説明

ローム株式会社により出願された特許

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【課題】本発明は、小規模な回路構成でありながら、適切にチャージポンプのステート制御を行うことが可能な電源装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明に係る電源装置は、出力電圧Voutに応じた帰還電圧Vfb(図1ではVc1〜Vcnの最低電圧)が参照電圧Vrefと一致するように、出力トランジスタTrの開閉制御を行うレギュレータ21と;レギュレータ21からの入力電圧Vin’を昇圧して出力電圧Voutを生成するチャージポンプ22と;出力トランジスタTrの制御電圧Saが閾値電圧Vthに達したか否かを検出する検出部23と;検出部23の比較結果信号Sbに基づいてチャージポンプ22の昇圧倍率を切り替えるステート制御部24と;を有して成る構成とされている。 (もっと読む)


【課題】レーザダイオードからの光による通信における通信可能範囲をレーザダイオードからの光が通過する領域以上に拡大することができる、光通信モジュールを提供する。
【解決手段】光通信モジュール4は、送信側の光通信モジュール1から出射される平行光を受光する受光素子としてのフォトダイオード5と、平行光をフォトダイオード5に集光させるための集光レンズ6とを備えている。集光レンズ6は、送信側の光通信モジュール1から出射される平行光の光束の径よりも大きな径を有している。 (もっと読む)


【課題】 光学窓のクリーニング効果を従来よりもさらに高めて、メインテナンス周期を飛躍的に増大させることができる真空処理装置を提供すること。
【解決手段】 真空処理装置は、真空処理室10と、真空処理室10の壁部12に配置された透光性部材22を有する光学窓20と、真空処理室の内側にて透光性部材22の周縁側に配置された、第1開口14を有する接地電極12と、真空処理室10の外側にて透光性部材22の周縁側に配置された、第1開口14と対向する第2開口32を有するRF電極30とを有する。真空処理室10内に処理用ガスが導入され、RF電極30及び接地電極12間の電界によってプラズマを生成し、負の自己バイアス電位Vfに帯電された透光性部材22をプラズマ中のイオンによりスパッタしてクリーニングする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、簡単な構成で、液体の保持及び通過を制御可能なマイクロチップを提供することを目的とする。
【解決手段】本発明のマイクロチップは、液体を導入する導入部11と、バルブ13と、液体を排出する排出部15とを有する。ここで、導入部11は、導入部本体11a、導入部入口11b、及び導入部出口11cを備える。また、排出部15は、第1排出流路15−1と、下流側の第2排出流路15−2を有する。バルブ13は、前記導入部出口11cと第1排出流路15−1とを接続し、液体の表面張力により前記排出部15に液体を排出させないように保持する。 (もっと読む)


【課題】複数の負荷を、制御回路を共有して駆動する。
【解決手段】スイッチング回路10は、トランス12の1次巻き線12aに接続された複数のトランジスタを含み、各トランジスタのオンオフに応じて、1次巻き線12aに入力電圧Vinおよび接地電圧を交互に印加する。複数のキャパシタC1a〜C1dは、複数の蛍光ランプ210ごとに設けられ、一端がトランス12の2次巻き線12bに共通に接続され、他端が蛍光ランプ210にそれぞれ接続される。制御回路20は、インバータ100および蛍光ランプ210を含む回路全体の電流経路のうち、ひとつの所定の電流経路18に流れる電流をモニタし、モニタした電流が所定の状態を保つように、スイッチング回路10の複数のトランジスタのオンオフ状態を帰還制御し、トランス12の1次巻き線12aへのスイッチング電力の供給を調節する。 (もっと読む)


【課題】配向性が高く、配向した領域が大きい有機半導体膜を製造できる有機半導体膜の製造方法を提供する。性能に優れた有機デバイスを提供する。
【解決手段】本発明の有機半導体膜の製造方法は、溶融した有機半導体化合物Aを支持板10a,20aに接触させた状態で冷却して固化させる方法であって、下記(1)〜(3)を採用したものである。(1)支持板が、有機半導体化合物Aに接触する側の面に多数の溝が形成されたものである、(2)冷却の際に、支持板表面に略平行な一方向に沿った温度勾配を有機半導体化合物Aに付与する、(3)支持板が、ポリイミド製である。本発明の有機デバイスは、上述した有機半導体膜の製造方法により製造された有機半導体膜を備える。 (もっと読む)


【課題】結晶成長の回数を増やすことなく、高温高出力動作可能なモノリシック型半導体レーザを提供する。
【解決手段】一の基板1上にAlGaAs系半導体レーザ素子10aとInGaAlP系半導体レーザ素子10bとが形成されている。両半導体レーザ素子のp形半導体層4a、4bのリッジ部の両側には第1電流狭窄層5a、5bと第2電流狭窄層11a、11bが積層して形成されている。少なくともAlGaAs系半導体レーザ素子10aの電流狭窄層をIn(Ga1−xAl1−yP(0.6≦x≦1、0≦y≦1)で表わされる材料からなる層とAlGa1−zAs(0.5≦z≦1.0)で表される材料からなる層の積層構造にする。 (もっと読む)


【課題】マイクロ流体チップのラテックス保持室内において、ラテックス粒子の内壁面への吸着を抑制し、ラテックス凝集比濁法の測定精度を高める。
【解決手段】本発明のマイクロ流体チップは、ラテックス試薬により液状検体の微量分析を行なうラテックス凝集比濁法において使用するマイクロ流体チップであって、ラテックス試薬の保持室を備え、保持室の少なくとも1つの内壁面における表面ゼータ電位の絶対値が20mV以上であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】フォトカップラを用いずに、負荷を安定に駆動する。
【解決手段】1次側領域402および2次側領域404は、電気的に絶縁される。第1、第2パルストランス30、32は、スイッチング回路10内部のトランジスタごとに設けられ、その2次巻き線30b、32bがトランジスタの制御端子に接続される。制御回路20は、フィードバックライン16により帰還された帰還信号Vfbにもとづき、パルストランスの1次巻き線30a、32aに、スイッチング電圧Vsw1、Vsw2を供給する。1次側領域402に、トランス12の1次巻き線12a、スイッチング回路10、2次巻き線30b、32bと、を配置し、2次側領域404に、トランス12の2次巻き線12bと、1次巻き線30a、32aと、フィードバックライン16と、制御回路20と、を配置する。 (もっと読む)


【課題】 光の取り出し効率を向上することができる窒化物半導体発光素子及び窒化物半導体発光素子の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る窒化物半導体発光素子は、支持基板170と、支持基板170上に設けられたp型窒化物半導体層140と、該p型窒化物半導体層140上に設けられたMQW活性層130と、該MQW活性層130上に設けられたn型窒化物半導体層120とからなる窒化物半導体層100と、n型窒化物半導体層120上に設けられたコンタクト電極161と、コンタクト電極161上に設けられた光透過性の第2透明電極165と、支持基板170上に設けられ、第2透明電極165と電気的に接続されている第2パッド電極166とを備え、MQW活性層130の主面に対して平行な面である投影面Sにおいて、MQW活性層130の主面が投影された領域と第2パッド電極166が投影された領域とが重ならない。
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