【課題】 絶縁体である担体粒子の表面に均等に、かつ排ガスの浄化触媒として機能する場所である排ガスと貴金属ナノ粒子と担体との三相界面が効率よく形成されるように貴金属ナノ粒子を担持させること。
【解決手段】 白金の円柱状カソード電極２２、その外周の絶縁碍子２３、その外周のトリガ電極２４、その外周から所定の間隔をあけた円筒状で一端が真空チャンバ１１内に開口され他端が閉じられたアノード電極２５からなる同軸型真空アーク蒸着源２１を備えた真空アーク蒸着装置１を使用し、カソード電極２２とアノード電極２５との間に間欠的にアーク放電を誘起させて、カソード電極２２から蒸発しプラズマ化される白金を担体のアルミナ粒子Ｐへに到らせ、その表面に白金のナノ粒子を形成させる。 （もっと読む）

【課題】 粒子状担体の表面に触媒作用を示すナノ粒子を担持させるに際し、事前の粒子状担体からの吸着水分の脱着処理から、事後のナノ粒子が担持された粒子状担体の加熱処理までに要する時間を短縮し得る触媒用ナノ粒子担持装置を提供すること。
【解決手段】 同軸型真空アーク蒸発源５１によってカーボン粒子Ｐの表面に白金ナノ粒子を担持させる担持室２０の上流にカーボン粒子Ｐから吸着水分を脱着させる脱気室１０、下流に熱処理室３０、冷却室４０を配置し、カーボン粒子Ｐを収容して搬送する搬送容器６１を脱気室１０から担持室２０、熱処理室３０を経て冷却室４０までを各室に設けた搬送機構によって順に搬送し、各室においてそれぞれの処理操作を施した後、冷却室に接続したグローブボックス５０内で搬送容器６１に蓋をして密封し大気下へ取り出す。 （もっと読む）

【課題】装置によって得られる情報を迅速に解析することが可能なプロセス管理システムを提供すること。
【解決手段】
装置の各部の状態を示す状態情報を取得する第１の取得手段（制御監視部２０）と、装置の制御に関する制御情報を取得する第２の取得手段（制御監視部２０）と、取得された状態情報と制御情報を対応付けする対応付手段（タイマ３４）と、対応付けがされた状態情報および制御情報を格納する格納手段（ログ格納装置２）と、解析処理を施す際の解析条件の入力を受ける入力手段（入力装置４ｉ）と、入力された解析条件を記憶する記憶手段（ＲＡＭ４ｃ）と、記憶された解析条件に従って、制御情報を参照して状態情報に対して解析処理を施す解析手段（ＣＰＵ４ａ）と、解析の結果として得られた情報を呈示する呈示手段（表示装置４ｈ）と、を有する。 （もっと読む）

【課題】メンテナンス作業性に優れ、作業コストの低減を図ることができる冷陰極電離真空計を提供する。
【解決手段】本発明に係る冷陰極電離真空計２１は、真空計本体の内部に互いに対向して配置され放電空間２８を形成する第１，第２の金属ブロック２５Ａ，２５Ｂの対向面に、軸状電極２６が貫通する貫通孔を備えた板部材２４Ａ，２４Ｂがそれぞれ設置されている。これにより、放電空間で形成されたプラズマによるイオンのスパッタ作用およびプラズマ生成物の付着から、金属ブロックを保護することができる。また、金属ブロックの長寿命化を図ることができるとともに、クリーニング作業の簡素化を図ることができる。そして、板部材の交換も容易であるので、メンテナンス作業性の向上と、部品交換に伴う作業コストの低減を図ることができる。 （もっと読む）

【課題】ヒロック発生を防止し、密着性とバリア性に優れた配線膜を形成する。
【解決手段】成膜対象物２１が配置された真空槽１３に酸素又は窒素を含有する添加ガスを導入し、Ｚｒ等の添加元素を含む銅ターゲット１１をスパッタリングし、アルミニウム膜２３の表面にバリア膜２４を形成する。バリア膜２４は銅を主成分とするため、アルミニウム膜２３と同じエッチング液でエッチング可能であり、添加元素と酸素を含むため、アルミニウム膜２３にヒロックが発生しない。また、配線膜２５の表面にＩＴＯを密着させた場合には、アルミニウム膜２３は直接ＩＴＯに接触しないからコンタクト抵抗も高くならない。 （もっと読む）

【課題】高真空での安定した動作を実現しつつ、点火補助具の変形を抑制して組立作業性の改善を図ることができる冷陰極電離真空計を提供する。
【解決手段】本発明に係る冷陰極電離真空計２１は、真空計本体２２と、真空計本体の内部に区画された放電空間２８と、真空計本体の内部に設置された軸状電極２６と、放電空間での放電を誘起する点火補助具２４Ａ，２４Ｂとを備え、点火補助具は、真空計本体に支持されるベース部４１と、ベース部に形成され軸状電極が貫通する貫通孔４２と、貫通孔の内周面から軸状電極に向かって突出する突起部４３とを備える。突起部４３は、軸状電極２６との間の放電を誘起して高真空での安定したプラズマの発生を実現する。また、真空計本体２２に対する軸状電極２６の組み付けの際に、突起部４３の変形を抑制できるので、組立作業性の改善を図ることができる。 （もっと読む）

【課題】触媒線の長寿命化を図ることができる触媒化学気相成長装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る触媒化学気相成長装置１においては、触媒線６として、タンタル線の表面にそのホウ化物層が形成されたものを用いる。金属タンタルのホウ化物（ホウ化タンタル）は、金属タンタルよりも硬質であるため、このホウ化物層が表面に形成されたタンタル線を触媒線として用いることで、触媒線の熱伸びを低減し、機械的強度を向上させて、長寿命化を図ることが可能となる。また、触媒線６の通電加熱を連続通電によって行うことで、触媒線６の更なる高寿命化を図ることができる。 （もっと読む）

【課題】センサの数量を増加させることなく、基板の搬送精度を向上させた基板搬送方法、及び基板搬送装置を提供するものである。
【解決手段】各センサが、それぞれ対応する経路ＲＴ上にレーザを投光してスポット２０Ｐを形成し、スポット２０Ｐから透過する透過レーザの量を検出する。そして、位置データを参照して、検出値が「第１閾値」になるごとに、第１検出位置ＲＰ１に基づく基板中心Ｓａの座標を演算し、その時の基板中心Ｓａに基づいて目標点の座標を補正する。また、検出値が「第２閾値」になるごとに、第２検出位置ＲＰ２に基づく基板中心Ｓａの座標を演算し、その時の基板中心Ｓａに基づいて目標点の座標を補正する。 （もっと読む）

【課題】２以上のガスを用いる成膜装置において、均一な膜を形成できるシャワーヘッドを提供する。
【解決手段】 シャワーヘッドは、原料ガス拡散室１８及び反応ガス拡散室１６を備え、前記原料ガス拡散室と原料ガス導入管とを接続するガス通路は、１段以上の多段に構成され、各段は、２^ｎ−１（ｎは段数）で表されるガス通路１７を有し、１段目のガス通路は、前記原料ガス導入管１１１に接続され、２段目以降の各ガス通路は、前段のガス通路と連通し、最終段の各ガス通路は、原料ガス拡散室に接続されている。 （もっと読む）

【課題】センサの数量を増加させることなく、基板の搬送精度を向上させた基板搬送方法、及び基板搬送装置を提供するものである。
【解決手段】センサ２０の光軸を、基板Ｓの法線方向Ｚに対して傾斜させて、基板Ｓの端面の一点を光軸上の上位検出点ＰＳ０に通過させる。また、ハンド点を法線方向Ｚに変位させて、基板Ｓの端面の他点を光軸上の下位検出点ＰＳ１に通過させる。そして、上位検出点ＰＳ０の検出結果に基づく上位距離と、下位検出点ＰＳ１の検出結果に基づく下位距離を用いて基板Ｓの中心を演算し、基板Ｓの中心を目標点に搬送させる。 （もっと読む）