【課題】特別な附帯設備が不要で、配管抵抗の変化に関わらずに、常に安定した流量を供給するポンプ装置を提供する。
【解決手段】ポンプケーシング１とポンプケーシング１内に収容されたキャンドモータ６とキャンドモータ６の主軸７に固定された羽根車８とを有したキャンドモータポンプと、ポンプケーシング１の外面に固定され、キャンドモータ６に電力を供給する周波数変換器Ｆと、キャンドモータ６に供給する電流の電流値を検出する検出手段と、周波数と電流値の関係をあらかじめ記憶した周波数変換器Ｆに設けられた制御部とを備え、制御部は、実際に運転した場合の周波数及び電流値を、前記あらかじめ記憶した周波数と電流値の関係と比較し、キャンドモータ６に供給する電流の電流値が前記あらかじめ記憶した周波数と電流値の関係に合うように周波数変換器Ｆの発生周波数を変化させるようにした。 （もっと読む）

【課題】ストーカユニットの火格子の熱膨張を効果的に吸収し、安定して処理物を燃焼することができるストーカ式燃焼装置を提供する。
【解決手段】ストーカ式燃焼装置は、炉の幅方向に並べて配置される複数のストーカユニット２と、隣接するストーカユニット２の間に配置された境界ブロック１０とを備え、投入された処理物Ｗを燃焼する。境界ブロック１０は、ストーカユニット２の火格子４，５の端面に対向するサイドプレート１１と、サイドプレート１１の上部に配置される上部プレート１２と、サイドプレート１１を火格子４，５の端面に弾性的に押圧する押圧部１３とを備えている。 （もっと読む）

【課題】水槽用可動式覆蓋の固定位置選択の自由の確保と、当該覆蓋の確実，簡便かつ安定な固定の確保にある。
【解決手段】水槽用可動式覆蓋の固定方法は、水槽の両側上面へ設置されたレールに沿って走行する可動式覆蓋を停止させる際に、覆蓋の一端下部に取り付けられた一対のクランプ部材により前記レールを両側方より挟み付け状に締め付けることを主要な特徴とする。
水槽用可動式覆蓋の固定装置は、水槽の両側上面へ設置されたレールに沿って往復走行する可動式の覆蓋において、覆蓋の一端の下部に前記レールを両側方より挟み付け可能な一対のクランプ部材を取り付け、当該クランプ部材を前記レールへ締め付ける締付け作動手段を設けたことを最も主要な特徴とする。 （もっと読む）

【課題】洗浄工程で濾過効率を好適に回復させつつ、排出する原水量を低減可能な浸漬膜濾過装置における膜モジュールの洗浄方法及び浸漬膜濾過装置を提供する。
【解決手段】膜濾過槽１に供給された原水Ｗ１を、この膜濾過槽１に収容されて原水Ｗ１に浸漬される膜モジュール２によって濾過する濾過工程と、この濾過工程において膜モジュール２に付着した付着物を、膜モジュール２を洗浄することによって膜濾過槽１内の原水Ｗ１中に剥離する洗浄工程と、この洗浄工程によって剥離した付着物が懸濁する膜濾過槽１内の原水Ｗ１を排水する排水工程とを有し、濾過工程と洗浄工程とをそれぞれ複数回ずつ繰り返した後に排水工程に移行する。 （もっと読む）

【課題】膜濾過槽に供給された原水を膜モジュールによって濾過して膜濾過水として排出するのに際し、膜濾過槽に供給される原水に膜モジュールの洗浄等のために次亜塩素酸を添加するのに、より効率的な次亜塩素酸の添加を図ることが可能な浸漬膜濾過方法および浸漬膜濾過装置を提供することを目的としている。
【解決手段】原水供給手段Ｂにより膜濾過槽１に供給された原水Ｗを、この膜濾過槽１に浸漬された濾過手段Ａの膜モジュール２によって濾過して膜濾過水Ｔとして排出するのに、次亜塩素酸添加手段Ｃによって膜濾過槽１に供給される原水Ｗに次亜塩素酸を添加するとともに、膜濾過水Ｔの次亜塩素酸濃度を次亜塩素酸濃度測定手段Ｄによって測定し、この測定結果に基づいて原水Ｗへの次亜塩素酸の添加量を制御する。 （もっと読む）

【課題】複数の基板処理装置を用いることなく、同一基板処理装置で複数種の被処理基板を逆汚染無く処理でき、又処理液に応じたローラー溝を使用することにより処理液の回収効率を向上させる基板処理装置及び基板処理方法を提供すること。
【解決手段】円板状の被処理基板Ｗの周縁部をチャックする平面上に配置された３個以上のローラー部材１１と、少なくとも１以上の前記ローラー部材を回転させるローラー回転駆動機構１２と、被処理基板Ｗの表面及び／又は裏面に処理液を供給する基板面処理ノズル１６等を具備する基板処理装置において、ローラー部材１１に被処理基板Ｗの周縁部が係合するローラー溝１１ａを上下方向に複数個所定のピッチで設けるか又は該ローラー溝１１ａを有するローラー部材１１を上下方向に複数個所定のピッチで設け、各溝を洗浄する洗浄ノズル１７と該各溝内に付着した液を吸引する吸引ノズル１８を設けた。 （もっと読む）

【課題】 特に耐高温腐食性を要求される部位を、耐高温腐食性の合金を用いて構成することで、装置の酎久性及び機能を従来よりも向上させた廃棄物あるいは石炭等の固体燃料の焼却あるいはガス化装置を提供する。
【解決手段】 廃棄物あるいは石炭等の固体燃料を焼却又はガス化する装置を構成する部材あるいは機器に、質量％でＣｒを２３〜４０％、Ｗを５〜１５％、Ｓｉを０．３〜４％、Ａｌを１．５〜２．５％、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａの少なくとも一つを０．１〜５％、Ｃを０．１〜０．５％、Ｍｎを２．０％以下、Ｆｅを５％以下含み、不可避的不純物を除いて残部ＮｉからなるＮｉ基耐熱合金を用いた廃棄物あるいは石炭等の固体燃料の焼却又はガス化装置。炭化物を置換させるためのＮｂあるいは欠乏相生成を抑制する添加元素を含有させた。 （もっと読む）

【課題】製造が簡単で、半導体ウエハー等の被研磨物の表面にスクラッチ傷を付けることがなく、短時間で効果的にドレッシングができる研磨パッドのドレッサー及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】基材４１の表面の多数の凹部４６を形成し、凹部４６に核となるダイヤモンド粒子４７を配置し、基材４１の表面に、化学気相成長法（ＣＶＤ法）によりダイヤモンド粒子を析出させることで、核となるダイヤモンド粒子４７を結晶成長させて大きい粒子径のダイヤモンド粒子４３にすると同時に、該大きい粒子径のダイヤモンド粒子４３の間に、大きい粒子径のダイヤモンド粒子４３よりも小さい粒子径のダイヤモンド粒子４４を析出させて、基材４１の表面が粒子径の異なる多数のダイヤモンド粒子４３，４４で覆われたドレッサーを製造する。 （もっと読む）

【課題】膜モジュールのみならず膜モジュールが浸漬される膜濾過槽全体に付着した不純物質を除去可能な浸漬膜濾過装置を提供する。
【解決手段】膜モジュール２が収容される膜濾過槽１と、この膜濾過槽１内に原水Ｗを供給して膜モジュール２を浸漬する原水供給手段７とを備えて、膜濾過槽１に供給された原水Ｗを膜モジュール２によって濾過する浸漬膜濾過装置Ａに対して、膜濾過槽１内に、膜モジュール２の下方領域の外側において膜濾過槽１内の原水Ｗを撹拌する撹拌手段３を設ける。 （もっと読む）

【課題】例えアスペクト比が高く、深さが深いビアホール等の凹部にあっても、銅等の金属材料を、内部にボイドを発生させることなく、凹部内に高速かつ確実に埋込むことができるようにする。
【解決手段】凹部２０２を有し該凹部２０２の内部を含む表面に通電層２０６を形成した基板Ｗを用意し、凹部２０２の内部を除く通電層２０６の表面に電着法で高分子絶縁膜２０８を形成し、高分子絶縁膜２０８を形成した基板Ｗの表面に電解めっきを行って凹部２０２内に金属材料２１０を埋込む。 （もっと読む）