【課題】燐光を発光する燐光発光層と、蛍光を発光する蛍光発光層とを、低電圧の駆動であっても効率よく発光させることができる発光素子、この発光素子を備える発光装置、表示装置および電子機器を提供すること。
【解決手段】発光素子１は、陽極３と、陰極７と、陽極３と陰極７との間に設けられ、陽極３と陰極７との間に通電することにより燐光を発光する第１の燐光発光層４３、および蛍光を発光する蛍光発光層６１と、第１の燐光発光層４３と蛍光発光層６１との間に設けられた中間層５とを有し、中間層５は、互いに接触する正孔輸送層５２および電子輸送層５１を備え、この電子輸送層５１が陽極３側に、正孔輸送層５２が陰極７側に位置することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】寿命の長い光源装置を提供する。
【解決手段】光源装置１００は、第１電極１６及び第２電極１８を有する放電灯１０と、第１電極１６及び第２電極１８に交流電流を供給し、放電灯１０を駆動する放電灯駆動装置２０と、放電灯１０の音響共鳴現象により生じた第１超音波Ｗ１とは逆位相の第２超音波Ｗ２を発生させる超音波発生装置３０と、放電灯１０で点灯された発光像Ｓを検出し、発光像Ｓの揺らぎを検出して、発光像Ｓが揺らがない程度に、超音波発生装置３０から照射する第２超音波Ｗ２の強度を調整する画像検出装置５０により構成される。また、画像検出装置５０は、発光画像検出部、演算部を有する。 （もっと読む）

【課題】蛍光体が高温になることを抑制して蛍光の変換効率の低下を抑制することが可能な発光装置、光源装置及びプロジェクターを提供する。
【解決手段】所定の回転軸１５を中心として回転可能な回転体１１と、回転体１１の回転方向に沿って設けられた蛍光体層１２と、回転体１１を回転軸１５と直交する方向に移動させる駆動装置２０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】新たなパラメーターによって半導体層内における不純物分布を制御して電界効果
型トランジスターを形成することのできる電気光学装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】ＬＤＤ構造の電界効果型トランジスターからなる画素トランジスターを基板
本体１０ｗの一方面１０ｓに形成するにあたって、一方面１０ｓ側の半導体層１ａに不純
物を導入する不純物導入工程を行う。その後、不純物拡散工程において、一方面１０ｓ側
にレーザーアニール装置、ヒートガスアニール装置、ランプアニール装置等の加熱装置９
２０を配置し、一方面１０ｓ側を他方面１０ｔ側より温度を高くした状態で半導体層１ａ
を加熱する。 （もっと読む）

【課題】ＵＶ照射手段が点灯し続けることで生じる不具合を回避できる印刷装置を提供する。
【解決手段】基材１に対して相対移動して、活性光線で硬化する液体の液滴を吐出する吐出ヘッド４９と、吐出ヘッド４９に対して相対移動方向後方側に設けられ基材１上の液滴に活性光線を照射する照射部４８と、照明部４８が点灯を開始して所定時間が経過した後、照明部４８を消灯させるように制御する制御部１４と、を備える印刷装置に関する。 （もっと読む）

【課題】複数の光出射部の間隔を大きくすることができ、発光装置がライトバルブの直下に配置された方式のプロジェクターに適用できる発光装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る発光装置１００は、電極により得られる光の導波路は、帯状の第１領域１６０および帯状の第２領域１６２を有し、第１領域１６０は曲率を備える第１部分１６２を有し、第２領域１７０は曲率を備える第２部分１７２を有し、第１領域１６０と第２領域１７０とは、第１層の側面１３０に設けられる反射部１８０，１８４にて接続され、反射部１８０，１８４が設けられる側面１３０に対向し、出射面となる第１層の側面１３２において第１領域１６０から出射される第１の光２０と、出射面１３０において第２領域１７０から出射される第２の光２２とは、同じ方向に出射される。 （もっと読む）

【課題】複数の光出射部の間隔を大きくすることができ、発光装置がライトバルブの直下に配置された方式のプロジェクターに適用できる発光装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る発光装置１００は、第１領域１５０と第２領域１６０とは、第１層の側面１３２に設けられる第１反射部１８１，１８３にて接続され、第１領域１５０と第３領域１７０とは、第１層の側面１３３に設けられる第２反射部１８２，１８５にて接続され、第２領域１６０と第３領域１７０とは、出射面となる第１層の側面１３１に接続され、第１領域１５０は、第１領域１５０の長手方向が出射面１３１に対して平行になるように設けられ、出射面１３１において第２領域１６０から出射される第１の光２０と、出射面１３１において第３領域１７０から出射される第２の光２２とは、同じ方向に出射される。 （もっと読む）

【課題】量子コヒーレンス状態を安定して持続させることができる共鳴光対を発生させるコヒーレント光源を提供すること。
【解決手段】光発生部１０は第１の光と第２の光を含む複数のコヒーレント光１２を発生させてアルカリ金属原子集団に照射する。光検出部３０はアルカリ金属原子集団を透過した光の強度を検出する。制御部４０は、検出された光の強度に基づいて第１の光と第２の光との周波数差が第１基底準位と第２基底準位とのエネルギー差に相当する周波数にそれぞれ一致するように制御し、かつ、第１の光の波長がいずれかの励起準位又はその近傍の準位と第１基底準位とのエネルギー差に相当する波長と一致するように制御するとともに第２の光の波長が当該励起準位又はその近傍の準位と第２基底準位とのエネルギー差に相当する波長と一致するように制御する。光出射部５０は複数のコヒーレント光１２の一部を取り出してアルカリ金属原子８０に出射する。 （もっと読む）

【課題】基材を加熱しながら、基材表面に紫外線照射を行うことにより基材表面の改質を行うことが可能な基材表面の改質装置、およびそれを備えた印刷装置を提供する。
【解決手段】基材表面の改質装置１００は、基材としての半導体装置３の表面を加熱する赤外線照射ユニット１０３と、半導体装置３と相対して設けられ、半導体装置３に紫外線Ｖを照射する紫外線ランプ１０６と、紫外線Ｖを透過し、且つ半導体装置３から放射される熱エネルギーおよび赤外線照射ユニット１０３から照射される加熱エネルギーを遮断するように、半導体装置３および赤外線照射ユニット１０３と紫外線ランプ１０６との間に設けられた遮蔽部としての合成石英ガラス板１０５と、が備えられている。 （もっと読む）

【課題】チャネルドープを含む製造工程を簡略化できる半導体装置の製造方法、半導体装置、電気光学装置および電子機器を提供すること。
【解決手段】本適用例の半導体装置の製造方法は、基板に半導体膜としての多結晶半導体膜１４ａを形成する工程と、多結晶半導体膜１４ａ上に、少なくとも２つの異なる膜厚を有し、それぞれが孤立したレジストパターン１６，１７を形成するレジスト形成工程と、該レジストパターン１６，１７をマスクとして多結晶半導体膜１４ａに第一不純物の注入を行う第一不純物注入工程と、該レジストパターン１６，１７に沿って多結晶半導体膜１４ａをエッチングするエッチング工程と、該レジストパターン１６，１７を剥離する工程とを有し、第一不純物注入工程は、レジストパターン１６，１７の膜厚の差に基づいて、第一不純物の注入、非注入を制御することを特徴とする。 （もっと読む）