノイル）アミノ］安息香酸メチルの調製
トルエン（２．４Ｌ）中のメチル―４―アミノベンゾエート（２５０ｇ，１．６５モル）の溶液にメチル―４―メチル―３―オキソペンタノエート（２３７．７ｇ，１．６４８モル）およびエチレンジアミン（１．１５ｍｌ，０．０１６モル）を加えた。反応混合物を約２０ないし２５時間還流した。溶媒を減圧下で除去して、固体残渣を得た。残渣を酢酸エチル（２．４Ｌ）に溶解させた。有機相を酸（例えば、２０％ｗ／２ｗ塩酸０．５Ｌ）、続いて脱イオン水で洗浄した。それをさらに１０％重炭酸ナトリウム溶液、続いて、脱イオン水および飽和ブラインで洗浄した。溶媒を減圧下で除去した。攪拌しつつこれにヘキサンを加え、固体を完全に沈殿させた。固体を濾過し、ヘキサンで洗浄した。固体を乾燥して、標記生成物を９９．４５％純度で得た。
収率：３５８ｇ（１．５，ｗ／ｗ）；ＬＣＭＳ：ｍ／ｚ（Ｍ＋１）２６５．０９；融解範囲：５４−５６°Ｃ；１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）；δ１．１６−１．１８（ｄ，６Ｈ，−ＣＨ（ＣＨ３）２），２．７５−２．７０（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ（ＣＨ３）２），３．６２（ｓ，２Ｈ，ＣＨ２），３．８９（ｓ，３Ｈ，ＯＣＨ３），７．６２−７．６５（ｄ，２Ｈ，ＡｒＨ），７．９８−８．０１（ｄ，２Ｈ，ＡｒＨ），９．５１（ｂｓ，ＮＨＣＯ）
【実施例２】
【００３６】
式Ｖの４―｛［２―ベンジリデン―４―メチル―３―オキソペンタノイル］アミノ｝安息香酸メチルの調製
ヘキサン（５．４Ｌ）中の式ＩＶの化合物（４００ｇ，１．５２モル）およびベンズアルデヒド（１７７ｇ，１．６７モル）の混合物に、攪拌しつつ、β―アラニン（２７ｇ，０．３モル）続いて氷酢酸（５４．６ｇ、０．９１モル）を加えた。ディーン―シュタルク装置の助けを借りて水分を一定に除去しつつ、反応混合物を、約２４時間還流した。反応の最後に、固体が沈殿した。固体を濾過し、ヘキサン（０．６Ｌ）で洗浄した。固体を酢酸エチル（３．６Ｌ）に溶解させ、続いて、攪拌しつつ脱イオン水（１．２Ｌ）を加えた。層を分離し、有機相をブラインで洗浄した。溶媒を減圧下で除去して、固体生成物が得られ、これを加熱しつつ、イソプロピルアルコール（０．８５Ｌ）に溶解させた。溶液を室温まで冷却し、固体を沈殿させた。固体を濾過し、順次、氷冷イソプロピルアルコールおよびヘキサンで洗浄した。固体を真空下（１０ミリバール）で約４０ないし約５０℃にて約６時間乾燥して、所望の生成物をＥおよびＺ異性体の混合物として得た。
収率：３３８ｇ（０．８４，ｗ／ｗ）；ＬＣＭＳ：ｍ／ｚ（Ｍ＋１）３５２．１；融解範囲：１５４−１５６°Ｃ；１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）
Ｅ異性体：δ１．２１−１．２３（ｄ，６Ｈ，−ＣＨ（ＣＨ３）２），３．３２−３．３９（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ（ＣＨ３）２），３．９０（ｓ，３Ｈ，ＯＣＨ３），７．３３−７．３９（ｍ，３Ｈ，ＡｒＨ），７．５３−７．５９（ｍ，４Ｈ，ＡｒＨ），７．９３（ｓ，１Ｈ，ビニル性Ｈ），８．００−８．０２（ｄ，２Ｈ，ＡｒＨ）（分析試料の融解範囲，１５５．０−１５６．２°Ｃ）
Ｚ異性体：δ１．０３−１．０５（ｄ，６Ｈ，−ＣＨ（ＣＨ３）２），２．６２−２．６５（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ（ＣＨ３）２），３．９１（ｓ，３Ｈ，ＯＣＨ３），７．３０−７．３２（ｍ，２Ｈ，ＡｒＨ），７．４２−７．４５（ｍ，３Ｈ，ＡｒＨ），７．７１−７．７３（ｄ，２Ｈ，ＡｒＨ），８．０３−８．０５（ｄ，２Ｈ，ＡｒＨ），８．２１（ｓ，１Ｈ，ビニル性Ｈ）（分析試料の融解範囲，１４５．６−１４６．３°Ｃ）
【実施例３】
【００３７】
式ＶＩの４―（｛２―［２―（４―フルオロフェニル）―２―オキソ―１―フェニルエチル］―４―メチル―３―オキソペンタノイル｝アミノ）安息香酸メチルの調製
トリエチルアミノ（０．２Ｌｔ）中の式Ｖの化合物（１００ｇ、０．２８５モル）の混合物に臭化チアゾリウム（１７．９４ｇ，０．０７１モル）および４―フルオロベンズアルデヒド（３８．８２ｇ，０．３１３モル）を加えた。反応混合物を約８時間還流に付した。反応の最後に、ＴＬＣまたはＨＰＬＣによる反応モニタリングによって示されるように、トリエチルアミンを減圧下で除去した。そのように得られた固体を酢酸エチル（０．７５Ｌ）に溶解させ、続いて、脱イオン水（０．２５Ｌ）に加えた。次いで、有機相を分離し、水性相を酢酸エチルで洗浄した。合わせた有機相を、順次、脱イオン水、酸（例えば、１０％塩酸０．２Ｌ）、塩基（例えば、１０％重炭酸ナトリウム）およびブラインで洗浄した。溶媒を減圧下で除去して、固体生成物が得られた。固体を、活性炭（７．５ｇ）を加えて加熱しつつメタノールおよび水の溶媒系（９：１，０．７５Ｌ）に溶解させ、還流させた。熱溶液を濾過し、残渣をメタノールおよび水の溶媒系（９：１）で洗浄した。濾液をさらに約０ないし約５℃まで冷却し、沈殿した固体を濾過した。固体をヘキサン（０．４Ｌ）で約４０℃にて１時間スラリー化し、濾過した。生成物を真空（１０ミリバール）下で約５０℃にて約１０ないし約１２時間乾燥して、所望の品質の生成物を得た。
収率：１５６ｇ（０．９３，ｗ／ｗ）；融解範囲：１６８−１７０°Ｃ；ＬＣＭＳ：ｍ／ｚ（Ｍ＋１）４７６．２１ １Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ１．１５−１．１８（ｄ，３Ｈ，−ＣＨ３），１．２２−１．２５（ｄ，３Ｈ，−ＣＨ３），２．９６−３．０２（ｍ．１Ｈ，ＣＨ（ＣＨ３）２），３．８９（ｓ，３Ｈ，−ＯＣＨ３），４．５４−４．５６（ｄ，１Ｈ，−ＣＯ−ＣＨ−Ｐｈ），５．３３−５．３６（ｄ，１Ｈ，−ＣＯ−ＣＨ−ＣＯ−），７．０１−７．９９（ｍ，１４Ｈ，Ａｒ−Ｈおよび−ＮＨ）
【実施例４】
【００３８】
式ＶＩＩＩの４―（｛［１―｛２―［（４Ｒ，６Ｒ）―６―（２―ｔｅｒｔ―ブトキシ―２―オキソエチル）―２，２―ジメチル―１．３―ジオキサン―４―イル］エチル｝―５―（４―フルオロフェニル）―２―イソプロピル―４―フェニル―１Ｈ―ピロール―３―イル］カルボニル｝アミノ）安息香酸メチルの調製
ピバル酸（４４．２ｇ，０．４３３モル）を、４：１：１（２．５２Ｌ）の比率のヘプタン、トルエンおよびテトラヒドロフランの溶媒系中の式ＶＩの化合物（２００ｇ，０．４２１モル）および式ＶＩＩの［６―（２―アミノ―エチル）―２，２―ジメチル―［１，３―ジオキサン―４―イル］―酢酸ｔ―ブチルエステル（１３７．９ｇ，０．５０５モル）の混合物に加えた。反応混合物を約２８ないし約３５時間還流した。反応混合物を約０℃まで冷却し、生成物が沈殿するまで攪拌した。沈殿した生成物を濾過し、ヘキサン（１Ｌ）で洗浄した。固体を５０℃にて真空（１０ミリバール）下で乾燥して、所望の生成物を得た。
収率：２１０ｇ（１．０５，ｗ／ｗ），ＬＣＭＳ：ｍ／ｚ（Ｍ＋１）７１３．２；融解範囲：１５８．８−１５９．５°Ｃ；１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ１．０３−１．０６（ｍ，１Ｈ，＞ＮＣＨ２ＣＨ２−），１．３０−１．３６（２ｘｓ，６Ｈ，＞Ｃ（ＣＨ３）２ ＆ ｍ，１Ｈ，＞ＮＣＨ２ＣＨ２−融合），１．４３（ｓ，９Ｈ，−Ｃ（ＣＨ３）３），１．５２−１．５４（ｄ，６Ｈ，−ＣＨ（ＣＨ３）２），１．６６（ｍ，２Ｈ，Ｃ−５−ＣＨ２−），２．２−２．４（ｍ，２Ｈ，−ＣＨ２ＣＯＯｔＢｕ），３．６（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ（ＣＨ３）２），３．７（ｍ，１Ｈ，Ｃ−４＞ＣＨＯ−）３．８５（ｓ，３Ｈ，−ＯＣＨ３），３．８５（ｍ，１Ｈ，Ｃ−６＞ＣＨＯ−），４．１（ｍ，２Ｈ，＞ＮＣＨ２−），６．９７−７．８５（ｍ，１４Ｈ，Ａｒ−Ｈおよび−ＮＨ）
【実施例５】
【００３９】
式ＩＸの４―（｛［１−［｛２−［（４Ｒ，６Ｒ）―６―（２―ｔｅｒｔ―ブトキシ―２―オキソエチル）―２，２―ジメチル―１，３―ジオキサン―４―イル］エチル｝―５―（４―フルオロフェニル）―２―イソプロピル―４―フェニル―１Ｈ―ピロール―３―イル］カルボニル｝アミノ］安息香酸の調製
水酸化ナトリウム（２．５モル当量，１Ｎ水溶液）を、アセトニトリル（４．２５Ｌ）中の式ＶＩＩＩの化合物（４２５ｇ，０．５９６モル）の溶液に加え、反応混合物を約５０ないし５５℃にて約４ないし５時間攪拌した。反応混合物を約２５℃まで冷却し、生成物が沈殿すると、ｐＨを２０％酢酸溶液で５．５ないし６に調整した。次いで、固体を濾過し、脱イオン水およびアセトニトリルで洗浄した。得られた粗生成物を変性スピリット（７．２Ｌ）中で約１時間還流した。反応混合物を約２５℃まで冷却し、固体が完全に沈殿するまで約５時間攪拌した。固体を濾過し、変性スピリット（０．４２Ｌ）で洗浄した。固体を、さらに、真空（１０ミリバール）下で約５０℃にて約６時間乾燥して、所望の生成物を得た。
収率：３２４．９５ｇ（０．７６，ｗ／ｗ）；ＬＣＭＳ：ｍ／ｚ（Ｍ＋１）６９９．３；融解範囲：２３９．９−２４１．７°Ｃ；１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）；δ１．０３−１．０６（ｍ，１Ｈ，＞ＮＣＨ２ＣＨ２−），１．３０−１．３６（２ｘｓ，６Ｈ，＞Ｃ（ＣＨ３）２ ＆ ｍ，１Ｈ，＞ＮＣＨ２ＣＨ２−融合），１．４３（ｓ，９Ｈ，−Ｃ（ＣＨ３）３），１．５２−１．５４（ｄ，６Ｈ，−ＣＨ（ＣＨ３）２），１．６４−１．６８（ｍ，２Ｈ，Ｃ−５−ＣＨ２−），２．２−２．４（ｍ，２Ｈ，−ＣＨ２ＣＯＯｔＢｕ），３．６（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ（ＣＨ３）２），３．７（ｍ，１Ｈ，Ｃ−４＞ＣＨＯ−），３．８（ｍ，１Ｈ，Ｃ−６＞ＣＨＯ−），４．１５−４．１７（ｍ，２Ｈ，＞ＮＣＨ２−），６．９７−７．９２（ｍ，１４Ｈ，ＡｒＨおよび−ＮＨ）
【００４０】
別法として、水酸化ナトリウム（２．５当量，１Ｎ水溶液）を、テトラヒドロフランおよびメタノールの混合液（１．０Ｌ，３：１）中の式ＶＩＩＩの化合物（１００ｇ，０．１４モル）の溶液に加え、反応混合物を室温（３０℃）で約８ないし１０時間攪拌した。揮発物を減圧下で蒸留し、酢酸エチルおよび水（１：１）を室温にて攪拌下で充填した。有機相を分離し、飽和ブラインで洗浄し；沈殿したいずれの不溶性物質も濾過した。有機相のｐＨを２０％酢酸溶液で５．５ないし６に調整し、引き続いて、脱イオン水および重炭酸塩溶液で洗浄した。有機揮発物を減圧下で除去し、残渣をヘキサンでトリチュレートして、固体が得られ、これを濾過し、ヘキサンで洗浄した。固体をさらに真空（１０ミリバール）下で約５０℃にて約６時間乾燥して、所望の生成物を得た。
収率：６０ｇ（０．６，ｗ／ｗ）。
【実施例６】
【００４１】
式Ｘの（（４Ｒ，６Ｒ）―６―｛２―［２―（４―フルオロフェニル）―４―（｛｛４―（ヒドロキシメチル）フェニル｝アミノ｝カルボニル）―５―イソプロピル―３―フェニル―１Ｈ―ピロール―１―イル］エチル｝―２，２―ジメチル―１．３―ジオキサン―４―イル）酢酸ｔｅｒｔ―ブチルの調製
テトラヒドロフラン（０．７Ｌ）中の式ＩＸの化合物（１００ｇ，０．１４モル）の溶液を約４０ないし４５℃まで加熱した。それにホウ素―ジメチルスルフィド錯体（テトラヒドロフラン中のＢＭＳ錯体２．３当量、２Ｍ溶液）を加えた。反応混合物をこの同一温度で約５時間攪拌した。反応混合物を約２０ないし２５℃まで冷却し、それにメタノールを加えて、過剰のＢＭＳ錯体を破壊した。有機揮発物を真空下で除去し、そのように得られた残渣を酢酸エチルに溶解させた。有機相を、順次、脱イオン水、重炭酸ナトリウム、およびブラインで洗浄した。５０℃にて減圧（１０ミリバール）下で溶媒を蒸発させると、得られた所望の生成物は固体であった。固体反応塊をヘキサン中でスラリー化し、濾過した。そのように得られた生成物を真空（１０ミリバール）下で約６０℃にて約７ないし８時間乾燥し、次の工程で用いた。
収率：９５ｇ（０．９５，ｗ／ｗ）；ＬＣＭＳ／ｍ／ｚ（Ｍ＋１）６８５．３；融解範囲：１９３．８−１９４．６°Ｃ；１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）；δ１．０３−１．０６（ｍ．１Ｈ，＞ＮＣＨ２ＣＨ２−），１．３０−１．３６（２ｘｓ，６Ｈ，＞Ｃ（ＣＨ３）２） ＆ ｍ，１Ｈ，＞ＮＣＨ２ＣＨ２−融合），１．４３（ｓ，９Ｈ，−Ｃ（ＣＨ３）３），１．５２−１．５４（ｄ，６Ｈ，−ＣＨ（ＣＨ３）２），１．６６−１．６７（ｍ，２Ｈ，Ｃ−５−ＣＨ２−），２．２−２．４（ｍ，２Ｈ，−ＣＨ２ＣＯＯｔＢｕ），３．５８（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ（ＣＨ３）２），３．６８（ｍ，１Ｈ，Ｃ−６＞ＣＨＯ−），３．８２（ｍ，１Ｈ，Ｃ−４＞ＣＨＯ−），４．０７−４．１７（ｍ，２Ｈ，＞ＮＣＨ２），４．５７（ｓ，２Ｈ，−ＰｈＣＨ２ＯＨ），６．８７−７．２１（ｍ，１４Ｈ，ＡｒＨおよび−ＮＨ）
【００４２】
別法として、メタノールでクエンチして過剰のＢＭＳ錯体を破壊した後の反応混合物を減圧下で蒸留に付して、揮発物を最小まで低下させ、雰囲気温度に到達させた。イソプロピルアルコールおよび脱イオン水と共に酢酸を反応混合物に加えた。反応混合物を加熱還流し、水酸化カルシウムを充填した。反応混合物を熱濾過し、濾液は２０ないし２５℃に冷却されると、固体生成物の沈殿がもたらされ、これを濾過し、冷却されたイソプロピルアルコールおよび水の混合液で洗浄した。そのように得られた生成物を真空（１０ミリバール）下で６０℃にて７ないし８時間乾燥し、そのように得られた所望の生成物を次の工程で用いた。
【実施例７】
【００４３】
式ＸＩの（３Ｒ，５Ｒ）―７―［２―（４―フルオロフェニル）―４―（｛［４―（ヒドロキシメチル）フェニル］アミノ｝カルボニル）―５―イソプロピル―３―フェニル―１Ｈ―ピロール―１―イル］―３，５―ジヒドロキシへプタン酸ｔ―ブチルエステルの調製
室温にて、塩酸（１Ｎ，水溶液）を、メタノールおよびテトラヒドロフラン（１：１）の溶媒系０．１２５Ｌ中の式Ｘの化合物（２５ｇ，０．０３６モル）の溶液に加えた。反応混合物を約５時間、または反応が完了するまで攪拌した。反応混合物を重炭酸ナトリウム（１．５３ｇ，０．０１８モル）でクエンチし、減圧下で有機揮発物の除去に付した。そのようにして得られた残渣を酢酸エチルおよびトルエン（１：２，０．５Ｌ）中に取った。有機相を、順次、脱イオン水およびブラインで洗浄した。真空下での溶媒の除去の結果、固体生成物を得た。得られた固体をヘキサン中で約４０℃にて約１時間スラリー化し、続いて、〜２５℃まで冷却し、濾過した。得られた固体を真空（２０ｍｍ）下で約６０℃にて約３時間乾燥した。
収率：２２ｇ（０．８８，ｗ／ｗ）；ＬＣＭＳ：ｍ／ｚ（Ｍ＋１）６４５．２；融解範囲：１４４．６−１４６．１°Ｃ；１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）；δ１．２０−１．２４（ｍ，１Ｈ，＞ＮＣＨ２ＣＨ２−），１．４０−１．４５（ｓ，９Ｈ，−Ｃ（ＣＨ３）３ ＆ ｍ，１Ｈ，＞ＮＣＨ２ＣＨ２−融合），１．５２−１．５４（ｄ，６Ｈ，−ＣＨ（ＣＨ３）２），１．６２（ｍ，２Ｈ，Ｃ−４ ＣＨ２（−ＣＨＯＨ）２），２．３−２．３２（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ２ＣＯＯｔＢｕ），３．５６−３．５９（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ（ＣＨ３）２），３．７２（ｂｓ，２Ｈ，２ｘＯＨ），３．７８（ｍ，１Ｈ，Ｃ−５＞ＣＨＯＨ），３．９３（ｍ，１Ｈ，Ｃ−３＞ＣＨＯＨ），４．０７−４．１４（ｍ，２Ｈ，＞ＮＣＨ２−），４．５７（ｓ，２Ｈ，−ＰｈＣＨ２ＯＨ），６．８７−７．１９（ｍ，１４Ｈ，ＡｒＨおよび−ＮＨ）
【００４４】
別法として、１Ｎ ＨＣｌ（０．５，モル当量）の存在下で、テトラヒドロフラン：メタノール：水（１：１：１， ３Ｌｔ）の混合液中での酸加水分解に約５０℃にて約１ないし２時間付された式Ｘの化合物（２００ｇ，０．２９モル）は、溶液中の所望の化合物を与えた。反応混合物を重炭酸ナトリウム（１５．９６ｇ，０．１９モル）でクエンチし、有機揮発物を蒸留し、全反応用量の５０％が残った。反応混合物にヘキサン（２Ｌ）中の１０％酢酸エチルを加え、約４０ないし５０℃の温度に約１時間付した。次いで、反応混合物を〜２５℃まで冷却し、完全な沈殿のためにこの温度で約１時間攪拌した。そのようにして得られた生成物を濾過し、水（０．２Ｌ）およびヘキサン（０．４Ｌ）で洗浄した。得られた固体を真空（２０ｍｍ）下で約６０℃にて約３時間乾燥した。収率：０．８７（ｗ／ｗ）
【実施例８】
【００４５】
式Ｉの（３Ｒ，５Ｒ）―７―［２―（４―フルオロフェニル）―４―（｛［４―（ヒドロキシメチル）フェニル］アミノ｝カルボニル）―５―イソプロピル―３―フェニル―１Ｈ―ピロール―１―イル］―３，５―ジヒドロキシヘプタン酸ヘミカルシウム塩の調製
メタノールおよびテトラヒドロフラン（１：１，０．３Ｌ）中の式ＸＩの化合物（６０ｇ，０．０９３モル）の溶液を室温にて攪拌した。反応混合物を０℃まで冷却した。水酸化ナトリウムの溶液（１Ｎ水溶液，１．２当量）を反応混合物に加え、温度を添加の間に１０℃を超えさせなかった。反応混合物を約５ないし１０℃にて約３時間攪拌した。次いで、溶媒を減圧下で除去した。得られた固体生成物を酢酸エチル（０．３Ｌ）に溶解させ；それに脱イオン水（０．６Ｌ）を加えた。所望の生成物を含有する水性層を分離し、酢酸エチルで洗浄した。この水性層に酢酸カルシウム溶液（０．６６Ｌ，０．６当量）を加え、式Ｉの生成物が沈殿するまで攪拌した。生成物を濾過し、酢酸エチルで洗浄した。生成物を真空（１０ｍｍ）下で約６０ないし７０℃にて約１０時間乾燥した。前記で得られた生成物（５０ｇ，収率０．８３３，ｗ／ｗ）をメタノール（０．２４５Ｌ）に溶解させ、ブチル化ヒドロキシアニソール（ＢＨＡ、０．０５モル％）を加えた。そのようにして得られた溶液を濾過し、真空（１０ｍｍ）下で４０ないし５０℃で蒸発乾固して、式Ｉの化合物（４４ｇ）の所望のアモルファス形態を得た。
全収率：４４ｇ（０．７３，ｗ／ｗ）；ＬＣＭＳ：ｍ／ｚ（Ｍ＋１）５８９．１；１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）；δ１．３６−１．３９（ｍ，１Ｈ，Ｃ−６＞ＮＣＨ２ＣＨ２），１．４６−１．４７（ｄ，６Ｈ，ＣＨ（ＣＨ３）２），１．５１−１．５３（ｍ，１Ｈ，ＣＨ（ＣＨ３）２と融合したＣ−６＞ＮＣＨ２ＣＨ２），１．６７−１．６８（ｍ，２Ｈ，Ｃ−４ ＣＨ２（−ＣＨＯＨ）２） ２．２２−２．３２（ｍ，２Ｈ，Ｃ−２−ＣＨ２ＣＯＯ−），３．３３−３．３７（ｍ，１Ｈ，ＣＨ（ＣＨ３）２），３．６４−３．６５（ｍ，１Ｈ，Ｃ−５＞ＣＨＯＨ），３．８９（ｍ，１Ｈ，Ｃ−３＞ＣＨＯＨ），３．９９−４．０６（ｍ，２Ｈ，Ｃ−７＞ＮＣＨ２−），４．５１（ｓ，２Ｈ，−ＰｈＣＨ２ＯＨ），７．０２−７．１２（ｍ，７Ｈ，ＡｒＨ），７．２０−７．２４（ｍ，４Ｈ，ＡｒＨ），７．２７−７．２９（ｍ，２Ｈ，ＡｒＨ）
【００４６】
別法として、テトラヒドロフランおよび脱イオン水（１：１，０．８Ｌ）中の式ＸＩの化合物（８０ｇ，０．１２４モル）を水酸化ナトリウム（１Ｎ水溶液、１．２等量）の存在下で室温にて約２ないし３時間、約３０℃にて攪拌した。次いで、溶媒のテトラヒドロフランを減圧下で除去し、残渣を酢酸エチル水混合液中に取った。所望の生成物を含有する水性層を分離し、酢酸エチルで洗浄した。この水性層に攪拌下で酢酸カルシウム（０．６当量）を加えた。所望の生成物は沈殿した。水性溶液中の沈殿した生成物に、酢酸エチルおよび水の比率が１：１となるように酢酸エチルを加え、ブチル化ヒドロキシルアニソール（０．０５モル％）を加え、反応混合物を還流して、固体を溶解させた。熱溶液を濾過し、攪拌下で室温（２５ないし３０℃）まで冷却し、その際、式Ｉの化合物の所望のＣａ塩が沈殿した。生成物を濾過し、酢酸エチルで洗浄した。生成物を真空（１０ｍｍ）下で５５ないし６５℃にて１０ないし１２時間乾燥した（収率，６０ｇ，０．７５ｗ／ｗ）。式Ｉの所望の化合物が前記したように得られ、さらに処理して、合致して一つの単一のモルフ、すなわち、式Ｉの化合物のアモルファス形態を得た。かくして、メタノール（５００ｍｌ）中の式Ｉの化合物（２５ｇ）の溶液にブチル化ヒドロキシルアニソール（０．０５モル％）を加え、濾過し、噴霧乾燥技術に付して、所望のアモルファス形態（２０．５ｇ）を得た。
収率：０．８２ｗ／ｗ；全収率：０．６１
別法として、エタノール：水混合液（４：１，０．８Ｌ）中の式ＸＩの化合物（８０グラム，０．１２４モル）、水酸化カルシウム（１３．８ｇ，０．１８６モル）および臭化テトラブチルアンモニウム（２ｇ，５モル％）の混合物を、攪拌下で、約５０℃まで約５ないし８時間で加熱した。反応混合物は、ＴＬＣによって、またはＨＰＬＣによって示されるように、出発物質の消費を示す。反応混合物を熱濾過した（〜５０℃）。濾液を室温（〜２５℃）まで冷却し、攪拌下で脱イオン水（２．４Ｌ）に充填した。沈殿した生成物を濾過し、水（０．１６Ｌ）で洗浄し、吸引乾燥した。湿潤ケーキを固体の完全な溶解まで酢酸エチル：水混合液（１：１，１．６Ｌ）中で還流した。反応混合物を、攪拌しつつ、約２時間で２５℃まで冷却して、所望の質の式Ｉの化合物を得た。固体を濾過し、酢酸エチル（０．３２Ｌ）で洗浄し、吸引乾燥し、さらに前記条件下で乾燥した。収率５０．５ｇ（０．６３，ｗ／ｗ）。前記した生成物のさらなる処理により、式Ｉのアモルファス化合物を得る。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、（３Ｒ，５Ｒ）−７−［２−（４−フルオロフェニル）−５−イソプロピル−３−フェニル−４−［（４−ヒドロキシメチルフェニルアミノ）カルボニル］−ピロール−１−イル］−３，５−ジヒドロキシ−ヘプタン酸ヘミカルシウム塩の製法に関する。
【背景技術】
【０００２】
心血管疾患およびその関連疾患、機能不全および合併症は障害の主な原因および死亡の主な原因である。この病態生理学的プロセスに有意に寄与する１つの具体的因子はアテローム性動脈硬化症であり、これは死亡率および健康管理コスト双方に関する主導的な健康管理問題として大いに認識されてきた。アテローム性動脈硬化症は脂肪物質、主としてコレステロールの沈積によって特徴付けられ、その結果、動脈壁の内部表面にプラークが形成され、動脈に対して変性変化がもたらされる。
【０００３】
今や、心筋梗塞、冠状動脈性心臓病、高血圧および低血圧を含めた心血管障害、脳卒中、脳血栓形成および脳卒中による記憶喪失を含めた脳血管障害、；末梢血管病および腸梗塞はアテローム性動脈硬化症プラークによる動脈および細動脈の閉鎖によって引き起こされるということがよく確立されている。アテローム性動脈硬化症プラーク形成はその生産において多因子的である。高コレステロール血症、特に高レベルの低密度リポ蛋白質コレステロール（ＬＤＬ）はアテローム性動脈硬化症および動脈硬化症、ならびに関連病に対する重要な危険因子である。
【０００４】
ＨＭＧ−ＣｏＡレダクターゼ阻害剤（スタチン）はＬＤＬコレステロールの血中レベルを低下させるのに用いられてきた。コレステロールはメバロン酸経路を介して生産される。コレステロールへの前駆体であるメバロン酸の形成の低下は、コレステロールの細胞プールの低下を伴う肝臓コレステロール生合成の対応する減少に導く。ＰＣＴ公開番号ＷＯ ２００４／１０６２９９は、効果的なＨＭＧ−ＣｏＡ（３−ヒドロキシ−３−メチルグルタリル−コエンザイムＡ）レダクターゼ阻害剤としての式Ｉ：
【０００５】
【化１】
を有する（３Ｒ，５Ｒ）−７−［２−（４−フルオロフェニル）−５−イソプロピル−３−フェニル−４−［（４−ヒドロキシメチルフェニルアミノ）カルボニル］−ピロール−１−イル］−３，５−ジヒドロキシ−ヘプタン酸ヘミカルシウム塩を開示しており、かくして、脂質低下剤およびコレステロール低下剤として有用である。
【０００６】
（３Ｒ，５Ｒ）−７−［２−（４−フルオロフェニル）−５−イソプロピル−３−フェニル−４−［（４−ヒドロキシメチルフェニルアミノ）カルボニル］−ピロール−１−イル］−３，５−ジヒドロキシ−ヘプタン酸ヘミカルシウム塩の合成のための手法はＷＯ ２００４／１０６２９９に開示されている。前記した合成経路はカラムクロマトグラフィーによるプロセスの各工程における中間体の単離および精製を含む。しかしながら、総じての全収率は低く、生産の高いコストは該プロセスを大規模な製造で使用できなくする。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
１つの態様において、本明細書中において、商業的スケールでの前記した式Ｉの化合物の製造のための改良されたプロセスが提供される。
【０００８】
もう１つの態様において、本明細書中において、精製方法としてのカラムクロマトグラフィーの使用を回避し、かつコスト的に有利であって、大規模な生産に容易に使用できる改良された製法が提供される。
【０００９】
なおもう１つの態様において、本明細書中において、製法の各段階における種々の溶媒および溶媒組合せ、温度条件、時間および仕上げ手法を含む反応条件を使用することによって、増大した全収率でもって式Ｉ高純度化合物を製造する方法が提供される。また、さらにもう１つの態様において、本明細書中において、プロセスのいずれの段階においてもカラムクロマトグラフィーによる精製に頼ることのない、優れた収率での、高純度の中間体の単離が提供される。
【００１０】
なおもう１つの態様において、本明細書中において、最終工程において特定のジヒドロキシ化合物を式Ｉの所望のカルシウム塩へ変換するためのワン−ポットプロセスが提供され、かくして、該プロセスをより経済的なものとする。
【００１１】
議論するように、本明細書中において、式Ｉの化合物の製造方法が提供される。
【００１２】
【化２】
【課題を解決するための手段】
【００１３】
式Ｉの化合物である（３Ｒ，５Ｒ）−７−［２−（４−フルオロフェニル）−５−イソプロピル−３−フェニル−４−［（４−ヒドロキシメチルフェニルアミノ）カルボニル］−ピロール−１−イル］−３，５−ジヒドロキシ−ヘプタン酸ヘミカルシウム塩は、例えば、スキームＩに示した以下の反応系列によって調製することができる。
【００１４】
【化３】
かくして、式ＩＩのアミンは、還流炭化水素溶媒中でメチル−４−メチル−３−オキソペンタノエートと反応させた場合に、式ＩＶ（式中、Ｒはアリール、アルキルまたはアリールアルキルである）のβ−ケトアミドをもたらすことができる。ベンズアルデヒドとの反応に際して式ＩＶの化合物は、ＥおよびＺ異性体の混合物である式Ｖの化合物を与えることができる。４−フルオロベンズアルデヒドとのアシル化縮合に付すと、式Ｖの化合物は式ＶＩの１，４ジケト化合物を与えることができる。式ＶＩＩのキラルアミンとの縮合に際し、式ＶＩの化合物は式ＶＩＩＩの化合物をもたらすことができ、これは、引き続いての脱保護に際して式ＩＸの化合物を与えることができる。式ＩＸの化合物におけるカルボキシル基の選択的還元は、式Ｘの化合物を与えることができる。式Ｘの化合物中のケタール基の酸触媒開裂は、式ＸＩのジヒドロキシ化合物をもたらすことができ、これは２つの方法：
ｉ）Ｃａ（ＯＨ）２を用いて相間移動触媒下で式ＸＩの化合物を式Ｉのそのヘミカルシウム塩へ直接的に変換することによって、または
ｉｉ）水酸化ナトリウムを用いてその場で生じたそのナトリウム塩へ式ＸＩの化合物を変換し、引き続いて、酢酸カルシウムまたは塩化カルシウムを用いてナトリウムをＣａで置換して、式Ｉのヘミカルシウム塩を生じさせることによって、
所望の式Ｉのカルシウム塩へ変換することができる。
【００１５】
式ＩＩのアミンと４−メチル−３−オキソペンタノエートとの反応は、有機塩基、例えば、触媒量のトリエチルアミン、ピリジンまたは１，２−エチレンジアミンの存在下で、１以上の溶媒、例えば、炭化水素溶媒（例えば、ヘキサン、ヘプタン、キシレンまたはトルエン）中で行うことができる。
【００１６】
式ＩＶの化合物とベンズアルデヒドとの反応は、有機塩基、例えば、ピペリジン、ピリジンまたはβ−アラニン、および有機酸、例えば、氷酢酸または安息香酸の存在下で１以上の溶媒、例えば、ヘキサン、ヘプタンまたはトルエン中で行うことができる。
【００１７】
式Ｖの化合物と４−フルオロベンズアルデヒドとの反応は、無溶媒環境中で、あるいは溶媒、例えば、極性溶媒（例えば、メタノール、エタノール、プロパノールまたはイソプロパノール）、エーテル溶媒（例えば、ジオキサン、ジエチルエーテルまたはテトラヒドロフラン）またはその混合液中で、あるいは有機塩基（例えば、トリエチルアミン、またはピリジン）の存在下で触媒（例えば、シアン化ナトリウム、臭化３−エチル−５−（２−ヒドロキシ−エチル）−４−メチルチアゾリウムまたは塩化３−ベンジル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウム）の存在下で行うことができる。別法として、反応は過剰の塩基、例えば、それ自体が溶媒として作用するトリエチルアミンの存在下で行うことができる。
【００１８】
式ＶＩ化合物と式ＶＩＩの化合物との反応は、有機酸、例えば、ピバル酸またはｐ−トルエンスルホン酸の存在下で、１以上の溶媒、例えば、炭化水素溶媒（例えば、キシレン、トルエン、ヘキサン、またはヘプタン）、エーテル溶媒（例えば、テトラヒドロフランまたはジオキサン）またはその混合液中で行うことができる。
【００１９】
式ＶＩＩＩの化合物の脱保護は、無機塩基（例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、重炭酸ナトリウムまたは重炭酸カリウム）の存在下で；１以上の溶媒、例えば、極性溶媒（例えば、メタノール、エタノール、アセトニトリル、イソプロピルアルコールまたはｔ−ブタノール）またはエーテル溶媒（例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルまたはジオキサン）あるいはその混合液中で、約１０℃ないし還流温度の範囲の温度にて、例えば、約４０ないし約５０℃の範囲の温度で行うことができる。別法として、脱保護は、水性アルコール溶媒、例えば、エタノールまたはメタノール中でＴＢＡＢを用い、還流温度にて相間移動触媒下で行うことができる。
【００２０】
式ＩＸの化合物の還元は、還元剤（例えば、ホウ素―ジメチルスルフィド錯体またはホウ素―テトラヒドロフラン錯体）の存在下で；１以上の溶媒、例えば、炭化水素溶媒（例えば、ヘキサン、ｎ−ヘプタンまたはトルエン）、エーテル溶媒（例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、またはジエチルエーテル）、またはその混合液中で行うことができる。
【００２１】
式Ｘの化合物のケタール基の酸（例えば、塩酸）での開裂は、１以上の溶媒、例えば、極性溶媒（例えば、メタノール、エタノールまたはイソプロピルアルコール）、エーテル溶媒（例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、またはジエチルエーテル）またはその組合せ中で、約室温（約２５℃）、ないし還流温度の範囲の温度、好ましくは約４０ないし約５５℃の範囲の温度で行うことができる。
【００２２】
式ＸＩの化合物は：
ｉ）まず、約０ないし約３０℃の範囲の温度にて、例えば、約０ないし約１０℃の範囲の温度にて、ＮａＯＨでの処理によって式ＸＩ化合物をそのナトリウム塩へ変換し、引き続いて、１以上のアルコール溶媒、例えば、メタノール、エタノールなど、または他のエーテル溶媒（例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、またはジエチルエーテル）、またはその組合せの存在下で酢酸カルシウムを用いてナトリウムをカルシウムで置換することによって、あるいは
ｉｉ）還流水性アルコール溶媒、例えば、メタノールまたはエタノール中で、触媒としての臭化テトラブチルアンモニウム、および塩基としての水酸化カルシウムを用い、式ＸＩ化合物を相間移動触媒に付すことによって、
式Ｉのその対応するヘミカルシウム塩へ変換することができる。
【００２３】
前記したプロセスは以下の具体例の１以上を含むことができる。例えば、式ＩＩの化合物の反応はトルエン中で行うことができる。式Ｖの化合物の反応は、それ自体が溶媒として作用できるトリエチルアミンの存在下で行うことができる。式ＶＩＩＩの化合物の反応は、水酸化ナトリウムの存在下、アセトニトリルまたはメタノール：テトラヒドロフラン（１：３）中で約５０ないし５５℃の温度範囲にて約４ないし５時間または例えば、約３０℃にて約８ないし１０時間行うことができる。式ＩＸの化合物の反応は、約４０ないし約４５℃の範囲の温度にて、約５時間行うことができる。式Ｘの化合物の反応は、メタノール：テトラヒドロフラン：水（１：１：１）中で行うことができる。式ＸＩの化合物の反応は、臭化テトラブチルアンモニウムの存在下で、テトラヒドロフラン：脱イオン水（１：１）またはエタノール：水（４：１）中で約３０ないし約５０℃の範囲の温度で約２ないし８時間行うことができる。
【００２４】
前記にて掲げたプロセスは、工程のいずれも精製方法としてのカラムクロマトグラフィーの使用を含まず、かくして、高収率を達成し、それを大規模な生産に使用できるようにするそのようなプロセスを可能とするという利点を有する。
【００２５】
式ＩＶの化合物は、式ＩＶの粗生成物を酢酸エチルに溶解させ、酢酸エチル層を、順次、酸、次いで、脱イオン水によって洗浄することによって精製することができ、過剰な酸は溶液を、順次、重炭酸ナトリウム溶液、脱イオン水で洗浄することによって除去し、濃縮して固体を得ることができ、これはヘキサンに加え、生成物が沈殿するまで攪拌することができ、これは濾過し、乾燥される。
【００２６】
式Ｖの化合物は、式Ｖの粗生成物をヘキサンで洗浄して、有機不純物を除去し、続いて生成物を乾燥することによって精製することができ、これを酢酸エチルに溶解させ、脱イオン水で分配して、無機不純物を除去することができ、有機相を分離し、乾燥し、イソプロピルアルコールに加熱しつつ溶解させることができ、これは、冷却に際して固体産物を与え、これを濾過し、約４０ないし約５０℃の範囲の温度にて約６時間真空トレイドライヤーで乾燥することができる。
【００２７】
式ＶＩの化合物は、式ＶＩの粗生成物および活性炭をメタノールおよび水の溶媒系に溶解させ、反応混合物を還流することによって精製し、濾過することができ、そのように得られた残渣を溶媒メタノール：水（９：１）で洗浄し、濾液を濃縮して固体が得られ、ヘキサン中にスラリー化し、濾過し、真空下で濃縮することができる。
【００２８】
式ＶＩＩＩの化合物は、反応混合物を約０℃まで冷却し、生成物が沈殿するまで攪拌することによって精製することができ、これを濾過し、ヘキサンで洗浄し、乾燥することができる。
【００２９】
式ＩＸの化合物は、ａ）反応混合物を室温まで冷却し、それを酸性化し、濾過して固体が得られ、それを脱イオン水およびアセトニトリルで洗浄し、該固体をさらに変性スピリット中で還流し、生成物は沈殿するまで冷却し、濾過し、変性スピリットで洗浄し、真空下で乾燥することによって、ｂ）反応混合物を濃縮し、それを酢酸エチルおよび水の溶媒系に抽出し、酢酸エチル層を分離し、それをブラインで洗浄し、有機相をさらに酸性化し、ここに、過剰の酸を塩基によって中和し、脱―イオン水で洗浄し、反応混合物を濃縮し、残渣をヘキサンでトリチュレートして、固体を形成させ、濾過し、真空下で乾燥することによって精製することができる。
【００３０】
式Ｘの化合物は、ａ）粗生成物を酢酸エチルに溶解させ、脱イオン水、重炭酸ナトリウムおよびブラインで順次その層を洗浄し、濃縮して固体が得られ、これをヘキサン中にスラリー化し、濾過し、真空下で乾燥することによって、ｂ）粗生成物をイソプロピルアルコール、脱イオン水および酢酸の溶媒系に溶解させ、それを水酸化カルシウムの同時添加と共に還流し、その熱溶液を濾過し、そのように得られた濾液を固体が沈殿するまで室温へ冷却し、濾過し、氷冷イソプロピルアルコールおよび水で洗浄し、真空トレイドライヤー中で約６０℃にて約７ないし８時間乾燥することによって精製することができる。
【００３１】
式ＸＩの化合物は、ａ）粗生成物を酢酸エチルおよびトルエン（１：２）の溶媒系に溶解させ、脱イオン水およびブラインで順次その層を洗浄し、生成物を単離し、ヘキサン中で約４０℃にて約１時間スラリー化し、冷却し、濾過し、真空トレイドライヤー中で約６０℃にて約３時間乾燥し、ｂ）粗生成物を約４０ないし約５０℃の範囲の温度にて約１時間同時に加熱しつつ（１０％）酢酸エチル―ヘキサン溶媒系に溶解させ、室温（約２５℃）に冷却し、約１時間、または生成物が沈殿するまで攪拌し、そのように得られた固体を濾過し、水およびヘキサンで洗浄し、真空トレイドライヤーで乾燥することによって精製することができる。
【００３２】
式Ｉの化合物は、ａ）粗生成物を酢酸エチルで洗浄し、それを、約６０ないし約７０℃の範囲の温度にて真空下で約１０時間乾燥し、メタノール中に溶解させ、それにブチル化ヒドロキシアニソールを加え、溶液を濾過して固体が得られ、これを約４０ないし約５０℃の温度範囲にて真空トレイドライヤーで乾燥して、純粋なアモルファス化合物を形成することによって、ｂ）粗製カルシウム塩を酢酸エチルおよび水（１：１）およびブチル化ヒドロキシアニソールの溶媒系中で還流し、熱溶液を濾過し、生成物が完全に沈殿するまで濾液を冷却し、濾過し、酢酸エチルで洗浄し、真空下で乾燥して、純粋なアモルファス化合物を形成させることによって、ｃ）熱反応混合物を濾過し、そのようにして得られた濾液を冷却し、それに脱イオン水を加え、生成物を沈殿させ、濾過し、酢酸エチルおよび水混合液（１：１）中での還流に付し、反応混合物を生成物が沈殿するまで冷却し、続いて生成物を単離し、それを酢酸エチルで洗浄し、それを真空トレイドライヤーで乾燥して、純粋なアモルファス化合物を形成することによって精製することができる。
【００３３】
前記反応スキームにおいて、具体的な還元剤、溶媒、塩基、触媒、酸などに言及する場合、当業者に知られた他の還元剤、溶媒、塩基、触媒、酸などを用いることができるのは理解されるべきである。同様に、反応温度および継続時間を調整することができる。本発明をその特別な具体例に関連させて記載してきたが、ある修飾および同等物は当業者に明らかであって、それは本発明の範囲内に含まれる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３４】
【実施例１】
【００３５】
式ＩＶの４―［（４―メチル―３―オキソペンタノイル）アミノ］安息香酸メチルの調製
トルエン（２．４Ｌ）中のメチル―４―アミノベンゾエート（２５０ｇ，１．６５モル）の溶液にメチル―４―メチル―３―オキソペンタノエート（２３７．７ｇ，１．６４８モル）およびエチレンジアミン（１．１５ｍｌ，０．０１６モル）を加えた。反応混合物を約２０ないし２５時間還流した。溶媒を減圧下で除去して、固体残渣を得た。残渣を酢酸エチル（２．４Ｌ）に溶解させた。有機相を酸（例えば、２０％ｗ／２ｗ塩酸０．５Ｌ）、続いて脱イオン水で洗浄した。それをさらに１０％重炭酸ナトリウム溶液、続いて、脱イオン水および飽和ブラインで洗浄した。溶媒を減圧下で除去した。攪拌しつつこれにヘキサンを加え、固体を完全に沈殿させた。固体を濾過し、ヘキサンで洗浄した。固体を乾燥して、標記生成物を９９．４５％純度で得た。
収率：３５８ｇ（１．５，ｗ／ｗ）；ＬＣＭＳ：ｍ／ｚ（Ｍ＋１）２６５．０９；融解範囲：５４−５６°Ｃ；１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）；δ１．１６−１．１８（ｄ，６Ｈ，−ＣＨ（ＣＨ３）２），２．７５−２．７０（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ（ＣＨ３）２），３．６２（ｓ，２Ｈ，ＣＨ２），３．８９（ｓ，３Ｈ，ＯＣＨ３），７．６２−７．６５（ｄ，２Ｈ，ＡｒＨ），７．９８−８．０１（ｄ，２Ｈ，ＡｒＨ），９．５１（ｂｓ，ＮＨＣＯ）
【実施例２】
【００３６】
式Ｖの４―｛［２―ベンジリデン―４―メチル―３―オキソペンタノイル］アミノ｝安息香酸メチルの調製
ヘキサン（５．４Ｌ）中の式ＩＶの化合物（４００ｇ，１．５２モル）およびベンズアルデヒド（１７７ｇ，１．６７モル）の混合物に、攪拌しつつ、β―アラニン（２７ｇ，０．３モル）続いて氷酢酸（５４．６ｇ、０．９１モル）を加えた。ディーン―シュタルク装置の助けを借りて水分を一定に除去しつつ、反応混合物を、約２４時間還流した。反応の最後に、固体が沈殿した。固体を濾過し、ヘキサン（０．６Ｌ）で洗浄した。固体を酢酸エチル（３．６Ｌ）に溶解させ、続いて、攪拌しつつ脱イオン水（１．２Ｌ）を加えた。層を分離し、有機相をブラインで洗浄した。溶媒を減圧下で除去して、固体生成物が得られ、これを加熱しつつ、イソプロピルアルコール（０．８５Ｌ）に溶解させた。溶液を室温まで冷却し、固体を沈殿させた。固体を濾過し、順次、氷冷イソプロピルアルコールおよびヘキサンで洗浄した。固体を真空下（１０ミリバール）で約４０ないし約５０℃にて約６時間乾燥して、所望の生成物をＥおよびＺ異性体の混合物として得た。
収率：３３８ｇ（０．８４，ｗ／ｗ）；ＬＣＭＳ：ｍ／ｚ（Ｍ＋１）３５２．１；融解範囲：１５４−１５６°Ｃ；１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）
Ｅ異性体：δ１．２１−１．２３（ｄ，６Ｈ，−ＣＨ（ＣＨ３）２），３．３２−３．３９（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ（ＣＨ３）２），３．９０（ｓ，３Ｈ，ＯＣＨ３），７．３３−７．３９（ｍ，３Ｈ，ＡｒＨ），７．５３−７．５９（ｍ，４Ｈ，ＡｒＨ），７．９３（ｓ，１Ｈ，ビニル性Ｈ），８．００−８．０２（ｄ，２Ｈ，ＡｒＨ）（分析試料の融解範囲，１５５．０−１５６．２°Ｃ）
Ｚ異性体：δ１．０３−１．０５（ｄ，６Ｈ，−ＣＨ（ＣＨ３）２），２．６２−２．６５（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ（ＣＨ３）２），３．９１（ｓ，３Ｈ，ＯＣＨ３），７．３０−７．３２（ｍ，２Ｈ，ＡｒＨ），７．４２−７．４５（ｍ，３Ｈ，ＡｒＨ），７．７１−７．７３（ｄ，２Ｈ，ＡｒＨ），８．０３−８．０５（ｄ，２Ｈ，ＡｒＨ），８．２１（ｓ，１Ｈ，ビニル性Ｈ）（分析試料の融解範囲，１４５．６−１４６．３°Ｃ）
【実施例３】
【００３７】
式ＶＩの４―（｛２―［２―（４―フルオロフェニル）―２―オキソ―１―フェニルエチル］―４―メチル―３―オキソペンタノイル｝アミノ）安息香酸メチルの調製
トリエチルアミノ（０．２Ｌｔ）中の式Ｖの化合物（１００ｇ、０．２８５モル）の混合物に臭化チアゾリウム（１７．９４ｇ，０．０７１モル）および４―フルオロベンズアルデヒド（３８．８２ｇ，０．３１３モル）を加えた。反応混合物を約８時間還流に付した。反応の最後に、ＴＬＣまたはＨＰＬＣによる反応モニタリングによって示されるように、トリエチルアミンを減圧下で除去した。そのように得られた固体を酢酸エチル（０．７５Ｌ）に溶解させ、続いて、脱イオン水（０．２５Ｌ）に加えた。次いで、有機相を分離し、水性相を酢酸エチルで洗浄した。合わせた有機相を、順次、脱イオン水、酸（例えば、１０％塩酸０．２Ｌ）、塩基（例えば、１０％重炭酸ナトリウム）およびブラインで洗浄した。溶媒を減圧下で除去して、固体生成物が得られた。固体を、活性炭（７．５ｇ）を加えて加熱しつつメタノールおよび水の溶媒系（９：１，０．７５Ｌ）に溶解させ、還流させた。熱溶液を濾過し、残渣をメタノールおよび水の溶媒系（９：１）で洗浄した。濾液をさらに約０ないし約５℃まで冷却し、沈殿した固体を濾過した。固体をヘキサン（０．４Ｌ）で約４０℃にて１時間スラリー化し、濾過した。生成物を真空（１０ミリバール）下で約５０℃にて約１０ないし約１２時間乾燥して、所望の品質の生成物を得た。
収率：１５６ｇ（０．９３，ｗ／ｗ）；融解範囲：１６８−１７０°Ｃ；ＬＣＭＳ：ｍ／ｚ（Ｍ＋１）４７６．２１ １Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ１．１５−１．１８（ｄ，３Ｈ，−ＣＨ３），１．２２−１．２５（ｄ，３Ｈ，−ＣＨ３），２．９６−３．０２（ｍ．１Ｈ，ＣＨ（ＣＨ３）２），３．８９（ｓ，３Ｈ，−ＯＣＨ３），４．５４−４．５６（ｄ，１Ｈ，−ＣＯ−ＣＨ−Ｐｈ），５．３３−５．３６（ｄ，１Ｈ，−ＣＯ−ＣＨ−ＣＯ−），７．０１−７．９９（ｍ，１４Ｈ，Ａｒ−Ｈおよび−ＮＨ）
【実施例４】
【００３８】
式ＶＩＩＩの４―（｛［１―｛２―［（４Ｒ，６Ｒ）―６―（２―ｔｅｒｔ―ブトキシ―２―オキソエチル）―２，２―ジメチル―１．３―ジオキサン―４―イル］エチル｝―５―（４―フルオロフェニル）―２―イソプロピル―４―フェニル―１Ｈ―ピロール―３―イル］カルボニル｝アミノ）安息香酸メチルの調製
ピバル酸（４４．２ｇ，０．４３３モル）を、４：１：１（２．５２Ｌ）の比率のヘプタン、トルエンおよびテトラヒドロフランの溶媒系中の式ＶＩの化合物（２００ｇ，０．４２１モル）および式ＶＩＩの［６―（２―アミノ―エチル）―２，２―ジメチル―［１，３―ジオキサン―４―イル］―酢酸ｔ―ブチルエステル（１３７．９ｇ，０．５０５モル）の混合物に加えた。反応混合物を約２８ないし約３５時間還流した。反応混合物を約０℃まで冷却し、生成物が沈殿するまで攪拌した。沈殿した生成物を濾過し、ヘキサン（１Ｌ）で洗浄した。固体を５０℃にて真空（１０ミリバール）下で乾燥して、所望の生成物を得た。
収率：２１０ｇ（１．０５，ｗ／ｗ），ＬＣＭＳ：ｍ／ｚ（Ｍ＋１）７１３．２；融解範囲：１５８．８−１５９．５°Ｃ；１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ１．０３−１．０６（ｍ，１Ｈ，＞ＮＣＨ２ＣＨ２−），１．３０−１．３６（２ｘｓ，６Ｈ，＞Ｃ（ＣＨ３）２ ＆ ｍ，１Ｈ，＞ＮＣＨ２ＣＨ２−融合），１．４３（ｓ，９Ｈ，−Ｃ（ＣＨ３）３），１．５２−１．５４（ｄ，６Ｈ，−ＣＨ（ＣＨ３）２），１．６６（ｍ，２Ｈ，Ｃ−５−ＣＨ２−），２．２−２．４（ｍ，２Ｈ，−ＣＨ２ＣＯＯｔＢｕ），３．６（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ（ＣＨ３）２），３．７（ｍ，１Ｈ，Ｃ−４＞ＣＨＯ−）３．８５（ｓ，３Ｈ，−ＯＣＨ３），３．８５（ｍ，１Ｈ，Ｃ−６＞ＣＨＯ−），４．１（ｍ，２Ｈ，＞ＮＣＨ２−），６．９７−７．８５（ｍ，１４Ｈ，Ａｒ−Ｈおよび−ＮＨ）
【実施例５】
【００３９】
式ＩＸの４―（｛［１−［｛２−［（４Ｒ，６Ｒ）―６―（２―ｔｅｒｔ―ブトキシ―２―オキソエチル）―２，２―ジメチル―１，３―ジオキサン―４―イル］エチル｝―５―（４―フルオロフェニル）―２―イソプロピル―４―フェニル―１Ｈ―ピロール―３―イル］カルボニル｝アミノ］安息香酸の調製
水酸化ナトリウム（２．５モル当量，１Ｎ水溶液）を、アセトニトリル（４．２５Ｌ）中の式ＶＩＩＩの化合物（４２５ｇ，０．５９６モル）の溶液に加え、反応混合物を約５０ないし５５℃にて約４ないし５時間攪拌した。反応混合物を約２５℃まで冷却し、生成物が沈殿すると、ｐＨを２０％酢酸溶液で５．５ないし６に調整した。次いで、固体を濾過し、脱イオン水およびアセトニトリルで洗浄した。得られた粗生成物を変性スピリット（７．２Ｌ）中で約１時間還流した。反応混合物を約２５℃まで冷却し、固体が完全に沈殿するまで約５時間攪拌した。固体を濾過し、変性スピリット（０．４２Ｌ）で洗浄した。固体を、さらに、真空（１０ミリバール）下で約５０℃にて約６時間乾燥して、所望の生成物を得た。
収率：３２４．９５ｇ（０．７６，ｗ／ｗ）；ＬＣＭＳ：ｍ／ｚ（Ｍ＋１）６９９．３；融解範囲：２３９．９−２４１．７°Ｃ；１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）；δ１．０３−１．０６（ｍ，１Ｈ，＞ＮＣＨ２ＣＨ２−），１．３０−１．３６（２ｘｓ，６Ｈ，＞Ｃ（ＣＨ３）２ ＆ ｍ，１Ｈ，＞ＮＣＨ２ＣＨ２−融合），１．４３（ｓ，９Ｈ，−Ｃ（ＣＨ３）３），１．５２−１．５４（ｄ，６Ｈ，−ＣＨ（ＣＨ３）２），１．６４−１．６８（ｍ，２Ｈ，Ｃ−５−ＣＨ２−），２．２−２．４（ｍ，２Ｈ，−ＣＨ２ＣＯＯｔＢｕ），３．６（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ（ＣＨ３）２），３．７（ｍ，１Ｈ，Ｃ−４＞ＣＨＯ−），３．８（ｍ，１Ｈ，Ｃ−６＞ＣＨＯ−），４．１５−４．１７（ｍ，２Ｈ，＞ＮＣＨ２−），６．９７−７．９２（ｍ，１４Ｈ，ＡｒＨおよび−ＮＨ）
【００４０】
別法として、水酸化ナトリウム（２．５当量，１Ｎ水溶液）を、テトラヒドロフランおよびメタノールの混合液（１．０Ｌ，３：１）中の式ＶＩＩＩの化合物（１００ｇ，０．１４モル）の溶液に加え、反応混合物を室温（３０℃）で約８ないし１０時間攪拌した。揮発物を減圧下で蒸留し、酢酸エチルおよび水（１：１）を室温にて攪拌下で充填した。有機相を分離し、飽和ブラインで洗浄し；沈殿したいずれの不溶性物質も濾過した。有機相のｐＨを２０％酢酸溶液で５．５ないし６に調整し、引き続いて、脱イオン水および重炭酸塩溶液で洗浄した。有機揮発物を減圧下で除去し、残渣をヘキサンでトリチュレートして、固体が得られ、これを濾過し、ヘキサンで洗浄した。固体をさらに真空（１０ミリバール）下で約５０℃にて約６時間乾燥して、所望の生成物を得た。
収率：６０ｇ（０．６，ｗ／ｗ）。
【実施例６】
【００４１】
式Ｘの（（４Ｒ，６Ｒ）―６―｛２―［２―（４―フルオロフェニル）―４―（｛｛４―（ヒドロキシメチル）フェニル｝アミノ｝カルボニル）―５―イソプロピル―３―フェニル―１Ｈ―ピロール―１―イル］エチル｝―２，２―ジメチル―１．３―ジオキサン―４―イル）酢酸ｔｅｒｔ―ブチルの調製
テトラヒドロフラン（０．７Ｌ）中の式ＩＸの化合物（１００ｇ，０．１４モル）の溶液を約４０ないし４５℃まで加熱した。それにホウ素―ジメチルスルフィド錯体（テトラヒドロフラン中のＢＭＳ錯体２．３当量、２Ｍ溶液）を加えた。反応混合物をこの同一温度で約５時間攪拌した。反応混合物を約２０ないし２５℃まで冷却し、それにメタノールを加えて、過剰のＢＭＳ錯体を破壊した。有機揮発物を真空下で除去し、そのように得られた残渣を酢酸エチルに溶解させた。有機相を、順次、脱イオン水、重炭酸ナトリウム、およびブラインで洗浄した。５０℃にて減圧（１０ミリバール）下で溶媒を蒸発させると、得られた所望の生成物は固体であった。固体反応塊をヘキサン中でスラリー化し、濾過した。そのように得られた生成物を真空（１０ミリバール）下で約６０℃にて約７ないし８時間乾燥し、次の工程で用いた。
収率：９５ｇ（０．９５，ｗ／ｗ）；ＬＣＭＳ／ｍ／ｚ（Ｍ＋１）６８５．３；融解範囲：１９３．８−１９４．６°Ｃ；１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）；δ１．０３−１．０６（ｍ．１Ｈ，＞ＮＣＨ２ＣＨ２−），１．３０−１．３６（２ｘｓ，６Ｈ，＞Ｃ（ＣＨ３）２） ＆ ｍ，１Ｈ，＞ＮＣＨ２ＣＨ２−融合），１．４３（ｓ，９Ｈ，−Ｃ（ＣＨ３）３），１．５２−１．５４（ｄ，６Ｈ，−ＣＨ（ＣＨ３）２），１．６６−１．６７（ｍ，２Ｈ，Ｃ−５−ＣＨ２−），２．２−２．４（ｍ，２Ｈ，−ＣＨ２ＣＯＯｔＢｕ），３．５８（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ（ＣＨ３）２），３．６８（ｍ，１Ｈ，Ｃ−６＞ＣＨＯ−），３．８２（ｍ，１Ｈ，Ｃ−４＞ＣＨＯ−），４．０７−４．１７（ｍ，２Ｈ，＞ＮＣＨ２），４．５７（ｓ，２Ｈ，−ＰｈＣＨ２ＯＨ），６．８７−７．２１（ｍ，１４Ｈ，ＡｒＨおよび−ＮＨ）
【００４２】
別法として、メタノールでクエンチして過剰のＢＭＳ錯体を破壊した後の反応混合物を減圧下で蒸留に付して、揮発物を最小まで低下させ、雰囲気温度に到達させた。イソプロピルアルコールおよび脱イオン水と共に酢酸を反応混合物に加えた。反応混合物を加熱還流し、水酸化カルシウムを充填した。反応混合物を熱濾過し、濾液は２０ないし２５℃に冷却されると、固体生成物の沈殿がもたらされ、これを濾過し、冷却されたイソプロピルアルコールおよび水の混合液で洗浄した。そのように得られた生成物を真空（１０ミリバール）下で６０℃にて７ないし８時間乾燥し、そのように得られた所望の生成物を次の工程で用いた。
【実施例７】
【００４３】
式ＸＩの（３Ｒ，５Ｒ）―７―［２―（４―フルオロフェニル）―４―（｛［４―（ヒドロキシメチル）フェニル］アミノ｝カルボニル）―５―イソプロピル―３―フェニル―１Ｈ―ピロール―１―イル］―３，５―ジヒドロキシへプタン酸ｔ―ブチルエステルの調製
室温にて、塩酸（１Ｎ，水溶液）を、メタノールおよびテトラヒドロフラン（１：１）の溶媒系０．１２５Ｌ中の式Ｘの化合物（２５ｇ，０．０３６モル）の溶液に加えた。反応混合物を約５時間、または反応が完了するまで攪拌した。反応混合物を重炭酸ナトリウム（１．５３ｇ，０．０１８モル）でクエンチし、減圧下で有機揮発物の除去に付した。そのようにして得られた残渣を酢酸エチルおよびトルエン（１：２，０．５Ｌ）中に取った。有機相を、順次、脱イオン水およびブラインで洗浄した。真空下での溶媒の除去の結果、固体生成物を得た。得られた固体をヘキサン中で約４０℃にて約１時間スラリー化し、続いて、〜２５℃まで冷却し、濾過した。得られた固体を真空（２０ｍｍ）下で約６０℃にて約３時間乾燥した。
収率：２２ｇ（０．８８，ｗ／ｗ）；ＬＣＭＳ：ｍ／ｚ（Ｍ＋１）６４５．２；融解範囲：１４４．６−１４６．１°Ｃ；１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）；δ１．２０−１．２４（ｍ，１Ｈ，＞ＮＣＨ２ＣＨ２−），１．４０−１．４５（ｓ，９Ｈ，−Ｃ（ＣＨ３）３ ＆ ｍ，１Ｈ，＞ＮＣＨ２ＣＨ２−融合），１．５２−１．５４（ｄ，６Ｈ，−ＣＨ（ＣＨ３）２），１．６２（ｍ，２Ｈ，Ｃ−４ ＣＨ２（−ＣＨＯＨ）２），２．３−２．３２（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ２ＣＯＯｔＢｕ），３．５６−３．５９（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ（ＣＨ３）２），３．７２（ｂｓ，２Ｈ，２ｘＯＨ），３．７８（ｍ，１Ｈ，Ｃ−５＞ＣＨＯＨ），３．９３（ｍ，１Ｈ，Ｃ−３＞ＣＨＯＨ），４．０７−４．１４（ｍ，２Ｈ，＞ＮＣＨ２−），４．５７（ｓ，２Ｈ，−ＰｈＣＨ２ＯＨ），６．８７−７．１９（ｍ，１４Ｈ，ＡｒＨおよび−ＮＨ）
【００４４】
別法として、１Ｎ ＨＣｌ（０．５，モル当量）の存在下で、テトラヒドロフラン：メタノール：水（１：１：１， ３Ｌｔ）の混合液中での酸加水分解に約５０℃にて約１ないし２時間付された式Ｘの化合物（２００ｇ，０．２９モル）は、溶液中の所望の化合物を与えた。反応混合物を重炭酸ナトリウム（１５．９６ｇ，０．１９モル）でクエンチし、有機揮発物を蒸留し、全反応用量の５０％が残った。反応混合物にヘキサン（２Ｌ）中の１０％酢酸エチルを加え、約４０ないし５０℃の温度に約１時間付した。次いで、反応混合物を〜２５℃まで冷却し、完全な沈殿のためにこの温度で約１時間攪拌した。そのようにして得られた生成物を濾過し、水（０．２Ｌ）およびヘキサン（０．４Ｌ）で洗浄した。得られた固体を真空（２０ｍｍ）下で約６０℃にて約３時間乾燥した。収率：０．８７（ｗ／ｗ）
【実施例８】
【００４５】
式Ｉの（３Ｒ，５Ｒ）―７―［２―（４―フルオロフェニル）―４―（｛［４―（ヒドロキシメチル）フェニル］アミノ｝カルボニル）―５―イソプロピル―３―フェニル―１Ｈ―ピロール―１―イル］―３，５―ジヒドロキシヘプタン酸ヘミカルシウム塩の調製
メタノールおよびテトラヒドロフラン（１：１，０．３Ｌ）中の式ＸＩの化合物（６０ｇ，０．０９３モル）の溶液を室温にて攪拌した。反応混合物を０℃まで冷却した。水酸化ナトリウムの溶液（１Ｎ水溶液，１．２当量）を反応混合物に加え、温度を添加の間に１０℃を超えさせなかった。反応混合物を約５ないし１０℃にて約３時間攪拌した。次いで、溶媒を減圧下で除去した。得られた固体生成物を酢酸エチル（０．３Ｌ）に溶解させ；それに脱イオン水（０．６Ｌ）を加えた。所望の生成物を含有する水性層を分離し、酢酸エチルで洗浄した。この水性層に酢酸カルシウム溶液（０．６６Ｌ，０．６当量）を加え、式Ｉの生成物が沈殿するまで攪拌した。生成物を濾過し、酢酸エチルで洗浄した。生成物を真空（１０ｍｍ）下で約６０ないし７０℃にて約１０時間乾燥した。前記で得られた生成物（５０ｇ，収率０．８３３，ｗ／ｗ）をメタノール（０．２４５Ｌ）に溶解させ、ブチル化ヒドロキシアニソール（ＢＨＡ、０．０５モル％）を加えた。そのようにして得られた溶液を濾過し、真空（１０ｍｍ）下で４０ないし５０℃で蒸発乾固して、式Ｉの化合物（４４ｇ）の所望のアモルファス形態を得た。
全収率：４４ｇ（０．７３，ｗ／ｗ）；ＬＣＭＳ：ｍ／ｚ（Ｍ＋１）５８９．１；１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）；δ１．３６−１．３９（ｍ，１Ｈ，Ｃ−６＞ＮＣＨ２ＣＨ２），１．４６−１．４７（ｄ，６Ｈ，ＣＨ（ＣＨ３）２），１．５１−１．５３（ｍ，１Ｈ，ＣＨ（ＣＨ３）２と融合したＣ−６＞ＮＣＨ２ＣＨ２），１．６７−１．６８（ｍ，２Ｈ，Ｃ−４ ＣＨ２（−ＣＨＯＨ）２） ２．２２−２．３２（ｍ，２Ｈ，Ｃ−２−ＣＨ２ＣＯＯ−），３．３３−３．３７（ｍ，１Ｈ，ＣＨ（ＣＨ３）２），３．６４−３．６５（ｍ，１Ｈ，Ｃ−５＞ＣＨＯＨ），３．８９（ｍ，１Ｈ，Ｃ−３＞ＣＨＯＨ），３．９９−４．０６（ｍ，２Ｈ，Ｃ−７＞ＮＣＨ２−），４．５１（ｓ，２Ｈ，−ＰｈＣＨ２ＯＨ），７．０２−７．１２（ｍ，７Ｈ，ＡｒＨ），７．２０−７．２４（ｍ，４Ｈ，ＡｒＨ），７．２７−７．２９（ｍ，２Ｈ，ＡｒＨ）
【００４６】
別法として、テトラヒドロフランおよび脱イオン水（１：１，０．８Ｌ）中の式ＸＩの化合物（８０ｇ，０．１２４モル）を水酸化ナトリウム（１Ｎ水溶液、１．２等量）の存在下で室温にて約２ないし３時間、約３０℃にて攪拌した。次いで、溶媒のテトラヒドロフランを減圧下で除去し、残渣を酢酸エチル水混合液中に取った。所望の生成物を含有する水性層を分離し、酢酸エチルで洗浄した。この水性層に攪拌下で酢酸カルシウム（０．６当量）を加えた。所望の生成物は沈殿した。水性溶液中の沈殿した生成物に、酢酸エチルおよび水の比率が１：１となるように酢酸エチルを加え、ブチル化ヒドロキシルアニソール（０．０５モル％）を加え、反応混合物を還流して、固体を溶解させた。熱溶液を濾過し、攪拌下で室温（２５ないし３０℃）まで冷却し、その際、式Ｉの化合物の所望のＣａ塩が沈殿した。生成物を濾過し、酢酸エチルで洗浄した。生成物を真空（１０ｍｍ）下で５５ないし６５℃にて１０ないし１２時間乾燥した（収率，６０ｇ，０．７５ｗ／ｗ）。式Ｉの所望の化合物が前記したように得られ、さらに処理して、合致して一つの単一のモルフ、すなわち、式Ｉの化合物のアモルファス形態を得た。かくして、メタノール（５００ｍｌ）中の式Ｉの化合物（２５ｇ）の溶液にブチル化ヒドロキシルアニソール（０．０５モル％）を加え、濾過し、噴霧乾燥技術に付して、所望のアモルファス形態（２０．５ｇ）を得た。
収率：０．８２ｗ／ｗ；全収率：０．６１
別法として、エタノール：水混合液（４：１，０．８Ｌ）中の式ＸＩの化合物（８０グラム，０．１２４モル）、水酸化カルシウム（１３．８ｇ，０．１８６モル）および臭化テトラブチルアンモニウム（２ｇ，５モル％）の混合物を、攪拌下で、約５０℃まで約５ないし８時間で加熱した。反応混合物は、ＴＬＣによって、またはＨＰＬＣによって示されるように、出発物質の消費を示す。反応混合物を熱濾過した（〜５０℃）。濾液を室温（〜２５℃）まで冷却し、攪拌下で脱イオン水（２．４Ｌ）に充填した。沈殿した生成物を濾過し、水（０．１６Ｌ）で洗浄し、吸引乾燥した。湿潤ケーキを固体の完全な溶解まで酢酸エチル：水混合液（１：１，１．６Ｌ）中で還流した。反応混合物を、攪拌しつつ、約２時間で２５℃まで冷却して、所望の質の式Ｉの化合物を得た。固体を濾過し、酢酸エチル（０．３２Ｌ）で洗浄し、吸引乾燥し、さらに前記条件下で乾燥した。収率５０．５ｇ（０．６３，ｗ／ｗ）。前記した生成物のさらなる処理により、式Ｉのアモルファス化合物を得る。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）式ＩＩの化合物を式ＩＩＩの化合物と反応させて、
【化１】
【化２】
式ＩＶの化合物（式中、Ｒはアルキル、アリールまたはアリールアルキルである）を形成させ、
【化３】
（ｂ）式ＩＶの化合物をベンズアルデヒドと反応させて、式Ｖ；
【化４】
の化合物を形成させ、
（ｃ）式Ｖの化合物を４−フルオロベンズアルデヒドと反応させて、式ＶＩ；
【化５】
の化合物を形成させ、
（ｄ）式ＶＩの化合物を式ＶＩＩの化合物と反応させて、
【化６】
式ＶＩＩＩの化合物を形成させ；
【化７】
（ｅ）式ＶＩＩＩの化合物を脱保護して、式ＩＸの化合物を形成させ；
【化８】
（ｆ）式ＩＸの化合物を還元して、式Ｘの化合物を形成させ；
【化９】
（ｇ）式Ｘの化合物を脱保護して、式ＸＩの化合物を形成させ；
【化１０】
（ｈ）式ＸＩの化合物を式Ｉの化合物に変換させることを含み、
ここに、工程（ａ）ないし（ｈ）の生成物のいずれの精製もカラムクロマトグラフィーを用いることなく行われ、および工程（ｈ）における反応は式ＸＩの化合物の式Ｉのカルシウム塩へのワン−ポット変換を含むことを特徴とする、式Ｉの（３Ｒ，５Ｒ）−７−［２−（４−フルオロフェニル）−５−イソプロピル−３−フェニル−４−［（４−ヒドロキシメチルフェニルアミノ）カルボニル］−ピロール−１−イル］−３，５−ジヒドロキシ−ヘプタン酸ヘミカルシウム塩、
【化１１】
その医薬上許容される塩、医薬上許容される溶媒和物、多形、プロドラッグ、立体異性体、互変異性体形態、Ｎ−オキサイドおよび代謝産物の製法。
【請求項２】
工程（ａ）がトルエン中での反応を含む請求項１記載の製法。
【請求項３】
工程（ｃ）がトリエチルアミンを含む請求項１記載の製法。
【請求項４】
工程（ｅ）の反応が、水酸化ナトリウムの存在下で、アセトニトリル、プロピオニトリル、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミドおよびジメトキシエタン、またはメタノール：テトラヒドロフラン（１：３）から選択される１以上の溶媒中で約５０ないし約５５℃の範囲の温度で約４ないし５時間または約３０℃にて約８ないし１０時間行われる請求項１記載の製法。
【請求項５】
工程（ｆ）が約４０ないし約４５℃の範囲の温度にて約５時間行われる請求項１記載の製法。
【請求項６】
工程（ｇ）の反応がメタノール：テトラヒドロフラン：水（１：１：１）中で行われる請求項１記載の製法。
【請求項７】
工程（ｈ）の反応がテトラヒドロフラン：脱イオン化水（１：１）中で行われる請求項１記載の製法。
【請求項８】
工程（ｈ）の反応が、水酸化カルシウム、ならびにハロゲン化テトラアルキルアンモニウム、硫酸水素テトラブチルアンモニウム、チオシアン酸テトラブチルアンモニウム、テトラフルオロホウ酸テトラブチルアンモニウム、塩化ベンジルトリブチルアンモニウムおよびハロゲン化テトラアルキルホスホニウムから選択される相間移動触媒の存在下でエタノール：水（４：１）中で行われる請求項１記載の製法。
【請求項９】
工程（ｈ）の反応が約３０ないし約５０℃の範囲の温度で約２ないし約８時間行われる請求項１記載の製法。
【請求項１０】
工程（ｈ）の生成物がアモルファスである請求項１記載の製法。
【請求項１】
（ａ）式ＩＩの化合物を式ＩＩＩの化合物と反応させて、
【化１】
【化２】
式ＩＶの化合物（式中、Ｒはアルキル、アリールまたはアリールアルキルである）を形成させ、
【化３】
（ｂ）式ＩＶの化合物をベンズアルデヒドと反応させて、式Ｖ；
【化４】
の化合物を形成させ、
（ｃ）式Ｖの化合物を４−フルオロベンズアルデヒドと反応させて、式ＶＩ；
【化５】
の化合物を形成させ、
（ｄ）式ＶＩの化合物を式ＶＩＩの化合物と反応させて、
【化６】
式ＶＩＩＩの化合物を形成させ；
【化７】
（ｅ）式ＶＩＩＩの化合物を脱保護して、式ＩＸの化合物を形成させ；
【化８】
（ｆ）式ＩＸの化合物を還元して、式Ｘの化合物を形成させ；
【化９】
（ｇ）式Ｘの化合物を脱保護して、式ＸＩの化合物を形成させ；
【化１０】
（ｈ）式ＸＩの化合物を式Ｉの化合物に変換させることを含み、
ここに、工程（ａ）ないし（ｈ）の生成物のいずれの精製もカラムクロマトグラフィーを用いることなく行われ、および工程（ｈ）における反応は式ＸＩの化合物の式Ｉのカルシウム塩へのワン−ポット変換を含むことを特徴とする、式Ｉの（３Ｒ，５Ｒ）−７−［２−（４−フルオロフェニル）−５−イソプロピル−３−フェニル−４−［（４−ヒドロキシメチルフェニルアミノ）カルボニル］−ピロール−１−イル］−３，５−ジヒドロキシ−ヘプタン酸ヘミカルシウム塩、
【化１１】
その医薬上許容される塩、医薬上許容される溶媒和物、多形、プロドラッグ、立体異性体、互変異性体形態、Ｎ−オキサイドおよび代謝産物の製法。
【請求項２】
工程（ａ）がトルエン中での反応を含む請求項１記載の製法。
【請求項３】
工程（ｃ）がトリエチルアミンを含む請求項１記載の製法。
【請求項４】
工程（ｅ）の反応が、水酸化ナトリウムの存在下で、アセトニトリル、プロピオニトリル、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミドおよびジメトキシエタン、またはメタノール：テトラヒドロフラン（１：３）から選択される１以上の溶媒中で約５０ないし約５５℃の範囲の温度で約４ないし５時間または約３０℃にて約８ないし１０時間行われる請求項１記載の製法。
【請求項５】
工程（ｆ）が約４０ないし約４５℃の範囲の温度にて約５時間行われる請求項１記載の製法。
【請求項６】
工程（ｇ）の反応がメタノール：テトラヒドロフラン：水（１：１：１）中で行われる請求項１記載の製法。
【請求項７】
工程（ｈ）の反応がテトラヒドロフラン：脱イオン化水（１：１）中で行われる請求項１記載の製法。
【請求項８】
工程（ｈ）の反応が、水酸化カルシウム、ならびにハロゲン化テトラアルキルアンモニウム、硫酸水素テトラブチルアンモニウム、チオシアン酸テトラブチルアンモニウム、テトラフルオロホウ酸テトラブチルアンモニウム、塩化ベンジルトリブチルアンモニウムおよびハロゲン化テトラアルキルホスホニウムから選択される相間移動触媒の存在下でエタノール：水（４：１）中で行われる請求項１記載の製法。
【請求項９】
工程（ｈ）の反応が約３０ないし約５０℃の範囲の温度で約２ないし約８時間行われる請求項１記載の製法。
【請求項１０】
工程（ｈ）の生成物がアモルファスである請求項１記載の製法。
【公表番号】特表２００９−５１４８５１（Ｐ２００９−５１４８５１Ａ）
【公表日】平成２１年４月９日（２００９．４．９）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−５３８４８８（Ｐ２００８−５３８４８８）
【出願日】平成１８年１１月７日（２００６．１１．７）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＩＢ２００６／０５４１５４
【国際公開番号】ＷＯ２００７／０５４８９６
【国際公開日】平成１９年５月１８日（２００７．５．１８）
【出願人】（５９７０８４１１３）ランバクシー ラボラトリーズ リミテッド (32)
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２１年４月９日（２００９．４．９）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年１１月７日（２００６．１１．７）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＩＢ２００６／０５４１５４
【国際公開番号】ＷＯ２００７／０５４８９６
【国際公開日】平成１９年５月１８日（２００７．５．１８）
【出願人】（５９７０８４１１３）ランバクシー ラボラトリーズ リミテッド (32)
【Ｆターム（参考）】
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