【課題】 挟持すべき基板等の厚さに依存せず、略一定の締付力で基板等を挟持できるようにした簡単な構造のチャック装置を提供する。
【解決手段】 被処理物Ｔが設置される設置面２ａから突設され、この設置面との間で被処理物に締付力を付与して被処理物を挟持するチャック手段１３と、この被処理物の挟持位置及び被処理物から離間した解放位置の間でこのチャック手段を駆動するエアーシリンダ１４と、エアーシリンダ内を摺動するピストンに作用する空気圧を切り換える切換手段１６とを備える。チャック手段の挟持位置でピストンに作用する空気圧を独立して変更する空気圧変更手段２０を設ける。 （もっと読む）

【課題】ロール式の成膜装置において、成膜むらが生じることなく均一に成膜することができる成膜装置および成膜方法を提供する。
【解決手段】成膜材料ガスを導入可能なチャンバ１１と、チャンバ１１内に配置され、シート状の基板１３を外周面５５上に配置して中心軸の回りを回転可能に形成された円筒状の基板配置電極２１と、基板配置電極２１の外周面５５から所定距離を置いて対向配置された対向電極２２と、を備えた成膜装置１０において、対向電極２２が接地されるとともに、基板配置電極２１に対して１００ｋＨｚ以上２ＭＨｚ以下の低周波交流電圧を印加可能に構成されている。 （もっと読む）

【課題】アモルファスシリコン層に含まれるＳｉＨ_２ の濃度を低減させ、電子移動度や光電変換特性に優れたアモルファスシリコン層を成膜することが可能な成膜装置を提供する。
【解決手段】アモルファスシリコン層の成膜中に、検出手段３１によってＳｉＨ_２ の割合を検出し、周波数制御手段３２によってＳｉＨ_２ の割合が最も低くなる周波数になるように交流電源３０から出力される交流電圧の周波数を調整しつつ、ガラス基板１０にアモルファスシリコン層を成膜していく。そして、所定の膜厚になるまでアモルファスシリコン層を積層させる。 （もっと読む）

【課題】 光学素子の反射防止層上に、光学素子の視認性を損なうことなく、耐久性の優れた防汚層を備えた反射防止層の成膜方法及び同成膜を行うための装置を提供する。
【解決手段】 基材上に反射防止層を成膜し、前記反射防止層上に、厚さ１０ｎｍ以下のポリテトラフルオロエチレン膜を防汚層としてＣＶＤ法により積層することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 特に真空処理装置において、被処理体を破損することなく略均一に被処理体を加熱できるようにした被処理体の加熱冷却方法を提供する
【解決手段】 基板ステージ２に設けた正負一対の吸着電極１４ａ乃至１４ｄ間に所定の電圧を印加して基板Ｗを静電吸着し、基板ステージ２に組み込んだ加熱手段または冷却手段により基板を所定の温度に加熱または冷却する。基板の温度が所定の温度に達するまでの間に、基板の静電吸着を所定の間隔で解除する。 （もっと読む）

【課題】 反応性スパッタリングにより所定の薄膜を形成する際に、処理基板全面に亘って膜厚分布や比抵抗値などの膜質を略均一にできるようにする。
【解決手段】 真空チャンバ１１内のスパッタ室に、所定の間隔を置いて並設した複数枚のターゲット３１ａ乃至３１ｄと、各ターゲットへの電力投入を可能とするスパッタ電源Ｅ１、Ｅ２と、スパッタ室へのスパッタガス及び反応ガスの導入を可能とするガス導入手段６ａ、６ｂとを設ける。反応ガスを導入するガス導入手段６ｂは、各ターゲットの並設方向に延びる少なくとも１本のガス管６１ｂを有し、このガス管は、並設した各ターゲットの背面側で各ターゲットから離間させて配置されると共に、ターゲットに向かって反応ガスを噴射する噴射口６１０を有する。 （もっと読む）

【課題】装置の構成を簡略化することができ、また、高周波電源を用いても均一なプラズマを生成することができるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】被処理基板２０を配置可能な基板配置電極２１と、基板配置電極２１に略平行に対向配置され、基板配置電極２１とは反対側に交流電圧を印加可能に構成された導電性材料からなる対向電極２２と、対向電極２２と基板配置電極２１との間に配置された、誘電体材料からなる板状部材３５と、を備え、板状部材３５は、板状部材３５と対向電極２２との間に供給された処理ガスを、板状部材３５に形成された複数のガス噴出口３６から、基板配置電極２１に向かって噴出するように形成されたプラズマ処理装置１０において、対向電極２２に、貫通孔５０が形成されている。 （もっと読む）

【課題】長期にわたって安定した液滴精度を保つための技術を提供する。
【解決手段】液晶材料吐出装置のノズル１０３の表面には撥液被膜が形成され、撥液被膜の表面には、ダイヤモンド又はダイヤモンドライクカーボンを含有するダイヤモンド薄膜が露出している。このような撥液被膜は機械的強度が高いため、ノズル１０３の耐久性が高いだけでなく、液晶材料との親和性が低く、液晶材料の液滴がノズル１０３の側面に接触しても広がらないので、ノズル１０３先端に液溜りが生じず、吐出不良や吐出方向不良が生じない。 （もっと読む）

【課題】 光学素子の反射防止層上に、光学素子の視認性を損なうことなく、耐久性の優れた防汚層を備えた反射防止層の成膜方法及び同成膜を行うための装置を提供する。
【解決手段】 基材上に反射防止層を成膜し、前記反射防止層上に、厚さ１０ｎｍ以下のＴｉＮ膜を防汚層として積層することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】合金ナノ粒子及び合金薄膜の効率よい作製方法、この方法を実施するための同軸型真空アーク蒸着装置の提供。
【解決手段】少なくとも２つの蒸着源の各トリガ電極と各アノード電極との間にトリガ放電をパルス的に発生させて、異なる金属材料で構成された各カソード電極と各アノード電極との間にアーク放電を発生させる際に、各アーク放電を同時発生させ、各カソード電極の金属材料から生成するナノ粒子を真空チャンバ内へ同時放出せしめ、合金ナノ粒子を作製する。トリガ電極とカソード電極とが、絶縁碍子を挟んで同軸状に隣接して固定され、カソード電極の周りに同軸状にアノード電極が離間して配置されている蒸着源を少なくとも２つ備え、蒸着金属が基板に対して斜入射できるように蒸着源を配置してなり、各トリガ電源にトリガ放電の発生のタイミングをずらすための遅延ユニットが接続されている。 （もっと読む）