【課題】反応炉から排出される排ガス中に含まれる各種有害成分の除害処理を確実に行うことができるＭＯＣＶＤ装置を提供する。
【解決手段】III-Ｖ族化合物半導体材料を成膜する反応炉１２と、原料ガス及びキャリアガスを導入するための原料ガス導入管１４と、反応炉から排ガスを導出する排気管１５に設けられて原料ガスの除害処理を行う原料ガス除害装置とを備えたＭＯＣＶＤ装置において、反応炉の内面に付着した反応生成物を除去するためのクリーニングガスとしてアミン系ガス又は反応炉内でアミン系ガスに変化するガスを供給するクリーニングガス供給源２２を設けるとともに、原料ガス除害装置１８の上流側にクリーニングガスの除害処理を行うクリーニングガス除害装置１７を直列に設ける。 （もっと読む）

【課題】水蒸気を含まない高純度のアセチレンガスを簡便に得られるアセチレンの製造装置を提供する。
【解決手段】炭化カルシウムと水との加水分解反応によりアセチレンガスを発生させるアセチレンの製造装置であって、炭化カルシウム１ａを充填した反応管１と、反応管１の一端側１Ａに供給口２ａが設けられた水を供給するための導管２と、反応管１の他端側１Ｂに設けられた生成ガスの取り出し口３ａと、を備えることを特徴とするアセチレンの製造装置１０を選択する。 （もっと読む）

【課題】供給系の配管閉塞が生じることなく、プロセスガスの安定供給が可能な薄膜製造装置を提供する。
【解決手段】基板上に薄膜を成膜するリアクター２９と、リアクター２９に第１プロセスガスを供給する第１供給経路Ｌ１０と、リアクター２９に第２プロセスガスを供給する第２供給経路Ｌ２０と、リアクター２９にクリーニングガスを供給する第３供給経路Ｌ３０と、を少なくとも備え、第２供給経路Ｌ２０と第３供給経路Ｌ３０とが合流する合流点Ｇが、リアクター２９の近傍に設けられるとともに、第２供給経路Ｌ２０及び第３供給経路Ｌ３０には、合流点Ｇの上流側に、経路を遮断する遮断手段２２，３２がそれぞれ設けられていることを特徴とする薄膜製造装置６０を選択する。 （もっと読む）

【課題】モノシランなどのシラン系ガス中の微量の水分の濃度をキャビティリングダウン分光法（ＣＲＤＳ法）によって、正確に計測できるようにする。
【解決手段】ＣＲＤＳ装置１の測定セル７にサンプルガスライン５からサンプルガスを送る。シラン系ガスからなる測定対象ガスを測定対象ガスライン２を介してサンプルガスライン５に流すとともに窒素などからなる希釈ガスを希釈ガスライン３からサンプルガスライン５に流し、合流させる。測定セル７内の圧力をベンチュリポンプ２４によって１００〜５００ｔｏｒｒとし、かつ測定対象ガスの分圧を５０ｔｏｒｒ以下となるように希釈ガスで測定対象ガスを希釈する。 （もっと読む）

【課題】装置全体のさらなる小型化が可能な、或いは、装置サイズを変更することなく冷却能力の向上が可能な水素ガス冷却装置を提供する。
【解決手段】主熱交換器２と、ヘッドタンク３と、液化ガスが気化して生成されるとともにヘッドタンク３から排出された排出ガスと、未冷却の水素ガスとの間で熱交換を行なって水素ガスを予備冷却する補助熱交換器４と、を備え、主熱交換器２は、内管５と外管６とからなる二重管構造であって、内管５内に水素が流れ、外管６内に液化ガスが満たされ、ヘッドタンク３からの液化ガスを供給する液化ガス供給管８が外管６の底部に接続され、外管６の底部よりも上方の位置に液化ガスをヘッドタンク３に戻す戻り管１５が設けられ、ヘッドタンク３は、その底部が主熱交換器２の頂部を越える上方に配置され、補助熱交換器４が主熱交換器２の前段に設けられていることを特徴とする水素ガス冷却装置１である。 （もっと読む）

【課題】冷却管の熱伸縮を確実に吸収しつつ、熱伸縮吸収部の長さを短くして断熱性能を向上させることができる真空断熱配管を提供する。
【解決手段】真空断熱配管における冷却管１５及び熱シールド板１４の熱伸縮吸収部１７で冷却管の端部同士及び熱シールド板の端部同士を対向配置し、熱シールド板の対向面間外周を熱シールドカバー１８で覆うとともに、冷却管の端部同士は、熱シールドカバーの内側に円環状に配置されるフレキシブルホース１９で接続する。 （もっと読む）

【課題】圧縮ガスを安定した状態で減圧して供給することができ、経済性や安全性にも優れたガス供給装置を提供する。
【解決手段】圧縮ガス供給源（高圧ガス容器１１）から供給されるガスを減圧手段（圧力調整器２１、３１）で減圧して供給するガス供給装置において、前記減圧手段のガス流れ方向上流側に、該減圧手段に導入されるガスと温水供給源（温水循環ユニット１５）から供給される温水とを熱交換させて前記ガスを加温する熱交換器２２，３２を設けるとともに、前記減圧手段に、前記温水の一部によって該減圧手段を加温するための温水流路５３を設ける。 （もっと読む）

【課題】冷媒ガスの使用量を低減しつつ、閉ループ内の冷媒ガスの圧力の調整が可能な極低温冷凍装置及びその運転方法を提供する。
【解決手段】冷媒ガスを圧縮、循環させる主圧縮機２と、圧縮した冷媒ガスを戻りの冷媒ガスとの熱交換により冷却する主熱交換器３と、冷却した冷媒ガスを断熱膨張させる膨張タービン４と、膨張タービン４を出た極低温の冷媒ガスと冷却液とを熱交換させる副熱交換器５と、が設けられ、副熱交換器５で熱交換した後の冷媒ガスを、主熱交換器３を介して主圧縮機２に循環させる循環経路からなる閉ループＬ１を備えた極低温冷凍装置であって、主圧縮機２の入口側２ａで閉ループＬ１と連通するバッファータンク６と、主圧縮機２の入口側２ａの閉ループＬ１内の圧力とバッファータンク６内の圧力とを比較して、圧力の低い側から高い側へ冷媒ガスを圧送する副圧縮機７と、を備えることを特徴とする極低温冷凍装置１である。 （もっと読む）

【課題】アルゴンガス中に微量窒素と共存し得る一種以上の成分の影響を排除して、窒素濃度を正確に測定することができる簡便な方法を提供する。
【解決手段】試料アルゴンガスを放電管に導入し、前記放電管内で無声放電して発生した光から、窒素ガスに特有な波長の光を分離して光センサーに導入し、前記光センサーによって検知された前記波長の光の強度に基づいて、試料アルゴンガス中の窒素ガス含有量を測定するアルゴンガス中の窒素濃度の測定方法であって、前記試料アルゴンガスを前記放電管内に導入する前に、窒素ガスに特有な波長の光に干渉がある成分を当該試料アルゴンガスから除去することを特徴とするアルゴンガス中の窒素濃度の測定方法である。 （もっと読む）

【課題】排ガス処理装置全体の消費電力を低減することができる排ガス処理方法及び排ガス処理装置を提供する。
【解決手段】剤充填筒１２の外壁面温度を測定する外壁面温度測定手段，反応除去剤の温度を測定する反応除去剤温度測定手段の少なくともいずれか一方の温度測定手段を剤充填筒のガス流れ方向の３箇所以上に設ける。剤充填筒１２の外壁面を加熱する外壁面加熱手段，反応除去剤を加熱する反応除去剤加熱手段の少なくともいずれか一方の加熱手段を剤充填筒１２のガス流れ方向の３箇所以上に設ける。各温度測定手段にて測定した温度に基づいて剤充填筒内の反応帯の位置を検知し、該反応帯の位置に基づいて各加熱手段を制御する。 （もっと読む）